KR20180049068A - 펠라르곤산 에스테르의 혼합물 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 네오펜틸글리콜 디펠라르고네이트, 글리세롤 트리펠라르고네이트, 펜타에리트리톨 테트라펠라르고네이트로부터 선택되는 둘 이상의 에스테르의 혼합물, 및 피부 및 피부 부속물의 케어, 메이크업, 일광으로부터의 보호 및 클렌징을 위한 화장 조성물에서의 이의 용도에 관한 것이다.
Description
본 발명은 네오펜틸 글리콜 디펠라르고네이트, 글리세롤 트리펠라르고네이트 및 펜타에리트리톨 테트라펠라르고네이트로부터 선택되는 둘 이상의 에스테르의 혼합물, 화장 조성물에서의 이의 용도, 및 이를 함유하는 화장 조성물에 관한 것이다.
화장품 분야에서, 낮은 환경 영향 및 동시에 우수한 기능적 및 관능 특성을 갖는 천연 및 재생가능 기원의 신규한 성분을 찾는 것에 점점 더 관심이 기울여지고 있다.
화장 조성물은 피부, 모발의 케어, 메이크업 및 위생제품에서 이용될 수 있고, 통상적으로 생성물에 따라 우수한 세정력, 수화 및 부드러움을 보장하는 것을 돕고, 제품, 썬 필터 (sun filter), 착색제, 활성제 및 첨가제의 분산액의 윤활 및 적용성을 돕고, 및/또는 결합제로서 작용하여, 다양한 성분 사이의 접착을 장려하고, 예를 들어 화장 조성물 예컨대 아이섀도우 및 콤팩트 파우더에서의 결합제로서 작용하는 친유성 구성성분을 함유한다.
폴리올 예컨대 네오펜틸 글리콜, 글리세롤 및 펜타에리트리톨을 갖는 재생가능 공급원으로부터 수득될 수 있는 펠라르곤산의 에스테르는 함께 혼합물로 사용될 때, 특정한 윤활력을 갖고 부드럽고 매끄러운 외관을 피부에 부여한다는 것이 이제 관찰되었고; 이는 또한 피부로부터 물의 손실을 늦추는 장벽을 형성하는 이의 능력으로 인하여 피부 수분을 유지할 수 있다. 이는 또한 분말에 대한 결합 작용을 갖고, 썬 필터, 안료, 활성 성분 및 다른 첨가제를 분산시키는 우수한 능력을 갖는다.
네오펜틸 글리콜 디펠라르고네이트, 글리세롤 트리펠라르고네이트 및 펜타에리트리톨 테트라펠라르고네이트의 2원 및 3원 혼합물은 이에 따라 화장품용 조성물의 친유성 구성성분의 성분으로서 사용하기에 적합한데, 즉 배타적으로 또는 주로 이를 세정하고, 이를 향기롭게 하고, 이의 외관을 개질시키고, 이를 보호하고, 이를 양호한 조건 하에 유지시키거나, 체취를 교정하기 위한, 인간 신체 (표피, 입술 및 피부 부속물) 의 외부 표면에 대한 적용이 의도된 제품의 제조에 적합하다. 혼합물 중 에스테르 사이의 비율 및 제형 중 이의 양을 적절하게 바꿈으로써, 광범위한 적용 범위에 적합한 우수한 특성을 갖는 무수 조성물 및 수성 조성물을 수득할 수 있게 한다.
따라서, 본 발명의 목적은 네오펜틸 글리콜 디펠라르고네이트, 글리세롤 트리펠라르고네이트, 펜타에리트리톨 테트라펠라르고네이트로부터 선택되는 둘 이상의 에스테르의 혼합물, 및 화장 조성물에서의 이의 용도이다.
본 발명의 유리한 양상에 따르면 상기 혼합물에 존재하는 에스테르 (즉 네오펜틸 글리콜 디펠라르고네이트, 글리세롤 트리펠라르고네이트, 펜타에리트리톨 테트라펠라르고네이트) 는, 예를 들어 개질될 수 있거나 개질되지 않을 수 있는 식물성 오일, 지방산 및 이의 유도체의 산화적 절단의 방법에 의해 수득된, 재생가능 공급원으로부터의 펠라르곤산으로부터 제조된다. 펠라르곤산의 재생가능 공급원의 바람직한 예는 해바라기, 겨자 (brassicaceae) 또는 엉겅퀴 (예컨대 사이나라 카르던쿨러스 (Cynara cardunculus) 및 실리범 마리아눔 (Silybum marianum)) 로부터의 식물성 오일이다. 펠라르곤산의 특히 바람직한 공급원은 높은 올레산 또는 에루스산 함량을 갖는 식물성 오일에 의해 나타내어진다.
상기 펠라르곤산은 바람직하게는 무기 및 유기 과산화물, 과산, 질산, 퍼망가네이트, 퍼요오데이트, O2, O3 또는 이의 기체성 혼합물이 산화제로서 사용되는 산화적 절단 방법에 의해 수득된다.
과산화물 예컨대 과산화수소, 및 O2 또는 O2 를 함유하는 혼합물이 산화제로서 사용되는 산화적 절단 방법이 바람직하다. 구체적인 예는 출원 WO 94/10122, WO 07/039481, WO 2008/138892, WO 2011/080296, WO 2011/080297 또는 WO 2013/079849 에 기재된 산화적 절단 방법이다.
바람직하게는 상기 언급된 에스테르는 각각 바람직하게는 95% 초과, 더 바람직하게는 98% 초과의 고순도 펠라르곤산, 및 네오펜틸 글리콜, 글리세롤 또는 펜타에리트리톨로부터 선택되는 폴리올로부터, 유리하게는 촉매 부재 하에 수행된 에스테르화 반응을 통해 제조된다.
상기 에스테르화는 유리하게는, 폴리올의 몰에 대해 몰 과량의 펠라르곤산의 존재 하에 (바람직하게는 30 % 이상 및 70 % 미만), 전형적으로는 180-240 ℃, 바람직하게는 200-210 ℃ 의 온도에서 작업하여 수행된다. 에스테르화 반응 동안 형성된 물은 유리하게는 예를 들어 점진적 압력 감소를 적용하여 반응 환경으로부터 제거되고; 반응의 마지막에 과잉의 산이 바람직하게는 증발에 의해 제거된다. 이에 따라 수득된 에스테르는 유리하게는, 임의의 착색, 냄새 및 잔류 산도를 제거하는 관점에서, 예를 들어 활성탄 및 탈색 어스 (decolouring earth) 를 사용하여, 당업자에 공지된 방법에 따라 정제 처리될 수 있다. 활성탄과의 조합을 비롯하여, 사용될 수 있는 탈색 어스의 예는, Grade F-118FF, Grade F76 (BASF 시판), Minclear N100, Minclear E100 및 Pansil 2 (Tolsa 시판) 이다.
금속, 예를 들어 주석에 의해 촉매작용된 통상적인 에스테르화 과정에 의해 수득된 에스테르에 비해, 상기 기재된 과정에 따른 작업에 의해 수득된 에스테르는 이의 감각적 특성 (예를 들어 색상, 냄새) 및 이의 안정성, 및 완성된 화장품의 독물학적 특성에 영향을 줄 금속 잔류물을 함유하지 않는다. 따라서 이는 더 적은 무기 물질 함량의 특정한 이점을 갖고, 미용적 환경에서의 사용을 위해 더 단순한 예비 처리를 필요로 한다.
상기 기재된 상기 펠라르곤산 에스테르 중 둘 이상의 혼합물을 포함하는 화장 조성물은 본 발명의 또다른 목적이다.
상기 조성물은 예를 들어 상기 펠라르곤산 에스테르를 다른 성분에 개별적으로 (한번에 하나) 또는 동시에, 이들이 함께 혼합되기 전에 첨가하여 제조될 수 있다.
본 발명에 따른 화장 조성물은 조성물의 총 중량에 대해 0.1 내지 99중량% 의 상기 혼합물을 함유할 수 있다. 이는 친유성 화장 조성물 (i) 또는 수성 화장 조성물 (ii) 의 형태를 취할 수 있고, 각 경우에 상기 혼합물의 특징적인 최적의 양을 함유한다.
친유성 화장 조성물 (i)
본 발명에 따른 혼합물은, 오일, 버터, 컨실러, 립스틱, 일광 보호 제품의 제조가 의도된 화장 조성물의 유성 성분의 성분으로서, 또는 콤팩트 파우더 예컨대 아이 섀도우, 블러셔, 페이스 파우더 및 파운데이션 파우더의 형태의 조성물에서의 결합제로서 특히 적합하다. 따라서 본 발명의 한 바람직한 양상은, 네오펜틸 글리콜 디펠라르고네이트, 글리세롤 트리펠라르고네이트, 펜타에리트리톨 테트라펠라르고네이트로부터 선택된 둘 이상의 에스테르의 혼합물을 포함하는 친유성 화장 조성물에 관한 것이다.
본 발명에 따른 친유성 성질의 조성물은, 결국 본 발명에 따라 네오펜틸 글리콜 디펠라르고네이트, 글리세롤 트리펠라르고네이트, 펜타에리트리톨 테트라펠라르고네이트로부터 선택되는 둘 이상의 에스테르의 상기 혼합물을 포함하거나 유리하게는 이로 이루어지는 유성 구성성분을 포함한다. 상기 친유성 조성물은 유리하게는 화장 조성물의 중량에 대해 99중량% 이하, 바람직하게는 95중량% 이하의 상기 혼합물을 포함한다. 이러한 유형의 친유성 조성물의 예는 본원에서 참조 인용되는 이탈리아 출원 번호 102015000049554 에 기재되어 있다.
상기 언급된 혼합물 이외에, 상기 유성 구성성분은 또한 바람직하게는 에스테르, 아미드, 에테르, 알코올 및 천연 및/또는 합성 기원의 탄화수소, 실리콘 오일 또는 이의 혼합물로부터 선택되는 식물, 동물, 미네랄 및/또는 합성 기원의 다른 오일을 함유할 수 있다.
천연 기원의 에스테르의 가능한 예는 포화 또는 불포화된 지방산의 트리글리세라이드, 예컨대 예를 들어 C8 및 C10 산의 트리글리세라이드, 또는 이의 혼합물 예컨대 예를 들어 식물성 오일에 존재하는 것이다. 적합한 식물성 오일은 예를 들어 올리브 오일, 해바라기 오일, 옥수수 오일, 대두 오일, 피마자 오일, 살구 오일, 아보카도 오일, 아몬드 오일, 마카다미아 오일, 호호바 오일 또는 카라이트 오일이다.
합성 기원의 에스테르는 예를 들어 선형 및 분지형 카복실산과 모노알코올의 에스테르, 예컨대 이소노닐 이소노나노에이트, 이소프로필 미리스테이트, 2-에틸 헥실 팔미테이트, 이소데실 네오펜타노에이트, 이소스테아릴 네오펜타노에이트, 2-옥틸도데실 스테아레이트, 2-옥틸도데실 에루케이트 또는 이소스테아릴 이소스테아레이트, 디이소스테아릴 말레에이트, C12-15 알킬 벤조에이트; C7-C10 사슬 지방산과 지방 알코올의 에스테르; 하이드록실화 에스테르, 예컨대 이소스테아릴 락테이트, 옥틸 하이드록시스테아레이트, 옥틸도데실 하이드록시스테아레이트; 폴리올의 에스테르, 예컨대 프로필렌 글리콜 디옥타노에이트, 네오펜틸 글리콜 디헵타노에이트 또는 디에틸렌 글리콜 디이소노나노에이트 및 펜타에리트리틸 테트라이소스테아레이트이다.
에테르의 한 예는 디카프릴릴 에테르이다. 아미드의 한 예는 디부틸 라우로일 글루타미드이다.
오일의 다른 예는 지방 알코올 예컨대 옥틸도데칸올, 헥실도데칸올, 이소스테아릴 알코올을 포함한다.
천연 기원의 탄화수소 오일은 예를 들어 테르펜 탄화수소 예컨대 스쿠알렌 및 스쿠알란이고; 미네랄 또는 합성 기원의 탄화수소 오일은 예를 들어 액체 파라핀 및 이의 유도체 예컨대 이소파라핀 (예를 들어 이소도데칸, 이소헥사데칸, 폴리데센 하이드로게네이트) 및 사이클로파라핀이다.
실리콘 오일은 규소 기반의 합성 화합물이고; 이는 휘발성 또는 비휘발성, 선형 또는 시클릭일 수 있다. 실리콘 오일의 예는 예를 들어 알킬, 알콕실 또는 페닐 기를 포함하는 폴리실록산 및 이의 유도체이고; 전형적으로 사용된 실리콘 오일은 폴리디메틸실록산 (디메티콘), 아모디메티콘, 사이클로메티콘 예컨대 사이클로펜타실록산 및 사이클로헥사실록산, 아미노 비스프로필 디메티콘, 아미노프로필 디메티콘, 아모디메티콘 하이드록시스테아레이트, 베헨옥시-디메티콘, C30-45 알킬 디메티콘, C24-28 알킬 디메티콘, C30-45 알킬 메티콘, 세테아릴 메티콘, 세틸 디메티콘, 디메톡시실릴 에틸렌디아미노프로필 디메티콘, 헥실 메티콘, 하이드록시프로필디메티콘, 스테아르아미도프로필 디메티콘, 스테아르옥시 디메티콘, 스테아릴 메티콘, 스테아릴 디메티콘 및 비닐 디메티콘을 포함한다.
본 발명에 따른 친유성 조성물은 유리하게는 조성물의 총 중량에 대해 전형적으로 0.1 내지 35 중량% 의 양으로 하나 이상의 왁스를 포함할 수 있다. 당업자는 이의 화장 조성물에서의 요망되는 효과를 기준으로, 사용되는 왁스의 양 및 유형을 쉽게 조절할 수 있을 것이다.
용어 "왁스" 는 주변 온도에서 (25 ℃) 및 대기압 하에서 고체인 친유성 구성성분을 의미하고; 상기 성분은 이를 함유하는 화장 조성물에 점도, 가소성 및 강도를 부여하고, 이는 이에 따라 고체 형태로, 예를 들어 스틱으로서 제조하기에 적합하다.
본 발명에 따른 화장 조성물에서 사용하기에 적합한 왁스는 천연 및/또는 합성 기원의 것일 수 있는 화장 조성물에서 전형적으로 사용된 모든 왁스이다. 천연 왁스의 예는 밀랍 또는 세라 알바, 카르나우바 왁스, 칸데릴라 왁스, 목랍 (Japan wax), 쌀 왁스, 수소화 오일, 예컨대 호호바 오일 또는 해바라기 또는 코코넛 오일로부터 유래된 왁스, 장쇄 지방산과 장쇄 모노-알코올 또는 이의 글리세라이드의 에스테르, 예컨대 세틸 팔미테이트, 세틸 스테아레이트, 팔미트산 및 스테아르산 트리글리세라이드이다.
미네랄 또는 합성 왁스의 예는 갈탄 왁스, 마이크로결정질 왁스, 파라핀, 오조케라이트, 세레신, 합성 밀랍, 라놀린, 및 이의 폴리프로필렌 글리콜과의 에테르, 폴리에틸렌 왁스, 용융점이 25 ℃ 초과인 지방산의 에스테르, 폴리아미드, 및 세틸 에스테르이다. 실리콘 왁스 예컨대 알킬 또는 알콕시-디메티콘 또는 고분자량을 갖는 폴리(디)메틸실록산이 또한 사용될 수 있다.
식물성 오일 (예를 들어 카로테노이드, 크산토필, 토코페롤, 파이토스테롤, 지방족 및 테르펜 알코올) 의 비(非)비누화성 분획으로부터 유래된 하나 이상의 구성성분을 포함한다. 친유성 성질의 비타민 및 활성 성분은 또한 유성 구성성분에 용해되어 존재할 수 있다.
특히 바람직한 구현예에 따르면 본 발명은 화장 조성물의 중량에 대해, 하기를 포함하는 친유성 형태의 화장 조성물에 관한 것이다:
a) 네오펜틸 글리콜 디펠라르고네이트, 글리세롤 트리펠라르고네이트 및 펜타에리트리톨 테트라펠라르고네이트로부터 선택되는 둘 이상의 에스테르의 혼합물을 포함하는 유성 구성성분 50 내지 99 중량%, 바람직하게는 55 내지 95 중량%, 더 바람직하게는 40 내지 80 중량%;
b) 하나 이상의 왁스 1 내지 35 중량%, 바람직하게는 5 내지 30 중량%, 더 바람직하게는 7 내지 20 중량%;
c) 하나 이상의 착색제 0 내지 30 중량%, 바람직하게는 0.1 내지 20 중량%, 더 바람직하게는 0.1 내지 15 중량%;
d) 비타민 및/또는 산화방지제 0 내지 3 중량%, 바람직하게는 0.05 내지 2 중량%;
e) 하나 이상의 보존제 0 내지 2 중량%, 바람직하게는 0.01 내지 1 중량%.
상기 조성물은 입술용 립스틱, 입술용 버터 및 밤, 컨실러, 파운데이션 크림 및 캐스트 (cast) 및 스틱 아이 섀도우의 제조에 특히 적합하다.
본 발명에 따른 조성물은 유리하게는 화장 조성물의 중량에 대해 바람직하게는 0.05 내지 35중량%, 바람직하게는 0.1 내지 30 중량% 의 양으로 하나 이상의 썬 필터를 또한 포함할 수 있다.
썬 필터는 UVA/UVB 방사선으로부터 피부 및/또는 모발을 보호하는 기능을 갖는다. 이는 예를 들어 반사 특성을 갖는 필터 또는 물리적 스크린 예컨대 예를 들어 아연 산화물 및 티타늄 이산화물 (나노물질의 형태이거나 더 큰 크기의 입자를 가짐), 실리카, 카올린, 철 및/또는 마그네슘 산화물, 및 화학적 필터, 전형적으로 자외선 방사선의 에너지를 흡수 및 전환할 수 있는 유기 분자 예컨대 신나메이트, 벤조이미다졸, 벤조페논, 벤질리덴 캄포레이트, PABA 및 이의 유도체, 살리실레이트, 안트라닐레이트, 디벤조일 메탄, 옥토크릴렌, 트리아진 예컨대 옥틸트리아존, 비스-에틸헥실옥시페놀 메톡시페닐 트리아진 및 디에틸 헥실 부타미도 트리아존, 천연 산화방지제 예컨대 비타민 C 및 비타민 E 또는 합성 비타민, 예컨대 Tinogard TT, 또는 이의 조합물을 포함한다.
물리적 및 화학적 필터는 천연 기원 (예컨대 예를 들어 감마 오리자놀) 또는 합성의 것일 수 있고, 단독으로 사용되거나 더 유리하게는 조합하여 사용될 수 있다.
본 발명에 따른 조성물에서 사용하기에 적합한 썬 필터의 구체적인 예는 옥틸-메톡시신나메이트, 2-에틸-헥실-4-디메틸아미노벤조에이트, 부틸-메톡시-디벤조일메탄, 옥틸 트리아존, 디에틸 헥실부타미도 트리아존, 에틸 헥실 살리실레이트, 아연 산화물, 티타늄 이산화물, 또는 이의 조합물이다.
특히 바람직한 구현예에 따르면 본 발명은 화장 조성물의 중량에 대해 하기를 포함하는 친유성 화장 조성물에 관한 것이다:
a)
50 내지 99 중량%, 바람직하게는 50 내지 90 중량% 의, 네오펜틸 글리콜 디펠라르고네이트, 글리세롤 트리펠라르고네이트 및 펜타에리트리톨 테트라펠라르고네이트 및 이의 혼합물로부터 선택되는 둘 이상의 에스테르의 혼합물을 포함하는 유성 구성성분;
b)
0.05 내지 35중량%, 바람직하게는 0.1 내지 30중량% 의, 하나 이상의 썬 필터;
c)
0 내지 30중량%, 바람직하게는 5 내지 30중량%, 더 바람직하게는 7 내지 20중량% 의 하나 이상의 왁스;
d)
0 내지 30중량%, 바람직하게는 0.1 내지 3중량% 의 하나 이상의 착색제;
e)
0 내지 2중량%, 바람직하게는 0.01 내지 1중량% 의 하나 이상의 보존제.
상기 조성물은 일광 보호 제품, 특히 일광 보호 스틱, 오일 및 버터의 제조에 특히 적합하다.
본 발명에 따른 조성물은 유리하게는 또한 하나 이상의 폴리올레핀, 아크릴 유도체, 폴리아미드 및/또는 폴리에스테르 올리고머 (예를 들어 폴리부틸렌 또는 폴리이소부틸렌으로부터 선택됨) 를 포함할 수 있다.
화장 조성물의 총 중량에 대해 15 내지 85 중량% 의 상기 올리고머, 및 5 내지 65중량%, 바람직하게는 10 내지 35중량% 의 유성 구성성분을 포함하는 친유성 조성물이 바람직하다. 상기 조성물은 유리하게는 현탁된 분말, 착색제 및 산화방지제를 포함한다. 이러한 유형의 화장 조성물은 립 글로스와 같은 화장품의 제조에 특히 적합하다.
"올리고머" 는 밝기 및 점착성을 화장 조성물에 제공하는 역할을 하는, 주변 온도에서 (25 ℃) 및 대기압 하에 액체인, 분자량이 1000 g/몰 미만인 올리고머 및 폴리머를 전형적으로 의미한다.
적합한 올리고머는 폴리부틸렌, 폴리이소부틸렌 및 수소화 폴리이소부틸렌, 폴리데센 및 수소화 폴리데센, 폴리에틸렌, 폴리아미드, 폴리에스테르를 포함하는 군으로부터 선택된다. 바람직한 올리고머는 폴리부틸렌, 폴리이소부틸렌 및/또는 폴리아미드로부터 선택된다.
특히 바람직한 구현예에 따르면 본 발명은 화장 조성물의 중량에 대해 하기를 포함하는 친유성 화장 조성물에 관한 것이다:
a)
15 내지 85중량%, 바람직하게는 20 내지 80중량% 의, 하나 이상의 올리고머;
b)
5 내지 65중량%, 바람직하게는 10 내지 35중량% 의, 네오펜틸 글리콜 디펠라르고네이트, 글리세롤 트리펠라르고네이트 및 펜타에리트리톨 테트라펠라르고네이트 및 이의 혼합물로부터 선택되는 하나 이상의 에스테르를 포함하는 유성 구성성분;
c)
0 내지 15중량%, 바람직하게는 2 내지 5중량% 의, 현탁용 분말 (suspension powder) 을 갖는 하나 이상의 흐름 개질제;
d)
0 내지 20중량%, 바람직하게는 0.1 내지 15중량% 의 하나 이상의 착색제;
e)
0 내지 5중량%, 바람직하게는 0.1 내지 3중량% 의 하나 이상의 왁스;
f)
0 내지 3중량%, 바람직하게는 0.05 내지 2중량% 의 비타민 및/또는 산화방지제;
g)
0 내지 2중량%, 바람직하게는 0.01 내지 1중량% 의 하나 이상의 보존제.
상기 조성물은 립 글로스의 제조에 특히 적합하다.
본 발명에 따른 화장 조성물은 펠라르곤산 에스테르의 혼합물의 조성에 따라 상이한 특징을 갖는다. 예를 들어, 네오펜틸 글리콜 디펠라르고네이트 및 글리세롤 트리펠라르고네이트의 2원 혼합물은 박막을 형성하고, 이를 함유하는 친유성 화장 조성물에 사라지는 후속-느낌 (evanescent after-feel) 을 부여한다.
네오펜틸 글리콜 디펠라르고네이트 및 펜타에리트리톨 테트라펠라르고네이트의 2원 혼합물은 얇지만 뚜렷한 막을 형성하고, 친유성 화장 조성물에 양호한 흐름 및 밝기 특징을 부여한다.
글리세롤 트리펠라르고네이트 및 펜타에리트리톨 테트라펠라르고네이트의 2원 혼합물은 뚜렷한 막을 형성하고, 이를 함유하는 친유성 화장 조성물에 브릴리언트 효과 (brilliant effect), 가볍고 번질거리지 않는 터치감, 양호한 흐름 및 편안함을 제공한다. UVA/UVB 썬 필터의 양호한 분산으로 인해, 이는 특히 일광 보호 제품 (sun protection product) 에서의 적용에 특히 적합하다.
네오펜틸 글리콜 디펠라르고네이트, 글리세롤 트리펠라르고네이트 및 펜타에리트리톨 테트라펠라르고네이트의 3원 혼합물은 막-형성을 하고, 화장 조성물에 우수한 흐름 및 브릴리언트한 마무리감, 매우 편안함을 제공하고, 번질거리지 않는다. 이는 안료 및 UVA/UVB 썬 필터의 우수한 분산액을 제공하고, 이에 따라 일광 보호 제품에서의 적용에 적합하다.
한 특히 유리한 양상에 따르면, 본 발명은 분말-기반 친유성 조성물, 즉 주로 탈크, 마이카, 카올린, 실리카, 전분, 실리카-코팅된 마이카 및 탈크, 티타니아, 티타니아-코팅된 마이카 및 탈크, 전분, 인회석, 펄라이트, 폴리머 예컨대 예를 들어 나일론 및 폴리에틸렌, 코폴리머 마이크로구체, 실리콘 수지 마이크로비이드, 또는 이의 혼합물로부터 선택되는 하나 이상의 분말 구성성분을 포함하는 것에 관한 것이다. 상기 분말-기반 조성물은 결국 네오펜틸 글리콜 디펠라르고네이트, 글리세롤 트리펠라르고네이트 및 펜타에리트리톨 테트라펠라르고네이트로부터 선택되는 둘 이상의 에스테르의 혼합물을 포함하거나 유리하게는 이로 이루어지는 하나 이상의 결합제를 포함한다. 이러한 양상에 따른 조성물은 유리하게는 또한 텍스처화제 (texturising agent), 착색제 및 가능하게는 향료 및 보존제 시스템을 또한 포함한다. 상기 분말-기반 조성물은 유리하게는 화장 조성물의 중량에 대해 0.1 내지 20중량%, 더 바람직하게는 0.1 내지 15중량% 의 상기 혼합물을 포함한다. 이는 유리하게는 35중량% 초과, 바람직하게는 40중량% 초과, 더 바람직하게는 50중량% 초과의 분말 구성성분을 포함한다. 이러한 유형의 조성물의 예는 본원에서 참조 인용되는 특허 출원 번호 102015000049579 에 기재되어 있다. 이러한 조성물은 아이 섀도우, 블러셔, 페이스 파우더, 불투명 메이크업, 루스 및 콤팩트 파우더와 같은 제품에서 이용된다.
펠라르곤산과 네오펜틸 글리콜, 글리세롤 또는 펜타에리트리톨의 단일 에스테르를 함유하는 분말-기반 조성물의 제조는, 구성성분 사이의 접착도 및 퍼짐성 (이는 이를 최종 사용자에게 허용가능하게 만듬) 을 달성하기 위해 다른 결합제의 첨가를 반드시 필요로 한다. 반대로, 이러한 에스테르 중 둘 이상이 혼합물 중 성분으로서 사용될 때, 이는 놀라운 결합, 윤활, 진정 및 수화 효과를 동시에 나타내고; 생성된 조성물은 결합제의 추가 첨가가 요구되지 않는 퍼짐성 및 편안함의 정도를 달성한다.
예를 들어, 네오펜틸 글리콜 디펠라르고네이트 및 글리세롤 트리펠라르고네이트의 2원 혼합물을 함유하는 분말-기반 화장 조성물은 가벼운 막 및 양호한 퍼짐성을 제공한다.
네오펜틸 글리콜 디펠라르고네이트 및 펜타에리트리톨 테트라펠라르고네이트의 2원 혼합물을 함유하는 분말-기반 화장 조성물은 가볍지만 편안한 막을 제공하고, 양호한 퍼짐성을 갖는다.
글리세롤 트리펠라르고네이트 및 펜타에리트리톨 테트라펠라르고네이트의 2원 혼합물을 함유하는 무수 화장 조성물은 번질거리지 않는 더 지속적이고 편안한 막을 제공하고, 양호한 퍼짐성을 갖는다.
네오펜틸 글리콜 디펠라르고네이트, 글리세롤 트리펠라르고네이트 및 펜타에리트리톨 테트라펠라르고네이트의 3원 혼합물을 함유하는 분말-기반 화장 조성물은 번질거리지 않는 매우 지속적이고 편안한 막을 제공하고, 우수한 퍼짐성을 갖는다.
상기 분말-기반 조성물은, 결합제로서, 본 발명에 따른 혼합물 이외에, 유성 또는 왁스 유형의 다른 성분을 임의로 포함할 수 있다. 예를 들어 화장 조성물에서 전형적으로 사용된 모든 왁스 및 무수 조성물의 유성 성분의 전형적인 성분인 것으로 상기 열거된 오일은 결합 작용을 갖는다.
본 발명에 따른 에스테르의 혼합물과 함께, 분말-기반 조성물에 유리하게는 첨가될 결합제의 예는, 탄화수소 예컨대 폴리데센, 에스테르 예컨대 옥틸도데실 스테아로일 스테아레이트, 트리글리세라이드 예컨대 카프르산/카프릴산의 트리글리세라이드, 유체 실리콘 및 라놀린 유도체이다.
지방산의 염 예컨대 마그네슘 스테아레이트, 아연 스테아레이트, 칼슘 스테아레이트, 리튬 스테아레이트, 알루미늄 스테아레이트 및 이의 혼합물은 또한 유리하게는 상기 분말-기반 조성물에서 본 발명에 따른 에스테르의 혼합물과의 조합으로 사용된다.
바람직한 구현예에 따르면, 본 발명은 화장 조성물의 중량에 대해 하기를 포함하는 무수 형태의 분말-기반 화장 조성물에 관한 것이다:
(a)
35 내지 99중량% 의 분말,
(b)
1 내지 20중량%, 바람직하게는 3 내지 15중량% 의, 네오펜틸 글리콜 디펠라르고네이트, 글리세롤 트리펠라르고네이트, 펜타에리트리톨 테트라펠라르고네이트 및 이의 혼합물로부터 선택되는 둘 이상의 에스테르의 혼합물을 포함하는 결합 구성성분,
(c)
0 내지 30중량% 의 하나 이상의 텍스처화제,
(d)
0 내지 15중량%, 바람직하게는 2 내지 10중량% 의 하나 이상의 착색제,
(e)
0 내지 15중량%, 바람직하게는 1 내지 15중량%, 더 바람직하게는 5 내지 15중량% 의 지방산의 염,
(f)
0 내지 2중량%, 바람직하게는 0.01 내지 1중량% 의 하나 이상의 보존제.
상기 조성물에서 유리하게는 사용된 텍스처화제의 예는 전분, 소수성 기로 개질된 전분, 폴리머 예컨대 폴리아미드, 폴리우레탄 및 폴리아크릴레이트, 특히 폴리메틸 메타크릴레이트이다.
본 발명에 따른 친유성 화장 조성물은 바람직하게는 20 % 를 초과하지 않는 양으로 물을 함유하고; 바람직하게는 물 함량은 화장 조성물의 중량에 대해 5 % 미만이다.
수성 화장 조성물 (ii)
본 발명에 따른 혼합물은 또한 예를 들어 오일-기반 또는 물-기반 에멀전의 형태로, 마이크로-에멀전 또는 물-지질 분산액의 형태로, 수성 화장 조성물 중의 성분으로서 또한 특히 적합하다.
상기 수성 화장 조성물은 바람직하게는 20중량% 초과, 바람직하게는 35중량% 초과, 더욱 더 바람직하게는 50중량% 초과의, 물을 포함하는 친수성 또는 수성 구성성분을 포함한다. 수성 구성성분과 함께, 이는 또한 결국 네오펜틸 글리콜 디펠라르고네이트, 글리세롤 트리펠라르고네이트 및 펜타에리트리톨 테트라펠라르고네이트로부터 선택되는 둘 이상의 에스테르의 혼합물을 포함하거나 유리하게는 이로 이루어지는 친유성 구성성분을 함유한다. 상기 수성 조성물은 유리하게는 화장 조성물의 중량에 대해 0.1 내지 50 중량%, 더 바람직하게는 0.1 내지 35 중량% 의 상기 혼합물을 포함한다. 이러한 유형의 조성물의 예는 본원에서 참조 인용되는 이탈리아 출원 번호 102015000049538 에 기재되어 있다.
본 발명에 따른 펠라르곤산의 에스테르의 혼합물 이외에, 상기 친유성 구성성분은 바람직하게는 천연 및/또는 합성 기원의 에스테르, 아미드, 에테르, 알코올 및 탄화수소, 실리콘 오일 또는 이의 혼합물로부터 선택되는 식물, 동물, 미네랄 및/또는 합성 기원의 오일과 같은, 주변 온도에서 (25 ℃) 및 대기압 하에 액체 형태인 다른 구성성분을 포함할 수 있다. 전형적인 예는 친유성 조성물의 유성 구성성분의 전형적인 성분으로서 상기 열거된 오일이다.
본 발명의 바람직한 양상에 따르면, 논의되는 펠라르곤산의 에스테르의 혼합물은 오일-기반 에멀젼 (유중수, W/O), 또는 물-기반 에멀젼 (수중유 O/W) 의 형태로 수성 화장 조성물의 제조에 적합하고, 이는 다중 형태 (예를 들어 W/O/W 또는 O/W/O) 로 발생할 수 있다.
에멀젼의 경우, 친유성 구성성분은 주변 온도에서 (25 ℃) 및 대기압 하에 고체 또는 페이스트 형태인 다른 구성성분, 예컨대 버터 및/또는 왁스를 본 발명에 따른 혼합물 이외에 포함할 수 있다. 버터의 예는 카라이트 버터 (Karite butter), 코코아 버터, 쿠푸아쿠 버터 (cupuacu butter) 이다. 적합한 왁스는 화장 조성물에서 통상 사용되는 모든 왁스이다.
본 발명에 따른 오일-기반 에멀젼 형태의 화장 조성물은 유리하게는 화장 조성물의 중량에 대해 50중량% 이하, 바람직하게는 35중량% 이하, 더 바람직하게는 25중량% 이하의 상기 혼합물을 포함한다. 본 발명에 따른 오일-기반 에멀젼의 바람직한 예는 친유성 구성성분이 상기 정의된 펠라르곤산 에스테르 중 둘 이상 및 하나 이상의 실리콘 오일을 포함하는 실리콘-기반 에멀젼 (W/Si) 이다.
글리세롤 트리펠라르고네이트 및 펜타에리트리톨 테트라펠라르고네이트의 2원 혼합물, 또는 네오펜틸 글리콜 디펠라르고네이트, 글리세롤 트리펠라르고네이트 및 펜타에리트리톨 테트라펠라르고네이트의 3원 혼합물이 바람직하고, 친유성 구성성분의 단독 성분으로서 사용될 수 있다.
네오펜틸 글리콜 디펠라르고네이트를 포함하는 2원 혼합물은, 화장 조성물의 중량에 대해 15중량% 이하, 바람직하게는 10중량% 이하, 더 바람직하게는 5중량% 이하를 포함하고, 바람직하게는 다른 오일, 버터 또는 왁스와 함께 사용된다.
바람직한 구현예에 따르면, 본 발명은 화장 조성물의 중량에 대해 하기를 포함하는 오일-기반 에멀젼의 형태의 수성 화장 조성물에 관한 것이다:
(a)
35 내지 80중량% 의 수성상;
(b)
10 내지 50중량%, 바람직하게는 10 내지 35중량% 의, 네오펜틸 글리콜 디펠라르고네이트, 글리세롤 트리펠라르고네이트 및 펜타에리트리톨 테트라펠라르고네이트로부터 선택된 둘 이상의 에스테르의 혼합물을 포함하는 친유성 구성성분;
(c)
0.3 내지 15중량% 의, 바람직하게는 HLB 가 3 내지 6 인 하나 이상의 에멀젼화제.
전형적으로, 상기 수성상은 화장 조성물의 60 내지 80중량% 를, 그리고 상기 친유성 구성성분은 25-35중량% 를 차지한다.
상기 수성상은 또한 킬레이트제, 예컨대 예를 들어 에틸렌디아민 테트라아세트산 및 이의 소듐 염 (예를 들어 2소듐, 3소듐 및 4소듐 염), 소듐 클로라이드, 마그네슘 설페이트 및 다른 안정화제, 보존제, 활성 성분 및 수화제를 함유할 수 있다.
이러한 구현예에 따른 오일-기반 에멀젼의 형태의 조성물은 예를 들어 크림, 일광 보호 제품, 세럼, 파운데이션 크림, 컨실러 및 마스카라의 제조에 적합하다.
본 발명에 따른 물-기반 에멀젼의 형태의 화장 조성물은 유리하게는 35 중량% 이하, 바람직하게는 20중량% 이하의, 네오펜틸 글리콜 디펠라르고네이트, 글리세롤 트리펠라르고네이트 및 펜타에리트리톨 테트라펠라르고네이트로부터 선택되는 둘 이상의 에스테르의 상기 혼합물을 포함한다.
네오펜틸 글리콜 디펠라르고네이트를 포함하는 본 발명에 따른 2원 혼합물이 바람직하고, 이러한 조성물의 친유성 구성성분의 단독 성분으로서 사용될 수 있다.
글리세롤 트리펠라르고네이트 및 펜타에리트리톨 테트라펠라르고네이트의 2원 혼합물, 또는 네오펜틸 글리콜 디펠라르고네이트, 글리세롤 트리펠라르고네이트 및 펜타에리트리톨 테트라펠라르고네이트의 3원 혼합물은 유리하게는 상기 화장 조성물의 중량에 대해 15중량% 이하, 바람직하게는 10중량% 이하, 더 바람직하게는 5중량% 이하를 포함하고, 바람직하게는 다른 오일, 버터 또는 왁스와 함께 사용된다.
본 발명의 바람직한 구현예에 따르면 본 발명은 화장 조성물의 중량에 대해 하기를 포함하는 물 기반 에멀젼의 형태의 수성 화장 조성물에 관한 것이다:
(a)
60 내지 90중량% 의 수성상;
(b)
0.5 내지 40중량%, 바람직하게는 1 내지 20중량% 의, 네오펜틸 글리콜 디펠라르고네이트, 글리세롤 트리펠라르고네이트 및 펜타에리트리톨 테트라펠라르고네이트, 또는 이의 혼합물로부터 선택되는 둘 이상의 에스테르의 혼합물을 포함하는 친유성 구성성분;
(c)
5 내지 15중량% 의, HLB 가 바람직하게는 6 및 12 인 하나 이상의 에멀젼화제.
이러한 구현예에 따른 물-기반 에멀젼의 형태의 조성물은, 예를 들어 크림, 밀크, 세럼, 버터, 일광 보호 제품, 모발 제품 예컨대 밤, 마스크, 리브-온 및 메이크업 제품, 예컨대 파운데이션 크림, 마스카라, 컨실러, 및 입술 메이크업용 제품의 제조에 적합하다.
본 발명에 따른 조성물에서 사용된 전형적인 에멀젼화제는 길거나 중간-길이의 알킬 사슬 (일반적으로 C12 보다 더 김) 을 갖고, 음이온성, 양이온성, 양쪽성 또는 비이온성일 수 있다.
상기 에멀젼화제는 예를 들어 지방산의 모노글리세라이드, 소르비탄 에스테르 (예를 들어 모노에스테르, 디에스테르, 트리에스테르 및 이의 혼합물) (이는 임의로는 에톡실화될 수 있음), 사카로오스 에스테르, 지방산과의 단백질 축합물, 폴리글리세롤 및/또는 지방산과 이의 에스테르, 글루코오스 및/또는 폴리글루코오스와 지방 알코올의 에테르, 레시틴 및/또는 수소화 레시틴, 에톡실화된 지방 알코올, 에톡실화된 지방산 (예를 들어 PEG-100 스테아레이트), 비누 예컨대 트리에탄올아민 스테아레이트, 에톡실화된 및 비에톡실화된 인산 에스테르 (예를 들어 칼륨 세틸 포스페이트) 를 포함하는 군으로부터 선택될 수 있다.
오일-기반 에멀젼에 적합한 에멀젼화제는 전형적으로 불포화, 분지형 또는 치환 일킬 사슬, 예컨대 예를 들어 올레산, 이소스테아릴, 리시놀레산 및 하이드록시스테아릴 사슬을 갖는다.
물-기반 에멀전에 적합한 에멀젼화제는 전형적으로 포화 및 선형 사슬, 예컨대 예를 들어 스테아릴 및 팔미톨레산 사슬을 갖는다.
또다른 양상에 따르면, 본 발명에 따른 물-기반 에멀젼의 형태의 화장 조성물은 유리하게는 15중량% 이하, 바람직하게는 10중량% 이하의, 네오펜틸 글리콜 디펠라르고네이트, 글리세롤 트리펠라르고네이트 및 펜타에리트리톨 테트라펠라르고네이트로부터 선택되는 둘 이상의 에스테르의 상기 혼합물을 포함한다.
특히 바람직한 양상에 따르면, 본 발명은 화장 조성물의 총 중량에 대해 하기를 포함하는 수성 화장 조성물에 관한 것이다:
(a)
60 내지 90중량% 의 수성 구성성분;
(b)
0.5 내지 15중량%, 바람직하게는 1 내지 10중량% 의, 네오펜틸 글리콜 디펠라르고네이트, 글리세롤 트리펠라르고네이트 및 펜타에리트리톨 테트라펠라르고네이트로부터 선택되는 둘 이상의 에스테르의 혼합물을 포함하는 친유성 구성성분;
(c)
8 내지 40중량% 의 하나 이상의 계면활성제.
이러한 조성물 중에서 바람직한 것은, 친유성 구성성분이 네오펜틸 글리콜 디펠라르고네이트 및 글리세롤 트리펠라르고네이트의 2원 혼합물을 포함하는 것이고, 이는 친유성 구성성분의 중량에 대해 20% 이하, 바람직하게는 0.1% 내지 15%, 더 바람직하게는 0.1% 내지 12% 를 구성할 수 있다. 친유성 구성성분이 또한 상기 언급된 에스테르의 혼합물 이외에 식물성 오일을 포함하는 조성물이 또한 바람직하다.
글리세롤 트리펠라르고네이트 및 펜타에리트리톨 테트라펠라르고네이트, 네오펜틸 글리콜 디펠라르고네이트 및 펜타에리트리톨 테트라펠라르고네이트의 2원 혼합물, 또는 네오펜틸 글리콜 디펠라르고네이트, 글리세롤 트리펠라르고네이트 및 펜타에리트리톨 테트라펠라르고네이트의 3원 혼합물은 유리하게는 10중량% 이하, 바람직하게는 0.1 내지 8중량%, 더 바람직하게는 0.1 내지 6중량% 의 상기 조성물의 친유성 구성성분을 포함할 수 있다.
상기 수성 화장 조성물에서, 상기 계면활성제는 표면 장력을 감소시키고, 세정력을 고무시키는 기능을 갖고; 이는 폼-생성 기능을 가질 수 있거나 가질 수 없고, 비이온성, 음이온성, 양쪽성 또는 양이온성일 수 있다.
본 발명에 따른 조성물에서 사용된 전형적인 계면활성제는 전형적으로 짧은 또는 중간-길이 알킬 사슬 (일반적으로 C14 보다 짧음), 예컨대 예를 들어 카프르산, 카프릴산 및 라우르산의 것을 갖는다.
이는 예를 들어 하기를 포함하는 군으로부터 선택될 수 있다: 바람직하게는 Na, Mg, Zn 또는 암모늄 (NH4), 모노에탄올아민 (MEA), 트리에탄올아민 (TEA) 또는 모노이소프로필아민 (MIPA) 의 알킬 설페이트 및/또는 알킬 에테르 설페이트; 알킬 에테르 카복실레이트; 지방산과의 단백질 축합물; 아실 글루타메이트; 아실 사르코시네이트; 아실 이소티오네이트; 아실 메틸 타우레이트; 알킬 설포숙시네이트; 비누; 알킬 베타인 및 알킬아미도프로필 베타인; 알킬 및 알킬아미도하이드록시 설테인; 알킬 암포아세테이트 및 알킬 암포디아세테이트; 알킬 암포프로피오네이트 및 알킬 암포디프로피오네이트; 알킬 및 알킬아미도프로필 아미녹사이드; 폴리소르베이트 (예를 들어 폴리소르베이트 20); 모노사카로오스 에스테르; 알킬 글루코사이드; 4차 암모늄 염.
당업자는 조성물이 의도하는 화장품의 유형을 기준으로 요구되는 계면활성제의 양을 쉽게 결정할 수 있다. 예를 들어, 친밀 세제 (intimate detergent) 의 제조가 의도된 화장 조성물은 전형적으로 8 내지 10중량% 를 차지하는 계면활성제; 10 내지 15중량% 의 샴푸; 13 내지 18중량% 의 샤워 폼, 및 18 내지 22중량% 의 배쓰 폼의 양을 함유한다.
본 발명의 이러한 양상에 따른 단일 상 수용액의 형태의 조성물은 유리하게는 마이크로-에멀젼의 형태를 취할 수 있고; 이는 예를 들어 배쓰 폼, 샤워 젤, 세제, 샴푸, 리브-온 제품 및 액체 비누의 제조에 적합한다.
본 발명의 또다른 바람직한 양상에 따르면, 상기 수성 화장 조성물은 2-상 형태이거나, 2 개의 별도의 층으로 친유성 상과 분리된 수성 상을 갖는다. 이러한 조성물로 제조된 화장품은 전형적으로 사용 전에 혼합하여 일시적 에멀젼의 형성을 발생시키는 것을 필요로 한다. 바람직하게는, 상기 조성물은 화장 조성물의 총 중량에 대해 하기를 포함한다:
(a)
50 내지 70중량% 의 수성상;
(b)
30 내지 50중량% 의, 네오펜틸 글리콜 디펠라르고네이트, 글리세롤 트리펠라르고네이트 및 펜타에리트리톨 테트라펠라르고네이트로부터 선택되는 둘 이상의 에스테르의 혼합물을 포함하는 친유성 상.
2-상 형태의 상기 조성물은 바람직하게는 친유성 상의 중량에 대해 50중량% 이하, 더 바람직하게는 0.1 내지 30중량%, 더욱 더 바람직하게는 0.1 내지 10중량% 의 친유성 상을 포함한다.
친유성 상이 네오펜틸 글리콜 디펠라르고네이트 및 글리세롤 트리펠라르고네이트, 또는 네오펜틸 글리콜 디펠라르고네이트 및 펜타에리트리톨 테트라펠라르고네이트의 2원 혼합물 (이는 친유성 상의 중량에 대해 유리하게는 30중량% 이하를 포함함) 을 포함하는 조성물이 바람직하다.
친유성 상이 0.1 내지 15중량%, 더 바람직하게는 0.1 내지 10중량% 의, 글리세롤 트리펠라르고네이트 및 펜타에리트리톨 테트라펠라르고네이트의 2원 혼합물, 또는 네오펜틸 글리콜 디펠라르고네이트, 글리세롤 트리펠라르고네이트 및 펜타에리트리톨 테트라펠라르고네이트의 3원 혼합물을 포함하는 조성물이 또한 바람직하다.
상기 펠라르곤산의 에스테르의 혼합물 이외에, 상기 친유성 상은 바람직하게는 미네랄 및/또는 실리콘 오일, 예를 들어 이소도데칸, 사이클로펜타실록산, 프로필렌 산화물과 스테아릴 알코올의 반응 생성물 (예컨대 폴리프로필렌 글리콜-15 스테아릴 에테르), 식물성 오일 예컨대 아몬드, 올리브 및 호호바 오일을 포함한다.
본 발명의 이러한 양상에 따른 2-상 형태의 수성 조성물은, 예를 들어 메이크업 제품의 제조에 적합하다.
본 발명에 따른 화장 조성물은, 무수 조성물의 형태이든지 수성 조성물의 형태이든지 간에, 무수 조성물의 경우에 상기 기재된 바와 같은 하나 이상의 썬 필터를 포함할 수 있다. 상기 썬 필터는 화장 조성물의 중량에 대해 바람직하게는 0.05 내지 35중량%, 바람직하게는 0.1 내지 25중량% 의 양으로 사용된다.
이에 존재하는 펠라르곤산 에스테르의 특성으로 인해, 본 발명에 따른 혼합물은 이들이 썬 필터의 최적의 분산 및/또는 용해를 보장한다는 장점을 갖는데, 이의 안정성은 에멀젼에서 사용될 때 증가할 수 있고, 보호 지수가 증가하도록 도울 수 있다. 또한, 이는 통상적으로 사용된 유성 용매/분산제 중 일부와 비교되었을 때, 더 높은 가용화 및 분산율을 나타냈다. 따라서 이는 일광으로부터의 보호, 신체 및 모발의 케어가 의도된 화장 조성물, 및 보호성 및 항노화 작용을 갖는 메이크업 제품에서 사용하기에 적합하다.
펜타에리트리톨 테트라펠라르고네이트 및/또는 글리세롤 트리펠라르고네이트를 포함하는 혼합물을 포함하는 조성물 (이의 흐름 및 점도 특성이 특히 뚜렷하고 특정한 연화제와 함께 제공됨) 은 특히 이러한 목적에 적합하다. 펜타에리트리톨 테트라펠라르고네이트를 포함하는 혼합물이 더 바람직하다.
본 발명에 따른 화장 조성물은 바람직하게는 0.1 내지 35중량%, 더 바람직하게는 0.1 내지 30중량%, 더욱 더 바람직하게는 0.1 내지 20중량% 의 양으로 하나 이상의 착색제 또는 염료를 포함할 수 있다.
상기 착색제는 물에 가용성 또는 불용성일 수 있고, 지방에 가용성 또는 불용성일 수 있고, 미네랄 또는 유기일 수 있고, 천연 또는 합성일 수 있으며, 화장 조성물을 착색시키거나 불투명화하는 기능을 갖는다. 적합한 착색제의 예는 안료, 래커 또는 펄이고, 이는 있는 그대로, 또는 예를 들어 발수성 또는 친수성 특성을 개질시키는 것이 의도된 표면 처리 이후에 사용될 수 있다. 안료는 무기 성질의 금속의 유도체, 예를 들어 철, 세륨, 크로뮴, 티타늄, 아연 또는 지르코늄의 산화물, 실리케이트 (예를 들어 마이카), 설포실리케이트 (예를 들어 울트라마린) 및 이의 조합, 및 유기 성질의 분자, 예컨대 예를 들어 식물 추출물을 포함한다. 용어 "펄" 은 빛의 반사 및 굴절 현상을 일으킬 수 있는 특수한 안료를 의미하는데, 이는 진주빛 또는 비진주빛일 수 있고, 유기 (예컨대 구아닌, CI 75170) 또는 무기 (예컨대 비스무트 옥시클로라이드, CI 77163, 또는 세리사이트, CI 77019) 일 수 있다.
논의되는 펠라르곤산 에스테르의 혼합물은 안료의 분산을 독려하는 특정한 이점을 갖고, 이의 색상을 강화시키는 것을 도울 수 있다.
본 발명에 따른 화장 조성물은 화장 조성물에서 전형적으로 사용된 것, 예컨대 예를 들어 산화방지제 및/또는 비타민, 보존제, pH 조절제, 보습제, 컨디셔너, 킬레이트제, 흐름 개질제, 텍스처화제, 폼-형성제, 실리콘, 향료, 에센셜 오일, 및 활성 성분, 특히 미용적 및/또는 피부과적으로 활성인 성분으로부터 선택되는 하나 이상의 첨가제를 포함할 수 있다. 각각의 첨가제는 화장 조성물의 총 중량에 대해 0 내지 35중량%, 바람직하게는 0 내지 20중량%, 더 바람직하게는 0 내지 10중량% 의 양으로 존재할 수 있다.
본 발명에 따른 용어 "보존제" 는, 화장 조성물에서의 미생물의 성장을 저해하는 1차적 기능을 갖는 천연 또는 합성 물질을 의미한다. 허용된 보존제의 목록은 [Appendix V to EC Regulation 1223/2009] 을 참조한다. 사용된 최대 허용 백분율, 임의의 제한 및 사용 방법은 문서에서 찾을 수 있다. 가장 널리 사용되는 보존제는 예를 들어 하기를 포함한다: 벤조산, 프로피온산, 살리실산, 소르브산 및 이의 염, p-하이드록시벤조산, 이의 염 및 에스테르, 데히드로아세트산, 칼륨 소르베이트, 페녹시에탄올, 이미다졸리디닐 우레아. 상기 보존제와 조합하여 또는 이의 대안으로서 본 발명에 따른 화장 조성물은 또한 미생물의 성장 억제에 기여할 수 있는 다른 물질, 예컨대 예를 들어 꿀, 에센셜 오일 예컨대 로즈마리, 멜라류카 알테르니폴리아 (Melaleuca alternifolia) 및 타임의 추출물, 및 착화제 예컨대 EDTA 을 함유할 수 있다.
따라서, 네오펜틸 글리콜 디펠라르고네이트, 글리세롤 트리펠라르고네이트 및 펜타에리트리톨 테트라펠라르고네이트로부터 선택되는 둘 이상의 에스테르의 혼합물은, 피부 및 피부 부속물의 케어, 메이크업, 일광으로부터의 보호 및 클렌징을 위한 유색 또는 무색 화장 조성물에서 이용될 수 있다.
이는 유리하게는 크림, 밀크, 일광 보호 제품, 세럼, 버터, 배쓰 폼, 샤워 젤, 세제, 샴푸, 리브-온 제품, 밤, 페이스 팩 및 모발용 리브-온, 파운데이션 크림, 마스카라, 립스틱, 아이 섀도우, 블러셔 및 콤팩트 파우더의 제조에 사용될 수 있다.
실시예
하기 실시예에서 사용된 에스테르는, 높은 올레산 함량을 갖는 해바라기 오일의 산화적 절단으로부터 기원하는 펠라르곤산을 사용하여 제조된다. 특히 특허 출원 WO 2011080296 에 기재된 방법에 따라 수득된 펠라르곤산은, 실시예 1 에 기재된 바와 같이, 1 개 초과의 산 관능기를 함유하는 트리글리세라이드로부터의 모노카복실산의 분리 및 경질 모노카복실산을 포함하는 분획을 제거하기 위한 후속 정류 (rectification) 의 단계 c) 의 마지막에 사용되었다. 사용된 펠라르곤산은 99 % 의 순도를 갖는다.
네오펜틸 글리콜 디펠라르고네이트, 글리세롤 트리펠라르고네이트 및 펜타에리트리톨 테트라펠라르고네이트 에스테르의 제조
3 가지 에스테르의 합성을 위한 에스테르화 반응을, 사용된 폴리올 (네오펜틸 글리콜, 글리세린 또는 펜타에리트리톨) 에 대해 30 mol% 의 몰 과량의 펠라르곤산을 사용하여 그리고 촉매의 부재 하에 수행하였다. 에스테르화 물의 제거를 유리하게 하기 위해, 반응 과정에 걸쳐 산/폴리올 혼합물의 온도를 200-210 ℃ 로 증가시켰고; 이러한 온도가 달성되면, 점진적 진공을 100 mbar 까지 적용하여, 시약의 전환을 유리하게 하였다. 반응이 완료되면, 이론적 양에 상응하는 반응 물의 양이 수득된 이후, 과잉의 산을 5 내지 10 mbar 의 진공을 사용해 약 180-200 ℃ 의 온도를 유지하면서 증발에 의해 회수하였다.
이후 생성물을 활성탄 및 탈색 어스를 사용해 탈색 처리하고, 각각의 에스테르에 대해 1 내지 2중량% 의 수산화칼슘 및 물의 양 (중량에 의해 1:1 비율) 의 첨가를 통해 중화시키고, 30 분 동안 교반하면서 60 ℃ 로 가열하였다. 물이 진공 하에 80-100 ℃ 로의 가열에 의해 완전히 제거된 이후, 여과 어스 (filtering earth) (셀라이트 512; 에스테르에 대해 1 중량%) 를 교반하면서 첨가하고, 동일한 어스의 층 상에서 진공 하에 액체를 여과하여, 맑은 생성물을 얻었다.
표준 ASTM D664 에 따라 이루어진 산도의 측정은 3 가지 에스테르 각각에 대하여 0.1 mg KOH/g 미만의 잔류 산도를 나타냈다.
분말-기반 화장 조성물의 제조
생성물의 결합제를 칭량하고, 가열 재킷을 구비한 적합한 용량의 용융기에 지용성 보존제와 함께 넣고, 그 안에서 이들을 이후 혼합시켰다. 왁스 및 수소화 유도체와 같은 고체 또는 반고체 형태의 결합 작용을 갖는 구성성분의 존재 하에, 혼합물을 일정하게 교반하면서 가열하여, 약 5-10 ℃ 만큼 생성물의 용융점을 초과시키거나 이를 달성하였다.
냉각 시스템을 구비한 적합한 용량의 밀 (mill) 에 모든 분말 (텍스처화제 및 안료 포함) 을 넣고, 분말의 성질을 기준으로 확립된 혼합 사이클에 적용하였다. 혼합물으로부터 유래된 온도 상승을 포함하도록 냉각 시스템을 작동시켰다.
혼합된 분말이 균질해짐이 확인되면, 이전에 제조된 결합 구성성분을 스트림에 점차 첨가하고, 추가 혼합을 수행하여, 후자를 분말에 혼입시켰다. 임의의 진주광택 안료를 이러한 단계에서의 작업 동안 첨가하고, 추가 혼합 사이클에 적용하였다. 제조 방법의 마지막에, 결합된 분말을 밀로부터 배출시키고, 체질하였다.
본 발명에 따른 화장 조성물의 예는 아래 표에 나타나 있다. 성분의 목록 (INCI 명명법에 따름) 및 조성물의 총 중량에 대해 각각의 성분의 중량에 의한 백분율 조성이 각각의 조성물에 대해 나타나있다.
실시예 1(비교) - 2 - 스틱 컨실러
성분:
제조:
A 군의 성분을 혼합기에 넣고, 90 ℃ 의 온도로 가열하였다. 이러한 온도의 달성시, 상 B 의 성분을 교반하면서 첨가하고, 혼합물이 완전히 균질해질 때까지 혼합하였다. 온도를 약 80 ℃ 에서 유지하기 위해 가열을 지속하고, C 군의 성분 모두를 표에 나타낸 순서로 첨가하고, 균질한 혼합물이 수득될 때까지 교반을 지속하였다. 이에 따라 수득된 혼합물을 이후 몰드에 붓고 냉각시켰다.
본 발명에 따른 스틱 형태의 친유성 화장 조성물 (실시예 2) (여기서, 친유성 구성성분은 네오펜틸 글리콜 디펠라르고네이트, 글리세롤 트리펠라르고네이트 및 펜타에리트리톨 테트라펠라르고네이트의 3원 혼합물 (조성물 전체에 대해 44.52중량%) 을 함유함) 은, 비교 조성물 (실시예 1) (여기서, 동일한 양의 친유성 구성성분은 C12-C15 알킬 벤조에이트, 에틸헥실 팔미테이트 및 이소노닐 팔미테이트로 대체됨) 과 동일한 특성을 드러냈다.
실시예 3 (비교) - 5: 콤팩트 파우더-기반 조성물 (브론징 파우더)
성분:
각각 글리세롤 트리펠라르고네이트 및 펜타에리트리톨 테트라펠라르고네이트의 2원 혼합물 (실시예 4) 및 펜타에리트리톨 테트라펠라르고네이트 및 네오펜틸 글리콜 디펠라르고네이트의 2원 혼합물 (실시예 5) 을 함유하는 본 발명에 따른 2 가지 분말-기반 조성물을, 상기 기재된 바와 같이 제조하였다. 비교예 6 으로부터 볼 수 있는 바와 같이, 오로지 하나의 펠라르곤산 에스테르 (글리세롤 트리펠라르고네이트) 가 결합제로서 사용되는 경우, 이는 통상 사용되는 다른 결합제의 존재를 필요로 한다. 실시예 4 및 5 는 대신에, 글리세롤 트리펠라르고네이트 및 펜타에리트리톨 테트라펠라르고네이트의 혼합물 또는 네오펜틸 글리콜 디펠라르고네이트 및 펜타에리트리톨 테트라펠라르고네이트의 혼합물이 사용되는 경우, 추가 결합제가 콤팩트 파우더-기반 조성물에 필요하지 않아, 실시예 3 (비교) 의 옥틸도데실 스테아로일 스테아레이트를 완전히 대체하고 에틸렌/아크릴산 코폴리머를 부분적으로 대체함을 보여준다.
실시예 7 (비교)- 9: 루스 파우더-기반 조성물 (페이스 파우더)
성분:
글리세롤 트리펠라르고네이트 및 펜타에리트리톨 테트라펠라르고네이트의 2원 혼합물 (실시예 8 및 10) 및 펜타에리트리톨 테트라펠라르고네이트 및 네오펜틸 글리콜 디펠라르고네이트의 2원 혼합물 (실시예 9) 을 함유하는 본 발명에 따른 3 가지 분말-기반 조성물을 상기 기재된 바와 같이 제조하였다. 이는 펠라르곤산 에스테르를 화장 조성물에 통상 사용된 에스테르, 알코올 및 오일로 대체한 비교 조성물 (옥틸도데칸올, 카프릴산/카프르산의 트리글리세라이드, 호호바 오일 (실시예 7)) 과 동등한 것으로 증명되었다.
실시예 11-14 (립스틱 평가)
하기 성분 목록에 따라 립스틱의 형태로 4 가지 친유성 화장 조성물을 제조하였다:
4 가지 생성된 조성물을 관능 평가하였다. 20 명의 개인 (여성) 의 패널에게 립스틱을 테스트하고 아래 표에 열거된 특성에 대하여 등급 1 내지 5 을 제시할 것을 요구하였다.
평가 척도:
5: 우수
4: 매우 양호
3: 양호
2: 보통
1: 불량
글리세롤 트리펠라르고네이트 및 펜타에리트리톨 트리펠라르고네이트를 포함하는 실시예 13 의 조성물은, 실시예 12 및 14 의 조성물보다, 양호한 안료 분산으로 인한 더 강렬하고 균질한 색상, 및 입술에 대한 더 양호한 부착을 나타냈다.
오로지 펜타에리트리톨 테트라펠라르고네이트를 포함하는 실시예 11 의 조성물과 비교할 때, 실시예 13 의 조성물은 또한 더 높은 부드러움 및 퍼짐성 및 우수한 광택 효과를 드러내어, 페닐 디메티콘을 포함하는 실시예 14 의 조성물에 의해 달성된 것에 필적하였다.
실시예 15 - UV 필터 용해도
네오펜틸 글리콜 디펠라르고네이트, 글리세롤 트리펠라르고네이트 및 펜타에리트리톨 테트라펠라르고네이트의 3원 혼합물 (1:1:1 의 중량비) 중 화학적 UV 필터 벤조페논-3 (CAS N° 131-57-7, 3V Sigma 로부터 UVASORB® MET 로서 시판됨) 의 용해도를 시험하고, 개별 에스테르 펜타에리트리톨 테트라펠라르고네이트에서의 용해도와 비교하였다.
용질/용매의 다양한 비율 (5중량%, 10중량%, 20중량% 및 30중량%; 총량 필터 + 용매: 10g) 을 60 ℃ 에서 물 배쓰 중 유리 병에서 제조하였다. 이후 20 ℃ 에서 2 시간의 저장 기간 이후 용액을 관찰하여, 임의의 침강 침착물의 형성을 확인하였다. 용해도 범위가 확인되면 (이는 각각의 필터/용매 커플에 대해 10-20% 범위임), 침전물의 형성이 관찰될 때까지 10 % 에서 용액에 낮은 양의 필터를 반복 첨가하여, 각각의 샘플 중 가용성 필터의 최대 농도를 측정하였다. 각각의 첨가를 60 ℃ 의 온도에서 수행하고, 이후 냉각시켰다. 2 시간 동안 20 ℃ 의 일정한 온도에서 용액을 정치시킨 후, (시각적 측정에 의해) 침전에 대하여 확인하였다.
각각의 에스테르에 대한 결과를 아래 표에 나타냈다:
펜타에리트리톨 테트라펠라르고네이트 중 벤조페논-3 의 20 ℃ 에서의 용해도 값은 14% w/w 인 한편, 3원 혼합물 중 동일한 필터의 상응하는 용해도 값은 19% w/w 이었다. 따라서 본 발명에 따른 펠라르곤산 에스테르의 혼합물은 놀랍게도, 개별 에스테르 펜타에리트리톨 테트라펠라르고네이트 중 하나와 비교했을 때 UV 필터를 가용화하는 높은 능력을 드러냈다.
Claims (15)
- 네오펜틸글리콜 디펠라르고네이트, 글리세롤 트리펠라르고네이트, 펜타에리트리톨 테트라펠라르고네이트로부터 선택되는 둘 이상의 에스테르의 혼합물.
- 피부 및 피부 부속물의 케어, 메이크업, 일광으로부터의 보호 및 클렌징을 위한 화장 조성물에서의, 제 1 항에 따른 혼합물의 용도.
- 제 1 항에 따른 혼합물을 포함하는 화장 조성물.
- 제 3 항에 있어서, 화장 조성물의 총 중량에 대해 0.1 내지 99중량% 의 상기 혼합물을 포함하는 화장 조성물.
- 제 3 항 또는 제 4 항에 따른 친유성 또는 수성 화장 조성물.
- 제 5 항에 있어서, 화장 조성물의 중량에 대해 하나 이상의 분말 구성성분 및 20 중량% 이하의 상기 혼합물을 포함하는 친유성 화장 조성물.
- 제 5 항에 있어서, 화장 조성물의 중량에 대해 50 중량% 이하의 상기 혼합물을 포함하는 수성 화장 조성물.
- 제 7 항에 있어서, 15중량% 이하의 상기 혼합물을 포함하고, 추가로 계면활성제를 포함하는 수성 화장 조성물.
- 제 3 항 내지 제 8 항 중 어느 한 항에 있어서, 에스테르, 에테르, 아미드, 알코올 및 천연 및/또는 합성 기원의 탄화수소, 실리콘 오일, 또는 이의 혼합물로부터 선택되는 오일을 추가로 포함하는 화장 조성물.
- 제 3 항 내지 제 9 항 중 어느 한 항에 있어서, 버터 및/또는 왁스를 포함하는 화장 조성물.
- 제 3 항 내지 제 10 항 중 어느 한 항에 있어서, 하나 이상의 올리고머를 포함하는 화장 조성물.
- 제 3 항 내지 제 11 항 중 어느 한 항에 있어서, 0.1 내지 35중량% 의 양으로 하나 이상의 썬 필터 (sun filter) 를 포함하는 화장 조성물.
- 제 3 항 내지 제 12 항 중 어느 한 항에 있어서, 산화방지제 및/또는 비타민, 보존제, pH 조절제, 보습제, 컨디셔너, 킬레이트제, 흐름 개질제, 텍스처화제, 막-형성제, 실리콘, 향료, 에센셜 오일, 활성물질 특히 미용 및/또는 피부과적으로 활성인 성분으로부터 선택되는 하나 이상의 첨가제 및/또는 하나 이상의 착색제를 포함하는 화장 조성물.
- 제 13 항에 있어서, 각각의 상기 착색제 및/또는 첨가제가 화장 조성물의 총 중량에 대해 0 내지 35 중량% 의 양으로 존재하는 화장 조성물.
- 크림, 밀크, 솔라 (solar), 세럼, 버터, 배쓰 폼, 샤워 젤, 세제, 샴푸, 리브-온, 밤, 헤어 마스크 및 리브-온, 파운데이션, 마스카라, 립스틱, 립 글로스, 컨실러, 아이섀도우, 블러셔, 페이스 파우더, 루스 파우더 및 콤팩트 파우더의 제조를 위한 화장 조성물에서의, 제 1 항에 따른 혼합물의 용도.
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