KR20180057598A - Pattern lighting apparatus capable of installing a plurality of different pattern light sources and inspecting apparatus - Google Patents

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Abstract

Disclosed are a pattern light emission apparatus and an inspection apparatus using the same. The pattern light emission apparatus includes a first pattern light source and a second pattern light source which are installed on a frame having a plurality of through holes. Each of the plurality of through holes is formed along a unique optical axis. The first pattern light source is configured to emit a first pattern light having a fixated pitch. The second pattern light source is configured to emit a second pattern light having a variable pitch. By emitting the pattern light with the variable pitch and the pattern light with the fixated pitch through the single apparatus, the inspection apparatus including the pattern light emission apparatus can obtain a three-dimensional image of an inspection target and part without additional equipment or photographing operations even if the inspection target includes curved shapes with different heights, thereby saving manufacturing costs through simplification of inspection processes. In addition, the pattern light emission apparatus and the substrate inspection apparatus can be flexibly manufactured by installing different pattern light sources on the frame.

Description

복수의 상이한 패턴 광원의 설치가 가능한 패턴 광 조사 장치 및 검사 장치 {PATTERN LIGHTING APPARATUS CAPABLE OF INSTALLING A PLURALITY OF DIFFERENT PATTERN LIGHT SOURCES AND INSPECTING APPARATUS}BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a pattern light irradiating apparatus and an inspection apparatus capable of installing a plurality of different pattern light sources,

본 발명은 복수의 광원으로부터 패턴 광을 생성하여 조사할 수 있는, 검사 장치를 위한 패턴 광 조사장치에 관한 것이다.The present invention relates to a pattern light irradiation apparatus for an inspection apparatus capable of generating and irradiating pattern light from a plurality of light sources.

부품이 실장된 회로기판과 같은 물품을 검사하기 위해, 검사 대상 물품의 3차원 영상을 획득하여 그 영상으로부터 물품의 불량 여부를 판단하는 방법이 사용될 수 있다. 검사 대상 물품의 3차원 영상을 획득하기 위한 방법으로, 검사 대상 물품에 대해 패턴을 갖는 광을 패턴의 위상을 변경해 가며 조사하고, 조사된 패턴이 검사 대상 물품의 표면에서 왜곡되는 형상으로부터 검사 대상 물품의 3차원 영상을 생성하는 기술이 활용되고 있다. 이러한 패턴 광을 형성하기 위한 한 가지 방법은, 광원 앞에 패턴을 형성하기 위한 패턴 격자(grating)를 설치하여, 광원으로부터 조사되는 광이 패턴 격자를 통과하면서 그 광에 패턴을 형성하는 것이다. 패턴 격자는, 압전 소자(Piezoelectric Transducer, PZT)와 같은 전기기계적 이송장치에 의해 미세 이동되며, 이에 따라 패턴 격자를 통과하는 광에 형성된 패턴의 위상이 변화한다.A method of acquiring a three-dimensional image of an inspection object article and determining whether or not the article is defective can be used for inspecting an article such as a circuit board on which the component is mounted. A method for obtaining a three-dimensional image of an article to be inspected, comprising the steps of: irradiating light having a pattern with respect to an article to be inspected while changing the phase of the pattern; A three-dimensional image is generated. One method for forming such a pattern light is to provide a pattern grating for forming a pattern in front of the light source and to form a pattern in the light passing through the pattern grating through the light source. The pattern grating is finely moved by an electromechanical transferring device such as a piezoelectric transducer (PZT), whereby the phase of the pattern formed in the light passing through the pattern grating changes.

패턴 광을 형성하기 위한 다른 방법은, 디지털 마이크로미러 소자(Digital Micromirror Device: DMD), 즉 미세 거울 구조를 포함하는 소자를 이용하여 패턴 광을 생성 및 조사하는 것이다. 이 방법은 디지털 광처리(Digital Light Processing, DLP) 프로젝터와 같은 광학 장치를 이용하여 실행될 수 있다. 또한, 이 방법에 따르면, 광학장치가 사전에 결정된 패턴을 포함하는 이미지를 검사 대상 물품에 대해 조사함으로써, 그 패턴이 형성된 광이 검사 대상 물품에 조사되는 효과를 얻을 수 있다. 따라서, 이 방법에 따르면, 서로 다른 위상을 갖는 복수의 패턴의 이미지를 검사 대상 물품에 대해 순차적으로 조사함으로써 위상이 변화하는 패턴 광을 검사 대상에 조사하는 효과가 얻어질 수 있다. 또한, 광학장치가 조사하는 패턴 이미지를 변경하는 것만으로, 패턴의 피치가 다른 패턴 광을 검사 대상 물품에 조사할 수 있다. Another method for forming pattern light is to generate and irradiate pattern light using a device including a digital micromirror device (DMD), i.e., a micro mirror structure. This method can be implemented using an optical device such as a Digital Light Processing (DLP) projector. According to this method, the optical device irradiates the image to be inspected with the image including the predetermined pattern, so that the effect that the light on which the pattern is formed is irradiated onto the inspected article can be obtained. Therefore, according to this method, an effect of irradiating the inspection target with pattern light whose phase changes by sequentially irradiating images of a plurality of patterns having different phases to the inspection object article can be obtained. Further, by simply changing the pattern image irradiated by the optical device, pattern light having a different pattern pitch can be irradiated onto the inspection object article.

이상 설명한 바와 같이 검사 대상 물품에 대해 패턴 광을 조사하여 그 물품의 3차원 영상을 획득하는 방법에서, 3차원 영상의 해상도는 패턴 광이 갖는 패턴의 피치에 따라서 결정된다. 패턴 광의 형성에 사용되는 패턴 격자는 미세 가공을 통해서 제작되므로, 패턴 격자의 피치(또는 격자 피치)가 매우 세밀하게 조절될 수 있다. 따라서, 패턴 격자를 사용하여 패턴 광을 형성하는 경우, 패턴 광의 패턴 피치를 매우 작게 하여 검사 대상 물품에 조사할 수 있으므로, 검사 대상 물품의 정밀한 3차원 영상이 획득될 수 있다. 그러나, 패턴 격자가 갖는 패턴의 피치는 고정되어 있으므로, 검사 대상 물품에 따라 그 3차원 영상의 해상도를 변경하기는 어렵다. 즉, 검사 장치의 패턴 광원에 사용되는 패턴 격자와 압전 소자의 규격은, 검사 장치 제작 시에 검사 대상 물품의 요구사항에 맞추어 사전 결정되어 검사 장치에 장착되므로, 검사 장치의 패턴 격자 또는 압전 소자를 다른 규격으로 변경하는 것은 용이하지 않다.As described above, in the method of irradiating the inspection object with the pattern light to acquire the three-dimensional image of the article, the resolution of the three-dimensional image is determined according to the pitch of the pattern light. Since the pattern grating used for forming the pattern light is fabricated through microfabrication, the pitch (or lattice pitch) of the pattern grating can be very finely adjusted. Therefore, when the patterned light is formed by using the patterned grating, the pattern pitch of the patterned light can be made very small to irradiate the object to be inspected, so that a precise three-dimensional image of the object to be inspected can be obtained. However, since the pitch of the pattern of the pattern grating is fixed, it is difficult to change the resolution of the three-dimensional image according to the article to be inspected. That is, since the pattern grating used in the pattern light source of the inspection apparatus and the standard of the piezoelectric element are preliminarily determined in accordance with the requirements of the inspection object at the time of manufacturing the inspection apparatus, and are attached to the inspection apparatus, It is not easy to change to another standard.

또한, 검사 대상 물품 상에서 두 측정점 사이의 높이 차가 패턴 광의 패턴 피치의 정수배를 초과하는 경우에는, 2π 모호성(2π ambiguity) 문제가 발생한다. 검사 대상 물품 상에서 더 큰 높이 차이를 측정 가능하도록 하기 위해 패턴 광의 패턴 피치를 크게 하는 방법이 사용될 수 있다. 그러나, 이 방법에서 패턴 광의 패턴 피치를 크게 하기 위해 패턴 격자의 피치를 일정 수준 이상으로 증가시키면, 이송 장치가 패턴 광의 패턴의 위상을 충분히 변경할 수 있을 만큼 패턴 격자를 이송할 수 없는 문제점이 있다. 따라서, 검사 대상 물품의 표면 굴곡의 단차가 크고 표면 상의 돌출부들의 높이가 다양한 경우에는, 패턴 피치가 고정된 패턴 격자를 이용하여 형성된 패턴 광을 검사 대상 물품에 조사하더라도 그 물품의 정확한 3차원 영상을 획득하기 어렵다. Further, when the height difference between the two measurement points on the inspection object exceeds an integer multiple of the pattern pitch of the pattern light, a 2? Ambiguity problem arises. A method of increasing the pattern pitch of the pattern light in order to make it possible to measure a larger height difference on the object to be inspected can be used. However, in this method, if the pitch of the pattern grating is increased to a certain level or more in order to increase the pattern pitch of the pattern light, there is a problem that the transfer device can not transfer the pattern grating sufficiently to change the phase of the pattern light. Therefore, when the step of the surface deflection of the article to be inspected is large and the height of the protrusions on the surface is wide, even if the pattern light formed by using the pattern grid having the pattern pitch fixed is irradiated on the inspection object, It is difficult to obtain.

한편, DMD 칩을 이용한 DLP 프로젝터를 사용하여 패턴 광을 형성하는 경우에는, DLP 프로젝터가 사용하는 패턴 영상을 변경함으로써 해당 패턴 광의 패턴 피치나 위상을 간단하게 변경할 수 있다. 그러나, DLP 프로젝터는, 그 제작 비용이 고가이고, 패턴 격자를 사용하여 패턴 광을 형성하는 방법에 비해, 검사 대상 물품에 조사되는 패턴 광의 해상도가 낮게 설정되는 한계가 있다. 이러한 문제점은, DLP 프로젝터가 형성할 수 있는 패턴 이미지의 픽셀의 최소 크기가, 패턴 격자가 가질 수 있는 최소 패턴 피치보다 크기 때문에 발생한다.On the other hand, when pattern light is formed using a DLP projector using a DMD chip, the pattern pitch or phase of the pattern light can be easily changed by changing the pattern image used by the DLP projector. However, the DLP projector has a high manufacturing cost and has a limitation in that the resolution of the pattern light irradiated to the inspection object is set lower than the method of forming the pattern light using the pattern lattice. This problem occurs because the minimum size of the pixels of the pattern image that the DLP projector can form is larger than the minimum pattern pitch that the pattern grating can have.

이상과 같은 종래의 3차원 형상 검사 장치에서 사용되는 패턴 광 조사 방법들의 특성에 의해, 검사 대상 물품의 굴곡 특성이나 사용자의 요구에 따라 제한된 범위의 해상도를 갖는 패턴 광을 조사할 수 있는 장치를 제작해야 하고, 이에 따라 검사 장치의 제작 비용이 증가하는 문제점이 있다. 따라서, 다양한 3차원 형상을 갖는 검사 대상 물품들을 효과적으로 측정할 수 있는 단일한 검사 장치가 제공될 필요가 있다.By the characteristics of the pattern light irradiation methods used in the conventional three-dimensional shape inspection apparatus as described above, a device capable of irradiating pattern light having a resolution in a limited range according to the bending characteristics of the article to be inspected or the user's request is manufactured There is a problem that the manufacturing cost of the inspection apparatus increases. Accordingly, there is a need to provide a single inspection apparatus capable of effectively measuring inspection objects having various three-dimensional shapes.

본 발명의 일 실시예에 따르는 패턴 광 조사 장치는, 복수의 관통홀을 갖는 프레임 - 상기 복수의 관통홀 각각은 유일한 광축을 따라 형성됨 -, 상기 프레임에 고정되어 설치되며, 상기 복수의 관통홀의 제1 집합을 통해 고정 피치를 갖는 제1 패턴 광을 조사하도록 구성된 제1 패턴 광원; 및 상기 프레임에 고정되어 설치되며, 상기 복수의 관통홀의 제2 집합을 통해 가변 피치를 갖는 제2 패턴 광을 조사하도록 구성된 제2 패턴 광원을 포함하는 것을 특징으로 한다. A pattern light irradiation apparatus according to an embodiment of the present invention is characterized in that a frame having a plurality of through holes, each of the plurality of through holes being formed along a unique optical axis, is fixedly installed on the frame, A first pattern light source configured to irradiate a first pattern light having a fixed pitch through one set; And a second pattern light source fixed to the frame and configured to irradiate a second pattern light having a variable pitch through the second set of the plurality of through holes.

본 발명의 일 실시예에 따르는 패턴 광 조사 장치는, 상기 제1 패턴 광의 피치가, 상기 제2 패턴 광의 피치보다 작도록 설정되는 것을 특징으로 한다. The pattern light irradiation device according to an embodiment of the present invention is characterized in that the pitch of the first pattern light is set to be smaller than the pitch of the second pattern light.

본 발명의 일 실시예에 따르는 패턴 광 조사 장치는, 상기 프레임이 제1 서브프레임과 제2 서브프레임을 결합하여 구성되고, 상기 복수의 관통홀의 제1 집합은 상기 제1 서브프레임 및 상기 제2 서브프레임상에 형성되고, 상기 복수의 관통홀의 제2 집합은 상기 제2 서브프레임상에 형성되며, 상기 제1 패턴 광원은 상기 제1 서브프레임에 고정되어 설치되고, 상기 제2 패턴 광원은 상기 제2 서브프레임에 고정되어 설치되는 것을 특징으로 한다. The pattern light irradiation apparatus according to an embodiment of the present invention is characterized in that the frame is constituted by combining a first sub frame and a second sub frame, and a first set of the plurality of through holes is formed by combining the first sub frame and the second Frame, a second set of the plurality of through-holes is formed on the second sub-frame, the first pattern light source is fixedly installed in the first sub-frame, and the second pattern light source is formed on the sub- And fixed to the second subframe.

본 발명의 일 실시예에 따르는 패턴 광 조사 장치는, 상기 복수의 관통홀의 하단에 설치되는 복수의 반사경을 더 포함하며, 상기 복수의 반사경은, 상기 복수의 관통홀을 통해 조사되는 제1 패턴 광 또는 제2 패턴 광을 반사하여 검사 대상을 향해 조사하도록 구성되는 것을 특징으로 한다.The pattern light irradiating apparatus according to an embodiment of the present invention may further include a plurality of reflectors provided at the lower ends of the plurality of through holes, wherein the plurality of reflectors reflect the first pattern light irradiated through the plurality of through holes Or reflects the second pattern light and irradiates the light toward the object to be inspected.

본 발명의 일 실시예에 따르는 패턴 광 조사 장치는, 상기 프레임에 고정되어 설치되며, 상기 제1 패턴 광 또는 제2 패턴 광이 조사되는 검사 대상을 촬영하도록 구성되는 적어도 하나의 카메라를 더 포함하는 것을 특징으로 한다.The pattern light irradiating apparatus according to an embodiment of the present invention further includes at least one camera fixed to the frame and configured to photograph an object to be inspected to which the first pattern light or the second pattern light is irradiated .

본 발명의 일 실시예에 따르는 검사 장치는, 검사 대상을 향해 패턴 광을 조사하는 패턴 광 조사 장치; 상기 검사 대상을 이송하는 이송부; 및 상기 패턴 광 조사 장치와 상기 이송부를 제어하는 제어부를 포함하고, 상기 패턴 광 조사 장치는 복수의 관통홀을 갖는 프레임 - 상기 복수의 관통홀 각각은 유일한 광축을 따라 형성됨 -; 상기 프레임에 고정되어 설치되며, 상기 복수의 관통홀의 제1 집합을 통해 고정 피치를 갖는 제1 패턴 광을 조사하도록 구성된 제1 패턴 광원; 및 상기 프레임에 고정되어 설치되며, 상기 복수의 관통홀의 제2 집합을 통해 가변 피치를 갖는 제2 패턴 광을 조사하도록 구성된 제2 패턴 광원을 포함하고, 상기 제어부는, 상기 이송부가 상기 검사 대상을 상기 패턴 광 조사 장치 아래의 검사 위치로 이송하고, 상기 패턴 광 조사 장치가 상기 검사 대상을 향해 패턴 광을 조사하도록 제어하는 것을 것을 특징으로 한다.An inspection apparatus according to an embodiment of the present invention includes: a pattern light irradiating device for irradiating pattern light toward an object to be inspected; A transfer unit for transferring the inspection object; And a control unit controlling the pattern light irradiating device and the transferring unit, wherein the pattern light irradiating device has a frame having a plurality of through holes, each of the plurality of through holes being formed along a unique optical axis; A first pattern light source fixed to the frame and configured to irradiate a first pattern light having a fixed pitch through a first set of the plurality of through holes; And a second pattern light source fixed to the frame and configured to irradiate a second pattern light having a variable pitch through a second set of the plurality of through holes, To the inspection position under the pattern light irradiation device, and controls the pattern light irradiation device to irradiate the pattern light toward the inspection object.

본 발명의 일 실시예에 따르는 검사 장치는, 상기 제어부가 상기 제1 패턴 광원과 상기 제2 패턴 광원이 서로 다른 시점에 패턴 광을 조사하도록 상기 패턴 광 조사 장치를 제어하는 것을 특징으로 한다.The inspection apparatus according to an embodiment of the present invention is characterized in that the control unit controls the pattern light irradiation apparatus so that the first pattern light source and the second pattern light source irradiate pattern light at different points of time.

본 발명의 일 실시예에 따르는 검사 장치는, 상기 제1 패턴 광의 피치가 상기 제2 패턴 광의 피치보다 작도록 설정되는 것을 특징으로 한다.The inspection apparatus according to an embodiment of the present invention is characterized in that the pitch of the first pattern light is set to be smaller than the pitch of the second pattern light.

본 발명의 일 실시예에 따르는 검사 장치는, 상기 프레임이 제1 서브프레임과 제2 서브프레임을 결합하여 구성되고, 상기 복수의 관통홀의 제1 집합은 상기 제1 서브프레임 및 상기 제2 서브프레임 상에 형성되고, 상기 복수의 관통홀의 제2 집합은 상기 제2 서브프레임 상에 형성되며, 상기 제1 패턴 광원은 상기 제1 서브프레임에 고정되어 설치되고, 상기 제2 패턴 광원은 상기 제2 서브프레임에 고정되어 설치되는 것을 특징으로 한다. The inspection apparatus according to an embodiment of the present invention is characterized in that the frame is constructed by combining a first sub-frame and a second sub-frame, and a first set of the plurality of through- And a second set of the plurality of through holes is formed on the second subframe, the first pattern light source is fixedly installed in the first subframe, and the second pattern light source is formed on the second subframe, And fixed to the subframe.

본 발명의 다양한 실시예에 따르면, 높이가 다른 굴곡 형상을 포함하는 검사 대상에 대해, 추가적인 장비 또는 촬영 동작 없이 하나의 패턴 광 조사 장치만을 이용하여 부품의 3차원 영상을 획득할 수 있다. According to various embodiments of the present invention, a three-dimensional image of a part can be obtained by using only one pattern light irradiating device, without additional equipment or photographing operation, for an inspection object including curved shapes having different heights.

본 발명의 다양한 실시예에 따르면, 하나의 패턴 광 조사 장치가 설치된 검사 장비를 이용하여 부품을 검사하는 경우에도, 부품의 3차원 영상에 있어서 높은 해상도를 유지하면서도, 동시에 표면상의 단차 또는 굴곡이 심한 검사 대상의 정밀한 3차원 영상을 획득할 수 있다. According to various embodiments of the present invention, even when a component is inspected using an inspection equipment provided with one pattern light irradiation device, it is possible to maintain a high resolution in a three-dimensional image of the component, A precise three-dimensional image of the object to be inspected can be obtained.

본 발명의 다양한 실시예에 따르면, 단일한 패턴 광 조사 장치만을 사용하여 높이가 다른 부품을 포함하는 기판과 같은 검사 대상을 촬영 및 검사할 수 있어, 검사 공정 단순화를 통한 생산 비용 절감 효과를 얻을 수 있다.According to various embodiments of the present invention, it is possible to photograph and inspect an object to be inspected such as a substrate including parts having different heights using only a single pattern light irradiating device, thereby achieving a production cost reduction effect by simplifying the inspection process have.

본 발명의 다양한 실시예에 따르면, 패턴 광 조사 장치를 구성하는 프레임 상에 상이한 유형의 패턴 광원들을 설치함으로써, 다양한 기능과 구성을 갖는 패턴 광 조사 장치 및 이를 이용한 기판 검사 장치를 유연하게 생산할 수 있다.According to various embodiments of the present invention, by providing different types of pattern light sources on a frame constituting the pattern light irradiating apparatus, a pattern light irradiating apparatus having various functions and configurations and a substrate inspecting apparatus using the pattern light irradiating apparatus can be flexibly produced .

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따르는 패턴 광 조사 장치를 도시한 것이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따르는 패턴 광 조사 장치의 프레임에 생성된 관통홀을 도시한 것이다.
도 3은 본 발명의 다른 실시예에 따르는 패턴 광 조사 장치를 도시한 것이다.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따르는 패턴 광 조사 장치를 사용한 기판 검사 장치 및 그 동작을 도시한 것이다. 1 shows a pattern light irradiation apparatus according to an embodiment of the present invention.
Fig. 2 shows a through hole formed in a frame of a pattern light irradiation apparatus according to an embodiment of the present invention.
Fig. 3 shows a pattern light irradiation apparatus according to another embodiment of the present invention.
4 shows a substrate inspection apparatus using the patterned light irradiation apparatus according to an embodiment of the present invention and its operation.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예들을 설명한다. 다만, 이하의 설명에서는 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 우려가 있는 경우, 널리 알려진 기능이나 구성에 관한 구체적인 설명은 생략하기로 한다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. In the following description, well-known functions and configurations will not be described in detail if they obscure the subject matter of the present invention.

본 실시예에서 사용되는 용어 "부"는 소프트웨어, FPGA(field-programmable gate array), ASIC(application specific integrated circuit)과 같은 하드웨어 구성요소를 의미한다. 그러나, "부"는 하드웨어 및 소프트웨어에 한정되는 것은 아니다. "부"는 어드레싱할 수 있는 저장 매체에 있도록 구성될 수도 있고, 하나 또는 그 이상의 프로세서들을 재생시키도록 구성될 수도 있다. 따라서, 일례로서 "부"는 소프트웨어 구성요소들, 객체지향 소프트웨어 구성요소들, 클래스 구성요소들 및 태스크 구성요소들과 같은 구성요소들과, 프로세서, 함수, 속성, 프로시저, 서브루틴, 프로그램 코드의 세그먼트, 드라이버, 펌웨어, 마이크로코드, 회로, 데이터, 데이터베이스, 데이터 구조, 테이블, 어레이 및 변수를 포함한다. 구성요소와 "부" 내에서 제공되는 기능은 더 작은 수의 구성요소 및 "부"로 결합되거나 추가적인 구성요소와 "부"로 더 분리될 수 있다.The term "part " used in the present embodiment means hardware components such as software, field-programmable gate array (FPGA), and application specific integrated circuit (ASIC). However, "part" is not limited to hardware and software. "Part" may be configured to reside on an addressable storage medium, and may be configured to play back one or more processors. Thus, by way of example, and not limitation, "part, " as used herein, is intended to be broadly interpreted as referring to components such as software components, object-oriented software components, class components and task components, Firmware, microcode, circuitry, data, databases, data structures, tables, arrays, and variables. The functions provided within the component and the "part " may be combined into a smaller number of components and" parts " or further separated into additional components and "parts ".

본 명세서에서 사용되는 모든 기술적 용어들 및 과학적 용어들은, 다르게 정의되어 있지 않는 한, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 일반적으로 이해되는 의미를 갖는다. 본 명세서에서 사용되는 모든 용어들은 본 발명을 보다 명확히 설명하기 위한 목적으로 선택된 것이며 본 발명의 범위를 제한하기 위해 선택된 것이 아니다. All technical and scientific terms used herein have the same meaning as commonly understood by one of ordinary skill in the art to which this invention belongs, unless otherwise defined. All terms used herein are selected for the purpose of more clearly illustrating the present invention and are not to be construed as limiting the scope of the present invention.

본 명세서에서 기술된 단수형의 표현은 달리 언급하지 않는 이상 복수형의 표현도 함께 포함할 수 있으며, 이는 청구항에 기재된 단수형의 표현에도 마찬가지로 적용된다. The singular forms of the expressions described herein may also include plural representations, unless the context clearly dictates otherwise, and the same shall apply to the singular expressions described in the claims.

본 발명의 다양한 실시 예에서 사용된 "제1", "제2" 등의 표현들은 복수의 구성요소들을 상호 구분하기 위해 사용하는 것일 뿐 해당 구성요소들의 순서 또는 중요도를 한정하는 것이 아니다.The terms "first "," second ", etc. used in various embodiments of the present invention are used to distinguish between a plurality of components, and do not limit the order or importance of the components.

본 명세서에서 사용되는 "포함하는" 및 "갖는"과 같은 표현은, 해당 표현이 포함되는 문구 또는 문장에서 특별히 다르게 언급되지 않는 한, 다른 실시예를 포함할 가능성을 내포하는 개방형 용어(open-ended terms)로 이해되어야 한다.As used herein, the terms "comprising" and "having ", unless the context clearly dictates otherwise, are to be construed as open-ended terms.

본 명세서에서 "~에 기초하여"라는 표현은, 해당 표현이 포함되는 문구에서 기술되는 결정 또는 판단의 행위 또는 동작에 영향을 주는 하나 이상의 인자를 기술하는데 사용되고, 이 표현은 결정 또는 판단의 행위 또는 동작에 영향을 주는 추가적인 인자를 배제하지는 않는다. The expression "on the basis of" in this specification is used to describe one or more factors that affect the behavior or behavior of a decision or judgment described in the phrase including the expression, It does not rule out additional factors that affect operation.

본 명세서에서 어떤 구성요소가 다른 구성요소에 "연결되어" 있다거나 "접속되어" 있다고 언급된 때에는, 상기 어떤 구성요소가 상기 다른 구성요소에 직접적으로 연결되어 있거나 또는 접속되어 있을 수도 있지만, 상기 어떤 구성요소와 상기 다른 구성요소 사이에 새로운 다른 구성요소가 존재할 수도 있다고 이해되어야 할 것이다.When an element is referred to herein as being "connected" or "connected" to another element, it is to be understood that any element may be directly connected or connected to the other element, It should be understood that there may be other components between the component and the other component.

본 명세서에서 사용되는 용어 중, "패턴 광"은, 검사 대상에 대한 3차원 형상을 측정하기 위하여 조사되는, 일정한 주기를 갖는 패턴을 포함하는 광을 의미한다. 이하 실시예들에 따른 패턴 광 조사 장치의 패턴 광원들 각각에서는, 줄무늬 형태의 패턴을 갖는 패턴 광으로서, 줄무늬의 밝기가 사인파 형태를 띠는 이른바 사이누소이달(sinusoidal) 패턴 광(또는 사인파 패턴 광)이 조사되는 것으로 설명될 것이다. 그러나, 본 발명에 따른 패턴 광은, 사인파 패턴 광에 한정되는 것은 아니며, 밝은 부분과 어두운 부분이 반복되어 표시되는 온-오프(on-off) 형태의 패턴 광이나, 밝기의 변화가 삼각형 파형인 삼각파 패턴 광을 포함하는, 밝기의 변화가 일정한 주기를 갖고 반복되는 패턴을 갖는 다양한 패턴 광일 수 있다. As used herein, the term "pattern light" means light including a pattern having a constant period, which is irradiated to measure a three-dimensional shape of an object to be inspected. In each of the pattern light sources of the pattern light irradiating apparatus according to the following embodiments, the pattern light having a stripe pattern is formed by using a so-called sinusoidal pattern light (or a sine wave pattern light ) Will be explored as being investigated. However, the pattern light according to the present invention is not limited to the sinusoidal pattern light, but may be an on-off pattern light in which bright portions and dark portions are repeatedly displayed, It may be various pattern light having a pattern in which the change in brightness including the triangular wave pattern light is repeated with a constant period.

이하 설명하는 본 발명의 다양한 실시예들에서 사용되는 패턴 광 조사장치는, 광원으로부터의 광을 패턴 격자를 통과시켜 패턴 광을 형성하는 패턴 광원(이하 "격자 패턴 광원"이라 함)과, DLP 방식의 프로젝터, 즉 광원으로부터의 광을 마이크로미러의 배열을 포함하는 DMD 칩에 의해 반사시켜 패턴 이미지를 형성함으로써 패턴 광을 조사하는 패턴 광원(이하 "반사 패턴 광원"이라 함)을 포함할 수 있다. 격자 패턴 광원과 반사 패턴 광원은, 설명의 편의를 위하여 도입한 용어일 뿐이며, 이 패턴 광원들의 기능이나 동작을 해석함에 있어서 이 용어들이 갖는 사전적인 의미로 제한되어서는 안 된다. The pattern light irradiating device used in various embodiments of the present invention described below includes a pattern light source (hereinafter referred to as a "grating pattern light source") that forms a pattern light by passing light from a light source through a pattern grating, (Hereinafter referred to as "reflection pattern light source") that irradiates pattern light by reflecting a light from a projector, that is, light from a light source, by a DMD chip including an array of micromirrors to form a pattern image. The lattice pattern light source and the reflection pattern light source are merely terms introduced for convenience of explanation and should not be limited to the dictionary meaning of these terms in interpreting the function or operation of the pattern light sources.

본 발명에 따르는 패턴 광 조사 장치는, 하나 이상의 격자 패턴 광원과 하나 이상의 반사 패턴 광원을 모두 포함할 수 있다. 격자 패턴 광원이 조사하는 패턴 광의 패턴 피치는 반사 패턴 광원이 조사하는 패턴 광과 비교하여 패턴 피치를 비교적 작게 할 수 있기 때문에, 본 발명의 패턴 광 조사 장치는, 패턴 피치가 작은 패턴 광과 패턴 피치가 큰 패턴 광을 모두 동일한 검사 대상에 조사할 수 있다. 즉, 본 발명의 패턴 광 조사 장치를 구비한 기판 검사 장치는, 격자 패턴 광원을 이용하여 미세 피치를 갖는 패턴 광을 조사함으로써 검사 대상의 미세 부품에 대한 3차원 영상을 획득할 수 있다. 또한, 본 발명의 패턴 광 조사 장치를 구비한 기판 검사 장치는, 반사 패턴 광원을 이용하여 패턴 피치가 큰 패턴 광을 조사함으로써 동일 검사 대상의 높이가 높은 부품에 대한 3차원 영상도 획득할 수 있다. 이와 같이 다양한 패턴 피치를 갖는 패턴 광들을 검사 대상에 조사하여 그 검사 대상의 3차원 영상을 획득함으로써, 다양한 높이를 가진 부품들을 포함하는 기판과 같은 검사 대상이 효과적으로 검사될 수 있다. 즉, 본 발명에 따르면, 단일한 패턴 광 조사 장치가 여러 종류의 패턴 광을 조사할 수 있게 되어, 단일한 검사 장비를 이용하여 다양한 높이의 부품들이 배치된 기판과 같은 검사 대상에 대해 효과적으로 3차원 영상을 획득하는 것이 가능하며, 이에 따라, 검사 대상에 대한 정확한 영상을 획득하는 것이 가능할 뿐 아니라 불량 여부 검사의 속도가 향상될 수 있다. The pattern light irradiation apparatus according to the present invention may include at least one of the at least one lattice pattern light source and at least one reflection pattern light source. Since the pattern pitch of the pattern light irradiated by the lattice pattern light source can be made comparatively small as compared with the pattern light irradiated by the reflection pattern light source, the pattern light irradiating apparatus of the present invention can reduce the pattern light having the small pattern pitch and the pattern pitch All the large pattern light can be irradiated to the same inspection object. That is, the substrate inspecting apparatus provided with the pattern light irradiating apparatus of the present invention can obtain a three-dimensional image of a fine part to be inspected by irradiating pattern light having a fine pitch using a lattice pattern light source. Further, the substrate inspection apparatus provided with the pattern light irradiation apparatus of the present invention can acquire a three-dimensional image of a high-height component to be inspected by irradiating pattern light having a large pattern pitch using a reflection pattern light source . By irradiating pattern light having various pattern pitches to an inspection object and acquiring a three-dimensional image of the inspection object, an inspection object such as a substrate including components having various heights can be effectively inspected. That is, according to the present invention, a single pattern light irradiating apparatus can irradiate various types of pattern light, so that the inspection object such as a substrate on which various height parts are arranged using a single inspection equipment can effectively be three- It is possible to obtain an accurate image of an object to be inspected, and the speed of the defect inspection can be improved.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따르는 패턴 광 조사 장치를 도시한 것이다. 도시된 바와 같이, 패턴 광 조사 장치(100)는, 단일 프레임(140) 상에 대략 원형으로 교번하여 배치된, 격자 패턴 광원(110)과 반사 패턴 광원(120)을 포함할 수 있다. 또한, 검사 대상을 촬영하기 위한 카메라(180)가 프레임(140)의 중앙에 배치될 수 있다. 도 1에 도시된 바와 같이, 프레임(140)은 관통홀이 형성된 원형 플레이트와 같은 형상을 가질 수 있으나, 이러한 형상에 한정되지는 않으며, 제조하고자 하는 패턴 광 조사 장치, 또는 제조한 패턴 광 조사 장치가 장착된 검사 장치의 외형이나 폼 팩터와 같은 요인에 따라서 적합한 형상을 가질 수 있다.1 shows a pattern light irradiation apparatus according to an embodiment of the present invention. As shown, the pattern light irradiating apparatus 100 may include a grid pattern light source 110 and a reflection pattern light source 120, which are arranged in a substantially circular alternating manner on a single frame 140. In addition, a camera 180 for photographing an object to be inspected may be disposed at the center of the frame 140. Fig. As shown in FIG. 1, the frame 140 may have the same shape as a circular plate having a through-hole formed therein, but the present invention is not limited to such a shape, and the pattern light irradiating apparatus to be manufactured, And may have an appropriate shape depending on factors such as the shape and form factor of the inspection apparatus mounted thereon.

도 1에는 복수의 격자 패턴 광원(110)과 복수의 반사 패턴 광원(120)이 프레임(140) 상에 배치된 것으로 도시되었지만, 예를 들어 적어도 하나의 격자 패턴 광원(110)과 적어도 하나의 반사 패턴 광원(120)이 프레임(140)에 배치될 수도 있다. 일 실시예에 따르면, 프레임(140)에 배치되는 격자 패턴 광원 또는 반사 패턴 광원의 개수는 도 1에 도시된 바와 같이 각각 4개일 수 있다. 그러나, 본 발명에 따른 프레임(140)에 배치되는 격자 패턴 광원 또는 반사 패턴 광원의 개수와 배치 형태, 및 프레임(140)의 형상은, 패턴 광 조사 장치(100)가 획득하고자 하는 3차원 영상의 정밀도, 3차원 영상을 획득하기 위한 촬영 시간, 프로브가 사용될 검사 장비의 크기와 외형 등을 포함하는 다양한 요구사항에 맞추어 변경될 수 있다. Although a plurality of grid pattern light sources 110 and a plurality of reflective pattern light sources 120 are illustrated as being disposed on the frame 140 in FIG. 1, for example, at least one grid pattern light source 110 and at least one reflection The pattern light source 120 may be disposed in the frame 140. [ According to one embodiment, the number of the grid pattern light sources or the reflection pattern light sources disposed in the frame 140 may be four, as shown in FIG. However, the number and arrangement of the lattice pattern light sources or the reflection pattern light sources arranged in the frame 140 according to the present invention and the shape of the frame 140 are not limited to that of the three-dimensional image to be acquired by the pattern light irradiation apparatus 100 Precision, the imaging time for acquiring a three-dimensional image, the size and appearance of the inspection equipment to be used, and the like.

격자 패턴 광원(110)은, 광원으로부터의 광을 패턴 격자를 통과시킴으로써 패턴 광을 형성하여 검사 대상을 향해 조사한다. 앞서 설명된 바와 같이, 격자 패턴 광원(110)이 조사하는 패턴 광은, 온-오프 형태의 패턴 광, 삼각파 형태의 패턴 광, 사인파 패턴 광 등을 포함하는, 주기적인 형태의 다양한 패턴을 갖는 패턴 광들 중의 하나일 수 있다. 일 실시예에 따르면, 격자 패턴 광원(110)은, 광원으로부터의 광을, 고정된 미세 피치를 갖는 패턴 격자를 통과시킴으로써 패턴 광을 형성하여 조사할 수 있다. 이 경우, 격자 패턴 광원(110)이 조사하는 패턴 광의 패턴 피치가 고정되어 있으며, 그 패턴 피치의 크기는 매우 작게 설정될 수 있다. 이와 같이 패턴 광의 패턴 피치가 작은 격자 패턴 광원(110)은, 높이가 매우 낮은 미세 부품을 포함하는 기판의 3차원 영상을 획득하기 위해 사용될 수 있다.The lattice pattern light source 110 forms a pattern light by passing light from a light source through a pattern lattice and irradiates the pattern light toward the object to be inspected. As described above, the pattern light irradiated by the lattice pattern light source 110 is a pattern having various patterns in periodic shapes, including on-off pattern light, triangular wave pattern light, sinusoidal pattern light, Lt; / RTI > According to one embodiment, the lattice pattern light source 110 can form and emit pattern light by passing light from a light source through a pattern lattice having a fixed fine pitch. In this case, the pattern pitch of the pattern light irradiated by the lattice pattern light source 110 is fixed, and the size of the pattern pitch can be set to be very small. As described above, the lattice pattern light source 110 having a small pattern pitch of the pattern light can be used for obtaining a three-dimensional image of a substrate including a very low-height fine component.

도 1에 도시된 바와 같이 복수의 격자 패턴 광원(110)이 프레임(140)에 배치된 경우, 각각의 격자 패턴 광원(110)은, 서로 상이한 피치를 갖는 패턴 격자를 포함하고, 이에 따라 패턴 피치가 서로 상이한 패턴 광을 검사 대상에 조사할 수 있다. 이와 같이 복수의 격자 패턴 광원(110)이 서로 상이한 패턴 피치를 갖는 패턴 광들을 검사 대상에 조사하여 그 검사 대상을 촬영한 영상들을 조합하면, 비교적 큰 높이를 갖는 부품들을 포함하는 검사 대상에 대해서도 정밀한 3차원 영상을 획득할 수 있다. 즉, 이 경우, 단일한 패턴 피치를 갖는 패턴 광을 검사 대상에 조사하는 경우에 비교하여, 더 큰 높이를 갖는 부품들을 포함하는 검사 대상에 대해서, 2π 모호성 문제를 방지하면서 정확한 3차원 영상을 획득할 수 있다.1, when a plurality of grid-pattern light sources 110 are arranged in the frame 140, each of the grid-pattern light sources 110 includes a pattern grating having a pitch different from each other, It is possible to irradiate the inspection target with the pattern light that is different from each other. When a plurality of grid-pattern light sources 110 irradiate pattern light having different pattern pitches to an object to be inspected and images photographed from the object to be inspected are combined, an inspection object including a component having a relatively large height can be precisely A three-dimensional image can be obtained. That is, in this case, compared to the case where the pattern light having a single pattern pitch is irradiated onto the object to be inspected, an accurate three-dimensional image is obtained while preventing the 2? Ambiguity problem for the inspection object including the parts having a larger height can do.

한편, 반사 패턴 광원(120)은, 광원으로부터의 광을 마이크로미러의 배열을 구비한 소자, 예를 들어 DMD 칩에 반사시켜서 검사 대상에 패턴 영상을 조사할 수 있다. 여기서, DMD 칩에 배열된 각 마이크로미러를 조정함으로써, 패턴의 피치가 조정될 수 있다. 반사 패턴 광원(120)은 격자 패턴 광원(110)과 비교하여 더 큰 패턴 피치를 갖는 패턴 광을 조사할 수 있다. 또한, 반사 패턴 광원(120)은, 고정된 패턴 피치를 갖는 패턴 광을 조사하는 격자 패턴 광원(110)과 비교하여, 패턴 광의 패턴 피치를 자유롭게 변경 가능하다. 따라서, 격자 패턴 광원(110)들만 사용할 때에는 기판과 같은 검사 대상에 배치된 큰 높이의 부품의 정확한 3차원 영상을 확보하는 데에 한계가 있지만, 반사 패턴 광원(120)을 사용할 때에는 비교적 더 큰 패턴 피치를 갖는 패턴 광을 조사함으로써 큰 높이의 부품에 대해서 더 정확한 3차원 영상을 획득할 수 있다. 이에 더하여, 반사 패턴 광원(120)이 패턴의 패턴 피치를 조절하면서 패턴 광을 조사함으로써, 다양한 높이를 갖는 부품이 포함된 검사 대상에 대해서도 정확한 3차원 영상을 획득할 수 있다. 또한, 격자 패턴 광원(110)과 마찬가지로, 복수의 반사 패턴 광원(120) 각각은 조사하는 패턴 광의 패턴 피치를 서로 상이하게 조절할 수 있다. 이와 같이 패턴 광의 패턴 피치가 조절되면, 단일한 패턴 피치를 갖는 패턴 광을 조사하는 경우와 비교하였을 때, 더 높은 높이를 갖는 부품들을 포함하는 검사 대상에 대한 정확한 3차원 영상이 획득될 수 있다. On the other hand, the reflection pattern light source 120 can reflect a pattern image on an object to be inspected by reflecting light from a light source on an element having an array of micromirrors, for example, a DMD chip. Here, by adjusting each micromirror arranged in the DMD chip, the pitch of the pattern can be adjusted. The reflective pattern light source 120 may emit pattern light having a larger pattern pitch as compared with the lattice pattern light source 110. The reflective pattern light source 120 can freely change the pattern pitch of the pattern light as compared with the lattice pattern light source 110 that emits pattern light having a fixed pattern pitch. Accordingly, when using only the grid pattern light sources 110, there is a limitation in ensuring accurate three-dimensional images of a large-height component placed on an inspection target such as a substrate. However, when using the reflective pattern light source 120, By irradiating the pattern light having the pitch, it is possible to acquire a more accurate three-dimensional image with respect to a component having a large height. In addition, by irradiating the pattern light while adjusting the pattern pitch of the pattern, the reflective pattern light source 120 can acquire an accurate three-dimensional image even for an inspection object including a component having various heights. In addition, like the lattice pattern light source 110, each of the plurality of reflective pattern light sources 120 can adjust the pattern pitch of the pattern light to be irradiated to be different from each other. When the pattern pitch of the pattern light is adjusted in this manner, an accurate three-dimensional image can be obtained for the inspection object including the parts having the higher height, as compared with the case of irradiating the pattern light having the single pattern pitch.

도 1에 도시된 바와 같이, 프레임(140)에는 복수의 관통홀(160)이 형성될 수 있다. 관통홀(160)은 프레임(140)에서 적어도 하나의 격자 패턴 광원(110)과 적어도 하나의 반사 패턴 광원(120)이 각각 설치될 복수의 위치들에 각각 프레임(140)을 관통하여 형성될 수 있다. 특히 관통홀(160)은, 관통홀(160)의 프레임(140)에 대한 관통 방향이 적어도 하나의 격자 패턴 광원(110) 또는 적어도 하나의 반사 패턴 광원(120)으로부터 방출되는 패턴 광의 광축에 순응하도록, 형성될 수 있다. 복수의 관통홀들(160)은 복수의 패턴 광원(110 또는 120)들의 각각이 조사하는 패턴 광들이 서로 다른 광축을 가질 수 있도록 구성될 수 있다. 즉, 관통홀(160)은, 관통홀(160)에 대응하여 프레임(140) 상에 설치된 패턴 광원(110 또는 120) 각각이 각자의 유일한 광축을 따라 각자의 패턴 광을 조사할 수 있도록, 프레임(140)상에 형성될 수 있다.As shown in FIG. 1, a plurality of through holes 160 may be formed in the frame 140. The through hole 160 may be formed through the frame 140 at a plurality of locations where at least one grid pattern light source 110 and at least one reflection pattern light source 120 are installed in the frame 140, have. Particularly, the through-hole 160 is formed in such a manner that the through-hole 160 penetrates the frame 140 in accordance with the optical axis of the pattern light emitted from at least one of the grid pattern light sources 110 or the at least one reflection pattern light source 120 As shown in Fig. The plurality of through holes 160 may be configured such that the pattern light irradiated by each of the plurality of pattern light sources 110 or 120 has different optical axes. That is, the through holes 160 are formed in the frame 140 so that each of the pattern light sources 110 and 120 provided on the frame 140 corresponding to the through holes 160 can irradiate the respective pattern light along the respective optical axes, (Not shown).

도 2는 프레임(140)상에 관통홀(160a, 160b)이 형성된 패턴 광 조사 장치의 측면을 도시한 것이다. 설명의 편의를 위하여, 도 2에서는 프레임(140) 상에 2개의 격자 패턴 광원(110a, 110b)이 설치되고, 그 하부에 격자 패턴 광원(110a, 110b)에 대응하는 2개의 관통홀(160a, 160b)이 형성된 것만이 도시되었다. 격자 패턴 광원(110a, 110b) 각각으로부터 출사한 패턴 광은 관통홀(160a, 160b)을 각각 통과하고 광경로 제어요소(170) 에서 반사되어 검사 대상(900)에 도달할 수 있다. 광경로 제어요소(170)로는 반사경이 사용될 수 있다. 당업자는, 이상 설명된 것과 유사한 방식으로, 도 2에 도시된 프레임(140) 상에 다른 격자 패턴 광원들 또는 반사 패턴 광원들과 이에 대응하는 관통홀들 및 광경로 제어요소들이 추가로 형성될 수 있음을 이해할 수 있을 것이다. 즉, 프레임(140) 상에 추가로 설치된 다른 격자 패턴 광원들 또는 반사 패턴 광원들 각각으로부터 출사한 패턴 광은, 패턴 광원들 각각에 대응하여 프레임에 형성된 관통홀들과 광경로 제어요소들에 의해 동일한 검사 대상(900)에 도달할 수 있다.Fig. 2 shows a side view of the pattern light irradiation device in which the through holes 160a and 160b are formed on the frame 140. Fig. 2, two grid pattern light sources 110a and 110b are provided on a frame 140 and two through holes 160a and 160b corresponding to the grid pattern light sources 110a and 110b are formed below the frame 140. [ 160b are formed. The pattern light emitted from each of the grid pattern light sources 110a and 110b passes through the through holes 160a and 160b and is reflected by the light path control element 170 to reach the object 900 to be inspected. As the light path control element 170, a reflector may be used. It will be appreciated by those skilled in the art that other grating pattern light sources or reflective pattern light sources and corresponding through holes and light path control elements may additionally be formed on the frame 140 shown in Figure 2, It will be understood. That is, the pattern light emitted from each of the other lattice pattern light sources or reflection pattern light sources additionally provided on the frame 140 is passed through through holes formed in the frame corresponding to each of the pattern light sources and the light path control elements The same inspection object 900 can be reached.

도 3은 본 발명의 다른 실시예에 따르는 패턴 광 조사 장치를 도시한 것이다. 도시된 바와 같이, 패턴 광 조사 장치(300)는 두 개의 서브프레임(340, 350)을 조립하여 제작되는 것으로, 예를 들어, 상부 서브프레임(340)에는 적어도 하나의 격자 패턴 광원(310)이 배치되고, 하부 서브프레임(350)에는 적어도 하나의 반사 패턴 광원(320)이 배치될 수 있다. 상부 서브프레임(340)에는 검사 대상을 촬영하기 위한 카메라(380)가 배치될 수 있다. 도 3에 도시된 각각의 서브프레임(340, 350)은 원형 플레이트 형상으로 도시되었으나, 프레임(140)과 마찬가지로 패턴 광 조사 장치 또는 검사 장치의 형상이나 폼 팩터에 맞추어 다른 형상을 가질 수 있다. 또한, 도 3에 도시된 바와 같이, 상부 서브프레임(340)은 하부 서브프레임(350)과 결합시에 하부 서브프레임(350)상에 배치된 반사 패턴 광원(320)이 위치할 공간을 마련하기 위한 절개된 영역을 포함할 수 있다. Fig. 3 shows a pattern light irradiation apparatus according to another embodiment of the present invention. As shown in the figure, the pattern light irradiation device 300 is fabricated by assembling two subframes 340 and 350. For example, at least one grid pattern light source 310 is provided in the upper subframe 340 And at least one reflective pattern light source 320 may be disposed in the lower sub-frame 350. The upper sub-frame 340 may be provided with a camera 380 for imaging an object to be inspected. Each of the subframes 340 and 350 shown in FIG. 3 is shown in the shape of a circular plate. However, like the frame 140, the subframe 340 and 350 may have different shapes according to the shape or form factor of the pattern light irradiation apparatus or the inspection apparatus. 3, the upper sub-frame 340 has a space for the reflection pattern light source 320 disposed on the lower sub-frame 350 when the lower sub-frame 350 is coupled with the upper sub- Gt; a < / RTI >

상부 서브프레임(340)에는 격자 패턴 광원(310)으로부터의 패턴 광을 통과시키기 위한 복수의 관통홀(360)이 형성될 수 있다. 또한, 상부 서브프레임(340)에는 카메라(380)가 검사 대상을 촬영할 수 있도록 관통홀(390)이 형성될 수 있다. 상부 서브프레임(340)에 형성된 복수의 관통홀(360)은, 도 1의 서브프레임(140)에 관통홀(160)이 형성되는 형태와 마찬가지로, 관통홀(360)의 상부 서브프레임(340)에 대한 관통 방향이 적어도 하나의 격자 패턴 광원(310)으로부터 방출되는 패턴 광의 광축에 순응하도록, 형성될 수 있다. 복수의 관통홀(360)은 복수의 패턴 광원(310) 각각이 조사하는 패턴 광이 서로 다른 광축을 가지도록 구성될 수 있다. 즉, 관통홀(360)은, 관통홀(360)에 대응하여 상부 서브프레임(340) 상에 설치된 격자 패턴 광원(310) 각각이 각자의 유일한 광축을 따라 각자의 패턴 광을 조사할 수 있도록 상부 서브프레임(340)에 형성될 수 있다. A plurality of through holes 360 for passing the pattern light from the grid pattern light source 310 may be formed in the upper sub-frame 340. In the upper sub-frame 340, a through-hole 390 can be formed so that the camera 380 can take an image of the object to be inspected. The plurality of through holes 360 formed in the upper subframe 340 are formed in the upper subframe 340 of the through hole 360 in the same manner as the through holes 160 are formed in the subframe 140 of FIG. May be formed so as to conform to the optical axis of the pattern light emitted from the at least one grid-patterned light source (310). The plurality of through-holes 360 may be configured so that the pattern light irradiated by each of the plurality of pattern light sources 310 has different optical axes. That is, the through-holes 360 are formed in a manner that each of the grid-shaped light sources 310 provided on the upper sub-frame 340 corresponding to the through-holes 360 emits respective pattern light along the respective optical axes, May be formed in the sub-frame 340.

하부 서브프레임(350)에는, 격자 패턴 광원(310)으로부터 관통홀(360)을 통과하여 조사되는 패턴 광이 통과하는 복수의 관통홀(365)과, 적어도 하나의 반사 패턴 광원(320)으로부터의 패턴 광을 통과시키기 위한 복수의 관통홀(370)이 모두 형성될 수 있다. 또한, 하부 서브프레임(350)에도, 카메라(380)가 검사 대상을 촬영하도록, 상부 서브프레임(340)의 관통홀(390)과 대응되는 위치에 관통홀(395)이 형성될 수 있다. 하부 서브프레임(350)에 형성된 관통홀(365)은 상부 서브프레임(340)에 형성된 관통홀(360)과 마찬가지로 격자 패턴 광원(310)이 각자의 유일한 광축을 따라 패턴 광을 조사할 수 있도록, 상부 서브프레임(340)의 관통홀(360)에 대응되는 하부 서브프레임(350)의 위치에 형성될 수 있다. 또한, 하부 서브프레임(350)에 형성된 관통홀(370)은 반사 패턴 광원(320)으로부터의 패턴 광이 유일한 광축을 갖고 조사되도록 하부 서브프레임(370)에 형성될 수 있다. The lower sub-frame 350 is provided with a plurality of through holes 365 through which the pattern light irradiated from the grid pattern light source 310 through the through holes 360 passes and a plurality of through holes 365 from the at least one reflective pattern light source 320 A plurality of through holes 370 for passing the pattern light can be formed. The lower sub-frame 350 may also have a through-hole 395 at a position corresponding to the through-hole 390 of the upper sub-frame 340 so that the camera 380 can photograph the object to be inspected. The through holes 365 formed in the lower sub-frame 350 are formed in the same manner as the through holes 360 formed in the upper sub-frame 340 so that the grid-patterned light sources 310 can emit pattern light along their unique optical axis, And may be formed at a position of the lower sub-frame 350 corresponding to the through-hole 360 of the upper sub-frame 340. The through hole 370 formed in the lower sub-frame 350 may be formed in the lower sub-frame 370 such that the pattern light from the reflective pattern light source 320 is irradiated with a unique optical axis.

도 3에 도시된 패턴 광 조사 장치(300)는, 도 1에 도시된 패턴 광 조사 장치(100)가 단일 프레임(140)에 격자 패턴 광원(110)과 반사 패턴 광원(120)을 모두 배치한 것과 달리, 두 개의 서브프레임(340, 350) 각각에, 격자 패턴 광원(310)과 반사 패턴 광원(320)을 구분하여 배치한 구조를 취한 것이다. 이와 같은 구조에서는 하나의 서브프레임 상에 패턴 광원을 소수만 배치하여도 되므로, 각 서브프레임의 크기를 축소시킬 수 있다. 예를 들면, 서브프레임이 원형인 경우에는 그 지름을 축소시킬 수 있다. 이와 같이 서브프레임의 크기를 축소시킬 수 있는 경우에는, 서브프레임들을 결합하여 구성되는 패턴 광 조사 장치 전체의 크기도 마찬가지로 줄일 수 있어, 패턴 광 조사 장치를 포함하는 검사 장비 자체를 소형화하는 효과가 얻어질 수 있다. The pattern light irradiating apparatus 300 shown in Fig. 3 differs from the pattern light irradiating apparatus 300 shown in Fig. 1 in that both the lattice pattern light source 110 and the reflection pattern light source 120 are arranged in a single frame 140 The grid pattern light source 310 and the reflection pattern light source 320 are separately arranged in each of the two sub-frames 340 and 350. FIG. In such a structure, since only a small number of pattern light sources may be arranged on one subframe, the size of each subframe can be reduced. For example, when the subframe is circular, the diameter of the subframe can be reduced. When the size of the subframe can be reduced in this manner, the size of the entire pattern light irradiating apparatus constituted by combining the subframes can be similarly reduced, and the inspection apparatus itself including the pattern light irradiating apparatus can be miniaturized Can be.

또한, 도 1의 실시예와 비교하였을 때에, 도 3의 실시예에서는, 두 서브프레임들(340, 350) 중에 상부 서브프레임(340)을 분리 또는 제외함으로써, 도 1의 프레임(140)과 유사한 형태를 쉽게 구현할 수 있다. 서브프레임의 크기를 축소시키기 어려운 경우, 이와 같이 상부 서브프레임(340)을 분리 또는 제외하고 패턴 광 조사 장치를 제조하여, 패턴 광 조사 장치의 높이를 감소시킴으로써 검사 장치를 소형화하는 것 또한 가능하다.3, by separating or excluding the upper sub-frame 340 from the two sub-frames 340 and 350, it can be seen that the frame 140 is similar to the frame 140 of FIG. The form can be easily implemented. If it is difficult to reduce the size of the sub-frame, it is also possible to manufacture the pattern light irradiating apparatus by separating or removing the upper sub-frame 340 and reducing the height of the pattern light irradiating apparatus, thereby miniaturizing the inspection apparatus.

또한, 이상과 같은 본 발명의 실시예들을 이용하면, 생산자들은 상부 서브프레임(340)과 하부 서브프레임(350)이 결합된 프레임에 일 조합의 패턴 광원들을 장착하거나 또는 상부 서브프레임(340)을 배제하고 하부 서브프레임(350)에만 다른 조합의 패턴 광원들을 장착함으로써, 고객의 다양한 요청에 따라 서로 다른 구성의 패턴 광원들을 가지는 패턴 광 조사 장치 및 이를 이용한 기판 검사 장비를 유연하게 생산할 수 있다.Further, with the embodiments of the present invention as described above, the producers can mount a combination of pattern light sources on the frame in which the upper sub-frame 340 and the lower sub-frame 350 are combined, It is possible to flexibly produce a pattern light irradiating apparatus having pattern light sources of different configurations and a substrate inspection apparatus using the pattern light irradiating apparatus having different configurations according to various requests of customers by excluding pattern light sources of different combinations from only the lower sub-

도 4는 본 발명의 일 실시예에 따르는 패턴 광 조사 장치를 활용한 기판 검사 장비(10)를 도시한 것이다. 기판 검사 장비는 패턴 광 조사 장치(400)와 이송부(500), 제어부(600)를 포함할 수 있다.FIG. 4 shows a substrate inspection apparatus 10 using a pattern light irradiation apparatus according to an embodiment of the present invention. The substrate inspection equipment may include a pattern light irradiation apparatus 400, a transfer unit 500, and a control unit 600.

패턴 광 조사 장치(400)는, 도 1의 실시예에 도시된 패턴 광 조사 장치(100)와 유사한 구조를 가질 수 있다. 또한, 패턴 광 조사 장치(400)는 검사 대상(900)에 대한 영상을 촬영하기 위하여 하나 이상의 측면 카메라(492)를 추가로 구비할 수 있다. 측면 카메라(492)는 검사 대상(900)의 2차원 영상을 촬영하거나, 또는 3차원 영상의 품질을 높이기 위해, 카메라(480)와는 다른 비스듬한 각도에서, 검사 대상(900)의 영상을 추가로 촬영할 수 있다.The pattern light irradiation device 400 may have a structure similar to that of the pattern light irradiation device 100 shown in the embodiment of FIG. In addition, the pattern light irradiation apparatus 400 may further include one or more side cameras 492 for capturing an image of the object 900 to be inspected. The side camera 492 further photographs the image of the object 900 to be inspected at an oblique angle different from that of the camera 480 in order to shoot the two-dimensional image of the object 900 or to enhance the quality of the three- .

이송부(500)는, 검사 대상(900), 예를 들면 부품이 실장된 인쇄 회로 기판을 패턴 광 조사 장치(400)의 카메라(480)의 하방인 검사 지점까지 이송할 수 있다. 또한, 이송부(500)는, 패턴 광 조사 장치(400)가 검사 대상에 대한 3차원 영상의 획득을 완료하면, 이후 공정을 위하여 검사 대상을 다른 지점으로 이송할 수 있다.The transfer unit 500 can transfer the inspection object 900, for example, the printed circuit board on which the component is mounted, to the inspection point below the camera 480 of the pattern light irradiation apparatus 400. [ When the pattern light irradiating apparatus 400 completes the acquisition of the three-dimensional image of the object to be inspected, the transfer unit 500 may transfer the object to be inspected to another point for subsequent processing.

제어부(600)는 기판 검사 장비의 전반적인 동작을 제어한다. 제어부(600)는 이송부(500)를 제어하여 검사 대상을 패턴 광 조사 장치(400)의 카메라(480) 하방에 위치한 검사 지점 또는 다른 지점까지 이송하도록 한다. 제어부(600)는, 이송부(500)에 의해 검사 대상이 검사 지점에 도달하면, 패턴 광 조사 장치(400)를 제어하여 검사 대상에 패턴 광을 조사하도록 한다. 일 실시예에서, 제어부(600)는 패턴 광 조사 장치(400)의 격자 패턴 광원(410)이 먼저 패턴 피치가 작은 패턴 광을 위상을 변경하여 가며 조사하도록 하고, 이를 카메라부(480)가 촬영하도록 할 수 있다. 촬영이 마쳐진 이후, 제어부(600)는 반사 패턴 광원(420)이 더 큰 패턴 피치를 갖는 패턴 광을 위상을 변경하여 가며 조사하도록 하고, 이를 카메라부(480)가 촬영하도록 할 수 있다. 제어부(600)는 촬영된 영상들을 카메라부(480)로부터 전송받고 이를 처리하여 검사 대상(900)의 3차원 영상을 생성할 수 있다. 부가적으로, 제어부(600)는 사이드 카메라(492)가 검사 대상(900)에 대한 추가의 영상을 촬영하도록 제어하고, 촬영된 영상을 3차원 영상의 생성에 활용할 수 있다. The control unit 600 controls the overall operation of the substrate inspection equipment. The control unit 600 controls the transfer unit 500 to transfer an inspection object to an inspection point or another point below the camera 480 of the pattern light irradiation apparatus 400. [ The control unit 600 controls the pattern light irradiating device 400 to irradiate the inspection target with the pattern light when the inspection target reaches the inspection point by the transferring unit 500. [ The control unit 600 allows the grid pattern light source 410 of the pattern light irradiating apparatus 400 to first irradiate the pattern light with a small pattern pitch while changing the phase thereof, . After the photographing is completed, the control unit 600 allows the reflection pattern light source 420 to irradiate pattern light having a larger pattern pitch while changing the phase, and to cause the camera unit 480 to photograph the pattern light. The controller 600 receives the photographed images from the camera unit 480 and processes the photographed images to generate a three-dimensional image of the object 900 to be inspected. In addition, the control unit 600 controls the side camera 492 to photograph additional images of the object 900 to be inspected, and can utilize the photographed images to generate three-dimensional images.

본 발명은 바람직한 실시예를 통해 설명되고 예시되었으나, 당업자라면 첨부한 청구 범위의 사항 및 범주를 벗어나지 않고 여러 가지 변형 및 변경이 이루어질 수 있음을 알 수 있을 것이다.While the present invention has been illustrated and described with respect to preferred embodiments thereof, it will be apparent to those skilled in the art that various modifications and variations can be made without departing from the spirit and scope of the appended claims.

100, 300, 400 : 패턴 광 조사 장치
110, 310, 410 : 격자 패턴 광원
120, 320, 420 : 반사 패턴 광원
140 : 프레임
340 : 상부 서브프레임
350 : 하부 서브프레임
360, 365, 370 : 관통홀
500 : 이송부
600 : 제어부100, 300, 400: pattern light irradiation device
110, 310, 410: grid pattern light source
120, 320, 420: reflection pattern light source
140: frame
340: upper subframe
350: lower sub-frame
360, 365, 370: through hole
500: transfer part
600:

Claims (9)

복수의 관통홀을 갖는 프레임 - 상기 복수의 관통홀 각각은 유일한 광축을 따라 형성됨 -;
상기 프레임에 고정되어 설치되며, 광이 패턴 격자를 통과함으로써 형성된 고정된 제1 패턴 피치를 갖는 제1 패턴 광을 상기 복수의 관통홀의 제1 집합을 통해 조사하도록 구성된 제1 패턴 광원; 및
상기 프레임에 고정되어 설치되며, 광이 마이크로미러의 배열을 구비한 소자에 반사됨으로써 형성된 제2 패턴 피치를 갖는 제2 패턴 광을 상기 복수의 관통홀의 제2 집합을 통해 조사하도록 구성된 제2 패턴 광원을 포함하고 - 상기 제2 패턴 피치는 상기 배열된 마이크로미러를 조정함으로써 가변됨 -,
상기 프레임은, 제1 서브프레임과 제2 서브프레임을 결합하여 구성되고,
상기 복수의 관통홀의 제1 집합은 상기 제1 서브프레임 및 상기 제2 서브프레임 상에 형성되고, 상기 복수의 관통홀의 제2 집합은 상기 제2 서브프레임 상에 형성되며,
상기 제1 패턴 광원은 상기 제1 서브프레임에 고정되어 설치되고, 상기 제2 패턴 광원은 상기 제2 서브프레임에 고정되어 설치되는,
패턴 광 조사 장치.A frame having a plurality of through holes, each of the plurality of through holes being formed along a unique optical axis;
A first pattern light source fixed to the frame and configured to irradiate a first pattern light having a fixed first pattern pitch formed by passing light through a pattern grating through a first set of the plurality of through holes; And
A second pattern light source configured to irradiate a second pattern light having a second pattern pitch formed by reflecting light on an element having an array of micromirrors through a second set of the plurality of through holes, Wherein the second pattern pitch is varied by adjusting the arranged micromirrors,
Wherein the frame is configured by combining a first sub-frame and a second sub-frame,
A first set of the plurality of through-holes is formed on the first sub-frame and a second sub-frame, a second set of the plurality of through-holes is formed on the second sub-frame,
Wherein the first pattern light source is fixedly installed in the first sub frame and the second pattern light source is fixedly installed in the second sub frame,
Pattern light irradiation device. 제1항에 있어서,
상기 제1 패턴 피치는, 상기 제2 패턴 피치보다 작도록 설정되는,
패턴 광 조사 장치.The method according to claim 1,
Wherein the first pattern pitch is set to be smaller than the second pattern pitch,
Pattern light irradiation device. 제1항에 있어서,
상기 복수의 관통홀의 하단에 설치되는 복수의 반사경을 더 포함하며,
상기 복수의 반사경은, 상기 복수의 관통홀을 통해 조사되는 제1 패턴 광 또는 제2 패턴 광을 반사하여 검사 대상을 향해 조사하도록 구성되는,
패턴 광 조사 장치.The method according to claim 1,
And a plurality of reflectors provided at the lower ends of the plurality of through holes,
Wherein the plurality of reflectors reflect the first pattern light or the second pattern light irradiated through the plurality of through holes and irradiate the light toward the object to be inspected,
Pattern light irradiation device. 제1항에 있어서,
상기 프레임에 고정되어 설치되며, 상기 제1 패턴 광 또는 상기 제2 패턴 광이 조사되는 검사 대상을 촬영하도록 구성되는 적어도 하나의 카메라를 더 포함하는,
패턴 광 조사 장치.The method according to claim 1,
Further comprising at least one camera fixedly mounted on the frame and configured to photograph an object to be inspected to which the first pattern light or the second pattern light is irradiated,
Pattern light irradiation device. 제4항에 있어서,
상기 검사 대상이 이송되면, 상기 검사 대상에 상기 제1 패턴 광이 조사되도록 상기 제1 패턴 광원을 제어하고, 상기 제1 패턴 광이 조사된 상기 검사 대상이 상기 적어도 하나의 카메라에 의해 촬영된 후, 상기 검사 대상에 상기 제2 패턴 광이 조사되도록 상기 제2 패턴 광원을 제어하는 제어부
를 더 포함하는 패턴 광 조사 장치.5. The method of claim 4,
Wherein the control unit controls the first pattern light source so that the first pattern light is irradiated to the inspection target when the inspection target is transferred, and after the inspection target irradiated with the first pattern light is photographed by the at least one camera A control unit for controlling the second pattern light source to irradiate the inspection target with the second pattern light,
Further comprising: 검사 장치로서,
검사 대상을 향해 패턴 광을 조사하는 패턴 광 조사 장치;
상기 검사 대상을 이송하는 이송부; 및
상기 패턴 광 조사 장치와 상기 이송부를 제어하는 제어부를 포함하고,
상기 패턴 광 조사 장치는,
복수의 관통홀을 갖는 프레임 - 상기 복수의 관통홀 각각은 유일한 광축을 따라 형성됨 -;
상기 프레임에 고정되어 설치되며, 광이 패턴 격자를 통과함으로써 형성된 고정된 제1 패턴 피치를 갖는 제1 패턴 광을 상기 복수의 관통홀의 제1 집합을 통해 조사하도록 구성된 제1 패턴 광원; 및
상기 프레임에 고정되어 설치되며, 광이 마이크로미러의 배열을 구비한 소자에 반사됨으로써 형성된 제2 패턴 피치를 갖는 제2 패턴 광을 상기 복수의 관통홀의 제2 집합을 통해 조사하도록 구성된 제2 패턴 광원을 포함하며 - 상기 제2 패턴 피치는 상기 배열된 마이크로미러를 조정함으로써 가변됨 - ,
상기 제어부는, 상기 이송부가 상기 검사 대상을 상기 패턴 광 조사 장치 아래의 검사 위치로 이송하고, 상기 패턴 광 조사 장치가 상기 검사 대상을 향해 패턴 광을 조사하도록 제어하고,
상기 프레임은, 제1 서브프레임과 제2 서브프레임을 결합하여 구성되고,
상기 복수의 관통홀의 제1 집합은 상기 제1 서브프레임 및 상기 제2 서브프레임 상에 형성되고, 상기 복수의 관통홀의 제2 집합은 상기 제2 서브프레임 상에 형성되며,
상기 제1 패턴 광원은 상기 제1 서브프레임에 고정되어 설치되고, 상기 제2 패턴 광원은 상기 제2 서브프레임에 고정되어 설치되는,
검사 장치.As an inspection apparatus,
A pattern light irradiating device for irradiating pattern light toward an object to be inspected;
A transfer unit for transferring the inspection object; And
And a control unit for controlling the pattern light irradiating device and the transferring unit,
In the pattern light irradiation device,
A frame having a plurality of through holes, each of the plurality of through holes being formed along a unique optical axis;
A first pattern light source fixed to the frame and configured to irradiate a first pattern light having a fixed first pattern pitch formed by passing light through a pattern grating through a first set of the plurality of through holes; And
A second pattern light source configured to irradiate a second pattern light having a second pattern pitch formed by reflecting light on an element having an array of micromirrors through a second set of the plurality of through holes, Wherein the second pattern pitch is varied by adjusting the arranged micromirrors,
Wherein the control unit controls the transfer unit to transfer the inspection object to an inspection position below the pattern light irradiation apparatus and irradiate the pattern light toward the inspection object,
Wherein the frame is configured by combining a first sub-frame and a second sub-frame,
A first set of the plurality of through-holes is formed on the first sub-frame and a second sub-frame, a second set of the plurality of through-holes is formed on the second sub-frame,
Wherein the first pattern light source is fixedly installed in the first sub frame and the second pattern light source is fixedly installed in the second sub frame,
Inspection device. 제6항에 있어서,
상기 제어부는,
상기 제1 패턴 광원과 상기 제2 패턴 광원이 서로 다른 시점에 패턴 광을 조사하도록 상기 패턴 광 조사 장치를 제어하는,
검사 장치. The method according to claim 6,
Wherein,
And controlling the pattern light irradiating device so that the first pattern light source and the second pattern light source emit pattern light at different times,
Inspection device. 제6항에 있어서,
상기 제1 패턴 피치는, 상기 제2 패턴 피치보다 작도록 설정되는,
검사 장치.The method according to claim 6,
Wherein the first pattern pitch is set to be smaller than the second pattern pitch,
Inspection device. 제6항에 있어서,
상기 프레임에 고정되어 설치되며, 상기 제1 패턴 광 또는 상기 제2 패턴 광이 조사되는 검사 대상을 촬영하도록 구성되는 적어도 하나의 카메라
를 더 포함하고,
상기 제어부는,
상기 이송부에 의해 상기 검사 대상이 이송되면, 상기 검사 대상에 상기 제1 패턴 광이 조사되도록 상기 제1 패턴 광원을 제어하고, 상기 제1 패턴 광이 조사된 상기 검사 대상이 상기 적어도 하나의 카메라에 의해 촬영된 후, 상기 검사 대상에 상기 제2 패턴 광이 조사되도록 상기 제2 패턴 광원을 제어하는, 검사 장치.The method according to claim 6,
At least one camera fixedly mounted on the frame and configured to photograph an inspection object irradiated with the first pattern light or the second pattern light,
Further comprising:
Wherein,
Wherein the control unit controls the first pattern light source to irradiate the inspection target with the first pattern light when the inspection target is transferred by the transfer unit, and the inspection target irradiated with the first pattern light is irradiated to the at least one camera And controls the second pattern light source to irradiate the inspection target with the second pattern light.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN113448158A (en) * 2020-03-28 2021-09-28 苏州佳世达电通有限公司 Support and electronic device using same

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07306162A (en) * 1994-05-13 1995-11-21 Nippon Steel Corp Flaw detecting device
KR19980072996A (en) * 1997-03-10 1998-11-05 김광호 PCB board inspection device and PCB board inspection method
KR101639227B1 (en) * 2015-06-08 2016-07-13 주식회사 고영테크놀러지 Three dimensional shape measurment apparatus

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07306162A (en) * 1994-05-13 1995-11-21 Nippon Steel Corp Flaw detecting device
KR19980072996A (en) * 1997-03-10 1998-11-05 김광호 PCB board inspection device and PCB board inspection method
KR101639227B1 (en) * 2015-06-08 2016-07-13 주식회사 고영테크놀러지 Three dimensional shape measurment apparatus

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN113448158A (en) * 2020-03-28 2021-09-28 苏州佳世达电通有限公司 Support and electronic device using same
CN113448158B (en) * 2020-03-28 2023-08-18 苏州佳世达电通有限公司 Support and electronic device using same

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