KR20170139443A - 화합물 및 이를 이용한 유기 발광 소자 - Google Patents

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KR20170139443A
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Abstract

본 명세서는 화학식 1의 화합물 및 이를 이용한 유기 발광 소자를 제공한다.

Description

화합물 및 이를 이용한 유기 발광 소자{COMPOUND AND ORGANIC LIGHT EMITTING DEVICE USING THE SAME}
본 명세서는 화합물 및 이를 이용한 유기 발광 소자에 관한 것이다. 본 명세서는 2016년 6월 9일에 한국특허청에 제출된 한국특허출원 제10-2016-0071789호의 출원일의 이익을 주장하며, 그 내용은 전부 본 명세서에 포함된다.
유기발광소자는 2개의 전극 사이에 유기박막을 배치시킨 구조를 가지고 있다. 이와 같은 구조의 유기발광소자에 전압이 인가되면, 2개의 전극으로부터 주입된 전자와 정공이 유기박막에서 결합하여 쌍을 이룬 후 소멸하면서 빛을 발하게 된다. 상기 유기박막은 필요에 따라 단층 또는 다층으로 구성될 수 있다.
유기박막의 재료는 필요에 따라 발광 기능을 가질 수 있다. 예컨대, 유기박막 재료로는 그 자체가 단독으로 발광층을 구성할 수 있는 화합물이 사용될 수도 있고, 또는 호스트-도펀트계 발광층의 호스트 또는 도펀트 역할을 할 수 있는 화합물이 사용될 수도 있다. 그 외에도, 유기박막의 재료로서, 정공주입, 정공수송, 전자블록킹, 정공블록킹, 전자수송 또는 전자주입 등의 역할을 수행할 수 있는 화합물이 사용될 수도 있다.
유기발광소자의 성능, 수명 또는 효율을 향상시키기 위하여, 유기박막의 재료의 개발이 지속적으로 요구되고 있다.
국제 특허 출원 공개 제2003-012890호
본 명세서는 화합물 및 이를 포함하는 유기 발광 소자를 제공한다.
본 명세서의 일 실시상태는 하기 화학식 1로 표시되는 화합물을 제공한다.
[화학식 1]
Figure pat00001
상기 화학식 1에서, X는 O 또는 S 이고,
Ar1은 치환 또는 비치환된 아릴기이고,
L은 직접결합; 치환 또는 비치환된 아릴렌기; 또는 치환 또는 비치환된 2가의 헤테로고리기이며,
R1 및 R2는 서로 동일하거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; 중수소; 할로겐기; 니트릴기; 치환 또는 비치환된 알킬기; 치환 또는 비치환된 시클로알킬기; 치환 또는 비치환된 아릴기; 또는 치환 또는 비치환된 헤테로고리기이며,
a 는 0 내지 4의 정수이고, b는 0 내지 2의 정수이며, a 및 b가 각각 2이상인 경우의 괄호안의 치환기는 서로 동일하거나 상이하며,
X1 내지 X3은 서로 동일하거나 상이하며, 각각 독립적으로 N 또는 CH이며,
상기 X1 내지 X3 중 적어도 하나는 N이고,
Y1 내지 Y4 중 적어도 하나는 L과 결합하는 C이며, 나머지는 N 또는 CR이며,
상기 R은 수소; 중수소; 할로겐기; 치환 또는 비치환된 알킬기; 치환 또는 비치환된 시클로알킬기; 치환 또는 비치환된 아릴기; 또는 치환 또는 비치환된 헤테로고리기이며, 상기 CR이 2이상인 경우 R은 서로 같거나 상이하며,
Ar2 및 Ar3은 서로 동일하거나 상이하며 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 아릴기; 또는 치환 또는 비치환된 헤테로고리기이다.
또한, 본 출원은 제1 전극; 상기 제1 전극과 대향하여 구비된 제2 전극; 및 상기 제1 전극과 상기 제2 전극 사이에 구비된 1층 이상의 유기물층을 포함하는 유기 발광 소자로서, 상기 유기물층 중 1 층 이상은 전술한 화합물을 포함하는 것인 유기 발광 소자를 제공한다.
본 출원의 일 실시상태에 따른 화합물은 유기 발광 소자에 사용되어, 유기 발광 소자의 구동전압을 낮추고, 광효율을 향상시키며, 화합물의 열적 안정성에 의하여 소자의 수명 특성을 향상시킬 수 있다.
도 1은 기판(1), 양극(2), 발광층(3), 음극(4)이 순차적으로 적층된 유기 발광 소자의 예를 도시한 것이다.
도 2는 기판 (1), 양극(2), 정공주입층(5), 정공수송층(6), 발광층(3), 전자수송층(7) 및 음극(4)이 순차적으로 적층된 유기 발광 소자의 예를 도시한 것이다.
이하, 본 명세서에 대하여 더욱 상세하게 설명한다.
본 명세서는 상기 화학식 1로 표시되는 화합물을 제공한다.
본 명세서에서 치환기의 예시들은 아래에서 설명하나, 이에 한정되는 것은 아니다.
상기 "치환"이라는 용어는 화합물의 탄소 원자에 결합된 수소 원자가 다른 치환기로 바뀌는 것을 의미하며, 치환되는 위치는 수소 원자가 치환되는 위치 즉, 치환기가 치환 가능한 위치라면 한정하지 않으며, 2 이상 치환되는 경우, 2 이상의 치환기는 서로 동일하거나 상이할 수 있다.
본 명세서에서 "치환 또는 비치환된" 이라는 용어는 중수소; 할로겐기; 시아노기; 니트로기; 히드록시기; 알킬기; 시클로알킬기; 알케닐기; 알콕시기; 치환 또는 비치환된 포스핀 옥사이드기; 아릴기; 및 헤테로고리기로 이루어진 군에서 선택된 1 또는 2 이상의 치환기로 치환되었거나 상기 예시된 치환기 중 2 이상의 치환기가 연결된 치환기로 치환되거나, 또는 어떠한 치환기도 갖지 않는 것을 의미한다. 예컨대, "2 이상의 치환기가 연결된 치환기"는 바이페닐기일 수 있다. 즉, 바이페닐기는 아릴기일 수도 있고, 2개의 페닐기가 연결된 치환기로 해석될 수 있다.
본 명세서에 있어서, 할로겐기의 예로는 불소, 염소, 브롬 또는 요오드가 있다.
본 명세서에 있어서, 상기 알킬기는 직쇄 또는 분지쇄일 수 있고, 탄소수는 특별히 한정되지 않으나 1 내지 50인 것이 바람직하다. 구체적인 예로는 메틸, 에틸, 프로필, n-프로필, 이소프로필, 부틸, n-부틸, 이소부틸, tert-부틸, sec-부틸, 1-메틸-부틸, 1-에틸-부틸, 펜틸, n-펜틸, 이소펜틸, 네오펜틸, tert-펜틸, 헥실, n-헥실, 1-메틸펜틸, 2-메틸펜틸, 4-메틸-2-펜틸, 3,3-디메틸부틸, 2-에틸부틸, 헵틸, n-헵틸, 1-메틸헥실, 시클로펜틸메틸, 시클로헥실메틸, 옥틸, n-옥틸, tert-옥틸, 1-메틸헵틸, 2-에틸헥실, 2-프로필펜틸, n-노닐, 2,2-디메틸헵틸, 1-에틸-프로필, 1,1-디메틸-프로필, 이소헥실, 2-메틸펜틸, 4-메틸헥실, 5-메틸헥실 등이 있으나, 이들에 한정되지 않는다.
본 명세서에 있어서, 시클로알킬기는 특별히 한정되지 않으나, 탄소수 3 내지 60인 것이 바람직하며, 구체적으로 시클로프로필, 시클로부틸, 시클로펜틸, 3-메틸시클로펜틸, 2,3-디메틸시클로펜틸, 시클로헥실, 3-메틸시클로헥실, 4-메틸시클로헥실, 2,3-디메틸시클로헥실, 3,4,5-트리메틸시클로헥실, 4-tert-부틸시클로헥실, 시클로헵틸, 시클로옥틸 등이 있으나, 이에 한정되지 않는다.
본 명세서에 있어서, 상기 알콕시기는 직쇄, 분지쇄 또는 고리쇄일 수 있다. 알콕시기의 탄소수는 특별히 한정되지 않으나, 탄소수 1 내지 20인 것이 바람직하다. 구체적으로, 메톡시, 에톡시, n-프로폭시, 이소프로폭시, n-부톡시, 이소부톡시, tert-부톡시, sec-부톡시, n-펜틸옥시, 네오펜틸옥시, 이소펜틸옥시, n-헥실옥시, 3,3-디메틸부틸옥시, 2-에틸부틸옥시, n-옥틸옥시, n-노닐옥시, n-데실옥시, 벤질옥시, p-메틸벤질옥시 등이 될 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
본 명세서에 있어서, 상기 알케닐기는 직쇄 또는 분지쇄일 수 있고, 탄소수는 특별히 한정되지 않으나, 2 내지 40인 것이 바람직하다. 구체적인 예로는 비닐, 1-프로페닐, 이소프로페닐, 1-부테닐, 2-부테닐, 3-부테닐, 1-펜테닐, 2-펜테닐, 3-펜테닐, 3-메틸-1-부테닐, 1,3-부타디에닐, 알릴, 1-페닐비닐-1-일, 2-페닐비닐-1-일, 2,2-디페닐비닐-1-일, 2-페닐-2-(나프틸-1-일)비닐-1-일, 2,2-비스(디페닐-1-일)비닐-1-일, 스틸베닐기, 스티레닐기 등이 있으나 이들에 한정되지 않는다.
본 명세서에 있어서, 포스핀옥사이드기는 구체적으로 디페닐포스핀옥사이드기, 디나프틸포스핀옥사이드 등이 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
본 명세서에서 상기 아릴기가 단환식 아릴기인 경우 탄소수는 특별히 한정되지 않으나, 탄소수 6 내지 25인 것이 바람직하다. 구체적으로 단환식 아릴기로는 페닐기, 바이페닐기, 터페닐기 등이 될 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
상기 아릴기가 다환식 아릴기인 경우 탄소수는 특별히 한정되지 않으나. 탄소수 10 내지 24인 것이 바람직하다. 구체적으로 다환식 아릴기로는 나프틸기, 안트라세닐기, 페난트릴기, 파이레닐기, 페릴레닐기, 크라이세닐기, 플루오레닐기 등이 될 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
본 명세서에 있어서, 상기 플루오레닐기는 치환될 수 있으며, 인접한 치환기들이 서로 결합하여 고리를 형성할 수 있다.
상기 플루오레닐기가 치환되는 경우,
Figure pat00002
,
Figure pat00003
,
Figure pat00004
,
Figure pat00005
,
Figure pat00006
,
Figure pat00007
등이 될 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
본 명세서에 있어서, 헤테로고리기는 탄소가 아닌 원자, 이종원자를 1 이상 포함하는 것으로서, 구체적으로 상기 이종 원자는 O, N, Se 및 S 등으로 이루어진 군에서 선택되는 원자를 1 이상 포함할 수 있다. 헤테로고리기의 탄소수는 특별히 한정되지 않으나, 탄소수 2 내지 60인 것이 바람직하다. 헤테로고리기의 예로는 티오페닐기, 퓨라닐기, 피롤기, 이미다졸릴기, 티아졸릴기, 옥사졸릴기, 옥사디아졸릴기, 트리아졸릴기, 피리딜기, 비피리딜기, 피리미딜기, 트리아지닐기, 아크리딜기, 하이드로아크리딜기(예컨대,
Figure pat00008
), 피리다지닐기, 피라지닐기, 퀴놀리닐기, 퀴나졸리닐기, 퀴녹살리닐기, 프탈라지닐기, 피리도피리미디닐기, 피리도피라지닐기, 피라지노피라지닐기, 이소퀴놀리닐기, 인돌기, 카바졸릴기, 벤즈옥사졸릴기, 벤즈이미다졸릴기, 벤조티아졸릴기, 벤조카바졸릴기, 디벤조카바졸릴기, 벤조티오페닐기, 디벤조티오페닐기, 벤조퓨라닐기, 디벤조퓨라닐기; 벤조실롤기, 디벤조실롤기, 페난트롤리닐기(phenanthrolinyl group), 이소옥사졸릴기, 티아디아졸릴기, 페노티아지닐기, 페노옥사지닐기, 및 이들의 축합구조 등이 있으나, 이들에만 한정되는 것은 아니다. 이외에도 헤테로고리기의 예로서, 술포닐기를 포함하는 헤테로고리 구조, 예컨대,
Figure pat00009
,
Figure pat00010
등이 있다.
본 명세서에 있어서, 아릴알킬기, 아릴알케닐기, 알킬아릴기, 아릴아민기 중의 아릴기는 전술한 아릴기에 관한 설명이 적용될 수 있다.
본 명세서에 있어서, 아릴알킬기, 알킬아릴기, 알킬아민기 중 알킬기는 전술한 알킬기에 관한 설명이 적용될 수 있다.
본 명세서에 있어서, 헤테로아릴아민 중 헤테로아릴은 전술한 헤테로고리기에 관한 설명이 적용될 수 있다.
본 명세서에 있어서, 아릴알케닐기 중 알케닐기는 전술한 알케닐기에 관한 설명이 적용될 수 있다.
본 명세서에 있어서, 아릴렌은 2가기인 것을 제외하고는 전술한 아릴기에 관한 설명이 적용될 수 있다.
본 명세서에 있어서, 헤테로아릴렌은 2가기인 것을 제외하고는 전술한 헤테로고리기에 관한 설명이 적용될 수 있다.
본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 Ar1은 치환 또는 비치환된 페닐기; 치환 또는 비치환된 바이페닐기; 치환 또는 비치환된 터페닐기; 치환 또는 비치환된 나프틸기; 치환 또는 비치환된 페난트렌기; 치환 또는 비치환된 안트라센기; 치환 또는 비치환된 플루오레닐기; 또는 치환 또는 비치환된 트리페닐렌기이다.
본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 Ar1은 페닐기; 바이페닐기; 터페닐기; 나프틸기; 페난트렌기; 안트라센기; 디메틸플루오렌기 또는 트리페닐렌기이다.
본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 Ar1은 페닐기; 바이페닐기; 또는 터페닐기이다.
본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 Ar2 및 Ar3은 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 페닐기; 치환 또는 비치환된 바이페닐기; 비치환 또는 비치환된 나프틸기; 치환 또는 비치환된 플루오레닐기; 또는 치환 또는 비치환된 피리딘기이다.
본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 Ar2 및 Ar3은 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 페닐기; 치환 또는 비치환된 바이페닐기; 비치환 또는 비치환된 나프틸기; 치환 또는 비치환된 플루오레닐기; 또는 치환 또는 비치환된 피리딘기이며, 상기 치환은 시아노기, 또는 아릴기로 치환되는 것을 의미한다.
본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 Ar2 및 Ar3은 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 페닐기; 치환 또는 비치환된 바이페닐기; 비치환 또는 비치환된 나프틸기; 치환 또는 비치환된 플루오레닐기; 또는 치환 또는 비치환된 피리딘기이며, 상기 치환은 시아노기, 또는 페닐기로 치환되는 것을 의미한다.
본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 L은 직접결합, 치환 또는 비치환된 페닐렌기, 치환 또는 비치환된 바이페닐릴렌기, 치환 또는 비치환된 디메틸플루오레닐기, 치환 또는 비치환된 디페닐플루오레닐기, 치환 또는 비치환된 2가의 피리딘기, 치환 또는 비치환된 2가의 디벤조티오펜기, 또는 치환 또는 비치환된 2가의 디벤조퓨란기이다.
본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 L은 직접결합, 페닐렌기, 바이페닐릴렌기, 디메틸플루오레닐기, 디페닐플루오레닐기, 2가의 피리딘기, 2가의 디벤조티오펜기, 또는 2가의 디벤조퓨란기이다.
본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 R1 및 R2는 서로 동일하거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; 중수소; 치환 또는 비치환된 메틸기; 치환 또는 비치환된 에틸기; 치환 또는 비치환된 프로필기; 치환 또는 비치환된 부틸기; 치환 또는 비치환된 시클로헥실기; 치환 또는 비치환된 페닐기; 치환 또는 비치환된 나프틸기; 치환 또는 비치환된 바이페닐기; 치환 또는 비치환된 트리페닐렌기; 치환 또는 비치환된 카바졸기; 치환 또는 비치환된 디벤조퓨란기; 치환 또는 비치환된 디벤조티오펜기; 치환 또는 비치환된 벤조카바졸기; 치환 또는 비치환된 N-페닐카바졸기; 치환 또는 비치환된 N-페닐벤조카바졸기; 치환 또는 비치환된 피리도인돌기; 치환 또는 비치환된 벤조퓨로피리딘기; 치환 또는 비치환된 벤조티에노피리미딘기; 치환 도는 비치환된 벤조티에노 피리딘기; 또는 치환 또는 비치환된 벤조퓨로피리미딘기이다.
본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 R2는 수소이다.
본 명세서의 일 실시상태에 있어서, R1은 수소, 치환 또는 비치환된 페닐기, 치환 또는 비치환된 트리페닐렌기, 치환 또는 비치환된 tert-부틸기, 치환 또는 비치환된 시클로헥실기, 치환 또는 비치환된 나프틸기, 치환 또는 비치환된 N-페닐카바졸기, 치환 또는 비치환된 카바졸기, 치환 또는 비치환된 디벤조퓨란기, 치환 또는 비치환된 디벤조티오펜기, 치환 또는 비치환된 벤조퓨로피리딘기, 치환 또는 비치환된 피리도인돌기, 치환 또는 비치환된 N-페닐벤조카바졸기, 치환 또는 비치환된 벤조퓨로피리미딘기, 치환 또는 비치환된 벤조티에노피리미딘기,또는 치환 또는 비치환된 벤조티에노피리딘기이다. 상기 치환기는 시아노기, 페닐기, 페닐카바졸기로 치환 또는 비치환될 수 있다.
본 명세서의 일 실시상태에 있어서, R1은 수소, 치환 또는 비치환된 페닐기, 치환 또는 비치환된 트리페닐렌기, 치환 또는 비치환된 tert-부틸기, 치환 또는 비치환된 시클로헥실기, 치환 또는 비치환된 나프틸기, 치환 또는 비치환된 N-페닐카바졸기, 치환 또는 비치환된 카바졸기, 치환 또는 비치환된 디벤조퓨란기, 치환 또는 비치환된 디벤조티오펜기, 치환 또는 비치환된 벤조퓨로피리딘기, 치환 또는 비치환된 피리도인돌기, 치환 또는 비치환된 N-페닐벤조카바졸기, 치환 또는 비치환된 벤조퓨로피리미딘기, 치환 또는 비치환된 벤조티에노피리미딘기, 또는 치환 또는 비치환된 벤조티에노피리딘기이고, 상기 치환기는 시아노기, 페닐기, N-페닐카바졸기로 치환 또는 비치환될 수 있다.
본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 X는 O이다.
본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 X는 S이다.
본 명세서의 일 실시상태에 있어서,상기 화학식 1은 하기 화학식 2 또는 3으로 표시된다.
[화학식 2]
Figure pat00011
[화학식 3]
Figure pat00012
상기 화학식 2 및 3에 있어서,
상기 Ar1 내지 Ar3, R1, R2, Y1 내지 Y4, X1 내지 X3, L, a 및 b는 화학식 1의 정의와 동일하다.
본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 X1 내지 X3은 N이다.
본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 X1는 CH이고, X2 및 X3은 N이다.
본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 X2는 CH이고, X1 및 X3은 N이다.
본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 X3는 CH이고, X1 및 X2은 N이다.
본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 X1는 N이고, X2 및 X3은 CH이다.
본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 X2는 N이고, X1 및 X3은 CH이다.
본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 X3는 N이고, X1 및 X2은 CH이다.
본 명세서의 일 실시상태에 있어서, Y1은 L과 결합하며, 나머지는 N 또는 CR이다.
본 명세서의 일 실시상태에 있어서, Y2은 L과 결합하며, 나머지는 N 또는 CR이다.
본 명세서의 일 실시상태에 있어서, Y3은 L과 결합하며, 나머지는 N 또는 CR이다.
본 명세서의 일 실시상태에 있어서, Y4은 L과 결합하며, 나머지는 N 또는 CR이다.
본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 화학식 1은 하기 화학식 4 내지 7 중 어느 하나로 표시된다.
[화학식 4]
Figure pat00013
[화학식 5]
Figure pat00014
[화학식 6]
Figure pat00015
[화학식 7]
Figure pat00016
상기 화학식 4 내지 7에 있어서,
상기 Ar1 내지 Ar3, R1, R2, X, X1 내지 X3, L, a 및 b는 화학식 1의 정의와 동일하고,
R11 내지 R14는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; 중수소; 할로겐기; 치환 또는 비치환된 알킬기; 치환 또는 비치환된 시클로알킬기; 치환 또는 비치환된 아릴기; 또는 치환 또는 비치환된 헤테로고리기이다.
본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 화학식 1은 하기 화학식 8 내지 10 중 어느 하나로 표시된다.
[화학식 8]
Figure pat00017
[화학식 9]
Figure pat00018
[화학식 10]
Figure pat00019
상기 화학식 8 내지 10에 있어서,
상기 Ar1 내지 Ar3, R1, R2, X, X1 내지 X3, L, a 및 b는 화학식 1의 정의와 동일하고,
R12 내지 R14는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; 중수소; 할로겐기; 치환 또는 비치환된 알킬기; 치환 또는 비치환된 시클로알킬기; 치환 또는 비치환된 아릴기; 또는 치환 또는 비치환된 헤테로고리기이다.
본 명세서의 일 실시상태에 있어서, R은 수소; 중수소; 할로겐기; 치환 또는 비치환된 알킬기; 치환 또는 비치환된 시클로알킬기; 치환 또는 비치환된 아릴기; 또는 치환 또는 비치환된 헤테로고리기이며, 상기 CR이 2이상인 경우 R은 서로 같거나 상이하다.
본 명세서의 일 실시상태에 있어서, R은 수소; 중수소; 또는 치환 또는 비치환된 아릴기이고, 상기 CR이 2이상인 경우 R은 서로 같거나 상이하다.
본 명세서의 일 실시상태에 있어서, R은 수소; 중수소; 또는 아릴기이고, 상기 CR이 2이상인 경우 R은 서로 같거나 상이하다.
본 명세서의 일 실시상태에 있어서, R은 수소; 중수소; 또는 페닐기이고, 상기 CR이 2이상인 경우 R은 서로 같거나 상이하다.
본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 화학식 1은 하기 구조식들 중에서 선택된다.
Figure pat00020
Figure pat00021
Figure pat00022
Figure pat00023
Figure pat00024
Figure pat00025
Figure pat00026
Figure pat00027
본 출원의 일 실시 상태에 따른 화합물은 후술하는 제조방법으로 제조될 수 있다.
<반응식 1>
Figure pat00028
또한, 본 명세서는 상기 전술한 화합물을 포함하는 유기 발광 소자를 제공한다.
본 출원의 일 실시상태에 있어서, 제1 전극; 상기 제1 전극과 대향하여 구비된 제2 전극; 및 상기 제1 전극과 상기 제2 전극 사이에 구비된 1층 이상의 유기물층을 포함하는 유기 발광 소자로서, 상기 유기물층 중 1 층 이상은 상기 화합물을 포함하는 것인 유기 발광 소자를 제공한다.
본 명세서에서 어떤 부재가 다른 부재 "상에" 위치하고 있다고 할 때, 이는 어떤 부재가 다른 부재에 접해 있는 경우뿐 아니라 두 부재 사이에 또 다른 부재가 존재하는 경우도 포함한다.
본 명세서에서 어떤 부분이 어떤 구성요소를 "포함" 한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성 요소를 더 포함할 수 있는 것을 의미한다.
본 출원의 유기 발광 소자의 유기물층은 단층 구조로 이루어질 수도 있으나, 2층 이상의 유기물층이 적층된 다층 구조로 이루어질 수 있다. 예컨대, 본 발명의 유기 발광 소자의 대표적인 예로서, 유기 발광 소자는 유기물층으로서 정공주입층, 정공수송층, 발광층, 전자수송층, 전자주입층 등을 포함하는 구조를 가질 수 있다. 그러나 유기 발광 소자의 구조는 이에 한정되지 않고 더 적은 수의 유기물층을 포함할 수 있다.
본 출원의 일 실시상태에 있어서, 상기 유기물층은 발광층을 포함하고, 상기 발광층은 상기 화합물을 포함한다.
본 출원의 일 실시상태에 있어서, 상기 발광층은 인광 발광층이다.
본 출원의 일 실시상태에 있어서, 상기 발광층은 인광재료를 더 포함한다.
본 출원의 일 실시상태에 있어서, 상기 화학식 1의 화합물을 포함하는 유기물층의 두께는 1Å 내지 1000Å이고, 보다 바람직하게는 1Å 내지 500Å이다.
본 출원의 일 실시상태에 있어서, 상기 유기물층은 발광층을 포함하고, 상기 발광층은 상기 화합물을 호스트 물질로 포함한다.
본 출원의 일 실시상태에 있어서, 상기 유기물층은 발광층을 포함하고, 상기 발광층은 상기 화합물을 호스트 물질로 포함하고, 다른 호스트물질을 더 포함한다.
본 출원의 일 실시상태에 있어서, 상기 유기물층은 발광층을 포함하고, 상기 발광층은 상기 화합물을 호스트 물질로 포함하고, 다른 호스트물질을 더 포함하며, 상기 화합물과 다른 호스트 물질은 1:9 내지 9:1의 비율로 포함된다.
본 출원의 일 실시상태에 있어서, 상기 유기물층은 발광층을 포함하고, 상기 발광층은 상기 화합물을 호스트 물질로 포함하고, 다른 호스트물질을 더 포함하며, 상기 헤테로고리 화합물과 다른 호스트 물질은 5:5의 비율로 포함된다.
본 출원의 일 실시상태에 있어서, 상기 다른 호스트 물질은 카바졸을 포함하는 물질이다.
본 출원의 일실시샅애에 있어서, 상기 다른 호스트 물질은 하기 화학식 B으로 표시될 수 있다.
[화학식 B]
Figure pat00029
상기 화학식 B에 있어서, 상기 R200 및 R201은 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; 중수소; 치환 또는 비치환된 알킬기; 치환 또는 비치환된 아릴기; 또는 치환 또는 비치환된 헤테로고리기이다.
본 출원의 일 실시상태에 있어서, 상기 R200 및 R201은 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 아릴기이다.
본 출원의 일 실시상태에 있어서, 상기 R200 및 R201은 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 페닐기; 치환 또는 비치환된 비페닐기; 또는 치환 또는 비치환된 나프틸기이다.
본 출원의 일 실시상태에 있어서, 상기 R200 및 R201은 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 페닐기; 또는 치환 또는 비치환된 비페닐기이다.
본 출원의 일 실시상태에 있어서, 상기 R200 및 R201은 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 페닐기; 또는 비페닐기이다.
본 출원의 일 실시상태에 있어서, 상기 R200은 페닐기이고, R201는 비페닐기이다.
본 출원의 일 실시상태에 있어서, 상기 화학식 B의 화합물은 하기 구조식 중에서 선택되는 화합물이다.
Figure pat00030
Figure pat00031
본 출원의 일 실시상태에 있어서, 상기 유기물층은 발광층을 포함하고, 상기 발광층은 상기 헤테로고리 화합물을 포함하고, 도펀트 화합물을 더 포함한다.
본 출원의 일 실시상태에 있어서, 상기 도펀트 화합물은 인광 도펀트 화합물이다.
본 출원의 일 실시상태에 있어서, 상기 도펀트 화합물은 금속착제이다.
본 출원의 일 실시상태에 있어서, 상기 도펀트 화합물은 이리듐계 착제이다.
본 출원의 일 실시상태에 있어서, 상기 유기물층은 발광층을 포함하고, 상기 발광층은 상기 화합물과 도펀트 화합물을 100:1 내지 5:5 의 중량 비율로 포함한다.본 출원의 일 실시상태에 있어서, 상기 유기물층은 정공주입층 또는 정공수송층을 포함하고, 상기 정공주입층 또는 정공수송층은 상기 화합물을 포함한다.
본 출원의 일 실시상태에 있어서, 상기 유기물층은 전자수송층 또는 전자주입층을 포함하고, 상기 전자수송층 또는 전자주입층은 상기 화합물을 포함한다.
본 출원의 일 실시상태에 있어서, 상기 유기물층은 전자수송층, 전자주입층,또는 전자 주입 및 수송층을 포함하고, 상기 전자수송층, 전자주입층, 또는 전자 주입 및 수송층은 상기 화합물을 포함한다
본 출원의 일 실시상태에 있어서, 상기 유기물층은 전자저지층 또는 정공저지층을 포함하고, 상기 전자저지층 또는 정공저지층은 상기 화합물을 포함한다.
본 출원의 일 실시상태에 있어서, 상기 유기 발광 소자는 제1 전극; 상기 제1 전극과 대향하여 구비된 제2 전극; 및 상기 제1 전극과 상기 제2 전극 사이에 구비된 발광층; 상기 발광층과 상기 제1 전극 사이, 또는 상기 발광층과 상기 제2 전극 사이에 구비된 2층 이상의 유기물층을 포함하고, 상기 2층 이상의 유기물층 중 적어도 하나는 상기 화합물을 포함한다.
본 출원의 일 실시상태에 있어서, 상기 2층 이상의 유기물층은 전자수송층, 전자주입층, 전자 수송과 전자주입을 동시에 하는 층 및 정공저지층으로 이루어진 군에서 2 이상이 선택될 수 있다.
본 출원의 일 실시상태에 있어서, 상기 유기물층은 2층 이상의 전자수송층을 포함하고, 상기 2층 이상의 전자수송층 중 적어도 하나는 상기 화합물을 포함한다. 구체적으로 본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 화합물은 상기 2층 이상의 전자수송층 중 1층에 포함될 수도 있으며, 각각의 2층 이상의 전자수송층에 포함될 수 있다.
또한, 본 출원의 일 실시상태에 있어서, 상기 화합물이 상기 각각의 2층 이상의 전자수송층에 포함되는 경우, 상기 화합물을 제외한 다른 재료들은 서로 동일하거나 상이할 수 있다.
본 출원의 일 실시상태에 있어서, 상기 유기물층은 상기 화합물을 포함하는 유기물층 이외에 아릴아미노기, 카바졸릴기 또는 벤조카바졸릴기를 포함하는 화합물을 포함하는 정공주입층 또는 정공수송층을 더 포함한다.
또 하나의 실시상태에 있어서, 유기 발광 소자는 기판 상에 양극, 1층 이상의 유기물층 및 음극이 순차적으로 적층된 구조(normal type)의 유기 발광 소자일 수 있다.
또 하나의 실시상태에 있어서, 유기 발광 소자는 기판 상에 음극, 1층 이상의 유기물층 및 양극이 순차적으로 적층된 역방향 구조(inverted type)의 유기 발광 소자일 수 있다.
예컨대, 본 출원의 일 실시상태에 따른 유기 발광 소자의 구조는 도 1 및 2에 예시되어 있다.
도 1은 기판(1), 양극(2), 발광층(3), 음극(4)이 순차적으로 적층된 유기 발광 소자의 구조가 예시되어 있다. 이와 같은 구조에 있어서, 상기 화합물은 상기 발광층(3)에 포함될 수 있다.
도 2는 기판 (1), 양극(2), 정공주입층(5), 정공수송층(6), 발광층(3), 전자수송층(7) 및 음극(4)이 순차적으로 적층된 유기 발광 소자의 구조가 예시되어 있다. 이와 같은 구조에 있어서 상기 화합물은 상기 정공주입층(5), 정공 수송층(6), 발광층(3) 및 전자 수송층(7) 중 1층 이상에 포함될 수 있다.
이와 같은 구조에 있어서, 상기 화합물은 상기 정공주입층, 정공수송층, 발광층 및 전자수송층 중 1층 이상에 포함될 수 있다.
본 출원의 유기 발광 소자는 유기물층 중 1층 이상이 본 출원의 화합물, 즉 상기 화합물을 포함하는 것을 제외하고는 당 기술분야에 알려져 있는 재료와 방법으로 제조될 수 있다.
상기 유기 발광 소자가 복수개의 유기물층을 포함하는 경우, 상기 유기물층은 동일한 물질 또는 다른 물질로 형성될 수 있다.
본 출원의 유기 발광 소자는 유기물층 중 1층 이상이 상기 화합물, 즉 상기 화학식 1로 표시되는 화합물을 포함하는 것을 제외하고는 당 기술분야에 알려져 있는 재료와 방법으로 제조될 수 있다.
예컨대, 본 출원의 유기 발광 소자는 기판 상에 제1 전극, 유기물층 및 제2 전극을 순차적으로 적층시킴으로써 제조할 수 있다. 이 때 스퍼터링법(sputtering)이나 전자빔 증발법(e-beam evaporation)과 같은 PVD(physical Vapor Deposition)방법을 이용하여, 기판 상에 금속 또는 전도성을 가지는 금속 산화물 또는 이들의 합금을 증착시켜 양극을 형성하고, 그 위에 정공 주입층, 정공 수송층, 발광층 및 전자 수송층을 포함하는 유기물층을 형성한 후, 그 위에 음극으로 사용할 수 있는 물질을 증착시킴으로써 제조될 수 있다. 이와 같은 방법 외에도, 기판 상에 음극 물질부터 유기물층, 양극 물질을 차례로 증착시켜 유기 발광 소자를 만들 수 있다.
또한, 상기 화학식 1의 화합물은 유기 발광 소자의 제조시 진공 증착법 뿐만 아니라 용액 도포법에 의하여 유기물층으로 형성될 수 있다. 여기서, 용액 도포법이라 함은 스핀 코팅, 딥코팅, 닥터 블레이딩, 잉크젯프린팅, 스크린 프린팅, 스프레이법, 롤 코팅 등을 의미하지만, 이들만으로 한정되는 것은 아니다.
이와 같은 방법 외에도, 기판 상에 음극 물질로부터 유기물층, 양극 물질을 차례로 증착시켜 유기 발광 소자를 만들 수도 있다 (국제 특허 출원 공개 제 2003/012890호). 다만, 제조 방법이 이에 한정되는 것은 아니다.
본 출원의 일 실시상태에 있어서, 상기 제1 전극은 양극이고, 상기 제2 전극은 음극이다.
또 하나의 실시상태에 있어서, 상기 제1 전극은 음극이고, 상기 제2 전극은 양극이다.
상기 양극 물질로는 통상 유기물층으로 정공 주입이 원활할 수 있도록 일함수가 큰 물질이 바람직하다. 본 발명에서 사용될 수 있는 양극 물질의 구체적인 예로는 바나듐, 크롬, 구리, 아연, 금과 같은 금속 또는 이들의 합금; 아연 산화물, 인듐 산화물, 인듐주석 산화물(ITO), 인듐아연 산화물(IZO)과 같은 금속 산화물; ZnO:Al 또는 SnO2 : Sb와 같은 금속과 산화물의 조합; 폴리(3-메틸티오펜), 폴리[3,4-(에틸렌-1,2-디옥시)티오펜](PEDOT), 폴리피롤 및 폴리아닐린과 같은 전도성 고분자 등이 있으나, 이들에만 한정되는 것은 아니다.
상기 음극 물질로는 통상 유기물층으로 전자 주입이 용이하도록 일함수가 작은 물질인 것이 바람직하다. 음극 물질의 구체적인 예로는 마그네슘, 칼슘, 나트륨, 칼륨, 티타늄, 인듐, 이트륨, 리튬, 가돌리늄, 알루미늄, 은, 주석 및 납과 같은 금속 또는 이들의 합금; LiF/Al 또는 LiO2/Al과 같은 다층 구조 물질 등이 있으나, 이들에만 한정되는 것은 아니다.
상기 정공 주입 물질로는 전극으로부터 정공을 주입하는 층으로, 정공 주입 물질로는 정공을 수송하는 능력을 가져 양극에서의 정공 주입효과, 발광층 또는 발광재료에 대하여 우수한 정공 주입 효과를 갖고, 발광층에서 생성된 여기자의 전자주입층 또는 전자주입재료에의 이동을 방지하며, 또한, 박막 형성 능력이 우수한 화합물이 바람직하다. 정공 주입 물질의 HOMO(highest occupied molecular orbital)가 양극 물질의 일함수와 주변 유기물층의 HOMO 사이인 것이 바람직하다. 정공 주입 물질의 구체적인 예로는 금속 포피린(porphyrin), 올리고티오펜, 아릴아민 계열의 유기물, 헥사니트릴헥사아자트리페닐렌 계열의 유기물, 퀴나크리돈(quinacridone)계열의 유기물, 페릴렌(perylene) 계열의 유기물, 안트라퀴논 및 폴리아닐린과 폴리티오펜 계열의 전도성 고분자 등이 있으나, 이들에만 한정 되는 것은 아니다.
상기 정공수송층은 정공주입층으로부터 정공을 수취하여 발광층까지 정공을 수송하는 층으로, 정공 수송 물질로는 양극이나 정공 주입층으로부터 정공을 수송받아 발광층으로 옮겨줄 수 있는 물질로 정공에 대한 이동성이 큰 물질이 적합하다. 구체적인 예로는 아릴아민 계열의 유기물, 전도성 고분자, 및 공액 부분과 비공액 부분이 함께 있는 블록 공중합체 등이 있으나, 이들에만 한정되는 것은 아니다.
상기 발광 물질로는 정공 수송층과 전자 수송층으로부터 정공과 전자를 각각 수송받아 결합시킴으로써 가시광선 영역의 빛을 낼 수 있는 물질로서, 형광이나 인광에 대한 양자 효율이 좋은 물질이 바람직하다. 구체적인 예로는 8-히드록시퀴놀린 알루미늄 착물(Alq3); 카르바졸 계열 화합물; 이량체화 스티릴(dimerized styryl) 화합물; BAlq; 10-히드록시벤조 퀴놀린-금속 화합물; 벤족사졸, 벤즈티아졸 및 벤즈이미다졸 계열의 화합물; 폴리(p-페닐렌비닐렌)(PPV) 계열의 고분자; 스피로(spiro) 화합물; 폴리플루오렌, 루브렌 등이 있으나, 이들에만 한정되는 것은 아니다.
상기 발광층은 호스트 재료 및 도펀트 재료를 포함할 수 있다. 호스트 재료는 축합 방향족환 유도체 또는 헤테로환 함유 화합물 등이 있다. 구체적으로 축합 방향족환 유도체로는 안트라센 유도체, 피렌 유도체, 나프탈렌 유도체, 펜타센 유도체, 페난트렌 화합물, 플루오란텐 화합물 등이 있고, 헤테로환 함유 화합물로는 화합물, 디벤조퓨란 유도체, 래더형 퓨란 화합물, 피리미딘 유도체 등이 있으나, 이에 한정되지 않는다.
상기 전자 수송 물질로는 음극으로부터 전자를 잘 주입 받아 발광층으로 옮겨줄 수 있는 물질로서, 전자에 대한 이동성이 큰 물질이 적합하다. 구체적인 예로는 8-히드록시퀴놀린의 Al착물; Alq3를 포함한 착물; 유기 라디칼 화합물; 히드록시플라본-금속 착물 등이 있으나, 이들에만 한정되는 것은 아니다. 전자 수송층은 종래기술에 따라 사용된 바와 같이 임의의 원하는 캐소드 물질과 함께 사용할 수 있다. 특히, 적절한 캐소드 물질의 예는 낮은 일함수를 가지고 알루미늄층 또는 실버층이 뒤따르는 통상적인 물질이다. 구체적으로 세슘, 바륨, 칼슘, 이테르븀 및 사마륨이고, 각 경우 알루미늄 층 또는 실버층이 뒤따른다.
상기 전자주입층은 전극으로부터 전자를 주입하는 층으로, 전자를 수송하는 능력을 갖고, 음극으로부터의 전자주입 효과, 발광층 또는 발광 재료에 대하여 우수한 전자주입 효과를 가지며, 발광층에서 생성된 여기자의 정공 주입층에의 이동을 방지하고, 또한, 박막형성능력이 우수한 화합물이 바람직하다. 구체적으로는 플루오레논, 안트라퀴노다이메탄, 다이페노퀴논, 티오피란 다이옥사이드, 옥사졸, 옥사다이아졸, 트리아졸, 이미다졸, 페릴렌테트라카복실산, 프레오레닐리덴 메탄, 안트론 등과 그들의 유도체, 금속 착체 화합물 및 함질소 5원환 유도체 등이 있으나, 이에 한정되지 않는다.
상기 금속 착체 화합물로서는 8-하이드록시퀴놀리나토 리튬, 비스(8-하이드록시퀴놀리나토)아연, 비스(8-하이드록시퀴놀리나토)구리, 비스(8-하이드록시퀴놀리나토)망간, 트리스(8-하이드록시퀴놀리나토)알루미늄, 트리스(2-메틸-8-하이드록시퀴놀리나토)알루미늄, 트리스(8-하이드록시퀴놀리나토)갈륨, 비스(10-하이드록시벤조[h]퀴놀리나토)베릴륨, 비스(10-하이드록시벤조[h]퀴놀리나토)아연, 비스(2-메틸-8-퀴놀리나토)클로로갈륨, 비스(2-메틸-8-퀴놀리나토)(o-크레졸라토)갈륨, 비스(2-메틸-8-퀴놀리나토)(1-나프톨라토)알루미늄, 비스(2-메틸-8-퀴놀리나토)(2-나프톨라토)갈륨 등이 있으나, 이에 한정되지 않는다.
상기 정공저지층은 정공의 음극 도달을 저지하는 층으로, 일반적으로 정공주입층과 동일한 조건으로 형성될 수 있다. 구체적으로 옥사디아졸 유도체나 트리아졸 유도체, 페난트롤린 유도체, BCP, 알루미늄 착물 (aluminum complex) 등이 있으나, 이에 한정되지 않는다.
본 명세서에 따른 유기 발광 소자는 사용되는 재료에 따라 전면 발광형, 후면 발광형 또는 양면 발광형일 수 있다.
상기 화학식 1로 표시되는 화합물 및 이를 포함하는 유기 발광 소자의 제조는 이하 실시예에서 구체적으로 설명한다. 그러나 하기 실시예는 본 명세서를 예시하기 위한 것이며, 본 명세서의 범위가 이들에 의하여 한정되는 것은 아니다.
<제조예> 화합물 1A의 제조
Figure pat00032
9-브로모-2-다이벤조퓨라닐 보론산(50g, 171.9mmol)와 1-요오도-2-나이트로벤젠(42.8g, 171.9mmol)과 탄산칼륨(K2CO3)(71.2g, 515.7mmol)을 톨루엔(800mL), H2O(300ml)에 녹이고 100℃로 가열하였다. 테트라키스(트리페닐포스핀) 팔라듐(Pd(PPh3)4) (3.98g, 3.4mmol)를 첨가한 후 4시간 동안 환류하였다. 상온으로 냉각 후 물층을 제거하였다. 유기층에 황산마그네슘(MgSO4)을 넣은 후 여과하였다. 농축 후 컬럼크로마토그래피로 정제하여 1-브로모-8-(2-나이트로페닐)-다이벤조퓨란(50g, 수율 79%)을 얻었다.
상기 중간체 화합물(50g, 135.8mmol)을 트리에틸에스테르 인산 (700ml)에 녹여 150℃로 12시간 동안 환류하여 1-브로모-7-벤조퓨로카바졸(40g, 86%)을 얻은 후, 요오도벤젠 (25g, 119mmol)과 CuI, K3PO4 과량을 톨루엔(500mL)에 투입하여 80℃로 12시간 동안 환류하였다. 상온으로 냉각 후 여과하여 얻은 고체를 톨루엔 및 에탄올로 여러 번 씻어 1-브로모-7-페닐-벤조퓨로카바졸(45g, 수율 91.8%)을 얻었다. 이렇게 얻어진 화합물(45g, 109mmol)과 비스피나콜레이트다이보론(83g, 327.4mmol)을 다이옥산(1500ml)에 투입하여 130℃로 가열하여 녹였다. P(Cy)3,Pd(dba)2를 2:1몰비(1.88g)로 섞은 후 첨가하여 4시간 동안 환류하였다. 상온으로 냉각 후, 농축하여 컬럼크로마토그래피로 정제하여 화합물 1A(42g, 수율 84%)을 얻었다. MS: [M+H]+ =459
상기 제조예에서 9-브로모-2-다이벤조퓨라닐 보론산, 요오도벤젠 대신에 다른 종류의 화합물을 사용하여 하기 화합물 1B, 1C, 1D, 1E, 1F, 2A, 2B, 2C, 3A, 3B 및 4A을 제조할 수 있다. 예컨대, 상기 제조예에서 9-브로모-2-다이벤조퓨라닐 보론산 대신에 8-브로모-2-다이벤조퓨라닐 보론산을 사용하여 화합물 2A를 제조할 수 있으며, 상기 제조예에서 요오도벤젠 대신에 요오도바이페닐을 사용하여 화합물 1B를 제조할 수 있다.
<합성예 1> 화합물 1의 제조
Figure pat00033
화합물 1A(16g, 34.8mmol)와 클로로 디페닐트리아진(9.78g, 36.5mmol)과 탄산칼륨(K2CO3)(14.4g, 104.4mmol)을 테트라하이드로퓨란(THF)(300mL), H2O(100ml)에 녹이고 90℃로 가열하였다. 테트라키스(트리페닐포스핀) 팔라듐(Pd(PPh3)4) (0.8g, 0.70mmol)를 첨가한 후 4시간 동안 환류하였다. 상온으로 냉각 후 물층을 제거하였다. 유기층에 황산마그네슘(MgSO4)을 넣은 후 여과하였다. 농축 후 컬럼크로마토그래피로 정제하여 화합물 1(15g, 수율 77%)를 얻었다.
MS: [M+H]+ = 564
<합성예 2> 화합물 2의 제조
Figure pat00034
상기 합성예 1에 있어서, 클로로 디페닐트리아진 대신 4-브로모페닐 디페닐트리아진(14.2g, 36.5mmol)을 사용한 것을 제외하고는 동일한 방법으로 제조하여 화합물 2(18g, 수율 81%)를 얻었다.
MS: [M+H]+ =640
<합성예 3> 화합물 3의 제조
Figure pat00035
상기 합성예 1에 있어서, 클로로 디페닐트리아진 대신 클로로 페닐나프탈렌트리아진(11.6g, 36.5mmol)을 사용한 것을 제외하고는 동일한 방법으로 제조하여 화합물 3(18g, 수율 84%)를 얻었다.
MS: [M+H]+ =614
<합성예 4> 화합물 4의 제조
Figure pat00036
상기 합성예 1에 있어서, 클로로 디페닐트리아진 대신 클로로 터피리딘(9.7g, 36.5mmol)을 사용한 것을 제외하고는 동일한 방법으로 제조하여 화합물 4(13g, 수율 66%)를 얻었다.
MS: [M+H]+ =564
<합성예 5> 화합물 5의 제조
Figure pat00037
상기 합성예 1에 있어서, 클로로 클로로 디페닐트리아진 대신 클로로 페닐디페닐플루오렌트리아진 (18.5g, 36.5mmol)을 사용한 것을 제외하고는 동일한 방법으로 제조하여 화합물 5(21g, 수율 75%)를 얻었다.
MS: [M+H]+ =804
<합성예 6> 화합물 6의 제조
Figure pat00038
화합물 2A(16g, 34.8mmol)와 4-브로모디벤조티오페닐 디페닐트리아진(18g, 36.5mmol)과 탄산칼륨(K2CO3)(14.4g, 104.4mmol)을 테트라하이드로퓨란(THF)(300mL), H2O(100ml)에 녹이고 90℃로 가열하였다. 테트라키스(트리페닐포스핀) 팔라듐(Pd(PPh3)4) (0.8g, 0.70mmol)를 첨가한 후 4시간 동안 환류하였다. 상온으로 냉각 후 물층을 제거하였다. 유기층에 황산마그네슘(MgSO4)을 넣은 후 여과하였다. 농축 후 컬럼크로마토그래피로 정제하여 화합물 6(19g, 수율 73%)를 얻었다.
MS: [M+H]+ = 746
<합성예 7> 화합물 7의 제조
Figure pat00039
화합물 2A(16g, 34.8mmol)와 4-브로모디벤조퓨라닐 디페닐트리아진(17.5g, 36.5mmol)과 탄산칼륨(K2CO3)(14.4g, 104.4mmol)을 테트라하이드로퓨란(THF)(300mL), H2O(100ml)에 녹이고 90℃로 가열하였다. 테트라키스(트리페닐포스핀) 팔라듐(Pd(PPh3)4) (0.8g, 0.70mmol)를 첨가한 후 4시간 동안 환류하였다. 상온으로 냉각 후 물층을 제거하였다. 유기층에 황산마그네슘(MgSO4)을 넣은 후 여과하였다. 농축 후 컬럼크로마토그래피로 정제하여 화합물 7(18g, 수율 71%)를 얻었다.
MS: [M+H]+ = 730
<합성예 8> 화합물 8의 제조
Figure pat00040
화합물 2B(18.6g, 34.8mmol)와 클로로 디페닐트리아진(9.8g, 36.5mmol)과 탄산칼륨(K2CO3)(14.4g, 104.4mmol)을 테트라하이드로퓨란(THF)(300mL), H2O(100ml)에 녹이고 90℃로 가열하였다. 테트라키스(트리페닐포스핀) 팔라듐(Pd(PPh3)4) (0.8g, 0.70mmol)를 첨가한 후 4시간 동안 환류하였다. 상온으로 냉각 후 물층을 제거하였다. 유기층에 황산마그네슘(MgSO4)을 넣은 후 여과하였다. 농축 후 컬럼크로마토그래피로 정제하여 화합물 8(15g, 수율 68%)를 얻었다.
MS: [M+H]+ = 640
<합성예 9> 화합물 9의 제조
Figure pat00041
화합물 3A(18.8g, 34.8mmol)와 클로로 디페닐트리아진(9.8g, 36.5mmol)과 탄산칼륨(K2CO3)(14.4g, 104.4mmol)을 테트라하이드로퓨란(THF)(300mL), H2O(100ml)에 녹이고 90℃로 가열하였다. 테트라키스(트리페닐포스핀) 팔라듐(Pd(PPh3)4) (0.8g, 0.70mmol)를 첨가한 후 4시간 동안 환류하였다. 상온으로 냉각 후 물층을 제거하였다. 유기층에 황산마그네슘(MgSO4)을 넣은 후 여과하였다. 농축 후 컬럼크로마토그래피로 정제하여 화합물 9(16g, 수율 72%)를 얻었다.
MS: [M+H]+ = 646
<합성예 10> 화합물 10의 제조
Figure pat00042
상기 합성예 1에 있어서, 화합물 1A 대신 화합물 1B (18.6g, 34.8mmol)을 사용한 것을 제외하고는 동일한 방법으로 제조하여 화합물 10(21g, 수율 84%)를 얻었다.
MS: [M+H]+ = 716
<합성예 11> 화합물 11의 제조
Figure pat00043
화합물 1C(24.4g, 34.8mmol)와 클로로 페닐비페닐시아노 피리미딘(13.4g, 36.5mmol)과 탄산칼륨(K2CO3)(14.4g, 104.4mmol)을 테트라하이드로퓨란(THF)(300mL), H2O(100ml)에 녹이고 90℃로 가열하였다. 테트라키스(트리페닐포스핀) 팔라듐(Pd(PPh3)4) (0.8g, 0.70mmol)를 첨가한 후 4시간 동안 환류하였다. 상온으로 냉각 후 물층을 제거하였다. 유기층에 황산마그네슘(MgSO4)을 넣은 후 여과하였다. 농축 후 컬럼크로마토그래피로 정제하여 화합물 11(25g, 수율 80%)를 얻었다.
MS: [M+H]+ = 906
<합성예 12> 화합물 12의 제조
Figure pat00044
화합물 1D(27g, 34.8mmol)와 클로로 디페닐트리아진(9.8g, 36.5mmol)과 탄산칼륨(K2CO3)(14.4g, 104.4mmol)을 테트라하이드로퓨란(THF)(300mL), H2O(100ml)에 녹이고 90℃로 가열하였다. 테트라키스(트리페닐포스핀) 팔라듐(Pd(PPh3)4) (0.8g, 0.70mmol)를 첨가한 후 4시간 동안 환류하였다. 상온으로 냉각 후 물층을 제거하였다. 유기층에 황산마그네슘(MgSO4)을 넣은 후 여과하였다. 농축 후 컬럼크로마토그래피로 정제하여 화합물 12(26g, 수율 85%)를 얻었다.
MS: [M+H]+ = 884
<합성예 13> 화합물 13의 제조
Figure pat00045
화합물 1E(24g, 34.8mmol)와 클로로 디페닐트리아진(9.8g, 36.5mmol)과 탄산칼륨(K2CO3)(14.4g, 104.4mmol)을 테트라하이드로퓨란(THF)(300mL), H2O(100ml)에 녹이고 90℃로 가열하였다. 테트라키스(트리페닐포스핀) 팔라듐(Pd(PPh3)4) (0.8g, 0.70mmol)를 첨가한 후 4시간 동안 환류하였다. 상온으로 냉각 후 물층을 제거하였다. 유기층에 황산마그네슘(MgSO4)을 넣은 후 여과하였다. 농축 후 컬럼크로마토그래피로 정제하여 화합물 13(21g, 수율 77%)를 얻었다.
MS: [M+H]+ = 790
<합성예 14> 화합물 14의 제조
Figure pat00046
화합물 2C(24.5g, 34.8mmol)와 클로로 디페닐트리아진(9.8g, 36.5mmol)과 탄산칼륨(K2CO3)(14.4g, 104.4mmol)을 테트라하이드로퓨란(THF)(300mL), H2O(100ml)에 녹이고 90℃로 가열하였다. 테트라키스(트리페닐포스핀) 팔라듐(Pd(PPh3)4) (0.8g, 0.70mmol)를 첨가한 후 4시간 동안 환류하였다. 상온으로 냉각 후 물층을 제거하였다. 유기층에 황산마그네슘(MgSO4)을 넣은 후 여과하였다. 농축 후 컬럼크로마토그래피로 정제하여 화합물 14(20g, 수율 71%)를 얻었다.
MS: [M+H]+ = 808
<합성예 15> 화합물 15의 제조
Figure pat00047
상기 합성예 1에 있어서, 클로로 디페닐트리아진 대신 4-브로모피리딘 디페닐트리아진(14.2g, 36.5mmol)을 사용한 것을 제외하고는 동일한 방법으로 제조하여 화합물 15(17g, 수율 76%)를 얻었다.
MS: [M+H]+ =641
<합성예 16> 화합물 16의 제조
Figure pat00048
화합물 4A(18.7g, 34.8mmol)와 m,m-클로로바이페닐 디페닐트리아진(15.3g, 36.5mmol)과 탄산칼륨(K2CO3)(14.4g, 104.4mmol)을 테트라하이드로퓨란(THF)(300mL), H2O(100ml)에 녹이고 90℃로 가열하였다. 테트라키스(트리페닐포스핀) 팔라듐(Pd(PPh3)4) (0.8g, 0.70mmol)를 첨가한 후 4시간 동안 환류하였다. 상온으로 냉각 후 물층을 제거하였다. 유기층에 황산마그네슘(MgSO4)을 넣은 후 여과하였다. 농축 후 컬럼크로마토그래피로 정제하여 화합물 16(21g, 수율 76%)를 얻었다.
MS: [M+H]+ = 794
<합성예 17> 화합물 17의 제조
Figure pat00049
화합물 1F(24.4g, 34.8mmol)와 클로로 디페닐트리아진(9.8g, 36.5mmol)과 탄산칼륨(K2CO3)(14.4g, 104.4mmol)을 테트라하이드로퓨란(THF)(300mL), H2O(100ml)에 녹이고 90℃로 가열하였다. 테트라키스(트리페닐포스핀) 팔라듐(Pd(PPh3)4) (0.8g, 0.70mmol)를 첨가한 후 4시간 동안 환류하였다. 상온으로 냉각 후 물층을 제거하였다. 유기층에 황산마그네슘(MgSO4)을 넣은 후 여과하였다. 농축 후 컬럼크로마토그래피로 정제하여 화합물 17(20g, 수율 71%)를 얻었다.
MS: [M+H]+ = 805
<합성예 18> 화합물 18의 제조
Figure pat00050
상기 합성예 2에 있어서, 화합물 3A 대신 화합물 3B(16g, 34.8mmol)을 사용한 것을 제외하고는 동일한 방법으로 제조하여 화합물 18(13g, 수율 59%)를 얻었다.
MS: [M+H]+ =640
<실시예 1-1>
ITO(인듐주석산화물)가 1000Å 두께로 박막 코팅된 유리 기판 (corning 7059 glass)을, 분산제를 녹인 증류수에 넣고 초음파로 세척하였다. 세제는 Fischer Co.의 제품을 사용하였으며, 증류수는 Millipore Co. 제품의 필터(Filter)로 2차 걸러진 증류수를 사용하였다. ITO를 30 분간 세척한 후, 증류수로 2 회 반복하여 초음파 세척을 10 분간 진행하였다. 증류수 세척이 끝난 후 이소프로필알콜, 아세톤, 메탄올 용제 순서로 초음파 세척을 하고 건조시켰다.
이렇게 준비된 ITO 투명 전극 위에 헥사니트릴 헥사아자트리페닐렌(hexanitrile hexaazatriphenylene)를 50Å의 두께로 열 진공 증착하여 정공 주입층을 형성하였다. 그 위에 정공을 수송하는 물질인 HT1(250Å)을 진공 증착한 후, 50Å 두께의 제2 정공수송층(HT2)을 증착하였다.
이 막 상에 막두께 300nm의 인광호스트로서 합성예 1에서 제조한 화합물 1, 및 인광 발광성의 도펀트로서 D1을 각각 넣은 후, 두 물질을 다른 속도로 증발시켜 12% 중량으로 도핑되도록 발광층을 증착하였다.
상기 발광층 위에 ET1 화합물(250Å)을 전자 수송층으로 순차적으로 열 진공 증착하였다. 상기 전자 수송층 위에 순차적으로 ET2 화합물과 LiQ(Lithium Quinolate)을 공증착하여 102Å의 두께로 전자 주입층을 형성한 후 1,000Å 두께로 알루미늄을 증착하여 음극을 형성하여 유기발광소자를 제조하였다.
상기의 과정에서 유기물의 증착속도는 0.4~ 0.7Å/sec를 유지하였고, 알루미늄은 2Å/sec의 증착 속도를 유지하였으며, 증착시 진공도는 2 ×10-7 ~ 5 ×10-6 torr를 유지하여, 유기 발광 소자를 제작하였다.
Figure pat00051
< 실시예 1-2>
상기 실시예 1-1에서 화합물 1 대신 화합물 2를 사용한 것을 제외하고는 동일하게 유기 발광 소자를 제작하였다.
< 실시예 1-3>
상기 실시예 1-1에서 화합물 1 대신 화합물 3을 사용한 것을 제외하고는 동일하게 유기 발광 소자를 제작하였다.
< 실시예 1-4>
상기 실시예 1-1에서 화합물 1 대신 화합물 4를 사용한 것을 제외하고는 동일하게 유기 발광 소자를 제작하였다.
< 실시예 1-5>
상기 실시예 1-1에서 화합물 1 대신 화합물 5를 사용한 것을 제외하고는 동일하게 유기 발광 소자를 제작하였다.
< 실시예 1-6>
상기 실시예 1-1에서 화합물 1 대신 화합물 6을 사용한 것을 제외하고는 동일하게 유기 발광 소자를 제작하였다.
< 실시예 1-7>
상기 실시예 1-1에서 화합물 1 대신 화합물 7을 사용한 것을 제외하고는 동일하게 유기 발광 소자를 제작하였다.
< 실시예 1-8>
상기 실시예 1-1에서 화합물 1 대신 화합물 8을 사용한 것을 제외하고는 동일하게 유기 발광 소자를 제작하였다.
< 실시예 1-9>
상기 실시예 1-1에서 화합물 1 대신 화합물 9를 사용한 것을 제외하고는 동일하게 유기 발광 소자를 제작하였다.
< 실시예 1-10>
상기 실시예 1-1에서 화합물 1 대신 화합물 10을 사용한 것을 제외하고는 동일하게 유기 발광 소자를 제작하였다.
< 실시예 1-11>
상기 실시예 1-1에서 화합물 1 대신 화합물 11을 사용한 것을 제외하고는 동일하게 유기 발광 소자를 제작하였다.
< 실시예 1-12>
상기 실시예 1-1에서 화합물 1 대신 화합물 12를 사용한 것을 제외하고는 동일하게 유기 발광 소자를 제작하였다.
< 실시예 1-13>
상기 실시예 1-1에서 화합물 1 대신 화합물 13을 사용한 것을 제외하고는 동일하게 유기 발광 소자를 제작하였다.
< 실시예 1-14>
상기 실시예 1-1에서 화합물 1 대신 화합물 14를 사용한 것을 제외하고는 동일하게 유기 발광 소자를 제작하였다.
< 실시예 1-15>
상기 실시예 1-1에서 화합물 1 대신 화합물 15를 사용한 것을 제외하고는 동일하게 유기 발광 소자를 제작하였다.
< 실시예 1-16>
상기 실시예 1-1에서 화합물 1 대신 화합물 16을 사용한 것을 제외하고는 동일하게 유기 발광 소자를 제작하였다.
< 실시예 1-17>
상기 실시예 1-1에서 화합물 1 대신 화합물 17을 사용한 것을 제외하고는 동일하게 유기 발광 소자를 제작하였다.
< 실시예 1-18>
상기 실시예 1-1에서 화합물 1 대신 화합물 18을 사용한 것을 제외하고는 동일하게 유기 발광 소자를 제작하였다.
< 비교예 1>
상기 실시예 1-1에서 화합물1 대신 상기 CBP를 사용한 것을 제외하고는 동일하게 유기 발광 소자를 제작하였다.
< 비교예 2>
상기 실시예 1-1에서 화합물1 대신 하기 H1을 사용한 것을 제외하고는 동일하게 유기 발광 소자를 제작하였다.
Figure pat00052
< 비교예 3>
상기 실시예 1-1에서 화합물1 대신 하기 H2를 사용한 것을 제외하고는 동일하게 유기 발광 소자를 제작하였다.
Figure pat00053
< 비교예 4>
상기 실시예 1-1에서 화합물1 대신 하기 H3을 사용한 것을 제외하고는 동일하게 유기 발광 소자를 제작하였다.
상기 실시예 1-1 내지 1-18 및 비교예 1 내지 4와 같이 각각의 화합물을 인광호스트 물질로 사용하여 제조한 유기 발광 소자를 실험한 결과를 표 1에 나타내었다.
실험예
10mA/㎠		 화합물 전압
(V)		 전류효율
(cd/A)		 색좌표
(x,y)
실시예 1-1 화합물 1 2.82 64.71 (0.460,0.531)
실시예 1-2 화합물 2 2.82 65.81 (0.459,0.533)
실시예 1-3 화합물 3 2.95 66.14 (0.456,0.531)
실시예 1-4 화합물 4 3.01 63.21 (0.461,0.531)
실시예 1-5 화합물 5 2.93 67.20 (0.457,0.533)
실시예 1-6 화합물 6 2.91 66.56 (0.458,0.529)
실시예 1-7 화합물 7 2.88 66.61 (0.464,0.531)
실시예 1-8 화합물 8 2.86 64.25 (0.460,0.532)
실시예 1-9 화합물 9 2.91 65.55 (0.457,0.531)
실시예 1-10 화합물 10 2.83 68.11 (0.458,0.533)
실시예 1-11 화합물 11 3.05 70.12 (0.461,0.532)
실시예 1-12 화합물 12 2.90 73.70 (0.462,0.529)
실시예 1-13 화합물 13 2.99 74.10 (0.460,0.531)
실시예 1-14 화합물 14 2.92 72.13 (0.459,0.532)
실시예 1-15 화합물 15 2.79 63.20 (0.457,0.531)
실시예 1-16 화합물 16 3.02 68.1 (0.460,0.531)
실시예 1-17 화합물 17 2.95 75.2 (0.460,0.529)
실시예 1-18 화합물 18 2.99 69.98 (0.460,0.531)
비교예 1 CBP 4.02 41.30 (0.463,0.525)
비교예 2 H1 3.32 58.56 (0.461,0.535)
비교예 3 H2 3.41 54.11 (0.446,0.543)
비교예 4 H3 4.12 59.61 (0.451,0.528)
<실시예 2-1>
ITO(인듐주석산화물)가 1000Å 두께로 박막 코팅된 유리 기판 (corning 7059 glass)을, 분산제를 녹인 증류수에 넣고 초음파로 세척하였다. 세제는 Fischer Co.의 제품을 사용하였으며, 증류수는 Millipore Co. 제품의 필터(Filter)로 2차 걸러진 증류수를 사용하였다. ITO를 30 분간 세척한 후, 증류수로 2 회 반복하여 초음파 세척을 10 분간 진행하였다. 증류수 세척이 끝난 후 이소프로필알콜, 아세톤, 메탄올 용제 순서로 초음파 세척을 하고 건조시켰다.
이렇게 준비된 ITO 투명 전극 위에 헥사니트릴 헥사아자트리페닐렌(hexanitrile hexaazatriphenylene)를 50Å의 두께로 열 진공 증착하여 정공 주입층을 형성하였다. 그 위에 정공을 수송하는 물질인 HT1(250Å)을 진공 증착한 후, 50Å 두께의 제2정공수송층(HT2)을 증착하였다.
이 막 상에 막두께 300nm의 인광호스트로서 합성예 1에서 제조한 화합물 1을 제1호스트 화합물로, 제2호스트 화합물로 P-1을 1:1의 중량비로 진공 증착한다. 동시에 인광 발광성의 도펀트로서 D1을 다른 속도로 증발시켜 12% 중량으로 도핑되도록 발광층을 증착하였다.
상기 발광층 위에 ET1 화합물(250Å)을 전자 수송층으로 순차적으로 열 진공 증착하였다. 상기 전자 수송층 위에 순차적으로 ET2 화합물과 LiQ(Lithium Quinolate)을 공증착하여 102Å의 두께로 전자 주입층을 형성한 후 1,000Å 두께로 알루미늄을 증착하여 음극을 형성하여 유기발광소자를 제조하였다.
상기의 과정에서 유기물의 증착속도는 0.4~ 0.7Å/sec를 유지하였고, 알루미늄은 2Å/sec의 증착 속도를 유지하였으며, 증착시 진공도는 2 ×10-7 ~ 5 ×10-6 torr를 유지하여, 유기 발광 소자를 제작하였다.
< 실시예 2-2>
상기 실시예 2-1에서 화합물 1 대신 화합물 2를 사용한 것을 제외하고는 동일하게 유기 발광 소자를 제작하였다.
< 실시예 2-3>
상기 실시예 2-1에서 화합물 1 대신 화합물 5를 사용한 것을 제외하고는 동일하게 유기 발광 소자를 제작하였다.
< 실시예 2-4>
상기 실시예 2-1에서 화합물 1 대신 화합물 8을 사용한 것을 제외하고는 동일하게 유기 발광 소자를 제작하였다.
< 실시예 2-5>
상기 실시예 2-1에서 화합물 1 대신 화합물 10을 사용한 것을 제외하고는 동일하게 유기 발광 소자를 제작하였다.
< 실시예 2-6>
상기 실시예 2-1에서 화합물 1 대신 화합물 13을 사용한 것을 제외하고는 동일하게 유기 발광 소자를 제작하였다.
< 실시예 2-7>
상기 실시예 2-1에서 화합물 1 대신 화합물 14를 사용한 것을 제외하고는 동일하게 유기 발광 소자를 제작하였다.
< 실시예 2-8>
상기 실시예 2-1에서 화합물 1 대신 화합물 17을 사용한 것을 제외하고는 동일하게 유기 발광 소자를 제작하였다.
< 실시예 2-9>
상기 실시예 2-1에서 화합물 1 대신 화합물 18을 사용한 것을 제외하고는 동일하게 유기 발광 소자를 제작하였다.
< 비교예 5>
상기 실시예 2-1에서 화합물 1 대신 CBP를 사용한 것을 제외하고는 동일하게 유기 발광 소자를 제작하였다.
< 비교예 6>
상기 실시예 2-1에서 화합물 1 대신 하기 H1를 사용한 것을 제외하고는 동일하게 유기 발광 소자를 제작하였다.
Figure pat00055
< 비교예 7>
상기 실시예 2-1에서 화합물 1 대신 하기 H2를 사용한 것을 제외하고는 동일하게 유기 발광 소자를 제작하였다.
Figure pat00056
< 비교예 8>
상기 실시예 2-1에서 화합물 1 대신 하기 H3을 사용한 것을 제외하고는 동일하게 유기 발광 소자를 제작하였다.
Figure pat00057
상기 실시예 2-1 내지 2-9 및 비교예 5 내지 8과 같이 각각의 화합물을 인광호스트 물질로 사용하여 제조한 유기 발광 소자를 실험한 결과를 표 2에 나타내었다.
실험예
10mA/㎠		 화합물 전압
(V)		 전류효율
(cd/A)		 색좌표
(x,y)
실시예 2-1 화합물 1 3.12 74.81 (0.459,0.531)
실시예 2-2 화합물 2 3.05 75.65 (0.459,0.530)
실시예 2-3 화합물 5 3.19 76.18 (0.456,0.534)
실시예 2-4 화합물 8 2.96 73.26 (0.460,0.533)
실시예 2-5 화합물 10 3.00 78.01 (0.459,0.531)
실시예 2-6 화합물 13 3.19 81.10 (0.461,0.531)
실시예 2-7 화합물 14 3.22 82.45 (0.459,0.531)
실시예 2-8 화합물 17 3.14 84.01 (0.460,0.528)
실시예 2-9 화합물 18 3.09 78.88 (0.460,0.530)
비교예 5 CBP 4.35 50.10 (0.459,0.525)
비교예 6 H1 3.70 64.85 (0.460,0.534)
비교예 7 H2 3.71 59.22 (0.446,0.544)
비교예 8 H3 4.40 65.52 (0.451,0.530)
<실시예 3-1>
ITO(인듐주석산화물)가 1000Å 두께로 박막 코팅된 유리 기판 (corning 7059 glass)을, 분산제를 녹인 증류수에 넣고 초음파로 세척하였다. 세제는 Fischer Co.의 제품을 사용하였으며, 증류수는 Millipore Co. 제품의 필터(Filter)로 2차 걸러진 증류수를 사용하였다. ITO를 30 분간 세척한 후, 증류수로 2 회 반복하여 초음파 세척을 10 분간 진행하였다. 증류수 세척이 끝난 후 이소프로필알콜, 아세톤, 메탄올 용제 순서로 초음파 세척을 하고 건조시켰다.
이렇게 준비된 ITO 투명 전극 위에 헥사니트릴 헥사아자트리페닐기렌 (hexanitrile hexaazatriphenylene)를 500 Å의 두께로 열 진공 증착하여 정공주입층을 형성하였다. 그 위에 정공을 수송하는 물질인 HT1(400 Å)을 진공증착한 후 발광층으로 호스트 BH1과 도판트 D2 화합물을 300 Å의 두께로 진공 증착하였다. 상기 발광층 위에 합성예 1에서 제조한 화합물 1과 LiQ(Lithium Quinolate)를 1:1의 중량비로 진공증착하여 350Å의 두께로 전자 주입 및 수송층을 형성하였다. 상기 전자 주입 및 수송층 위에 순차적으로 12Å두께로 리튬플로라이드(LiF)와 2,000Å 두께로 알루미늄을 증착하여 음극을 형성하였다. 유기발광소자를 제조하였다.
상기의 과정에서 유기물의 증착속도는 0.4~ 0.7Å/sec를 유지하였고, 음극의 리튬플로라이드는 0.3Å/sec, 알루미늄은 2Å/sec의 증착 속도를 유지하였으며, 증착시 진공도는 2 ×10-7 ~ 5 ×10-6 torr를 유지하여, 유기 발광 소자를 제작하였다.
Figure pat00058
< 실시예 3-2>
상기 실시예 3-1에서 화합물 1 대신 화합물 3을 사용한 것을 제외하고는 동일하게 유기 발광 소자를 제작하였다.
< 실시예 3-3>
상기 실시예 3-1에서 화합물 1 대신 화합물 4를 사용한 것을 제외하고는 동일하게 유기 발광 소자를 제작하였다.
< 실시예 3-4>
상기 실시예 3-1에서 화합물 1 대신 화합물 6을 사용한 것을 제외하고는 동일하게 유기 발광 소자를 제작하였다.
< 실시예 3-5>
상기 실시예 3-1에서 화합물 1 대신 화합물 8을 사용한 것을 제외하고는 동일하게 유기 발광 소자를 제작하였다.
< 실시예 3-6>
상기 실시예 3-1에서 화합물 1 대신 화합물 10을 사용한 것을 제외하고는 동일하게 유기 발광 소자를 제작하였다.
< 실시예 3-7>
상기 실시예 3-1에서 화합물 1 대신 화합물 11을 사용한 것을 제외하고는 동일하게 유기 발광 소자를 제작하였다.
< 실시예 3-8>
상기 실시예 3-1에서 화합물 1 대신 화합물 15를 사용한 것을 제외하고는 동일하게 유기 발광 소자를 제작하였다.
< 실시예 3-9>
상기 실시예 3-1에서 화합물 1 대신 화합물 18을 사용한 것을 제외하고는 동일하게 유기 발광 소자를 제작하였다.
< 비교예 9>
상기 실시예 3-1에서 화합물 1 대신 상기 ET1을 사용한 것을 제외하고는 동일하게 유기 발광 소자를 제작하였다.
< 비교예 10>
상기 실시예 3-1에서 화합물 1 대신 H1을 사용한 것을 제외하고는 동일하게 유기 발광 소자를 제작하였다.
Figure pat00059
< 비교예 11>
상기 실시예 3-1에서 화합물 1 대신 H2를 사용한 것을 제외하고는 동일하게 유기 발광 소자를 제작하였다.
Figure pat00060
< 비교예 12>
상기 실시예 3-1에서 화합물 1 대신 H3을 사용한 것을 제외하고는 동일하게 유기 발광 소자를 제작하였다.
Figure pat00061
상기 실시예 3-1 내지 3-9 및 비교예 9 내지 11와 같이 각각의 화합물을 전자주입 및 수송층 물질로 사용하여 제조한 유기 발광 소자를 실험한 결과를 표 3에 나타내었다.
실험예
10mA/㎠		 화합물 전압
(V)		 전류효율
(cd/A)		 색좌표
(x,y)
실시예 3-1 화합물 1 3.82 5.28 (0.137,0.124)
실시예 3-2 화합물 3 3.84 5.34 (0.139,0.124)
실시예 3-3 화합물 4 3.70 5.48 (0.138,0.127)
실시예 3-4 화합물 6 3.75 5.35 (0.138,0.129)
실시예 3-5 화합물 8 3.71 5.45 (0.137,0.126)
실시예 3-6 화합물 10 3.88 5.30 (0.137,0.124)
실시예 3-7 화합물 11 3.98 5.34 (0.137,0.126)
실시예 3-8 화합물 15 4.02 5.66 (0.137,0.126)
실시예 3-9 화합물 18 4.06 5.30 (0.137,0.126)
비교예 9 ET1 4.22 5.01 (0.140,0.129)
비교예 10 H1 4.15 5.12 (0.140,0.129)
비교예 11 H2 4.21 5.12 (0.139,0.129)
비교예 12 H3 4.17 4.7 (0.137,0.126)
1: 기판
2: 양극
3: 발광층
4: 음극
5: 정공주입층
6: 정공수송층
7: 전자수송층

Claims (12)

  1. 하기 화학식 1로 표시되는 화합물:
    [화학식 1]
    Figure pat00062

    상기 화학식 1에서, X는 O 또는 S 이고,
    Ar1은 치환 또는 비치환된 아릴기이고,
    L은 직접결합; 치환 또는 비치환된 아릴렌기; 또는 치환 또는 비치환된 2가의 헤테로고리기이며,
    R1 및 R2는 서로 동일하거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; 중수소; 할로겐기; 니트릴기; 치환 또는 비치환된 알킬기; 치환 또는 비치환된 시클로알킬기; 치환 또는 비치환된 아릴기; 또는 치환 또는 비치환된 헤테로고리기이며,
    a 는 0 내지 4의 정수이고, b는 0 내지 2의 정수이며, a 및 b가 각각 2이상인 경우의 괄호안의 치환기는 서로 동일하거나 상이하며,
    X1 내지 X3은 서로 동일하거나 상이하며, 각각 독립적으로 N 또는 CH이며,
    상기 X1 내지 X3 중 적어도 하나는 N이고,
    Y1 내지 Y4 중 적어도 하나는 L과 결합하는 C이며, 나머지는 N 또는 CR이며,
    상기 R은 수소; 중수소; 할로겐기; 치환 또는 비치환된 알킬기; 치환 또는 비치환된 시클로알킬기; 치환 또는 비치환된 아릴기; 또는 치환 또는 비치환된 헤테로고리기이며, 상기 CR이 2이상인 경우 R은 서로 같거나 상이하며,
    Ar2 및 Ar3은 서로 동일하거나 상이하며, 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 아릴기; 또는 치환 또는 비치환된 헤테로고리기이다.
  2. 청구항 1에 있어서, 상기 화학식 1은 하기 화학식 2 또는 3으로 표시되는 화합물:
    [화학식 2]
    Figure pat00063

    [화학식 3]
    Figure pat00064

    상기 화학식 2 및 3에 있어서,
    상기 Ar1 내지 Ar3, R1, R2, Y1 내지 Y4, X1 내지 X3, L, a 및 b는 화학식 1의 정의와 동일하다.
  3. 청구항 1에 있어서, 상기 화학식 1은 하기 화학식 4 내지 7 중 어느 하나로 표시되는 화합물:
    [화학식 4]
    Figure pat00065

    [화학식 5]
    Figure pat00066

    [화학식 6]
    Figure pat00067

    [화학식 7]
    Figure pat00068

    상기 화학식 4 내지 7에 있어서,
    상기 Ar1 내지 Ar3, R1, R2, X, X1 내지 X3, L, a 및 b는 화학식 1의 정의와 동일하고,
    R11 내지 R14는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; 중수소; 할로겐기; 치환 또는 비치환된 알킬기; 치환 또는 비치환된 시클로알킬기; 치환 또는 비치환된 아릴기; 또는 치환 또는 비치환된 헤테로고리기이다.
  4. 청구항 1에 있어서, 상기 화학식 1은 하기 화학식 8 내지 10 중 어느 하나로 표시되는 화합물:
    [화학식 8]
    Figure pat00069

    [화학식 9]
    Figure pat00070

    [화학식 10]
    Figure pat00071

    상기 화학식 8 내지 10에 있어서,
    상기 Ar1 내지 Ar3, R1, R2, X, X1 내지 X3, L, a 및 b는 화학식 1의 정의와 동일하고,
    R12 내지 R14는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; 중수소; 할로겐기; 치환 또는 비치환된 알킬기; 치환 또는 비치환된 시클로알킬기; 치환 또는 비치환된 아릴기; 또는 치환 또는 비치환된 헤테로고리기이다.
  5. 청구항 1에 있어서, 상기 Ar1은 치환 또는 비치환된 페닐기; 치환 또는 비치환된 바이페닐기; 치환 또는 비치환된 터페닐기; 치환 또는 비치환된 나프틸기; 치환 또는 비치환된 페난트렌기; 치환 또는 비치환된 안트라센기; 또는 치환 또는 비치환된 트리페닐렌기인 화합물.
  6. 청구항 1에 있어서, 상기 Ar2 및 Ar3은 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 페닐기; 치환 또는 비치환된 바이페닐기; 비치환 또는 비치환된 나프틸기; 치환 또는 비치환된 플루오레닐기; 또는 치환 또는 비치환된 피리딘기인 것인 화합물.
  7. 청구항 1에 있어서, 상기 L은 직접결합, 페닐렌기, 바이페닐릴렌기, 디메틸플루오레닐기, 디페닐플루오레닐기 또는 2가의 피리딘기인 것인 화합물.
  8. 청구항 1에 있어서, 상기 R1은 수소, 치환 또는 비치환된 페닐기, 치환 또는 비치환된 트리페닐렌기, 치환 또는 비치환된 tert-부틸기, 치환 또는 비치환된 시클로헥실기, 치환 또는 비치환된 나프틸기, 치환 또는 비치환된 N-페닐카바졸기, 치환 또는 비치환된 카바졸기, 치환 또는 비치환된 디벤조퓨란기, 치환 또는 비치환된 디벤조티오펜기, 치환 또는 비치환된 벤조퓨로피리딘기, 치환 또는 비치환된 피리도인돌기, 치환 또는 비치환된 N-페닐벤조카바졸기, 치환 또는 비치환된 벤조퓨로피리미딘기, 치환 또는 비치환된 벤조티에노피리미딘기,또는 치환 또는 비치환된 벤조티에노피리딘기인 것인 화합물.
  9. 청구항 1에 있어서, 상기 화학식 1은 하기 구조식들 중에서 선택되는 것인 화합물:
    Figure pat00072

    Figure pat00073

    Figure pat00074

    Figure pat00075

    Figure pat00076

    Figure pat00077

    Figure pat00078
    Figure pat00079
  10. 제1 전극; 상기 제1 전극과 대향하여 구비된 제2 전극; 및 상기 제1 전극과 상기 제2 전극 사이에 구비된 1층 이상의 유기물층을 포함하는 유기 발광 소자로서, 상기 유기물층 중 1층 이상은 청구항 1 내지 9 중 어느 한 항에 따른 화합물을 포함하는 것인 유기 발광 소자.
  11. 청구항 10 에 있어서, 상기 유기물층은 전자수송층, 전자주입층 또는 전자 주입 및 수송층을 포함하고, 상기 전자수송층, 전자주입층 또는 전자 주입 및 수송층은 상기 화합물을 포함하는 것인 유기 발광 소자.
  12. 청구항 10 에 있어서, 상기 유기물층은 발광층을 포함하고, 상기 발광층은 상기 화합물을 포함하는 것인 유기 발광 소자.

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