KR102101145B1 - Method for preparing a conductive film - Google Patents

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Abstract

본 출원은 전도성 필름에 관한 것이다. 본 출원은 전도성 필름의 제조 공정을 단순화시키고, 제조비용을 절감할 수 있을 뿐 아니라, 공정 및 제품의 신뢰성을 개선할 수 있다.This application relates to conductive films. The present application can simplify the manufacturing process of the conductive film, reduce manufacturing costs, and improve the reliability of the process and products.

Description

전도성 필름의 제조방법{Method for preparing a conductive film}Method for preparing a conductive film

본 출원은 전도성 필름의 제조방법에 관한 것이다.The present application relates to a method for manufacturing a conductive film.

전기적으로 구동되는 셀이 하전 입자나 액정 등을 포함하는 경우, 하전된 입자나 액정을 셀 내부의 일정 공간에 가두기 위해 격벽이 사용되고 있다. 이러한 격벽은 기판 상에 마련된 고분자층을 패터닝함으로써 형성되며, 상기 패터닝에는 포토리소그래피(photolithography), 포토리지스트(photoresist) 또는 몰드 프린팅(mold printing) 등이 사용되는 것이 일반적이다. 그러나, 상기와 같은 격벽 형성 공정은 제조공정을 복잡하게 하고, 제조비용을 증가시킬 뿐 아니라, 공정 중 전극의 손상을 가져오는 문제가 있다.When the electrically driven cell contains charged particles or liquid crystal, a partition wall is used to confine the charged particles or liquid crystal in a certain space inside the cell. The partition wall is formed by patterning a polymer layer provided on a substrate, and photolithography, photoresist or mold printing is generally used for the patterning. However, the above-described partition wall forming process complicates the manufacturing process, increases the manufacturing cost, and has a problem of causing electrode damage during the process.

한편, 에멀젼(emulsion)은 다양한 분야에서 활용되고 있으나, 분산상인 액적의 분산 안정성을 장시간 유지하는 것이 어렵다는 문제가 있다.On the other hand, the emulsion (emulsion) is used in various fields, there is a problem that it is difficult to maintain the dispersion stability of the dispersed phase of the droplet for a long time.

본 출원의 일 목적은 제조 공정이 단순화되고, 제조비용이 절감된 전도성 필름을 제공하는 것이다.One object of the present application is to provide a conductive film having a simplified manufacturing process and reduced manufacturing cost.

본 출원의 다른 목적은 공정 및 제품 신뢰성을 향상시킬 수 있는 전도성 필름의 제조방법을 제공하는 것이다.Another object of the present application is to provide a method of manufacturing a conductive film that can improve process and product reliability.

본 출원의 상기 및 기타 그 밖의 목적은 하기 상세히 설명되는 본 출원에 의해 모두 해결될 수 있다.The above and other objects of the present application can all be solved by the present application described in detail below.

본 출원에 관한 일례에서, 본 출원은 전도성 필름의 제조방법에 관한 것이다. 상기 제조방법은 유화액 내에서 액적(droplet)을 형성하되, 상기 액적의 표면을 둘러쌀 수 있는 가교 구조를 형성함으로써 유화액의 분산 안정성을 크게 향상시킬 수 있다.In an example related to the present application, the present application relates to a method for manufacturing a conductive film. In the preparation method, droplets are formed in the emulsion, but the dispersion stability of the emulsion can be greatly improved by forming a crosslinked structure that can surround the surface of the droplet.

하나의 예시에서, 상기 제조방법은, 경화기 함유 화합물(a1)을 포함하는 제1 용액(A), 및 전도성 입자(b1)를 포함하는 제2 용액(B)을 혼합하여, 제2 용액(B)의 액적을 형성하는 단계를 포함할 수 있다. 유화액의 분산안정성과, 최종 제품 내에서의 시인성 등을 고려하여, 상기 혼합물은 제1 용액(A) 100 중량부 대비 제2 용액(B) 1 내지 50 중량부를 혼합하여 마련될 수 있다. 본 출원에서, 「중량부」라 함은 각 성분간의 중량비율을 의미할 수 있다.In one example, the manufacturing method, a first solution (A) containing a curing agent-containing compound (a1), and a second solution (B) containing conductive particles (b1) are mixed to form a second solution (B It may include the step of forming a droplet of. In consideration of dispersion stability of the emulsion and visibility in the final product, the mixture may be prepared by mixing 1 to 50 parts by weight of the second solution (B) relative to 100 parts by weight of the first solution (A). In the present application, "parts by weight" may mean a weight ratio between each component.

본 출원에서, 상기 제1 용액(A)과 제2 용액(B)의 혼합물은 유화액을 형성할 수 있다. 이를 위해, 상기 제1 및 제2 용액은 서로 불혼화성인 용매를 각각 포함할 수 있다. 본 출원에서 「불혼화성(immiscible)」이란, 통상의 유화(emulsification) 방식에서 사용되는 의미와 동일하게 사용될 수 있다. 예를 들어, 2 이상의 용매 또는 용액이 단순 혼합된 경우 서로 섞이지 않고 상분리가 일어난 다면, 상기 혼합된 용매 또는 용액들은 서로에 대해 불혼화성이라고 할 수 있다. 구체적으로, 상기 제1 용액(A)의 주성분을 이루는 용매가 물이나, 또는 이소프로필알코올(isopropyl alchol), 메탄올(methanol), 에탄올(ethanol) 등의 알코올류, 또는 아세톤(acetone)이나 에틸아세테이트(ethyl acetate) 등과 같이 물과 상분리되지 않고 혼합되는 소위 친수성의 성질을 갖는 경우, 상기 제2 용액(B)의 주 성분을 이루는 용매는 사이클로헥사논(cyclohexanone), 메틸렌 클로라이드(methylene chloride, MC), 노말헥산(n-hexane) 또는 톨루엔(toluene), 이소파라핀(isoparaffin) 등과 같이 소위 소수성의 성질을 가질 수 있다. 또한, 그 반대의 경우도 가능하다. 상기와 같이, 용매 또는 용액 간 불혼화성은 서로 혼합되는 용매에 따라 상대적으로 결정될 수 있는 것이기 때문에, 본 출원에 사용되는 제1 용액(A) 및 제2(B) 용액에 포함되는 용매의 종류는 상기 나열된 용매에 제한되지 않으며, 서로 불혼화성을 가진 공지의 용매를 적절히 선택하여 사용할 수 있다.In the present application, the mixture of the first solution (A) and the second solution (B) may form an emulsion. To this end, the first and second solutions may include solvents that are immiscible with each other. In the present application, "immiscible" may be used in the same manner as used in a conventional emulsification method. For example, if two or more solvents or solutions are simply mixed and phase separation occurs without mixing with each other, the mixed solvents or solutions may be said to be immiscible with respect to each other. Specifically, the solvent constituting the main component of the first solution (A) is water, or alcohols such as isopropyl alcohol, methanol, ethanol, or acetone or ethyl acetate When having so-called hydrophilic properties that are mixed without being phase-separated with water, such as (ethyl acetate), the solvent forming the main component of the second solution (B) is cyclohexanone, methylene chloride (MC) , It may have so-called hydrophobic properties such as n-hexane or toluene, isoparaffin, and the like. Also, the reverse is also possible. As described above, since the immiscibility between solvents or solutions can be relatively determined depending on the solvent mixed with each other, the types of solvents included in the first solution (A) and the second (B) solution used in the present application are It is not limited to the solvents listed above, and a known solvent having immiscibility with each other may be appropriately selected and used.

하나의 예시에서, 상기 제1 용액 및 제2 용액에 포함되는 각 용매는 비경화성, 즉 경화성 관능기를 갖지 않는 용매로서 하기 언급되는 경화 과정을 거치더라도 경화되지 않을 수 있다.In one example, each of the solvents included in the first solution and the second solution may not be cured even though a curing process mentioned below is performed as a non-curable, ie, solvent having no curable functional group.

하나의 예시에서, 상기 제1 용액(A)은 경화기 함유 화합물(a1)을, 제1 용액(A) 전체 중량 중 20 중량% 이하로 포함할 수 있다. 본 출원에서 경화기 함유 화합물(a1)과 관련하여 사용된 용어 「중량%」는, 제1 용액(A) 전체 성분 중에서 경화기 함유 화합물(a1)이 차지하는 중량의 비율을 의미할 수 있다. 상기 경화기 함유 화합물(a1)의 함량이 20 중량%를 초과할 경우, 하기 설명되는 액적 표면을 둘러싸는 피복막 형성 과정에서 지나친 가교로 인해 액적 간의 뭉침이 일어나므로, 최종 제품의 시인성이 악화될 수 있다.In one example, the first solution (A) may include a curing group-containing compound (a1), up to 20% by weight of the total weight of the first solution (A). The term "% by weight" used in connection with the curing group-containing compound (a1) in the present application may mean a ratio of the weight of the curing group-containing compound (a1) among all components of the first solution (A). When the content of the curing group-containing compound (a1) exceeds 20% by weight, agglomeration between the droplets occurs due to excessive crosslinking in the process of forming a coating film surrounding the droplet surface described below, so that visibility of the final product may deteriorate. have.

상기 경화기 함유 화합물(a1)의 종류는, 제1 용액(A) 내에 함께 포함되는 용매와의 혼화성 등을 고려하여 선택될 수 있고, 특별히 제한되지 않는다. 예를 들어, (메타)아크릴레이트계 또는 에폭시계 화합물이 사용될 수 있다. 보다 구체적으로, 제1 용액(A)에 포함되는 용매로서 이소프로필알코올이 사용되는 경우, 경화기 함유 화합물(a1)로는 친수성 아크릴레이트인 WS2100 (Miwon Specialty Chemical Co., Ltd.)가 사용될 수 있다. 또한, 제1 용액(A)에 포함되는 용매로서 톨루엔이 사용되는 경우에는 소수성 아크릴레이트인 MB1000 (Miwon Specialty Chemical Co., Ltd.)가 사용될 수 있다.The type of the curing group-containing compound (a1) may be selected in consideration of miscibility with a solvent included in the first solution (A), and is not particularly limited. For example, (meth) acrylate-based or epoxy-based compounds may be used. More specifically, when isopropyl alcohol is used as a solvent included in the first solution (A), a hydrophilic acrylate WS2100 (Miwon Specialty Chemical Co., Ltd.) may be used as the curing group-containing compound (a1). Further, when toluene is used as a solvent included in the first solution (A), a hydrophobic acrylate MB1000 (Miwon Specialty Chemical Co., Ltd.) may be used.

하나의 예시에서, 상기 제1 용액(A)은 열 개시제 또는 광 개시제를 추가로 포함할 수 있다. 개시제의 종류는 특별히 제한되지 않고, Irgacure 등과 같이 공지된 개시제가 제한없이 사용될 수 있다. 상기 개시제는 제1 용액(A) 전체 중량 대비 1 중량% 이하로 포함될 수 있다.In one example, the first solution (A) may further include a thermal initiator or photoinitiator. The type of initiator is not particularly limited, and known initiators such as Irgacure can be used without limitation. The initiator may be included in 1% by weight or less based on the total weight of the first solution (A).

상기 제2 용액(B)은 구동 용매 및, 입자(b1)를 포함할 수 있다. 보다 구체적으로, 상기 구동 용매 100 중량부 대비 0.05 내지 10 중량부의 전도성 입자를 포함할 수 있다.The second solution (B) may include a driving solvent and particles (b1). More specifically, it may include 0.05 to 10 parts by weight of conductive particles compared to 100 parts by weight of the driving solvent.

상기 입자(b1)는 액정 또는 전도성 입자일 수 있다. 구체적으로, 상기 제2 용액(B)에 포함되는 전도성 입자는 (-) 또는 (+) 전하를 띠는 하전 입자일 수 있다. 구체적인 전도성 입자의 종류는 특별히 제한되지 않으나, 예를 들어, 카본 블랙(carbon black), 산화철(ferric oxides), 크롬구리(CrCu), 또는 아닐린 블랙(aniline black) 등이 전도성 입자로 사용될 수 있다.The particles (b1) may be liquid crystal or conductive particles. Specifically, the conductive particles included in the second solution (B) may be charged particles having a (-) or (+) charge. The type of the specific conductive particles is not particularly limited, but, for example, carbon black, ferric oxides, chromium copper (CrCu), or aniline black may be used as the conductive particles.

상기 제2 용액(B)에 포함되는 구동 용매는, 경화기를 갖지 않기 때문에 최종 제품 내에서 상기 전도성 입자의 이동성을 보장할 수 있다. 구동 용매는, 앞서 언급된 바와 같이, 제1 용액과 제2 용액이 서로 불혼화성을 갖도록 선택되는 용매일 수 있다. 사용 가능한 구동 용매의 종류는 특별히 제한되지 않으며, 상기 유화액의 형성 방식을 고려하여 선택될 수 있다.Since the driving solvent included in the second solution (B) does not have a curing group, it is possible to ensure the mobility of the conductive particles in the final product. The driving solvent may be a solvent selected such that the first solution and the second solution are immiscible with each other, as mentioned above. The type of driving solvent that can be used is not particularly limited, and may be selected in consideration of the method of forming the emulsion.

상기 제1 용액 및 제2 용액의 혼합물은 계면 활성제를 추가로 포함할 수 있다. 계면 활성제의 투입 시점은 특별히 제한되지 않는다. 예를 들어, 상기 혼합물 형성 이전에 제1 및/또는 제2 용액 중 어느 하나 이상에 계면활성제가 미리 포함되어 있을 수도 있고, 상기 제1 및 제2 용액 혼합시에 함께 첨가될 수도 있으며, 상기 제1 및 제2 용액을 혼합한 이후에 투입될 수도 있다. The mixture of the first solution and the second solution may further include a surfactant. The timing of the introduction of the surfactant is not particularly limited. For example, a surfactant may be previously included in any one or more of the first and / or second solution before the mixture is formed, or may be added together when mixing the first and second solutions. It may also be added after mixing the first and second solutions.

하나의 예시에서, 액적의 분산 안정성을 고려하여, 상기 계면 활성제는 제1 용액(A) 100 중량부 대비 0.1 내지 15 중량부 범위로 포함될 수 있다. In one example, considering the dispersion stability of the droplet, the surfactant may be included in a range of 0.1 to 15 parts by weight compared to 100 parts by weight of the first solution (A).

계면활성제로는, 예를 들어, 양이온성 계면활성제, 음이온성 계면활성제, 양쪽 이온성 계면활성제 또는 비이온성 계면활성제와 같이 공지된 분자형의 계면활성제가 제한없이 사용될 수 있다. 보다 구체적으로, 4급(quaternary) 암모늄 화합물, 술포늄 화합물, 아민 염, 또는 이미드 아졸리늄 염 등과 같은 양이온성 계면활성제; 암모늄 라우릴 설페이트, 소듐 1-헵탄설포네이트, 소듐 헥산설포네이트, 또는 소듐 도데실설페이트 등과 같은 음이온성 계면활성제; N-도데실-N,N-디메틸-3-암모니오-1-프로판설포네이트, 베타인 또는 알킬 베타인 등과 같은 양쪽 이온성 계면활성제; 및 SPAN 60, 폴리프로필렌 글리콜 또는 폴리비닐피롤리돈 등과 같은 비인온성 계면활성제가 제한없이 사용될 수 있다.As the surfactant, for example, cationic surfactants, anionic surfactants, amphoteric surfactants, or nonionic surfactants of known molecular type surfactants can be used without limitation. More specifically, cationic surfactants such as quaternary ammonium compounds, sulfonium compounds, amine salts, or imide azolinium salts; Anionic surfactants such as ammonium lauryl sulfate, sodium 1-heptanesulfonate, sodium hexanesulfonate, or sodium dodecylsulfate; Amphoteric surfactants such as N-dodecyl-N, N-dimethyl-3-ammonio-1-propanesulfonate, betaine or alkyl betaine; And non-anionic surfactants such as SPAN 60, polypropylene glycol or polyvinylpyrrolidone, and the like.

하나의 예시에서, 상기 계면활성제는 5 nm 내지 500 nm의 크기를 갖는 양친매성 나노입자일 수 있다. 보다 구체적으로, 상기 양친매성 나노입자는 나노입자를 포함하는 코어부, 및 상기 코어부를 둘러싸고 있는 양친매성 화합물을 포함하는 쉘부를 포함할 수 있다. 예를 들어, 상기 쉘의 일부는 친수성 부위로서 나노입자의 일부 면적을 둘러싸고, 쉘의 다른 일부는 소수성 부위로서 나노입자의 다른 일부 면적을 둘러싸도록 형성될 수 있다.In one example, the surfactant may be an amphiphilic nanoparticle having a size of 5 nm to 500 nm. More specifically, the amphiphilic nanoparticles may include a core portion including nanoparticles, and a shell portion containing an amphiphilic compound surrounding the core portion. For example, a portion of the shell may be formed to surround some areas of the nanoparticles as hydrophilic sites, and another portion of the shell may be formed to surround other areas of the nanoparticles as hydrophobic sites.

하나의 예시에서, 코어부에 사용되는 나노입자로는, 예를 들면, 금, 은, 구리, 백금, 팔라듐, 니켈, 망간 또는 아연 등의 금속 입자, SiO2, Al2O3, TiO2, ZnO, NiO, CuO, MnO2, MgO, SrO 또는 CaO 등의 산화물 입자 또는 PMMA(polymethacrylate) 또는 PS(polystyrene) 등의 고분자일 수 있다.In one example, the nanoparticles used in the core portion include, for example, metal particles such as gold, silver, copper, platinum, palladium, nickel, manganese, or zinc, SiO 2 , Al 2 O 3 , TiO 2 , It may be an oxide particle such as ZnO, NiO, CuO, MnO 2 , MgO, SrO or CaO, or a polymer such as PMMA (polymethacrylate) or PS (polystyrene).

하나의 예시에서, 쉘부에 사용되는 양친매성 화합물로는, 상기 언급된 분자형 계면 활성제 외에, Triton X-114(CAS No.: 9036-19-5), Triton X-100(CAS No.: 92046-34-9), Brij-58(CAS No.: 9004-95-9), 옥틸 글루코사이드(octyl glucoside, CAS No.: 29836-26-8), 옥틸티오글루코사이드(octylthio glucoside, CAS No.: 85618-21-9), 데카에틸렌글리콜 모노데실 에테르(decaethylene glycol monododecyl ether, CAS No.: 9002-92-0), N-데카노일-N-메틸글루카민(N-decanoyl-N-methylglucamine, CAS No.: 85261-20-7), 데실 말토피라노사이드(decyl maltopyranoside, CAS No.: 82494-09-5), N-도데실 말토사이드(Ndodecylmaltoside, CAS No.: 69227-93-6), 노나에틸렌글리콜 모노데실 에테르(nonaethylene glycol monododecyl ether, CAS No.: 3055-99-0), N-노나노일-N-메틸글루카민(N-nonanoyl-N-methylglucamine, CAS No.: 85261-19-4), 옥타에틸렌글리콜 모노도데실 에테르(octaethylene glycol monododecyl ether, CAS No.: 3055-98-9), 스판20(Span20, CAS No.: 1338-39-2), 폴리비닐피롤리돈(polyvinylpyrrolidone, CAS No.: 9003-39-8) 또는 Synperonic F108(PEO-b-PPO-b-PEO, CAS No.: 9003-11-06) 등을 사용할 수 있으나, 상기 나열된 물질들로 특별히 제한되는 것은 아니다.In one example, amphiphilic compounds used in the shell portion include, in addition to the molecular surfactants mentioned above, Triton X-114 (CAS No .: 9036-19-5), Triton X-100 (CAS No .: 92046) -34-9), Brij-58 (CAS No .: 9004-95-9), octyl glucoside (CAS No .: 29836-26-8), octylthio glucoside (CAS No .: 85618 -21-9), decaethylene glycol monododecyl ether (CAS No .: 9002-92-0), N-decanoyl-N-methylglucamine, CAS No .: 85261-20-7), decyl maltopyranoside (CAS No .: 82494-09-5), N-dodecylmaltoside (CAS No .: 69227-93-6), nona Ethylene glycol monododecyl ether (CAS No .: 3055-99-0), N-nonanoyl-N-methylglucamine (CAS No .: 85261-19- 4), octaethylene glycol monododecyl ether, CAS No .: 3055-98-9), Span20 (CAS No .: 1338-39-2), polyvinylpyrrolidone (CAS No .: 9003-39-8) or Synperonic F108 (PEO-b -PPO-b-PEO, CAS No .: 9003-11-06) may be used, but the materials listed above are not particularly limited.

계면활성제가 갖는 입자의 형태는 특별히 제한되지 않으며, 구형, 타원 구형, 막대형, 또는 무정형일 수 있다. 막대형이나 무정형인 경우, 가장 큰 차원의 길이가 상기 범위의 크기를 만족하도록 마련될 수 있다. 상기와 같이 입자상의 계면활성제를 사용할 경우, 유화액 내에서의 액적 형성 시간이 크게 단축될 수 있고, 액적끼리 서로 뭉치는 정도가 크게 감소하는 등 액적의 높은 분산 안정성을 확보할 수 있다. 액적 형성 시간을 비교해보면, 통상적인 분자형 계면활성제를 사용하는 경우 적정 정도의 분산성과 크기를 갖는 유화 입자 형성에 소요되는 교반 시간이 1시간 이상 또는 2시간 이상이라고 한다면, 입자형 계면 활성제를 사용하는 경우의 그 시간은 수십분 이내, 예를 들어 10초 내지 10 분 정도이다. 이렇듯, 양친매성 나노입자를 계면 활성제로 사용할 경우에는 높은 분산 안정성과 함께 입자 형성 시간을 1/10 이상 까지도 단축 할 수 있는 이점이 있다. The shape of the particles possessed by the surfactant is not particularly limited, and may be spherical, elliptical spherical, rod-shaped, or amorphous. In the case of a rod or an amorphous shape, the length of the largest dimension may be provided to satisfy the size of the range. When the particulate surfactant is used as described above, droplet formation time in the emulsion can be significantly shortened, and the dispersion stability of the droplets can be secured, such as the degree of aggregation between droplets. When comparing the droplet formation time, if a conventional molecular type surfactant is used, if the stirring time required to form emulsified particles having an appropriate degree of dispersibility and size is 1 hour or more or 2 hours or more, a particle type surfactant is used. In the case of, the time is within tens of minutes, for example, 10 seconds to 10 minutes. As such, when the amphiphilic nanoparticles are used as a surfactant, there is an advantage of shortening the particle formation time by 1/10 or more with high dispersion stability.

하나의 예시에서, 본 출원의 제조방법은, 상기 제1 용액 및 제2 용액의 혼합물 내에서 형성되는 액적의 분산 안정성을 높이고자, 상기 혼합물에 대한 교반을 수행할 수 있다. 상기 교반은 공지된 호모게나이저(homogenizer) 등을 사용하여 이루어질 수 있다. 교반 속도나 교반 시간은 특별히 제한되지 않고, 액적의 크기와 분산성을 고려하여 적절히 제어될 수 있다. In one example, the manufacturing method of the present application, to increase the dispersion stability of the droplets formed in the mixture of the first solution and the second solution, may be stirred for the mixture. The stirring may be performed using a known homogenizer. The stirring speed and the stirring time are not particularly limited, and can be appropriately controlled in consideration of the size and dispersibility of the droplets.

상기 조성의 용액을 상기 방법을 통해 혼합하여 제조된 혼합물, 즉 제1 및 제2 용액으로부터 형성된 유화액 내에는, 제2 용액(B)으로부터 형성된 복수의 액적(droplet)인 유화 입자가 포함될 수 있다. 상기 액적의 내부에는 제2 용액(B)의 구성성분, 즉 구동 용매와 전도성 입자가 포함될 수 있다. 또한, 상기 혼합물에 계면 활성제가 포함될 경우에는, 상기 계면 활성제는 상기 액적과 제1 용액(A)의 계면에 위치할 수 있다.A mixture prepared by mixing the solution of the composition through the above method, that is, in the emulsion formed from the first and second solutions, emulsifying particles that are a plurality of droplets formed from the second solution (B) may be included. Inside the droplet, the components of the second solution (B), that is, a driving solvent and conductive particles may be included. In addition, when the surfactant is included in the mixture, the surfactant may be located at the interface between the droplet and the first solution (A).

유화액 형성 이후, 상기 경화기 함유 화합물(a1)에 대한 경화가 이루어질 수 있다. 상기 경화는 제1 용액(A) 내에서 액적 근처에 부유하던 경화기 함유 화합물(a1)을 가교시킴으로써, 경화기 함유 화합물(a1)로부터 형성된 가교 구조가 각 액적의 표면을 둘러싸도록 한다. 본 출원의 경우, 제1 용액(A) 전체 중량 중 경화기 함유 화합물(a1)의 함량을 20 중량% 이하로 조절하기 때문에, 유화액 중 연속상에 대한 전체적인 경화를 일으키지 않을 수 있다. 또한, 상기 함량만큼의 경화기 함유 화합물(a1)이 제1 용액 내에서 불규칙하게 소량 분산되어 있기 때문에, 가교를 통해 액적들이 뭉치는 현상을 방지하면서도, 가교 구조에 의해 그 표면이 둘러 싸여진 각 액적이 독립된 형상으로 분산된 형태를 유지할 수 있게 한다. 본 출원에서, 경화기 함유 화합물(a1)로부터 형성된 가교 구조로 둘러싸인 액적은, 가교성 피복막 또는 가교 구조 피복막을 갖는 액적으로 호칭될 수 있다. 상기 경화에 의한 가교 구조는 전도성 입자를 포함하는 액적의 분산 안정성을 크게 증가시킬 수 있다. After forming the emulsion, curing for the curing group-containing compound (a1) may be performed. The curing crosslinks the curing group-containing compound (a1) suspended in the vicinity of the droplet in the first solution (A), so that the crosslinked structure formed from the curing group-containing compound (a1) surrounds the surface of each droplet. In the case of the present application, since the content of the curing group-containing compound (a1) in the total weight of the first solution (A) is adjusted to 20% by weight or less, overall curing of the continuous phase in the emulsion may not occur. In addition, since the amount of the curing group-containing compound (a1) as described above is irregularly dispersed in a small amount in the first solution, while preventing the droplets from agglomerating through crosslinking, each droplet whose surface is enclosed by the crosslinking structure is prevented. It is possible to maintain a distributed shape in an independent shape. In the present application, droplets surrounded by a crosslinked structure formed from the curing group-containing compound (a1) may be referred to as droplets having a crosslinkable coating film or a crosslinked structure coating film. The crosslinked structure by curing may significantly increase the dispersion stability of droplets containing conductive particles.

상기 경화는 교반, 열 조사 및 광 조사 중 어느 하나 이상의 방법에 의해 이루어질 수 있다. 예를 들어, 광 조사만으로도 상기 가교 구조를 형성할 수 있고, 또는 교반과 동시에 광 조사 또는 열 조사를 진행하여 가교 구조를 형성할 수 있다.The curing may be achieved by any one or more of stirring, heat irradiation and light irradiation. For example, the crosslinked structure may be formed only by light irradiation, or light irradiation or thermal irradiation may be performed simultaneously with stirring to form a crosslinked structure.

하나의 예시에서, 상기 가교 구조 형성을 위한 경화는 교반에 의해 이루어질 수 있다. 교반 조건은 특별히 제한되지 않으나, 예를 들어, 1 시간 내지 48 시간 동안 100 rpm 내지 3,000 rpm의 속도로 이루어질 수 있다. 특별히 제한되지는 않으나, 상기 교반은 상온 또는 가온 상태에서, 1 시간 이상 또는 2 시간 이상 이루어 질 수 있다. 본 출원에서, 상온은 18 ℃ 내지 28 ℃ 범위, 보다 구체적으로는 23 ℃ 내지 25 ℃ 범위의 온도를 의미할 수 있으며, 가온은 상기 상온 보다 온도가 높은 상태로서, 예를 들어 약 80 ℃ 이하의 온도일 수 있다. 교반에 사용되는 장치나 구체적인 교반 방식은 특별히 제한되지 않는다.In one example, curing for forming the crosslinked structure may be achieved by stirring. The stirring conditions are not particularly limited, but may be, for example, at a speed of 100 rpm to 3,000 rpm for 1 hour to 48 hours. Although not particularly limited, the stirring may be performed at room temperature or at a warm state, for 1 hour or more or 2 hours or more. In the present application, the normal temperature may mean a temperature in the range of 18 ° C to 28 ° C, more specifically in the range of 23 ° C to 25 ° C, and the warming is a state in which the temperature is higher than the normal temperature, for example, about 80 ° C or less It can be a temperature. The device used for stirring or the specific stirring method is not particularly limited.

또 하나의 예시에서, 상기 가교 구조 형성을 위한 경화는 열 조사에 의해 이루어질 수 있다. 열 조사에 의한 열 경화는, 예를 들어, 경화기 함유 화합물(a1)로서 에폭시계 화합물이 사용된 경우에 이루어질 수 있다. 특별히 제한되지 않으나, 상기 열 경화는 1분 이상 48 시간 이하의 시간 동안 소정의 열을 조사하거나 소정의 온도 조건을 형성하여 이루어질 수 있다. 경화를 위해 조사되는 열의 온도나 형성되는 고온 조건은, 예를 들어, 80 ℃ 이상, 90 ℃ 이상, 100 ℃ 이상, 110 ℃ 이상 또는 120 ℃ 이상, 그리고 180 ℃ 이하, 170 ℃ 이하 또는 160 ℃ 이하일 수 있다. 상기 열 경화는, 상기 언급된 교반과 함께 이루어질 수 있다. In another example, curing for forming the crosslinked structure may be achieved by thermal irradiation. Thermal curing by thermal irradiation can be performed, for example, when an epoxy-based compound is used as the curing group-containing compound (a1). Although not particularly limited, the thermal curing may be performed by irradiating a predetermined heat or forming a predetermined temperature condition for a time of 1 minute or more and 48 hours or less. The temperature of the heat irradiated for curing or the high temperature conditions to be formed are, for example, 80 ° C or higher, 90 ° C or higher, 100 ° C or higher, 110 ° C or higher, or 120 ° C or higher, and 180 ° C or lower, 170 ° C or lower, or 160 ° C or lower. You can. The thermal curing can be achieved with the aforementioned agitation.

또 하나의 예시에서, 상기 가교 구조 형성을 위한 경화는 광 조사에 의해 이루어질 수 있다. 광 조사에 의한 광 경화는, 예를 들어, 경화기 함유 화합물(a1)로서 아크릴계 화합물이 사용된 경우에 이루어질 수 있다. 특별히 제한되지 않으나, 상기 광 경화에는, 예를 들어 200 nm 내지 400 nm 파장의 UV 광이 사용될 수 있다. 보다 구체적으로, 500 mJ/cm2 내지 1,500 mJ/cm2 범위의 강도로, 1 분 내지 1시간 동안 UV 광이 조사되면서 광 경화가 이루어질 수 있다. 상기 광 경화는, 상기 언급된 교반과 함께 이루어질 수 있다. In another example, curing for forming the crosslinked structure may be achieved by light irradiation. Light curing by light irradiation can be performed, for example, when an acrylic compound is used as the curing group-containing compound (a1). Although not particularly limited, UV light having a wavelength of 200 nm to 400 nm may be used for the light curing. More specifically, with an intensity in the range of 500 mJ / cm 2 to 1,500 mJ / cm 2 , light curing may be performed while UV light is irradiated for 1 minute to 1 hour. The photo-curing can be achieved with the aforementioned agitation.

이후, 혼합물로부터 분리된 가교 구조 피복막을 갖는 액적이, 전도성 기재 상에 도포될 수 있다. 보다 구체적으로, 상기 가교 구조 피복막을 갖는 액적을 포함하는 코팅 조성물을 전도성 기재 상에 도포할 수 있다. 전도성 기재에 대한 코팅 조성물의 도포는 공지된 방법을 통해 이루어질 수 있다. 예를 들어 바 코팅, 그라비아 코팅, 디핑, 스핀코팅 등에 공지된 방식을 사용하여, 상기 코팅 조성물을 전도성 기재 상에 도포할 수 있다. 본 출원에서, 하기 설명되는 바와 같이, 도포된 코팅 조성물을 건조 또는 경화시켜 마련된 층은 코팅층이라고 호칭될 수 있다.Thereafter, droplets having a crosslinked structure coating film separated from the mixture can be applied on the conductive substrate. More specifically, a coating composition including a droplet having the cross-linked structure coating film may be applied on a conductive substrate. Application of the coating composition to the conductive substrate can be accomplished through known methods. For example, the coating composition may be applied on a conductive substrate using a method known for bar coating, gravure coating, dipping, spin coating, and the like. In the present application, as described below, a layer prepared by drying or curing the applied coating composition may be referred to as a coating layer.

하나의 예시에서, 전도성 기재 상에 도포되는 코팅 조성물은 제1 용액과 제2 용액의 혼합물일 수 있다. 이 경우 본 출원의 제조방법은, 상기 혼합물을 도포하여 가교 구조 피복막을 갖는 액적을 전도성 기재 상에 위치시킨 후, 건조를 수행할 수 있다. 상기 건조를 통해, 가교 구조 피복막을 갖는 복수의 액적이 전도성 기재 상에서 밀집(dense) 또는 패킹(packing)되어 균일한 하나의 층을 형성할 수 있으므로, 이 경우에는 별도의 매트릭스를 필요로 하지 않을 수 있다. 건조의 조건은 특별히 제한되지 않으며, 예를 들어, 18 ℃ 내지 28 ℃ 사이의 상온에서 일정시간 보관하거나, 30 ℃ 내지 100 ℃ 범위의 가온 또는 열풍 조건에서 이루어질 수 있다.In one example, the coating composition applied on the conductive substrate can be a mixture of a first solution and a second solution. In this case, in the manufacturing method of the present application, the mixture may be applied to place a droplet having a crosslinked structure coating film on a conductive substrate, and then dry. Through the drying, a plurality of droplets having a cross-linked structured coating film can be dense or packed on a conductive substrate to form a uniform layer, and in this case, a separate matrix may not be required. have. The conditions for drying are not particularly limited, and for example, storage at a normal temperature between 18 ° C. and 28 ° C. for a certain period of time, or may be performed under warm or hot air conditions in the range of 30 ° C. to 100 ° C.

또 하나의 예시에서, 전도성 기재 상에 도포되는 코팅 조성물은, 상기 가교 구조 피복막을 갖는 액적과 경화성 수지(C)를 포함할 수 있다. 경화성 수지(C)의 구체적인 종류는 특별히 제한되지 않는다. 예를 들어, 열 또는 광경화가 가능한 에폭시계 수지 또는 아크릴계 수지가 경화성 수지(C)로서 사용될 수 있다. 코팅 조성물을 전도성 기재 상에 도포한 후에는, 코팅 조성물에 대한 경화가 이루어질 수 있다. 상기 경화의 방식은 특별히 제한되지 않으며, 열 경화 또는 광 경화를 사용할 수 있다. 코팅 조성물을 경화할 경우, 상기 경화성 수지(C)는 가교 구조 피복막을 갖는 액적에 대한 매트릭스 또는 바인더로 기능할 수 있다. 또한, 상기 가교 구조 피복막을 갖는 액적은, 피복막 내에 전도성 입자 및 전도성 입자의 이동 가능성을 보장하는 구동 용매를 포함할 수 있다. In another example, the coating composition applied on the conductive substrate may include a droplet having the crosslinked structure coating film and a curable resin (C). The specific type of curable resin (C) is not particularly limited. For example, heat- or photo-curable epoxy resin or acrylic resin can be used as the curable resin (C). After the coating composition is applied on the conductive substrate, curing for the coating composition may be achieved. The method of curing is not particularly limited, and thermal curing or photo curing may be used. When curing the coating composition, the curable resin (C) may function as a matrix or binder for droplets having a crosslinked structure coating film. In addition, the droplet having the cross-linked structure coating film may include conductive particles and a driving solvent that ensures the mobility of the conductive particles in the coating film.

상기와 같이, 코팅 조성물이 가교 구조의 피복막을 갖는 액적과 경화성 수지(c)를 포함하는 경우, 본 출원의 제조방법은 전도성 기재 상에 코팅 조성물을 도포하기 전에, 가교 구조 피복막을 갖는 액적을 상기 제1 및 제2 용액의 혼합물로부터 분리하는 단계를 더 포함할 수 있다. 상기 분리 방법은 특별히 제한되지 않으며, 예를 들어, 세척이나 원심분리 등의 방법을 이용할 수 있다.As described above, when the coating composition includes a droplet having a coating film of a crosslinked structure and a curable resin (c), the manufacturing method of the present application, before applying the coating composition on a conductive substrate, the droplet having a coating film of the crosslinked structure And separating from the mixture of the first and second solutions. The separation method is not particularly limited, and for example, a method such as washing or centrifugation can be used.

본 출원의 제조방법은, 상기 코팅 조성물에 대한 건조 또는 경화 이후에, 상기 전도성 기재와 대향하도록 또 하나의 전도성 기재를 합착하는 단계를 추가로 포함할 수 있다. 상기 대향하는 전도성 기재는 코팅층과의 위치에 따라, 상부 전도성 기재 또는 하부 전도성 기재로 호칭될 수 있다.The manufacturing method of the present application, after drying or curing the coating composition, may further include the step of bonding another conductive substrate to face the conductive substrate. The opposing conductive substrate may be referred to as an upper conductive substrate or a lower conductive substrate, depending on the position with the coating layer.

본 출원에 관한 다른 일례에서, 본 출원은 상기와 같은 과정을 통해 제조된 전도성 필름에 관한 것이다. 상기 전도성 필름은 전도성 기재 및 코팅층의 적층체일 수 있다. 또는, 하부 전도성 기재, 코팅층 및 상부 전도성 기재가 순차적으로 적층된 적층체일 수 있다. In another example related to the present application, the present application relates to a conductive film manufactured through the above process. The conductive film may be a laminate of a conductive substrate and a coating layer. Alternatively, the lower conductive substrate, the coating layer, and the upper conductive substrate may be stacked sequentially.

상기 코팅층은 경화성 수지의 경화물인 매트릭스와, 상기 매트릭스에 분포되어 있는 복수의 액적을 포함할 수 있다. 상기 액적은, 상기 언급된 본 출원의 방법에 따라 제조되어 가교 구조의 피복막을 가질 수 있다. 또한, 상기 액적은 구동 용매와 전도성 입자를 포함할 수 있다.The coating layer may include a matrix that is a cured product of the curable resin, and a plurality of droplets distributed in the matrix. The droplet may be prepared according to the above-mentioned method of the present application to have a coating film having a crosslinked structure. In addition, the droplet may include a driving solvent and conductive particles.

하나의 예시에서, 상기 전도성 기재는 투명 전도성 금속 산화물을 포함하는 전극일 수 있다. 상기 투명 전도성 금속산화물로는 예를 들어, ITO(Indium Tin Oxide), In2O3(indium oxide), IGO(indium galium oxide), FTO(Fluor doped Tin Oxide), AZO(Aluminium doped Zinc Oxide), GZO(Galium doped Zinc Oxide), ATO(Antimony doped Tin Oxide), IZO(Indium doped Zinc Oxide), NTO(Niobium doped Titanium Oxide), ZnO(zink oxide), 또는 CTO (Cesium Tungsten Oxide)가 사용될 수 있다.In one example, the conductive substrate may be an electrode including a transparent conductive metal oxide. The transparent conductive metal oxide includes, for example, Indium Tin Oxide (ITO), Indium Oxide (In 2 O 3 ), Indium Galium Oxide (IGO), Fluor doped Tin Oxide (FTO), Aluminum Doped Zinc Oxide (AZO), GZO (Galium doped Zinc Oxide), ATO (Antimony doped Tin Oxide), IZO (Indium doped Zinc Oxide), NTO (Niobium doped Titanium Oxide), ZnO (zink oxide), or CTO (Cesium Tungsten Oxide) may be used.

또 하나의 예시에서, 상기 전도성 기재는 메탈 메쉬 전극일 수 있다. 메탈 메쉬를 형성하기 위한 금속 재료로는, 예를 들어, 은(Ag), 구리(Cu), 알루미늄(Al), 마그네슘(Mg), 금(Au), 백금(Pt), 텅스텐(W), 몰리브덴(Mo), 티탄(Ti), 니켈(Ni) 또는 이들의 합금이 사용될 수 있다.In another example, the conductive substrate may be a metal mesh electrode. As a metal material for forming a metal mesh, for example, silver (Ag), copper (Cu), aluminum (Al), magnesium (Mg), gold (Au), platinum (Pt), tungsten (W), Molybdenum (Mo), titanium (Ti), nickel (Ni) or alloys thereof can be used.

또 하나의 예시에서, 상기 전도성 기재는 OMO(oxide/metal/oxide) 전극일 수 있다. 상기 OMO(oxide/metal/oxide) 전극은 2개의 금속 산화물층 사이에 금속층이 개재된 형태를 가질 수 있다. 상기 OMO(oxide/metal/oxide) 전극에 포함되는 금속산화물층에는, 예를 들어, Sb, Ba, Ga, Ge, Hf, In, La, Ma, Se, Si, Ta, Se, Ti, V, Y, Zn 및 Zr로 이루어진 군에서 선택되는 1 이상의 금속 산화물이 사용될 수 있다. 또한, 상기 금속산화물층 사이에 개재되는 금속층의 형성 성분으로는 은(Ag), 구리(Cu), 알루미늄(Al), 마그네슘(Mg), 금(Au), 백금(Pt), 텅스텐(W), 몰리브덴(Mo), 티탄(Ti), 또는 니켈(Ni)이 사용될 수 있으나, 특별히 제한되는 것은 아니다.In another example, the conductive substrate may be an OMO (oxide / metal / oxide) electrode. The OMO (oxide / metal / oxide) electrode may have a form in which a metal layer is interposed between two metal oxide layers. The metal oxide layer included in the OMO (oxide / metal / oxide) electrode, for example, Sb, Ba, Ga, Ge, Hf, In, La, Ma, Se, Si, Ta, Se, Ti, V, One or more metal oxides selected from the group consisting of Y, Zn and Zr can be used. In addition, silver (Ag), copper (Cu), aluminum (Al), magnesium (Mg), gold (Au), platinum (Pt), tungsten (W) is formed as a component of the metal layer interposed between the metal oxide layers. , Molybdenum (Mo), titanium (Ti), or nickel (Ni) may be used, but is not particularly limited.

하나의 예시에서, 상기 전도성 필름은 복수의 전도성 기재를 포함할 수 있다. 이 경우, 코팅층은 어느 2개의 전도성 기재 사이에 마련되어, 상기 코팅층을 매개로 접합된 적어도 2개의 전극이 서로 대향할 수 있도록 상기 전도성 필름이 구성될 수 있다. 특별히 제한되지는 않으나, 대향하는 2개의 전극 중 어느 하나는 메탈메쉬 전극인 것이 바람직하다.In one example, the conductive film may include a plurality of conductive substrates. In this case, a coating layer may be provided between any two conductive substrates, and the conductive film may be configured so that at least two electrodes bonded via the coating layer can face each other. Although not particularly limited, it is preferable that any one of the two opposing electrodes is a metal mesh electrode.

상기 전도성 기재는 상기 언급된 전극 재료 중 어느 하나와, 가시광에 대한 투과율이 약 50 % 내지 90 % 범위인 투광성 기재의 적층체일 수 있다. 상기 투광성 기재의 종류는 특별히 제한되지 않으며, 예를 들어 투명한 유리 또는 고분자 수지가 사용될 수 있다. 보다 구체적으로, PC(Polycarbonate), PEN(poly(ethylene naphthalate)) 또는 PET(poly(ethylene terephthalate))와 같은 폴리에스테르 필름, PMMA(poly(methyl methacrylate))와 같은 아크릴 필름, 또는 PE(polyethylene) 또는 PP(polypropylene)와 같은 폴리올레핀 필름 등이 사용될 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.The conductive substrate may be a laminate of any one of the above-mentioned electrode materials and a transmissive substrate having a transmittance for visible light in a range of about 50% to 90%. The type of the translucent substrate is not particularly limited, and for example, transparent glass or polymer resin may be used. More specifically, a polyester film such as PC (Polycarbonate), PEN (poly (ethylene naphthalate)) or PET (poly (ethylene terephthalate)), an acrylic film such as PMMA (poly (methyl methacrylate)), or PE (polyethylene) Alternatively, a polyolefin film such as PP (polypropylene) may be used, but is not limited thereto.

상기 코팅층은 경화 구조 피복막을 갖는 액적을 포함할 수 있다. 상기 언급한 제조방법에 따라, 상기 코팅층은 그 구성을 달리할 수 있다. 예를 들어, 하나의 예시에서, 상기 코팅층은 경화성 수지(c)로부터 형성된 매트릭스 내에 경화 구조 피복막을 갖는 액적이 분산된 구조를 가질 수 있다. 또 하나의 예시에서, 상기 코팅층은, 매트릭스 없이, 경화 구조 피복막을 갖는 액적이 패킹 또는 밀집되어 형성된 층일 수도 있다. The coating layer may include droplets having a cured structure coating film. According to the above-mentioned manufacturing method, the coating layer may have a different configuration. For example, in one example, the coating layer may have a structure in which droplets having a cured structure coating film are dispersed in a matrix formed from the curable resin (c). In another example, the coating layer may be a layer formed by packing or densely droplets having a cured structure coating film without a matrix.

상기 경화 구조 피복막을 갖는 액적은 소위 코어-쉘 구조를 가질 수 있다. 상기 코어는 구동 용매와 액정 또는 전도성 입자를 포함할 수 있다. 상기 쉘은, 유화입자 형성시 표면을 둘러싸는 계면 활성제가 규정하는 이너-쉘(inner-shell)과, 경화기 함유 화합물이 형성하는 가교 구조에 의한 아우터-쉘(outer-shell)을 포함할 수 있다. 한편, 상기 언급한 바와 같이, 구동 용매는 경화기를 갖지 않기 때문에, 액정 또는 전도성 입자의 이동성을 보장할 수 있다. The droplet having the cured structure coating film may have a so-called core-shell structure. The core may include a driving solvent and liquid crystal or conductive particles. The shell may include an inner-shell defined by a surfactant surrounding a surface when forming emulsified particles, and an outer-shell formed by a crosslinked structure formed by a curing group-containing compound. . On the other hand, as mentioned above, since the driving solvent does not have a curing group, it is possible to ensure the mobility of the liquid crystal or conductive particles.

하나의 예시에서, 상기 전도성 필름은 전원을 추가로 포함할 수 있다. 상기 전원은 전도성 필름에 대하여 적절한 수준의 전압을 인가하도록 구성될 수 있다. 전원에 의해 인가되는 전압의 크기나, 전도성 필름과 전원 간 전기적 연결방식은 본 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 적절히 선택되어 적용될 수 있다.In one example, the conductive film may further include a power source. The power source can be configured to apply an appropriate level of voltage to the conductive film. The magnitude of the voltage applied by the power source or the electrical connection method between the conductive film and the power source can be appropriately selected and applied by a person skilled in the art.

상기와 같은 전도성 필름은 투과도 가변소자 또는 전자종이 등에 사용될 수 있다. 예를 들어, 상기 전도성 필름은, 인가되는 전압에 따라 이동가능한 전도성 입자를 포함하기 때문에, 소정의 투과도 변화를 가질 수 있고, 또는 전도성 입자의 움직임에 의해 소정의 형상을 구현할 수 있다.The conductive film as described above may be used in a variable transmittance element or an electronic paper. For example, since the conductive film includes conductive particles movable according to an applied voltage, it may have a predetermined change in transmittance, or a predetermined shape may be realized by the movement of the conductive particles.

본 출원은, 격벽 형성 없이 용매간 혼합이라는 단순 공정만으로 전도성 입자나 액정을 포함하는 구동성 용액을 셀 내에 가둘 수 있기 때문에, 제조 공정을 단순화 시키고, 제조비용을 절감하는 발명의 효과를 갖는다. 또한, 본 출원은 가교 구조 피복막을 갖는 액적을 사용하기 때문에, 액적의 분산 안정성을 향상시키고, 그에 따라 공정 신뢰성과 제품 신뢰성을 개선할 수 있다.This application has the effect of the invention, which simplifies the manufacturing process and reduces the manufacturing cost because the driveable solution containing conductive particles or liquid crystals can be confined in the cell by only a simple process of mixing between solvents without forming a partition. In addition, since the present application uses a droplet having a crosslinked structure coating film, it is possible to improve the dispersion stability of the droplet, thereby improving process reliability and product reliability.

도 1은 본 출원의 제조방법을 개략적으로 도시한 것이다.
도 2는 본 출원의 실시예 및 비교예에 따라 제조된 가교 구조 피복막을 갖는 액적을 촬영한 이미지이다. 도 2a는 실시예 1의 액적을, 도 2b는 실시예 2의 액적을, 도 2c는 비교예 1의 액적을 촬영한 이미지이다. 실시예의 액적이 비교예 대비 더욱 균일하고, 액적 역시 독립적으로 형성된다는 점을 확인할 수 있다. 또한, 입자형 계면 활성제를 사용한 실시예 2의 액적이 갖는 분산 안정성이, 실시예 1의 그것 보다 더욱 우수하다는 것을 확인할 수 있다.
도 3은 본 출원의 실시예에 따라 제조된 전도성 필름의 촬영 이미지이다. 구체적으로 도 3a는 실시예 1에 따라 제조된 전도성 필름을, 도 3b는 실시예 2에 따라 제조된 전도성 필름을 촬영한 것이다.
1 schematically shows a manufacturing method of the present application.
2 is an image of a droplet having a crosslinked structure coating film prepared according to Examples and Comparative Examples of the present application. 2A is a droplet of Example 1, FIG. 2B is a droplet of Example 2, and FIG. 2C is an image of the droplet of Comparative Example 1. It can be seen that the droplets of the examples are more uniform than the comparative examples, and the droplets are also formed independently. In addition, it can be confirmed that the dispersion stability of the droplets of Example 2 using a particulate surfactant was more excellent than that of Example 1.
3 is a photographed image of a conductive film manufactured according to an embodiment of the present application. Specifically, Figure 3a is a conductive film prepared according to Example 1, Figure 3b is a conductive film prepared according to Example 2.

이하, 실시예를 통해 본 출원을 상세히 설명한다. 그러나, 본 출원의 보호범위가 하기 설명되는 실시예에 의해 제한되는 것은 아니다.Hereinafter, the present application will be described in detail through examples. However, the protection scope of the present application is not limited by the examples described below.

실시예 1Example 1

가교 구조 피복막을 갖는 액적의 형성:Formation of a droplet having a crosslinked structure coating film:

친수성 아크릴레이트인 WS2100 (Miwon Specialty Chemical Co., Ltd.) 및 친수성 개시제(Irgacure 2959)를 물에 혼합하여 제1 용액을 제조하였다. 이때, 각 성분의 함량비는 물 : WS2100 : Irgacure 2959 = 10 : 1 : 0.01로 조절하였다. 이후, 제2 용액으로서 표면이 (-)로 하전된 카본블랙 입자를 포함하는 소수성 이소파라핀 용액(Nanobrick社)과 계면활성제(polyvinylpyroolidone)를 제1 용액과 혼합하여, 물, 소수성 이소파라핀 용액, 및 계면 활성제가 5 : 1 : 0.05로 혼합된 혼합물을 형성하였다. 2시간 가량 상기 혼합물을 교반하면서 액적을 형성하고, 동시에 1,000 mJ/cm2 파워의 UV 광을 조사하여 액적 표면에 가교성 피복막을 형성하였다. 가교성 피복막을 갖는 액적의 현미경 이미지는 도 2(a)와 같다.A first solution was prepared by mixing the hydrophilic acrylate WS2100 (Miwon Specialty Chemical Co., Ltd.) and a hydrophilic initiator (Irgacure 2959) in water. At this time, the content ratio of each component was adjusted to water: WS2100: Irgacure 2959 = 10: 1: 0.01. Subsequently, a hydrophobic isoparaffin solution (Nanobrick) and a surfactant (polyvinylpyroolidone) containing carbon black particles whose surface is negatively charged as a second solution are mixed with the first solution, and water, a hydrophobic isoparaffin solution, and A mixture of surfactants at 5: 1: 0.05 was formed. The mixture was stirred for about 2 hours to form droplets, and at the same time, 1,000 mJ / cm 2 power was irradiated with UV light to form a crosslinkable coating film on the droplet surface. A microscope image of a droplet having a crosslinkable coating film is shown in Fig. 2 (a).

전도성 필름의 제조: 액적의 피복막 형성 이후, 상기 제1 및 제2 용액의 혼합물을 바코팅 방식으로 PET/ITO 기재 상에 도포하고, 70 ℃ 오븐 내에서 10분간 건조하여 전도성 기재 상에, 코팅층을 형성하였다. 이후, 코팅층의 다른 일면에 메탈메쉬 전극을 포함하는 기재를 합착하여 전도성 필름을 제조하였다. 도 3(a)는 실시예 1에서 제조된 전도성 필름을 약 30V의 전압으로 구동시키기 전(좌측 이미지)·후(우측 이미지)의 모습을 촬영한 이미지이다. 3(a)로부터, 전압인가 유무에 따라 전도성 필름의 투과도가 변화되는 것을 확인할 수 있다. Preparation of conductive film: After forming a coating film of droplets, a mixture of the first and second solutions is applied onto a PET / ITO substrate by a bar coating method, and dried in an oven at 70 ° C. for 10 minutes to coat the conductive substrate. Formed. Thereafter, a substrate including a metal mesh electrode was bonded to the other surface of the coating layer to prepare a conductive film. FIG. 3 (a) is an image taken before (left image) and after (right image) driving the conductive film prepared in Example 1 with a voltage of about 30V. From 3 (a), it can be confirmed that the transmittance of the conductive film changes depending on whether or not voltage is applied.

실시예 2Example 2

계면활성제로서 85 nm 크기의 입자형 계면 활성제(Sekisui, Pmma NP)를 사용한 것을 제외하고, 실시예 1과 동일한방식으로 전도성 필름을 제조하였다. 실시예 1에서와 달리, 교반 후 적절한 분산성의 액적 형성에 소요되는 시간은 10분 이내였다. 도 2(b)는 실시예 2에서 제조된 가교성 피복막을 갖는 액적의 현미경 이미지이다.A conductive film was prepared in the same manner as in Example 1, except that 85 nm particle-type surfactant (Sekisui, Pmma NP) was used as the surfactant. Unlike in Example 1, the time required to form droplets of appropriate dispersibility after stirring was within 10 minutes. Figure 2 (b) is a microscope image of a droplet having a crosslinkable coating film prepared in Example 2.

실시예 1과 마찬가지로 약 30V의 전압을 인가한 결과, 실시예 2로부터 제조된 전도성 필름에서도 투과도 가변효과가 명확히 관찰되었다. 실시예 1과 마찬가지로 약 30V의 전압을 인가한 결과, 실시예 2로부터 제조된 전도성 필름에서도 투과도 가변효과가 명확히 관찰되었다. 실시예 2로부터 제조된 전도성 필름의 전압인가 전 모습은 도 3(b)와 같다.As in Example 1, as a result of applying a voltage of about 30V, the effect of varying the transmittance was clearly observed even in the conductive film prepared from Example 2. As in Example 1, as a result of applying a voltage of about 30V, the effect of varying the transmittance was clearly observed even in the conductive film prepared from Example 2. The state before applying the voltage of the conductive film prepared from Example 2 is shown in Figure 3 (b).

비교예Comparative example 1 One

실시예 1과 동일하게 전도성 필름을 제조하되, 제1 용액 형성시 물 : WS2100 : Irgacure 2959 의 함량을 10 : 5 : 0.01로 조절하였다. 도 2(c)는 과량 포함된 WS 2100 사이의 경화로 인해 가교시 액적 간 응집이 일어나고, 그에 따라 독립된 형상의 가교성 피복막을 갖는 액적 형성이 방해된 모습을 촬영한 이미지이다.A conductive film was prepared in the same manner as in Example 1, but the content of water: WS2100: Irgacure 2959 was adjusted to 10: 5: 0.01 when forming the first solution. FIG. 2 (c) is an image of a state in which aggregation between droplets occurs during crosslinking due to curing between WS 2100 contained in an excessive amount, and thus droplet formation with an independent crosslinkable coating film is interrupted.

실시예 1과 마찬가지로, 비교예 1로부터 제조된 전도성 필름에도 약 30V의 전압을 인가해보았으나, 도2(c)와 같이 액적간 뭉침이 심하기 때문에, 전압 인가 전후 모두 빛의 투과가 거의 불가능함이 관찰되었다.As in Example 1, a voltage of about 30 V was applied to the conductive film prepared from Comparative Example 1, but since the aggregation between the droplets is severe as shown in FIG. 2 (c), light transmission is almost impossible before and after voltage application. Was observed.

Claims (15)

경화기 함유 화합물(a1)을 포함하는 제1 용액(A); 및 상기 제1 용액과 불혼화성이고, 액정 또는 전도성 입자(b1)를 포함하는 제2 용액(B);을 혼합하여, 제1 용액 및 제2 용액의 혼합물 내에서 제2 용액(B)의 액적을 형성하는 단계;
를 포함하되,
상기 제1 용액(A)은 상기 경화기 함유 화합물(a1)을 20 중량% 이하로 포함하는 전도성 필름의 제조방법.
A first solution (A) comprising a curing group-containing compound (a1); And a second solution (B) that is immiscible with the first solution and contains liquid crystals or conductive particles (b1). By mixing, the solution of the second solution (B) in a mixture of the first solution and the second solution Forming an enemy;
Including,
The first solution (A) is a method for producing a conductive film containing the curing group-containing compound (a1) at 20% by weight or less.
제1항에 있어서, 제1 용액(A) 100 중량부와 제2 용액(B) 1 내지 50 중량부를 혼합하는 전도성 필름의 제조방법.
The method according to claim 1, wherein 100 parts by weight of the first solution (A) and 1 to 50 parts by weight of the second solution (B) are mixed.
제2항에 있어서, 액적 형성시 혼합물에 대한 교반을 수행하는 전도성 필름의 제조방법.
The method according to claim 2, wherein the formation of the droplets is performed by stirring the mixture.
제1항에 있어서, 제1 용액(A)과 제2 용액(B)의 혼합물은 계면활성제를 더 포함하는 전도성 필름의 제조방법.
The method of claim 1, wherein the mixture of the first solution (A) and the second solution (B) further comprises a surfactant.
제4항에 있어서, 상기 계면활성제는 5 nm 내지 500 nm의 크기를 갖는 양친매성 나노입자인 전도성 필름의 제조방법.
The method of claim 4, wherein the surfactant is an amphiphilic nanoparticle having a size of 5 nm to 500 nm.
제5항에 있어서, 상기 양친매성 나노입자는 코어부 및 쉘부를 포함하고, 상기 코어부는 나노입자를 포함하고, 상기 쉘부는 나노입자를 둘러싸는 양친매성 화합물을 포함하는 전도성 필름의 제조방법.
The method of claim 5, wherein the amphiphilic nanoparticles include a core portion and a shell portion, the core portion includes nanoparticles, and the shell portion comprises an amphiphilic compound surrounding the nanoparticles.
제4항에 있어서, 상기 경화기 함유 화합물(a1)을 경화하여 액적 표면을 둘러싸는 가교성 피복막을 형성하는 단계;
를 더 포함하는 전도성 필름의 제조방법.
The method of claim 4, further comprising curing the curing group-containing compound (a1) to form a crosslinkable coating film surrounding the droplet surface;
Method for producing a conductive film further comprising a.
제7항에 있어서, 경화기 함유 화합물(a1)에 대한 경화는 교반, 열 조사 및 광 조사 중 어느 하나 이상의 방법에 의해 이루어지는 전도성 필름의 제조방법.
The method for producing a conductive film according to claim 7, wherein the curing of the curing group-containing compound (a1) is performed by any one or more of stirring, heat irradiation, and light irradiation.
제7항에 있어서, 경화기 함유 화합물(a1)에 대한 경화 후, 제1 용액 및 제2 용액의 혼합물을 하부 전도성 기재 상에 도포하여, 가교성 피복막을 갖는 액적을 하부 전도성 기재 상에 위치시키는 단계;
를 더 포함하는 전도성 필름의 제조방법.
The method of claim 7, after curing for the curing group-containing compound (a1), applying a mixture of the first solution and the second solution on the lower conductive substrate, thereby placing the droplets having the crosslinkable coating on the lower conductive substrate. ;
Method for producing a conductive film further comprising a.
제9항에 있어서, 하부 전도성 기재 상에 가교성 피복막을 갖는 액적을 위치시킨 후, 건조를 수행하여 코팅층을 형성하는 전도성 필름의 제조방법.
10. The method of claim 9, After placing a droplet having a cross-linkable coating film on the lower conductive substrate, the method of manufacturing a conductive film to form a coating layer by performing drying.
제7항에 있어서, 경화기 함유 화합물(a1)에 대한 경화 후, 제1 용액 및 제2 용액의 혼합물로부터 가교성 피복막을 갖는 액적을 분리하는 단계;
를 더 포함하는 전도성 필름의 제조방법.
The method of claim 7, after curing for the curing group-containing compound (a1), separating a droplet having a crosslinkable coating film from a mixture of the first solution and the second solution;
Method for producing a conductive film further comprising a.
제11항에 있어서, 상기 분리는 세척 또는 원심분리에 의해 이루어지는 전도성 필름의 제조방법.
The method of claim 11, wherein the separation is performed by washing or centrifugation.
제11항에 있어서, 혼합물로부터 분리된 가교성 피복막을 갖는 액적과 경화성 수지(C)를 포함하는 코팅 조성물을 마련하고, 상기 코팅 조성물을 하부 전도성 기재 상에 도포 후 경화하여 코팅층을 마련하는 단계;
를 더 포함하는 전도성 필름의 제조방법.
The method of claim 11, further comprising: preparing a coating composition comprising a droplet having a crosslinkable coating film separated from the mixture and a curable resin (C), and applying the coating composition on a lower conductive substrate, followed by curing to prepare a coating layer;
Method for producing a conductive film further comprising a.
제13항에 있어서, 코팅 조성물에 대한 경화는 열 조사 또는 광 조사에 의해 이루어지는 전도성 필름의 제조방법.
The method of claim 13, wherein curing the coating composition is performed by thermal irradiation or light irradiation.
제10항 또는 제13항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 코팅층을 매개로 상기 하부 전도성 기재와 대향하도록, 상부 전도성 기재를 합착하는 단계;
를 더 포함하는 전도성 필름의 제조방법.
The method according to any one of claims 10 to 13, further comprising: bonding an upper conductive substrate to face the lower conductive substrate via the coating layer;
Method for producing a conductive film further comprising a.
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Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100745744B1 (en) * 2005-11-11 2007-08-02 삼성전기주식회사 A coating method of nano particle
KR20090016918A (en) * 2007-08-13 2009-02-18 재단법인서울대학교산학협력재단 Metal nanoparticle deposition method using block copolymers micelles

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100649039B1 (en) 2004-01-15 2006-11-27 샤프 가부시키가이샤 Display element, display device, and manufacturing method of display element

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