KR20170126540A - System for monitoring particle in the filtered water - Google Patents

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Abstract

Provided is a system for monitoring particles in filtered water, which is to measure the presence of particles in filtered water after undergoing a filtration process, and comprises: a deaeration part accommodating filtered water and deaerating gas in the filtered water; and a sensing part connected to the deaeration part and sensing the particles in the deaerated filtered water after introduction of the filtered water which is deaerated by passing through the deaeration part.

Description

여과수 입자 감시시스템{SYSTEM FOR MONITORING PARTICLE IN THE FILTERED WATER}{SYSTEM FOR MONITORING PARTICLE IN THE FILTERED WATER}

본 발명은 여과공정을 거친 여과수 내의 오염물질을 감시하여 여과공정의 완결성을 시험하는 여과수 입자 감지시스템에 관한 것이다.The present invention relates to a filtrate particle detection system for monitoring the pollutants in filtration water subjected to a filtration process to test the integrity of the filtration process.

최근 막분리 등의 여과를 이용한 고도정수처리 기술의 수요가 증가함에 따라 이들의 공정관리를 위한 기술 개발 수요가 급증하고 있다. 막분리 여과 공정이 대상이 되는 오염물질을 완벽히 제거하여 안전하게 원수가 처리되는 지 확인하기 위해서는 막의 완결성 시험이 수행되어야 한다. Recently, as the demand for advanced water treatment technology using filtration such as membrane separation has increased, the demand for technology development for the process control of these has rapidly increased. Membrane integrity tests should be performed to ensure that the membrane separation filtration process completely removes the contaminants that are subject to treatment and safely treats the raw water.

막의 완결성 시험 방법으로 직접 완결성 시험 방법과 간접 완결성 시험 방법이 있다. 직접 완결성 시험방법에는 대표적으로 정확도가 매우 높은 압력강하 시험이 있으나, 그 높은 정확도에도 불구하고 연속적인 모니터링이 어려운 문제가 있다. There are direct integrity test methods and indirect integrity test methods as the integrity test methods of membranes. Although there are pressure drop tests with high accuracy in representative integrity test methods, there is a problem that it is difficult to continuously monitor them despite their high accuracy.

간접측정방식에는 입자계수, 입자감시, 탁도감지 등의 방법이 있다. 이중 입자계수를 이용하는 방법이 많이 적용되고 있지만 가격이 비싸고 운전조건 변화에 따라 그 값의 안정성이 어려운 단점을 가진다. 그리고, 입자측정을 위한 탁도감지를 이용한 방법이 있지만, 이는 입자측정 감도가 낮아 이용에 어려움이 있다. Indirect measurement methods include particle counting, particle monitoring, and turbidity detection. Although the method using the double particle coefficient is widely applied, it has a disadvantage that the cost is high and the stability of the value is difficult according to the change of the operating condition. There is a method using turbidity detection for particle measurement, but it is difficult to use because of low particle measurement sensitivity.

또한, 입자감시 방법이 널리 이용되지만, 공정상 발생되는 미세 기포에 의한 오차가 발생하고, 입자 모니터링 장비의 경우, 포토존을 지나는 입자에 의한 오염으로 측정값의 오차는 더욱 크게 발생할 수 있다.In addition, although the particle monitoring method is widely used, errors due to fine bubbles generated in the process occur, and in the case of the particle monitoring equipment, the measurement error may occur due to contamination by the particles passing through the photo-zone.

본 발명의 발명자는 입자감시 방법 이용시 발생하는 상술한 문제점을 해결하기 위하여 오랫동안 연구하고 시행착오를 거치며 개발한 끝에 본 발명을 완성하게 되었다.The inventor of the present invention has studied for a long time in order to solve the above-mentioned problems occurring when using the particle monitoring method, developed through trial and error, and finally completed the present invention.

관련한 기술로는 대한민국 등록특허공보 제10-1045263호(2011. 6. 23 등록, 막여과 정수처리시스템용 유지관리 안정성 향상을 위한 제어장치 및 방법)가 있다. A related art is disclosed in Korean Patent Registration No. 10-1045263 (Registered on June 23, 2011, control device and method for improving maintenance stability for membrane filtration water treatment system).

본 발명은 입자감시 방법을 이용하여 여과수 내의 오염물질인 입자를 감시하되, 미세 기포에 의한 오차를 줄여 측정의 정확도를 향상시킬 수 있는 여과수 입자 감시시스템을 제공하는 것이다.The present invention provides a filtering water particle monitoring system that monitors particles as contaminants in filtered water by using a particle monitoring method, and reduces errors caused by minute bubbles, thereby improving the accuracy of measurement.

또한, 본 발명은, 입자 모니터링 장비가 입자에 의하여 오염됨으로써 입자 모니터링 장비의 측정의 신뢰도가 저하되는 것을 방지할 수 있는 여과수 입자 감시시스템을 제공하는 것이다. It is another object of the present invention to provide a filtered water particle monitoring system which can prevent the reliability of the measurement of the particle monitoring equipment from being degraded due to particle contamination of the particle monitoring equipment.

한편, 본 발명의 명시되지 않은 또 다른 목적들은하기의 상세한 설명 및 그 효과로부터 용이하게 추론 할 수 있는 범위 내에서 추가적으로 고려될 것이다.On the other hand, other unspecified purposes of the present invention will be further considered within the scope of the following detailed description and easily deduced from the effects thereof.

이와 같은 과제를 달성하기 위하여 본 발명은 여과공정을 거친 여과수 내의 입자 유무를 측정하는 여과수 입자 감시시스템으로서, To achieve these and other advantages and in accordance with the purpose of the present invention, as embodied and broadly described herein, there is provided a filtering water particle monitoring system for measuring the presence or absence of particles in filtration water,

여과수를 수용하며, 상기 여과수 내의 기체를 탈기하는 탈기부; 및A deaeration section for receiving the filtered water and for degassing the gas in the filtered water; And

상기 탈기부와 연결되며, 상기 탈기부를 거치며 탈기된 여과수가 유입되어 상기 탈기된 여과수 내의 입자를 센싱하는 센싱부를 포함하는 것을 특징으로 하는 여과수 입자 감시시스템을 제공하는 것이다.And a sensing unit connected to the deaeration unit and sensing a particle in the deaerated filtered water through the deaerated filtered water flowing through the deaeration unit.

본 발명은 상기 센싱부에 연결되어, 상기 센싱부로부터 센싱된 입자 정보를 전달받고, 상기 입자 정보를 표시하는 표시부를 더 포함할 수 있다.The present invention may further include a display unit connected to the sensing unit, receiving the sensed particle information from the sensing unit, and displaying the particle information.

상기 탈기부는,The de-

상기 여과수를 수용하는 수용부;A receiving portion for receiving the filtered water;

상기 수용부에 결합되어, 상기 수용부 내로 상기 여과수를 유입할 수 있는 유입라인;An inlet line coupled to the receiving portion and capable of introducing the filtered water into the receiving portion;

상기 유입라인에 형성되어, 상기 수용부로 상기 여과수의 유입을 조절하는 제1 밸브;A first valve formed in the inflow line for controlling inflow of the filtered water into the accommodating portion;

상기 수용부에 결합되어, 상기 수용부내에 수용된 상기 여과수로부터 분리된 기체가 배출되는 탈기라인;A degassing line coupled to the accommodating portion and discharging a gas separated from the filtered water accommodated in the accommodating portion;

상기 탈기라인에 결합되어, 상기 기체의 배출을 조절하는 제2 밸브;A second valve coupled to the degassing line to regulate the evacuation of the gas;

상기 탈기라인에 결합되어, 상기 수용부 내부의 압력을 감압하여 상기 여과수로부터 기체를 분리시키는 감압펌프;A decompression pump coupled to the degassing line for decompressing the pressure inside the accommodating portion to separate the gas from the filtered water;

상기 수용부에 결합되어, 상기 기체가 분리된 여과수가 배출되는 배출라인; 및A discharge line coupled to the receiving portion, through which the filtered water separated from the gas is discharged; And

상기 배출라인에 결합되어, 상기 수용부로부터 배출되는 여과수의 배출을 조절하는 제3 밸브를 포함할 수 있다.And a third valve coupled to the discharge line for regulating the discharge of the filtered water discharged from the receiving portion.

상기 센싱부는, The sensing unit includes:

상기 탈기부를 거친 여과수가 이동하는 측정셀;A measurement cell through which the filtered water passes through the deaeration section;

상기 측정셀을 이동하는 상기 여과수에 광을 조사하는 광원; 및A light source for irradiating light to the filtered water moving in the measuring cell; And

상기 여과수를 통과한 광을 검출하여 상기 여과수 내의 입자 유무를 파악하는 광검출기를 포함할 수 있다.And a photodetector for detecting the light passing through the filtered water to determine whether or not the particles exist in the filtered water.

상기 광원은 레이저 광원이고,Wherein the light source is a laser light source,

상기 광검출기는 상기 여과수 내의 입자에 의해 발생하는 그림자를 측정하는 광센서를 포함할 수 있다.The photodetector may include an optical sensor for measuring shadows generated by particles in the filtered water.

또한, 본 발명은 상기 센싱부에 결합되어, 상기 센싱부를 세척하는 세척부를 더 포함할 수 있다.In addition, the present invention may further include a cleaning unit coupled to the sensing unit to clean the sensing unit.

상기 세척부는,The cleaning unit includes:

산세정액을 저장하는 저장탱크; 및A storage tank for storing pickling liquid; And

상기 저장탱크에 결합되어 상기 산세정액을 상기 측정셀로 유입시키는 세정액펌프를 포함할 수 있다.And a rinse solution pump coupled to the storage tank for introducing the acid rinse solution into the measurement cell.

상기 센싱부는 실시간 데이터 연산처리 프로그램을 포함하고,Wherein the sensing unit includes a real-time data operation processing program,

상기 실시간 데이터 연산처리 프로그램은 상기 여과수를 통과한 광으로부터 노이즈를 분리하고,, 상기 노이즈가 분리된 입자 정보를 상기 표시부에 전달할 수 있다.The real-time data processing program may separate noise from light passing through the filtered water, and may transmit the noise-separated particle information to the display unit.

이와 같은 본 발명을 이용하면, 여과수 내 미세기포를 제거하여 입자 감시의 측정의 정확도를 크게 향상시킬 수 있다.By using the present invention as described above, fine bubbles in the filtered water can be removed, and the accuracy of measurement of particle monitoring can be greatly improved.

또한, 산세정 장치를 이용하여 여과수 내의 입자에 의한 측정셀의 오염을 주기적으로 세척함으로써, 사용자의 편의성을 증진시키고 측정기의 신뢰도를 향상시킬 수 있다.Further, the contamination of the measuring cell by the particles in the filtered water is periodically cleaned by using the acid cleaning device, thereby improving the convenience of the user and improving the reliability of the measuring device.

그리고, 실시간 데이터 연산처리 및 프로그램을 포함하여, 측정된 값에서 노이즈를 정확히 분리하여 보다 정확한 입자 감지 신호를 얻을 수 있다.In addition, a more accurate particle detection signal can be obtained by accurately separating the noise from the measured value, including the real-time data calculation process and the program.

한편, 여기에서 명시적으로 언급되지 않은 효과라 하더라도, 본 발명의 기술적 특징에 의해 기대되는 이하의 명세서에서 기재된 효과 및 그 잠정적인 효과는 본 발명의 명세서에 기재된 것과 같이 취급됨을 첨언한다.On the other hand, even if the effects are not explicitly mentioned here, the effect described in the following specification, which is expected by the technical features of the present invention, and its potential effects are treated as described in the specification of the present invention.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따라 여과과정을 거친 여과수에서 시료수를 취득하고, 취득한 여과수 내 입자를 감시하는 공정을 나타낸 도면이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 여과수 입자 감시시스템을 나타낸 도면이다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 여과수 내에서 기체를 탈기하는 탈기공정을 나타낸 도면이다.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 여과수 내 입자를 센싱하는 센싱부를 나타낸 도면이다.
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따라 측정셀을 지나는 여과수 내의 입자가 감지되는 것을 나타낸 도면이다.
첨부된 도면은 본 발명의 기술사상에 대한 이해를 위하여 참조로서 예시된 것임을 밝히며, 그것에 의해 본 발명의 권리범위가 제한되지는 아니한다.
BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 is a view showing a step of acquiring sample water from filtration water subjected to a filtration process according to an embodiment of the present invention, and monitoring the particles in the filtration water thus obtained.
2 is a diagram illustrating a filtered water particle monitoring system according to an embodiment of the present invention.
FIG. 3 is a view illustrating a degassing process for degassing gas in filtered water according to an embodiment of the present invention. Referring to FIG.
4 is a view illustrating a sensing unit for sensing particles in the filtered water according to an embodiment of the present invention.
5 is a diagram illustrating the detection of particles in filtrate passing through a measurement cell in accordance with an embodiment of the present invention.
It is to be understood that the invention is not limited to the disclosed embodiments, but, on the contrary, is intended to cover various modifications and equivalent arrangements included within the spirit and scope of the appended claims.

이하, 본 발명을 설명함에 있어서 관련된 공지기능에 대하여 이 분야의 기술자에게 자명한 사항으로서 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우에는 그 상세한 설명을 생략한다. DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Reference will now be made in detail to the embodiments of the present invention, examples of which are illustrated in the accompanying drawings, wherein like reference numerals refer to the like elements throughout.

본 출원에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시예를 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 출원에서, "포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 명세서상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.The terminology used in this application is used only to describe a specific embodiment and is not intended to limit the invention. The singular expressions include plural expressions unless the context clearly dictates otherwise. In the present application, the terms "comprises" or "having" and the like are used to specify that there is a feature, a number, a step, an operation, an element, a component or a combination thereof described in the specification, But do not preclude the presence or addition of one or more other features, integers, steps, operations, elements, components, or combinations thereof.

이하, 본 발명에 따른 여과수 입자 감시시스템 의 실시예를 첨부도면을 참조하여 상세히 설명하기로 하며, 첨부 도면을 참조하여 설명함에 있어, 동일하거나 대응하는 구성 요소는 동일한 도면번호를 부여하고 이에 대한 중복되는 설명은 생략하기로 한다.DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENT Hereinafter, an embodiment of a filtered water particle monitoring system according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. Referring to the accompanying drawings, the same or corresponding components are denoted by the same reference numerals, The description will be omitted.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따라 여과과정을 거친 여과수에서 시료수를 취득하고, 취득한 여과수 내 입자를 감시하는 공정을 나타낸 도면이다.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 is a view showing a step of acquiring sample water from filtration water subjected to a filtration process according to an embodiment of the present invention, and monitoring the particles in the filtration water thus obtained.

도 1에 도시된 바와 같이 본 발명에 따른 여과수 입자 감시시스템은 여과공정을 거친 여과수(도 1에 처리수로 기술) 내의 입자를 감시하여, 여과공정의 완결성을 테스트하기 위한 것이다. 즉 본 발명은 오염수가 여과 공정을 거친 경우 여과공정에서 대상이 되는 오염물질이 완벽히 제거되어 안전하게 원수가 처리되는 지 확인하기 위한 것이다.As shown in FIG. 1, the filtrate particle monitoring system according to the present invention is for monitoring the particles in filtration water (filtration water treatment technique shown in FIG. 1) through a filtration process and testing the integrity of the filtration process. That is, the present invention is to confirm whether the contaminants to be treated in the filtration process are completely removed and the raw water is safely treated when the contaminated water is subjected to the filtration process.

본 발명의 일 실시예에 따른 여과공정은 막분리 여과공정 즉, 멤브레인 모듈을 이용한 여과공정일 수 있다. 도 1에 도시된 바와 같이, 오염물질을 포함하는 원수는 원수탱크(T)에 수용된다. 원수탱크(T)에 저장된 원수는 펌프(P)의 동력에 의하여 멤브레인 모듈(M)로 이동할 수 있다. 멤브레인 모듈(M)로 이동한 원수는 멤브레인 막에 의하여 오염물질이 여과된다. 멤브레인 막에 의해 오염물질이 처리된 처리수는 사용자가 원하는 곳으로 이동할 수 있다. 이때, 멤브레인 모듈(M)의 완결성, 즉, 오염물질을 얼마나 완벽하게 제거했는지 확인하기 위하여 처리수 내 입자를 감시할 필요가 있다. 따라서 처리수 중 일부 샘플을 취득하고, 취득한 샘플 내의 입자를 감지하여 오염물질의 잔여여부를 확인하게 된다.The filtration process according to an embodiment of the present invention may be a membrane separation filtration process, that is, a filtration process using a membrane module. As shown in Fig. 1, raw water including pollutants is contained in a raw water tank T. The raw water stored in the raw water tank (T) can be moved to the membrane module (M) by the power of the pump (P). The raw water moving to the membrane module (M) is filtered by the membrane membrane. The treated water treated with the pollutant by the membrane membrane can be moved to a desired place by the user. At this time, it is necessary to monitor the integrity of the membrane module (M), i.e., the particles in the treated water in order to ascertain how thoroughly the contaminants have been removed. Therefore, some of the treated water is collected, and particles in the obtained sample are detected to check whether the pollutant remains.

본 발명의 일 실시예에 따르면, 샘플 내의 입자를 센싱하기 전에 샘플 내의 기체를 제거하는 공정이 추가된다. 즉, 샘플을 취득하고, 샘플 내에 존재하는 기포를 제거한 다음, 샘플 내의 입자를 센싱하는 것이다. 기포 제거는 탈기부(I)에서 이루어지고, 입자 센싱은 센싱부(F)에서 이루어질 수 있다. 그리고, 탈기부(I) 및 센싱부(F)를 거친 처리수는 외부로 배출될 수 있다.According to one embodiment of the present invention, a process is added to remove gas in the sample prior to sensing the particles in the sample. That is, a sample is obtained, bubbles present in the sample are removed, and then the particles in the sample are sensed. The bubble elimination may be performed in the deaeration section I, and the particle sensing may be performed in the sensing section F. [ The treated water passing through the degassing part I and the sensing part F can be discharged to the outside.

도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 여과수 입자 감시시스템을 나타낸 도면이다. 2 is a diagram illustrating a filtered water particle monitoring system according to an embodiment of the present invention.

도 2에 도시된 바와 같이, 본 발명에 따른 여과수 입자 감시시스템은 탈기부(10), 센싱 및 세척부(20), 표시부(30)를 포함할 수 있다.2, the filtering water particle monitoring system according to the present invention may include a deaerating unit 10, a sensing and washing unit 20, and a display unit 30.

탈기부(10)는 여과수를 수용하며, 여과수 내 기체(미세 기포)를 제거하는 것이다. 여과수는 원수가 여과공정을 거친 것을 말한다. 즉, 여과공정을 거친 여과수 내의 오염물질 잔존여부를 확인하기 전에 여과수 내에서 기체를 제거하는 것이다.The deaeration section 10 receives the filtered water and removes the gas (fine bubbles) in the filtered water. Filtered water refers to the raw water that has undergone a filtration process. That is, the gas is removed from the filtered water before confirming the presence of contaminants in the filtered water after filtration.

여과수 내의 오염물질인 입자가 여과공정을 거친이후에도 여전히 잔존하는지를 확인하기 위하여 센싱부로 이동할 수 있다. 종래 입자 측정방법의 경우, 여과공정상 필연적으로 발생되는 여과수 내의 미세 기포에 의하여 오차가 많이 발생하여, 신뢰도가 크게 저하되었다. 따라서 본 발명은 탈기부(10)를 포함한다. 탈기부는 여과수가 센싱부로 이동하기 전에 여과수 내에 존재하는 미세기포를 제거하여 센싱부에서의 측정 센싱의 결과 오차를 최소화할 수 있다.The particles which are contaminants in the filtrate can be moved to the sensing part to confirm that they still remain after the filtration process. Conventionally, in the case of the particle measuring method, since the fine bubbles in the filtered water necessarily occur in the filtration process, many errors occur and the reliability is significantly lowered. Therefore, the present invention includes a deaeration section (10). The deaeration section can remove minute bubbles present in the filtered water before the filtered water moves to the sensing section, thereby minimizing the error resulting from measurement sensing in the sensing section.

도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 여과수 내에서 기체를 탈기하는 탈기공정을 개략적으로 나타낸 도면이다.FIG. 3 is a schematic view of a degassing process for degassing gas in filtered water according to an embodiment of the present invention. Referring to FIG.

도 3을 참조하여 여과수 내 탈기공정을 설명하면, 먼저 여과공정을 거친 여과수 샘플(sample)이 탈기조(T)로 유입된다. 이때, 탈기조(T)는 여과수가 탈기전 유입되는 유입관(I), 탈기된 여과수가 배출되는 배출관(O), 여과수에서 분리된 기체(A)가 배출되는 탈기관(V) 및 탈기조(T) 내부를 감압하여 여과수에서 기체(A)를 분리하는 탈기펌프(VP)를 포함한다.Referring to FIG. 3, the degassing process in the filtered water will be described. First, a filtered water sample is introduced into the degassing tank T through a filtration process. At this time, the degassing tank (T) includes an inlet pipe (I) through which filtered water is introduced before deaeration, a discharge pipe (O) through which degassed filtered water is discharged, a degassing vessel (V) And a degassing pump VP for decompressing the inside of the filtration tank T and separating the gas A from the filtration water.

도 3의 (1) 공정은 탈기조(T) 내부로 여과수 샘플이 유입되는 것을 나타낸 것이다. 이때, 유입관(I)은 개방되고, 배출관(O) 및 탈기관(V)은 폐쇄된다. 이때, 탈기펌프(VP)가 동작하며 탈기조(T) 내부를 감압하게 된다. 탈기조(T)가 감압되면, 여과수 내에 존재하던 기체(A)가 여과수로부터 분리된다. 도 3의 (2) 공정은 탈기펌프(VP)에 의해 탈기조(T)가 감압되어 여과수 내의 기체(A)가 분리되는 것을 나타낸 것이다. 이때, 유입관(I), 배출관(O), 및 탈기관(V)은 모두 폐쇄된다.The process (1) in FIG. 3 shows that the filtered water sample flows into the degassing tank T. At this time, the inlet pipe I is opened, and the outlet pipe O and the degassing vessel V are closed. At this time, the degassing pump VP operates and the inside of the degassing tank T is decompressed. When the degassing tank T is depressurized, the gas A present in the filtered water is separated from the filtered water. The process (2) in FIG. 3 shows that the degassing tank T is decompressed by the degassing pump VP to separate the gas A in the filtered water. At this time, the inlet pipe (I), the outlet pipe (O), and the degassing vessel (V) are all closed.

도 3의 (3) 공정은 탈기펌프(VP)가 탈기조(T) 내부의 압력을 높이면서 여과수에서 분리된 기체(A)를 탈기관(V)을 통해 외부로 배출하는 것을 나타낸다. 이때, 유입관(I) 및 배출관(O)는 폐쇄되고, 탈기관(V)만 개방된다. 도 3의 (4) 공정은 탈기를 마친 여과수가 배출관(O)을 통해 배출되는 것을 나타낸다. 이때, 유입관(I) 및 탈기관(V)은 폐쇄되고, 배출관(O)만 개방된다. 이렇게 여과수 내의 기체(A)가 여과수로부터 분리되어 배출되고, 입자 감지를 위해서 기체(A)가 제거된 여과수를 얻을 수 있게 된다.3 shows that the degassing pump VP discharges the gas A separated from the filtrate water to the outside through the degassing vessel V while increasing the pressure inside the degassing tank T. [ At this time, the inlet pipe I and the outlet pipe O are closed, and only the degassing vessel V is opened. The process (4) in FIG. 3 shows that the filtered water after the degassing is discharged through the discharge pipe (O). At this time, the inlet pipe I and the degassing vessel V are closed, and only the outlet pipe O is opened. Thus, the gas A in the filtered water is separated and discharged from the filtered water, and the filtered water in which the gas A is removed for particle detection can be obtained.

다시 도 2로 돌아와 본 발명의 일 실시예에 따른 탈기부를 구체적으로 설명한다. 본 발명에 따른 탈기부는 수용부(100), 유입라인(200), 제1 밸브(210), 탈기라인(300), 제2 밸브(310), 감압펌프(320), 배출라인(400), 제3 밸브(410)를 포함한다. Referring again to FIG. 2, a degassing unit according to an embodiment of the present invention will be described in detail. The degassing unit according to the present invention includes a receiving unit 100, an inflow line 200, a first valve 210, a degassing line 300, a second valve 310, a decompression pump 320, a discharge line 400, , And a third valve (410).

수용부(100)는 여과공정을 마친 여과수를 수용하는 공간을 제공한다. 수용부(100) 내에서 여과수의 탈기 공정도 진행한다. 멤브레인 모듈을 거치며 오염물질이 제거된 여과수 중의 일부를 수용부(100)에 유입시켜, 여과수 내의 기체를 분리 제거할 수 있다.The receptacle 100 provides a space for receiving filtered water after filtration. The degassing process of the filtered water also proceeds in the accommodating portion 100. A part of the filtered water having the contaminants removed through the membrane module can be introduced into the receiving portion 100, and the gas in the filtered water can be separated and removed.

유입라인(200)은 수용부(100)에 결합되어 여과공정을 마친 여과수가 수용부(100)로 이동하는 통로를 제공한다. 이때 유입라인(200)에는 제1 밸브(210)가 형성된다. The inlet line 200 provides a passage through which the filtered water, which is coupled to the receptacle 100 and is filtered, moves to the receptacle 100. At this time, a first valve 210 is formed in the inflow line 200.

제1 밸브(210)는 유입라인(200)에 형성되어 수용부(100)로 유입되는 여과수의 양을 조절한다. 입자 측정을 위한 여과수가 유입될 수 있도록 제1 밸브(210)를 개방하였다가, 충분한 양의 여과수가 수용부(100)로 유입되면 제1 밸브(210)를 닫는다.The first valve 210 is formed in the inflow line 200 to adjust the amount of filtered water flowing into the receiving unit 100. The first valve 210 is opened to allow filtered water for particle measurement to flow and the first valve 210 is closed when a sufficient amount of filtered water flows into the receiving portion 100.

탈기라인(300)은 수용부(100)에 결합되고, 수용부(100) 내의 수용된 여과수로부터 분리된 기체를 배출하게 된다. 이때, 여과수로부터 기체를 분리하는 공정은 탈기라인(300)에 결합된 감압펌프(320)에 의하여 진행된다. 감압펌프(320)는 수용부(100) 내의 압력을 낮춤으로써, 여과수와 기체를 분리하게 된다. 이렇게 분리된 기체는 탈기라인(300)을 통해 외부로 배출될 수 있다.The degassing line 300 is coupled to the receiving portion 100 and discharges gas separated from the filtered water contained in the receiving portion 100. At this time, the process of separating the gas from the filtered water is performed by the decompression pump 320 coupled to the degassing line 300. The decompression pump 320 separates the filtered water and the gas by lowering the pressure in the accommodating portion 100. The separated gas can be discharged to the outside through the degassing line 300.

제2 밸브(310)는 탈기라인(300)에 결합되어 기체의 배출을 조절하게 된다. 제2 밸브(310)의 개방으로 기체는 외부로 배출될 수 있다. 기체가 배출되는 과정은 앞서 도 3의 설명에서 있듯이, 감압펌프(320)가 수용부(100) 내부의 압력을 낮추어 여과수에서 기체를 분리하고, 분리된 기체를 제2 밸브(310)를 개방함으로써 외부로 배출하는 것이다. 이때, 수용부(100)로 여과수가 유입되는 유입라인(200)과 수용부(100)에서 여과수가 배출되는 배출라인(400)은 각각 제1 밸브(210) 및 제3 밸브(410)에 의하여 폐쇄된다.The second valve 310 is coupled to the degassing line 300 to regulate the evacuation of the gas. With the opening of the second valve 310, the gas can be discharged to the outside. 3, the decompression pump 320 lowers the pressure inside the container 100 to separate the gas from the filtered water, and opens the separated gas to open the second valve 310 And discharging it to the outside. The inflow line 200 through which the filtered water flows into the receiving part 100 and the discharge line 400 through which the filtered water is discharged from the receiving part 100 are separated by the first valve 210 and the third valve 410, Lt; / RTI >

배출라인(400)은 수용부(100)에 결합되어, 기체가 분리된 여과수가 배출되는 것이다. 이러한 배출라인(400)은 직접 센싱부와 연결되어 배출된 여과수는 센싱부로 유입될 수 있다. The discharge line 400 is coupled to the accommodating portion 100, and the filtered water from which the gas is separated is discharged. The discharge line 400 may be directly connected to the sensing unit, and the discharged filtered water may be introduced into the sensing unit.

배출라인(400)에는 제3 밸브(410)가 결합되어 있다. 제3 밸브(410)의 개방을 통하여 수용부(100)에서 기체가 분리된 여과수가 센싱부로 이동할 수 있다. 이때, 유입라인(200)과 탈기라인(300)은 각각 제1 밸브(210) 및 제2 밸브(310)에 의해 폐쇄된다.A third valve 410 is coupled to the discharge line 400. The filtered water separated from the receiving portion 100 through the opening of the third valve 410 can be moved to the sensing portion. At this time, the inflow line 200 and the degassing line 300 are closed by the first valve 210 and the second valve 310, respectively.

탈기부의 수용부(100) 내에는 감압을 통한 탈기를 위한 적정량의 여과수가 유입되어야 한다. 수용부(100) 내에 여과수가 너무 많이 유입되어 수용부(100)가 가득 채워지게 되면 감압에 의한 탈기가 제대로 이루어지지 않는다. 따라서 수용부(100) 내에는 적정량의 여과수가 유입되어 수용되는 것이 바람직하다.An appropriate amount of filtered water for the degassing through the reduced pressure should be introduced into the receiving portion 100 of the deaeration portion. If too much filtered water flows into the accommodating portion 100 and the accommodating portion 100 is filled up, degassing due to reduced pressure is not properly performed. Therefore, it is preferable that a proper amount of filtered water is introduced into the accommodating portion 100 and accommodated therein.

만약, 수용부(100) 내에 적정량의 여과수보다 많은 양의 여과수가 유입되면 일정량을 외부로 배출하여 적정량의 여과수를 유지하는 것이 중요하다. 따라서 본 발명의 일 실시예에서는 수용부(100)에 결합되어 적정량보다 많은 양의 여과수가 유입되면 이를 외부로 배출하여 수용부(100) 내에 적정량의 여과수를 유지하는 여과수 일정량 유지라인(미도시)을 더 포함할 수 있다. If a larger amount of filtered water flows into the accommodating portion 100 than an appropriate amount of filtered water, it is important to discharge a predetermined amount to the outside and maintain a proper amount of filtered water. Therefore, in an embodiment of the present invention, when a larger amount of filtered water than the proper amount is introduced into the receiving part 100, the filtered water holding line (not shown) for discharging the filtered water to the outside and holding a proper amount of filtered water in the receiving part 100, As shown in FIG.

또한, 탈기부는 잔존여과수 배출부(500) 및 잔존여과수 배출조절 밸브(510)를 더 포함할 수 있다. 탈기된 다음 센싱부로 이동하지 않고 수용부(100)에 잔존하는 여과수는 외부로 배출하여 수용부(100) 내를 비울 수 있다. 수용부(100)를 비우는 배출공정을 통하여 이후에 진행되는 다른 여과수의 탈기공정 및 센싱공정의 신뢰 정확도를 향상시킬 수 있다. 즉, 여과수 샘플의 탈기 공정 및 센싱공정이 마무리되면 수용부(100) 내의 여과수를 모두 배출하여 수용부(100) 내부를 비우고, 다음 공정 진행을 준비할 수 있는 것이다.In addition, the deaeration section may further include residual filtrate discharge section 500 and residual filtrate discharge control valve 510. The filtered water remaining in the accommodating portion 100 can be discharged to the outside and emptied in the accommodating portion 100 without moving to the sensing portion after the degassing. It is possible to improve the reliability of the deaeration process and the sensing process of the other filtered water to be performed later through the discharging process of emptying the receiving portion 100. [ That is, when the degassing process and the sensing process of the filtered water sample are completed, all the filtered water in the accommodating portion 100 is discharged to empty the accommodating portion 100 and prepare for the next process.

센싱 및 세척부(20)는 센싱부(600) 및 세척부를 함께 포함한다. 센싱부(600)는 탈기부와 연결된다. 자세하게는 탈기부의 배출라인(400)과 직접 연결되어 기체가 분리된 여과수가 배출라인(400)을 타고 유입된다. 센싱부(600)는 탈기부와 연결되어, 탈기부를 거치며 탈기된 여과수 내의 잔존하는 입자를 센싱하게 된다. The sensing and cleaning unit 20 includes a sensing unit 600 and a cleaning unit. The sensing unit 600 is connected to the deaeration unit. In detail, the filtered water, which is directly connected to the discharge line 400 of the degassing part, is separated from the gas and flows through the discharge line 400. The sensing unit 600 is connected to the degassing unit, and senses the remaining particles in the degassed filtered water through the degassing unit.

도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 여과수 내 입자를 센싱하는 센싱부를 나타낸 도면이다. 이때, 센싱부는 측정셀(610), 광원(620), 광검출기(630) 및 렌즈부(640)를 포함한다. 4 is a view illustrating a sensing unit for sensing particles in the filtered water according to an embodiment of the present invention. At this time, the sensing unit includes a measurement cell 610, a light source 620, a photodetector 630, and a lens unit 640.

측정셀(610)은 탈기부를 거친 여과수가 이동하는 통로를 제공한다. 측정셀(610)을 이동하는 여과수는 광원(620) 및 광검출기(630)에 의하여 입자가 잔존하는지가 파악될 수 있다. 광원은 측정셀(610)을 이동하는 여과수에 광을 조사한다. 이때 광원(620)은 레이저 광원으로서 레이저를 조사할 수 있다. 레이저는 직진성이 뛰어나 입자 검출에 용이하다. 그리고 광검출기(630)는 광센서를 포함한다. 광센서는 여과수 내 존재하는 입자에 의하여 발생하는 그림자를 포착하게 된다. The measuring cell 610 provides a passage through which the filtered water passes through the degassing section. The filtered water traveling through the measurement cell 610 can be grasped by the light source 620 and the photodetector 630 to determine whether particles remain. The light source irradiates light to the filtered water moving through the measurement cell 610. At this time, the light source 620 can irradiate a laser as a laser light source. The laser has excellent linearity and is easy to detect particles. And the photodetector 630 includes an optical sensor. The optical sensor captures shadows generated by particles present in the filtered water.

그리고, 도 5는 본 발명의 일 실시예에 따라 측정셀을 지나는 여과수 내의 입자가 감지되는 것을 나타낸 도면이다.5 is a diagram illustrating the detection of particles in filtered water passing through a measurement cell in accordance with an embodiment of the present invention.

도 4 및 도 5를 참조하면, 본 발명에 따른 센싱부는 광원에서 조사된 광(L)이 렌즈부를 거치며 모아지고, 모아진 광은 측정셀을 지나는 여과수(W)를 통과하게 된다. 이때, 여과수(W) 내 입자(P)가 잔존하게 되면, 잔존하는 입자(P)에 의하여 광검출기(LS)에서 그림자(S)가 검출될 수 있다. 검출된 그림자(S)를 통하여 입자의 존재를 파악할 수 있다. 즉, 광검출기(LS)는 광센서로 그림자를 측정하고, 측정된 그림자를 전기적인 신호 펄스로 변환한다. 그리고 광검출기(LS)는 변환된 신호 펄스로부터 입자의 크기와 개수를 산출하는 포토존 방식에 의하여 상기 여과수 내의 입자 유무를 파악할 수 있다.4 and 5, the sensing unit according to the present invention collects the light L emitted from the light source through the lens unit, and the collected light passes through the filtered water W passing through the measurement cell. At this time, when the particles P remain in the filtered water W, the shadow S can be detected by the photodetector LS by the remaining particles P. The existence of the particles can be grasped through the detected shadow (S). That is, the photodetector LS measures shadows with an optical sensor and converts the measured shadows into electrical signal pulses. Then, the photodetector LS can grasp the presence or absence of particles in the filtered water by a photo-zone method that calculates the size and number of particles from the converted signal pulse.

도 2로 다시 돌아가 설명하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 여과수 입자 감지시스템은 표시부(30)를 더 포함한다. 표시부(30)는 센싱부와 전기적으로 연결되어 센셍부로부터 입자 정보를 제공받고, 이를 모니터 등으로 표시하게 된다. 여과수 내의 입자 정보를 실시간으로 제공해 줌으로써, 여과 공정의 완결성을 실시간으로 체크해 볼 수 있는 것이다.Referring again to FIG. 2, the filtered water particle detection system according to an embodiment of the present invention further includes a display unit 30. The display unit 30 is electrically connected to the sensing unit, receives particle information from the sensing unit, and displays the particle information on a monitor or the like. By providing particle information in the filtered water in real time, it is possible to check the completeness of the filtration process in real time.

본 발명에 따른 센싱부는 실시간 데이터 연산처리 프로그램을 포함함으로써, 광검출기로부터의 정보를 실시간으로 처리할 수 있다. 또한, 실시간 데이터 연산처리 프로그램은 여과수를 통과한 광으로부터 노이즈를 분리하고, 노이즈가 분리된 입자정보를 증폭하여 안정적 신호로 출력할 수 있다. 즉 실시간 데이터 연산처리 프로그램은 광검출기에서 측정된 미세전류를 증폭하는 과정에서 발생하는 노이즈와 입력신호를 분리하고, 정확한 측정값을 출력할 수 있따. 이때 출력된 신호는 표시부(30)로 전달되고, 표시부(30)는 이를 전달받아 이를 모니터 등에 표시하여 사용자가 실시간으로 이를 확인해 볼 수 있다. The sensing unit according to the present invention includes a real-time data operation processing program, so that information from the photodetector can be processed in real time. In addition, the real-time data processing program can separate noise from light passing through the filtered water, amplify the noise-separated particle information, and output it as a stable signal. That is, the real-time data processing program can separate the noise and the input signal generated during the amplification of the microcurrent measured by the photodetector and output the accurate measurement value. At this time, the output signal is transmitted to the display unit 30, and the display unit 30 receives the signal and displays it on a monitor or the like so that the user can check it in real time.

본 발명에 따른 여과수 입자 감시시스템은 세척부를 더 포함할 수 있다.The filtered water particle monitoring system according to the present invention may further include a washing unit.

세척부는 센싱부에 결합되어 센싱부를 세척하게 된다. 센싱부는 측정셀을 통과하는 여과수 내의 오염물질(입자)에 의하여 오염이 발생할 수 있다. 이러한 측정셀의 오염은 측정값의 오차를 발생시킬 수 있다. 따라서 본 발명에 따른 여과수 입자 감시시스템은 측정셀을 주기적으로 세척해 줄 수 있는 세척부를 더 포함한다. 세척부는 측정셀을 주기적으로 자동으로 세척함으로써, 사용자의 편의성을 증진시키고, 측정의 신뢰도를 크게 향상시킬 수 있다.The cleaning unit is coupled to the sensing unit to clean the sensing unit. The sensing part may be contaminated by contaminants (particles) in the filtered water passing through the measuring cell. Such contamination of the measuring cell can cause an error in the measured value. Therefore, the filtered water particle monitoring system according to the present invention further includes a cleaning unit that can periodically clean the measurement cell. The cleaning unit can automatically clean the measuring cell periodically, thereby improving the convenience of the user and greatly improving the reliability of the measurement.

세척부는 저장탱크(700) 및 세정액 펌프(800)를 포함한다. 저장탱크(700)는 측정셀을 산세정하기 위한 산세정액을 저장한다. 그리고, 세정액 펌프(800)는 이러한 산세정액을 측정셀로 유입시키는 동력을 제공한다. 즉, 세정액 펌프(800)는 산세정액을 저장탱크(700)로부터 끌어내고 이를 센싱부로 통과시키는 동력을 제공함으로써 산세정액이 센싱부를 세정하게 할 수 있다.The cleaning section includes a storage tank 700 and a cleaning liquid pump 800. The storage tank 700 stores a pickling solution for pickling the measurement cell. Then, the washer fluid pump 800 provides the power for introducing the pickling fluid into the measuring cell. That is, the cleaning liquid pump 800 can draw the acid cleaning liquid from the storage tank 700 and provide the power to pass the acid cleaning liquid through the sensing unit, thereby allowing the pickling liquid to clean the sensing unit.

세척부에는 세척부로부터 산세정액이 유출되는 유출라인과 이러한 산세정액의 유출을 조절하는 유출밸브(710) 및 센싱부의 세척을 마친 산세정액이 유입되는 유입라인과 이러한 유입라인에 결합되어 유입량을 조절하는 유입밸브(720)가 결합되어 있다. 이러한 구성을 통하여 센싱부의 세척에 사용된 산세정액을 재사용할 수 있게 된다.The washing unit includes an outflow line through which the acid washing liquid flows out from the washing unit, an outflow valve 710 that controls the outflow of the acid washing liquid, an inflow line through which the pickled washing liquid is sent, The inlet valve 720 is connected. With this configuration, it is possible to reuse the acid cleaning liquid used for cleaning the sensing unit.

도 2에서 보는 바와 같이, 탈기부를 거치며 탈기된 여과수는 측정셀을 정방향으로 통과하며 여과수내 입자가 측정될 수 있다. 이와는 반대방향으로 산세정액은 측정셀을 통과하면서 측정셀을 세척하게 된다. 측정셀의 세척시 여과수의 입자 측정은 잠시 멈춘다. 즉 세척시에는 제3 밸브(410)는 잠겨진 상태가 되고 센싱부로의 여과수의 유입은 멈추게 된다. As shown in FIG. 2, the degassed filtered water passing through the degassing section passes through the measuring cell in the positive direction, and the particles in the filtered water can be measured. In the opposite direction, the acid scrubbing liquid passes through the measuring cell and cleans the measuring cell. During the washing of the measuring cell, the particle measurement of the filtered water stops for a while. That is, the third valve 410 is in a locked state during the washing, and the inflow of the filtered water to the sensing unit is stopped.

그리고 입자의 센싱을 마친 여과수는 배출관(DL)으로 배출된다. 이때 센싱을 마친 여과수의 배출은 배출관밸브(730)에 의하여 조절될 수 있다. After the sensing of the particles, the filtered water is discharged to the discharge pipe (DL). At this time, the discharge of the sensed filtered water can be controlled by the discharge pipe valve 730.

본 발명의 보호범위가 이상에서 명시적으로 설명한 실시예의 기재와 표현에 제한되는 것은 아니다. 또한, 본 발명이 속하는 기술분야에서 자명한 변경이나 치환으로 말미암아 본 발명의 보호범위가 제한될 수도 없음을 다시 한 번 첨언한다.The scope of protection of the present invention is not limited to the description and the expression of the embodiments explicitly described in the foregoing. It is again to be understood that the scope of protection of the present invention can not be limited by obvious alterations or permutations of the present invention.

T: 원수탱크
P: 펌프
M: 멤브레인 모듈
I: 탈기부
F: 센싱부
10: 탈기부
20: 센싱 및 세척부
30: 표시부
100: 수용부
200: 유입라인
210: 제1 밸브
300: 탈기라인
310: 제2 밸브
320: 감압펌프
400: 배출라인
410: 제3 밸브
500: 잔존여과수 배출부
510: 잔존여과수 배출조절 밸브
600: 센싱부
610: 측정셀
620: 광원
630: 광검출기
640: 렌즈부
700: 저장탱크
800: 세정액 펌프
DL: 배출관
T: 탈기조
I: 유입관
O: 배출관
V: 탈기관
VP: 탈기펌프
A: 기체
W: 여과수
L: 레이저광
P: 입자
S: 그림자
LS: 광검출기
T: raw water tank
P: Pump
M: Membrane module
I:
F: sensing unit
10:
20: sensing and cleaning unit
30:
100:
200: Inflow line
210: first valve
300: degassing line
310: second valve
320: Pressure reducing pump
400: discharge line
410: third valve
500: Residual filtered water discharge portion
510: Residual filtrate discharge control valve
600: sensing part
610: Measurement cell
620: Light source
630: Photodetector
640:
700: Storage tank
800: Cleaning fluid pump
DL: discharge pipe
T: Melting base
I: inlet pipe
O: discharge pipe
V: degranulation
VP: Deaeration pump
A: Gas
W:
L: laser light
P: Particle
S: Shadow
LS: Photodetector

Claims (8)

여과공정을 거친 여과수 내의 입자 유무를 측정하는 여과수 입자 감시시스템으로서,
여과수를 수용하며, 상기 여과수 내의 기체를 탈기하는 탈기부; 및
상기 탈기부와 연결되며, 상기 탈기부를 거치며 탈기된 여과수가 유입되어 상기 탈기된 여과수 내의 입자를 센싱하는 센싱부를 포함하는 것을 특징으로 하는 여과수 입자 감시시스템.
A filtering water particle monitoring system for measuring the presence or absence of particles in filtration water through filtration,
A deaeration section for receiving the filtered water and for degassing the gas in the filtered water; And
And a sensing unit connected to the deaeration unit and sensing debris from the deaerated filtered water through the deaerated filtered water through the deaeration unit.
제1항에 있어서,
상기 센싱부에 연결되어, 상기 센싱부로부터 센싱된 입자 정보를 전달받고, 상기 입자 정보를 표시하는 표시부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 여과수 입자 감시시스템.
The method according to claim 1,
And a display unit connected to the sensing unit to receive the sensed particle information from the sensing unit and display the particle information.
제1항에 있어서,
상기 탈기부는,
상기 여과수를 수용하는 수용부;
상기 수용부에 결합되어, 상기 수용부 내로 상기 여과수를 유입할 수 있는 유입라인;
상기 유입라인에 결합되어, 상기 수용부로 상기 여과수의 유입을 조절하는 제1 밸브;
상기 수용부에 결합되어, 상기 수용부내에 수용된 상기 여과수로부터 분리된 기체가 배출되는 탈기라인;
상기 탈기라인에 결합되어, 상기 기체의 배출을 조절하는 제2 밸브;
상기 탈기라인에 결합되어, 상기 수용부 내부의 압력을 감압하여 상기 여과수로부터 기체를 분리시키는 감압펌프;
상기 수용부에 결합되어, 상기 기체가 분리된 여과수가 배출되는 배출라인; 및
상기 배출라인에 결합되어, 상기 수용부로부터 배출되는 여과수의 배출을 조절하는 제3 밸브를 포함하는 것을 특징으로 하는 여과수 입자 감시시스템.
The method according to claim 1,
The de-
A receiving portion for receiving the filtered water;
An inlet line coupled to the receiving portion and capable of introducing the filtered water into the receiving portion;
A first valve coupled to the inflow line and regulating inflow of the filtered water into the receiver;
A degassing line coupled to the accommodating portion and discharging a gas separated from the filtered water accommodated in the accommodating portion;
A second valve coupled to the degassing line to regulate the evacuation of the gas;
A decompression pump coupled to the degassing line for decompressing the pressure inside the accommodating portion to separate the gas from the filtered water;
A discharge line coupled to the receiving portion, through which the filtered water separated from the gas is discharged; And
And a third valve coupled to the discharge line for controlling the discharge of the filtered water discharged from the receiving portion.
제2항에 있어서,
상기 센싱부는,
상기 탈기부를 거친 여과수가 이동하는 측정셀;
상기 측정셀을 이동하는 상기 여과수에 광을 조사하는 광원; 및
상기 여과수를 통과한 광을 검출하여 상기 여과수 내의 입자 유무를 파악하는 광검출기를 포함하는 것을 특징으로 하는 여과수 입자 감시시스템.
3. The method of claim 2,
The sensing unit includes:
A measurement cell through which the filtered water passes through the deaeration section;
A light source for irradiating light to the filtered water moving in the measuring cell; And
And a photodetector for detecting the light passing through the filtered water and determining the presence or absence of the particles in the filtered water.
제4항에 있어서,
상기 광원은 레이저 광원이고,
상기 광검출기는 상기 여과수 내의 입자에 의해 발생하는 그림자를 측정하는 광센서를 포함하는 것을 특징으로 하는 여과수 입자 감시시스템.
5. The method of claim 4,
Wherein the light source is a laser light source,
Wherein the photodetector comprises a photosensor for measuring shadows generated by particles in the filtered water.
제4항에 있어서,
상기 센싱부에 결합되어, 상기 센싱부를 세척하는 세척부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 여과수 입자 감시시스템.
5. The method of claim 4,
And a cleaning unit coupled to the sensing unit to clean the sensing unit.
제6항에 있어서,
상기 세척부는,
산세정액을 저장하는 저장탱크; 및
상기 저장탱크에 결합되어 상기 산세정액을 상기 측정셀로 유입시키는 세정액펌프를 포함하는 것을 특징으로 하는 여과수 입자 감시시스템.
The method according to claim 6,
The cleaning unit includes:
A storage tank for storing pickling liquid; And
And a cleaning liquid pump coupled to the storage tank for introducing the acid cleaning liquid into the measurement cell.
제4항에 있어서,
상기 센싱부는 실시간 데이터 연산처리 프로그램을 포함하고,
상기 실시간 데이터 연산처리 프로그램은 상기 여과수를 통과한 광으로부터 노이즈를 분리하고,, 상기 노이즈가 분리된 입자 정보를 증폭하는 것을 특징으로 하는 여과수 입자 감시시스템.
5. The method of claim 4,
Wherein the sensing unit includes a real-time data operation processing program,
Wherein the real-time data processing program separates noise from the light passing through the filtered water, and amplifies the noise-separated particle information.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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KR20080038151A (en) * 2005-07-15 2008-05-02 바이오비질런트 시스템즈 인코포레이티드 Pathogen and particle detector system and method
KR20120032148A (en) * 2010-09-28 2012-04-05 주식회사 한국에이티아이 The micro particle sizing & counter system for improving filtration efficiency of water treatment plant

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