【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、フィルター装置および半導体製造装置に関し、詳しくは半導体の製造用に好適なフィルター装置およびそれを用いた半導体製造装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
各種の半導体の製造においては、半導体ウエハ、ホトマスク用のガラス基板、あるいはその他の基板に対して所定の処理を施す前に、当該基板は洗浄液にて洗浄されるが、この洗浄液に固形物が含まれていると、それが基板に付着して基板に悪影響を及ぼすので、洗浄液は事前にフィルター装置により濾過して洗浄に供せられる。
【０００３】
なお濾過前の洗浄液は、固形物に加えて気泡を含むことが屡々あるが、後記特許文献１の段落番号２０〜２８における記載から、気泡を含む洗浄液を濾過すると、フィルターに気泡が付着してフィルターの濾過精度が悪化する問題があることが従来公知である。さらに上記特許文献１から、気泡を含む洗浄液を濾過対象とするフィルター装置として、外筒と内筒とから構成され、当該両筒間を被濾過洗浄液の通路とし、内筒の内部に不純物除去用フィルターを設けると共に内筒に多数の通流孔を設けた構造のものを用い、被濾過洗浄液を両筒間を下側の入口から上側の出口に向けて流し、その際に被濾過洗浄液を通流孔を経由して不純物除去用フィルターで濾過し、フィルター装置の出口から外部に排出する技術も従来公知である。
【０００４】
【特許文献１】
特開２００１−１２１０６３号公報（段落番号７、段落番号２０〜２８、図１、図３）
【０００５】
ところで特許文献１に記載されているように、上記フィルター装置内に流入した被濾過洗浄液中には、装置内外の圧力差に基づいて気泡が発生する。特許文献１では、多数の通流孔を有する上記内筒は、液体の通過は許容するが、気泡の通過は許容しない気液分離体として機能するものとして取り扱われているが、実際には一部の気泡は上記通流孔を通過する問題がある。その通流孔を通過した気泡は、フィルターに付着してそれの濾過精度を悪化させることは言うまでもない。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、従来技術における如上の現況に鑑み、被濾過液として気泡を含むものを濾過対象としても、気泡によるフィルターの濾過性能の悪化の問題のないフィルター装置、およびそれを用いた半導体製造装置を提供することを課題とするものである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
本発明における請求項１に係るフィルター装置は、フィルターハウジング、上記フィルターハウジングの上部に設けられて少なくとも一部に多孔部を含む仕切体で仕切られた被濾過液収容室、上記被濾過液収容室に気泡を含む被濾過液を供給する液供給装置、上記被濾過液から浮遊する上記気泡を上記フィルターハウジングの外に排出する気泡排出部、上記多孔部の下に設置されたフィルター、上記被濾過液収容室内の被濾過液を上記多孔部および上記フィルターを経由して上記フィルターハウジングの外に排出する液排出装置を備えたことを特徴とするものである。
【０００８】
本発明における請求項５に係る半導体製造装置は、半導体を洗浄するための洗浄液を収容した半導体洗浄装置、フィルターハウジングと上記フィルターハウジングの上部に設けられて少なくとも一部に多孔部を含む仕切体で仕切られた被濾過液収容室、上記被濾過液収容室に気泡を含む被濾過液を供給する液供給装置と上記被濾過液から浮遊する上記気泡を上記フィルターハウジングの外に排出する気泡排出部と上記多孔部の下に設置されたフィルターと上記被濾過液収容室内の被濾過液を上記多孔部および上記フィルターを経由して上記フィルターハウジングの外に排出する液排出装置とを備えたフィルター装置、上記洗浄液を上記被濾過液として上記フィルター装置に移送するための第一配管、上記フィルター装置で濾過された濾過液を洗浄液として上記半導体洗浄装置に移送するための第二配管を備えたことを特徴とするものである。
【０００９】
【発明の実施の形態】
以下において、同じ部位に就いては同じ符号や表示を用いて、図１に後続する諸図においては同じ符号および表示についての説明を省略することがある。
【００１０】
実施の形態１．
図１〜図３は、本発明のフィルター装置並びに半導体製造装置における実施の形態１の説明するものであって、図１は半導体製造装置の概略フロー図であり、図２は図１に含まれている実施の形態１のフィルター装置の概略断面図であり、図３は図２に含まれている仕切体の平面図である。図１において、半導体製造装置は、内槽１１と外槽１２とを有する基板洗浄槽１、フィルター装置２、循環ポンプ３、基板洗浄槽１の外槽１２とフィルター装置２とを繋ぐ第一配管４（以下、配管４）、フィルター装置２と循環ポンプ３と基板洗浄槽１の内槽１１とを繋ぐ第二配管５（以下、配管５）、およびフィルター装置２の後記する気泡排出部２４と基板洗浄槽１の外槽１２とを繋ぐ第三配管６（以下、配管６）を備えている。
【００１１】
配管４〜配管６における各矢印は、濾過処理が必要な外槽１２中の後記する溢流洗浄液や濾過処理された当該洗浄液の流れ方向を示す。なお必須の要件ではないが、内槽１１内の洗浄液の液位が異常に低下しないように、基板洗浄槽１とフィルター装置２とは互いに略同レベルの高さに設置されている。
【００１２】
図２および図３において、フィルター装置２は、円筒状のフィルターハウジング２１、被濾過液収容室２２、仕切体２３、気泡排出部２４、フィルター室２５を備えている。仕切体２３は、図３に示すように、多数の孔を有する円板体であって、フィルターハウジング２１の内壁に溶接されたリング状の突起２６の上に固定されている。フィルターハウジング２１は、その内部が仕切体２３により上下の２室に仕切られており、仕切体２３の上側が被濾過液収容室２２となっており、仕切体２３の下側の室内にフィルター室２５が設置されている。
【００１３】
上記配管４の一端は、被濾過液収容室２２が位置するフィルターハウジング２１の上部の側壁に接続されており、基板洗浄槽１内において内槽１１から外槽１２内に溢流した溢流洗浄液（以下、被濾過液）は、循環ポンプ３による吸引力により配管４を介して被濾過液収容室２２内に供給される。フィルター室２５は、全周囲がフィルター２５１で囲まれた円筒状であって、その底面の多孔質支持板２５２を介して配管５の一端が液密状態で接続されており、配管５はフィルター室２５からフィルターハウジング２１の底壁を貫通し、その他端は内槽１１の底壁に接続されている。
【００１４】
つぎに、半導体製造装置並びにフィルター装置２の動作に就いて説明する。外槽１２内の被濾過液は、通常、内槽１１内の洗浄液に投入された被洗浄体たる基板を洗浄することにより、自体は汚染されて固形物と大小の気泡とを含んでいる。循環ポンプ３が稼動されることにより、当該被濾過液は、外槽１２から配管４を通じてフィルター装置２の被濾過液収容室２２内に収容される。被濾過液中の気泡は、その浮力により図２に示すように被濾過液中で上昇し、一部の被濾過液と共に気泡排出部２４から排出され、配管６を通じて外槽１２内に戻される。
【００１５】
一方、被濾過液収容室２２内の被濾過液の大部分は、循環ポンプ３による吸引力により仕切体２３の多数の孔を通過してフィルターハウジング２１を下向きに移動してフィルター室２５内を経由し、ついで配管５を通じて内槽１１の底から上向きに当該内槽１１内に戻される。被濾過液は、フィルター室２５内に移行する際にフィルター室２５を構成するフィルター２５１により濾過されて固形物が除去される。
【００１６】
従来技術におけるように仕切体２３が存在しないと、被濾過液中の気泡は、浮力があると雖も循環ポンプ３による吸引力の強さの如何によっては、フィルター室２５の方に引き寄せられる可能性、並びに引き寄せられた気泡によるフィルター２５１の目詰まりの可能性がある。かかる可能性に対して仕切体２３を設置すると、当該仕切体２３が気液分離体として作用して気泡のフィルター室２５の方向への移行が防止される。
【００１７】
しかして本発明のフィルター装置２によれば、被濾過液中の気泡は仕切体２３により、一方、被濾過液中の固形物はフィルター室２５のフィルター２５１により分離される。また気泡と固形物とは個別に分離されるので、当該フィルターの濾過性能は、従来技術のそれと比較してかなり長寿命となる。
【００１８】
フィルター室２５のフィルター２５１としては、従来技術と同様のものであってよく、また仕切体２３としては、実質的に上記した気液分離体として作用する限り、その構造には制限はないが、例えば孔径が０．１ｍｍ〜５ｍｍ程度、好ましくは０．５ｍｍ〜２ｍｍ程度の多数の円形孔、あるいは当該円形孔と同程度の大きさの方形孔や各種の異形孔を有する多孔板が例示される。
【００１９】
実施の形態２．
図４および図５は、本発明のフィルター装置における実施の形態２を説明するものであって、図４はフィルター装置の概略断面図であり、図５は図４のＶ−Ｖ線に沿った断面図である。フィルターハウジング２１の胴部は、円筒状の隔壁２７により内室２８とその外側の外室２９とに分離されており、仕切体２３は、図５に示すように、隔壁２７の上端近傍の内壁に溶接されたリング状の突起２６の上に固定されている。外室２９の底面近傍の外壁には配管４の一端が接続されており、外室２９の上端のドーナツ状の開口部は被濾過液収容室２２に連通している。フィルター室２５は、内室２８内に実施の形態１の場合と同様の方法で配管５に接続されて設置されている。
【００２０】
つぎに実施の形態２の動作に就き説明する。半導体製造装置の外槽１２（図１参照）内の被濾過液は、配管４および外室２９を経由して被濾過液収容室２２内に収容される。被濾過液中の気泡は、その浮力により外室２９内を上昇する間に被濾過液より早く上昇し、一部の被濾過液と共に効率よく気泡排出部２４から排出され、配管６を通じて外槽１２内に戻される。一方、被濾過液収容室２２内の被濾過液の大部分は、循環ポンプ３による吸引力により仕切体２３の多数の孔を通過して内室２８内を下向きに移動し、フィルター室２５内を経由し、ついで配管５を通じて内槽１１（図１参照）の底から上向きに当該内槽１１内に戻される。被濾過液は、フィルター室２５内に移行する際にフィルター室２５を構成するフィルター２５１により濾過されて固形物が除去される。
【００２１】
実施の形態３．
図６は、本発明のフィルター装置における実施の形態３を説明するものであって、フィルター装置の概略断面図である。実施の形態３においては、フィルターハウジング２１の底面を貫通してフィルターハウジング２１内に開口する配管５の一端にフィルター２５１が多孔質支持板２５２を介して設置されている。しかして、実施の形態３は、前記実施の形態１とは前記フィルター室２５に代えて配管５の一端にフィルター２５１が設置された点において異なり、その他の構成は同じである。
【００２２】
つぎに実施の形態３の動作に就き説明する。半導体製造装置の外槽１２（図１参照）内の被濾過液は、配管４を経由して被濾過液収容室２２内に収容される。被濾過液中の気泡は、その浮力により図６に示すように被濾過液中で上昇し、一部の被濾過液と共に気泡排出部２４から排出され、配管６を通じて外槽１２内に戻される。一方、被濾過液収容室２２内の被濾過液の大部分は、循環ポンプ３による吸引力により仕切体２３の多数の孔を通過して仕切体２３の下側の室内に移行し、フィルター２５１を経由する際に固形物が濾過除去される。ついで配管５を通じて内槽１１（図１参照）の底から上向きに当該内槽１１内に供給される。
【００２３】
本発明は、前記実施の形態１〜実施の形態３に限定されるものではなく、本発明が解決しようとする課題、並びにその解決手段の精神に沿った種々の変形形態を包含するものである。例えば実施の形態１〜実施の形態３においては、循環ポンプ３は、被濾過液収容室２２に気泡を含む被濾過液を供給する液供給装置として作用すると共に、被濾過液収容室２２内の当該被濾過液を仕切体２３およびフィルター２５１を経由してフィルターハウジング２１の外に排出する液排出装置としても作用するが、本発明においては循環ポンプ３に代えて、被濾過液収容室２２に気泡を含む被濾過液を専門に供給するポンプなどの液供給装置と、被濾過液収容室２２内の被濾過液を仕切体２３およびフィルター室２５（またはフィルター２５１）を経由してフィルターハウジング２１の外に専門に排出するポンプなどの液排出装置とを個別に設けてもよい。
【００２４】
【発明の効果】
本発明のフィルター装置は、以上説明した通り、フィルターハウジング、上記フィルターハウジングの上部に設けられて少なくとも一部に多孔部を含む仕切体で仕切られた被濾過液収容室、上記被濾過液収容室に気泡を含む被濾過液を供給する液供給装置、上記被濾過液から浮遊する上記気泡を上記フィルターハウジングの外に排出する気泡排出部、上記多孔部の下に設置されたフィルター、上記被濾過液収容室内の被濾過液を上記多孔部および上記フィルターを経由して上記フィルターハウジングの外に排出する液排出装置を備えたことを特徴とするものであるので、被濾過液中の気泡は上記仕切体により、また被濾過液中の固形物は上記フィルタにより分離される。また気泡と固形物とは個別に分離されるので、当該フィルターの濾過性能は、従来技術のそれと比較してかなり長寿命となる効果がある。
【００２５】
また本発明の半導体製造装置は、以上説明した通り、半導体を洗浄するための洗浄液を収容した半導体洗浄装置、上記フィルター装置、上記洗浄液を上記フィルター装置に移送する配管、上記フィルター装置で濾過された上記洗浄液を上記半導体洗浄装置に移送する配管を備えたことを特徴とするものであるので、フィルター装置におけるフィルターの上記した長寿命化に基づいて半導体の生産効率が向上する効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図１】半導体製造装置の概略フロー図。
【図２】実施の形態１のフィルター装置の概略断面図。
【図３】図２に含まれている仕切体の平面図。
【図４】実施の形態１のフィルター装置の概略断面図。
【図５】図４のＶ−Ｖ線に沿った断面図。
【図６】実施の形態３のフィルター装置の概略断面図。
【符号の説明】
１ 基板洗浄槽、１１ 内槽、１２ 外槽、２ フィルター装置、
２１ フィルターハウジング、２２ 被濾過液収容室、２３ 仕切体、
２４ 気泡排出部、２５ フィルター室、２５１ フィルター、２６ 突起、
２７ 隔壁、２８ 内室、２９ 外室、３ 循環ポンプ、４ 配管、５ 配管、６ 配管。[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a filter device and a semiconductor manufacturing device, and more particularly to a filter device suitable for semiconductor manufacturing and a semiconductor manufacturing device using the same.
[0002]
[Prior art]
In the manufacture of various semiconductors, the substrate is cleaned with a cleaning solution before a predetermined treatment is performed on a semiconductor wafer, a glass substrate for a photomask, or another substrate, and the cleaning solution contains solid substances. If it is, it adheres to the substrate and adversely affects the substrate. Therefore, the cleaning liquid is filtered in advance by a filter device and used for cleaning.
[0003]
In addition, although the washing | cleaning liquid before filtration often contains a bubble in addition to a solid substance, when the washing | cleaning liquid containing a bubble is filtered from description in the paragraph numbers 20-28 of postscript patent document 1, a bubble will adhere to a filter. It is conventionally known that there is a problem that the filtration accuracy of the filter deteriorates. Furthermore, from the above-mentioned Patent Document 1, as a filter device for filtering a cleaning liquid containing bubbles, an outer cylinder and an inner cylinder are used, and between the two cylinders is a passage for the cleaning liquid to be filtered, and impurities are removed inside the inner cylinder. Use a filter and a structure with a large number of flow holes in the inner cylinder, and let the cleaning liquid to be filtered flow between both cylinders from the lower inlet to the upper outlet. A technique of filtering with an impurity removing filter via a flow hole and discharging the filter from the outlet of the filter device to the outside is also well known.
[0004]
[Patent Document 1]
JP 2001-121063 A (paragraph number 7, paragraph numbers 20 to 28, FIG. 1 and FIG. 3)
[0005]
Incidentally, as described in Patent Document 1, bubbles are generated in the to-be-filtered cleaning liquid flowing into the filter device based on the pressure difference between the inside and outside of the device. In Patent Document 1, the inner cylinder having a large number of flow holes is treated as a gas-liquid separator that allows passage of liquid but does not allow passage of bubbles. There is a problem that the bubbles in the part pass through the flow holes. It goes without saying that the air bubbles that have passed through the flow holes adhere to the filter and deteriorate the filtration accuracy thereof.
[0006]
[Problems to be solved by the invention]
In view of the present situation in the prior art, the present invention provides a filter device that does not have a problem of deterioration of filter performance due to air bubbles, even if the liquid to be filtered includes air bubbles, and a semiconductor manufacturing apparatus using the same It is a problem to provide.
[0007]
[Means for Solving the Problems]
A filter device according to a first aspect of the present invention includes a filter housing, a to-be-filtrated liquid storage chamber provided at an upper portion of the filter housing and partitioned by a partition including at least a porous portion, and the to-be-filtered liquid storage chamber A liquid supply device for supplying a liquid to be filtered containing bubbles to the liquid, a bubble discharge part for discharging the bubbles floating from the liquid to be filtered out of the filter housing, a filter installed under the porous part, and the filter target A liquid discharge device for discharging the liquid to be filtered in the liquid storage chamber to the outside of the filter housing through the porous portion and the filter is provided.
[0008]
According to a fifth aspect of the present invention, there is provided a semiconductor manufacturing apparatus comprising: a semiconductor cleaning apparatus containing a cleaning liquid for cleaning a semiconductor; a filter housing; and a partition body provided at an upper portion of the filter housing and including a porous part at least in part. A partitioned liquid storage chamber, a liquid supply device that supplies liquid to be filtered to the liquid storage chamber, and a bubble discharge unit that discharges the air bubbles floating from the liquid to the outside of the filter housing And a filter installed under the porous portion, and a liquid discharge device for discharging the liquid to be filtered in the liquid storage chamber to the outside of the filter housing via the porous portion and the filter A first pipe for transferring the cleaning liquid as the liquid to be filtered to the filter device, and the filtrate filtered by the filter device. It is characterized in that it comprises a second piping for transferring to the semiconductor cleaning apparatus as washing liquid.
[0009]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
In the following description, the same reference numerals and displays are used for the same portions, and descriptions of the same reference numerals and displays may be omitted in the drawings subsequent to FIG.
[0010]
Embodiment 1 FIG.
1 to 3 are diagrams for explaining the first embodiment of the filter device and the semiconductor manufacturing apparatus of the present invention. FIG. 1 is a schematic flow diagram of the semiconductor manufacturing apparatus, and FIG. 2 is included in FIG. FIG. 3 is a schematic sectional view of the filter device according to the first embodiment, and FIG. 3 is a plan view of the partition body included in FIG. 2. In FIG. 1, the semiconductor manufacturing apparatus includes a substrate cleaning tank 1 having an inner tank 11 and an outer tank 12, a filter device 2, a circulation pump 3, and a first pipe connecting the outer tank 12 of the substrate cleaning tank 1 and the filter device 2. 4 (hereinafter referred to as piping 4), a second piping 5 (hereinafter referred to as piping 5) connecting the filter device 2, the circulation pump 3, and the inner tank 11 of the substrate cleaning tank 1; A third pipe 6 (hereinafter referred to as a pipe 6) that connects the outer tank 12 of the substrate cleaning tank 1 is provided.
[0011]
Each arrow in the pipes 4 to 6 indicates the flow direction of the overflow cleaning liquid described later in the outer tank 12 that needs to be filtered or the flow of the filtered cleaning liquid. Although not an indispensable requirement, the substrate cleaning tank 1 and the filter device 2 are installed at substantially the same level so that the level of the cleaning liquid in the inner tank 11 does not drop abnormally.
[0012]
2 and 3, the filter device 2 includes a cylindrical filter housing 21, a filtrate storage chamber 22, a partition 23, a bubble discharge unit 24, and a filter chamber 25. As shown in FIG. 3, the partition body 23 is a disk body having a large number of holes, and is fixed on a ring-shaped protrusion 26 welded to the inner wall of the filter housing 21. The inside of the filter housing 21 is divided into two upper and lower chambers by a partition 23, the upper side of the partition 23 is a filtrate storage chamber 22, and the filter chamber is placed in the lower chamber of the partition 23. 25 is installed.
[0013]
One end of the pipe 4 is connected to the upper side wall of the filter housing 21 where the filtrate storage chamber 22 is located, and the overflow cleaning liquid overflowed from the inner tank 11 to the outer tank 12 in the substrate cleaning tank 1. (Hereinafter, the liquid to be filtered) is supplied into the liquid storage chamber 22 through the pipe 4 by the suction force of the circulation pump 3. The filter chamber 25 has a cylindrical shape whose entire periphery is surrounded by the filter 251, and one end of the pipe 5 is connected in a liquid-tight state via a porous support plate 252 on the bottom surface of the filter chamber 25. 25 passes through the bottom wall of the filter housing 21, and the other end is connected to the bottom wall of the inner tank 11.
[0014]
Next, operations of the semiconductor manufacturing apparatus and the filter device 2 will be described. The liquid to be filtered in the outer tub 12 is usually contaminated by washing the substrate, which is the object to be cleaned, put into the cleaning liquid in the inner tub 11, and contains solids and large and small bubbles. By operating the circulation pump 3, the filtrate to be filtered is stored in the filtrate storage chamber 22 of the filter device 2 from the outer tank 12 through the pipe 4. Bubbles in the liquid to be filtered rise in the liquid to be filtered as shown in FIG. 2 due to the buoyancy, and are discharged from the bubble discharging unit 24 together with a part of the liquid to be filtered, and returned to the outer tank 12 through the pipe 6. .
[0015]
On the other hand, most of the liquid to be filtered in the liquid storage chamber 22 passes through many holes of the partition 23 by the suction force of the circulation pump 3 and moves downward in the filter housing 21 to move through the filter chamber 25. Via the pipe 5 and then returned upward from the bottom of the inner tank 11 into the inner tank 11. When the liquid to be filtered moves into the filter chamber 25, it is filtered by the filter 251 constituting the filter chamber 25, and the solid matter is removed.
[0016]
If the partition 23 does not exist as in the prior art, bubbles in the liquid to be filtered can be attracted toward the filter chamber 25 depending on the suction force of the circulation pump 3 if there is buoyancy. As well as the possibility of clogging of the filter 251 due to attracted bubbles. When the partition body 23 is installed for such a possibility, the partition body 23 acts as a gas-liquid separator and the bubbles are prevented from moving in the direction of the filter chamber 25.
[0017]
Thus, according to the filter device 2 of the present invention, bubbles in the liquid to be filtered are separated by the partition 23, while solids in the liquid to be filtered are separated by the filter 251 in the filter chamber 25. In addition, since the bubbles and solids are separated separately, the filtration performance of the filter is considerably longer than that of the prior art.
[0018]
The filter 251 of the filter chamber 25 may be the same as that of the prior art, and the partition 23 is not limited in its structure as long as it substantially functions as the gas-liquid separator described above. For example, a perforated plate having a large number of circular holes having a hole diameter of about 0.1 mm to 5 mm, preferably about 0.5 mm to 2 mm, or a square hole having the same size as the circular hole or various irregular holes is exemplified. .
[0019]
Embodiment 2. FIG.
4 and 5 are for explaining the second embodiment of the filter device of the present invention. FIG. 4 is a schematic sectional view of the filter device, and FIG. 5 is taken along the line VV of FIG. It is sectional drawing. The body of the filter housing 21 is divided into an inner chamber 28 and an outer chamber 29 outside the inner wall 28 by a cylindrical partition wall 27, and the partition 23 has an inner wall near the upper end of the partition wall 27 as shown in FIG. It is fixed on a ring-shaped protrusion 26 welded to the surface. One end of the pipe 4 is connected to the outer wall near the bottom surface of the outer chamber 29, and the donut-shaped opening at the upper end of the outer chamber 29 communicates with the filtrate receiving chamber 22. The filter chamber 25 is installed in the inner chamber 28 by being connected to the pipe 5 in the same manner as in the first embodiment.
[0020]
Next, the operation of the second embodiment will be described. The liquid to be filtered in the outer tank 12 (see FIG. 1) of the semiconductor manufacturing apparatus is stored in the liquid storage chamber 22 via the pipe 4 and the outer chamber 29. Bubbles in the liquid to be filtered rise faster than the liquid to be filtered while rising in the outer chamber 29 due to the buoyancy, and are efficiently discharged from the bubble discharge unit 24 together with a part of the liquid to be filtered. 12 is returned. On the other hand, most of the liquid to be filtered in the liquid storage chamber 22 passes through a large number of holes in the partition body 23 by the suction force of the circulation pump 3 and moves downward in the inner chamber 28. Then, the pipe 5 returns to the inner tank 11 upward from the bottom of the inner tank 11 (see FIG. 1). When the liquid to be filtered moves into the filter chamber 25, it is filtered by the filter 251 constituting the filter chamber 25, and the solid matter is removed.
[0021]
Embodiment 3 FIG.
FIG. 6 is a schematic cross-sectional view of a filter device for explaining a third embodiment of the filter device of the present invention. In the third embodiment, a filter 251 is installed via a porous support plate 252 at one end of a pipe 5 that passes through the bottom surface of the filter housing 21 and opens into the filter housing 21. Thus, the third embodiment is different from the first embodiment in that a filter 251 is installed at one end of the pipe 5 instead of the filter chamber 25, and the other configurations are the same.
[0022]
Next, the operation of the third embodiment will be described. The liquid to be filtered in the outer tub 12 (see FIG. 1) of the semiconductor manufacturing apparatus is stored in the liquid storage chamber 22 via the pipe 4. Bubbles in the liquid to be filtered rise in the liquid to be filtered as shown in FIG. 6 due to the buoyancy, and are discharged from the bubble discharge unit 24 together with a part of the liquid to be filtered, and returned to the outer tank 12 through the pipe 6. . On the other hand, most of the liquid to be filtered in the liquid storage chamber 22 passes through a large number of holes of the partition 23 by the suction force of the circulation pump 3 and moves to the lower chamber of the partition 23, and the filter 251. Solids are filtered off as they pass through. Then, the pipe 5 is supplied into the inner tank 11 upward from the bottom of the inner tank 11 (see FIG. 1).
[0023]
The present invention is not limited to the first to third embodiments, but includes various modifications in accordance with the problem to be solved by the present invention and the spirit of the solution. . For example, in the first to third embodiments, the circulation pump 3 functions as a liquid supply device that supplies a liquid to be filtered containing bubbles to the liquid storage chamber 22 to be filtered, and the inside of the liquid storage chamber 22 to be filtered. Although it acts as a liquid discharge device for discharging the liquid to be filtered out of the filter housing 21 via the partition body 23 and the filter 251, in the present invention, instead of the circulation pump 3, the liquid to be filtered is stored in the chamber 22 to be filtered. A filter supply unit such as a pump that specially supplies a liquid to be filtered containing bubbles, and a liquid to be filtered in the liquid storage chamber 22 through the partition body 23 and the filter chamber 25 (or the filter 251). A liquid discharge device such as a pump that discharges exclusively may be provided separately.
[0024]
【The invention's effect】
As described above, the filter device of the present invention includes a filter housing, a to-be-filtrated liquid storage chamber provided on an upper portion of the filter housing and partitioned by a partition body including at least a porous portion, and the to-be-filtered liquid storage chamber A liquid supply device for supplying a liquid to be filtered containing bubbles to the liquid, a bubble discharge part for discharging the bubbles floating from the liquid to be filtered out of the filter housing, a filter installed under the porous part, and the filter target Since the liquid discharge device for discharging the liquid to be filtered in the liquid storage chamber to the outside of the filter housing through the porous portion and the filter is provided, the bubbles in the liquid to be filtered are Solids in the liquid to be filtered are separated by the partition and by the filter. In addition, since the bubbles and the solid matter are separated separately, the filtration performance of the filter has an effect that the lifetime is considerably longer than that of the prior art.
[0025]
Further, as described above, the semiconductor manufacturing apparatus of the present invention is filtered by the semiconductor cleaning apparatus containing the cleaning liquid for cleaning the semiconductor, the filter apparatus, the pipe for transferring the cleaning liquid to the filter apparatus, and the filter apparatus. Since the pipe for transferring the cleaning liquid to the semiconductor cleaning apparatus is provided, there is an effect that the production efficiency of the semiconductor is improved based on the above-mentioned long life of the filter in the filter apparatus.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a schematic flow diagram of a semiconductor manufacturing apparatus.
2 is a schematic cross-sectional view of the filter device according to Embodiment 1. FIG.
3 is a plan view of the partition body included in FIG. 2. FIG.
4 is a schematic cross-sectional view of the filter device of Embodiment 1. FIG.
5 is a cross-sectional view taken along line VV in FIG.
FIG. 6 is a schematic cross-sectional view of a filter device according to a third embodiment.
[Explanation of symbols]
1 substrate cleaning tank, 11 inner tank, 12 outer tank, 2 filter device,
21 Filter housing, 22 Filtrate storage chamber, 23 Partition,
24 bubble discharge part, 25 filter chamber, 251 filter, 26 protrusion,
27 bulkhead, 28 inner chamber, 29 outer chamber, 3 circulation pump, 4 piping, 5 piping, 6 piping.
