KR20180053790A - Method for preparing a conductive film - Google Patents

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Abstract

The present invention relates to a conductive film which simplifies a manufacturing process of the conductive film, reduces a manufacturing cost and improves reliability of the process and a product. A manufacturing method of a conductive film comprises a step of mixing a first solution (A) which includes 20 wt% or less of a curing agent containing compound (a1) and a second solution (B) which is immiscible with the first solution and includes a liquid crystal or a conductive particle (b1), and forming the liquid crystal of the second solution (B) within a mixture of the first solution and the second solution.

Description

전도성 필름의 제조방법{Method for preparing a conductive film}TECHNICAL FIELD The present invention relates to a method for preparing a conductive film,

본 출원은 전도성 필름의 제조방법에 관한 것이다.The present application relates to a method for producing a conductive film.

전기적으로 구동되는 셀이 하전 입자나 액정 등을 포함하는 경우, 하전된 입자나 액정을 셀 내부의 일정 공간에 가두기 위해 격벽이 사용되고 있다. 이러한 격벽은 기판 상에 마련된 고분자층을 패터닝함으로써 형성되며, 상기 패터닝에는 포토리소그래피(photolithography), 포토리지스트(photoresist) 또는 몰드 프린팅(mold printing) 등이 사용되는 것이 일반적이다. 그러나, 상기와 같은 격벽 형성 공정은 제조공정을 복잡하게 하고, 제조비용을 증가시킬 뿐 아니라, 공정 중 전극의 손상을 가져오는 문제가 있다.When the electrically driven cell includes charged particles or liquid crystal, a barrier is used to confine the charged particles or liquid crystal in a certain space inside the cell. Such barrier ribs are formed by patterning a polymer layer provided on a substrate, and photolithography, photoresist, or mold printing or the like is generally used for the patterning. However, the above-described process of forming the barrier ribs complicates the fabrication process, increases the manufacturing cost, and causes a problem of electrode damage during the process.

한편, 에멀젼(emulsion)은 다양한 분야에서 활용되고 있으나, 분산상인 액적의 분산 안정성을 장시간 유지하는 것이 어렵다는 문제가 있다.On the other hand, although emulsions have been used in various fields, there is a problem that it is difficult to maintain the dispersion stability of droplets as dispersed phases for a long time.

본 출원의 일 목적은 제조 공정이 단순화되고, 제조비용이 절감된 전도성 필름을 제공하는 것이다.One object of the present invention is to provide a conductive film which is simplified in manufacturing process and reduced in manufacturing cost.

본 출원의 다른 목적은 공정 및 제품 신뢰성을 향상시킬 수 있는 전도성 필름의 제조방법을 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to provide a method for manufacturing a conductive film capable of improving process and product reliability.

본 출원의 상기 및 기타 그 밖의 목적은 하기 상세히 설명되는 본 출원에 의해 모두 해결될 수 있다.These and other objects of the present application can be resolved entirely by the present application, which is described in detail below.

본 출원에 관한 일례에서, 본 출원은 전도성 필름의 제조방법에 관한 것이다. 상기 제조방법은 유화액 내에서 액적(droplet)을 형성하되, 상기 액적의 표면을 둘러쌀 수 있는 가교 구조를 형성함으로써 유화액의 분산 안정성을 크게 향상시킬 수 있다.In one example of this application, the present application relates to a method of making a conductive film. The method of the present invention can greatly improve the dispersion stability of the emulsion by forming a droplet in the emulsion and forming a crosslinked structure that can surround the surface of the droplet.

하나의 예시에서, 상기 제조방법은, 경화기 함유 화합물(a1)을 포함하는 제1 용액(A), 및 전도성 입자(b1)를 포함하는 제2 용액(B)을 혼합하여, 제2 용액(B)의 액적을 형성하는 단계를 포함할 수 있다. 유화액의 분산안정성과, 최종 제품 내에서의 시인성 등을 고려하여, 상기 혼합물은 제1 용액(A) 100 중량부 대비 제2 용액(B) 1 내지 50 중량부를 혼합하여 마련될 수 있다. 본 출원에서, 「중량부」라 함은 각 성분간의 중량비율을 의미할 수 있다.In one example, the production method comprises mixing a first solution (A) containing a curing agent-containing compound (a1) and a second solution (B) containing conductive particles (b1) ) To form droplets of the liquid. The mixture may be prepared by mixing 1 to 50 parts by weight of the second solution (B) with respect to 100 parts by weight of the first solution (A) in consideration of dispersion stability of the emulsion and visibility in the final product. In the present application, " part by weight " may mean a weight ratio between the respective components.

본 출원에서, 상기 제1 용액(A)과 제2 용액(B)의 혼합물은 유화액을 형성할 수 있다. 이를 위해, 상기 제1 및 제2 용액은 서로 불혼화성인 용매를 각각 포함할 수 있다. 본 출원에서 「불혼화성(immiscible)」이란, 통상의 유화(emulsification) 방식에서 사용되는 의미와 동일하게 사용될 수 있다. 예를 들어, 2 이상의 용매 또는 용액이 단순 혼합된 경우 서로 섞이지 않고 상분리가 일어난 다면, 상기 혼합된 용매 또는 용액들은 서로에 대해 불혼화성이라고 할 수 있다. 구체적으로, 상기 제1 용액(A)의 주성분을 이루는 용매가 물이나, 또는 이소프로필알코올(isopropyl alchol), 메탄올(methanol), 에탄올(ethanol) 등의 알코올류, 또는 아세톤(acetone)이나 에틸아세테이트(ethyl acetate) 등과 같이 물과 상분리되지 않고 혼합되는 소위 친수성의 성질을 갖는 경우, 상기 제2 용액(B)의 주 성분을 이루는 용매는 사이클로헥사논(cyclohexanone), 메틸렌 클로라이드(methylene chloride, MC), 노말헥산(n-hexane) 또는 톨루엔(toluene), 이소파라핀(isoparaffin) 등과 같이 소위 소수성의 성질을 가질 수 있다. 또한, 그 반대의 경우도 가능하다. 상기와 같이, 용매 또는 용액 간 불혼화성은 서로 혼합되는 용매에 따라 상대적으로 결정될 수 있는 것이기 때문에, 본 출원에 사용되는 제1 용액(A) 및 제2(B) 용액에 포함되는 용매의 종류는 상기 나열된 용매에 제한되지 않으며, 서로 불혼화성을 가진 공지의 용매를 적절히 선택하여 사용할 수 있다.In the present application, the mixture of the first solution (A) and the second solution (B) can form an emulsion. To this end, the first and second solutions may each comprise a solvent which is immiscible with each other. The term " immiscible " in the present application can be used in the same way as the meaning used in a conventional emulsification method. For example, if two or more solvents or solutions are simply mixed, the mixed solvent or solutions may be said to be immiscible with each other if phase separation occurs without intermixing one another. Specifically, when the solvent constituting the main component of the first solution (A) is water or an alcohol such as isopropyl alcohol, methanol, or ethanol, or acetone or ethyl acetate (MC), which is a major component of the second solution (B), has a hydrophilic property such as ethyl acetate which is mixed with water without being phase-separated. The solvent is preferably a solvent such as cyclohexanone, methylene chloride , N-hexane or toluene, isoparaffin, and the like. The opposite case is also possible. As described above, since the immiscibility between solvents or solutions can be relatively determined depending on the solvents to be mixed with each other, the types of the solvents included in the first solution (A) and the second solution (B) The solvent is not limited to the solvents listed above, and a known solvent having immiscibility with each other may be appropriately selected and used.

하나의 예시에서, 상기 제1 용액 및 제2 용액에 포함되는 각 용매는 비경화성, 즉 경화성 관능기를 갖지 않는 용매로서 하기 언급되는 경화 과정을 거치더라도 경화되지 않을 수 있다.In one example, each of the solvents contained in the first solution and the second solution may be non-curable, i.e., a solvent that does not have a curable functional group, and may not be cured even after the curing process described below.

하나의 예시에서, 상기 제1 용액(A)은 경화기 함유 화합물(a1)을, 제1 용액(A) 전체 중량 중 20 중량% 이하로 포함할 수 있다. 본 출원에서 경화기 함유 화합물(a1)과 관련하여 사용된 용어 「중량%」는, 제1 용액(A) 전체 성분 중에서 경화기 함유 화합물(a1)이 차지하는 중량의 비율을 의미할 수 있다. 상기 경화기 함유 화합물(a1)의 함량이 20 중량%를 초과할 경우, 하기 설명되는 액적 표면을 둘러싸는 피복막 형성 과정에서 지나친 가교로 인해 액적 간의 뭉침이 일어나므로, 최종 제품의 시인성이 악화될 수 있다.In one example, the first solution (A) may contain the curing agent-containing compound (a1) in an amount of 20 wt% or less in the total weight of the first solution (A). The term "% by weight" used in connection with the curable group-containing compound (a1) in the present application may mean the ratio of the weight of the curable group-containing compound (a1) in the total components of the first solution (A). When the content of the curing agent-containing compound (a1) is more than 20% by weight, aggregation of droplets occurs due to excessive crosslinking in the process of forming a coating film surrounding the droplet surface described below, have.

상기 경화기 함유 화합물(a1)의 종류는, 제1 용액(A) 내에 함께 포함되는 용매와의 혼화성 등을 고려하여 선택될 수 있고, 특별히 제한되지 않는다. 예를 들어, (메타)아크릴레이트계 또는 에폭시계 화합물이 사용될 수 있다. 보다 구체적으로, 제1 용액(A)에 포함되는 용매로서 이소프로필알코올이 사용되는 경우, 경화기 함유 화합물(a1)로는 친수성 아크릴레이트인 WS2100 (Miwon Specialty Chemical Co., Ltd.)가 사용될 수 있다. 또한, 제1 용액(A)에 포함되는 용매로서 톨루엔이 사용되는 경우에는 소수성 아크릴레이트인 MB1000 (Miwon Specialty Chemical Co., Ltd.)가 사용될 수 있다.The kind of the curing agent-containing compound (a1) can be selected in consideration of miscibility with a solvent contained in the first solution (A), and is not particularly limited. For example, a (meth) acrylate-based or epoxy-based compound may be used. More specifically, when isopropyl alcohol is used as the solvent contained in the first solution (A), WS2100 (Miwon Specialty Chemical Co., Ltd.), which is a hydrophilic acrylate, may be used as the curing group-containing compound (a1). When toluene is used as the solvent included in the first solution (A), MB1000 (Miwon Specialty Chemical Co., Ltd.), which is a hydrophobic acrylate, may be used.

하나의 예시에서, 상기 제1 용액(A)은 열 개시제 또는 광 개시제를 추가로 포함할 수 있다. 개시제의 종류는 특별히 제한되지 않고, Irgacure 등과 같이 공지된 개시제가 제한없이 사용될 수 있다. 상기 개시제는 제1 용액(A) 전체 중량 대비 1 중량% 이하로 포함될 수 있다.In one example, the first solution (A) may further comprise a thermal initiator or a photo initiator. The kind of the initiator is not particularly limited, and known initiators such as Irgacure and the like can be used without limitation. The initiator may be contained in an amount of 1% by weight or less based on the total weight of the first solution (A).

상기 제2 용액(B)은 구동 용매 및, 입자(b1)를 포함할 수 있다. 보다 구체적으로, 상기 구동 용매 100 중량부 대비 0.05 내지 10 중량부의 전도성 입자를 포함할 수 있다.The second solution (B) may include a driving solvent and particles (b1). More specifically, it may include 0.05 to 10 parts by weight of conductive particles relative to 100 parts by weight of the driving solvent.

상기 입자(b1)는 액정 또는 전도성 입자일 수 있다. 구체적으로, 상기 제2 용액(B)에 포함되는 전도성 입자는 (-) 또는 (+) 전하를 띠는 하전 입자일 수 있다. 구체적인 전도성 입자의 종류는 특별히 제한되지 않으나, 예를 들어, 카본 블랙(carbon black), 산화철(ferric oxides), 크롬구리(CrCu), 또는 아닐린 블랙(aniline black) 등이 전도성 입자로 사용될 수 있다.The particles (b1) may be liquid crystal or conductive particles. Specifically, the conductive particles contained in the second solution (B) may be charged particles having (-) or (+) electric charge. The specific conductive particles are not particularly limited. For example, carbon black, ferric oxides, chromium copper (CrCu), or aniline black may be used as the conductive particles.

상기 제2 용액(B)에 포함되는 구동 용매는, 경화기를 갖지 않기 때문에 최종 제품 내에서 상기 전도성 입자의 이동성을 보장할 수 있다. 구동 용매는, 앞서 언급된 바와 같이, 제1 용액과 제2 용액이 서로 불혼화성을 갖도록 선택되는 용매일 수 있다. 사용 가능한 구동 용매의 종류는 특별히 제한되지 않으며, 상기 유화액의 형성 방식을 고려하여 선택될 수 있다.Since the driving solvent contained in the second solution (B) has no curing unit, the mobility of the conductive particles in the final product can be ensured. The driving solvent may be a solvent in which the first solution and the second solution are selected to have immiscibility with each other, as mentioned above. The type of usable driving solvent is not particularly limited and may be selected in consideration of the method of forming the emulsion.

상기 제1 용액 및 제2 용액의 혼합물은 계면 활성제를 추가로 포함할 수 있다. 계면 활성제의 투입 시점은 특별히 제한되지 않는다. 예를 들어, 상기 혼합물 형성 이전에 제1 및/또는 제2 용액 중 어느 하나 이상에 계면활성제가 미리 포함되어 있을 수도 있고, 상기 제1 및 제2 용액 혼합시에 함께 첨가될 수도 있으며, 상기 제1 및 제2 용액을 혼합한 이후에 투입될 수도 있다. The mixture of the first solution and the second solution may further comprise a surfactant. The time point of introduction of the surfactant is not particularly limited. For example, the surfactant may be preliminarily contained in at least one of the first and / or the second solution before the formation of the mixture, or may be added together at the time of mixing the first and second solutions, 1 and the second solution may be mixed.

하나의 예시에서, 액적의 분산 안정성을 고려하여, 상기 계면 활성제는 제1 용액(A) 100 중량부 대비 0.1 내지 15 중량부 범위로 포함될 수 있다. In one example, in consideration of dispersion stability of droplets, the surfactant may be included in the range of 0.1 to 15 parts by weight relative to 100 parts by weight of the first solution (A).

계면활성제로는, 예를 들어, 양이온성 계면활성제, 음이온성 계면활성제, 양쪽 이온성 계면활성제 또는 비이온성 계면활성제와 같이 공지된 분자형의 계면활성제가 제한없이 사용될 수 있다. 보다 구체적으로, 4급(quaternary) 암모늄 화합물, 술포늄 화합물, 아민 염, 또는 이미드 아졸리늄 염 등과 같은 양이온성 계면활성제; 암모늄 라우릴 설페이트, 소듐 1-헵탄설포네이트, 소듐 헥산설포네이트, 또는 소듐 도데실설페이트 등과 같은 음이온성 계면활성제; N-도데실-N,N-디메틸-3-암모니오-1-프로판설포네이트, 베타인 또는 알킬 베타인 등과 같은 양쪽 이온성 계면활성제; 및 SPAN 60, 폴리프로필렌 글리콜 또는 폴리비닐피롤리돈 등과 같은 비인온성 계면활성제가 제한없이 사용될 수 있다.As the surfactant, for example, a surfactant of a known molecular type such as a cationic surfactant, an anionic surfactant, an amphoteric surfactant or a nonionic surfactant can be used without limitation. More specifically, a cationic surfactant such as a quaternary ammonium compound, a sulfonium compound, an amine salt, or an imidazolinium salt; Anionic surfactants such as ammonium lauryl sulfate, sodium 1-heptanesulfonate, sodium hexanesulfonate, or sodium dodecyl sulfate; Amphoteric surfactants such as N-dodecyl-N, N-dimethyl-3-ammonio-1-propanesulfonate, betaine or alkylbetaine; And non-ionic surfactants such as SPAN 60, polypropylene glycol or polyvinylpyrrolidone can be used without limitation.

하나의 예시에서, 상기 계면활성제는 5 nm 내지 500 nm의 크기를 갖는 양친매성 나노입자일 수 있다. 보다 구체적으로, 상기 양친매성 나노입자는 나노입자를 포함하는 코어부, 및 상기 코어부를 둘러싸고 있는 양친매성 화합물을 포함하는 쉘부를 포함할 수 있다. 예를 들어, 상기 쉘의 일부는 친수성 부위로서 나노입자의 일부 면적을 둘러싸고, 쉘의 다른 일부는 소수성 부위로서 나노입자의 다른 일부 면적을 둘러싸도록 형성될 수 있다.In one example, the surfactant may be an amphipathic nanoparticle having a size of 5 nm to 500 nm. More specifically, the amphiphilic nanoparticle may comprise a core portion comprising nanoparticles, and a shell portion comprising an amphipathic compound surrounding the core portion. For example, a portion of the shell may surround a portion of the nanoparticle as a hydrophilic portion, and another portion of the shell may be formed to surround another portion of the nanoparticle as a hydrophobic portion.

하나의 예시에서, 코어부에 사용되는 나노입자로는, 예를 들면, 금, 은, 구리, 백금, 팔라듐, 니켈, 망간 또는 아연 등의 금속 입자, SiO2, Al2O3, TiO2, ZnO, NiO, CuO, MnO2, MgO, SrO 또는 CaO 등의 산화물 입자 또는 PMMA(polymethacrylate) 또는 PS(polystyrene) 등의 고분자일 수 있다.In one example, a nano-particles used in the core portion, for example, gold, silver, and the metal particles of copper, platinum, palladium, nickel, manganese or zinc, SiO 2, Al 2 O 3, TiO 2, Oxide particles such as ZnO, NiO, CuO, MnO 2 , MgO, SrO or CaO, or polymers such as PMMA (polymethacrylate) or PS (polystyrene).

하나의 예시에서, 쉘부에 사용되는 양친매성 화합물로는, 상기 언급된 분자형 계면 활성제 외에, Triton X-114(CAS No.: 9036-19-5), Triton X-100(CAS No.: 92046-34-9), Brij-58(CAS No.: 9004-95-9), 옥틸 글루코사이드(octyl glucoside, CAS No.: 29836-26-8), 옥틸티오글루코사이드(octylthio glucoside, CAS No.: 85618-21-9), 데카에틸렌글리콜 모노데실 에테르(decaethylene glycol monododecyl ether, CAS No.: 9002-92-0), N-데카노일-N-메틸글루카민(N-decanoyl-N-methylglucamine, CAS No.: 85261-20-7), 데실 말토피라노사이드(decyl maltopyranoside, CAS No.: 82494-09-5), N-도데실 말토사이드(Ndodecylmaltoside, CAS No.: 69227-93-6), 노나에틸렌글리콜 모노데실 에테르(nonaethylene glycol monododecyl ether, CAS No.: 3055-99-0), N-노나노일-N-메틸글루카민(N-nonanoyl-N-methylglucamine, CAS No.: 85261-19-4), 옥타에틸렌글리콜 모노도데실 에테르(octaethylene glycol monododecyl ether, CAS No.: 3055-98-9), 스판20(Span20, CAS No.: 1338-39-2), 폴리비닐피롤리돈(polyvinylpyrrolidone, CAS No.: 9003-39-8) 또는 Synperonic F108(PEO-b-PPO-b-PEO, CAS No.: 9003-11-06) 등을 사용할 수 있으나, 상기 나열된 물질들로 특별히 제한되는 것은 아니다.In one example, as the amphiphilic compound used in the shell part, Triton X-114 (CAS No. 9036-19-5), Triton X-100 (CAS No. 92046 -34-9), Brij-58 (CAS No .: 9004-95-9), octyl glucoside (CAS No .: 29836-26-8), octylthio glucoside (CAS No .: 85618 -21-9), decaethylene glycol monododecyl ether (CAS No .: 9002-92-0), N-decanoyl-N-methylglucamine (CAS No : 85261-20-7), decyl maltopyranoside (CAS No .: 82494-09-5), Ndodecylmaltoside (CAS No .: 69227-93-6), Nonna N-nonanoyl-N-methylglucamine (CAS No .: 85261-19-N-methylglucamine), ethylene glycol monododecyl ether (CAS No .: 3055-99-0) 4), octaethylene glycol monododecyl ether (CAS No : 3055-98-9), span 20 (CAS No. 1338-39-2), polyvinylpyrrolidone (CAS No. 9003-39-8) or Synperonic F108 (PEO-b -PPO-b-PEO, CAS No .: 9003-11-06) and the like, but the materials listed above are not particularly limited.

계면활성제가 갖는 입자의 형태는 특별히 제한되지 않으며, 구형, 타원 구형, 막대형, 또는 무정형일 수 있다. 막대형이나 무정형인 경우, 가장 큰 차원의 길이가 상기 범위의 크기를 만족하도록 마련될 수 있다. 상기와 같이 입자상의 계면활성제를 사용할 경우, 유화액 내에서의 액적 형성 시간이 크게 단축될 수 있고, 액적끼리 서로 뭉치는 정도가 크게 감소하는 등 액적의 높은 분산 안정성을 확보할 수 있다. 액적 형성 시간을 비교해보면, 통상적인 분자형 계면활성제를 사용하는 경우 적정 정도의 분산성과 크기를 갖는 유화 입자 형성에 소요되는 교반 시간이 1시간 이상 또는 2시간 이상이라고 한다면, 입자형 계면 활성제를 사용하는 경우의 그 시간은 수십분 이내, 예를 들어 10초 내지 10 분 정도이다. 이렇듯, 양친매성 나노입자를 계면 활성제로 사용할 경우에는 높은 분산 안정성과 함께 입자 형성 시간을 1/10 이상 까지도 단축 할 수 있는 이점이 있다. The form of the particles of the surfactant is not particularly limited and may be spherical, elliptic spherical, rod-like, or amorphous. In case of rod-like or amorphous, the length of the largest dimension may be set to satisfy the size of the range. When the particulate surfactant is used as described above, the droplet formation time in the emulsion can be greatly shortened, and the degree of aggregation of the droplets with each other can be greatly reduced, and high dispersion stability of the droplet can be ensured. In comparison of the droplet formation time, when a conventional molecular type surfactant is used and the stirring time required for forming an emulsion particle having an appropriate degree of dispersibility and size is more than 1 hour or more than 2 hours, a particle type surfactant is used For example, 10 seconds to 10 minutes. As described above, when the amphipathic nanoparticles are used as a surfactant, there is an advantage that the particle formation time can be shortened to 1/10 or more as well as high dispersion stability.

하나의 예시에서, 본 출원의 제조방법은, 상기 제1 용액 및 제2 용액의 혼합물 내에서 형성되는 액적의 분산 안정성을 높이고자, 상기 혼합물에 대한 교반을 수행할 수 있다. 상기 교반은 공지된 호모게나이저(homogenizer) 등을 사용하여 이루어질 수 있다. 교반 속도나 교반 시간은 특별히 제한되지 않고, 액적의 크기와 분산성을 고려하여 적절히 제어될 수 있다. In one example, the production method of the present application can carry out stirring for the mixture in order to increase the dispersion stability of droplets formed in the mixture of the first solution and the second solution. The stirring may be performed using a known homogenizer or the like. The stirring speed or stirring time is not particularly limited and may be suitably controlled in consideration of the size and dispersibility of the droplets.

상기 조성의 용액을 상기 방법을 통해 혼합하여 제조된 혼합물, 즉 제1 및 제2 용액으로부터 형성된 유화액 내에는, 제2 용액(B)으로부터 형성된 복수의 액적(droplet)인 유화 입자가 포함될 수 있다. 상기 액적의 내부에는 제2 용액(B)의 구성성분, 즉 구동 용매와 전도성 입자가 포함될 수 있다. 또한, 상기 혼합물에 계면 활성제가 포함될 경우에는, 상기 계면 활성제는 상기 액적과 제1 용액(A)의 계면에 위치할 수 있다.Emulsified particles, which are droplets formed from the second solution (B), may be contained in the emulsion formed from the mixture prepared by mixing the solution of the above composition through the above method, that is, the first and second solutions. Inside the droplet, the constituent components of the second solution (B), that is, the driving solvent and the conductive particles may be included. Further, when the surfactant is contained in the mixture, the surfactant may be located at the interface between the droplet and the first solution (A).

유화액 형성 이후, 상기 경화기 함유 화합물(a1)에 대한 경화가 이루어질 수 있다. 상기 경화는 제1 용액(A) 내에서 액적 근처에 부유하던 경화기 함유 화합물(a1)을 가교시킴으로써, 경화기 함유 화합물(a1)로부터 형성된 가교 구조가 각 액적의 표면을 둘러싸도록 한다. 본 출원의 경우, 제1 용액(A) 전체 중량 중 경화기 함유 화합물(a1)의 함량을 20 중량% 이하로 조절하기 때문에, 유화액 중 연속상에 대한 전체적인 경화를 일으키지 않을 수 있다. 또한, 상기 함량만큼의 경화기 함유 화합물(a1)이 제1 용액 내에서 불규칙하게 소량 분산되어 있기 때문에, 가교를 통해 액적들이 뭉치는 현상을 방지하면서도, 가교 구조에 의해 그 표면이 둘러 싸여진 각 액적이 독립된 형상으로 분산된 형태를 유지할 수 있게 한다. 본 출원에서, 경화기 함유 화합물(a1)로부터 형성된 가교 구조로 둘러싸인 액적은, 가교성 피복막 또는 가교 구조 피복막을 갖는 액적으로 호칭될 수 있다. 상기 경화에 의한 가교 구조는 전도성 입자를 포함하는 액적의 분산 안정성을 크게 증가시킬 수 있다. After the formation of the emulsion, curing to the curing agent-containing compound (a1) can be performed. This curing causes the crosslinking structure formed from the curing agent-containing compound (a1) to surround the surface of each droplet by crosslinking the curing agent-containing compound (a1) floating in the vicinity of the droplet in the first solution (A). In the case of the present application, since the content of the curing agent-containing compound (a1) in the total weight of the first solution (A) is adjusted to 20 wt% or less, the whole curing of the continuous phase in the emulsion can not be caused. In addition, since the curing-group-containing compound (a1) is dispersed irregularly in a small amount in the first solution by the above amount, it is possible to prevent the droplets from aggregating through the crosslinking, It is possible to maintain a distributed shape in an independent shape. In the present application, the droplet surrounded by the crosslinking structure formed from the curing agent-containing compound (a1) may be referred to as a droplet having a crosslinking coating film or a crosslinking structure coating film. The crosslinking structure by the curing can greatly increase the dispersion stability of droplets containing conductive particles.

상기 경화는 교반, 열 조사 및 광 조사 중 어느 하나 이상의 방법에 의해 이루어질 수 있다. 예를 들어, 광 조사만으로도 상기 가교 구조를 형성할 수 있고, 또는 교반과 동시에 광 조사 또는 열 조사를 진행하여 가교 구조를 형성할 수 있다.The curing may be carried out by any one or more of stirring, heat irradiation and light irradiation. For example, the crosslinked structure can be formed only by light irradiation, or the crosslinked structure can be formed by conducting light irradiation or heat irradiation simultaneously with stirring.

하나의 예시에서, 상기 가교 구조 형성을 위한 경화는 교반에 의해 이루어질 수 있다. 교반 조건은 특별히 제한되지 않으나, 예를 들어, 1 시간 내지 48 시간 동안 100 rpm 내지 3,000 rpm의 속도로 이루어질 수 있다. 특별히 제한되지는 않으나, 상기 교반은 상온 또는 가온 상태에서, 1 시간 이상 또는 2 시간 이상 이루어 질 수 있다. 본 출원에서, 상온은 18 ℃ 내지 28 ℃ 범위, 보다 구체적으로는 23 ℃ 내지 25 ℃ 범위의 온도를 의미할 수 있으며, 가온은 상기 상온 보다 온도가 높은 상태로서, 예를 들어 약 80 ℃ 이하의 온도일 수 있다. 교반에 사용되는 장치나 구체적인 교반 방식은 특별히 제한되지 않는다.In one example, the curing for forming the crosslinked structure can be effected by stirring. The stirring conditions are not particularly limited, but may be, for example, from 100 rpm to 3,000 rpm for 1 hour to 48 hours. Although not particularly limited, the stirring may be carried out at room temperature or in a warmed state for at least 1 hour or at least 2 hours. In the present application, the normal temperature may mean a temperature in the range of 18 ° C to 28 ° C, more specifically in the range of 23 ° C to 25 ° C, and the heating is a state in which the temperature is higher than the normal temperature, Lt; / RTI > The apparatus used for stirring and the specific stirring method are not particularly limited.

또 하나의 예시에서, 상기 가교 구조 형성을 위한 경화는 열 조사에 의해 이루어질 수 있다. 열 조사에 의한 열 경화는, 예를 들어, 경화기 함유 화합물(a1)로서 에폭시계 화합물이 사용된 경우에 이루어질 수 있다. 특별히 제한되지 않으나, 상기 열 경화는 1분 이상 48 시간 이하의 시간 동안 소정의 열을 조사하거나 소정의 온도 조건을 형성하여 이루어질 수 있다. 경화를 위해 조사되는 열의 온도나 형성되는 고온 조건은, 예를 들어, 80 ℃ 이상, 90 ℃ 이상, 100 ℃ 이상, 110 ℃ 이상 또는 120 ℃ 이상, 그리고 180 ℃ 이하, 170 ℃ 이하 또는 160 ℃ 이하일 수 있다. 상기 열 경화는, 상기 언급된 교반과 함께 이루어질 수 있다. In another example, the curing for forming the crosslinked structure may be performed by heat irradiation. Thermal curing by heat irradiation can be performed, for example, when an epoxy compound is used as the curing agent-containing compound (a1). Although not particularly limited, the thermosetting may be performed by irradiating a predetermined heat or forming a predetermined temperature condition for a time ranging from 1 minute to 48 hours or less. The temperature of the heat to be irradiated for curing or the high temperature conditions to be formed may be for example 80 ° C or higher, 90 ° C or higher, 100 ° C or higher, 110 ° C or higher or 120 ° C or higher and 180 ° C or lower, 170 ° C or 160 ° C or lower . The thermosetting may be carried out together with the stirring mentioned above.

또 하나의 예시에서, 상기 가교 구조 형성을 위한 경화는 광 조사에 의해 이루어질 수 있다. 광 조사에 의한 광 경화는, 예를 들어, 경화기 함유 화합물(a1)로서 아크릴계 화합물이 사용된 경우에 이루어질 수 있다. 특별히 제한되지 않으나, 상기 광 경화에는, 예를 들어 200 nm 내지 400 nm 파장의 UV 광이 사용될 수 있다. 보다 구체적으로, 500 mJ/cm2 내지 1,500 mJ/cm2 범위의 강도로, 1 분 내지 1시간 동안 UV 광이 조사되면서 광 경화가 이루어질 수 있다. 상기 광 경화는, 상기 언급된 교반과 함께 이루어질 수 있다. In another example, the curing for forming the crosslinked structure may be performed by light irradiation. Photocuring by light irradiation can be performed, for example, when an acrylic compound is used as the curing agent-containing compound (a1). Although not particularly limited, UV light having a wavelength of, for example, 200 nm to 400 nm may be used for the photo-curing. More specifically, photo curing can be performed while UV light is irradiated for 1 minute to 1 hour at an intensity ranging from 500 mJ / cm 2 to 1,500 mJ / cm 2 . The photo-curing may be performed together with the above-mentioned stirring.

이후, 혼합물로부터 분리된 가교 구조 피복막을 갖는 액적이, 전도성 기재 상에 도포될 수 있다. 보다 구체적으로, 상기 가교 구조 피복막을 갖는 액적을 포함하는 코팅 조성물을 전도성 기재 상에 도포할 수 있다. 전도성 기재에 대한 코팅 조성물의 도포는 공지된 방법을 통해 이루어질 수 있다. 예를 들어 바 코팅, 그라비아 코팅, 디핑, 스핀코팅 등에 공지된 방식을 사용하여, 상기 코팅 조성물을 전도성 기재 상에 도포할 수 있다. 본 출원에서, 하기 설명되는 바와 같이, 도포된 코팅 조성물을 건조 또는 경화시켜 마련된 층은 코팅층이라고 호칭될 수 있다.Thereafter, a droplet having a crosslinked structure coating film separated from the mixture can be applied onto the conductive substrate. More specifically, a coating composition comprising a droplet having the crosslinked structure coating film may be applied on the conductive substrate. Application of the coating composition to the conductive substrate can be effected by known methods. The coating composition may be applied to a conductive substrate using known methods such as, for example, bar coating, gravure coating, dipping, spin coating, and the like. In the present application, a layer prepared by drying or curing a coated coating composition, as described below, may be referred to as a coating layer.

하나의 예시에서, 전도성 기재 상에 도포되는 코팅 조성물은 제1 용액과 제2 용액의 혼합물일 수 있다. 이 경우 본 출원의 제조방법은, 상기 혼합물을 도포하여 가교 구조 피복막을 갖는 액적을 전도성 기재 상에 위치시킨 후, 건조를 수행할 수 있다. 상기 건조를 통해, 가교 구조 피복막을 갖는 복수의 액적이 전도성 기재 상에서 밀집(dense) 또는 패킹(packing)되어 균일한 하나의 층을 형성할 수 있으므로, 이 경우에는 별도의 매트릭스를 필요로 하지 않을 수 있다. 건조의 조건은 특별히 제한되지 않으며, 예를 들어, 18 ℃ 내지 28 ℃ 사이의 상온에서 일정시간 보관하거나, 30 ℃ 내지 100 ℃ 범위의 가온 또는 열풍 조건에서 이루어질 수 있다.In one example, a coating composition applied on a conductive substrate may be a mixture of a first solution and a second solution. In this case, in the manufacturing method of the present application, the mixture may be applied to place the droplet having the crosslinked structure coating film on the conductive substrate, followed by drying. Through this drying, a plurality of droplets having a crosslinked structure coating film can be dense or packed on a conductive substrate to form a uniform layer, so that a separate matrix is not required in this case have. The drying condition is not particularly limited, and may be, for example, stored at a room temperature between 18 ° C and 28 ° C for a certain period of time, or at a temperature of 30 ° C to 100 ° C or under a hot air condition.

또 하나의 예시에서, 전도성 기재 상에 도포되는 코팅 조성물은, 상기 가교 구조 피복막을 갖는 액적과 경화성 수지(C)를 포함할 수 있다. 경화성 수지(C)의 구체적인 종류는 특별히 제한되지 않는다. 예를 들어, 열 또는 광경화가 가능한 에폭시계 수지 또는 아크릴계 수지가 경화성 수지(C)로서 사용될 수 있다. 코팅 조성물을 전도성 기재 상에 도포한 후에는, 코팅 조성물에 대한 경화가 이루어질 수 있다. 상기 경화의 방식은 특별히 제한되지 않으며, 열 경화 또는 광 경화를 사용할 수 있다. 코팅 조성물을 경화할 경우, 상기 경화성 수지(C)는 가교 구조 피복막을 갖는 액적에 대한 매트릭스 또는 바인더로 기능할 수 있다. 또한, 상기 가교 구조 피복막을 갖는 액적은, 피복막 내에 전도성 입자 및 전도성 입자의 이동 가능성을 보장하는 구동 용매를 포함할 수 있다. In another example, the coating composition applied on the conductive substrate may include a liquid droplet having the crosslinked structure coating film and a curable resin (C). The specific kind of the curable resin (C) is not particularly limited. For example, an epoxy resin or an acrylic resin capable of heat or photo-curing can be used as the curable resin (C). After the coating composition is applied onto the conductive substrate, curing to the coating composition can be effected. The curing method is not particularly limited, and thermal curing or photo curing may be used. When the coating composition is cured, the curable resin (C) may function as a matrix or a binder for a droplet having a crosslinked structure coating film. In addition, the droplet having the crosslinked structure coating film may include a conductive solvent and a driving solvent that ensures the possibility of the conductive particle to move within the coating film.

상기와 같이, 코팅 조성물이 가교 구조의 피복막을 갖는 액적과 경화성 수지(c)를 포함하는 경우, 본 출원의 제조방법은 전도성 기재 상에 코팅 조성물을 도포하기 전에, 가교 구조 피복막을 갖는 액적을 상기 제1 및 제2 용액의 혼합물로부터 분리하는 단계를 더 포함할 수 있다. 상기 분리 방법은 특별히 제한되지 않으며, 예를 들어, 세척이나 원심분리 등의 방법을 이용할 수 있다.As described above, when the coating composition comprises a liquid having a coating film of a crosslinked structure and the curable resin (c), the production method of the present application is characterized in that before applying the coating composition onto the conductive substrate, Separating the mixture from the mixture of the first and second solutions. The separation method is not particularly limited, and for example, a method such as washing or centrifugation can be used.

본 출원의 제조방법은, 상기 코팅 조성물에 대한 건조 또는 경화 이후에, 상기 전도성 기재와 대향하도록 또 하나의 전도성 기재를 합착하는 단계를 추가로 포함할 수 있다. 상기 대향하는 전도성 기재는 코팅층과의 위치에 따라, 상부 전도성 기재 또는 하부 전도성 기재로 호칭될 수 있다.The manufacturing method of the present application may further include the step of cementing another conductive base material to oppose the conductive base material after drying or curing the coating composition. The opposite conductive substrate may be referred to as an upper conductive substrate or a lower conductive substrate, depending on its position with respect to the coating layer.

본 출원에 관한 다른 일례에서, 본 출원은 상기와 같은 과정을 통해 제조된 전도성 필름에 관한 것이다. 상기 전도성 필름은 전도성 기재 및 코팅층의 적층체일 수 있다. 또는, 하부 전도성 기재, 코팅층 및 상부 전도성 기재가 순차적으로 적층된 적층체일 수 있다. In another example of the present application, the present application relates to a conductive film produced through the above process. The conductive film may be a laminate of a conductive substrate and a coating layer. Alternatively, the lower conductive substrate, the coating layer, and the upper conductive substrate may be sequentially stacked.

상기 코팅층은 경화성 수지의 경화물인 매트릭스와, 상기 매트릭스에 분포되어 있는 복수의 액적을 포함할 수 있다. 상기 액적은, 상기 언급된 본 출원의 방법에 따라 제조되어 가교 구조의 피복막을 가질 수 있다. 또한, 상기 액적은 구동 용매와 전도성 입자를 포함할 수 있다.The coating layer may include a matrix, which is a cured product of the curable resin, and a plurality of droplets distributed in the matrix. The droplets may be produced according to the method of the presently filed application and have a coating film of a crosslinked structure. Also, the droplet may include a driving solvent and conductive particles.

하나의 예시에서, 상기 전도성 기재는 투명 전도성 금속 산화물을 포함하는 전극일 수 있다. 상기 투명 전도성 금속산화물로는 예를 들어, ITO(Indium Tin Oxide), In2O3(indium oxide), IGO(indium galium oxide), FTO(Fluor doped Tin Oxide), AZO(Aluminium doped Zinc Oxide), GZO(Galium doped Zinc Oxide), ATO(Antimony doped Tin Oxide), IZO(Indium doped Zinc Oxide), NTO(Niobium doped Titanium Oxide), ZnO(zink oxide), 또는 CTO (Cesium Tungsten Oxide)가 사용될 수 있다.In one example, the conductive substrate may be an electrode comprising a transparent conductive metal oxide. Examples of the transparent conductive metal oxide include ITO (Indium Tin Oxide), In 2 O 3 (indium oxide), IGO (indium gallium oxide), FTO (fluoro-doped tin oxide), AZO Gallium doped zinc oxide (GZO), antimony doped tin oxide (ATO), indium doped zinc oxide (IZO), niobium doped titanium oxide (NTO), zinc oxide (ZnO), or cesium tungsten oxide (CTO).

또 하나의 예시에서, 상기 전도성 기재는 메탈 메쉬 전극일 수 있다. 메탈 메쉬를 형성하기 위한 금속 재료로는, 예를 들어, 은(Ag), 구리(Cu), 알루미늄(Al), 마그네슘(Mg), 금(Au), 백금(Pt), 텅스텐(W), 몰리브덴(Mo), 티탄(Ti), 니켈(Ni) 또는 이들의 합금이 사용될 수 있다.In another example, the conductive substrate may be a metal mesh electrode. Examples of the metal material for forming the metal mesh include metals such as silver, copper, aluminum, magnesium, gold, platinum, tungsten, Molybdenum (Mo), titanium (Ti), nickel (Ni), or alloys thereof may be used.

또 하나의 예시에서, 상기 전도성 기재는 OMO(oxide/metal/oxide) 전극일 수 있다. 상기 OMO(oxide/metal/oxide) 전극은 2개의 금속 산화물층 사이에 금속층이 개재된 형태를 가질 수 있다. 상기 OMO(oxide/metal/oxide) 전극에 포함되는 금속산화물층에는, 예를 들어, Sb, Ba, Ga, Ge, Hf, In, La, Ma, Se, Si, Ta, Se, Ti, V, Y, Zn 및 Zr로 이루어진 군에서 선택되는 1 이상의 금속 산화물이 사용될 수 있다. 또한, 상기 금속산화물층 사이에 개재되는 금속층의 형성 성분으로는 은(Ag), 구리(Cu), 알루미늄(Al), 마그네슘(Mg), 금(Au), 백금(Pt), 텅스텐(W), 몰리브덴(Mo), 티탄(Ti), 또는 니켈(Ni)이 사용될 수 있으나, 특별히 제한되는 것은 아니다.In another example, the conductive substrate may be an oxide / metal / oxide (OMO) electrode. The OMO (oxide / metal / oxide) electrode may have a metal layer interposed between two metal oxide layers. The metal oxide layer included in the oxide / metal / oxide (OMO) electrode may include, for example, Sb, Ba, Ga, Ge, Hf, In, La, Ma, Se, Si, Ta, Se, Y, Zn, and Zr may be used. The metal layer interposed between the metal oxide layers may contain at least one selected from the group consisting of Ag, Cu, Al, Mg, Au, Pt, , Molybdenum (Mo), titanium (Ti), or nickel (Ni) may be used, but it is not particularly limited.

하나의 예시에서, 상기 전도성 필름은 복수의 전도성 기재를 포함할 수 있다. 이 경우, 코팅층은 어느 2개의 전도성 기재 사이에 마련되어, 상기 코팅층을 매개로 접합된 적어도 2개의 전극이 서로 대향할 수 있도록 상기 전도성 필름이 구성될 수 있다. 특별히 제한되지는 않으나, 대향하는 2개의 전극 중 어느 하나는 메탈메쉬 전극인 것이 바람직하다.In one example, the conductive film may comprise a plurality of conductive substrates. In this case, the coating layer may be provided between any two conductive substrates, and the conductive film may be configured such that at least two electrodes bonded to each other via the coating layer may face each other. Although not particularly limited, it is preferable that one of the two opposing electrodes is a metal mesh electrode.

상기 전도성 기재는 상기 언급된 전극 재료 중 어느 하나와, 가시광에 대한 투과율이 약 50 % 내지 90 % 범위인 투광성 기재의 적층체일 수 있다. 상기 투광성 기재의 종류는 특별히 제한되지 않으며, 예를 들어 투명한 유리 또는 고분자 수지가 사용될 수 있다. 보다 구체적으로, PC(Polycarbonate), PEN(poly(ethylene naphthalate)) 또는 PET(poly(ethylene terephthalate))와 같은 폴리에스테르 필름, PMMA(poly(methyl methacrylate))와 같은 아크릴 필름, 또는 PE(polyethylene) 또는 PP(polypropylene)와 같은 폴리올레핀 필름 등이 사용될 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.The conductive substrate may be a laminate of any one of the above-mentioned electrode materials and a translucent substrate having a transmittance of about 50% to 90% with respect to visible light. The type of the light-transmitting base material is not particularly limited, and transparent glass or polymer resin can be used, for example. More specifically, a polyester film such as PC (Polycarbonate), PEN (poly (ethylene naphthalate)) or PET (poly terephthalate), an acrylic film such as poly (methyl methacrylate) Or a polyolefin film such as polypropylene (PP), but the present invention is not limited thereto.

상기 코팅층은 경화 구조 피복막을 갖는 액적을 포함할 수 있다. 상기 언급한 제조방법에 따라, 상기 코팅층은 그 구성을 달리할 수 있다. 예를 들어, 하나의 예시에서, 상기 코팅층은 경화성 수지(c)로부터 형성된 매트릭스 내에 경화 구조 피복막을 갖는 액적이 분산된 구조를 가질 수 있다. 또 하나의 예시에서, 상기 코팅층은, 매트릭스 없이, 경화 구조 피복막을 갖는 액적이 패킹 또는 밀집되어 형성된 층일 수도 있다. The coating layer may comprise droplets having a cured coating film. According to the above-mentioned production method, the coating layer may have a different constitution. For example, in one example, the coating layer may have a droplet-dispersed structure having a cured structure coating film in a matrix formed from the curable resin (c). In another example, the coating layer may be a layer formed by packing or densifying a droplet having a cured structure coating film without a matrix.

상기 경화 구조 피복막을 갖는 액적은 소위 코어-쉘 구조를 가질 수 있다. 상기 코어는 구동 용매와 액정 또는 전도성 입자를 포함할 수 있다. 상기 쉘은, 유화입자 형성시 표면을 둘러싸는 계면 활성제가 규정하는 이너-쉘(inner-shell)과, 경화기 함유 화합물이 형성하는 가교 구조에 의한 아우터-쉘(outer-shell)을 포함할 수 있다. 한편, 상기 언급한 바와 같이, 구동 용매는 경화기를 갖지 않기 때문에, 액정 또는 전도성 입자의 이동성을 보장할 수 있다. The droplets having the cured structure coating film may have a so-called core-shell structure. The core may comprise a driving solvent and liquid crystal or conductive particles. The shell may comprise an inner-shell defined by a surfactant surrounding the surface during emulsion particle formation and an outer-shell by a crosslinking structure formed by the curing agent-containing compound . On the other hand, as mentioned above, since the driving solvent does not have a curing machine, the mobility of liquid crystal or conductive particles can be guaranteed.

하나의 예시에서, 상기 전도성 필름은 전원을 추가로 포함할 수 있다. 상기 전원은 전도성 필름에 대하여 적절한 수준의 전압을 인가하도록 구성될 수 있다. 전원에 의해 인가되는 전압의 크기나, 전도성 필름과 전원 간 전기적 연결방식은 본 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 적절히 선택되어 적용될 수 있다.In one example, the conductive film may further comprise a power source. The power source may be configured to apply a suitable level of voltage to the conductive film. The size of the voltage applied by the power source and the electrical connection between the conductive film and the power source can be suitably selected and applied by a person having ordinary skill in the art.

상기와 같은 전도성 필름은 투과도 가변소자 또는 전자종이 등에 사용될 수 있다. 예를 들어, 상기 전도성 필름은, 인가되는 전압에 따라 이동가능한 전도성 입자를 포함하기 때문에, 소정의 투과도 변화를 가질 수 있고, 또는 전도성 입자의 움직임에 의해 소정의 형상을 구현할 수 있다.The conductive film may be used for a variable transmittance element or an electronic paper. For example, since the conductive film includes conductive particles that are movable according to a voltage to be applied, the conductive film may have a predetermined transmittance change, or a predetermined shape may be realized by the movement of the conductive particles.

본 출원은, 격벽 형성 없이 용매간 혼합이라는 단순 공정만으로 전도성 입자나 액정을 포함하는 구동성 용액을 셀 내에 가둘 수 있기 때문에, 제조 공정을 단순화 시키고, 제조비용을 절감하는 발명의 효과를 갖는다. 또한, 본 출원은 가교 구조 피복막을 갖는 액적을 사용하기 때문에, 액적의 분산 안정성을 향상시키고, 그에 따라 공정 신뢰성과 제품 신뢰성을 개선할 수 있다.The present application has the effect of simplifying the manufacturing process and reducing the manufacturing cost since the driving liquid containing the conductive particles or the liquid crystal can be confined within the cell by a simple process of mixing the solvent without forming the barrier ribs. Further, since the present application uses a droplet having a crosslinked structure coating film, dispersion stability of the droplet can be improved, thereby improving process reliability and product reliability.

도 1은 본 출원의 제조방법을 개략적으로 도시한 것이다.
도 2는 본 출원의 실시예 및 비교예에 따라 제조된 가교 구조 피복막을 갖는 액적을 촬영한 이미지이다. 도 2a는 실시예 1의 액적을, 도 2b는 실시예 2의 액적을, 도 2c는 비교예 1의 액적을 촬영한 이미지이다. 실시예의 액적이 비교예 대비 더욱 균일하고, 액적 역시 독립적으로 형성된다는 점을 확인할 수 있다. 또한, 입자형 계면 활성제를 사용한 실시예 2의 액적이 갖는 분산 안정성이, 실시예 1의 그것 보다 더욱 우수하다는 것을 확인할 수 있다.
도 3은 본 출원의 실시예에 따라 제조된 전도성 필름의 촬영 이미지이다. 구체적으로 도 3a는 실시예 1에 따라 제조된 전도성 필름을, 도 3b는 실시예 2에 따라 제조된 전도성 필름을 촬영한 것이다.
Fig. 1 schematically shows a manufacturing method of the present application.
2 is an image of a droplet having a crosslinked structure coating film prepared according to Examples and Comparative Examples of the present application. FIG. 2A is a droplet of Example 1, FIG. 2B is a droplet of Example 2, and FIG. 2C is an image of a droplet of Comparative Example 1. It can be seen that the droplets of the Examples are more uniform than the Comparative Examples and the droplets are also formed independently. Further, it can be confirmed that the dispersion stability of the droplet of Example 2 using the particulate surfactant is superior to that of Example 1.
3 is a photographed image of a conductive film produced according to an embodiment of the present application. Specifically, FIG. 3A shows a conductive film produced according to Example 1, and FIG. 3B shows a conductive film produced according to Example 2. FIG.

이하, 실시예를 통해 본 출원을 상세히 설명한다. 그러나, 본 출원의 보호범위가 하기 설명되는 실시예에 의해 제한되는 것은 아니다.Hereinafter, the present application will be described in detail by way of examples. However, the scope of protection of the present application is not limited by the embodiments described below.

실시예 1Example 1

가교 구조 피복막을 갖는 액적의 형성:Formation of droplets having crosslinked structure coating film:

친수성 아크릴레이트인 WS2100 (Miwon Specialty Chemical Co., Ltd.) 및 친수성 개시제(Irgacure 2959)를 물에 혼합하여 제1 용액을 제조하였다. 이때, 각 성분의 함량비는 물 : WS2100 : Irgacure 2959 = 10 : 1 : 0.01로 조절하였다. 이후, 제2 용액으로서 표면이 (-)로 하전된 카본블랙 입자를 포함하는 소수성 이소파라핀 용액(Nanobrick社)과 계면활성제(polyvinylpyroolidone)를 제1 용액과 혼합하여, 물, 소수성 이소파라핀 용액, 및 계면 활성제가 5 : 1 : 0.05로 혼합된 혼합물을 형성하였다. 2시간 가량 상기 혼합물을 교반하면서 액적을 형성하고, 동시에 1,000 mJ/cm2 파워의 UV 광을 조사하여 액적 표면에 가교성 피복막을 형성하였다. 가교성 피복막을 갖는 액적의 현미경 이미지는 도 2(a)와 같다.A first solution was prepared by mixing water-soluble acrylate WS2100 (Miwon Specialty Chemical Co., Ltd.) and a hydrophilic initiator (Irgacure 2959) in water. At this time, the content ratio of each component was adjusted to water: WS2100: Irgacure 2959 = 10: 1: 0.01. Thereafter, a hydrophobic isoparaffin solution (Nanobrick) containing carbon black particles whose surface was negatively charged as a second solution and a surfactant (polyvinylpyroolidone) were mixed with the first solution, and water, a hydrophobic isoparaffin solution, and Surfactant in a ratio of 5: 1: 0.05. The mixture was stirred for about 2 hours to form a droplet, and simultaneously UV light having a power of 1,000 mJ / cm 2 was irradiated to form a crosslinkable coating film on the surface of the droplet. A microscope image of the droplet having the crosslinkable coating film is shown in Fig. 2 (a).

전도성 필름의 제조: 액적의 피복막 형성 이후, 상기 제1 및 제2 용액의 혼합물을 바코팅 방식으로 PET/ITO 기재 상에 도포하고, 70 ℃ 오븐 내에서 10분간 건조하여 전도성 기재 상에, 코팅층을 형성하였다. 이후, 코팅층의 다른 일면에 메탈메쉬 전극을 포함하는 기재를 합착하여 전도성 필름을 제조하였다. 도 3(a)는 실시예 1에서 제조된 전도성 필름을 약 30V의 전압으로 구동시키기 전(좌측 이미지)·후(우측 이미지)의 모습을 촬영한 이미지이다. 3(a)로부터, 전압인가 유무에 따라 전도성 필름의 투과도가 변화되는 것을 확인할 수 있다. Preparation of a conductive film: After forming a coating film of a droplet, a mixture of the first and second solutions was coated on a PET / ITO substrate in a bar coating manner and dried in an oven at 70 캜 for 10 minutes to form a coating layer . Thereafter, a substrate including a metal mesh electrode was bonded to the other surface of the coating layer to prepare a conductive film. 3 (a) is an image of a state before (right image) and after (right image) of driving the conductive film manufactured in Example 1 at a voltage of about 30 V. FIG. 3 (a), it can be seen that the transmittance of the conductive film is changed depending on whether a voltage is applied or not.

실시예 2Example 2

계면활성제로서 85 nm 크기의 입자형 계면 활성제(Sekisui, Pmma NP)를 사용한 것을 제외하고, 실시예 1과 동일한방식으로 전도성 필름을 제조하였다. 실시예 1에서와 달리, 교반 후 적절한 분산성의 액적 형성에 소요되는 시간은 10분 이내였다. 도 2(b)는 실시예 2에서 제조된 가교성 피복막을 갖는 액적의 현미경 이미지이다.A conductive film was prepared in the same manner as in Example 1, except that a particle type surfactant (Sekisui, Pmma NP) having a size of 85 nm was used as a surfactant. Unlike in Example 1, the time required for droplet formation with proper dispersibility after stirring was within 10 minutes. 2 (b) is a microscope image of a droplet having the crosslinkable coating film prepared in Example 2. Fig.

실시예 1과 마찬가지로 약 30V의 전압을 인가한 결과, 실시예 2로부터 제조된 전도성 필름에서도 투과도 가변효과가 명확히 관찰되었다. 실시예 1과 마찬가지로 약 30V의 전압을 인가한 결과, 실시예 2로부터 제조된 전도성 필름에서도 투과도 가변효과가 명확히 관찰되었다. 실시예 2로부터 제조된 전도성 필름의 전압인가 전 모습은 도 3(b)와 같다.As a result of applying a voltage of about 30 V in the same manner as in Example 1, the effect of varying the transmittance was clearly observed also in the conductive film produced in Example 2. [ As a result of applying a voltage of about 30 V in the same manner as in Example 1, the effect of varying the transmittance was clearly observed also in the conductive film produced in Example 2. [ The state before the voltage application of the conductive film prepared in Example 2 is as shown in Fig. 3 (b).

비교예Comparative Example 1 One

실시예 1과 동일하게 전도성 필름을 제조하되, 제1 용액 형성시 물 : WS2100 : Irgacure 2959 의 함량을 10 : 5 : 0.01로 조절하였다. 도 2(c)는 과량 포함된 WS 2100 사이의 경화로 인해 가교시 액적 간 응집이 일어나고, 그에 따라 독립된 형상의 가교성 피복막을 갖는 액적 형성이 방해된 모습을 촬영한 이미지이다.A conductive film was prepared in the same manner as in Example 1, and the content of water: WS2100: Irgacure 2959 was adjusted to 10: 5: 0.01 at the time of forming the first solution. FIG. 2 (c) is an image of a state in which droplet aggregation occurs during cross-linking due to curing between excessively contained WS 2100, thereby preventing formation of droplets having a cross-linked coating film of independent shape.

실시예 1과 마찬가지로, 비교예 1로부터 제조된 전도성 필름에도 약 30V의 전압을 인가해보았으나, 도2(c)와 같이 액적간 뭉침이 심하기 때문에, 전압 인가 전후 모두 빛의 투과가 거의 불가능함이 관찰되었다.Although a voltage of about 30 V was applied to the conductive film prepared in Comparative Example 1 as in Example 1, since the droplet-to-liquid accumulation was severe as shown in FIG. 2 (c) Respectively.

Claims (15)

경화기 함유 화합물(a1)을 20 중량% 이하로 포함하는 제1 용액(A); 및 상기 제1 용액과 불혼화성이고, 액정 또는 전도성 입자(b1)를 포함하는 제2 용액(B);을 혼합하여, 제1 용액 및 제2 용액의 혼합물 내에서 제2 용액(B)의 액적을 형성하는 단계;
를 포함하는 전도성 필름의 제조방법.
A first solution (A) containing 20% by weight or less of the curing agent-containing compound (a1); And a second solution (B) which is immiscible with the first solution and comprises a liquid crystal or conductive particles (b1), and a second solution (B) in a mixture of the first solution and the second solution, Forming an enemy;
≪ / RTI >
제1항에 있어서, 제1 용액(A) 100 중량부와 제2 용액(B) 1 내지 50 중량부를 혼합하는 전도성 필름의 제조방법.
The method for producing a conductive film according to claim 1, wherein 100 parts by weight of the first solution (A) and 1 to 50 parts by weight of the second solution (B) are mixed.
제2항에 있어서, 액적 형성시 혼합물에 대한 교반을 수행하는 전도성 필름의 제조방법.
3. The method of claim 2, wherein stirring is performed on the mixture during droplet formation.
제1항에 있어서, 제1 용액(A)과 제2 용액(B)의 혼합물은 계면활성제를 더 포함하는 전도성 필름의 제조방법.
The method of producing a conductive film according to claim 1, wherein the mixture of the first solution (A) and the second solution (B) further comprises a surfactant.
제1항에 있어서, 상기 계면활성제는 5 nm 내지 500 nm의 크기를 갖는 양친매성 나노입자인 전도성 필름의 제조방법.
The method of claim 1, wherein the surfactant is amphipathic nanoparticles having a size of 5 nm to 500 nm.
제5항에 있어서, 상기 양친매성 나노입자는 코어부 및 쉘부를 포함하고, 상기 코어부는 나노입자를 포함하고, 상기 쉘부는 나노입자를 둘러싸는 양친매성 화합물을 포함하는 전도성 필름의 제조방법.
6. The method of claim 5, wherein the amphiphilic nanoparticle comprises a core portion and a shell portion, the core portion comprises nanoparticles, and the shell portion comprises an amphipathic compound surrounding the nanoparticles.
제4항에 있어서, 상기 경화기 함유 화합물(a1)을 경화하여 액적 표면을 둘러싸는 가교성 피복막을 형성하는 단계;
를 더 포함하는 전도성 필름의 제조방법.
5. The method of claim 4, further comprising the steps of: curing the curing agent-containing compound (a1) to form a crosslinkable coating film surrounding the droplet surface;
≪ / RTI >
제7항에 있어서, 경화기 함유 화합물(a1)에 대한 경화는 교반, 열 조사 및 광 조사 중 어느 하나 이상의 방법에 의해 이루어지는 전도성 필름의 제조방법.
The method for producing a conductive film according to claim 7, wherein the curing to the curing agent-containing compound (a1) is carried out by any one of stirring, heat irradiation and light irradiation.
제7항에 있어서, 경화기 함유 화합물(a1)에 대한 경화 후, 제1 용액 및 제2 용액의 혼합물을 하부 전도성 기재 상에 도포하여, 가교성 피복막을 갖는 액적을 하부 전도성 기재 상에 위치시키는 단계;
를 더 포함하는 전도성 필름의 제조방법.
8. The method according to claim 7, wherein after curing to the curing agent-containing compound (a1), a mixture of the first solution and the second solution is applied on the lower conductive substrate, and a droplet having the crosslinkable coating film is placed on the lower conductive substrate ;
≪ / RTI >
제9항에 있어서, 하부 전도성 기재 상에 가교성 피복막을 갖는 액적을 위치시킨 후, 건조를 수행하여 코팅층을 형성하는 전도성 필름의 제조방법.
The method of producing a conductive film according to claim 9, wherein a droplet having a crosslinkable coating film is placed on a lower conductive substrate, and then drying is performed to form a coating layer.
제7항에 있어서, 경화기 함유 화합물(a1)에 대한 경화 후, 제1 용액 및 제2 용액의 혼합물로부터 가교성 피복막을 갖는 액적을 분리하는 단계;
를 더 포함하는 전도성 필름의 제조방법.
8. The method of claim 7, further comprising: after the curing to the curing agent-containing compound (a1), separating a droplet having a crosslinkable coating film from a mixture of the first solution and the second solution;
≪ / RTI >
제11항에 있어서, 상기 분리는 세척 또는 원심분리에 의해 이루어지는 전도성 필름의 제조방법.
12. The method of producing a conductive film according to claim 11, wherein the separation is performed by washing or centrifugation.
제11항에 있어서, 혼합물로부터 분리된 가교성 피복막을 갖는 액적과 경화성 수지(C)를 포함하는 코팅 조성물을 마련하고, 상기 코팅 조성물을 하부 전도성 기재 상에 도포 후 경화하여 코팅층을 마련하는 단계;
를 더 포함하는 전도성 필름의 제조방법.
12. The method of claim 11, further comprising: providing a coating composition comprising a liquid with a crosslinkable coating film separated from the mixture and a curable resin (C), applying the coating composition on the lower conductive substrate and curing to form a coating layer;
≪ / RTI >
제13항에 있어서, 코팅 조성물에 대한 경화는 열 조사 또는 광 조사에 의해 이루어지는 전도성 필름의 제조방법.
14. The method of producing a conductive film according to claim 13, wherein the curing for the coating composition is performed by heat irradiation or light irradiation.
제10항 또는 제12항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 코팅층을 매개로 상기 하부 전도성 기재와 대향하도록, 상부 전도성 기재를 합착하는 단계;
를 더 포함하는 전도성 필름의 제조방법.
13. The method of claim 10 or 12, further comprising: attaching the upper conductive substrate to oppose the lower conductive substrate via the coating layer;
≪ / RTI >
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