KR20180000125A - 습식전기 집진기가 포함된 유해 배기가스 처리 습식 멀티 스크러버 시스템 - Google Patents

습식전기 집진기가 포함된 유해 배기가스 처리 습식 멀티 스크러버 시스템 Download PDF

Info

Publication number
KR20180000125A
KR20180000125A KR1020160077898A KR20160077898A KR20180000125A KR 20180000125 A KR20180000125 A KR 20180000125A KR 1020160077898 A KR1020160077898 A KR 1020160077898A KR 20160077898 A KR20160077898 A KR 20160077898A KR 20180000125 A KR20180000125 A KR 20180000125A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
particles
exhaust gas
filter
water
wet
Prior art date
Application number
KR1020160077898A
Other languages
English (en)
Other versions
KR101853292B1 (ko
Inventor
문기학
Original Assignee
문기학
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 문기학 filed Critical 문기학
Priority to KR1020160077898A priority Critical patent/KR101853292B1/ko
Publication of KR20180000125A publication Critical patent/KR20180000125A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR101853292B1 publication Critical patent/KR101853292B1/ko

Links

Images

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/02041—Cleaning
    • H01L21/02096—Cleaning only mechanical cleaning
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67017—Apparatus for fluid treatment
    • H01L21/67028—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like
    • H01L21/6704—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for wet cleaning or washing
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67017—Apparatus for fluid treatment
    • H01L21/67028—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like
    • H01L21/6704—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for wet cleaning or washing
    • H01L21/67046—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for wet cleaning or washing using mainly scrubbing means, e.g. brushes
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67098—Apparatus for thermal treatment

Abstract

습식전기 집진기가 포함된 유해 배기가스 처리 습식 멀티 스크러버 시스템이 개시된다. 입자성 물질의 관성력을 상승시켜 파티클을 회전시키고 가스 유속과 다른 속도로 스프레이 노즐에서 물을 분사하여 파티클과 접속시켜 제거하는 벤츄리 스크루버; 응축온도를 이용하여 냉각코일을 지날 때 난용성 가스 성상을 제거하는 응축 열교환기; 및 전극에 전기를 걸어 파티클이 집진판으로 이동하고 집진판에 도포된 수막에 의해 파티클과 Mist가 제거되는 습식전기집진장치와 파티클을 필터링하는 멀티필터로 배기 가스의 파티클을 제거 및 페킹층에 물을 뿌려 유해가스를 처리하는 멀티 스크루버 및 사용된 폐수를 재 순환하는 사용하는 재순환 탱크로 구성한다. 따라서 공장으로부터 배출되는 부착성 때문에 처리하기 어려운 파티클(먼지, 고점도 액적)을 포함한 배기가스를 세정식으로 처리할 수 있으며 유해가스도 같이 처리하는 설치 및 관리가 용이한 장비를 제공할 수 있다.

Description

습식전기 집진기가 포함된 유해 배기가스 처리 습식 멀티 스크러버 시스템{HARMFUL EXHAUST GAS TREATMENT WET MULTI-SCRUBBER SYSTEM CONTANING WET ELECTROSTATIC PRECIPITATOR}
본 발명은 산업활동에 의한 유해가스 및 미세먼지를 제거 하는 시스템에 관한 것이며, 특히 반도체 생산 공정에서 발생되는 배기가스 중 파티클(먼지, 고점성 액적) 및 난용성 가스 성상을 포함한 배기가스의 처리 효율을 향상 시키는 습식전기 집진기가 포함된 유해 배기가스 처리 습식 멀티 스크러버 시스템에 관한 것이다.
반도체 디스플레이 공정에서 배출되는 배기가스에는 다량의 먼지와 액적(Aerosol)이 포함되며 이를 처리하기 위해 습식스크루버에 다단의 패킹층을 두고 세정수를 분무하여 처리하고 있으나, 배기가스의 먼지 및 액적이 세정수와 혼합되어 점성을 가진 액적이 형성된다. 이 액적이 패킹층에 달라붙어 세정수로 제거가 되지 않아 설비의 차압 발생하고 내벽에 달라붙은 슬러지의 원활한 배출이 되지 않아 빈번한 청소주기와 드레인 배관이 막히는 문제로 운영 효율이 떨어지고 있다.
일반적으로 파티클이 포함된 유해 배기가스 기존 처리 방식은 다음과 같다. 습식 필터 전처리를 설치하고 주처리 완료 전단 이나 후단에 습식전기집진기를 두어 처리하는 설비이다. 습식전기집진기는 전극에 전기를 걸어 발생된 코로나 방전에 의해 음이온이 발생되고 이 음이온은 상태가 불안전하여 주위에 떠다니는 먼지입자와 붙어 안정화하려고 한다. 이 먼지 입자는 음이온화되어 플러스극을 띠는 그라운드된 집진판으로 이동하게 되는데, 집진판에 수막을 형성시켜 이 세정수와 함께 파티클을 제거한다. 습식전기집진기는 집진판에 DRY 되는 곳 없이 전체적으로 도포가 되어야 효율이 매우 높고 BEAD가 발생되지 않지만 먼지의 부착성 때문에 잦은 청소 및 빈번한 고장 및 고전압에 의한 전기적 안전성의 문제로 화재의 위험성이 높아 관리측면에서 많은 어려움을 가지고 있다.
출원번호: 10-2009-0013269, 폐기물 처리 시스템 출원번호: 10-2011-0002121, 악취 제거를 위한 휘발성 유기화합물 처리기 및 이를 이용한 고도악취처리장치
상기와 같은 문제점을 해결하기 위한 본 발명의 목적은, 공장으로부터 배출되는 파티클(먼지, 고점도 액적)을 포함한 배기가스뿐 아니라 난용성 가스 성상도 동시에 포함하고 있는 배기가스의 부착성에도 영향을 받지 않는 장비를 상품화하여 처리 및 관리 효율을 향상시키는 습식전기 집진기가 포함된 유해 배기가스 처리 습식 멀티 스크러버 시스템을 제공하는데 있다.
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명은, 입자성 물질의 관성력을 상승시켜 파티클을 회전시키고 가스 유속과 다른 속도로 스프레이 노즐에서 물을 분사하여 파티클과 접속시켜 제거하는 사이클론 벤츄리 스크루버; 응축온도를 이용하여 냉각코일을 지날 때 난용성 가스 성상을 제거하는 응축 열교환기; 및 집진판에 전기를 걸어 파티클이 집진판으로 이동하고 집진판에 도포된 수막에 의해 파티클이 제거되는 습식전기집진장치와 유해가스의 처리를 위한 접촉면적이 높은 다단의 페킹층을 두어 세정수를 분사하여 제거하는 유해 배기 가스 제거 멀티 스크루버를 제공한다.
파티클 및 유해가스 처리를 위해 발생된 다량의 폐수는 금속 전극에 전기를 걸어 양극에서 이온이 발생하고, 음극에서 수소가 발생해서, 응집조에서 이온에 의한 응집물을 제거하고, 부산조에서 수소에 의한 버블에 따른 부산물을 제거하고, 필터조에서 파티클을 필터링한 물을 재사용하는 순환수처리기를 더 포함한다.
습식전기 집진기가 포함된 유해 배기가스 처리 습식 멀티 스크러버 시스템은 응집물과 부산물 제거량이 일정 레벨을 초과할 경우 적재함에서 새 필터를 가져와서 사용된 필터를 새 필터로 교체하고 사용된 필터를 적재함에 적층하는 필터 교체부를 더 포함한다.
상기와 같은 본 발명에 따른 습식전기 집진기가 포함된 유해 배기가스 처리 습식 멀티 스크러버 시스템을 이용할 경우에는 공장으로부터 배출되는 부착성 때문에 처리하기 어려운 파티클(먼지, 고점도 액적)을 포함한 배기가스를 세정식으로 처리할 수 있으며 설치 및 관리가 용이한 장비를 제공할 수 있다.
도 1은 본 발명에 따른 제1 실시예의 습식전기 집진기가 포함된 유해 배기가스 처리 습식 멀티 스크러버 시스템을 나타낸 전체 구성도이다.
도 2는 도 1의 전처리(벤츄리 싸이클론) 정면도이다.
도 3은 도 1의 멀티필터이다.
도 4는 난용성 성상이 없고 파티클을 포함한 습식전기 집진기가 포함된 유해 배기가스 처리 습식 멀티 스크러버 시스템을 나타낸 구성도이다.
도 5는 난용성 성상을 포함한 처리량이 소량의 파티클 및 습식전기 집진기가 포함된 유해 배기가스 처리 습식 멀티 스크러버 시스템을 나타낸 구성도이다.
다르게 정의되지 않는 한, 기술적이거나 과학적인 용어를 포함해서 여기서 사용되는 모든 용어들은 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미를 가지고 있다. 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 것과 같은 용어들은 관련 기술의 문맥 상 가지는 의미와 일치하는 의미를 가지는 것으로 해석되어야 하며, 본 출원에서 명백하게 정의하지 않는 한, 이상적이거나 과도하게 형식적인 의미로 해석되지 않는다.
이하, 본 발명에 따른 바람직한 실시예를 첨부된 도면을 참조하여 상세하게 설명한다.
공장에서 배기가스가 배출되는 배기관과 연결되어 있는 배기가스 인입관으로 배기가스가 인입되어 벤츄리스크루버와 싸이클론를 통과하면서 유속이 상승함에 따라 입자성 물질의 관성력을 상승시켜 파티클(먼지, 액적)은 물탱크로 유입되고 난용성 가스 성상은 응축 열교환기를 통과하면서 응축시켜 처리 후 배출가스의 처리 목적 성상들은 멀티스크루버에서 수용성 및 중화반응을 이용하여 처리한다. 벤츄리싸이클론 스크러버, 응축 열교환기는 인입 배기가스의 파티클(먼지, 액적)과 난용성가스의 유무 및 농도에 따라 설치 유무를 판단할 수 있다.
파티클(먼지, 액적)은 벤츄리스크루버의 벤츄리부, 싸이클론 인입부를 통과할 때 가스 유속과 다른 속도로 스프레이 노즐에서 물를 분사 하여 파티클과 접속시켜 상승되는 관성력 이용해 파티클의 제거 효율을 상승시킨다.
응축 열교환기(300) 인입구(11)로 인입된 난용성 가스 성상들은 응축온도를 이용하여 냉각코일(12)을 지날 때 제거된다.
멀티스크루버(400)의 멀티필터(24)는 “도 3”과 같이 서로의 모양의 필터가 층으로 구성되어 있으며 배기가스중 처리하고자 하는 성상에 따라 필터의 밀도, 두께 및 필터의 수량을 결정한다.
ACID 가스를 처리하는 벤츄리 스크루버와 멀티 스크루버가 있고, 난용성 가스를 처리하는 응축 열교환기가 구성된다. 배기 가스를 구성하는 가스 종류에 맞게 벤츄리 스크루버, 응축 열교환기, 멀티 스크루버 중 어느 하나 이상이 습식전기 집진기가 포함된 유해 배기가스 처리 습식 멀티 스크러버 시스템으로 구성된다. 도 1 내지 도 3은 습식전기 집진기가 포함된 유해 배기가스 처리 습식 멀티 스크러버 시스템의 전체 구성도이고, 도 4는 난용성 성상이 없고 파티클 및 유해가스 포함한 습식전기 집진기가 포함된 유해 배기가스 처리 습식 멀티 스크러버 시스템을 나타낸 구성도이고, 도 5는 난용성 성상이 포함한 비교적 적은 파티클 및 습식전기 집진기가 포함된 유해 배기가스 처리 습식 멀티 스크러버 시스템을 나타낸 구성도이다.
도 1은 본 발명에 따른 제1 실시예의 습식전기 집진기가 포함된 유해 배기가스 처리 습식 멀티 스크러버 시스템을 나타낸 전체 구성도이다. 도 2는 도 1의 전처리(벤츄리 싸이클론) 정면도이다.
벤츄리 스크루버는 배기 가스 유입구(1)를 두 개을 결합하고 별개의 통로를 가지는 2중 관로로 구성하여 별개의 통로를 통해 두 개의 배기 가스를 유입시켜 파티클을 회전시켜 정화하고 유해가스는 패킹층(200)으로 전달한다. 벤츄리 스크루버는 패킹층(200)에 세정수를 뿌려 가스 성상 처리효율 75퍼센트를 가진다.
다른 실시예로, 두 개의 배기 가스 유입구를 결합하기 위해 두 개의 관로를 구성하지만 다단의 배기 가스 유입구를 결합할 때는 다단 관로를 구성할 수 있다. 여러 개의 배기 가스 유입구를 결합하기 위해 여러 개의 관로를 구성하는 것이다. 이를 통해 배기 가스 간에 서로 간섭을 제거해서 배기 가스가 벤츄리 스크루버 내로 잘 유입될 수 있도록 해서 차압의 발생을 줄여 정화 성능을 강화시킨다.
벤츄리 스크루버는 유입구(1)로 입력되는 배기 가스에서 벤츄리(사이클론)(100)로 입자성 물질의 관성력을 상승시켜 파티클을 회전시키고 가스 유속과 다른 속도로 스프레이 노즐에서 물(2)을 분사하여 파티클과 접속시켜 제거한다. 벤츄리 스크루버는 파티클을 회전시키고 가스 유속과 다른 속도로 물(2)을 분사하여 파티클과 접속시켜 제거한다. 벤츄리 스크루버는 전처리 과정을 실시한다. 배기 가스는 벤츄리를 따라 하강한 다음 다시 아래에서 위쪽으로 이동한다.
벤츄리 스크루버는 벤츄리 효과에 의해 목부분의 속도가 상승하는 부분에 물을 뿌려 인입된 배기가스와 파티클 10마이크로미터 이상을 99퍼센트 제거한다.
벤츄리 스크루버는 패킹층(200)에 물(3)을 뿌려 ACID 가스의 불산과 염소를 제거한다. 벤츄리 스크루버는 패킹층에 세정수를 뿌려 가스 성상 처리효율 75퍼센트를 가진다.
세정수로 사용된 물(2)은 물탱크(6)로 유입된다. 물탱크(8)로 유입된 물(2)은 순환수처리기에 의해 처리되어 다시 재사용된다.
사이클론(100)은 통로를 길게 만들어 배기 가스의 체류 시간을 늘려 스프레이 노즐에서 물(2)을 분사하여 파티클과 접속시켜 제거한다. 배출구는 응축 열교환기의 유입구(11)로 연결된다. 사이클론(100)은 파티클을 회전시키고 가스 유속과 다른 속도로 물을 분사하여 파티클과 접속시켜 제거한다.
응축 열교환기(300)는 응축온도를 이용하여 냉각코일(12)을 지날 때 난용성 가스 성상을 제거한다. 배기 가스는 필터(13)를 거쳐 배출구(14)를 통해 멀티 스크루버(400)로 전달된다. 응축 열교환기(300)는 인입구로 인입된 난용성 가스 성상을 응축온도를 이용하여 냉각코일(12)을 지날 때 제거한다. 응축 열교환기(300)는 전처리 과정을 실시한다.
멀티 스크루버(400)는 집진판(23)에 전기를 걸어 파티클이 집진판(23)으로 이동하고 집진판에 도포된 수막(22a, 22b, 22c, 22d)에 의해 파티클이 제거되는 습식전기집진장치와 패킹층으로 파티클을 필터링하는 멀티필터(24)로 배기 가스의 파티클을 제거한다. 멀티 스크루버(400)는 습식전기집진장치로 효율적으로 파티클 및 Mist를 제거한다.
멀티 스크루버(400)는 1차 습식전기집진기, 패킹층, 2차 습식전기집진기, 패킹층으로 구성되며, 도 1은 습식전기집진기와 패킹층을 도시한 도이다. 멀티 스크루버(400)는 1차 습식전기집진기에서 미스트의 입자를 크게 응집하고, SiO2, SiO3파티클을 제거한다. 멀티 스크루버(400)는 패킹층에 물을 뿌려 ACID 가스의 불산과 염소를 90퍼센트 제거한다. 멀티 스크루버(400)는 2차 습식전기집진기에서 작은 미스트의 0.3마이크로 미터까지 입자를 제거하고 파티클을 제거한다. 멀티 스크루버(400)는 패킹층에 물을 뿌려 ACID 가스의 불산과 염소를 90퍼센트 제거한다. 바이오 필터는 수분을 제거하고 VOC 가스에서 생기는 악취를 제거하고 스택으로 배출한다.
도 3은 도 1의 멀티필터(24)이다.
멀티필터(24)는 도 3과 같이 서로의 모양 필터가 층으로 구성되며 배기 가스 중 처리하고자 하는 성상에 따라 필터의 밀도, 두께 및 필터의 수량을 결정한다. 멀티필터(24)는 그물망 구조를 가지며 여러 층으로 적층되어 파티클 제거에 탁월하다. 사용된 멀티필터는 새 멀티필터로 교체된다.
도 4는 난용성 성상이 없고 파티클과 유해가스 포함한 습식전기 집진기가 포함된 유해 배기가스 처리 습식 멀티 스크러버 시스템을 나타낸 구성도이다.
제1실시예이다.
벤츄리 스크루버는 유입구(1)로 입력되는 배기 가스에서 벤츄리(100)로 입자성 물질의 관성력을 상승시켜 파티클을 회전시키고 가스 유속과 다른 속도로 스프레이 노즐에서 물(2)을 분사하여 파티클과 접속시켜 제거한다.
물(2)은 물탱크(8)로 유입된다.
사이클론(100)은 통로를 길게 만들어 체류시간을 늘려 스프레이 노즐에서 물을 분사하여 파티클과 접속시켜 제거한다. 배출구는 멀티 스크루버(400)의 유입구(21)로 연결된다.
멀티 스크루버(400)는 전극판(23)에 전기를 걸어 파티클이 집진판(23)으로 이동하고 집진판에 도포된 수막(22a, 22b, 22c, 22d)에 의해 파티클이 제거되는 습식전기집진장치와 파티클를 필터링하는 멀티필터(24)로 배기 가스의 파티클을 제거한다.
도 5는 파티클량이 도1보다 적은 난용성 성상이 포함한 습식전기 집진기가 포함된 유해 배기가스 처리 습식 멀티 스크러버 시스템을 나타낸 구성도이다.
제2실시예이다.
응축 열교환기(300)는 응축온도를 이용하여 냉각코일(12)을 지날 때 난용성 가스 성상을 제거한다. 배기 가스는 필터(13)를 거쳐 배출구(14)를 통해 멀티 스크루버(400)로 전달된다.
멀티 스크루버(400)는 집진판(23)에 전기를 걸어 파티클이 집진판(23)으로 이동하고 집진판에 도포된 수막(22a, 22b, 22c, 22d)에 의해 파티클이 제거되는 습식전기집진장치와 파티클을 필터링하는 멀티필터(24)로 배기 가스의 파티클을 제거한다.
도 6은 본 발명의 실시예에 따른 스크루버의 수처리 장치를 보인 예시도이다.
물로 파티클을 제거하는 스크루버(610); 물(621)에 금속 전극(622)을 담그고 금속 전극(622)에 전기를 걸어 양극에서 이온이 발생하고 음극에서 수소가 발생하는 전기조(620); 이온에 의한 응집물(631)을 제거하는 응집조(630); 수소에 의한 버블에 따른 부산물(641)을 제거하는 부산조(640); 파티클을 필터링하는 필터조(650); 및 전기조(620), 응집조(630), 부산조(640), 필터조(650)를 거친 물을 재사용하는 순환수처리기(660)를 포함한다.
스크루버(610)는 물로 파티클을 제거한다. 스크루버(610)는 습식전기집진장치일 수 있다. 스크루버(610)는 집진판(611)에 전기를 걸어 파티클 입자가 집진판으로 모이고 집진판에 도포된 수막(612)에 의해 파티클을 제거한다. 스크루버(610)는 물을 이용하여 파티클을 제거하며 사용된 물을 재사용하고자 한다.
전기조(620)는 물(621)에 금속 전극을 담그고 금속 전극에 전기를 걸어 양극(622)에서 이온이 발생하고 음극에서 수소가 발생한다. 수소 발생은 기포를 발생시킨다.
응집조(630)는 금속 전극에서 발생한 이온에 의한 응집물(631)을 제거한다. 금속 전극은 알루미늄, 구리, 철 중 어느 하나이다. 금속 전극에서 발생한 이온이 물에 용해된 파티클과 반응하여 응집물(631)을 생성한다. 응집물(631)이 응집조(630)에 쌓인다. 응집조(630) 아래에 쌓인 응집물(631)은 무한 궤도로 구동되는 제거판에 의해 제거된다. 제거판은 응집물(631)을 걷어 내고 응집조(630)를 청소한다. 제거판에 의해 걷어 낸 응집물(631)은 따로 적재 처리된다.
부산조(640)는 음극에서 발생한 수소에 의한 버블에 따른 부산물(641)을 제거한다. 음극에서 발생한 수소가 버블을 만든다. 버블은 부산물(641)을 생성한다. 부산물(641)은 물 위에 뜨고 부산조(640)에 있다. 부산조(640) 위에 쌓인 부산물(641)은 무한 궤도로 구동되는 제거판에 의해 제거된다. 제거판은 부산물(641)을 걷어 내고 부산조(640)를 청소한다. 제거판에 의해 걷어 낸 부산물(641)은 따로 적재 처리된다.
필터조(650)는 파티클을 필터링한다. 필터조(650)는 멀티 필터를 포함한다. 멀티 필터는 배기 가스 중 처리하고자 하는 성상에 따라 필터의 밀도, 두께 및 필터의 수량을 결정한다.
순환수처리기(660)는 전기조(620), 응집조(630), 부산조(640), 필터조(650)를 거친 물을 재사용한다. 순환수처리기(660)는 수처리된 물을 스크루바로 펌핑하고 물이 파티클을 제거할 수 있도록 한다. 순환수처리기(660)는 물을 계속 재사용할 수 있다.
필터 교체부(670)는 응집물(631)과 부산물(641) 제거량이 일정 레벨을 초과할 경우 적재함(671)에서 새 필터를 가져와서 사용된 필터를 새 필터로 교체하고 사용된 필터를 적재함(671)에 적층한다. 필터 교체부(670)는 적재함(671)에 보관 중인 새 필터 위치를 알고 있고 교체가 필요한 경우 사용된 필터를 빈 공간에 적재하고 새 필터로 교체할 수 있다. 필터 교체부(670)는 적재함에 삽입되는 사용된 필터의 위치를 기록한다. 사용된 필터가 다시 교체되지 않도록 한다.
필터 교체부(670)는 적재함(671)에 새 필터의 개수가 일정 개수 이하로 낮아질 경우 필터 부족을 알리고, 사용된 필터를 제거하고 새 필터를 적재함(671)에 채워넣는다. 필터 교체부(670)는 필터 부족을 알려 새 필터를 적재함(671)에 채워넣도록 사용자에게 지시한다. 사용자는 새 필터를 적재함(671)에 채워넣고 새 필터 위치를 필터 교체부(670)에 설정한다.
필터 교체부(670)는 일일 필터 사용량을 측정하고, 익일 필터 사용량을 예측한다. 필터 교체부(670)는 예측된 익일 필터 사용량에 맞게 필터를 준비한다. 필터 교체부(670)는 익일 필터 사용량을 예측할 수 있으므로 필터 사용을 계획할 수 있다. 필터 사용이 계획되므로 필터 부족 사건이 발생하지 않는다.
상기에서는 본 발명의 바람직한 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야의 숙련된 당업자는 하기의 특허 청구의 범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.
1: 유입구 2: 물
6: 물탱크 11: 유입구
12: 냉각코일 13: 필터
14: 배출구 22a, 22b, 22c, 22d: 수막
23: 집진판 100: 벤츄리
200: 사이클론 300: 응축 열교환기
400: 멀티 스크루버 610: 스크루버
620: 전기조 621: 물
622: 금속 전극 630: 응집조
631: 응집물 640: 부산조
641: 부산물 650: 필터조
660: 순환수처리기 670: 필터 교체부
671: 적재함

Claims (3)

  1. 다수의 배기 가스 유입구를 결합하고자 나사선 형태의 다수 관로을 구성해서 별개의 통로를 통해 배기 가스를 유입하고 입자성 물질의 관성력을 상승시켜 파티클을 회전시키고 가스 유속과 다른 속도로 스프레이 노즐에서 물을 분사하여 파티클과 접속시켜 제거하는 방식으로 유입되는 가스가 서로 부딪치지 않아 자연스럽게 회전하게 만들어 차압의 발생을 줄인 벤츄리 스크루버;
    상기 벤츄리 스크루버를 지난 배기 가스에서 응축온도를 이용하여 냉각코일을 지날 때 난용성 가스 성상을 제거하는 응축 열교환기;
    상기 응축 열교환기를 지난 배기 가스에서 전극에 전기를 걸어 파티클이 집진판으로 이동하고 집진판에 도포된 수막에 의해 파티클이 제거되는 습식전기집진장치와 파티클을 필터링하는 멀티필터로 배기 가스의 파티클을 제거하는 멀티 스크루버를 포함하는 습식전기 집진기가 포함된 유해 배기가스 처리 습식 멀티 스크러버 시스템.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 물에 금속 전극으로 전기를 걸어 양극에서 이온이 발생하고, 음극에서 수소가 발생해서, 응집조에서 상기 이온에 의한 응집물을 제거하고, 부산조에서 상기 수소에 의한 버블에 따른 부산물을 제거하고, 필터조에서 파티클을 필터링한 물을 재사용하는 순환수처리기를 더 포함하는 습식전기 집진기가 포함된 유해 배기가스 처리 습식 멀티 스크러버 시스템.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 응집물과 상기 부산물 제거량이 일정 레벨을 초과할 경우 적재함에서 새 필터를 가져와서 사용된 필터를 상기 새 필터로 교체하고 상기 사용된 필터를 적재함에 적층하는 필터 교체부를 더 포함하는 습식전기 집진기가 포함된 유해 배기가스 처리 습식 멀티 스크러버 시스템.
KR1020160077898A 2016-06-22 2016-06-22 습식전기 집진기가 포함된 유해 배기가스 처리 습식 멀티 스크러버 시스템 KR101853292B1 (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020160077898A KR101853292B1 (ko) 2016-06-22 2016-06-22 습식전기 집진기가 포함된 유해 배기가스 처리 습식 멀티 스크러버 시스템

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020160077898A KR101853292B1 (ko) 2016-06-22 2016-06-22 습식전기 집진기가 포함된 유해 배기가스 처리 습식 멀티 스크러버 시스템

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20180000125A true KR20180000125A (ko) 2018-01-02
KR101853292B1 KR101853292B1 (ko) 2018-04-30

Family

ID=61004349

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020160077898A KR101853292B1 (ko) 2016-06-22 2016-06-22 습식전기 집진기가 포함된 유해 배기가스 처리 습식 멀티 스크러버 시스템

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR101853292B1 (ko)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20190102395A (ko) * 2018-02-26 2019-09-04 (주)명성씨.엠.아이 다단멀티벤츄리모듈과 3d메쉬그리드를 조합한 필터모듈이 구비되는 반도체 배출가스 처리시스템
KR102447375B1 (ko) * 2021-04-12 2022-09-27 (주)코넵 습식 오염물질 제거 설비용 습식 전처리 장치

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102241119B1 (ko) 2019-08-09 2021-04-19 한국에너지기술연구원 유해가스 응축 회수장치 및 회수방법
KR102307102B1 (ko) 2020-12-01 2021-09-30 주식회사 정원이앤씨 습식 탈황 탈진 장치

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100623368B1 (ko) * 2005-09-02 2006-09-12 크린시스템스코리아(주) 반도체 제조 장비용 직접 연소식 스크러버

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20190102395A (ko) * 2018-02-26 2019-09-04 (주)명성씨.엠.아이 다단멀티벤츄리모듈과 3d메쉬그리드를 조합한 필터모듈이 구비되는 반도체 배출가스 처리시스템
KR102447375B1 (ko) * 2021-04-12 2022-09-27 (주)코넵 습식 오염물질 제거 설비용 습식 전처리 장치

Also Published As

Publication number Publication date
KR101853292B1 (ko) 2018-04-30

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US8088198B2 (en) Wet electrostatic precipitator
KR101853292B1 (ko) 습식전기 집진기가 포함된 유해 배기가스 처리 습식 멀티 스크러버 시스템
CN104437068B (zh) 一种高效湿法脱硫除尘系统及方法
CA2828051C (en) Wet electrostatic precipitator and related methods
US7297182B2 (en) Wet electrostatic precipitator for treating oxidized biomass effluent
US7459009B2 (en) Method and apparatus for flue gas desulphurization
KR101105306B1 (ko) 습식전기집진기의 집진판 균일수막 유지시스템
CN103816771B (zh) 一种包含有湿式电除雾器的吸收塔
KR101457421B1 (ko) 먼지를 포집하여 배출하는 습식 집진 시스템
CN204051916U (zh) 一种用于垂直流湿式电除尘器的间歇喷淋冲洗系统
CN211160827U (zh) 一种电解铜箔用钛阳极板自动清洗系统
CN218221703U (zh) 高温含尘废气多层次处理系统
CN215782397U (zh) 一种环保型油烟净化装置
CN103341299B (zh) 连续工作的自动清洗湿式电除尘除雾器
CN106391311B (zh) 锅炉除尘输灰系统
CN109499765B (zh) 折流式高效电除尘装置
CN104259006A (zh) 一种用于垂直流湿式电除尘器的间歇喷淋冲洗系统及方法
CN108310951A (zh) 一体化烟气微雾脱硫除尘超净排放系统
CN203803334U (zh) 一种包含有湿式电除雾器的吸收塔
KR20180002245A (ko) 전기응집을 활용한 스크러버 순환수 재이용 장치
CN103752122A (zh) 漆气氧化洗涤塔装置
CN211245969U (zh) 一种新型节能环保脱硫除尘装置
CN112844841A (zh) 一种喷碱型湿式静电除尘系统及工艺
CN219334560U (zh) 溢流型自清洗湿式静电净化装置
CN213256175U (zh) 一种静电除尘高压喷水自动清洗装置

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant