KR20180058529A - Dielectric wave guide device and method for fabricating the same - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은 도파관에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 도파관의 내부가 유전체로 채워진 유전체 도파관 소자 및 그 제조 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a waveguide, and more particularly, to a dielectric waveguide element in which a waveguide is filled with a dielectric and a method of manufacturing the same.
이동 통신기기의 보급에 따라, 현재 사용되고 있는 주파수 대역보다도 높은 밀리미터 대역 주파수의 이용이 필요하게 되었다. 이에 따라 높은 밀리미터 대역 주파수의 전기 에너지나 신호를 전송하기 위한 새로운 형태의 전송로가 필요하게 되었으며, 도파관이 이러한 기능을 제공하게 되었다.With the spread of mobile communication devices, it has become necessary to use a millimeter band frequency higher than the currently used frequency band. As a result, a new type of transmission line is required to transmit electric energy or signals of a high millimeter band frequency, and a wave guide provides such a function.
도파관은 공진기를 서로 결합시킴으로써 다양한 형태의 필터를 구현할 수 있으며, 유전체 도파관 필터는 도파관 내부가 유전체로 채워져 있으면서 동시에 원하는 주파수만을 뽑아내거나 걸러내는 등의 기능을 수행하는 필터를 의미한다. The waveguide can be implemented with various types of filters by coupling the resonators to each other. The dielectric waveguide filter means a filter which functions to extract and filter only a desired frequency while the waveguide is filled with a dielectric.
도 1은 종래 기술에 따른 유전체 도파관 필터 일 예의 사시도이다. 도 1에 도시된 바와 같이 유전체 도파관 필터에서 유전체 도파관 공진기는 공진기 사이의 커플링 양을 조절하는 구조물인 결합부를 통해 전자기적으로 서로 결합된다.1 is a perspective view of an example of a dielectric waveguide filter according to the prior art. In the dielectric waveguide filter as shown in FIG. 1, the dielectric waveguide resonator is electromagnetically coupled to each other through a coupling portion, which is a structure that controls the coupling amount between the resonators.
한편, 종래에는 밀리미터 대역의 도파관 필터는 정밀한 공정을 요하기 때문에 주로 반도체 공정을 사용하여 제작되었다. 그런데, 반도체 공정으로 제작되는 도파관 필터의 경우 공정상 제약으로 인하여 0.8mm 두께 이상으로 필터의 구현이 어려웠다. On the other hand, since the millimeter band waveguide filter conventionally requires a precise process, it is mainly manufactured using a semiconductor process. However, in the case of a waveguide filter fabricated by a semiconductor process, it is difficult to realize a filter with a thickness of 0.8 mm or more due to a process limitation.
이와 달리 반도체 공정이 아닌 금형, 기구 등을 이용하여 가공 공정으로 제작하는 경우, 0.8mm보다 더욱 높은 높이의 도파관 필터 설계가 가능하므로 이로 인해 필터 손실을 개선할 수 있다. On the other hand, when the waveguide filter is fabricated using a mold or an instrument, rather than a semiconductor process, it is possible to design a waveguide filter having a height higher than 0.8 mm, thereby improving the filter loss.
표 1은 유전체 도파관 단일 공진기에서 공진기의 높이에 따른 특성 변화를 기록한 표이다. 표 1에서 공진기의 높이가 0.8mm에서 1.4mm 증가하는 경우 Q값이 1013에서 1282로 증가하는 것을 확인할 수 있다. Table 1 shows the change in characteristics of the dielectric waveguide single resonator with respect to the height of the resonator. In Table 1, the Q value increases from 1013 to 1282 when the height of the resonator increases from 0.8 mm to 1.4 mm.
그런데, 유전체 도파관을 가공 공정으로 제작하는 경우 치수 공차가 커서 밀리미터 대역에 적용시 균일한 특성을 갖기 어렵다는 문제점이 있다. 도 2는 가공 공정으로 제작된 유전체 도파관 필터의 평면 형상을 개략적으로 도시한 도면이다.However, when a dielectric waveguide is fabricated by a fabrication process, the dimensional tolerance is large, so that it is difficult to obtain uniform characteristics when applied to the millimeter band. 2 is a view schematically showing a planar shape of a dielectric waveguide filter fabricated by a fabrication process.
표 2는 치수에 따른 주파수 변동을 기록한 표이고, 표 3은 유전율에 따른 주파수 변동을 기록한 표이다. 표 2에서, 치수 공차 0.1mm에 따라 주파수 변동이 약 300MHz 정도 발생하는 것을 확인할 수 있으며, 표 3에서 제조 방식이나 제조 환경에 따라 발생하는 유전체 유전율의 미세한 변화에 의해서도 주파수 변화가 약 100MHz 정도 발생하는 것을 확인할 수 있다. Table 2 is a table showing the frequency variation according to the dimension, and Table 3 is a table showing the frequency variation according to the dielectric constant. In Table 2, it can be seen that a frequency variation of about 300 MHz occurs according to a dimensional tolerance of 0.1 mm, and a frequency change of about 100 MHz occurs due to a minute change in the dielectric permittivity caused by the manufacturing method or manufacturing environment in Table 3 .
본 발명은 상술한 종래의 문제점을 해결하기 위해 안출된 것으로서, 반도체 공정에 의해 제조할 수 없는 높이로 형성되어 품질 계수가 우수하고 균일한 특성을 가지는 유전체 도파관 소자, 및 그 제조 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in order to solve the above-mentioned problems of the prior art, and it is an object of the present invention to provide a dielectric waveguide device formed at a height that can not be manufactured by a semiconductor process, The purpose.
상기 목적을 달성하기 위해 본 발명에 따른 유전체 도파관 소자는, 유전체 도파관 소자 외면의 미리 설정된 영역에 형성된 소자 특성 조절부를 포함하고, 소자 특성 조절부는 유전체 도파관의 유전체가 노출된 유전체 노출부, 유전체 노출부에 의해 전기적으로 격리된 내부 도전부 및 외부 도전부, 및 내부 도전부와 외부 도전부를 선택적으로 연결하는 도전 연결부를 포함한다.In order to achieve the above object, a dielectric waveguide device according to the present invention includes a device characteristic adjusting unit formed on a predetermined area of an outer surface of a dielectric waveguide device, wherein the device characteristic adjusting unit includes a dielectric exposed unit, And an electrically conductive connection portion that selectively connects the inner conductive portion and the outer conductive portion.
이와 같은 구성에 의하면, 이미 제조된 유전체 도파관 소자에서 소자 특성을 사후적으로 조절할 수 있게 됨으로써, 반도체 공정에 의해 제조할 수 없는 다양한 형태의 유전체 도파관을 품질 계수가 우수하면서도 균일한 특성을 가지도록 제조할 수 있게 된다.According to such a configuration, it is possible to posteriorly adjust the device characteristics in the already manufactured dielectric waveguide device, and thus various types of dielectric waveguides which can not be manufactured by the semiconductor process are manufactured with excellent quality factor and uniform characteristics .
이때, 유전체 도파관 소자는, 복수의 유전체 도파관 공진부, 및 유전체 도파관 공진부들을 서로 결합하는 유전체 도파관 결합부를 포함하는 유전체 도파관 필터일 수 있다.In this case, the dielectric waveguide element may be a dielectric waveguide filter including a plurality of dielectric waveguide resonators, and a dielectric waveguide coupling portion coupling the dielectric waveguide resonators to each other.
또한, 소자 특성 조절부는 도파관 내의 전계 방향과 수직인 면에 형성될 수 있다. 이러한 구성에 의하면, 도파관 내의 커패시터 성분을 조절하여 유전체 도파관 소자의 특성을 조절할 수 있게 된다.Further, the element characteristic adjusting section may be formed on a plane perpendicular to the electric field direction in the waveguide. According to this configuration, the characteristics of the dielectric waveguide element can be controlled by adjusting the capacitor component in the waveguide.
또한, 내부 도전부는 미리 설정된 복수개로 형성될 수 있다. 이러한 구성에 의하면, 보다 다양한 범위에서 소자 특성 조절을 수행할 수 있게 된다.Further, the inner conductive portion may be formed in a plurality of predetermined portions. With this configuration, it becomes possible to perform device characteristic adjustment in a wider range.
또한, 소자 특성 조절부는 유전체 도파관 공진부에 형성될 수 있다. 이러한 구성에 의하면, 소자 특성 조절부는 유전체 도파관 공진부의 공진 주파수를 조절할 수 있게 된다.Further, the element characteristic adjusting section may be formed in the dielectric waveguide resonator section. According to such a configuration, the element characteristic adjuster can adjust the resonant frequency of the dielectric waveguide resonator.
또한, 소자 특성 조절부는 유전체 도파관 결합부에 형성될 수 있다. 이러한 구성에 의하면, 소자 특성 조절부는 유전체 도파관 결합부의 결합 정도(커플링)를 조절할 수 있게 된다.Further, the device characteristic adjusting section may be formed in the dielectric waveguide coupling section. According to such a configuration, the element characteristic adjusting section can adjust the coupling degree (coupling) of the dielectric waveguide coupling section.
또한, 도전 연결부는 내부 도전부와 외부 도전부를 와이어에 의해 선택적으로 연결할 수 있으며, 내부 도전부와 외부 도전부 사이에 연결된 도전 영역을 제거함으로써 내부 도전부와 상기 외부 도전부를 선택적으로 연결할 수도 있다. 이와 같은 구성에 의하면, 내부 도전부와 외부 도전부의 선택적 연결 방식을 사용 환경이나 제조 환경에 따라 다양하게 선택할 수 있게 된다.The conductive connection portion may selectively connect the inner conductive portion and the outer conductive portion by a wire and may selectively connect the inner conductive portion and the outer conductive portion by removing a conductive region connected between the inner conductive portion and the outer conductive portion. According to such a configuration, the selective connection method of the inner conductive portion and the outer conductive portion can be variously selected according to the use environment or the manufacturing environment.
또한, 본 발명에 따른 유전체 도파관 소자 제조 방법은, 유전체 도파관 소자 외면에 형성된 도전막의 미리 설정된 영역에 유전체 도파관의 유전체가 노출되는 유전체 노출 영역을 형성하는 유전체 노출 영역 형성 단계, 및 내부 도전 영역과 유전체 영역에 의해 전기적으로 격리된 외부 도전 영역을 선택적으로 연결하는 도전 연결 단계를 포함한다.According to another aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a dielectric waveguide device, comprising: forming a dielectric exposed region in which a dielectric of a dielectric waveguide is exposed in a predetermined region of a conductive film formed on an outer surface of a dielectric waveguide; And a conductive connection step for selectively connecting an outer conductive region electrically isolated by the region.
이때, 도전 연결 단계는, 유전체 노출 영역이 형성된 도파관 소자의 특성을 측정하는 단계를 포함하며, 측정된 유전체 도파관 소자의 특성에 따라 내부 도전 영역과 외부 도전 영역을 선택적으로 연결할 수 있다.At this time, the conductive connection step includes measuring a characteristic of the waveguide element in which the dielectric exposed region is formed, and selectively connecting the inner conductive region and the outer conductive region according to the characteristics of the measured dielectric waveguide element.
본 발명에 의하면, 이미 제조된 유전체 도파관 필터에서 필터 특성을 사후적으로 조절할 수 있게 됨으로써, 반도체 공정에 의해 제조할 수 없는 높이로 형성되어 품질 계수가 우수하면서도 균일한 특성을 가지도록 제조할 수 있게 된다.According to the present invention, filter characteristics can be adjusted afterwards in a dielectric waveguide filter that has already been manufactured, so that the filter can be manufactured to have a height that can not be manufactured by a semiconductor process, do.
또한, 도파관 내의 커패시터 성분을 조절하여 유전체 도파관 필터의 특성을 조절할 수 있게 된다.In addition, the characteristics of the dielectric waveguide filter can be controlled by adjusting the capacitor component in the waveguide.
또한, 더욱 다양한 범위에서 소자 특성 조절을 수행할 수 있게 된다.Further, it becomes possible to perform device characteristic adjustment in a wider range.
또한, 소자 특성 조절부는 유전체 도파관 공진부의 공진 주파수를 조절할 수 있게 된다.In addition, the device characteristic adjuster can adjust the resonance frequency of the dielectric waveguide resonator.
또한, 소자 특성 조절부는 유전체 도파관 결합부의 결합 정도를 조절할 수 있게 된다.In addition, the device characteristic control unit can control the coupling degree of the dielectric waveguide coupling unit.
또한, 내부 도전부와 외부 도전부의 선택적 연결 방식을 사용 환경이나 제조 환경에 따라 다양하게 선택할 수 있게 된다.In addition, the method of selectively connecting the inner conductive portion and the outer conductive portion can be variously selected depending on the use environment and the manufacturing environment.
도 1은 종래 기술에 따른 유전체 도파관 필터 일 예의 사시도.
도 2는 금형 방식에 의해 제조된 유전체 도파관 필터의 평면 형상을 개략적으로 도시한 도면.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 유전체 도파관 필터의 사시도.
도 4 내지 도 6은 각각 도 3의 유전체 도파관 필터의 정면도, 측면도, 및 배면도.
도 7은 유전체 도파관 사이의 커플링 양을 조절하기 위한 구조의 예들을 도시한 도면.
도 8은 도 3의 소자 특성 조절부의 평면도를 보다 상세히 도시한 도면.
도 9 내지 도 12는 내부 도전부의 다양한 구현 형태를 각각 도시한 도면.
도 13은 도전막으로 구현된 도전 연결부를 단선시킴으로써 도전 연결부가 내부 도전부와 외부 도전부를 선택적으로 연결하는 예가 도시된 도면.
도 14는 본 발명의 일 실시예에 따른 유전체 도파관 필터 제조 방법을 수행하기 위한 개략적인 흐름도.
도 15는 표 4에서 도전 연결부 5개 모두를 연결한 경우의 주파수 특성이 도시된 그래프.
도 16은 도 3의 유전체 도파관 결합부에 형성된 소자 특성 조절부에서 도전 연결부 3개 모두를 연결한 경우의 주파수 특성이 도시된 그래프.1 is a perspective view of an example of a dielectric waveguide filter according to the prior art;
2 is a schematic view showing a planar shape of a dielectric waveguide filter fabricated by a mold method;
3 is a perspective view of a dielectric waveguide filter according to an embodiment of the present invention.
Figs. 4 to 6 are a front view, a side view, and a rear view, respectively, of the dielectric waveguide filter of Fig. 3; Fig.
Figure 7 illustrates examples of structures for adjusting the amount of coupling between dielectric waveguides.
8 is a more detailed plan view of the element characteristic adjusting section of FIG. 3; FIG.
Figs. 9-12 illustrate various embodiments of the inner conductive portion, respectively; Figs.
13 shows an example in which a conductive connection portion selectively connects an internal conductive portion and an external conductive portion by disconnection of a conductive connection portion implemented with a conductive film;
FIG. 14 is a schematic flow chart for performing a method of manufacturing a dielectric waveguide filter according to an embodiment of the present invention. FIG.
15 is a graph showing the frequency characteristics in the case where all of the conductive connection portions are connected in Table 4;
FIG. 16 is a graph showing frequency characteristics when all three conductive connections are connected in a device characteristic adjusting unit formed in the dielectric waveguide coupling unit of FIG. 3;
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 설명한다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 유전체 도파관 필터의 사시도이고, 도 4 내지 도 6은 각각 도 3의 유전체 도파관 필터의 정면도, 측면도, 및 배면도이다. 도 3에서 유전체 도파관 필터(100)는 복수의 유전체 도파관 공진부(110), 유전체 도파관 공진부(110)들을 서로 결합하는 유전체 도파관 결합부(120), 및 유전체 도파관 필터 외면의 미리 설정된 영역에 형성된 소자 특성 조절부(130)를 포함하고 있다.FIG. 3 is a perspective view of a dielectric waveguide filter according to an embodiment of the present invention, and FIGS. 4 to 6 are a front view, a side view, and a rear view, respectively, of the dielectric waveguide filter of FIG. 3, the
도 3에서 유전체 도파관 결합부(120)는 유전체 도파관 공진부(110)사이의 커플링을 조절할 수 있는 구조물을 의미하며, 도 3에 도시된 형태와 같이 유전체의 면적을 조절하거나 도 7에 도시된 단면도와 같이 유전체에 판이나 비아 형태의 금속체를 형성하는 방법으로 유전체 도파관 공진부(110) 사이의 커플링 양을 조절할 수 있는 다른 어떠한 형태로도 구현 가능하다. 도 7은 유전체 도파관 사이의 커플링 양을 조절하기 위한 구조의 예들을 도시한 도면이다.3, the dielectric
이와 같은 구성에 의하면, 유전체 도파관 필터에 튜닝 구조를 구현하여 이미 제조된 유전체 도파관 필터에서 필터 특성을 사후적으로 조절할 수 있게 됨으로써, 반도체 공정에 의해 제조할 수 없는 다양한 형태의 유전체 도파관을 품질 계수가 우수하면서도 균일한 특성을 가지도록 제조할 수 있게 된다.According to this configuration, since the tuning structure is implemented in the dielectric waveguide filter, the filter characteristics can be adjusted afterwards in the dielectric waveguide filter manufactured in advance, so that various types of dielectric waveguides, which can not be manufactured by the semiconductor process, So that it can be manufactured with excellent and uniform characteristics.
소자 특성 조절부(130)는 도파관 내의 전계 방향과 수직인 면에 형성되며, 도파관 내의 커패시터 성분을 조절하여 유전체 도파관 필터의 특성을 조절한다. 도 3에서와 같은 유전체 도파관 구조에서는 도파관 내의 전계는 하측에서 상측으로 인가되며, 이에 따라 도 3에서는 도파관 상측에 소자 특성 조절부(130)가 형성되어 있는 것을 확인할 수 있다.The device characteristic adjusting
또한, 소자 특성 조절부(130)는 유전체 도파관 공진부(110)에 형성되어 유전체 도파관 공진부(110)의 공진 주파수를 조절하거나, 유전체 도파관 결합부(120)에 형성되어 유전체 도파관 결합부(120)의 결합 정도(커플링)를 조절한다. 도 4에서 소자 특성 조절부(130)는 유전체 도파관 공진부(110) 및 유전체 도파관 결합부(120)의 상측에 각각 형성되어 있는 것을 확인할 수 있다. The element characteristic adjusting
도 8은 도 4의 소자 특성 조절부(130)의 평면도를 보다 상세히 도시한 도면이다. 도 8에서, 소자 특성 조절부(130)는 다시 유전체 도파관의 유전체가 노출된 유전체 노출부(132), 유전체 노출부(132)에 의해 서로 전기적으로 격리되는 내부 도전부(134) 및 외부 도전부(136), 및 내부 도전부(134)와 외부 도전부(136)를 선택적으로 연결하는 도전 연결부(138)를 포함하고 있다.FIG. 8 is a diagram showing a more detailed plan view of the element
내부 도전부(134) 및 외부 도전부(136)는 별도의 구조로 유전체 도파관 필터(100)에 설치될 수도 있겠지만, 유전체 노출부(132) 형성 과정에서 도파관 외면에 형성된 도전막을 미리 설정된 형태로 제거함에 따라 형성되는 유전체 도파관 도전막의 일부인 것이 보다 일반적일 것이다.The inner
이때, 내부 도전부(134)는 하나의 형태로 형성될 수도 있겠지만 복수로 형성되는 것이 일반적일 것이며, 내부 도전부(134)의 수는 필요에 따라 다양하게 선택될 수 있을 것이다. At this time, although the inner
내부 도전부(134)의 수가 증가할수록 튜닝 범위가 넓어지는 장점이 있으나, 수가 증가할수록 미세한 공정이 요구되고 노출되는 유전체 영역의 넓이가 넓어져 방사 손실이 커질 우려도 있다.As the number of the internal
도 8에서, 내부 도전부(134)의 형태는 직사각형 형태로 구현되어 있으나, 내부 도전부(134)의 형태나 크기는 다양하게 구현될 수 있다. 도 9 내지 도 12는 내부 도전부(134)의 다양한 구현 형태를 각각 도시한 도면이다. In FIG. 8, the shape of the inner
도 9와 도 10에는 직사각형의 내부 도전부가 횡방향으로 연속적으로 형성된 예가 도시되어 있으며, 도 9와 도 10은 각각 6개 및 3개의 내부 도전부가 형성된 예를 도시하고 있다. FIGS. 9 and 10 show an example in which a rectangular internal conductive portion is continuously formed in the transverse direction, and FIGS. 9 and 10 show examples in which six and three internal conductive portions are formed, respectively.
도 11과 도 12에는 큰 크기의 도형의 내부에 작은 크기의 도형이 연속적으로 형성된 예가 도시되어 있으며, 도 11과 도 12는 내부 도전부가 각각 정사각형과 원의 형태로 형성된 예를 도시하고 있다.Figs. 11 and 12 show an example in which small-size figures are continuously formed inside a large-size graphic object, and Figs. 11 and 12 show examples in which the inner conductive parts are formed in a square and a circle, respectively.
또한, 도 8에서와 같이 도전 연결부(138)는 와이어 소재를 통해 내부 도전부(134)와 외부 도전부(136)를 선택적으로 연결할 수 있지만, 내부 도전부(134)와 외부 도전부(136) 사이에 이미 연결된 도전 영역을 제거함으로써 내부 도전부(134)와 외부 도전부(136)를 선택적으로 연결할 수도 있다. 8, the
도 13은 도전막으로 구현된 도전 연결부(138)를 단선시킴으로써 도전 연결부(138)가 내부 도전부(134)와 외부 도전부(136)를 선택적으로 연결하는 예가 도시된 도면이다.13 is a view showing an example in which the
도 13에서, 도전 연결부(138)은 내부 도전부(134)보다 좁은 형태로 형성된 것을 확인할 수 있으며, 이 경우 내부 도전부(134)와 외부 도전부(136)의 선택적 연결을 위해 도전 연결부(138)를 보다 용이하게 제거할 수 있게 된다.13 shows that the
이외에도 도전 연결부(138)는 내부 도전부(134) 외부 도전부(136)의 선택적 연결시킬 수 있는 다른 다양한 방식으로 구현될 수 있으며, 사용 환경이나 제조 환경에 따라 도전 연결부(138)의 구성을 다양하게 선택할 수 있게 된다.In addition, the
도 14는 본 발명의 일 실시예에 따른 유전체 도파관 필터 제조 방법을 수행하기 위한 개략적인 흐름도이다. 도 14에 도시된 유전체 도파관 필터 제조 방법은 복수의 유전체 도파관 공진부, 유전체 도파관 공진부들을 서로 결합하는 유전체 도파관 결합부, 및 유전체 도파관 외면의 미리 설정된 영역에 내부 도전 영역을 둘러싸는 유전체 영역이 형성된 소자 특성 조절부를 포함하는 유전체 도파관 필터를 제조하는 방법이다.14 is a schematic flow chart for performing a method of manufacturing a dielectric waveguide filter according to an embodiment of the present invention. The dielectric waveguide filter manufacturing method shown in FIG. 14 includes a plurality of dielectric waveguide resonators, a dielectric waveguide coupling unit coupling the dielectric waveguide resonators to each other, and a dielectric region surrounding the inner conductive region in a predetermined area of the outer surface of the dielectric waveguide And a device characteristic adjusting section.
도 14에서 먼저, 유전체 도파관 필터 외면에 형성된 도전막의 미리 설정된 영역에 유전체 도파관의 유전체가 노출되는 유전체 노출 영역을 형성한다(S110). 이어서, 유전체 노출 영역이 형성된 유전체 도파관 필터를 제품(PCB)에 결합하고(S120), 유전체 도파관 필터의 특성을 측정한다(S130). 14, a dielectric exposed region in which a dielectric of a dielectric waveguide is exposed is formed in a predetermined region of a conductive film formed on an outer surface of the dielectric waveguide filter (S110). Next, the dielectric waveguide filter having the dielectric exposed region is bonded to the product (PCB) (S120), and the characteristics of the dielectric waveguide filter are measured (S130).
마지막으로, 내부 도전 영역과 유전체 영역에 의해 전기적으로 격리된 외부 도전 영역을 선택적으로 연결한다(S140). 이때, 내부 도전 영역과 외부 도전 영역의 연결은 미리 설정된 튜닝 레인지에 의해 확정적으로 수행될 수도 있으며, 소자 특성의 반복 측정과 함께 점진적으로 수행될 수도 있을 것이다. Finally, an external conductive region electrically isolated by the internal conductive region and the dielectric region is selectively connected (S140). At this time, the connection between the inner conductive region and the outer conductive region may be definitively performed by a preset tuning range, or may be performed gradually with repeated measurement of the device characteristics.
표 4는 도 3의 유전체 도파관 공진부(110)에 형성된 소자 특성 조절부(130)에서 도전 연결부(138) 5개의 선택적 연결에 따른 주파수 조절 범위를 기록한 표이다. 표 4에서 도전 연결부의 연결 수가 하나씩 증가할 때마다 주파수 조절 범위가 0.2GHz씩 증가하는 것을 확인할 수 있다.Table 4 is a table in which a frequency control range according to five selective connection of the
도 15는 표 4에서 도전 연결부(138) 5개 모두를 연결한 경우의 주파수 특성이 도시된 그래프이다. 도 15에서 우측의 붉은 선에 비해 좌측의 푸른 선이 1.4GHz 아래에 형성되어 있는 것을 확인할 수 있으며, 이는 연결되지 않은 경우(푸른 선)보다 소자 특성 조절부(130)에 의해 공진 주파수가 1.4Hz만큼 저주파수 영역으로 이동된 것을 의미한다.15 is a graph showing the frequency characteristics when all five
도 16은 도 3의 유전체 도파관 결합부(120)에 형성된 소자 특성 조절부(130)에서 도전 연결부(138) 3개 모두를 연결한 경우의 주파수 특성이 도시된 도면이다. 도 16에서 가운데 선의 우측 하강부는 변화가 거의 없으나 좌측 하강부가 이전의 경우보다 120MHz 아래에 형성되어 있는 것을 확인할 수 있으며, 이는 연결되지 않은 경우(우측)보다 소자 특성 조절부에 의해 밴드폭이 120MHz만큼 넓어진 것을 의미한다.FIG. 16 is a diagram showing frequency characteristics when all three
본 발명이 비록 일부 바람직한 실시예에 의해 설명되었지만, 본 발명의 범위는 이에 의해 제한되어서는 아니 되고, 특허청구범위에 의해 뒷받침되는 상기 실시예의 변형이나 개량에도 미쳐야 할 것이다.Although the present invention has been described in terms of some preferred embodiments, the scope of the present invention should not be limited thereby but should be modified and improved in accordance with the above-described embodiments.
100: 유전체 도파관 필터
110: 유전체 도파관 공진부
120: 유전체 도파관 결합부
130: 소자 특성 조절부
132: 유전체 노출부
134: 내부 도전부
136: 외부 도전부
138: 도전 연결부100: dielectric waveguide filter
110: dielectric waveguide resonance part
120: dielectric waveguide coupling portion
130:
132: dielectric exposed portion
134: internal conductive part
136: outer conductive part
138:
Claims (17)
상기 유전체 도파관의 유전체가 노출된 유전체 노출부;
상기 유전체 노출부에 의해 전기적으로 격리된 내부 도전부 및 외부 도전부; 및
상기 내부 도전부와 외부 도전부를 선택적으로 연결하는 도전 연결부를 포함하는 것을 특징으로 하는 유전체 도파관 소자.
And a device characteristic adjusting section formed in a predetermined area on the outer surface of the dielectric waveguide, wherein the device characteristic adjusting section
A dielectric exposed portion in which a dielectric of the dielectric waveguide is exposed;
An inner conductive portion and an outer conductive portion electrically isolated by the dielectric exposed portion; And
And a conductive connection portion for selectively connecting the inner conductive portion and the outer conductive portion.
복수의 유전체 도파관 공진부; 및
상기 유전체 도파관 공진부들을 서로 결합하는 유전체 도파관 결합부를 포함하는 유전체 도파관 필터인 것을 특징으로 하는 유전체 도파관 소자.
The dielectric waveguide device according to claim 1,
A plurality of dielectric waveguide resonators; And
And a dielectric waveguide coupling unit coupling the dielectric waveguide resonators to each other.
상기 소자 특성 조절부는 상기 도파관 내의 전계 방향과 수직인 면에 형성되는 것을 특징으로 하는 유전체 도파관 소자.
The method according to claim 1,
And the device characteristic adjusting unit is formed on a plane perpendicular to an electric field direction in the waveguide.
상기 내부 도전부는 미리 설정된 복수개로 형성되는 것을 특징으로 하는 유전체 도파관 소자.
The method of claim 3,
Wherein the inner conductive parts are formed in a plurality of predetermined configurations.
상기 소자 특성 조절부는 상기 유전체 도파관 공진부에 형성되는 것을 특징으로 하는 유전체 도파관 소자.
The method of claim 4,
Wherein the device characteristic adjusting unit is formed in the dielectric waveguide resonator.
상기 소자 특성 조절부는 상기 유전체 도파관 결합부에 형성되는 것을 특징으로 하는 유전체 도파관 소자.
The method of claim 4,
And the device characteristic adjusting unit is formed in the dielectric waveguide coupling unit.
상기 도전 연결부는 상기 내부 도전부와 상기 외부 도전부를 와이어에 의해 선택적으로 연결하는 것을 특징으로 하는 유전체 도파관 소자.
The method of claim 4,
Wherein the conductive connection portion selectively connects the inner conductive portion and the outer conductive portion by a wire.
상기 도전 연결부는 상기 내부 도전부와 외부 도전부 사이에 연결된 도전 영역을 제거함으로써 상기 내부 도전부와 상기 외부 도전부를 선택적으로 연결하는 것을 특징으로 하는 유전체 도파관 소자.
The method of claim 4,
Wherein the conductive connection portion selectively connects the inner conductive portion and the outer conductive portion by removing a conductive region connected between the inner conductive portion and the outer conductive portion.
상기 유전체 도파관 소자 외면에 형성된 도전막의 미리 설정된 영역에 상기 유전체 도파관의 유전체가 노출되는 유전체 노출 영역이 형성된 상태로 상기 유전체 도파관 소자를 준비하는 준비 단계; 및
상기 내부 도전 영역과 상기 유전체 영역에 의해 전기적으로 격리된 외부 도전 영역을 선택적으로 연결하는 도전 연결 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 유전체 도파관 소자 제조 방법.
A method of manufacturing a dielectric waveguide device including a device characteristic adjusting section in which a dielectric region surrounding an inner conductive region is formed in a predetermined region on an outer surface of a dielectric waveguide,
Preparing a dielectric waveguide element in a state where a dielectric exposed region in which a dielectric of the dielectric waveguide is exposed is formed in a predetermined area of a conductive film formed on an outer surface of the dielectric waveguide element; And
And a conductive connection step for selectively connecting the inner conductive region and the outer conductive region electrically isolated by the dielectric region.
복수의 유전체 도파관 공진부; 및
상기 유전체 도파관 공진부들을 서로 결합하는 유전체 도파관 결합부를 포함하는 유전체 도파관 필터인 것을 특징으로 하는 유전체 도파관 소자 제조 방법.
[Claim 11] The dielectric waveguide device according to claim 9,
A plurality of dielectric waveguide resonators; And
And a dielectric waveguide coupling unit coupling the dielectric waveguide resonators to each other.
상기 유전체 노출 영역 형성 단계는 상기 유전체 노출 영역을 상기 도파관 내의 전계 방향과 수직인 면에 형성하는 것을 특징으로 하는 유전체 도파관 소자 제조 방법.
The method of claim 9,
Wherein the dielectric exposed region forming step forms the dielectric exposed region on a plane perpendicular to an electric field direction in the waveguide.
상기 유전체 노출 영역 형성 단계는 상기 내부 도전 영역을 미리 설정된 복수개로 형성하는 것을 특징으로 하는 유전체 도파관 소자 제조 방법.
The method of claim 11,
Wherein the dielectric exposed region forming step forms a plurality of internal conductive regions in advance.
상기 유전체 노출 영역을 상기 유전체 도파관 공진부에 형성하는 것을 특징으로 하는 유전체 도파관 소자 제조 방법.
The method of claim 12,
Wherein the dielectric exposed region is formed in the dielectric waveguide resonator.
상기 유전체 노출 영역을 상기 유전체 도파관 결합부에 형성하는 것을 특징으로 하는 유전체 도파관 소자 제조 방법.
The method of claim 12,
Wherein the dielectric exposed region is formed in the dielectric waveguide coupling portion.
상기 도전 연결 단계는 상기 내부 도전 영역과 상기 외부 도전 영역을 와이어에 의해 선택적으로 연결하는 것을 특징으로 하는 유전체 도파관 소자 제조 방법.
The method of claim 12,
Wherein the conductive connection step selectively connects the inner conductive region and the outer conductive region with a wire.
상기 도전 연결 단계는 상기 내부 도전 영역과 외부 도전 영역 사이에 연결된 도전 영역을 제거함으로써 상기 내부 도전 영역과 상기 외부 도전 영역을 선택적으로 연결하는 것을 특징으로 하는 유전체 도파관 소자 제조 방법.
The method of claim 12,
Wherein the conductive connection step selectively connects the inner conductive region and the outer conductive region by removing a conductive region connected between the inner conductive region and the outer conductive region.
상기 유전체 노출 영역이 형성된 도파관 소자의 특성을 측정하는 단계를 포함하며,
상기 측정된 유전체 도파관 소자의 특성에 따라 상기 내부 도전 영역과 상기 외부 도전 영역을 선택적으로 연결하는 것을 특징으로 하는 유전체 도파관 소자 제조 방법.
10. The method of claim 9,
Measuring a characteristic of the waveguide element in which the dielectric exposed region is formed,
And selectively connecting the inner conductive region and the outer conductive region according to the measured characteristics of the dielectric waveguide device.
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KR102055689B1 (en) * | 2019-06-21 | 2019-12-13 | 모아컴코리아주식회사 | Ceramic Waveguide Filter Tuned By Printed Circuit Board |
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2016
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