KR20180035636A - Plane style lens processing method - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은 수직형과 경사형 노광 기술을 복합적으로 응용하여 고정밀 평면형 렌즈를 가공하는 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method of processing a high-precision planar lens using a combination of vertical and oblique exposure techniques.
일반적으로, 평면형 렌즈(프레즈넬 렌즈)는 다수의 동심원 패턴과 각 동심원 패턴 사이에 경사면에 의해 형성되는 홈을 구비하는 것으로, 이러한 평면형 렌즈를 제작시, 종래에는 유리 등의 투과형 소재에 광학 설계에 따른 렌즈 구조를 기계적인 마찰에 따른 절삭 가공 방식으로 제거되어야 하는 부분을 계속적으로 가공함으로써, 남아있는 부분이 광학적 특성을 가지도록 하는 것이다.In general, a planar lens (a Fresnel lens) is provided with a groove formed by a plurality of concentric circular patterns and inclined planes between the concentric circular patterns. In manufacturing such a planar lens, conventionally, So that the remaining portion of the lens structure is made to have the optical characteristics by continuously machining the portion to be removed by the cutting method according to the mechanical friction.
그러나, 평면형 렌즈의 가공에 있어서 기계 가공에 의한 렌즈의 절삭 가공 난이도와 정밀도 그리고 렌즈의 집속력 등을 제어하기 위한 공정은 매우 복잡하고 그 결과물을 얻기가 쉽지 않다.However, in the processing of a planar lens, the process of controlling the difficulty and accuracy of cutting of the lens by machining and the control of the focusing power of the lens is very complicated and it is not easy to obtain the result.
또한, 다량의 렌즈를 만들어 내기 위한 금형을 통한 생산은 다양한 집속/굴절각의 변화를 만들어 내기가 어려워 제한된 응용 기술을 사용할 수 밖에 없고, 상용화에 난해함을 가지고 있다.In addition, production using a mold for producing a large number of lenses is difficult to produce various changes in focus / refraction angle, so that limited application technology is inevitable and commercialization is difficult.
이에따라, 기계적 절삭 가공에 따른 렌즈 소재의 가공시에 나타나는 소재 표면의 뜻김과 가공 공구의 제한된 정밀도에 의해 한계가 존재하게 되면서, 결과적으로 미려한 광특성을 얻을 수 없고, 소형의 렌즈 제작에 있어서는 기계적 가공 수치의 한계에 따른 상용화가 불가한 상황이다.As a result, there is a limitation due to the definition of the surface of the workpiece and the limited precision of the tool during the machining of the lens material due to the mechanical cutting process. As a result, the optical characteristics can not be obtained as a result. It is impossible to commercialize it according to the limit of the numerical value.
공개특허공보 제2006-0021315호(공개일 2006.03.07)Japanese Patent Application Laid-Open No. 2006-0021315 (Publication date 2006.03.07)
등록특허공보 제10-0809508호(등록일 2008.02.26)Patent Registration No. 10-0809508 (registered Feb. 26, 2008)
따라서, 본 발명은 상기와 같은 종래의 문제점을 개선하기 위한 것으로, 판형의 투과형 소재에 대해 레이저 등의 광학적 노광, 수직과 경사의 복합화 노광을 진행하여 비접촉 방식에 의한 경사면과 수직면의 다양한 각도의 동심원 패턴을 연속적으로 노광할 수 있도록 한 이후에 노광되어진 부분을 열처리와 식각, 그리고 세정 등의 공정을 거쳐 평면형 렌즈를 완성함으로써, 기계 가공에 의한 평면형 렌즈 제조 또는 금형을 만들어내는 방식에서의 문제점을 개선하는 평면형 렌즈 가공방법을 제공함에 그 주된 목적이 있다.SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, the present invention has been made to solve the above-mentioned problems occurring in the prior art, and an object of the present invention is to provide a method of manufacturing a plate- After the pattern is allowed to be continuously exposed, the exposed part is subjected to heat treatment, etching, cleaning, and the like to complete the planar lens, thereby improving the problem of manufacturing a planar lens by machining or producing a mold The present invention has been made in view of the above problems.
상기 목적 달성을 위한 본 발명의 평면형 렌즈 가공방법은,According to another aspect of the present invention,
(a) 투과형 소재에 대한 노광 요소를 분석하는 공정;(a) analyzing an exposure factor for a transmissive material;
(b) 상기 (a)공정으로부터 분석된 노광 요소에 따라, 상기 투과형 소재를 회전시키면서 상기 투과형 소재의 식각면에 수직방향으로 광원을 연속 조사하여, 상기 투과형 소재에 동심원 패턴을 위한 수직형 노광부위를 연속 형성하는 공정;(b) sequentially irradiating a light source in a direction perpendicular to an etched surface of the transmissive material while rotating the transmissive material in accordance with the exposure element analyzed in the step (a), thereby forming a vertical exposure region for a concentric circular pattern ;
(c) 상기 (a)공정으로부터 분석된 노광 요소에 따라, 상기 (b)공정으로부터 수직형 노광부위가 연속 형성되는 상기 투과형 소재를 회전시키면서 상기 투과형 소재의 식각면에 경사방향에서 광원을 연속 조사하여, 상기 투과형 소재에 경사홈 패턴을 위한 경사형 노광부위를 연속 형성하는 공정;(c) sequentially irradiating a light source in an oblique direction on the etched surface of the transmissive material while rotating the transmissive material in which the vertical exposure region is continuously formed from the step (b) according to the exposure element analyzed from the step (a) A step of continuously forming an oblique exposure part for an inclined groove pattern in the transmissive material;
(d) 상기 (c)공정 이후에 상기 투과형 소재를 열처리하여, 상기 수직형 노광 부위와 경사형 노광 부위의 소성변화를 촉진시켜 결정화 반응의 변화가 나타나도록 하는 공정; 및,(d) heat-treating the transparent material after the step (c) so as to promote the change of the crystallization reaction by promoting the plasticity change of the vertical exposure area and the oblique exposure area; And
(e) 상기 (d)공정으로부터 나타나는 결정화 반응의 변화 부위를 습식 또는 건식 식각 방식으로 가공 처리하여, 상기 투과형 소재의 식각면에서 광학적 동작이 가능한 부위만 남긴 후 세정하면서, 동심원 패턴과 경사홈 패턴이 연속되는 굴절 광학계가 생성되는 평면형 렌즈를 완성하는 공정; 을 포함하여 진행하는 것이다.(e) processing the change portion of the crystallization reaction represented by the step (d) by a wet or dry etching process, cleaning only the portion that is optically operable on the etched surface of the transparent material, A step of completing a planar lens in which the continuous refracting optical system is produced; .
또한, 상기 (a)공정에서 상기 투과형 소재는 광파장에 반응하는 유리 또는 폴리머 재료인 것이다.In the step (a), the transmissive material is a glass or polymer material that reacts with a light wavelength.
또한, 상기 광파장에 반응하는 유리 또는 폴리머 재료는 집속 평행광에 의해 노광 처리되는 것이다.Further, the glass or polymer material reacting with the light wavelength is subjected to exposure processing by the converging parallel light.
또한, 상기 집속 평행광은 레이저 광원인 것이다.The collimated parallel light is a laser light source.
또한, 상기 노광 요소는 투과형 소재의 일면에 대한 평탄화 상태, 그리고 경사도를 포함하는 것이다.In addition, the exposure element includes a planarized state of one surface of the transmissive material, and an inclination.
또한, 상기 (d)공정에는 투과형 소재의 식각면을 제외한 비식각면은 소정변화에 의한 결정화 반응이 방지되도록 열처리 공정 전에 보호막을 형성하는 공정; 을 더 포함하여 진행하는 것이다.In the step (d), a step of forming a protective film before the heat treatment process so as to prevent the crystallization reaction due to a predetermined change in the non-crystalline surface except for the etched surface of the transmissive material; As shown in FIG.
또한, 상기 투과형 소재의 식각면은 상기 수직형 노광부위 및 경사형 노광 부위를 통해 동심원 패턴과 경사홈 패턴이 연속 생성되는 상기 투과형 소재의 일면이고, 상기 투과형 소재의 비식각면은 상기 투과형 소재의 일면과 반대되는 타면인 것이다.Also, the etched surface of the transmissive material is one surface of the transmissive material in which a concentric pattern and an inclined groove pattern are continuously formed through the vertical exposure portion and the oblique exposure portion, and the non-reflective surface of the transmissive material is a surface Is opposite to the opposite.
이와 같이, 본 발명은 판형의 투과형 소재에 대해 레이저 등의 광학적 노광, 수직과 경사의 복합화 노광을 진행하여 비접촉 방식에 의한 경사면과 수직면의 다양한 각도의 동심원을 연속적으로 노광할 수 있도록 한 이후에 노광되어진 부분을 열처리와 식각, 그리고 세정 등의 공정을 거쳐 평면형 렌즈를 완성하는 것이며, 이를 통해 기계적 마찰에 의해 가공 진행되었던 평면형 렌즈의 제작 공정에 따른 렌즈의 낮은 정밀도와 가공의 난해함, 그리고 소형 렌즈 가공의 어려움을 개선하는 한편, 광학적 가공에 의해 얻을 수 있는 정밀도의 향상과 그에따른 평면형 소형 렌즈의 실현, 그리고 연속적인 가공 및 대량 가공을 가능하게 하는 효과를 기대할 수 있는 것이다.As described above, according to the present invention, the plate-shaped transmissive material is subjected to optical exposure such as laser or composite exposure of vertical and oblique directions, so that concentric circles at various angles of the oblique surface and the vertical surface can be successively exposed by non- And the finished part is subjected to a process such as heat treatment, etching, and cleaning to complete the planar type lens. Through this process, the low precision of the lens and the difficulty of processing due to the manufacturing process of the planar type lens, It is possible to expect the improvement of the precision obtained by the optical processing and the realization of the planar miniature lens accordingly, and the effect of enabling continuous machining and mass machining.
도 1은 본 발명의 실시예로 평면형 렌즈 가공방법에 대한 가공 흐름도.
도 2는 본 발명의 실시예로 투과형 소재에 동심원 패턴을 위한 수직형 노광 부위를 형성하는 상태를 보인 단면 개략도.
도 3은 본 발명의 실시예로 투과형 소재에 경사홈 패턴을 위한 경사형 노광 부위를 형성하는 상태를 보인 단면 개략도.
도 4는 본 발명의 실시예로 투과형 소재의 수직형 및 경사형 노광 부위를 식각하여 동심원 패턴과 경사홈 패턴을 형성하는 상태를 보인 단면 개략도.
도 5는 본 발명의 실시예로 도 4에 대한 평면 개략도.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS Fig. 1 is a processing flow chart for a planar lens processing method according to an embodiment of the present invention; Fig.
FIG. 2 is a schematic cross-sectional view showing a state in which a vertical exposure region for a concentric circular pattern is formed on a transmission type material according to an embodiment of the present invention. FIG.
3 is a schematic cross-sectional view showing a state in which an oblique exposure part for an inclined groove pattern is formed in a transmission type material according to an embodiment of the present invention.
FIG. 4 is a schematic cross-sectional view showing a state in which a vertical and an oblique exposure part of a transmission type material is etched to form a concentric circular pattern and an inclined groove pattern according to an embodiment of the present invention.
Figure 5 is a schematic plan view of Figure 4 in accordance with an embodiment of the present invention;
본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시 예를 참조하면 명확해질 것이다. 그러나 본 발명 기술적 사상의 실시예에 있어서 이하에서 개시되는 실시 예에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 수 있으며, 단지 본 실시 예는 본 발명의 개시가 완전하도록 하고, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명 기술적 사상의 실시예에 있어서 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS The advantages and features of the present invention, and how to accomplish them, will become apparent by reference to the embodiments described in detail below with reference to the accompanying drawings. However, it should be understood that the present invention is not limited to the disclosed embodiments, but may be embodied in many different forms and should not be construed as limited to the embodiments set forth herein. It will be understood by those of ordinary skill in the art that various changes in form and detail may be made therein without departing from the spirit and scope of the invention as defined by the appended claims.
본 명세서에서 사용된 용어는 실시 예들을 설명하기 위한 것이며 본 발명을 제한하고자 하는 것은 아니다. 본 명세서에서, 단수형은 문구에서 특별히 언급하지 않는 한 복수형도 포함한다.The terminology used herein is for the purpose of illustrating embodiments and is not intended to be limiting of the present invention. In the present specification, the singular form includes plural forms unless otherwise specified in the specification.
본 명세서에서, "포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 명세서상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.In this specification, the terms "comprises" or "having ", and the like, specify that the presence of stated features, integers, steps, operations, elements, But do not preclude the presence or addition of one or more other features, integers, steps, operations, components, parts, or combinations thereof.
또한, 본 명세서에서 기술하는 실시 예들은 본 발명의 이상적인 예시도인 단면도 및/또는 평면도들을 참고하여 설명될 것이다. 도면들에 있어서, 막 및 영역들의 두께는 기술적 내용의 효과적인 설명을 위해 과장된 것이다. 따라서, 제조 기술 및/또는 허용 오차 등에 의해 예시도의 형태가 변형될 수 있다. 따라서, 본 발명의 실시 예들은 도시된 특정 형태로 제한되는 것이 아니라 제조 공정에 따라 생성되거나 필요한 형태의 변화도 포함하는 것이다. 예를 들면, 직각으로 도시된 영역은 라운드 지거나 소정 곡률을 가지는 형태일 수 있다. 따라서, 도면에서 예시된 영역들은 개략적인 속성을 가지며, 도면에서 예시된 영역들의 모양은 장치의 영역의 특정 형태를 예시하기 위한 것이며 발명의 범주를 제한하기 위한 것이 아니다.In addition, the embodiments described herein will be described with reference to cross-sectional views and / or plan views, which are ideal illustrations of the present invention. In the drawings, the thicknesses of the films and regions are exaggerated for an effective description of the technical content. Thus, the shape of the illustrations may be modified by manufacturing techniques and / or tolerances. Accordingly, the embodiments of the present invention are not limited to the specific forms shown, but may include variations in shapes that are created or required according to the manufacturing process. For example, the area shown at right angles may be rounded or may have a shape with a certain curvature. Thus, the regions illustrated in the figures have schematic attributes, and the shapes of the regions illustrated in the figures are intended to illustrate specific forms of regions of the apparatus and are not intended to limit the scope of the invention.
명세서 전문에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성 요소를 지칭한다. 따라서, 동일한 참조 부호 또는 유사한 참조 부호들은 해당 도면에서 언급 또는 설명되지 않았더라도, 다른 도면을 참조하여 설명될 수 있다. 또한, 참조 부호가 표시되지 않았더라도, 다른 도면들을 참조하여 설명될 수 있다.Like reference numerals refer to like elements throughout the specification. Accordingly, although the same reference numerals or similar reference numerals are not mentioned or described in the drawings, they may be described with reference to other drawings. Further, even if the reference numerals are not shown, they can be described with reference to other drawings.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 설명하기로 한다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.
도 1은 본 발명의 실시예로 평면형 렌즈 가공방법에 대한 가공 흐름도를 도시한 것이다.Fig. 1 shows a processing flow chart for a planar lens processing method according to an embodiment of the present invention.
첨부된 도 1을 참조하면, 본 발명의 실시예에 따른 평면형 렌즈 가공방법은 (a)공정, (b)공정, (c)공정, (d)공정, 그리고 (e)공정으로 진행되는 것이다.Referring to FIG. 1, a method of processing a planar lens according to an embodiment of the present invention includes steps (a), (b), (c), (d), and (e).
상기 (a)공정은 광파장에 반응하는 유리 또는 폴리머 재료인 투과형 소재(100)의 노광 요소를 분석하는 것이다.The step (a) is to analyze the exposure element of the
여기서, 상기 노광 요소는 상기 투과형 소재(100)의 식각면(D1)인 일면에 대한 평탄화 상태, 그리고 경사도이며, 상기 노광 요소에 대한 분석은 평탄화와 경사도를 측정할 수 있는 공지의 분석장비를 통해 분석하는 것이다.Here, the exposure element is a planarization state and an inclination of a surface of the
상기 (b)공정은 상기 투과형 소재(100)의 식각면(D1)에 1차적으로 집속 평행광인 레이저 광원을 수직방향(Q11)에서 조사하면서 수직형 노광 부위(N1)를 형성하도록 하는 것이다.In the step (b), the vertical exposure region N1 is formed while irradiating the laser light source, which is primarily the converging parallel light, on the etched surface D1 of the
즉, 상기 (b)공정은 중심축(R)을 중심으로 회전하는 턴테이블(미도시)이 마련되는 장비(미도시)에 투과형 소재(100)를 장착 고정하여둔 상태에서, 상기 (a)공정으로부터 분석된 평탄화의 노광 요소에 따라, 첨부된 도 2에서와 같이 상기 투과형 소재(100)가 장착 고정된 턴테이블을 회전시키면서 1차적으로 집속 평행광인 레이저 광원을 수직방향(Q11)에서 상기 투과형 소재(100)에 연속 조사하여, 상기 투과형 소재(100)의 식각면(D1)에 동심원 상의 서로 다른 연속되는 동심원 패턴을 형성하기 위한 수직형 노광부위(N1)를 형성하여두는 것이다.That is, in the step (b), while the
다음의 (c)공정으로서, 상기 (b)공정으로부터 수직형 노광 부위(N1)가 형성되는 투과형 소재(100)에 2차적으로 집속 평행광인 레이저 광원을 경사방향(Q12)에서 연속 조사하면서 상기 수직형 노광 부위(N1)와 중복되는 경사형 노광 부위(N2)를 형성하는 것이다.In the next step (c), the laser beam source, which is a second-order converging parallel beam, is continuously irradiated in the oblique direction Q12 to the
즉, 상기 (c)공정은 중심축(R)을 중심으로 회전하는 턴테이블(미도시)이 마련되는 장비(미도시)에 투과형 소재(100)를 장착 고정하여둔 상태에서, 상기 (a)공정으로부터 분석된 경사도의 노광 요소에 따라, 첨부된 도 3에서와 같이 상기 (b)공정으로부터 수직형 노광부위(N1)가 형성되는 상기 투과형 소재(100)를 턴테이블을 이용하여 회전시키면서 2차적으로 집속 평행광인 레이저 광원을 경사방향(Q12)에서 연속 조사하여, 상기 투과형 소재(100)의 식각면(D1)에서 상기 수직형 노광부위(N1)의 사이에 경사형 노광부위(N2)를 형성하는 것이다.That is, in the step (c), while the
여기서, 본 발명의 실시예에서는 상기 (b)공정의 수직형 노광 부위(N1)를 형성한 이후에, 상기 수직형 노광 부위(N1)에 중복되도록 상기 (c)공정의 경사형 노광 부위(N2)를 순차적으로 형성하는 것으로 설명하였지만, 상기 (b)공정과 상기 (c)공정을 역순으로 진행할 수도 있는 것이다.Here, in the embodiment of the present invention, after the vertical exposure region N1 of the step (b) is formed, the oblique exposure region N2 of the step (c) may be overlapped with the vertical exposure region N1 (B) and (c) may be performed in the reverse order.
즉, 상기 투과형 소재(100)의 식각면(D1)에 상기 (c)공정의 경사형 노광 부위(N2)를 형성한 후 이에 중복되도록 상기 (b)공정의 수직형 노광 부위(N1)를 형성하면서, 상기 투광형 소재(100)의 식각면(D1)에 형성되는 경사형 노광부위(N2)의 사이에 수직형 노광부위(N1)를 형성할 수도 있는 것이다.That is, after the oblique exposure portion N2 of the step (c) is formed on the etched surface D1 of the
다음의 (d)공정으로서, 상기 (c)공정 또는 상기 (b)공정 이후에 상기 투과형 소재(100)를 열처리하는 것이다.As the next step (d), the
즉, 상기 경사형 노광부위(N2) 또는 상기 경사형 노광부위(N1)가 순차적으로 형성된 상태에서, 열처리를 통해 상기 수직형 노광 부위(N1)와 경사형 노광 부위(N2)의 소성변화를 촉진시켜 결정화 반응의 변화가 나타나도록 하는 것이다.That is, in the state where the oblique exposure portion N2 or the oblique exposure portion N1 is sequentially formed, the plasticity change of the vertical exposure portion N1 and the oblique exposure portion N2 is promoted through heat treatment So that the change of the crystallization reaction occurs.
여기서, 상기 투과형 소재(100)에 대한 열처리 이전에, 첨부된 도 4에서와 같이 상기 투과형 소재(100)의 타면인 비식각면(D2)에는 보호막(200)을 형성하게 되며, 이는 상기 비삭각면(D2)이 열처리 과정에서 소정변화에 의한 결정화 반응이 나타나는 것을 방지하기 위함인 것이다.4, the
다음의 (e)공정으로서, 상기 (d)공정으로부터 나타나는 결정화 반응의 변화 부위를 습식 또는 건식 식각 방식으로 가공 처리하여 제거되어야 하는 희생영역을 제거하고 광학적 동작이 가능한 부위만을 남기면, 첨부된 도 4 및 도 5에서와 같이 상기 투과형 소재의 식각면(D1)에는 수직형 노광부위(N1)에 의해 형성되는 동심원 패턴(P1), 그리고 경사형 노광부위(N2)에 의해 형성되는 경사홈 패턴(P2)이 연속되는 굴절 광학계가 생성된 평면형 렌즈(100')를 완성할 수 있게 되는 것이다.In the next step (e), if the change part of the crystallization reaction appearing in the step (d) is processed by a wet or dry etching method to remove the sacrifice area to be removed and only the part capable of optical operation is left, 5, a concentric circular pattern P1 formed by the vertical exposure region N1 and an oblique groove pattern P2 formed by the oblique exposure region N2 are formed on the etched surface D1 of the transmissive material, The planar lens 100 'in which the continuous refracting optical system is formed can be completed.
이후에, 상기와 같이 동심원 패턴(P1)과 경사홈 패턴(P2)이 연속되는 굴절 광학계가 생성된 상기 평면형 렌즈(100')를 세정하면, 본 발명의 실시예에 따른 평면형 렌즈(100')의 가공이 종료되는 된다.When the planar lens 100 'in which the refracting optical system in which the concentric circular pattern P1 and the oblique groove pattern P2 are continuous is cleaned as described above, the planar lens 100' according to the embodiment of the present invention is cleaned. As shown in Fig.
그러면, 본 발명의 실시예에 따른 평면형 렌즈(100')는 기계적 마찰에 의해 가공 진행되었던 제작 공정에 따른 낮은 정밀도와 가공의 난해함, 그리고 소형 렌즈 가공의 어려움이 개선될 수 있게 되면서, 광학적 가공에 의해 얻을 수 있는 정밀도의 향상과 그에따른 평면형 소형 렌즈의 실현, 그리고 연속적인 가공은 물론 대량 가공이 가능하게 되는 것이다.Therefore, the planar lens 100 'according to the embodiment of the present invention can improve the precision, the difficulty of machining, and the difficulty of machining a small lens according to the manufacturing process, which has been progressed by mechanical friction, It is possible to achieve the improvement of the precision that can be obtained by the planar compact lens and the mass processing as well as the continuous processing.
이상에서 본 발명의 평면형 렌즈 가공방법에 대한 기술사상을 첨부도면과 함께 서술하였지만, 이는 본 발명의 가장 양호한 실시예를 예시적으로 설명한 것이지 본 발명을 한정하는 것은 아니다.While the present invention has been described in connection with what is presently considered to be practical exemplary embodiments, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed embodiments.
따라서, 본 발명은 상술한 특정의 바람직한 실시예에 한정되지 아니하며, 청구범위에서 청구하는 본 발명의 요지를 벗어남이 없이 당해 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 누구든지 다양한 변형 실시가 가능한 것은 물론이고, 그와같은 변경은 청구범위 기재의 범위내에 있게 된다.It will be apparent to those skilled in the art that various modifications and variations can be made in the present invention without departing from the spirit and scope of the invention as defined by the appended claims. It is to be understood that such changes and modifications are within the scope of the claims.
Claims (7)
(b) 상기 (a)공정으로부터 분석된 노광 요소에 따라, 상기 투과형 소재를 회전시키면서 상기 투과형 소재의 식각면에 수직방향으로 광원을 연속 조사하여, 상기 투과형 소재에 동심원 패턴을 위한 수직형 노광부위를 연속 형성하는 공정;
(c) 상기 (a)공정으로부터 분석된 노광 요소에 따라, 상기 (b)공정으로부터 수직형 노광부위가 연속 형성되는 상기 투과형 소재를 회전시키면서 상기 투과형 소재의 식각면에 경사방향에서 광원을 연속 조사하여, 상기 투과형 소재에 경사홈 패턴을 위한 경사형 노광부위를 연속 형성하는 공정;
(d) 상기 (c)공정 이후에 상기 투과형 소재를 열처리하여, 상기 수직형 노광 부위와 경사형 노광 부위의 소성변화를 촉진시켜 결정화 반응의 변화가 나타나도록 하는 공정; 및,
(e) 상기 (d)공정으로부터 나타나는 결정화 반응의 변화 부위를 습식 또는 건식 식각 방식으로 가공 처리하여, 상기 투과형 소재의 식각면에서 광학적 동작이 가능한 부위만 남긴 후 세정하면서, 동심원 패턴과 경사홈 패턴이 연속되는 굴절 광학계가 생성되는 평면형 렌즈를 완성하는 공정; 을 포함하여 진행하는 것을 특징으로 하는 평면형 렌즈 가공방법.(a) analyzing an exposure factor for a transmissive material;
(b) sequentially irradiating a light source in a direction perpendicular to the etched surface of the transmissive material while rotating the transmissive material in accordance with the exposure element analyzed in the step (a), and forming a vertical exposure region ;
(c) sequentially irradiating a light source in an oblique direction on an etched surface of the transmissive material while rotating the transmissive material in which a vertical exposure area is continuously formed from the step (b) according to the exposure element analyzed from the step (a) A step of continuously forming an oblique exposure part for an inclined groove pattern in the transmissive material;
(d) heat-treating the transparent material after the step (c) so as to promote the change of the crystallization reaction by promoting the plasticity change of the vertical exposure area and the oblique exposure area; And
(e) processing the change portion of the crystallization reaction represented by the step (d) by a wet or dry etching process, cleaning only the portion that is optically operable on the etched surface of the transparent material, A step of completing a planar lens in which the continuous refracting optical system is produced; Wherein the step of processing the planar lens comprises the steps of:
상기 (a)공정에서 상기 투과형 소재는 광파장에 반응하는 유리 또는 폴리머 재료인 것을 특징으로 하는 평면형 렌즈 가공방법.The method according to claim 1,
Wherein in the step (a), the transmissive material is a glass or polymer material that reacts with a light wavelength.
상기 광파장에 반응하는 유리 또는 폴리머 재료는 집속 평행광에 의해 노광 처리하는 것을 특징으로 하는 평면형 렌즈 가공방법.3. The method of claim 2,
Wherein the glass or polymer material reacting with the light wavelength is subjected to exposure processing by the converging parallel light.
상기 집속 평행광은 레이저 광원인 것을 특징으로 하는 평면형 렌즈 가공방법.The method of claim 3,
Wherein the collimated parallel light is a laser light source.
상기 노광 요소는 투과형 소재의 일면에 대한 평탄화 상태, 그리고 경사도를 포함하는 것을 특징으로 하는 평면형 렌즈 가공방법.The method according to claim 1,
Wherein the exposure element includes a planarized state of one surface of the transmissive material and an inclination.
상기 (d)공정에는 투과형 소재의 식각면을 제외한 비식각면은 소정변화에 의한 결정화 반응이 방지되도록 열처리 공정 전에 보호막을 형성하는 공정; 을 더 포함하여 진행하는 것을 특징으로 하는 평면형 렌즈 가공방법.The method according to claim 1,
In the step (d), a step of forming a protective film before a heat treatment process so as to prevent a crystallization reaction due to a predetermined change in an inviscid facet excluding an etched face of the transmissive material; Wherein the step of forming the planar lens comprises the steps of:
상기 투과형 소재의 식각면은 상기 수직형 노광부위 및 경사형 노광 부위를 통해 동심원 패턴과 경사홈 패턴이 연속 생성되는 상기 투과형 소재의 일면이고, 상기 투과형 소재의 비식각면은 상기 투과형 소재의 일면과 반대되는 타면인 것을 특징으로 하는 평면형 렌즈 가공방법.The method according to claim 6,
Wherein the etched surface of the transmissive material is one surface of the transmissive material in which a concentric circular pattern and an inclined groove pattern are continuously formed through the vertical exposure portion and the oblique exposure portion and the non-reflective surface of the transmissive material is opposite to the one surface of the transmissive material And the second surface is a surface opposite to the first surface.
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| JP2002117756A (en) * | 2000-10-05 | 2002-04-19 | Fujitsu Ltd | Method for manufacturing original die for barrier rib transfer and barrier rib forming method |
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