KR20180052191A - A Conductive Film and Method for Preparing the Same - Google Patents

A Conductive Film and Method for Preparing the Same Download PDF

Info

Publication number
KR20180052191A
KR20180052191A KR1020160149212A KR20160149212A KR20180052191A KR 20180052191 A KR20180052191 A KR 20180052191A KR 1020160149212 A KR1020160149212 A KR 1020160149212A KR 20160149212 A KR20160149212 A KR 20160149212A KR 20180052191 A KR20180052191 A KR 20180052191A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
conductive
micelle
conductive film
oxide
weight
Prior art date
Application number
KR1020160149212A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR102108564B1 (en
Inventor
권태균
윤영식
박문수
Original Assignee
주식회사 엘지화학
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 주식회사 엘지화학 filed Critical 주식회사 엘지화학
Priority to KR1020160149212A priority Critical patent/KR102108564B1/en
Publication of KR20180052191A publication Critical patent/KR20180052191A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR102108564B1 publication Critical patent/KR102108564B1/en

Links

Images

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B5/00Layered products characterised by the non- homogeneity or physical structure, i.e. comprising a fibrous, filamentary, particulate or foam layer; Layered products characterised by having a layer differing constitutionally or physically in different parts
    • B32B5/16Layered products characterised by the non- homogeneity or physical structure, i.e. comprising a fibrous, filamentary, particulate or foam layer; Layered products characterised by having a layer differing constitutionally or physically in different parts characterised by features of a layer formed of particles, e.g. chips, powder or granules
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B15/00Layered products comprising a layer of metal
    • B32B15/02Layer formed of wires, e.g. mesh
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B15/00Layered products comprising a layer of metal
    • B32B15/16Layered products comprising a layer of metal next to a particulate layer
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B15/00Layered products comprising a layer of metal
    • B32B15/20Layered products comprising a layer of metal comprising aluminium or copper
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01BCABLES; CONDUCTORS; INSULATORS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR CONDUCTIVE, INSULATING OR DIELECTRIC PROPERTIES
    • H01B1/00Conductors or conductive bodies characterised by the conductive materials; Selection of materials as conductors
    • H01B1/02Conductors or conductive bodies characterised by the conductive materials; Selection of materials as conductors mainly consisting of metals or alloys
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2250/00Layers arrangement
    • B32B2250/40Symmetrical or sandwich layers, e.g. ABA, ABCBA, ABCCBA
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2305/00Condition, form or state of the layers or laminate
    • B32B2305/72Cured, e.g. vulcanised, cross-linked
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2307/00Properties of the layers or laminate
    • B32B2307/20Properties of the layers or laminate having particular electrical or magnetic properties, e.g. piezoelectric
    • B32B2307/202Conductive

Landscapes

  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Wood Science & Technology (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Conductive Materials (AREA)

Abstract

The present invention relates to a conductive film and to a manufacturing method thereof. In the present application, since moving particles can be confined by a simple process, the manufacturing process can be simplified and the manufacturing cost can be reduced. In addition, since the qualities of micelles containing conductive particles can be increased for a long time, the durability reliability of products can be improved.

Description

전도성 필름 및 그 제조방법{A Conductive Film and Method for Preparing the Same}BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention [0001] The present invention relates to a conductive film,

본 출원은 전도성 필름 및 그 제조방법에 관한 것이다.The present application relates to a conductive film and a method of manufacturing the same.

전기적으로 구동되는 셀이 하전 입자나 액정 등을 포함하는 경우, 하전된 입자나 액정을 셀 내부의 일정 공간에 가두기 위해 격벽이 사용되고 있다. 이러한 격벽은 기판 상에 마련된 고분자층을 패터닝함으로써 형성되며, 상기 패터닝에는 포토리소그래피(photolithography), 포토리지스트(photoresist) 또는 몰드 프린팅(mold printing) 등이 사용되는 것이 일반적이다. 그러나 상기와 같은 격벽 형성 공정은 제조공정을 복잡하게 하고, 제조비용을 증가시킬뿐 아니라, 공정 중 전극의 손상을 가져오는 문제가 있다.When the electrically driven cell includes charged particles or liquid crystal, a barrier is used to confine the charged particles or liquid crystal in a certain space inside the cell. Such barrier ribs are formed by patterning a polymer layer provided on a substrate, and photolithography, photoresist, or mold printing or the like is generally used for the patterning. However, the above-described process of forming the barrier ribs complicates the fabrication process, increases the manufacturing cost, and causes damage to the electrodes during the process.

한편, 에멀젼(emulsion)은 다양한 분야에서 활용되고 있으나, 분산상인 액적의 분산 안정성을 장시간 유지하는 것이 어렵다는 문제가 있다.On the other hand, although emulsions have been used in various fields, there is a problem that it is difficult to maintain the dispersion stability of droplets as dispersed phases for a long time.

본 출원의 일 목적은 격벽을 형성하지 않고도, 액정이나 하전 입자를 포함하는 전도성 필름을 제공하는 것이다.One object of the present invention is to provide a conductive film containing liquid crystal or charged particles without forming a barrier rib.

본 출원의 다른 목적은, 제조 공정이 단순화되고, 제조비용이 절감된 전도성 필름의 제조방법을 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to provide a method of manufacturing a conductive film in which the manufacturing process is simplified and the manufacturing cost is reduced.

본 출원의 상기 및 기타 그 밖의 목적은 하기 상세히 설명되는 본 출원에 의해 모두 해결될 수 있다.These and other objects of the present application can be resolved entirely by the present application, which is described in detail below.

본 출원에 관한 일례에서, 본 출원은 전도성 필름에 관한 것이다. 상기 전도성 필름은, 전도성 기재 및 상기 전도성 기재 상에 마련되어 하나의 층을 형성하는 복수의 마이셀을 포함할 수 있다. 상기 전도성 기재는 전극 기재일 수 있으며, 상기 마이셀은 전도성 입자를 포함할 수 있다.In one example of this application, the present application relates to a conductive film. The conductive film may include a conductive substrate and a plurality of micelles provided on the conductive substrate to form one layer. The conductive substrate may be an electrode substrate, and the micelle may include conductive particles.

하나의 예시에서, 상기 전도성 기재는 투명 전도성 금속 산화물을 포함하는 전극일 수 있다. 상기 투명 전도성 금속산화물로는 예를 들어, ITO(Indium Tin Oxide), In2O3(indium oxide), IGO(indium galium oxide), FTO(Fluor doped Tin Oxide), AZO(Aluminium doped Zinc Oxide), GZO(Galium doped Zinc Oxide), ATO(Antimony doped Tin Oxide), IZO(Indium doped Zinc Oxide), NTO(Niobium doped Titanium Oxide), ZnO(zink oxide), 또는 CTO (Cesium Tungsten Oxide)가 사용될 수 있다.In one example, the conductive substrate may be an electrode comprising a transparent conductive metal oxide. Examples of the transparent conductive metal oxide include ITO (Indium Tin Oxide), In 2 O 3 (indium oxide), IGO (indium gallium oxide), FTO (fluoro-doped tin oxide), AZO Gallium doped zinc oxide (GZO), antimony doped tin oxide (ATO), indium doped zinc oxide (IZO), niobium doped titanium oxide (NTO), zinc oxide (ZnO), or cesium tungsten oxide (CTO).

또 하나의 예시에서, 상기 전도성 기재는 메탈 메쉬 전극일 수 있다. 메탈 메쉬를 형성하기 위한 금속 재료로는, 예를 들어, 은(Ag), 구리(Cu), 알루미늄(Al), 마그네슘(Mg), 금(Au), 백금(Pt), 텅스텐(W), 몰리브덴(Mo), 티탄(Ti), 니켈(Ni) 또는 이들의 합금이 사용될 수 있다.In another example, the conductive substrate may be a metal mesh electrode. Examples of the metal material for forming the metal mesh include metals such as silver, copper, aluminum, magnesium, gold, platinum, tungsten, Molybdenum (Mo), titanium (Ti), nickel (Ni), or alloys thereof may be used.

또 하나의 예시에서, 상기 전도성 기재는 OMO(oxide/metal/oxide) 전극일 수 있다. 상기 OMO(oxide/metal/oxide) 전극은 2개의 금속 산화물층 사이에 금속층이 개재된 형태를 가질 수 있다. 상기 OMO(oxide/metal/oxide) 전극에 포함되는 금속산화물층에는, 예를 들어, Sb, Ba, Ga, Ge, Hf, In, La, Ma, Se, Si, Ta, Se, Ti, V, Y, Zn 및 Zr로 이루어진 군에서 선택되는 1 이상의 금속 산화물이 사용될 수 있다. 또한, 상기 금속산화물층 사이에 개재되는 금속층의 형성 성분으로는 은(Ag), 구리(Cu), 알루미늄(Al), 마그네슘(Mg), 금(Au), 백금(Pt), 텅스텐(W), 몰리브덴(Mo), 티탄(Ti), 또는 니켈(Ni)이 사용될 수 있으나, 특별히 제한되는 것은 아니다.In another example, the conductive substrate may be an oxide / metal / oxide (OMO) electrode. The OMO (oxide / metal / oxide) electrode may have a metal layer interposed between two metal oxide layers. The metal oxide layer included in the oxide / metal / oxide (OMO) electrode may include, for example, Sb, Ba, Ga, Ge, Hf, In, La, Ma, Se, Si, Ta, Se, Y, Zn, and Zr may be used. The metal layer interposed between the metal oxide layers may contain at least one selected from the group consisting of Ag, Cu, Al, Mg, Au, Pt, , Molybdenum (Mo), titanium (Ti), or nickel (Ni) may be used, but it is not particularly limited.

하나의 예시에서, 상기 전도성 필름은 복수의 전도성 기재를 포함할 수 있다. 이 경우, 상기 복수의 마이셀은 어느 2개의 전도성 기재 사이에 마련되며, 복수의 마이셀이 형성하는 하나의 층을 매개로 전도성 기재 중 적어도 2개의 전도성 기재가 서로 대향하도록 전도성 필름이 구성될 수 있다. 마이셀이 형성하는 층과의 위치 관계에 따라, 서로 대향하는 2개의 전도성 기재는 상부 전도성 기재 또는 하부 전도성 기재로 호칭될 수 있다.In one example, the conductive film may comprise a plurality of conductive substrates. In this case, the plurality of micelles may be provided between any two conductive substrates, and a conductive film may be formed such that at least two conductive substrates of the conductive substrates face each other via one layer formed by the plurality of micelles. Depending on the positional relationship with the layer formed by the micelle, the two conductive bases facing each other may be referred to as an upper conductive base or a lower conductive base.

상기 전도성 기재는 상기 언급된 전극 재료 중 어느 하나와, 가시광에 대한 투과율이 약 50 % 내지 90 % 범위인 투광성 기재의 적층체일 수 있다. 상기 투광성 기재의 종류는 특별히 제한되지 않으며, 예를 들어 투명한 유리 또는 고분자 수지가 투광성 기재로서 사용될 수 있다. 보다 구체적으로, PC(Polycarbonate), PEN(poly(ethylene naphthalate)) 또는 PET(poly(ethylene terephthalate))와 같은 폴리에스테르 필름, PMMA(poly(methyl methacrylate))와 같은 아크릴 필름, 또는 PE(polyethylene) 또는 PP(polypropylene)와 같은 폴리올레핀 필름 등이 사용될 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.The conductive substrate may be a laminate of any one of the above-mentioned electrode materials and a translucent substrate having a transmittance of about 50% to 90% with respect to visible light. The type of the light-transmitting base material is not particularly limited, and for example, transparent glass or polymer resin can be used as the light-transmitting base material. More specifically, a polyester film such as PC (Polycarbonate), PEN (poly (ethylene naphthalate)) or PET (poly terephthalate), an acrylic film such as poly (methyl methacrylate) Or a polyolefin film such as polypropylene (PP), but the present invention is not limited thereto.

상기 마이셀은 양친매성 화합물에 의해 규정될 수 있다. 구체적으로, 상기 마이셀은, 하나의 마이셀을 구성하는 양친매성 화합물의 헤드가 서로 화학적으로 결합되어 있는 형태를 가질 수 있다. 즉, 하기 언급되는 것과 같이, 본 출원의 마이셀은 경화성 관능기를 헤드에 포함하는 양친매성 화합물로부터 형성될 수 있고, 상기 양친매성 화합물의 헤드는 부분 경화 및 완전 경화를 거쳐 서로 화학적으로 결합된 경화물 또는 경화막을 형성할 수 있기 때문에, 상기 마이셀은 최종 제품 내에서도 그 형태를 잃지 않고, 상기 경화물 또는 경화막에 의해 둘러싸인 상태로 정의될 수 있다. The micelle may be defined by an amphipathic compound. Specifically, the micelle may have a form in which heads of amphipathic compounds constituting one micelle are chemically bonded to each other. That is, as mentioned below, the micelles of the present application can be formed from an amphipathic compound comprising a curable functional group in the head, and the head of the amphipathic compound is partially cured and completely cured, Or a cured film, the micelle can be defined as being surrounded by the cured product or the cured film without losing its shape even in the final product.

하나의 예시에서, 마이셀을 형성하는 양친매성 화합물은 아크릴레이트기나 에폭시기와 같은 경화성 관능기를 헤드부분에 포함할 수 있다. 사용 가능한 양친매성 화합물의 종류는 특별히 제한되지 않으며, 하기 언급되는 본 출원의 제조방법 상 특징을 고려하여, 그에 적합한 화합물이 선택 사용될 수 있다.In one example, the amphiphilic compound forming the micelle may include a curable functional group such as an acrylate group or an epoxy group in the head portion. The kind of the amphipathic compound which can be used is not particularly limited, and a compound suitable for the amphipathic compound may be selected in consideration of the characteristics of the manufacturing method of the present invention mentioned below.

상기 마이셀은 적어도 하나의 기재 상에서, 하나의 층을 형성할 수 있다. 본 출원에서, 마이셀에 의해 형성되는 층은 마이셀층(micelle layer)이라고 호칭될 수 있다. 하기 언급되는 제조방법에 따라 제조된 본 출원의 마이셀은, 양친매성 화합물의 헤드에 대한 부분 경화 및 완전 경화 과정을 거쳐 제공되기 때문에 형태 안정성이 우수할 뿐 아니라, 별도의 매트릭스(matrix) 구성 없이도 마이셀 만으로 전도성 기재 상에 하나의 층을 형성할 수 있다.The micelle may form one layer on at least one substrate. In the present application, a layer formed by micelles may be referred to as a micelle layer. The micelles according to the present invention prepared according to the below-described production methods are excellent in morphological stability because they are provided through a partial curing and a complete curing process of an amphipathic compound head, and besides, Only one layer can be formed on the conductive substrate.

상기 마이셀은 액정 또는 전도성 입자를 포함할 수 있다. 하나의 예시에서, 상기 마이셀에 포함되는 전도성 입자는 (-) 또는 (+) 전하를 띠는 하전 입자일 수 있다. 구체적인 전도성 입자의 종류는 특별히 제한되지 않으나, 예를 들어, 카본 블랙(carbon black), 산화철(ferric oxides), 크롬구리(CrCu), 또는 아닐린 블랙(aniline black) 등이 전도성 입자로 사용될 수 있다.The micelle may comprise liquid crystal or conductive particles. In one example, the conductive particles included in the micelle may be charged particles having a (-) or (+) charge. The specific conductive particles are not particularly limited. For example, carbon black, ferric oxides, chromium copper (CrCu), or aniline black may be used as the conductive particles.

하나의 예시에서, 상기 마이셀은 구동 용매를 더 포함할 수 있다. 상기 구동 용매는, 액정 또는 전도성 입자가 독립상 내에서 이동성을 가질 수 있도록 한다. 구체적으로, 상기 구동 용매는 경화성 관능기를 갖지 않는 용매로서, 하기 언급되는 바와 같이 양친매성 화합물의 헤드에 대한 경화가 이루어지더라도 경화되지 않기 때문에, 최종 제품 내에서 전도성 입자의 이동성을 보장할 수 있다. 구동 용매의 종류는 특별히 제한되지 않으며, 하기 언급되는 본 출원의 제조방법을 고려하여 적절히 선택될 수 있다.In one example, the micelle may further include a driving solvent. The driving solvent allows the liquid crystal or conductive particles to have mobility in an independent phase. Specifically, the driving solvent is a solvent which does not have a curable functional group, and therefore, the mobility of the conductive particles in the final product can be ensured because it is not cured even when the amphipathic compound is cured to the head as mentioned below . The type of the driving solvent is not particularly limited and may be suitably selected in consideration of the production method of the present application mentioned below.

하나의 예시에서, 상기 전도성 필름은 전원을 추가로 포함할 수 있다. 상기 전원은 전도성 필름에 대하여 적절한 수준의 전압을 인가하도록 구성될 수 있다. 전원에 의해 인가되는 전압의 크기나, 전도성 필름과 전원 간 전기적 연결방식은 본 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 적절히 선택되어 적용될 수 있다.In one example, the conductive film may further comprise a power source. The power source may be configured to apply a suitable level of voltage to the conductive film. The size of the voltage applied by the power source and the electrical connection between the conductive film and the power source can be suitably selected and applied by a person having ordinary skill in the art.

본 출원에 관한 다른 일례에서, 본 출원은 전도성 필름의 제조방법에 관한 것이다. 상기 전도성 필름의 제조방법은, 양친매성 화합물로부터 형성된 마이셀을 형성하고, 상기 마이셀을 둘러싸는 연속상과 마이셀의 계면, 즉 양친매성 화합물의 헤드를 경화한 뒤, 마이셀 내부로 구동 용매와 액정 또는 전도성 입자를 주입하여 이루어질 수 있다. 상기와 같은 본 출원의 방법은 부분 또는 완전 경화를 통해, 마이셀의 분산 안정성을 보정하므로, 공정 신뢰성과 최종 제품의 내구성을 개선할 수 있다.In another example of this application, the present application relates to a method of making a conductive film. The method for producing a conductive film includes forming a micelle formed from an amphipathic compound, curing the interface between the continuous phase and the micelle surrounding the micelle, that is, the head of the amphipathic compound, Particles can be injected. The method of the present invention as described above corrects the dispersion stability of the micelle through partial or complete curing, thereby improving process reliability and durability of the final product.

구체적으로, 본 출원의 제조방법은, 경화성 관능기를 헤드에 포함하는 양친매성 화합물(a1)로부터 형성된 마이셀(a2)의 헤드를 부분 경화한 후, 액정 또는 전도성 입자(b)를 마이셀 내부로 도입하고, 상기 마이셀의 헤드를 완전 경화하는 단계를 포함할 수 있다. 상기 마이셀은 경화된 표면을 갖기 때문에, 일반적으로 예측되는 마이셀의 분산 안정성 문제, 즉, 시간 경과나 스트로크(stroke) 등에 의한 마이셀 파괴와 같은 문제를 해소할 수 있다.Specifically, in the manufacturing method of the present application, the head of the micelle (a2) formed from the amphipathic compound (a1) containing a curable functional group in the head is partially cured, and then the liquid crystal or the conductive particles (b) , And completely curing the head of the micelle. Since the micelles have a hardened surface, problems such as micellar destruction due to time lapse, stroke, and the like can be solved.

하나의 예시에서, 상기 마이셀(a2)은, 친수성 또는 소수성을 갖는 분산매와 양친매성 화합물을 혼합 및/또는 교반하여 마련될 수 있다. 보다 구체적으로, 분산매(c), 개시제(d), 및 경화성 관능기를 갖는 양친매성 화합물(a1)을 포함하는 제1 조성물을 혼합 및/또는 교반하여 상기 마이셀(a2)을 형성할 수 있다.In one example, the micelle (a2) may be prepared by mixing and / or stirring an amphipathic compound with a hydrophilic or hydrophobic dispersion medium. More specifically, the first composition containing the dispersion medium (c), the initiator (d), and the amphipathic compound (a1) having a curable functional group may be mixed and / or stirred to form the micelle (a2).

하나의 예시에서, 사용 가능한 분산매(c)의 종류는 특별히 제한되지 않으며, 하기 언급되는 바와 같이, 구동 용매와의 불혼화성 정도를 고려하여 선택될 수 있다. 구체적으로, 분산매의 소수성 또는 친수성 여부는 일률적으로 판단되지 않으며, 분산매에 포함되는 관능기의 극성 여부나 화합물 내 탄소 사슬의 길이 등을 종합적으로 고려해서 판단될 수 있다. 특히, 하기 언급되는 바와 같이, 함께 혼합되는 구동 용매(e)와의 관계에서, 분산매(c)의 친수성 또는 소수성 여부가 상대적으로 판단될 수 있다.In one example, the kind of the dispersion medium (c) usable is not particularly limited and can be selected in consideration of the degree of immiscibility with the driving solvent, as described below. Specifically, the hydrophobicity or hydrophilicity of the dispersion medium is not uniformly determined, and it can be judged in consideration of the polarity of the functional group contained in the dispersion medium and the length of the carbon chain in the compound. In particular, as mentioned below, in relation to the driving solvent (e) to be mixed together, the hydrophilicity or hydrophobicity of the dispersion medium (c) can be relatively determined.

상기 개시제의 종류 역시 특별히 제한되지 않으며, 공지된 열 또는 광 개시제가 적절히 선택될 수 있다. 바람직하게는, 분산매와의 혼화성이 우수한 개시제가 사용될 수 있다.The kind of the initiator is also not particularly limited, and known heat or photoinitiator can be appropriately selected. Preferably, an initiator excellent in miscibility with the dispersion medium can be used.

하나의 예시에서, 상기 양친매성 화합물(a1)의 구체적인 종류는 분산매(c)의 성질을 고려하여 선택될 수 있다. 보다 구체적으로, 본 출원에서 상기 양친매성 화합물(a1)의 헤드는 경화성 관능기를 갖기 때문에, 상기 분산매(c)가 친수성을 갖는 경우에는 양친매성 화합물의 친수성 말단 끝에 경화성 관능기가 존재할 수 있고, 상기 분산매(c)가 소수성을 갖는 경우에는 양친매성 화합물의 소수성 말단 끝에 경화성 관능기가 존재할 수 있다. In one example, the specific kind of the amphipathic compound (a1) can be selected in consideration of the properties of the dispersion medium (c). More specifically, in the present application, since the head of the amphipathic compound (a1) has a curable functional group, when the dispersion medium (c) has hydrophilicity, a curable functional group may be present at the hydrophilic end of the amphipathic compound, (c) is hydrophobic, a curable functional group may be present at the hydrophobic end of the amphipathic compound.

상기 양친매성 화합물은 아크릴레이트기 또는 에폭시기를 경화성 관능기로서 포함하는 화합물일 수 있다. 예를 들어, 물, 또는 물과 혼화성이나 친화성이 우수한 물질이 분산매(c)로서 선택된 경우, 아크릴레이트기를 갖는 양친매성 화합물(a1)로는 트리메틸로프로판 트리아크릴레이트(trimethylpropane triacrylate), 트리메틸올프로판트리아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리아크릴레이트, 펜타에리트리톨테트라아크릴레이트, 디펜타에리트리톨모노히드록시펜타아크릴레이트, 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트, 1,4-부틸렌글리콜디아크릴레이트, 1,6-헥산디올디아크릴레이트 또는 폴리에틸렌글리콜디아크릴레이트 등이 사용될 수 있다.The amphipathic compound may be a compound containing an acrylate group or an epoxy group as a curable functional group. For example, when water or a substance having excellent compatibility or compatibility with water is selected as the dispersion medium (c), examples of the amphipathic compound (a1) having an acrylate group include trimethylpropane triacrylate, trimethylolpropane triacrylate, Propane triacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol monohydroxypentaacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, 1,4-butylene glycol diacrylate, 1 , 6-hexanediol diacrylate or polyethylene glycol diacrylate, and the like can be used.

하나의 예시에서, 제1 조성물은, 분산매(c) 100 중량부 대비, 개시제(d) 0.01 내지 5 중량부, 및 경화성 관능기를 포함하는 양친매성 화합물(a1) 0.5 내지 25 중량부를 포함할 수 있다.In one example, the first composition may comprise from 0.01 to 5 parts by weight of initiator (d), and from 0.5 to 25 parts by weight of amphipathic compound (a1) comprising a curable functional group, relative to 100 parts by weight of the dispersion medium (c) .

마이셀(a2) 형성 후, 분산매와 마이셀의 계면, 즉 경화성 관능기를 갖는 양친매성 화합물(a1)의 헤드에 대한 부분 경화가 이루어질 수 있다. 상기 부분 경화는, 마이셀의 형상을 유지시킴과 동시에, 하기 언급되는 바와 같이 전도성 입자가 마이셀 내부로 도입될 수 있도록 준비하는 단계이다. 본 출원에서, 마이셀의 헤드에 대한 부분 경화 및 완전 경화는, 분산매와 불용성 또는 불혼화성인 용매에 대하여 마이셀이 가용성(soluble)을 갖는 지에 따라 구별될 수 있다. 구체적으로, 헤드가 경화된 마이셀을, 마이셀에 대하여 연속상인 분산매와 불용성인 용매에 혼합하였을 때, 마이셀이 전혀 녹지 않는 경우에는 그 헤드가 완전 경화된 것으로 판단할 수 있다. 반대로, 마이셀이 어느 정도 녹는 경우에는 그 헤드가 부분 경화된 것으로 판단할 수 있다.After the formation of the micelle (a2), the partial curing of the amphiphilic compound (a1) having the curing functional group at the interface between the dispersion medium and the micelle can be performed. The partial curing is a step of maintaining the shape of the micelle and preparing the conductive particles to be introduced into the micelle as described below. In this application, partial curing and full curing of the head of the micelle can be distinguished by whether the micelle is soluble in the dispersion medium and in the insoluble or immiscible solvent. Specifically, when the micelle in which the head is cured is mixed with the dispersion medium which is a continuous phase with respect to the micelle and the insoluble solvent, it can be judged that the head is completely cured when the micelle is not completely dissolved. Conversely, when the micelle melts to some extent, it can be judged that the head is partially hardened.

하나의 예시에서, 부분경화는 교반, 열 조사 또는 광 조사 중 어느 하나에 의해 이루어질 수 있다. In one example, the partial curing may be accomplished by either stirring, heat irradiation or light irradiation.

교반에 의한 부분 경화 방식은 특별히 제한되지 않으나, 예를 들어 80 ℃ 이하의 온도에서 3 시간 이하, 바람직하게는 1시간 이하의 시간 동안 교반을 통해 이루어질 수 있다. 상기 부분 경화는, 양친매성 화합물 간의 수소 결합을 통해 이루어질 수 있다. 이 경우, 제1 조성물은 물 또는 DMSO(dimethyl sulfoxide) 등을 더 포함할 수 있다.The method of partial curing by stirring is not particularly limited, but can be performed, for example, by stirring at a temperature of 80 DEG C or less for 3 hours or less, preferably 1 hour or less. The partial cure may be achieved through hydrogen bonding between the amphipathic compounds. In this case, the first composition may further comprise water or dimethyl sulfoxide (DMSO).

열 조사에 의한 부분 경화 방식은 특별히 제한되지 않으나, 예를 들어, 80 ℃ 내지 160 ℃ 범위, 바람직하게는 110 ℃ 이하의 온도에서 이루어질 수 있다. 열 경화는 양친매성 화합물이 에폭시기를 갖는 경우 적용될 수 있다.The partial curing system by heat irradiation is not particularly limited, but can be performed at a temperature of, for example, 80 to 160 ° C, preferably 110 ° C or less. Thermal curing can be applied when the amphipathic compound has an epoxy group.

광 조사에 의한 부분 경화 방식은 특별히 제한되지 않으나, 예를 들어, 550 mJ/m2 이하, 또는 500 mJ/m2 이하의 UV 광을 조사하여 이루어질 수 있다. 광 경화는 양친매성 화합물이 아크릴레이트기를 갖는 경우 적용될 수 있다..The partial curing system by light irradiation is not particularly limited, but can be performed by irradiating UV light of 550 mJ / m 2 or less, or 500 mJ / m 2 or less, for example. Photocuring can be applied when the amphiphilic compound has an acrylate group.

하나의 예시에서, 마이셀 내부로의 액정 또는 전도성 입자(b) 도입은, 불혼화성인 2개의 조성물을 혼합하여 이루어질 수 있다. 구체적으로, 액정 또는 전도성 입자(b), 및 상기 분산매(c)와 불혼화성(immiscible)인 구동 용매(e)를 포함하는 제2 조성물을, 상기 제1 조성물과 혼합 및/또는 교반하는 방법을 통해, 마이셀 내부로 액정 또는 전도성 입자(b)를 도입할 수 있다.In one example, introduction of the liquid crystal or conductive particles (b) into the micelle can be achieved by mixing two compositions that are immiscible. Specifically, a method for mixing and / or stirring a second composition comprising liquid crystal or conductive particles (b) and a driving solvent (e) which is immiscible with the dispersion medium (c) , Liquid crystal or conductive particles (b) can be introduced into the micelle.

전도성 입자(b)의 경우, 상기 설명된 내용의 전도성 입자와 그 구성이나 특징이 동일하다.In the case of the conductive particles (b), the constitution or characteristics are the same as those of the conductive particles described above.

마이셀 내부에서, 액정 또는 전도성 입자(b)의 이동성을 보장하는 구동 용매(e)의 경우, 상기 경화성 관능기를 갖는 분산매(c)와 불혼화성(immiscible)을 가질 수 있다. 본 출원에서 「불혼화성(immiscible)」이란 통상의 에멀젼(emulsion) 방식이나 마이셀 형성 방식에서 사용되는 것과 같이, 혼합된 물질 간의 상대적인 성질을 의미하는 것으로 이해될 수 있다. 예를 들어, 2 이상의 용매를 단순 혼합하는 경우, 서로 섞이지 않고 상분리가 일어난다면 이들 용매는 불혼화성이라고 할 수 있다. 특별히 제한되지 않으나, 예를 들어, 상기 분산매(c)가 물이거나 또는 에틸아세테이트 등과 같은 친수성 용매와 상분리되지 않고 혼합되는 성질을 갖는 경우, 상기 구동 용매(e)는 메틸렌 클로라이드(methylene chloride, MC), 노말헥산(n-hexane), 이소파라핀(isoparaffin) 또는 톨루엔(toluene) 등과 같은 소수성 용매 중에서 선택될 수 있다. 반대로, 상기 분산매(c)가 소수성 용매와 상분리되지 않고 혼합되는 성질을 갖는 경우에는, 상기 구동 용매(e)로는 친수성을 갖는 용매가 선택될 수 있다.In the case of the driving solvent (e) for ensuring the mobility of the liquid crystal or the conductive particles (b) in the micelle, it may be immiscible with the dispersion medium (c) having the curable functional group. The term " immiscible " in the present application can be understood to mean a relative property between the mixed materials, such as that used in a conventional emulsion system or a micelle formation system. For example, in the case of simple mixing of two or more solvents, these solvents may be said to be immiscible if phase separation occurs without mixing with each other. The solvent (e) may be methylene chloride (MC), for example, when the dispersion medium (c) is water or mixed with a hydrophilic solvent such as ethyl acetate without phase separation, , N-hexane, isoparaffin or toluene, and the like. Conversely, when the dispersion medium (c) has a property of being mixed with the hydrophobic solvent without phase separation, a solvent having hydrophilicity may be selected as the driving solvent (e).

하나의 예시에서, 상기 제2 조성물은 상기 경화성 관능기를 갖는 분산매(c)와 불혼화성(immiscible)인 구동 용매(e) 100 중량부 대비, 전도성 입자(b) 0.1 내지 15 중량부를 포함할 수 있다.In one example, the second composition may comprise 0.1 to 15 parts by weight of the conductive particles (b) relative to 100 parts by weight of the driving solvent (e) which is immiscible with the dispersion medium (c) having the curable functional group .

하나의 예시에서, 상기 제1 조성물 100 중량부 대비 상기 제2 조성물 1 내지 50 중량부가 혼합될 수 있다. 상기 제1 및 제2 조성물을 교반 및/또는 혼합하기 위한 방식은 특별히 제한되지 않으며, 예를 들어 공지된 균질기(homogenizer)를 사용하여 이루어질 수 있다.In one example, 1 to 50 parts by weight of the second composition may be mixed with 100 parts by weight of the first composition. The method for stirring and / or mixing the first and second compositions is not particularly limited and may be performed using, for example, a known homogenizer.

액정 또는 전도성 입자를 마이셀 내부로 도입한 이후, 경화성 관능기를 갖는 양친매성 화합물(a1)의 헤드에 대한 완전 경화가 이루어질 수 있다. 상기 완전 경화는, 마이셀의 형상을 최종적으로 확정하여, 독립상인 마이셀을 규정하는 단계이다. 완전 경화를 통해 전도성 입자가 마이셀 내부에 갇히기 때문에, 상기 전도성 입자가 전압 극성에 따라 이동하는 경우에도 전극에 흡착되지 않을 수 있게 한다. 따라서, 본 출원은 전도성 입자의 전극 흡착에 따른 제품의 내구성 저하를 방지할 수 있다.After the liquid crystal or conductive particles are introduced into the micelles, complete curing of the amphiphilic compound (a1) having a curable functional group to the head can be performed. The complete curing is a step of finalizing the shape of the micelle to define the micelle as an independent phase. Since the conductive particles are trapped in the micelles through full curing, they can not be adsorbed to the electrodes even when the conductive particles move according to the voltage polarity. Therefore, the present application can prevent the durability of the product from deteriorating due to the electrode adsorption of the conductive particles.

완전 경화의 방식은 특별히 제한되지 않으나, 예를 들어, 상기 부분 경화가 이루어지는 조건 보다 더 장시간의 교반이나, 더 강한 열 또는 광의 조사에 의해 이루어질 수 있다. 예를 들어, 교반에 의한 완전 경화의 경우 교반 시간이 2시간 내지 6시간 동안 이루어지거나, 열 조사에 의한 완전 경화의 경우 140 ℃ 이상의 열이 가해질 수 있고, 광 조사에 의한 완전 경화의 경우에는 550 mJ/m2 내지 2500 mJ/m2 범위의 UV광을 조사하여 이루어질 수 있다.The method of full curing is not particularly limited, but can be accomplished by stirring for a longer time or by irradiation of stronger heat or light than the condition in which the partial curing is performed, for example. For example, in the case of full curing by stirring, the stirring time may be from 2 hours to 6 hours, or in the case of full curing by heat irradiation, heat of 140 ° C or more may be applied, and in the case of full curing by light irradiation, mJ / m can be achieved by irradiating the UV light for 2 to 2500 mJ / m 2 range.

상기와 같이 마이셀의 헤드를 완전 경화한 후, 본 출원의 방법은 상기 제1 조성물과 제2 조성물의 혼합물을 하부 전도성 기재 상에 도포하여, 헤드가 완전 경화된 복수의 마이셀을 하부 전도성 기재 상에 위치시키는 단계를 더 포함할 수 있다.After the head of the micelle is completely cured as described above, the method of the present application applies a mixture of the first composition and the second composition onto the lower conductive substrate to form a plurality of completely hardened micelles on the lower conductive substrate The method comprising:

전도성 기재의 구성이나 특징은 상기 언급한 바와 동일하며, 상기 전도성 기재는 마이셀층과의 상대적인 위치 관계에 따라 상부 또는 하부 전도성 기재로 호칭될 수 있다.The constitution and characteristics of the conductive substrate are the same as those mentioned above, and the conductive substrate may be referred to as an upper or lower conductive substrate depending on the relative positional relationship with the micelle layer.

하나의 예시에서, 본 출원의 제조방법은, 하부 전도성 기재 상에 마이셀을 위치시킨 후, 건조를 수행할 수 있다. 상기 건조는, 헤드가 완전 경화된 복수의 마이셀이 전도성 기재 상에서 밀집(dense) 또는 패킹(packing)되어 균일한 하나의 층을 형성할 수 있게 한다. 건조의 조건은 특별히 제한되지 않으며, 예를 들어, 18 ℃ 내지 28 ℃ 사이의 상온에서 일정시간 보관하거나, 30 ℃ 내지 100 ℃ 범위의 가온 또는 열풍 조건에서 이루어질 수 있다.In one example, the method of manufacture of the present application is capable of placing the micelle on the underlying conductive substrate, followed by drying. The drying allows the plurality of micelles with the heads to be fully cured to be dense or packed on the conductive substrate to form a single uniform layer. The drying condition is not particularly limited, and may be, for example, stored at a room temperature between 18 ° C and 28 ° C for a certain period of time, or at a temperature of 30 ° C to 100 ° C or under a hot air condition.

하나의 예시에서, 본 출원의 제조방법은, 2개의 전도성 기재 사이에 마이셀층이 위치되도록, 또 하나의 전도성 기재를 마이셀층의 일면에 마련할 수 있다. 상기 전도성 기재와 마이셀층이 접합하는 방식은 특별히 제한되지 않으며, 예를 들어 별도의 점착층을 사용하거나, 통상의 라미네이션 방법을 사용하여 이루어질 수 있다.In one example, the manufacturing method of the present application may provide another conductive substrate on one side of the micelle layer such that the micelle layer is located between the two conductive substrates. The manner in which the conductive substrate and the micelle layer are bonded is not particularly limited and may be performed using a separate adhesive layer or by a conventional lamination method.

상기와 같은 전도성 필름은 투과도 가변소자 또는 전자종이 등에 사용될 수 있다. 예를 들어, 상기 전도성 필름은, 인가되는 전압의 극성에 따라 이동가능한 전도성 입자, 또는 배열이 바뀌는 액정을 포함하기 때문에 소정의 투과도 변화를 갖거나, 전도성 입자의 움직임에 의해 소정의 형상을 구현할 수 있다.The conductive film may be used for a variable transmittance element or an electronic paper. For example, since the conductive film includes conductive particles that can be moved according to the polarity of a voltage to be applied, or a liquid crystal in which the arrangement is changed, the conductive film may have a predetermined transmittance change or may be formed into a predetermined shape by the movement of the conductive particles. have.

본 출원은, 격벽 형성 없이 전도성 입자나 액정을 포함하는 구동성 용액을 셀 내에 가둘 수 있기 때문에, 제조 공정을 단순화시키고, 제조비용을 절감하는 발명의 효과를 갖는다. 또한, 본 출원의 제조방법은 마이셀의 표면을 부분 경화 및 완전 경화시키는 공정을 취하기 때문에, 전도성 입자를 포함하는 마이셀의 장시간 분산 안정성에 대한 우려를 해소할 수 있고, 별도의 매트릭스 없이도 복수의 마이셀이 밀집 또는 패킹되어 형성한 하나의 층을 제공할 수 있다. 나아가, 전도성 입자가 마이셀 내부에 포함되기 때문에, 액정이나 전도성 입자가 전극에 흡착되면서 나타나는 내구성 저하 문제도 개선할 수 있다.The present application has the effect of simplifying the manufacturing process and reducing the manufacturing cost because the driving liquid including the conductive particles and the liquid crystal can be confined in the cell without forming barrier ribs. In addition, since the manufacturing method of the present application takes the step of partially curing and completely curing the surface of the micelle, it is possible to solve the concern about the long-term dispersion stability of the micelle containing the conductive particles, It is possible to provide one layer formed by densification or packing. Furthermore, since the conductive particles are contained in the micelles, the problem of durability deterioration caused by adsorption of the liquid crystal or conductive particles to the electrodes can be also improved.

도 1은, 본 출원의 제조방법을 개략적으로 도시한 것이다.
도 2는, 본 출원의 제조방법에 따라, 마이셀 내부로 전도성 입자가 침투한 것을 촬영한 이미지이다.
도 3은, 본 출원의 제조방법에 따라 제조된 전도성 필름을 촬영한 이미지이다.
1 schematically shows a manufacturing method of the present application.
Fig. 2 is an image of the penetration of conductive particles into the micelle according to the manufacturing method of the present application. Fig.
3 is an image of a conductive film produced according to the manufacturing method of the present application.

이하, 실시예를 통해 본 출원을 상세히 설명한다. 그러나, 본 출원의 보호범위가 하기 설명되는 실시예에 의해 제한되는 것은 아니다.Hereinafter, the present application will be described in detail by way of examples. However, the scope of protection of the present application is not limited by the embodiments described below.

실시예Example

물, TMPTA(trimethylolpropante triacrylrate, Sigma-Aldrich), 및 친수성 개시제(Irgacure 2959)가 10 : 2 : 0.05 의 함량(중량)비로 혼합된 제1 조성물을 교반하여 마이셀을 형성하였다. 상기 마이셀 함유 조성물에 약 500 mj/m2의 UV를 조사하여, TMPTA의 마이셀 표면을 부분 경화시켰다.Water, TMPTA (trimethylolpropane triacrylate, Sigma-Aldrich), and a hydrophilic initiator (Irgacure 2959) were mixed in a weight ratio of 10: 2: 0.05 to prepare micelles. The micelle-containing composition was irradiated with UV of about 500 mj / m 2 to partially cure the micelle surface of TMPTA.

이후, 표면이 (-)로 하전된 카본블랙 입자와 소수성 용매(isoparaffin G)가 0.1 : 10의 함량(중량)비로 혼합된 제2 조성물을, 상기 제1 조성물과 혼합하여, 상기 카본 블랙 입자를 그 표면이 부분 경화된 마이셀의 내부로 주입되도록 하였다. 2시간 동안 교반하면서 부분 경화된 마이셀 내부로 입자 용액이 침투한 것을 현미경을 통해 확인하고(도 2), 추가적으로 2,000 mj/m2의 UV를 조사하여 마이셀의 표면을 완전 경화시켰다. Thereafter, a second composition in which carbon black particles whose surfaces are negatively charged and a hydrophobic solvent (isoparaffin G) are mixed in a ratio (weight) of 0.1: 10 are mixed with the first composition to form carbon black particles And the surface thereof was injected into the partially cured micelles. The penetration of the particle solution into the partially cured micelles was confirmed by a microscope (FIG. 2) while stirring for 2 hours, and the surface of the micelles was completely cured by further irradiating with UV of 2,000 mJ / m 2 .

마이셀 표면에 대한 완전 경화 이후, 상기 제1 및 제2 조성물의 혼합물을 바코팅 방식으로 PET/ITO 기재 상에 도포하고, 70 ℃ 오븐 내에서 10분간 건조하여 전도성 기재 상에, 복수의 마이셀을 포함하는 층을 형성하였다.After full curing on the micelle surface, the mixture of the first and second compositions was coated on PET / ITO And dried in an oven at 70 캜 for 10 minutes to form a layer containing a plurality of micelles on the conductive substrate.

이후 상기 마이셀 포함 층 상에 메탈메쉬를 합착하여 전도성 필름을 제조하였다. 최종 전도성 필름의 모습은 도 3과 같다.Then, a metal mesh was adhered onto the micelle containing layer to prepare a conductive film. The final conductive film is shown in Fig.

Claims (22)

하부 전도성 기재; 및 상기 하부 전도성 기재 상에 마련되어 하나의 층을 형성하고, 액정 또는 전도성 입자를 함유하는 복수의 마이셀;을 포함하는 전도성 필름.
A bottom conductive substrate; And a plurality of micelles provided on the lower conductive substrate to form one layer and containing liquid crystal or conductive particles.
제1항에 있어서, 상기 마이셀에 포함된 양친매성 화합물의 헤드는 서로 화학적으로 결합되어 있는 전도성 필름
The method of claim 1, wherein the head of the amphipathic compound contained in the micelle is a conductive film
제2항에 있어서, 하부 전도성 기재와 대향하도록 마련되는 상부 전도성 기재를 더 포함하는 전도성 필름.
3. The conductive film of claim 2, further comprising an upper conductive substrate disposed to face the lower conductive substrate.
제3항에 있어서, 상부 및 하부 전도성 기재는 투명 전도성 금속 산화물을 포함하고, 상기 투명 전도성 금속 산화물은 ITO(Indium Tin Oxide), In2O3(indium oxide), IGO(indium galium oxide), FTO(Fluor doped Tin Oxide), AZO(Aluminium doped Zinc Oxide), GZO(Galium doped Zinc Oxide), ATO(Antimony doped Tin Oxide), IZO(Indium doped Zinc Oxide), NTO(Niobium doped Titanium Oxide), ZnO(zink oxide), 또는 CTO (Cesium Tungsten Oxide) 중 어느 하나인 전도성 필름.
The method of claim 3 wherein the upper and lower conductive substrate comprises a transparent conductive metal oxide, wherein the transparent conductive metal oxide is ITO (Indium Tin Oxide), In 2 O 3 (indium oxide), IGO (indium galium oxide), FTO (Fluoropod Tin Oxide), AZO (Aluminum Doped Zinc Oxide), GZO (Galium Doped Zinc Oxide), ATO (Antimony Doped Tin Oxide), IZO (Indium Doped Zinc Oxide), NTO (Niobium doped Titanium Oxide) oxide, or CTO (Cesium Tungsten Oxide).
제3항에 있어서, 상부 및 하부 전도성 기재는 은(Ag), 구리(Cu), 알루미늄(Al), 마그네슘(Mg), 금(Au), 백금(Pt), 텅스텐(W), 몰리브덴(Mo), 티탄(Ti), 니켈(Ni) 또는 이들의 합금 중에서 선택된 금속성분을 포함하는 메탈메쉬인 전도성 필름.
The method of claim 3, wherein the upper and lower conductive substrates are formed of a material selected from the group consisting of Ag, Cu, Al, Mg, Au, Pt, W, ), Titanium (Ti), nickel (Ni), or an alloy thereof.
제5항에 있어서, 상기 상부 및 하부 전도성 기재는 2개의 금속 산화물층 사이에 금속층이 개재된 OMO(oxide/metal/oxide) 전극인 전도성 필름.
6. The conductive film of claim 5, wherein the upper and lower conductive substrates are OMO (oxide / metal / oxide) electrodes having a metal layer interposed between two metal oxide layers.
제6항에 있어서, 상기 금속산화물층은 Sb, Ba, Ga, Ge, Hf, In, La, Ma, Se, Si, Ta, Se, Ti, V, Y, Zn 및 Zr로 이루어진 군에서 선택되는 1 이상의 금속 산화물을 포함하는 전도성 필름.
7. The method of claim 6, wherein the metal oxide layer is selected from the group consisting of Sb, Ba, Ga, Ge, Hf, In, La, Ma, Se, Si, Ta, Se, Ti, V, Y, A conductive film comprising at least one metal oxide.
제7항에 있어서, 상기 금속층은 은(Ag), 구리(Cu), 알루미늄(Al), 마그네슘(Mg), 금(Au), 백금(Pt), 텅스텐(W), 몰리브덴(Mo), 티탄(Ti), 니켈(Ni)을 포함하는 전도성 필름.
The method of claim 7, wherein the metal layer is formed of a metal selected from the group consisting of Ag, Cu, Al, Mg, Au, Pt, W, Mo, (Ti), and nickel (Ni).
제1항에 있어서, 상기 전도성 입자는 (-) 또는 (+) 전하를 띠는 하전 입자이고, 상기 하전 입자는 카본 블랙(carbon black), 산화철(ferric oxides), 크롬구리(CrCu), 또는 아닐린 블랙(aniline black)인 전도성 필름.
The method of claim 1, wherein the conductive particles are charged particles having a negative (-) or positive (+) charge, and the charged particles include carbon black, ferric oxides, chromium copper (CrCu) Conductive film in black (aniline black).
제1항에 있어서, 상기 마이셀은 구동 용액을 더 포함하고, 상기 전도성 입자는 마이셀 내에서 이동 가능한 전도성 필름.
The conductive film of claim 1, wherein the micelle further comprises a driving solution, and the conductive particles are movable in a micelle.
경화성 관능기를 헤드에 포함하는 양친매성 화합물(a1)로부터 형성된 마이셀(a2)의 헤드를 부분 경화한 후, 액정 또는 전도성 입자(b)를 마이셀 내부로 도입하고, 상기 마이셀의 헤드를 완전 경화하는 단계;
를 포함하는 전도성 필름의 제조방법.
Curing the head of the micelle (a2) formed from the amphiphilic compound (a1) containing a curable functional group in the head, introducing liquid crystal or conductive particles (b) into the micelle, and completely curing the head of the micelle ;
≪ / RTI >
제11항에 있어서, 상기 마이셀(a2)은,
친수성 또는 소수성의 분산매(c), 개시제(d), 및 경화성 관능기를 갖는 양친매성 화합물(a1)을 포함하는 제1 조성물을 혼합하여 마련되는 전도성 필름의 제조방법.
12. The method of claim 11, wherein the micelle (a2)
A method for producing a conductive film, which comprises preparing a first composition comprising a hydrophilic or hydrophobic dispersion medium (c), an initiator (d), and an amphipathic compound (a1) having a curable functional group.
제12항에 있어서, 상기 제1 조성물은, 상기 친수성 또는 소수성의 분산매(c) 100 중량부 대비, 개시제(d) 0.01 내지 5 중량부, 및 경화성 관능기를 갖는 양친매성 화합물(a1) 0.5 내지 25 중량부를 포함하는 전도성 필름의 제조방법.
The composition according to claim 12, wherein the first composition comprises 0.01 to 5 parts by weight of the initiator (d) and 0.5 to 25 parts by weight of the amphipathic compound (a1) having a curable functional group, relative to 100 parts by weight of the hydrophilic or hydrophobic dispersion medium (c) By weight based on the total weight of the conductive film.
제11항에 있어서, 마이셀 내부로의 전도성 입자(b) 도입은,
액정 또는 전도성 입자(b), 및 상기 친수성 또는 소수성의 분산매(c)와 불혼화성(immiscible)인 구동 용매(e)를 포함하는 제2 조성물을, 상기 제1 조성물과 혼합하여 이루어지는 전도성 필름의 제조방법.
12. The method of claim 11, wherein introduction of the conductive particles (b)
A second composition comprising a liquid crystal or conductive particles (b) and a driving solvent (e) immiscible with the hydrophilic or hydrophobic dispersion medium (c) is mixed with the first composition to prepare a conductive film Way.
제14항에 있어서, 상기 제2 조성물은, 상기 구동 용매(e) 100 중량부 대비 상기 액정 또는 전도성 입자(b) 0.1 내지 15 중량부를 포함하는 전도성 필름의 제조방법.
15. The method of producing a conductive film according to claim 14, wherein the second composition comprises 0.1 to 15 parts by weight of the liquid crystal or conductive particles (b) relative to 100 parts by weight of the driving solvent (e).
제14항에 있어서, 상기 제1 조성물 100 중량부 대비 상기 제2 조성물 1 내지 50 중량부를 혼합하는 전도성 필름의 제조방법.
15. The method of claim 14, wherein 1 to 50 parts by weight of the second composition is mixed with 100 parts by weight of the first composition.
제11항에 있어서, 상기 양친매성 화합물(a1)은 경화성 관능기로서 아크릴레이트기 또는 에폭시기를 갖는 전도성 필름의 제조방법.
The method for producing a conductive film according to claim 11, wherein the amphipathic compound (a1) has an acrylate group or an epoxy group as a curable functional group.
제17항에 있어서, 상기 부분 경화는 교반, 열 조사 또는 광 조사 중 어느 하나에 의해 이루어지는 전도성 필름의 제조방법.
18. The method of producing a conductive film according to claim 17, wherein the partial curing is carried out by stirring, heat irradiation or light irradiation.
제17항에 있어서, 상기 완전 경화는 교반, 열 조사 또는 광 조사 중 어느 하나에 의해 이루어지는 전도성 필름의 제조방법.
18. The method of producing a conductive film according to claim 17, wherein the complete curing is performed by stirring, heat irradiation or light irradiation.
제14항에 있어서, 마이셀의 헤드를 완전 경화한 후, 서로 혼합된 상기 제1 및 제2 조성물을 하부 전도성 기재 상에 도포하여 헤드가 완전 경화된 마이셀을 하부 전도성 기재 상에 위치시키는 단계;
를 더 포함하는 전도성 필름의 제조방법.
15. The method of claim 14, further comprising: after fully curing the head of the micelle, applying the first and second compositions mixed with each other onto the underlying conductive substrate to position the fully hardened micelle on the underlying conductive substrate;
≪ / RTI >
제20항에 있어서, 하부 전도성 기재 상에 마이셀을 위치시킨 후, 건조를 수행하는 전도성 필름의 제조방법.
21. The method of producing a conductive film according to claim 20, wherein the micelles are placed on the lower conductive substrate, followed by drying.
제20항에 있어서, 하부 전도성 기재와 대향하도록, 상부 전도성 기재를 마이셀이 형성하는 층 상에 마련하는 단계;
를 더 포함하는 전도성 필름의 제조방법.
21. The method of claim 20, further comprising: providing an upper conductive substrate on a layer of micelles to form a lower conductive substrate opposite the lower conductive substrate;
≪ / RTI >
KR1020160149212A 2016-11-10 2016-11-10 A Conductive Film and Method for Preparing the Same KR102108564B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020160149212A KR102108564B1 (en) 2016-11-10 2016-11-10 A Conductive Film and Method for Preparing the Same

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020160149212A KR102108564B1 (en) 2016-11-10 2016-11-10 A Conductive Film and Method for Preparing the Same

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20180052191A true KR20180052191A (en) 2018-05-18
KR102108564B1 KR102108564B1 (en) 2020-05-08

Family

ID=62453721

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020160149212A KR102108564B1 (en) 2016-11-10 2016-11-10 A Conductive Film and Method for Preparing the Same

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR102108564B1 (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN117832301A (en) * 2024-03-05 2024-04-05 金阳(泉州)新能源科技有限公司 Back contact battery string, manufacturing method thereof and photovoltaic module

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004004770A (en) * 1996-10-25 2004-01-08 Massachusetts Inst Of Technol <Mit> Non radiative display device and supply of piezoelectric power for the device
KR20110085299A (en) * 2010-01-20 2011-07-27 한국기계연구원 A thermoelectric nano composition powder and method for fabricating thereof
KR20150078169A (en) * 2013-12-30 2015-07-08 엘지디스플레이 주식회사 Touch screen panel and manufacturing method thereof

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004004770A (en) * 1996-10-25 2004-01-08 Massachusetts Inst Of Technol <Mit> Non radiative display device and supply of piezoelectric power for the device
KR20110085299A (en) * 2010-01-20 2011-07-27 한국기계연구원 A thermoelectric nano composition powder and method for fabricating thereof
KR20150078169A (en) * 2013-12-30 2015-07-08 엘지디스플레이 주식회사 Touch screen panel and manufacturing method thereof

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN117832301A (en) * 2024-03-05 2024-04-05 金阳(泉州)新能源科技有限公司 Back contact battery string, manufacturing method thereof and photovoltaic module

Also Published As

Publication number Publication date
KR102108564B1 (en) 2020-05-08

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6697062B2 (en) Piezoelectric display device
CN1196020C (en) Improved electrophoretic display with internal panel switching
CN1237140C (en) Components for sealing mini-cup in mfg. of roller-to-roller display device and method thereof
CN1174281C (en) Improved electrophoretic display and novel manufacture method thereof
CN104169316B (en) Polymerizable composition, polymerizable composition, polymerizate, stick together plate, the manufacture method of image display device and image display device
CN1407386A (en) Improved electrophoretic display device and its manufacture
JP2005509690A5 (en)
CN1466013A (en) Improved electrophoretic display and novel process for its mfg.
CN103443699B (en) The manufacture method of electro phoretic display device
KR102108564B1 (en) A Conductive Film and Method for Preparing the Same
TWI457410B (en) Electrophoretic slurry composition and electrophoretic display device comprising the same
EP1636642A1 (en) Electrophoretic display device and method for manufacturing such a device
US11117349B2 (en) Conductive film, and method for preparing the same
EP3511771B1 (en) Smart window with transmittance-variable device
KR101430697B1 (en) Electrophoresis particle, preparation method of electrophoresis particle, and electrophoresis display device
US11619854B2 (en) Film having variable transmittance
TWI539186B (en) Uv resin, concave lens formed by the uv resin, interchangeable lens having the concave lens and fabricating method thereof, and three dimensional display having the interchangeable lens and fabricating method thereof
JP2654490B2 (en) Paste for forming light emitting layer and insulator layer of dispersion type EL element and EL element using the paste
KR20150123530A (en) Electrophoresis slurry compostion and preparation method of electrophoresis display device
KR102101145B1 (en) Method for preparing a conductive film
KR101956850B1 (en) Electrophoretic particle and electrophoretic display device using the same
JP2023126428A (en) Electro-optic media including oppositely charged particles, and variable transmission device incorporating the same
JP2021502610A (en) Black partition pattern film and its manufacturing method
JP2012226053A (en) Backside electrode substrate for electronic paper, and electronic paper
JP2008241851A (en) Method of manufacturing charged particle, charged particle, and electrophotoresis display panel

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right