KR101924577B1 - Method for repairing display device using laser beam - Google Patents

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Abstract

본 발명은 레이저빔을 이용한 디스플레이소자의 리페어 방법에 대한 것으로, 보다 구체적으로는 디스플레이소자의 유기박막 중 혼색된 발광영역을 레이저빔을 조사하여 리페어하는 방법에 관한 것이다.
본 발명의 디스플레이소자의 리페어 방법에 의하면, 디스플레이소자의 제작 도중뿐만 아니라, 제작 완료 후에도 혼색된 발광영역을 리페어할 수 있는 효과가 있다. 본 발명의 디스플레이소자의 리페어 방법에 의하면, 디스플레이소자의 혼색된 발광영역 이외의 어떠한 부분에 손상을 가하지 않으면서 혼색된 발광영역만을 리페어할 수 있는 효과가 있다.The present invention relates to a repair method of a display device using a laser beam, and more particularly, to a method of repairing a mixed light emission area of an organic thin film of a display device by irradiating a laser beam.
According to the repair method of the display element of the present invention, not only during the manufacture of the display element but also after the completion of the fabrication, the mixed light emitting region can be repaired. According to the repairing method of the display device of the present invention, it is possible to repair only the mixed light emitting region without damaging any portion other than the mixed light emitting region of the display device.

Description

레이저빔을 이용한 디스플레이소자의 리페어 방법{Method for repairing display device using laser beam}TECHNICAL FIELD [0001] The present invention relates to a repair method of a display device using a laser beam,

본 발명은 레이저빔을 이용한 디스플레이소자의 리페어 방법에 대한 것으로, 보다 구체적으로는 디스플레이소자의 유기박막 중 혼색된 발광영역을 레이저빔을 조사하여 리페어하는 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a repair method of a display device using a laser beam, and more particularly, to a method of repairing a mixed light emission area of an organic thin film of a display device by irradiating a laser beam.

일반적으로 유기전계발광소자는 애노드와 캐소드, 및 정공수송층, 발광층, 및 전자수송층을 포함하는 유기층으로 이루어진다. 또한 정공과 전자를 좀 더 효율적으로 주입하기 위해 애노드와 정공수송층 사이, 그리고 전자수송층과 캐소드 사이에 각각 정공주입층과 전자주입층을 더 포함할 수도 있다.Generally, an organic electroluminescent device comprises an anode and a cathode, and an organic layer including a hole transporting layer, a light emitting layer, and an electron transporting layer. In addition, a hole injecting layer and an electron injecting layer may be further included between the anode and the hole transporting layer and between the electron transporting layer and the cathode, respectively, in order to more efficiently inject holes and electrons.

이때 상기 애노드로부터 정공주입층과 정공수송층을 통해 발광층으로 주입된 정공과, 캐소드로부터 전자주입층 및 전자수송층을 통해 발광층으로 주입된 전자가 엑시톤을 형성하고, 이 엑시톤으로부터 정공과 전자 사이의 에너지에 해당하는 빛을 발광하게 된다.At this time, holes injected from the anode into the light emitting layer through the hole injecting layer and the hole transporting layer, and electrons injected from the cathode into the light emitting layer through the electron injecting layer and the electron transporting layer form excitons. From the excitons, energy between holes and electrons The corresponding light is emitted.

상기 애노드는 일함수가 높은 ITO, IZO, ITZO와 같은 투명 도전성 물질에서 선택되고, 캐소드는 일함수가 낮고 화학적으로 안정한 금속에서 선택된다. The anode is selected from transparent conductive materials such as ITO, IZO and ITZO having a high work function, and the cathode is selected from a metal having a low work function and being chemically stable.

이러한 유기전계발광소자는 발광영역과 비발광영역으로 나누어 구성되는데, 상기 발광영역은 파인 메탈 마스크(Fine Metal Mask)와 같은 정밀 공정을 이용하여 픽셀 간을 구분하게 된다. 그러나 이러한 파인 메탈 마스크(Fine Metal Mask)와 같은 정밀한 공정을 이용한다 하더라도 쉐도우 마스크(shadow mask)의 정렬(alignment) 불일치 등과 같은 오류로 인하여 발광영역 중에서 일부 영역이 혼색되는 공정상 문제가 발생할 수 있다. Such an organic electroluminescent device is divided into a light emitting region and a non-light emitting region. The light emitting region is divided into pixels using a precision process such as a fine metal mask. However, even if a precise process such as a fine metal mask is used, an error such as an alignment mismatch of a shadow mask may cause a process problem in which some regions of the light emitting region are mixed.

혼색된 발광영역은 리페어 공정을 통해 리페어할 수 있는데, 종래의 리페어 방법은 디스플레이소자를 구성하고 있는 구성요소 예를 들면, 상부전극 또는 하부전극의 손상 없이는 리페어가 불가하다는 한계를 가지고 있다. 이 경우 디스플레이소자 제작 완료 후 혼색된 발광영역을 리페어하게 되면 애노드 또는 캐소드가 모두 제거되므로 이들 전극을 다시 제작해야 하는 문제점이 발생한다.The mixed light emitting region can be repaired through a repair process. However, the conventional repair method has a limitation in that it can not be repaired without damaging the constituent elements constituting the display element, for example, the upper electrode or the lower electrode. In this case, if the mixed light emitting region is repaired after completion of the display element fabrication, the anode or the cathode are all removed, so that these electrodes must be fabricated again.

공개특허번호 제10-2009-0025145호(2009.03.10. 공개)Open Patent No. 10-2009-0025145 (Published on March 10, 2009)

본 발명자들은 이러한 문제점을 해결하기 위하여 연구 노력한 결과 디스플레이소자의 유기박막의 혼색된 발광영역에 레이저를 조사함으로써 본 발명을 완성하였다. The inventors of the present invention completed the present invention by irradiating a laser to a mixed light emitting region of an organic thin film of a display device.

따라서, 본 발명의 목적은 디스플레이소자의 제작 도중이나 제작 완료 후 디스플레이소자의 혼색된 발광영역만을 리페어할 수 있는 방법을 제공하는 것이다.Accordingly, it is an object of the present invention to provide a method capable of repairing only a mixed color light emitting area of a display element during or after fabrication of a display element.

또한, 본 발명의 다른 목적은 디스플레이소자의 혼색된 발광영역 이외의 어떠한 부분에 손상을 가하지 않으면서 혼색된 발광영역만을 리페어할 수 있는 방법을 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to provide a method capable of repairing only a mixed color light emitting region without damaging any portion other than the mixed color light emitting region of the display device.

본 발명의 목적들은 이상에서 언급한 목적들로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 목적들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.The objects of the present invention are not limited to the above-mentioned objects, and other objects not mentioned can be clearly understood by those skilled in the art from the following description.

상기의 목적을 달성하기 위하여 본 발명은 다수의 발광영역이 정의된 디스플레이소자의 리페어 방법에 있어서, 발광영역이 혼색되어 리페어가 필요한 디스플레이소자를 준비하는 제1단계; 혼색된 발광영역만을 변성시키는 레이저빔의 조사범위를 설정하는 제2단계; 및 설정된 조사범위 내에서 레이저빔을 조사하여 상기 혼색된 발광영역을 리페어하는 제3단계;를 포함하는 디스플레이소자의 리페어 방법을 제공한다.According to an aspect of the present invention, there is provided a method of repairing a display device having a plurality of light emitting regions defined therein, the method comprising: a first step of preparing a display device requiring repairs by mixing light emitting regions; A second step of setting an irradiation range of the laser beam which modifies only the mixed light emitting region; And a third step of irradiating a laser beam within the set irradiation range to repair the mixed color emission region.

바람직한 실시예에 있어서, 상기 제2단계는 리페어하고자 하는 상기 혼색된 발광영역 이외의 상기 디스플레이소자를 구성하는 구성요소의 손상이 없도록 상기 레이저빔의 조사범위를 설정한다.In a preferred embodiment, the second step sets the irradiation range of the laser beam so that there is no damage to components other than the mixed-color emission area to be repaired, which constitute the display device.

바람직한 실시예에 있어서, 상기 디스플레이소자는 기판상에 제1전극, 발광층을 구비하는 유기박막 및 제2전극이 순차적으로 적층되어 있는 OLED 소자이며, 상기 제3단계는 설정된 레이저빔이 조사되면 유기박막의 혼색된 발광영역이 변성되어 전류가 통하지 않아 발광되지 않는다.In a preferred embodiment, the display device is an OLED device in which a first electrode, an organic thin film having a light emitting layer, and a second electrode are sequentially laminated on a substrate, and in the third step, when the set laser beam is irradiated, The light-emitting region of the mixed color of the light-emitting region of the light-emitting layer is changed,

바람직한 실시예에 있어서, 상기 제2단계는 상기 제1전극, 상기 유기박막의 혼색되지 않은 발광영역 및 상기 제2전극의 광흡수 범위에는 해당하지 않으면서, 상기 유기박막의 혼색된 발광영역의 광흡수 범위 내에서 상기 레이저빔의 조사범위를 설정한다.In a preferred embodiment of the present invention, the second step may include a step of irradiating light of a mixed color light emitting region of the organic thin film, which does not correspond to the light absorption range of the first electrode, The irradiation range of the laser beam is set within the absorption range.

바람직한 실시예에 있어서, 상기 제3단계 후 상기 유기박막의 혼색된 발광영역의 상부 및 하부에 존재하는 상기 제1전극 및 상기 제2전극은 손상이 없어 그대로 존재한다.In a preferred embodiment, after the third step, the first electrode and the second electrode existing above and below the mixed color emission region of the organic thin film are free from damage and present as they are.

바람직한 실시예에 있어서, 상기 기판은 투명기판이고, 상기 제1전극은 투명전극이며, 상기 제3단계는 설정된 레이저빔을 상기 투명기판 쪽에서 조사한다.In a preferred embodiment, the substrate is a transparent substrate, the first electrode is a transparent electrode, and the third step irradiates the set laser beam on the transparent substrate side.

바람직한 실시예에 있어서, 상기 기판은 불투명기판이고, 상기 제2전극은 투명전극이며, 상기 제3단계는 설정된 레이저빔을 상기 제2전극 쪽에서 조사한다.In a preferred embodiment, the substrate is an opaque substrate, the second electrode is a transparent electrode, and the third step irradiates the set laser beam on the second electrode side.

바람직한 실시예에 있어서, 상기 기판은 투명기판이고, 상기 제1전극 및 상기 제2전극은 투명전극이며, 상기 제3단계는 설정된 레이저빔을 상기 투명기판 또는 상기 제2전극 쪽에서 조사한다.In a preferred embodiment, the substrate is a transparent substrate, the first electrode and the second electrode are transparent electrodes, and the third step irradiates the set laser beam on the transparent substrate or the second electrode side.

본 발명은 다음과 같은 우수한 효과를 갖는다.The present invention has the following excellent effects.

먼저, 본 발명의 디스플레이소자의 리페어 방법에 의하면, 디스플레이소자의 제작 도중뿐만 아니라, 제작 완료 후에도 혼색된 발광영역을 리페어할 수 있는 효과가 있다.First, according to the repair method of the display device of the present invention, it is possible to repair the mixed light emitting region not only during the manufacture of the display device but also after the completion of the fabrication.

본 발명의 디스플레이소자의 리페어 방법에 의하면, 디스플레이소자의 혼색된 발광영역 이외의 어떠한 부분에 손상을 가하지 않으면서 혼색된 발광영역만을 리페어할 수 있는 효과가 있다.According to the repairing method of the display device of the present invention, it is possible to repair only the mixed light emitting region without damaging any portion other than the mixed light emitting region of the display device.

도 1은 본 발명의 실시예에 따른 디스플레이소자의 리페어 방법을 설명하기 위한 도면이다.
도 2는 디스플레이소자를 구성하는 구성요소들의 파장에 따른 광흡수율을 보여주는 그래프이다. 1 is a view for explaining a repair method of a display device according to an embodiment of the present invention.
2 is a graph showing the light absorptance according to the wavelength of the constituent elements of the display device.

본 발명에서 사용되는 용어는 가능한 현재 널리 사용되는 일반적인 용어를 선택하였으나, 특정한 경우는 출원인이 임의로 선정한 용어도 있는데 이 경우에는 단순한 용어의 명칭이 아닌 발명의 상세한 설명 부분에 기재되거나 사용된 의미를 고려하여 그 의미가 파악되어야 할 것이다. Although the terms used in the present invention have been selected as general terms that are widely used at present, there are some terms selected arbitrarily by the applicant in a specific case. In this case, the meaning described or used in the detailed description part of the invention The meaning must be grasped.

이하, 첨부한 도면에 도시된 바람직한 실시예들을 참조하여 본 발명의 기술적 구성을 상세하게 설명한다. Hereinafter, the technical structure of the present invention will be described in detail with reference to preferred embodiments shown in the accompanying drawings.

그러나, 본 발명은 여기서 설명되는 실시예에 한정되지 않고 다른 형태로 구체화될 수도 있다. 명세서 전체에 걸쳐 동일한 참조번호는 동일한 구성요소를 나타낸다.However, the present invention is not limited to the embodiments described herein but may be embodied in other forms. Like reference numerals designate like elements throughout the specification.

도 1은 본 발명의 실시예에 따른 디스플레이소자의 리페어 방법을 설명하기 위한 도면이고, 도 2는 디스플레이소자를 구성하는 구성요소들의 파장에 따른 광흡수율을 보여주는 그래프이다. FIG. 1 is a view for explaining a repairing method of a display device according to an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a graph showing a light absorptance according to a wavelength of a constituent element of a display device.

도 1을 참조하면, 본 발명의 실시예에 따른 디스플레이소자의 리페어 방법은 크게 발광영역이 혼색되어 리페어가 필요한 디스플레이소자를 준비하는 제1단계와, 혼색된 발광영역만을 변성시키는 레이저빔의 조사범위를 설정하는 제2단계 및 설정된 조사범위 내에서 레이저빔을 조사하여 상기 혼색된 발광영역을 리페어하는 제3단계를 포함하여 이루어지는데, 설정된 레이저빔을 조사함으로써 리페어하고자 하는 상기 혼색된 발광영역 이외의 상기 디스플레이소자를 구성하는 다른 어떠한 구성요소에 손상을 주지 않으면서 리페어할 수 있다.Referring to FIG. 1, a repair method for a display device according to an embodiment of the present invention includes a first step of preparing a display device requiring repairs due to mixed light emission areas, a step of irradiating a laser beam And a third step of irradiating a laser beam within the set irradiation range to repair the mixed color light emitting region. In this case, by irradiating the laser beam with the laser beam, It can be repaired without damaging any other components constituting the display device.

먼저, 상기 제1단계에서는 디스플레이소자의 제조 공정상의 문제로 발광영역이 혼색되어 리페어가 필요한 디스플레이소자(100)를 준비한다(S10).First, in the first step, a display device 100 requiring a repair by mixing a light emitting region due to a manufacturing process of a display device is prepared (S10).

상기 디스플레이소자(100)는 유기전계발광소자 등과 같이 발광층을 구비하는 유기박막층을 포함하는 디스플레이소자이다. 본 발명의 실시예에서는 상기 디스플레이소자(100)로서 유기전계발광소자(OLED 소자)를 예를 들어 설명하기로 한다.The display device 100 is a display device including an organic thin film layer including a light emitting layer such as an organic electroluminescent device. An organic electroluminescent device (OLED device) will be described as an example of the display device 100 according to an embodiment of the present invention.

일반적으로 OLED 소자(100)는 기판(110)상에 제1전극(120), 유기박막(130) 및 제2전극(140)이 순차적으로 적층되어 있으며, 발광영역(R, G, B)과 비발광영역으로 구분되어 있다.In general, the OLED element 100 includes a first electrode 120, an organic thin film 130, and a second electrode 140 sequentially stacked on a substrate 110, and the light emitting regions R, G, Non-emitting region.

상기 기판(110)은 유리와 같은 투명기판을 사용하고, 상기 제1전극(120)은 ITO, ZTO 등과 같은 투명전극을 사용하며, 상기 제2전극(140)은 Al, Ag 등과 같은 금속전극을 사용할 수 있다.The first electrode 120 may be a transparent electrode such as ITO or ZTO and the second electrode 140 may be a metal electrode such as Al or Ag. Can be used.

그리고, 상기 유기박막(130)은 정공수송층, 정공주입층, 발광층 및 전자주입층, 전자수송층 등을 포함하여 구성될 수 있으며, 다양한 유기물이나 유기물반도체 등의 소재로 형성된다.The organic thin film 130 may include a hole transporting layer, a hole injecting layer, a light emitting layer, an electron injecting layer, an electron transporting layer, or the like, and may be formed of various organic materials or organic semiconductor materials.

상기 발광영역의 각각의 픽셀은 일정한 컬러를 구현하게 되는데 예를 들면, 픽셀 (a)는 레드(R, 131), 픽셀 (b)는 그린(G, 132), 픽셀 (c)는 블루(B, 133) 컬러를 구현하게 된다. For example, the pixel (a) is red (R, 131), the pixel (b) is green (G) and the pixel (c) is blue , 133) colors.

그리고, 픽셀과 픽셀 사이에는 각각의 픽셀을 구분하여 주는 픽셀구분뱅크(150)가 형성되어 있으며, 상기 픽셀구분뱅크(150)는 비발광영역에 해당한다.A pixel separation bank 150 for separating pixels from each other is formed between a pixel and a pixel, and the pixel separation bank 150 corresponds to a non-emission area.

여기서, 각각의 픽셀에는 일정한 컬러를 발광시키는 발광층을 포함한 유기박막(130)이 구비되어 있는데, 증착기술 등을 이용하여 다양한 형태로 패터닝함으로써 형성하며, 파인 메탈 마스크(Fine Metal Mask)와 같은 정밀 공정을 이용하여 픽셀 간을 구분하게 된다. Here, each pixel is provided with an organic thin film 130 including a light emitting layer that emits a constant color. The organic thin film 130 is formed by patterning various patterns using a deposition technique or the like, and is formed by a precision process such as a fine metal mask To distinguish between pixels.

그러나 파인 메탈 마스크(Fine Metal Mask)와 같은 정밀한 공정을 이용한다 하더라도 쉐도우 마스크(shadow mask)의 정렬(alignment) 불일치 등과 같은 오류로 인하여 발광영역 중에서 일부 영역이 혼색되는 공정상 문제가 발생할 수 있다. However, even if a precise process such as a fine metal mask is used, an error such as an alignment mismatch of a shadow mask may cause a process problem in which some regions of the light emitting region are mixed.

특정한 발광영역(R)에 혼색된 발광영역(G, 132')이 발생한 상태를 도 1에 표시하였다.A state in which a luminescent region (G, 132 ') mixed in a specific luminescent region R is generated is shown in Fig.

본 발명의 실시예에서는 이러한 혼색된 발광영역(G, 132')을 리페어함에 있어서, 기 제작된 OLED 소자(100)를 준비한 다음 레이저빔을 조사하여 혼색된 발광영역만을 변성시킴으로써 상기 유기박막(130)을 리페어한 기술이다.In the embodiment of the present invention, in repairing the mixed color light emitting regions G and 132 ', the prepared OLED device 100 is prepared, and then the laser beam is irradiated to modify only the mixed color light emitting region, ).

이어서, 상기 제2단계에서는 상기 OLED 소자의 혼색된 발광영역(132')만을 변성시키는 레이저빔의 조사범위를 설정한다(S20).Next, in the second step, an irradiation range of a laser beam for modifying only the mixed color emission region 132 'of the OLED element is set (S20).

이때, 리페어하고자 하는 상기 유기박막(130)의 혼색된 발광영역(132') 이외의 상기 OLED 소자(100)를 구성하는 구성요소 즉, 기판(110), 제1전극(120), 상기 유기박막(130)의 혼색되지 않은 발광영역(131, 132, 133) 및 제2전극(140)에는 어떠한 손상을 주지 않는 범위 내에서 상기 레이저빔의 조사범위를 설정한다.At this time, the components constituting the OLED element 100 other than the mixed color emission region 132 'of the organic thin film 130 to be repaired, that is, the substrate 110, the first electrode 120, The irradiation range of the laser beam is set within a range that does not cause damage to the uncooled light emitting regions 131, 132, and 133 and the second electrode 140 of the light emitting device 130.

도 2를 참조하면, (a)영역에서는 약 350nm 미만의 자외선 영역에서 광흡수가 강하게 일어나며, (b)영역에서는 약 350㎚ 내지 2㎛ 범위의 가시광선 및 근적외선 영역에서 광흡수가 일어나며, (c)영역에서는 약 2㎛ 이상의 영역에서 광흡수가 강하게 일어나는 것을 알 수 있다. 즉, (a)영역은 상기 제1전극(120)으로서 ITO 등과 같은 투명전극의 광흡수를 보여주는 영역이고, (b)영역은 상기 유기박막(130)의 광흡수를 보여주는 영역이며, (c)영역은 상기 제2전극(140)으로서 Al, Ag 등과 같은 금속전극의 광흡수를 보여주는 영역이다.2, in the region (a), light absorption occurs strongly in an ultraviolet region of less than about 350 nm, and in the region (b), light absorption occurs in a visible light region and a near infrared region in a range of about 350 nm to 2 ) Region, light absorption occurs strongly in a region of about 2 탆 or more. That is, the region (a) shows the absorption of light by the transparent electrode such as ITO as the first electrode 120, the region (b) shows the light absorption of the organic thin film 130, Region is an area showing the absorption of light of the metal electrode such as Al, Ag or the like as the second electrode 140.

따라서 상기 제2단계에서는 상기 유기박막(130) 중 혼색된 발광영역(132')만을 변성시킬 수 있는 레이저빔의 조사범위 즉, 광흡수가 일어나는 약 350㎚ 내지 2㎛ 범위의 가시광선 영역 중 그린(G) 영역에서 레이저빔의 조사범위를 설정한다. Accordingly, in the second step, the irradiation range of the laser beam capable of denaturing only the mixed luminescent region 132 'of the organic thin film 130, that is, the visible light region of about 350 nm to 2 μm in which light absorption occurs, The irradiation range of the laser beam is set in the area (G).

상기 유기박막(130)은 다양한 유기물이나 유기반도체 등의 소재를 사용하여 형성되는 것이 일반적인바 열에 매우 약한 특성을 보이므로, 레이저빔과 같은 고열의 에너지가 짧은 시간에 가해질 경우 상기 유기박막(130)의 변성(탄화 등)을 유발시키게 된다. 이 경우 상기 OLED 소자(100)에 전기장 인가 시, 수직 방향으로만 전류가 흐를 수 있는 OLED 소자(100)의 구조적 특성 때문에 레이저에 의해 변성된 영역에서는 전류의 흐름이 제한되게 되는데, 발광소자의 경우에는 발광이 이루어지지 않게 된다. 본 발명에서는 이러한 원리를 이용함으로써 OLED 소자의 제작 도중 또는 제작 완료 후 발견된 혼색된 발광영역을 리페어할 수 있는 것이다.Since the organic thin film 130 is formed using various organic materials or organic semiconductors, the organic thin film 130 exhibits a very weak characteristic in a bar. Therefore, when energy of high heat such as a laser beam is applied for a short time, (Carbonization and the like). In this case, when the electric field is applied to the OLED element 100, current flow is limited in the region denatured by the laser due to the structural characteristic of the OLED element 100, which can only flow in the vertical direction. The light is not emitted. In the present invention, by using this principle, it is possible to repair the mixed color emitting region found during or after the completion of the production of the OLED device.

이때, 상기 제1전극(120), 상기 유기박막(130)의 혼색되지 않은 발광영역(131, 132, 133) 및 상기 제2전극(140)의 광흡수 범위에는 해당하지 않으면서, 상기 유기박막(130)의 혼색된 발광영역(132')만의 광흡수 범위 내에서 상기 레이저빔의 조사범위를 설정하는 것이 바람직하다. At this time, the organic thin film 130 does not correspond to the light absorption range of the first electrode 120, the non-combined light emitting regions 131, 132, 133 of the organic thin film 130, and the second electrode 140, It is preferable to set the irradiation range of the laser beam within the light absorption range of only the mixed color light emitting region 132 'of the light emitting portion 130.

이는 레이저 리페어 공정 중 상기 제1전극(120) 및 제2전극(140)에서 레이저 흡수가 일어나게 되면 변성될 수 있는데, 이 경우 열 전달을 통한 형상변화, 두께변화, 표면거칠기 변화 등이 유발되어 저항 증가나 전류 밀도 변화 등 OLED 소자의 전기적 특성이 변할 수 있기 때문이며, 상기 유기박막(130)의 혼색되지 않은 발광영역(131, 132, 133)에서 레이저 흡수가 일어나게 되면 발광영역이 변성되어 발광범위가 줄어들게 되기 때문이다. In this case, shape change, thickness change, surface roughness change, and the like are caused by heat transfer, and thus, the resistance of the first electrode 120 and the second electrode 140 And the electrical characteristics of the OLED device may be changed. For example, when laser absorption occurs in the organic light emitting regions 131, 132, and 133 of the organic thin film 130, the light emitting region is modified, This is because it will be reduced.

이러한 점을 고려하여 상기 레이저빔의 최적 조사범위를 설정할 필요가 있으며, 따라서 레이저 파장 및 출력의 선택이 매우 중요하다.In consideration of this point, it is necessary to set the optimum irradiation range of the laser beam, and therefore, the selection of the laser wavelength and the output is very important.

본 발명의 실시예에서 사용될 수 있는 레이저는 연속레이저나 펄스레이저 등 그 종류를 불문하고 사용될 수 있으나, 파장 영역이 대략 400 내지 4000㎚ 범위(가시광에서 근적외선 영역)인 레이저를 사용하는 것이 적합하다. 그리고, 레이저빔의 조사에너지는 단위면적(직경 50㎛)당 1uJ ~ 1000uJ이 적절하며, 바람직하게는 1uJ~500uJ이 적절하다.The laser which can be used in the embodiment of the present invention can be used regardless of the kind such as a continuous laser or a pulsed laser, but it is suitable to use a laser having a wavelength range of approximately 400 to 4000 nm (visible light to near infrared region). The irradiation energy of the laser beam is suitably 1 uJ to 1000 uJ per unit area (diameter 50 m), preferably 1 uJ to 500 uJ.

마지막으로, 제3단계에서는 설정된 조사범위 내에서 레이저빔을 조사하여 상기 유기박막(130)의 혼색된 발광영역을 리페어한다(S30).Finally, in the third step, the mixed light emitting region of the organic thin film 130 is repaired by irradiating a laser beam within the set irradiation range (S30).

상기 제3단계에서는 레이저 장비의 파워, 스캔속도, 스캔 범위 및 스팟사이즈(spot size) 등을 다양하게 설정하여 리페어가 필요한 발광영역(132')을 리페어(a')할 수 있다.In the third step, it is possible to repair the light emitting region 132 'requiring repair by variously setting the power, scan speed, scan range, and spot size of the laser equipment.

그리고 상기 제3단계서 설정된 레이저빔은 투명전극쪽으로 조사되어야 하므로 상기 투명기판(310) 쪽에서 조사하는 것이 바람직하다.Since the laser beam set in the third step needs to be irradiated toward the transparent electrode, it is preferable to irradiate the laser beam from the transparent substrate 310 side.

한편, 상기 유기전계발광소자가 전면발광(top emission)인 경우, 상기 기판(310)은 불투명기판이고, 상기 제2전극(334)은 투명전극이며, 상기 제3단계는 설정된 레이저빔을 상기 제2전극 쪽에서 조사하는 것이 바람직하다. 그리고, 상기 유기전계발광소자가 양면발광인 경우, 상기 기판(310)은 투명기판이고, 상기 제1전극(320) 및 상기 제2전극(340)은 투명전극이며, 상기 제3단계는 설정된 레이저빔을 상기 투명기판(310) 또는 상기 제2전극(340) 어느 쪽에서 조사할 수 있다.Meanwhile, in the case where the organic EL device is top emission, the substrate 310 is an opaque substrate, the second electrode 334 is a transparent electrode, It is preferable to conduct irradiation from the two electrode side. The first electrode 320 and the second electrode 340 are transparent electrodes. In the third step, the substrate 310 is a transparent substrate, and the first electrode 320 and the second electrode 340 are transparent electrodes, The beam can be irradiated from either the transparent substrate 310 or the second electrode 340.

상술한 바와 같이, 본 발명의 실시예에 따른 디스플레이소자의 리페어 방법은 설정된 레이저빔이 조사되면 상기 기판(110), 제1전극(120), 유기박막(130)의 혼색되지 않은 발광영역(131, 132, 133) 및 제2전극(340)에는 어떠한 손상도 주지 않으나, 상기 유기박막(130) 중 혼색된 발광영역(132')만은 변성되어 전류가 통하지 않게 되므로 리페어를 형성할 수 있다. As described above, the repairing method of the display device according to the embodiment of the present invention is characterized in that when the laser beam is irradiated, the uncooled light emitting region 131 (not shown) of the substrate 110, the first electrode 120, 132, and 133 and the second electrode 340. However, only the mixed light emitting region 132 'of the organic thin film 130 is denatured and no current flows through the organic thin film 130, so that a repair can be formed.

다시 말해서, 상기 유기박막(130)의 리페어가 이루어지고 난 다음에도 하부전극인 상기 제1전극(110)과 상부전극인 상기 제2전극(140)은 여전히 남아있기 때문에 손상으로 인한 전극층의 보강이 필요 없이 유기박막(130)의 리페어가 가능하다.In other words, since the first electrode 110, which is a lower electrode, and the second electrode 140, which is an upper electrode, remain after the repair of the organic thin film 130, The organic thin film 130 can be repaired without the need.

이상에서 살펴본 바와 같이 본 발명은 바람직한 실시예를 들어 도시하고 설명하였으나, 상기한 실시예에 한정되지 아니하며 본 발명의 정신을 벗어나지 않는 범위 내에서 당해 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 다양한 변경과 수정이 가능할 것이다.While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it is clearly understood that the same is by way of illustration and example only and is not to be taken by way of limitation, Various changes and modifications will be possible.

100: OLED 소자 110: 기판
120: 제1전극 130: 유기박막
132': 혼색된 발광영역 140: 제2전극
150: 픽셀구분뱅크 100: OLED element 110: substrate
120: first electrode 130: organic thin film
132 ': mixed color emission region 140: second electrode
150: Pixel separation bank

Claims (5)

기판상에 제1전극, 발광층을 구비하는 유기박막 및 제2전극이 순차적으로 적층되어 있으며, 다수의 발광영역이 정의된 유기전계발광소자(OLED)의 리페어 방법에 있어서,
발광영역이 혼색되어 리페어가 필요한 유기전계발광소자를 준비하는 제1단계;
혼색된 발광영역만을 변성시키는 레이저빔의 조사범위를 설정하는 제2단계; 및
설정된 조사범위 내에서 레이저빔을 조사하여 상기 혼색된 발광영역을 리페어하는 제3단계;를 포함하는데,
상기 제2단계는 상기 제1전극, 상기 유기박막의 혼색되지 않은 발광영역 및 상기 제2전극의 광흡수 범위에는 해당하지 않으면서, 상기 유기박막의 혼색된 발광영역의 광흡수 범위 내에서만 파장을 흡수하여 광흡수가 일어나는 파장영역에서 레이저빔의 조사범위를 설정하며,
상기 제3단계 후 상기 유기박막의 혼색된 발광영역의 상부 및 하부에 존재하는 상기 제1전극 및 상기 제2전극은 손상이 없어 그대로 존재하는 것을 특징으로 하는 유기전계발광소자의 리페어 방법.A method for repairing an organic light emitting diode (OLED) in which a first electrode, an organic thin film having a light emitting layer, and a second electrode are sequentially stacked on a substrate, and a plurality of light emitting regions are defined,
A first step of preparing an organic electroluminescent device in which light emitting regions are mixed so that repairs are required;
A second step of setting an irradiation range of the laser beam which modifies only the mixed light emitting region; And
And a third step of irradiating a laser beam within the set irradiation range to repair the mixed color emission region,
The second step may be performed only within the light absorption range of the mixed color emission region of the organic thin film, but not within the light absorption range of the first electrode, the uncooled light emission region of the organic thin film, and the second electrode. And sets the irradiation range of the laser beam in a wavelength region where light absorption occurs,
Wherein the first electrode and the second electrode located above and below the mixed color emission region of the organic thin film after the third step remain intact and free from damage. 제 1 항에 있어서,
상기 제2단계는 400㎚ 내지 4000㎚ 범위의 일정 파장과, 단위면적(직경 50㎛)당 1uJ 내지 500uJ 범위의 일정 에너지로 상기 레이저빔의 조사범위를 설정하는 것을 특징으로 하는 유기전계발광소자의 리페어 방법.The method according to claim 1,
Wherein the second step sets the irradiation range of the laser beam at a constant energy in a range of 400 nm to 4000 nm and a constant energy in a range of 1 uJ to 500 uJ per unit area (50 mu m in diameter) Repair method. 삭제delete 삭제delete 삭제delete
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