KR20180027558A - 복사선 소스의 복사선 분포의 최적화 - Google Patents
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Abstract
본 발명은, a. 광원(12); b. 제1 광학 요소(14), c. 센서(15, 16, 17)를 포함하는, 복사선 소스(10)에 관한 것으로서, 상기 센서(15, 16, 17)는, 상기 센서(15, 16, 17)가, 상기 복사선 소스(10)의 광학 특성에 영향을 미치는 시간 경과에 따른 상기 제1 광학 요소(14)의 크기의 변화를 결정하기 위해 사용될 수 있도록 하는 방식으로, 적절하게 구성되며 그리고 적절하게 상기 제1 광학 요소(14)에 연결되는 것인, 복사선 소스(10)에 관한 것이다. 본 발명은 또한, 본 발명에 따른 복사선 소스(10)를 제공함에 의한, 제품을 제조하는 방법뿐만 아니라, 출발 물질에서 제품으로의 상태의 변환 또는 변경의 효율을 증가시키기 위한, 복사선 소스(10)의 용도에 관한 것이다.
Description
본 발명은, 광원, 제1 광학 요소, 센서를 포함하는, 복사선 소스에 관한 것으로서, 상기 센서는, 상기 센서가, 상기 복사선 소스의 광학 특성에 영향을 미치는 시간 경과에 따른 상기 광학 요소의 파라미터의 변화를 결정하도록, 적절하게 설계되며 그리고 상기 광학 요소에 적절하게 연결되는 것인, 복사선 소스에 관한 것이다. 본 발명은 또한, 출발 물질의 제공, 본 발명에 따른 복사선 소스의 제공 및 상기 복사선 소스에 의한 상기 출발 물질의 조명을 수반하는, 제품을 제조하는 방법에 관한 것이다.
복사선 소스들은, 매우 다양한 적용 분야에 활용된다. 정밀도, 내구성 또는 강도에 관한 요건들은, 사용 분야에 따라 매우 상이할 수 있다. 따라서, 표면, 물체 또는 액체의 균질한 조명에 사용되는 복사선 소스의 하나의 중요한 요건은, 복사선 소스로부터의 균질한 방출의 안정적인 제공이다. 종래기술은, 예를 들어 복사선 소스의 특성을 확인함으로써, 균질한 방출을 제공하고자 하는 많은 시도를 포함한다. 따라서, DE 10 2012 008 930 A1은, 대표적인 공간을 가로지르는 광 소스들의 강도를 연속적으로 측정하는 카메라에 의한, 광 소스들의 조명 출력의 모니터링을 설명한다. 그러나, 이것은, 전체 조명 시스템의 조명 출력보다는 단지 광 소스들의 강도만을 고려한다. 이러한 시스템을 사용하면, 조리개들, 렌즈들 또는 다른 광학 요소들와 같은, 다른 구성요소들에 의해 영향을 받는, 빔 분포를 모니터링하는 것이 불가능하다.
개괄적으로, 본 발명의 목적은, 종래기술에 따라 초래되는 단점을 적어도 부분적으로 극복하는 것이다.
본 발명의 목적은, 최적으로 효율적인 작동을 가능하게 하는 복사선 소스를 제공하는 것이다.
다른 목적은, 가능한 최소한의 유지 보수 요구를 발생시키며 그리고 낮은 고장률(failure rate)을 갖는 복사선 소스를 제공하는 것이다.
또 다른 목적은, 복사선의 최적의 균질한 분포를 가능하게 하는 복사선 소스를 제공하는 것이다.
또 다른 목적은, 복사선의 분포가 모니터링되는 것을 허용하는, 복사선 소스를 제공하는 것이다.
더불어, 본 발명의 목적은, 복사선 소스에 의한 조명에 대한 품질 제어를 가능하게 하는 것이다.
본 발명의 목적은, 효율적으로, 저렴하게, 그리고 안전하게 구현될 수 있는, 제품을 제조하는 방법을 제공하는 것이다.
또 다른 목적은, 복사선 소스의 효율적인 사용을 가능하게 하는, 센서를 이용하는 것이다.
나아가, 본 발명의 목적은, 출발 물질로부터의 제품의 제조 절차를 최적화하는 것이다.
본 발명의 목적은, 제품을 제조할 수 있도록 하는 것, 특히 낮은 폐기율(scrap rate)과 더불어 더욱 효율적으로, 물체 및 니스의 건조 및 올리고머의 중합 반응을 가능하게 하는 것이다.
또 다른 목적은, 더욱 균일한 품질 및 더 낮은 유지 보수의 강도를 갖는, 프린터를 제공하는 것이다.
다른 목적은, 프린터의 수명을 최적화하는 것이다.
실시예들
[1] 복사선 소스로서,
a. 광원;
b. 제1 광학 요소;
c. 센서,
를 포함하고,
상기 센서는, 상기 센서가, 상기 복사선 소스의 광학 특성에 영향을 미치는 시간 경과에 따른 상기 광학 요소의 파라미터의 변화를 결정하기 위해 사용될 수 있도록, 적절하게 설계되며 그리고 적절하게 상기 광학 요소에 적절하게 연결되는 것인, 복사선 소스.
[2] 실시예 [1]에 있어서,
상기 광학 요소는 브래킷을 포함하며, 그리고 상기 센서는 상기 브래킷에 의해 상기 광학 요소에 연결되는 것인, 복사선 소스.
[3] 실시예 [1] 또는 실시예 [2]에 있어서,
상기 브래킷은, 둘레 라인을 따라, 상기 둘레 라인의 적어도 50 %에 걸쳐, 상기 광학 요소를 둘러싸는 것인, 복사선 소스.
[4] 실시예 [1] 내지 실시예 [3] 중 어느 하나의 실시예에 있어서,
상기 브래킷은, 상기 브래킷의 전체 중량에 대해, 적어도 50 중량%의, 금속, 세라믹, 서멧(cermet), 중합체, 또는 이들 중의 적어도 2개의 조합을 포함하는 것인, 복사선 소스.
[5] 실시예 [4]에 있어서,
상기 금속은, 철, 강철, 구리, 알루미늄, 마그네슘, 티타늄, 텅스텐, 니켈, 탄탈, 니오븀, 이러한 금속들 중의 적어도 2개의 합금, 구리 및 아연의 합금, 납, 니켈, 망간, 또는 실리콘, 또는 이들 중의 적어도 2개의 혼합물로 이루어지는 그룹으로부터 선택되는 것인, 복사선 소스.
[6] 실시예 [1] 내지 실시예 [5] 중 어느 하나의 실시예에 있어서,
상기 센서는, 온도 센서, 신장계(extensometer), 광학 센서, 용량형 센서, 유도형 센서, 또는 이들 중의 적어도 2개의 조합으로 이루어지는 그룹으로부터 선택되는 것인, 복사선 소스.
[7] 실시예 [1] 내지 실시예 [6] 중 어느 하나의 실시예에 있어서,
상기 센서는, 상기 광원에 의해 방출되는 복사선의 10 % 초과가 상기 센서에 충돌하도록 상기 광학 요소에 적절하게 연결되는 것인, 복사선 소스.
[8] 실시예 [1] 내지 실시예 [7] 중 어느 하나의 실시예에 있어서,
상기 센서는, 상기 광원에 의해 방출되는 상기 복사선의 20 % 미만이 상기 센서에 충돌하도록 상기 광학 요소에 적절하게 연결되는 것인, 복사선 소스.
[9] 실시예 [1] 내지 실시예 [8] 중 어느 하나의 실시예에 있어서,
상기 센서는, 상기 광학 요소의 팽창이 공간에 대한 3개의 방향 모두에 관해 결정될 수 있도록, 상기 광학 요소에 적절하게 연결되는 것인, 복사선 소스.
[10] 실시예 [1] 내지 실시예 [9] 중 어느 하나의 실시예에 있어서,
상기 복사선 소스는, 1개 내지 100개의 범위 내의 개수의 센서를 포함하는 것인, 복사선 소스.
[11] 실시예 [1] 내지 실시예 [10] 중 어느 하나의 실시예에 있어서,
상기 센서는, 상기 광학 요소의 에지 상에 배열되는 것인, 복사선 소스.
[12] 실시예 [1] 내지 실시예 [11] 중 어느 하나의 실시예에 있어서,
상기 센서는, 상기 광원의 주 방출 방향에 수직으로 위치하게 되는, 상기 광학 요소의 적어도 표면을 둘러싸는 것인, 복사선 소스.
[13] 실시예 [1] 내지 실시예 [12] 중 어느 하나의 실시예에 있어서,
상기 센서는, 상기 광학 요소의 둘레 라인을 따라, 상기 광학 요소를 둘러싸는 것인, 복사선 소스.
[14] 실시예 [1] 내지 실시예 [13] 중 어느 하나의 실시예에 있어서,
상기 복사선 소스는, 적어도 3개의 센서를 포함하는 것인, 복사선 소스.
[15] 실시예 [14]에 있어서,
상기 적어도 3개의 센서는, 평면 내에 배열되고, 상기 3개의 센서에 의해 한정되는 가능한 가장 큰 표면이, 상기 센서들과 동일한 평면 내에 위치하게 되는 상기 광학 요소의 표면의 적어도 1/3을 포함하는 것인, 복사선 소스.
[16] 실시예 [1] 내지 실시예 [15] 중 어느 하나의 실시예에 있어서,
상기 센서의 길이는, 적어도 상기 광학 요소의 가장 큰 외주의 길이에 대응하는 것인, 복사선 소스.
[17] 실시예 [1] 내지 실시예 [16] 중 어느 하나의 실시예에 있어서,
상기 광학 요소는, 렌즈, 반사기, 조리개, 프리즘, 거울, 또는 이들 중의 적어도 2개의 조합으로 이루어지는 그룹으로부터 선택되는 것인, 복사선 소스.
[18] 실시예 [17]에 있어서,
상기 복사선 소스는, 추가의 광학 요소를 포함하는 것인, 복사선 소스.
[19] 실시예 [1] 내지 실시예 [18] 중 어느 하나의 실시예에 있어서,
상기 광원은, 100 nm 내지 10 ㎛의 파장 범위 내의 광을 방출하는 것인, 복사선 소스.
[20] 제품을 제조하는 방법으로서,
i. 출발 물질을 제공하는 단계;
ii. 실시예 [1] 내지 실시예 [18] 중 어느 하나의 실시예에 따른 복사선 소스를 제공하는 단계;
iii. 제품을 획득하기 위해 상기 복사선 소스로 상기 출발 물질을 조명하는 단계
를 포함하는 것인, 제품 제조 방법.
[21] 실시예 [20]에 있어서,
상기 제품은, 상기 출발 물질의 상태의 변화를 통해 획득되는 것인, 방법.
[22] 실시예 [20]에 있어서,
상기 제품은, 변환 프로세스에 의해 상기 출발 물질로부터 획득되는 것인, 방법.
[23] 실시예 [20] 또는 실시예 [21]에 있어서,
상기 제품은, 액상, 물체, 상기 출발 물질의 상태의 변화로 이루어지는 그룹으로부터 선택되는 것인, 방법.
[24] 센서의 용도로서,
실시예 [1] 내지 실시예 [19] 중 어느 하나의 실시예에 따른 복사선 소스의 빔 분포의 균질화를 위한 센서의 용도.
[25] 실시예 [1] 내지 실시예 [19] 중 어느 하나에 따른 복사선 소스의 용도로서,
제품으로의 출발 물질의 상태의 변화 또는 변환의 효율을 증가시키기 위한 것인, 복사선 소스의 용도.
카테고리 형성 청구항들의 대상은, 위에 구체화된 목적들 중 적어도 하나를 충족시키는데 기여한다. 상기 카테고리 형성 청구항들에 의존하는 종속항들의 대상은, 바람직한 개선예들이다.
본 발명의 제1 대상은, 복사선 소스로서,
a. 광원;
b. 제1 광학 요소;
c. 센서,
를 포함하고,
상기 센서는, 상기 센서가, 예를 들어 복사선의 분포와 같은 상기 복사선 소스의 광학 특성에 영향을 미치는, 시간 경과에 따른 상기 광학 요소의 파라미터의 변화를 결정하기 위해 사용될 수 있도록, 적절하게 설계되며 그리고 적절하게 상기 광학 요소에 연결되는 것인, 복사선 소스이다.
복사선 소스는, 당업자가 복사선을 생성하기 위해 사용할 수 있는, 임의의 복사선 소스일 수 있다. 바람직하게, 복사선 소스는, 예를 들어, 광원, 제1 광학 요소 또는 센서를 외부 영향으로부터 보호하기 위한, 하우징을 포함한다. 상기 하우징은, 당업자가 이러한 목적을 위해 선택할 수 있는, 임의의 재료로 이루어질 수 있다. 바람직하게, 하우징은, 금속, 세라믹 재료, 서멧, 플라스틱 재료, 목재, 유리, 또는 이들 중의 적어도 2개의 조합으로 이루어지는 그룹으로부터 선택되는 재료를 포함한다. 바람직하게, 하우징은, 금속, 세라믹 재료, 서멧, 중합체, 또는 이들 중의 적어도 2개의 조합으로 이루어지는 그룹으로부터 선택되는 재료를 포함한다. 금속, 세라믹 재료, 플라스틱 재료는, 브래킷에 대해 설명된 것과 같은, 동일한 목록으로부터 선택될 수 있다. 바람직하게, 하우징은, 브래킷에 대해 설명된 바와 같은, 재료를 포함한다. 더불어, 하우징은 바람직하게, 하우징의 전체 중량에 대해, 적어도 90 중량%의 알루미늄을 포함한다. 하우징의 형상은, 당업자가 이러한 목적을 위해 선택할 수 있는, 임의의 형상일 수 있다. 바람직하게, 하우징의 형상은, 복사선 소스의 모든 구성요소들을 수용할 수 있도록 그리고 동시에 광원의 광이 하우징의 외부에서 활용되는 것을 허용하기 위한 개구를 포함하도록, 적절하게 선택된다.
광원은, 당업자가 복사선 소스로 사용할 수 있는, 임의의 광원일 수 있다. 광원은, 각각 복사선 소스의 광학 요소에 각각 할당되는, 복사선을 생성하기 위한 수단으로 이해되어야 한다. 이러한 맥락에서, 광원은, 예를 들어 하나 이상의 LED와 같은, 예를 들어, 하나 이상의 LED 칩, 또는 복수의 LED 또는 LED 칩을 갖는 하나 이상의 LED 어레이의 형태의, 복수의 광 소스를 포함할 수 있다. 마찬가지로, 제1 광학 요소는, 렌즈, 반사기, 거울 또는 이와 유사한 것과 같은, 복수의 광학 유닛을 포함할 수 있다. 바람직하게, 광원은, 출발 물질을 특수하게 조명할 수 있는 특정 파장 범위를 포함한다. 예를 들어, 이는, IR 범위 또는 UV 범위의 광원일 수 있지만, 가시광선 범위에서도 마찬가지이다. 광원은 바람직하게, 요구되는 파장 범위에서 효율적으로 광을 방출하도록 적절하게 설계된다. 바람직하게, 광원은, 공간의 요구되는 방향으로 광을 방출한다. 바람직하게, 광원은, 주 방출 방향을 포함한다. 바람직하게, 주 방출 방향은, 복사선 소스 내부에서의 광원의 배향에 의해 사전 결정된다. 또한, 광원의 주 방출 방향은 바람직하게, 광원 자체의 설계에 의해 결정된다. 광원 자체가 주 방출 방향을 포함하지 않는 경우, 주 방출 방향은, 제1 요소 및 추가의 요소에 대한 광원의 배열에 의해 한정될 것이다. 바람직하게, 광원의 주 방출 방향은, 제1 광학 요소 및 추가의 광학 요소의 중심들을 통해 연장된다. 주 방출 방향은, 조리개들, 렌즈들, 반사기들, 프리즘들, 또는 이들의 조합과 같은, 광학 요소들의 배열을 통해 한정될 수 있다.
광원은 바람직하게, 할로겐 램프, 수은 증기 램프, LED, LED 칩, LED 어레이, 레이저, 및 에너지 절약 램프로 이루어지는 그룹으로부터 선택된다. 또한 바람직하게, 광원은, LED, LED 칩, LED 어레이, 또는 이들 중 적어도 2개의 조합으로 이루어지는 그룹으로부터 선택된다. LED 어레이는 바람직하게, 1 내지 2000의 범위, 바람직하게 2 내지 1500의 범위, 또는 바람직하게 3 내지 1000의 범위 내의, 개수의 LED를 포함한다. 바람직하게, 광원은, 모든 LED 어레이의 방출 방향이 바람직하게 동일하도록 서로 인접하게 배열되는 것이 바람직한, 복수의 LED 어레이를 포함한다. 바람직하게, 광원은, 광원으로부터 0.5 cm 내지 1 m의 거리에서, 1000 mW/cm2 내지 15000 W/cm2의 범위, 또는 바람직하게 2000 mW/cm2 내지 10000 W/cm2의 범위, 또는 바람직하게 5,000 mW/cm2 내지 5,000 W/cm2의 범위 내의 조명 강도를 달성한다. 복사선 소스는, 2개 초과의 광원을 포함할 수 있다. 바람직하게, 복사선 소스는, 1 내지 100의 범위, 또는 바람직하게 2 내지 50의 범위, 또는 바람직하게 2 내지 40의 범위 내에 놓이는, 개수의 광원을 포함한다.
바람직하게, 광원은, 광원 및 복사선 소스가 과열되는 것을 방지하기 위해 냉각 유닛에 연결된다. 냉각 유닛은 바람직하게, 적어도 광원을, 20 내지 100 ℃의 범위, 바람직하게 25 내지 95 ℃의 범위, 또는 바람직하게 30 내지 90 ℃의 범위 내의 온도로 냉각시키는데 적합하다. 광원은 바람직하게, 광원에 속하는 개별적인 광 소스들을 적어도 부분적으로 포함하는, 장착 부재를 포함한다. 바람직하게, 장착 부재는, 출사 개구의 형태의 개구를 포함한다. 장착 부재는, 하우징의 재료들과 같은 동일한 목록에서 선택될 수 있다. 장착 부재는 바람직하게, 복사선 소스의 하우징과 같은 동일한 재료를 포함한다. 바람직하게, 광원 및/또는 광원의 장착 부재의 크기는, 1 mm3 내지 500 m3의 범위, 또는 바람직하게 1.5 mm3 내지 300 m3의 범위, 또는 바람직하게 3 mm3 내지 200 m3의 범위 내에 놓인다. 상기 체적은, 장착 부재의 개구가 또한 폐쇄되는 것으로 가정함으로써, 결정될 수 있다. 또한 바람직하게, 광원은, 2:1 내지 1:2의 범위, 바람직하게 1:1의 범위의 출사 윈도우(exit window)의 종횡비를 포함한다. 출사 윈도우의 종횡비는, 폭 대 높이의 비율로 이해되어야 한다. 출사 윈도우의 높이는 바람직하게, 2 mm 내지 10 m의 범위, 또는 바람직하게 0.5 cm 내지 5 m의 범위, 또는 바람직하게 1 cm 내지 1 m의 범위 내에 놓인다.
광학 요소는, 당업자가 복사선 소스를 위해 사용할 수 있는, 임의의 광학 요소일 수 있다. 이후에 광학 요소가 제1 광학 요소 또는 추가의 광학 요소와 관련되는지 명시하지 않고 광학 요소가 참조되는 경우, 이는 항상, 제1 광학 요소를 지칭할 것이다. 바람직하게, 제1 광학 요소는, 렌즈, 반사기, 조리개, 프리즘, 거울, 또는 이들 중 적어도 2개의 조합으로 이루어지는 그룹으로부터 선택된다. 또한 바람직하게, 복사선 소스는, 하나 초과의 광학 요소를 포함한다. 제1 광학 요소는, 렌즈인 것이 바람직하다. 또한 바람직하게, 제1 광학 요소는, 양면 볼록 렌즈, 평면-볼록 렌즈, 오목-볼록 렌즈, 양면 오목 렌즈, 평면-오목 렌즈, 볼록-오목 렌즈, 또는 이들 중의 적어도 2개의 조합으로 이루어지는 그룹으로부터 선택되는, 렌즈이다. 렌즈는, 양면 볼록 렌즈인 것이 바람직하다. 광학 요소는, 바람직하게 유리, 석영, 중합체, 실리콘, 또는 이들 중의 적어도 2개의 조합으로 이루어지는 그룹으로부터 선택되는 재료를 포함할 수 있다. 유리 또는 석영은, 광학 요소를 위해 당업자가 사용할 수 있는, 임의의 유리 또는 석영일 수 있다. 중합체는 바람직하게, 폴리메틸메타크릴레이트(PMMA), 폴리카보네이트(PC), 에틸렌-노르보르넨 공중합체와 같은 시클로-올레핀 (공)중합체, 또는 이들 중의 적어도 2개의 혼합물로 이루어지는 그룹으로부터 선택된다.
바람직하게, 광학 요소의 크기는, 0.1 내지 5000 cm3의 범위, 또는 바람직하게 0.5 내지 3000 cm3의 범위, 또는 바람직하게 1 내지 1500 cm3의 범위 내에 놓인다. 바람직하게, 광학 요소는, 광원의 장착 부재와 동일한 치수를 갖는다. 바람직하게, 광학 요소는, 원형, 타원형, 삼각형, 사각형, 오각형, 육각형, 바람직하게 7 내지 20개의 모서리를 갖는 다-각형, 또는 이들 중의 적어도 2개의 조합으로 이루어지는 그룹으로부터 선택되는 형상의, 적어도 하나의 둘레 라인을 포함한다. 바람직하게, 광학 요소는, 직사각형, 정사각형 또는 타원형 형상을 갖는다. 바람직하게, 광학 요소의 둘레 라인은, 광원의 장착 부재의 출사 윈도우와 동일한 형상 및 치수를 갖는다.
센서는, 복사선 소스를 위해 당업자가 선택할 수 있는, 임의의 센서일 수 있다. 광학 요소의 파라미터의 변화가 검출되는 것을 허용하는 임의의 센서가, 센서로서 사용될 수 있다. 본 발명의 범위 내에서, 파라미터는, 광학 요소와 상호 작용하는, 광원의 복사선에 영향을 미칠 수 있는 광학 요소의 특성으로 이해되어야 한다. 바람직하게, 파라미터는, 온도, 형상, 체적, 광원에 대한 제1 광학 요소의 위치, 또는 이들 중의 적어도 2개의 조합으로 이루어지는 그룹으로부터 선택된다. 본 발명의 범위 내에서, 광학 요소의 파라미터의 변화는, 광학 요소의 파라미터가, 시간 경과에 따라, 예를 들어 수명 동안, 또는 복사선 소스의 작동 시간에 걸쳐, 검출 가능한 증분 만큼 변화한다는 것을, 의미하는 것으로 이해되어야 한다. 변화가 감지될 수 있는지 여부는, 몇 가지 인자에 의존할 수 있다. 예를 들어, 파라미터의 변화의 검출 가능성은, 센서의 감도에 의존한다. 센서가 사용되는 위치에 의존하여, 광학 요소 또는 브래킷의 재료 특성이 또한, 파라미터의 변화에 대한 검출 가능성에 영향을 미칠 수 있다. 마찬가지로, 광학 요소와 브래킷 사이의 연결의 유형이, 파라미터의 변화의 검출 가능성에 영향을 미칠 수 있다. 바람직하게, 센서는, 온도 센서, 신장계, 광학 센서, 용량형 센서, 유도형 센서, 또는 이들 중의 적어도 2개의 조합으로 이루어지는 그룹으로부터 선택된다. 성능 및 크기의 면에서 복사선 소스에서의 사용에 매우 적합한 통상적인 센서들이, 센서들로 사용될 수 있다. 센서는, 직접적으로 또는, 예를 들어 브래킷과 같은, 추가의 재료에 의해 간접적으로, 광학 요소와 접촉할 수 있다. 추가의 재료는, 제1 광학 요소와 같은 온도의 함수로서, 유사한 열전도율 또는 팽창 특성을 갖는, 재료인 것이 바람직하다. 바람직하게, 추가의 재료는, 제1 광학 요소의 재료보다 더 높은 열 전도율을 구비한다. 바람직하게, 추가의 재료는, 제1 광학 요소보다, 2 내지 1000배, 또는 바람직하게 3 내지 800배, 또는 바람직하게 5 내지 500배, 더 큰 열 전도율을 구비한다.
온도 센서는, 장소의 온도 변화 또는 절대 온도가 결정되는 것을 가능하게 하는, 임의의 센서일 수 있다. 바람직하게, 온도 센서는, 금속 산화물 또는 반도체를 기반으로 하는, NTC 서미스터, 백금, 실리콘 또는 세라믹 측정 저항기를 기반으로 하는 PTC 서미스터, 압전 크리스탈, 초전기성 재료, 또는 이들 중의 적어도 2개의 조합으로 이루어지는 그룹으로부터 선택되는 센서이다. PTC 서미스터가, 온도 센서로서 바람직하다. 온도 센서는 바람직하게, 0 내지 500 ℃의 측정 범위, 또는 바람직하게 10 내지 450 ℃의 측정 범위, 또는 바람직하게 20 내지 400 ℃의 측정 범위를 갖는다. 온도 센서는 바람직하게, 0.01 내지 5 ℃의 범위, 또는 바람직하게 0.05 내지 0.9 ℃의 범위, 또는 바람직하게 0.08 내지 0.8 ℃의 범위 내의, 감도를 갖는다.
제1 광학 요소의 형상, 체적, 또는 위치의 변화가 검출되는 것을 허용하는 임의의 센서가, 신장계로서 사용될 수 있다. 재료의 상이한 온도에서의 팽창 특성이 알려지는 경우, 재료의 변형으로부터 장소에서의 온도 변화 또는 절대 온도를 추론할 수 있다. 신장계는, 신장계와 접촉하는 재료의 미세한 공간적 이동을 검출하기 위해 사용될 수 있다. 바람직하게, 신장계는, 아날로그 위치 센서, 증분 위치 센서, 또는 이들의 조합으로 이루어지는 그룹으로부터 선택된다. 바람직하게, 신장계는, 예를 들어 스트레인 게이지와 같은, 저항성 신장계로, 레이저 신장계로, 또는 광학 신장계로 설계된다. 스트레인 게이지의 예들이, TML 도쿄 소끼 켄큐조 Co., Ltd.에 의해 제조되는, "QF" 시리즈를 포함한다. 신장계는 바람직하게, 0.001 내지 0.1 ㎜ 범위, 또는 바람직하게 0.005 내지 0.08 ㎜ 범위, 또는 바람직하게 0.008 to 0.05 mm의 범위 이내의, 공간의 적어도 하나의 방향으로의 광학 요소의 위치 또는 형상 변화를 검출할 수 있도록, 적절하게 설계된다. 바람직하게, 저항성 신장계는, -200 내지 200의 범위, 또는 바람직하게 -190 내지 190의 범위, 또는 바람직하게 -180 내지 180의 범위 내의, 감도(k)를 갖는다. 여기서 k = (델타 R / R)/(델타 L / L)이고; 여기서 R = 측정된 값; L = 길이; 델타 L = 길이의 변화이다. 센서 유형에 의존하여, R은, 저항, 전압, 커패시턴스, 또는 이들 중의 적어도 2개의 조합으로 이루어지는 그룹으로부터 선택되는, 측정값이다. 길이(L)는, 복사선 소스의 사용의 시작 시에 명백한 것으로서, 광학 요소의 길이를 지칭한다. 길이의 변화(델타 L)는, 복사선 소스의 사용 시간 도중의 상기 길이의 변화를 나타낸다.
신장계는, 광학 요소 상에 직접적으로 배열되거나, 또는 광학 요소에 간접적으로 연결될 수 있다. 신장계는, 바람직하게 광학 요소의 전체 표면의 0 내지 50 %의 범위, 또는 바람직하게 1 내지 40 %의 범위, 또는 바람직하게 2 내지 30 %의 범위에 걸쳐, 광학 요소에 연결된다.
제1 광학 요소의 형상, 체적 또는 위치의 변화가 광학 수단에 의해 검출되는 것을 허용하는 임의의 센서가, 광학 센서로서 사용될 수 있다. 재료의 위치를 검출 가능하게 묘사하기 위해 광을 사용하는 임의의 센서가, 이러한 용도로 사용될 수 있다. 광학 센서는 바람직하게, 카메라, 포토다이오드 센서, 또는 이들의 조합으로 이루어지는 그룹으로부터 선택된다. 바람직하게, 광학 센서는, 직접적인 복사선이 광학 센서 상에 충돌하지 않도록, 광학 요소에 대해 적절하게 배향된다. 바람직하게, 광학 센서는, 복사선 소스 내에서 광학 요소와 출사 윈도우 사이에 배열된다. 바람직하게, 광학 센서는, 광학 요소의 형상을 검출하도록 맞춰진다. 바람직하게, 광학 센서는, 0.001 내지 0.1 ㎜의 범위, 또는 바람직하게 0.005 내지 0.08 ㎜의 범위, 또는 바람직하게 0.008 내지 0.05 ㎜ 범위의 감도를 갖는다. 대안적으로 또는 부가적으로, 광학 센서는, 복사선 소스의 기능적 모드를 나타내는 광의 양을 검출하도록, 적절하게 설계될 수 있다. 이러한 맥락에서, 광학 센서는, 0.0001 내지 0.1 와트/cm2의 범위의 감도를 갖는 것이 바람직하다.
용량형 센서는, 제1 광학 요소의 형상, 체적 또는 위치의 변화가 용량형 수단에 의해 검출되는 것을 허용하는, 임의의 센서일 수 있다. 용량형 센서의 예들이, 독일 켈크하임의 알텐 메쓰- 운트 센소르테히틱에 의해 제조되는, MHR 제품 라인을 포함한다. 예를 들어 상기 제품 라인의 MHR 005와 같은, 소형 센서가 바람직하다.
유도형 센서는, 제1 광학 요소의 형상, 체적 또는 위치의 변화가 유도형 수단에 의해 검출되는 것을 허용하는, 임의의 센서일 수 있다. 유도형 센서의 예들은, 독일 하겐의 시카트론 게엠베하 운트 코. 카게에 의해 제조되는, Centrinex 제품 라인을 포함한다.
바람직하게, 센서는, 직접적으로 또는 간접적으로 광학 요소에 연결된다. 본 발명의 범위 내에서, 직접 연결된다는 것은, 센서의 그리고 광학 요소의 재료의 적어도 일부분이 서로 직접적으로 접촉한다는 것을 의미하는 것으로 이해되어야 한다. 이는, 예를 들어 센서를 광학 요소의 적어도 일부분에 접착함으로써, 실현될 수 있다. 예를 들어, 브래킷 내에 광학 요소를 고정함에 의해, 그로 인해 브래킷이 센서에 연결되도록 함으로써, 간접적인 연결이, 실현될 수 있다. 센서를 광학 요소에 직접적으로 연결하는 것은, 센서에 의해 측정될 광학 요소의 특성이 직접적으로 결정 및/또는 모니터링되는 것을 허용한다. 따라서, 예를 들어, 온도 센서 및/또는 신장계가, 광학 요소의 온도 및/또는 팽창을 직접적으로 결정하기 위해 사용될 수 있다. 센서가 광학 요소에 간접적으로 연결되면, 검출은, 광학 요소 상에서 직접적으로 진행되지 않으며, 대신에 예를 들어 브래킷의 특성이, 광학 요소의 상태를 추론하기 위해 결정된다. 센서와 광학 요소 간의 간접 연결은, 특히 광학 요소의 특성이 직접적인 연결에 의해 영향을 받는 경우에, 바람직하다. 센서는, 광학 요소를 갖는 복사선 소스 내부의 다양한 위치에 배열될 수 있다. 바람직하게, 센서는 광원으로부터 멀어지게 지향하는 광학 요소의 측면 상에 배열된다. 센서의 대안적인 바람직한 배열에서, 센서는, 광원을 지향하는 광학 요소의 측면 상에 배열된다.
본 발명에 따르면, 센서는 또한, 시간에 따른 광학 요소의 파라미터를 결정하도록, 적절하게 설계된다. 상기 파라미터는, 복사선 소스의 광학 특성에 영향을 미친다. 바람직하게, 센서에 의해 결정되는 광학 요소의 파라미터는, 광학 요소의, 온도, 체적, 두께, 형상, 굴절률의 변화 각각, 또는 이들 중의 적어도 2개의 조합으로 이루어지는 그룹으로부터 선택된다. 바람직하게, 상기 파라미터들을 결정하는 것은, 광학 요소의 광학 특성이 추론되는 것을 허용한다. 따라서, 예를 들어 재료의 굴절률이 온도에 따라 변할 수 있다는 것이 공지된다. 굴절률의 상기 변화는, 광학 요소를 통해 안내되는 광이, 다른 온도에서와 상이한 제1 온도에서, 상이하세 편향되는 것으로 이어질 수 있다. 그 결과, 예를 들어, 복사선 소스의 복사선의 분포가 변화할 수 있다. 복사선 분포는, 복사선 소스의 균질성의 정도이다. 복사선 분포는, 복사선 소스로부터의 광에 의해 조명되거나 또는 투과되는 표면 상의 여러 지점들에서의 복사선 강도의 분포인 것으로 이해되어야 한다. 최적으로 균질한 복사선의 분포는, 광에 의해 조명되거나 또는 투과되는 전체 표면에서의 평균 복사선 강도에 대한, 10 % 이하, 바람직하게 8 % 이하, 또는 바람직하게 5 % 이하의, 광에 의해 조명되거나 또는 투과되는 표면의 여러 지점들에서의, 복사선 강도의 편차에 대응하는 것으로 이해되어야 한다. 따라서, 예를 들어, 광학 요소에서의 온도를 결정하는 것은, 광학 요소의 굴절률이 추론되는 것을 허용하며, 그리고 그에 따라 복사선 소스의 복사선의 분포의 균질성이 추론되는 것을 허용한다. 굴절률의 변화는, 온도 변화로 인해 발생할 수 있는 광학 요소 내의 상이한 위치들에서의 재료의 두께의 변화에 의해 가장 빈번하게 유발된다. 따라서, 광학 요소의 광학 특성을 그리고 그에 따라 복사선 소스의 복사선의 분포의 품질을 추론하기 위해, 온도 변화에 기초하여 광학 요소의 두께, 체적 또는 형상을 측정하는 것이 가능하다. 따라서, 파라미터의 변화는, 광학 요소 상의 온도 또는 형상 변화를 결정함으로써 결정될 수 있다. 따라서, 센서는, 그에 따라, 전술한 바와 같이, 시간 경과에 따른 파라미터의 변화를 결정하기 위해, 사용된다. 이러한 맥락에서, 시간은, 복사선 소스의 작동 시간, 즉 복사선 소스가 시동되었던 시점부터의 기간인 것이 바람직하다. 바람직하게, 센서는, 복사선 소스의 작동 시간 도중에 측정값을 결정한다. 바람직하게, 파라미터가 그러한 시간에 걸쳐 결정되는 것인, 시간은, 1 분 내지 20,000 시간의 범위, 또는 바람직하게 1 시간 내지 18,000 시간의 범위, 또는 바람직하게 10 시간 내지 15,000 시간의 범위 내에 놓인다. 복사선의 분포를 모니터링하기 위해 시간 경과에 따른 센서의 측정을 사용하기 위해, 특정 시점에서 센서의 대응하는 측정값을 분석 유닛에 저장된 공칭값과 비교하는 것이 바람직하다. 바람직하게, 센서는, 이러한 맥락에서, 센서에 의해 결정된 측정값이 신속하게 예를 들어, 매초 내지 매분마다, 분석 유닛에 전달될 수 있도록, 분석 유닛에 적절하게 연결된다. 측정된 센서의 측정값이 저장된 공칭값으로부터 주어진 임계값을 초과하여 편향되는 경우, 결과적인 조치의 형태로, 편차의 원인에 영향을 가하는 것이 바람직하다. 바람직하게, 결과적인 조치는, 복사선 소스를 냉각시키는 것, 광학 요소를 냉각시키는 것, 복사선 소스를 스위치 오프하는 것, 광학 요소를 교환하는 것, 광학 요소에 대한 에너지 입력을 감소시키는 것, 또는 이들 중의 적어도 2개의 조합으로 이루어지는 그룹으로부터 선택된다. 바람직하게, 복사선 소스는, 광학 요소의 파라미터의 변화의 결정 도중에, 주어진 임계값을 초과함에 의해, 스위치 오프된다.
제1 광학 요소의 팽창을 모니터링하는 센서를 사용하여, 공간의 적어도 하나의 방향으로의 광학 요소의 형상의 편차(델타 L / L)가 5*10-4 내지 5*10-2의 범위, 또는 바람직하게 3*10-4 내지 3*10-2의 범위, 또는 바람직하게 10-3 내지 10-2의 범위 내에 놓이는 경우, 결과적인 조치를 착수하는 것이 바람직하며, 여기서 L은 공간의 세 방향 중 하나로의 광학 요소의 확장이다. 제1 광학 요소의 온도를 모니터링하는 센서를 사용하여, 사전 결정된 공칭 온도(Tsoll)로부터의 편차가 바람직하게, 20 내지 50 ℃의 범위 내에 놓이거나, 또는 바람직하게 25 내지 35 ℃의 범위에 놓이거나, 또는 바람직하게 27 내지 32 ℃의 범위에 놓이는 경우, 결과적인 조치를 착수하는 것이 바람직하다. 바람직하게, Tsoll은, 20 내지 600 ℃의 온도 범위, 또는 바람직하게 30 내지 400 ℃의 범위, 또는 바람직하게 40 내지 300 ℃의 범위 내에 놓인다.
복사선 소스의 바람직한 실시예에서, 제1 광학 요소는 브래킷을 포함하며, 여기서 센서는, 브래킷에 의해 광학 요소에 연결된다. 브래킷은 바람직하게, 1 내지 1000 W/(m*K)의 범위, 또는 바람직하게 5 내지 420 W/(m*K)의 범위, 또는 바람직하게 10 내지 400 W/(m*K)의 범위 내의, 상대 열전도율(λ)을 갖는다. 브래킷은 바람직하게, 1*10-6 내지 50*10-6/K의 범위, 또는 바람직하게 2*10-6 내지 40*10-6/K의 범위, 또는 바람직하게 3*10-6 내지 30*10-6/K의 범위 내의, 선팽창 계수(α)를 갖는다. 바람직하게, 브래킷은, 브래킷의 전체 중량에 대해, 10 내지 100 중량%의 범위, 또는 바람직하게 20 내지 100 중량%의 범위, 또는 바람직하게 50 내지 100 중량%의 범위 내에서, 추가의 재료를 포함한다. 브래킷은 바람직하게, 뒤따르는 특성들 중 적어도 하나, 바람직하게 적어도 2개, 또는 바람직하게 모두가 충족되도록, 광학 요소에 적절하게 연결된다:
a. 브래킷은, 광학 요소의 둘레 라인을 따라 제1 광학 요소의 적어도 30 %를 둘러싸고;
b. 브래킷은, 광학 요소의 가장 긴 둘레 라인을 따라 연장되며;
c. 브래킷은, 광학 요소의 표면의 10 % 미만을 덮고;
d. 브래킷은, 브래킷이 광원에 의해 광학 요소로 복사되는 광의 광 경로와 가능한 적게 간섭 및/또는 상호 작용하도록, 제1 광학 요소에 적절하게 연결되며;
e. 브래킷은, 제1 광학 요소와 직접적으로 접촉하고;
f. 광학 요소의 광학 특성은, 브래킷에 의해 전혀 또는 측정 가능하고 재현 가능하지 않은 방식으로, 영향을 받지 않으며;
g. 브래킷은, 가능한 가장 낮은 열팽창 계수를 갖는 재료로 이루어진다.
가능한 가장 낮은 열팽창 계수는, 40*10-6/K보다 작은 선팽창 계수(α)로 이해되어야 한다.
바람직하게, 브래킷은, 다음과 같이 이루어지는 그룹으로부터 선택되는 특징 조합을 포함한다.
a. b;
a. c.;
a. d.;
a. e.;
a. f.;
a. g.;
b. c.;
b. d.;
b. e.;
b. f.;
b. g.;
c. d.;
c. e.;
c. f.;
c. g.;
d. e.;
d. f.;
d. g.;
e. f.;
e. g.;
f. g.;
a. b. c.;
a. b. d.;
a. b. e.;
a. b. f.;
a. b. g.;
a. c. d.;
a. c. e.;
a. c. f.;
a. c. g.;
a. d. e.;
a. d. f.;
a. d. f.;
a. d. e.;
a. d. f.;
a. d. g.;
a. e. f.;
a. e. g.;
a. f. g.;
b. c. d.;
b. c. e.;
b. c. f.;
b. c. g.;
b. d. e.;
b. d. f.;
b. e. g.;
c. d. e.;
c. d. f.;
c. d. g.;
c. e. f.;
c. f. g.;
d. e. f.;
d. f. g.;
e. f. g.;
a. b. c. d.;
a. b. c. e.;
a. b. c. f.;
a. b. c. g.;
a. b. d. e.;
a. b. e. f.;
a. b. f. g.;
a. c. d. e.;
a. c. e. f.;
a. c. f. g.;
a. d. e. f.;
a. d. e. g.;
a. e. f. g.;
a. b. c. d. e.;
a. b. c. d. f.;
a. b. c. d. g.;
a. b. c. e. f.;
a. b. c. e. g.;
a. b. d. e. f.;
a. b. d. f. g.;
a. b. e. f. g.;
a. c. d. e. f.;
a. c. d. f. g.;
a. d. e. f. g.;
b. c. d. e. f.;
b. c. d. e. g.;
b. c. d. f. g.;
b. d. e. f. g.;
c. d. e. f. g..
바람직하게, 브래킷의 목적은, 복사선 소스의 사용 도중에, 제1 광학 요소가 이동하는 것을 방지하기 위해 제1 광학 요소를 정확하게 유지하고 위치 설정하는 것이다. 브래킷은 바람직하게, 0.01 내지 1 mm의 범위, 바람직하게 0.02 내지 0.8 mm의 범위, 또는 바람직하게 0.05 내지 0.5 mm 범위 내의 정밀도로 공간의 임의의 방향으로 광학 요소를 부착할 수 있도록, 적절하게 설계된다. 브래킷과 제1 광학 요소 사이에 직접적 연결 및/또는 간접적 연결이 존재할 수 있다. 직접적 연결은, 제1 광학 요소의 그리고 브래킷의 재료들의 직접적인 접촉으로 이해되어야 한다. 이는, 예를 들어, 단순한 적층, 클램핑, 유지, 또는 이들의 조합에 의해 수행될 수 있다. 간접적 연결은, 예를 들어, 브래킷을 제1 광학 요소에 접착함으로써 수행될 수 있다. 바람직하게, 접착용 접착제는, 에폭시, 폴리우레탄, 실리콘, 불포화 폴리에스테르, 메틸메타크릴레이트, 또는 이들 중의 적어도 2개의 조합으로 이루어지는 그룹으로부터 선택된다. 바람직하게, 브래킷과 광학 요소 사이의 연결은, 둘 사이의 온도 전달이 부가적인 열 저항 없이 발생할 수 있도록, 적절하게 설계된다.
복사선 소스의 바람직한 실시예에서, 브래킷은, 둘레 라인을 따라, 상기 둘레 라인의 적어도 50 %에 걸쳐, 제1 광학 요소를 둘러싼다. 바람직하게, 브래킷은, 둘레 라인을 따라, 둘레 라인의 100 %에 걸쳐, 제1 광학 요소를 둘러싼다. 바람직하게, 브래킷은, 가장 긴 길이를 갖는 자체의 둘레 라인을 따라 제1 광학 요소를 둘러싼다. 바람직하게, 브래킷은, 광원의 주 방출 방향에 수직으로 위치하게 되는, 둘레 라인을 따라 제1 광학 요소를 둘러싼다. 또한 바람직하게, 브래킷은, 광원의 주 방출 방향에 수직으로 위치하게 되는, 둘레 라인을 따라, 상기 둘레 라인의 100 %에 걸쳐, 제1 광학 요소를 둘러싼다.
복사선 소스의 바람직한 실시예에서, 브래킷은, 브래킷의 전체 중량에 대해, 적어도 50 중량%, 바람직하게 적어도 60 중량%, 또는 바람직하게 적어도 70 중량%의, 금속, 세라믹 재료, 서멧, 중합체, 실리콘, 또는 이들 중의 적어도 2개의 조합을, 포함한다.
금속은, 당업자가 이러한 목적을 위해 선택할 수 있는, 임의의 금속일 수 있다. 바람직하게, 금속은, 높은 열 전도율을 갖는 금속이다.
복사선 소스의 바람직한 실시예에서, 브래킷에 포함되는 금속은, 철, 강철, 구리, 알루미늄, 마그네슘, 티타늄, 텅스텐, 니켈, 탄탈, 니오븀, 이러한 금속들 중 적어도 2개의 합금, 구리 및 아연의 합금, 납, 니켈, 망간, 또는 실리콘, 또는 이들 중의 적어도 2개의 혼합물로 이루어지는 그룹으로부터 선택된다. 바람직하게, 금속은, 알루미늄, 또는 강철, 예를 들어 V2A 또는 V4A 강과 같은 VA 강이다. 또한 바람직하게, 브래킷은, 브래킷의 전체 중량에 대해, 적어도 90 중량%의 알루미늄으로 이루어진다.
세라믹 재료는, 당업자가 이러한 목적을 위해 선택할 수 있는, 임의의 세라믹 재료일 수 있다. 바람직하게, 세라믹 재료는, 알루미늄 질화물(AlN), 알루미늄 산화질화물(AlON), 알루미늄 산화물(Al2O3), 알루모실리케이트(Al2SiO5), 서멧에 대해 언급된 세라믹 재료, 또는 이들 중의 적어도 2개의 혼합물로 이루어지는 그룹으로부터 선택된다.
본 발명의 범위에서, "서멧"은, 적어도 하나의 금속 매트릭스 내의 하나 이상의 세라믹 재료로 이루어지는 복합 재료, 또는 적어도 하나의 세라믹 매트릭스 내의 하나 이상의 금속 재료로 이루어지는 복합 재료를 의미하는 것으로 이해되어야 한다. 서멧의 제조를 위해, 예를 들어, 적어도 하나의 세라믹 분말 및 적어도 하나의 금속 분말의 혼합물이 사용될 수 있으며, 이 혼합물에, 예를 들어 메틸 셀룰로스와 같은 적어도 하나의 결합제 및, 적용 가능한 경우, 알코올과 같은 적어도 하나의 용매가, 첨가될 수 있다. 서멧을 위한 금속은, 철(Fe), 스테인리스 강, 백금(Pt), 이리듐(Ir), 니오븀(Nb), 몰리브덴(Mo), 텅스텐(W), 티타늄(Ti), 코발트(Co), 크롬(Cr), 코발트-크롬 합금, 탄탈(Ta), 바나듐(V) 및 지르코늄(Zr), 또는 이들 중의 적어도 2개의 혼합물로 이루어지는 그룹으로부터 선택될 수 있고, 여기서 티타늄, 니오븀, 몰리브덴, 코발트, 크롬, 탄탈, 지르코늄, 바나듐, 및 이들의 합금들이, 특히 바람직하다. 특히 서멧을 위한 세라믹 재료는, 알루미늄 산화물(Al2O3), 지르코늄 이산화물(ZrO2), 수산화 인회석, 인산 삼칼슘, 유리 세라믹, 알루미늄 산화물-강화 지르코늄 산화물(ZTA), 지르코늄 산화물-함유 알루미늄 산화물(ZTA - 지르코니아 강화 알루미늄 - Al2O3/ZrO2), 이트륨-함유 지르코늄 산화물(Y-TZP), 알루미늄 질화물(AlN), 티타늄 질화물(TiN), 마그네슘 산화물(MgO), 피에조세라믹스, 바륨(Zr, Ti) 산화물, 바륨(Ce, Ti) 산화물, 및 나트륨-칼륨-니오브산염, 또는 이들 중의 적어도 2개의 혼합물로 이루어지는 그룹으로부터 선택될 수 있다.
중합체는, 제1 광학 요소가 제조되는 중합체와 동일한 중합체인 것이 바람직하다. 중합체는 바람직하게, 폴리메틸메타크릴레이트(PMMA), 폴리카보네이트(PC), 예를 들어 에틸렌-노르보르넨 공중합체와 같은 시클로-올레핀 (공)중합체, 또는 이들 중의 적어도 2개의 혼합물로 이루어지는 그룹으로부터 선택된다.
실리콘은 바람직하게, 제1 광학 요소에 대해 설명된 것과 동일한 그룹으로부터 선택된다.
복사선 소스의 바람직한 실시예에서, 센서는, 온도 센서, 신장계, 또는 이들의 조합으로 이루어지는 그룹으로부터 선택된다.
복사선 소스의 바람직한 실시예에서, 센서는, 광원에 의해 방출되는 복사선의 10 % 초과, 또는 바람직하게 15 % 초과, 또는 바람직하게 20 % 초과가, 센서 상에 충돌하도록, 광학 요소에 적절히 연결된다. 상기 센서는 바람직하게, 상기 실시예에서 광원에 의해 직접적으로 조명된다. 이는, 센서가, 바람직하게 복사선 소스에 대해 바람직한 것으로 명시되는 광량의 범위 및 파장 범위 내에서, 제1 광학 요소 상의 광량에 직접적으로 상관되는 광량에 노출된다는 점에서, 유리하다.
복사선 소스의 다른 바람직한 실시예에서, 센서는, 광원에 의해 방출되는 복사선의 20 % 미만, 또는 바람직하게 15 % 미만, 또는 바람직하게 10 % 미만이, 센서에 충돌하도록, 광학 요소에 적절하게 연결된다. 센서는 바람직하게, 상기 실시예에서 광원에 의해 간접적으로 조명된다. 바람직하게, 브래킷은, 광원과 센서 사이에 위치하게 된다. 따라서, 센서는, 브래킷의 그림자 내에 위치하게 된다. 이는, 센서가 광원의 복사선에 의해 과부하를 받지 않는다는 점에서, 유리하다.
광원에 의해 방출되는 광량을 결정하기 위해, 브래킷에 포토다이오드를 부착하는 것이 바람직하다. 바람직하게, 포토다이오드는 초기에, 검정 곡선(calibration curve)을 결정하기 위해, 복수의 공지된 광량에 노출된다. 검정 곡선은, 브래킷 상의 정확한 광량을 결정하기 위해, 복사선 소스의 서비스 수명 동안, 사용될 수 있다. 온도 센서가 광학 요소의 파라미터의 변화를 결정하기 위해 사용되는 경우, 센서에 의해 결정되는 온도 및 광의 충돌량은, 주 방출 방향의 중간에서 온도 범위를 추론하기 위해 사용될 수 있다. 바람직하게, 측정된 온도는, 제1 광학 요소의 형상이 실온에서 본래의 형상과 비교하여 변화되었는지 여부를 계산하기 위해,사용될 수 있다.
복사선 소스의 바람직한 실시예에서, 센서는, 제1 광학 요소의 팽창이 공간의 3개의 방향 모두에서 결정될 수 있도록, 광학 요소에 적절하게 연결된다. 바람직하게, 공간의 3개의 방향 모두에서의 제1 광학 요소의 팽창은, 예를 들어 신장계의 사용을 통해, 측정될 수 있다. 바람직하게, 신장계는, 신장계의 일부가 공간의 각 방향으로 연장되도록, 제1 광학 요소에 적절하게 연결된다. 바람직하게, 신장계는, 신장계의 적어도 일 부분이 주 방출 방향의 방향으로 연장되고, 적어도 일 부분이 방출 방향에 수직으로 연장되며, 그리고 적어도 일 부분이 수직으로 연장되는 방향에 수직으로 연장되도록, 제1 광학 요소에 적절하게 연결된다. 바람직하게, 신장계의 연장 표면의 적어도 10 %, 또는 바람직하게 적어도 15 %, 또는 바람직하게 적어도 20 %가 각각, 주 방출 방향으로, 그리고 그것에 수직으로 배향되는 2개의 방향으로 각각 연장된다.
복사선 소스의 바람직한 실시예에서, 복사선 소스는, 1 내지 100의 범위, 또는 바람직하게 2 내지 80의 범위, 또는 바람직하게 3 내지 50의 범위 내의 개수의 센서를 포함한다. 바람직하게, 센서는, 열 또는 체인의 형태로, 2 내지 100 개의 센서를 포함한다. 바람직하게, 이러한 체인 또는 열 내의 개별적인 센서들은, 전기적 연결에 의해 서로 연결된다. 상기 체인 또는 열은, 전기적 연결에 의해 자체의 단부들에 의해, 분석 유닛에 연결될 수 있다. 바람직하게, 복수의 센서는, 온도 센서들로서 제공된다.
복사선 소스의 바람직한 실시예에서, 센서는, 광학 요소의 에지 상에 배열된다. 바람직하게, 에지는, 바람직하게 광학 요소의 중심을 통해 연장되는 광원의 주 방출 방향으로부터 가능한 멀리 떨어져 위치하게 되는, 광학 요소의 영역인 것으로 고려된다. 바람직하게, 주 방출 방향에 수직으로 연장되는, 광원의 주 방출 방향으로부터 가능한 멀리 떨어져 있는 둘레 라인 상의 영역이, 에지로 지칭된다.
복사선 소스의 바람직한 실시예에서, 센서는, 광원의 주 방출 방향에 수직으로 위치하게 되는 제1 광학 요소의 적어도 표면을 둘러싼다.
복사선 소스의 바람직한 실시예에서, 센서는, 제1 광학 요소의 둘레 라인을 따라 제1 광학 요소를 둘러싼다. 바람직하게, 센서는, 제1 광학 요소의 원주가 가장 큰 위치에서, 제1 광학 요소의 둘레 라인을 따라 제1 광학 요소를 둘러싼다.
복사선 소스의 바람직한 실시예에서, 복사선 소스는, 적어도 3개의 센서를 포함한다. 바람직하게, 모든 센서는, 제1 광학 요소에 직접적으로 또는 간접적으로 연결된다. 또한 바람직하게, 적어도 3개의 센서는, 이들이 최대 크기의 표면을 한정하도록, 제1 광학 요소 주위에 적절히 배열된다.
복사선 소스의 바람직한 실시예에서, 적어도 3개의 센서는, 평면 내에 배치되고, 센서들에 의해 한정되는 가능한 가장 큰 표면은, 센서들과 동일한 평면에 위치하게 되는 광학 요소의 표면의, 적어도 3분의 1, 바람직하게 적어도 절반, 또는 바람직하게 적어도 4분의 3, 또는 바람직하게 적어도 90 %를 포함한다.
복사선 소스의 바람직한 실시예에서, 센서의 길이는, 적어도 광학 요소의 가장 큰 외주의 길이에 대응한다. 센서의 길이는, 예를 들어 신장계의 종방향 범위 또는 전술한 유형의 센서 체인의 종방향 범위로 이해되어야 한다.
복사선 소스의 바람직한 실시예에서, 제1 광학 요소는, 렌즈, 반사기, 조리개, 프리즘, 거울, 또는 이들 중의 적어도 2개의 조합으로 이루어지는 그룹으로부터 선택된다.
복사선 소스의 바람직한 실시예에서, 복사선 소스는, 추가의 광학 요소를 포함한다. 추가의 광학 요소는, 당업자가 복사선 소스를 위해 사용할 수 있는, 임의의 광학 요소일 수 있다. 바람직하게, 추가의 광학 요소는, 제1 광학 요소에 대해 구체화되는 광학 요소들의 그룹으로부터 선택된다. 또한, 추가의 광학 요소는, 동일한 그룹으로부터의 부가적인 광학 요소와 조합될 수 있다. 바람직하게, 추가의 광학 요소는, 반사기 또는 렌즈이다. 바람직하게, 추가의 광학 요소는, 수렴 렌즈, 특히 평면-볼록 렌즈이다. 바람직하게, 추가의 광학 요소는, 냉각 유닛에 의해 또한 냉각되도록, 광원에 적절하게 연결된다.
복사선 소스의 바람직한 실시예에서, 광원은, 100 nm 내지 10 ㎛의 파장 범위, 바람직하게 120 nm 내지 9 ㎛의 범위, 또는 바람직하게 140 nm 내지 8 ㎛의 범위 내의 광을 방출한다. 또한 바람직하게, 광원은, 780 nm 내지 10 ㎛의 파장 범위 내의 광을 방출한다. 또한 바람직하게, 광원은, 150 nm 내지 420 nm의 파장 범위, 또는 바람직하게 160 내지 410 nm의 범위, 또는 바람직하게 170 내지 400 nm의 범위 내의 광을 방출한다.
본 발명의 추가의 대상은, 뒤따르는 단계들을 포함하는, 제품을 제조하는 방법이다:
i. 출발 물질을 제공하는 단계;
ii. 실시예 [1] 내지 실시예 [18] 중 어느 하나의 실시예에 따른 복사선 소스를 제공하는 단계;
iii. 제품을 획득하기 위해 상기 복사선 소스로 상기 출발 물질을 조명하는 단계.
단계(i)에서의 출발 물질의 제공은, 당업자에게 공지된 임의의 방법 및 방식으로 일어날 수 있다. 바람직하게, 출발 물질은, 이동형 지지체 상에 제공된다. 바람직하게, 이동형 지지체는, 컨베이어 벨트, 롤러로부터 롤러로 이송되는 벨트, 쉐이커(shaker), 또는 이들 중의 적어도 2개의 조합으로 이루어지는 그룹으로부터 선택된다. 바람직하게, 이동형 지지체 상의 출발 물질은, 복사선 소스의 광이 출발 물질 상에 충돌하도록, 복사선 소스를 지나 이동하게 된다. 바람직하게, 복사선 소스의 영향에 노출되는 출발 물질의 체류 시간은, 0.1 초 내지 10 시간의 범위, 또는 바람직하게 10 초 내지 1 시간의 범위, 또는 바람직하게 30 초 내지 10 분의 범위 이내가 되도록 선택된다.
출발 물질은, 복사선 소스의 영향에 노출될 때, 상태의 변화를 겪는 임의의 출발 물질일 수 있다. 바람직하게, 출발 물질은, 물체, 액상, 공간, 또는 이들 중의 적어도 2개의 조합으로 이루어지는 그룹으로부터 선택된다.
단계(ii)에서의 복사선 소스의 제공은, 이러한 목적을 위해 당업자가 고려할 수 있는 임의의 방법 및 방식으로 일어날 수 있다. 바람직하게, 복사선 소스는, 출발 물질 상에 충돌하는 복사선 소스에 의해 방출되는 광량이 최대가 되도록, 적절하게 제공된다.
출발 물질의 조명은, 당업자가 이러한 목적을 위해 선택할 수 있는 임의의 방법 및 방식으로 일어날 수 있다. 바람직하게, 출발 물질은, 최적의 체류 시간에 제품으로 변환될 수 있도록, 복사선 소스의 광원에 의해 적절하게 조명된다. 바람직하게, 복사선 소스의 영향에 노출되는 출발 물질의 체류 시간은, 1 밀리초 내지 10 시간의 범위, 또는 바람직하게 10 밀리초 내지 1 시간의 범위, 또는 바람직하게 30 밀리초 내지 10분의 범위 이내가 되도록 선택된다.
방법의 바람직한 실시예에서, 제품은, 출발 물질의 상태의 변화를 통해 획득된다. 상태의 변화는 바람직하게, 젖은 표면을 건조시키는 것, 니스를 경화시키는 것, 어두운 공간을 조명하는 것, 또는 이들 중의 적어도 2개의 조합으로 이루어지는 그룹으로부터 선택된다.
상기 방법의 바람직한 실시예에서, 제품은, 출발 물질로부터의 변환에 의해, 즉 2개의 출발 분자의 화학 반응에 의해, 획득된다.
바람직하게, 출발 물질은, 액상, 젖은 물체, 제1 상태로 이루어지는 그룹으로부터 선택된다. 액상은 바람직하게, 적어도 2개의 화학 물질 또는 재료의 혼합물, 비-가교 결합된 중합체의 용액, 또는 이들의 혼합물로 이루어지는 그룹으로부터 선택된다.
상기 방법의 바람직한 실시예에서, 제품은, 액상, 물체, 출발 물질의 상태 변화로 이루어지는 그룹으로부터 선택된다. 액상은 바람직하게, 서로 반응한 적어도 2개의 화학 물질 또는 재료의 혼합물, 비-가교 결합된 중합체의 용액, 또는 이들의 조합으로 이루어지는 그룹으로부터 선택된다.
본 발명의 또 다른 목적은, 실시예 [1] 내지 실시예 [19] 중 어느 하나에 따른 복사선 소스의 빔 분포를 균질화하기 위한 센서의 용도이다. 복사선 소스의 맥락에서, 전술한 유형의 센서를 사용하는 것이 바람직하다. 복사선 소스의 빔 분포의 균질화는 바람직하게, 출발 물질의 균질한 조명으로 이어지며, 공칭 빔 분포로부터의 광원의 빔 분포의 편차가 결정되며, 그리고 광원은, 빔 분포가 공칭 빔 분포로부터 10 %를 초과하여 편향되는 경우, 스위치 오프된다.
본 발명의 또 다른 목적은, 출발 물질의 제품으로의 상태의 변화 또는 변환의 효율을 증가시키기 위한, 실시예 [1] 내지 실시예 [19] 중 어느 하나에 따른 복사선 소스의 용도이다. 출발 물질의 제품으로의 상태의 변화 또는 변환의 효율은 바람직하게, 결과적인 조치로 이어지는, 사전 결정된 공칭값으로부터의 센서의 측정값의 최소 편차에 의해서도 달성된다. 바람직하게, 결과적인 조치는, 복사선 소스를 냉각시키는 것, 광학 요소를 냉각시키는 것, 복사선 소스를 스위치 오프시키는 것, 광학 요소를 교환하는 것, 광학 요소에 대한 에너지 입력을 감소시키는 것, 또는 이들 중의 적어도 2개의 조합으로 이루어지는 그룹으로부터 선택된다. 바람직하게, 복사선 소스는, 광학 요소의 파라미터의 변화의 결정 도중에, 주어진 임계값을 초과함에 의해, 스위치 오프된다.
도 1a는, 제1 광학 요소 및 추가의 광학 요소로서 렌즈를 갖는, 본 발명에 따른 복사선 소스의 개략도를 도시하고;
도 1b는, 제1 광학 요소로서의 렌즈 및 추가의 광학 요소로서의 반사기를 갖는, 본 발명에 따른 복사선 소스의 개략도를 도시하며;
도 2는, 광원으로서의 LED 어레이 및 추가의 광학 요소로서의 렌즈 어레이를 갖는, 본 발명에 따른 복사선 소스의 개략도를 도시하고;
도 3은 광학 요소의 브래킷 상의 신장계에 대한 개략도를 도시하며;
도 4는 광학 요소의 브래킷 상의 센서 체인 형태의 온도 센서에 대한 개략도를 도시하고;
도 5는 광학 요소의 브래킷 상의 복수의 개별 온도 센서에 대한 개략도를 도시하며,
도 6은 본 발명에 따른 방법의 프로세스 단계들에 대한 개략도를 도시한다.
도 1b는, 제1 광학 요소로서의 렌즈 및 추가의 광학 요소로서의 반사기를 갖는, 본 발명에 따른 복사선 소스의 개략도를 도시하며;
도 2는, 광원으로서의 LED 어레이 및 추가의 광학 요소로서의 렌즈 어레이를 갖는, 본 발명에 따른 복사선 소스의 개략도를 도시하고;
도 3은 광학 요소의 브래킷 상의 신장계에 대한 개략도를 도시하며;
도 4는 광학 요소의 브래킷 상의 센서 체인 형태의 온도 센서에 대한 개략도를 도시하고;
도 5는 광학 요소의 브래킷 상의 복수의 개별 온도 센서에 대한 개략도를 도시하며,
도 6은 본 발명에 따른 방법의 프로세스 단계들에 대한 개략도를 도시한다.
도 1a는, 냉각 유닛(30)에 의해 온도 제어될 수 있는 광원(12)이 그 내부에 배열되는, 하우징(22)을 포함하는 복사선 소스(10)의 개략도를 도시한다. 광원(12)의 광은, 추가의 광학 요소(20)에 의해 제1 광학 요소(14)의 방향으로 다발화된다(bundled). 현재 볼록-볼록 수렴 렌즈(14)의 형태인, 제1 광학 요소(14)는, 최적으로 균질한 파면(wave front)이, 조명될 표면(현재 도시되지 않음) 상에서 최적으로 균질한 복사선 분포를 달성하기 위해, 하우징(22)으로부터 복사선 소스(10)의 윈도우(24)를 통해 출사하도록, 광원(12)으로부터의 광의 전파에 바람직하게 적절하게 영향을 미친다. 광은 바람직하게, 광원(12)으로부터 주 방출 방향(25)으로, 출사 윈도우(24)의 방향으로, 이동한다. 출사 윈도우(24)로의 경로 상에서, 광은, 제1 광학 요소(14) 및 추가의 광학 요소(20)에 의해 균질한 파면으로 성형된다. 바람직하게, 광은, 제품을 획득하기 위해, 예를 들어, 공간, 물체 또는 액체의 형태의, 출발 물질을 균질하게 조사하기 위해 사용된다. 따라서, 예를 들어, 현재 도시되지 않는, 복사선 소스(10)에 대해 이동하는 컨베이어 벨트 상의 일련의 물체가, 예를 들어 물체의 또는 물체의 표면의 건조를 달성하기 위해, 조사될 수 있다. 수렴 렌즈(14)는, 브래킷(18)에 의해 광원(12)의 전방의 그의 위치에 유지된다. 브래킷(18)은, 한편으로는 제1 광학 요소(14)가 정확하게 유지되도록 그리고 다른 한편으로는 광학 요소로부터 브래킷으로의 열 전달이 가능한 한 높도록, 제1 광학 요소(14)에 적절하게 연결된다. 이러한 목적을 위해, 브래킷은 바람직하게, 1 내지 1,000 W/(m*K) 범위 내의 상대 열전도율(λ)을 갖는다. 이러한 예에서, 센서(15)는, 브래킷(18)에 연결된다. 센서(15)를 제1 광학 요소(14)에 직접 연결하는 것 또한 고려될 수 있다. 센서(15)는, 케이블을 통해 분석 유닛(26)에 연결된다. 상기 접속은 또한, 센서가 이미터(emitter)를 구비하는 경우 또는 센서의 측정 데이터의 전송이 유도성 수단에 의해 발생하는 경우, 무선 방식으로 일어날 수도 있다. 이러한 예에서, 센서(15)는, 광원(12)으로부터 멀어지게 지향하는 측면 상에서 브래킷(18) 상에 배열된다. 현재 도시되지 않은 다른 실시예에서, 센서(15)는 또한 , 광원(12)을 지향하는 측면 상에서 브래킷(18) 상에 배열될 수 있다.
도 1b의 개략도에서의 복사선 소스(10)는, 광원(12)에 의해 방출되는 광이 추가의 광학 요소(20)로서의 반사기를 통해, 제1 광학 요소(14) 상으로 안내되는 것을 제외하고는, 도 1a의 복사선 소스(10)와 유사하게 설계된다.
도 2의 개략도에 도시된 복사선 소스(10)는, 광원(12)이 복수의 광 소스(13)로 이루어진다는 것을 제외하고는 도 1a의 복사선 소스(10)와 동일한 설계를 갖는다. 바람직하게, 복수의 광 소스(13)는, 1,000개 초과의 개별 LED를 포함할 수 있는, LED 어레이의 LED들이다. 제1 광학 요소(14)는, 바람직하게 광 소스들(13)로부터의 광이 주 방출 방향(25)에 평행하게 정렬되도록 적절하게 설계되는, 평면-볼록 렌즈(14)를 포함한다. 제1 광학 요소(14)는, 단일 부품으로 설계되는 것이 바람직하다. 복수의 광 소스(13)는, 현재 냉각 유닛(30)에 의해 냉각된다. 센서 및/또는 센서들(15, 16, 17)은 또한, 분석 유닛(26)(현재 도시되지 않음)에 연결될 수 있다. 바람직하게, 이는, 온도 센서(17)이다. 대안적으로, 신장계(16)가, 또한 사용될 수 있다. 브래킷(18)은, 바람직하게 완전히, 제1 광학 요소를 둘러싼다. 도시된 도면은 복사선 소스(10)를 통한 단면도이기 때문에, 이것은, 현재 도시되지 않는다. 하우징(22)은, 출사 윈도우(24)와 함께, 광원(12), 브래킷(18), 센서(15, 16, 17), 그리고 제1 광학 요소뿐만 아니라 추가의 광학 요소(20)를 완전히 둘러싼다. 복수의 광 소스(13) 이외에도, 복사선 소스(10)의 추가의 광학 요소(20)는, 각각의 광 소스(13)를 위한, 추가의 광학 요소(20) 내의 복수의 볼록 렌즈(20a) 형태의 광학 특성을 갖는 형상부(20a)를 포함한다. 이러한 수단에 의해, 각 광 소스(13)의 광은, 그 전파의 관점에서 개별적으로 변화될 수 있으며, 바람직하게, 추가의 광학 요소(20)의 광학 특성을 갖는 형상부(20a)에 의해, 주 방출 방향(25)으로 다발화될 수 있다.
도 3은, 브래킷(18) 내의 렌즈(14)의 형태인, 제1 광학 요소(14)의 배열에 대한 개략도를 도시한다. 브래킷(18)은, 렌즈(14)의 둘레 라인(28)을 중심으로 완전히 둘레 방향으로 배열되며, 즉, 브래킷은 렌즈(14)를 완전히 둘러싼다. 신장계 또는 온도 센서(15, 16, 17)는, 브래킷(18)의 그리고 그에 따라 또한 렌즈(14)의 전체 둘레 라인(28)에 걸쳐, 브래킷(18) 상에 배열된다. 광학 요소(14) 및 브래킷(18)의 재료는, 센서(15, 16, 17)가 광학 요소(14)의 광학 특성의 변화에 영향을 미칠 수 있도록, 적절하게 서로 조화된다.
도 4는, 제1 광학 요소(14), 브래킷(18) 및 복수의 센서(15)의 다른 배열에 대해 도시한다. 바람직하게, 센서들은, 센서들(15)의 측정값을 분석 유닛(26)으로 전송할 수 있도록 하기 위해 전기 케이블(21)에 의해 서로 연결되는, 온도 센서들(17)이다. 따라서, 상기 배열은, 센서 체인(19)을 형성한다.
도 5는, 브래킷(18) 및 복수의 센서(15), 즉 제시된 경우에 3개의 센서(15)를 갖는, 제1 광학 요소(14)의 개략도를 도시한다. 바람직하게, 이것은, 전기 케이블(21)에 의해 분석 유닛(26)에 개별적으로 연결되는, 온도 센서들(17)에 관련된다.
도 6은, 출발 물질로부터 제품을 제조하는 방법에 대한 개략도를 도시한다. 출발 물질은, 제1 단계(i)(40)에서 제공된다. 이는, 예를 들어 컨베이어 벨트 상에서, 축축한 또는 젖은 물체의 형태로 발생할 수 있다. 제2 단계(ii)(50)에서, 복사선 소스(10)는, 제품으로 변경되도록 하기 위한, 제3 단계(iii)(60), 출발 물질의 조명 단계에서, 출발 물질이 최적으로 균질하게 조명되도록, 적절하게 제공된다.
10: 복사선 소스
12: 광원
13: 광 소스 14: 제1 광학 요소, 렌즈, 수렴 렌즈
14a: 벌지 15: 센서
16: 신장계 17: 온도 센서
18: 브래킷 19: 센서 체인
20: 추가의 광학 요소
20a: 광학 특성을 가진 형상부, 볼록 렌즈
21: 전기 케이블 22: 하우징
24: 윈도우/출사 윈도우 25: 주 방출 방향
26: 분석 유닛 28: (제1 광학 요소의) 둘레 라인
30: 냉각 유닛 40: 제1 단계(i)
50: 제2 단계(ii) 60: 제3 단계(iii)
13: 광 소스 14: 제1 광학 요소, 렌즈, 수렴 렌즈
14a: 벌지 15: 센서
16: 신장계 17: 온도 센서
18: 브래킷 19: 센서 체인
20: 추가의 광학 요소
20a: 광학 특성을 가진 형상부, 볼록 렌즈
21: 전기 케이블 22: 하우징
24: 윈도우/출사 윈도우 25: 주 방출 방향
26: 분석 유닛 28: (제1 광학 요소의) 둘레 라인
30: 냉각 유닛 40: 제1 단계(i)
50: 제2 단계(ii) 60: 제3 단계(iii)
Claims (15)
- 복사선 소스(10)로서,
a. 광원(12);
b. 제1 광학 요소(14);
c. 센서(15, 16, 17),
를 포함하고,
상기 센서(15, 16, 17)는, 상기 센서(15, 16, 17)가, 상기 복사선 소스의 광학 특성에 영향을 미치는 상기 제1 광학 요소(14)의 파라미터의 시간 경과에 따른 변화를 결정하기 위해 사용될 수 있도록, 적절하게 설계되며 그리고 적절하게 상기 제1 광학 요소(14)에 연결되는 것인, 복사선 소스. - 제 1항에 있어서,
상기 광학 요소(14)는 브래킷(18)을 포함하며, 그리고 상기 센서(15, 16, 17)는 상기 브래킷(18)에 의해 상기 제1 광학 요소(14)에 연결되는 것인, 복사선 소스. - 제 1항 또는 제 2항에 있어서,
상기 브래킷(18)은, 둘레 라인(28)을 따라, 상기 둘레 라인(28)의 적어도 50 %에 걸쳐, 상기 제1 광학 요소(14)를 둘러싸는 것인, 복사선 소스. - 제 1항 내지 제 3항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 브래킷(18)은, 상기 브래킷(18)의 전체 중량에 대해, 적어도 50 중량%의, 금속, 세라믹, 서멧, 중합체, 또는 이들 중의 적어도 2개의 조합을 포함하는 것인, 복사선 소스. - 제 1항 내지 제 4항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 센서(15, 16, 17)는, 온도 센서, 신장계, 광학 센서, 용량형 센서, 유도형 센서, 또는 이들 중의 적어도 2개의 조합으로 이루어지는 그룹으로부터 선택되는 것인, 복사선 소스. - 제 1항 내지 제 5항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 센서(15, 16, 17)는, 상기 광원(12)에 의해 방출되는 상기 복사선의 20 % 미만이 상기 센서(15, 16, 17) 상에 충돌하도록, 상기 제1 광학 요소(14)에 적절하게 연결되는 것인, 복사선 소스. - 제 1항 내지 제 6항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 복사선 소스(10)는, 1 내지 100의 범위 내의 개수의 센서(15, 16, 17)를 포함하는 것인, 복사선 소스. - 제 1항 내지 제 7항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 센서(15, 16, 17)는, 상기 제1 광학 요소(14)의 에지 상에 배열되는 것인, 복사선 소스. - 제 1항 내지 제 8항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 센서(15, 16, 17)는, 상기 광원(12)의 주 방출 방향(25)에 수직으로 위치하게 되는, 적어도 상기 제1 광학 요소(14)의 표면을 둘러싸는 것인, 복사선 소스. - 제 1항 내지 제 9항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 센서(15, 16, 17)는, 상기 제1 광학 요소(14)의 둘레 라인(28)을 따라 상기 제1 광학 요소(14)를 둘러싸는 것인, 복사선 소스. - 제 1항 내지 제 10항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 센서(15, 16, 17)의 길이는, 적어도 상기 제1 광학 요소(14)의 가장 큰 외주의 길이에 대응하는 것인, 복사선 소스. - 제 1항 내지 제 11항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 복사선 소스(10)는, 추가의 광학 요소(20)를 포함하는 것인, 복사선 소스. - 제품(60)을 제조하는 방법으로서,
i. 출발 물질을 제공하는 단계(40);
ii. 제 1항 내지 제 12항 중 어느 한 항에 따른 복사선 소스(10)를 제공하는 단계(50);
iii. 제품(60)을 획득하기 위해 광원(12)으로 상기 출발 물질(40)을 조명하는 단계
를 포함하는 것인, 제품 제조방법. - 센서(15, 16, 17)의 용도로서,
제 1항 내지 제 12항 중 어느 한 항에 따른 복사선 소스(10)의 복사선 분포의 균질화를 위한 것인, 센서의 용도. - 제 1항 내지 제 12항 중 어느 한 항에 따른 복사선 소스의 용도로서,
출발 물질(40)의 제품(60)으로의 상태의 변화 또는 변환의 효율을 증가시키기 위한 것인, 복사선 소스의 용도.
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