KR20180045971A - Apparatus for fabricating multi-scale pattern by one step polarizing and method thereof - Google Patents

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임태빈
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한국생산기술연구원
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Abstract

The present invention relates to an apparatus and a method for forming a multi-pattern of a heterogeneous period through one-step polarized light irradiation. According to the present invention, an optical beam having a predetermined wavelength (λ) emitted from a holography light source (e.g., laser) is changed to a desired polarized light, and two polarized lights having different intensities split by a polarization beam splitter (PBS) are corrected to a polarized light having a phase delay amount within a range of 0 to 2 π with a fixed half wave plate (HWP) and a fixed polarizing plate (POL) so as to be emitted on a photoreactive layer formed on a substrate at a predetermined irradiation angle and for a predetermined irradiation time in a one-step manner, such that optical coherence, photo-isomerization, and photo-fluidization are induced to form a multi-pattern lattice structure of a heterogeneous period having different aspect ratios and shapes on the photoreactive layer. According to the present invention, optical coherence, photo-isomerization, and photo-fluidization are induced by emitting two polarized lights having different intensities on the photoreactive layer formed on the substrate at a predetermined irradiation angle and for a predetermined irradiation time in a one-step manner, such that a multi-pattern lattice structure of various shapes of a heterogeneous period having a higher aspect ratio may be formed within a relatively shorter time compared to conventional methods for manufacturing a surface structure on a substrate, which require light irradiation repeated several times, for example at least twice, on a photoreactive layer on a substrate.

Description

원스텝 편광조사를 통한 이종주기의 다중패턴형성장치 및 그 방법{Apparatus for fabricating multi-scale pattern by one step polarizing and method thereof}BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention [0001] The present invention relates to a multi-pattern forming apparatus and a multi-pattern forming apparatus,

본 발명은 OLED, 액정 표시 소자, 반도체 소자, 홀로그램 메모리 디바이스, 광도파로에 적용 가능한 나노 구조체, 광-전 변환 소자용 빛 가둠 나노 구조체 등의 패터닝에 적용 가능한 다중패턴형성장치에 관한 것이며, 더욱 상세히는 원스텝 편광조사를 통한 이종주기의 다중패턴형성장치 및 그 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a multi-pattern forming apparatus applicable to patterning an OLED, a liquid crystal display element, a semiconductor element, a hologram memory device, a nanostructure applicable to an optical waveguide, a light confining nanostructure for a photo- To an apparatus and method for forming a heterogeneous multi-pattern through one-step polarized irradiation.

특허문헌 1은 편광 펄스 UV를 이용한 광배향 방법에 관한 것으로서, 액정 패널 제조용 기판상의 광반응층에 편광 펄스 UV를 조사하여 광배향층을 형성하되, 편광 펄스 UV의 플래시 전압을 1kV~4kV로 한정하는 기술을 게시하고 있다(청구항1, 도 1 참조).Patent Document 1 is directed to a photo alignment method using a polarizing pulse UV, in which a photo-reactive layer on a substrate for manufacturing a liquid crystal panel is irradiated with a polarizing pulse UV to form a photo alignment layer, and the flash voltage of the polarizing pulse UV is limited to 1 kV to 4 kV (Claim 1, Fig. 1).

특허문헌 2는 다중간섭현상을 이용한 미세패턴의 형성장치 및 방법에 관한 것으로서, 레이저소스로부터의 출사광을 회절격자를 이용하여 평행광으로 반사시켜 기판 상의 포토레지스터에 미세패턴을 형성하되, 기판의 위치를 이동시키면서 회절격자로부터의 반사광을 미러를 통해 다중간섭신호의 형태로 노광시켜 미세패턴의 형성횟수를 조절하는 기술을 게시하고 있다(청구항 1 및 도 3 참조).Patent Literature 2 relates to an apparatus and method for forming a fine pattern using a multiple interference phenomenon, in which reflected light from a laser source is reflected by parallel light using a diffraction grating to form a fine pattern in a photoresist on a substrate, Discloses a technique for adjusting the number of times a fine pattern is formed by exposing reflected light from a diffraction grating through a mirror in the form of multiple interference signals while moving a position (see claims 1 and 3).

상기와 같이 기판상에 광배향층 혹은 미세패턴을 형성하는 광반응층을 형성하는 물질로 아조벤젠 고분자를 주로 사용한다.As described above, the azobenzene polymer is mainly used as a material for forming the photo-reactive layer for forming the photo-alignment layer or the fine pattern on the substrate.

상기한 아조벤젠 고분자는 특정 파장의 편광이 흡수되면 기판상에서 시스트랜스 이성질체(cis-trans isomer) 간의 반복적인 구조변화를 일으키는 광이성화(photo-isomerization)를 나타내고, 광이성화로부터 야기되는 부피의 반복적인 팽창과 수축은 아조벤젠 고분자의 실질적인 물리적 이동(예컨대, 빛이 센 곳에서 어두운 곳으로 이동)을 가능하게 하는 두 가지 기저원인, 즉 점성 유동성(viscous fluidity)과 기저력(driving force)를 발생시키는 광유동화(photo-fluidization)를 나타내고, 광유동화는 빛의 세기, 광 조사시간, 편광, 기반고분자의 분자량, 광학 빔(레이저)의 각도와 종류 등의 변수에 의해 결정된다.The above-mentioned azobenzene polymer exhibits photo-isomerization, which causes repeated structural changes between cis-trans isomers on a substrate when a polarized light of a specific wavelength is absorbed, and a repetitive expansion of the volume caused by photoisomerization And shrinkage are two fundamental causes that enable substantial physical migration of azobenzene polymers (e.g., moving from light to dark place), namely, optical fluidization that generates viscous fluidity and driving force (photo-fluidization), and the optical fluidity is determined by variables such as light intensity, light irradiation time, polarization, molecular weight of the base polymer, angle and kind of the optical beam (laser).

이처럼, 기판상에서 광유동화에 의해 일어나는 물질 이동은 아조벤젠 고분자의 표면에 구조를 조직화하기 위해 많이 응용되고, 대표적으로 빛의 간섭무늬로부터 발생하는 빛 세기 구배(light intensity gradient)를 통해 형성되는 1차원 표면양각격자(SRG; surface relief grating) 구조와 시스트랜스 이성질체 간의 반복적인 구조변화 과정에서 편광의 방향으로 작용하는 내부 압력에서 기인하여 편광의 방향에 수직으로 생성되는 버드나무격자(willow grating) 구조가 있다.As described above, mass transfer caused by optical fluidization on the substrate is widely applied to structure the structure on the surface of the azobenzene polymer. Typically, the one-dimensional surface formed through the light intensity gradient generated from the interference fringes of light There is a willow grating structure that is generated perpendicular to the direction of polarization due to the internal pressure acting in the direction of polarization in the course of repeated structural changes between the SRG (surface relief grating) structure and the cyst isomer .

한편, 상기한 바와 같은 1차원 표면양각격자(SRG; surface relief grating) 구조 혹은 버드나무격자(willow grating) 구조를 기판상에서 제작하는 과정을 여러 번 적절히 반복하면 직교 구조, 6각 구조 등의 다차원 구조를 제작할 수 있고, 특히, 도 1의 (c)에 나타낸 바와 같이 서로 다른 두 구조를 융합시킨 이종주기 직교구조를 제작할 수 있다.On the other hand, if the process of manufacturing a one-dimensional surface relief grating (SRG) structure or a willow grating structure as described above on a substrate is properly repeated several times, a multi-dimensional structure such as an orthogonal structure or a hexagonal structure In particular, as shown in Fig. 1 (c), a heterogeneous periodic orthogonal structure in which two different structures are fused can be produced.

하지만, 기존의 기판상 표면 구조 제작 방법들은 기판상의 광반응층에 여러 차례, 예컨대 적어도 2회 이상 반복하는 광 조사가 필요하기 때문에, 광 조사의 횟수가 많아지는 만큼 원하는 구조 제작을 위한 광 조사 시간이 비례해서 많이 소요되고 광 에너지의 소비도 역시 증가하는 단점이 있다.However, conventional methods for fabricating surface structures on a substrate require light irradiation repeated several times, for example, at least twice, on the photoreactive layer on the substrate. Therefore, as the number of times of light irradiation increases, And the consumption of light energy also increases.

KRKR 10-139221910-1392219 B1B1 KRKR 10-088565610-0885656 B1B1

본 발명은 상기한 바와 같은 종래의 문제점을 해결하기 위한 것으로, 본 발명의 목적은 홀로그래피 광원(예컨대, 레이저)에서 방출되는 정해진 파장(λ)의 광학 빔을 원하는 편광으로 변경 후 편광빔스플리터(PBS)에 의해 분광된 세기가 다른 두 개의 편광을 고정형 반파장판(HWP)과 고정형 편광판(POL;Polarizer))으로 위상 지연량이 0에서 2π 내의 범위를 가지는 편광으로 보정한 후 미리 정해진 조사시간과 조사각도로 기판 위에 형성된 광반응층에 원스텝으로 조사하여 광간섭(optical coherence)과 광이성화, 광유동화를 유도함으로써 광반응층에 종횡비와 형상이 다른 이종주기의 다중패턴 격자구조를 형성하는 원스텝 편광조사를 통한 이종주기의 다중패턴형성장치 및 그 방법을 제공하는 것이다.SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a polarizing beam splitter (PBS) having an optical beam of a predetermined wavelength (?) Emitted from a holographic light source (HWP) and a fixed polarizing plate (POL)) to a polarized light having a phase delay amount ranging from 0 to 2 < [pi] > (1) step-by-step irradiation of the photoreactive layer formed on the substrate to induce optical coherence, optical isomerization, and optical fluidization, thereby forming a multi-pattern lattice structure having a different aspect ratio and shape in the photoreactive layer And a method therefor.

상기한 바와 같은 본 발명의 목적을 달성하기 위하여, 본 발명에 따른 원스텝 편광조사를 통한 이종주기의 다중패턴형성장치는, 홀로그래피 광원과; 광원에서 방출되는 정해진 파장(λ)의 광학 빔을 원하는 편광(polarized light)으로 변경하는 회전형 반파장판(HWP); 상기 반파장판(HWP)에 의해 변경된 편광을 세기가 다른 두 개의 편광으로 분광하는 편광빔스플리터(PBS); 상기 편광빔스플리터(PBS)에 의해 분광된 각각의 편광을 위상 지연량이 0에서 2π 내의 범위를 가지는 편광으로 보정하도록 순차적으로 배치된 고정형 반파장판(HWP)과 고정형 편광판(POL); 상기 보정된 두 개의 편광을 미리 정해진 조사시간 동안 미리 정해진 조사각도로 반사시키는 미러; 및 상기 미러에 반사되어 원스텝으로 조사되는 세기가 다른 두 개의 편광에 의해 광간섭(optical coherence)과 광이성화(photo-isomerization), 광유동화(photo-fluidization)를 야기하여 종횡비와 형상이 다른 이종주기의 다중패턴 격자구조를 형성하는 광반응층이 형성되어 있는 기판;을 포함하여 구성되는 것을 특징으로 한다.In order to accomplish the above object, according to the present invention, there is provided an apparatus for forming a heterogeneous periodic multi-pattern through one-step polarized light irradiation, comprising: a holographic light source; A rotating half wave plate (HWP) for changing an optical beam of a predetermined wavelength (?) Emitted from a light source to a desired polarized light; A polarizing beam splitter (PBS) that splits the polarized light changed by the half wave plate (HWP) into two polarized lights having different intensities; A fixed half wave plate (HWP) and a stationary polarizing plate (POL) sequentially arranged so as to correct each polarized light split by the polarizing beam splitter (PBS) to polarized light having a phase delay amount within a range of 0 to 2 pi; A mirror for reflecting the two polarized lights at a predetermined irradiation angle for a predetermined irradiation time; And optical coherence, photo-isomerization, and photo-fluidization by two polarizations of different intensities reflected by the mirror and irradiated in a one-step manner, And a substrate on which a photoreactive layer forming a multi-pattern lattice structure is formed.

상기한 바와 같은 본 발명의 다른 목적을 달성하기 위하여, 본 발명에 따른 원스텝 편광조사를 통한 이종주기의 다중패턴형성방법은, 홀로그래피 광원에서 방출되는 정해진 파장(λ)의 광학 빔을 회전형 반파장판(HWP)에 의해 원하는 편광(polarized light)으로 변경한 다음, 편광빔스플리터(PBS)에 의해 세기가 다른 두 개의 편광으로 분광한 후 각각의 분광된 편광을 고정형 반파장판과 고정형 편광판(POL)에 의해 위상 지연량이 0에서 2π 내의 범위를 가지는 편광으로 보정하고 미러에 반사시켜 미리 정해진 조사시간과 조사각도로 기판 위에 형성된 광반응층에 원스텝으로 조사함으로써 광간섭(optical coherence)과 광이성화(photo-isomerization), 광유동화(photo-fluidization)을 야기하여 상기 광반응층에 종횡비와 형상이 다른 이종주기의 다중패턴 격자구조를 형성하는 것을 특징으로 한다.According to another aspect of the present invention, there is provided a method of forming a heterogeneous periodic multi-pattern by irradiating a single step polarized light according to the present invention, comprising the steps of rotating an optical beam of a predetermined wavelength (?) Emitted from a holographic light source, (HWP), and then the polarized light is split into two polarizations having different intensities by a polarizing beam splitter (PBS). Then, the respective polarized polarized lights are converted into a fixed half wave plate and a fixed polarizer POL The optical coherence and photo-isomerization are performed by correcting the phase delay amount by the polarized light having a range of 0 to 2 pi and irradiating the photoreactive layer formed on the substrate with the irradiation time and the irradiation angle at a predetermined irradiation time, isomerization and photo-fluidization to form a multi-pattern lattice structure having a different aspect ratio and shape in the photoreactive layer It characterized.

본 발명은 세기가 다른 두 개의 편광을 미리 정해진 조사시간과 조사각도로 기판 위에 형성된 광반응층에 원스텝으로 조사하여 광간섭과 광이성화, 광유동화를 유도하기 때문에, 기판상의 광반응층에 여러 차례, 예컨대 적어도 2회 이상 반복하는 광 조사가 필요한 기존의 기판상 표면 구조 제작 방법들에 비해 상대적으로 더 짧은 시간 내에 더 높은 종횡비를 가지는 다양한 형상의 이종주기의 다중패턴 격자구조를 형성할 수 있다.The present invention irradiates two polarizations having different intensities at a predetermined irradiation time and irradiation angle to a photoreactive layer formed on a substrate in a one-step manner to induce optical interference, optical isomerization and optical fluidization, , It is possible to form a multi-pattern lattice structure of a heterogeneous period of various shapes having a higher aspect ratio in a relatively shorter time than those of existing substrate surface structure fabrication methods requiring light irradiation repeated at least twice, for example.

도 1은 본 발명에 따른 원스텝 편광조사를 통한 이종주기의 다중패턴형성장치의 구성을 나타낸 실시예.
도 2는 두 개의 편광의 세기 비율 변화 비교표.
도 3은 도 2에 나타낸 두 개의 편광의 세기 비율 fv1에서 광 조사시간 변화에 따른 격자형성결과를 나타낸 실시예.
도 4는 도 2에 나타낸 두 개의 편광의 세기 비율 fv1에서 광 조사시간 변화에 따른 격자구조의 종횡비를 나타낸 실시예.
도 5는 도 2에 나타낸 두 개의 편광의 세기 비율 fv1에서 광 조사시간 변화에 따른 격자구조의 밀집도를 나타낸 실시예.
도 6은 도 2에 나타낸 두 개의 편광의 세기 비율 fv1에서 광 조사시간 변화에 따른 이종주기 형성결과를 나타낸 실시예.
도 7은 도 2에 나타낸 두 개의 편광의 30분 조사시간 동안 세기 비율 변화에 따른 격자형성결과를 나타낸 실시예.
도 8은 도 2에 나타낸 두 개의 편광의 30분 조사시간 동안 세기 비율 변화에 따른 격자구조의 종횡비를 나타낸 실시예.
도 9는 도 2에 나타낸 두 개의 편광의 30분 조사시간 동안 세기 비율 변화에 따른 격자구조의 밀집도를 나타낸 실시예.
도 10은 도 4에 나타낸 두 개의 편광의 30분 조사시간 동안 세기 비율 변화에 따른 이종주기 형성결과를 나타낸 실시예.
도 11은 두 개의 편광을 세기 비율 fv1과 광 조사각도 θ=14도로 60분 및 120분 조사시간 동안 원스텝 조사하여 형성한 이종주기 다중패턴 격자구조를 나타낸 실시예.FIG. 1 is a view showing a configuration of a device for forming a heterogeneous multi-pattern by one-step polarized light irradiation according to the present invention.
2 is a comparison chart of the intensity ratio change of two polarizations.
FIG. 3 is a graph showing the result of lattice formation according to changes in irradiation time at the intensity ratio fv1 of the two polarizations shown in FIG. 2. FIG.
FIG. 4 is a view showing an aspect ratio of a lattice structure according to a change in light irradiation time at an intensity ratio fv1 of two polarized light shown in FIG. 2. FIG.
FIG. 5 is a graph showing the density of a lattice structure according to changes in light irradiation time at an intensity ratio fv1 of two polarizations shown in FIG. 2. FIG.
FIG. 6 is a view showing a result of heterogeneous period formation according to a change in light irradiation time at the intensity ratio fv1 of the two polarizations shown in FIG. 2. FIG.
FIG. 7 is a graph showing the results of lattice formation according to changes in intensity ratio during a 30-minute irradiation time of two polarizations shown in FIG. 2. FIG.
FIG. 8 is a graph showing the aspect ratio of the lattice structure according to the variation of the intensity ratio during the 30 minute irradiation time of the two polarized lights shown in FIG. 2. FIG.
Fig. 9 is a graph showing the density of the lattice structure according to the change of the intensity ratio during the 30 minute irradiation time of the two polarized lights shown in Fig. 2. Fig.
FIG. 10 is a view showing the result of heterogeneous period formation according to the change of the intensity ratio during the 30 minute irradiation time of the two polarized lights shown in FIG. 4;
11 shows a heterogeneous periodic multi-pattern lattice structure formed by one-step irradiation of two polarizations at an intensity ratio fv1 and a light irradiation angle [theta] = 14 degrees for 60 minutes and 120 minutes irradiation time.

이하, 본 발명의 바람직한 실시예를 첨부된 도면을 참조하여 더욱 상세하게 설명한다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 1을 참조하면, 본 발명에 따른 원스텝 편광조사를 통한 이종주기의 다중패턴형성장치(100)는, 홀로그래피 광원(예컨대, 레이저)(110)과, 회전형 반파장판(HWP)(120), 편광빔스플리터(PBS)(130), 고정형 반파장판(HWP)(140)과 고정형 편광판(POL)(150), 미러(160), 기판(170)을 포함하여 구성된다.Referring to FIG. 1, an apparatus 100 for forming a heterogeneous periodic pattern through one step polarized light irradiation according to the present invention includes an holography light source (e.g., laser) 110, a rotating half wave plate (HWP) 120, A polarizing beam splitter (PBS) 130, a fixed half wave plate (HWP) 140 and a fixed polarizing plate (POL) 150, a mirror 160 and a substrate 170.

상기 홀로그래피 광원(110)은 레이저 광원인 것이 바람직하다.The holographic light source 110 is preferably a laser light source.

상기 회전형 반파장판(HWP)(120)은 회전하여 광원에서 방출되는 정해진 파장(λ)의 광학 빔을 원하는 편광(polarized light)으로 변경한다.The rotating half wave plate (HWP) 120 rotates to change the optical beam of a predetermined wavelength (?) Emitted from the light source to a desired polarized light.

상기 편광빔스플리터(PBS)(130)은 상기 회전형 반파장판(HWP)(120)에 의해 변경된 편광을 세기가 다른 두 개의 편광으로 분광한다.The polarized beam splitter (PBS) 130 splits the polarized light changed by the HWP 120 into two polarizations having different intensities.

상기 두 개의 편광의 세기 차이는 제1편광의 세기 I1과 제2편광의 세기 I2에 의해 형성된 광 간섭 무늬의 Imax 및 Imin의 값으로부터 얻어지는 프린지 가시성(Fringe visibility)의 비율로 나타내며, (Imax-Imin)/(Imax+Imin)으로 된 식에 의해 계산되고 0에서 1사이의 값을 가지게 설정하는 것이 바람직하다. 이때, 제1편광의 세기 I1과 제2편광의 세기 I2가 동일한 경우 프린지 가시성(Fringe visibility)의 값은 1이 되고, 제1편광의 세기 I1 또는 제2편광의 세기 I2 중 어느 한쪽이 0이 될 경우 프린지 가시성(Fringe visibility)의 값은 0이 된다.The intensity difference between the two polarized lights is represented by a ratio of fringe visibility obtained from the values of Imax and Imin of the optical interference fringe formed by the intensity I1 of the first polarized light and the intensity I2 of the second polarized light, ) / (Imax + Imin) and is set to have a value between 0 and 1. At this time, when the intensity I1 of the first polarized light and the intensity I2 of the second polarized light are the same, the value of the fringe visibility becomes 1. When either the intensity I1 of the first polarized light or the intensity I2 of the second polarized light is 0 The value of fringe visibility is zero.

상기 순차적으로 배치된 고정형 반파장판(HWP)(140)과 고정형 편광판(POL)(150)은 상기 편광빔스플리터(PBS)(130)에 의해 분광된 각각의 편광을 위상 지연량이 0에서 2π 내의 범위를 가지는 편광으로 보정한다.The sequentially arranged fixed half wave plate (HWP) 140 and the fixed polarizing plate (POL) 150 reflect the respective polarized light polarized by the polarization beam splitter (PBS) 130 in a range of 0 to 2 As shown in FIG.

상기 미러(160)는 각각 상기 보정된 두 개의 편광을 미리 정해진 조사시간 동안 미리 정해진 조사각도로 반사시킨다.The mirror 160 reflects the corrected two polarized lights at a predetermined irradiation angle for a predetermined irradiation time.

상기 조사각도 θ는 미러(160)에서 반사되는 두 개의 편광이 기판(170)상에서 모이는 점을 중심으로 두 개의 편광이 만드는 가상의 입사선을 이등분한 각도이고, 0도∼90도 사이 값으로 설정되는 것이 바람직하다.The irradiation angle [theta] is an angle obtained by bisecting a virtual incidence line formed by two polarized lights around a point where two polarized lights reflected by the mirror 160 are gathered on the substrate 170, and is set to a value between 0 and 90 degrees .

참고로, 상기 조사각도는 물리적 한계로 0도 및 90도로 설정될 수 없기 때문에 90도 미만으로 설정하는 것이 바람직하다.For reference, it is preferable to set the irradiation angle to less than 90 degrees because it can not be set to 0 degree and 90 degree as physical limits.

상기 기판(170)은 상기 미러(160)에 반사되어 원스텝으로 조사되는 세기가 다른 두 개의 편광에 의해 광간섭(optical coherence)과 광이성화(photo-isomerization), 광유동화(photo-fluidization)를 야기하여 종횡비와 형상이 다른 이종주기의 다중패턴 격자구조를 형성하는 광반응층이 형성되어 있다.The substrate 170 is subjected to optical coherence, photo-isomerization and photo-fluidization by two polarizations of different intensities reflected by the mirror 160 and irradiated in a one-step manner A photoreactive layer is formed which forms a multi-pattern lattice structure of a heterogeneous period in which the aspect ratio and shape are different from each other.

상기 광반응층은 아조벤젠 고분자로 형성하는 것이 바람직하다.The photoreactive layer is preferably formed of an azobenzene polymer.

상기와 같이 구성되는 본 발명에 따른 원스텝 편광조사를 통한 이종주기의 다중패턴형성장치(100)에 의해 본 발명에 따른 원스텝 편광조사를 통한 이종주기의 다중패턴형성방법이 다음과 같이 수행된다.The method for forming a heterogeneous periodic multi-pattern by irradiating one-step polarized light according to the present invention is performed as follows by the apparatus 100 for forming a heterogeneous periodic multi-pattern through single step polarized light irradiation according to the present invention.

가장 먼저, 홀로그래피 광원(110)에서 방출되는 정해진 파장(λ)의 광학 빔(예컨대, 532nm 레이저 빔)을 회전형 반파장판(HWP)(120)에 의해 원하는 편광(polarized light)으로 변경한다.First, an optical beam (for example, a 532 nm laser beam) of a predetermined wavelength λ emitted from the holography light source 110 is changed to a desired polarized light by the HWP 120.

이때, 회전형 반파장판(HWP)(120)의 회전작동에 의해 선택된 편광이 방출되어 상기 편광빔스플리터(PBS)(130)로 도달한다.At this time, the polarized light selected by the rotation operation of the rotating half wave plate (HWP) 120 is emitted and reaches the polarizing beam splitter (PBS) 130.

또한, 이때 상기 회전형 반파장판(HWP)(120)과 상기 편광빔스플리터(PBS)(130) 사이에 추가 배치되는 공간필터(Spatial filter)(미부호)를 통해 편광 노이즈를 제거하고 상기 공간필터(Spatial filter)(미부호) 후단에 추가 배치되는 렌즈(Lens)(미부호)와 조리개(Iris)(미부호)를 통해 편광에 대한 포커싱 처리를 하는 것이 바람직하다.At this time, polarization noise is removed through a spatial filter (not shown) additionally disposed between the rotating half wave plate (HWP) 120 and the polarization beam splitter (PBS) 130, It is preferable to perform focusing processing for polarized light through a lens (not marked) and a diaphragm (not marked) disposed at a rear end of a spatial filter (not marked).

이어서, 상기 편광빔스플리터(PBS)(130)에 도달한 편광은 세기가 다른 두 개의 편광으로 분광된 후 각각이 상기한 고정형 반파장판(HWP)(140)과 고정형 편광판(POL)(150)에 의해 위상 지연량이 0에서 2π 내의 범위를 가지는 편광으로 보정되고 상기 미러(160)에 반사되어 미리 정해진 조사시간 동안 미리 정해진 조사각도로 기판(170) 위에 형성된 광반응층에 원스텝으로 조사됨으로써 광간섭(optical coherence)과 광이성화(photo-isomerization), 광유동화(photo-fluidization)을 야기하여 상기 광반응층에 종횡비와 형상이 다른 이종주기의 다중패턴 격자구조를 형성한다.Then, the polarized light reaching the polarizing beam splitter (PBS) 130 is split into two polarizations having different intensities, and then the polarized light is split into the fixed half wave plate (HWP) 140 and the fixed polarizer (POL) Is reflected by the mirror 160 to be irradiated one-step onto the photoreactive layer formed on the substrate 170 at a predetermined irradiation angle for a predetermined irradiation time, optical coherence, photo-isomerization and photo-fluidization, thereby forming a multi-pattern lattice structure having a different aspect ratio and shape in the photoreactive layer.

참고로, 도 2는 본 발명에 따른 최적의 세기 비율을 찾기 위해 두 개의 편광(레이저) 간의 세기 비율을 변화시키면서 이종주기의 다층패턴 형성과정을 관찰한 결과를 나타내는 두 개의 편광(레이저)의 세기 비율 변화 비교표이다.2 is a graph showing the intensity of two polarizations (lasers) showing the result of observing a process of forming a multi-layer pattern of a different period while changing the intensity ratio between two polarizations (lasers) in order to find an optimal intensity ratio according to the present invention. Ratio change comparison chart.

이하에서는, 도 2에 나타낸 5종의 프린지 가시성(fv1∼fv5)에 대응하는 광유동화(photo-fluidization)와 이종주기의 표면양각격자(SRG; surface relief grating)의 형성과정을 관찰한 결과를 구체적으로 설명한다.Hereinafter, photo-fluidization corresponding to the five kinds of fringe visibility (fv1 to fv5) shown in FIG. 2 and observation of the process of forming a surface relief grating (SRG) .

도 3은 도 2에 나타낸 두 개의 편광(레이저)의 세기 비율 fv1에서 광 조사시간 변화(예컨대, 30분, 45분, 60분, 120분, 360분)에 따른 격자형성결과를 나타낸 실시예이다.3 is an embodiment showing the result of lattice formation according to the irradiation time change (for example, 30 minutes, 45 minutes, 60 minutes, 120 minutes, 360 minutes) at the intensity ratio fv1 of the two polarizations .

도 3의 (a), (b), (c), (d), (e)는 광 조사시간 변화(예컨대, 30분, 45분, 60분, 120분, 360분)에 따른 표면양각격자(SRG)의 2차원좌표계(xy좌표계) 상의 평면형상이고, 도 3의 (f), (g), (h), (i), (j)는 광 조사시간 변화(예컨대, 30분, 45분, 60분, 120분, 360분)에 따른 표면양각격자(SRG)의 3차원좌표계(xyz좌표계) 상의 입체형상이고, 도 3의 (k), (l), (m), (n), (o)는 광 조사시간 변화(예컨대, 30분, 45분, 60분, 120분, 360분)에 따른 표면양각격자(SRG)의 FFT(Fast Fourier Transform) 발광 시뮬레이션 결과이다.3 (a), 3 (b), 3 (c), 3 (d) and 3 (e) (F), (g), (h), (i), and (j) of FIG. 3 are planar images on the two-dimensional coordinate system (xy coordinate system) (1), (1), (2), (3), (3), and (3) of FIG. 3, respectively, of the three-dimensional coordinate system (xyz coordinate system) (o) is the FFT (Fast Fourier Transform) emission simulation result of the surface positive angle grating (SRG) according to the irradiation time change (for example, 30 minutes, 45 minutes, 60 minutes, 120 minutes, 360 minutes).

도 3의 광 조사시간 변화 60분과 120분의 경우를 살펴보면, 두 이종주기의 격자의 성장 속도에 차이가 있고, 특히 같은 종의 격자라도 이종주기의 격자와 형성되는 지점이 겹치는 곳에서는 메인 격자인 표면양각격자(SRG)의 성장 속도를 보이고, 겹치지 않는 곳에서는 본래 격자의 성장 속도를 보임을 명확히 알 수 있다.In the case of 60 minutes and 120 minutes of the light irradiation time change in FIG. 3, there is a difference in the growth rate of the lattice of the two species. Especially, in the lattice of the same species, It can be clearly seen that the growth rate of the surface brittle grating (SRG) is shown, and the growth rate of the original lattice appears at the non-overlapping.

도 4는 도 2에 나타낸 두 개의 편광(레이저)의 세기 비율 fv1에서 광 조사시간 변화(예컨대, 30분, 45분, 60분, 120분, 360분)에 따른 격자구조의 종횡비를 나타낸 실시예이다.4 is a graph showing an aspect ratio of a lattice structure according to changes in light irradiation time (for example, 30 minutes, 45 minutes, 60 minutes, 120 minutes, 360 minutes) at the intensity ratio fv1 of the two polarizations to be.

상기 광반응층을 형성하는 아조벤젠 고분자의 시스트랜스 이성질체는 빛이 센 곳에서 어두운 곳으로 이동하는 특징이 있기 때문에, 두 개의 편광(레이저) 중 세기가 더 센 편광이 조사되는 곳에 어두운 패턴, 예컨대 Dark side willow 격자구조가 형성되고, 두 개의 편광(레이저) 중 세기가 더 약한 편광이 조사되는 곳에 밝은 패턴, 예컨대 Bright side willow 격자구조가 형성됨을 알 수 있다.Since the cis-trans isomer of the azobenzene polymer forming the photoreactive layer is characterized in that light travels from a dark place to a dark place, a dark pattern such as Dark a side willow lattice structure is formed, and a bright pattern, for example, a bright side willow lattice structure is formed where polarized light having weaker intensity is irradiated out of two polarizations (lasers).

특히, 도 4에 따르면 광 조사시간(조사선량: Exposure dose)이 길어짐에 따라 격자의 크기(변조깊이: Modulation depth)가 높아지고, 격자 구조의 종류에 따라 성장 포화점을 보이는 조사시간이 다름을 알 수 있다.In particular, according to FIG. 4, as the exposure time (irradiation dose) increases, the size of the lattice (modulation depth) increases, and the irradiation time showing the growth saturation point differs depending on the type of lattice structure .

도 5는 도 2에 나타낸 두 개의 편광(레이저)의 세기 비율 fv1에서 광 조사시간 변화(예컨대, 30분, 45분, 60분, 120분, 360분)에 따른 격자구조의 밀집도를 나타낸 실시예이다.5 is a graph showing the density of the lattice structure according to the irradiation time change (for example, 30 minutes, 45 minutes, 60 minutes, 120 minutes, 360 minutes) at the intensity ratio fv1 of the two polarizations to be.

도 5에 따르면, 광 조사시간이 길어짐에 따라 격자의 평균 크기(변조깊이: Modulation depth)가 커지고, 분포(Degree of population) 또한 달라짐을 알 수 있다.Referring to FIG. 5, it can be seen that as the light irradiation time becomes longer, the average size (modulation depth) of the grating increases and the degree of population also changes.

도 6은 도 2에 나타낸 두 개의 편광(레이저)의 세기 비율 fv1에서 광 조사시간 변화(예컨대, 30분, 45분, 60분, 120분, 360분)에 따른 이종주기 형성결과를 나타낸 실시예이다.6 is a graph showing the result of heterogeneous period formation according to the irradiation time change (for example, 30 minutes, 45 minutes, 60 minutes, 120 minutes, 360 minutes) at the intensity ratio fv1 of the two polarizations to be.

도 6에 따르면, 광 조사시간이 길어짐에 따라 특정 주기(격자간격: Grating Period)를 가지는 격자의 형성과 비율, 즉 파워스텍트럼밀도(PSD: Power Spectral Density)가 증가하는 것을 확인할 수 있다.According to FIG. 6, it can be seen that as the light irradiation time becomes longer, the formation and the ratio of the grating having a specific period (grating period), that is, the power spectral density (PSD) increase.

도 7은 도 2에 나타낸 두 개의 편광(레이저)의 30분 조사시간 동안 세기 비율(fv1∼fv5) 변화에 따른 격자형성결과를 나타낸 실시예이다.Fig. 7 is an embodiment showing the result of lattice formation according to changes in intensity ratios (fv1 to fv5) during the irradiation time of 30 minutes of two polarizations (lasers) shown in Fig.

도 7의 (a), (b), (c), (d), (e)는 30분 조사시간 동안 세기 비율(fv1∼fv5) 변화에 따른 표면양각격자(SRG)의 2차원좌표계(xy좌표계) 상의 평면형상이고, 도 7의 (f), (g), (h), (i), (j)는 30분 조사시간 동안 세기 비율(fv1∼fv5) 변화에 따른 표면양각격자(SRG)의 3차원좌표계(xyz좌표계) 상의 입체형상이고, 도 7의 (k), (l), (m), (n), (o)는 30분 조사시간 동안 세기 비율(fv1∼fv5) 변화에 따른 표면양각격자(SRG)의 FFT(Fast Fourier Transform) 발광 시뮬레이션 결과이다.7 (a), 7 (b), 7 (c), 7 (d) and 7 (e) show the two- dimensional coordinate system of the surface positive bending SRG according to the variation of the intensity ratios fv1 to fv5 during the 30- (B), (g), (h), (h), (i) and (j) of FIG. 7 are planar images on the surface positive baffles SRG according to the intensity ratios fv1 to fv5 during the 30- (K), (l), (m), (n), and (o) of FIG. 7 show the change in the intensity ratios fv1 to fv5 during the 30 minute irradiation time (Fast Fourier Transform) light emission simulation of SRG.

도 7의 세기 비율 변화 fv=0.999(fv1)와 fv=0.952(fv2)의 경우를 살펴보면, 두 개의 편광(레이저)의 세기 비율에 따라 다양한 성장 속도와 구조를 보임을 명확히 알 수 있다.It can be clearly seen that the intensity ratio changes at fv = 0.999 (fv1) and fv = 0.952 (fv2) in FIG. 7 show various growth rates and structures depending on the intensity ratio of the two polarizations (lasers).

도 8은 도 2에 나타낸 두 개의 편광(레이저)의 30분 조사시간 동안 세기 비율(fv1∼fv5) 변화에 따른 격자구조의 종횡비를 나타낸 실시예이다.Fig. 8 is an embodiment showing the aspect ratio of the lattice structure according to the variation of the intensity ratios fv1 to fv5 during the irradiation time of 30 minutes of the two polarizations (lasers) shown in Fig.

상기한 바와 같이, 상기 광반응층을 형성하는 아조벤젠 고분자의 시스트랜스 이성질체는 빛이 센 곳에서 어두운 곳으로 이동하는 특징이 있기 때문에, 두 개의 편광(레이저) 중 세기가 더 센 편광이 조사되는 곳에 어두운 패턴, 예컨대 Dark side willow 격자구조가 형성되고, 두 개의 편광(레이저) 중 세기가 더 약한 편광이 조사되는 곳에 밝은 패턴, 예컨대 Bright side willow 격자구조가 형성됨을 알 수 있다.As described above, since the cis-trans isomer of the azobenzene polymer forming the photoreactive layer migrates from the place where the light is transmitted to the dark place, when the intensity of the two polarized light (laser) It can be seen that a dark pattern, for example a dark side willow lattice structure is formed, and a bright pattern, e.g. a bright side willow lattice structure, is formed where polarized light of weaker intensity among the two polarizations (lasers) is irradiated.

특히, 도 8에 따르면 두 개의 편광(레이저)의 세기 비율에 따라 동일 시간(30분) 내에 형성되는 격자구조의 종횡비가 달라짐을 알 수 있다.In particular, according to FIG. 8, the aspect ratio of the lattice structure formed within the same time (30 minutes) varies depending on the intensity ratio of the two polarizations (lasers).

도 9는 도 2에 나타낸 두 개의 편광(레이저)의 30분 조사시간 동안 세기 비율(fv1∼fv5) 변화에 따른 격자구조의 밀집도를 나타낸 실시예이다.FIG. 9 is an embodiment showing the density of the lattice structure according to the change of the intensity ratios (fv1 to fv5) during the 30 minute irradiation time of the two polarizers (lasers) shown in FIG.

도 9에 따르면, 두 개의 편광(레이저)의 세기 비율에 따라 동일 시간(30분) 내에 형성되는 격자구조 간의 밀집도가 달라짐을 알 수 있다.According to FIG. 9, it can be seen that the density of lattice structures formed within the same time (30 minutes) varies depending on the intensity ratio of the two polarizations (lasers).

도 10은 도 2에 나타낸 두 개의 편광(레이저)의 30분 조사시간 동안 세기 비율(fv1∼fv5) 변화에 따른 이종주기 형성결과를 나타낸 실시예이다.Fig. 10 is an embodiment showing the result of heterogeneous period formation according to the change of the intensity ratios (fv1 to fv5) during the irradiation time of 30 minutes of two polarizations (lasers) shown in Fig.

도 10에 따르면, 두 개의 편광(레이저)의 세기 비율에 따라 동일 시간(30분) 내에 특정 주기의 형성이 두드러짐을 알 수 있다.According to FIG. 10, it can be seen that the formation of the specific period is prominent within the same time (30 minutes) according to the intensity ratio of the two polarized light (laser).

도 11은 두 개의 편광(레이저)을 세기 비율 fv1과 광 조사각도 θ=14도로 60분 및 120분 조사시간 동안 원스텝 조사하여 형성한 이종주기 다중패턴 격자구조를 나타낸 실시예이다.11 shows an example of a heterogeneous periodic multi-pattern lattice structure formed by irradiating two polarizations (lasers) one at a time with an intensity ratio fv1 and a light irradiation angle [theta] = 14 degrees for 60 minutes and 120 minutes irradiation time.

도 11에 나타낸 바와 같이, 본 발명에 따르면 Y축과 X축으로 다른 주기를 가지면서 상당한 종횡비를 가지는 격자구조를, 원스텝으로 조사하여, 즉 한 번의 편광(레이저) 조사를 통해 제작 가능함을 알 수 있다.As shown in FIG. 11, according to the present invention, it can be seen that the grating structure having a different aspect ratio on the Y axis and the X axis and having a considerable aspect ratio can be manufactured by one step of irradiation, that is, have.

상기한 바에서 알 수 있듯이 본 발명은 광반응층에 원스텝으로 세기가 다른 두 개의 편광을 조사하여 광간섭과 광이성화, 광유동화를 유도하기 때문에, 기판상의 광반응층에 여러 차례, 예컨대 적어도 2회 이상 반복하는 광 조사가 필요한 기존의 기판상 표면 구조 제작 방법들에 비해 상대적으로 더 짧은 시간 내에 더 높은 종횡비를 가지는 다양한 형상의 이종주기의 다중패턴 격자구조를 형성할 수 있다.As can be seen from the above description, the present invention irradiates two polarizations of different intensities one-step on the photoreactive layer to induce optical interference, optical isomerization, and optical fluidization, It is possible to form a multi-pattern lattice structure of heterogeneous periods of various shapes having a higher aspect ratio in a relatively short period of time as compared with conventional methods of fabricating surface structures on a substrate requiring repeated irradiation of light.

이상에서 설명한 본 발명에 따른 원스텝 편광조사를 통한 이종주기의 다중패턴형성장치 및 그 방법은 상기한 실시예에 한정되지 않고, 이하의 청구범위에서 청구하는 기술의 요지를 벗어남이 없이 해당 기술분야의 통상의 지식을 가진 자라면 누구든지 변경하여 실시할 수 있는 범위까지 그 기술적 정신이 있다.The apparatus and method for generating a heterogeneous multi-pattern through one-step polarized light irradiation according to the present invention are not limited to the above-described embodiments, and various modifications and changes may be made without departing from the scope of the present invention. There is a technical spirit to the extent that anyone with ordinary knowledge can change and implement it.

100: 이종주기 다중패턴형성장치 110: 홀로그래피 광원
120: 회전형 반파장판(HWP) 130: 편광빔스플리터(PBS)
140: 고정형 반파장판(HWP) 150: 고정형 편광판(POL)
160: 미러 170: 기판100: heterogeneous period multiple pattern forming device 110: holography light source
120: rotating half wave plate (HWP) 130: polarization beam splitter (PBS)
140: Fixed half wave plate (HWP) 150: Fixed polarizer (POL)
160: mirror 170: substrate

Claims (8)

홀로그래피 광원과;
광원에서 방출되는 정해진 파장(λ)의 광학 빔을 원하는 편광(polarized light)으로 변경하는 회전형 반파장판(HWP);
상기 반파장판(HWP)에 의해 변경된 편광을 세기가 다른 두 개의 편광으로 분광하는 편광빔스플리터(PBS);
상기 편광빔스플리터(PBS)에 의해 분광된 각각의 편광을 위상 지연량이 0에서 2π 내의 범위를 가지는 편광으로 보정하도록 순차적으로 배치된 고정형 반파장판(HWP)과 고정형 편광판(POL);
상기 보정된 두 개의 편광을 미리 정해진 조사시간 동안 미리 정해진 조사각도로 반사시키는 미러; 및
상기 미러에 반사되어 원스텝으로 조사되는 세기가 다른 두 개의 편광에 의해 광간섭(optical coherence)과 광이성화(photo-isomerization), 광유동화(photo-fluidization)를 야기하여 종횡비와 형상이 다른 이종주기의 다중패턴 격자구조를 형성하는 광반응층이 형성되어 있는 기판;
을 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 원스텝 편광 조사를 통한 이종주기의 다중패턴형성장치.A holographic light source;
A rotating half wave plate (HWP) for changing an optical beam of a predetermined wavelength (?) Emitted from a light source to a desired polarized light;
A polarizing beam splitter (PBS) that splits the polarized light changed by the half wave plate (HWP) into two polarized lights having different intensities;
A fixed half wave plate (HWP) and a stationary polarizing plate (POL) sequentially arranged so as to correct each polarized light split by the polarizing beam splitter (PBS) to polarized light having a phase delay amount within a range of 0 to 2 pi;
A mirror for reflecting the two polarized lights at a predetermined irradiation angle for a predetermined irradiation time; And
Optical coherence, photo-isomerization, and photo-fluidization are caused by two polarizations of different intensities, which are reflected by the mirror and are irradiated in a one-step manner, A substrate on which a photoreactive layer for forming a pattern lattice structure is formed;
Wherein the first and second polarized light beams are emitted from the first and second polarized light sources, respectively. 제 1 항에 있어서, 상기 조사각도 θ는 미러에서 반사되는 두 개의 편광이 기판상에서 모이는 점을 중심으로 두 개의 편광이 만드는 가상의 입사선을 이등분한 각도이고 0도∼90도 사이 값으로 설정되는 것을 특징으로 하는 원스텝 편광조사를 통한 이종주기의 다중패턴형성장치.[2] The method of claim 1, wherein the irradiation angle [theta] is an angle obtained by bisecting a virtual incident line formed by two polarizations around a point where two polarizations reflected from the mirror converge on a substrate, and is set to a value between 0 and 90 degrees Wherein the patterning step comprises the steps of: 제 1 항에 있어서, 상기 광반응층은 아조벤젠 고분자로 형성되는 것을 특징으로 하는 원스텝 편광조사를 통한 이종주기의 다중패턴형성장치.The apparatus of claim 1, wherein the photoreactive layer is formed of an azobenzene polymer. 제 1 항에 있어서, 상기 두 개의 편광의 세기 차이는 제1편광의 세기 I1과 제2편광의 세기 I2에 의해 형성된 광 간섭 무늬의 Imax 및 Imin의 값으로부터 얻어지는 프린지 가시성(Fringe visibility)의 비율로 나타내며, (Imax-Imin)/(Imax+Imin)으로 된 식에 의해 계산되고 0에서 1사이의 값을 가지게 설정되는 것을 특징으로 하는 원스텝 편광 조사를 통한 이종주기의 다중패턴형성장치.The method according to claim 1, wherein the intensity difference of the two polarized lights is a ratio of fringe visibility obtained from values of Imax and Imin of the optical interference pattern formed by the intensity I1 of the first polarized light and the intensity I2 of the second polarized light , And is calculated by an equation of (Imax-Imin) / (Imax + Imin), and is set to have a value between 0 and 1. The apparatus for forming a heterogeneous multi- 홀로그래피 광원에서 방출되는 정해진 파장(λ)의 광학 빔을 회전형 반파장판(HWP)에 의해 원하는 편광(polarized light)으로 변경한 다음, 편광빔스플리터(PBS)에 의해 세기가 다른 두 개의 편광으로 분광한 후 각각의 분광된 편광을 고정형 반파장판과 고정형 편광판(POL)에 의해 위상 지연량이 0에서 2π 내의 범위를 가지는 편광으로 보정하고 미러에 반사시켜 미리 정해진 조사시간과 조사각도로 기판 위에 형성된 광반응층에 원스텝으로 조사함으로써 광간섭(optical coherence)과 광이성화(photo-isomerization), 광유동화(photo-fluidization)을 야기하여 상기 광반응층에 종횡비와 형상이 다른 이종주기의 다중패턴 격자구조를 형성하는 것을 특징으로 하는 원스텝 편광조사를 통한 이종주기의 다중패턴형성방법.An optical beam of a predetermined wavelength (?) Emitted from a holography light source is changed to a desired polarized light by a rotating half wave plate (HWP), and then a polarizing beam splitter (PBS) The polarized light of each of the spectrums is corrected by the fixed half wave plate and the fixed polarizing plate (POL) to the polarized light having the range of the phase retardation within the range of 0 to 2π, reflected on the mirror, Layer is irradiated in a one-step manner to cause optical coherence, photo-isomerization and photo-fluidization, thereby forming a multi-pattern lattice structure having a different aspect ratio and shape in the photoreactive layer Wherein the step of irradiating the heterogeneous periodic pattern comprises irradiating the sample with a laser beam. 제 5 항에 있어서, 상기 조사각도 θ는 미러에서 반사되는 두 개의 편광이 기판상에서 모이는 점을 중심으로 두 개의 편광이 만드는 가상의 입사선을 이등분한 각도이고 0도∼90도 사이 값으로 설정하는 것을 특징으로 하는 원스텝 편광조사를 통한 이종주기의 다중패턴형성방법.The method as claimed in claim 5, wherein the irradiation angle? Is an angle bisected by a virtual incident line formed by two polarized lights around a point where two polarized light reflected from the mirror are collected on a substrate, and is set to a value between 0 and 90 degrees Wherein the step of irradiating the heterogeneous periodic pattern comprises irradiating the sample with a laser beam. 제 5 항에 있어서, 상기 광반응층은 아조벤젠 고분자로 형성하는 것을 특징으로 하는 원스텝 편광조사를 통한 이종주기의 다중패턴형성방법.6. The method of claim 5, wherein the photoreactive layer is formed of an azobenzene polymer. 제 5 항에 있어서, 상기 두 개의 편광의 세기 차이는 제1편광의 세기 I1과 제2편광의 세기 I2에 의해 형성된 광 간섭 무늬의 Imax 및 Imin의 값으로부터 얻어지는 프린지 가시성(Fringe visibility)의 비율로 나타내며, (Imax-Imin)/(Imax+Imin)으로 된 식에 의해 계산되고 0에서 1사이의 값을 가지게 설정되는 것을 특징으로 하는 원스텝 편광 조사를 통한 이종주기의 다중패턴형성방법.6. The method of claim 5, wherein the difference in intensity of the two polarizations is a ratio of fringe visibility obtained from values of Imax and Imin of the optical interference fringe formed by the intensity I1 of the first polarized light and the intensity I2 of the second polarized light , And is calculated by an equation of (Imax-Imin) / (Imax + Imin), and is set to have a value between 0 and 1. The method of claim 1,
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