KR20180047802A - 롤투롤 원자층 증착장치 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 하나의 챔버 내에 필름을 양 방향으로 이동시킬 수 있는 한 쌍의 롤러를 설치하고 필름을 일측으로 완전 이동시키면서 원자층 증착공정의 각 공정을 순차적으로 수행하여 장비의 구성을 간소화하고 클리닝 주기를 길게 하며, 생산성을 극대화할 수 있는 롤투롤 원자층 증착장치에 관한 것으로서, 본 발명에 따른 롤투롤 원자층 증착장치는, 일측이 개방된 상태로 공정 공간을 형성하는 챔버 본체; 수평 이동 가능하게 설치되며, 상기 챔버 본체와 결합하여 개방된 면을 밀폐하여 공정 공간을 완성하는 챔버 플레이트; 상기 챔버 플레이트 양측에 이격되어 한 쌍으로 설치되며, 원자층 증착 공정이 진행될 필름이 권취되는 제1, 2 필름 권취롤러; 상기 챔버 플레이트에 설치되며, 상기 공정 공간으로 소스 가스, 퍼지 가스, 반응 가스를 소스 가스, 퍼지 가스, 반응 가스 및 퍼지 가스 순으로 공급하는 가스 공급부; 상기 챔버 본체 중 상기 챔버 플레이트의 맞은 편에 설치되며, 상기 가스 공급부에 의하여 공급되는 가스를 배출하는 배기부; 상기 챔버 플레이트의 외부에 설치되며, 상기 제1, 2 필름 권취 롤러를 제1 필름 권취롤러에서 제2 필름 권취 롤러 방향으로 또는 제2 필름 권취 롤러에서 제1 필름 권취 롤러 방향으로 이동시키도록 상기 제1, 2 필름 권취 롤러를 각각 회전시키는 롤러 회전부; 상기 제1 필름 권취 롤러에서 제2 필름 권취 롤러 방향 또는 반대 방향으로 상기 필름의 일측 말단이 이동을 시작하여 1차 이동이 완료될 때까지 상기 가스 공급부에서 소스 가스가 공급되고, 1차 이동과 반대 방향으로 필름이 2차 이동하는 동안 상기 공정 공간 내부에 과량의 퍼지 가스를 공급 및 배기를 통하여 1차 퍼징하고, 상기 필름이 1차 이동과 동일한 방향으로 이동을 시작하여 3차 이동이 완료될 때까지 반응 가스가 공급되고, 3차 이동과 반대 방향으로 필름이 4차 이동하는 동안 상기 공정 공간 내부에 과량의 퍼지 가스를 공급 및 배기를 통하여 2차 퍼징하도록 상기 가스 공급부, 배기부 및 제1, 2 필름 권취 롤러를 제어하는 제어부;를 포함한다.

Description

롤투롤 원자층 증착장치{A ROLL-TO-ROLL TYPE APPARATUS FOR DEPOSITING A ATOMIC LAYER}
본 발명은 롤투롤 원자층 증착장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 하나의 챔버 내에 필름을 양 방향으로 이동시킬 수 있는 한 쌍의 롤러를 설치하고 필름을 일측으로 완전 이동시키면서 원자층 증착공정의 각 공정을 순차적으로 수행하여 장비의 구성을 간소화하고 클리닝 주기를 길게 하며, 생산성을 극대화할 수 있는 롤투롤 원자층 증착장치에 관한 것이다.
다양한 박막 증착 기술 중에서 원자층 증착(ALD: Atomic Layer Deposition)의 경우에는 기판 표면에서 전구체들의 화학적인 반응에 의해서 박막이 형성되므로, 넓은 기판에 뛰어난 두께 균일도를 가지는 나노 박막의 증착이 가능하다. 또한 원자층 증착은 복잡한 형상의 3차원 구조에서도 우수한 conformal한 박막의 증착이 가능하므로, 나노급 반도체 소자, 대면적 디스플레이 및 태양전지소자, 복잡한 구조의 나노급 광전자 소자 등의 제조에 필수적인 증착 기술로 주목받고 있다.
그런데 이러한 원자층 증착은 우수한 단차 피복성과 고품질의 박막의 성장이 가능하다는 장점을 갖는 반면, 낮은 생산성이라는 한계를 가지고 있다. 원자층 증착의 낮은 생산성이라는 한계를 극복하기 위해 사이클릭(Cyclic) CVD, PEALD(Plasma Enhanced ALD), 배치타입(Batch Type) ALD, 롤투롤(Roll-to-Roll) ALD 등 많은 연구가 진행되고 있다.
이러한 많은 연구들 중 롤투롤 ALD는 롤에서 롤로 이동되는 증착 대상물(통상적으로 예를 들면, 연성의 기판)의 안정적인 이동을 통하여 연성 기판 위에 연속적인 공정을 통하여 박막을 성장시킴으로써 대량의 박막을 성장시키는 방법이다.
일반적으로 ALD의 성장되는 박막의 두께는 공정이 진행되는 사이클(cycle)에 따라 두께가 결정된다. 사이클은 주기라는 뜻 그대로 ALD 공정이 주기적으로 반복되는 것을 일컫는 말이다. ALD는 주기적으로 소스/퍼지/반응/퍼지(source/purge/reactant/purge)의 4 공정이 주기적으로 반복되는 이러한 4공정을 1주기의 사이클이라고 한다. 이러한 사이클의 주기를 컨트롤하는 방법은 시간적인 측면과 공간적인 측면으로 나눠진다.
시간분할적인 ALD 시스템은 동일한 공간 영역 하에 펄스(pulse) 시간과 퍼지(purge) 시간의 조정을 통하여 시간적인 분할로써 사이클을 컨트롤하여 성장되는 박막의 두께를 조절할 수 있다. 시간분할적인 ALD 시스템은 대부분의 보통의 ALD 시스템에서 사용되어 진다.
반면에 공간분할적인 ALD 시스템은 소스와 반응 그리고 퍼지의 공정이 일어나는 공간을 분할하여 주기적으로 공간의 이동에 의해 사이클이 컨트롤 되어 박막의 두께를 조절하는 방법을 말한다. 이러한 공간분할적인 ALD 시스템은 보통 롤투롤 ALD 시스템에서 사용되어 진다. 그 이유는 롤투롤 ALD 시스템의 특성 상(이동되는 연성 기판의 동일한 이동도가 요구됨) 시간적인 분할을 통하여 사이클을 컨트롤하는데 다소 어려움이 존재한다. 이 때문에 펄스 공정의 공간과 퍼지 공정의 공간을 분할함(unit)으로써 사이클을 컨트롤하는 방법을 사용하게 된다.
도 1은 종래 기술의 일 실시 형태에 따른 롤투롤 방식의 원자층 증착 장비를 개략적으로 도시한 구성도이다. 도 1에 도시한 바와 같이, 종래 기술의 롤투롤 방식의 원자층 증착 장비는, 구획 수단(20)에 의해 구획된 공정 공간(30) 내에 복수의 회전 롤러 부재(40)가 양측에 일렬로 배열되고, 공정 공간(30) 외부에 설치되는 권출 롤러(50)로부터 출발한 필름(F)이 공정 공간(30) 내로 진입하여 상기 다수개의 회전 롤러 부재(40)를 타고 이동하면서 시간분할 방식으로 원자층 증착 공정이 이루어지고, 권취 롤러(60)에 감겨서 배출되는 방식을 가진다. 이때 상기 권출 롤러(50)와 권취 롤러(60)가 설치되는 공간은 공정 공간(30)과 구획되며, 퍼지 가스로 채워진다.
그런데 이러한 구조의 롤투롤 원자층 증착 장비에서는 도 1에 도시된 바와 같이, 복수의 회전 롤러 부재(40)가 증착 공간(30)에 그대로 노출되는 구조이므로, 이 보조 롤러 부재 표면에 박막이 증착되고 이렇게 증착된 박막은 파티클 발생 원인이 되어 장치의 실용화에 치명적인 문제점을 발생시킨다.
본 발명이 해결하고자 하는 기술적 과제는 하나의 챔버 내에 필름을 양 방향으로 이동시킬 수 있는 한 쌍의 롤러를 설치하고 필름을 일측으로 완전 이동시키면서 원자층 증착공정의 각 공정을 순차적으로 수행하여 장비의 구성을 간소화하고 클리닝 주기를 길게 하며, 생산성을 극대화할 수 있는 롤투롤 원자층 증착장치를 제공하는 것이다.
전술한 기술적 과제를 해결하기 위한 본 발명에 따른 롤투롤 원자층 증착장치는, 일측이 개방된 상태로 공정 공간을 형성하는 챔버 본체; 수평 이동 가능하게 설치되며, 상기 챔버 본체와 결합하여 개방된 면을 밀폐하여 공정 공간을 완성하는 챔버 플레이트; 상기 챔버 플레이트 양측에 이격되어 한 쌍으로 설치되며, 원자층 증착 공정이 진행될 필름이 권취되는 제1, 2 필름 권취롤러; 상기 챔버 플레이트에 설치되며, 상기 공정 공간으로 소스 가스, 퍼지 가스, 반응 가스를 소스 가스, 퍼지 가스, 반응 가스 및 퍼지 가스 순으로 공급하는 가스 공급부; 상기 챔버 본체 중 상기 챔버 플레이트의 맞은 편에 설치되며, 상기 가스 공급부에 의하여 공급되는 가스를 배출하는 배기부; 상기 챔버 플레이트의 외부에 설치되며, 상기 제1, 2 필름 권취 롤러를 제1 필름 권취롤러에서 제2 필름 권취 롤러 방향으로 또는 제2 필름 권취 롤러에서 제1 필름 권취 롤러 방향으로 이동시키도록 상기 제1, 2 필름 권취 롤러를 각각 회전시키는 롤러 회전부; 상기 제1 필름 권취 롤러에서 제2 필름 권취 롤러 방향 또는 반대 방향으로 상기 필름의 일측 말단이 이동을 시작하여 1차 이동이 완료될 때까지 상기 가스 공급부에서 소스 가스가 공급되고, 1차 이동과 반대 방향으로 필름이 2차 이동하는 동안 상기 공정 공간 내부에 과량의 퍼지 가스를 공급 및 배기를 통하여 1차 퍼징하고, 상기 필름이 1차 이동과 동일한 방향으로 이동을 시작하여 3차 이동이 완료될 때까지 반응 가스가 공급되고, 3차 이동과 반대 방향으로 필름이 4차 이동하는 동안 상기 공정 공간 내부에 과량의 퍼지 가스를 공급 및 배기를 통하여 2차 퍼징하도록 상기 가스 공급부, 배기부 및 제1, 2 필름 권취 롤러를 제어하는 제어부;를 포함한다.
그리고 본 발명에서 상기 제1, 2 필름 권취 롤러는, 상하 방향으로 다수 쌍으로 설치되는 것이 바람직하다.
또한 본 발명에 따른 롤투롤 원자층 증착장치에서, 다수개의 제1, 2 필름 권취 롤러는 필름 이동 방향이 층별로 엇갈린 상태로 설치 및 이동 제어되는 것이 바람직하다.
또한 본 발명에서 상기 가스 공급부는, 상기 제1, 2 권치 롤러 사이의 공간에 가스를 공급하는 제1 샤워헤드; 상기 제1 권취 롤러와 챔버 본체 사이의 공간에 가스를 공급하는 제2 샤워헤드; 상기 제2 권취 롤러와 챔버 본체 사이의 공간에 가스를 공급하는 제3 샤워헤드; 상기 제1, 2, 3 샤워헤드에 소스 가스, 퍼지가스 및 반응 가스를 각각 공급하는 가스 공급 라인;을 포함하는 것이 바람직하다.
또한 본 발명에 따른 롤투롤 원자층 증착 장치에는, 상기 챔버 플레이트 하부에 결합되어 설치되며, 상기 챔버 플레이트를 필름 교환위치와 공정 위치 사이로 반복하여 수평 이동시키는 플레이트 수평 이동부;가 더 구비되는 것이 바람직하다.
또한 본 발명에서 상기 플레이트 수평 이동부는, 상기 챔버 플레이트에 결합되어 상기 챔버 플레이트를 지지하는 이동 블럭; 상기 이동 블럭의 하부와 맞물려 설치되며, 상기 이동 블럭의 수평 이동 경로를 안내하는 안내 레일; 상기 이동 블럭에 결합되어 설치되며, 상기 이동 블럭을 수평 이동 동력을 제공하는 동력 제공부;를 포함하는 것이 바람직하다.
본 발명에 따르면 하나의 챔버 내에 필름을 양 방향으로 이동시킬 수 있는 한 쌍의 롤러를 설치하고 필름을 일측으로 완전 이동시키면서 원자층 증착공정의 각 공정을 순차적으로 수행하므로 전체 장비의 구성이 매우 간단해지고, 장비 운용이 용이해진다.
그리고 본 발명에 따른 롤투롤 원자층 증착장치에서는 공정 공간 내에서 소스 가스와 반응 가스가 만나지 않기 때문에 챔버 본체, 롤러 등의 표면에 파우더 등이 발생할 가능성이 없어서 장비에 대한 클리닝 주기가 매우 길어지고, 생산성이 극대화되는 장점도 있다.
도 1은 종래의 롤투롤 원자층 증착 장치의 구성을 도시하는 도면이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 롤투롤 원자층 증착장치의 구성을 도시하는 도면이다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 챔버 플레이트에 필름이 설치되는 구조를 도시하는 도면이다.
도 4, 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 롤투롤 원자층 증착 장치에서 챔버 플레이트가 열린 상태를 도시하는 도면들이다.
도 6은 본 발명의 다른 실시예에 따른 제1, 2 권취 롤러의 구조를 도시하는 도면이다.
도 7은 본 발명의 일 실시예에 따른 롤투롤 원자층 증착장치에서 원자층 증착 공정이 이루어지는 과정을 도시하는 도면들이다.
이하에서는 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 구체적인 실시예들을 상세하게 설명한다.
본 실시예에 따른 롤투롤 원자층 증착장치(100)는, 도 2에 도시된 바와 같이, 챔버 본체(110), 챔버 플레이트(120), 제1, 2 필름 권취 롤러(130, 140), 가스 공급부(150), 배기부(160), 롤러 회전부(170) 및 제어부(도면에 미도시)를 포함하여 구성될 수 있다.
먼저 상기 챔버 본체(110)는 도 2에 도시된 바와 같이, 일측이 개방된 상태로 내부에 일정한 공정 공간을 형성하는 구성요소이다. 따라서 상기 챔버 본체(110)는 원자층 증착 공정을 위한 공정 공간을 제공함과 아울러 다른 구성요소들이 설치될 수 있는 공간도 제동한다. 이때 상기 챔버 본체(110)는 공정 시간 단축과 가스 소모량의 최소화를 위하여 도 3에 도시된 바와 같이, 필름(F)의 설치와 이동에 필요한 최소한의 폭을 가지도록 형성되는 것이 바람직하다.
다음으로 상기 챔버 플레이트(120)는 도 2에 도시된 바와 같이, 수평 이동 가능하게 설치되며, 상기 챔버 본체(110)와 결합하여 챔버 본체(110)의 개방된 면을 밀폐하여 공정 공간(P)을 완성하는 구성요소이다. 본 실시예에서 이렇게 챔버 플레이트(120)를 챔버 본체(110)와 분리가능하게 구성하는 것은, 필름(F)의 교체 및 공급을 용이하게 함과 아울러 장비의 유지 보수 작업이 용이하도록 하기 위함이다.
다음으로 상기 제1, 2 필름 권취 롤러(130, 140)는 도 2에 도시된 바와 같이, 상기 챔버 플레이트(120) 양측에 이격되어 한 쌍으로 설치되며, 원자층 증착 공정이 진행될 필름(F)을 상기 챔버 본체(110) 방향으로 권취하는 구성요소이다. 이때 상기 제1, 2 필름 권취롤러(130, 140)는 상기 챔버 본체(110)의 마주보는 양측벽에 각각 최대한 밀착되어 설치되며, 필름(F)을 정방향 또는 역방향으로 이동시킬 수 있도록 회전가능하게 상기 챔버 플레이트(120)에 설치된다.
이렇게 제1, 2 필름 권취 롤러(10, 140)는 동일한 높이에 한 쌍으로 설치될 수도 있지만, 도 6에 도시된 바와 같이, 하나의 챔버 플레이트(120)에 다수 쌍의 제1, 2 필름 권취롤러(130a ~ 130c, 140a ~ 140c)들이 상하 방향으로 설치되고, 한 번에 다수개의 필름(F)에 대하여 원자층 증착 공정을 수행하는 구조를 가질 수도 있다.
다수 쌍의 제1, 2 필름 권취 롤러(130a ~ 130c, 140a ~ 140c)가 설치되는 경우에는 도 6에 도시된 바와 같이, 다수개의 필름(F) 이동 방향이 층별로 엇갈린 상태로 설치 및 이동되도록 제어되는 것이 공간을 효율적으로 활용할 수 있어서 바람직하다.
다음으로 상기 가스 공급부(150)는 도 2에 도시된 바와 같이, 상기 챔버 플레이트(120)에 설치되며, 상기 공정 공간(P)으로 소스 가스, 퍼지 가스, 반응 가스를 소스 가스, 퍼지 가스, 반응 가스 및 퍼지 가스 순으로 공급하는 구성요소이다. 이를 위해 본 실시예에서는 상기 가스 공급부(150)를 구체적으로 도 2에 도시된 바와 같이, 제1, 2, 3 샤워헤드(152, 154, 156)와 가스 공급 라인(158)으로 구성할 수 있다.
여기에서 상기 제1 샤워헤드(152)는 상기 제1, 2 권취 롤러(130, 140) 사이의 공간에 가스를 공급하는 샤워헤드(shower head)이며, 상기 제2 샤워헤드(154)는 상기 제1 권취 롤러(130)와 챔버 본체(110) 사이의 공간에 가스를 공급하는 샤워헤드이고, 상기 제3 샤워헤드(156)는 상기 제2 권취 롤러(140)와 챔버 본체(110) 사이의 공간에 가스를 공급하는 샤워헤드이다.
이렇게 3개의 샤워헤드(152, 154, 156)로 나뉘어 구성되면, 상기 챔버 본체(110)의 모든 부분에 대한 원자층 증착공정을 위한 가스들이 공급되는 구조를 가지므로, 제1, 2 권취롤러(130, 140) 사이의 공간 뿐만아니라, 제1, 2 권취롤러(130, 140)에 감기는 과정에서도 증착이 이루어져서 생산성이 향상되는 장점이 있다.
그리고 상기 가스 공급 라인(158)은 상기 제1, 2, 3 샤워헤드(152, 154, 156)에 소스 가스, 퍼지가스 및 반응 가스를 각각 공급하는 구성요소이며, 상기 가스 공급 라인(158)은 도 2에 도시된 바와 같이, 상기 챔버 플레이트(120)를 경유하여 상기 공정 공간(P) 외부에 설치되는 캐니스터들과 연결되어 각 가스들을 공급한다.
다음으로 상기 배기부(160)는 도 2에 도시된 바와 같이, 상기 챔버 본체(110) 중 상기 챔버 플레이트(120)의 맞은 편에 설치되며, 상기 가스 공급부(150)에 의하여 공급되는 가스를 배출하는 구성요소이다. 상기 배기부(160)는 상기 공정 공간 내에서 가스의 흐름이 일정하게 유지되도록 하기 위하여 도 2에 도시된 바와 같이, 상기 챔버 본체(110)의 후면 전체에 걸쳐서 설치되는 것이 바람직하다.
다음으로 상기 롤러 회전부(170)는 도 2에 도시된 바와 같이, 상기 챔버 플레이트(120)의 외부에 설치되며, 상기 제1, 2 권취 롤러(130, 140)를 제1 권취 롤러(130)에서 제2 권취 롤러(140) 방향으로 또는 제2 권취 롤러(140)에서 제1 권취 롤러(130) 방향으로 이동시키도록 상기 제1, 2 권취 롤러(130, 140)를 각각 회전시키는 구성요소이다. 따라서 상기 롤러 회전부(170)는 상기 제1, 2 권취 롤러(130, 140) 중에서 상기 챔버 플레이트(120)를 관통하여 외부로 노출된 말단에 결합되어 설치되며, 상기 권취 롤러(130, 140)와 챔버 플레이트(120)가 접촉되는 부분에는 밀봉을 유지하기 위하여 미케니컬 씰(176) 등의 밀봉수단이 더 구비된다.
그리고 본 실시예에 따른 롤투롤 원자층 증착장치(100)에는 플레이트 수평 이동부(180)가 더 구비되는 것이 바람직하다. 상기 플레이트 수평 이동부(180)는 도 4, 5에 도시된 바와 같이, 상기 챔버 플레이트(120) 하부에 결합되어 설치되며, 상기 챔버 플레이트(120)를 필름 교환위치(M1)와 공정 위치(M2) 사이로 반복하여 수평 이동시키는 구성요소이다. 이 플레이트 수평 이동부(180)에 의하여 상기 챔버 플레이트(120) 및 이에 설치되어 있는 제1, 2 권취 롤러(130, 140) 등이 필름 교환위치(M1)와 공정 위치(M2) 사이를 왕복하며 공정이 반복적으로 진행되는 것이다.
이를 위하여 본 실시예에서 상기 수평 이동부(180)는 구체적으로 도 4, 5에 도시된 바와 같이, 이동 블럭(182), 안내 레일(184) 및 동력 제공부(186)를 포함하여 구성될 수 있다. 먼저 상기 이동 블럭(182)은 도 2, 3에 도시된 바와 같이, 상기 챔버 플레이트(120)에 결합되어 상기 챔버 플레이트(120) 전체를 지지하는 구성요소이다. 그리고 상기 안내 레일(184)은 도 2 내지 4에 도시된 바와 같이, 상기 이동 블럭(182) 하부와 결합되어 설치되며, 상기 챔버 플레이트(120)의 필름 교환 위치(M1)와 공정 위치(M2) 사이의 수평 이동 경로를 안내하는 구성요소이다.
다음으로 상기 동력 제공부(186)는 도 3, 4에 도시된 바와 같이, 상기 이동 블럭(182)에 결합되어 설치되며, 상기 이동 블럭(182)의 수평 이동 동력을 제공하는 구성요소이다.
물론 상기 수평 이동부(180)는 이와 다른 다양한 구조로 변화될 수 있을 것이다.
다음으로 상기 제어부는 상기 가스 공급부(150), 배기부(160) 및 제1, 2 권취 롤러(130, 140) 등의 각 구성요소들을 제어하여 상기 필름(F)에 대한 원자층 증착 공정을 수행하는 것이다.
구체적으로 상기 제어부(도면에 미도시)는 도 7의 (a)에 도시된 바와 같이, 상기 제1 필름 권취 롤러(130)에서 제2 필름 권취 롤러(140) 방향 또는 반대 방향으로 상기 필름(F)의 일측 말단이 이동을 시작하여 1차 이동이 완료될 때까지 상기 가스 공급부(150)에서 소스 가스가 공급되도록 각 구성요소들을 제어한다.
그리고 나서 도 7의 (b)에 도시된 바와 같이, 1차 이동과 반대 방향으로 필름(F)이 2차 이동하도록 제어하고 그 동안 상기 공정 공간(P) 내부에 과량의 퍼지 가스를 공급 및 배기를 통하여 1차 퍼징 과정이 진행되도록 각 구성요소들을 제어한다.
다음으로 도 7의 (c)에 도시된 바와 같이, 상기 필름(F)이 1차 이동과 동일한 방향으로 이동을 시작하여 3차 이동이 완료될 때까지 반응 가스가 공급되도록 각 구성요소들을 제어한다.
마지막으로 도 7의 (d)에 도시된 바와 같이, 3차 이동과 반대 방향으로 필름(F)이 4차 이동하도록 제어하고, 그 동안 상기 공정 공간(P) 내부에 과량의 퍼지 가스를 공급 및 배기를 통하여 2차 퍼징 과정이 진행되도록 상기 가스 공급부(150), 배기부(160) 및 제1, 2 필름 권취 롤러(130, 140)를 제어하여 한 싸이클의 원자층 증착 공정이 완료되도록 제어한다.
100 : 본 발명의 실시예에 따른 롤투롤 원자층 증착장치
110 : 챔버 본체 120 : 챔버 플레이트
130 : 제1 필름 권취 롤러 140 : 제2 필름 권취 롤러
150 : 가스 공급부 160 : 배기부
170 : 롤러 회전부 180 : 수평 이동부
F : 필름 P : 공정 공간

Claims (6)

  1. 일측이 개방된 상태로 공정 공간을 형성하는 챔버 본체;
    수평 이동 가능하게 설치되며, 상기 챔버 본체와 결합하여 개방된 면을 밀폐하여 공정 공간을 완성하는 챔버 플레이트;
    상기 챔버 플레이트 양측에 이격되어 한 쌍으로 설치되며, 원자층 증착 공정이 진행될 필름이 권취되는 제1, 2 필름 권취롤러;
    상기 챔버 플레이트에 설치되며, 상기 공정 공간으로 소스 가스, 퍼지 가스, 반응 가스를 소스 가스, 퍼지 가스, 반응 가스 및 퍼지 가스 순으로 공급하는 가스 공급부;
    상기 챔버 본체 중 상기 챔버 플레이트의 맞은 편에 설치되며, 상기 가스 공급부에 의하여 공급되는 가스를 배출하는 배기부;
    상기 챔버 플레이트의 외부에 설치되며, 상기 제1, 2 필름 권취 롤러를 제1 필름 권취롤러에서 제2 필름 권취 롤러 방향으로 또는 제2 필름 권취 롤러에서 제1 필름 권취 롤러 방향으로 이동시키도록 상기 제1, 2 필름 권취 롤러를 각각 회전시키는 롤러 회전부;
    상기 제1 필름 권취 롤러에서 제2 필름 권취 롤러 방향 또는 반대 방향으로 상기 필름의 일측 말단이 이동을 시작하여 1차 이동이 완료될 때까지 상기 가스 공급부에서 소스 가스가 공급되고, 1차 이동과 반대 방향으로 필름이 2차 이동하는 동안 상기 공정 공간 내부에 과량의 퍼지 가스를 공급 및 배기를 통하여 1차 퍼징하고, 상기 필름이 1차 이동과 동일한 방향으로 이동을 시작하여 3차 이동이 완료될 때까지 반응 가스가 공급되고, 3차 이동과 반대 방향으로 필름이 4차 이동하는 동안 상기 공정 공간 내부에 과량의 퍼지 가스를 공급 및 배기를 통하여 2차 퍼징하도록 상기 가스 공급부, 배기부 및 제1, 2 필름 권취 롤러를 제어하는 제어부;를 포함하는 롤투롤 원자층 증착장치.
  2. 제1항에 있어서, 제1, 2 필름 권취 롤러는,
    상하 방향으로 다수 쌍으로 설치되는 것을 특징으로 하는 롤투롤 원자층 증착장치.
  3. 제2항에 있어서,
    다수개의 제1, 2 필름 권취 롤러는 필름 이동 방향이 층별로 엇갈린 상태로 설치 및 이동 제어되는 것을 특징으로 하는 롤투롤 원자층 증착 장치.
  4. 제1항에 있어서, 상기 가스 공급부는,
    상기 제1, 2 권치 롤러 사이의 공간에 가스를 공급하는 제1 샤워헤드;
    상기 제1 권취 롤러와 챔버 본체 사이의 공간에 가스를 공급하는 제2 샤워헤드;
    상기 제2 권취 롤러와 챔버 본체 사이의 공간에 가스를 공급하는 제3 샤워헤드;
    상기 제1, 2, 3 샤워헤드에 소스 가스, 퍼지가스 및 반응 가스를 각각 공급하는 가스 공급 라인;을 포함하는 것을 특징으로 하는 롤투롤 원자층 증착 장치.
  5. 제1항에 있어서,
    상기 챔버 플레이트 하부에 결합되어 설치되며, 상기 챔버 플레이트를 필름 교환위치와 공정 위치 사이로 반복하여 수평 이동시키는 플레이트 수평 이동부;가 더 구비되는 것을 특징으로 하는 롤투롤 원자층 증착장치.
  6. 제5항에 있어서, 상기 플레이트 수평 이동부는,
    상기 챔버 플레이트에 결합되어 상기 챔버 플레이트를 지지하는 이동 블럭;
    상기 이동 블럭의 하부와 맞물려 설치되며, 상기 이동 블럭의 수평 이동 경로를 안내하는 안내 레일;
    상기 이동 블럭에 결합되어 설치되며, 상기 이동 블럭을 수평 이동 동력을 제공하는 동력 제공부;를 포함하는 것을 특징으로 하는 롤투롤 원자층 증착장치.
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