KR20180015053A

KR20180015053A - Implant processing apparatus

Info

Publication number: KR20180015053A
Application number: KR1020170005308A
Authority: KR
Inventors: 이현영; 김영민; 송연숙; 최별보라
Original assignee: 주식회사 피글
Priority date: 2016-08-02
Filing date: 2017-01-12
Publication date: 2018-02-12
Also published as: KR101930616B1

Abstract

The present invention relates to an implant treating apparatus. According to an embodiment of the present invention, an implant treating apparatus may comprise: a chamber part for providing a treatment space for treating an implant; a support part for supporting the implant within the chamber part; a plasma generating part for generating plasma and supplying the generated plasma to the chamber part; an exhaust part for exhausting gas from the chamber part; and a byproduct removing part for removing by-products contained in the gas. According to an embodiment of the present invention, the amount of power required to remove by-products is reduced, thereby increasing the energy efficiency of the implant treating apparatus.

Description

[0001] IMPLANT PROCESSING APPARATUS [0002]

본 발명은 임플란트 처리 장치에 관한 것이다.The present invention relates to an implant treatment apparatus.

인공 치아라고도 불리는 임플란트는 치아의 결손이 있는 부위나 치아를 뽑은 자리의 턱뼈에 골 이식, 골 신장술 등의 부가적인 수술을 실시한 뒤 생체 적합적인 임플란트 본체를 심어 자연치의 기능을 회복시켜준다. 임플란트 시술은 드릴링을 통해 턱뼈 안에 임플란트가 들어갈 공간을 만들어주어 주로 나사 형태의 골 내 임플란트를 턱뼈에 심는 과정으로 진행된다.Implants, also called artificial teeth, perform additional operations such as bone grafting and osseointegration on the tooth defects or the jawbone of the tooth extraction site, and then restore the function of the natural teeth by implanting a biocompatible implant body. Implant surgery involves drilling a space into the jawbone for implantation, which usually involves the implantation of a screw-shaped intra-osseous implant into the jawbone.

일반적으로 임플란트 시술에 사용되는 임플란트 픽스쳐(fixture)는 골형성을 바르게 유도하기 위하여 티타늄으로 코팅되고 있다. 그러나, 티타늄 임플란트는 공장에서 제작된 뒤 시간 경과에 의해 표면에 산화막이 형성되면 친수성에서 소수성을 띄게 되어 골 결합 능력이 현저하게 저하된다.In general, implant fixtures used in implant surgery are coated with titanium to properly induce bone formation. However, when titanium oxide is formed on the surface due to the elapsed time after being manufactured in a factory, the titanium implant becomes hydrophobic from the hydrophilic property and the bone bonding ability is remarkably deteriorated.

이에, 유통 과정 중 임플란트 표면에 형성된 산화막을 제거하여 시술 후 골 유착을 빠르게 유도할 수 있는 임플란트 산화막 제거 장치가 개발되고 있다. 이러한 임플란트 산화막 제거 장치는 플라즈마를 발생시켜 임플란트 표면에 형성된 산화막을 제거하는데, 플라즈마를 이용하여 임플란트를 처리하는 경우 플라즈마가 공기 중의 산소와 반응하여 다량의 오존이 발생하게 된다. 그러나, 공기 중에 오존이 다량으로 존재하는 경우 인체, 특히 호흡기관에 유해한 영향을 미치므로, 플라즈마를 이용한 임플란트 처리 장치의 사용 시 부산물로 생성되는 오존의 적절한 처리가 필요하다.Accordingly, an implant oxide film removing apparatus capable of rapidly inducing osseointegration after the removal of the oxide film formed on the implant surface during the distribution process has been developed. Such an implant oxide film removing apparatus generates a plasma to remove an oxide film formed on the surface of the implant. In the case of processing an implant using plasma, a plasma reacts with oxygen in the air to generate a large amount of ozone. However, when a large amount of ozone exists in the air, the ozone generated as a byproduct in the use of an implant treatment apparatus using plasma is required because it has harmful effects on the human body, especially the respiratory tract.

본 발명의 실시예는 플라즈마를 이용한 임플란트 처리 시 발생하는 부산물을 제거하거나 감소시키기 위한 임플란트 처리 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.It is an object of the present invention to provide an implant treatment apparatus for eliminating or reducing by-products generated in an implant treatment using a plasma.

본 발명의 실시예는 부산물 제거 시 소요되는 전력을 감소시킬 수 있는 임플란트 처리 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.It is an object of the present invention to provide an implant treatment device capable of reducing the power required for removing by-products.

본 발명의 일 실시예에 따른 임플란트 처리 장치는, 임플란트를 처리하기 위한 처리 공간을 제공하는 챔버부; 상기 챔버부 내에서 상기 임플란트를 지지하는 지지부; 플라즈마를 발생시켜 상기 챔버부로 공급하는 플라즈마 발생부; 상기 챔버부로부터 가스를 배기하는 배기부; 및 상기 가스에 포함된 부산물을 제거하는 부산물 제거부를 포함할 수 있다.According to an embodiment of the present invention, there is provided an implant treatment apparatus comprising: a chamber part for providing a treatment space for treating an implant; A support for supporting the implant within the chamber; A plasma generator for generating a plasma and supplying the generated plasma to the chamber; An exhaust part for exhausting gas from the chamber part; And a byproduct removing unit for removing by-products contained in the gas.

상기 부산물은 오존을 포함할 수 있다.The by-product may include ozone.

상기 부산물 제거부는: 상기 챔버부의 처리 공간을 가열하는 챔버 가열부를 포함할 수 있다.The byproduct removing unit may include: a chamber heating unit for heating the processing space of the chamber unit.

상기 챔버 가열부는: 상기 챔버부의 내측에 설치되는 챔버 히터를 포함할 수 있다.The chamber heating unit may include: a chamber heater disposed inside the chamber unit.

상기 부산물 제거부는: 상기 챔버부로부터 배기되는 가스를 가열하는 배기 가스 가열부를 포함할 수 있다.The by-product removing unit may include: an exhaust gas heating unit for heating the gas exhausted from the chamber unit.

상기 배기부는: 상기 챔버부로부터 연장되는 제 1 배기관; 및 상기 제 1 배기관을 통해 상기 챔버부로부터 가스를 흡입하는 제 1 흡입 펌프를 포함할 수 있다.The exhaust unit includes: a first exhaust pipe extending from the chamber portion; And a first suction pump for sucking gas from the chamber portion through the first exhaust pipe.

상기 배기 가스 가열부는: 상기 제 1 배기관에 설치되는 제 1 히터를 포함할 수 있다.The exhaust gas heating unit may include: a first heater installed in the first exhaust pipe.

상기 제 1 히터는: 상기 제 1 배기관을 따라 상기 제 1 배기관의 둘레에 감긴 코일을 포함할 수 있다.The first heater may include: a coil wound around the first exhaust pipe along the first exhaust pipe.

상기 임플란트 처리 장치는: 상기 임플란트 처리 장치의 구동에 사용되는 부품을 수용하는 하우징을 더 포함하고, 상기 제 1 배기관은 상기 하우징 내에서 구부러져 배치될 수 있다.The implant treatment apparatus may further include: a housing for housing a component used for driving the implant treatment apparatus, wherein the first exhaust pipe is bent in the housing.

상기 부산물 제거부는: 상기 챔버부로부터 배기되는 가스를 액체에 통과시키는 액체 통과부를 포함할 수 있다.The by-product removing unit may include: a liquid passing portion for passing the gas exhausted from the chamber portion to the liquid.

상기 액체 통과부는: 상기 액체를 수용하고, 상기 제 1 배기관이 안으로 연장되어 상기 액체에 잠기는 액체 용기; 및 상기 제 1 배기관을 통해 나오는 상기 가스를 상기 액체 용기로부터 배출시키도록 상기 액체 용기로부터 연장되는 제 2 배기관을 포함할 수 있다.Wherein the liquid passing portion includes: a liquid container that receives the liquid, the first exhaust pipe extends into the liquid container and is immersed in the liquid; And a second exhaust pipe extending from the liquid container to discharge the gas coming out through the first exhaust pipe from the liquid container.

상기 액체 통과부는: 상기 액체 용기에 설치되어 상기 액체를 가열하는 액체 히터를 더 포함할 수 있다.The liquid passing portion may further include: a liquid heater installed in the liquid container and heating the liquid.

상기 액체 통과부는: 상기 제 2 배기관에 설치되는 제 2 히터를 더 포함할 수 있다.The liquid passing portion may further include: a second heater installed in the second exhaust pipe.

상기 제 1 및 제 2 배기관 중 적어도 하나는 상기 액체 용기를 둘러싸도록 배치될 수 있다.At least one of the first and second exhaust pipes may be arranged to surround the liquid container.

상기 부산물 제거부는: 상기 제 1 배기관 및 상기 제 2 배기관 중 적어도 하나에 구비되어 상기 부산물을 여과하는 부산물 필터를 더 포함할 수 있다.The byproduct removing unit may further include a byproduct filter provided in at least one of the first exhaust pipe and the second exhaust pipe to filter the byproduct.

본 발명의 실시예에 따르면, 플라즈마를 이용한 임플란트 처리 시 발생하는 부산물을 제거하거나 감소시킬 수 있다.According to the embodiment of the present invention, by-products generated in the implant treatment using the plasma can be removed or reduced.

본 발명의 실시예에 따르면, 부산물 제거 시 소요되는 전력량을 감소시켜 임플란트 처리 장치의 에너지 효율을 높일 수 있다.According to the embodiment of the present invention, it is possible to reduce the amount of power required to remove by-products, thereby increasing the energy efficiency of the implant treatment apparatus.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 임플란트 처리 장치의 예시적인 사시도이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 부산물 제거부를 포함하는 임플란트 처리 장치의 예시적인 사시도이다.
도 3은 본 발명의 다른 실시예에 따른 부산물 제거부를 포함하는 임플란트 처리 장치의 예시적인 사시도이다.
도 4는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 부산물 제거부를 포함하는 임플란트 처리 장치의 예시적인 사시도이다.
도 5는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 부산물 제거부를 포함하는 임플란트 처리 장치의 예시적인 사시도이다.
도 6은 도 5의 부산물 제거부를 개략적으로 도시한 도면이다.
도 7은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 부산물 제거부를 개략적으로 도시한 도면이다.
도 8은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 부산물 제거부를 개략적으로 도시한 도면이다.
도 9는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 부산물 제거부를 개략적으로 도시한 도면이다.1 is an exemplary perspective view of an implant treatment apparatus according to an embodiment of the present invention.
2 is an exemplary perspective view of an implant treatment apparatus including a by-product removing unit according to an embodiment of the present invention.
3 is an exemplary perspective view of an implant treatment apparatus including a by-product removing unit according to another embodiment of the present invention.
4 is an exemplary perspective view of an implant treatment apparatus including a by-product removing unit according to another embodiment of the present invention.
5 is an exemplary perspective view of an implant treatment apparatus including a by-product removing unit according to another embodiment of the present invention.
FIG. 6 is a view schematically showing the by-product removing unit of FIG. 5;
7 is a schematic view illustrating a by-product removing unit according to another embodiment of the present invention.
8 is a schematic view illustrating a by-product removing unit according to another embodiment of the present invention.
9 is a schematic view illustrating a by-product removing unit according to another embodiment of the present invention.

본 발명의 다른 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술 되는 실시 예를 참조하면 명확해질 것이다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시 예에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 수 있으며, 단지 본 실시 예는 본 발명의 개시가 완전하도록 하고, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다.Other advantages and features of the present invention and methods of achieving them will become apparent with reference to the embodiments described below in detail with reference to the accompanying drawings. The present invention may, however, be embodied in many different forms and should not be construed as being limited to the embodiments set forth herein. Rather, these embodiments are provided so that this disclosure will be thorough and complete, and will fully convey the concept of the invention to those skilled in the art. Is provided to fully convey the scope of the invention to those skilled in the art, and the invention is only defined by the scope of the claims.

만일 정의되지 않더라도, 여기서 사용되는 모든 용어들(기술 혹은 과학 용어들을 포함)은 이 발명이 속한 종래 기술에서 보편적 기술에 의해 일반적으로 수용되는 것과 동일한 의미를 가진다. 일반적인 사전들에 의해 정의된 용어들은 관련된 기술 그리고/혹은 본 출원의 본문에 의미하는 것과 동일한 의미를 갖는 것으로 해석될 수 있고, 그리고 여기서 명확하게 정의된 표현이 아니더라도 개념화되거나 혹은 과도하게 형식적으로 해석되지 않을 것이다.Unless defined otherwise, all terms (including technical or scientific terms) used herein have the same meaning as commonly accepted by the generic art in the prior art to which this invention belongs. Terms defined by generic dictionaries may be interpreted to have the same meaning as in the related art and / or in the text of this application, and may be conceptualized or overly formalized, even if not expressly defined herein I will not.

본 명세서에서 사용된 용어는 실시 예들을 설명하기 위한 것이며 본 발명을 제한하고자 하는 것은 아니다. 본 명세서에서, 단수형은 문구에서 특별히 언급하지 않는 한 복수형도 포함한다. 명세서에서 사용되는 '포함한다' 및/또는 이 동사의 다양한 활용형들 예를 들어, '포함', '포함하는', '포함하고', '포함하며' 등은 언급된 조성, 성분, 구성요소, 단계, 동작 및/또는 소자는 하나 이상의 다른 조성, 성분, 구성요소, 단계, 동작 및/또는 소자의 존재 또는 추가를 배제하지 않는다. 본 명세서에서 '및/또는' 이라는 용어는 나열된 구성들 각각 또는 이들의 다양한 조합을 가리킨다.The terminology used herein is for the purpose of illustrating embodiments and is not intended to be limiting of the present invention. In the present specification, the singular form includes plural forms unless otherwise specified in the specification. As used herein, the terms' comprise 'and / or various forms of use of the verb include, for example,' including, '' including, '' including, '' including, Steps, operations, and / or elements do not preclude the presence or addition of one or more other compositions, components, components, steps, operations, and / or components. The term 'and / or' as used herein refers to each of the listed configurations or various combinations thereof.

이하, 본 명세서에 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 상세하게 설명한다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings attached hereto.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 임플란트 처리 장치(1)의 예시적인 사시도이다.1 is an exemplary perspective view of an implant treatment apparatus 1 according to an embodiment of the present invention.

도 1을 참조하면, 상기 임플란트 처리 장치(1)는 챔버부(11), 지지부(12), 플라즈마 발생부(13), 배기부(14) 및 부산물 제거부(미도시)를 포함한다.1, the implant treatment apparatus 1 includes a chamber part 11, a support part 12, a plasma generating part 13, an evacuation part 14, and a byproduct removing part (not shown).

상기 챔버부(11)는 임플란트(10)를 처리하기 위한 처리 공간을 제공한다. 상기 지지부(12)는 상기 챔버부(11) 내에서 임플란트(10)를 지지한다. 상기 플라즈마 발생부(13)는 플라즈마를 발생시켜 상기 챔버부(11)로 공급한다. 상기 배기부(14)는 상기 챔버부(11)로부터 가스를 배기한다. 상기 부산물 제거부는 가스에 포함된 부산물을 제거한다.The chamber portion 11 provides a processing space for processing the implant 10. [ The support part 12 supports the implant 10 in the chamber part 11. The plasma generating part 13 generates plasma and supplies the generated plasma to the chamber part 11. The exhaust part (14) exhausts gas from the chamber part (11). The by-product removing unit removes the by-products contained in the gas.

상기 챔버부(11)는 상기 플라즈마 발생부(13)에 의해 발생된 플라즈마가 임플란트(10)의 표면과 반응하여 임플란트(10)가 처리되는 공간을 제공한다. 상기 챔버부(11)는 임플란트(10)가 드나들 수 있는 도어를 구비한다. 그리고, 상기 챔버부(11)는 플라즈마에 의해 임플란트(10)가 처리되는 동안에는 밀폐되어 상기 챔버부(11) 안의 가스가 밖으로 유출되지 않고, 반대로 상기 챔버부(11) 밖의 공기가 안으로 유입되지 않도록 한다.The chamber 11 is provided with a space in which the plasma generated by the plasma generating part 13 reacts with the surface of the implant 10 to process the implant 10. The chamber part 11 has a door through which the implant 10 can be inserted. The chamber part 11 is closed while the implant 10 is being processed by the plasma so that the gas in the chamber part 11 does not flow out to the outside and conversely the air outside the chamber part 11 is not introduced into the chamber part 11 do.

상기 지지부(12)는 상기 챔버부(11) 내에 구비되어 임플란트(10)를 지지한다. 상기 지지부(12)는 임플란트(10)에서 표면 처리가 요구되는 부분이 상기 플라즈마 발생부(13)에서 플라즈마가 분사되는 부분에 위치하도록 임플란트(10)를 지지할 수 있다. 예를 들어, 상기 지지부(12)는 임플란트(10)에서 턱뼈에 삽입되어 골 유착이 진행되는 나사 부분이 상기 챔버부(11)의 윗 부분을 향하도록 임플란트(10)의 크라운 또는 지대주 부분을 고정시킬 수 있다.The support part 12 is provided in the chamber part 11 to support the implant 10. The support 12 may support the implant 10 such that a portion of the implant 10 requiring surface treatment is located at a portion of the plasma generating portion 13 where the plasma is injected. For example, the supporter 12 is fixed to the jawbone of the implant 10 such that the screw portion of the implant 10 is directed to the upper portion of the chamber portion 11, and the crown or abutment portion of the implant 10 is fixed .

상기 플라즈마 발생부(13)는 플라즈마를 발생시켜 임플란트(10)에 제공한다. 상기 플라즈마 발생부(13)는 기체를 고전압으로 방전시켜 방전 공간 내 기체를 전자와 이온으로 분리시킬 수 있다. 이와 같이 상기 플라즈마 발생부(13)에 의해 플라즈마 상태로 여기된 기체는 상기 챔버부(11) 안으로 공급되어 상기 지지부(12)에 의해 지지된 임플란트(10)와 반응할 수 있다.The plasma generating part 13 generates plasma and supplies the generated plasma to the implant 10. The plasma generating unit 13 can discharge the gas at a high voltage to separate the gas in the discharge space into electrons and ions. The gas excited into the plasma state by the plasma generator 13 may be supplied into the chamber 11 and react with the implant 10 supported by the support 12.

상기 플라즈마 발생부(13)는 플라즈마를 발생시키기 위한 소스 가스로 대기를 사용할 수 있다. 그러나, 상기 플라즈마 발생부(13)에 의해 사용되는 소스 가스는 대기로 제한되지 않고, 아르곤, 헬륨과 같은 불활성 기체를 포함할 수도 있다.The plasma generating unit 13 may use an atmosphere as a source gas for generating a plasma. However, the source gas used by the plasma generating portion 13 is not limited to the atmosphere, and may include an inert gas such as argon or helium.

또한, 상기 플라즈마 발생부(13)는 소스 가스를 플라즈마 상태로 여기시키기 위해 전원 장치(미도시)를 포함할 수 있다. 상기 플라즈마 발생부(13)는 전원 장치로부터 전원 신호를 인가받아 서로 마주보는 전극 사이에서 소스 가스를 방전시킬 수 있다.Further, the plasma generating section 13 may include a power supply device (not shown) for exciting the source gas into a plasma state. The plasma generating unit 13 may receive a power supply signal from a power supply unit and discharge the source gas between opposing electrodes.

상기 배기부(14)는 상기 챔버부(11)로부터 임플란트(10)의 처리로 인해 발생되는 가스를 배기한다. 앞서 설명한 바와 같이, 본 발명의 임플란트 처리 장치(1)는 임플란트(10)의 표면 처리를 위해 플라즈마를 이용하므로 처리 과정에서 부산물로 오존이 발생한다. 특히, 상기 플라즈마 발생부(13)가 소스 가스로 대기를 사용하는 경우, 플라즈마가 대기에 포함된 산소와 지속적으로 반응하여 상기 챔버부(11) 내에 오존이 축적된다. 상기 배기부(14)는 플라즈마를 이용한 임플란트(10)의 처리 시 상기 챔버부(11)로부터 공정 부산물을 포함하는 가스를 배기하여 상기 챔버부(11) 내 부산물의 농도를 감소시킨다.The exhaust part 14 exhausts gas generated by the processing of the implant 10 from the chamber part 11. As described above, since the implant treatment apparatus 1 of the present invention uses plasma for surface treatment of the implant 10, ozone is generated as a by-product in the treatment process. Particularly, when the plasma generating section 13 uses the atmosphere as the source gas, the plasma continuously reacts with the oxygen contained in the atmosphere to accumulate ozone in the chamber section 11. [ The exhaust part 14 exhausts gas containing processing by-products from the chamber part 11 during the processing of the implant 10 using the plasma, thereby reducing the concentration of by-products in the chamber part 11. [

상기 부산물 제거부는 가스에 포함된 부산물을 제거한다. 앞서 설명한 바와 같이 상기 부산물은 오존을 포함하며, 이하에서는 상기 부산물 제거부가 상기 챔버부(11)로부터 배기되는 가스에서 오존을 제거하는 실시예들을 상세하게 설명하기로 한다.The by-product removing unit removes the by-products contained in the gas. As described above, the by-product includes ozone. Hereinafter, embodiments in which the by-product removing unit removes ozone from the gas exhausted from the chamber unit 11 will be described in detail.

도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 부산물 제거부를 포함하는 임플란트 처리 장치(1)의 예시적인 사시도이다.2 is an exemplary perspective view of an implant treatment apparatus 1 including a by-product removing unit according to an embodiment of the present invention.

본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 부산물 제거부는 상기 챔버부(11)의 처리 공간을 가열하는 챔버 가열부(150)를 포함할 수 있다.According to an embodiment of the present invention, the by-product removing unit may include a chamber heating unit 150 for heating the processing space of the chamber unit 11. [

예를 들어, 도 2를 참조하면, 상기 챔버 가열부(150)는 상기 챔버부(11)의 내측에 설치된 챔버 히터를 포함할 수 있다. 상기 챔버 히터는 상기 챔버부(11)의 내측 면에 하나 또는 그 이상이 설치되어 상기 챔버부(11) 안의 공간을 가열할 수 있다.For example, referring to FIG. 2, the chamber heating unit 150 may include a chamber heater disposed inside the chamber unit 11. One or more of the chamber heaters may be installed on the inner surface of the chamber part 11 to heat the space in the chamber part 11. [

상기 챔버 히터는 전원 장치(1501)로부터 전류를 공급받아 발열하는 열선을 포함할 수 있다. 그러나, 상기 챔버 히터는 상기 챔버부(11)의 내부를 사전에 설정된 온도로 가열할 수 있도록 구성되는 한 그 종류는 제한되지 않는다.The chamber heater may include a heating line that receives a current from the power supply 1501 and generates heat. However, the type of the chamber heater is not limited as long as it is configured to be able to heat the interior of the chamber part 11 to a predetermined temperature.

이와 같이 상기 챔버 가열부(150)는 상기 챔버부(11) 안의 처리 공간을 사전에 설정된 온도로 가열함으로써 오존을 열분해시킬 수 있다. 오존은 상온에서 자발적으로 분해되어 산소로 환원되나, 온도가 높아질수록 분해가 촉진된다. 따라서, 이 실시예에서 상기 부산물 제거부는 상기 챔버부(11)의 처리 공간을 가열하는 챔버 가열부(150)를 포함하여, 플라즈마를 이용한 임플란트(10)의 처리 시 발생하는 오존을 상온에서의 자연 분해보다 더 빠르게 분해시킬 수 있다.Thus, the chamber heating unit 150 can pyrolyze the ozone by heating the processing space in the chamber unit 11 to a predetermined temperature. Ozone decomposes spontaneously at room temperature and is reduced to oxygen, but decomposition is accelerated as temperature increases. Therefore, in this embodiment, the by-product removing unit includes a chamber heating unit 150 that heats the processing space of the chamber unit 11, so that the ozone generated during the processing of the implant using the plasma It can be decomposed faster than decomposition.

도 3은 본 발명의 다른 실시예에 따른 부산물 제거부를 포함하는 임플란트 처리 장치(1)의 예시적인 사시도이다.3 is an exemplary perspective view of an implant treatment apparatus 1 including a by-product removing unit according to another embodiment of the present invention.

본 발명의 다른 실시예에 따르면, 상기 부산물 제거부는 상기 챔버부(11)로부터 배기되는 가스를 가열하는 배기 가스 가열부(151)를 포함할 수 있다.According to another embodiment of the present invention, the by-product removing unit may include an exhaust gas heating unit 151 for heating the gas exhausted from the chamber unit 11. [

이 실시예에 따르면, 상기 배기부(14)는 상기 챔버부(11)로부터 연장되는 제 1 배기관(1411), 및 상기 제 1 배기관(141)에 구비되어 상기 제 1 배기관(141)을 통해 상기 챔버부(11)로부터 가스를 흡입하는 제 1 흡입 펌프(1412)를 포함할 수 있다. 그리고, 상기 배기 가스 가열부(151)는 상기 제 1 배기관(1411)에 설치된 제 1 히터를 포함할 수 있다.According to this embodiment, the exhaust part 14 includes a first exhaust pipe 1411 extending from the chamber part 11 and a second exhaust pipe 1411 provided in the first exhaust pipe 141, And a first suction pump 1412 for sucking gas from the chamber part 11. [ The exhaust gas heating unit 151 may include a first heater installed in the first exhaust pipe 1411.

예를 들어, 도 3에 도시된 바와 같이, 상기 제 1 히터는 상기 챔버부(11)로부터 연장되어 가스가 배출되는 경로를 제공하는 제 1 배기관(1411)에 설치될 수 있다. 구체적으로, 상기 제 1 히터는 상기 제 1 배기관(1411)을 따라 상기 제 1 배기관의 둘레에 감긴 코일을 포함할 수 있다. 이 경우, 상기 제 1 히터는 전원 장치(1501)로부터 전류를 공급받아 열을 발산할 수 있다. 그러나, 상기 제 1 히터는 상기 제 1 배기관(1411)을 사전에 설정된 온도로 가열할 수 있도록 구성되는 한 그 종류는 제한되지 않는다.For example, as shown in FIG. 3, the first heater may be installed in the first exhaust pipe 1411 extending from the chamber part 11 to provide a path through which gas is exhausted. Specifically, the first heater may include a coil wound around the first exhaust pipe along the first exhaust pipe 1411. In this case, the first heater can receive heat from the power source device 1501 and dissipate heat. However, the type of the first heater is not limited as long as it is configured to heat the first exhaust pipe 1411 to a predetermined temperature.

또한, 도 3에서 상기 제 1 히터는 상기 제 1 배기관(1411)에서 상기 제 1 흡입 펌프(1412)의 하류에 설치되었으나, 상기 제 1 히터의 설치 위치는 이에 제한되지 않는다. 예를 들어, 상기 제 1 히터는 상기 제 1 배기관(1411)에서 상기 제 1 흡입 펌프(1412)의 상류에 설치될 수도 있으며, 상기 제 1 흡입 펌프(1412)의 상류와 하류 둘 모두에 설치될 수도 있다.3, the first heater is installed downstream of the first suction pump 1412 in the first exhaust pipe 1411, but the installation position of the first heater is not limited thereto. For example, the first heater may be installed upstream of the first suction pump 1412 in the first exhaust pipe 1411, and may be installed upstream and downstream of the first suction pump 1412 It is possible.

앞서 도 2를 참조하여 설명한 실시예는 오존을 제거하기 위해 상기 챔버부(11) 내 처리 공간을 가열하기 때문에 임플란트(10)의 처리가 끝난 뒤 곧바로 상기 챔버부(11)를 개방하여 임플란트(10)를 반출하기 어렵다. 이 경우, 임플란트(10)의 처리가 끝나도 사용자는 상기 챔버부(11) 안의 온도가 임플란트(10)를 꺼내기에 안전한 수준으로 감소할 때까지 상당한 시간 동안 대기하여야 한다. 그 결과, 도 2의 실시예는 임플란트(10)의 시술을 위한 준비 시간이 길어지는 부담이 있다.2, since the processing space in the chamber part 11 is heated in order to remove ozone, the chamber part 11 is opened immediately after the processing of the implant 10, and the implant 10 ). In this case, even after the processing of the implant 10 is finished, the user must wait for a considerable time until the temperature in the chamber part 11 is reduced to a safe level for removing the implant 10. [ As a result, the embodiment of FIG. 2 has a burden of increasing preparation time for the operation of the implant 10.

그러나, 도 3의 실시예는 오존을 제거하기 위해 상기 챔버부(11)의 내부 공간을 가열하는 것이 아니라 제 1 배기관(1411)에 제 1 히터를 설치하여 상기 챔버부(11)로부터 배기되는 가스를 가열하므로 상기 챔버부(11)의 내부 공간은 온도 상승이 일어나지 않는다. 그 결과, 도 3의 실시예는 임플란트(10)의 처리가 끝난 뒤 상기 챔버부(11)가 냉각될 때까지 기다리지 않고 곧바로 임플란트(10)를 반출할 수 있는 장점이 있다.However, the embodiment of FIG. 3 does not heat the internal space of the chamber part 11 to remove ozone, but installs a first heater in the first exhaust pipe 1411 so that the gas discharged from the chamber part 11 The temperature of the inner space of the chamber part 11 does not rise. As a result, the embodiment of FIG. 3 has an advantage that the implant 10 can be taken out immediately without waiting for the chamber part 11 to cool down after the treatment of the implant 10 is completed.

도 4는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 부산물 제거부를 포함하는 임플란트 처리 장치(1)의 예시적인 사시도이다.4 is an exemplary perspective view of an implant treatment apparatus 1 including a by-product removing unit according to another embodiment of the present invention.

이 실시예에 따르면, 상기 임플란트 처리 장치(1)는 상기 임플란트 처리 장치(1)의 구동에 사용되는 부품을 수용하는 하우징(16)을 더 포함할 수 있다. 즉, 상기 하우징(16)은 상기 챔버부(11)와 별도로 구비되어 상기 임플란트 처리 장치(1)의 구동에 사용되는 각종 부품들(예컨대, 전원, 펌프, 컨트롤러 등)을 수용할 수 있다.According to this embodiment, the implant treatment apparatus 1 may further include a housing 16 for housing a part used for driving the implant treatment apparatus 1. [ That is, the housing 16 may be provided separately from the chamber part 11 to accommodate various components (for example, a power source, a pump, a controller, and the like) used for driving the implant treatment apparatus 1.

그리고, 상기 제 1 배기관(1411)은 상기 하우징(16) 내에서 구부러져 배치될 수 있다. 예를 들어, 도 4에 도시된 바와 같이, 상기 제 1 히터가 설치된 상기 제 1 배기관(1411)은 상기 하우징(16) 내에서 한 번 이상 구부러져 배치될 수 있다.The first exhaust pipe 1411 may be bent in the housing 16. For example, as shown in FIG. 4, the first exhaust pipe 1411 provided with the first heater may be bent at least once in the housing 16.

이 실시예에서 상기 제 1 히터가 설치된 상기 제 1 배기관(1411)은 상기 하우징(16) 내에 수용되므로, 온도가 높아진 제 1 배기관(1411)이 장치의 외부에 노출되어 사용자에게 화상을 입히는 등 안전사고의 위험을 줄일 수 있다.In this embodiment, the first exhaust pipe 1411 provided with the first heater is accommodated in the housing 16, so that the first exhaust pipe 1411 having a high temperature is exposed to the outside of the apparatus, The risk of accidents can be reduced.

또한, 제 1 배기관(1411)이 하우징(16) 내에서 구부러져 배치되므로, 상기 챔버부(11)로부터 배출되는 오존이 상기 제 1 배기관(1411)을 따라 이동하는 과정에서 충분한 시간 동안 열분해될 수 있다. 다시 말해, 도 4의 실시예에서 상기 제 1 배기관(1411)은 하우징(16) 내에서 구불구불하게 형성되므로, 상기 챔버부(11)로부터 배출되는 오존이 상기 하우징(16) 내의 한정된 공간 안에서 상기 제 1 배기관(1411)에 설치된 제 1 히터에 의해 열분해되기에 충분한 시간을 확보할 수 있어 오존을 보다 효과적으로 제거할 수 있다.Since the first exhaust pipe 1411 is bent and disposed in the housing 16, ozone discharged from the chamber portion 11 can be thermally decomposed for a sufficient time in the process of moving along the first exhaust pipe 1411 . 4, the first exhaust pipe 1411 is formed in a curved shape in the housing 16, so that the ozone discharged from the chamber part 11 can be prevented from entering the inside of the housing 16 It is possible to secure a sufficient time for pyrolysis by the first heater installed in the first exhaust pipe 1411, and ozone can be removed more effectively.

도 5는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 부산물 제거부를 포함하는 임플란트 처리 장치(1)의 예시적인 사시도이다.5 is an exemplary perspective view of an implant treatment apparatus 1 including a by-product removing unit according to another embodiment of the present invention.

이 실시예에 따르면, 상기 부산물 제거부는 상기 챔버부(11)로부터 배기되는 가스를 액체에 통과시키는 액체 통과부를 포함할 수 있다.According to this embodiment, the by-product removing portion may include a liquid passing portion for passing the gas exhausted from the chamber portion 11 to the liquid.

도 5를 참조하면, 상기 액체 통과부는 액체(1520)를 수용하는 액체 용기(1521) 및 상기 액체 용기(1521)로부터 가스를 배출하는 제 2 배기관(1522)을 포함할 수 있다.5, the liquid passing portion may include a liquid container 1521 that receives liquid 1520 and a second exhaust pipe 1522 that discharges gas from the liquid container 1521. [

이 실시예에 따르면, 상기 제 1 배기관(1411)은 상기 액체 용기(1521) 안으로 연장되어 액체(1520)에 잠길 수 있다. 그리고, 상기 제 2 배기관(1522)은 상기 제 1 배기관(1411)을 통해 나오는 가스를 액체 용기(1521)로부터 배출시키도록 상기 액체 용기(1521)로부터 연장될 수 있다.According to this embodiment, the first exhaust pipe 1411 may extend into the liquid container 1521 to be immersed in the liquid 1520. The second exhaust pipe 1522 may extend from the liquid container 1521 so as to discharge gas discharged through the first exhaust pipe 1411 from the liquid container 1521.

도 6은 도 5의 부산물 제거부를 개략적으로 도시한 도면이다.FIG. 6 is a view schematically showing the by-product removing unit of FIG. 5;

도 6에 도시된 바와 같이, 상기 챔버부(11)로부터 연장되는 제 1 배기관(1411)은 액체(1520)를 수용하는 액체 용기(1521) 안으로 연장된다. 또한, 앞서 설명한 바와 같이 상기 제 1 배기관(1411)에는 상기 챔버부(11)로부터 가스를 흡입하는 제 1 흡입 펌프(1412)가 설치되므로, 상기 챔버부(11)로부터 배출되는 가스는 제 1 배기관(1411)을 따라 이동하여 액체 용기(1521) 안으로 유입된다.As shown in FIG. 6, a first exhaust pipe 1411 extending from the chamber part 11 extends into a liquid container 1521 which receives the liquid 1520. As described above, since the first exhaust pipe 1411 is provided with the first suction pump 1412 for sucking the gas from the chamber part 11, the gas discharged from the chamber part 11 is introduced into the first exhaust pipe 1411, (1411) and flows into the liquid container (1521).

또한, 제 1 배기관(1411)이 액체 용기(1521) 안에서 액체(1520)에 잠기므로, 상기 제 1 배기관(1411)에서 나오는 가스는 액체(1520)를 지나 상기 액체 용기(1521)의 상부 빈 공간으로 이동하게 된다. 그리고, 액체(1520)를 지나온 가스는 제 2 배기관(1522)을 통해 상기 액체 용기(1521) 밖으로 빠져나간다.Since the first exhaust pipe 1411 is immersed in the liquid 1520 in the liquid container 1521, the gas discharged from the first exhaust pipe 1411 passes through the liquid 1520, . The gas that has passed through the liquid 1520 passes through the second exhaust pipe 1522 and out of the liquid container 1521.

오존은 그 자체가 불안정한 화합물이기 때문에 공기 중에서 자발적으로 분해되나, 물 속에서는 공기 중에서보다 빠르게 분해되는 특성을 갖는다. 이러한 오존의 특성을 응용하여 도 5 및 도 6의 실시예는 상기 챔버부(11)로부터 배출되는 가스를 물과 같은 액체에 통과시켜 가스에 포함된 오존을 보다 효과적으로 제거할 수 있다.Since ozone is an unstable compound itself, it decomposes spontaneously in the air, but has the property of decomposing more rapidly in air than in air. By applying such characteristics of ozone, the embodiment of FIGS. 5 and 6 can pass the gas discharged from the chamber 11 through a liquid such as water to more effectively remove the ozone contained in the gas.

나아가, 이 실시예에 따르면, 상기 액체 통과부는 상기 액체 용기(1521)에 설치되어 액체(1520)를 가열하는 액체 히터(1523)를 더 포함할 수 있다. 상기 액체 히터(1523)는 상기 액체 용기(1521)의 바닥면 등에 설치되고 전원 장치(1501)로부터 전류를 공급받아 발열하는 열선을 포함할 수 있다.Further, according to this embodiment, the liquid passing portion may further include a liquid heater 1523 installed in the liquid container 1521 to heat the liquid 1520. The liquid heater 1523 may include a heat wire which is installed on the bottom surface of the liquid container 1521 and generates heat by receiving a current from the power source device 1501.

앞서 설명한 바와 같이, 오존은 공기 중에서보다 물 속에서 더 빠르게 분해되며 온도가 높아질수록 분해 속도가 증가한다. 이 실시예는 액체 용기(1521)에 액체 히터(1523)를 설치하고 가스가 통과하는 액체(1520)를 사전에 설정된 온도로 가열함으로써 가스에 포함된 오존을 보다 효과적으로 제거할 수 있다.As described earlier, ozone decomposes faster in water than in air, and the rate of decomposition increases with increasing temperature. This embodiment can more effectively remove the ozone contained in the gas by installing the liquid heater 1523 in the liquid container 1521 and heating the liquid 1520 through which the gas passes to a predetermined temperature.

도 7은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 부산물 제거부를 개략적으로 도시한 도면이다.7 is a schematic view illustrating a by-product removing unit according to another embodiment of the present invention.

이 실시예에 따르면, 상기 액체 통과부는 둘 이상의 액체 용기와 그 액체 용기들을 연결하는 배기관을 포함할 수 있다. 예를 들어, 도 7에 도시된 바와 같이, 상기 액체 통과부는 제 1 액체 용기(1521) 및 제 2 액체 용기(1531)를 포함할 수 있다. 상기 제 1 및 제 2 액체 용기(1521, 1531)는 액체(1520)를 수용한다.According to this embodiment, the liquid passing portion may include two or more liquid containers and an exhaust pipe connecting the liquid containers. For example, as shown in FIG. 7, the liquid passing portion may include a first liquid container 1521 and a second liquid container 1531. The first and second liquid containers 1521 and 1531 receive the liquid 1520.

그리고, 상기 챔버부(11)로부터 연장되는 제 1 배기관(1411)은 제 1 액체 용기(1521) 안으로 연장되어 액체(1520)에 잠기며, 상기 제 1 액체 용기(1521)로부터 연장되는 제 2 배기관(1522)은 제 2 액체 용기(1531) 안으로 연장되어 액체(1520)에 잠긴다. 또한, 상기 액체 통과부는 상기 제 2 액체 용기(1531)로부터 연장되는 제 3 배기관(1532)을 포함한다.The first exhaust pipe 1411 extending from the chamber part 11 extends into the first liquid container 1521 and is immersed in the liquid 1520. The first exhaust pipe 1411 extends from the first liquid container 1521, (1522) extends into the second liquid container (1531) and is immersed in the liquid (1520). In addition, the liquid passing portion includes a third exhaust pipe 1532 extending from the second liquid container 1531.

앞서 설명한 실시예들과 마찬가지로 상기 제 1 배기관(1411)에는 상기 챔버부(11)로부터 가스를 흡입하는 제 1 흡입 펌프(1412)가 설치된다. 그리고, 이 실시예에서는 제 1 액체 용기(1521)와 제 2 액체 용기(1531)를 연결하는 제 2 배기관(1522)에도 상기 제 1 액체 용기(1521)로부터 가스를 흡입하는 제 2 흡입 펌프(1530)가 설치될 수 있다.The first exhaust pipe 1411 is provided with a first suction pump 1412 for sucking gas from the chamber part 11, as in the above-described embodiments. In this embodiment, the second exhaust pipe 1522 connecting the first liquid container 1521 and the second liquid container 1531 is also provided with a second suction pump 1530 for sucking gas from the first liquid container 1521 Can be installed.

나아가, 상기 제 1 및 제 2 액체 용기(1521, 1531)에는 각각 액체(1520)를 가열하기 위한 제 1 및 제 2 액체 히터(1523, 1533)가 설치될 수 있다.Further, the first and second liquid containers 1521 and 1531 may be provided with first and second liquid heaters 1523 and 1533 for heating the liquid 1520, respectively.

이 실시예에 따르면, 상기 챔버부(11)로부터 배출되는 가스가 둘 이상의 액체 용기(1521, 1531)에 순차적으로 유입되어 액체(1520)를 통과하므로 하나의 액체 용기(1521)만을 이용하는 도 6의 실시예에 비해 가스에 포함된 오존을 보다 효과적으로 제거할 수 있다.6, which uses only one liquid container 1521 because the gas discharged from the chamber part 11 sequentially flows into two or more liquid containers 1521 and 1531 and passes through the liquid 1520, The ozone contained in the gas can be removed more effectively than the embodiment.

도 8은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 부산물 제거부를 개략적으로 도시한 도면이다.8 is a schematic view illustrating a by-product removing unit according to another embodiment of the present invention.

이 실시예는 상기 액체 통과부가 액체(1520)를 수용하는 액체 용기(1521) 및 상기 액체 용기(1521)로부터 연장되는 제 2 배기관(1522)을 포함하고, 상기 챔버부(11)로부터 연장되는 제 1 배기관(1411)이 상기 액체 용기(1521) 안으로 연장되어 액체(1520)에 잠기는 점에서 도 6의 실시예와 동일하다.This embodiment is characterized in that the liquid passage portion includes a liquid container 1521 that receives the liquid 1520 and a second exhaust pipe 1522 that extends from the liquid container 1521, 1 in that the exhaust pipe 1411 extends into the liquid container 1521 and is immersed in the liquid 1520. [

그러나, 도 8에 도시된 바와 같이, 이 실시예는 제 1 및 제 2 배기관(1411, 1522)에 각각 제 1 및 제 2 히터(151, 152)가 설치되어 상기 제 1 및 제 2 배기관(1411, 1522)을 지나는 가스를 가열하는 점에서 도 6의 실시예와 차이가 있다.8, the first and second exhaust pipes 1411 and 1522 are provided with first and second heaters 151 and 152, respectively, and the first and second exhaust pipes 1411 and 1422 , 1522 in that it heats the gas.

이 실시예에 따르면, 상기 부산물 제거부는 상기 챔버부(11)로부터 배기되는 가스가 제 1 및 제 2 배기관(1411, 1522)을 따라 이동하는 도중 가스를 가열하여 공기 중에서 오존을 열분해시키는 열분해 과정과, 가스를 물과 같은 액체(1520)에 통과시켜 오존을 물 속에서 분해시키는 수중 분해 과정을 함께 수행함으로써, 플라즈마를 이용한 임플란트(10)의 처리에 의해 발생된 오존을 더욱 효과적으로 제거할 수 있다.According to this embodiment, the by-product removing unit may include a pyrolysis process for pyrolyzing ozone in the air by heating gas while the gas exhausted from the chamber 11 moves along the first and second exhaust pipes 1411 and 1522, , Ozone generated by the treatment of the implant 10 using the plasma can be more effectively removed by conducting the underwater decomposition process of passing the gas through the liquid 1520 such as water and decomposing the ozone in the water.

도 8에서는 제 1 및 제 2 배기관(1411, 1522) 둘 모두에 히터(151, 152)가 설치되었으나, 실시예에 따라 제 1 배기관(1411)에만 제 1 히터(151)가 설치될 수 있으며, 제 2 배기관(1522)에만 제 2 히터(152)가 설치될 수도 있다.8, heaters 151 and 152 are installed in both the first and second exhaust pipes 1411 and 1522. However, according to the embodiment, the first heater 151 may be installed only in the first exhaust pipe 1411, And the second heater 152 may be installed only in the second exhaust pipe 1522.

도 9는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 부산물 제거부를 개략적으로 도시한 도면이다.9 is a schematic view illustrating a by-product removing unit according to another embodiment of the present invention.

이 실시예에 따르면, 상기 제 1 히터가 설치된 제 1 배기관(1411)은 상기 액체 용기(1521)를 둘러싸도록 배치될 수 있다.According to this embodiment, the first exhaust pipe 1411 provided with the first heater may be disposed so as to surround the liquid container 1521.

예를 들어, 도 9에 도시된 바와 같이, 상기 제 1 배기관(1411)에는 상기 챔버부(11)로부터 배기되는 가스를 가열하기 위한 제 1 히터(151)가 설치되고, 상기 제 1 배기관(1411)은 액체(1520)가 담긴 액체 용기(1521)의 주위에서 상기 액체 용기(1521)를 둘러싸도록 배치될 수 있다.9, the first exhaust pipe 1411 is provided with a first heater 151 for heating gas exhausted from the chamber portion 11, and the first exhaust pipe 1411 May be disposed so as to surround the liquid container 1521 around the liquid container 1521 containing the liquid 1520. [

상기 제 1 배기관(1411)을 지나온 가스가 상기 액체 용기(1521)에 유입되어 액체(1520)를 통과하고 제 2 배기관(1522)을 통해 상기 액체 용기(1521)로부터 빠져나가는 점은 앞서 설명한 실시예들과 동일하다.The gas that has passed through the first exhaust pipe 1411 flows into the liquid container 1521 and passes through the liquid 1520 and escapes from the liquid container 1521 through the second exhaust pipe 1522. As described above, .

앞서 설명한 실시예들과 달리, 이 실시예에서는 제 1 히터(151)가 설치된 제 1 배기관(1411)이 액체 용기(1521)를 둘러싸도록 배치됨으로써, 상기 제 1 히터(151)가 상기 액체 용기(1521)에도 열을 전달하여 액체(1520)를 가열할 수 있다.A first exhaust pipe 1411 provided with the first heater 151 is disposed so as to surround the liquid container 1521 so that the first heater 151 is disposed in the liquid container 1521. In this embodiment, 1521 to heat the liquid 1520.

다시 말해, 상기 제 1 히터(151)에서 발생된 열 에너지가 상기 제 1 배기관(1411)을 지나가는 가스를 가열하면서 동시에 액체 용기(1521) 내의 액체(1520)도 가열할 수 있어 오존을 제거하기 위해 가동되는 부산물 제거부의 에너지 효율을 향상시킬 수 있다.In other words, the heat energy generated in the first heater 151 can heat the liquid 1520 in the liquid container 1521 while heating the gas passing through the first exhaust pipe 1411, thereby removing ozone It is possible to improve the energy efficiency of the by-product removing operation.

도 8의 실시예에서는 제 1 히터(151)가 설치된 제 1 배기관(1411)이 액체 용기(1521)와 열적으로 접촉하지 않고 분리되어 설치됨으로써 제 1 배기관(1411)을 지나가는 가스를 가열하고 남은 열이 공기 중으로 발산되므로 오존 제거를 위해 필요한 에너지를 효율적으로 활용하는데 한계가 있다.8, the first exhaust pipe 1411 provided with the first heater 151 is installed separately from the liquid container 1521 without being in thermal contact therewith, thereby heating the gas passing through the first exhaust pipe 1411, Is released into the air, there is a limit to efficiently utilize the energy required for removing ozone.

그러나, 도 9의 실시예는 제 1 배기관(1411) 내 가스를 가열하고 남은 열이 대부분 액체 용기(1521)로 전달되어 액체(1520)를 가열하기 위해 사용되므로 열 손실이 줄어들고 에너지 효율이 높아지는 효과를 달성할 수 있다.However, since the embodiment of FIG. 9 is used for heating the gas in the first exhaust pipe 1411 and most of the remaining heat is transferred to the liquid container 1521 to heat the liquid 1520, the heat loss is reduced and the energy efficiency is increased Can be achieved.

도 9에서는 제 1 히터(151)가 설치된 제 1 배기관(1411)이 액체 용기(1521)를 둘러싸도록 배치되었으나, 실시예에 따라 제 2 히터(152)가 설치된 제 2 배기관(1522)이 액체 용기(1521)를 둘러싸도록 배치될 수 있으며, 제 1 및 제 2 배기관(1411, 1522) 둘 모두가 액체 용기(1521)를 둘러싸도록 배치될 수도 있다.9, the first exhaust pipe 1411 provided with the first heater 151 is disposed so as to surround the liquid container 1521. However, according to the embodiment, the second exhaust pipe 1522 provided with the second heater 152 is disposed in the liquid container 1521, And both the first and second exhaust pipes 1411 and 1522 may be disposed so as to surround the liquid container 1521. [

또한, 실시예에 따라, 제 1 배기관(1411)에 설치된 제 1 히터(151)로부터 제공되는 열 에너지가 액체 용기(1521) 내 액체(1520)를 사전에 설정된 온도로 가열하기에 충분하다면 상기 액체 통과부는 상기 액체 용기(1521)에 설치되는 액체 히터(1523)를 포함하지 않을 수 있다.According to the embodiment, if the thermal energy provided from the first heater 151 provided in the first exhaust pipe 1411 is sufficient to heat the liquid 1520 in the liquid container 1521 to a preset temperature, The passing portion may not include the liquid heater 1523 installed in the liquid container 1521.

그러나, 상기 제 1 히터(151)로부터 액체 용기(1521)로 전달되는 열 에너지의 양을 제어하기 어려워 액체(1520)의 온도를 원하는 온도로 조절하기 힘든 경우, 상기 액체 통과부는 액체 용기(1521) 내 액체(1520)의 온도를 측정하는 온도계(미도시)와 상기 액체 히터(1523)를 더 구비하여 액체(1520)의 온도를 보다 정밀하게 조절할 수 있다. 이 경우, 액체(1520)의 가열에 주로 사용되는 열 에너지는 제 1 히터(151)로부터 제공되고, 액체 히터(1523)로부터 제공되는 열 에너지는 액체(1520)의 온도를 미세하게 조절하기 위해 사용될 수 있다.However, since it is difficult to control the amount of thermal energy transmitted from the first heater 151 to the liquid container 1521, it is difficult to adjust the temperature of the liquid 1520 to a desired temperature, The temperature of the liquid 1520 can be adjusted more precisely by further including a thermometer (not shown) and the liquid heater 1523 for measuring the temperature of the liquid 1520. In this case, the heat energy mainly used for heating the liquid 1520 is supplied from the first heater 151, and the thermal energy provided from the liquid heater 1523 is used to finely control the temperature of the liquid 1520 .

본 발명의 실시예에 따르면, 상기 부산물 제거부는 제 1 배기관(1411) 및 제 2 배기관(1522) 중 적어도 하나에 구비되어 부산물을 여과하는 부산물 필터(미도시)를 더 포함할 수 있다. 상기 부산물 필터는 오존을 분해할 수 있는 화합물이 사용된 오존 필터를 포함할 수 있다.According to an embodiment of the present invention, the by-product removing unit may further include a by-product filter (not shown) provided in at least one of the first exhaust pipe 1411 and the second exhaust pipe 1522 to filter by-products. The by-product filter may include an ozone filter using a compound capable of decomposing ozone.

이상에서 실시예를 통해 본 발명을 설명하였으나, 위 실시예는 단지 본 발명의 사상을 설명하기 위한 것으로 이에 한정되지 않는다. 통상의 기술자는 전술한 실시예에 다양한 변형이 가해질 수 있음을 이해할 것이다. 본 발명의 범위는 첨부된 특허청구범위의 해석을 통해서만 정해진다.While the present invention has been described with reference to the exemplary embodiments, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed exemplary embodiments. Those skilled in the art will appreciate that various modifications may be made to the embodiments described above. The scope of the present invention is defined only by the interpretation of the appended claims.

1: 임플란트 처리 장치
10: 임플란트
11: 챔버부
12: 지지부
13: 플라즈마 발생부
14: 배기부
15: 부산물 제거부
16: 하우징1: Implant treatment device
10: Implant
11: chamber part
12: Support
13: Plasma generator
14:
15: Byproduct removal
16: Housing

Claims

A chamber portion for providing a processing space for processing the implant;
A support for supporting the implant within the chamber;
A plasma generator for generating a plasma and supplying the generated plasma to the chamber;
An exhaust part for exhausting gas from the chamber part; And
And a byproduct removing unit for removing by-products contained in the gas.

The method according to claim 1,
Wherein the byproduct includes ozone.

The method according to claim 1,
The by-
And a chamber heating section for heating the processing space of the chamber section.

The method of claim 3,
The chamber heating unit includes:
And a chamber heater provided inside the chamber portion.

The method according to claim 1,
The by-
And an exhaust gas heating section for heating the gas exhausted from the chamber section.

6. The method of claim 5,
The exhaust unit includes:
A first exhaust pipe extending from the chamber portion; And
And a first suction pump for sucking gas from the chamber part through the first exhaust pipe.

The method according to claim 6,
The exhaust gas heating unit includes:
And a first heater installed in the first exhaust pipe.

8. The method of claim 7,
The first heater includes:
And a coil wound around the first exhaust pipe along the first exhaust pipe.

8. The method of claim 7,
The implant treatment apparatus comprises:
Further comprising a housing for housing a part used for driving the implant treatment apparatus,
Wherein the first exhaust pipe is bent in the housing.

9. The method of claim 8,
The by-
And a liquid passing portion for passing the gas exhausted from the chamber portion to the liquid.

11. The method of claim 10,
Wherein the liquid comprises water.

11. The method of claim 10,
Wherein the liquid passing portion comprises:
A liquid container for containing the liquid, the first exhaust pipe extending into and immersed in the liquid; And
And a second exhaust pipe extending from the liquid container to discharge the gas coming out through the first exhaust pipe from the liquid container.

13. The method of claim 12,
Wherein the liquid passing portion comprises:
And a liquid heater installed in the liquid container for heating the liquid.

13. The method of claim 12,
Wherein the liquid passing portion comprises:
And a second heater installed in the second exhaust pipe.

15. The method of claim 14,
Wherein at least one of the first and second exhaust pipes is arranged to surround the liquid container.

13. The method of claim 12,
The by-
Further comprising a byproduct filter provided on at least one of the first exhaust pipe and the second exhaust pipe to filter the byproduct.