KR20180050385A - 기능성 코팅을 포함하는 글레이징 - Google Patents

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로라 싱
레미 도데
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쌩-고벵 글래스 프랑스
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Abstract

본 발명은,
- 하나 이상의 은을 기재로 한 금속 기능성층 및
- 하나 이상의 니오븀을 기재로 한 금속 또는 질화물 기능성층을 포함하는, 하나 이상의 기능성 코팅을 포함하는 박층 스택으로 코팅된 투명 기판을 포함하는 물질에 관한 것이다.

Description

기능성 코팅을 포함하는 글레이징
본 발명은 적외선 방사에 작용하는 기능성 코팅을 포함하는 박층 스택으로 코팅된 투명 기판을 포함하는 글레이징과 같은 물질 및 그의 제조 방법에 관한 것이다.
기능성 코팅은 하나 이상의 기능성층을 포함한다. 본 특허 출원의 의미 내에서, "기능성"층은 열 특성의 대부분을 부여하는 스택의 층(들)을 의미하는 것으로 이해한다. 기능성층은 본질적으로 근적외선(태양) 또는 원적외선(열) 방사의 반사 및/또는 흡수에 의하여 태양 및/또는 열 방사에 작용한다.
이들 기능성 코팅은 일반적으로 스택의 광학적 특성을 조절할 수 있게 하는 여러 유전체층(이후 유전체 코팅)을 포함하는 유전체 물질을 기재로 하는 코팅들 사이에 증착된다. 기능성 코팅은 기능성 코팅의 화학적 또는 기계적 보호의 역할을 가지는 다른 유전체 코팅과 달리 상기 글레이징을 통과하는 태양 복사선의 플럭스에 작용한다.
이러한 글레이징이 설치된 국가의 기후에 따라, 광 투과율 및 태양 인자의 측면에서 바람직한 성능 품질은 특정 범위 내에서 달라질 수 있다.
햇빛에 노출되는 정도가 높은 국가에서는, 약 50 내지 55 %의 광 투과율(LT), 0.47 미만의 태양 인자(g) 및 1.0 초과, 바람직하게는 1.1 초과인 선택도(s)를 나타내는 글레이징에 대한 강한 수요가 존재한다. 광 투과율은 인공 광원을 사용할 필요가 없도록, 상기 글레이징에 의하여 구획된 공간에 침투하는 광량의 감소에 대하여 충분히 높다.
본 발명에 따르면:
- 태양 인자 "g"는 글레이징을 통하여 건물로 들어오는 전체 에너지 대 입사되는 태양 에너지의 비를 의미하는 것으로 이해하고,
- 선택도 "s"는 광 투과율 대 태양 인자의 비인 LT/g를 의미하는 것으로 이해한다.
가장 효율적인 스택은 은-기재 기능성층(또는 은층)을 포함한다. 이러한 은층은 여러가지 용도로 사용된다: 열 또는 태양 적외선 방사를 반사하는 것에 의하여, 물질에 낮은 방사율 또는 태양광 조절 기능을 부여한다. 전기 전도성을 가지기 때문에 전도성 물질, 예를 들어 가열된 글레이징 또는 전극을 얻을 수도 있다.
그러나, 이들 은층은 습기에 매우 민감하다. 이러한 이유로, 그들은 오로지 이중 글레이징에서, 이중 글레이징을 갖춘 건물 또는 주택의 외부로부터 안쪽으로 기판 또는 기판들의 면을 번호 매겼을 때, 이중 글레이징의 제2면 또는 제3면에만 사용한다. 이러한 층들은 일반적으로 단일 글레이징(모놀리식 글레이징이라고도 함)에 증착되지 않는다.
또한, 예를 들어, 출원 WO 01/21540 또는 WO 2009/112759에 기술된 바와 같이, 기능성층으로서 니오븀-기재 금속 또는 질화물층을 포함하는 박층 스택이 존재한다. 이러한 층 내에서, 근적외선(즉, 약 780 nm 내지 2500 nm의 파장) 방사 및 가시광선 방사(약 380 nm 내지 780 nm의 파장)을 포함하는 태양 복사는 니오븀-기재 기능성층에 의하여 비선택적으로 흡수된다.
니오븀-기재 기능성층을 포함하는 스택은 은층을 포함하는 스택보다 더욱 저렴하고 저항성이 강한 이점을 나타낸다. 그러나, 이들 기능성층이 태양 복사를 비선택적으로 흡수하는 한, 이들을 포함하는 물질은 만족스러운 광학 특성을 나타내지 않는다. 흡수 및 방사율이 너무 높고 선택도는 너무 낮다. 특히 이러한 물질은 일반적으로 약 50 %의 광 투과율 및 50 % 미만의 방사율을 나타내지 않는다. 이 경우 방사율은 60 %정도이다.
흔히, 이들 물질은 기판 및/또는 박층 스택의 특성을 향상시키기 위하여 고온 열처리를 거쳐야 한다. 예를 들어, 유리 기판의 경우, 기판을 기계적으로 강화하기 위하여 템퍼링 열처리를 할 수 있다. 이러한 처리는 스택의 특정 특성, 특히 에너지 및 광학 특성을 변형시킬 수 있다.
이상적으로, 스택으로 일단 코팅된 물질은 초기의 광학 및/또는 에너지 특성의 현저한 변화없이 또는 적어도 손상없이, 템퍼링, 어닐링 또는 굽힘 유형의 열처리가 가능하여야 한다. 특히 열처리 후에, 물질은 수용 가능한 광 투과율을 유지해야 되고 바람직하게는 실질적으로 개선되거나 적어도 실질적으로 변화가 없는 방사율을 나타내야 한다.
고온 열처리된 복합 스택을 포함하는 이들 물질의 기계적 강도 및 내화학약품성은 종종 불충분하고, 하물며 기능성층이 은-기재 금속층일 때, 이것은 사실이다. 이러한 낮은 강도 및 내화학약품성은 실제로 표준 상태에서 사용하는 동안 부 식 부위, 스크래치, 스택의 사실상 전체 또는 부분적인 찢어짐과 같은 결함의 단기적인 외관으로 표현된다. 부식, 기계적 스트레스 또는 인접한 층간의 불량한 접착으로 인한 것인지 여부와 관계없이, 모든 결함 또는 스크래치는 코팅된 기판의 매력 뿐만 아니라 광학적 및 에너지 성능 품질에 악영향을 미치기 쉽다.
따라서, 본 발명은 향상된 태양광 보호 글레이징을 제조하기 위한 목적의 신규한 물질의 개발로 구성된다. 목표로 하는 향상은 특히 높은 내화학약품성 및 높은 기계적 강도를 유지하면서 열적 및 광학적 특성 사이의 더 나은 절충안을 수립하는 것이다.
더욱 구체적으로, 스택을 구비한 물질은 충분히 낮고, 특히 35 % 미만, 또는 30 % 미만, 사실상 25 % 미만인 유럽 표준 EN 410에 따라 규정된 방사율 계수를 나타내야 한다. 이러한 값은 유럽 표준 EN 673에 따라 규정된, 단일 글레이징에서 4 미만의 열전달 계수(Ug)를 얻는 것을 가능하게 한다.
본 발명의 물질은 동시에 이러한 보강된 단열 특성 및 높은 광 투과율, 예를 들어 45 % 초과, 바람직하게는 50 % 이상에 가까운, 사실상 50 % 초과인 광 투과율 LT인자를 나타내야 한다.
마지막으로, 또 다른 목적은, 특히 스택을 지지하는 기판이 유리 유형일 때 손상 없이 열처리를 견딜 수 있는 스택을 구비한 물질을 공급하는 것이다. 이것은 특히 템퍼링 유형의 열처리 전후의 열 및 광학적 특성의 변화가 없다는 것으로 표현된다.
본 발명은 하나 이상의 기능성 코팅을 포함하는 박층 스택으로 코팅된 투명 기판을 포함하는 물질에 관한 것으로, 상기 기능성 코팅은:
- 2 내지 15 nm의 두께를 가지는 하나 이상의 은-기재 금속 기능성층을 포함하고,
- 선택적으로 Ti, TiN, TiOx, Ta, TaN, Ni, NiN, Cr, CrN, NiCr 또는 NiCrN와 같은, 티타늄, 니켈, 크로뮴 및 탄탈럼으로부터 선택되는 하나 이상의 원소의 금속층, 금속 질화물층, 금속 산화물층 및 금속 옥시질화물층으로부터 선택된 하나 이상의 차단층을 포함하며,
- - 은-기재 기능성층의 적어도 일부와 접촉하거나 또는
- 두께의 합이 5 nm 미만인 차단층으로부터 선택되는 하나 이상의 층에 의하여 은-기재 기능성층의 적어도 일부와 분리되어 위치하는 하나 이상의 니오븀-기재 금속 또는 질화물 기능성층을 포함하고,
- 은-기재 기능성층의 적어도 일부와 직접 접촉하거나 또는 5 nm 미만의 두께에 의하여 분리되어 위치하는, 니오븀-기재 기능성층 또는 층들의 두께의 합은 4 내지 20 nm이다.
본 발명에 따르면:
"하나 이상의 니오븀-기재 금속 또는 질화물 기능성층은 두께의 합이 5 nm 미만인 차단층으로부터 선택된 하나 이상의 층에 의하여 은-기재 기능성층의 적어도 일부와 분리된다"는 의미는:
- 차단층만 기능성 코팅의 니오븀-기재 금속 기능성층 또는 층들 및 은-기재 기능성층 또는 층들 사이에 삽입될 수 있고,
- 기능성 코팅의 니오븀-기재 금속 기능성층 또는 층들 및 은-기재 기능성층 또는 층들 사이에 삽입될 수 있는 모든 층들의 두께의 합은 5 nm 미만이라는 것을 의미한다.
하나 이상의 층이 니오븀-기재 금속 또는 질화물 기능성층 및 은-기재 기능성층을 "분리"할 때:
- 이들의 두께의 합은 5 nm 미만이고
- 이들은 차단층으로부터 선택된다.
바람직하게는, 각각의 은-기재 금속층은 하나 이상의 니오븀-기재 금속 또는 질화물 기능성층 및/또는 하나 이상의 차단층 사이에 접촉하여 위치한다.
본 발명은 또한:
- 본 발명에 따른 물질의 제조 방법에,
- 본 발명에 따른 하나 이상의 물질을 포함하는 글레이징에,
- 빌딩 산업 또는 차량을 위한 태양광 조절 글레이징과 같은, 본 발명에 따른 글레이징의 용도에 및
- 본 발명에 따른 글레이징을 포함하는 빌딩 또는 차량에 관한 것이다.
본 출원인은 놀랍게도, 두 개 이상의 층, 은-기재 층 및 니오븀-기재 층을 포함하는 기능성 코팅의 사용이 광학적 및 열적 특성 및 내화학약품성 및 기계적 강도 사이의 훌륭한 절충점을 얻는 것을 가능하게 한다는 것을 발견하였다.
본 발명의 해결책은 은 박층 및 니오븀층의 조합을 사용함으로써, 은-포함 기능성층을 포함하는 스택의 광학적 및 열적 특성 면에서의 이점과, 니오븀-포함 기능성층을 포함하는 스택의 비용적, 특히 기계적 강도와 내화학약품성 면에서의 이점을 겸비한다.
본 발명에 따르면, 특히 단일 글레이징으로 쓰였을 때, 다음의 특징들을 나타내는 물질을 얻을 수 있었다:
- 바람직한 순서대로, 40 % 이상, 45 % 이상, 50 % 이상, 50 % 내지 55 %의 광 투과율,
- 바람직한 순서대로, 49 % 미만, 48 % 미만, 47 % 미만, 46 % 미만, 45 % 미만의 태양 인자(g),
- 40 % 이하, 바람직하게는 35 % 이하 또는 심지어 30 % 이하, 사실상 25 % 이하인 방사율,
- 1.0 초과, 바람직하게는 1.1 초과의 선택도(s),
- 좋은 화학적 및 기계적 내구성.
계속되는 발명의 설명에서 나타나는 바람직한 특성은 본 발명에 따른 물질 및 적절하다면 본 발명에 따른 제조 방법 모두에 적용 가능하다.
본 명세서의 설명에서 제시된 모든 광 특성은 건설 업계용 유리에 사용되는 글레이징의 광 및 태양 특성의 결정에 관한 유럽 표준 EN 410 및 EN 673에 기술된 원리 및 방법에 따라서 얻어진다.
스택은 자기장-보조 캐소드 스퍼터링(마그네트론 프로세스)에 의하여 증착된다. 이러한 바람직한 실시양태에 따르면, 스택의 모든 층은 자기장-보조 캐소드 스퍼터링에 의하여 증착된다.
달리 명시하지 않는다면, 본 명세서에서 언급된 두께는 물리적 두께이고 층은 박층이다. 박층은 0.1 nm와 100 마이크로미터 사이의 두께를 가지는 층을 의미하는 것으로 이해한다.
발명의 설명을 통하여, 본 발명에 따른 기판은 수평으로 위치된 것으로 간주된다. 박층 스택은 기판 위에 증착된다. "위에" 및 "아래에" 및 "상부" 및 "하부" 표현의 의미는 이 배향과 관련하여 고려하여야 한다. 구체적으로 규정되지 않는 한, "위에" 및 "아래에"라는 표현은 반드시 두 개의 층들 및/또는 코팅이 서로 접촉하여 위치한다는 것을 의미하지 않는다. 어떤 층이 다른 층 또는 코팅과 "접촉"되도록 증착되었다고 특정되면, 이는 두 개의 층 사이에 하나 이상의 층이 삽입될 수 없다는 것을 의미한다.
은-기재 기능성 금속층은 기능성층의 중량에 대하여 95.0 중량% 이상, 바람직하게는 96.5 중량% 이상, 더욱 바람직하게는 98.0 중량% 이상의 은을 포함한다. 은-기재 기능성 금속층은 은-기재 기능성 금속층에 대하여 바람직하게는 1.0 중량% 미만의 은 이외의 금속을 포함한다.
은-기재 금속 기능성층은 또한 예를 들어 구리, 팔라듐, 금 또는 백금으로부터 선택된 도핑 원소를 포함할 수 있다. 본 발명에 따르면, "도핑 원소"는 은 및 니오븀으로부터 선택되지 않은 원소를 의미하는 것으로 이해한다. 바람직하게는, 이들 다른 도핑 원소의 각각은 기능성 코팅의 중량의 15 중량% 미만, 10 중량% 미만, 5 중량% 미만, 1 중량% 미만, 0.5 중량% 미만을 나타낸다. 도핑 원소의 최대 비율은 도핑 원소의 성질에 의존한다.
은-기재 금속 기능성층은, 바람직하게는 은-기재 금속 기능성 코팅의 중량에 대하여 5 중량% 미만, 바람직하게는 1.0 중량% 미만, 사실상 0.5 중량% 미만의 도핑 원소를 포함한다.
기능성 코팅에서 은-기재 기능성층의 두께의 합에 대응하는 은-기재 기능성층의 두께는, 바람직한 순서대로, 2 내지 10 nm, 3 내지 8 nm, 4 내지 7 nm, 3 내지 7 nm, 3 내지 6 nm, 4 내지 6 nm이다.
기능성 코팅은:
- 은-기재 기능성층의 적어도 일부와 접촉하여 또는
- 두께의 합이 5 nm 미만인 차단층으로부터 선택되는 하나 이상의 층에 의하여 은-기재 기능성층의 적어도 일부로부터 분리되어 위치하는 하나 이상의 니오븀-기재 금속 또는 질화물 기능성층(이하 니오븀-기재 기능성층)을 포함한다.
니오븀-기재 기능성 금속층은 기능성층의 중량에 대하여 95.0 중량% 이상, 바람직하게는 96.5 중량% 이상, 더욱 바람직하게는 98.0 중량% 이상의 니오븀을 포함한다. 니오븀-기재 기능성 금속층은 은-기재 기능성 금속층에 대하여 바람직하게는 1.0 중량% 미만의 니오븀 이외의 금속을 포함한다.
니오븀-기재 질화물 기능성층은 니오븀-기재 질화물 기능성층을 구성하는 질소 이외의 원소들의 중량에 대하여 95.0 중량% 이상, 바람직하게는 96.5 중량% 이상, 더욱 바람직하게는 98.0 중량% 이상의 니오븀을 포함한다. 니오븀-기재 질화물 기능성층은 니오븀-기재 질화물 기능성층의 중량에 대하여 바람직하게는 1.0 중량% 미만의 니오븀 및 질소 이외의 원소를 포함한다.
일 실시양태에 따르면, 기능성 코팅은 은-기재 기능성층의 적어도 일부 위에 위치하는 하나 이상의 니오븀-기재 기능성층을 포함한다. 이 층은 2 내지 10 nm, 바람직하게는 2.5 내지 8 nm, 더욱 바람직하게는 3 내지 5 nm의 두께를 나타낸다. 바람직하게는 니오븀-기재 기능성층은 은-기재 기능성층의 적어도 일부 위에 직접 접촉하여 위치한다.
일 실시양태에 따르면, 기능성 코팅은 은-기재 기능성층의 적어도 일부 아래에 위치하는 하나 이상의 니오븀-기재 기능성층을 포함한다. 이 층은 1 내지 10 nm, 또는 2 내지 10 nm, 바람직하게는 1.5 내지 5 nm, 더욱 바람직하게는 1.5 내지 3 nm의 두께를 나타낸다. 니오븀-기재 기능성층은 은-기재 기능성층의 적어도 일부 아래에 직접 접촉하여 위치할 수 있다.
은-기재 기능성층은 두 개의 니오븀-기재 기능성층 사이에 위치할 수 있다. 은-기재 기능성층의 적어도 일부와 직접 접촉하거나 5 nm 미만의 두께에 의하여 분리된 니오븀-기재 기능성층의 두께의 합은 3 내지 10 nm, 4 내지 8 nm, 5 내지 7 nm이다.
하나의 동일한 기능성 코팅의 은-기재 금속 기능성층의 두께의 합에 대한 니오븀-기재 기능성층의 두께의 합의 비는 바람직한 순서대로,
- 0.9 초과, 1.0 초과, 1.1 초과, 1.2 초과,
- 1.0 내지 4.0, 1.0 내지 2.0이다.
니오븀-기재 기능성층은 또한 두께의 합이 바람직한 순서대로 5 nm 미만, 4 nm 미만, 3 nm 미만, 2 nm 미만, 1 nm 미만인 하나 이상의 차단층에 의하여 은-기재 기능성층의 적어도 일부로부터 분리될 수 있다.
본 발명에 따르면, 하나의 동일한 기능성 코팅의 은-기재 금속 기능성층과 및/또는 니오븀-기재 금속 또는 질화물 기능성층과 접촉하여 위치하는 차단층 또는 층들은 기능성 코팅에 속하는 것으로 고려된다.
이들 차단층은 Ti, TiN, TiOx, Ta, TaN, Ni, NiN, Cr, CrN, NiCr 또는 NiCrN와 같은, 티타늄, 니켈, 크로뮴 및 탄탈럼으로부터 선택된 하나 이상의 원소의 금속층, 금속 질화물층, 금속 산화물층 및 금속 옥시질화물층으로부터 선택된다. 이들 차단층이 금속, 질화물 및 옥시질화물 형태로 증착되는 경우, 이들 층은, 그들의 두께 및 예를 들어 후속하는 층의 증착 동안 또는 하부 층과의 접촉에 의한 산화에 의하여, 이들을 만드는 층들의 성질에 따라 부분적인 또는 완전한 산화를 겪을 수 있다.
다른 일 실시양태에 따르면, 기능성 코팅은:
- 은-기재 금속 기능성층 아래 및/또는 위에, 바람직하게는 상기 은-기재 금속 기능성층에 접촉하여 위치하는 차단층, 및/또는
- 니오븀-기재 금속 또는 질화물 기능성층 아래 및/또는 위에, 바람직하게는 상기 니오븀-기재 기능성층에 접촉하여 위치하는 차단층을 포함한다.
바람직한 실시양태에 따르면, 기능성 코팅은 바람직하게는 특히 니켈 및 크로뮴(NiCr) 합금의 금속층으로부터 선택된 차단층으로 시작 및/또는 종료된다. 기능성 코팅은 "차단층으로 시작"한다는 것은, 기판에 대한 기능성 코팅의 제1 층이 차단층이라는 것을 의미한다. 기능성 코팅은 "차단층으로 끝난다"는 것은 기판에 대한 기능성 코팅의 마지막 층이 차단층이라는 것을 의미한다.
차단층의 두께는 바람직하게는:
- 0.2 nm 이상, 0.5 nm 이상, 또는 0.8 nm 이상 및/또는
- 5.0 nm 이하 또는 2.0 nm 이하이다.
기능성 코팅은 유전체 코팅 사이에 증착된다. 이 실시양태에 따르면, 각각의 기능성 코팅이 두 유전체 코팅 사이에 위치하도록 하기 위하여, 박층 스택은 하나 이상의 기능성 코팅 및 하나 이상의 유전체층을 포함하는 둘 이상의 유전체 코팅을 포함한다.
기능성 코팅은 바람직한 순서대로, 5 내지 20 nm, 8 내지 15 nm, 10 내지 13 nm의 두께를 가진다.
박층 스택은 단지 하나의 기능성 코팅을 포함할 수 있다. 스택은 투명 기판의 하나 이상의 면 위에 위치한다.
본 발명에 적합한 스택의 예는:
- 기능성 코팅 아래에 위치한 유전체 코팅,
- 기능성 코팅,
- 기능성 코팅 위에 위치하는 유전체 코팅 및
- 선택적으로 보호층을 포함한다.
유전체 코팅은 15 nm 초과, 바람직하게는 15 내지 100 nm, 20 내지 70 nm 및 더욱 바람직하게는 30 내지 60 nm의 두께를 가진다.
유전체 코팅의 유전체층은 단독으로 또는 조합하여 다음과 같은 특성을 나타낸다:
- 이들은 자기장-보조 캐소드 스퍼터링에 의하여 증착되고,
- 이들은 티타늄, 규소, 알루미늄, 지르코늄, 주석 및 아연으로부터 선택된 하나 이상의 원소의 산화물 또는 질화물로부터 선택되며,
- 이들은 2 nm 초과, 바람직하게는 2 내지 100 nm의 두께를 가진다.
바람직하게는, 유전체층은 장벽의 기능을 나타낸다. 장벽의 기능을 가진 유전체층(이후 장벽층)은 대기 또는 투명 기판으로부터 기능성층으로의, 고온에서 산소 및 물의 확산에 대하여 장벽을 형성할 수 있는 물질로 제조된 층을 의미하는 것으로 이해한다. 장벽층은 SiO2와 같은 산화물, 규소 질화물 Si3N4 및 알루미늄 질화물 AlN와 같은 질화물 및 옥시질화물 SiOxNy로부터 선택된 규소 및/또는 알루미늄 화합물을 기재로 하고, 선택적으로 하나 이상의 다른 원소를 사용하여 도핑될 수 있다. 장벽층은 또한 아연 주석 산화물을 기재로 할 수 있다.
일 실시양태에 따르면, 박층 스택은 바람직하게는 20 내지 70 nm 두께의 알루미늄 및/또는 규소의 질화물 또는 옥시질화물, 또는 혼합된 아연 주석 산화물로 구성된 하나 이상의 유전체 층을 포함하는 하나 이상의 유전체 코팅을 포함한다.
스택은 특히 기능성 코팅의 적어도 일부의 아래에 및/또는 위에 위치하는 규소 및/또는 알루미늄 질화물을 기재로 한 유전체층을 포함할 수 있다. 규소 및/또는 알루미늄 질화물을 기재로 한 유전체층은:
- 100 nm 이하, 80 nm 이하, 또는 60 nm 이하, 및/또는
- 15 nm 이상, 20 nm 이상, 또는 30 nm 이상의 두께를 가진다.
기능성 코팅 아래에 위치한 유전체 코팅 또는 코팅들은 알루미늄 및/또는 규소의 질화물 또는 옥시질화물로 이루어지고 두께가 30 내지 70 nm이며, 바람직하게는 규소 질화물로 이루어지고, 선택적으로 추가로 알루미늄을 포함하는 단지 하나의 층을 포함할 수 있다.
기능성 코팅 위에 위치하는 유전체 코팅 또는 코팅들은:
- 적어도 30 내지 60 nm 두께의 알루미늄 및/또는 규소의 질화물 또는 옥시질화물로 구성된 층, 바람직하게는, 선택적으로 추가로 알루미늄을 포함하는 규소 질화물로 구성된 층 및
- 선택적으로 두께가 2 내지 10 nm인 하나 이상의 보호층을 포함할 수 있다.
박층 스택은 선택적으로 보호층을 포함할 수 있다. 보호층은 바람직하게는 스택의 마지막 층, 즉 스택으로 코팅된 기판으로부터 가장 먼 층이라고 말할 수 있다(열처리 전에). 이들 층은 일반적으로 2 내지 10 nm, 바람직하게는 2 내지 5 nm의 두께를 가진다. 이러한 보호층은 티타늄층, 지르코늄층, 하프늄층, 규소층, 아연 및/또는 주석층으로부터 선택될 수 있고, 이러한 금속은 금속, 산화물 또는 질화물의 형태이다.
일 실시양태에 따르면, 보호층은 지르코늄 및/또는 티타늄 산화물, 바람직하게는 지르코늄 산화물 또는 티타늄 지르코늄 산화물을 기재로 한다.
예시로서, 스택은 다음의 층들의 순서를 포함하는 기능성 코팅을 포함할 수 있다:
- Nb / Ag / Nb.
- NiCr / Ag / Nb.
- Nb / Ag / NiCr.
- NiCr / Nb / Ag / Nb.
- NiCr / Nb / Ag / NiCr.
- NiCr / Ag / NiCr / Nb.
- NiCr / Ag / Nb / NiCr.
- Nb / NiCr / Ag / NiCr.
- Nb / NiCr / Ag / Nb.
- Nb / Ag / NiCr / Nb.
- Nb / Ag / Nb / NiCr.
- NiCr / Nb / NiCr / Ag / Nb.
- NiCr / Nb / NiCr / Ag / NiCr.
- NiCr / Nb / Ag / NiCr / Nb.
- NiCr / Nb / Ag / Nb / NiCr.
- NiCr / Ag / NiCr / Nb / NiCr.
- Nb / NiCr / Ag / NiCr / Nb.
- Nb / NiCr / Ag / Nb / NiCr.
- Nb / Ag / NiCr / Nb / NiCr.
- NiCr / Nb / NiCr / Ag / NiCr / Nb.
- NiCr / Nb / NiCr / Ag / Nb / NiCr.
- NiCr / Nb / Ag / NiCr / Nb / NiCr.
- Nb / NiCr / Ag / NiCr / Nb /NiCr.
- NiCr / Nb / NiCr / Ag / NiCr / Nb / NiCr.
위에서:
Ag는 은-기재 금속 기능성층에 해당하고,
Nb는 니오븀-기재 또는 금속 기능성층에 해당하며,
NiCr은 니켈 및/또는 크로뮴을 기재로 한 금속층에 해당한다.
상기 제1 층은 기판에 가장 가까운 기능성 코팅의 층에 해당하고 마지막 층은 기판으로부터 가장 먼 기능성 코팅의 층에 해당한다. 이들 순서의 층은 바람직하게는 직접 접촉한다.
일 실시양태에 따르면, 본 발명은 하나 이상의 기능성 코팅을 포함하는 박층 스택으로 코팅된 투명 기판을 포함하는 물질에 관한 것으로, 상기 기능성 코팅은:
- 2 내지 15 nm, 바람직하게는 2 내지 6 nm의 두께를 가지는 하나 이상의 은-기재 금속 기능성층,
- 선택적으로 Ti, TiN, TiOx, Ta, TaN, Ni, NiN, Cr, CrN, NiCr 또는 NiCrN와 같은, 티타늄, 니켈, 크로뮴 및 탄탈럼으로부터 선택된 하나 이상의 원소의 금속층, 금속 질화물층, 금속 산화물층 및 금속 옥시질화물층으로부터 선택된 하나 이상의 차단층 및
- - 은-기재 기능성층의 적어도 일부와 접촉하여 또는
- 두께의 합이 5 nm 미만인 차단층으로부터 선택된 하나 이상의 층에 의하여 은-기재 기능성층의 적어도 일부와 분리되어 위치하는, 하나 이상의 니오븀-기재 금속 또는 질화물 기능성층을 포함하고,
- 바람직하게는, 각각의 은-기재 금속층은 하나 이상의 니오븀-기재 금속 또는 질화물 기능성층 및/또는 하나 이상의 차단층 사이에 접촉하여 위치하며,
- 은-기재 기능성층의 적어도 일부와 직접 접촉하여 또는 5 nm 미만의 두께에 의하여 분리되어 위치하는 니오븀-기재 기능성층의 두께의 합은 3 내지 20 nm이다.
본 발명에 따른 투명 기판은 바람직하게는 유리와 같은 경질의 무기 물질 또는 중합체(또는 중합체로 제조된) 기재의 유기물로 제조된다.
본 발명에 따른 경질 또는 연질인 투명 유기 기판은 또한 중합체로 제조될 수 있다. 특히 본 발명에 적합한 중합체의 예는:
- 폴리에틸렌;
- 폴리에틸렌 테레프탈레이트(PET), 폴리부틸렌 테레프탈레이트(PBT) 또는 폴리에틸렌 나프탈레이트(PEN)와 같은 폴리에스테르;
- 폴리메틸 메타크릴레이트 (PMMA)와 같은 폴리아크릴레이트;
- 폴리카보네이트;
- 폴리우레탄;
- 폴리아미드;
- 폴리이미드;
- 플루오로에스테르와 같은 플루오로중합체, 예를 들어 에틸렌-테트라플루오로에틸렌(ETFE), 폴리비닐리덴 플루오라이드(PVDF), 폴리클로로트리플루오로에틸렌(PCTFE), 에틸렌-클로로트리플루오로에틸렌(ECTFE) 또는 플루오린화 에틸렌-프로필렌 공중합체(FEP);
- 티올렌, 폴리우레탄, 우레탄-아크릴레이트 또는 폴리에스테르-아크릴레이트 수지와 같은 광가교결합성 및/또는 광중합성 수지 및
- 폴리티오우레탄을 포함한다.
기판은 바람직하게는 유리 또는 유리-세라믹의 시트이다.
기판은 바람직하게는 투명하고 무색(투명 또는 엑스트라-투명 유리) 또는 유색, 예를 들어 청색, 회색 또는 동색이다. 유리는 바람직하게는 소다-석회-실리카 유형이지만 또한 붕규산염 또는 알루미노-보로실리케이트 유형일 수 있다.
기판은 바람직하게는 1 m 이상, 사실상 2 m 이상 및 심지어 3 m 이상의, 적어도 하나의 치수를 가진다. 기판의 두께는 일반적으로 0.5 내지 19 mm, 바람직하게는 0.7 내지 9 mm, 특히 2 내지 8 mm, 사실상 4 내지 6 mm이다. 기판은 편평하거나 굽혀질 수 있으며, 사실상 유연성이 있다.
물질, 즉 스택으로 코팅된 투명 기판은 어닐링, 예를 들어 레이저 어닐링 또는 화염 어닐링과 같은 플래시 어닐링, 템퍼링 및/또는 굽힘으로부터 선택된 고온 열처리를 수행하기 위한 것이다. 열처리 온도는 400 ℃ 초과, 바람직하게는 450 ℃ 초과, 더욱 바람직하게는 500 ℃ 초과이다. 따라서 스택으로 코팅된 기판은 굴곡 및/또는 템퍼링될 수 있다.
본 발명은 또한 캐소드 스퍼터링, 선택적으로 자기장-보조 캐소드 스퍼터링에 의하여 증착되는 박층 스택으로 코팅된 투명 기판을 포함하는 물질의 제조 방법에 관한 것으로, 상기 제조 방법은 다음의 단계들의 순서를 포함한다:
- 2 내지 10 nm의 두께를 가지는 하나 이상의 은-기재 기능성층 및 2 내지 10 nm의 두께를 가지는 하나 이상의 니오븀-기재 기능성층을 포함하고, 은-기재 기능성층의 아래에 및/또는 위에 은-기재 기능성층의 적어도 일부와 접촉하여 위치하는 하나 이상의 기능성 코팅을, 투명 기판에 증착하고,
- 유전체 물질을 기재로 한 코팅을 기능성층 위에 증착하며,
- 따라서 코팅된 기판을 열처리하는 단계를 포함한다.
이러한 열처리는 200 ℃ 초과의 온도, 300 ℃ 초과의 온도 또는 400 ℃ 초과의 온도, 바람직하게는 500 ℃ 초과의 온도에서 수행될 수 있다.
열처리는 바람직하게는 템퍼링, 어닐링 및 신속한 어닐링 처리로부터 선택된다.
템퍼링 또는 어닐링 처리는 일반적으로 오븐, 각각 템퍼링 오븐 또는 어닐링 오븐에서 수행된다. 따라서 기판을 포함하는 전체 물질은 어닐링의 경우 300 ℃ 이상의 고온에 이르게 되고, 템퍼링의 경우 500 ℃ 이상, 사실상 600 ℃의 온도에까지 이를 수 있다.
본 발명은 또한 본 발명에 따른 하나 이상의 물질을 포함하는 글레이징에 관한 것이다.
상기 물질 또는 글레이징은 모놀리식 글레이징 또는 단일 글레이징, 적층 글레이징 또는 다중 글레이징, 특히 이중 글레이징 또는 삼중 글레이징의 형태일 수 있다. 따라서 본 발명은 또한 본 발명에 따른 하나 이상의 물질을 포함하는 투명 글레이징에 관한 것이다. 이들 물질은 바람직하게는 건물 또는 차량에 장착된 글레이징이다.
스택은 외부로부터 유래된 입사광이 제1 금속 기능성층을 통과하기 전에 제1 유전체 코팅을 통과하도록 글레이징 내에 위치한다.
모놀리식 또는 다중 글레이징의 경우, 스택은 바람직하게는 제2면 위에 증착되고, 즉 기판의 내부면 위에서 발견된다고 말할 수 있다.
모놀리식 글레이징은 2 면을 포함하고; 제1 면은 외부에 있어 글레이징의 외벽을 구성하고, 제2 면은 건물의 내부에 있어 글레이징의 내벽을 구성한다.
이중 글레이징은 4 면을 포함하고; 제1 면은 건물 외부에 있고 따라서 글레이징의 외벽을 구성하고 제4 면은 건물 내부에 있으며 따라서 글레이징의 내벽을 구성하며, 제2 면과 제3 면은 이중 글레이징의 내부에 있다. 그러나, 스택은 또한 제4 면에 증착될 수 있다.
다음의 실시예는 본 발명을 설명하지만, 이를 제한하는 것은 아니다.
실시예
아래에 정의된 박층 스택은 투명한 소다-석회 유리로 만들어진 기판 위에 증착되었다.
스택은 공지된 방식으로, 기판이 상이한 타겟들 아래에서 전진하는 캐소드 스퍼터링 라인(마그네트론 프로세스) 위에서 증착되었다.
이들 실시예에서, 스퍼터링("마그네트론 캐소드" 스퍼터링)에 의하여 증착된 층들의 증착 조건은 아래 표 1에 요약되어 있다.
Figure pct00001
at.: 원자; wt: 중량; *: 550 nm에서의 측정값.
표 2는 스택을 지지하는 기판에 대한 위치의 함수로서 MA 및 MB 유형의 스택을 형성하는 각각의 층 또는 코팅의, 물질 및 물리적 두께를 nm 단위로 열거한 것이다(표의 바닥에 마지막 줄). 주어진 두께는 템퍼링 전의 두께에 해당한다.
Figure pct00002
실시예 MA1 내지 MA3 및 MB1 내지 MB4의 물질은 각각 두 가지 다른 일련의 테스트인 MA와 MB 유형의 스택을 포함한다. 기능성 코팅의 성격이 다른 이러한 일련의 스택. 기능성 코팅은 표 3에 규정된 여러 층의 순서를 포함한다. 상기 제1층은 기판에 가장 가까운 기능성 코팅의 층에 해당한다. 이 표에 주어진 두께는 나노미터 단위의 물리적 두께이다.
Figure pct00003
I. "태양광 조절" 및 비색 성능 품질
물질 MA1 내지 MA3가 단일 글레이징에 장착되어, 평소와 같이 스택이 글레이징의 제2 면 위에 위치하고, 글레이징의 가장 바깥면이 제1 면일 때 측정된 주요 광학적 특성은 표 4에 열거되었다.
이러한 글레이징에 대하여:
- LT는 2° 관측자에서 광원 D65에 따라 측정된 %단위의 가시광선 영역에서의 광 투과율을 나타낸다;
- LRe는 관측자가 가장 바깥면인 제1 면의 측면에서 광원 D65에 따라 2°에서 측정된 % 단위의 가시광선 영역에서의 광 반사를 나타낸다;
- a*Re 및 b*Re는 L * a * b * 시스템의 반사 색상 a * 및 b *에서, 관측자가 가장 바깥면의 측면에 있고 따라서 글레이징에 수직으로 광원 D65에 따라 2°에서 측정한 색상을 나타낸다;
- LRi는 관측자가 가장 내부면인 제2 면의 측면에서 광원 D65에 따라 2°에서 측정된 % 단위의 가시광선 영역에서의 광 반사를 나타낸다;
- a*Ri 및 b*Ri는 L * a * b * 시스템의 반사 색상 a * 및 b *에서, 관측자가 가장 내부면의 측면에 있고 따라서 글레이징에 수직으로 광원 D65에 따라 2°에서 측정한 색상을 나타낸다;
- Abs.는 2° 관측자에서 광원 D65에 따라 측정된, %단위의 가시광선 영역에서의 흡광도가 (100 - LT% - LRi%)에 해당함을 나타낸다.
이러한 특성들은 우선 마그네트론 라인의 출구에서 스택과 함께 제공된 글레이징에 대하여 측정하고, 그런 후에 특히 650 ℃에서 10 분간 어닐링하는 것으로 구성된 템퍼링 유형의 열처리 후에 측정되었다.
열처리에 기인하는 각각의 특성의 상대적인 변화는 또한 표 4에 명시되어 있다. 예를 들어, 광 투과율의 변화는 다음과 같은 방식으로 계산되었다:
Figure pct00004
LT = (HT후 LT% - HT전 LT%)/(HT전 LT%) x 100(여기서, HT는 열처리를 의미한다.)
Figure pct00005
표 5는 물질의 성능 특성과 관련되고 열처리로 인한 방사율의 상대적 변화를 보여준다. 방사율의 변화는 다음과 같은 방식으로 계산되었다:
Figure pct00006
ε = (HT후 ε - HT전 ε)/(HT전 ε) x 100.
Figure pct00007
"g": 태양 인자, %; "s": 선택도;
"ε": 방사율, %; "Ug": 열전달 계수.
본 발명에 따르면, 본 발명에 따른 기능성 코팅은 열처리 후에 은-기재 금속 기능성층의 매우 낮은 두께에도 불구하고 현저한 단열 효과를 유지하면서 기판의 상대적으로 높은 값의 광 투과율을 얻는 것을 가능하게 한다.
실시예는 본 발명에 따른 물질이 광 투과율 LT, 태양 인자 및 방사율 사이에서 매우 좋은 절충점을 나타낸다는 것을 보여준다. 글레이징이 열처리를 받았을 때 매우 좋은 초기 특성이 전혀 손상되지 않았음이 분명하다.
본 발명의 해결책은 열처리 전후의 글레이징의 특성의 안정성을 얻는 것을 가능하게 한다. 따라서 상기 물질은 열처리 전후의 광학적 특성 및 비색 특성의 주목할만한 안정성을 나타낸다.
본 발명에 따른 물질은 특히 충분히 낮은 방사율 계수, 특히 35 % 미만, 사실상 25 % 미만의 방사율 계수를 보여준다. 또한, 열처리 후에, 본 발명에 따른 물질은 바람직하게는 실질적으로 향상되거나 또는 적어도 실질적으로 변하지 않는 방사율을 나타낸다.
II. 노후화 및 마모에 대한 저항성 테스트
풍화 및 마모에 대한 박층 스택의 저항성을 평가하기 위하여 EN 1096 표준에 따른 테스트가 수행되었으며, 특히:
- SO2 테스트로 알려진 내산성 시험(표준의 별첨 C)
- NSS 테스트로 알려진 중성염 분무에 대한 저항성 테스트(표준의 별첨 D)
- 고습도(HH) 테스트로 알려진 중성 응축에 대한 저항성 테스트(표준의 별첨 B)
- 테이버(Taber) 테스트로 알려진 마모에 대한 저항성 테스트.
에릭슨(Erichsen) 브러시 테스트도 수행하였다.
일부 테스트 후 광학 현미경에 의한 분석을 수행하였다. 이는 결함의 존재를 입증할 수 있다. 현미경 관찰 후 다음과 같은 평가가 보고되었다.
"-": 많은 피트가 존재함,
"0": 약간의 피트가 존재함,
"+": 사실상 피트가 없음.
다음의 장비를 사용하였다:
- 미놀타(Minolta) No. ISO 1325,
- SO2 챔버 No. ISO 1038,
- 퍼킨-엘머(Perkin-Elmer) No. ISO 1043, 거울(Mirror) W1 No.1066,
- 중성 염 분무(NSS) 챔버 No. ISO 981,
- 고습도(HH) 챔버,
- 광 부스 No. ISO 732,
- 현미경 No. ISO 185.
샘플의 크기는 10 x 10 cm이다. 달리 명시되지 않는 한, 측정은 상기 규정된 열처리 후에 수행되었다.
II.1. MA 유형의 물질에 대한 테스트
a. SO 2 테스트
Figure pct00008
Figure pct00009
열처리 후의 물질 MA1 및 열처리 전후의 MA3는 만족스럽다. 열처리 전(BT)의 실시예 MA1는 25 사이클 후에 만족스럽지 못하다. 방사율이 증가하고, 광 부스의 시각적 외관 및 광학 현미경을 통한 사진은 수용 가능하지 않다.
b. 고습도(HH) 테스트
스택의 내화학약품성을 평가하기 위하여, 고습도에 대한 저항성 테스트라고 하는 가속 노후화 테스트를 실시하였다. 이 테스트는 상대 습도 100 %를 나타내는, 120 ℃에서 480분 동안 가열된 건조 오븐에 물질을 놓는 것으로 구성된다. 열처리 후에 본 발명에 따른 물질의 시각적 관찰에서 헤이즈가 없다는 것에 주목하게 할 수 있다. 열처리 후에 물질 MA1 및 열처리 전후의 MA3는 56일간의 HH 테스트를 거친 후에도 손상되지 않았다. 단지 열처리(BT) 전의 물질 MA1만 손상됨이 광 부스에서 관찰된다.
c. 중성 염 분무(NSS)에 대한 저항성 테스트
물질 MA1 내지 MA3는 56일 동안 NSS 테스트를 거친 후에도 손상되지 않았다. 열처리 전(BT)의 MA1는 손상됨이 광 부스에서 발견되었다. 열처리 후 MA1에서 약간의 부식 지점만 관찰되었다.
d. 마모에 대한 저항성 테스트
마모에 대한 저항성 테스트는 500 g의 하중으로 500 사이클 동안 수행되었다. LT 및 헤이즈는 %로 표시된다.
Figure pct00010
물질 MA3는 만족스럽다. 열처리 전후의 마모 테스트에 대하여 5% 미만의 광 투과율 변화로 결과는 수용 가능하다.
e. 에릭슨 브러시 테스트(EBT)
물질 MA1 내지 MA3는 템퍼링 전(EBT) 및 후(HTEBT)에 에릭슨 브러시 테스트(EBT)를 1000 사이클 동안 수행하였다. 이 테스트는 중합체 물질로 된 모발을 가진 브러시를 사용하여 스택을 문지르는 것으로 구성되고, 스택은 물로 덮여있다. 글레이징은 만약 육안으로 보이는 흔적이 없다면 테스트를 만족하는 것으로 간주하였다. 물질 MA1 내지 MA3는 열처리 전후에 테스트를 만족하였다.
II.2. MB 유형의 물질에 대한 테스트
a. SO 2 테스트
Figure pct00011
Figure pct00012
만족스럽지 못한 비교예 MB4와는 대조적으로 실시예 MB1 내지 MB3는 만족스럽다. 비교예 MB4는 니오븀-포함층을 포함하지 않고 오직 차단층만 포함한다. 이것은 비교예 MB4의
Figure pct00013
Ei가 너무 높기 때문이다(> 5). 또한, 방사율도 과도하게 증가하였다(2점 초과).
b. NSS 테스트
Figure pct00014
Figure pct00015
만족스럽지 못한 비교예 MB4와는 대조적으로 실시예 MB1 내지 MB3는 만족스럽다. 이것은 비교예 MB4의
Figure pct00016
E가 너무 높기 때문이다(> 5). 또한, 방사율도 과도하게 증가하였다(2점 초과).
c. 고습도(HH) 테스트
Figure pct00017
Figure pct00018
만족스럽지 못한 비교예 MB4와는 대조적으로 실시예 MB1 내지 MB3는 만족스럽다. 이것은 비교예 MB4의 방사율이 과도하게 증가하였기 때문이다(2점 초과).
d. 마모에 대한 저항성 테스트
Figure pct00019
차단층을 가지는 실시예 MB2 및 MB3는 특히 광 투과율의 훨씬 낮은 변화를 갖는 최상의 결과를 나타내었다.
II.3. 결론
선택적으로 하나 이상의 차단층을 가지는 두 개의 니오븀-기재 층에 의하여 경계가 된 은층을 포함하는 기능성 코팅이 바람직하다.
은층 위에 및/또는 아래의 얇은 차단층의 존재는 마모 저항성 면에서 좋은 결과를 준다.
기능성 코팅의 은-기재 기능성층의 두께가 바람직한 순서대로 6 nm 미만, 3 내지 6 nm, 4 내지 5.5 nm일 때 최상의 결과를 얻었다. 이를 위하여, 물질 MA1 및 MA3로 얻은 결과가 비교될 수 있다.

Claims (15)

  1. - 2 내지 15 nm의 두께를 가지는 하나 이상의 은-기재 금속 기능성층,
    - 선택적으로, Ti, TiN, TiOx, Ta, TaN, Ni, NiN, Cr, CrN, NiCr 또는 NiCrN와 같은, 티타늄, 니켈, 크로뮴 및 탄탈럼으로부터 선택되는 하나 이상의 원소로 이루어진, 금속층, 금속 질화물층, 금속 산화물층 및 금속 옥시질화물층으로부터 선택되는 하나 이상의 차단층을 포함하며,
    - - 은-기재 기능성층의 적어도 일부와 접촉하여 또는
    - 두께의 합이 5 nm 미만인 차단층으로부터 선택되는 하나 이상의 층에 의하여 은-기재 기능성층의 적어도 일부와 분리되어 위치하는
    하나 이상의 니오븀-기재 금속 또는 질화물 기능성층을 포함하고,
    - 바람직하게는, 각각의 은-기재 금속층은 하나 이상의 니오븀-기재 금속 또는 질화물 기능성층 및/또는 하나 이상의 차단층 사이에 접촉하여 위치하고,
    - 은-기재 기능성층의 적어도 일부와 직접 접촉하거나 또는 5 nm 미만의 두께에 의하여 분리된, 니오븀-기재 기능성층 또는 층들의 두께의 합은 4 내지 20 nm인,
    하나 이상의 기능성 코팅을 포함하는 박층 스택으로 코팅된 투명 기판을 포함하는 물질.
  2. 제1항에 있어서, 상기 기능성 코팅은 은-기재 기능성층의 적어도 일부 위에 위치하고 2 내지 10 nm의 두께를 나타내는 하나 이상의 니오븀-기재 기능성층을 포함하는 것을 특징으로 하는 물질.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 기능성 코팅은 은-기재 기능성층의 적어도 일부의 아래에 위치하고 1 내지 10 nm의 두께를 가지는 하나 이상의 니오븀층을 포함하는 것을 특징으로 하는 물질.
  4. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 기능성 코팅은 은-기재 금속 기능성층 아래 및/또는 위에 위치하는 차단층을 포함하는 것을 특징으로 하는 물질.
  5. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 차단층의 두께는 0.2 nm 이상 내지 5.0 nm 이하인 것을 특징으로 하는 물질.
  6. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 기능성 코팅은 5 내지 20 nm의 두께를 가지는 것을 특징으로 하는 물질.
  7. 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 각각의 상기 기능성 코팅이 둘 이상의 유전체 코팅 사이에 위치하도록 하기 위하여, 상기 박층 스택은 하나 이상의 기능성 코팅 및 하나 이상의 유전체층을 포함하는 둘 이상의 유전체 코팅을 포함하는 것을 특징으로 하는 물질.
  8. 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 박층 스택은 하나의 기능성 코팅만을 포함하는 것을 특징으로 하는 물질.
  9. 제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 박층 스택은 바람직하게는 두께가 20 내지 70 nm인, 알루미늄 및/또는 규소의 질화물 또는 옥시질화물, 또는 혼합 아연 주석 산화물로 이루어진 하나 이상의 유전체층을 포함하는 하나 이상의 유전체 코팅을 포함하는 것을 특징으로 하는 물질.
  10. 제1항 내지 제9항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 기능성 코팅 아래에 위치한 유전체 코팅 또는 코팅들은 알루미늄 및/또는 규소의 질화물 또는 옥시질화물로 이루어지고 두께가 30 내지 70 nm이며, 바람직하게는 규소 질화물로 이루어지고, 선택적으로 추가로 알루미늄을 포함하는 단지 하나의 층을 포함하는 것을 특징으로 하는 물질.
  11. 제1항 내지 제10항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 기능성 코팅 위에 위치한 유전체 코팅 또는 코팅들은:
    - 적어도 알루미늄 및/또는 규소의 질화물 또는 옥시질화물로 이루어지고 두께가 30 내지 60 nm이며, 바람직하게는 규소 질화물로 이루어지고, 선택적으로 추가로 알루미늄을 포함하는 층 및
    - 선택적으로, 두께가 2 내지 10 nm인 하나 이상의 보호층
    을 포함하는 것을 특징으로 하는 물질.
  12. 제1항 내지 제11항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 투명 기판은:
    - 유리, 특히 소다-석회-실리카 유리로 제조되거나, 또는
    - 중합체, 특히 폴리에틸렌, 폴리에틸렌 테레프탈레이트 또는 폴리에틸렌 나프탈레이트로 제조되는 것인 물질.
  13. - 두께가 2 내지 10 nm인 하나 이상의 은-기재 기능성층과, 두께가 2 내지 10 nm이고 상기 은-기재 기능성층의 적어도 일부 아래 및/또는 위에 접촉하여 위치하는 하나 이상의 니오븀-기재 기능성층을 포함하는 하나 이상의 기능성 코팅을 상기 투명 기판 위에 증착하는 단계,
    - 유전체 물질을 기재로 한 코팅을 기능성층 위에 증착하는 단계, 및
    - 이렇게 코팅된 기판을 열처리하는 단계
    의 순서로 포함하는, 캐소드 스퍼터링, 선택적으로 자기장-보조 캐소드 스퍼터링에 의하여 증착된 박층 스택으로 코팅된 투명 기판을 포함하는 물질의 제조 방법.
  14. 제1항 내지 제12항 중 어느 한 항의 물질을 하나 이상 포함하는 글레이징.
  15. 제14항에 있어서, 모놀리식, 적층 또는 다중 글레이징, 특히 이중 글레이징 또는 삼중 글레이징의 형태인 것을 특징으로 하는 글레이징.
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