KR20180060361A - Chemical degassing device - Google Patents

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KR20180060361A
KR20180060361A KR1020160159781A KR20160159781A KR20180060361A KR 20180060361 A KR20180060361 A KR 20180060361A KR 1020160159781 A KR1020160159781 A KR 1020160159781A KR 20160159781 A KR20160159781 A KR 20160159781A KR 20180060361 A KR20180060361 A KR 20180060361A
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degassing
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chemical
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조강일
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주식회사 케이씨텍
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    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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Abstract

The present invention aims to provide a device for degassing a liquid medicine, which effectively separates and removes bubbles contained in a high viscosity chemical liquid to prevent process failure, and enables a differential pressure during the transfer of a high viscosity chemical liquid to generate less to smoothly transfer and supply the chemical liquid. The device for degassing the liquid medicine of the present invention comprises: a degassing membrane which has a cavity having a size allowing gas contained in the chemical liquid to pass therethrough and in which vacuum is applied to therein; and a chamber in which the degassing membrane is accommodated and to which the chemical liquid to be degassed is supplied to the outside of the degassing membrane, wherein the gas contained in the chemical liquid in the chamber is sucked from the outer surface of the degassing membrane into the inside of the degassing membrane to perform degassing.

Description

약액 탈기 장치{Chemical degassing device}Chemical degassing device

본 발명은 약액 탈기 장치에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 고점도 약액 내에 포함된 기체를 효율적으로 분리하여 제거함으로써 기판 처리 공정의 불량을 예방할 수 있도록 하는 약액 탈기 장치에 관한 것이다. BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a chemical liquid degassing apparatus, and more particularly, to a chemical liquid degassing apparatus capable of efficiently separating and removing a gas contained in a high viscosity chemical liquid, thereby preventing defective substrate processing.

평판 기판에 약액을 일정한 두께로 균일하게 코팅하는 기판 코팅 공정는 다양한 분야에서 적용될 수 있으며, 엘시디(LCD)와 같은 평판 디스플레이의 제조를 위하여 유리 기판 표면에 감광성 수지 등(이하,‘약액’이라 칭함)을 분사하여 도포하는 기판 코팅 공정도 그 중에 하나이다. A substrate coating process for uniformly coating a chemical liquid on a flat substrate with a uniform thickness can be applied to various fields. For the production of a flat panel display such as an LCD, a photosensitive resin or the like (hereinafter referred to as a " chemical liquid " And a substrate coating process for spraying the coating solution.

이와 같은 기판 코팅 공정에 있어서 일반적으로 약액을 질소 기체에 의해 토출 노즐로 압송하게 되는데, 약액 압송 과정에서 약액에 기체가 포함된 상태로 기판의 표면에 분사될 경우에는 공정 불량이 초래되므로, 약액이 토출 노즐로 공급되기 전단계에서 약액에 포함된 기체를 탈기시켜 기포의 발생을 억제할 필요가 있다.In such a substrate coating process, the chemical liquid is generally transported by a discharge nozzle by means of a nitrogen gas. If the chemical liquid is sprayed on the surface of the substrate in a state in which the gas is contained in the chemical liquid during the liquid chemical pressurization process, It is necessary to prevent the generation of air bubbles by degassing the gas contained in the chemical liquid in the previous stage before being supplied to the discharge nozzle.

이러한 목적에 사용되는 약액 탈기 장치와 관련된 선행기술의 일례로서, 도 1은 대한민국 등록특허 제10-0454539호에 개시된 중공사막 모듈(1)을 사용하여 탈기 처리를 행하는 약액 탈기 처리 장치를 나타낸 것이다. 1 shows a chemical liquid degassing apparatus for performing a degassing process using a hollow fiber membrane module 1 disclosed in Korean Patent No. 10-0454539.

상기 중공사막 모듈(1)은 약액 입구(14), 약액 출구(15) 및 배기구(16)를 구비한 캔 체(17) 내에 장전하여 사용한다. 약액 탱크(18)에 저장된 약액(19)에 대하여 질소 공급 배관(20)으로부터 질소 기체를 공급하고, 질소 가스의 압력을 구동력으로 사용하여 약액을 약액 공급 배관(21)을 통해 중공사막 모듈(1)에 공급한다. The hollow fiber membrane module 1 is used by being loaded in a can body 17 having a chemical liquid inlet 14, a chemical liquid outlet 15 and an exhaust port 16. Nitrogen gas is supplied from the nitrogen supply pipe 20 to the chemical liquid 19 stored in the chemical liquid tank 18 and the chemical liquid is supplied through the chemical liquid supply pipe 21 to the hollow fiber membrane module 1 .

약액(19)은 캔 체(17)의 약액 입구(14)로부터 들어가고, 중공사막 모듈(1)의 중공사막의 중공부를 통해 약액 출구(15)로 나온다. 이 때, 중공사막의 외부는 캔 체(17)의 배기구(16)에 접속된 진공 펌프(22)에 의해 감압되며, 약액 출구(15)로부터는 탈기를 끝낸 약액을 얻을 수 있도록 구성되어 있다.The chemical liquid 19 enters from the chemical liquid inlet 14 of the can body 17 and exits through the hollow portion of the hollow fiber membrane of the hollow fiber membrane module 1 to the chemical liquid outlet 15. At this time, the outside of the hollow fiber membrane is decompressed by the vacuum pump 22 connected to the exhaust port 16 of the can body 17, and the chemical liquid after the deaeration is obtained from the chemical liquid outlet 15.

도 2를 참조하여 탈기 과정을 설명하면, 중공사막 모듈(1)의 내부(11)에 약액(19)이 공급되어 유동하고, 중공사막 모듈(1)의 외부(12)에는 진공이 인가되며, 약액(19)에 포함된 기체(B)는 중공사막 모듈(1)의 내부(11)와 외부(12)의 압력차에 의해 중공사막 모듈(1)에 형성된 미세 크기의 공극(1a)을 통하여 중공사막 모듈(1)의 내부(11)에서 외부(12)로 배출된다.2, a chemical solution 19 is supplied to the inside 11 of the hollow fiber membrane module 1 to be flowed, a vacuum is applied to the outside 12 of the hollow fiber membrane module 1, The gas B contained in the chemical solution 19 is introduced into the hollow fiber membrane module 1 through the fine pore 1a formed in the hollow fiber membrane module 1 by the pressure difference between the inside 11 and the outside 12 of the hollow fiber membrane module 1 And is discharged from the inside 11 of the hollow fiber membrane module 1 to the outside 12.

그러나, 이와 같이 약액(19)이 중공사막 모듈(1)의 내부(11)를 따라 유동하면서 탈기를 실시하는 내부 관류 방식에 의할 경우에는, 약액(19)의 점도가 낮은 경우에는 약액(19)의 이송에 문제가 없으나, 약액(19)의 점도가 큰 경우에는 중공사막 모듈(1)의 내부(11)에 차압이 크게 발생하게 되므로 고점도 약액(19)이 원활하게 이송될 수 없는 문제점이 있다. However, in the case of the internal perfusion system in which the chemical solution 19 is deodorized while flowing along the inside 11 of the hollow fiber membrane module 1, when the viscosity of the chemical solution 19 is low, the chemical solution 19 If the viscosity of the chemical solution 19 is large, a large pressure difference is generated in the interior 11 of the hollow fiber membrane module 1, so that the high viscosity chemical solution 19 can not be smoothly conveyed have.

또한 종래의 약액 탈기 장치는 약액(19)이 약액 입구(14)로 유입된 후에 중공사막 모듈(1)을 통과하여 약액 출구(15)를 향하는 일방향으로만 유동하는 구조로 이루어져 있어 약액(19)의 유동 경로가 짧아 탈기 효율이 낮은 문제점이 있다.The conventional chemical liquid degassing apparatus has a structure in which the chemical liquid 19 flows into the chemical liquid inlet 14 and then flows through the hollow fiber membrane module 1 and flows only in one direction toward the chemical liquid outlet 15, There is a problem that the efficiency of degassing is low.

또한 약액 탈기 장치는 약액에 의한 공극(1a)의 폐색을 방지하기 위하여 주기적인 세정 작업을 요하게 되는데, 고점도 약액(19)의 탈기를 실시하는 경우에는 중공사막의 표면에 약액(19)이 부착되어 쉽게 분리되지 않아 세정 작업을 원활하게 수행할 수 없는 문제점이 있다.In addition, the chemical liquid degassing apparatus requires periodic cleaning work to prevent clogging of the cavity 1a by the chemical liquid. In case of performing the deaeration of the high viscosity chemical liquid 19, the chemical liquid 19 is attached to the surface of the hollow fiber membrane So that the cleaning operation can not be performed smoothly.

본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로서, 고점도 약액 내에 포함된 기포를 효율적으로 분리하여 제거함으로써 공정 불량을 예방할 수 있도록 함과 아울러 고점도 약액의 이송시 차압이 적게 발생되도록 함으로써 약액이 원활하게 이송되어 공급될 수 있도록 하는 약액 탈기 장치를 제공함을 목적으로 한다.Disclosure of the Invention The present invention has been conceived to solve the problems as described above, and it is an object of the present invention to provide a method and apparatus for efficiently separating and removing bubbles contained in a highly viscous liquid to prevent process defects, So that it can be smoothly fed and supplied.

본 발명의 다른 목적은, 챔버 내에서 약액이 이송되는 유로의 길이를 최대한 길게 확보하는 동시에 약액과 탈기막 간의 접촉 면적을 증대시켜 탈기 효율을 향상시킬 수 있는 약액 탈기 장치를 제공하는데 있다.It is another object of the present invention to provide a chemical liquid degassing apparatus capable of increasing a length of a flow path through which a chemical liquid is transferred in a chamber and maximizing a contact area between a chemical liquid and a degassing film to improve the degassing efficiency.

본 발명의 또 다른 목적은, 탈기막과 챔버에 부착되는 고점도 약액의 잔류물을 효과적으로 탈리시켜 제거함으로써 고점도 약액의 정체에 따른 오염 가능성을 제거할 수 있는 약액 탈기 장치를 제공하는데 있다.It is still another object of the present invention to provide a chemical liquid degassing apparatus capable of effectively removing and removing residues of a high viscosity chemical solution adhering to a degassing film and a chamber, thereby eliminating the possibility of contamination due to stagnation of a high viscosity chemical solution.

상술한 바와 같은 목적을 구현하기 위한 본 발명의 약액 탈기 장치는, 약액에 포함된 기체가 통과 가능한 크기의 공극을 가지며 내부에는 진공이 인가되는 탈기막; 상기 탈기막이 수납되며 상기 탈기막의 외부로 탈기 대상 약액이 공급되는 챔버;를 포함하고, 상기 탈기막의 외표면으로부터 상기 챔버 내의 약액에 포함된 기체를 상기 탈기막의 내부로 흡입하여 탈기 처리하도록 구성된다.In order to achieve the above object, the present invention provides a chemical liquid degassing apparatus comprising: a desiccant film having a gap of a size allowing a gas contained in a chemical liquid to pass therethrough and a vacuum applied to the inside; And a chamber in which the deaeration membrane is accommodated and to which a chemical liquid to be degassed is supplied to the outside of the deaeration membrane, and a gas contained in the chemical solution in the chamber is sucked from the outer surface of the deaeration membrane into the inside of the deaeration membrane to perform degassing .

상기 챔버의 중앙에는 약액 공급관이 구비되고, 상기 약액 공급관의 둘레에는 동심 구조로 배치된 복수의 탈기막이 구비될 수 있다.A chemical solution supply pipe is provided at the center of the chamber, and a plurality of deaeration membranes arranged concentrically around the chemical solution supply pipe may be provided.

상기 복수의 탈기막은 나선형으로 감겨진 다수개의 중공사막 다발로 이루어질 수 있다. The plurality of deaeration membranes may be formed of a plurality of hollow fiber membrane bundles spirally wound.

상기 복수의 탈기막은 반경방향으로 이격되어 배치되고, 상기 복수의 탈기막 사이에는 상기 챔버 내에서 약액의 유로를 지그재그 방향으로 전환하기 위한 격벽이 구비될 수 있다.The plurality of deaerating membranes may be spaced apart from each other in the radial direction, and a partition wall may be provided between the plurality of deaerating membranes to switch the chemical liquid flow path in the zigzag direction in the chamber.

상기 약액 공급관은 상기 챔버의 상부를 관통하여 상기 챔버의 하부까지 연장되어 상기 챔버의 하부에서 약액이 배출되고, 상기 약액 공급관에서 배출된 약액은 상기 격벽의 내측에 위치한 제1탈기막을 경유하여 상방향으로 유동하면서 1차로 탈기되고, 상기 제1탈기막을 통과한 약액은 상기 격벽의 외측에 위치한 제2탈기막을 경유하여 하방향으로 유동하면서 2차로 탈기되는 것으로 구성될 수 있다.The chemical liquid supply pipe extends through the upper portion of the chamber and extends to the lower portion of the chamber so that the chemical liquid is discharged from the lower portion of the chamber. The chemical liquid discharged from the chemical liquid supply pipe flows upward through the first deaeration membrane located inside the partition wall And the chemical liquid passing through the first deaerating membrane is secondarily degassed while flowing downward through the second deaerating membrane located outside the partition wall.

상기 약액 공급관의 하부에는 약액 배출공이 방사상으로 형성될 수 있다.A chemical liquid discharge hole may be formed radially below the chemical liquid supply pipe.

상기 격벽의 하단은 상기 챔버의 내측 바닥면에 고정되고, 상기 격벽의 상단은 상기 챔버의 내측 상면과 소정 간격 이격되어 위치될 수 있다.The lower end of the partition may be fixed to the inner bottom surface of the chamber, and the upper end of the partition may be spaced apart from the inner upper surface of the chamber by a predetermined distance.

상기 챔버의 상부 중앙에는 상기 약액 공급관과 연결되는 약액 유입구가 형성되고, 상기 챔버의 하부에는 상기 격벽의 외측으로 약액 배출구가 형성될 수 있다.A chemical solution inlet connected to the chemical solution supply pipe is formed at an upper center of the chamber, and a chemical solution discharge port is formed at a lower portion of the chamber.

상기 챔버의 상부에는 상기 복수의 탈기막의 양끝단에 각각 연결되어 진공을 인가하기 위한 복수의 진공포트가 구비될 수 있다.The upper portion of the chamber may be provided with a plurality of vacuum ports connected to both ends of the plurality of degassing films for applying vacuum.

상기 챔버는, 상기 약액 공급관과 상기 복수의 탈기막이 결합된 상부 챔버와, 상기 상부 챔버의 하부에 체결되며, 상기 격벽이 결합된 하부 챔버로 이루어질 수 있다.The chamber may include an upper chamber coupled with the chemical solution supply pipe and the plurality of deaerating membranes, and a lower chamber coupled to a lower portion of the upper chamber and coupled with the partition.

상기 챔버에는 상기 탈기막과 챔버의 세정을 위한 초음파 발생부가 구비될 수 있다.The chamber may include an ultrasonic generator for cleaning the degassing film and the chamber.

상기 챔버에는 챔버 내부의 부압을 방지함과 아울러 기체의 배출을 위한 벤트포트가 구비될 수 있다.The chamber may be provided with a vent port for preventing negative pressure inside the chamber and discharging the gas.

본 발명에 따른 약액 탈기 장치에 의하면, 탈기막의 내부에는 진공을 인가하고 챔버에 공급되는 약액은 탈기막의 외부를 유동하는 외부 관류 방식을 적용함으로써, 고점도 약액 내에 포함된 기포를 효율적으로 분리하여 제거할 수 있고, 고점도 약액의 이송시 차압이 적게 발생되도록 하여 약액이 원활하게 이송될 수 있다.According to the chemical liquid degassing apparatus of the present invention, the bubbles contained in the highly viscous chemical liquid are efficiently separated by applying an external perfusion system in which a vacuum is applied to the inside of the degassing film and a chemical solution supplied to the chamber flows outside the degassing film So that the chemical liquid can be smoothly transferred by causing the differential pressure to be small when the high viscosity liquid is transferred.

또한 약액 공급관을 챔버의 중앙에 구비하고, 약액 공급관의 둘레에는 복수의 탈기막을 동심구조로 배치함과 아울러 복수의 탈기막 사이에는 약액의 유로를 전환하기 위한 격벽을 설치함으로써, 챔버 내에서 약액이 이송되는 유로의 길이를 최대한 길게 확보하는 동시에 약액과 탈기막 간의 접촉 면적을 증대시켜 탈기 효율을 극대화 할 수 있다.In addition, a plurality of deaeration membranes are concentrically arranged around the chemical liquid supply pipe at the center of the chamber, and a partition wall for switching the flow path of the chemical liquid is provided between the plurality of deaerating membranes, It is possible to maximize the degassing efficiency by increasing the contact area between the chemical solution and the degassing membrane while ensuring the length of the flow passage to be maximized.

또한 챔버에는 초음파 발생부를 추가로 구비함으로써, 탈기막과 챔버에 부착되는 고점도 약액의 잔류물을 초음파 진동에 의해 탈리시킴으로써, 효과적인 세정이 가능해져 고점도 약액의 정체에 따른 오염 가능성을 제거할 수 있다.Further, since the chamber is further provided with an ultrasonic wave generating part, by effectively removing the degassing film and the residue of the high viscosity chemical liquid adhered to the chamber by ultrasonic vibration, it is possible to effectively clean and eliminate the possibility of contamination due to stagnation of the high viscosity chemical liquid.

도 1은 종래 약액 탈기 장치의 구성도,
도 2는 종래 내부 관류 방식의 약액 탈기 장치에서의 탈기 현상을 설명하기 위한 도면,
도 3은 본 발명의 일실시예에 따른 약액 탈기 장치의 외관 사시도,
도 4는 본 발명의 일실시예에 따른 약액 탈기 장치의 투시 사시도,
도 5는 본 발명의 일실시예에 따른 탈기막의 구성을 보여주는 단면도,
도 6은 본 발명의 일실시예에 따른 외부 관류 방식의 약액 탈기 장치에서의 탈기 현상을 설명하기 위한 도면,
도 7은 본 발명의 일실시예에 따른 약액 탈기 장치에서 약액과 기체의 유동 경로를 보여주는 단면도,
도 8은 본 발명의 다른 실시예에 따른 약액 탈기 장치의 단면도.1 is a structural view of a conventional chemical liquid degassing apparatus,
FIG. 2 is a view for explaining a deaeration phenomenon in a conventional chemical liquid immersion apparatus of an internal perfusion type,
3 is an external perspective view of a chemical liquid degassing apparatus according to an embodiment of the present invention,
FIG. 4 is a perspective view of a chemical liquid degassing apparatus according to an embodiment of the present invention,
FIG. 5 is a cross-sectional view illustrating a structure of a degassing film according to an embodiment of the present invention,
6 is a view for explaining a deaeration phenomenon in an external perfusion type chemical liquid degassing apparatus according to an embodiment of the present invention,
7 is a sectional view showing a flow path of a chemical liquid and a gas in a chemical liquid degassing apparatus according to an embodiment of the present invention,
8 is a sectional view of a chemical liquid degassing apparatus according to another embodiment of the present invention.

이하 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예에 대한 구성 및 작용을 상세히 설명하면 다음과 같다. DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 3 내지 도 7을 참조하면, 본 발명의 일실시예에 따른 약액 탈기 장치(100)는, 약액(C)에 포함된 기체(B)가 통과 가능한 미세 크기의 공극(141,151)을 가지며 내부(142,152)에는 진공이 인가되는 탈기막(140,150)과, 상기 탈기막(140,150)이 수납되며 상기 탈기막(140,150)의 외부(143,153)로 탈기 대상 약액(C)이 공급되는 챔버(110)를 포함하고, 상기 탈기막(140,150)의 외표면으로부터 챔버(110) 내의 약액(C)에 포함된 기체(B)를 탈기막(140,150)의 내부로 흡입하여 탈기 처리하도록 구성되어 있다.3 to 7, a chemical liquid degassing apparatus 100 according to an embodiment of the present invention includes micro-sized pores 141 and 151 through which a gas B contained in a chemical liquid C can pass, And a chamber 110 in which the degassing membranes 140 and 150 are accommodated and to which the chemical liquid C to be degassed is supplied to the outer portions 143 and 153 of the degassing membranes 140 and 150 And a gas B contained in the chemical solution C in the chamber 110 is sucked into the degassing membranes 140 and 150 from the outer surfaces of the degassing membranes 140 and 150 to perform degassing treatment.

상기 챔버(110)는, 일체형 구조로 구성될 수도 있으나, 본 실시예와 같이 상부 챔버(110a)와 그 하부에 체결되는 하부 챔버(110b)로 분리되어 구성될 수 있다. The chamber 110 may have an integral structure. However, the chamber 110 may be divided into an upper chamber 110a and a lower chamber 110b coupled to the lower chamber 110a, as in the present embodiment.

상기 상부 챔버(110a)의 상부 중앙에는 액약 유입구(111)가 형성되고, 상기 약액 유입구(111)의 둘레에는 제1 내지 제4 진공포트(112,113,114,115)가 형성되어 있다. 상기 제1진공포트(112)와 제2진공포트(113)는 후술되는 제1탈기막(140)의 양끝단에 연결되어 제1탈기막(140)의 내부에 진공을 인가하는 연결구의 기능을 하고, 상기 제3진공포트(114)와 제4진공포트(115)는 후술되는 제2탈기막(150)의 양끝단에 연결되어 제2탈기막(150)의 내부에 진공을 인가하는 연결구의 기능을 한다. A liquid medicine inlet 111 is formed at the upper center of the upper chamber 110a and first to fourth vacuum ports 112, 113, 114 and 115 are formed around the chemical liquid inlet 111. The first vacuum port 112 and the second vacuum port 113 are connected to both ends of a first degassing film 140 to be described later and function as a connection hole for applying a vacuum to the interior of the first degassing film 140 And the third vacuum port 114 and the fourth vacuum port 115 are connected to both ends of the second stripping film 150 to be described later, Function.

상기 제1 내지 제4 진공포트(112,113,114,115)에는 진공을 인가하기 위한 진공펌프(미도시됨)가 연결될 수 있다.A vacuum pump (not shown) may be connected to the first to fourth vacuum ports 112, 113, 114, and 115 to apply a vacuum.

그리고, 상부 챔버(110a)의 일측부에는 챔버(110)의 내부에 부압의 발생을 방지하기 위해 대기와 연통되는 벤트포트(116)가 형성되어, 챔버(110) 내부의 압력을 일정 수준으로 유지함으로써 챔버(110)의 내부로 공급된 약액(C)이 원활하게 유동할 수 있도록 한다. 또한 상기 벤트포트(116)는 약액(C)의 유동과정에서 약액(C)으로부터 분리된 기체(B)의 배기구로서 기능한다.A vent port 116 communicating with the atmosphere is formed at one side of the upper chamber 110a to prevent the generation of a negative pressure in the chamber 110 to maintain the pressure inside the chamber 110 at a predetermined level So that the chemical liquid C supplied to the inside of the chamber 110 can smoothly flow. The vent port 116 functions as an exhaust port of the gas B separated from the chemical liquid C during the flow of the chemical liquid C. [

상기 하부 챔버(110b)의 바닥면에는 약액 배출구(117,118)가 형성되어 있다.On the bottom surface of the lower chamber 110b, chemical solution outlets 117 and 118 are formed.

상기 챔버(110)의 중앙에는 상기 약액 유입구(111)에 연결되며 수직방향으로 연장된 약액 공급관(120)이 구비되고, 상기 약액 공급관(120)의 하단은 하부 챔버(100b)의 바닥면에 고정된다. 상기 약액 공급관(120)의 하부에는 복수의 약액 배출공(121)이 방사상으로 형성되고, 상기 약액 배출공(121)의 하측에는 복수의 개구부(122)가 형성될 수 있다. The lower end of the chemical liquid supply pipe 120 is fixed to the bottom surface of the lower chamber 100b. The lower end of the chemical liquid supply pipe 120 is connected to the chemical liquid inlet 111, do. A plurality of chemical solution discharge holes 121 may be formed radially below the chemical solution supply pipe 120 and a plurality of openings 122 may be formed below the chemical solution discharge hole 121.

상기 약액 유입구(111)를 통하여 공급되는 약액(C)은 약액 공급관(120)의 내부를 따라 하방향으로 유동한 후에, 상기 약액 공급관(120)의 하부에 형성된 약액 배출공(121)과 개구부(122)를 통하여 약액 공급관(120)의 외부로 배출된다.The chemical solution C supplied through the chemical solution inlet 111 flows downward along the inside of the chemical solution supply pipe 120 and then flows through the chemical solution discharge hole 121 formed in the lower portion of the chemical solution supply pipe 120 122 to the outside of the chemical liquid supply pipe 120.

상기 탈기막(140,150)은 약액 공급관(120)의 둘레에 동심구조를 이루며 복수로 구비될 수 있다. 일실시예로, 상기 탈기막(140,150)은, 상기 약액 공급관(120)의 둘레에 구비되는 제1탈기막(140)과, 상기 제1탈기막(140)의 둘레에 구비되는 제2탈기막(150)으로 구성될 수 있다. 상기 약액 공급관(120)과 제1탈기막(140) 및 제2탈기막(150)은 반경방향으로 상호 이격되도록 배치될 수 있다.The denitrifying membranes 140 and 150 may have a plurality of concentric structures around the chemical liquid supply pipe 120. In one embodiment, the depilating films 140 and 150 include a first depilating film 140 provided around the chemical liquid supply tube 120, a second depilating film 140 provided around the first depilating film 140, (150). The chemical solution supply pipe 120, the first degassing film 140, and the second degassing film 150 may be spaced apart from each other in the radial direction.

도 5를 참조하면, 상기 탈기막(140,150)은, 나선형으로 감겨진 다수개의 중공사막 다발로 이루어질 수 있다. 즉, 상기 탈기막(140,150)은 중공사막 튜브(140a,150a)의 다발로 이루어지고, 상기 중공사막 튜브(140a,150b)의 다발을 둘러싸며 지지하는 중공사막 외피(140b,150b)로 구성될 수 있다. 상기 중공사막 튜브(140a,150a)와 중공사막 외피(140b,150b)에는 약액(C)에 포함된 기체(B)만이 통과하고 액체는 통과하지 못하는 미세 크기의 공극(141,151)이 형성되어 있다.Referring to FIG. 5, the membrane strips 140 and 150 may be formed of a plurality of spirally wound hollow fiber membrane bundles. That is, the degassing membranes 140 and 150 are composed of bundles of hollow fiber membrane tubes 140a and 150a and hollow fiber membrane shells 140b and 150b surrounding and supporting bundles of the hollow fiber membrane tubes 140a and 150b . Microvoids 141 and 151 are formed in the hollow fiber membrane shells 140a and 150a and the hollow fiber membrane shells 140b and 150b so that only the base body B contained in the chemical liquid C passes and the liquid does not pass through.

도 6을 참조하면, 상기 중공사막 튜브(140a,150a)의 내부(142,152)에는 진공이 인가되고, 상기 중공사막 튜브(140a,150a)의 외부(143,153)로 챔버(110)의 내부에는 약액(C)이 공급된다. 따라서, 챔버(110) 내의 약액(B)에 포함된 기체(B)는 중공사막 튜브(140a,150a)의 내부(142,152)와 외부(143,153)의 압력차에 의해 중공사막 튜브(140a,150a)에 형성된 공극(141,152)을 통과하여 중공사막 튜브(140a,150a)의 내부(142,152)로 흡입되어 탈기된다.6, a vacuum is applied to the inner portions 142 and 152 of the hollow fiber membrane tubes 140a and 150a and the outer portions 143 and 153 of the hollow fiber membrane tubes 140a and 150a are filled with a chemical solution C) is supplied. Therefore, the base body B contained in the chemical solution B in the chamber 110 is separated from the hollow fiber membrane tubes 140a and 150a by the pressure difference between the inside 142,152 and the outside 143,153 of the hollow fiber membrane tubes 140a and 150a, 152 formed in the hollow fiber membranes 140a, 150a and sucked into the inside 142, 152 of the hollow fiber membrane tubes 140a, 150a and degassed.

이와 같이 탈기막(140,150)의 내부에는 진공을 인가하고 챔버(110)에 공급되는 약액(C)은 탈기막(140,150)의 외부를 유동하는 외부 관류 방식을 적용함으로써, 고점도 약액(C) 내에 포함된 마이크로 단위 크기의 미체 기포 또한 효율적으로 분리하여 제거할 수 있고, 고점도 약액(C)의 이송시 차압이 적게 발생되므로 약액(C)이 원활하게 이송될 수 있어 공정 불량을 예방할 수 있다. In this way, a vacuum is applied to the inside of the degassing films 140 and 150 and the chemical solution C supplied to the chamber 110 is contained in the high viscosity chemical solution C by applying an external perfusion system that flows outside the degassing films 140 and 150 Micro-sized microbubbles can be efficiently separated and removed, and since the differential pressure is small when the high-viscosity chemical liquid (C) is transferred, the chemical liquid (C) can be smoothly transferred, thereby preventing the process failure.

한편, 상기 제1탈기막(140)과 제2탈기막(150) 사이에는 챔버(110) 내에서 약액(C)의 유로가 지그재그 방향으로 전환되도록 유도하는 격벽(130)이 구비된다. A partition wall 130 is provided between the first and second degassing films 140 and 150 to guide the flow of the chemical solution C into the chamber 110 in the zigzag direction.

일실시예로, 도 4와 도 6에 도시된 바와 같이 상기 격벽(130)은 원통형으로 이루어지고, 격벽(130)의 하단(131)은 하부 챔버(110b)의 내측 바닥면에 고정되고, 격벽(130)의 상단(132)은 상부 챔버(110a)의 내측 상면과 소정 간격 이격되도록 구비될 수 있다. 그리고, 상기 약액 배출구(117,118)는 격벽(130)의 외측에 위치하도록 구비된다. 도 6에서 제1탈기막(140)과 제2탈기막(150)은 단일 원통형 단면으로 도시되어 있으나, 이는 개략적으로 도시된 형태일 뿐이며, 도 5에서 설명한 바와 같이 제1탈기막(140)과 제2탈기막(150)은 다수개의 중공사막의 다발로 이루어진다.4 and 6, the partition 130 is cylindrical, and the lower end 131 of the partition 130 is fixed to an inner bottom surface of the lower chamber 110b, The upper end 132 of the upper chamber 110 may be spaced a predetermined distance from the upper side of the upper chamber 110a. The chemical solution outlets 117 and 118 are located outside the partition wall 130. 6, the first degreasing film 140 and the second degreasing film 150 are shown as a single cylindrical cross-section, but they are only schematically shown in FIG. The second degreasing film 150 is formed of a plurality of bundles of hollow fiber membranes.

도 7에서 실선 화살표로 나타낸 바와 같이, 약액 유입구(111)를 통하여 공급되는 약액(C)은 약액 공급관(120) 내부의 공간(S1)을 따라서 하방향으로 유동하고, 약액 공급관(120)의 하부에 형성된 약액 배출공(121)과 개구부(120)를 통하여 약액 공급관(120)의 외부로 배출된다. The chemical liquid C supplied through the chemical liquid inlet port 111 flows downward along the space S1 inside the chemical liquid supply pipe 120 and flows into the lower portion of the chemical liquid supply pipe 120 as indicated by the solid line arrow in FIG. And is discharged to the outside of the chemical liquid supply pipe 120 through the chemical liquid discharge hole 121 and the opening 120 formed in the chemical liquid supply pipe 120.

상기 약액 공급관(120)의 외부로 배출된 약액(C)은 격벽(130)에 의해 가로막혀 약액 공급관(120)의 외측면과 격벽(130)의 내측면 사이의 공간(S2)을 따라 상방향으로 유동하는 과정에서 제1탈기막(140)과의 접촉에 의해 1차로 탈기된다. The chemical liquid C discharged to the outside of the chemical liquid supply pipe 120 is blocked by the partition 130 and flows upwardly along the space S2 between the outer surface of the chemical liquid supply pipe 120 and the inner surface of the partition 130 The first deaerating film 140 is deaerated firstly by contact with the first deaerating film 140. [

그리고, 약액 공급관(120)과 격벽(130) 사이의 공간(S2)을 따라 상방향으로 유동한 약액(C)은 격벽(130)의 상단(132)과 상부 챔버(110a)의 내측 상면 사이에 마련된 공간(S3)을 통하여 외측방향으로 유동하게 되고, 격벽(130)의 외측면과 하부 챔버(110b)의 내측면 사이의 공간(S4)을 따라 하방향으로 유동하는 과정에서 제2탈기막(150)과의 접촉에 의해 2차로 탈기된 후에 하부 챔버(110b)의 하부에 형성된 약액 배출구(117,118)를 통하여 배출된다.The medicinal liquid C flowing upward along the space S2 between the medicament supply pipe 120 and the partition wall 130 is positioned between the upper end 132 of the partition 130 and the inner upper surface of the upper chamber 110a And flows in the downward direction along the space S4 between the outer surface of the partition wall 130 and the inner surface of the lower chamber 110b, 150, and then discharged through the chemical solution outlets 117, 118 formed in the lower portion of the lower chamber 110b.

이와 동시에 제1탈기막(140)과 제2중공막(150)의 내부로 흡입된 기체(B)는 도 7에서 점선 화살표로 나타낸 바와 같이 제1 내지 제4진공포트(112,113,114,115)를 통하여 배기된다.At the same time, the gas B sucked into the first degassing membrane 140 and the second hollow membrane 150 is exhausted through the first through fourth vacuum ports 112, 113, 114, and 115 as indicated by the dotted arrow in FIG. 7 .

이와 같이 약액 공급관(120)을 챔버(110)의 중앙에 수직방향으로 구비하고, 약액 공급관(120)의 둘레에는 복수의 탈기막(140,150)을 동심구조로 배치함과 아울러 복수의 탈기막(140,150) 사이에는 약액(C)의 유로를 지그재그 방향으로 전환하기 위한 격벽(130)을 설치함으로써, 챔버(110) 내에서 약액(C)이 이송되는 유로의 길이를 최대한 길게 확보하는 동시에 약액(C)과 탈기막(140,150) 간의 접촉 면적을 증대시켜 탈기 효율을 극대화 할 수 있다.In this way, the chemical solution supply pipe 120 is provided in the center of the chamber 110 in the vertical direction, and a plurality of the degassing films 140 and 150 are concentrically arranged around the chemical solution supply pipe 120, and a plurality of degassing films 140 and 150 The partition wall 130 for switching the flow path of the chemical liquid C in the zigzag direction is provided between the chemical liquid C and the chemical liquid C so that the length of the flow path through which the chemical liquid C is transferred in the chamber 110 is maximized, It is possible to maximize the degassing efficiency by increasing the contact area between the substrate and the degassing films 140 and 150.

또한 상기 상부 챔버(110a)에는 약액 공급관(120)과 제1,2탈기막(140,150)이 결합되고, 하부 챔버(110b)에는 격벽(130)이 결합된 구조로 이루어짐에 따라, 약액 탈기 장치(100)의 구성부품의 조립구조를 간소화 할 수 있다. 즉, 상부 챔버(110a)에는 약액 유입구(111)가 상측으로 돌출된 형태로 약액 공급관(120)을 삽입시켜 결합하고, 코일 형태로 감겨져 동심 구조로 배치되는 제1탈기막(140)과 제2탈기막(150)의 각 양끝단은 제1 내지 제4진공포트(112,113,114,115)에 결합하고, 제1탈기막(140)과 제2탈기막(150) 사이에 격벽(130)이 위치하도록 상부 챔버(110a)를 하부 챔버(110b) 상에 체결함으로써 조립작업을 간편하게 수행할 수 있다.The chemical solution supply pipe 120 and the first and second degassing membranes 140 and 150 are coupled to the upper chamber 110a and the partition 130 is coupled to the lower chamber 110b. 100 can be simplified. That is, in the upper chamber 110a, a chemical solution inlet pipe 111 is inserted and coupled with the chemical solution inlet port 111 protruded upward, and a first degreasing film 140 and a second The both ends of the degassing film 150 are coupled to the first to fourth vacuum ports 112, 113, 114 and 115 so that the partition 130 is positioned between the first degassing film 140 and the second degassing film 150, The assembly operation can be easily performed by fastening the upper chamber 110a on the lower chamber 110b.

한편, 고점도 약액(C)을 사용함에 따라 챔버(110)의 내부에 구비되는 탈기막(140,150)에는 약액(C)이 부착되어 공극(141,151)이 막히게 되는 현상이 발생하게 되므로, 약액 탈기 장치(100)의 주기적인 세정이 필요하다.The use of the highly viscous chemical liquid C causes a phenomenon that the chemical liquid C adheres to the depressurized membranes 140 and 150 provided in the chamber 110 and the cavities 141 and 151 are clogged. 100) periodic cleaning is required.

도 8을 참조하면, 본 발명의 다른 실시예에 따른 약액 탈기 장치(100-1)는 전술한 실시예의 구성을 모두 포함하고, 챔버(110)에는 초음파 발생부(160)가 추가로 구비된다. 상기 초음파 발생부(160)는 초음파 발진기(161)와 챔버(110)의 하부에 구비된 초음파 진동자(162)로 구성될 수 있다. Referring to FIG. 8, the chemical liquid degassing apparatus 100-1 according to another embodiment of the present invention includes all the configurations of the above-described embodiments, and the ultrasonic generator 160 is additionally provided in the chamber 110. FIG. The ultrasonic wave generator 160 may include an ultrasonic oscillator 161 and an ultrasonic transducer 162 disposed under the chamber 110.

약액 탈기 장치(100-1)의 세정 시, 챔버(110)의 내부에 세정액(DI)을 채운 상태에서 초음파 발진기(161)를 가동시키면 초음파 진동자(162)에서 발생하는 초음파 진동이 상기 세정액(DI)에 전달되고, 이로써 탈기막(140,150)과 챔버(110)의 내벽에 부착되는 고점도 약액(C)의 잔류물을 초음파 진동에 의해 손쉽게 탈리시킴으로써, 효과적인 세정이 가능해져 고점도 약액의 정체에 따른 오염 가능성을 제거할 수 있다.When the ultrasonic oscillator 161 is operated while the cleaning liquid DI is filled in the chamber 110 when cleaning the chemical liquid degassing apparatus 100-1, ultrasonic vibrations generated in the ultrasonic vibrator 162 are transmitted to the cleaning liquid DI Whereby the residue of the highly viscous liquid C adhered to the inner surfaces of the degreasing films 140 and 150 and the chamber 110 is easily removed by ultrasonic vibration so that effective cleaning can be performed and contamination due to the stagnation of the highly viscous liquid The possibility can be removed.

이상 설명한 바와 같이, 본 발명은 상술한 실시예에 한정되지 아니하며, 청구범위에서 청구되는 본 발명의 기술적 사상에 벗어남 없이 당해 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 자명한 변형실시가 가능하며, 이러한 변형실시는 본 발명의 범위에 속한다.As described above, the present invention is not limited to the above-described embodiments, and various changes and modifications may be made without departing from the scope of the present invention as defined in the appended claims. And such modifications are within the scope of the present invention.

100,100-1 : 약액 탈기 장치 100 : 챔버
100a : 상부 챔버 100b : 하부 챔버
111 : 약액 유입구 112 : 제1진공포트
113 : 제2진공포트 114 : 제3진공포트
115 : 제4진공포트 116 : 벤트포트
117,118 : 약액 배출구 120 : 약액 공급관
121 : 약액 배출공 122 : 개구부
130 : 격벽 131 : 격벽의 하단
132 : 격벽의 상단 140 : 제1탈기막
150 : 제2탈기막 140a,150a : 중공사막 튜브
140b,150b : 중공사막 외피 141,151 : 공극
142,152 : 탈기막의 내부 143,153 : 탈기막의 외부
160 : 초음파 발생부 161 : 초음파 발진기
162 : 초음파 진동자 B : 기체
C : 약액100, 100-1: chemical liquid degassing apparatus 100: chamber
100a: upper chamber 100b: lower chamber
111: chemical liquid inlet port 112: first vacuum port
113: second vacuum port 114: third vacuum port
115: fourth vacuum port 116: vent port
117, 118: Chemical liquid discharge port 120: Chemical liquid supply pipe
121: chemical liquid discharge hole 122: opening
130: partition 131: bottom of the partition
132: Upper part of the partition wall 140:
150: Second degassing film 140a, 150a: Hollow fiber membrane tube
140b, 150b: Hollow fiber membrane shell 141, 151:
142, 152: inside of the degreasing film 143, 153: outside of the degreasing film
160: Ultrasonic wave generator 161: Ultrasonic wave generator
162: ultrasonic vibrator B: gas
C: Solution

Claims (12)

약액에 포함된 기체가 통과 가능한 크기의 공극을 가지며 내부에는 진공이 인가되는 탈기막;
상기 탈기막이 수납되며 상기 탈기막의 외부로 탈기 대상 약액이 공급되는 챔버;를 포함하고,
상기 탈기막의 외표면으로부터 상기 챔버 내의 약액에 포함된 기체를 상기 탈기막의 내부로 흡입하여 탈기 처리하는 약액 탈기 장치.A degassing film having a gap of a size allowing a gas contained in the chemical solution to pass therethrough and a vacuum being applied to the inside;
And a chamber in which the deaeration membrane is accommodated and a chemical liquid to be deaerated is supplied to the outside of the deaeration membrane,
And a gas contained in the chemical liquid in the chamber is sucked from the outer surface of the degassing film into the inside of the degassing film and subjected to degassing treatment. 제1항에 있어서,
상기 챔버의 중앙에는 약액 공급관이 구비되고,
상기 약액 공급관의 둘레에는 동심 구조로 배치된 복수의 탈기막이 구비된 것을 특징으로 하는 약액 탈기 장치. The method according to claim 1,
A chemical liquid supply pipe is provided at the center of the chamber,
And a plurality of degassing films arranged concentrically around the chemical solution supply pipe. 제2항에 있어서,
상기 복수의 탈기막은 나선형으로 감겨진 다수개의 중공사막 다발로 이루어진 것을 특징으로 하는 약액 탈기 장치.3. The method of claim 2,
Wherein the plurality of deaerating membranes are formed of a plurality of hollow fiber membrane bundles spirally wound. 제2항에 있어서,
상기 복수의 탈기막은 반경방향으로 이격되어 배치되고,
상기 복수의 탈기막 사이에는 상기 챔버 내에서 약액의 유로를 지그재그 방향으로 전환하기 위한 격벽이 구비된 것을 특징으로 하는 약액 탈기 장치. 3. The method of claim 2,
The plurality of deaeration membranes are disposed radially spaced apart,
Wherein a partition wall is provided between the plurality of depressurization membranes for switching the channel of the chemical liquid in the zigzag direction in the chamber. 제4항에 있어서,
상기 약액 공급관은 상기 챔버의 상부를 관통하여 상기 챔버의 하부까지 연장되어 상기 챔버의 하부에서 약액이 배출되고,
상기 약액 공급관에서 배출된 약액은 상기 격벽의 내측에 위치한 제1탈기막을 경유하여 상방향으로 유동하면서 1차로 탈기되고,
상기 제1탈기막을 통과한 약액은 상기 격벽의 외측에 위치한 제2탈기막을 경유하여 하방향으로 유동하면서 2차로 탈기되는 것을 특징으로 하는 약액 탈기 장치. 5. The method of claim 4,
Wherein the chemical liquid supply pipe extends through an upper portion of the chamber to a lower portion of the chamber so that the chemical liquid is discharged from the lower portion of the chamber,
The chemical liquid discharged from the chemical liquid supply pipe is firstly degassed while flowing upward through the first deaeration membrane located inside the partition wall,
Wherein the chemical liquid having passed through the first deaerating membrane is secondarily degassed while flowing downward through a second deaerating membrane located outside the partition wall. 제5항에 있어서,
상기 약액 공급관의 하부에는 약액 배출공이 방사상으로 형성된 것을 특징으로 하는 약액 탈기 장치.6. The method of claim 5,
Wherein a chemical solution discharge hole is radially formed in a lower portion of the chemical solution supply pipe. 제5항에 있어서,
상기 격벽의 하단은 상기 챔버의 내측 바닥면에 고정되고,
상기 격벽의 상단은 상기 챔버의 내측 상면과 소정 간격 이격되어 위치하는 것을 특징으로 하는 약액 탈기 장치.6. The method of claim 5,
A lower end of the partition wall is fixed to an inner bottom surface of the chamber,
And an upper end of the partition wall is spaced apart from an inner upper surface of the chamber by a predetermined distance. 제5항에 있어서,
상기 챔버의 상부 중앙에는 상기 약액 공급관과 연결되는 약액 유입구가 형성되고,
상기 챔버의 하부에는 상기 격벽의 외측으로 약액 배출구가 형성된 것을 특징으로 하는 약액 탈기 장치.6. The method of claim 5,
A chemical liquid inlet port connected to the chemical liquid supply pipe is formed at an upper center of the chamber,
And a chemical solution discharge port is formed at a lower portion of the chamber to the outside of the partition wall. 제2항에 있어서,
상기 챔버의 상부에는 상기 복수의 탈기막의 양끝단에 각각 연결되어 진공을 인가하기 위한 복수의 진공포트가 구비된 것을 특징으로 하는 약액 탈기 장치.3. The method of claim 2,
Wherein the chamber is provided with a plurality of vacuum ports connected to both ends of the plurality of degassing films for applying a vacuum to the upper portion of the chamber. 제7항에 있어서,
상기 챔버는, 상기 약액 공급관과 상기 복수의 탈기막이 결합된 상부 챔버와,
상기 상부 챔버의 하부에 체결되며, 상기 격벽이 결합된 하부 챔버로 이루어진 것을 특징으로 하는 약액 탈기 장치.8. The method of claim 7,
Wherein the chamber includes an upper chamber in which the chemical liquid supply pipe and the plurality of deaerating membranes are coupled,
And a lower chamber coupled to a lower portion of the upper chamber and coupled with the partition wall. 제1항에 있어서,
상기 챔버의 하부에는 상기 탈기막과 챔버의 세정을 위한 초음파 발생부가 구비된 것을 특징으로 하는 약액 탈기 장치.The method according to claim 1,
And a lower portion of the chamber is provided with an ultrasonic wave generator for cleaning the degassing film and the chamber. 제1항에 있어서,
상기 챔버에는 챔버 내부의 부압을 방지함과 아울러 기체의 배출을 위한 벤트포트가 구비된 것을 특징으로 하는 약액 탈기 장치.The method according to claim 1,
Wherein the chamber is provided with a vent port for preventing negative pressure inside the chamber and discharging the gas.
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