KR20180048362A - 화합물, 액정 조성물, 광학 필름, 편광판 및 광학 디스플레이 - Google Patents

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Abstract

(과제) 배향 결함의 발생을 억제함과 함께, 광학 특성을 저해하는 일 없이 액정 조성물의 상전이 온도를 저하시키는 것이 가능한 화합물을 제공한다.
(해결 수단) 식 (A) 로 나타내는 화합물.

Description

화합물, 액정 조성물, 광학 필름, 편광판 및 광학 디스플레이{COMPOUND, LIQUID CRYSTAL COMPOSITION, OPTICAL FILM, POLARIZING PLATE, AND OPTICAL DISPLAY}
본 발명은, 신규 화합물, 그 화합물을 포함하는 액정 조성물, 그 액정 조성물의 경화물을 포함하는 층, 그 층을 포함하는 광학 필름, 편광판 및 광학 디스플레이에 관한 것이다.
플랫 패널 표시 장치 (FPD) 에는, 위상차 필름 등의 광학 필름이 사용되고 있다. 이와 같은 광학 필름은, 예를 들어, 중합성 액정 화합물을 용제에 용해시킨 도공액을 지지 기재에 도포 후, 중합성 액정 화합물을 중합시켜 얻어진다. 중합성 액정 화합물로서, 예를 들어 6 원자 고리가 2 ∼ 4 개 연결된 봉상 (棒狀) 구조의 네마틱 액정 화합물 등이 알려져 있다 (예를 들어, 비특허문헌 1).
한편, 위상차 필름은, 전파장 영역에 있어서 편광 변환 가능한 것이 요구되고 있고, 어느 파장 λ 에 있어서의 위상차값 Re(λ) 를 550 ㎚ 에 있어서의 위상차값 Re(550) 으로 나눈 값 [Re(λ)/Re(550)] 이 1 에 가까운 파장역이나, [Re(450)/Re(550)] ＜ 1 또한 [Re(650)/Re(550)] ＞ 1 의 역파장 분산성을 나타내는 파장역에서는, 이론상, 똑같은 편광 변환이 가능한 것이 알려져 있다. 이와 같은 위상차 필름을 구성할 수 있는 중합성 액정 화합물로는, 특허문헌 1 의 화합물이 알려져 있다.
일본 공개특허공보 2011-207765호
액정 편람, 액정 편람 편집 위원회편, 2000년, 제 312 페이지
중합성 액정 화합물을 배향시킬 때, 예를 들어 중합성 액정 화합물을 포함하는 도공액을 지지 기재에 도포한 후, 중합성 액정 화합물의 상전이 온도보다 높은 온도까지 가열하여 상전이시킬 필요가 있다. 그 때문에, 상전이 온도가 높으면, 지지 기재에 바람직하지 않은 영향을 주거나, 사용 가능한 지지 기재가 제한되거나, 가열 온도가 높아지기 때문에 제조 효율이 나빠지는 경우가 있었다. 또한, 상전이 온도의 저하 등을 목적으로 하여 중합성 액정 화합물에 첨가제를 첨가하면, 액정 화합물의 분자 배향이 첨가제에 의해 흐트러지고 배향 결함이 발생하여, 원하는 광학 특성이 얻어지지 않는 경우가 있었다. 또, 첨가제 또는 중합성 액정 화합물이 결정으로서 석출됨으로써도 배향 결함이 발생하여, 원하는 광학 특성이 얻어지지 않는 경우가 있었다.
그래서, 본 발명은, 배향 결함의 발생을 억제함과 함께, 광학 특성을 저해하는 일 없이 액정 조성물의 상전이 온도를 저하시키는 것이 가능한 화합물을 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명자들은, 상기 과제를 해결하기 위해서, 중합성 액정 화합물을 포함하는 액정 조성물의 네마틱 상전이 온도를 저하시킬 수 있는 화합물에 대해 상세하게 검토를 거듭하여, 본 발명을 완성시키기에 이르렀다.
즉, 본 발명은 이하의 적합한 양태를 포함한다.
[1] 식 (A) 로 나타내는 화합물.
[화학식 1]
Figure pat00001
[식 (A) 중,
B1, E1 및 D1 은, 각각 독립적으로, 단결합 또는 2 가의 연결기를 나타내고,
A1 및 G1 은, 각각 독립적으로, 탄소수 6 ∼ 20 의 2 가의 방향족 탄화수소기 또는 탄소수 3 ∼ 16 의 2 가의 지환식 탄화수소기를 나타내고, 그 방향족 탄화수소기 또는 그 지환식 탄화수소기에 포함되는 수소 원자는, 각각 독립적으로, 할로겐 원자, -R1, -OR1, 시아노기 또는 니트로기로 치환되어 있어도 되고, R1 은 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬기를 나타내고, 그 알킬기에 포함되는 수소 원자는 각각 독립적으로 불소 원자로 치환되어 있어도 되고, 그 방향족 탄화수소기 또는 그 지환식 탄화수소기에 포함되는 탄소 원자는, 각각 독립적으로, 산소 원자, 황 원자 또는 질소 원자로 치환되어 있어도 되고,
F1 은, 탄소수 1 ∼ 17 의 알칸디일기를 나타내고, 그 알칸디일기에 포함되는 수소 원자는, 각각 독립적으로, 할로겐 원자, -R1 또는 -OR1 로 치환되어 있어도 되고, R1 은 상기와 동일한 의미이고, 그 알칸디일기에 포함되는 -CH2- 는, 각각 독립적으로, -O-, -S-, -Si- 또는 -CO- 로 치환되어 있어도 되고,
m1 및 n1 은, 각각 독립적으로, 0 ∼ 3 의 정수를 나타내고,
Ar1 은, 치환기를 갖고 있어도 되는 2 가의 방향족기이고, 그 방향족기 중에, 질소 원자, 산소 원자 및 황 원자로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 개의 원자를 포함하고,
P1 은, 수소 원자 또는 중합성기를 나타내고,
X 는, -OH, -SH, -C(=O)OH, -C(=S)OH, -NR2H, 또는 -(CH2)p-OH 를 나타내고, R2 는 수소 원자 또는 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬기를 나타내고, p 는 0 ∼ 3 의 정수를 나타낸다.]
[2] G1 은 트랜스-시클로헥산-1,4-디일기인, 상기 [1] 에 기재된 화합물.
[3] D1 은, 식 (C) 로 나타내는 기인, 상기 [1] 또는 [2] 에 기재된 화합물.
[화학식 2]
Figure pat00002
[식 (C) 중, * 는 G1 과의 연결부를 나타내고, ** 는 Ar1 과의 연결부를 나타내고, q 는 0 ∼ 3 의 정수를 나타낸다.]
[4] X 는, -OH 또는 -(CH2)p-OH 인, 상기 [1] ∼ [3] 중 어느 하나에 기재된 화합물.
[5] m1 및 n1 은 1 인, 상기 [1] ∼ [4] 중 어느 하나에 기재된 화합물.
[6] B1, E1 및 D1 은, 각각 독립적으로, 단결합, -CR3R4-, -(CH2)r-, -O-, -S-, -CO-O-, -O-CO-, -CO-O-(CH2)r-, -(CH2)r-O-CO-, -O-CO-O-, -C(=S)-O-, -O-C(=S)-, -O-C(=S)-O-, -CO-NR3-, -NR3-CO-, -O-CH2-, -CH2-O-, -S-CH2- 또는 -CH2-S- 이고, R3 및 R4 는, 각각 독립적으로, 수소 원자, 불소 원자 또는 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬기를 나타내고, r 은 1 ∼ 4 의 정수를 나타내는, 상기 [1] ∼ [5] 중 어느 하나에 기재된 화합물.
[7] 적어도 1 종의 상기 [1] ∼ [6] 중 어느 하나에 기재된 식 (A) 로 나타내는 화합물, 및, 적어도 1 종의 식 (B) 로 나타내는 중합성 액정 화합물을 포함하는 액정 조성물로서, 식 (A) 로 나타내는 화합물의 액체 크로마토그래피로 측정한 면적 백분율값은, 그 액정 조성물에 포함되는 식 (A) 로 나타내는 화합물 및 식 (B) 로 나타내는 중합성 액정 화합물의 면적값의 합계에 기초하여 18 ％ 이하인, 액정 조성물.
[화학식 3]
Figure pat00003
[식 (B) 중,
B2, B3, E2, E3, D2 및 D3 은, 각각 독립적으로, 단결합 또는 2 가의 연결기를 나타내고,
A2, A3, G2 및 G3 은, 각각 독립적으로, 탄소수 6 ∼ 20 의 2 가의 방향족 탄화수소기 또는 탄소수 3 ∼ 16 의 2 가의 지환식 탄화수소기를 나타내고, 그 방향족 탄화수소기 또는 그 지환식 탄화수소기에 포함되는 수소 원자는, 각각 독립적으로, 할로겐 원자, -R1, -OR1, 시아노기 또는 니트로기로 치환되어 있어도 되고, R1 은 상기와 동일한 의미이고, 그 방향족 탄화수소기 또는 그 지환식 탄화수소기에 포함되는 탄소 원자는, 각각 독립적으로, 산소 원자, 황 원자 또는 질소 원자로 치환되어 있어도 되고,
F2 및 F3 은, 각각 독립적으로, 탄소수 1 ∼ 17 의 알칸디일기를 나타내고, 그 알칸디일기에 포함되는 수소 원자는, 각각 독립적으로, 할로겐 원자, -R1 또는 -OR1 로 치환되어 있어도 되고, R1 은 상기와 동일한 의미이고, 그 알칸디일기에 포함되는 -CH2- 는, 각각 독립적으로, -O-, -S-, -Si- 또는 -CO- 로 치환되어 있어도 되고,
m2, m3, n2 및 n3 은, 각각 독립적으로, 0 ∼ 3 의 정수를 나타내고,
Ar2 는, 치환기를 갖고 있어도 되는 2 가의 방향족기이고, 그 방향족기 중에, 질소 원자, 산소 원자 및 황 원자로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 개의 원자를 포함하고,
P2 및 P3 은, 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 중합성기를 나타내고, P2 및 P3 중 적어도 1 개는 중합성기이다.]
[8] 식 (A) 및 식 (B) 중, B1 과 B2 및 B3 이 동일하고, E1 과 E2 및 E3 이 동일하고, D1 과 D2 및 D3 이 동일하고, A1 과 A2 및 A3 이 동일하고, G1 과 G2 및 G3 이 동일하고, F1 과 F2 및 F3 이 동일하고, m1 과 m2 및 m3 이 동일하고, n1 과 n2 및 n3 이 동일하고, Ar1 과 Ar2 가 동일하고, P1 과 P2 및 P3 이 동일한, 상기 [7] 에 기재된 액정 조성물.
[9] 적어도 1 종의 광 중합 개시제를 추가로 포함하는, 상기 [7] 또는 [8] 에 기재된 액정 조성물.
[10] 상기 [7] ∼ [9] 중 어느 하나에 기재된 액정 조성물의 경화물을 포함하는 층.
[11] 상기 [10] 에 기재된 층을 적어도 갖는 광학 필름.
[12] 위상차 필름인, 상기 [11] 에 기재된 광학 필름.
[13] 다음의 식 (I) 을 만족하는, 상기 [12] 에 기재된 광학 필름.
0.80 ≤ Re(450)/Re(550) ＜ 1.00 (I)
[식 중, Re(λ) 는 파장 λ ㎚ 의 광에 대한 정면 위상차값을 나타낸다.]
[14] 상기 [11] ∼ [13] 중 어느 하나에 기재된 광학 필름을 포함하는 편광판.
[15] 상기 [14] 에 기재된 편광판을 포함하는 광학 디스플레이.
본 발명의 화합물은, 배향 결함의 발생을 억제함과 함께, 광학 특성을 저해하는 일 없이 액정 조성물의 네마틱 상전이 온도를 저하시킬 수 있다.
이하, 본 발명의 실시형태에 대해 상세하게 설명한다. 또한, 본 발명의 범위는 여기서 설명하는 실시형태에 한정되는 것이 아니라, 본 발명의 취지를 일탈하지 않는 범위에서 여러 가지 변경을 할 수 있다.
본 발명의 화합물은, 다음의 식 (A)：
[화학식 4]
Figure pat00004
로 나타낸다. 식 (A) 로 나타내는 본 발명의 화합물을 이하에 있어서, 「화합물 (A)」 라고도 칭한다. 식 (A) 중의 기호에 대해 설명한다.
식 (A) 중의 B1, E1 및 D1 은, 각각 독립적으로, 단결합 또는 2 가의 연결기를 나타낸다. 2 가의 연결기로는, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어 -CR3R4-, -(CH2)r-, -O-, -S-, -CO-O-, -O-CO-, -CO-O-(CH2)r-, -(CH2)r-O-CO-, -O-CO-O-, -C(=S)-O-, -O-C(=S)-, -O-C(=S)-O-, -CO-NR3-, -NR3-CO-, -O-CH2-, -CH2-O-, -S-CH2-, -CH2-S- 를 들 수 있다. 여기서, R3 및 R4 는, 각각 독립적으로, 수소 원자, 불소 원자 또는 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬기를 나타내고, r 은 1 ∼ 4 의 정수를 나타낸다.
R3 및 R4 에 있어서의 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬기로는, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 이소프로필기, 부틸기, 이소부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기 등을 들 수 있고, 탄소수 1 ∼ 3 의 알킬기가 바람직하고, 탄소수 1 또는 2 의 알킬기가 보다 바람직하고, 메틸기가 보다 더 바람직하다.
식 (A) 중의 B1 은, 액정 화합물과의 상용성의 관점에서, -O-, -S-, -O-CO-, -CO-O-, -O-CO-O-, -O-C(=S)-, -O-C(=S)-O-, -O-CH2- 또는 -CH2-O- 인 것이 바람직하고, -O-, -O-CO- 또는 -CO-O- 인 것이 보다 바람직하다.
식 (A) 중의 D1 및 E1 은, 액정 화합물과의 상용성의 관점에서, 각각 독립적으로, -O-, -S-, -O-CO-, -CO-O-, -O-CO-O-, -CO-NR3- 또는 -NR3-CO- 인 것이 바람직하고, -O-, -O-CO- 또는 -CO-O- 인 것이 보다 바람직하다.
식 (A) 중의 D1 은, 액정 화합물과의 상용성의 관점에서, 식 (C)：
[화학식 5]
Figure pat00005
[식 (C) 중, * 는 G1 과의 연결부를 나타내고, ** 는 Ar1 과의 연결부를 나타내고, q 는 0 ∼ 3 의 정수를 나타낸다.]
로 나타내는 기인 것이 보다 더 바람직하다.
식 (A) 중의 A1 및 G1 은, 각각 독립적으로, 탄소수 6 ∼ 20 의 2 가의 방향족 탄화수소기 또는 탄소수 3 ∼ 16 의 2 가의 지환식 탄화수소기를 나타낸다. 2 가의 방향족 탄화수소기의 탄소수는, 바람직하게는 6 ∼ 18, 보다 바람직하게는 6 ∼ 16, 보다 더 바람직하게는 6 ∼ 10 이며, 특히 바람직하게는 6 이다. 2 가의 지환식 탄화수소기의 탄소수는, 바람직하게는 4 ∼ 15, 보다 바람직하게는 5 ∼ 10, 더욱 바람직하게는 5 또는 6 이다.
2 가의 방향족 탄화수소기 또는 2 가의 지환식 탄화수소기에 포함되는 수소 원자는, 각각 독립적으로, 할로겐 원자, -R1, -OR1, 시아노기 또는 니트로기로 치환되어 있어도 된다. 여기서, 할로겐 원자로는, 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자 및 요오드 원자 등을 들 수 있고, 불소 원자, 염소 원자 또는 브롬 원자가 바람직하다. R1 은 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬기를 나타내고, 그 알킬기에 포함되는 수소 원자는 각각 독립적으로, 불소 원자로 치환되어 있어도 된다.
탄소수 1 ∼ 4 의 알킬기로는, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 이소프로필기, 부틸기, 이소부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기 등을 들 수 있고, 탄소수 1 ∼ 3 의 알킬기가 바람직하고, 탄소수 1 또는 2 의 알킬기가 보다 바람직하고, 메틸기가 보다 더 바람직하다.
-OR1 에 있어서의 탄소수 1 ∼ 4 의 알콕시기로는, 예를 들어 메톡시기, 에톡시기, 프로폭시기, 이소프로폭시기, 부톡시기, 이소부톡시기, sec-부톡시기, tert-부톡시기 등을 들 수 있고, 탄소수 1 ∼ 3 의 알콕시기가 바람직하고, 탄소수 1 또는 2 의 알콕시기가 보다 바람직하고, 메톡시기가 보다 더 바람직하다.
2 가의 방향족 탄화수소기 및 2 가의 지환식 탄화수소기에 포함되는 탄소 원자는, 각각 독립적으로, 산소 원자, 황 원자 또는 질소 원자로 치환되어 있어도 된다. 1 개의 탄소 원자가 산소 원자, 황 원자 또는 질소 원자로 치환되어 있어도 되고, 2 개 이상의 탄소 원자가 산소 원자, 황 원자 및 질소 원자로 이루어지는 군에서 선택되는 2 개 이상의 원자로 치환되어 있어도 된다. 예를 들어 2 가의 방향족 탄화수소기에 포함되는 -CH= 가 -N= 로 치환되어 있어도 된다. 또, 2 가의 지환식 탄화수소기에 포함되는 -CH2- (메틸렌기) 가, 각각 독립적으로, -O-, -S-, -NH- 또는 -NR1- 로 치환되어 있어도 되고, 그 지환식 탄화수소기에 포함되는 -CH(-)- 가, 각각 독립적으로, -N(-)- 로 치환되어 있어도 된다. 여기서, R1 은 상기와 동일한 의미이다.
2 가의 방향족 탄화수소기로는, 예를 들어, 하기 식 (a-1) ∼ 식 (a-8) 로 나타내는 기를 들 수 있다. 2 가의 방향족 탄화수소기로는, 1,4-페닐렌기가 바람직하다.
[화학식 6]
Figure pat00006
2 가의 지환식 탄화수소기로는, 예를 들어, 하기 식 (g-1) ∼ (g-4) 로 나타내는 기를 들 수 있다. 지환식 탄화수소기에 포함되는 -CH2- 가, -O-, -S-, -NH- 또는 -NR1- 로 치환된 2 가의 지환식 탄화수소기로는, 하기 식 (g-5) ∼ 식 (g-8) 로 나타내는 기를 들 수 있다. 지환식 탄화수소기에 포함되는 -CH(-)- 가, -N(-)- 로 치환된 2 가의 지환식 탄화수소기로는, 하기 식 (g-9) 및 식 (g-10) 으로 나타내는 기를 들 수 있다. 이들은, 5 원자 고리 또는 6 원자 고리의 지환식 탄화수소기인 것이 바람직하다.
[화학식 7]
Figure pat00007
2 가의 지환식 탄화수소기는, 본 발명의 화합물의 제조상의 관점에서, 식 (g-1) 로 나타내는 시클로알칸디일기인 것이 바람직하고, 시클로헥산-1,4-디일기인 것이 보다 바람직하고, 트랜스-시클로헥산-1,4-디일기인 것이 보다 더 바람직하다.
본 발명의 일 실시양태에 있어서, 본 발명의 화합물의 제조상의 관점에서, A1 은, 2 가의 방향족 탄화수소기인 것이 바람직하다. 또, 본 발명의 일 실시양태에 있어서, 액정 화합물과의 상용성의 관점에서, G1 은, 2 가의 지환식 탄화수소기인 것이 바람직하고, 시클로헥산-1,4-디일기인 것이 보다 바람직하고, 트랜스-시클로헥산-1,4-디일기인 것이 특히 바람직하다. G1 이 트랜스-시클로헥산-1,4-디일기인 경우, 특히 양호한 상용성을 나타낸다.
식 (A) 중의 F1 은, 탄소수 1 ∼ 17, 바람직하게는 2 ∼ 15, 보다 바람직하게는 3 ∼ 12, 보다 더 바람직하게는 4 ∼ 10 의 알칸디일기를 나타낸다. 그 알칸디일기에 포함되는 수소 원자는, 각각 독립적으로, -OR1 또는 할로겐 원자로 치환되어 있어도 된다. 여기서, 할로겐 원자의 예는 상기에 서술한 바와 같고, R1 은 상기와 동일한 의미이다. 그 알칸디일기에 포함되는 -CH2- 는, 각각 독립적으로, -O- 또는 -CO- 로 치환되어 있어도 된다.
탄소수 1 ∼ 17 의 알칸디일기로는, 예를 들어 탄소수 1 ∼ 17 의 직사슬형 또는 분지형의 알칸디일기, 시클로알칸디일기 등을 들 수 있다. 본 발명의 화합물의 제조상의 관점에서, 알칸디일기는, 직사슬형의 알칸디일기인 것이 바람직하다.
식 (A) 중의 m1 및 n1 은, 각각 독립적으로, 0 ∼ 3 의 정수를 나타낸다. m1 및 n1 은 모두 0 이어도 되지만, 어느 일방이 0 인 경우, 타방이 2 또는 3 의 정수를 나타내는 것이 바람직하다. m1 및 n1 은, 바람직하게는 1 또는 2 이고, 보다 바람직하게는 1 이다. 또한, m1 이 2 또는 3 인 경우, 복수 존재하는 A1 및 B1 은, 각각 서로 동일해도 되고, 상이해도 된다. 화합물 (A) 를 공업적으로 제조하기 쉽다는 관점에서는, 복수 존재하는 A1 및 B1 은, 각각 서로 동일한 것이 바람직하다. 또, n1 이 2 또는 3 인 경우, 복수 존재하는 E1 및 G1 은, 각각 서로 동일해도 되고, 상이해도 된다. 화합물 (A) 를 공업적으로 제조하기 쉽다는 관점에서는, 복수 존재하는 E1 및 G1 은, 각각 서로 동일한 것이 바람직하다.
식 (A) 중의 Ar1 은, 치환기를 갖고 있어도 되는 2 가의 방향족기이고, 그 방향족기 중에, 질소 원자, 산소 원자 및 황 원자로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 개의 원자를 포함한다. 2 가의 방향족기는, 방향족 탄화수소 고리를 포함하고 있어도 되고, 복소 고리를 포함하고 있어도 된다. 여기서, 본 발명에 있어서, Ar1 로 나타내는 2 가의 방향족기가 「질소 원자, 산소 원자 및 황 원자로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 개의 원자를 포함한다」 는 것은, Ar1 중에 이들의 헤테로 원자를 포함하고 있으면 되는 것을 의미하며, Ar1 은 복소 고리를 갖고 있어도 되고, 복소 고리를 갖고 있지 않아도 된다. 2 가의 방향족기는, 단고리여도 되고, 다고리여도 된다. Ar1 로 나타내는 2 가의 방향족기에 포함될 수 있는 방향족 탄화수소 고리로는 벤젠 고리를 들 수 있다. Ar1 로 나타내는 2 가의 방향족기에 포함될 수 있는 복소 고리로는, 푸란 고리, 벤조푸란 고리, 피롤 고리, 티오펜 고리, 피리딘 고리, 티아졸 고리, 벤조티아졸 고리, 페난트롤린 고리 등을 들 수 있다. 2 가의 방향족기는, 광학 특성의 관점에서, 복소 고리를 갖는 방향족기인 것이 바람직하다. 동일한 관점에서, 벤젠 고리, 티아졸 고리 또는 벤조티아졸 고리를 갖는 방향족기가 보다 바람직하고, 벤조티아졸 고리를 갖는 방향족기가 보다 더 바람직하다.
Ar1 로 나타내는 방향족기는 π 전자를 갖는 것이 바람직하다. 그 방향족기에 포함되는 π 전자의 합계수 Nπ 는, 액정 조성물로부터 얻어지는 위상차 필름의 역파장 분산성 발현을 높이기 쉬운 관점에서, 바람직하게는 8 개 이상, 보다 바람직하게는 10 개 이상, 보다 더 바람직하게는 14 개 이상이며, 특히 바람직하게는 16 개 이상이다. 바람직하게는 30 개 이하, 보다 바람직하게는 26 개 이하이며, 더욱 바람직하게는 24 이하이다.
Ar1 로 나타내는 방향족기로는, 예를 들어 이하의 기를 들 수 있다.
[화학식 8]
Figure pat00008
식 (Ar-1) ∼ 식 (Ar-22) 중, * 부는 연결부를 나타내고, Z0, Z1 및 Z2 는, 각각 독립적으로, 수소 원자, 할로겐 원자, 탄소수 1 ∼ 12 의 알킬기, 시아노기, 니트로기, 탄소수 1 ∼ 12 의 알킬술피닐기, 탄소수 1 ∼ 12 의 알킬술포닐기, 카르복실기, 탄소수 1 ∼ 12 의 플루오로알킬기, 탄소수 1 ∼ 6 의 알콕시기, 탄소수 1 ∼ 12 의 알킬티오기, 탄소수 1 ∼ 12 의 N-알킬아미노기, 탄소수 2 ∼ 12 의 N,N-디알킬아미노기, 탄소수 1 ∼ 6 의 N-알킬술파모일기 또는 탄소수 2 ∼ 12 의 N,N-디알킬술파모일기를 나타낸다.
Q1 및 Q2 는, 각각 독립적으로, -CR5R6-, -S-, -NR7-, -CO- 또는 -O- 를 나타낸다.
R5, R6 및 R7 은, 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬기를 나타낸다.
J1 및 J2 는, 각각 독립적으로, 탄소 원자 또는 질소 원자를 나타내고, 질소 원자인 것이 바람직하다.
Y1, Y2 및 Y3 은, 각각 독립적으로, 치환되어 있어도 되는 방향족 탄화수소기 또는 방향족 복소 고리기를 나타낸다.
W1 및 W2 는, 각각 독립적으로, 수소 원자, 시아노기, 메틸기 또는 할로겐 원자를 나타낸다.
m 은, 0 ∼ 6 의 정수를 나타낸다.
할로겐 원자로는, 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자, 및 요오드 원자 등을 들 수 있고, 불소 원자, 염소 원자, 또는 브롬 원자가 바람직하다.
탄소수 1 ∼ 6 의 알킬기로는, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 이소프로필기, 부틸기, 이소부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기, 펜틸기 및 헥실기 등을 들 수 있고, 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬기가 바람직하고, 탄소수 1 및 2 의 알킬기가 보다 바람직하고, 메틸기가 특히 바람직하다.
탄소수 1 ∼ 6 의 알킬술피닐기로는, 메틸술피닐기, 에틸술피닐기, 프로필술피닐기, 이소프로필술피닐기, 부틸술피닐기, 이소부틸술피닐기, sec-부틸술피닐기, tert-부틸술피닐기, 펜틸술피닐기, 헥실술피닐기 등을 들 수 있고, 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬술피닐기가 바람직하고, 탄소수 1 및 2 의 알킬술피닐기가 보다 바람직하고, 메틸술피닐기가 특히 바람직하다.
탄소수 1 ∼ 6 의 알킬술포닐기로는, 메틸술포닐기, 에틸술포닐기, 프로필술포닐기, 이소프로필술포닐기, 부틸술포닐기, 이소부틸술포닐기, sec-부틸술포닐기, tert-부틸술포닐기, 펜틸술포닐기, 헥실술포닐기 등을 들 수 있고, 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬술포닐기가 바람직하고, 탄소수 1 및 2 의 알킬술포닐기가 보다 바람직하고, 메틸술포닐기가 특히 바람직하다.
탄소수 1 ∼ 6 의 플루오로알킬기로는, 플루오로메틸기, 트리플루오로메틸기, 플루오로에틸기, 펜타플루오로에틸기, 헵타플루오로프로필기, 노나플루오로부틸기 등을 들 수 있고, 탄소수 1 ∼ 4 의 플루오로알킬기가 바람직하고, 탄소수 1 및 2 의 플루오로알킬기가 보다 바람직하고, 트리플루오로메틸기가 특히 바람직하다.
탄소수 1 ∼ 6 의 알콕시기로는, 메톡시기, 에톡시기, 프로폭시기, 이소프로폭시기, 부톡시기, 이소부톡시기, sec-부톡시기, tert-부톡시기, 펜틸옥시기, 헥실옥시기 등을 들 수 있고, 탄소수 1 ∼ 4 의 알콕시기가 바람직하고, 탄소수 1 및 2 의 알콕시기가 보다 바람직하고, 메톡시기가 특히 바람직하다.
탄소수 1 ∼ 6 의 알킬티오기로는, 메틸티오기, 에틸티오기, 프로필티오기, 이소프로필티오기, 부틸티오기, 이소부틸티오기, sec-부틸티오기, tert-부틸티오기, 펜틸티오기, 헥실티오기 등을 들 수 있고, 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬티오기가 바람직하고, 탄소수 1 및 2 의 알킬티오기가 보다 바람직하고, 메틸티오기가 특히 바람직하다.
탄소수 1 ∼ 6 의 N-알킬아미노기로는, N-메틸아미노기, N-에틸아미노기, N-프로필아미노기, N-이소프로필아미노기, N-부틸아미노기, N-이소부틸아미노기, N-sec-부틸아미노기, N-tert-부틸아미노기, N-펜틸아미노기, N-헥실아미노기 등을 들 수 있고, 탄소수 1 ∼ 4 의 N-알킬아미노기가 바람직하고, 탄소수 1 및 2 의 N-알킬아미노기가 보다 바람직하고, N-메틸아미노기가 특히 바람직하다.
탄소수 2 ∼ 12 의 N,N-디알킬아미노기로는, N,N-디메틸아미노기, N-메틸-N-에틸아미노기, N,N-디에틸아미노기, N,N-디프로필아미노기, N,N-디이소프로필아미노기, N,N-디부틸아미노기, N,N-디이소부틸아미노기, N,N-디펜틸아미노기, N,N-디헥실아미노기 등을 들 수 있고, 탄소수 2 ∼ 8 의 N,N-디알킬아미노기가 바람직하고, 탄소수 2 ∼ 4 의 N,N-디알킬아미노기가 보다 바람직하고, N,N-디메틸아미노기가 특히 바람직하다.
탄소수 1 ∼ 6 의 N-알킬술파모일기로는, N-메틸술파모일기, N-에틸술파모일기, N-프로필술파모일기, N-이소프로필술파모일기, N-부틸술파모일기, N-이소부틸술파모일기, N-sec-부틸술파모일기, N-tert-부틸술파모일기, N-펜틸술파모일기, N-헥실술파모일기 등을 들 수 있고, 탄소수 1 ∼ 4 의 N-알킬술파모일기가 바람직하고, 탄소수 1 및 2 의 N-알킬술파모일기가 보다 바람직하고, N-메틸술파모일기가 특히 바람직하다.
탄소수 2 ∼ 12 의 N,N-디알킬술파모일기로는, N,N-디메틸술파모일기, N-메틸-N-에틸술파모일기, N,N-디에틸술파모일기, N,N-디프로필술파모일기, N,N-디이소프로필술파모일기, N,N-디부틸술파모일기, N,N-디이소부틸술파모일기, N,N-디펜틸술파모일기, N,N-디헥실술파모일기 등을 들 수 있고, 탄소수 2 ∼ 8 의 N,N-디알킬술파모일기가 바람직하고, 탄소수 2 ∼ 4 의 N,N-디알킬술파모일기가 보다 바람직하고, N,N-디메틸술파모일기가 특히 바람직하다.
Z0, Z1 및 Z2 는, 각각 독립적으로, 수소 원자, 할로겐 원자, 메틸기, 시아노기, 니트로기, 카르복실기, 메틸술포닐기, 트리플루오로메틸기, 메톡시기, 메틸티오기, N-메틸아미노기, N,N-디메틸아미노기, N-메틸술파모일기 또는 N,N-디메틸술파모일기인 것이 바람직하다.
R5, R6 및 R7 에 있어서의 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬기로는, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 이소프로필기, 부틸기, 이소부틸기, tert-부틸기 등을 들 수 있고, 탄소수 1 및 2 의 알킬기가 바람직하고, 메틸기가 보다 바람직하다.
Q1 및 Q2 는, 각각 독립적으로, -S-, -CO-, -NH-, -N(CH3)- 인 것이 바람직하다.
Y1, Y2 및 Y3 에 있어서의 방향족 탄화수소기로는, 페닐기, 나프틸기, 안트릴기, 페난트릴기, 비페닐기 등의 탄소수 6 ∼ 20 의 방향족 탄화수소기를 들 수 있고, 페닐기, 나프틸기가 바람직하고, 페닐기가 보다 바람직하다. 방향족 복소 고리기로는, 푸릴기, 피롤릴기, 티에닐기, 피리디닐기, 티아졸릴기, 벤조티아졸릴기 등의 질소 원자, 산소 원자, 황 원자 등의 헤테로 원자를 적어도 1 개 포함하는, 탄소수 4 ∼ 20 의 방향족 복소 고리기를 들 수 있다. 그 중에서도, 푸릴기, 피롤릴기, 티에닐기, 피리디닐기, 티아졸릴기, 벤조티아졸릴기가 바람직하다.
이러한 방향족 탄화수소기 및 방향족 복소 고리기는, 적어도 1 개의 치환기를 갖고 있어도 된다. 치환기로는, 할로겐 원자, 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬기, 시아노기, 니트로기, 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬술피닐기, 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬술포닐기, 카르복실기, 탄소수 1 ∼ 6 의 플루오로알킬기, 탄소수 1 ∼ 6 의 알콕시기, 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬티오기, 탄소수 1 ∼ 6 의 N-알킬아미노기, 탄소수 2 ∼ 12 의 N,N-디알킬아미노기, 탄소수 1 ∼ 6 의 N-알킬술파모일기, 탄소수 2 ∼ 12 의 N,N-디알킬술파모일기 등을 들 수 있고, 할로겐 원자, 탄소수 1 및 2 의 알킬기, 시아노기, 니트로기, 탄소수 1 및 2 의 알킬술포닐기, 탄소수 1 및 2 의 플루오로알킬기, 탄소수 1 및 2 의 알콕시기, 탄소수 1 및 2 의 알킬티오기, 탄소수 1 및 2 의 N-알킬아미노기, 탄소수 2 ∼ 4 의 N,N-디알킬아미노기, 탄소수 1 및 2 의 알킬술파모일기가 바람직하다.
할로겐 원자, 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬기, 시아노기, 니트로기, 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬술피닐기, 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬술포닐기, 카르복실기, 탄소수 1 ∼ 6 의 플루오로알킬기, 탄소수 1 ∼ 6 의 알콕시기, 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬티오기, 탄소수 1 ∼ 6 의 N-알킬아미노기, 탄소수 2 ∼ 12 의 N,N-디알킬아미노기, 탄소수 1 ∼ 6 의 N-알킬술파모일기 및 탄소수 2 ∼ 12 의 N,N-디알킬술파모일기로는, 앞서 예시한 것과 동일한 것을 들 수 있다.
식 (Ar-1) ∼ (Ar-22) 중에서도, 식 (Ar-6) 및 식 (Ar-7) 이 분자의 안정성의 관점에서 바람직하다.
식 (Ar-16) ∼ (Ar-22) 에 있어서, Y1 은, 이것이 결합하는 질소 원자 및 Z0 과 함께, 방향족 복소 고리기를 형성하고 있어도 된다. 방향족 복소 고리기로는, Ar 이 갖고 있어도 되는 방향족 복소 고리로서 상기한 것을 들 수 있지만, 예를 들어, 피롤 고리, 이미다졸 고리, 피롤린 고리, 피리딘 고리, 피라진 고리, 피리미딘 고리, 인돌 고리, 퀴놀린 고리, 이소퀴놀린 고리, 푸린 고리, 피롤리딘 고리 등을 들 수 있다. 이 방향족 복소 고리기는, 치환기를 갖고 있어도 된다. 또, Y1 은, 이것이 결합하는 질소 원자 및 Z0 과 함께, 전술한 치환되어 있어도 되는 다고리계 방향족 탄화수소기 또는 다고리계 방향족 복소 고리기여도 된다. 예를 들어, 벤조푸란 고리, 벤조티아졸 고리, 벤조옥사졸 고리 등을 들 수 있다.
Y1, Y2 및 Y3 은, 각각 독립적으로, 치환되어 있어도 되는 다고리계 방향족 탄화수소기 또는 다고리계 방향족 복소 고리기여도 된다. 다고리계 방향족 탄화수소기는, 축합 다고리계 방향족 탄화수소기, 또는 방향 고리 집합에서 유래하는 기를 말한다. 다고리계 방향족 복소 고리기는, 축합 다고리계 방향족 복소 고리기, 또는 방향 고리 집합에서 유래하는 기를 말한다. 예를 들어, Y1, Y2 및 Y3 은, 각각 독립적으로, 하기 식 (Y1-1) ∼ 식 (Y1-7) 로 나타내는 어느 기인 것이 바람직하고, 식 (Y1-1) 또는 식 (Y1-4) 로 나타내는 어느 기인 것이 보다 바람직하다.
[화학식 9]
Figure pat00009
상기 식 (Y1-1) ∼ 식 (Y1-7) 중, * 부는 연결부를 나타내고, Z3 은, 각각 독립적으로, 할로겐 원자, 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬기, 시아노기, 니트로기, 니트록시기, 술폰기, 술폭시드기, 카르복실기, 탄소수 1 ∼ 6 의 플루오로알킬기, 탄소수 1 ∼ 6 의 알콕시기, 탄소수 1 ∼ 6 의 티오알킬기, 탄소수 2 ∼ 8 의 N,N-디알킬아미노기 또는 탄소수 1 ∼ 4 의 N-알킬아미노기를 나타낸다.
V1 및 V2 는, 각각 독립적으로, -CO-, -S-, -NR8-, -O-, -Se- 또는 -SO2- 를 나타낸다.
W1 ∼ W5 는, 각각 독립적으로, -C= 또는 -N= 를 나타낸다.
단, V1, V2 및 W1 ∼ W5 중 적어도 1 개는, S, N, O 또는 Se 를 포함하는 기를 나타낸다.
R8 은, 수소 원자 또는 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬기를 나타낸다.
a 는, 각각 독립적으로, 0 ∼ 3 의 정수를 나타낸다.
b 는, 각각 독립적으로, 0 ∼ 2 의 정수를 나타낸다.
식 (Y1-1) ∼ 식 (Y1-7) 로 나타내는 어느 기는, 하기 식 (Y2-1) ∼ 식 (Y2-16) 으로 나타내는 어느 기인 것이 바람직하고, 하기 식 (Y3-1) ∼ 식 (Y3-6) 으로 나타내는 어느 기인 것이 보다 바람직하고, 식 (Y3-1) 또는 식 (Y3-3) 으로 나타내는 기인 것이 특히 바람직하다. 또한, * 부는 연결부를 나타낸다.
[화학식 10]
Figure pat00010
식 (Y2-1) ∼ 식 (Y2-16) 중, Z3, a, b, V1, V2 및 W1 ∼ W5 는, 상기와 동일한 의미를 나타낸다.
[화학식 11]
Figure pat00011
식 (Y3-1) ∼ 식 (Y3-6) 중, Z3, a, b, V1, V2 및 W1 은, 상기와 동일한 의미를 나타낸다.
Z3 으로는, 할로겐 원자, 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬기, 시아노기, 니트로기, 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬술피닐기, 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬술포닐기, 카르복실기, 탄소수 1 ∼ 6 의 플루오로알킬기, 탄소수 1 ∼ 6 의 알콕시기, 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬티오기, 탄소수 1 ∼ 6 의 N-알킬아미노기, 탄소수 2 ∼ 12 의 N,N-디알킬아미노기, 탄소수 1 ∼ 6 의 N-알킬술파모일기, 탄소수 2 ∼ 12 의 N,N-디알킬술파모일기 등을 들 수 있다. 그 중에서도, 할로겐 원자, 메틸기, 에틸기, 이소프로필기, sec-부틸기, 시아노기, 니트로기, 술폰기, 니트록시드기, 카르복실기, 트리플루오로메틸기, 메톡시기, 티오메틸기, N,N-디메틸아미노기, N-메틸아미노기가 바람직하고, 할로겐 원자, 메틸기, 에틸기, 이소프로필기, sec-부틸기, 시아노기, 니트로기, 트리플루오로메틸기가 보다 바람직하고, 메틸기, 에틸기, 이소프로필기, sec-부틸기, 펜틸기, 헥실기가 특히 바람직하다.
할로겐 원자, 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬기, 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬술피닐기, 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬술포닐기, 탄소수 1 ∼ 6 의 플루오로알킬기, 탄소수 1 ∼ 6 의 알콕시기, 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬티오기, 탄소수 1 ∼ 6 의 N-알킬아미노기, 탄소수 2 ∼ 12 의 N,N-디알킬아미노기, 탄소수 1 ∼ 6 의 N-알킬술파모일기 및 탄소수 2 ∼ 12 의 N,N-디알킬술파모일기로는, 앞서 예시한 것과 동일한 것을 들 수 있다.
V1 및 V2 는, 각각 독립적으로, -S-, -NR8- 또는 -O- 인 것이 바람직하다.
W1 ∼ W5 는, 각각 독립적으로, -C= 또는 -N= 인 것이 바람직하다.
V1, V2 및 W1 ∼ W5 중 적어도 1 개는, S, N 또는 O 를 포함하는 기를 나타내는 것이 바람직하다.
a 는 0 또는 1 인 것이 바람직하다. b 는 0 인 것이 바람직하다.
Ar1 로 나타내는 방향족기로서, 이하의 식 (Ar-23) 으로 나타내는 기도 들 수 있다.
Figure pat00012
식 (Ar-23) 중, *, Z1, Z2, Q1 및 Q2 는 상기와 동일한 의미를 나타내고, U1 은 치환기가 결합하고 있어도 되는 제 14 속 ∼ 제 16 속의 비금속 원자를 나타낸다. 제 14 속 ∼ 제 16 속의 비금속 원자로는, 예를 들어 탄소 원자, 질소 원자, 산소 원자 및 황 원자를 들 수 있고, 바람직하게는 =O, =S, =NR' 및 =C(R')R' 등을 들 수 있다. 치환기 R' 로는, 예를 들어 수소 원자, 할로겐 원자, 알킬기, 할로겐화 알킬기, 알케닐기, 아릴기, 시아노기, 아미노기, 니트로기, 니트로소기, 카르복실기, 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬술피닐기, 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬술포닐기, 탄소수 1 ∼ 6 의 플루오로알킬기, 탄소수 1 ∼ 6 의 알콕시기, 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬술파닐기, 탄소수 1 ∼ 6 의 N-알킬아미노기, 탄소수 2 ∼ 12 의 N,N-디알킬아미노기, 탄소수 1 ∼ 6 의 N-알킬술파모일기, 탄소수 2 ∼ 12 의 디알킬술파모일기 등을 들 수 있고, 비금속 원자가 탄소 원자 (C) 인 경우에 있어서의 2 개의 R' 는 서로 동일해도 되고, 상이해도 된다.
식 (A) 중의 P1 은, 수소 원자 또는 중합성기를 나타낸다. 중합성기란, 중합 반응에 관여할 수 있는 기를 포함하는 기이다. 중합 반응에 관여할 수 있는 기로는, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어 비닐기, p-(2-페닐에테닐)페닐기, 아크릴로일기, 아크릴로일옥시기, 메타크릴로일기, 메타크릴로일옥시기, 카르복실기, 메틸카르보닐기, 하이드록실기, 카르바모일기, 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬아미노기, 아미노기, 포르밀기, -N=C=O, -N=C=S, 옥시라닐기, 옥세타닐기 등을 들 수 있다. 광학 필름의 신뢰성의 관점에서, P1 은 중합성기인 것이 바람직하다.
광 중합에 적합하다는 점에서, 중합성기는, 라디칼 중합성기 또는 카티온 중합성기인 것이 바람직하다. 특히, 취급이나 제조가 용이하다는 점에서, 아크릴로일기, 아크릴로일옥시기, 메타크릴로일기 또는 메타크릴로일옥시기가 바람직하고, 중합성이 높다는 점에서, 아크릴로일기 또는 아크릴로일옥시기가 보다 바람직하다.
식 (A) 중의 X 는, -OH, -SH, -C(=O)OH, -C(=S)OH, -NR2H, 또는 -(CH2)p-OH 를 나타낸다. 여기서, R2 는 수소 원자 또는 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬기를 나타내고, p 는 0 ∼ 3 의 정수, 바람직하게는 0 ∼ 1 의 정수를 나타낸다. 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬기의 예는 상기에 서술한 바와 같다. 식 (A) 중의 X 는, 본 발명의 화합물의 제조상의 관점에서, -OH 또는 -(CH2)p-OH 인 것이 바람직하다.
본 발명의 화합물 (A) 는, 식 (B)：
[화학식 12]
Figure pat00013
[식 (B) 중,
B2, B3, E2, E3, D2 및 D3 은, 각각 독립적으로, 단결합 또는 2 가의 연결기를 나타내고,
A2, A3, G2 및 G3 은, 각각 독립적으로, 탄소수 6 ∼ 20 의 2 가의 방향족 탄화수소기 또는 탄소수 3 ∼ 16 의 2 가의 지환식 탄화수소기를 나타내고, 그 방향족 탄화수소기 또는 그 지환식 탄화수소기에 포함되는 수소 원자는, 각각 독립적으로, 할로겐 원자, -R1, -OR1, 시아노기 또는 니트로기로 치환되어 있어도 되고, R1 은 상기와 동일한 의미이고, 그 방향족 탄화수소기 또는 그 지환식 탄화수소기에 포함되는 탄소 원자는, 각각 독립적으로, 산소 원자, 황 원자 또는 질소 원자로 치환되어 있어도 되고,
F2 및 F3 은, 각각 독립적으로, 탄소수 1 ∼ 17 의 알칸디일기를 나타내고, 그 알칸디일기에 포함되는 수소 원자는, 각각 독립적으로, 할로겐 원자, -R1 또는 -OR1 로 치환되어 있어도 되고, R1 은 상기와 동일한 의미이고, 그 알칸디일기에 포함되는 -CH2- 는, 각각 독립적으로, -O-, -S-, -Si- 또는 -CO- 로 치환되어 있어도 되고,
m2, m3, n2 및 n3 은, 각각 독립적으로, 0 ∼ 3 의 정수를 나타내고,
Ar2 는, 치환기를 갖고 있어도 되는 2 가의 방향족기이고, 그 방향족기 중에, 질소 원자, 산소 원자 및 황 원자로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 개의 원자를 포함하고,
P2 는 및 P3 은, 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 중합성기를 나타내고, P2 및 P3 중 적어도 1 개는 중합성기이다.]
로 나타내는 중합성 액정 화합물 (이하에 있어서 「중합성 액정 화합물 (B)」 라고도 칭한다) 을 포함하는 액정 조성물에 첨가함으로써, 배향 결함의 발생을 억제함과 함께, 그 액정 화합물의 배향을 지나치게 방해하는 일 없이 액정 조성물의 네마틱 상전이 온도를 저하시킬 수 있다. 이 이유는 분명하지 않지만, 본 발명의 화합물 (A) 와, 액정 조성물에 포함되는 중합성 액정 화합물 (B) 는 서로 유사한 구조 단위를 갖고 있다. 그 때문에, 서로 상용하고, 액정 조성물 중에서 화합물 (A) 및 중합성 액정 화합물 (B) 의 결정이 잘 석출되지 않게 되어 배향 결함의 발생이 억제되는 것으로 생각된다. 또, 이와 같은 상태임으로써, 중합성 액정 화합물 (B) 의 배향을 지나치게 방해하는 일 없이 네마틱 상전이 온도를 저하시킬 수 있는 것으로 생각된다. 특히, 배향 결함의 발생을 억제함과 함께, 광학 특성을 저해하는 일 없이 액정 조성물의 상전이 온도를 저하시키기 쉬운 관점에서는, 본 발명의 화합물 (A) 의 Ar1 이외의 부분인 메소겐 부분과, 중합성 액정 화합물 (B) 의 Ar2 이외의 부분인 메소겐 부분이 서로 유사한 구조 단위를 갖는 것이 바람직하다.
다음으로, 식 (B) 중의 기호에 대해 설명한다.
식 (B) 중의 B2, B3, D2, D3, E2 및 E3 은, 각각 독립적으로, 단결합 또는 2 가의 연결기를 나타낸다. 2 가의 연결기로는, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어 상기 식 (A) 중의 B1, E1 및 D1 에 대해 기재한 기를 들 수 있다.
식 (B) 중의 B2 및 B3 은, 액정상을 발현하기 쉬운 관점에서, -O-, -S-, -O-CO-, -CO-O-, -O-CO-O-, -O-C(=S)-, -O-C(=S)-O-, -O-CH2- 또는 -CH2-O- 인 것이 바람직하고, -O-, -O-CO- 또는 -CO-O- 인 것이 보다 바람직하다. 중합성 액정 화합물 (B) 를 용이하게 제조하기 쉽고, 제조 비용을 억제할 수 있는 관점에서, B2 및 B3 은 서로 동일한 것이 바람직하다. 또한, B2 및 B3 이 서로 동일하다는 것은, Ar 을 중심으로 하여 보았을 경우의 B2 및 B3 의 구조가 서로 동일한 것을 의미하며, 예를 들어 B2 가 -O-CO- 인 경우에 있어서, B2 와 서로 동일한 B3 이란, -CO-O- 이다. 이하, D2 와 D3, E2 와 E3, A2 와 A3, G2 와 G3, F2 와 F3 및 P2 와 P3 에 있어서의 관계에 대해서도 동일하다.
식 (B) 중의 D2, D3, E2 및 E3 은, 액정상을 발현하기 쉬운 관점에서, 각각 독립적으로, -O-, -S-, -O-CO-, -CO-O-, -O-CO-O-, -CO-NR3- 또는 -NR3-CO- 인 것이 바람직하고, -O-, -O-CO-, 또는 -CO-O- 인 것이 보다 바람직하다. 중합성 액정 화합물 (B) 를 용이하게 제조하기 쉽고, 제조 비용을 억제할 수 있는 관점에서, D2 와 D3 및 E2 와 E3 이, 각각 서로 동일한 것이 바람직하다.
식 (B) 중의 A2, A3, G2 및 G3 은, 각각 독립적으로, 탄소수 6 ∼ 20 의 2 가의 방향족 탄화수소기 또는 탄소수 3 ∼ 16 의 2 가의 지환식 탄화수소기를 나타낸다. 2 가의 방향족 탄화수소기의 탄소수는, 바람직하게는 6 ∼ 18, 보다 바람직하게는 6 ∼ 16, 보다 더 바람직하게는 6 ∼ 10 이며, 특히 바람직하게는 6 이다. 2 가의 지환식 탄화수소기의 탄소수는, 바람직하게는 4 ∼ 15, 보다 바람직하게는 5 ∼ 10, 더욱 바람직하게는 5 또는 6 이다.
2 가의 방향족 탄화수소기 및 2 가의 지환식 탄화수소기에 대해서는, 상기 식 (A) 중의 A1 및 G1 에 대한 기재가 동일하게 적용된다. 여기서, 상기 식 (A) 중의 A1 과 식 (B) 중의 A2 및 A3 은 서로 동일해도 되고, 상이해도 된다. 또, 상기 식 (A) 중의 G1 과 식 (B) 중 G2 및 G3 은 서로 동일해도 되고, 상이해도 된다. 중합성 액정 화합물 (B) 를 용이하게 제조하기 쉽고, 제조 비용을 억제할 수 있는 관점에서, A2 와 A3 및 G2 와 G3 이, 각각 서로 동일한 것이 바람직하다. 또, 중합성 액정 화합물 (B) 와 본 발명의 화합물 (A) 의 상용성을 높이고, 배향 결함을 억제하기 쉬운 관점에서, 식 (A) 중의 A1 과 식 (B) 중의 A2 및 A3 이 서로 동일하고, 식 (A) 중의 G1 과 식 (B) 중의 G2 및 G3 이 서로 동일한 것이 바람직하다.
식 (B) 중의 F2 및 F3 은, 각각 독립적으로, 탄소수 1 ∼ 17, 바람직하게는 2 ∼ 15, 보다 바람직하게는 3 ∼ 12, 더욱 바람직하게는 4 ∼ 10 의 알칸디일기를 나타낸다. 그 알칸디일기에 포함되는 수소 원자는, 각각 독립적으로, -OR1 또는 할로겐 원자로 치환되어 있어도 된다. 여기서, 할로겐 원자의 예는 상기에 서술한 바와 같고, R1 은 상기와 동일한 의미이다. 그 알칸디일기에 포함되는 -CH2- 는, 각각 독립적으로, -O- 또는 -CO- 로 치환되어 있어도 된다. 탄소수 1 ∼ 17 의 알칸디일기로는 식 (A) 중의 F1 에 대해 상기에 서술한 기를 들 수 있고, F1 에 관한 바람직한 기재가 F2 및 F3 에 대해 동일하게 적용된다. 중합성 액정 화합물 (B) 를 용이하게 제조하기 쉽고, 제조 비용을 억제할 수 있는 관점에서, F2 와 F3 이, 서로 동일한 것이 바람직하다. 또, 중합성 액정 화합물 (B) 와 본 발명의 화합물 (A) 의 상용성을 높이고, 배향 결함을 억제하기 쉬운 관점에서, 식 (A) 중의 F1 과 식 (B) 중의 F2 및 F3 이 서로 동일한 것이 바람직하다.
식 (B) 중의 m2, m3, n2 및 n3 은, 각각 독립적으로, 0 ∼ 3 의 정수를 나타낸다. m2, m3, n2 및 n3 은 모두 0 이어도 되지만, m2 및 m3 중 어느 일방이 0 인 경우, 타방이 2 또는 3 의 정수를 나타내는 것이 바람직하고, n2 및 n3 중 어느 일방이 0 인 경우, 타방이 2 또는 3 의 정수를 나타내는 것이 바람직하다. m2, m3, n2 및 n3 은, 바람직하게는 1 또는 2 이며, 보다 바람직하게는 1 이다. 또, 중합성 액정 화합물 (B) 를 제조하기 쉽고, 제조 비용을 억제할 수 있다는 관점에서, m2 및 m3, n2 및 n3 은, 각각 서로 동일한 정수인 것이 바람직하다. 또한, m2 가 2 또는 3 인 경우, 복수 존재하는 A2 및 B2 는, 각각 서로 동일해도 되고, 상이해도 된다. 중합성 액정 화합물 (B) 를 공업적으로 제조하기 쉽다는 관점에서는, 복수 존재하는 A2 및 B2 는, 각각 서로 동일한 것이 바람직하다. m3 이 2 또는 3 인 경우에 대해서도 동일하다. 또, n2 가 2 또는 3 인 경우, 복수 존재하는 E2 및 G3 은, 각각 서로 동일해도 되고, 상이해도 된다. 중합성 액정 화합물 (B) 를 공업적으로 제조하기 쉽다는 관점에서는, 복수 존재하는 E2 및 G3 은, 각각 서로 동일한 것이 바람직하다. n3 이 2 또는 3 인 경우에 대해서도 동일하다. 또, 중합성 액정 화합물 (B) 와 본 발명의 화합물 (A) 의 상용성을 높이고, 배향 결함을 억제하기 쉬운 관점에서, 식 (A) 중의 m1 과 식 (B) 중의 m2 및 m3 이 서로 동일하고, 식 (A) 중의 n1 과 식 (B) 중의 n2 및 n3 이 서로 동일한 것이 바람직하다.
식 (B) 중의 Ar2 는, 치환기를 갖고 있어도 되는 2 가의 방향족기이고, 그 방향족기 중에, 질소 원자, 산소 원자 및 황 원자로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 개의 원자를 포함한다. Ar2 에 대해, 상기 식 (A) 중의 Ar1 에 대해 기재한 예 및 바람직한 기재가 동일하게 적용된다. 중합성 액정 화합물 (B) 와 본 발명의 화합물 (A) 의 상용성을 높이고, 배향 결함을 억제하기 쉬운 관점에서, 식 (A) 중의 Ar1 과 식 (B) 중의 Ar2 가 서로 동일한 것이 바람직하다.
본 발명의 화합물 (A) 및 중합성 액정 화합물 (B) 의 제조 방법은, 특별히 한정되지 않고, Methoden der Organischen Chemie, Organic Reactions, Organic Syntheses, Comprehensive Organic Synthesis, 신실험 화학 강좌 등에 기재되어 있는 공지된 유기 합성 반응 (예를 들어, 축합 반응, 에스테르화 반응, 윌리암슨 반응, 울만 반응, 비티히 반응, 시프 염기 생성 반응, 벤질화 반응, 소노가시라 반응, 스즈키-미야우라 반응, 네기시 반응, 쿠마다 반응, 히야마 반응, 부흐발트-하트위그 반응, 프리델 크래프츠 반응, 헥크 반응, 알돌 반응 등) 을, 그 구조에 따라, 적절히 조합함으로써, 제조할 수 있다.
식 (A) 로 나타내는 본 발명의 화합물은, 식 (D-1)：
[화학식 13]
Figure pat00014
로 나타내는 알코올 화합물 (D-1) 과,
식 (E-1)：
[화학식 14]
Figure pat00015
로 나타내는 카르복실산 화합물 (E-1) 의 에스테르화 반응을 실시함으로써 제조할 수 있다. 또한, 상기 식 (D-1) 및 (E-1) 중의 Ar1, X, P1, F1, B1, A1, E1, G1, m1 및 n1 은, 각각, 상기 식 (A) 에 있어서의 각 기호와 동일한 의미이고, 바람직한 기재가 동일하게 적용된다.
카르복실산 화합물 (E-1) 로는, 예를 들어 이하의 화합물 (R-1) ∼ (R-104) 를 들 수 있다.
[화학식 15]
Figure pat00016
[화학식 16]
Figure pat00017
[화학식 17]
Figure pat00018
[화학식 18]
Figure pat00019
[화학식 19]
Figure pat00020
[화학식 20]
Figure pat00021
[화학식 21]
Figure pat00022
[화학식 22]
Figure pat00023
알코올 화합물 (D-1) 과 카르복실산 화합물 (E-1) 의 에스테르화 반응은, 바람직하게는 축합제의 존재하에 있어서 실시된다. 축합제의 존재하에서 에스테르화 반응을 실시함으로써, 에스테르화 반응을 효율적으로 신속하게 실시할 수 있다.
축합제로는, 1-시클로헥실-3-(2-모르폴리노에틸)카르보디이미드메토-파라-톨루엔술포네이트, 디시클로헥실카르보디이미드, 디이소프로필카르보디이미드, 1-에틸-3-(3-디메틸아미노프로필)카르보디이미드, 1-에틸-3-(3-디메틸아미노프로필)카르보디이미드 염산염 (수용성 카르보디이미드：WSC 로서 시판), 비스(2,6-디이소프로필페닐)카르보디이미드 및, 비스(트리메틸실릴)카르보디이미드 등의 카르보디이미드 화합물, 2-메틸-6-니트로벤조산 무수물, 2,2'-카르보닐비스-1H-이미다졸, 1,1'-옥살릴디이미다졸, 디페닐포스포릴아지드, 1-(4-니트로벤젠술포닐)-1H-1,2,4-트리아졸, 1H-벤조트리아졸-1-일옥시트리피롤리디노포스포늄헥사플루오로포스페이트, 1H-벤조트리아졸-1-일옥시트리스(디메틸아미노)포스포늄헥사플루오로포스페이트, N,N,N',N'-테트라메틸-O-(N-숙신이미딜)우로늄테트라플루오로보레이트, N-(1,2,2,2-테트라클로로에톡시카르보닐옥시)숙신이미드, N-카르보벤족시숙신이미드, O-(6-클로로벤조트리아졸-1-일)-N,N,N',N'-테트라메틸우로늄테트라플루오로보레이트, O-(6-클로로벤조트리아졸-1-일)-N,N,N',N'-테트라메틸우로늄헥사플루오로포스페이트, 2-브로모-1-에틸피리디늄테트라플루오로보레이트, 2-클로로-1,3-디메틸이미다졸리늄클로라이드, 2-클로로-1,3-디메틸이미다졸리늄헥사플루오로포스페이트, 2-클로로-1-메틸피리디늄아이오다이드, 2-클로로-1-메틸피리디늄 파라-톨루엔술포네이트, 2-플루오로-1-메틸피리디늄 파라-톨루엔술포네이트 및 트리클로로아세트산펜타클로로페닐에스테르 등을 들 수 있다.
축합제는, 바람직하게는, 카르보디이미드 화합물, 2,2'-카르보닐비스-1H-이미다졸, 1,1'-옥살릴디이미다졸, 디페닐포스포릴아지드, 1H-벤조트리아졸-1-일옥시트리피롤리디노포스포늄헥사플루오로포스페이트, 1H-벤조트리아졸-1-일옥시트리스(디메틸아미노)포스포늄헥사플루오로포스페이트, N,N,N',N'-테트라메틸-O-(N-숙신이미딜)우로늄테트라플루오로보레이트, N-(1,2,2,2-테트라클로로에톡시카르보닐옥시)숙신이미드, O-(6-클로로벤조트리아졸-1-일)-N,N,N',N'-테트라메틸우로늄헥사플루오로포스페이트, 2-클로로-1,3-디메틸이미다졸리늄클로라이드, 2-클로로-1,3-디메틸이미다졸리늄헥사플루오로포스페이트, 2-클로로-1-메틸피리디늄아이오다이드 및 2-클로로-1-메틸피리디늄 파라-톨루엔술포네이트이다.
축합제는, 보다 바람직하게는, 카르보디이미드 화합물, 2,2'-카르보닐비스-1H-이미다졸, 1H-벤조트리아졸-1-일옥시트리피롤리디노포스포늄헥사플루오로포스페이트, 1H-벤조트리아졸-1-일옥시트리스(디메틸아미노)포스포늄헥사플루오로포스페이트, N,N,N',N'-테트라메틸-O-(N-숙신이미딜)우로늄테트라플루오로보레이트, O-(6-클로로벤조트리아졸-1-일)-N,N,N',N'-테트라메틸우로늄헥사플루오로포스페이트, 2-클로로-1,3-디메틸이미다졸리늄클로라이드 및 2-클로로-1-메틸피리디늄아이오다이드이며, 더욱 바람직하게는, 경제성의 관점에서, 카르보디이미드 화합물이다.
카르보디이미드 화합물 중에서도, 바람직하게는, 디시클로헥실카르보디이미드, 디이소프로필카르보디이미드, 1-에틸-3-(3-디메틸아미노프로필)카르보디이미드, 1-에틸-3-(3-디메틸아미노프로필)카르보디이미드 염산염 (수용성 카르보디이미드：WSC 로서 시판) 및, 비스(2,6-디이소프로필페닐)카르보디이미드이다.
축합제의 사용량은, 화합물 (A) 를 얻기 쉬운 관점에서는, 알코올 화합물 (D-1) 1 몰에 대하여, 바람직하게는 2 ∼ 4 몰이다.
에스테르화 반응에서는, 또한, N-하이드록시숙신이미드, 벤조트리아졸, 파라니트로페놀, 3,5-디부틸-4-하이드록시톨루엔 등을 첨가제로서 첨가하여 혼합해도 된다. 첨가제의 사용량은, 화합물 (A) 를 얻기 쉬운 관점에서는, 알코올 화합물 (D-1) 1 몰에 대하여, 바람직하게는 0.01 ∼ 1.5 몰이다.
에스테르화 반응은, 촉매의 존재하에서 실시해도 된다. 촉매로는, N,N-디메틸아미노피리딘, N,N-디메틸아닐린, 디메틸암모늄펜타플루오로벤젠술포네이트 등을 들 수 있다. 그 중에서도, N,N-디메틸아미노피리딘 및 N,N-디메틸아닐린이 바람직하고, N,N-디메틸아미노피리딘이 보다 바람직하다. 촉매의 사용량은, 화합물 (A) 를 얻기 쉬운 관점에서는, 알코올 화합물 (D-1) 1 몰에 대하여, 바람직하게는 0.01 ∼ 0.5 몰이다.
에스테르화 반응은, 통상적으로, 용매 중에서 실시된다. 용매로는, 아세톤, 메틸에틸케톤, 시클로펜타논, 시클로헥사논, 메틸아밀케톤 또는 메틸이소부틸케톤 등의 케톤계 용매；펜탄, 헥산 또는 헵탄 등의 지방족 탄화수소 용매；톨루엔, 자일렌, 벤젠 또는 클로로벤젠 등의 방향족 탄화수소 용매；아세토니트릴 등의 니트릴계 용매；테트라하이드로푸란, 디메톡시에탄 등의 에테르계 용매；락트산에틸 등의 에스테르계 용매；클로로포름, 디클로로메탄 등의 할로겐화 탄화수소 용매；디메틸술폭시드, N-메틸-2-피롤리돈, N,N-디메틸포름아미드, N,N-디메틸아세트아미드, 헥사메틸포스포릭트리아미드 등의 비프로톤성 극성 용매；등을 들 수 있다. 이들 유기 용매는, 단독으로 사용해도 되고, 복수를 조합하여 사용해도 된다.
용매는, 반응 수율이나 생산성의 관점에서, 바람직하게는 펜탄, 헥산, 헵탄, 톨루엔, 자일렌, 벤젠, 클로로벤젠, 클로로포름, 디클로로메탄 등의 비극성 유기 용제이고, 보다 바람직하게는, 톨루엔, 자일렌, 벤젠, 클로로벤젠, 클로로포름, 디클로로메탄이다. 이들 유기 용제는, 단독으로 사용해도 되고, 복수를 조합하여 사용해도 된다.
카르복실산 화합물 (E-1) 의 사용량은, 화합물 (A) 를 얻기 쉬운 관점에서는, 알코올 화합물 (D-1) 1 몰에 대하여, 바람직하게는 0.1 ∼ 1.2 몰, 보다 바람직하게는 0.5 ∼ 1.2 몰이며, 더욱 바람직하게는 0.5 ∼ 1.0 몰이다.
용매의 사용량은, 알코올 화합물 (D-1) 과 카르복실산 화합물 (E-1) 의 합계 1 질량부에 대하여, 바람직하게는 0.5 ∼ 50 질량부이고, 보다 바람직하게는 1 ∼ 20 질량부이고, 더욱 바람직하게는 2 ∼ 10 질량부이다.
에스테르화 반응의 온도는, 반응 수율이나 생산성의 관점에서, 바람직하게는 ―20 ∼ 120 ℃ 이고, 보다 바람직하게는 ―20 ∼ 60 ℃ 이고, 더욱 바람직하게는 ―10 ∼ 20 ℃ 이다. 또, 에스테르화 반응의 시간은, 반응 수율이나 생산성의 관점에서, 바람직하게는 1 분 ∼ 72 시간이고, 보다 바람직하게는 1 ∼ 48 시간이고, 더욱 바람직하게는 1 ∼ 24 시간이다. 얻어진 현탁액으로부터, 여과나 데칸테이션 등의 방법에 의해 화합물 (A) 를 얻을 수 있다.
식 (B) 로 나타내는 중합성 액정 화합물은, P2=P3, F2=F3, B2=B3, A2=A3, m2=m3, E2=E3, G2=G3, n2=n3, D2=D3 인 경우, 예를 들어 식 (D-2)：
[화학식 23]
Figure pat00024
로 나타내는 알코올 화합물 (D-2) 와,
식 (E-2)：
[화학식 24]
Figure pat00025
로 나타내는 카르복실산 화합물 (E-2) 의 에스테르화 반응을 실시함으로써 제조할 수 있다. 또한, 상기 식 (D-2) 및 (E-2) 중의 Ar2, P2, F2, B2, A2, m2, E2, G2 및 n2 는, 각각, 상기 식 (B) 에 있어서의 각 기호와 동일한 의미이고, 바람직한 기재가 동일하게 적용된다. 카르복실산 화합물 (E-2) 로는, 예를 들어 카르복실산 화합물 (E-1) 에 대해 상기에 서술한 화합물을 들 수 있다.
알코올 화합물 (D-2) 와 카르복실산 화합물 (E-2) 의 에스테르화 반응은, 에스테르화 반응을 효율적으로 신속하게 실시하는 관점에서, 축합제의 존재하에서 실시하는 것이 바람직하다. 알코올 화합물 (D-1) 과 카르복실산 화합물 (E-1) 의 에스테르화 반응에 관해서 상기에 있어서 서술한 축합제에 관한 기재는, 특기하지 않는 한, 알코올 화합물 (D-2) 와 카르복실산 화합물 (E-2) 의 에스테르화 반응에 대해서도 동일하게 적용된다.
축합제의 사용량은, 중합성 액정 화합물 (B) 를 얻기 쉬운 관점에서는, 알코올 화합물 (D-2) 1 몰에 대하여, 바람직하게는 2 ∼ 4 몰이다.
알코올 화합물 (D-2) 와 카르복실산 화합물 (E-2) 의 에스테르화 반응은, 촉매의 존재하에서 실시해도 된다. 촉매에 대해, 알코올 화합물 (D-1) 과 카르복실산 화합물 (E-1) 의 에스테르화 반응에 있어서의 촉매에 관한 상기의 기재가 동일하게 적용된다. 촉매의 사용량은, 중합성 액정 화합물 (B) 를 얻기 쉬운 관점에서는, 알코올 화합물 (D-2) 1 몰에 대하여, 바람직하게는 0.01 ∼ 0.5 몰이다.
알코올 화합물 (D-2) 와 카르복실산 화합물 (E-2) 의 에스테르화 반응은, 통상적으로, 용매 중에서 실시된다. 용매에 대해, 알코올 화합물 (D-1) 과 카르복실산 화합물 (E-1) 의 에스테르화 반응에 있어서의 용매에 관한 상기의 기재가 동일하게 적용된다.
카르복실산 화합물 (E-2) 의 사용량은, 중합성 액정 화합물 (B) 를 얻기 쉬운 관점에서는, 알코올 화합물 (D-2) 1 몰에 대하여, 바람직하게는 2 ∼ 10 몰, 보다 바람직하게는 2 ∼ 5 몰이며, 더욱 바람직하게는 2 ∼ 3 몰이다.
용매의 사용량은, 알코올 화합물 (D-2) 와 카르복실산 화합물 (E-2) 의 합계 1 질량부에 대하여, 바람직하게는 0.5 ∼ 50 질량부이고, 보다 바람직하게는 1 ∼ 20 질량부이고, 더욱 바람직하게는 2 ∼ 10 질량부이다.
에스테르화 반응의 온도나 시간에 관해서는, 알코올 화합물 (D-1) 과 카르복실산 화합물 (E-1) 의 에스테르화 반응에 있어서의 기재가 동일하게 적용된다.
본 발명은, 적어도 1 종의 식 (A) 로 나타내는 화합물 (A) 와, 적어도 1 종의 식 (B) 로 나타내는 중합성 액정 화합물 (B) 를 포함하는 액정 조성물도 제공한다. 화합물 (A) 와 중합성 액정 화합물 (B) 의 상용성을 높이기 쉽고, 각각의 화합물을 제조하기 쉬운 관점에서는, 식 (A) 및 식 (B) 중, B1 과 B2 및 B3 이 동일하고, E1 과 E2 및 E3 이 동일하고, D1 과 D2 및 D3 이 동일하고, A1 과 A2 및 A3 이 동일하고, G1 과 G2 및 G3 이 동일하고, F1 과 F2 및 F3 이 동일하고, m1 과 m2 및 m3 이 동일하고, n1 과 n2 및 n3 이 동일하고, Ar1 과 Ar2 가 동일하고, P1 과 P2 및 P3 이 동일한 것이 바람직하다.
본 발명의 액정 조성물에 있어서, 식 (A) 로 나타내는 화합물의 액체 크로마토그래피로 측정한 면적 백분율값은, 그 액정 조성물에 포함되는 화합물 (A) 및 중합성 액정 화합물 (B) 의 면적값의 합계량에 기초하여 18 ％ 이하이다. 화합물 (A) 의 면적 백분율값이 18 ％ 를 초과하면, 화합물 (A) 가 결정이 되어 석출되거나, 중합성 액정 화합물 (B) 의 배향을 방해하거나 하기 때문에, 배향 결함이 생기기 쉽고 원하는 광학 특성이 얻기 어려워진다. 여기서, 액정 조성물에 포함되는 화합물 (A) 의 면적 백분율값은, 액정 조성물에 포함되는 화합물 (A) 의 함유량 (질량 ％) 에 대응하고, HPLC 에 의해 측정한 액정 조성물에 포함되는 화합물 (A) 의 면적값과 중합성 액정 화합물 (B) 의 면적값으로부터 다음의 식 (II) 에 의해 산출된다. 또한, HPLC 의 측정 조건의 상세한 내용은, 실시예에 나타내는 바와 같다.
Figure pat00026
화합물 (A) 의 면적 백분율값은, 그 액정 조성물에 포함되는 화합물 (A) 및 중합성 액정 화합물 (B) 의 면적값의 합계량에 기초하여, 바람직하게는 0.05 ％ 이상, 보다 바람직하게는 0.07 ％ 이상, 보다 더 바람직하게는 0.10 ％ 이상이다. 또, 화합물 (A) 의 면적 백분율값은, 그 액정 조성물에 포함되는 화합물 (A) 및 중합성 액정 화합물 (B) 의 면적값의 합계량에 기초하여, 바람직하게는 18 ％ 이하, 보다 바람직하게는 15 ％ 이하, 보다 더 바람직하게는 10 ％ 이하이다. 화합물 (A) 의 면적 백분율값이 상기의 하한 이상이면, 네마틱 상전이 온도를 저하시키기 쉽고, 본 발명의 액정 조성물을 보존시에 중합성 액정 화합물이 잘 석출되지 않는다. 또, 화합물 (A) 의 면적 백분율값이 상기의 상한 이하이면, 필름 제조시에 액정의 배향 상태를 양호하게 유지할 수 있기 때문에, 배향 결함이 잘 발생하지 않는다.
본 발명의 액정 조성물의 극대 흡수 파장 (λmax) 은, 바람직하게는 300 ∼ 400 ㎚, 보다 바람직하게는 315 ∼ 385 ㎚, 더욱 바람직하게는 320 ∼ 380 ㎚ 이다. 액정 조성물의 극대 흡수 파장 (λmax) 이 상기의 하한 이상이면, 액정 조성물의 배향 상태에 있어서의 중합체로 구성되는 위상차 필름은 역파장 분산성을 나타내기 쉬운 경향이 있다. 액정 조성물의 극대 흡수 파장 (λmax) 이 상기의 상한 이하이면, 가시광역에서의 흡수가 억제되기 때문에 필름으로의 착색을 억제할 수 있다.
본 발명의 액정 조성물은, 위상차 필름 등의 광학 필름을 형성할 때의 취급이나 성막이 용이해지기 때문에, 유기 용제를 포함하고 있어도 된다.
본 발명의 액정 조성물에 함유시킬 수 있는 유기 용제로는, 화합물 (A) 및 중합성 액정 화합물 (B) 등을 용해할 수 있는 유기 용제이고, 중합 반응에 불활성인 용제이면 특별히 제한되지 않는다. 이와 같은 유기 용제로는, 예를 들어, 메탄올, 에탄올, 에틸렌글리콜, 이소프로필알코올, 프로필렌글리콜, 메틸셀로솔브, 부틸셀로솔브 또는 프로필렌글리콜모노메틸에테르 등의 알코올；아세트산에틸, 아세트산부틸, 에틸렌글리콜메틸에테르아세테이트, 감마-부티로락톤, 프로필렌글리콜메틸에테르아세테이트 또는 락트산에틸 등의 에스테르계 용제；아세톤, 메틸에틸케톤, 시클로펜타논, 시클로헥사논, 메틸아밀케톤 또는 메틸이소부틸케톤 등의 케톤계 용제；펜탄, 헥산 또는 헵탄 등의 비염소계 지방족 탄화수소 용제；톨루엔, 자일렌 또는 페놀 등의 비염소계 방향족 탄화수소 용제, 아세토니트릴 등의 니트릴계 용제；테트라하이드로푸란 또는 디메톡시에탄 등의 에테르계 용제；클로로포름 또는 클로로벤젠 등의 염소계 용제；N-메틸피롤리돈 (NMP) 또는 N,N-디메틸포름아미드 (DMF) 등의 아미드계 용제 등을 들 수 있다. 화합물 (A) 및 중합성 액정 화합물 (B) 를 용해시키기 쉬운 관점에서, 에스테르계 용제, 케톤계 용제, 비염소계 방향족 탄화수소 용제, 에테르계 용제, 및 아미드계 용제가 바람직하고, 케톤계 용제 및 아미드계 용제가 보다 바람직하고, 아미드계 용제가 보다 더 바람직하다. 이들 유기 용제는, 단독으로 사용해도 되고, 복수를 조합하여 사용해도 된다.
본 발명의 액정 조성물에 있어서의 유기 용제의 함유량은, 중합성 액정 화합물 (B) 100 질량부에 대하여, 바람직하게는 100 ∼ 10000 질량부, 보다 바람직하게는 200 ∼ 5000 질량부, 더욱 바람직하게는 500 ∼ 2500 질량부이다.
또, 본 발명의 액정 조성물은, 화합물 (A) 및 중합성 액정 화합물 (B) 를 포함함으로써, 유기 용제에 대한 용해성이 우수하다. 이 때문에, 본 발명의 액정 조성물은 보존시의 안정성이 우수함과 함께, 도공시 및 보존시 등에 사용하는 유기 용제의 양을 줄일 수 있는 점에 있어서도 유리하다. 예를 들어, 용제로서 N-메틸피롤리돈을 사용한 경우, 용제의 함유량이 중합성 액정 화합물 (B) 를 100 질량부로서, 예를 들어 2500 질량부 이하이더라도 장기간 (예를 들어, 24 시간 이상, 바람직하게는 72 시간 이상) 에 걸쳐 중합성 액정 화합물 (B) 의 석출을 억제할 수 있다.
본 발명의 액정 조성물은, 예를 들어, 화합물 (A) 및 중합성 액정 화합물 (B) 의 제조 방법으로서 앞서 기재한 바와 같은 방법에 의해 미리 별도 조제한 화합물 (A) 와, 중합성 액정 화합물 (B) 를, 화합물 (A) 의 면적 백분율값이 소정의 값이 되도록 혼합함으로써 얻을 수 있다. 또, 화합물 (A) 의 제조 방법에 있어서 얻은 화합물 (A) 와 중합성 액정 화합물 (B) 의 혼합물을 사용하여, 더욱 양을 조정하고, 소정의 범위로 해도 된다.
본 발명은, 상기에 서술한 본 발명의 액정 조성물의 경화물을 포함하는 층도 제공한다. 본 발명의 액정 조성물의 경화물을 포함하는 층은, 예를 들어, 본 발명의 액정 조성물을 지지 기재 상에 경우에 따라 배향막을 개재하여 도공하고, 액정 조성물에 포함되는 중합성 액정 화합물을 배향시킨 후, 광 중합 등에 의해 중합성 액정 화합물을 중합하고, 경화시킴으로써 제조할 수 있다. 또한, 본 발명의 층의 제조 방법은, 상세하게는, 그 층을 포함하는 위상차 필름의 제조 방법을 예로서 후술하는 방법이 동일하게 적용된다.
본 발명의 액정 조성물의 경화물을 포함하는 층은, 단독으로, 또는, 지지체 등과의 적층체의 형태로, 위상차 필름, 편광 필름 등의 광학 필름으로서 사용할 수 있다. 본 발명은, 상기 층을 적어도 갖는 광학 필름, 상기 층을 적어도 갖는 위상차 필름, 상기 층을 적어도 갖는 역파장 분산성을 갖는 위상차 필름도 제공한다.
예를 들어 본 발명의 일 실시양태에 있어서, 상기 액정 조성물의 배향 상태에 있어서의 중합체 (경화물) 로 구성되는 위상차 필름 (이하, 「본 발명의 위상차 필름」 이라고도 한다) 이 제공된다. 본 발명의 위상차 필름은 하기 식 (I) 의 파장 분산도 Re(450 ㎚)/Re(550 ㎚) 를 만족하는 것이 바람직하다.
0.80 ≤ Re(450)/Re(550) ＜ 1.00 (I)
[식 (I) 중, Re(λ) 는 파장 λ ㎚ 의 광에 대한 정면 위상차값을 나타낸다.]
본 발명의 위상차 필름의 파장 분산도 Re(450 ㎚)/Re(550 ㎚) 는, 보다 바람직하게는 0.8 이상 0.98 미만, 더욱 바람직하게는 0.8 이상 0.96 미만이다. 본 발명의 위상차 필름의 파장 분산도 Re(450 ㎚)/Re(550 ㎚) 가 상기의 하한 이상이면, 450 ㎚ 부근의 단파장역에 있어서 원 편광 변환이 가능해지기 때문에 바람직하다. 본 발명의 위상차 필름의 파장 분산도 Re(450 ㎚)/Re(550 ㎚) 가 상기 상한값 미만이면, 얻어지는 위상차 필름이 역파장 분산성을 나타내기 때문에 바람직하다.
본 발명의 위상차 필름은, 투명성이 우수하고, 다양한 광학 디스플레이에 있어서 사용할 수 있다. 그 위상차 필름의 두께는, 0.1 ∼ 10 ㎛ 인 것이 바람직하고, 광 탄성을 작게 하는 점에서 0.5 ∼ 3 ㎛ 인 것이 더욱 바람직하다.
본 발명의 위상차 필름을 λ/4 판에 사용하는 경우에는, 얻어지는 위상차 필름의, 파장 550 ㎚ 에 있어서의 위상차값 (Re(550 ㎚)) 이 바람직하게는 113 ∼ 163 ㎚, 보다 바람직하게는 130 ∼ 150 ㎚, 특히 바람직하게는 약 135 nm ∼ 150 ㎚ 이다.
본 발명의 위상차 필름을 VA (Vertical Alignment) 모드용 광학 필름으로서 사용하기 위해서는, Re(550 ㎚) 를 바람직하게는 40 ∼ 100 ㎚, 보다 바람직하게는 60 ∼ 80 ㎚ 정도가 되도록, 위상차 필름의 막두께를 조정하면 된다.
본 발명의 위상차 필름을 편광 필름과 조합함으로써, 편광판 (이하, 「본 발명의 편광판」 이라고도 한다), 특히 타원 편광판 및 원 편광판이 제공된다. 이들 타원 편광판 및 원 편광판에 있어서는, 편광 필름에 본 발명의 위상차 필름이 첩합 (貼合) 되어 있다. 또, 본 발명에 있어서는, 그 타원 편광판 또는 원 편광판에 또한 본 발명의 위상차 필름을 광대역 λ/4 판으로서 첩합시킨 광대역 원 편광판도 제공할 수 있다.
본 발명의 일 실시양태에 있어서, 본 발명의 편광판을 포함하는 광학 디스플레이, 예를 들어, 반사형 액정 디스플레이 및 유기 일렉트로 루미네선스 (EL) 디스플레이에 사용할 수 있다. 상기 FPD 는, 특별히 한정되는 것이 아니라, 예를 들어 액정 표시 장치 (LCD) 나 유기 EL 표시 장치를 들 수 있다.
본 발명에 있어서 광학 디스플레이는, 본 발명의 편광판을 구비하는 것이며, 예를 들어 본 발명의 편광판과 액정 패널이 첩합된 첩합품을 구비하는 액정 표시 장치나, 본 발명의 편광판과 발광층이 첩합된 유기 EL 패널을 구비하는 유기 EL 표시 장치를 들 수 있다.
또한, 본 발명에 있어서 위상차 필름이란, 직선 편광을 원 편광이나 타원 편광으로 변환하거나, 반대로 원 편광 또는 타원 편광을 직선 편광으로 변환하거나 하기 위해서 사용되는 필름이다. 본 발명의 위상차 필름은, 본 발명의 액정 조성물의 중합체 (경화물) 를 포함하는 것이다.
본 발명의 위상차 필름은, 예를 들어 이하와 같은 방법에 의해 제조할 수 있다.
먼저, 본 발명의 화합물 (A) 및 중합성 액정 화합물 (B), 경우에 따라 상기 서술한 유기 용제를 포함하는 액정 조성물에, 필요에 따라, 하기 중합 개시제, 중합 금지제, 광 증감제 또는 레벨링제 등의 첨가제를 첨가하여, 혼합 용액을 조제한다. 특히 성막시에 성막이 용이해지기 때문에 유기 용제를 포함하는 것이 바람직하고, 얻어진 위상차 필름을 경화하는 기능을 갖기 때문에 중합 개시제를 포함하는 것이 바람직하다.
본 발명의 액정 조성물을 함유하는 혼합 용액의 점도는, 도포하기 쉽도록, 예를 들어 10 mPa·s 이하, 바람직하게는 0.1 ∼ 7 mPa·s 정도로 조정되는 것이 바람직하다. 또한, 혼합 용액의 점도는, 유기 용제의 함유량에 의해 조정할 수 있다.
또, 상기 혼합 용액에 있어서의 고형분의 농도는, 예를 들어 5 ∼ 50 질량％ 이며, 바람직하게는 5 ∼ 30 ％, 보다 바람직하게는 5 ％ ∼ 15 ％ 이다. 또한, 여기서 말하는 「고형분」 이란, 혼합 용액 (액정 조성물) 으로부터 용제를 제거한 성분을 말한다. 고형분의 농도가 5 ％ 이상이면, 위상차 필름이 지나치게 얇아지지 않고, 액정 패널의 광학 보상에 필요한 복굴절률이 부여되는 경향이 있다. 또 50 ％ 이하이면, 혼합 용액의 점도가 낮기 때문에, 위상차 필름의 막두께에 불균일이 잘 발생하지 않게 되는 경향이 있기 때문에 바람직하다.
중합 개시제로는, 예를 들어, 광 중합 개시제 및 열 중합 개시제 등을 들 수 있고, 광 중합 개시제인 것이 바람직하다.
광 중합 개시제로는, 예를 들어 벤조인류, 벤조페논류, 벤질케탈류, α-하이드록시케톤류, α-아미노케톤류, 요오드늄염 또는 술포늄염 등을 들 수 있고, 보다 구체적으로는, 이르가큐어 (Irgacure) 907, 이르가큐어 184, 이르가큐어 651, 이르가큐어 819, 이르가큐어 250, 이르가큐어 369 (이상, 모두 치바·재팬 주식회사 제조), 세이크올 BZ, 세이크올 Z, 세이크올 BEE (이상, 모두 세이코 화학 주식회사 제조), 카야큐어 (kayacure) BP100 (닛폰 화약 주식회사 제조), 카야큐어 UVI-6992 (다우사 제조), 아데카 옵토머 SP-152 또는 아데카 옵토머 SP-170 (이상, 모두 주식회사 ADEKA 제조) 등을 들 수 있다.
중합 개시제의 함유량은, 중합성 액정 화합물 (B) 100 질량부에 대하여, 예를 들어 0.1 ∼ 30 질량부이고, 바람직하게는 0.5 ∼ 20 질량부이고, 보다 바람직하게는 0.5 ∼ 10 질량부이다. 상기 범위 내이면, 액정 화합물의 배향성을 흐트러뜨리는 일 없이, 중합성 액정 화합물 (B) 를 중합시킬 수 있다.
중합 금지제로는, 예를 들어 하이드로퀴논류, 또는 알킬에테르 등의 치환기를 갖는 하이드로퀴논류, 부틸카테콜 등의 알킬에테르 등의 치환기를 갖는 카테콜류, 피로갈롤류, 2,2,6,6-테트라메틸-1-피페리디닐옥시라디칼 등의 라디칼 포착제, 티오페놀류, β-나프틸아민류 또는 β-나프톨류 등을 들 수 있다.
중합 금지제를 사용함으로써, 중합성 액정 화합물 (B) 의 중합을 제어할 수 있고, 얻어지는 위상차 필름의 안정성을 향상시킬 수 있다. 중합 금지제의 사용량은, 예를 들어 중합성 액정 화합물 (B) 100 질량부에 대하여, 0.05 ∼ 30 질량부이고, 바람직하게는 0.1 ∼ 10 질량부이다. 상기 범위 내이면, 액정 화합물의 배향성을 흐트러뜨리는 일 없이, 중합성 액정 화합물 (B) 를 중합시킬 수 있다.
광 증감제로는, 예를 들어 잔톤 또는 티오잔톤 등의 잔톤류, 안트라센류, 또는 알킬에테르 등의 치환기를 갖는 안트라센류, 페노티아진 혹은 루브렌을 들 수 있다.
광 증감제를 사용함으로써, 중합성 액정 화합물 (B) 의 중합을 고감도화할 수 있다. 광 증감제의 사용량으로는, 중합성 액정 화합물 (B) 100 질량부에 대하여, 예를 들어 0.05 ∼ 30 질량부이고, 바람직하게는 0.1 ∼ 10 질량부이다. 상기 범위 내이면, 액정 화합물의 배향성을 흐트러뜨리는 일 없이, 중합성 액정 화합물 (B) 를 중합시킬 수 있다.
레벨링제로는, 예를 들어 방사선 경화 도료용 첨가제 (빅크케미 재팬 제조：BYK-352, BYK-353, BYK-361N), 도료 첨가제 (토레·다우코닝 주식회사 제조：SH28PA, DC11PA, ST80PA), 도료 첨가제 (신에츠 화학 공업 주식회사 제조：KP321, KP323, X22-161A, KF6001) 또는 불소계 첨가제 (다이닛폰 잉크 화학 공업 주식회사 제조：F-445, F-470, F-479) 등을 들 수 있다.
레벨링제를 사용함으로써, 얻어지는 위상차 필름을 평활화할 수 있다. 또한 위상차 필름의 제조 과정에서, 액정 조성물을 함유하는 혼합 용액의 유동성을 제어하거나, 중합성 액정 화합물 (B) 를 중합하여 얻어지는 위상차 필름의 가교 밀도를 조정하거나 할 수 있다. 또 레벨링제의 사용량의 구체적인 수치는, 예를 들어 중합성 액정 화합물 (B) 100 질량부에 대하여, 0.05 ∼ 30 질량부이고, 바람직하게는 0.05 ∼ 10 질량부이다. 상기 범위 내이면, 액정 화합물의 배향성을 흐트러뜨리는 일 없이, 중합성 액정 화합물 (B) 를 중합시킬 수 있다.
계속해서 지지 기재 상에, 본 발명의 액정 조성물을 함유하는 혼합 용액을 도포하고, 건조시키면, 미중합 필름이 얻어진다. 미중합 필름이 네마틱상 등의 액정상을 나타내는 경우, 얻어지는 위상차 필름은, 모노 도메인 배향에 의한 복굴절성을 갖는다. 미중합 필름은 0 ∼ 120 ℃ 정도, 바람직하게는, 25 ∼ 80 ℃ 의 저온에서 배향하기 때문에, 배향막으로서 내열성에 관해서 반드시 충분하지는 않은 지지 기재를 사용할 수 있다. 또, 배향 후 추가로 30 ∼ 10 ℃ 정도로 냉각시켜도 결정화하는 경우가 없기 때문에, 취급이 용이하다.
또한 혼합 용액의 도포량이나 농도를 적절히 조정함으로써, 원하는 위상차를 부여하도록 막두께를 조정할 수 있다. 본 발명의 화합물 (A) 및 중합성 액정 화합물 (B) 의 양이 일정한 혼합 용액의 경우, 얻어지는 위상차 필름의 위상차값 (라타데이션값, Re(λ)) 은, 식 (III) 과 같이 결정되기 때문에, 원하는 Re(λ) 를 얻기 위해서, 막두께 d 를 조정해도 된다.
Re(λ) = d × Δn (λ) (III)
[식 중, Re(λ) 는, 파장 λnm 에 있어서의 위상차값을 나타내고, d 는 막두께를 나타내고, Δn (λ) 는 파장 λnm 에 있어서의 복굴절률을 나타낸다.]
지지 기재에 대한 도포 방법으로는, 예를 들어 압출 코팅법, 다이렉트 그라비아 코팅법, 리버스 그라비아 코팅법, CAP 코팅법 또는 다이 코팅법 등을 들 수 있다. 또 딥 코터, 바 코터 또는 스핀 코터 등의 코터를 사용하여 도포하는 방법 등을 들 수 있다.
상기 지지 기재로는, 예를 들어 유리, 플라스틱 시트, 플라스틱 필름 또는 투광성 필름을 들 수 있다. 또한 상기 투광성 필름으로는, 예를 들어 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 노르보르넨계 폴리머 등의 폴리올레핀 필름, 폴리비닐알코올 필름, 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름, 폴리메타크릴산에스테르 필름, 폴리아크릴산에스테르 필름, 셀룰로오스에스테르 필름, 폴리에틸렌나프탈레이트 필름, 폴리카보네이트 필름, 폴리술폰 필름, 폴리에테르술폰 필름, 폴리에테르 케톤 필름, 폴리페닐렌술파이드 필름 또는 폴리페닐렌옥사이드 필름 등을 들 수 있다.
예를 들어 본 발명의 위상차 필름의 첩합 공정, 운반 공정, 보관 공정 등, 위상차 필름의 강도가 필요한 공정에서도, 지지 기재를 사용함으로써, 깨짐 등 없이 용이하게 취급할 수 있다.
또, 지지 기재 상에 배향막을 형성하여, 배향막 상에 본 발명의 액정 조성물을 포함하는 혼합 용액을 도공하는 것이 바람직하다. 배향막은, 본 발명의 액정 조성물 등을 함유하는 혼합 용액의 도공시에, 혼합 용액에 용해되지 않는 용제 내성을 갖는 것, 용제의 제거나 액정의 배향의 가열 처리시에 내열성을 갖는 것, 러빙시에 마찰 등에 의한 박리 등이 일어나지 않는 것이 바람직하고, 폴리머 또는 폴리머를 함유하는 조성물로 이루어지는 것이 바람직하다.
상기 폴리머로는, 예를 들어 분자 내에 아미드 결합을 갖는 폴리아미드나 젤라틴류, 분자 내에 이미드 결합을 갖는 폴리이미드 및 그 가수 분해물인 폴리아믹산, 폴리비닐알코올, 알킬 변성 폴리비닐알코올, 폴리아크릴아미드, 폴리옥사졸, 폴리에틸렌이민, 폴리스티렌, 폴리비닐피롤리돈, 폴리아크릴산 또는 폴리아크릴산에스테르류 등의 폴리머를 들 수 있다. 이들 폴리머는, 단독으로 사용해도 되고, 2 종류 이상 혼합하거나, 공중합체로 하거나 해도 된다. 이들 폴리머는, 탈수나 탈아민 등에 의한 중축합이나, 라디칼 중합, 아니온 중합, 카티온 중합 등의 연쇄 중합, 배위 중합이나 개환 중합 등으로 용이하게 얻을 수 있다.
또 이들 폴리머는, 용제에 용해시켜, 도포할 수 있다. 용제는, 특별히 제한은 없지만, 구체적으로는, 물；메탄올, 에탄올, 에틸렌글리콜, 이소프로필알코올, 프로필렌글리콜, 메틸셀로솔브, 부틸셀로솔브 또는 프로필렌글리콜모노메틸에테르 등의 알코올；아세트산에틸, 아세트산부틸, 에틸렌글리콜메틸에테르아세테이트, 감마-부티로락톤, 프로필렌글리콜메틸에테르아세테이트 또는 락트산에틸 등의 에스테르계 용제；아세톤, 메틸에틸케톤, 시클로펜타논, 시클로헥사논, 메틸아밀케톤 또는 메틸이소부틸케톤 등의 케톤계 용제；펜탄, 헥산 또는 헵탄 등의 비염소계 지방족 탄화수소 용제；톨루엔 또는 자일렌 등의 비염소계 방향족 탄화수소 용제, 아세토니트릴 등의 니트릴계 용제；테트라하이드로푸란 또는 디메톡시에탄 등의 에테르계 용제；클로로포름 또는 클로로벤젠 등의 염소계 용제；등을 들 수 있다. 이들 유기 용제는, 단독으로 사용해도 되고, 복수를 조합하여 사용해도 된다.
또 배향막을 형성하기 위해서, 시판되는 배향막 재료를 그대로 사용해도 된다. 시판되는 배향막 재료로는, 산에바 (등록상표, 닛산 화학 공업 주식회사 제조) 또는 옵토머 (등록상표, JSR 주식회사 제조) 등을 들 수 있다.
이와 같은 배향막을 사용하면, 연신에 의한 굴절률 제어를 실시할 필요가 없기 때문에, 복굴절의 면내 편차가 작아진다. 그러므로, 지지 기재 상에 플랫 패널 표시 장치 (FPD) 의 대형화에도 대응 가능한 큰 위상차 필름을 제공할 수 있다는 효과를 발휘한다.
상기 지지 기재 상에 배향막을 형성하는 방법으로는, 예를 들어 상기 지지 기재 상에, 시판되는 배향막 재료나 배향막의 재료가 되는 화합물을 용액으로 하여 도포하고, 그 후, 어닐함으로써, 상기 지지 기재 상에 배향막을 형성할 수 있다.
이와 같이 하여 얻어지는 배향막의 두께는, 예를 들어 10 ㎚ ∼ 10000 ㎚ 이며, 바람직하게는 10 ㎚ ∼ 1000 ㎚ 이다. 상기 범위로 하면, 본 발명의 화합물 (A) 및 중합성 액정 화합물 (B) 등을 그 배향막 상에서 원하는 각도로 배향시킬 수 있다.
또 이들 배향막은, 필요에 따라 러빙 또는 편광 UV 조사를 실시할 수 있다. 배향막을 형성시킴으로써 본 발명의 화합물 (A) 및 중합성 액정 화합물 (B) 등을 원하는 방향으로 배향시킬 수 있다.
배향막을 러빙하는 방법으로는, 예를 들어 러빙포가 휘감겨, 회전하고 있는 러빙 롤을, 스테이지에 실려 반송되고 있는 배향막에 접촉시키는 방법을 이용할 수 있다.
상기와 같이, 미중합 필름을 조제하는 공정에서는, 임의의 지지 기재 상에 적층한 배향막 상에 미중합 필름 (액정층) 을 적층해도 된다. 이 경우, 액정 셀을 제조하고, 그 액정 셀에 액정 조성물을 주입하는 방법에 비해, 생산 코스트를 저감할 수 있다. 또한 롤 필름에서의 필름의 생산이 가능하다.
용제의 건조는, 중합을 진행시킴과 함께 실시해도 되지만, 중합 전에 대부분의 용제를 건조시키는 것이, 성막성의 점에서 바람직하다.
용제의 건조 방법으로는, 예를 들어 자연 건조, 통풍 건조, 감압 건조 등의 방법을 들 수 있다. 구체적인 가열 온도로는, 10 ∼ 120 ℃ 인 것이 바람직하고, 25 ∼ 80 ℃ 인 것이 더욱 바람직하다. 또 가열 시간으로는, 10 초간 ∼ 60 분간인 것이 바람직하고, 30 초간 ∼ 30 분간인 것이 보다 바람직하다. 가열 온도 및 가열 시간이 상기 범위 내이면, 상기 지지 기재로서, 내열성이 반드시 충분하지는 않은 지지 기재를 사용할 수 있다.
다음으로, 상기에서 얻어진 미중합 필름을 중합하고, 경화시킨다. 이에 따라 본 발명의 화합물 (A) 및 중합성 액정 화합물 (B) 의 배향성이 고정화된 필름, 즉 본 발명의 액정 조성물의 중합체 (경화물) 를 포함하는 필름 (이하, 「중합 필름」 이라고도 한다) 이 된다.
미중합 필름을 중합시키는 방법은, 본 발명의 화합물 (A) 및 중합성 액정 화합물 (B) 의 종류에 따라, 결정되는 것이다. 중합성 액정 화합물 (B) 및 경우에 따라 본 발명의 화합물 (A) 에 포함되는 중합성기가 광 중합성이면 광 중합, 그 중합성기가 열 중합성이면 열 중합에 의해, 상기 미중합 필름을 중합시킬 수 있다. 본 발명에서는, 특히 광 중합에 의해 미중합 필름을 중합시키는 것이 바람직하다. 광 중합에 의하면 저온에서 미중합 필름을 중합시킬 수 있으므로, 지지 기재의 내열성의 선택폭이 넓어진다. 또 공업적으로도 제조가 용이해진다. 또 성막성의 관점에서도 광 중합이 바람직하다. 광 중합은, 미중합 필름에 가시광, 자외광 또는 레이저 광을 조사함으로써 실시한다. 취급성의 관점에서, 자외광이 특히 바람직한 광 조사는, 중합성 액정 화합물 (B) 가 액정상을 취하는 온도로 가온하면서 실시해도 된다. 이 때, 마스킹 등에 의해 중합 필름을 패터닝 할 수도 있다.
또한 본 발명의 위상차 필름은, 폴리머를 연신함으로써 위상차를 부여하는 연신 필름과 비교하여, 박막이다.
본 발명의 위상차 필름의 제조 방법에 있어서, 또한, 지지 기재를 박리하는 공정을 포함하고 있어도 된다. 이와 같은 구성으로 함으로써, 얻어지는 적층체는, 배향막과 위상차 필름으로 이루어지는 필름이 된다. 또 상기 지지 기재를 박리하는 공정에 더하여, 배향막을 박리하는 공정을 추가로 포함하고 있어도 된다. 이와 같은 구성으로 함으로써, 위상차 필름을 얻을 수 있다.
실시예
이하, 실시예 및 비교예를 들어 본 발명을 구체적으로 설명하는데, 본 발명은 이들 실시예에 한정되는 것은 아니다. 또한, 예 중의 「％」 및 「부」 는, 특기하지 않는 한, 질량％ 및 질량부를 의미한다.
[HLPC 측정]
HPLC 측정은, 화합물 (A) 및 중합성 액정 화합물 (B) 에서 유래하는 피크를 분리할 수 있는 한 어느 조건으로 실시해도 된다. HPLC 측정 조건의 일례를 이하에 나타낸다.
(측정 조건)
측정 장치：HPLC LC-10AT (시마즈 제작소 제조)
칼럼：L-Column ODS (내경 3.0 ㎜, 길이 150 ㎜, 입경 3 ㎛)
온도：40 ℃
이동상 A：0.1 ％ (v/v)-TFA/물
이동상 B：0.1 ％ (v/v)-TFA/아세토니트릴
그래디언트：0 분 70 ％-B
30 분 100 ％-B
60 분 100 ％-B
60.01 분 70 ％-B
75 분 70 ％-B
유속：0.5 ㎖/분
주입량：5 ㎕
검출 파장：254 ㎚
[실시예 1：식 (A-1) 및 (A-2) 로 나타내는 화합물의 제조]
하기 식 (A-1) 로 나타내는 화합물 (이하, 「화합물 (A-1)」 이라고 한다) 과 하기 식 (A-2) 로 나타내는 화합물 (이하, 「화합물 (A-2)」 라고 한다) 을 이하의 스킴에 따라 합성하였다.
[화학식 25]
Figure pat00027
＜공정 (a)＞
딤로스 냉각관 및 온도계를 설치한 100 ㎖-4 구 플라스크 내를 질소 분위기로 하고, 특허문헌 (일본 공개특허공보 2010-31223) 을 참고로 합성한 화합물 (E-1-1) 8.06 g, 특허문헌 (일본 공개특허공보 2011-207765) 을 참고로 합성한 화합물 (D-1-1) 4.00 g, 디메틸아미노피리딘 (이하, 「DMAP」 라고 약기한다. 와코 쥰야쿠 공업 (주) 제조) 0.02 g, 디부틸하이드록시톨루엔 (이하, 「BHT」 라고 약기한다. 와코 쥰야쿠 공업 (주) 제조) 0.20 g, 및 클로로포름 (칸토 화학 (주) 제조) 40 g 을 첨가하고, 혼합한 후, 디이소프로필카르보디이미드 (이하, 「IPC」 라고 약기한다. 와코 쥰야쿠 공업 (주) 제조) 2.11 g 을 적하 깔때기를 사용하여 추가로 첨가하고, 이들을 0 ℃ 에서 하룻밤 반응시켰다. 반응 종료 후, 여과에 의해 불용 성분을 제거하였다. 얻어진 클로로포름 용액으로부터 로터리 이배퍼레이터를 사용하여 용매를 증류 제거하고, 증류 제거 후의 용액에 아세토니트릴 (와코 쥰야쿠 공업 (주) 제조) 20 g 을 적하하고, 고체를 석출시켰다. 계속해서, 석출한 고체를 여과에 의해 취출하고, 20 g 의 아세토니트릴로 3 회 세정한 후, 30 ℃ 에서 감압 건조시킴으로써, 조성물 (A') 를 6.46 g 얻었다. 얻어진 조성물 (A') 를 HPLC 측정으로 분석한 결과, 그 조성물은, 상기 화합물 (A-1), (A-2) 및 (B-1) 을 포함하고 있고, 상기 화합물 (A-1) 및 화합물 (A-2) 의 합계량은 화합물 (A-1), (A-2) 및 (B-1) 의 합계 100 ％ 에 대하여 20.21 ％ 였다.
또한, 상기와 같이 조성물 (A') 를 상기 HPLC 측정 조건으로 분석한 결과, 유지 시간 19.4 분에 화합물 1 이 얻어지고, 유지 시간 20.9 분에 화합물 2 가 얻어졌다. 화합물 1 및 2 의 각각의 분자량을 LC/MS 분석으로 측정한 결과, 어느 분자량도 711.83 이었다. 이 결과 및 상기 반응 스킴으로부터, 조성물 (A') 에 포함되는 화합물 1 및 2 가 상기의 화합물 (A-1) 및 (A-2) 인 것을 동정 (同定) 하였다.
[제조예 1：식 (B-1) 로 나타내는 화합물의 제조]
하기 식 (B-1) 로 나타내는 중합성 액정 화합물 (이하, 「화합물 (B-1)」 이라고 한다) 을 이하의 스킴에 따라 합성하였다.
[화학식 26]
Figure pat00028
＜공정 (b)＞
딤로스 냉각관 및 온도계를 설치한 100 ㎖-4 구 플라스크 내를 질소 분위기로 하고, 특허문헌 (일본 공개특허공보 2010-31223) 을 참고로 합성한 화합물 (E-2-1) 11.02 g, 특허문헌 (일본 공개특허공보 2011-207765) 을 참고로 합성한 화합물 (D-2-1) 4.00 g, DMAP (와코 쥰야쿠 공업 (주) 제조) 0.02 g, BHT (와코 쥰야쿠 공업 (주) 제조) 0.20 g, 및 클로로포름 (칸토 화학 (주) 제조) 58 g 을 첨가하고, 혼합한 후, IPC (와코 쥰야쿠 공업 (주) 제조) 4.05 g 을 적하 깔때기를 사용하여 추가로 첨가하고, 이들을 0 ℃ 에서 하룻밤 반응시켰다. 반응 종료 후, 여과에 의해 불용 성분을 제거하였다. 얻어진 클로로포름 용액을, 그 용액에 포함되는 클로로포름의 중량에 대하여 3 배 중량의 아세토니트릴 (와코 쥰야쿠 공업 (주) 제조) 에 적하하고, 고체를 석출시켰다. 계속해서, 석출한 고체를 여과에 의해 취출하고, 20 g 의 아세토니트릴로 3 회 세정한 후, 30 ℃ 에서 감압 건조시킴으로써, 화합물 (B-1) 을 11.43 g 얻었다. 화합물 (B-1) 의 수율은, 화합물 (D-2-1) 기준으로 80 ％ 였다. 또한, 중합성 액정 화합물 (B-1) 의 극대 흡수 파장 (λmax) 은 352 ㎚ 였다.
Figure pat00029
[실시예 2：액정 조성물 (1) 의 제조]
실시예 1 에서 얻은 화합물 (A-1), (A-2) 및 (B-1) 을 포함하는 조성물 (A') 5 ㎎ 과, 상기 제조예 1 에서 얻은 중합성 액정 화합물 (B-1) 995 ㎎ 을 혼합하고, 액정 조성물 (1) 을 얻었다. 얻어진 액정 조성물 (1) 을 사용하여 상기의 측정 조건으로 HPLC 분석을 실시하고, 화합물 (A-1), (A-2) 및 (B-1) 의 합계량에 기초하는 화합물 (A-1) 및 (A-2) 의 면적 백분율값을 측정하였다.
[실시예 3 및 4：액정 조성물 (2) 및 (3) 의 제조]
실시예 1 에서 얻은 조성물 (A') 와 중합성 액정 화합물 (B-1) 의 혼합 비율을 표 1 에 나타내는 바와 같이 각각 변경한 것 이외에는 실시예 2 와 동일하게 하여, 액정 조성물 (2) 및 (3) 을 얻었다.
[비교예 1]
제조예 1 에서 얻은 중합성 액정 화합물 (B-1) 을 비교예 1 로 하였다.
[비교예 2]
실시예 1 에서 얻은 조성물 (A') 를 비교예 2 로 하였다.
[네마틱 상전이 온도의 측정]
상기 실시예 2 의 조성물을, 바이알관에 1000 mg 칭량하여 담고, 또한 2 g 의 클로로포름을 첨가하고 용해시켰다. 얻어진 용액을, 러빙 처리를 실시한 PVA 배향막이 부착된 유리 기판에 도포하고, 건조시켰다. 이 기판을 냉각 가열 장치 (재팬 하이테크사 제조 「LNP94-2」) 에 얹어 실온으로부터 180 ℃ 까지 승온시킨 후, 실온까지 냉각시켰다. 온도 변화시의 모습을 편광 현미경 (LEXT, 올림퍼스사 제조) 으로 관찰하고, 네마틱상이 되는 온도를 측정하고, 네마틱 상전이 온도로 하였다. 실시예 3 및 4, 비교예 1 및 2 의 조성물에 대해서도 동일하게 하여, 네마틱 상전이 온도를 측정하였다. 얻어진 결과를 표 1 에 나타낸다.
Figure pat00030
[광 배향막 형성용 조성물의 조제]
하기 성분을 혼합하고, 얻어진 혼합물을 80 ℃ 에서 1 시간 교반함으로써, 광 배향막 형성용 조성물을 얻었다.
다음의 식으로 나타내는 광 배향성 재료 (5 부)：
[화학식 27]
Figure pat00031
용제 (95 부)：시클로펜타논
[광학 필름 (위상차 필름) 의 제조]
이하와 같이 광학 필름을 제조하였다. 시클로올레핀 폴리머 필름 (COP) (ZF-14, 닛폰 제온 주식회사 제조) 을, 코로나 처리 장치 (AGF-B10, 카스가 전기 주식회사 제조) 를 사용하여 출력 0.3 ㎾, 처리 속도 3 m/분의 조건으로 1 회 처리하였다. 코로나 처리를 실시한 표면에, 상기 광 배향막 형성용 조성물을 바 코터 도포하고, 80 ℃ 에서 1 분간 건조시키고, 편광 UV 조사 장치 (SPOT CURE SP-7；우시오 전기 주식회사 제조) 를 사용하여, 100 mJ/㎠ 의 적산 광량으로 편광 UV 노광을 실시하였다. 얻어진 배향막의 막두께를 레이저 현미경 (LEXT, 올림퍼스 주식회사 제조) 으로 측정한 결과, 100 ㎚ 였다.
계속해서, 바이알관에, 실시예 2 에서 얻은 액정 조성물 (1) 을 투입하고, 표 2 에 기재된 조성에 따라 중합 개시제, 레벨링제, 중합 금지제 및 용제를 투입하고, 카루셀을 사용하여 80 ℃ 에서 30 분 교반하고, 액정 조성물 함유 혼합 용액 (1) 을 얻었다.
또한, 표 2 에 나타내는 중합 개시제, 레벨링제 및 중합 금지제의 양은, 실시예 2 에서 얻은 액정 조성물 (1) 100 질량부에 대한 투입량이다. 또, 용제의 배합량은, 액정 조성물 (1) 의 질량％ 가 용액 전체량에 대하여 13 ％ 가 되도록 설정하였다.
Figure pat00032
중합 개시제：2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)부탄-1-온 (이르가큐어 369；BASF 재팬사 제조)
레벨링제：폴리아크릴레이트 화합물 (BYK-361N；빅크케미 재팬 제조)
중합 금지제：BHT (와코 쥰야쿠 공업 (주) 제조)
용제：N-메틸피롤리돈 (NMP；칸토 화학 (주) 제조)
얻어진 액정 조성물 함유 혼합 용액 (1) 을, 배향막 상에 바 코터를 사용하여 도포하고, 120 ℃ 에서 1 분간 건조시킨 후, 고압 수은 램프 (유니큐어 VB-15201BY-A, 우시오 전기 주식회사 제조) 를 사용하여, 자외선을 조사 (질소 분위기하, 파장：365 ㎚, 파장 365 ㎚ 에 있어서의 적산 광량：1000 mJ/㎠) 함으로써 광학 필름 (1) 을 제조하였다.
또, 상기 액정 조성물 (1) 대신에 실시예 3, 4, 비교예 1 및 2 의 조성물을 각각 사용한 것 이외에는 상기와 동일하게 하여, 광학 필름 (2) ∼ (5) 를 제조하였다.
[배향 결함의 평가]
얻어진 광학 필름을 사방 10 ㎝ 로 잘라내고, 편광 현미경 (LEXT, 올림퍼스사 제조) 을 사용하여 육안으로 화면 상의 배향 결함의 개수를 확인하고, 다음의 평가 기준에 따라 평가하였다. 결과를 표 3 에 나타낸다.
(배향 결함의 평가 기준)
1：전체면에 배향 결함이 발생 (＞ 100 개)
2：11 ∼ 100 개
3：1 ∼ 10 개
4：결함 없음
[광학 특성 Re(450)/Re(550) 의 측정]
상기에서 제조한 광학 필름을 측정 시료로 하고, 측정기 (오지 계측 기기사 제조 「KOBRA-WR」) 를 사용하여, 파장 450 ㎚ 및 파장 550 ㎚ 의 광에 대한 정면 위상차값을 측정하고, Re(450)/Re(550) 을 산출하였다. 얻어진 결과를 표 3 에 나타낸다.
Figure pat00033
표 1 에 나타내는 바와 같이, 실시예 2 ∼ 4 의 본 발명의 액정 조성물은, 실시예 1 에서 얻은 화합물 (A) 를 포함함으로써 저감된 네마틱 상전이 온도를 갖고 있었다. 또한, 실시예 2 ∼ 4 의 액정 조성물로부터 얻은 광학 필름 (1) ∼ (3) 에 있어서는, 표 3 에 나타내는 바와 같이, 배향 결함이 보이지 않았다. 또, Re(450)/Re(550) 의 값은 식 (1)：0.80 ≤ Re(450)/Re(550) ＜ 1.00 을 만족하는 것이고, 실시예 1 의 화합물을 첨가하는 것에 의한 역파장 분산성에 대한 악영향은 보이지 않았다.
한편, 실시예 1 에서 얻은 화합물 (A) 를 포함하지 않는 비교예 1 의 조성물에서는, 얻어지는 광학 필름에 배향 결함이 보이지 않기는 하지만, 조성물의 네마틱 상전이 온도가 높았다. 또, 실시예 1 에서 얻은 화합물 (A) 를 소정량 초과하여 포함하는 비교예 2 의 조성물에서는, 네마틱 상전이 온도의 저하는 보이기는 하지만, 얻어지는 광학 필름에 배향 결함이 발생하였다. 이들 결과로부터, 본 발명의 화합물을 소정의 양으로 첨가함으로써, 배향 결함이 억제됨과 함께, 액정 화합물의 배향을 지나치게 방해하는 일 없이 상전이 온도를 저하시킬 수 있고, 역파장 분산성을 유지한 상태로 필름 성막시의 건조 온도를 내릴 수 있는 것이 확인되었다.

Claims (15)

  1. 식 (A) 로 나타내는 화합물.
    [화학식 1]
    Figure pat00034

    [식 (A) 중,
    B1, E1 및 D1 은 각각 독립적으로, 단결합 또는 2 가의 연결기를 나타내고,
    A1 및 G1 은 각각 독립적으로, 탄소수 6 ∼ 20 의 2 가의 방향족 탄화수소기 또는 탄소수 3 ∼ 16 의 2 가의 지환식 탄화수소기를 나타내고, 그 방향족 탄화수소기 또는 그 지환식 탄화수소기에 포함되는 수소 원자는 각각 독립적으로, 할로겐 원자, -R1, -OR1, 시아노기 또는 니트로기로 치환되어 있어도 되고, R1 은 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬기를 나타내고, 그 알킬기에 포함되는 수소 원자는 각각 독립적으로 불소 원자로 치환되어 있어도 되고, 그 방향족 탄화수소기 또는 그 지환식 탄화수소기에 포함되는 탄소 원자는 각각 독립적으로, 산소 원자, 황 원자 또는 질소 원자로 치환되어 있어도 되고,
    F1 은 탄소수 1 ∼ 17 의 알칸디일기를 나타내고, 그 알칸디일기에 포함되는 수소 원자는 각각 독립적으로, 할로겐 원자, -R1 또는 -OR1 로 치환되어 있어도 되고, R1 은 상기와 동일한 의미이고, 그 알칸디일기에 포함되는 -CH2- 는 각각 독립적으로, -O-, -S-, -Si- 또는 -CO- 로 치환되어 있어도 되고,
    m1 및 n1 은 각각 독립적으로, 0 ∼ 3 의 정수를 나타내고,
    Ar1 은 치환기를 갖고 있어도 되는 2 가의 방향족기이고, 그 방향족기 중에, 질소 원자, 산소 원자 및 황 원자로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 개의 원자를 포함하고,
    P1 은 수소 원자 또는 중합성기를 나타내고,
    X 는 -OH, -SH, -C(=O)OH, -C(=S)OH, -NR2H, 또는 -(CH2)p-OH 를 나타내고, R2 는 수소 원자 또는 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬기를 나타내고, p 는 0 ∼ 3 의 정수를 나타낸다.]
  2. 제 1 항에 있어서,
    G1 은 트랜스-시클로헥산-1,4-디일기인 화합물.
  3. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    D1 은 식 (C) 로 나타내는 기인 화합물.
    [화학식 2]
    Figure pat00035

    [식 (C) 중, * 는 G1 과의 연결부를 나타내고, ** 는 Ar1 과의 연결부를 나타내고, q 는 0 ∼ 3 의 정수를 나타낸다.]
  4. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
    X 는 -OH 또는 -(CH2)p-OH 인 화합물.
  5. 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서,
    m1 및 n1 은 1 인 화합물.
  6. 제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서,
    B1, E1 및 D1 은 각각 독립적으로, 단결합, -CR3R4-, -(CH2)r-, -O-, -S-, -CO-O-, -O-CO-, -CO-O-(CH2)r-, -(CH2)r-O-CO-, -O-CO-O-, -C(=S)-O-, -O-C(=S)-, -O-C(=S)-O-, -CO-NR3-, -NR3-CO-, -O-CH2-, -CH2-O-, -S-CH2- 또는 -CH2-S- 이고, R3 및 R4 는 각각 독립적으로, 수소 원자, 불소 원자 또는 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬기를 나타내고, r 은 1 ∼ 4 의 정수를 나타내는 화합물.
  7. 적어도 1 종의 제 1 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 기재된 식 (A) 로 나타내는 화합물, 및, 적어도 1 종의 식 (B) 로 나타내는 중합성 액정 화합물을 포함하는 액정 조성물로서, 식 (A) 로 나타내는 화합물의 액체 크로마토그래피로 측정한 면적 백분율값은, 그 액정 조성물에 포함되는 식 (A) 로 나타내는 화합물 및 식 (B) 로 나타내는 중합성 액정 화합물의 면적값의 합계에 기초하여 18 ％ 이하인 액정 조성물.
    [화학식 3]
    Figure pat00036

    [식 (B) 중,
    B2, B3, E2, E3, D2 및 D3 은 각각 독립적으로, 단결합 또는 2 가의 연결기를 나타내고,
    A2, A3, G2 및 G3 은 각각 독립적으로, 탄소수 6 ∼ 20 의 2 가의 방향족 탄화수소기 또는 탄소수 3 ∼ 16 의 2 가의 지환식 탄화수소기를 나타내고, 그 방향족 탄화수소기 또는 그 지환식 탄화수소기에 포함되는 수소 원자는 각각 독립적으로, 할로겐 원자, -R1, -OR1, 시아노기 또는 니트로기로 치환되어 있어도 되고, R1 은 상기와 동일한 의미이고, 그 방향족 탄화수소기 또는 그 지환식 탄화수소기에 포함되는 탄소 원자는 각각 독립적으로, 산소 원자, 황 원자 또는 질소 원자로 치환되어 있어도 되고,
    F2 및 F3 은 각각 독립적으로, 탄소수 1 ∼ 17 의 알칸디일기를 나타내고, 그 알칸디일기에 포함되는 수소 원자는, 각각 독립적으로, 할로겐 원자, -R1 또는 -OR1 로 치환되어 있어도 되고, R1 은 상기와 동일한 의미이고, 그 알칸디일기에 포함되는 -CH2- 는 각각 독립적으로, -O-, -S-, -Si- 또는 -CO- 로 치환되어 있어도 되고,
    m2, m3, n2 및 n3 은 각각 독립적으로, 0 ∼ 3 의 정수를 나타내고,
    Ar2 는 치환기를 갖고 있어도 되는 2 가의 방향족기이고, 그 방향족기 중에, 질소 원자, 산소 원자 및 황 원자로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 개의 원자를 포함하고,
    P2 및 P3 은 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 중합성기를 나타내고, P2 및 P3 중 적어도 1 개는 중합성기이다.]
  8. 제 7 항에 있어서,
    식 (A) 및 식 (B) 중, B1 과 B2 및 B3 이 동일하고, E1 과 E2 및 E3 이 동일하고, D1 과 D2 및 D3 이 동일하고, A1 과 A2 및 A3 이 동일하고, G1 과 G2 및 G3 이 동일하고, F1 과 F2 및 F3 이 동일하고, m1 과 m2 및 m3 이 동일하고, n1 과 n2 및 n3 이 동일하고, Ar1 과 Ar2 가 동일하고, P1 과 P2 및 P3 이 동일한 액정 조성물.
  9. 제 7 항 또는 제 8 항에 있어서,
    적어도 1 종의 광 중합 개시제를 추가로 포함하는 액정 조성물.
  10. 제 7 항 내지 제 9 항 중 어느 한 항에 기재된 액정 조성물의 경화물을 포함하는 층.
  11. 제 10 항에 기재된 층을 적어도 갖는 광학 필름.
  12. 제 11 항에 있어서,
    위상차 필름인 광학 필름.
  13. 제 12 항에 있어서,
    다음의 식 (I) 을 만족하는 광학 필름.
    0.80 ≤ Re(450)/Re(550) ＜ 1.00 (I)
    [식 중, Re(λ) 는 파장 λ ㎚ 의 광에 대한 정면 위상차값을 나타낸다.]
  14. 제 11 항 내지 제 13 항 중 어느 한 항에 기재된 광학 필름을 포함하는 편광판.
  15. 제 14 항에 기재된 편광판을 포함하는 광학 디스플레이.
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Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2020026804A1 (ja) * 2018-08-02 2020-02-06 住友化学株式会社 光学フィルム
JP2020024357A (ja) * 2018-08-02 2020-02-13 住友化学株式会社 光学フィルム

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20110040824A (ko) * 2008-06-13 2011-04-20 오사카 유키가가쿠고교 가부시키가이샤 광학 이방성 박막 재료 및 광학 이방성 박막
JP2011207765A (ja) 2009-03-16 2011-10-20 Sumitomo Chemical Co Ltd 化合物、光学フィルム及び光学フィルムの製造方法
JP2013071956A (ja) * 2011-09-27 2013-04-22 Sumitomo Chemical Co Ltd 組成物及び光学フィルム
US20150277006A1 (en) * 2014-03-31 2015-10-01 Fujifilm Corporation Optical film, polarizing plate, and method for producing optical film
WO2016015803A1 (de) * 2014-07-28 2016-02-04 Merck Patent Gmbh Flüssigkristalline medien mit homöotroper ausrichtung
KR20160074483A (ko) * 2013-10-22 2016-06-28 제이엔씨 주식회사 액정 조성물 및 액정 표시 소자
WO2016114347A1 (ja) * 2015-01-16 2016-07-21 Dic株式会社 重合性組成物及びそれを用いた光学異方体

Family Cites Families (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4003487B2 (ja) 2002-03-05 2007-11-07 チッソ株式会社 ビシクロ［３．１．０］ヘキサン誘導体
JP4617838B2 (ja) 2003-12-25 2011-01-26 チッソ株式会社 液晶性（メタ）アクリレート誘導体およびそれらを含む組成物
JP4440817B2 (ja) 2005-03-31 2010-03-24 富士フイルム株式会社 光学異方性膜、輝度向上フィルムおよび積層光学フィルムならびにこれらを用いた画像表示装置。
JP2007084664A (ja) 2005-09-21 2007-04-05 Fujifilm Corp セルロース化合物フィルム、偏光板、液晶表示装置
JP2007279705A (ja) 2006-03-13 2007-10-25 Fujifilm Corp 半透過型液晶表示装置
CN101094424A (zh) 2006-06-21 2007-12-26 胜华科技股份有限公司 立体影像显示装置
JP5401032B2 (ja) 2006-12-15 2014-01-29 富士フイルム株式会社 光学異方性膜、輝度向上フィルム、位相差板および液晶表示装置
EP2183337B1 (en) 2007-09-03 2011-07-20 Merck Patent GmbH Fluorene derivatives
JP5391682B2 (ja) * 2007-12-28 2014-01-15 住友化学株式会社 化合物、光学フィルム及び光学フィルムの製造方法
CN101838264B (zh) * 2009-03-16 2014-12-03 住友化学株式会社 化合物、光学膜和光学膜的制造方法
JP2012077056A (ja) * 2010-10-06 2012-04-19 Sumitomo Chemical Co Ltd ジヒドロキシベンゼン化合物の製造方法
JP6019591B2 (ja) * 2012-01-23 2016-11-02 住友化学株式会社 組成物及び光学フィルム
WO2014155531A1 (ja) 2013-03-26 2014-10-02 Dic株式会社 液晶組成物およびそれを使用した液晶表示素子
JP6648438B2 (ja) 2014-08-27 2020-02-14 Jnc株式会社 液晶性化合物、液晶組成物およびその重合体
KR102477376B1 (ko) 2014-12-04 2022-12-13 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤 조성물 및 광학 필름 그리고 조성물 및 광학 필름의 제조 방법
WO2016114211A1 (ja) 2015-01-16 2016-07-21 Dic株式会社 重合性化合物及び光学異方体
US10336660B2 (en) 2016-06-29 2019-07-02 Rhodia Operations Stabilized DCD and/or alkyl thiophosphoric triamide solvent systems and use in agricultural applications
JP6191754B1 (ja) * 2016-11-22 2017-09-06 日本ゼオン株式会社 重合性化合物、混合物、重合性液晶組成物、高分子、光学フィルム、光学異方体、偏光板、表示装置および反射防止フィルム

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20110040824A (ko) * 2008-06-13 2011-04-20 오사카 유키가가쿠고교 가부시키가이샤 광학 이방성 박막 재료 및 광학 이방성 박막
JP2011207765A (ja) 2009-03-16 2011-10-20 Sumitomo Chemical Co Ltd 化合物、光学フィルム及び光学フィルムの製造方法
JP2013071956A (ja) * 2011-09-27 2013-04-22 Sumitomo Chemical Co Ltd 組成物及び光学フィルム
KR20160074483A (ko) * 2013-10-22 2016-06-28 제이엔씨 주식회사 액정 조성물 및 액정 표시 소자
US20150277006A1 (en) * 2014-03-31 2015-10-01 Fujifilm Corporation Optical film, polarizing plate, and method for producing optical film
WO2016015803A1 (de) * 2014-07-28 2016-02-04 Merck Patent Gmbh Flüssigkristalline medien mit homöotroper ausrichtung
WO2016114347A1 (ja) * 2015-01-16 2016-07-21 Dic株式会社 重合性組成物及びそれを用いた光学異方体

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
액정 편람, 액정 편람 편집 위원회편, 2000년, 제 312 페이지

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Publication number Publication date
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