KR20180039017A - 시력 교정 수술에서의 각막 마크 - Google Patents

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시씨모스 레모니스
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웨이브라이트 게엠베하
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Abstract

본 개시 내용은, 변형 이후에 각막 상의 선택된 위치를 추후에 검출할 수 있게 하기 위해서 마크로 미확대 각막에 마킹하기 위한 시스템 및 방법, 그리고 그러한 마크를 기초로 시력 교정 수술을 실시하기 위한 시스템 및 방법에 관한 것이다.

Description

시력 교정 수술에서의 각막 마크
본 개시 내용은 시력 교정 수술을 실시하기 위한 시스템 및 방법에 관한 것이다.
환자의 시력을 개선하기 위해서 다양한 시력 교정 수술이 현재 이용 가능하다. 이러한 수술은, 눈 내의 렌즈 결함을 교정하기 위해서 각막의 굴절 성질을 변화시키는, 레이저-보조형 각막 절삭 수술을 포함한다. 하나의 일반적인 그러한 수술은 LASIK(라식)(레이저 각막 절삭 성형술)으로 알려져 있고 근시, 난시, 또는 보다 복잡한 굴절 오류를 교정하기 위해서 이용된다. 이러한 수술은, 눈 내의 렌즈 결함을 교정하기 위해서 각막의 굴절 성질을 변화시키기 위해서 상이한 방법을 이용하는, 수정체 제거 시술을 또한 포함한다. 하나의 일반적인 그러한 수술이 SMILE(스마일)(최소 절개 렌티큘 추출법)으로 알려져 있고, 근시와 같이, 라식에 의해서 또한 교정될 수 있는 많은 굴절 오류를 교정하기 위해서 이용될 수 있다. 다른 수술은 각막 결함 또는 다른 문제를 교정할 수 있다. 이러한 수술은 단독으로 이용될 수 있으나, 일부는 또한 백내장 수술과 같은 다른 시력 교정 수술과 양립될 수 있다. 예를 들어, 난시를 교정하기 위한 라식은 종종 백내장 수술과 조합된다.
그러한 모든 수술에서, 최적의 시각적 개선을 제공하기 위해서, 각막 상의 정확한 위치에서 교정 시술을 실시하는 것이 중요하다. 그러나, 많은 그러한 수술 중에, 각막은 그 정상 형상으로부터 변형되어, 최적의 위치에서 시술을 실시하기 어렵게 만든다.
또한, 많은 그러한 수술의 경우에, 수술적 시술을 위한 하나 초과의 적절한 위치가 있으나, 상이한 위치들은 상이한 장점들을 환자에게 제공한다. 현재, 많은 시술이 단지 하나의 적절한 위치에서 실시되어, 환자가 여러 가지 상이한 장점들 중에서 선택할 여지가 없다.
본 개시 내용은, 각막 상의 선택된 위치를 추후에 검출할 수 있게 하기 위해서 마크로 각막에 마킹하기 위한 시스템 및 방법, 그리고 그러한 마크를 기초로 시력 교정 수술을 실시하기 위한 시스템 및 방법에 관한 것이다.
일 실시예에서, 개시 내용은, 눈의 각막 상의 선택된 위치를 식별하는 단계, 선택된 위치에 상응하는 마크로 각막의 주변부를 마킹하는 단계, 각막을 변형시키는 단계, 마크를 기초로 변형된 각막 상의 선택된 위치를 재-식별하는 단계, 및 각막이 변형되어 있는 동안 선택된 위치에서 시력 교정 수술적 시술을 실시하는 단계에 의해서 시력 교정 수술을 실시하는 방법을 제공한다.
더 구체적인 실시예에서, 선택된 위치는, 확대된 동공 또는 미확대 동공의 동공 중심과 같은, 눈의 동공 중심이다. 선택된 위치는 수술적 시술 중에서와 달리 확대된 눈의 동공 중심일 수 있다.
다른 더 구체적인 실시예에서, 선택된 위치는 각막 마루(corneal vertex)이다.
더 구체적인 실시예에서, 마크는 원, 또는 적어도 3개의 부-마크를 포함하는 복수의 부-마크를 포함한다.
다른 더 구체적인 실시예에서, 마크는 가까운 각막 마루로부터 8 mm 및 11 mm 사이에 만들어진다.
다른 더 구체적인 실시예에서, 마크는 펨토초 레이저 또는 링 마커(ring marker)를 이용하여 만들어질 수 있다.
다른 더 구체적인 실시예에서, 마크는 생체적합 염료를 포함한다.
더 구체적인 실시예에서, 각막을 변형시키는 단계는 각막을 압평화하는 단계(applanating)를 포함한다.
다른 더 구체적인 실시예에서, 마크를 기초로 변형된 각막 상의 선택된 위치를 재-식별하는 단계는 마크를 위치결정하는 단계(locating), 이어서 마크와 관련하여 선택된 위치를 결정하는 단계를 포함한다.
다른 더 구체적인 실시예에서, 시력 교정 수술적 시술은 라식 시술과 같이 선택된 위치에서 각막의 일부를 레이저 절삭하는 것을 포함한다.
또 다른 더 구체적인 실시예에서, 시력 교정 수술적 시술은 스마일 시술과 같이 선택된 위치에서 각막의 렌티큘을 제거하는 것을 포함한다.
전술한 더 구체적인 실시예들은, 명백하게 상호 배타적이 아닌 한, 서로 또는 본원에서 설명된 다른 특징과 조합될 수 있다. 전술한 방법은 이하의 시스템과 함께 이용될 수 있다.
개시 내용은 또한 눈의 각막 상의 선택된 위치를 식별하도록 동작될 수 있는 안과용 검출기, 선택된 위치에 상응하는 마크로 각막의 주변부를 마킹하도록 동작될 수 있는 마커, 각막을 변형하도록 동작될 수 있는 각막 흡입 또는 압평화 장치, 각막이 변형되어 있는 동안 선택된 위치에서 시력 교정 수술적 시술을 실시하도록 동작될 수 있는 수술적 시술 장치, 및 안과용 검출기에 의해서 제공된 정보를 이용하여, 적어도, 선택된 위치를 식별하기 위한 알고리즘 및 마크를 기초로 선택된 위치를 재-식별하기 위한 알고리즘으로 프로그래밍된 컴퓨터를 포함하는 시력 교정 수술용 시스템을 제공한다.
더 구체적인 실시예에 따라, 마커 및 수술적 시술 장치는 동일한 장치이고, 예를 들어 그들은 모두 펨토초 레이저를 포함할 수 있다.
다른 더 구체적인 실시예에 따라, 안과용 검출기는 눈으로부터 반사된 광을 디지털 화상으로 변환할 수 있는 센서를 포함할 수 있다.
전술한 더 구체적인 실시예들은, 명백하게 상호 배타적이 아닌 한, 서로 또는 본원에서 설명된 다른 특징과 조합될 수 있다. 전술한 시스템은 또한 전술한 방법과 함께 이용될 수 있다.
본 발명 및 그 특징 및 장점의 보다 완전한 이해를 위해서, 이제, 첨부 도면과 함께 취해진, 이하의 설명을 참조한다.
도 1a는 고도로 확장되지 않은 눈의 동공 중심의 개략도이다.
도 1b는 고도로 확장된 눈의 동공 중심의 개략도이다.
도 1c는, 본 개시 내용의 실시예에 따른, 도 1a 및 도 1b의 눈의 동공 중심을 나타내기 위한 마크의 개략도이다.
도 1d는, 본 개시 내용의 실시예에 따른, 눈의 각막 마루, 그리고 각막 마루 및 도 1a의 눈의 동공 중심을 나타내기 위한 마크의 개략도이다.
도 2는 본 개시 내용의 실시예에 따른, 시력 교정 수술을 실시하기 위한 시스템의 개략도이다.
본 개시 내용은 눈의 각막을 마크로 마킹하기 위한 시스템 및 방법에 관한 것이다. 마크는, 각막이 변형되었을 때에도, 주어진 확대에서의 동공의 중심 또는 각막 마루와 같은 각막 상의 선택된 위치의 추후 검출을 가능하게 한다. 개시 내용은 또한 마크를 이용하여 시력 교정 수술을 실시하기 위한 시스템 및 방법에 관한 것이다. 각막은 그러한 수술 중에 변형되나, 마크는 변형에도 불구하고 선택된 위치에서 수술이 실시될 수 있게 하고, 이는 전형적으로, 각막이 미변형 형상으로 복귀되었을 때, 시력 교정을 개선한다. 마크는 추가적으로, 선택된 위치가 주어진 확대에서의 동공 중심 또는 각막 마루에 위치되게 할 수 있다. 동공 중심과 대조적으로 각막 마루에서 또는 다른 것과 대조적으로 하나의 확대에서 동공 중심에서 수술적 시술을 실시하는 것이 상이한 시력 교정을 제공할 수 있다.
이하의 설명에서, 개시된 청구 대상의 설명을 돕기 위해서 예로서 상세 내용을 기술한다. 그러나, 개시된 실시예가 예시적인 것이고 모든 가능한 실시예를 전부 망라한 것이 아니라는 것이 당업자에게 자명할 것이다.
시력 교정 수술은 종종 수술 중에 어떠한 확대가 발생되든지 간에 동공 중심에서 실시된다. 만약 동공이 항상 완전히 대칭적이라면, 동공 중심은 확대와 관계없이 동일하게 유지될 것이다. 그러나, 완전히 대칭적인 동공은 적고, 또한, 비대칭성은 확대에 따라 달라진다. 결과적으로, 동공 중심은 또한 확대에 따라 달라진다. 이는 도 1a 및 도 1b에 도시된 각막(20) 및 동공(30)을 가지는 눈(10)에 관한 도면을 참조함으로써 이해될 수 있다. 도 1a의 동공(30a)은 고도로 확대되지 않았고 동공 중심(40a)을 갖는다. 도 1b의 동공(30b)은 고도로 확대되었고, 동공 중심(40a)과 동일한 위치가 아닌, 동공 중심(40b)을 갖는다. 도 1c에 도시된 바와 같이, 미확대 동공 중심(40a)을 나타내기 위한 각막(20)의 각막 주변부 상의 마크(50a)는 그에 따라 고도로 확대된 동공 중심(40b)을 나타내기 위한 각막(20)의 각막 주변부 상에 만들어진 마크(50b)와 상이한 위치에 있다.
일부 시력 교정 수술은 각막 마루에서 수술적 시술을 실시하는 것을 목적으로 한다. 각막 마루는 고정점의 제1 푸르키네(Purkinje) 화상과 영상지형도 촬영장치(videokeratographer)와 같은 광학적 검사 기구의 광학 축의 교차부이다. 각막 마루는 각막의 중앙 부분이고, 그러한 곳에서 중앙 부분은 일반적으로 각막 주변부 보다 얇다. 각막 마루는 각막 주변부에 의해서 둘러싸이고, 그러한 각막 주변부는 또한 일반적으로 원형이고 각막의 연부까지 연장된다. 각막 마루는 동공 중심과 같은 위치에 있을 수 있으나, 또한 종종 그렇지 않을 수 있다. 도 1d에 도시된 바와 같이, 각막 마루(60)는 동공 중심(40a)과 같은 임의의 동공 중심과 상이한 위치 내에 있을 수 있고, 그에 따라 각막 마루(60)를 나타내기 위해서 각막(20)의 주변 영역 상에 만들어진 마크(50c)는 동공 중심(40a)을 나타내기 위해서 만들어진 마크(50a)와 동일한 위치에 있지 않다.
다른 시력 교정 수술은 각막 마루 또는 주어진 확대에서의 동공 중심 이외의 위치에서 수술을 실시한다. 예를 들어, 일부 수술은 각막 마루와 주어진 확대에서의 동공 중심을 연결하는 가상의 선을 따라서 실시될 수 있다.
따라서, 개시 내용은 시력 교정 수술을 위한 준비에서 마크로 각막을 마킹하는 방법을 포함한다. 첫 번째로, 수술적 시술을 위한 위치가 선택된다. 선택된 위치는 각막 마루 또는 주어진 확대에서의 동공 중심일 수 있다. 위치는, 실시하고자 하는 시력 교정 수술의 유형, 특히 각막 마루에서의 각막의 두께, 하나 이상의 확대에서 동공 중심에 대한 각막 마루의 위치, 및 상이한 확대들에서의 동공 중심의 변동과 같은, 다양한 기술적 인자를 기초로 선택될 수 있다. 그러한 위치는 또한, 고조도 또는 저조도(bright or low light)에서의 최적의 시력이 가장 바람직한 것인지의 여부와 같은, 환자 선호 인자를 기초로 선택될 수 있다.
일단 위치가 선택되면, 위치는 눈 상에서 실제로 식별된다. 첫 번째로, 필요한 경우에, 예를 들어 동공을 희망 확대로 확대시킴으로써, 눈이 준비된다. 다음에, 안과용 장치를 이용하여 선택된 위치를 식별한다. 수동형 및 컴퓨터-지원형 장치 모두, 그리고 라식, 스마일, 및 백내장 수술과 같은 시력 교정을 위한 진단적 또는 수술적 시술에서 현재 이용되는 장치를 포함하여, 이러한 기능을 실시할 수 있는 임의의 안과용 장치가 이용될 수 있다. 장치는 현미경 또는 다른 확대 렌즈를 포함할 수 있다. 만약 장치가 컴퓨터-지원형이라면, 장치는, 디지털 화상을 생성하기 위해서 눈으로부터 반사되는 광을 캡쳐하는, 광다이오드 어레이와 같은, 디지털 화상 센서를 포함할 수 있다. 컴퓨터-지원형 장치는 또한, 동공 중심 또는 각막 마루를 위치결정하는 알고리즘으로 프로그래밍된 프로세싱 자원을 포함할 수 있다. 예를 들어, 알고리즘은, 색채 검출 또는 원 검출 알고리즘을 이용하여 동공이 홍체에 의해서 경계 지어지는 곳을 식별할 수 있다. 알고리즘은 이어서 하나 이상의 타원 또는 원으로 홍체를 어림잡을 수 있고(approximate), 해당 확대에서의 동공 중심으로서 식별되는 그러한 타원 또는 원의 중심을 위치결정할 수 있다. 각막 마루를 검출할 때, 컴퓨터-지원형 장치는 가시광선, 적외선, 또는 다른 광 그리고 광을 검출하기 위한 센서를 이용할 수 있다. 장치는, 광의 레벨 또는 변화를 각막 마루에 대한 동공 중심 변화로 변환하기 위한 그리고, 추후의 수술적 시술을 위해서, 의사의 입력 또는 다른 입력에 따라 위치를 선택하거나 선택된 위치를 마킹하기 위한 알고리즘으로 프로그래밍될 수 있다.
전술한 시술 및 장치 중 임의의 것을 이용할 때, 선택된 위치는 점일 수 있거나, 규정된 직경을 가지는 원과 같은, 규정된 형상 및 크기의 지역일 수 있다.
선택된 위치를 식별한 후에, 선택된 위치를 추후에 재-식별하기 위해서 이용될 수 있는 각막 주변부 상에 마크가 만들어진다. 마크는 각막 주변부 상의 어디든 만들어질 수 있으나, 더 얇고 광이 통과될 필요가 있을 수 있는 각막의 내부 부분을 피하기 위해서, 가까운 각막 마루로부터 적어도 8 mm에 전형적으로 위치될 것이다. 마크는 또한, 마크가 공막에 부착되는 각막의 외부 영역 또는 공막 자체를 손상시키는 것을 방지하기 위해서, 가까운 각막 마루로부터 11 mm 이하에 위치될 수 있다.
마크는, 각막이 변형되는 경우에도 선택된 위치의 추후 재-식별을 가능하게 하기에 충분한 임의 형상 또는 크기를 가질 수 있다. 예를 들어, 마크는, 선택된 위치가 중심에 있는 원, 또는 선이나 점과 같은 복수의 부-마크일 수 있다. 전형적으로, 마크가 복수의 부-마크인 경우에, 선택된 위치의 삼각측량을 가능하게 하기 위해서 적어도 3개의 그러한 부-마크가 존재할 것이다.
마크는 육안으로 또는 시력 교정 수술에서 이용되는 배율로 볼 수 있거나, 컴퓨터 지원으로만 검출될 수도 있다.
마크는 각막의 표면 상에 있을 수 있거나, 마크가 각막을 침투할 수도 있다. 어느 경우에도, 마크는 수술 시까지 또는 수술 중에 필요로 하는 한 지속되도록 설계되나, 마크는 또한 추후에 사라지거나 치유되도록 설계될 수 있다. 예를 들어, 마크는 생체적합 염료를 포함할 수 있거나 단순히 작은 절개부일 수 있다.
마크는, 링 마커, 레이저, 또는 작은 바늘, 또는 메스(scalpel)와 같은, 임의의 적합한 기구를 이용하여 만들어질 수 있다.
마크는 링 마커를 이용하는 의사와 같은 의사에 의해서 손으로 만들어질 수 있거나, 마크는 컴퓨터-지원형 장치를 이용하는 의사에 의해서 또는 컴퓨터-지원형 장치 자체에 의해서 만들어질 수 있다. 선택된 위치를 식별하는 것 그리고 마크를 만드는 것 모두를 위해서 컴퓨터-지원형 장치를 이용하는 것은 더 정확한 마크 배치를 유도할 수 있다.
마크가 만들어진 후에, 의사는 시력 교정 수술을 실시한다. 수술 중에, 각막이 변형되고, 그에 따라, 동공 중심 또는 각막 마루가 수술 중에 위치결정되는 경우에, 그러한 위치 결정은 미변형 각막 내의 위치를 정확하게 반영하지 못할 수 있다. 예를 들어, 적어도 하나의 각막 흡입 또는 압평화 장치가 수술 중에 각막에 적용되어, 각막을 변형시킬 수 있다.
각막 변형에도 불구하고, 의사는 선택된 위치를 재-식별하기 위해서 그리고 해당 위치에서 수술적 시술을 실시하기 위해서 마크를 이용한다. 의사는 육안으로 또는 수술 현미경을 이용하여 마크를 위치결정할 수 있고 선택된 위치를 마음속으로 결정할 수 있다. 그러나, 전형적으로, 의사가 마크를 위치결정하고 선택된 위치를 결정하기 위해서 컴퓨터-지원형 장치를 이용하는 것이 더 정확하다. 예를 들어, 컴퓨터-지원형 장치는, 디지털 화상을 생성하기 위해서 눈으로부터 반사되는 광을 캡쳐하는, 광다이오드 어레이와 같은, 디지털 화상 센서를 포함할 수 있다. 컴퓨터-지원형 장치는, 마크를 위치결정하기 위해서 디지털 화상을 분석하고 추가적으로 마크를 이용하여 선택된 위치를 재-식별하는 알고리즘으로 프로그래밍될 수 있다. 이어서, 컴퓨터-지원형 장치는, 예를 들어 시각적 디스플레이 상에 정보를 중첩시키는 것에 의해서 또는 기구가 선택된 위치에 해당하는 제 위치에 있을 때를 의사에게 알려주기 위한 음향 또는 다른 표시자를 이용하는 것에 의해서, 선택된 위치에 관한 정보를 의사에서 전달할 수 있다. 컴퓨터-지원형 장치는, 그 자체적으로 또는 다른 컴퓨터-지원형 장치와의 통신을 통해서, 레이저, 겸자, 또는 메스와 같은 수술적 시술을 실시하기 위한 수술 장비를 선택된 위치에 또한 배치할 수 있다. 컴퓨터-지원형 장치는 선택된 위치에서 수술적 시술을 실시할 수도 있다.
수술용 현미경 또는 컴퓨터-지원형 장치가 각막을 마킹하는 것 그리고 선택된 위치를 재-식별하는 것 모두를 위해서 이용된다면, 그러한 장치는 양 시술에서 이용될 수 있다. 그러한 장치는 또한 각막을 자동적으로 마킹하기 위해서, 수술적 시술을 실시하기 위해서, 또는 그 모두를 위해서 이용될 수 있다. 단일 장치의 이용은 감염 위험 또는 환자가 움직이는 경우에 발생될 수 있는 신체 상해 위험을 줄일 수 있다. 이는 또한 전체 시술이 짧아지게 할 수 있다.
전술한 다른 특징 중 임의의 특징과 조합될 수 있는 예시적인 실시예에서, 라식 또는 스마일 수술을 위한 시스템 및 방법이 제공된다. 도 2에 도시된 바와 같은 라식 또는 스마일 시스템은 플랫폼(100)을 포함하고, 수술 중에 환자가 그러한 플랫폼 상에 놓인다. 그러한 시스템은 펨토초 레이저(110), (라식 시스템을 위한) 엑시머 레이저(120), 압평화 원뿔과 같은 압평화 장치를 포함할 수 있는 각막 흡입 장치(130), 수술용 디지털 현미경(140), 컴퓨터(150), 및 디스플레이(160)를 더 포함한다.
라식 또는 스마일 수술을 실시하기 위해서, 환자의 눈이 수술용 현미경(140) 아래에 위치되는 상태로 환자가 플랫폼(100) 상에 배치된다. 수술용 디지털 현미경(140)은 확대 렌즈 및 센서를 포함하고, 그러한 확대 렌즈 및 센서는 함께 눈의 확대된 디지털 화상을 디스플레이(160) 상에 생성한다. 환자의 눈은 선택된 확대까지 미리 확대되었거나, 이어서 선택된 확대까지 확대되고, 어느 경우든 간에 의사가 시각적으로 확인한다. 이어서, 의사는, 선택된 위치인, 동공 중심 또는 각막 마루를 위치결정하기 위한 알고리즘을 실행하도록 컴퓨터(150)에 명령한다. 선택된 위치와 제시된 마크 위치의 시각적 중첩이 디스플레이(160) 상의 눈의 화상 상에 디스플레이된다. 의사는, 선택된 위치가 정확한 것으로 보이는지를 확인한다. 다음에, 펨토초 레이저(110)를 활성화시켜, 적어도 3개를 포함하는, 복수의 부-마크를 마크 위치에서 생성한다. 이러한 부-마크는 각막의 중심으로부터 약 8 mm 내지 11 mm인 각막 주변부 내의 작은 절개부이다. 부-마크는 의사에 의해서 시각적으로 검출될 수 없으나, 이러한 부-마크에서 각막으로부터 반사되는 광의 변화를 검출하는 알고리즘을 이용하여 컴퓨터에 의해서 검출될 수 있다. 다음에, 컴퓨터(150)는 부-마크를 검출하기 위한 눈의 디지털 화상에 대한 다른 알고리즘, 및 부-마크를 기초로 선택된 위치를 재-식별하기 위한 알고리즘을 작동시킨다. 컴퓨터(150)는, 재-식별된 선택된 위치가 선택된 위치에 상응하는지를 확인한다. 만약 상응하지 않는다면, 의사는, 마크를 마킹하는 동안 오류가 발생하였다는 것을 통지 받고, 부-마크가 치유될 때까지 시술이 연기될 수 있거나, 새로운 부-마크가 다른 위치에서 만들어질 수 있다. 만약 재-식별된 선택된 위치가 선택된 위치에 상응한다면, 그 두 위치의 시각적 중첩이 디스플레이(160) 상의 눈의 화상 상에서 디스플레이되고, 그에 따라 상응성이 의사에 의해서 시각적으로 확인될 수 있다.
다음에, 각막 흡입 장치(130)가 눈에 적용된다. 이러한 장치는 눈을 제 위치에서 유지하나, 그 장치는 또한 각막을 변형시킨다. 전형적으로, 장치는 각막의 압평화를 유발한다. 컴퓨터(150)는 부-마크를 검출하기 위한 눈의 디지털 화상에 대한 알고리즘, 및 부-마크를 기초로 선택된 위치를 재-식별하기 위한 알고리즘을 작동시킨다. 재-식별된 선택된 위치의 시각적 중첩이 디스플레이(160) 상의 눈의 화상 상에서 디스플레이되고, 그에 따라 의사는 재-식별된 선택된 위치가 정확하게 보이는지를 확인할 수 있다.
만약 시술이 라식 시술이라면, 의사는, 선택된 위치 상에서 대략적으로 중심에 위치되는 각막 내에 플랩(flap)을 형성하기 위해서 펨토초 레이저(110)를 이용하도록 컴퓨터(150)에 지시한다. 이어서, 의사는 이러한 플랩을 상승시키고, 수술적 시술을 실시하고 선택된 위치 내의 각막 조직을 절삭하기 위해서 엑시머 레이저(120)를 이용하도록 컴퓨터(150)에 지시한다. 이러한 절삭은 표준 절삭, 파면-센서-안내형 절삭(wavefront-sensor-guided ablation), 또는 다른 형태의 컴퓨터-지원형 절삭일 수 있다. 절삭 이후에, 컴퓨터(150)는, 필요한 경우에, 마크를 이용하여 재-식별될 수 있는, 선택된 위치 내에서 절삭이 이루어졌는지의 여부를 포함하여, 절삭이 적절히 실행되었는지의 여부를 검출하기 위한 다른 알고리즘을 작동시킬 수 있다.
임의의 세척 및 시술이 정확하게 실시되었다는 것에 대한 확인 이후에, 플랩이 하강될 수 있고 각막 흡입 장치(130)가 제거될 수 있다. 이어서, 컴퓨터(150)는 마크를 이용하여 미변형된 눈 상의 선택된 영역을 재-식별하기 위한 그리고 절삭이 선택된 영역 내에서 이루어졌다는 것을 확인하기 위한 다른 알고리즘을 작동시킬 수 있다.
만약 시술이 스마일 시술이라면, 의사는 제거하기 위한 각막내 렌티큘을 규정하기 위해서 펨토초 레이저(110)를 이용하도록 컴퓨터(150)에 지시한다. 렌티큘의 규정 이후에, 컴퓨터(150)는, 필요한 경우에, 마크를 이용하여 재-식별될 수 있는, 선택된 위치 내에서 렌티큘이 형성되었는지의 여부를 검출하는 것을 포함하여, 렌티큘이 적절하게 형성되었는지를 검출하기 위한 다른 알고리즘을 작동시킬 수 있다. 만약 렌티큘이 적절하게 형성되었다면, 이어서 펨토초 레이저(110)를 이용하여 렌티큘의 연부에 작은(전형적으로 2 mm 이하) 절개부를 형성하고, 이어서 의사는 작은 절개부를 통해서 각막으로부터 렌티큘을 제거한다. 렌티큘의 제거 이후에, 컴퓨터(150)는, 마크를 이용하여 선택된 위치를 재-식별하는 것을 포함할 수 있는, 렌티큘이 적절한 위치로부터 적절하게 제거되었는지를 검출하기 위한 다른 알고리즘을 작동시킬 수 있다.
시술이 정확하게 실시되었다는 임의의 다른 확인 이후에, 각막 흡입 장치(130)가 제거될 수 있다. 이어서, 컴퓨터(150)는 마크를 이용하여 미변형된 눈 상의 선택된 영역을 재-식별하기 위한 그리고 레티큘이 선택된 영역으로부터 제거되었다는 것을 확인하기 위한 다른 알고리즘을 작동시킬 수 있다.
컴퓨터(150) 및 본원에서 설명된 임의의 다른 컴퓨터는 표시된 알고리즘을 작동시킬 수 있는 적어도 하나의 프로세싱 자원을 포함할 수 있다. 또한, 컴퓨터는 메모리, 및 안과용 검출기 그리고 선택적으로 디스플레이 및 레이저와 같은 다른 시스템 구성요소와 통신하기 위한 통신 모듈을 포함할 수 있다.
예를 들어 마크를 만들기 위해서 염료 주입기 또는 컴퓨터-제어형 링 마커를 이용하는, 전술한 시술의 변형이 본원의 기술을 이용하여 당업자에 의해서 구상될 수 있다. 또한, 전술한 시술을, 백내장 수술과 같은, 다른 시력 교정 수술과 조합하는 방법이 또한 본원의 기술을 이용하여 당업자에 의해서 구상될 수 있다.
앞서서 개시된 청구 대상은 예시적인 것으로 간주되어야 하고, 제한적인 것이 아니며, 첨부된 청구항은, 본 개시 내용의 진정한 사상 및 범위 내에 포함되는 그러한 변형예, 향상예, 및 다른 실시예 모두를 포함하기 위한 것이다. 따라서, 법에 의해서 허용되는 최대 범위까지, 본 개시 내용의 범위는 이하의 청구항 및 그 균등물의 가장 넓은 허용 가능한 해석에 의해서 결정되어야 하며, 전술한 구체적인 설명에 의해서 제한되거나 한정되지 않을 것이다.

Claims (27)

  1. 시력 교정 수술의 실시 방법으로서:
    눈의 각막 상의 선택된 위치를 식별하는 단계;
    상기 선택된 위치에 상응하는 마크로 상기 각막의 주변부를 마킹하는 단계;
    상기 각막을 변형시키는 단계;
    상기 마크를 기초로 상기 변형된 각막 상의 상기 선택된 위치를 재-식별하는 단계; 및
    상기 각막이 변형되어 있는 동안 상기 선택된 위치에서 시력 교정 수술적 시술을 실시하는 단계를 포함하는, 방법.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 선택된 위치는 상기 눈의 동공 중심인, 방법.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 동공 중심은 확대된 동공의 동공 중심인, 방법.
  4. 제2항에 있어서,
    상기 동공 중심은 미확대 동공의 동공 중심인, 방법.
  5. 제2항에 있어서,
    상기 선택된 위치는 상기 수술적 시술 중에서와 달리 확대된 눈의 동공 중심인, 방법.
  6. 제1항에 있어서,
    상기 선택된 위치는 각막 마루인, 방법.
  7. 제1항에 있어서,
    상기 선택된 위치는 상기 각막 마루와 주어진 확대에서의 동공 중심을 연결하는 가상의 선을 따르는, 방법.
  8. 제1항에 있어서,
    상기 마크는 원을 포함하는, 방법.
  9. 제1항에 있어서,
    상기 마크는, 적어도 3개의 부-마크를 포함하는 복수의 부-마크를 포함하는, 방법.
  10. 제1항에 있어서,
    상기 마크는 가까운 각막 마루로부터 8 mm 및 11 mm 사이에 만들어지는, 방법.
  11. 제1항에 있어서,
    상기 마크는 펨토초 레이저를 이용하여 만들어지는, 방법.
  12. 제1항에 있어서,
    상기 마크는 링 마커를 이용하여 만들어지는, 방법.
  13. 제1항에 있어서,
    상기 마크는 생체적합 염료를 포함하는, 방법.
  14. 제1항에 있어서,
    상기 각막을 변형시키는 단계는 상기 각막을 압평화하는 단계를 포함하는, 방법.
  15. 제1항에 있어서,
    상기 마크를 기초로 변형된 각막 상의 선택된 위치를 재-식별하는 단계는 상기 마크를 위치결정하는 단계, 이어서 상기 마크와 관련하여 상기 선택된 위치를 결정하는 단계를 포함하는, 방법.
  16. 제1항에 있어서,
    상기 시력 교정 수술적 시술은 상기 선택된 위치 내에서 상기 각막의 일부를 레이저 절삭하는 단계를 포함하는, 방법.
  17. 제1항에 있어서,
    상기 시력 교정 수술적 시술은 상기 선택된 위치 내에서 상기 각막의 렌티큘을 제거하는 단계를 포함하는, 방법.
  18. 시력 교정 수술을 위한 시스템으로서:
    눈의 각막 상의 선택된 위치를 식별하도록 동작될 수 있는 안과용 검출기;
    상기 선택된 위치에 상응하는 마크로 상기 각막의 주변부를 마킹하도록 동작될 수 있는 마커;
    상기 각막을 변형하도록 동작될 수 있는 각막 흡입 또는 압평화 장치;
    상기 각막이 변형되어 있는 동안 상기 선택된 위치에서 시력 교정 수술적 시술을 실시하도록 동작될 수 있는 수술적 시술 장치; 및
    상기 안과용 검출기에 의해서 제공된 정보를 이용하여, 적어도, 상기 선택된 위치를 식별하기 위한 알고리즘 및 상기 마크를 기초로 상기 선택된 위치를 재-식별하기 위한 알고리즘으로 프로그래밍된 컴퓨터를 포함하는, 시스템.
  19. 제18항에 있어서,
    상기 마커 및 상기 수술적 시술 장치가 동일한 장치인, 시스템.
  20. 제18항 또는 제19항에 있어서,
    상기 마커 및 상기 수술적 시술 장치가 펨토초 레이저를 포함하는, 시스템.
  21. 제18항 내지 제20항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 선택된 위치는 눈의 확대된 동공 또는 미확대 동공의 동공 중심인, 시스템.
  22. 제21항에 있어서,
    상기 선택된 위치는 상기 수술적 시술 중에서와 달리 확대된 눈의 동공 중심인, 시스템.
  23. 제18항 내지 제20항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 선택된 위치는 상기 각막 마루이거나, 상기 각막 마루와 주어진 확대에서의 동공 중심을 연결하는 가상의 선을 따르는, 시스템.
  24. 제18항 내지 제23항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 마크는: 원; 적어도 3개의 부-마크를 포함하는 복수의 부-마크; 생체적합 염료 중 하나 이상을 포함하는, 시스템.
  25. 제18항 내지 제24항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 마크는 상기 가까운 각막 마루로부터 8 mm 내지 11 mm에서 만들어지고 및/또는 펨토초 레이저를 이용하여 만들어지며 및/또는 링 마커를 이용하여 만들어지는, 시스템.
  26. 제18항 내지 제25항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 알고리즘은 상기 마크를 위치결정하는 것, 이어서 상기 마크에 대해서 상기 선택된 위치를 결정하는 것에 의해서 상기 선택된 위치를 재-식별하도록 구성되는, 시스템.
  27. 제18항 내지 제26항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 시력 교정 수술적 시술은 상기 선택된 위치 내에서 상기 각막의 일부를 레이저 절삭하는 것 및/또는 상기 선택된 위치에서 각막 레티큘을 제거하는 것을 포함하는, 시스템.
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