KR20170122644A - Methods for Producing Optically Anisotropic Polymer Films, Organic EL Display Devices and Liquid Crystal Display Devices - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은 유기EL표시장치, 액정표시장치 등의 표시장치에 사용되는 광학이방성 고분자막의 제조 방법과 광학이방성 고분자막을 사용한 유기EL표시장치 및 액정표시장치의 제조 방법에 관한 것이다. The present invention relates to a method of manufacturing an optically anisotropic polymer membrane used in a display device such as an organic EL display device or a liquid crystal display device, and an organic EL display device using the optically anisotropic polymer film and a method of manufacturing the liquid crystal display device.
유기EL표시장치, 액정표시장치 등의 표시장치에서는 편광 필름, 위상차 필름, 시야각 향상 필름, 휘도 향상 필름 등의 광학이방성 고분자막('광학이방성 필름'이라고도 불린다)이 사용되고 있다. 종래 이와 같은 광학이방성 고분자막의 제조 방법으로는 연신법, 러빙법, 광배향법 등의 다양한 배향 제어 방법이 일반적으로 이용되어 왔다. BACKGROUND ART In display devices such as an organic EL display device and a liquid crystal display device, an optically anisotropic polymer film (also referred to as an " optically anisotropic film ") such as a polarizing film, a retardation film, a viewing angle improving film and a luminance improving film is used. Conventionally, various orientational control methods such as a stretching method, a rubbing method, and a photo alignment method have been generally used as a method for producing such an optically anisotropic polymer film.
연신법에서는 폴리카보네이트 수지 등의 고분자 재료를 연신함으로써 고분자 사슬이 연신 방향으로 배향된 고분자막을 얻을 수 있다. 연신법은 제조가 용이하지만 고분자 사슬의 배향 방향과 연신 방향이 일치하지 않는 경우가 있다. In the stretching method, a polymer material such as a polycarbonate resin is stretched to obtain a polymer film in which the polymer chains are oriented in the stretching direction. Although the stretching method is easy to manufacture, there are cases where the orientation direction of the polymer chains and the stretching direction do not coincide with each other.
러빙법에서는 폴리이미드 등의 배향막을 러빙 처리한 후 배향막 상에 중합성 액정 화합물을 도포하여 중합시킴으로써 고분자 사슬이 일방향으로 배향된 고분자막을 얻을 수 있다. 그러나 러빙법은 러빙 처리한 배향막이 필요하고, 러빙 처리에 기인한 문제(예를 들면 먼지가 발생하거나, 정전기 발생에 의해 고분자막에 이물이 부착되기 쉬워지거나, 배향 결함이 발생하는 일도 있다)도 발생하기 쉽다. In the rubbing method, a polymer film in which polymer chains are oriented in one direction can be obtained by rubbing an orientation film such as polyimide and then polymerizing the polymerizable liquid crystal compound on the alignment film. However, the rubbing method requires a rubbed orientation film, and it also causes a problem caused by the rubbing process (for example, dust may be generated, foreign matter tends to adhere to the polymer film due to static electricity, or alignment defects may occur) easy to do.
광배향법에서는 광반응성 화합물(광 조사에 의해 광이성화, 광이중화, 광분해 등을 일으키는 화합물)을 사용하여 광배향막을 형성한 후 광배향막 상에 중합성 액정 조성물을 도포하여 중합시킴으로써 고분자 사슬이 일방향으로 배향된 고분자막을 얻을 수 있다. 광배향법은 러빙 처리에 기인한 문제가 발생하지 않지만 광배향막을 사용할 필요가 있다. In the photo alignment method, a photo alignment layer is formed using a photoreactive compound (a compound causing photoisomerization, optical duplication, photodecomposition or the like by light irradiation), and then a polymerizable liquid crystal composition is coated on the photo alignment layer and polymerized to polymerize the polymer chain in one direction Can be obtained. The photo alignment method does not cause a problem due to the rubbing treatment, but it is necessary to use a photo alignment film.
따라서 상기 배향 제어 방법의 문제를 해결할 방법으로서 근년 동적인 광중합을 수행함으로써 고분자 사슬의 배향을 제어하는 기술(이하, '동적 광중합법'이라고 한다)이 제안되었다(예를 들면 특허문헌 1). 동적 광중합법은 배향막을 사용할 필요가 없기 때문에 러빙법 및 광배향법에 비교하여 고분자막이 일방향으로 배향된 고분자막을 간이하고 또한 효율적으로 제조할 수 있다. Therefore, as a method for solving the problem of the orientation control method, a technique of controlling the orientation of the polymer chain (hereinafter referred to as "dynamic photopolymerization") by performing dynamic photopolymerization in recent years has been proposed (for example, Patent Document 1). In the dynamic photopolymerization method, since it is not necessary to use an orientation film, a polymer film in which the polymer film is oriented in one direction can be manufactured simply and efficiently as compared with the rubbing method and the photo alignment method.
그러나 동적 광중합법에 사용되는 재료(광중합성 조성물)는 광중합반응 시 주위 공기 중의 산소의 영향을 받기 쉽기 때문에 셀 내에서 광중합반응을 수행하거나 또는 불활성 분위기 하에서 광중합반응을 수행할 필요가 있었다. 또한 동적 광중합법은 노광부(露光部)를 연속적으로 변화시키면서 수행하기 때문에 광중합성 조성물의 경화(광중합반응)가 불충분해지는 일이 있어, 고분자막이 백탁화되는 경우도 있다. However, since the material (photopolymerizable composition) used in the dynamic photopolymerization method is susceptible to oxygen in ambient air during the photopolymerization reaction, it has been necessary to perform a photopolymerization reaction in the cell or a photopolymerization reaction under an inert atmosphere. In addition, the dynamic photopolymerization method is performed while continuously changing the exposure part, so that the curing (photopolymerization reaction) of the photopolymerizable composition may be insufficient, and the polymer film may be clouded in some cases.
본 발명은 상기와 같은 문제를 해결하기 위해 이루어진 것으로, 주위 분위기에 영향을 받지 않고 공기 중에서도 광중합반응을 수행할 수 있고, 더욱이 미경화 및 백탁화가 일어나기 힘든 광학이방성 고분자막의 제조 방법과 당해 특성을 갖는 광학이방성 고분자막을 사용한 유기EL표시장치 및 액정표시장치의 제조 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다. SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above-mentioned problems, and it is an object of the present invention to provide a process for producing an optically anisotropic polymer membrane capable of performing a photopolymerization reaction in the air without being affected by the ambient atmosphere, And an object of the present invention is to provide an organic EL display device using an optically anisotropic polymer film and a manufacturing method of the liquid crystal display device.
본 발명자들은 상기 문제를 해결하기 위해 예의 연구를 거듭한 결과, 메소겐기를 갖는 단관능성 옥세탄 화합물과, 2관능성 옥세탄 화합물 및/또는 계면활성제를 포함한 광중합성 조성물이, 동적 광중합법에 사용되는 재료로서 특히 적합한 것을 발견하고 본 발명을 완성하는데 이르렀다. As a result of diligent studies to solve the above problems, the present inventors have found that a photopolymerizable composition containing a mesogenic group-containing monofunctional oxetane compound and a bifunctional oxetane compound and / or a surfactant is used for dynamic photopolymerization The present invention has been completed.
즉 본 발명은 메소겐기를 갖는 단관능성 옥세탄 화합물과, 2관능성 옥세탄 화합물 및/또는 계면활성제를 포함한 광중합성 조성물을 기재에 도포하여 도막을 형성하는 공정과, 상기 도막에 대해서 노광부를 연속적으로 변화시키면서 광조사하는 공정을 포함한 것을 특징으로 하는 광학이방성 고분자막의 제조 방법이다. That is, the present invention provides a process for producing a photocurable composition, comprising the steps of: applying a photopolymerizable composition comprising a monofunctional oxetane compound having a mesogen group and a bifunctional oxetane compound and / or a surfactant to a substrate to form a coating film; And irradiating the optically anisotropic polymer film with light.
또한 본 발명은 상기 제조 방법에 의해 얻어진 광학이방성 고분자막을, 편광 필름, 위상차 필름, 시야각 향상 필름 및 휘도 향상 필름으로 이루어지는 그룹에서 선택되는 적어도 1개의 필름으로서 사용하는 것을 특징으로 하는 유기EL표시장치의 제조 방법이다. Further, the present invention relates to an organic EL display device characterized by using the optically anisotropic polymer film obtained by the above production method as at least one film selected from the group consisting of a polarizing film, a retardation film, a viewing angle improving film and a luminance improving film Lt; / RTI >
더욱이 본 발명은 상기 제조 방법에 의해 얻어진 광학이방성 고분자막을, 편광 필름, 위상차 필름, 시야각 향상 필름 및 휘도 향상 필름으로 이루어지는 그룹에서 선택되는 적어도 1개의 필름으로서 사용하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치의 제조 방법이다. Furthermore, the present invention relates to a liquid crystal display device characterized by using the optically anisotropic polymer film obtained by the above-mentioned production method as at least one film selected from the group consisting of a polarizing film, a retardation film, a viewing angle improving film and a luminance improving film Method.
본 발명에 의하면 주위 분위기에 영향을 받지 않고 공기 중에서도 광중합반응을 수행할 수 있고, 더욱이 미경화 및 백탁화가 일어나기 힘든 광학이방성 고분자막의 제조 방법과 당해 특성을 갖는 광학이방성 고분자막을 사용한 유기EL표시장치 및 액정표시장치의 제조 방법을 제공할 수 있다. According to the present invention, there is provided a method of producing an optically anisotropic polymer membrane capable of performing a photopolymerization reaction in the air without being influenced by the ambient atmosphere, and further preventing occurrence of uncured or cloudy white matters, and an organic EL display device using the optically anisotropic polymer membrane A manufacturing method of a liquid crystal display device can be provided.
도 1은 본 발명에 사용되는 동적 광중합법을 설명하기 위한 개략 종단면도이다.
도 2는 광학이방성 고분자막을 위상차 필름으로서 사용한 유기EL표시장치의 개략 종단면도이다.
도 3은 광학이방성 고분자막을 위상차 필름으로서 사용한 액정표시장치의 개략 종단면도이다.1 is a schematic vertical sectional view for explaining a dynamic photopolymerization method used in the present invention.
2 is a schematic vertical sectional view of an organic EL display device using an optically anisotropic polymer film as a retardation film.
3 is a schematic vertical sectional view of a liquid crystal display device using an optically anisotropic polymer film as a retardation film.
본 발명의 광학이방성 고분자막의 제조 방법은, 광중합성 조성물을 기재에 도포하여 도막을 형성하는 공정과, 도막에 대해서 노광부를 연속적으로 변화시키면서 광조사하는 공정을 포함한다. The method for producing an optically anisotropic polymer film of the present invention includes a step of forming a coating film by applying a photopolymerizable composition to a base material and a step of irradiating the coating film with light while continuously changing the exposure part.
광중합성 조성물은 메소겐기를 갖는 단관능성 옥세탄 화합물과, 2관능성 옥세탄 화학물 및/또는 계면활성제를 포함한다. 본 명세서에서 '단관능성 옥세탄 화합물'은 분자 중에 옥세탄기를 1개 갖는 화합물을 의미하고, '2관능성 옥세탄 화합물'은 분자 중에 옥세탄기를 2개 갖는 화합물을 의미한다. The photopolymerizable composition comprises a monofunctional oxetane compound having a mesogen group and a bifunctional oxetane chemical and / or a surfactant. In the present specification, the term "monofunctional oxetane compound" means a compound having one oxetane group in the molecule and "bifunctional oxetane compound" means a compound having two oxetane groups in the molecule.
메소겐기를 갖는 단관능성 옥세탄 화합물은 특별히 한정되지 않고, 당해 기술 분야에서 공지된 것을 사용할 수 있다. 본 명세서에서 '메소겐기'는 액정성을 발현하기 위한 강직성을 갖는 관능기를 의미하고, 일반적으로는 시클로헥산 골격과 벤젠 골격 등의 고리 구조를 갖는다. 메소겐기의 예로는 특별히 한정되지 않지만 벤조산페닐, 비페닐, 시아노비페닐, 테르페닐, 시아노테르페닐, 아조벤젠, 디아조벤젠, 아닐린벤질리덴, 아조메틴, 아족시벤젠, 스틸벤, 페닐시클로헥실, 비페닐시클로헥실, 페녹시페닐, 벤질리덴아닐린, 벤조산벤질, 페닐피리미딘, 페닐디옥산, 벤조일아닐린, 톨란 및 이들의 유도체 등을 들 수 있다. The monofunctional oxetane compound having a mesogen group is not particularly limited and those known in the art can be used. In the present specification, the term "mesogen group" means a functional group having rigidity to exhibit liquid crystallinity, and generally has a cyclic structure such as a cyclohexane skeleton and a benzene skeleton. Examples of mesogens include, but are not limited to, phenyl benzoate, biphenyl, cyanobiphenyl, terphenyl, cyanoterphenyl, azobenzene, diazobenzene, aniline benzylidene, azomethine, azoxybenzene, stilbene, phenylcyclohexyl, Biphenylcyclohexyl, phenoxyphenyl, benzylidene aniline, benzoyl benzoate, phenylpyrimidine, phenyl dioxane, benzoyl aniline, tolan and derivatives thereof.
메소겐기를 갖는 단관능성 옥세탄 화합물은, 옥세탄기와 메소겐기가 알킬렌 사슬 등의 스페이서를 통하여 접속된 구조를 갖는 것이 바람직하다. 그 중에서도 메소겐기를 갖는 단관능성 옥세탄 화합물은 하기의 일반식 (1)로 표현되는 화합물이 바람직하다. The monofunctional oxetane compound having a mesogen group preferably has a structure in which an oxetane group and a mesogen group are connected via a spacer such as an alkylene chain. Among them, the monofunctional oxetane compound having a mesogen group is preferably a compound represented by the following general formula (1).
식 중에서 R1은 수소, 메틸기 또는 에틸기를 나타내고, L1은 (CH2)n-(n은 1 ~ 12의 정수)을 나타내며, X1은 단결합, -O-, -S-, OCH2-, -CH2O-, -CO-, -CH2CH2-, -CF2CF2-, -OCO-, COO-, CH=CH-, CF=CF-, -CH=CH-COO-, -OCO-CH=CH- 또는 C≡C-를 나타내고, M1은 식 (2)로부터 선택되는 기를 나타낸다. L2는 단결합, -O-, -S-, OCH2-, -CH2O-, -CO-, -CH2CH2-, -CF2CF2-, -OCO-, COO-, CH=CH-, CF=CF-, -CH=CH-COO-, -OCO-CH=CH- 또는 C≡C-를 나타내고, M2는 식 (3)으로부터 선택되는 기를 나타낸다.R 1 in formula is a hydrogen, methyl or ethyl, L 1 is (CH 2) n- represents an (n is an integer of 1 ~ 12),
식 (2) 및 (3)에서 Me, Et, nPr, iPr, nBu 및 tBu는 각각 메틸기, 에틸기, 노말프로필기, 이소프로필기, 노말부틸기 및 tert-부틸기를 나타낸다. Me, Et, nPr, iPr, nBu and tBu in the formulas (2) and (3) represent a methyl group, an ethyl group, a normal propyl group, an isopropyl group, a n-butyl group and a tert-butyl group.
상기와 같은 구조를 갖는 단관능성 옥세탄 화합물은, 당해 기술 분야에서 공지된 방법에 의해 제조할 수 있다. 또한 이와 같은 단관능성 옥세탄 화합물은 시판되고 있으므로 시판품을 사용해도 된다. The monofunctional oxetane compound having such a structure can be produced by a method known in the art. Further, since such a monofunctional oxetane compound is commercially available, a commercial product may be used.
2관능성 옥세탄 화합물은 특별히 한정되지 않고, 당해 기술 분야에서 공지된 것을 사용할 수 있다. 2관능성 옥세탄 화합물은, 단관능성 옥세탄 화합물과 동일하게 배향 제어성의 관점에서 액정성을 나타내는 것이 바람직하다. 따라서 2관능성 옥세탄 화합물도 또한 메소겐기를 갖는 것이 바람직하다. 메소겐기를 갖는 2관능성 옥세탄 화합물은, 옥세탄기와 메소겐기가 알킬렌 사슬 등의 스페이서를 통하여 접속된 구조를 갖는 것이 바람직하다. 그 중에서도 메소겐기를 갖는 2관능성 옥세탄 화합물은 하기의 일반식 (4)로 표현되는 화합물이 바람직하다. The bifunctional oxetane compound is not particularly limited and those known in the art can be used. It is preferable that the bifunctional oxetane compound exhibits liquid crystallinity from the viewpoint of orientation control property like the monofunctional oxetane compound. Therefore, the bifunctional oxetane compound also preferably has a mesogen group. The bifunctional oxetane compound having a mesogen group preferably has a structure in which an oxetane group and a mesogen group are connected via a spacer such as an alkylene chain. Among them, the bifunctional oxetane compound having a mesogen group is preferably a compound represented by the following general formula (4).
식 중에서 R1, L1, L2, X1, M1, M2는 상기에서 정의한 대로이고, M3는 식 (5)로부터 선택되는 기를 나타낸다.In the formula, R 1 , L 1 , L 2 , X 1 , M 1 and M 2 are as defined above, and M 3 represents a group selected from the formula (5).
상기와 같은 구조를 갖는 2관능성 옥세탄 화합물은, 당해 기술 분야에서 공지된 방법에 의해 제조할 수 있다. 또한 이와 같은 2관능성 옥세탄 화합물은 시판되고 있으므로 시판품을 사용해도 된다. The bifunctional oxetane compound having such a structure can be prepared by a method known in the art. Such a bifunctional oxetane compound is commercially available, and a commercially available product may be used.
광중합성 조성물에서 단관능성 옥세탄 화합물과 2관능성 옥세탄 화합물의 질량비는 특별히 한정되지 않지만, 바람직하게는 100:0 ~ 85:15, 보다 바람직하게는 99:1 ~ 86:14, 더욱 바람직하게는 98:2 ~ 87:13, 특히 바람직하게는 97:3 ~ 88:12다. 단관능성 옥세탄 화합물의 비율이 너무 적은 경우, 배향 제어성이 저하되는 일이 있다. The mass ratio of the monofunctional oxetane compound and the bifunctional oxetane compound in the photopolymerizable composition is not particularly limited, but is preferably 100: 0 to 85:15, more preferably 99: 1 to 86:14, Is 98: 2 to 87:13, particularly preferably 97: 3 to 88:12. When the proportion of the monofunctional oxetane compound is too small, the orientation controllability may be deteriorated.
계면활성제는 특별히 한정되지 않지만 당해 기술 분야에서 공지된 것을 사용할 수 있다. 그 중에서도 계면활성제는 불소계 계면활성제인 것이 바람직하다. 본 명세서에서 '불소계 계면활성제'는 알킬 사슬 중 수소 원자를 불소 원자로 치환한 계면활성제이고, 일반적으로는 퍼플루오로알킬기를 갖는 계면활성제를 의미한다. 불소계 계면활성제는 시판되고 있으므로 DIC주식회사의 MEGAFACE 시리즈(예를 들면 MEGAFACE R40, F-554, F-563) 등의 시판품을 불소계 계면활성제로서 사용할 수 있다. The surfactant is not particularly limited, but those known in the art can be used. Among them, the surfactant is preferably a fluorine-based surfactant. In the present specification, the term "fluorinated surfactant" means a surfactant in which a hydrogen atom in the alkyl chain is substituted with a fluorine atom, and generally refers to a surfactant having a perfluoroalkyl group. Since a fluorinated surfactant is commercially available, a commercially available product such as MEGAFACE series (for example, MEGAFACE R40, F-554, F-563) of DIC Co., Ltd. can be used as a fluorine surfactant.
광중합성 화합물이 계면활성제를 포함한 경우, 계면활성제의 함유량은 특별히 한정되지 않지만 단관능성 옥세탄 화합물 100 질량부에 대해서 바람직하게는 0.01 질량부 ~ 1 질량부, 보다 바람직하게는 0.02 질량부 ~ 0.9 질량부, 더욱 바람직하게는 0.03 질량부 ~ 0.8 질량부, 특히 바람직하게는 0.04 질량부 ~ 0.7 질량부다. 계면활성제의 함유량이 0.01 질량부 미만이면 계면활성제에 의한 효과를 충분히 얻을 수 없는 경우가 있다. 한편 계면활성제의 함유량이 1 질량부를 초과하면 배향 제어성이 저하되는 일이 있다. When the photopolymerizable compound contains a surfactant, the content of the surfactant is not particularly limited, but is preferably 0.01 part by mass to 1 part by mass, more preferably 0.02 part by mass to 0.9 part by mass with respect to 100 parts by mass of the monofunctional oxetane compound More preferably 0.03 mass parts to 0.8 mass parts, and particularly preferably 0.04 mass parts to 0.7 mass parts. If the content of the surfactant is less than 0.01 part by mass, the effect of the surfactant may not be sufficiently obtained. On the other hand, if the content of the surfactant exceeds 1 part by mass, the orientation controllability may be deteriorated.
광중합성 조성물은 광중합을 효율적으로 진행시키는 관점에서 광중합개시제를 포함할 수 있다. 광중합개시제는 특별히 한정되지 않고 당해 기술 분야에서 공지된 것을 사용할 수 있다. 광중합개시제의 예로서는, San-Apro주식회사의 CPI-100P, CPI-101A, CPI-200K와, 일본 다우케미칼주식회사의 CYRACURE 광경화개시제 UVI-6990, CYRACURE 광경화개시제 UVI-6992, CYRACURE 광경화개시제 UVI-6976과, 주식회사ADEKA의 Adeka Optomer SP-150, Adeka Optomer SP-152, Adeka Optomer SP-170, Adeka Optomer SP-172, Adeka Optomer SP-300과, SANSHIN CHEMICAL INDUSTRY주식회사의 san-aid SI-60L, san-aid SI-80L, san-aid SI-100L, san-aid SI-110L, san-aid SI-180L, san-aid SI-110, san-aid SI-180과, Eye Jiemu Resins사의 Esakyua1064, Esakyua1187(이상, Lamberti사), Omni Cat550과, Ciba Specialty Chemicals주식회사의 Irgacure250 등을 들 수 있다. 이들 중에서도 triarylsulfonium salt 타입의 광산발생제(Photo Acid Generator, 광 양이온 중합개시제)인 CPI-100P 및 CPI-101A가 바람직하다. The photopolymerizable composition may contain a photopolymerization initiator from the viewpoint of efficiently proceeding the photopolymerization. The photopolymerization initiator is not particularly limited and those known in the art may be used. Examples of the photopolymerization initiator include CPI-100P, CPI-101A and CPI-200K of San-Apro Co., Ltd., CYRACURE photo-curing initiator UVI-6990 of Japan Dow Chemical Co., CYRACURE photo-curing initiator UVI- 6992, CYRACURE photo- 6976 and Adeka Optomer SP-150, Adeka Optomer SP-152, Adeka Optomer SP-170, Adeka Optomer SP-172 and Adeka Optomer SP-300 of ADEKA Co., Ltd., and san- aid SI-60L, san of SANSHIN CHEMICAL INDUSTRY Co., San-aid SI-110L, san-aid SI-110L, san-aid SI-110L, san-aid SI-110L, san-aid SI-110L and san Jiemu Resins Co. Esakyua1064, Esakyua1187 , Omni Cat 550, and Irgacure 250 from Ciba Specialty Chemicals, Inc.). Of these, CPI-100P and CPI-101A, which are triacylsulfonium salt photoacid generators (Photo Acid Generator, photo cationic polymerization initiator), are preferred.
광중합성 조성물이 광중합개시제를 포함한 경우, 광중합개시제의 함유량은 특별히 한정되지 않지만 단관능성 옥세탄 화합물 및 임의의 2관능성 옥세탄 화합물의 합계 100 질량부에 대해서 바람직하게는 0.1 질량부 ~ 25 질량부, 보다 바람직하게는 0.3 질량부~ 22 질량부, 더욱 바람직하게는 0.5 질량부 ~ 20 질량부, 특히 바람직하게는 1.0 질량부 ~ 18 질량부다. 광중합개시제의 함유량이 0.1 질량부 미만이면 광중합개시제에 의한 효과를 충분히 얻지 못하는 경우가 있다. 한편 광중합개시제의 함유량이 25 질량부를 초과하면 배향 제어성이 저하되는 일이 있다. When the photopolymerizable composition contains a photopolymerization initiator, the content of the photopolymerization initiator is not particularly limited, but is preferably 0.1 part by mass to 25 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the total amount of the monofunctional oxetane compound and the optional bifunctional oxetane compound More preferably 0.3 part by mass to 22 parts by mass, still more preferably 0.5 part by mass to 20 parts by mass, and particularly preferably 1.0 part by mass to 18 parts by mass. If the content of the photopolymerization initiator is less than 0.1 part by mass, the effect of the photopolymerization initiator may not be sufficiently obtained. On the other hand, if the content of the photopolymerization initiator exceeds 25 parts by mass, the orientation controllability may be deteriorated.
광중합성 조성물은 상기 성분 이외에 본 발명의 효과를 잃지 않는 범위에서 용매, 점도조정제, 가소제, 중합금지제 등 당해 기술 분야에서 공지된 성분을 포함할 수 있다. The photopolymerizable composition may contain, in addition to the above components, components known in the art such as a solvent, a viscosity modifier, a plasticizer, a polymerization inhibitor, and so forth so long as the effect of the present invention is not lost.
상기 성분을 포함한 광중합성 조성물은 당해 기술 분야에서 주지된 방법에 준하여 제조할 수 있다. 구체적으로는 상기 성분을 혼합함으로써 광중합성 조성물을 제조하면 된다. The photopolymerizable composition containing the above components can be prepared according to a method well known in the art. Specifically, the photopolymerizable composition may be prepared by mixing the above components.
이와 같이 해서 얻어진 광중합성 조성물은 광중합반응 시 공기 중 산소의 영향을 받기 어렵기 때문에 공기 중에서도 광중합반응을 수행할 수 있다. 따라서 셀 내에서 광중합반응을 수행하거나 불활성 분위기 하에서 광중합반응을 수행할 필요가 없다. The photopolymerizable composition thus obtained is not susceptible to oxygen in the air during the photopolymerization reaction, so that the photopolymerizable composition can be carried out in air. Therefore, there is no need to perform a photopolymerization reaction in a cell or a photopolymerization reaction under an inert atmosphere.
본 발명의 광학이방성 고분자막의 제조 방법에서는 우선 상기 광중합성 조성물을 기재에 도포하여 도막을 형성한다. In the method for producing an optically anisotropic polymer film of the present invention, the photopolymerizable composition is first applied to a substrate to form a coating film.
기재는 특별히 한정되지 않고 당해 기술 분야에서 공지된 것을 사용할 수 있다. 기재의 예로는 유리 기재, 플라스틱 기재 등을 사용할 수 있다. 특히 본 발명에서는 하기에서 설명하는 동적 광중합법에 의해 배향 제어를 수행하기 때문에 배향 규제력을 부여하기 위한 전처리(예를 들면 배향막 형성, 배향막 러빙 처리 등)를 수행하지 않아도 된다. The substrate is not particularly limited and those known in the art can be used. Examples of the substrate include a glass substrate, a plastic substrate, and the like. In particular, in the present invention, since the alignment control is performed by the dynamic photopolymerization method described below, it is not necessary to perform a pre-treatment (for example, formation of an orientation film, rubbing of an orientation film, etc.) for imparting an alignment restraining force.
광중합성 조성물의 도포 방법은 특별히 한정되지 않지만 당해 기술 분야에서 공지된 방법을 이용할 수 있다. 도포 방법의 예로는 스크린 인쇄, 롤 코터 또는 커튼 코터에 의한 도포, 스프레이 도포, 스핀 코팅 등을 이용할 수 있다. The method of applying the photopolymerizable composition is not particularly limited, but any method known in the art can be used. Examples of the application method include screen printing, roll coating or coating with a curtain coater, spray coating, spin coating, and the like.
기재에 형성하는 도막의 두께는 특별히 한정하지 않고, 목적하는 설계에 따라서 적절히 설정하면 된다. 도막의 일반적인 두께는 0.1 ㎛ ~ 200 ㎛다. The thickness of the coating film formed on the substrate is not particularly limited and may be suitably set according to the intended design. The typical thickness of the coating film is 0.1 to 200 탆.
도막 형성 후 필요에 따라서 도막을 가열하여 건조시켜도 된다. 건조 조건은 특별히 한정되지 않고, 사용할 광중합성 조성물의 종류에 따라서 적절히 조정하면 된다. After the coating film is formed, the coating film may be heated and dried as necessary. The drying conditions are not particularly limited and may be suitably adjusted according to the kind of the photopolymerizable composition to be used.
다음으로 도막에 대해서 노광부를 연속적으로 변화시키면서 광조사하여 광중합반응을 수행한다. 광조사 방법은 동적 광중합법으로 불리는 방법으로, 특허문헌 1(국제공개공보 제2014-038260호)에 기재된 방법에 준하여 수행할 수 있다. 단, 본 발명의 광학이방성 고분자막의 제조 방법에서는 주위 분위기에 영향을 받지 않고 공기 중에서도 광중합반응을 수행할 수 있는 광중합성 조성물을 사용하기 때문에 특허문헌 1과 같이 셀 내에서 광중합반응을 수행하거나 불활성 분위기 하에서 광중합반응을 수행할 필요가 없다. 동적 광중합법을 이용함으로써 대면적으로 배향 영역이 형성된 광학이방성 고분자막을 효율적으로 형성할 수 있다. Next, the photopolymerization reaction is carried out by irradiating the coating film while continuously changing the exposure part. The light irradiation method is a method called a dynamic light polymerization method and can be carried out according to the method described in Patent Document 1 (International Publication No. 2014-038260). However, in the method for producing an optically anisotropic polymer film of the present invention, since a photopolymerizable composition capable of performing a photopolymerization reaction in air is used without being influenced by an ambient atmosphere, a photopolymerization reaction is performed in a cell as in
이하, 동적 광중합법에 대하여 도면을 참조하여 설명한다. Hereinafter, the dynamic photopolymerization method will be described with reference to the drawings.
도 1은 동적 광중합법을 설명하기 위한 개략 종단면도이다. 동적 광중합법을 수행하는데 있어서 기재(1) 상에 형성된 광중합성 조성물의 도막(2)에 빛(L)을 조사하는 광원(3)과, 광원(3)으로부터 조사되는 빛(L)을 차단하는 한편 이동 방향(D)으로 이동시키는 것이 가능한 포토마스크(4)를, 광중합성 조성물의 도막(2) 상방에 배치한다. 그 후 포토마스크(4)를 이동 방향(D)으로 연속적으로 이동시키면서 광중합성 조성물의 도막(2)에 대해서 광조사를 수행함으로써 노광부(A1)를 연속적으로 변화시킨다. 이와 같이 빛(L)을 조사하면 포토마스크(4)에 의해 차광된 차광부(A2)에서는 중합반응이 진행되지 않고 미중합 상태 그대로지만, 노광부(A1)에서는 중합반응이 진행된다. 노광부(A1)에서는 단관능성 옥세탄 화합물의 광중합이 진행되고 단관능성 옥세탄 화합물이 소비되기 때문에, 노광부(A1)와 차광부(A2) 사이에서 도막(2) 중 단관능성 옥세탄 화합물의 농도에 치우침이 생긴다. 그리고 도막(2) 중 단관능성 옥세탄 화합물의 농도에 치우침이 생긴 경우, 물질의 확산 현상에 의해 농도 구배를 해소하는 방향으로 물질 확산이 발생한다. 따라서 노광부(A1)와 차광부(A2)의 경계(S)에서는 농도 구배를 해소하는 방향으로 단관능성 옥세탄 화합물의 확산이 유발되어 차광부(A2)로부터 노광부(A1)로 단관능성 옥세탄 화합물의 흐름이 발생한다. 이와 같이 차광부(A2)로부터 노광부(A1)로 단관능성 옥세탄 화합물의 흐름이 발생하면 그 흐름에 의해 단관능성 옥세탄 화합물에 전단응력이 부가되어, 단관능성 옥세탄 화합물이 노광부(A1)와 차광부(A2)의 경계(S) 근방 영역에서 배향된다. 또한 단관능성 옥세탄 화합물의 이동에 의한 흐름이 발생하는 방향은, 노광부(A1)와 차광부(A2)의 경계(S)에 대해서 대략 수직 방향이 되므로, 단관능성 옥세탄 화합물 및 그 중합물의 분자 사슬(5)의 배향 방향은, 노광부(A1)와 차광부(A2)의 경계(S)에 대해서 대략 수직 방향이 된다. 1 is a schematic vertical sectional view for explaining a dynamic photopolymerization method. In the dynamic photopolymerization method, a
동적 광중합법에서는 포토마스크(4)를 이동 방향(D)으로 연속적으로 이동시키면서 광중합성 조성물의 도막(2)에 대해서 광조사를 수행함으로써, 이동 방향(D)으로 연속적으로 이동하는 경계(S)의 근방 영역에서 단관능성 옥세탄 화합물의 확산에 의한 배향과 광중합을 연속적으로 발생시킬 수 있다. 일단 단관능성 옥세탄 화합물 배향이 시작되면 특유의 자기 조직화힘에 의해 액정에 배향이 촉진되므로 효율적으로 배향 제어를 수행하는 것이 가능해진다. 따라서 동적 광중합법을 이용함으로써 배향 및 광중합이 수행된 영역을 연속적으로 증대시킬 수 있으므로 광학이방성 고분자막을 효율적으로 제조할 수 있다. 또한 배향 방향은 단관능성 옥세탄 화합물의 흐름에 의해 결정되므로, 포토마스크(4) 형상을 제어함으로써 소망하는 방향으로 배향을 제어한 광학이방성 고분자막을 제조할 수 있다. In the dynamic photopolymerization method, by irradiating light onto the
광조사에 사용하는 광원은 특별히 한정되지 않고, 광중합에 이용 가능한 공지된 광원을 사용할 수 있다. 광원의 예로는 고압 수은등, 초고압 수은등, 저압 수은등, 메탈 핼라이드 램프, LED 램프 등을 들 수 있다. The light source used for light irradiation is not particularly limited, and a known light source usable for light polymerization can be used. Examples of the light source include a high-pressure mercury lamp, an ultra-high-pressure mercury lamp, a low-pressure mercury lamp, a metal halide lamp, and an LED lamp.
광조사 시 조사 강도는 도막(2)의 종류 및 두께 등 조건에 따라서 설정하면 되고 특별히 한정되지 않지만, 바람직하게는 5 mW/㎠ 초과, 보다 바람직하게는 10 mW/㎠ ~ 500 mW/㎠, 더욱 바람직하게는 30 mW/㎠ ~ 400 mW/㎠, 특히 바람직하게는 60 mW/㎠ ~ 300 mW/㎠다. 조사 강도가 5m W/㎠ 미만이면 반응 속도가 늦어져서 생산성이 저하되는 일이 있다. The irradiation intensity at the time of light irradiation may be set according to conditions such as the type and thickness of the
포토마스크(4)의 형상은 특별히 한정되지 않지만 복수의 대략 직사각형 형상의 슬릿(개구부)을 갖는 것이 바람직하다. 본 명세서에서 '대략 직사각형 형상'은 직사각형 형상 이외에 직사각형의 네 모서리가 원호상으로 되어 있는 형상, 직사각형의 장변 또는 단변에 대응하는 부분이 원호상 변으로 되어 있는 형상, 평행사변형 형상 등을 포함하는 개념을 의미한다. The shape of the photomask 4 is not particularly limited, but it is preferable to have a plurality of substantially rectangular slits (openings). In this specification, the term "substantially rectangular shape" is a concept including a shape in which four corners of a rectangle are formed in an arc shape in addition to a rectangular shape, a shape in which a portion corresponding to a long side or a short side of a rectangle is formed in an arc- .
포토마스크(4)의 슬릿 폭은 특별히 한정되지 않지만, 바람직하게는 0.1 ㎜ ~ 3 ㎜, 보다 바람직하게는 0.15 ㎜ ~ 2.5 ㎜, 더욱 바람직하게는 0.2 ㎜ ~ 2 ㎜다. The slit width of the photomask 4 is not particularly limited, but is preferably 0.1 mm to 3 mm, more preferably 0.15 mm to 2.5 mm, and still more preferably 0.2 mm to 2 mm.
포토마스크(4)의 이동 속도는 단관능성 옥세탄 화합물이 배향되는 속도라면 특별히 한정되지 않지만, 바람직하게는 0.01 ㎜/s ~ 8 ㎜/s, 바람직하게는 0.02 ㎜/s ~ 7 ㎜/s, 더욱 바람직하게는 0.03 ㎜/s ~ 6 ㎜/s, 특히 바람직하게는 0.05 ㎜/s ~ 5㎜/s다. 포토마스크(4)의 이동 속도가 0.01 ㎜/s 미만이면 소망하는 생산성을 얻을 수 없는 경우가 있다. 한편 포토마스크(4)의 이동 속도가 8 ㎜/s을 초과하면 단관능성 옥세탄 화합물을 충분히 배향시킬 수 없는 경우가 있다. The moving speed of the photomask 4 is not particularly limited as long as the speed at which the monofunctional oxetane compound is oriented is preferably 0.01 mm / s to 8 mm / s, more preferably 0.02 mm / s to 7 mm / s, More preferably 0.03 mm / s to 6 mm / s, and particularly preferably 0.05 mm / s to 5 mm / s. If the moving speed of the photomask 4 is less than 0.01 mm / s, desired productivity may not be obtained. On the other hand, when the moving speed of the photomask 4 exceeds 8 mm / s, the monofunctional oxetane compound may not be sufficiently aligned.
광조사는 배향 제어 및 광중합을 효율적으로 수행하는 관점에서, 가열 조건 하에서 수행해도 된다. 가열 온도는 사용할 광중합성 조성물의 종류에 따라서 적절히 설정하면 되지만, 바람직하게는 50 ℃ ~ 120 ℃, 보다 바람직하게는 60 ℃ ~ 110 ℃, 더욱 바람직하게는 70 ℃ ~ 100 ℃다. 가열 온도가 50 ℃ 미만이면 가열에 의한 효과를 충분히 얻을 수 없다. 한편 가열 온도가 120 ℃를 초과하면 광조사 전에 열에 의한 중합이 진행되어 배향 제어를 할 수 없게 되는 경우가 있다. The light irradiation may be carried out under heating conditions from the viewpoint of efficiently performing alignment control and photopolymerization. The heating temperature may be suitably set in accordance with the type of the photopolymerizable composition to be used, but is preferably 50 ° C to 120 ° C, more preferably 60 ° C to 110 ° C, and still more preferably 70 ° C to 100 ° C. If the heating temperature is less than 50 캜, the effect of heating can not be sufficiently obtained. On the other hand, if the heating temperature exceeds 120 ° C, the polymerization due to heat may proceed before light irradiation, and the orientation control may become impossible.
또한 상기에서는 포토마스크(4)를 사용하여 노광부(A1)를 연속적으로 변화시키는 방법을 설명했지만, 일부 영역에만 광조사가 가능한 광원을 사용하여 노광부(A1)를 연속적으로 변화시켜도 된다. Although a method of continuously changing the exposure unit A1 using the photomask 4 has been described above, the exposure unit A1 may be continuously changed by using a light source capable of irradiating only a part of the area.
동적 광중합법을 실시한 후 도막(2)을 충분히 경화시키는 관점에서, 도막(2)의 전면에 대해서 광조사를 수행해도 된다. 이 때 광조사 조건은 도막(2)이 경화되는 조건이면 되고 특별히 한정되지 않는다. 예를 들면 동적 광중합법과 동일한 광조사 조건으로 광조사를 수행하면 된다. Light irradiation may be performed on the entire surface of the
상기와 같이 제조되는 광학이방성 고분자막은 주위 분위기에 영향을 받지 않고 공기 중에서도 광중합반응을 수행할 수 있는 동적 광중합법에 적합한 광중합성 조성물을 사용하고 있기 때문에, 미경화 및 백탁화가 일어나기 어렵고 배향 제어도 양호하다. Since the optically anisotropic polymer film prepared as described above uses a photopolymerizable composition suitable for the dynamic photopolymerization method capable of performing the photopolymerization reaction in the air without being influenced by the ambient atmosphere, it is difficult to cause uncured or cloudy appearance, Do.
이 광학이방성 고분자막은 유기EL표시장치, 액정표시장치 등 표시장치에서 편광 필름, 위상차 필름, 시야각 향상 필름, 휘도 향상 필름 등으로서 사용할 수 있다. 예를 들면 광학이방성 고분자막이 유기EL표시장치에서 위상차 필름으로서 사용되는 예를 도 2, 광학이방성 고분자막이 액정표시장치에서 위상차 필름으로서 사용되는 예를 도 3에 도시한다. 도 2에 도시된 것과 같이 한 쌍의 기판(11) 사이에 유기EL표시소자(12)가 협지되고, 또한 일방 기판(11) 상에 편광 필름(13)이 설치된 구조를 갖는 유기EL표시장치에서, 광학이방성 고분자막(10)은 기판(11)과 유기EL표시소자(12) 사이에 설치되거나(a) 또는 기판(11)과 편광 필름(13) 사이에 설치된다(b). 또한 도 3에 도시된 것과 같이 한 쌍의 기판(11) 사이에 액정표시소자(14)가 협지되고, 또한 양방 기판(11) 상에 편광 필름(13)이 설치된 구조를 갖는 양면표시형 액정표시장치에서, 광학이방성 고분자막(10)은 기판(11)과 액정표시소자(14) 사이에 설치되거나(a) 또는 기판(11)과 편광 필름(13) 사이에 설치된다(b).This optically anisotropic polymer film can be used as a polarizing film, a retardation film, a viewing angle improving film, a luminance improving film and the like in a display device such as an organic EL display device or a liquid crystal display device. For example, an example in which an optically anisotropic polymer film is used as a retardation film in an organic EL display device is shown in Fig. 2, and an example in which an optically anisotropic polymer film is used as a retardation film in a liquid crystal display device is shown in Fig. An organic EL display device having a structure in which an organic
광학이방성 고분자막은 유기EL표시장치, 액정표시장치 등 표시장치를 제조할 때 각 표시장치를 구성하는 부재(예를 들면 기판(11)) 상에 직접 형성할 수 있다. 또한 광학이방성 고분자막을 미리 제작한 후 각 표시장치를 구성하는 부재(예를 들면 기판(11)) 상에 부착해도 된다. The optically anisotropic polymer film can be formed directly on a member (for example, the substrate 11) constituting each display device when manufacturing a display device such as an organic EL display device or a liquid crystal display device. Further, the optically anisotropic polymer film may be preliminarily manufactured and then adhered to a member (for example, the substrate 11) constituting each display device.
<실시예><Examples>
이하, 실시예에 의해 본 발명을 구체적으로 설명하지만 본 발명은 여기에 한정되는 것은 아니다. Hereinafter, the present invention will be described in detail by way of examples, but the present invention is not limited thereto.
<사용 원료><Materials Used>
1. 단관능성 옥세탄 화합물1. Monofunctional oxetane compound
하기 식 (6)으로 표현되는 단관능성 옥세탄 화합물을 사용했다. A monofunctional oxetane compound represented by the following formula (6) was used.
이 단관능성 옥세탄 화합물은, 우선 하기 반응식을 따라서 식 (ⅲ)으로 표현되는 화합물을 합성한 후 이 화합물을 원료로서 사용하여, 식 (6)으로 표현되는 단관능성 옥세탄 화합물을 합성했다. In the monofunctional oxetane compound, a monocomponent oxetane compound represented by the formula (6) was synthesized by first synthesizing a compound represented by the formula (iii) according to the following reaction formula and then using the compound as a raw material.
즉 식 (ⅰ)로 표현되는 3-에틸-3-히드록시메틸옥세탄 51.8 g, 파라톨루엔설포닐클로라이드(p-TsCl) 119.2 g, 수산화나트륨 100 g, 테트라히드로푸란(THF) 400 ㎖ 및 이온 교환수 400 ㎖를 첨가하고, 0 ℃에서 4 시간 혼합 교반한 후 얻어진 용액을 포화 식염수로 3회 세정했다. 이 용액에 1, 4-부탄올 120.8 g, 수산화칼륨 43.8 g 및 디메틸설폭시드(DMSO) 116 ㎖를 첨가하고, 30 ℃에서 15 시간 혼합 교반한 후 톨루엔 및 식염수를 더하여 세정하고 식 (ⅱ)로 표현되는 화합물을 얻었다. 이렇게 얻어진 식 (ⅱ)로 표현되는 화합물(전량)에, 메탄설포닐클로라이드(MsCl) 65.3 g, 톨루엔 65.3 g 및 톨리에틸아민(TEA) 78.0 g을 첨가하고, 0 ℃에서 2시간 혼합 교반한 후 얻어진 용액을 포화 식염수로 세정했다. 이 용액에 파라히드록시벤조산에틸 55.7 g, 탄산칼륨 60.7 g 및 N, N'-디메틸포름아미드(DMF) 420 g을 첨가하고, 100 ℃에서 5 시간 혼합 교반한 후 물로 세정하고 용매를 감압제법하여 116 g의 고체를 얻었다. 이 고체에 수산화나트륨 36 g 및 이온 교환수 324 g을 첨가하고, 100 ℃에서 2 시간 반응시켰다. 얻어진 용매를 물 450 ㎖로 희석한 후 염산(농도 10 wt%)을 pH3이 될 때까지 천천히 첨가했다. 얻어진 슬러리 용액을 0 ℃에서 1 시간 교반한 후 물로 세정하여 식 (ⅲ)으로 표현되는 화합물 121 g을 얻었다. Namely, 51.8 g of 3-ethyl-3-hydroxymethyloxetane represented by the formula (i), 119.2 g of para toluenesulfonyl chloride (p-TsCl), 100 g of sodium hydroxide, 400 ml of tetrahydrofuran (THF) 400 ml of exchange water was added, and the mixture was stirred and mixed at 0 ° C for 4 hours, and the resulting solution was washed with saturated brine three times. To this solution were added 120.8 g of 1, 4-butanol, 43.8 g of potassium hydroxide and 116 ml of dimethylsulfoxide (DMSO), and the mixture was stirred and mixed at 30 DEG C for 15 hours. Then toluene and brine were added thereto and washed, ≪ / RTI > 65.3 g of methanesulfonyl chloride (MsCl), 65.3 g of toluene and 78.0 g of tolylethylamine (TEA) were added to the thus-obtained compound represented by the formula (ii), and the mixture was stirred at 0 ° C for 2 hours The obtained solution was washed with a saturated saline solution. 55.7 g of ethyl parahydroxybenzoate, 60.7 g of potassium carbonate and 420 g of N, N'-dimethylformamide (DMF) were added and mixed and stirred at 100 DEG C for 5 hours, washed with water, 116 g of a solid were obtained. 36 g of sodium hydroxide and 324 g of ion-exchanged water were added to this solid, and the reaction was carried out at 100 DEG C for 2 hours. The obtained solvent was diluted with water (450 ml), and hydrochloric acid (
다음으로 식 (ⅲ)으로 표현되는 화합물에 메탄설포닐클로라이드(MsCl) 47.2 g, N-N-디이소프로필에틸아민(DIPEA) 52.0 g 및 테트라히드로푸란(THF) 400 ㎖를 첨가하고, 0 ℃에서 1 시간 혼합 교반 후 BOC Sciences사의 4-(트랜스-4-노말프로필시클로헥실)페놀 270 g, 4-디메틸아미노피리딘(DMAP) 11.2 g 및 트리에틸아민(TEA) 53.2 g을 더욱 첨가하고, 0 ℃에서 1 시간 혼합 교반했다. 그 후 혼합물을 3 시간 더욱 환류 교반하여 식 (6)으로 표현되는 단관능성 옥세탄 화합물을 얻었다. Next, 47.2 g of methanesulfonyl chloride (MsCl), 52.0 g of NN-diisopropylethylamine (DIPEA) and 400 ml of tetrahydrofuran (THF) were added to the compound represented by the formula (iii) After mixing and stirring, 270 g of 4- (trans-4-n-propylcyclohexyl) phenol from BOC Sciences, 11.2 g of 4-dimethylaminopyridine (DMAP) and 53.2 g of triethylamine (TEA) And the mixture was stirred for 1 hour. Thereafter, the mixture was further stirred under reflux for 3 hours to obtain a monofunctional oxetane compound represented by the formula (6).
2. 2관능성 옥세탄 화합물2. Bifunctional oxetane compounds
하기 식 (7)로 표현되는 2관능성 옥세탄 화합물을 사용했다. A bifunctional oxetane compound represented by the following formula (7) was used.
이 2관능성 옥세탄 화합물은 상기와 동일한 방법으로 합성한, 식 (ⅲ)으로 표현되는 화합물을 원료로서 사용하여, 식 (7)로 표현되는 2관능성 옥세탄 화합물을 합성했다. The bifunctional oxetane compound represented by the formula (7) was synthesized by using the compound represented by the formula (iii) synthesized in the same manner as described above as a raw material.
즉 식 (ⅲ)으로 표현되는 화합물에 메탄설포닐클로라이드(MsCl) 47.2 g, N-N-디이소프로필에틸아민(DIPEA) 52.0 g 및 테트라히드로푸란(THF) 400 ㎖를 첨가하고, 0 ℃에서 1 시간 혼합 교반 후 히드록신 68 g, 4-디메틸아미노피리딘(DMAP) 11 g 및 트리에틸아민(TEA) 53 g을 더욱 첨가하고, 0 ℃에서 1 시간 혼합 교반했다. 그 후 혼합물을 3 시간 더욱 환류 교반하여 식 (7)로 표현되는 화합물을 얻었다. 47.2 g of methanesulfonyl chloride (MsCl), 52.0 g of NN-diisopropylethylamine (DIPEA) and 400 ml of tetrahydrofuran (THF) were added to the compound represented by the formula (iii) After mixing and stirring, 68 g of hydeoxyne, 11 g of 4-dimethylaminopyridine (DMAP) and 53 g of triethylamine (TEA) were further added, followed by mixing and stirring at 0 ° C for 1 hour. Thereafter, the mixture was further stirred under reflux for 3 hours to obtain a compound represented by formula (7).
3. 계면활성제3. Surfactants
불소계 계면활성제(DIC주식회사의 MEGAFACE R40)를 사용했다. A fluorine surfactant (MEGAFACE R40 manufactured by DIC Corporation) was used.
4. 광중합개시제4. Photopolymerization initiator
광 양이온 중합개시제(San-Apro주식회사의 CPI-100P) 및 알킬페논계 광중합개시제(BASF사의 Irgacure651)를 사용했다. (CPI-100P of San-Apro Co.) and an alkylphenon-based photopolymerization initiator (Irgacure 651 of BASF) were used.
5. 단관능성 아크릴레이트(비교예용)5. Monofunctional acrylate (for comparative purposes)
4-(6-아크릴로일록시 헥시록시)-4'-시아노비페닐(A6CB)을 사용했다. 이 화합물은 특허문헌 1(국제공개공보 제2014/038260호)에 기재된 방법을 따라서 합성했다. 4- (6-acryloyloxyhexyloxy) -4'-cyanobiphenyl (A6CB) was used. This compound was synthesized according to the method described in Patent Document 1 (International Publication No. 2014/038260).
6. 2관능성 메타크릴레이트(비교예용)6. Bifunctional methacrylate (for comparison)
에틸렌글리콜디메타크릴레이트(EGDMA, Tokyo Chemical Industry주식회사) 및 1, 6-헥산디올디메타크릴레이트(HDDMA, Tokyo Chemical Industry주식회사)를 사용했다. Ethylene glycol dimethacrylate (EGDMA, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) and 1,6-hexanediol dimethacrylate (HDDMA, Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) were used.
<실시예 1>≪ Example 1 >
단관능성 옥세탄 화합물, 계면활성제, 광 양이온 중합개시제를 혼합함으로써 광중합성 조성물을 제조했다. 이 광중합성 조성물에서, 계면활성제의 배합량을 단관능성 옥세탄 화합물 100 질량부에 대해서 0.1 질량부로 하고, 광 양이온 중합개시제의 배합량을 단관능성 옥세탄 화합물 100 질량부에 대해서 15 질량부로 했다. A photopolymerizable composition was prepared by mixing a monofunctional oxetane compound, a surfactant, and a photo cationic polymerization initiator. In this photopolymerizable composition, the blending amount of the surfactant was set to 0.1 part by mass with respect to 100 parts by mass of the monofunctional oxetane compound, and the amount of the cationic photopolymerization initiator blended was changed to 15 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the monofunctional oxetane compound.
다음으로 광중합성 조성물을 스핀 코팅(500 rpm으로 4 초, 1200 rpm으로 30 초)에 의해 유리 기판(10 ㎝ × 10 ㎝)에 도포하고, 120 ℃에서 5 분간 건조시킴으로써 2.0 ㎛의 도막을 형성한 후 포토마스크를 사용한 동적 광중합법을 수행했다. 이 동적 광중합법에서는 광조사에 사용하는 광원으로서 메탈핼라이드 램프(UVL-7000M-N)를 사용하고, 광조사 시 조사 강도를 294 mW/㎠로 설정하며 대기 분위기, 80 ℃의 가열 조건 하에서 광조사를 수행했다. 또한 포토마스크로는 대략 직사각형 형상의 슬릿(슬릿 폭 0.25 ㎜)을 갖는 포토마스크를 사용하고, 포토마스크의 이동 속도를 0.9 ㎜/s로 설정했다. 그 후 전면에 대해서 동적 광중합법과 동일한 광조사 조건으로 1 분간 광조사를 수행함으로써 고분자막을 제작했다. Next, the photopolymerizable composition was applied to a glass substrate (10 cm x 10 cm) by spin coating (500 rpm for 4 seconds and 1200 rpm for 30 seconds) and dried at 120 캜 for 5 minutes to form a 2.0 탆 coating film Followed by dynamic photopolymerization using a photomask. In this dynamic photopolymerization method, a metal halide lamp (UVL-7000M-N) was used as a light source for light irradiation, and the irradiation intensity was set to 294 mW / I conducted an investigation. As the photomask, a photomask having a substantially rectangular slit (slit width of 0.25 mm) was used, and the moving speed of the photomask was set to 0.9 mm / s. Thereafter, the entire surface was irradiated with light for one minute under the same light irradiation conditions as in the dynamic light polymerization method to produce a polymer membrane.
<실시예 2>≪ Example 2 >
광 양이온 중합개시제의 배합량을, 단관능성 옥세탄 화합물 100 질량부에 대해서 2.5 질량부로 변경한 것 이외는 실시예 1과 동일하게 광중합성 조성물을 제조했다. A photopolymerizable composition was prepared in the same manner as in Example 1 except that the mixing amount of the photo cationic polymerization initiator was changed to 2.5 parts by mass based on 100 parts by mass of the monofunctional oxetane compound.
다음으로 광조사 시 조사 강도를 281 mW/㎠로 변경한 것 이외는 실시예 1과 동일하게 고분자막을 제조했다. Next, a polymer membrane was prepared in the same manner as in Example 1, except that the irradiation intensity was changed to 281 mW /
<실시예 3>≪ Example 3 >
실시예 1과 동일한 광중합성 조성물을 제조했다. The same photopolymerizable composition as in Example 1 was prepared.
다음으로 광조사 시 조사 강도를 281 mW/㎠, 포토마스크의 이동 속도를 1.8 ㎜/s로 변경한 것 이외는 실시예 1과 동일하게 고분자막을 제작했다. Next, a polymer membrane was prepared in the same manner as in Example 1, except that the irradiation intensity was changed to 281 mW /
<실시예 4><Example 4>
광 양이온 중합개시제의 배합량을, 단관능성 옥세탄 화합물 100 질량부에 대해서 10 질량부로 변경한 것 이외는 실시예 1과 동일하게 광중합성 조성물을 제조했다. A photopolymerizable composition was prepared in the same manner as in Example 1 except that the mixing amount of the photo cationic polymerization initiator was changed to 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the monofunctional oxetane compound.
다음으로 도막의 두께를 2.5 ㎛, 광조사 시 조사 강도를 281 mW/㎠로 변경한 것 이외는 실시예 1과 동일하게 고분자막을 제작했다. Next, a polymer membrane was prepared in the same manner as in Example 1 except that the thickness of the coating film was changed to 2.5 탆 and the irradiation intensity upon irradiation with light was changed to 281 mW /
<실시예 5>≪ Example 5 >
계면활성제 배합량을, 단관능성 옥세탄 화합물 100 질량부에 대해서 0.05 질량부로 변경한 것 이외는 실시예 1과 동일하게 광중합성 조성물을 제조했다. A photopolymerizable composition was prepared in the same manner as in Example 1 except that the amount of the surfactant was changed to 0.05 part by mass with respect to 100 parts by mass of the monofunctional oxetane compound.
다음으로 광조사 시 조사 강도를 101 mW/㎠, 포토마스크의 이동 속도를 0.3 ㎜/s로 변경한 것 이외는 실시예 1과 동일하게 고분자막을 제작했다. Next, a polymer membrane was prepared in the same manner as in Example 1, except that the irradiation intensity at the time of light irradiation was changed to 101 mW /
<실시예 6>≪ Example 6 >
실시예 1과 동일한 광중합성 조성물을 제조했다. The same photopolymerizable composition as in Example 1 was prepared.
다음으로 도막의 두께를 1.5 ㎛, 광조사 시 조사 강도를 101 mW/㎠, 포토마스크의 이동 속도를 0.1 ㎜/s로 변경한 것 이외는 실시예 1과 동일하게 고분자막을 제작했다. Next, a polymer membrane was prepared in the same manner as in Example 1 except that the thickness of the coating film was changed to 1.5 탆, the irradiation intensity upon irradiation with light was changed to 101 mW /
<실시예 7>≪ Example 7 >
실시예 1과 동일한 광중합성 조성물을 제조했다. The same photopolymerizable composition as in Example 1 was prepared.
다음으로 광조사 시 조사 강도를 31 mW/㎠, 포토마스크의 이동 속도를 0.05 ㎜/s로 변경한 것 이외는 실시예 1과 동일하게 고분자막을 제작했다.Next, a polymer membrane was prepared in the same manner as in Example 1, except that the irradiation intensity at the time of light irradiation was changed to 31 mW /
<실시예 8>≪ Example 8 >
실시예 1과 동일한 광중합성 조성물을 제조했다. The same photopolymerizable composition as in Example 1 was prepared.
다음으로 광조사 시 조사 강도를 31 mW/㎠, 포토마스크의 이동 속도를 0.1 ㎜/s로 변경한 것 이외는 실시예 1과 동일하게 고분자막을 제작했다.Next, a polymer membrane was prepared in the same manner as in Example 1, except that the irradiation intensity was changed to 31 mW /
<실시예 9>≪ Example 9 >
실시예 1과 동일한 광중합성 조성물을 제조했다. The same photopolymerizable composition as in Example 1 was prepared.
다음으로 광조사 시 조사 강도를 31 mW/㎠, 포토마스크의 이동 속도를 0.3 ㎜/s로 변경한 것 이외는 실시예 1과 동일하게 고분자막을 제작했다.Next, a polymer membrane was prepared in the same manner as in Example 1, except that the irradiation intensity at the time of light irradiation was changed to 31 mW /
<실시예 10>≪ Example 10 >
실시예 1과 동일한 광중합성 조성물을 제조했다. The same photopolymerizable composition as in Example 1 was prepared.
다음으로 광조사 시 조사 강도를 31 mW/㎠, 포토마스크의 이동 속도를 0.5 ㎜/s로 변경한 것 이외는 실시예 1과 동일하게 고분자막을 제작했다.Next, a polymer membrane was prepared in the same manner as in Example 1, except that the irradiation intensity at the time of light irradiation was changed to 31 mW /
<실시예 11>≪ Example 11 >
단관능성 옥세탄 화합물, 2관능성 옥세탄 화합물, 광 양이온 중합개시제를 혼합함으로써 광중합성 조성물을 제조했다. 이 광중합성 조성물에서, 단관능성 옥세탄 화합물과 2관능성 옥세탄 화합물의 질량비를 85:15로 하고, 광 양이온 중합개시제의 배합량을 단관능성 옥세탄 화합물 100 질량부에 대해서 15.5 질량부로 했다.A photopolymerizable composition was prepared by mixing a monofunctional oxetane compound, a bifunctional oxetane compound and a photo cationic polymerization initiator. In this photopolymerizable composition, the mass ratio of the monofunctional oxetane compound and the bifunctional oxetane compound was 85:15, and the mixing amount of the photo cationic polymerization initiator was 15.5 parts by mass based on 100 parts by mass of the monofunctional oxetane compound.
다음으로 도막의 두께를 3.0 ㎛, 광조사 시 조사 강도를 9 mW/㎠, 광조사 시 가열 온도를 90 ℃, 포토마스크의 슬릿 폭을 0.5 ㎜, 포토마스크의 이동 속도를 0.02 ㎜/s로 변경한 것 이외는 실시예 1과 동일하게 고분자막을 제작했다. Next, the thickness of the coating film was changed to 3.0 탆, the irradiation intensity at the time of light irradiation was changed to 9 mW /
<비교예 1>≪ Comparative Example 1 &
EGDMA, A6CB, 알킬페논계 광중합개시제를 혼합함으로써 광중합성 조성물을 제조했다. 이 광중합성 조성물에서 EGDMA와 A6CB의 mol비를 2:98로 하고, 알킬페논계 광중합개시제의 배합량을 EGDMA 및 A6CB의 합계에 대해서 외할 1 mol%로 했다. A photopolymerizable composition was prepared by mixing EGDMA, A6CB, and an alkylphenon-based photopolymerization initiator. In this photopolymerizable composition, the molar ratio of EGDMA to A6CB was set to 2:98, and the amount of alkylphenon-based photopolymerization initiator to be added was adjusted to 1 mol% with respect to the total of EGDMA and A6CB.
다음으로 슬릿이 없는 포토마스크를 사용하고 광조사 시 조사 강도를 0.016 mW/㎠, 광조사 시 가열 온도를 85 ℃, 포토마스크의 이동 속도를 0.025 ㎜/s로 변경한 것 이외는 실시예 1과 동일하게 고분자막을 제작했다. Next, in the same manner as in Example 1 except that a photomask without a slit was used and the irradiation intensity at the time of light irradiation was changed to 0.016 mW /
<비교예 2>≪ Comparative Example 2 &
비교예 1과 동일한 광중합성 조성물을 제조했다. A photopolymerizable composition identical to that of Comparative Example 1 was prepared.
다음으로 슬릿이 없는 포토마스크를 사용하고 도막의 두께를 3.0 ㎛, 광조사 시 조사 강도를 0.05 mW/㎠, 광조사 시 가열 온도를 85 ℃, 포토마스크의 이동 속도를 0.0025 ㎜/s로 변경한 것 이외는 실시예 1과 동일하게 고분자막을 제작했다. Next, using a photomask without a slit, the thickness of the coating film was changed to 3.0 탆, the irradiation intensity at the time of light irradiation was changed to 0.05 mW /
<비교예 3>≪ Comparative Example 3 &
EGDMA와 A6CB의 mol비를 4:96으로 변경한 것 이외는 비교예 1과 동일하게 광중합성 조성물을 제조했다. A photopolymerizable composition was prepared in the same manner as in Comparative Example 1 except that the molar ratio of EGDMA to A6CB was changed to 4:96.
다음으로 슬릿이 없는 포토마스크를 사용하고 도막의 두께를 1.8 ㎛, 광조사 시 조사 강도를 0.001 mW/㎠, 광조사 시 가열 온도를 120 ℃, 포토마스크의 이동 속도를 0.02 ㎜/s로 변경한 것 이외는 실시예 1과 동일하게 고분자막을 제작했다. Next, a photomask without a slit was used, and the thickness of the coating film was changed to 1.8 탆, the irradiation intensity at the time of light irradiation was changed to 0.001 mW /
<비교예 4>≪ Comparative Example 4 &
비교예 3과 동일하게 광중합성 조성물을 제조했다. A photopolymerizable composition was prepared in the same manner as in Comparative Example 3.
다음으로 광조사 시 조사 강도를 0.001 mW/㎠, 광조사 시 가열 온도를 120 ℃, 포토마스크의 슬릿 폭을 0.1 ㎜, 포토마스크의 이동 속도를 2 ㎜/s로 변경한 것 이외는 실시예 1과 동일하게 고분자막을 제작했다. The procedure of Example 1 was repeated except that the irradiation intensity at the time of light irradiation was changed to 0.001 mW /
<비교예 5>≪ Comparative Example 5 &
비교예 3과 동일하게 광중합성 조성물을 제조했다. A photopolymerizable composition was prepared in the same manner as in Comparative Example 3.
다음으로 도막의 두께를 1.7 ㎛, 광조사 시 조사 강도를 0.001 mW/㎠, 광조사 시 가열 온도를 120 ℃, 포토마스크의 슬릿 폭을 0.1 ㎜, 포토마스크의 이동 속도를 0.002 ㎜/s로 변경한 것 이외는 실시예 1과 동일하게 고분자막을 제작했다. Next, the thickness of the coating film was changed to 1.7 μm, the irradiation intensity at the time of light irradiation was 0.001 mW /
<비교예 6>≪ Comparative Example 6 >
비교예 3과 동일하게 광중합성 조성물을 제조했다. A photopolymerizable composition was prepared in the same manner as in Comparative Example 3.
다음으로 도막의 두께를 1.9 ㎛, 광조사 시 조사 강도를 0.001 mW/㎠, 광조사 시 가열 온도를 120 ℃, 포토마스크의 슬릿 폭을 0.1 ㎜, 포토마스크의 이동 속도를 0.002 ㎜/s로 변경한 것 이외는 실시예 1과 동일하게 고분자막을 제작했다.Next, the thickness of the coating film was changed to 1.9 μm, the irradiation intensity at the time of light irradiation was 0.001 mW /
<비교예 7>≪ Comparative Example 7 &
비교예 3과 동일하게 광중합성 조성물을 제조했다. A photopolymerizable composition was prepared in the same manner as in Comparative Example 3.
다음으로 슬릿이 없는 포토마스크를 사용하고 광조사 시 조사 강도를 0.001 mW/㎠, 광조사 시 가열 온도를 120 ℃, 포토마스크의 이동 속도를 0.002 ㎜/s로 변경한 것 이외는 실시예 1과 동일하게 고분자막을 제작했다. Next, in the same manner as in Example 1 except that a photomask without a slit was used and the irradiation intensity at the time of light irradiation was changed to 0.001 mW /
상기 실시예 및 비교예에서 제조한 광중합성 조성물의 조성을 표 1에 정리한다. The composition of the photopolymerizable composition prepared in the above Examples and Comparative Examples is summarized in Table 1.
<표 1><Table 1>
상기 실시예에서 얻은 고분자막에 대해서 400 ~ 700 ㎚의 투과율, Haze값 및 retardation(Δnd)을 평가했다. 또한 상기 비교예에서 얻은 고분자막은 백탁이 심해서 이들 평가를 수행할 수 없었다. The polymer membrane obtained in the above example was evaluated for the transmittance, haze value and retardation (? Nd) of 400 to 700 nm. In addition, the polymer membranes obtained in the above Comparative Examples were too cloudy to perform these evaluations.
400 ~ 700 ㎚의 투과율 및 Haze값은 JIS K7361-1 및 JIS K7136에 준거하고, Haze meter(Nippon Denshoku Industries주식회사의 NDH4000)를 사용하여 측정했다. The transmittance and haze value of 400 to 700 nm were measured in accordance with JIS K7361-1 and JIS K7136 using a haze meter (NDH4000, manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd.).
굴절율 차(Δn)와 고분자막의 두께(d)의 곱인 retardation(Δnd)의 계측은, 입사광용 및 투과광용 편광자를 투과축이 수직이 되도록 배치하고, 그 사이에 고분자막을 배치하여 수행했다. Measurement of the retardation (Δnd), which is the product of the refractive index difference (Δn) and the thickness (d) of the polymer membrane, was performed by disposing the polarizers for incident light and transmitted light so that their transmission axes were perpendicular to each other and a polymer membrane was disposed therebetween.
또한 상기 실시예 및 비교예에서 얻은 고분자막에 대하여 점착성 유무를 손으로 평가했다. In addition, the polymer membranes obtained in the above Examples and Comparative Examples were hand-evaluated for stickiness.
상기 각 평가 결과를 표 2에 도시한다. The evaluation results are shown in Table 2.
<표 2><Table 2>
표 2에 도시된 것과 같이 실시예에서 얻은 고분자막은 점착성이 없고 광학이방성을 나타내는 동시에 투명성이 높았다. As shown in Table 2, the polymer membranes obtained in Examples had no stickiness, exhibited optical anisotropy, and had high transparency.
이에 반하여 비교예에서 얻은 고분자막은 백탁화되고, 점착성도 있다. 이는 비교예에서 사용한 광중합성 조성물이 포함된 A6CB가, 주위 분위기 중의 산소에 의해 영향을 받아, 광중합반응이 충분히 진행되지 않았기 때문이라고 생각된다. On the contrary, the polymer membrane obtained in the comparative example is cloudy and has a tackiness. This is presumably because the A6CB containing the photopolymerizable composition used in the comparative example was affected by oxygen in the ambient atmosphere and the photopolymerization reaction did not proceed sufficiently.
이상의 결과로부터 알 수 있듯이 본 발명에 따르면 주위 분위기에 영향을 받지 않고 공기 중에서도 광중합반응을 수행할 수 있으며, 더욱이 미경화 및 백탁화가 일어나기 어려운 광학이방성 고분자막의 제조 방법과 당해 특성을 갖는 광학이방성 고분자막을 사용한 유기EL표시장치와 액정표시장치의 제조 방법을 제공할 수 있다.As can be seen from the above-mentioned results, according to the present invention, there can be provided a process for producing an optically anisotropic polymer membrane capable of performing a photopolymerization reaction in the air without being influenced by the ambient atmosphere and further preventing occurrence of uncured or cloudy white matters, and a process for producing an optically anisotropic polymer membrane It is possible to provide a used organic EL display device and a manufacturing method of a liquid crystal display device.
1: 기재 2: 도막
3: 광원 4: 포토마스크
5: 분자 사슬 10: 광학이방성 고분자막
11: 기판 12: 유기EL표시소자
13: 편광 필름 14: 액정표시소자
A1: 노광부 A2: 차광부
S: 경계 L: 빛
D: 이동 방향1: substrate 2: coated film
3: Light source 4: Photomask
5: Molecular chain 10: Optical anisotropic polymer membrane
11: substrate 12: organic EL display element
13: polarizing film 14: liquid crystal display element
A1: Exposure section A2:
S: Boundary L: Light
D: Direction of movement
Claims (12)
상기 도막에 대해서 노광부를 연속적으로 변화시키면서 광조사하는 공정을 포함하는 광학이방성 고분자막의 제조 방법.
A step of coating a substrate with a photopolymerizable composition containing a monofunctional oxetane compound having a mesogen group and a bifunctional oxetane compound and / or a surfactant to form a coating film;
And irradiating the coating film with light while continuously changing an exposure unit.
상기 광중합성 조성물은 광 양이온 중합개시제를 더 포함하는 광학이방성 고분자막의 제조 방법.
The method of claim 1, wherein
Wherein the photopolymerizable composition further comprises a photo cationic polymerization initiator.
상기 계면활성제는 불소계 계면활성제인 광학이방성 고분자막의 제조 방법.
The method according to claim 1 or 2, wherein
Wherein the surfactant is a fluorine-based surfactant.
상기 광중합성 조성물의 상기 단관능성 옥세탄 화합물과 상기 2관능성 옥세탄 화합물의 질량비는 100:0 ~ 85:15인 상기 광학이방성 고분자막의 제조 방법.
The method according to claim 1 or 2, wherein
Wherein the mass ratio of the monofunctional oxetane compound to the bifunctional oxetane compound in the photopolymerizable composition is 100: 0 to 85:15.
상기 광중합성 조성물은, 상기 단관능성 옥세탄 화합물 100 질량부에 대해서 0.01 ~ 1 질량부의 상기 계면활성제를 포함하는 광학이방성 고분자막의 제조 방법.
The method according to claim 1 or 2, wherein
Wherein said photopolymerizable composition comprises 0.01 to 1 part by mass of said surfactant based on 100 parts by mass of said monofunctional oxetane compound.
상기 광조사 시 조사 강도는 5 mW/㎠ 초과인 광학이방성 고분자막의 제조 방법.
The method according to claim 1 or 2, wherein
Wherein the irradiation intensity during the light irradiation is more than 5 mW / cm < 2 >.
상기 노광부의 연속적인 변화는, 포토마스크를 연속적으로 이동시킴으로써 수행되는 광학이방성 고분자막의 제조 방법.
The method according to claim 1 or 2, wherein
Wherein the continuous change of the exposure unit is performed by continuously moving the photomask.
상기 포토마스크는 0.1 ~ 3 ㎜ 폭의 슬릿을 갖는 광학이방성 고분자막의 제조 방법.
The method of claim 7, wherein
Wherein the photomask has a slit width of 0.1 to 3 mm.
상기 포토마스크의 이동 속도는 0.01 ~ 8 ㎜/s인 광학이방성 고분자막의 제조 방법.
The method of claim 7, wherein
Wherein the moving speed of the photomask is 0.01 to 8 mm / s.
상기 광조사 시 상기 도막은 50 ~ 120 ℃의 온도로 가열되는 광학이방성 고분자막의 제조 방법.
The method according to claim 1 or 2, wherein
Wherein the coating film is heated at a temperature of 50 to 120 DEG C during the light irradiation.
An organic EL display device using an optically anisotropic polymer film obtained by the production method according to claim 1 or 2 as at least one film selected from the group consisting of a polarizing film, a retardation film, a viewing angle improving film and a luminance improving film Gt;
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