JP2006225607A - Substituted biphenyl, terphenyl derivative and polymer thereof - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、オキセタン環を側鎖に有する置換ビフェニルまたは置換ターフェニル誘導体、この誘導体から得られた重合体、およびこの用途に関する。 The present invention relates to a substituted biphenyl or substituted terphenyl derivative having an oxetane ring in the side chain, a polymer obtained from this derivative, and its use.
重合性の化合物が液晶であるとき、この化合物を重合させることによって光学異方性を有する重合体が得られることが知られている(特許文献1)。これは、液晶における分子の配向(orientation)が重合によって固定されるからである。そのような化合物の例はアクリル基を有する液晶化合物である(特許文献2)。さらに望まれているのは、室温で重合する、空気中でも重合する、適当な光重合開始剤の存在下、紫外線の照射によって容易に重合する、などの物性を有する液晶化合物である。 When the polymerizable compound is a liquid crystal, it is known that a polymer having optical anisotropy can be obtained by polymerizing the compound (Patent Document 1). This is because the orientation of molecules in the liquid crystal is fixed by polymerization. An example of such a compound is a liquid crystal compound having an acrylic group (Patent Document 2). What is further desired is a liquid crystal compound having physical properties such as polymerization at room temperature, polymerization in air, and easy polymerization by ultraviolet irradiation in the presence of a suitable photopolymerization initiator.
本発明の課題は、室温で重合する、空気中でも重合する、重合しやすい、液晶相の温度範囲が広い、化学的に安定である、無色である、溶媒に溶けやすい、他の重合性化合物のとの相溶性がよい、支持基板に対する付着張力(adhesion tension)が小さい、などの特性において、複数の特性を充足する液晶化合物である。この課題は、複数の特性に関して適切なバランスを有する化合物である。この課題は、この液晶化合物から得られた重合体でもある。この課題は、光学異方性を有する、支持基板から剥離しにくい、充分な硬度を有する、無色透明である、耐熱性が大きい、耐候性が大きい、光弾性が小さい、などの物性を有する重合体でもある。 The object of the present invention is to polymerize at room temperature, polymerize in air, easily polymerize, wide temperature range of liquid crystal phase, chemically stable, colorless, easily soluble in solvents, other polymerizable compounds It is a liquid crystal compound that satisfies a plurality of properties in terms of properties such as good compatibility with the substrate and low adhesion tension to the support substrate. The problem is a compound with an appropriate balance for multiple properties. This subject is also a polymer obtained from this liquid crystal compound. This is because of the optical properties, such as optical anisotropy, difficulty in peeling from the support substrate, sufficient hardness, colorless and transparent, high heat resistance, high weather resistance, and low photoelasticity. It is also a coalescence.
本発明は、下記の式(1)で表される少なくとも1つの化合物、この化合物を含有する組成物、およびこの組成物を重合させることによって得られる重合体を含む。
The present invention includes at least one compound represented by the following formula (1), a composition containing the compound, and a polymer obtained by polymerizing the composition.
式(1)において、Rは水素または炭素数1〜8のアルキルであり、このアルキルにおいて任意の水素はフッ素または塩素で置き換えられてもよく;Aは独立して1,4−シクロへキシレン、1,4−フェニレン、ピリジン−2,5−ジイル、ピリダジン−3,6−ジイル、ピリミジン−2,5−ジイル、ナフタレン−2,6−ジイル、またはテトラヒドロナフタレン−2,6−ジイルであり、この1,4−フェニレンにおいて任意の水素はフッ素または塩素で置き換えられてもよく、そして任意の1つまたは2つの水素はシアノ、メチル、エチル、メトキシ、ヒドロキシ、ホルミル、アセトキシ、アセチル、トリフルオロアセチル、ジフルオロメチル、またはトリフルオロメチルで置き換えられてもよく;Gは少なくとも1つの水素が塩素、フッ素、メチル、エチル、イソプロピル、メトキシ、ヒドロキシ、ホルミル、アセトキシ、アセチル、トリフルオロアセチル、ジフルオロメチル、またはトリフルオロメチルで置換された4,4”−ターフェニルまたは少なくとも1つの水素が塩素、フッ素、メチル、エチル、イソプロピル、メトキシ、ヒドロキシ、ホルミル、アセトキシ、アセチル、トリフルオロアセチル、ジフルオロメチル、またはトリフルオロメチルで置換された4,4'−ビフェニル;Zは独立して単結合、−(CH2)2−、−CH=CH−、−C≡C−、−CH2O−、−OCH2−、−CF2O−、−OCF2−、−COO−、−OCO−、−CONH−、−NHCO−、−(CH2)4−、−(CH2)2COO−、−OCO(CH2)2−、−CH=CH−COO−、または−OCO−CH=CH−であり;Pは炭素数1〜20のアルキレンであり、このアルキレンにおいて任意の水素はフッ素または塩素で置き換えられてもよく、任意の−CH2−は−O−で置き換えられてもよく、任意の1つまたは2つの−CH2−は−COO−または−OCO−で置き換えられてもよく、そして任意の1つの−CH2−は−CH=CH−または−C≡C−で置き換えられてもよく;で表される化合物である。 In the formula (1), R is hydrogen or alkyl having 1 to 8 carbon atoms, and in this alkyl, arbitrary hydrogen may be replaced by fluorine or chlorine; A is independently 1,4-cyclohexylene, 1,4-phenylene, pyridine-2,5-diyl, pyridazine-3,6-diyl, pyrimidine-2,5-diyl, naphthalene-2,6-diyl, or tetrahydronaphthalene-2,6-diyl; In this 1,4-phenylene, any hydrogen may be replaced by fluorine or chlorine, and any one or two hydrogens may be cyano, methyl, ethyl, methoxy, hydroxy, formyl, acetoxy, acetyl, trifluoroacetyl. , Difluoromethyl, or trifluoromethyl; G is at least one hydrogen chloride 4,4 "-terphenyl or at least one hydrogen substituted with fluorine, methyl, ethyl, isopropyl, methoxy, hydroxy, formyl, acetoxy, acetyl, trifluoroacetyl, difluoromethyl, or trifluoromethyl is chlorine, fluorine, 4,4′-biphenyl substituted with methyl, ethyl, isopropyl, methoxy, hydroxy, formyl, acetoxy, acetyl, trifluoroacetyl, difluoromethyl, or trifluoromethyl; Z is independently a single bond, — (CH 2 ) 2 , —CH═CH—, —C≡C—, —CH 2 O—, —OCH 2 —, —CF 2 O—, —OCF 2 —, —COO—, —OCO—, —CONH—, -NHCO -, - (CH 2) 4 -, - (CH 2) 2 COO -, - OCO (CH 2) 2 , —CH═CH—COO—, or —OCO—CH═CH—; P is alkylene having 1 to 20 carbons, and in this alkylene, any hydrogen may be replaced by fluorine or chlorine, —CH 2 — may be replaced with —O—, any one or two —CH 2 — may be replaced with —COO— or —OCO—, and any one —CH 2 —. -May be replaced by -CH = CH- or -C≡C-.
本発明の液晶化合物は、室温で重合する、空気中でも重合する、重合しやすい、液晶相の温度範囲が広い、化学的に安定である、無色である、溶媒に溶けやすい、他の重合性化合物との相溶性がよい、支持基板に対する付着張力が小さい、などの特性において、複数の特性を充足する。この化合物は、複数の特性に関して適切なバランスを有する。本発明の重合体は、この液晶化合物から得られる。この重合体は、光学異方性を有する、支持基板から剥離しにくい、充分な硬度を有する、無色透明である、耐熱性が大きい、耐候性が大きい、光弾性が小さい、などの物性を有する。 The liquid crystal compound of the present invention is polymerized at room temperature, polymerized in air, easily polymerized, wide temperature range of liquid crystal phase, chemically stable, colorless, easily soluble in solvent, other polymerizable compounds A plurality of characteristics are satisfied with respect to characteristics such as good compatibility with and low adhesion tension to the support substrate. This compound has an appropriate balance for multiple properties. The polymer of the present invention is obtained from this liquid crystal compound. This polymer has physical properties such as optical anisotropy, difficulty in peeling from the support substrate, sufficient hardness, colorless and transparent, high heat resistance, high weather resistance, and low photoelasticity. .
この明細書における用語の使い方は次のとおりである。液晶化合物は、液晶相を有する化合物、および液晶相を有しないが液晶組成物の成分として有用な化合物の総称である。液晶相はネマチック相、スメクチック相、コレステリック相などであり、多くの場合ネマチック相を意味する。重合性は、光、熱、触媒などの手段により単量体が重合し、重合体を与える能力を意味する。式(1)、式(M1)などで表わされる化合物を、それぞれ化合物(1)、化合物(M1)などのように表記することがある。化合物(1)などを含有する組成物から得られる重合体を重合体(1)と表記することがある。化合物(2)などを含有する組成物から得られる重合体を重合体(2)と表記することがある。 Terms used in this specification are as follows. A liquid crystal compound is a generic term for a compound having a liquid crystal phase and a compound having no liquid crystal phase but useful as a component of a liquid crystal composition. The liquid crystal phase is a nematic phase, a smectic phase, a cholesteric phase or the like, and often means a nematic phase. Polymerizability means the ability of a monomer to polymerize and give a polymer by means such as light, heat, or catalyst. A compound represented by formula (1), formula (M1), or the like may be represented as compound (1), compound (M1), or the like. A polymer obtained from a composition containing the compound (1) or the like may be referred to as a polymer (1). A polymer obtained from a composition containing the compound (2) or the like may be referred to as a polymer (2).
我々は、1)重合性の液晶化合物を重合させることによって、光学異方性を有する重合体が得られる、および2)オキセタン環を有する単量体は容易に開環重合する、という2つの知見を組み合わせることを着想した。この着想に基づいて研究したところ、予想した以上に良好な実験結果を得た。これらの結果をもとに検討を重ねて、下記の項を含む本件発明を完成させた。 We have two findings: 1) polymerizing a polymerizable liquid crystal compound to obtain a polymer having optical anisotropy, and 2) a monomer having an oxetane ring easily undergoes ring-opening polymerization. Inspired to combine. When research was conducted based on this idea, the experimental results were better than expected. Based on these results, studies were repeated and the present invention including the following items was completed.
1. 式(1)で表される化合物。
1. The compound represented by Formula (1).
式(1)において、R、P、A、G、Z、B、Q、Yなどの記号を用いた。2つの記号Rの意味が同一であってもよいし、または異なってもよい。このルールは記号P、A、G、Z、B、Q、Yについても適用する。このルールは他の式においても適用する。 In the formula (1), symbols such as R, P, A, G, Z, B, Q, and Y are used. The meanings of the two symbols R may be the same or different. This rule also applies to symbols P, A, G, Z, B, Q, and Y. This rule also applies to other expressions.
式(1)において、Rは水素または炭素数1〜8のアルキルであり、このアルキルにおいて任意の水素はフッ素または塩素で置き換えられてもよい。好ましいRは水素または炭素数1〜5のアルキルである。特に好ましいRはメチルまたはエチルである。 In the formula (1), R is hydrogen or alkyl having 1 to 8 carbon atoms, and in this alkyl, arbitrary hydrogen may be replaced with fluorine or chlorine. Preferred R is hydrogen or alkyl having 1 to 5 carbons. Particularly preferred R is methyl or ethyl.
Aは独立して1,4−シクロへキシレン、1,4−フェニレン、ピリジン−2,5−ジイル、ピリダジン−3,6−ジイル、ピリミジン−2,5−ジイル、ナフタレン−2,6−ジイル、またはテトラヒドロナフタレン−2,6−ジイルであり、この1,4−フェニレンにおいて任意の水素はフッ素または塩素で置き換えられてもよく、そして任意の1つまたは2つの水素はシアノ、メチル、エチル、メトキシ、ヒドロキシ、ホルミル、アセトキシ、アセチル、トリフルオロアセチル、ジフルオロメチル、またはトリフルオロメチルで置き換えられてもよい。 A is independently 1,4-cyclohexylene, 1,4-phenylene, pyridine-2,5-diyl, pyridazine-3,6-diyl, pyrimidine-2,5-diyl, naphthalene-2,6-diyl. Or tetrahydronaphthalene-2,6-diyl in which any hydrogen may be replaced by fluorine or chlorine and any one or two hydrogens may be cyano, methyl, ethyl, It may be replaced with methoxy, hydroxy, formyl, acetoxy, acetyl, trifluoroacetyl, difluoromethyl, or trifluoromethyl.
好ましいAは独立して1,4−フェニレン、2−フルオロ−1,4−フェニレン、2−クロロ−1,4−フェニレン、2−メチル−1,2−トリフルオロメチル−1,4−フェニレン、2,3−ジフルオロ−1,4−フェニレン、2,5−ジフルオロ−1,4−フェニレン、2,6−ジフルオロ−1,4−フェニレン、2,3,5−トリフルオロ−1,4−フェニレン、または2,3,5,6−テトラフルオロ−1,4−フェニレンである。 Preferred A is independently 1,4-phenylene, 2-fluoro-1,4-phenylene, 2-chloro-1,4-phenylene, 2-methyl-1,2-trifluoromethyl-1,4-phenylene, 2,3-difluoro-1,4-phenylene, 2,5-difluoro-1,4-phenylene, 2,6-difluoro-1,4-phenylene, 2,3,5-trifluoro-1,4-phenylene Or 2,3,5,6-tetrafluoro-1,4-phenylene.
特に好ましいAは独立して1,4−フェニレン、2−フルオロ−1,4−フェニレン、2−クロロ−1,4−フェニレン、2−メチル−1,4−フェニレン、2,3−ジフルオロ−1,4−フェニレン、2,5−ジフルオロ−1,4−フェニレン、2,6−ジフルオロ−1,4−フェニレンである。 Particularly preferred A is independently 1,4-phenylene, 2-fluoro-1,4-phenylene, 2-chloro-1,4-phenylene, 2-methyl-1,4-phenylene, 2,3-difluoro-1 , 4-phenylene, 2,5-difluoro-1,4-phenylene, 2,6-difluoro-1,4-phenylene.
Gは少なくとも1つの水素が塩素、フッ素、メチル、エチル、イソプロピル、メトキシ、ヒドロキシ、ホルミル、アセトキシ、アセチル、トリフルオロアセチル、ジフルオロメチル、またはトリフルオロメチルで置換された4,4”−ターフェニルまたは少なくとも1つの水素が塩素、フッ素、メチル、エチル、イソプロピル、メトキシ、ヒドロキシ、ホルミル、アセトキシ、アセチル、トリフルオロアセチル、ジフルオロメチル、またはトリフルオロメチルで置換された4,4'−ビフェニルである。 G is 4,4 ″ -terphenyl in which at least one hydrogen is replaced by chlorine, fluorine, methyl, ethyl, isopropyl, methoxy, hydroxy, formyl, acetoxy, acetyl, trifluoroacetyl, difluoromethyl, or trifluoromethyl, or At least one hydrogen is 4,4′-biphenyl substituted with chlorine, fluorine, methyl, ethyl, isopropyl, methoxy, hydroxy, formyl, acetoxy, acetyl, trifluoroacetyl, difluoromethyl, or trifluoromethyl.
好ましいGは少なくとも1つの水素が塩素、フッ素、メチル、エチル、またはトリフルオロメチルで置換された4,4”−ターフェニルまたは少なくとも1つの水素が塩素、フッ素、メチル、エチル、またはトリフルオロメチルで置換された4,4'−ビフェニルである。 Preferred G is 4,4 "-terphenyl in which at least one hydrogen is replaced by chlorine, fluorine, methyl, ethyl, or trifluoromethyl or at least one hydrogen is chlorine, fluorine, methyl, ethyl, or trifluoromethyl Substituted 4,4′-biphenyl.
より好ましいGは、以下の式(G−1)〜(G−15)のいずれかである。特に好ましいGは式(G−1)〜(G−4)および式(G−8)〜(G−11)のいずれかである。
More preferable G is any one of the following formulas (G-1) to (G-15). Particularly preferred G is any one of formulas (G-1) to (G-4) and formulas (G-8) to (G-11).
Zは独立して単結合、−(CH2)2−、−CH=CH−、−C≡C−、−CH2O−、−OCH2−、−CF2O−、−OCF2−、−COO−、−OCO−、−CONH−、−NHCO−、−(CH2)4−、−(CH2)2COO−、−OCO(CH2)2−、−CH=CH−COO−、または−OCO−CH=CH−である。 Z is independently a single bond, — (CH 2 ) 2 —, —CH═CH—, —C≡C—, —CH 2 O—, —OCH 2 —, —CF 2 O—, —OCF 2 —, -COO -, - OCO -, - CONH -, - NHCO -, - (CH 2) 4 -, - (CH 2) 2 COO -, - OCO (CH 2) 2 -, - CH = CH-COO-, Or -OCO-CH = CH-.
好ましいZは独立して単結合、−(CH2)2−、−C≡C−、−CH2O−、−OCH2−、−COO−、−OCO−、−CONH−、−NHCO−、−(CH2)4−、−(CH2)2COO−、−OCO(CH2)2−、−CH=CH−COO−、または−OCO−CH=CH−である。特に好ましいZは独立して−COO−、−OCO−、−(CH2)2COO−、−OCO(CH2)2−、−CH=CH−COO−、または−OCO−CH=CH−である。 Preferred Z is independently a single bond, — (CH 2 ) 2 —, —C≡C—, —CH 2 O—, —OCH 2 —, —COO—, —OCO—, —CONH—, —NHCO—, - (CH 2) 4 -, - (CH 2) 2 COO -, - OCO (CH 2) 2 -, - CH = CH-COO-, or -OCO-CH = CH- it is. Particularly preferred Z is independently —COO—, —OCO—, — (CH 2 ) 2 COO—, —OCO (CH 2 ) 2 —, —CH═CH—COO—, or —OCO—CH═CH—. is there.
Pは炭素数1〜20のアルキレンであり、このアルキレンにおいて任意の水素はフッ素または塩素で置き換えられてもよく、任意の−CH2−は−O−で置き換えられてもよく、任意の1つまたは2つの−CH2−は−COO−または−OCO−で置き換えられてもよく、そして任意の1つの−CH2−は−CH=CH−または−C≡C−で置き換えられてもよい。 P is alkylene having 1 to 20 carbon atoms, in which any hydrogen may be replaced with fluorine or chlorine, and any —CH 2 — may be replaced with —O—, Or two —CH 2 — may be replaced with —COO— or —OCO—, and any one —CH 2 — may be replaced with —CH═CH— or —C≡C—.
好ましいPは−O−、−O−(CH2)r−、−(CH2)r−O−、−(CH2)r−、−O−(CH2)r−O−、または−O−(CH2CH2O)s−であり、rが1から15の整数であり、そしてsが1から5の整数である。特に好ましいPが−O−または−O−(CH2)r−O−であり、そしてrが2から10の整数である。 Preferred P is —O—, —O— (CH 2 ) r—, — (CH 2 ) r—O—, — (CH 2 ) r—, —O— (CH 2 ) r—O—, or —O - (CH 2 CH 2 O) a s-, r is an integer of 1 to 15, and s is an integer from 1 to 5. Particularly preferred P is —O— or —O— (CH 2 ) r—O—, and r is an integer of 2 to 10.
2. 式(1)において、Rが水素または炭素数1〜5のアルキルであり、このアルキルにおいて任意の水素はフッ素または塩素で置き換えられてもよく;Aが独立して1,4−フェニレンであり、この1,4−フェニレンにおいて任意の水素はフッ素または塩素で置き換えられてもよく、そして任意の1つまたは2つの水素はメチル、エチルまたはトリフルオロメチルで置き換えられてもよく;Gが少なくとも1つの水素が塩素、フッ素、メチル、エチル、またはトリフルオロメチルで置換された4,4”−ターフェニルまたは少なくとも1つの水素が塩素、フッ素、メチル、エチル、またはトリフルオロメチルで置換された4,4'−ビフェニル;Zが独立して単結合、−(CH2)2−、−C≡C−、−CH2O−、−OCH2−、−COO−、−OCO−、−CONH−、−NHCO−、−(CH2)4−、−(CH2)2COO−、−OCO(CH2)2−、−CH=CH−COO−、または−OCO−CH=CH−であり;Pが炭素数1〜17のアルキレンであり、このアルキレンにおいて任意の−CH2−は−O−で置き換えられてもよく、任意の1つまたは2つの−CH2−は−COO−または−OCO−で置き換えられてもよく、そして任意の1つの−CH2−は−CH=CH−で置き換えられてもよい項1に記載の化合物。
3. 式(1)において、Rが水素または炭素数1〜5のアルキルであり、このアルキルにおいて任意の水素はフッ素または塩素で置き換えられてもよく;Aが独立して1,4−フェニレンであり、この1,4−フェニレンにおいて任意の水素はフッ素または塩素で置き換えられてもよく、そして任意の1つまたは2つの水素はメチル、エチルまたはトリフルオロメチルで置き換えられてもよく;Gが下記の構造を有し;
Zが独立して単結合、−(CH2)2−、−C≡C−、−CH2O−、−OCH2−、−COO−、−OCO−、−CONH−、−NHCO−、−(CH2)4−、−(CH2)2COO−、−OCO(CH2)2−、−CH=CH−COO−、または−OCO−CH=CH−であり;Pが炭素数1〜17のアルキレンであり、このアルキレンにおいて任意の−CH2−は−O−で置き換えられてもよく、任意の1つまたは2つの−CH2−は−COO−または−OCO−で置き換えられてもよく、そして任意の1つの−CH2−は−CH=CH−で置き換えられてもよい項1または2に記載の化合物。
4. 下記の式(2)〜(9)のいずれか1つで表される化合物。
2. In the formula (1), R is hydrogen or alkyl having 1 to 5 carbon atoms, and in this alkyl, arbitrary hydrogen may be replaced by fluorine or chlorine; A is independently 1,4-phenylene; In this 1,4-phenylene, any hydrogen may be replaced with fluorine or chlorine, and any one or two hydrogens may be replaced with methyl, ethyl or trifluoromethyl; G is at least one 4,4 "-terphenyl substituted with chlorine, fluorine, methyl, ethyl, or trifluoromethyl or 4,4 substituted with at least one hydrogen with chlorine, fluorine, methyl, ethyl, or trifluoromethyl '- biphenyl; Z is independently a single bond, - (CH 2) 2 - , - C≡C -, - CH 2 O -, - OCH 2 -, - C O -, - OCO -, - CONH -, - NHCO -, - (CH 2) 4 -, - (CH 2) 2 COO -, - OCO (CH 2) 2 -, - CH = CH-COO-, or -OCO-CH = CH- and is; P is alkylene of 1 to 17 carbon atoms, any in the alkylene -CH 2 - may be replaced by -O-, any one or two - Item 2. The compound according to Item 1, wherein CH 2 — may be replaced with —COO— or —OCO—, and any one —CH 2 — may be replaced with —CH═CH—.
3. In the formula (1), R is hydrogen or alkyl having 1 to 5 carbon atoms, and in this alkyl, arbitrary hydrogen may be replaced by fluorine or chlorine; A is independently 1,4-phenylene; In this 1,4-phenylene, any hydrogen may be replaced with fluorine or chlorine, and any one or two hydrogens may be replaced with methyl, ethyl, or trifluoromethyl; Having
Z is independently a single bond, — (CH 2 ) 2 —, —C≡C—, —CH 2 O—, —OCH 2 —, —COO—, —OCO—, —CONH—, —NHCO—, — (CH 2 ) 4 —, — (CH 2 ) 2 COO—, —OCO (CH 2 ) 2 —, —CH═CH—COO—, or —OCO—CH═CH—; 17 alkylene, in which any —CH 2 — may be replaced by —O—, and any one or two —CH 2 — may be replaced by —COO— or —OCO—. Item 3. The compound according to Item 1 or 2, wherein any one of —CH 2 — may be replaced by —CH═CH—.
4). The compound represented by any one of following formula (2)-(9).
上式において、Rが炭素数1〜5のアルキルであり;Aが独立して1,4−フェニレン、2−フルオロ−1,4−フェニレン、2−クロロ−1,4−フェニレン、2−メチル−1,2−トリフルオロメチル−1,4−フェニレン、2,3−ジフルオロ−1,4−フェニレン、2,5−ジフルオロ−1,4−フェニレン、2,6−ジフルオロ−1,4−フェニレン、2,3,5−トリフルオロ−1,4−フェニレン、または2,3,5,6−テトラフルオロ−1,4−フェニレンであり;Zが独立して単結合、−(CH2)2−、−C≡C−、−CH2O−、−OCH2−、−COO−、−OCO−、−CONH−、−NHCO−、−(CH2)4−、−(CH2)2COO−、−OCO(CH2)2−、−CH=CH−COO−、または−OCO−CH=CH−であり;Pが−O−、−O−(CH2)r−、−(CH2)r−O−、−(CH2)r−、−O−(CH2)r−O−、または−O−(CH2CH2O)s−であり、rが1から15の整数であり、そしてsが1から5の整数である化合物。 In the above formula, R is alkyl having 1 to 5 carbon atoms; A is independently 1,4-phenylene, 2-fluoro-1,4-phenylene, 2-chloro-1,4-phenylene, 2-methyl. -1,2-trifluoromethyl-1,4-phenylene, 2,3-difluoro-1,4-phenylene, 2,5-difluoro-1,4-phenylene, 2,6-difluoro-1,4-phenylene 2,3,5-trifluoro-1,4-phenylene, or 2,3,5,6-tetrafluoro-1,4-phenylene; Z is independently a single bond, — (CH 2 ) 2 —, —C≡C—, —CH 2 O—, —OCH 2 —, —COO—, —OCO—, —CONH—, —NHCO—, — (CH 2 ) 4 —, — (CH 2 ) 2 COO -, - OCO (CH 2) 2 -, - CH = CH-COO Or -OCO-CH = CH- and is,; -, - P is -O O- (CH 2) r - , - (CH 2) r-O -, - (CH 2) r -, - O- ( A compound wherein CH 2 ) r—O—, or —O— (CH 2 CH 2 O) s—, r is an integer from 1 to 15, and s is an integer from 1 to 5.
5. 式(2)〜(9)において、Rがメチルまたはエチルであり;Aが独立して1,4−フェニレン、2−フルオロ−1,4−フェニレン、2−クロロ−1,4−フェニレン、2−メチル−1,4−フェニレン、2,3−ジフルオロ−1,4−フェニレン、2,5−ジフルオロ−1,4−フェニレン、または2,6−ジフルオロ−1,4−フェニレンであり;Zが独立して−COO−、−OCO−、−(CH2)2COO−、−OCO(CH2)2−、−CH=CH−COO−または−OCO−CH=CH−であり;Pが−O−または−O−(CH2)r−O−であり、そしてrが2から10の整数である項4に記載の化合物。 5. In formulas (2) to (9), R is methyl or ethyl; A is independently 1,4-phenylene, 2-fluoro-1,4-phenylene, 2-chloro-1,4-phenylene, 2 -Methyl-1,4-phenylene, 2,3-difluoro-1,4-phenylene, 2,5-difluoro-1,4-phenylene, or 2,6-difluoro-1,4-phenylene; Independently —COO—, —OCO—, — (CH 2 ) 2 COO—, —OCO (CH 2 ) 2 —, —CH═CH—COO— or —OCO—CH═CH—; Item 5. The compound according to Item 4, wherein the compound is O— or —O— (CH 2 ) r—O—, and r is an integer of 2 to 10.
6. 式(2)〜(9)において、Rがメチルまたはエチルであり;Aが独立して1,4−フェニレン、2−フルオロ−1,4−フェニレン、2−クロロ−1,4−フェニレン、2−メチル−1,4−フェニレン、2,3−ジフルオロ−1,4−フェニレン、2,5−ジフルオロ−1,4−フェニレン、または2,6−ジフルオロ−1,4−フェニレンであり;Zが独立して−COO−、−OCO−、−(CH2)2COO−、または−OCO(CH2)2−であり;Pが−O−(CH2)r−O−であり、そしてrが2から10の整数である項4に記載の化合物。 6). In formulas (2) to (9), R is methyl or ethyl; A is independently 1,4-phenylene, 2-fluoro-1,4-phenylene, 2-chloro-1,4-phenylene, 2 -Methyl-1,4-phenylene, 2,3-difluoro-1,4-phenylene, 2,5-difluoro-1,4-phenylene, or 2,6-difluoro-1,4-phenylene; Independently —COO—, —OCO—, — (CH 2 ) 2 COO—, or —OCO (CH 2 ) 2 —; P is —O— (CH 2 ) r—O—, and r Item 5. The compound according to Item 4, wherein is an integer of 2 to 10.
7. 式(2)〜(9)において、Rがメチルまたはエチルであり;Aが独立して1,4−フェニレン、2−フルオロ−1,4−フェニレン、2−クロロ−1,4−フェニレン、または2−メチル−1,4−フェニレンであり;Zが独立して−COO−、−OCO−、−(CH2)2COO−、または−OCO(CH2)2−であり;Pが−O−(CH2)r−O−であり、そしてrが2から10の整数である項4に記載の化合物。 7). In formulas (2) to (9), R is methyl or ethyl; A is independently 1,4-phenylene, 2-fluoro-1,4-phenylene, 2-chloro-1,4-phenylene, or 2-methyl-1,4-phenylene; Z is independently —COO—, —OCO—, — (CH 2 ) 2 COO—, or —OCO (CH 2 ) 2 —; P is —O Item 5. The compound according to Item 4, which is — (CH 2 ) r—O—, and r is an integer of 2 to 10.
8. 式(2)〜(9)において、Rがメチルであり;Aが独立して1,4−フェニレンであり;Zが独立して−COO−または−OCO−であり;Pが−O−(CH2)r−O−であり、そしてrが2から10の整数である項4に記載の化合物。 8). In formulas (2) to (9), R is methyl; A is independently 1,4-phenylene; Z is independently —COO— or —OCO—; P is —O— ( Item 5. The compound according to Item 4, wherein the compound is CH 2 ) r—O—, and r is an integer of 2 to 10.
9. 式(2)〜(9)において、Rがエチルであり;Aが独立して1,4−フェニレンであり;Zが独立して−COO−または−OCO−であり;Pが−O−(CH2)r−O−であり、そしてrが2から10の整数である項4に記載の化合物。 9. In formulas (2) to (9), R is ethyl; A is independently 1,4-phenylene; Z is independently —COO— or —OCO—; P is —O— ( Item 5. The compound according to Item 4, wherein the compound is CH 2 ) r—O—, and r is an integer of 2 to 10.
10. 第一成分として、項1〜9のいずれか1項に記載の少なくとも1つの化合物を含有する組成物。 10. Item 10. A composition containing at least one compound according to any one of Items 1 to 9 as a first component.
11. 第二成分として、項1〜9のいずれか1項に記載の化合物とは異なる重合性の化合物をさらに含有する項10に記載の組成物。 11. Item 11. The composition according to Item 10, further comprising a polymerizable compound different from the compound according to any one of Items 1 to 9 as a second component.
12. 第二成分が式(M1)、式(M2)、式(M3)および式(M4)で表される化合物の群から選択される少なくとも1つの化合物である請求項10に記載の組成物。
式(M1)〜式(M4)において、Raは水素、フッ素、塩素、−CN、−OCF3、炭素数1〜20のアルキル、炭素数1〜20のアルコキシ、炭素数2〜20のアルコキシアルキル、炭素数2〜20のアルケニル、または炭素数2〜20のアルケニルオキシであり;Rbは水素または炭素数1〜5のアルキルであり;Bは独立して1,4−シクロへキシレンまたは1,4−フェニレンであり、この1,4−フェニレンにおいて任意の水素はフッ素で置き換えられてもよく、そして任意の1つまたは2つの水素はメチルまたはトリフルオロメチルで置き換えられてもよく、そしてBの1つはナフタレン−2,6−ジイル、フルオレン−2,7−ジイル、9−メチルフルオレン−2,7−ジイル、9−エチルフルオレン−2,7−ジイル、9,9−ジメチルフルオレン−2,7−ジイル、9−クロロフルオレン−2,7−ジイル、または9,9−ジフルオロフルオレン−2,7−ジイルであってもよく;Yは独立して単結合、−COO−、−OCO−、−(CH2)2−、または−C≡C−であり;Qは独立して単結合または炭素数1〜20のアルキレンであり、このアルキレンにおいて1つまたは2つの−CH2は−O−で置き換えられてもよく;そしてtは1または2である。
12 The composition according to claim 10, wherein the second component is at least one compound selected from the group of compounds represented by formula (M1), formula (M2), formula (M3) and formula (M4).
In the formulas (M1) to (M4), Ra is hydrogen, fluorine, chlorine, —CN, —OCF 3 , alkyl having 1 to 20 carbons, alkoxy having 1 to 20 carbons, or alkoxyalkyl having 2 to 20 carbons. , Alkenyloxy having 2 to 20 carbons, or alkenyloxy having 2 to 20 carbons; Rb is hydrogen or alkyl having 1 to 5 carbons; B is independently 1,4-cyclohexylene or 1, 4-phenylene, in which any hydrogen may be replaced by fluorine, and any one or two hydrogens may be replaced by methyl or trifluoromethyl, and B One is naphthalene-2,6-diyl, fluorene-2,7-diyl, 9-methylfluorene-2,7-diyl, 9-ethylfluorene-2,7-diyl, , 9-dimethylfluorene-2,7-diyl, 9-chlorofluorene-2,7-diyl, or 9,9-difluorofluorene-2,7-diyl; Y is independently a single bond, —COO—, —OCO—, — (CH 2 ) 2 —, or —C≡C—; Q is independently a single bond or alkylene having 1 to 20 carbons, and in this alkylene, one or two Two —CH 2 may be replaced by —O—; and t is 1 or 2.
13. 式(M1)〜式(M4)において、Raがフッ素、塩素、−CN、−OCF3、炭素数1〜15のアルキル、または炭素数2〜15のアルコキシであり;Rbが水素または炭素数1〜2のアルキルであり;Bが独立して1,4−シクロへキシレン、1,4−フェニレン、2−フルオロ−1,4−フェニレン、2−クロロ−1,4−フェニレン、2−メチル−1,4−フェニレン、2,3−ジフルオロ−1,4−フェニレン、2,5−ジフルオロ−1,4−フェニレン、2,6−ジフルオロ−1,4−フェニレン、9−メチルフルオレン−2,7−ジイル、9,9−ジメチルフルオレン−2,7−ジイルまたは9−エチルフルオレン−2,7−ジイルであってもよく;Yが独立して単結合、−COO−、−OCO−、または−C≡C−であり;Qが独立して単結合または炭素数1〜10のアルキレンであり、このアルキレンにおいて1つまたは2つの−CH2−は−O−で置き換えられてもよく;そしてtが1または2である請求項12に記載の組成物。 13. In the formulas (M1) to (M4), Ra is fluorine, chlorine, —CN, —OCF 3 , alkyl having 1 to 15 carbons, or alkoxy having 2 to 15 carbons; Rb is hydrogen or 1 carbon ~ 2 alkyl; B is independently 1,4-cyclohexylene, 1,4-phenylene, 2-fluoro-1,4-phenylene, 2-chloro-1,4-phenylene, 2-methyl- 1,4-phenylene, 2,3-difluoro-1,4-phenylene, 2,5-difluoro-1,4-phenylene, 2,6-difluoro-1,4-phenylene, 9-methylfluorene-2,7 -Diyl, 9,9-dimethylfluorene-2,7-diyl or 9-ethylfluorene-2,7-diyl; Y is independently a single bond, -COO-, -OCO-, or- C≡C- Q is independently a single bond or alkylene having 1 to 10 carbon atoms, in the alkylene one or two -CH 2 - may be replaced by -O-; and t is 1 or 2 wherein Item 13. The composition according to Item 12.
14. 式(M1)〜式(M4)において、Raがフッ素、塩素、−OCF3、炭素数1〜10のアルキル、または炭素数2〜10のアルコキシであり;Rbが水素または炭素数1〜2のアルキルであり;Bが独立して1,4−シクロへキシレン、1,4−フェニレン、2−フルオロ−1,4−フェニレン、2−クロロ−1,4−フェニレン、2−メチル−1,4−フェニレン、2,3−ジフルオロ−1,4−フェニレン、2,5−ジフルオロ−1,4−フェニレン、2,6−ジフルオロ−1,4−フェニレン、9−メチルフルオレン−2,7−ジイル、9,9−ジメチルフルオレン−2,7−ジイルまたは9−エチルフルオレン−2,7−ジイルであってもよく;Yが独立して単結合、−COO−、−OCO−、または−C≡C−であり;Qが独立して単結合、−(CH2)m−、−(CH2)m−O−、または−O−(CH2)m−であり、mが1〜10の整数;そしてtが1または2である項12に記載の組成物。 14 In the formulas (M1) to (M4), Ra is fluorine, chlorine, —OCF 3 , alkyl having 1 to 10 carbons, or alkoxy having 2 to 10 carbons; Rb is hydrogen or having 1 to 2 carbons B is independently 1,4-cyclohexylene, 1,4-phenylene, 2-fluoro-1,4-phenylene, 2-chloro-1,4-phenylene, 2-methyl-1,4 -Phenylene, 2,3-difluoro-1,4-phenylene, 2,5-difluoro-1,4-phenylene, 2,6-difluoro-1,4-phenylene, 9-methylfluorene-2,7-diyl, May be 9,9-dimethylfluorene-2,7-diyl or 9-ethylfluorene-2,7-diyl; Y is independently a single bond, —COO—, —OCO—, or —C≡C; -Is; Q is German A single bond, - (CH 2) m - , - (CH 2) m-O-, or -O- (CH 2) a m-, m is an integer from 1 to 10; and t is 1 or 2 Item 13. The composition according to Item 12, wherein
15. 第二成分が、式(M1)および式(M2)で表される化合物の群から選択される少なくとも1つの化合物、または式(M3)および式(M4)で表される化合物群から選択される化合物である項10または11に記載の組成物。 15. The second component is selected from at least one compound selected from the group of compounds represented by Formula (M1) and Formula (M2), or a group of compounds represented by Formula (M3) and Formula (M4) Item 12. The composition according to Item 10 or 11, which is a compound.
16. 第二成分が、式(M1)または式(M2)で表される化合物群から選択される化合物である項10または11に記載の組成物。 16. Item 12. The composition according to item 10 or 11, wherein the second component is a compound selected from the group of compounds represented by formula (M1) or formula (M2).
17. 項1〜9のいずれか1項に記載の化合物を重合させることによって得られる重合体。 17. Item 10. A polymer obtained by polymerizing the compound according to any one of Items 1 to 9.
18. 項10〜16のいずれか1項に記載の組成物を重合することによって得られる重合体。 18. Item 17. A polymer obtained by polymerizing the composition according to any one of Items 10 to 16.
19. 項1〜9のいずれか1項に記載の化合物または項10〜16のいずれか1項に記載の組成物を配向させた後、配向を保持したまま重合することによって得られる重合体。 19. Item 10. A polymer obtained by orienting the compound according to any one of items 1 to 9 or the composition according to any one of items 10 to 16, and then polymerizing while maintaining the orientation.
20. 項1〜9のいずれか1項に記載の化合物または請求項10〜16のいずれか1項に記載の組成物を配向させた後、配向を保持したまま重合することによって得られるフィルム。 20. A film obtained by orienting the compound according to any one of items 1 to 9 or the composition according to any one of claims 10 to 16 and then polymerizing while maintaining the orientation.
本発明の化合物は次の特徴を有する。この化合物は、室温で重合する、空気中でも重合する、重合しやすい、液晶相の温度範囲が広い、化学的に安定である、無色である、溶媒に溶けやすい、他の重合性化合物との相溶性がよい、支持基板に対する付着張力が小さい、などの特性を有する。この化合物は液晶相を有する。この液晶相の温度範囲は広い。この液晶相における分子の配向は、重合によっても維持される。つまり、重合によって分子の配向が固定化されるのである。アクリル基を有する液晶化合物の重合は、窒素の雰囲気下で行なうのが好ましいが、この化合物は空気中で重合させてもよい。この化合物は、小さい積算光量の紫外線を照射しても、適当な光重合開始剤の存在下、容易に重合する。この化合物は化学的に安定なので、保存安定性に優れる。この化合物は他の重合性化合物との相溶性がよいので、種々の組成を有する組成物が得られる。この化合物は支持基板に対してぬれ性が良いので、均一な塗膜(paint film)が得られ易い。これらのなかでも重要なのは、空気中でも重合する、重合しやすい、液晶相の温度範囲が広い、均一な塗膜が得られ易い、などの特性である。 The compounds of the present invention have the following characteristics. This compound polymerizes at room temperature, polymerizes in air, is easy to polymerize, has a wide liquid crystal phase temperature range, is chemically stable, is colorless, is soluble in solvents, and is compatible with other polymerizable compounds. It has characteristics such as good solubility and low adhesion tension to the support substrate. This compound has a liquid crystal phase. This liquid crystal phase has a wide temperature range. The molecular orientation in the liquid crystal phase is maintained by polymerization. That is, the molecular orientation is fixed by polymerization. The polymerization of the liquid crystal compound having an acrylic group is preferably carried out in an atmosphere of nitrogen, but this compound may be polymerized in air. This compound is easily polymerized in the presence of a suitable photopolymerization initiator even when irradiated with a small cumulative amount of ultraviolet light. Since this compound is chemically stable, it has excellent storage stability. Since this compound has good compatibility with other polymerizable compounds, compositions having various compositions can be obtained. Since this compound has good wettability with respect to the support substrate, it is easy to obtain a uniform paint film. Of these, important are the characteristics such as polymerization in the air, easy polymerization, wide temperature range of the liquid crystal phase, and easy uniform coating.
このような化合物から得られる重合体は次の特徴を有する。この重合体は、光学異方性を有する、支持基板から剥離しにくい、充分な硬度を有する、耐熱性が大きい、無色透明である、耐候性が大きい、光弾性(photoelasticity)が小さい、などの物性を有する。この重合体は、耐衝撃性、加工性、電気特性、耐溶剤性などの特性にも優れる。これらのなかでも重要なのは、支持基板から剥離しにくい、充分な硬度を有する、耐熱性が大きい、などの特性である。 A polymer obtained from such a compound has the following characteristics. This polymer has optical anisotropy, is difficult to peel from the support substrate, has sufficient hardness, has high heat resistance, is colorless and transparent, has high weather resistance, has low photoelasticity, etc. Has physical properties. This polymer is also excellent in properties such as impact resistance, processability, electrical properties, and solvent resistance. Of these, important characteristics are characteristics such as difficulty in peeling from the support substrate, sufficient hardness, and high heat resistance.
化合物(1)はオキセタン環を有する液晶化合物である。これらの化合物は重合性を有し、通常の取り扱い条件下では安定である。これらの化合物は、光カチオン重合触媒の存在下、紫外線などの照射によって、空気の雰囲気下であっても容易に室温で重合する。化合物(1)は配向膜などによって容易に配向する。したがって、得られた重合体には、配向の欠陥がないか、または少ない。 Compound (1) is a liquid crystal compound having an oxetane ring. These compounds are polymerizable and are stable under normal handling conditions. These compounds are easily polymerized at room temperature even in an air atmosphere by irradiation with ultraviolet rays or the like in the presence of a photocationic polymerization catalyst. The compound (1) is easily aligned by an alignment film or the like. Therefore, the obtained polymer has no or few alignment defects.
化合物(1)は、側鎖R、環A、環B、結合基Z、およびスペーサーPを適切に選択することによって、大きい誘電率異方性、小さい誘電率異方性、大きい光学異方性、小さい光学異方性、小さい粘度などの物性を調整することができる。 Compound (1) has a large dielectric anisotropy, a small dielectric anisotropy and a large optical anisotropy by appropriately selecting the side chain R, ring A, ring B, linking group Z, and spacer P. The physical properties such as small optical anisotropy and small viscosity can be adjusted.
Pが−O−(CH2)r−O−のとき、rの数が大きくなるほど、化合物(1)の融点が低いようである。Rがアルキルのとき、炭素数が少ない単量体は大きな耐熱性の重合体を与える傾向がある。 When P is —O— (CH 2 ) r—O—, the larger the number of r, the lower the melting point of the compound (1). When R is alkyl, monomers having a small number of carbons tend to give large heat resistant polymers.
Aが1,4−シクロヘキシレンのとき、単量体の光学異方性は小さい。Aが1,4−フェニレンのとき、単量体の光学異方性は大きい。Xの少なくとも1つが−COO−または−OCO−であるとき、化合物(1)は、より良好な液晶性を有する。Xの少なくとも1つが−C≡C−であるとき、化合物(1)は、大きな光学異方性を有する。Pが酸素(−O−)を有するとき、単量体の光学異方性は大きい。 When A is 1,4-cyclohexylene, the optical anisotropy of the monomer is small. When A is 1,4-phenylene, the optical anisotropy of the monomer is large. When at least one of X is —COO— or —OCO—, the compound (1) has better liquid crystallinity. When at least one of X is —C≡C—, the compound (1) has a large optical anisotropy. When P has oxygen (—O—), the optical anisotropy of the monomer is large.
化合物(1)は、2H(重水素)または13Cなどの同位体元素を自然に存在する割合より多く含んでもよい。このような場合でも化合物の物性に大きな差異はない。 Compound (1) may contain an isotope element such as 2 H (deuterium) or 13 C in an amount higher than that naturally occurring. Even in such a case, there is no significant difference in the physical properties of the compounds.
化合物(1)の物性は、重合体(1)の物性に反映される。物性のなかでも光学異方性が本発明の目的にとっては重要である。化合物(1)を含有する組成物を支持基板の上で重合させたとき、得られた重合体は支持基板から剥離しにくい。化合物(3)〜(6)は、粘度が小さいので、組成物の粘度を下げるにのに適している。化合物(7)または(8)は、液晶相の温度範囲が広いので、組成物における液晶相の温度範囲を広げるのに適している。 The physical properties of the compound (1) are reflected in the physical properties of the polymer (1). Among the physical properties, optical anisotropy is important for the purpose of the present invention. When the composition containing the compound (1) is polymerized on the support substrate, the obtained polymer is difficult to peel from the support substrate. Since the compounds (3) to (6) have a low viscosity, they are suitable for reducing the viscosity of the composition. Since the compound (7) or (8) has a wide temperature range of the liquid crystal phase, it is suitable for expanding the temperature range of the liquid crystal phase in the composition.
好ましい化合物(1)は、化合物(2)〜(9)である。特に好ましい化合物(1)は化合物(2a)〜(9a)、化合物(2b)〜(9b)、化合物(2c)〜(9c)である。 Preferred compounds (1) are compounds (2) to (9). Particularly preferred compounds (1) are compounds (2a) to (9a), compounds (2b) to (9b), and compounds (2c) to (9c).
これらの式において、Rはメチルまたはエチルであり、Pは−O−または−O−(CH2)r−O−であり、そしてrが2から10の整数であり、W17またはW18は塩素、フッ素、メチルまたはトリフルオロメチルである。 In these formulas, R is methyl or ethyl, P is —O— or —O— (CH 2 ) r—O—, and r is an integer from 2 to 10, W 17 or W 18 is Chlorine, fluorine, methyl or trifluoromethyl.
次に、化合物(1)の合成法を説明する。化合物(1)は、フーベン・ヴァイル(Houben Wyle, Methoden der Organischen Chemie, Georg Thieme Verlag, Stuttgart)、オーガニック・リアクションズ(Organic Reactions, John Wily & Sons Inc.)、オーガニック・シンセセーズ(Organic Syntheses, John Wily & Sons, Inc.)、コンプリヘンシブ・オーガニック・シンセシス(Comprehensive Organic Synthesis, Pergamon Press)、新実験化学講座(丸善)などに記載された、有機化学における合成方法を適切に組み合わせることにより合成できる。 Next, a synthesis method of compound (1) will be described. Compound (1) includes Houben Wyle, Methoden der Organischen Chemie, Georg Thieme Verlag, Stuttgart, Organic Reactions (Organic Reactions, John Wily & Sons Inc.), Organic Syntheses (John Wily & Sons, Inc.), Comprehensive Organic Synthesis (Pergamon Press), New Experimental Chemistry Course (Maruzen), etc., can be synthesized by appropriately combining synthetic methods in organic chemistry.
オキセタン環については、3−アルキル−3−オキセタンメタノールを出発物として利用することができる。3−エチル−3−オキセタンメタノールおよび3−メチル−3−オキセタンメタノールが市販されている。文献の方法に従って、これらの化合物と1,2−ジブロモエタン、1,4−ジブロモブタン、1,6−ジブロモヘキサン、1,8−ジブロモオクタンなどのα,ω−ジブロモメチレンとを反応させることによって、鎖長を延ばすことができる。文献は、Macromolecules, 24, 4531−4537 (1991)である。結合基Xの生成法は、特開2003−277359号公報(段落0040〜0053)に開示されている。フルオレン環に接続した結合基Xの生成法は、特開2003−238491号公報(段落0019〜0038)に開示されている。化合物(1)の合成スキームを例示する。 For the oxetane ring, 3-alkyl-3-oxetanemethanol can be used as a starting material. 3-ethyl-3-oxetanemethanol and 3-methyl-3-oxetanemethanol are commercially available. By reacting these compounds with α, ω-dibromomethylene such as 1,2-dibromoethane, 1,4-dibromobutane, 1,6-dibromohexane, 1,8-dibromooctane according to literature methods. , Can extend the chain length. The literature is Macromolecules, 24 , 4531-4537 (1991). A method for producing the linking group X is disclosed in JP-A-2003-277359 (paragraphs 0040 to 0053). A method for producing a linking group X connected to a fluorene ring is disclosed in JP-A-2003-238491 (paragraphs 0019 to 0038). The synthesis scheme of compound (1) is illustrated.
スキーム1.
Scheme 1.
Zが−COO−と−OOC−である組み合わせの化合物(2a)〜(5a)、Zが−CH=CH−COO−と−OCO−CH=CH−である組み合わせの化合物(2b)〜(5b)、Zが−(CH2)2COO−と−OCO(CH2)2−である化合物の組み合わせである化合物(2c)〜(5c)の合成をスキーム2に示す。スキーム中、Bnはベンジル基を表し、Kは単結合、−(CH2)2−または−CH=CH−を表す。
4−ベンジルオキシブロモベンゼン誘導体[a1]を金属マグネシウムによりグリニャール試薬とし、ホウ酸トリメチルと反応させて対応するホウ素酸誘導体[b]とする。ホウ素酸誘導体[b]とジブロモベンゼン誘導体[c]とのクロスカップリング反応を行い、カップリング体[d]を得る。カップリング反応にはパラジウム触媒を用いる。カップリング体[d]をパラジウム触媒の存在下で水素化分解して対応するジヒドロキシターフェニル誘導体[e]を得る。ジヒドロキシターフェニル誘導体[e]と2当量の化合物[f]とを反応させて、化合物(2)〜(5)を合成する。
Compounds (2a) to (5a) in combinations where Z is —COO— and —OOC—, and compounds (2b) to (5b) in combinations where Z is —CH═CH—COO— and —OCO—CH═CH—. ), And the synthesis of compounds (2c) to (5c), which is a combination of compounds in which Z is — (CH 2 ) 2 COO— and —OCO (CH 2 ) 2 —, is shown in Scheme 2. In the scheme, Bn represents a benzyl group, and K represents a single bond, — (CH 2 ) 2 — or —CH═CH—.
4-Benzyloxybromobenzene derivative [a1] is converted into a Grignard reagent with magnesium metal and reacted with trimethylborate to give the corresponding boronic acid derivative [b]. A cross-coupling reaction between the boronic acid derivative [b] and the dibromobenzene derivative [c] is performed to obtain a coupled product [d]. A palladium catalyst is used for the coupling reaction. The coupling product [d] is hydrocracked in the presence of a palladium catalyst to obtain the corresponding dihydroxyterphenyl derivative [e]. The dihydroxyterphenyl derivative [e] and 2 equivalents of the compound [f] are reacted to synthesize the compounds (2) to (5).
スキーム2
Scheme 2
別法をスキーム2に示す。ホウ素酸誘導体[b]と4−ブロモ−4'−ベンジルオキシビフェニル[i] とのクロスカップリング反応を行い、カップリング体を得る。カップリング体をパラジウム触媒の存在下で水素化分解して対応するジヒドロキシターフェニル誘導体を得る。ジヒドロキシターフェニル誘導体と2当量の化合物[f]とを反応させて、化合物(2)〜(5)を合成する。 An alternative method is shown in Scheme 2. A cross-coupling reaction between the boronic acid derivative [b] and 4-bromo-4′-benzyloxybiphenyl [i] is performed to obtain a coupled product. The coupling product is hydrocracked in the presence of a palladium catalyst to give the corresponding dihydroxyterphenyl derivative. Compounds (2) to (5) are synthesized by reacting a dihydroxyterphenyl derivative with 2 equivalents of compound [f].
スキーム3
Scheme 3
Zが−COO−と−OOC−である組み合わせの化合物(6a)〜(9a)、Zが−CH=CH−COO−と−OCO−CH=CH−である組み合わせの化合物(6b)〜(9b)、Zが−(CH2)2COO−と−OCO(CH2)2−である化合物の組み合わせである化合物(6c)〜(9c)の合成をスキーム3に示す。
ホウ素酸誘導体[b]と水酸基をベンジル(スキーム中;ベンジル=Bnで表す)で保護した4−ブロモフェノール[a2]とのクロスカップリング反応を行い、カップリング体[d]を得る。カップリング反応にはパラジウム触媒を用いる。カップリング体[g]をパラジウム触媒の存在下で水素化分解して対応するジヒドロキシビフェニル誘導体[h]を得る。ジヒドロキシビフェニル誘導体[h]と2当量の化合物[f]とを反応させて、化合物(6)〜(9)を合成する。
Compounds (6a) to (9a) in combinations where Z is —COO— and —OOC—, and compounds (6b) to (9b) in which Z is —CH═CH—COO— and —OCO—CH═CH—. ), And the synthesis of compounds (6c) to (9c), which is a combination of compounds in which Z is — (CH 2 ) 2 COO— and —OCO (CH 2 ) 2 —, is shown in Scheme 3.
A cross-coupling reaction between the boronic acid derivative [b] and 4-bromophenol [a2] in which the hydroxyl group is protected with benzyl (in the scheme; represented by benzyl = Bn) is performed to obtain a coupled product [d]. A palladium catalyst is used for the coupling reaction. The coupling body [g] is hydrocracked in the presence of a palladium catalyst to obtain the corresponding dihydroxybiphenyl derivative [h]. Compounds (6) to (9) are synthesized by reacting the dihydroxybiphenyl derivative [h] with 2 equivalents of the compound [f].
スキーム4
Scheme 4
ジヒドロキシビフェニル[h]はビフェニル誘導体[j]からフリーデルクラフツ反応によるアセチル化、過酸化物によるバイヤービリガー反応、加水分解の経路(スキーム4)でも合成できる Dihydroxybiphenyl [h] can also be synthesized from biphenyl derivative [j] by acetylation by Friedel-Crafts reaction, Bayer-bilger reaction by peroxide, and hydrolysis route (Scheme 4)
スキーム1〜スキーム4中の記号であるRはメチル、エチルであり、Kは単結合、−CH=CH−または−(CH2)2−であり、V1〜V16は水素、塩素、フッ素、メチル、トリフルオロメチルである。ただしV1〜V16のすべてが水素ではない。V17またはV18は水素、塩素、フッ素、メチル、トリフルオロメチルである。
このような方法で合成される化合物の例は、化合物No.1〜No.56である。
R in the schemes 1 to 4 is methyl or ethyl, K is a single bond, —CH═CH— or — (CH 2 ) 2 —, and V 1 to V 16 are hydrogen, chlorine, fluorine. , Methyl and trifluoromethyl. However, all of V 1 to V 16 are not hydrogen. V 17 or V 18 is hydrogen, chlorine, fluorine, methyl, trifluoromethyl.
Examples of compounds synthesized by such methods include Compound No. 1-No. 56.
次に、本発明の組成物について説明する。この組成物は第一成分として化合物(1)を含有する。この組成物は、通常は複数の化合物の混合物を意味するが、1つの化合物(1)であっても組成物ということがある。第一成分を含有する組成物を重合させることによって光学異方性を有する重合体が得られる。重合性化合物が第一成分のみであってもよい。この組成物は次のような組成物A、B、C、Dなどに分類される。組成物Aは化合物(1)の群から選ばれた1つの化合物を含有する。組成物Bは化合物(1)の群から選ばれた少なくとも2つの化合物を含有する。組成物Cは第一成分として化合物(1)の群から選ばれた少なくとも1つの化合物および第二成分として他の重合性化合物の群から選ばれた少なくとも1つの化合物を含有する。組成物Dは非重合性の化合物をさらに含有する組成物A、BまたはCである。 Next, the composition of the present invention will be described. This composition contains the compound (1) as a first component. This composition usually means a mixture of a plurality of compounds, but even one compound (1) may be referred to as a composition. By polymerizing the composition containing the first component, a polymer having optical anisotropy is obtained. The polymerizable compound may be only the first component. This composition is classified into the following compositions A, B, C, D and the like. Composition A contains one compound selected from the group of compounds (1). Composition B contains at least two compounds selected from the group of compounds (1). Composition C contains at least one compound selected from the group of compounds (1) as the first component and at least one compound selected from the group of other polymerizable compounds as the second component. Composition D is Composition A, B or C which further contains a non-polymerizable compound.
「他の重合性化合物」は、化合物(1)とは異なる重合性化合物(単量体)である。他の重合性化合物は、得られる重合体の特性を改善したり、修飾したりするのに有用である。他の重合性化合物は光学活性であってもよいし、または光学的に非活性であってもよい。光学的に非活性な重合性化合物の好ましい例は、オキシラニル基を有する化合物、オキセタニル基を有する化合物、ビニルエーテル基を有する化合物、ビニル基を有する化合物、アクリル基を有する化合物、メタアクリル基を有する化合物などである。これらの化合物の例は、特開平8−3111号公報などに記載されている。 The “other polymerizable compound” is a polymerizable compound (monomer) different from the compound (1). Other polymerizable compounds are useful for improving or modifying the properties of the resulting polymer. Other polymerizable compounds may be optically active or optically inactive. Preferred examples of the optically inactive polymerizable compound include a compound having an oxiranyl group, a compound having an oxetanyl group, a compound having a vinyl ether group, a compound having a vinyl group, a compound having an acrylic group, and a compound having a methacryl group Etc. Examples of these compounds are described in JP-A-8-3111.
組成物Cにおける好ましい第二成分は、すでに記載した化合物(M1)〜(M4)である。組成物Cは、エチルビニルエーテル、ヒドロキシブチルモノビニルエーテル、t−アミルビニルエーテル、シクロヘキサンジメタノールメチルビニルエーテル、3−エチル−3−ヒドロキシメチルオキセタン、3−メチル−3−ヒドロキシメチルオキセタン、ジ(3−エチル−オキセタ−3−イルメチル)、3−エチル−3−(2−エチルヘキシロキシメチル)オキセタンのような化合物をさらに含有してもよい。これらの化合物は、組成物の粘度を調整するのに適している。これらの化合物は、組成物を塗布するとき、塗膜の厚さを均一にする効果が大きい。重合性の光学活性な化合物は液晶相にらせん構造を誘起する。大きならせん誘起力(helical twist power)を有する化合物が好ましい。重合性の光学活性な化合物の好ましい例は化合物(OP1)〜(OP14)である。 Preferred second components in the composition C are the compounds (M1) to (M4) already described. Composition C comprises ethyl vinyl ether, hydroxybutyl monovinyl ether, t-amyl vinyl ether, cyclohexanedimethanol methyl vinyl ether, 3-ethyl-3-hydroxymethyl oxetane, 3-methyl-3-hydroxymethyl oxetane, di (3-ethyl- It may further contain a compound such as oxeta-3-ylmethyl), 3-ethyl-3- (2-ethylhexyloxymethyl) oxetane. These compounds are suitable for adjusting the viscosity of the composition. These compounds have a great effect of making the thickness of the coating film uniform when the composition is applied. The polymerizable optically active compound induces a helical structure in the liquid crystal phase. Compounds with a large helical twist power are preferred. Preferred examples of the polymerizable optically active compound are compounds (OP1) to (OP14).
これら式(OP1)〜式(OP13)の式中:R6はメチルまたはエチルであり、W1およびW2はそれぞれ独立して、水素、塩素、フッ素、またはシアノであり、W3およびW4はそれぞれ独立して、水素、塩素、フッ素、シアノ、メチルまたはトリフルオロメチルであり、X6は独立して、単結合または−O−であり、o、pおよびrはそれぞれ独立して、0〜20の整数である。そして*は不斉の位置を示す。化合物(OP10)〜(OP14)は軸不斉である。 In these formulas (OP1) to (OP13): R 6 is methyl or ethyl, W 1 and W 2 are each independently hydrogen, chlorine, fluorine, or cyano, and W 3 and W 4 Are each independently hydrogen, chlorine, fluorine, cyano, methyl or trifluoromethyl, X 6 is independently a single bond or —O—, and o, p and r are each independently 0 It is an integer of ~ 20. * Indicates an asymmetric position. Compounds (OP10) to (OP14) are axially asymmetric.
組成物Dは、液晶化合物、光学活性な化合物のような非重合性の化合物を含有する。液晶化合物の例は、富士通九州エンジニアリング社が販売する液晶化合物データベース(登録商標:LiqCryst)などに記載されている。このような化合物は、組成物の粘度を調整する、液晶相の温度範囲を調整する、という役割が期待できる。光学活性な化合物、組成物のピッチを調整するという役割が期待できる。 The composition D contains a non-polymerizable compound such as a liquid crystal compound or an optically active compound. Examples of liquid crystal compounds are described in a liquid crystal compound database (registered trademark: LiqCryst) sold by Fujitsu Kyushu Engineering. Such a compound can be expected to play a role of adjusting the viscosity of the composition and adjusting the temperature range of the liquid crystal phase. The role of adjusting the pitch of optically active compounds and compositions can be expected.
好ましい組成物は、第一成分として化合物(1)の少なくとも1つ、そして第二成分として化合物(M1)〜(M4)の少なくとも1つを含有する。この第二成分の化合物は、化合物(1)と共重合させるのに適した重合性基を有する。好ましい化合物(M1)〜(M4)は化合物(M1a)〜(M4c)である。 A preferred composition contains at least one of the compounds (1) as a first component and at least one of the compounds (M1) to (M4) as a second component. This second component compound has a polymerizable group suitable for copolymerization with the compound (1). Preferred compounds (M1) to (M4) are compounds (M1a) to (M4c).
これらの式中:R5はフッ素、塩素、−OCF3、炭素数1〜10のアルキル、または炭素数2〜10のアルコキシであり、R6は水素、メチルまたはエチルであり、W1およびW2は、独立して水素またはフッ素であり、W3およびW4は独立して水素、フッ素、メチルまたはトリフルオロメチルであり、X5およびX6は独立して単結合または−O−であり、mおよびnは独立して1から10の整数である。 In these formulas: R 5 is fluorine, chlorine, —OCF 3 , alkyl having 1 to 10 carbons, or alkoxy having 2 to 10 carbons, R 6 is hydrogen, methyl or ethyl, and W 1 and W 2 is independently hydrogen or fluorine, W 3 and W 4 are independently hydrogen, fluorine, methyl or trifluoromethyl, and X 5 and X 6 are independently a single bond or —O—. , M and n are each independently an integer of 1 to 10.
第一成分が化合物(1)の少なくとも1つであり、そして第二成分が化合物(M1)〜(M4)の少なくとも1つであるとき、好ましい組み合わせの例は、組成物(C1)〜(C6)である。好ましい組成物を表1にまとめる。化合物(M1)〜(M4)は、組成物における液晶相の温度範囲、粘度、液晶相の配向、重合体における皮膜形成性、機械的強度、支持基板との密着性、などを調整するのに都合がよい。第一成分の含有量は1〜99重量%であり、より好ましくは5〜95重量%である。第二成分の含有量は1〜99重量%であり、より好ましくは10〜95重量%である。 When the first component is at least one of the compounds (1) and the second component is at least one of the compounds (M1) to (M4), examples of preferred combinations are compositions (C1) to (C6 ). Preferred compositions are summarized in Table 1. The compounds (M1) to (M4) are used to adjust the temperature range of the liquid crystal phase, the viscosity, the orientation of the liquid crystal phase, the film-forming property in the polymer, the mechanical strength, the adhesion to the support substrate, and the like. convenient. The content of the first component is 1 to 99% by weight, more preferably 5 to 95% by weight. The content of the second component is 1 to 99% by weight, more preferably 10 to 95% by weight.
表1.好ましい組成物
Table 1. Preferred composition
組成物(C1)〜(C6)の特長は、次のとおりである。1)適当な光カチオン重合触媒の存在下、組成物に紫外線を照射することによって、重合体が容易に得られる。2)重合は、窒素の雰囲気下だけでなく、空気中でも進行する。3)組成物から重合体(フィルム)になるとき、サイズが小さくなりにくい。組成物(C1)〜(C6)のうち、特に好ましい例は、組成物(C1)、(C2)、(C3)である。これらの組成物の特長は次のとおりである。1)重合が早く短時間で高分子量のフィルムが得られる。2)寸法安定性に優れたフィルムが得られる。3)耐熱性に優れたフィルムが得られる。 The features of the compositions (C1) to (C6) are as follows. 1) A polymer can be easily obtained by irradiating the composition with ultraviolet rays in the presence of an appropriate photocationic polymerization catalyst. 2) Polymerization proceeds not only in an atmosphere of nitrogen but also in air. 3) When it becomes a polymer (film) from a composition, it is hard to become small in size. Among compositions (C1) to (C6), particularly preferred examples are compositions (C1), (C2), and (C3). The characteristics of these compositions are as follows. 1) Polymerization is fast and a high molecular weight film can be obtained in a short time. 2) A film excellent in dimensional stability can be obtained. 3) A film excellent in heat resistance can be obtained.
A、B、C、Dなどの組成物は、必要に応じてさらに添加物を含有してもよい。重合体の物性を調整するための添加物は、界面活性剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、微粒子などである。単量体を重合させるための添加物は、重合開始剤、光増光剤などである。組成物を希釈するためには有機溶媒が好ましい。これらの添加物の量は、その目的を達する程度の少ない量が好ましい。 Compositions such as A, B, C, and D may further contain additives as necessary. Additives for adjusting the physical properties of the polymer include surfactants, antioxidants, ultraviolet absorbers, and fine particles. Additives for polymerizing the monomer include a polymerization initiator and a photosensitizer. Organic solvents are preferred for diluting the composition. The amount of these additives is preferably small enough to achieve the purpose.
界面活性剤は組成物を支持基板などに塗布するのを容易にする、液晶相の配向を制御する、などの効果を有する。界面活性剤の例は、4級アンモニウム塩、アルキルアミンオキサイド、ポリアミン誘導体、ポリオキシエチレン−ポリオキシプロピレン縮合物、ポリエチレングリコールおよびそのエステル、ラウリル硫酸ナトリウム、ラウリル硫酸アンモニウム、ラウリル硫酸アミン類、アルキル置換芳香族スルホン酸塩、アルキルリン酸塩、パーフルオロアルキルスルホン酸塩、パフルオロアルキルカルボン酸塩、パーフルオロアルキルエチレンオキシド付加物、パーフルオロアルキルトリメチルアンモニウム塩などである。界面活性剤の好ましい量は、界面活性剤の種類、組成物の組成比などにより異なるが、光重合性の液晶組成物の重量に基づいて100ppmから5重量%の範囲である。さらに好ましい量は0.1から1重量%の範囲である。 The surfactant has effects such as easy application of the composition to a support substrate and the like, and controlling the orientation of the liquid crystal phase. Examples of surfactants include quaternary ammonium salts, alkylamine oxides, polyamine derivatives, polyoxyethylene-polyoxypropylene condensates, polyethylene glycol and esters thereof, sodium lauryl sulfate, ammonium lauryl sulfate, lauryl sulfate amines, alkyl-substituted fragrances. Group sulfonates, alkyl phosphates, perfluoroalkyl sulfonates, perfluoroalkyl carboxylates, perfluoroalkyl ethylene oxide adducts, perfluoroalkyl trimethyl ammonium salts, and the like. The preferable amount of the surfactant varies depending on the kind of the surfactant, the composition ratio of the composition, and the like, but is in the range of 100 ppm to 5% by weight based on the weight of the photopolymerizable liquid crystal composition. A more preferred amount is in the range of 0.1 to 1% by weight.
好ましい酸化防止剤は、ヒドロキノン、2,6−ジ−t−ブチル−p−クレゾール、2,6−ジ−t−ブチルフェノール、トリフェニルフォスファイト、トリアルキルフォスファイトなどである。好ましい市販品は、チバスペシャリティー社製のイルガノックス245、イルガノックス1035などである。 Preferred antioxidants are hydroquinone, 2,6-di-t-butyl-p-cresol, 2,6-di-t-butylphenol, triphenyl phosphite, trialkyl phosphite and the like. Preferred commercial products are Irganox 245 and Irganox 1035 manufactured by Ciba Specialty.
好ましい紫外線吸収剤は、チバスペシャリティー社製のチヌビンPS、チヌビン213、チヌビン109、チヌビン328、チヌビン384−2、チヌビン327などである。 Preferred UV absorbers are Tinuvin PS, Tinuvin 213, Tinuvin 109, Tinuvin 328, Tinuvin 384-2, Tinuvin 327, etc., manufactured by Ciba Specialty.
光学異方性を調整したり、重合体の強度を上げるために、微粒子を添加してもよい。好ましい微粒子の材質は、無機物、有機物、金属などである。好ましい無機物は、セラミックス、フッ素金雲母、フッ素四ケイ素雲母、テニオライト、フッ素バーミキュライト、フッ素ヘクトライト、ヘクトライト、サポナイト、スチブンサイト、モンモリロナイト、バイデライト、カオリナイト、フライポンタイト、ZnO、TiO2、CeO2、Al2O3、Fe2O3、ZrO2、MgF2、SiO2、SrCO3、Ba(OH)2、Ca(OH)2、Ga(OH)3、Al(OH)3、Mg(OH)2、Zr(OH)4などである。炭酸カルシウムの針状結晶などの微粒子は光学異方性を有する。このような微粒子によって、重合体の光学異方性を調節できる。 Fine particles may be added to adjust the optical anisotropy or increase the strength of the polymer. Preferred fine particle materials are inorganic, organic, metal, and the like. Preferred inorganic materials are ceramics, fluorine phlogopite, tetrasilica mica, teniolite, fluorine vermiculite, fluorine hectorite, hectorite, saponite, stevensite, montmorillonite, beidellite, kaolinite, frypontite, ZnO, TiO 2 , CeO 2 , Al 2 O 3 , Fe 2 O 3 , ZrO 2 , MgF 2 , SiO 2 , SrCO 3 , Ba (OH) 2 , Ca (OH) 2 , Ga (OH) 3 , Al (OH) 3 , Mg (OH) 2 , Zr (OH) 4 and the like. Fine particles such as calcium carbonate needle crystals have optical anisotropy. Such fine particles can adjust the optical anisotropy of the polymer.
好ましい有機物は、カーボンナノチューブ、フラーレン、デンドリマー、ポリビニルアルコール、ポリメタクリレート、ポリイミドなどである。微粒子の好ましい粒径は、0.001〜0.1μmである。より好ましい粒径は0.001〜0.05μmである。材質にもよるが、凝集現象を防止するために、小さい粒径が好ましい。粒径の分布はシャープな方が好ましい。好ましい添加量は、0.1〜30重量%である。添加の目的を達する限り、少ない割合が好ましい。 Preferred organic materials are carbon nanotubes, fullerenes, dendrimers, polyvinyl alcohol, polymethacrylates, polyimides and the like. The preferred particle size of the fine particles is 0.001 to 0.1 μm. A more preferable particle size is 0.001 to 0.05 μm. Depending on the material, a small particle size is preferred to prevent agglomeration. Sharper particle size distribution is preferred. A preferable addition amount is 0.1 to 30% by weight. A small proportion is preferable as long as the purpose of addition is achieved.
好ましい重合開始剤は光カチオン重合用の開始剤である。この開始剤は、特に組成物(C1)〜(C13)に適している。好ましい開始剤は、ジアリールヨードニウム塩(以下DASと略す)、トリアリールスルホニウム塩(以下TASと略す)などである。 A preferred polymerization initiator is an initiator for photocationic polymerization. This initiator is particularly suitable for the compositions (C1) to (C13). Preferred initiators include diaryliodonium salts (hereinafter abbreviated as DAS), triarylsulfonium salts (hereinafter abbreviated as TAS), and the like.
DASの例は、ジフェニルヨードニウムテトラフルオロボレート、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロホスホネート、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロアルセネート、ジフェニルヨードニウムテトラ(ペンタフルオロフェニル)ボレート、4−メトキシフェニルフェニルヨードニウムテトラフルオロボレート、4−メトキシフェニルフェニルヨードニウムヘキサフルオロホスホネート、4−メトキシフェニルフェニルヨードニウムヘキサフルオロアルセネート、ビス(4−tert−ブチルフェニル)ヨードニウムジフェニルヨードニウムテトラフルオロボレート、ビス(4−tert−ブチルフェニル)ヨードニウムジフェニルヨードニウムヘキサフルオロアルセネート、ビス(4−tert−ブチルフェニル)ヨードニウムジフェニルヨードニウムトリフルオロメタンスルホネートなどである。 Examples of DAS are diphenyliodonium tetrafluoroborate, diphenyliodonium hexafluorophosphonate, diphenyliodonium hexafluoroarsenate, diphenyliodonium tetra (pentafluorophenyl) borate, 4-methoxyphenylphenyliodonium tetrafluoroborate, 4-methoxyphenylphenyliodonium Hexafluorophosphonate, 4-methoxyphenylphenyl iodonium hexafluoroarsenate, bis (4-tert-butylphenyl) iodonium diphenyliodonium tetrafluoroborate, bis (4-tert-butylphenyl) iodonium diphenyliodonium hexafluoroarsenate, bis ( 4-tert-butylphenyl) iodonium di E sulfonyl iodonium trifluoromethanesulfonate and the like.
DASと光増感剤の組み合わせは好ましい。光増感剤の例は、チオキサントン、フェノチアジン、クロロチオキサントン、キサントン、アントラセン、ジフェニルアントラセン、ルブレンなどである。 A combination of DAS and photosensitizer is preferred. Examples of photosensitizers are thioxanthone, phenothiazine, chlorothioxanthone, xanthone, anthracene, diphenylanthracene, rubrene and the like.
TASの例は、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスホネート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロアルセネー、トリフェニルスルホニウムテトラ(ペンタフルオロフェニル)ボレート、4−メトキシフェニルジフェニルスルホニウムテトラフルオロボレート、4−メトキシフェニルジフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスホネート、4−メトキシフェニルジフェニルスルホニウムヘキサフルオロアルセネート、4−メトキシフェニルジフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホナート、4−メトキシフェニルジフェニルスルホニウムトリフェニルスルホニウムテトラ(ペンタフルオロフェニル)ボレート、4−フェニルチオフェニルジフェニルスルホニウムテトラフルオロボレート、4−フェニルチオフェニルジフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスホネート、4−フェニルチオフェニルジフェニルスルホニウムヘキサフルオロアルセネートなどである。 Examples of TAS are triphenylsulfonium hexafluorophosphonate, triphenylsulfonium hexafluoroarsenate, triphenylsulfonium tetra (pentafluorophenyl) borate, 4-methoxyphenyldiphenylsulfonium tetrafluoroborate, 4-methoxyphenyldiphenylsulfonium hexafluorophosphonate 4-methoxyphenyldiphenylsulfonium hexafluoroarsenate, 4-methoxyphenyldiphenylsulfonium trifluoromethanesulfonate, 4-methoxyphenyldiphenylsulfonium triphenylsulfonium tetra (pentafluorophenyl) borate, 4-phenylthiophenyldiphenylsulfonium tetrafluoroborate 4-phenylthiophenyldi E sulfonyl sulfonium hexafluorophosphonate, and the like 4-phenylthiophenyldiphenylsulfonium hexafluoroarsenate.
光カチオン重合に用いる開始剤の商品名の例は、みどり化学(株)のDTS−102などである。この例は、UCC社のサイラキューアーUVI−6990、サイラキュアーUVI−6974、サイラキュアーUVI−6992などである。この例は、旭電化(株)のアデカオプトマーSP−150、SP−152、SP−170、SP−172などである。この例は、ローディア社のPHOTOINITIATOR2074、チバスペシャリティー社のイルガキュアー250、GEシリコンズ社のUV−9380C、などである。 An example of a trade name of an initiator used for photocationic polymerization is DTS-102 of Midori Chemical Co., Ltd. Examples of this are U.S.C. Syracure UVI-6990, Syracure UVI-6974, Syracure UVI-6922, and the like. Examples of this include Adeka optomer SP-150, SP-152, SP-170, SP-172, etc. of Asahi Denka Co., Ltd. Examples are Rhodia's PHOTOINITITOR 2074, Ciba Specialty's Irgacure 250, GE Silicones' UV-9380C, and the like.
溶媒の例は、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、n−ブチルベンゼン、ジエチルベンゼン、テトラリン、メトキシベンゼン、1,2−ジメトキシベンゼン、エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、酢酸エチル、乳酸エチル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、γ−ブチロラクトン、2−ピロリドン、N−メチル−2−ピロリドン、ジメチルホルムアミド、クロロホルム、ジクロロメタン、四塩化炭素、ジクロロエタン、テトラクロロエチレン、トリクロロエチレン、テトラクロロエチレン、クロロベンゼン、t−ブチルアルコール、ジアセトンアルコール、グリセリン、モノアセチン、エチレングリコール、トリエチレングリコール、ヘキシレングリコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチルセルソルブ、ブチルセルソルブなどである。溶媒は単一化合物であってもよいし、または混合物であってもよい。 Examples of solvents are benzene, toluene, xylene, mesitylene, n-butylbenzene, diethylbenzene, tetralin, methoxybenzene, 1,2-dimethoxybenzene, ethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclopentanone. , Cyclohexanone, ethyl acetate, ethyl lactate, ethylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, γ-butyrolactone, 2-pyrrolidone, N-methyl-2-pyrrolidone, dimethylformamide, chloroform, dichloromethane , Carbon tetrachloride, dichloroethane, tetrachloroethylene, trichloroethylene Emissions, tetrachlorethylene, chlorobenzene, t- butyl alcohol, diacetone alcohol, glycerin, monoacetin, ethylene glycol, triethylene glycol, hexylene glycol, ethylene glycol monomethyl ether, ethyl cellosolve, and the like butyl cellosolve. The solvent may be a single compound or a mixture.
次に、重合体について説明する。化合物(1)は重合性の基を有する。これらの化合物を含有する組成物を重合させることによって重合体が得られる。得られた重合体は光学異方性を有する。反応の種類はアニオン重合、カチオン重合、配位重合、リビング重合などである。重合性基の性質を考慮すると、好ましい反応はカチオン重合である。配向の優れた重合体を得るときは、光の照射によるカチオン重合がさらに好ましい。組成物が液晶である条件下で、重合を行なわせるのが容易だからである。 Next, the polymer will be described. Compound (1) has a polymerizable group. A polymer is obtained by polymerizing a composition containing these compounds. The obtained polymer has optical anisotropy. The kind of reaction is anionic polymerization, cationic polymerization, coordination polymerization, living polymerization and the like. Considering the nature of the polymerizable group, the preferred reaction is cationic polymerization. When obtaining a polymer with excellent orientation, cationic polymerization by irradiation with light is more preferred. This is because it is easy to perform polymerization under the condition that the composition is liquid crystal.
好ましい光の種類は、紫外線、可視光線、赤外線などである。電子線、X線などの電磁波を用いてもよい。通常は、紫外線または可視光線が好ましい。好ましい波長の範囲は150〜500nmである。さらに好ましい範囲は250〜450nmであり、最も好ましい範囲は300〜400nmである。光源は、低圧水銀ランプ(殺菌ランプ、蛍光ケミカルランプ、ブラックライト)、高圧放電ランプ(高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ)、またはショートアーク放電ランプ(超高圧水銀ランプ、キセノンランプ、水銀キセノンランプ)などである。好ましい光源は超高圧水銀ランプである。光源からの光はそのまま組成物に照射してもよい。フィルターによって選択した特定の波長(または特定の波長領域)を組成物に照射してもよい。好ましい照射エネルギー密度は、2〜5000mJ/cm2である。さらに好ましい範囲は10〜3000mJ/cm2である。特に好ましい範囲は100〜2000mJ/cm2である。好ましい照度は0.1〜5000mW/cm2である。さらに好ましい照度は1〜2000mW/cm2である。組成物が液晶相を有するように、光を照射するときの温度を設定する。好ましい照射温度は100℃以下である。100℃以上の温度では熱による重合が起こりうるので、良好な配向が得られないときがある。 Preferred types of light are ultraviolet light, visible light, infrared light, and the like. Electromagnetic waves such as electron beams and X-rays may be used. Usually, ultraviolet rays or visible rays are preferable. A preferable wavelength range is 150 to 500 nm. A more preferable range is 250 to 450 nm, and a most preferable range is 300 to 400 nm. The light source is a low-pressure mercury lamp (sterilization lamp, fluorescent chemical lamp, black light), high-pressure discharge lamp (high-pressure mercury lamp, metal halide lamp), or short arc discharge lamp (super-high pressure mercury lamp, xenon lamp, mercury xenon lamp). is there. A preferred light source is an ultra high pressure mercury lamp. You may irradiate the composition with the light from a light source as it is. The composition may be irradiated with a specific wavelength (or a specific wavelength region) selected by a filter. A preferable irradiation energy density is 2 to 5000 mJ / cm 2 . A more preferable range is 10 to 3000 mJ / cm 2 . A particularly preferable range is 100 to 2000 mJ / cm 2 . A preferable illuminance is 0.1 to 5000 mW / cm 2 . Further preferable illuminance is 1 to 2000 mW / cm 2 . The temperature at which light is irradiated is set so that the composition has a liquid crystal phase. A preferable irradiation temperature is 100 ° C. or less. Since polymerization by heat can occur at a temperature of 100 ° C. or higher, there are cases where good orientation cannot be obtained.
組成物Aを重合させるとき、単独重合体が得られる。この単独重合体は1つの構成単位からなる。組成物Bまたは組成物Cを重合させるとき、共重合体が得られる。この共重合体は少なくとも2つの構成単位を有する。共重合体における構成単位の配列は、ランダム、ブロック、交互などのいずれであってもよい。組成物Dを重合させるとき、非重合性の化合物を不均一に含有する重合体が得られる。この重合体は少なくとも1つの構成単位を有する。 When polymerizing composition A, a homopolymer is obtained. This homopolymer consists of one structural unit. When composition B or composition C is polymerized, a copolymer is obtained. This copolymer has at least two structural units. The arrangement of the structural units in the copolymer may be random, block, alternating, or the like. When the composition D is polymerized, a polymer containing a non-polymerizable compound inhomogeneously is obtained. The polymer has at least one structural unit.
化合物(1)を単量体として使用することによって熱硬化性樹脂を合成できる。この樹脂は、三次元の架橋構造を有するので、溶媒に溶けないし、融解しない。したがって、分子量を測定できない。熱硬化性樹脂を合成するとき、共重合における好ましい第二成分は化合物(M1)〜(M4)などである。 A thermosetting resin can be synthesized by using the compound (1) as a monomer. Since this resin has a three-dimensional crosslinked structure, it does not dissolve in a solvent and does not melt. Therefore, the molecular weight cannot be measured. When synthesizing the thermosetting resin, preferred second components in the copolymerization are compounds (M1) to (M4).
重合体の形状は、フィルム、板などである。重合体は成形されてもよい。フィルムの重合体を得るには、一般に支持基板が用いられる。支持基板の上に組成物を塗布し、液晶相を有している塗膜(paint film)を重合させるとフィルムが得られる。好ましい重合体の厚さは、重合体の光学異方性の値および用途に依存する。従って、その範囲を厳密に決定することはできないが、好ましい厚さは0.05〜50μmの範囲であり、より好ましい厚さは0.1〜20μmの範囲である。特に好ましい厚さは0.5〜10μmの範囲である。これらの重合体のヘイズ値(haze value;曇り度)は、概して1.5%以下である。これらの重合体の透過率は、可視光領域において一般的に80%以上である。したがって、これらの重合体は液晶表示素子に用いる光学異方性の薄膜として適している。 The shape of the polymer is a film, a plate or the like. The polymer may be molded. In order to obtain a film polymer, a support substrate is generally used. A film is obtained by applying the composition on a support substrate and polymerizing a paint film having a liquid crystal phase. The preferred polymer thickness depends on the value of the optical anisotropy of the polymer and the application. Therefore, although the range cannot be determined strictly, the preferable thickness is in the range of 0.05 to 50 μm, and the more preferable thickness is in the range of 0.1 to 20 μm. A particularly preferred thickness is in the range of 0.5 to 10 μm. The haze value (haze value) of these polymers is generally 1.5% or less. The transmittance of these polymers is generally 80% or more in the visible light region. Therefore, these polymers are suitable as optically anisotropic thin films used for liquid crystal display elements.
支持基板の例は、トリアセチルセルロース、ポリビニルアルコール、ポリイミド、ポリエステル、ポリアリレート、ポリエーテルイミド、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなどである。商品名の例は、JSR(株)の「アートン」、日本ゼオン(株)の「ゼオネックス」および「ゼオノア」、三井化学(株)の「アペル」などである。支持基板は一軸延伸フィルム、二軸延伸フィルムなどである。好ましい支持基板はトリアセチルセルロース(TAC)フィルムまたは「ゼオノア」である。このフィルムを前処理することなくそのまま用いてもよい。このフィルムは、必要に応じて、鹸化処理、コロナ放電処理、UV−オゾン処理などの表面処理を行ってもよい。その他の例は、アルミニウム、鉄、銅などの金属製の支持基板、アルカリガラス、ホウ珪酸ガラス、フリントガラスなどのガラス製の支持基板などである。 Examples of the support substrate are triacetyl cellulose, polyvinyl alcohol, polyimide, polyester, polyarylate, polyetherimide, polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, and the like. Examples of product names include “Arton” from JSR Corporation, “Zeonex” and “Zeonoa” from Nippon Zeon Corporation, “Apel” from Mitsui Chemicals, Inc., and the like. The support substrate is a uniaxially stretched film, a biaxially stretched film, or the like. A preferred support substrate is a triacetyl cellulose (TAC) film or “Zeonor”. You may use this film as it is, without pre-processing. This film may be subjected to a surface treatment such as a saponification treatment, a corona discharge treatment, or a UV-ozone treatment as necessary. Other examples include a support substrate made of metal such as aluminum, iron and copper, and a support substrate made of glass such as alkali glass, borosilicate glass and flint glass.
支持基板上の塗膜は、組成物をそのまま塗布することによって調製される。塗膜は、組成物を適切な溶媒に溶かして塗布したあと、溶媒を除去することによっても調製される。塗布の方法は、スピンコート、ロールコート、カテンコート、フローコート、プリント、マイクログラビアコート、グラビアコート、ワイヤーバーコート、デップコート、スプレーコート、メニスカスコート、流延成膜法などである。 The coating film on the support substrate is prepared by applying the composition as it is. The coating film can also be prepared by dissolving the composition in a suitable solvent and applying it, and then removing the solvent. Examples of the coating method include spin coating, roll coating, caten coating, flow coating, printing, micro gravure coating, gravure coating, wire bar coating, dip coating, spray coating, meniscus coating, and cast film formation.
液晶組成物の配向を決定する因子は、1)重合性化合物の化学構造、2)支持基板の種類、3)配向処理の方法、などである。項1)に関しては、重合性化合物の側鎖、環、結合基、重合性基などの種類に依存する。項2)に関しては、重合体、ガラス、金属などのような支持基板の材質に依存する。項3)に関しては、レーヨン布などで一方向にこする(ラビング)、酸化ケイ素を斜方蒸着させる、スリット状にエッチング加工する、などの方法がある。ラビング処理においては、支持基板を直接的にラビングしてもよい。支持基板をポリイミド、ポリビニルアルコールなどの薄膜でコーティングし、この薄膜をラビングしてもよい。ラビング処理をしなくても、良好な配向を与える特殊な薄膜も知られている。 Factors that determine the alignment of the liquid crystal composition are 1) the chemical structure of the polymerizable compound, 2) the type of the supporting substrate, 3) the method of alignment treatment, and the like. The item 1) depends on the type of the side chain, ring, bonding group, polymerizable group and the like of the polymerizable compound. Regarding item 2), it depends on the material of the support substrate such as polymer, glass, metal and the like. Regarding item 3), there are methods such as rubbing in one direction with a rayon cloth or the like (rubbing), oblique deposition of silicon oxide, or etching into a slit shape. In the rubbing process, the support substrate may be directly rubbed. The support substrate may be coated with a thin film such as polyimide or polyvinyl alcohol, and the thin film may be rubbed. Special thin films that give good orientation without rubbing are also known.
液晶分子の配向状態による分類は、ホモジニアス(homogenerous;平行)、ホメオトロピック(homeotropic;垂直)、ハイブリッド(hybrid)、チルト(tilt)、ツイスト(twist)などである。ホモジニアスは、配向ベクトルが基板に平行で、かつ一方向にある状態をいう。ホメオトロピックは、配向ベクトルが基板に垂直である状態をいう。ハイブリッドは、配向ベクトルが基板から離れるにしたがって、平行から垂直に立ちあがっている状態をいう。チルトは、配向ベクトルが基板に対して、一定の傾き角で起きあがっている状態をいう。これらの配向は、ネマチック相などを有する組成物で観察される。一方、ツイスト配向は、キラルなネマチック相、コレステリック相などを有する組成物で観察される。ツイストは、配向ベクトルが基板に平行ではあるが、基板から離れるにしたがって、漸次ねじれている状態をいう。このねじれは光学活性な基の作用によって生起する。 Classification according to the alignment state of liquid crystal molecules includes homogenous (parallel), homeotropic (vertical), hybrid, tilt, twist, and the like. Homogeneous means a state in which the orientation vector is parallel to the substrate and in one direction. Homeotropic means a state in which the orientation vector is perpendicular to the substrate. Hybrid refers to a state in which the orientation vector rises from parallel to vertical as the distance from the substrate increases. Tilt refers to a state in which the orientation vector is rising with a constant tilt angle with respect to the substrate. These orientations are observed in a composition having a nematic phase or the like. On the other hand, twist orientation is observed in a composition having a chiral nematic phase, a cholesteric phase, or the like. The twist refers to a state in which the orientation vector is parallel to the substrate but gradually twists as the distance from the substrate increases. This twist is caused by the action of an optically active group.
重合体の用途について説明する。この重合体は、光学異方性を有する成形体として使用できる。この重合体を含有する素子は、位相差板(1/2波長板、1/4波長板など)、反射防止膜、選択反射膜、視野角補償膜などの光学フィルムである。ホモジニアス、ハイブリット、ホメオトロピックなどの配向を有する重合体は、位相差板、偏光素子、液晶配向膜、反射防止膜、選択反射膜、視野角補償膜、などに利用できる。ツイストなどの配向を有する重合体は、位相差板、偏光素子、選択反射膜、視野角補償膜などに利用できる。このような重合体は、液晶ディスプレイの位相差板や視野角補償膜などに、光学補償を目的として用いられる。このような重合体は、高熱伝導性エポキシ樹脂、接着剤、機械的異方性を持つ合成高分子、化粧品、装飾品、非線型光学材料、情報記憶材料などにも利用できる。 The use of the polymer will be described. This polymer can be used as a molded product having optical anisotropy. The element containing this polymer is an optical film such as a retardation plate (a half-wave plate, a quarter-wave plate, etc.), an antireflection film, a selective reflection film, and a viewing angle compensation film. Polymers having orientation such as homogeneous, hybrid, and homeotropic can be used for retardation plates, polarizing elements, liquid crystal alignment films, antireflection films, selective reflection films, viewing angle compensation films, and the like. Polymers having an orientation such as twist can be used for retardation plates, polarizing elements, selective reflection films, viewing angle compensation films, and the like. Such a polymer is used for the purpose of optical compensation in a retardation plate of a liquid crystal display, a viewing angle compensation film, and the like. Such a polymer can also be used for highly heat-conductive epoxy resins, adhesives, synthetic polymers having mechanical anisotropy, cosmetics, decorations, nonlinear optical materials, information storage materials, and the like.
熱硬化性樹脂は液晶表示素子の構成要素である位相差板、偏光素子、液晶配向膜、反射防止膜、選択反射膜、視野角補償膜などの用途に適している。 The thermosetting resin is suitable for uses such as a retardation plate, a polarizing element, a liquid crystal alignment film, an antireflection film, a selective reflection film, and a viewing angle compensation film, which are constituent elements of a liquid crystal display element.
位相差板は偏光の状態を変換する機能を有する。1/2波長機能板は、直線偏光の振動方向を90度回転させる機能を有する。d=λ/2×Δnの式を満たすように組成物を支持基板上に塗布する。ここで、dは組成物の厚さ、λは波長、Δnは光学異方性である。この組成物の配向させたあと、光重合させることによって1/2波長機能板が得られる。一方、1/4波長機能板は、直線偏光を円偏光に、または円偏光を直線偏光に変換する機能を有する。この場合には、d=λ/4×Δnの条件を満たすように組成物の塗膜を調製すればよい。重合体の厚さ(d)は次のように調整される。組成物を溶媒で希釈したあと、支持基板上に塗布する方法では、組成物の濃度、塗布する方法、塗布する条件などを適切に選択することによって、目的とする厚さの塗膜を得ることができる。液晶セルを利用する方法も好ましい。液晶セルはポリイミドなどの配向膜を有しているので都合がよい。この液晶セルに組成物を注入する場合には、液晶セルの間隔によって塗膜の厚さを調整することができる。 The retardation plate has a function of converting the polarization state. The half-wave function plate has a function of rotating the vibration direction of linearly polarized light by 90 degrees. The composition is applied onto the support substrate so as to satisfy the formula d = λ / 2 × Δn. Here, d is the thickness of the composition, λ is the wavelength, and Δn is the optical anisotropy. After the composition is oriented, it is photopolymerized to obtain a half-wavelength functional plate. On the other hand, the 1/4 wavelength functional plate has a function of converting linearly polarized light into circularly polarized light or converting circularly polarized light into linearly polarized light. In this case, a coating film of the composition may be prepared so as to satisfy the condition of d = λ / 4 × Δn. The thickness (d) of the polymer is adjusted as follows. In the method of applying the composition on a support substrate after diluting the composition with a solvent, a coating film having a desired thickness can be obtained by appropriately selecting the concentration of the composition, the application method, the application conditions, and the like. Can do. A method using a liquid crystal cell is also preferable. The liquid crystal cell is convenient because it has an alignment film such as polyimide. When injecting the composition into the liquid crystal cell, the thickness of the coating film can be adjusted by the interval of the liquid crystal cell.
ツイスト配向を有する重合体は、位相差板として有用である。らせんのピッチが、波長の1/n(nは重合体の平均屈折率)であるとき、この波長の光はブラッグの法則に従って反射され、円偏光に変換される。円偏光の方向は、らせんの方向、すなわち光学活性な化合物の立体配置に依存する。光学性な化合物の立体配置を適切に選択することによって、円偏光の方向を決めることができる。この重合体は、円偏光分離機能素子として有用である。 A polymer having a twist orientation is useful as a retardation plate. When the pitch of the helix is 1 / n of the wavelength (n is the average refractive index of the polymer), light of this wavelength is reflected according to Bragg's law and converted to circularly polarized light. The direction of circularly polarized light depends on the direction of the helix, that is, the configuration of the optically active compound. The direction of circularly polarized light can be determined by appropriately selecting the configuration of the optical compound. This polymer is useful as a circularly polarized light separating functional element.
この重合体は、輝度向上フィルムとしても有用である。例えば特開平6−281814号公報などに開示された方法に従えば、らせんピッチが厚さ方向に連続的延びる重合体が得られる。この重合体は、ピッチに応じた広い波長領域の光を反射することができる。この重合体は、100〜350nm(または波長350〜750nm)の領域の光を選択的に反射することができる。 This polymer is also useful as a brightness enhancement film. For example, according to the method disclosed in JP-A-6-281814, a polymer in which the helical pitch continuously extends in the thickness direction can be obtained. This polymer can reflect light in a wide wavelength range corresponding to the pitch. This polymer can selectively reflect light in a region of 100 to 350 nm (or a wavelength of 350 to 750 nm).
物性の測定法を記載したあと、実施例により本発明を詳細に説明する。実施例は、本発明の一例である。本発明は下記の実施例によって限定されない。組成物の割合は、重量%(wt%)である。 After describing the measurement methods of physical properties, the present invention will be described in detail by examples. The example is an example of the present invention. The present invention is not limited by the following examples. The proportion of the composition is wt% (wt%).
相転移温度は、偏光顕微鏡を備えた融点測定装置のホットプレートに試料を置き、1℃/分の速度で昇温した。液晶相が転移する温度を測定した。Cは結晶、Nはネマチック相、Chはコレステリック相、SmAはスメクチックA相、Iは等方性液体を意味する。NI点は、ネマチック相の上限温度またはネマチック相から等方性液体への転移温度である。「C50N63I」は、50℃で結晶からネマチック相に転移し、63℃でネマチック相から等方性液体へ転移したことを示す。 The phase transition temperature was raised at a rate of 1 ° C./min by placing a sample on a hot plate of a melting point measurement apparatus equipped with a polarizing microscope. The temperature at which the liquid crystal phase transitions was measured. C is a crystal, N is a nematic phase, Ch is a cholesteric phase, SmA is a smectic A phase, and I is an isotropic liquid. The NI point is the upper limit temperature of the nematic phase or the transition temperature from the nematic phase to the isotropic liquid. “C50N63I” indicates that the crystal transitioned to the nematic phase at 50 ° C., and the transition from the nematic phase to the isotropic liquid at 63 ° C.
セロテープ(登録商標)剥離試験は、JIS規格「JIS−K−5400、8.5、付着性(8.5.2、碁盤目テープ法)」の試験法に従った。つまり、100のます目のうち、剥離しなかったます目の数によって、結果を評価した。 The cellotape (registered trademark) peel test was in accordance with the test method of JIS standard “JIS-K-5400, 8.5, adhesion (8.5.2, cross-cut tape method)”. That is, the result was evaluated by the number of squares that did not peel out of 100 squares.
鉛筆硬度は、JIS規格「JIS−K−5400、8.4、鉛筆引掻試験」の方法に従った。結果を鉛筆の芯の硬さで表した。 Pencil hardness followed the method of JIS standard "JIS-K-5400, 8.4, pencil scratch test". The result was expressed by the hardness of the pencil lead.
耐熱性試験は、100℃で500時間の条件で行ない、結果はリタデーション(retardation)の変動によって評価した。ガラス基板にポリアミック酸(チッソ(株)のPIA5310)を塗布したあと、210℃で30分加熱して支持基板を得た。加熱によって生成したポリイミドの表面はレーヨン布でラビングした。試料の組成物をトルエンとシクロペンタノンの混合溶媒(重量比で2:1)で希釈して30重量%の溶液を調製した。溶液をスピンコータで支持基板に塗布し、70℃で3分間加熱したあと、生成した塗膜に超高圧水銀灯(250W/cm)を使って紫外線を60℃で10秒間照射した。得られた重合体のリタデーションを25℃で測定した。重合体を100℃で500時間加熱したあと、再度リタデーションを25℃で測定した。2つの値を比較して耐熱性を評価した。リタデーションは、文献の方法に従い、セナルモン・コンペンセータ(Senarmont compensator)を用いて測定した。使用した波長は550nmである。文献は、粟屋裕著、「高分子素材の偏光顕微鏡入門」、94頁、アグネ技術センター発行、2001年である。 The heat resistance test was performed at 100 ° C. for 500 hours, and the result was evaluated by the variation of retardation. A polyamic acid (PIA5310 from Chisso Corporation) was applied to the glass substrate, and then heated at 210 ° C. for 30 minutes to obtain a support substrate. The surface of the polyimide produced by heating was rubbed with a rayon cloth. The composition of the sample was diluted with a mixed solvent of toluene and cyclopentanone (2: 1 by weight) to prepare a 30% by weight solution. The solution was applied to a support substrate with a spin coater, heated at 70 ° C. for 3 minutes, and then the produced coating film was irradiated with ultraviolet rays at 60 ° C. for 10 seconds using an ultrahigh pressure mercury lamp (250 W / cm). The retardation of the obtained polymer was measured at 25 ° C. After heating the polymer at 100 ° C. for 500 hours, the retardation was measured again at 25 ° C. Two values were compared to evaluate heat resistance. Retardation was measured using a Senarmont compensator according to literature methods. The wavelength used is 550 nm. Literature is written by Hiroshi Ashiya, “Introduction to Polarizing Microscopes of Polymer Materials”, p. 94, published by Agne Technology Center, 2001.
光学異方性(△n)は、次のように算出した。耐熱性試験の方法にしたがって重合体のリタデーション(25℃)の値を測定した。重合体の厚さ(d)も測定した。リタデーションは△n×dであるから、この関係から光学異方性の値を算出した。 The optical anisotropy (Δn) was calculated as follows. The value of retardation (25 ° C.) of the polymer was measured according to the method of heat resistance test. The thickness (d) of the polymer was also measured. Since retardation is Δn × d, the value of optical anisotropy was calculated from this relationship.
配向は偏光顕微鏡によって観察した。重合体は、ケン化処理したTACフィルム(支持基板)の上に調製した。この試料を、クロスニコルに配置した2枚の偏光板に挟持した。配向の種類は、透過光強度の角度依存性から判断した。 The orientation was observed with a polarizing microscope. The polymer was prepared on a saponified TAC film (support substrate). This sample was sandwiched between two polarizing plates arranged in crossed Nicols. The type of orientation was judged from the angle dependency of transmitted light intensity.
実施例1
第1段階
4−[6−(3−メチルオキセタン−3−イルメトキシ)ヘキシルオキシ]安息香酸エチルの製造
3−[(6−ブロモヘキシルオキシ)メチル]−3−メチルオキセタン84g、4−ヒドロキシ安息香酸エチル50g、炭酸カリウム50g、およびジメチルホルムアミド600mlからなる反応混合物を90℃で4時間攪拌した。反応混合物に水を加え反応を終了させ、酢酸エチルで抽出、有機層を2N−水酸化ナトリウム水溶液、水の順に洗浄、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去して得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(トルエン/酢酸エチル=8/2)で精製を行い、85gの4−[6−(3−メチルオキセタン−3−イルメトキシ)ヘキシルオキシ]安息香酸エチルを得た。
Example 1
First Stage Preparation of 4- [6- (3-Methyloxetane-3-ylmethoxy) hexyloxy] benzoate 3-[(6-Bromohexyloxy) methyl] -3-methyloxetane 84 g, 4-hydroxybenzoic acid A reaction mixture consisting of 50 g of ethyl, 50 g of potassium carbonate and 600 ml of dimethylformamide was stirred at 90 ° C. for 4 hours. Water was added to the reaction mixture to terminate the reaction, extraction was performed with ethyl acetate, the organic layer was washed with a 2N sodium hydroxide aqueous solution and water in this order, and the organic layer was dried over anhydrous magnesium sulfate. The residue obtained by distilling off the solvent was purified by silica gel chromatography (toluene / ethyl acetate = 8/2), and 85 g of 4- [6- (3-methyloxetan-3-ylmethoxy) hexyloxy] benzoate Ethyl acid was obtained.
第2段階
4−[6−(3−メチルオキセタン−3−イルメトキシ)ヘキシルオキシ]安息香酸の製造
4−[6−(3−メチルオキセタン−3−イルメトキシ)ヘキシルオキシ]安息香酸エチル83g、水酸化ナトリウム12g、水50ml、およびソルミックス(登録商標)200mlからなる反応混合物を2時間還流した。塩酸で酸性にして、酢酸エチルで抽出、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去して63gの4−[6−(3−メチルオキセタン−3−イルメトキシ)ヘキシルオキシ]安息香酸(OX1)を得た。融点:58.5℃
Second Step Preparation of 4- [6- (3-Methyloxetane-3-ylmethoxy) hexyloxy] benzoic acid 83 g of ethyl 4- [6- (3-methyloxetane-3-ylmethoxy) hexyloxy] benzoate, hydroxylated A reaction mixture consisting of 12 g sodium, 50 ml water and 200 ml Solmix® was refluxed for 2 hours. The mixture was acidified with hydrochloric acid, extracted with ethyl acetate, and the organic layer was dried over anhydrous magnesium sulfate. The solvent was distilled off to obtain 63 g of 4- [6- (3-methyloxetan-3-ylmethoxy) hexyloxy] benzoic acid (OX1). Melting point: 58.5 ° C
同様の製造方法により、以下の化合物を製造した。
4−[6−(3−エチルオキセタン−3−イルメトキシ)ヘキシルオキシ]安息香酸(OX2)(融点:61℃)
The following compounds were produced by the same production method.
4- [6- (3-Ethyloxetane-3-ylmethoxy) hexyloxy] benzoic acid (OX2) (melting point: 61 ° C.)
4−[4−(3−エチルオキセタン−3−イルメトキシ)ブチルオキシ]安息香酸(OX3)(融点:75.3〜77.7℃) 4- [4- (3-Ethyloxetane-3-ylmethoxy) butyloxy] benzoic acid (OX3) (melting point: 75.3-77.7 ° C.)
2−フルオロ−4−[4−(3−エチルオキセタン−3−イルメトキシ)ブチルオキシ]安息香酸(OX4)(融点:75〜80℃) 2-Fluoro-4- [4- (3-ethyloxetane-3-ylmethoxy) butyloxy] benzoic acid (OX4) (melting point: 75-80 ° C.)
4−(3−メチルオキセタン−3−イルメトキシ)安息香酸の製造
第1段階
3−エチル3−ヒドロキシメチル−オキセタン(東亜合成(株)製:商品名OXT−101)116gをピリジン500mlに加え、かくはんしながら0℃に冷却した。そこへp−トルエンスルホニルクロリド190gを数回に分けて加えた。0℃を保ちながら5時間かくはんした後、氷水1Lに反応溶液を注いだ。ジエチルエーテル500mlで抽出し、3%の塩酸でpHが酸性になるまで、ジエチルエーテル層を洗浄、次に飽和炭酸ナトリウム溶液、水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去して243gの3−[(トシルオキシ)メチル]−3−エチルオキセタンを得た。
Preparation of 4- (3-methyloxetane-3-ylmethoxy) benzoic acid 1st stage 3-ethyl 3-hydroxymethyl-oxetane (manufactured by Toa Gosei Co., Ltd .: trade name OXT-101) was added to 500 ml of pyridine and stirred. While cooling to 0 ° C. Thereto, 190 g of p-toluenesulfonyl chloride was added in several portions. After stirring for 5 hours while maintaining 0 ° C., the reaction solution was poured into 1 L of ice water. Extraction was performed with 500 ml of diethyl ether, and the diethyl ether layer was washed with 3% hydrochloric acid until the pH became acidic, then washed successively with saturated sodium carbonate solution and water, and dried over anhydrous magnesium sulfate. The solvent was distilled off to obtain 243 g of 3-[(tosyloxy) methyl] -3-ethyloxetane.
第2段階
ヒドロキシ安息香酸エチル50g、水酸化カリウム21gをジメチルホルムアミド400mlに加え70℃で1時間かくはんした。45℃まで温度を下げて、そこへ3−[(トシルオキシ)メチル]−3−エチルオキセタン100gを滴下した後、45℃に保ちながら3時間かくはんした。水とトルエンを加えて抽出し、3%塩酸、飽和炭酸水素ナトリウム、水でトルエン層を洗浄した後、トルエンを留去した。得られた残査に水酸化ナトリウム50g、エタノール500ml、水200mlを加えて2時間還流した。エタノールを留去して得られた残査を5%塩酸500mlに注ぎこむと結晶が得られた。ろ過して得られた結晶をエタノールと水の混合溶媒で再結晶して60gの4−(3−エチルオキセタン−3−イルメトキシ)安息香酸(OX5)を得た。融点:127.5℃であった。
Second stage 50 g of ethyl hydroxybenzoate and 21 g of potassium hydroxide were added to 400 ml of dimethylformamide and stirred at 70 ° C. for 1 hour. The temperature was lowered to 45 ° C., and 100 g of 3-[(tosyloxy) methyl] -3-ethyloxetane was added dropwise thereto, followed by stirring for 3 hours while maintaining the temperature at 45 ° C. Water and toluene were added for extraction, and the toluene layer was washed with 3% hydrochloric acid, saturated sodium bicarbonate and water, and then toluene was distilled off. To the obtained residue, 50 g of sodium hydroxide, 500 ml of ethanol, and 200 ml of water were added and refluxed for 2 hours. When the residue obtained by distilling off ethanol was poured into 500 ml of 5% hydrochloric acid, crystals were obtained. The crystals obtained by filtration were recrystallized with a mixed solvent of ethanol and water to obtain 60 g of 4- (3-ethyloxetane-3-ylmethoxy) benzoic acid (OX5). Melting point: 127.5 ° C.
4−ヒドロキシ桂皮酸エチル19g、水酸化カリウム7.3gをエタノール150mlに加え50℃で1時間かくはんした。40℃まで温度を下げて、そこへ3−[(トシルオキシ)メチル]−3−エチルオキセタン35gを滴下した後、3時間還流した。エタノールを留去して、水とトルエンを加えて抽出し、3%塩酸、飽和炭酸水素ナトリウム、水でトルエン層を洗浄した後、トルエンを留去した。得られた残査に水酸化ナトリウム20g、エタノール100ml、水50mlを加えて2時間還流した。エタノールを留去して得られた残査を5%塩酸500mlに注ぎこむと結晶が得られた。ろ過して得られた結晶をエタノールと水の混合溶媒で再結晶して5gの4−(3−エチルオキセタン−3−イルメトキシ)桂皮酸(OX6)を得た。融点:127.5℃であった。 19 g of ethyl 4-hydroxycinnamate and 7.3 g of potassium hydroxide were added to 150 ml of ethanol and stirred at 50 ° C. for 1 hour. The temperature was lowered to 40 ° C., and 35 g of 3-[(tosyloxy) methyl] -3-ethyloxetane was added dropwise thereto, followed by refluxing for 3 hours. Ethanol was distilled off, water and toluene were added for extraction, the toluene layer was washed with 3% hydrochloric acid, saturated sodium bicarbonate and water, and then toluene was distilled off. To the obtained residue, 20 g of sodium hydroxide, 100 ml of ethanol and 50 ml of water were added and refluxed for 2 hours. When the residue obtained by distilling off ethanol was poured into 500 ml of 5% hydrochloric acid, crystals were obtained. The crystals obtained by filtration were recrystallized with a mixed solvent of ethanol and water to obtain 5 g of 4- (3-ethyloxetane-3-ylmethoxy) cinnamic acid (OX6). Melting point: 127.5 ° C.
3−(4−ヒドロキシフェニル)プロピオン酸エチル17.4g、水酸化カリウム6.1gをエタノール150mlに加え60℃で1時間かくはんした。40℃まで温度を下げて、そこへ3−[(トシルオキシ)メチル]−3−エチルオキセタン30gを滴下した後、3時間還流した。エタノールを留去して、水とトルエンを加えて抽出し、3%塩酸、飽和炭酸水素ナトリウム、水でトルエン層を洗浄した後、トルエンを留去した。得られた残査に水酸化ナトリウム20g、エタノール100ml、水50mlを加えて2時間還流した。エタノールを留去して得られた残査を5%塩酸500mlに注ぎこむと結晶が得られた。ろ過して得られた結晶をエタノールと水の混合溶媒で再結晶して5gの[4−(3−エチルオキセタン−3−イルメトキシ)フェニル]プロピオン酸(OX7)を得た。融点:85℃であった。 17.4 g of ethyl 3- (4-hydroxyphenyl) propionate and 6.1 g of potassium hydroxide were added to 150 ml of ethanol and stirred at 60 ° C. for 1 hour. The temperature was lowered to 40 ° C., and 30 g of 3-[(tosyloxy) methyl] -3-ethyloxetane was added dropwise thereto, followed by refluxing for 3 hours. Ethanol was distilled off, water and toluene were added for extraction, the toluene layer was washed with 3% hydrochloric acid, saturated sodium bicarbonate and water, and then toluene was distilled off. To the obtained residue, 20 g of sodium hydroxide, 100 ml of ethanol and 50 ml of water were added and refluxed for 2 hours. When the residue obtained by distilling off ethanol was poured into 500 ml of 5% hydrochloric acid, crystals were obtained. The crystals obtained by filtration were recrystallized with a mixed solvent of ethanol and water to obtain 5 g of [4- (3-ethyloxetane-3-ylmethoxy) phenyl] propionic acid (OX7). Melting point: 85 ° C.
4,4'−ジヒドロキシ−3,3'−ジメチルビフェニルの合成
(第1段階)
3,3'−ジメチルビフェニル40.4gを二硫化炭素200mlに溶かした溶液に塩化アルミニウム127.1gを加えた。アイスバスを用いて5℃に冷やし、そこへ塩化アセチル38.1を滴下した後、室温で1日かくはんした。反応溶液を氷水へ注ぎ、反応を終えた。酢酸エチルを加え抽出し、有機層を6N塩酸、飽和炭酸ナトリウム水、水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残査をエタノールで再結晶して16gの4,4'−ジアセチル−3,3'−ジメチルビフェニルを得た。融点は130〜131℃であった。
Synthesis of 4,4′-dihydroxy-3,3′-dimethylbiphenyl (first stage)
To a solution obtained by dissolving 40.4 g of 3,3′-dimethylbiphenyl in 200 ml of carbon disulfide, 127.1 g of aluminum chloride was added. The mixture was cooled to 5 ° C. using an ice bath, acetyl chloride 38.1 was added dropwise thereto, and the mixture was stirred at room temperature for 1 day. The reaction solution was poured into ice water to complete the reaction. Ethyl acetate was added for extraction, and the organic layer was washed with 6N hydrochloric acid, saturated aqueous sodium carbonate and water, and dried over anhydrous magnesium sulfate. The solvent was distilled off under reduced pressure, and the resulting residue was recrystallized from ethanol to obtain 16 g of 4,4′-diacetyl-3,3′-dimethylbiphenyl. The melting point was 130-131 ° C.
(第2段階)
4,4'−ジアセチル−3,3'−ジメチルビフェニル19.3g、ギ酸74.4g、無水酢酸28.3gを塩化メチレン240mlに加えた。アイスバスで冷やした溶液に硫酸8.2ml、次に過酸化水素水32.5gを滴下した後、5時間還流した。水を加え抽出し、塩化メチレン層を2N−水酸化ナトリウム水溶液、10%亜硫酸水素ナトリウム水溶液で洗浄した。塩化メチレンを減圧蒸留により除き、得られた残査をエタノールで再結晶することで12.5gの4,4'−ジアセトキシ−3,3'−ジメチルビフェニルを得た。融点は124〜134℃であった。
(Second stage)
19.3 g of 4,4′-diacetyl-3,3′-dimethylbiphenyl, 74.4 g of formic acid and 28.3 g of acetic anhydride were added to 240 ml of methylene chloride. To the solution cooled in an ice bath, 8.2 ml of sulfuric acid and then 32.5 g of hydrogen peroxide were dropped, and the mixture was refluxed for 5 hours. Water was added for extraction, and the methylene chloride layer was washed with a 2N aqueous sodium hydroxide solution and a 10% aqueous sodium bisulfite solution. Methylene chloride was removed by distillation under reduced pressure, and the resulting residue was recrystallized from ethanol to obtain 12.5 g of 4,4′-diacetoxy-3,3′-dimethylbiphenyl. The melting point was 124-134 ° C.
(第3段階)
4,4'−ジアセトキシ−3,3'−ジメチルビフェニル12.5g、水酸化リチウム4.4gをエチレングリコール130mlに加え、3時間還流した。6N塩酸200mlに反応溶液を注ぎ、酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層を分液して、溶媒を留去した。得られた残査をクロロホルムで再結晶して5.5gの4,4'−ジヒドロキシ−3,3'−ジメチルビフェニルを得た。融点は154〜159℃であった。
(3rd stage)
1,4 g of 4,4′-diacetoxy-3,3′-dimethylbiphenyl and 4.4 g of lithium hydroxide were added to 130 ml of ethylene glycol and refluxed for 3 hours. The reaction solution was poured into 200 ml of 6N hydrochloric acid and extracted with ethyl acetate. The ethyl acetate layer was separated and the solvent was distilled off. The obtained residue was recrystallized from chloroform to obtain 5.5 g of 4,4′-dihydroxy-3,3′-dimethylbiphenyl. The melting point was 154-159 ° C.
4,4'−ジヒドロキシ−3,3'−ジメチルビフェニル0.5g、4−[4−(3−エチルオキセタン−3−イルメトキシ)ブチルオキシ]安息香酸(OX3)1.6g、ジメチルアミノピリジン0.1gを塩化メチレン20mlに加えた溶液に1−エチル−3−(3−ジメチルアミノプロピル)カルボジイミド塩酸塩1gを加え、室温で12時間攪拌した。水50mlを加え、得られた有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去して得られた残査をシリカゲルクロマトグラフィーで精製し、0.8gの化合物No.15を得た。相転移温度はC 105 N 122.8 Iであった。 4,4′-dihydroxy-3,3′-dimethylbiphenyl 0.5 g, 4- [4- (3-ethyloxetane-3-ylmethoxy) butyloxy] benzoic acid (OX3) 1.6 g, dimethylaminopyridine 0.1 g Was added to 20 ml of methylene chloride and 1 g of 1-ethyl-3- (3-dimethylaminopropyl) carbodiimide hydrochloride was added and stirred at room temperature for 12 hours. 50 ml of water was added, and the obtained organic layer was dried over anhydrous magnesium sulfate. The residue obtained by distilling off the solvent was purified by silica gel chromatography to obtain 0.8 g of Compound No. 15 was obtained. The phase transition temperature was C 105 N 122.8 I.
実施例2 Example 2
4,4'−ジヒドロキシ−3,3'−ジメチルビフェニル0.5g、4−[4−(3−メチルオキセタン−3−イルメトキシ)ヘキシルオキシ]安息香酸(OX1)1.7g、ジメチルアミノピリジン0.1gを塩化メチレン20mlに加えた溶液に1−エチル−3−(3−ジメチルアミノプロピル)カルボジイミド塩酸塩1gを加え、室温で12時間攪拌した。水50mlを加え、得られた有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去して得られた残査をシリカゲルクロマトグラフィーで精製し、0.8gの化合物No.31を得た。相転移温度はC 95.2 N 135.7 Iであった。 0.5 g of 4,4′-dihydroxy-3,3′-dimethylbiphenyl, 1.7 g of 4- [4- (3-methyloxetan-3-ylmethoxy) hexyloxy] benzoic acid (OX1), 0.7 g of dimethylaminopyridine. 1 g of 1-ethyl-3- (3-dimethylaminopropyl) carbodiimide hydrochloride was added to a solution of 1 g in 20 ml of methylene chloride, and the mixture was stirred at room temperature for 12 hours. 50 ml of water was added, and the obtained organic layer was dried over anhydrous magnesium sulfate. The residue obtained by distilling off the solvent was purified by silica gel chromatography to obtain 0.8 g of Compound No. 31 was obtained. The phase transition temperature was C 95.2 N 135.7 I.
実施例3
(第1段階)
4−ブロモ−2,6−ジメチルフェノール45.5gベンジルクロライド34.4g、水酸化カリウム15.2gをエタノール400mlに加えて6時間還流した。水を加え酢酸エチルで抽出、抽出溶液を2Nの水酸化ナトリウム水で洗浄、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去して44gの4−ベンジルオキシ−3、5−ジメチルブロモベンゼンを得た。
Example 3
(First stage)
4-Bromo-2,6-dimethylphenol 45.5 g benzyl chloride 34.4 g and potassium hydroxide 15.2 g were added to ethanol 400 ml and refluxed for 6 hours. Water was added and the mixture was extracted with ethyl acetate. The extracted solution was washed with 2N aqueous sodium hydroxide and dried over anhydrous magnesium sulfate. The solvent was distilled off to obtain 44 g of 4-benzyloxy-3,5-dimethylbromobenzene.
(第2段階)
4−ベンジルオキシ−3、5−ジメチルブロモベンゼン20gをテトラヒドロフラン50mlに溶かした溶液を1.8gのマグネシウムが浸る程度に加え加熱した。マグネシウムが溶け出し反応していることを確認した後、残りの溶液を滴下した。滴下終了後、1時間還流してグリニャール試薬を調製した。グリニャール試薬溶液を−8℃まで冷やし、そこへホウ酸トリメチル9.9gを滴下し、30分間かくはんした。50mlの6N塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層を水、飽和炭酸ナトリウム水、水の順番で洗浄した。溶媒を留去して得られた残査をトルエンで再結晶することで9.4gの4−ベンジルオキシ−3、5−ジメチルベンゼンホウ素酸を得た。
(Second stage)
A solution of 20 g of 4-benzyloxy-3,5-dimethylbromobenzene dissolved in 50 ml of tetrahydrofuran was added to the extent that 1.8 g of magnesium was immersed and heated. After confirming that magnesium was dissolved and reacted, the remaining solution was added dropwise. After completion of the dropwise addition, the mixture was refluxed for 1 hour to prepare a Grignard reagent. The Grignard reagent solution was cooled to −8 ° C., and 9.9 g of trimethyl borate was added dropwise thereto and stirred for 30 minutes. 50 ml of 6N hydrochloric acid was added and extracted with ethyl acetate. The ethyl acetate layer was washed with water, saturated aqueous sodium carbonate, and water in this order. The residue obtained by distilling off the solvent was recrystallized from toluene to obtain 9.4 g of 4-benzyloxy-3,5-dimethylbenzeneboronic acid.
(第3段階)
4−ベンジルオキシ−3、5−ジメチルベンゼンホウ素酸9.4g、4−ベンジルオキシブロモベンゼン9.5g、テトラキスパラジウム1.2g、炭酸ナトリウム2M水溶液36mlをジエチレングリコールジメチルエーテル90mlに加え6時間還流した。水を加え酢酸エチルで抽出、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去して得られた残査をアセトンで再結晶して8.9gの4,4'−ジベンジルオキシ−3,5−ジメチルビフェニルを得た。
(3rd stage)
9.4 g of 4-benzyloxy-3,5-dimethylbenzeneboronic acid, 9.5 g of 4-benzyloxybromobenzene, 1.2 g of tetrakis palladium, and 36 ml of 2M aqueous sodium carbonate solution were added to 90 ml of diethylene glycol dimethyl ether and refluxed for 6 hours. Water was added, extracted with ethyl acetate, and dried over anhydrous magnesium sulfate. The residue obtained by distilling off the solvent was recrystallized from acetone to obtain 8.9 g of 4,4′-dibenzyloxy-3,5-dimethylbiphenyl.
(第3段階)
4,4'−ジベンジルオキシ−3,5−ジメチルビフェニル8.9g、パラジウム炭素0.4gをテトラヒドロフラン100mlに加えたフラスコに常圧で水素を導入し、水素が吸収されなくなるまでかくはんした。触媒をろ過して取り除き溶媒を留去して4.3gの4,4'−ジヒドロキシ−3,5−ジメチルビフェニルを得た。融点は160.7〜166℃であった。
(3rd stage)
Hydrogen was introduced at normal pressure into a flask in which 8.9 g of 4,4′-dibenzyloxy-3,5-dimethylbiphenyl and 0.4 g of palladium carbon were added to 100 ml of tetrahydrofuran, and stirred until hydrogen was not absorbed. The catalyst was removed by filtration, and the solvent was distilled off to obtain 4.3 g of 4,4′-dihydroxy-3,5-dimethylbiphenyl. The melting point was 160.7-166 ° C.
4,4'−ジヒドロキシ−3,5−ジメチルビフェニル0.5g、4−[4−(3−メチルオキセタン−3−イルメトキシ)ヘキシルオキシ]安息香酸(OX1)1.65g、ジメチルアミノピリジン0.05gを塩化メチレン20mlに加えた溶液に1−エチル−3−(3−ジメチルアミノプロピル)カルボジイミド塩酸塩1gを加え、室温で12時間攪拌した。水50mlを加え、得られた有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去して得られた残査をシリカゲルクロマトグラフィーで精製し、0.5gの化合物No.30を得た。相転移温度はC 85.6 N 129 Iであった。 4,4′-dihydroxy-3,5-dimethylbiphenyl 0.5 g, 4- [4- (3-methyloxetane-3-ylmethoxy) hexyloxy] benzoic acid (OX1) 1.65 g, dimethylaminopyridine 0.05 g Was added to 20 ml of methylene chloride and 1 g of 1-ethyl-3- (3-dimethylaminopropyl) carbodiimide hydrochloride was added and stirred at room temperature for 12 hours. 50 ml of water was added, and the obtained organic layer was dried over anhydrous magnesium sulfate. The residue obtained by distilling off the solvent was purified by silica gel chromatography, and 0.5 g of Compound No. 30 was obtained. The phase transition temperature was C 85.6 N 129 I.
実施例4
(第1段階)
4−ベンジルオキシ−3−フルオロブロモベンゼン20gをテトラヒドロフラン100mlに溶かした溶液を1.9gのマグネシウムが浸る程度に加え加熱した。マグネシウムが溶け出し反応していることを確認した後、残りの溶液を滴下した。滴下終了後、1時間還流してグリニャール試薬を調製した。グリニャール試薬溶液を−8℃まで冷やし、そこへホウ酸トリメチル10.2gを滴下し、30分間かくはんした。50mlの6N塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層を水、飽和炭酸ナトリウム水、水の順番で洗浄した。溶媒を留去して得られた残査をトルエンで再結晶することで10.3gの4−ベンジルオキシ−3−フルオロベンゼンホウ素酸を得た。
Example 4
(First stage)
A solution prepared by dissolving 20 g of 4-benzyloxy-3-fluorobromobenzene in 100 ml of tetrahydrofuran was added to the extent that 1.9 g of magnesium was immersed and heated. After confirming that magnesium was dissolved and reacted, the remaining solution was added dropwise. After completion of the dropwise addition, the mixture was refluxed for 1 hour to prepare a Grignard reagent. The Grignard reagent solution was cooled to −8 ° C., and 10.2 g of trimethyl borate was added dropwise thereto and stirred for 30 minutes. 50 ml of 6N hydrochloric acid was added and extracted with ethyl acetate. The ethyl acetate layer was washed with water, saturated aqueous sodium carbonate, and water in this order. The residue obtained by distilling off the solvent was recrystallized from toluene to obtain 10.3 g of 4-benzyloxy-3-fluorobenzeneboronic acid.
(第2段階)
4−ベンジルオキシ−3−フルオロベンゼンホウ素酸5g、4−ベンジルオキシ−3,5−ジメチルブロモベンゼン5.8g、テトラキスパラジウム0.7g、炭酸ナトリウム2M溶液20mlをジエチレングリコールジメチルエーテル50mlに加え6時間還流した。水を加え酢酸エチルで抽出、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去して得られた残査をアセトンで再結晶して7gの4,4'−ジベンジルオキシ−3,5−ジメチル−3'−フルオロビフェニルを得た。
(Second stage)
4-benzyloxy-3-fluorobenzeneboronic acid 5 g, 4-benzyloxy-3,5-dimethylbromobenzene 5.8 g, tetrakis palladium 0.7 g, 20 ml of a 2 M sodium carbonate solution were added to 50 ml of diethylene glycol dimethyl ether and refluxed for 6 hours. . Water was added, extracted with ethyl acetate, and dried over anhydrous magnesium sulfate. The residue obtained by distilling off the solvent was recrystallized from acetone to obtain 7 g of 4,4′-dibenzyloxy-3,5-dimethyl-3′-fluorobiphenyl.
(第3段階)
4,4'−ジベンジルオキシ−3,5−ジメチル−3'−フルオロビフェニル7g、パラジウム炭素0.3gをテトラヒドロフラン100mlに加えたフラスコに常圧で水素を導入し、水素が吸収されなくなるまでかくはんした。触媒をろ過して取り除き溶媒を留去して4gの4,4'−ジヒドロキシ−3,5−ジメチル−3'−フルオロビフェニルを得た。融点は158〜160.6℃であった。
(3rd stage)
Hydrogen was introduced at normal pressure into a flask in which 7 g of 4,4′-dibenzyloxy-3,5-dimethyl-3′-fluorobiphenyl and 0.3 g of palladium carbon were added to 100 ml of tetrahydrofuran, and stirred until hydrogen was not absorbed. did. The catalyst was removed by filtration, and the solvent was distilled off to obtain 4 g of 4,4′-dihydroxy-3,5-dimethyl-3′-fluorobiphenyl. The melting point was 158-160.6 ° C.
4,4'−ジヒドロキシ−3,5−ジメチル−3'−フルオロビフェニル0.5g、4−[4−(3−メチルオキセタン−3−イルメトキシ)ヘキシルオキシ]安息香酸(OX1)1.5g、ジメチルアミノピリジン0.1gを塩化メチレン20mlに加えた溶液に1−エチル−3−(3−ジメチルアミノプロピル)カルボジイミド塩酸塩0.95gを加え、室温で12時間攪拌した。水50mlを加え、得られた有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去して得られた残査をシリカゲルクロマトグラフィーで精製し、0.8gの化合物No.32を得た。相転移温度はC 94 N 100 Iであった。 4,4′-dihydroxy-3,5-dimethyl-3′-fluorobiphenyl 0.5 g, 4- [4- (3-methyloxetan-3-ylmethoxy) hexyloxy] benzoic acid (OX1) 1.5 g, dimethyl To a solution obtained by adding 0.1 g of aminopyridine to 20 ml of methylene chloride, 0.95 g of 1-ethyl-3- (3-dimethylaminopropyl) carbodiimide hydrochloride was added and stirred at room temperature for 12 hours. 50 ml of water was added, and the obtained organic layer was dried over anhydrous magnesium sulfate. The residue obtained by distilling off the solvent was purified by silica gel chromatography to obtain 0.8 g of Compound No. 32 was obtained. The phase transition temperature was C94N100I.
実施例5
(第1段階)
4−ベンジルオキシ−2,5−ジメチルブロモベンゼン27gをテトラヒドロフラン70mlに溶かした溶液を2.3gのマグネシウムが浸る程度に加え加熱した。マグネシウムが溶け出し反応していることを確認した後、残りの溶液を滴下した。滴下終了後、1時間還流してグリニャール試薬を調製した。グリニャール試薬溶液を−8℃まで冷やし、そこへホウ酸トリメチル13.4gを滴下し、30分間かくはんした。50mlの6N塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層を水、飽和炭酸ナトリウム水、水の順番で洗浄した。溶媒を留去して13.9gの4−ベンジルオキシ−2,5−ジメチルベンゼンホウ素酸を得た。
Example 5
(First stage)
A solution prepared by dissolving 27 g of 4-benzyloxy-2,5-dimethylbromobenzene in 70 ml of tetrahydrofuran was added to the extent that 2.3 g of magnesium was immersed and heated. After confirming that magnesium was dissolved and reacted, the remaining solution was added dropwise. After completion of the dropwise addition, the mixture was refluxed for 1 hour to prepare a Grignard reagent. The Grignard reagent solution was cooled to −8 ° C., and 13.4 g of trimethyl borate was added dropwise thereto and stirred for 30 minutes. 50 ml of 6N hydrochloric acid was added and extracted with ethyl acetate. The ethyl acetate layer was washed with water, saturated aqueous sodium carbonate, and water in this order. The solvent was distilled off to obtain 13.9 g of 4-benzyloxy-2,5-dimethylbenzeneboronic acid.
(第2段階)
4−ベンジルオキシ−2,5−ジメチルベンゼンホウ素酸9g、4−ベンジルオキシブロモベンゼン9.5g、テトラキスパラジウム1.2g、炭酸ナトリウム2M溶液36mlをジエチレングリコールジメチルエーテル90mlに加え6時間還流した。水を加え酢酸エチルで抽出、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去して得られた残査をアセトンで再結晶して7.1gの4,4'−ジベンジルオキシ−2,5−ジメチルビフェニルを得た。
(Second stage)
9 g of 4-benzyloxy-2,5-dimethylbenzeneboronic acid, 9.5 g of 4-benzyloxybromobenzene, 1.2 g of tetrakis palladium, and 36 ml of a 2M sodium carbonate solution were added to 90 ml of diethylene glycol dimethyl ether and refluxed for 6 hours. Water was added, extracted with ethyl acetate, and dried over anhydrous magnesium sulfate. The residue obtained by distilling off the solvent was recrystallized from acetone to obtain 7.1 g of 4,4′-dibenzyloxy-2,5-dimethylbiphenyl.
(第3段階)
4,4'−ジベンジルオキシ−2,5−ジメチルビフェニル7.1g、パラジウム炭素0.4gをテトラヒドロフラン100mlに加えたフラスコに常圧で水素を導入し、水素が吸収されなくなるまでかくはんした。触媒をろ過して取り除き溶媒を留去して5gの4,4'−ジヒドロキシ−2,5−ジメチルビフェニルを得た。
(3rd stage)
Hydrogen was introduced at normal pressure into a flask in which 7.1 g of 4,4′-dibenzyloxy-2,5-dimethylbiphenyl and 0.4 g of palladium carbon were added to 100 ml of tetrahydrofuran, and stirred until hydrogen was not absorbed. The catalyst was removed by filtration, and the solvent was distilled off to obtain 5 g of 4,4′-dihydroxy-2,5-dimethylbiphenyl.
4,4'−ジヒドロキシ−2,5−ジメチルビフェニル0.5g、4−[4−(3−メチルオキセタン−3−イルメトキシ)ヘキシルオキシ]安息香酸(OX1)1.65g、ジメチルアミノピリジン0.05gを塩化メチレン20mlに加えた溶液に1−エチル−3−(3−ジメチルアミノプロピル)カルボジイミド塩酸塩1gを加え、室温で12時間攪拌した。水50mlを加え、得られた有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去して得られた残査をシリカゲルクロマトグラフィーで精製し、0.7gの化合物No.29を得た。 4,4′-dihydroxy-2,5-dimethylbiphenyl 0.5 g, 4- [4- (3-methyloxetane-3-ylmethoxy) hexyloxy] benzoic acid (OX1) 1.65 g, dimethylaminopyridine 0.05 g Was added to 20 ml of methylene chloride and 1 g of 1-ethyl-3- (3-dimethylaminopropyl) carbodiimide hydrochloride was added and stirred at room temperature for 12 hours. 50 ml of water was added, and the obtained organic layer was dried over anhydrous magnesium sulfate. The residue obtained by distilling off the solvent was purified by silica gel chromatography, and 0.7 g of Compound No. 29 was obtained.
実施例6 Example 6
(第1段階)
4−ベンジルオキシ−3−フルオロベンゼンホウ素酸10g、1,4−ジブロモ−3−メチルベンゼン5g、テトラキスパラジウム0.2g、炭酸ナトリウム2M溶液60mlをジエチレングリコールジメチルエーテル100mlに加え6時間還流した。水を加えると結晶が析出したので、ろ過して結晶を乾燥した。アセトンで再結晶して8.4gの化合物[TB1]を得た。
(First stage)
10 g of 4-benzyloxy-3-fluorobenzeneboronic acid, 5 g of 1,4-dibromo-3-methylbenzene, 0.2 g of tetrakis palladium, and 60 ml of a sodium carbonate 2M solution were added to 100 ml of diethylene glycol dimethyl ether and refluxed for 6 hours. When water was added, crystals were precipitated, and filtered to dry the crystals. Recrystallization from acetone gave 8.4 g of compound [TB1].
(第2段階)
化合物[TB1]8.4gパラジウム炭素0.6をテトラヒドロフラン100mlに加えたフラスコに常圧で水素を導入し、水素が吸収されなくなるまでかくはんした。触媒をろ過して取り除き溶媒を留去して6gの化合物[TF1]を得た。
(Second stage)
Compound [TB1] 8.4 g palladium carbon 0.6 was added to 100 ml of tetrahydrofuran, hydrogen was introduced at normal pressure, and the mixture was stirred until hydrogen was not absorbed. The catalyst was removed by filtration, and the solvent was distilled off to obtain 6 g of compound [TF1].
(第3段階)
化合物[TF1]0.3g、4−[4−(3−メチルオキセタン−3−イルメトキシ)ヘキシルオキシ]安息香酸(OX1)1.68g、ジメチルアミノピリジン0.005gを塩化メチレン20mlに加えた溶液に1−エチル−3−(3−ジメチルアミノプロピル)カルボジイミド塩酸塩0.42gを加え、室温で12時間攪拌した。水50mlを加え、得られた有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去して得られた残査をシリカゲルクロマトグラフィーで精製し、0.5gの化合物No.28を得た。相転移温度はC 109.2 N 229.4 Iであった。
(3rd stage)
To a solution obtained by adding 0.3 g of compound [TF1], 1.68 g of 4- [4- (3-methyloxetane-3-ylmethoxy) hexyloxy] benzoic acid (OX1) and 0.005 g of dimethylaminopyridine to 20 ml of methylene chloride. 0.42 g of 1-ethyl-3- (3-dimethylaminopropyl) carbodiimide hydrochloride was added, and the mixture was stirred at room temperature for 12 hours. 50 ml of water was added, and the obtained organic layer was dried over anhydrous magnesium sulfate. The residue obtained by distilling off the solvent was purified by silica gel chromatography, and 0.5 g of Compound No. 28 was obtained. The phase transition temperature was C 109.2 N 229.4 I.
実施例7
化合物[TF1]0.3g、4−[4−(3−エチルオキセタン−3−イルメトキシ)ブチルオキシ]安息香酸(OX3)1.65g、ジメチルアミノピリジン0.005gを塩化メチレン20mlに加えた溶液に1−エチル−3−(3−ジメチルアミノプロピル)カルボジイミド塩酸塩0.42gを加え、室温で12時間攪拌した。水50mlを加え、得られた有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去して得られた残査をシリカゲルクロマトグラフィーで精製し、0.2gの化合物No.12を得た。相転移温度はC 91 N 225.2 Iであった。
Example 7
To a solution of 0.3 g of compound [TF1], 1.65 g of 4- [4- (3-ethyloxetane-3-ylmethoxy) butyloxy] benzoic acid (OX3) and 0.005 g of dimethylaminopyridine was added to 20 ml of methylene chloride. -Ethyl-3- (3-dimethylaminopropyl) carbodiimide hydrochloride 0.42g was added, and it stirred at room temperature for 12 hours. 50 ml of water was added, and the obtained organic layer was dried over anhydrous magnesium sulfate. The residue obtained by distilling off the solvent was purified by silica gel chromatography, and 0.2 g of Compound No. 12 was obtained. The phase transition temperature was C 91 N 225.2 I.
実施例8
(第1段階)
4−ベンジルオキシ−3−フルオロベンゼンホウ素酸10g、1,4−ジブロモベンゼン4.8g、テトラキスパラジウム0.2g、炭酸ナトリウム2M溶液60mlをジエチレングリコールジメチルエーテル100mlに加え6時間還流した。水を加えると結晶が析出したので、ろ過して結晶を乾燥した。アセトンで再結晶して4.7gの化合物[TB2]を得た。
Example 8
(First stage)
10 g of 4-benzyloxy-3-fluorobenzeneboronic acid, 4.8 g of 1,4-dibromobenzene, 0.2 g of tetrakis palladium, and 60 ml of a 2M sodium carbonate solution were added to 100 ml of diethylene glycol dimethyl ether and refluxed for 6 hours. When water was added, crystals were precipitated, and filtered to dry the crystals. Recrystallization from acetone gave 4.7 g of compound [TB2].
(第2段階)
化合物[TB2]4.7g、パラジウム炭素0.5gをテトラヒドロフラン40mlに加えたフラスコに常圧で水素を導入し、水素が吸収されなくなるまでかくはんした。触媒をろ過して取り除き溶媒を留去して2.9gの化合物[TF2]を得た。
(Second stage)
Hydrogen was introduced at normal pressure into a flask in which 4.7 g of compound [TB2] and 0.5 g of palladium carbon were added to 40 ml of tetrahydrofuran, and the mixture was stirred until hydrogen was not absorbed. The catalyst was removed by filtration, and the solvent was distilled off to obtain 2.9 g of compound [TF2].
化合物[TF2]0.3g、4−[4−(3−エチルオキセタン−3−イルメトキシ)ブチルオキシ]安息香酸(OX4)0.7g、ジメチルアミノピリジン0.05gを塩化メチレン20mlに加えた溶液に1−エチル−3−(3−ジメチルアミノプロピル)カルボジイミド塩酸塩0.5gを加え、室温で12時間攪拌した。水50mlを加え、得られた有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去して得られた残査をシリカゲルクロマトグラフィーで精製し、0.4gの化合物No.10を得た。相転移温度はC 128 SmA 205.2 N 298.3 Iであった。 To a solution of 0.3 g of compound [TF2], 0.7 g of 4- [4- (3-ethyloxetane-3-ylmethoxy) butyloxy] benzoic acid (OX4) and 0.05 g of dimethylaminopyridine was added to 20 ml of methylene chloride. -Ethyl-3- (3-dimethylaminopropyl) carbodiimide hydrochloride 0.5g was added, and it stirred at room temperature for 12 hours. 50 ml of water was added, and the obtained organic layer was dried over anhydrous magnesium sulfate. The residue obtained by distilling off the solvent was purified by silica gel chromatography, and 0.4 g of Compound No. 10 was obtained. The phase transition temperature was C 128 SmA 205.2 N 298.3 I.
実施例9
(第1段階)
4−ベンジルオキシ−3−フルオロベンゼンホウ素酸10g、1,4−ジブロモ−2−フルオベンゼン5.1g、テトラキスパラジウム0.2g、炭酸ナトリウム2M溶液60mlをジエチレングリコールジメチルエーテル100mlに加え6時間還流した。水を加えると結晶が析出したので、ろ過して結晶を乾燥した。アセトンで再結晶して5.9gの化合物[TB3]を得た。融点は189〜192.1℃であった。
Example 9
(First stage)
10 g of 4-benzyloxy-3-fluorobenzeneboronic acid, 5.1 g of 1,4-dibromo-2-fluorobenzene, 0.2 g of tetrakis palladium, and 60 ml of a 2 M sodium carbonate solution were added to 100 ml of diethylene glycol dimethyl ether and refluxed for 6 hours. When water was added, crystals were precipitated, and filtered to dry the crystals. Recrystallization from acetone gave 5.9 g of compound [TB3]. The melting point was 189-192.1 ° C.
(第2段階)
化合物[TB3]5.7g、パラジウム炭素0.5gをテトラヒドロフラン40mlに加えたフラスコに常圧で水素を導入し、水素が吸収されなくなるまでかくはんした。触媒をろ過して取り除き溶媒を留去して3.4gの化合物[TF3]を得た。
(Second stage)
Hydrogen was introduced at normal pressure into a flask in which 5.7 g of compound [TB3] and 0.5 g of palladium carbon were added to 40 ml of tetrahydrofuran, and stirred until hydrogen was not absorbed. The catalyst was removed by filtration, and the solvent was distilled off to obtain 3.4 g of compound [TF3].
化合物[TF3]0.32g、4−[4−(3−エチルオキセタン−3−イルメトキシ)ブチルオキシ]安息香酸(OX3)0.7g、ジメチルアミノピリジン0.05gを塩化メチレン20mlに加えた溶液に1−エチル−3−(3−ジメチルアミノプロピル)カルボジイミド塩酸塩0.5gを加え、室温で12時間攪拌した。水50mlを加え、得られた有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去して得られた残査をシリカゲルクロマトグラフィーで精製し、0.5gの化合物No.11を得た。相転移温度は109.5 SmA 163.5 N 278.6 Iであった。 To a solution of 0.32 g of compound [TF3], 0.7 g of 4- [4- (3-ethyloxetane-3-ylmethoxy) butyloxy] benzoic acid (OX3) and 0.05 g of dimethylaminopyridine was added to 20 ml of methylene chloride. -Ethyl-3- (3-dimethylaminopropyl) carbodiimide hydrochloride 0.5g was added, and it stirred at room temperature for 12 hours. 50 ml of water was added, and the obtained organic layer was dried over anhydrous magnesium sulfate. The residue obtained by distilling off the solvent was purified by silica gel chromatography, and 0.5 g of Compound No. 11 was obtained. The phase transition temperature was 109.5 SmA 163.5 N 278.6 I.
実施例10
(第1段階)
4−ベンジルオキシ−3、5−ジメチルベンゼンホウ素酸5g、4−ブロモ−4'−ベンジルオキシビフェニル6.6g、テトラキスパラジウム0.6g、炭酸ナトリウム2M溶液19mlをジエチレングリコールジメチルエーテル100mlに加え6時間還流した。水を加えると結晶が析出したので、ろ過して結晶を乾燥した。アセトンで再結晶して7gの化合物[TB4]を得た。
Example 10
(First stage)
4-benzyloxy-3,5-dimethylbenzeneboronic acid 5g, 4-bromo-4'-benzyloxybiphenyl 6.6g, tetrakis palladium 0.6g, sodium carbonate 2M solution 19ml was added to diethylene glycol dimethyl ether 100ml and refluxed for 6 hours. . When water was added, crystals were precipitated, and filtered to dry the crystals. Recrystallization from acetone gave 7 g of compound [TB4].
(第2段階)
化合物[TB4]7g、パラジウム炭素0.5gをテトラヒドロフラン40mlに加えたフラスコに常圧で水素を導入し、水素が吸収されなくなるまでかくはんした。触媒をろ過して取り除き溶媒を留去して残査を得た。残査を塩化メチレンを溶出溶媒とするシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して1gの化合物[TF4]を得た。融点は231℃であった。
(Second stage)
Hydrogen was introduced at normal pressure into a flask in which 7 g of compound [TB4] and 0.5 g of palladium carbon were added to 40 ml of tetrahydrofuran, and stirred until hydrogen was not absorbed. The catalyst was removed by filtration, and the solvent was distilled off to obtain a residue. The residue was purified by silica gel column chromatography using methylene chloride as an elution solvent to obtain 1 g of compound [TF4]. The melting point was 231 ° C.
化合物[TF4]0.3g、4−[4−(3−エチルオキセタン−3−イルメトキシ)ブチルオキシ]安息香酸(OX3)0.7g、ジメチルアミノピリジン0.05gを塩化メチレン20mlに加えた溶液に1−エチル−3−(3−ジメチルアミノプロピル)カルボジイミド塩酸塩0.5gを加え、室温で12時間攪拌した。水50mlを加え、得られた有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去して得られた残査をシリカゲルクロマトグラフィーで精製し、0.8gの化合物No.9を得た。相転移温度はC 116 N 250.2 Iであった。 To a solution of 0.3 g of compound [TF4], 0.7 g of 4- [4- (3-ethyloxetane-3-ylmethoxy) butyloxy] benzoic acid (OX3) and 0.05 g of dimethylaminopyridine was added to 20 ml of methylene chloride. -Ethyl-3- (3-dimethylaminopropyl) carbodiimide hydrochloride 0.5g was added, and it stirred at room temperature for 12 hours. 50 ml of water was added, and the obtained organic layer was dried over anhydrous magnesium sulfate. The residue obtained by distilling off the solvent was purified by silica gel chromatography to obtain 0.8 g of Compound No. 9 was obtained. The phase transition temperature was C 116 N 250.2 I.
実施例11
(組成物C2の例)
50wt%の化合物No.11および50wt%の化合物(K1)から組成物(CL1)を調製した。ここで化合物(K1)は式(M2a)において、W1およびW2が水素であり、X6がどちらも単結合であり、m=n=1である化合物であり、Macromolecules, 26, 1244〜1249ページ、1993年に記載の方法により合成した。この組成物は室温でネマチック相を有した。化合物No.11は良好な相溶性を有し、相分離することはなかった。組成物(CL1)は、ラビングしたTACフィルム上に塗布したところ、ホモジニアス配向を示した。
Example 11
(Example of composition C2)
Compound No. 50 wt% Composition (CL1) was prepared from 11 and 50 wt% of compound (K1). Here, the compound (K1) is a compound in which W 1 and W 2 are hydrogen, X 6 is a single bond, and m = n = 1 in the formula (M2a), Macromolecules, 26, 1244 to It was synthesized by the method described on page 1249, 1993. This composition had a nematic phase at room temperature. Compound No. 11 had good compatibility and did not phase separate. When the composition (CL1) was applied on a rubbed TAC film, it showed homogeneous orientation.
TACフィルムをケン化処理したあと、その表面をレーヨン布によりラビングした。このフィルムに、組成物(CL1)1gおよびDTS−102(みどり化学(株)の重合開始剤)0.03gのシクロペンタノン(8g)溶液を、スピンコーターを用いて塗布した。塗布後、60℃に設定したオーブン中で5分間加熱した。この熱処理によって溶媒を除去し、液晶分子を配向させた。超高圧水銀灯(250W/cm)を使って紫外線を60℃で10秒間照射し、液晶配向フィルム(F1)を得た。組成物のホモジニアス配向は重合によっても保持された。このフィルムのセロテープ(登録商標)剥離試験において、剥離したます目はなかった。このフィルムの鉛筆硬度は2Hであった。 After saponifying the TAC film, the surface was rubbed with a rayon cloth. A cyclopentanone (8 g) solution of 1 g of the composition (CL1) and 0.03 g of DTS-102 (polymerization initiator of Midori Chemical Co., Ltd.) was applied to this film using a spin coater. After the application, it was heated in an oven set at 60 ° C. for 5 minutes. The solvent was removed by this heat treatment to align the liquid crystal molecules. An ultra-high pressure mercury lamp (250 W / cm) was used to irradiate ultraviolet rays at 60 ° C. for 10 seconds to obtain a liquid crystal alignment film (F1). The homogeneous orientation of the composition was maintained by polymerization. In the cellotape (registered trademark) peel test of this film, there was no flaking. The pencil hardness of this film was 2H.
実施例12
(組成物C1の例)
70wt%の化合物No.15および30wt%の化合物(K2)から組成物(CL2)を調製した。ここで化合物(K2)は式(M1a)において、W1およびW2が水素であり、X6が−O−であり、R5が−OCF3であり、m=4である化合物であり、特願2004−305799に記載の方法により合成した。この組成物は室温でネマチック相を有した。化合物No.15は良好な相溶性を有し、相分離することはなかった。組成物(CL2)は、ラビングしたTACフィルム上に塗布したところ、ハイブリッド配向を示した。
Example 12
(Example of composition C1)
Compound No. 70 wt% Composition (CL2) was prepared from 15 and 30 wt% compound (K2). Here, the compound (K2) is a compound in which W 1 and W 2 are hydrogen, X 6 is —O—, R 5 is —OCF 3 and m = 4 in the formula (M1a), It was synthesized by the method described in Japanese Patent Application No. 2004-305799. This composition had a nematic phase at room temperature. Compound No. 15 had good compatibility and did not phase separate. Composition (CL2) exhibited hybrid orientation when applied on a rubbed TAC film.
TACフィルムをケン化処理したあと、その表面をレーヨン布によりラビングした。このフィルムに、組成物(CL2)1gおよびDTS−102(みどり化学(株)の重合開始剤)0.03gのシクロペンタノン(8g)溶液を、スピンコーターを用いて塗布した。塗布後、60℃に設定したオーブン中で5分間加熱した。この熱処理によって溶媒を除去し、液晶分子を配向させた。超高圧水銀灯(250W/cm)を使って紫外線を60℃で10秒間照射し、液晶配向フィルム(F2)を得た。組成物のハイブリッド配向は重合によっても保持された。このフィルムのセロテープ(登録商標)剥離試験において、剥離したます目はなかった。このフィルムの鉛筆硬度は2Hであった。 After saponifying the TAC film, the surface was rubbed with a rayon cloth. A cyclopentanone (8 g) solution of 1 g of the composition (CL2) and 0.03 g of DTS-102 (Midori Chemical Co., Ltd. polymerization initiator) was applied to this film using a spin coater. After the application, it was heated in an oven set at 60 ° C. for 5 minutes. The solvent was removed by this heat treatment to align the liquid crystal molecules. An ultra-high pressure mercury lamp (250 W / cm) was used for irradiation with ultraviolet rays at 60 ° C. for 10 seconds to obtain a liquid crystal alignment film (F2). The hybrid orientation of the composition was retained by polymerization. In the cellotape (registered trademark) peel test of this film, there was no flaking. The pencil hardness of this film was 2H.
これらのフィルムの評価結果を表2にまとめる。これらの結果から、1)重合体は支持基板から剥離しにくい、2)重合体は硬い、ということが分かった。
表2.評価結果
The evaluation results of these films are summarized in Table 2. From these results, it was found that 1) the polymer was difficult to peel from the support substrate, and 2) the polymer was hard.
Table 2. Evaluation results
実施例13
(組成物C3の例)
下記の組成物(CL3)を用いて実施例12と同様の方法により得られる液晶配向フィルム(F3)は、実施例12の液晶配向フィルム(F2)と同様の特性を有する。ここで化合物(K3)は式(M2e)において、W1およびW2が水素であり、W3がメチル、W4が水素であり、m=4、n=4であり、X=Oである化合物であり、特願2003−203629に記載の方法により合成できる。
組成物(CL3)
Example 13
(Example of composition C3)
The liquid crystal alignment film (F3) obtained by the method similar to Example 12 using the following composition (CL3) has the same characteristic as the liquid crystal alignment film (F2) of Example 12. Here, in the compound (K3), in formula (M2e), W 1 and W 2 are hydrogen, W 3 is methyl, W 4 is hydrogen, m = 4, n = 4, and X = O It is a compound and can be synthesized by the method described in Japanese Patent Application No. 2003-203629.
Composition (CL3)
実施例14
下記の組成物(CL4)、(CL5)を用いて実施例11と同様の方法により得られる液晶配向フィルム(F4)、(F5)は、実施例11の液晶配向フィルム(F1)と同様の特性を有する。ここで化合物(K4)は式(M3e)において、W1およびW2が水素、R5がシアノ、R6がメチル、m=4である化合物であり、Macromolecules, 24, 4531〜4537ページ、1991年に記載の方法により合成できる。化合物(K5)は式(M4b)において、W1およびW2が水素、W3がメチル、W4が水素、R6がメチル、m=n=6である化合物であり、WO02/28985に記載の方法により合成できる。
(組成物C4の例)
組成物(CL4)
(組成物C5の例)
組成物(CL5)
Example 14
The liquid crystal alignment films (F4) and (F5) obtained by the same method as in Example 11 using the following compositions (CL4) and (CL5) have the same characteristics as the liquid crystal alignment film (F1) in Example 11. Have Here, the compound (K4) is a compound in which W 1 and W 2 are hydrogen, R 5 is cyano, R 6 is methyl, and m = 4 in the formula (M3e). Macromolecules, 24, pages 4531-4537, 1991 It can be synthesized by the method described in the year. The compound (K5) is a compound in which W 1 and W 2 are hydrogen, W3 is methyl, W4 is hydrogen, R6 is methyl, and m = n = 6 in the formula (M4b), according to the method described in WO02 / 28985 Can be synthesized.
(Example of composition C4)
Composition (CL4)
(Example of composition C5)
Composition (CL5)
Claims (20)
式(1)において、Rは水素または炭素数1〜8のアルキルであり、このアルキルにおいて任意の水素はフッ素または塩素で置き換えられてもよく;Aは独立して1,4−シクロへキシレン、1,4−フェニレン、ピリジン−2,5−ジイル、ピリダジン−3,6−ジイル、ピリミジン−2,5−ジイル、ナフタレン−2,6−ジイル、またはテトラヒドロナフタレン−2,6−ジイルであり、この1,4−フェニレンにおいて任意の水素はフッ素または塩素で置き換えられてもよく、そして任意の1つまたは2つの水素はシアノ、メチル、エチル、メトキシ、ヒドロキシ、ホルミル、アセトキシ、アセチル、トリフルオロアセチル、ジフルオロメチル、またはトリフルオロメチルで置き換えられてもよく;Gは少なくとも1つの水素が塩素、フッ素、メチル、エチル、イソプロピル、メトキシ、ヒドロキシ、ホルミル、アセトキシ、アセチル、トリフルオロアセチル、ジフルオロメチル、またはトリフルオロメチルで置換された4,4”−ターフェニルまたは少なくとも1つの水素が塩素、フッ素、メチル、エチル、イソプロピル、メトキシ、ヒドロキシ、ホルミル、アセトキシ、アセチル、トリフルオロアセチル、ジフルオロメチル、またはトリフルオロメチルで置換された4,4’−ビフェニル;Zは独立して単結合、−(CH2)2−、−CH=CH−、−C≡C−、−CH2O−、−OCH2−、−CF2O−、−OCF2−、−COO−、−OCO−、−CONH−、−NHCO−、−(CH2)4−、−(CH2)2COO−、−OCO(CH2)2−、−CH=CH−COO−、または−OCO−CH=CH−であり;Pは炭素数1〜20のアルキレンであり、このアルキレンにおいて任意の水素はフッ素または塩素で置き換えられてもよく、任意の−CH2−は−O−で置き換えられてもよく、任意の1つまたは2つの−CH2−は−COO−または−OCO−で置き換えられてもよく、そして任意の1つの−CH2−は−CH=CH−または−C≡C−で置き換えられてもよい。 The compound represented by Formula (1).
In the formula (1), R is hydrogen or alkyl having 1 to 8 carbon atoms, and in this alkyl, arbitrary hydrogen may be replaced by fluorine or chlorine; A is independently 1,4-cyclohexylene, 1,4-phenylene, pyridine-2,5-diyl, pyridazine-3,6-diyl, pyrimidine-2,5-diyl, naphthalene-2,6-diyl, or tetrahydronaphthalene-2,6-diyl; In this 1,4-phenylene, any hydrogen may be replaced by fluorine or chlorine, and any one or two hydrogens may be cyano, methyl, ethyl, methoxy, hydroxy, formyl, acetoxy, acetyl, trifluoroacetyl. , Difluoromethyl, or trifluoromethyl; G is at least one hydrogen chloride 4,4 "-terphenyl or at least one hydrogen substituted with fluorine, methyl, ethyl, isopropyl, methoxy, hydroxy, formyl, acetoxy, acetyl, trifluoroacetyl, difluoromethyl, or trifluoromethyl is chlorine, fluorine, 4,4′-biphenyl substituted with methyl, ethyl, isopropyl, methoxy, hydroxy, formyl, acetoxy, acetyl, trifluoroacetyl, difluoromethyl, or trifluoromethyl; Z is independently a single bond, — (CH 2 ) 2 , —CH═CH—, —C≡C—, —CH 2 O—, —OCH 2 —, —CF 2 O—, —OCF 2 —, —COO—, —OCO—, —CONH—, -NHCO -, - (CH 2) 4 -, - (CH 2) 2 COO -, - OCO (CH 2) 2 , —CH═CH—COO—, or —OCO—CH═CH—; P is alkylene having 1 to 20 carbons, and in this alkylene, any hydrogen may be replaced by fluorine or chlorine, —CH 2 — may be replaced with —O—, any one or two —CH 2 — may be replaced with —COO— or —OCO—, and any one —CH 2 —. -May be replaced by -CH = CH- or -C≡C-.
Zが独立して単結合、−(CH2)2−、−C≡C−、−CH2O−、−OCH2−、−COO−、−OCO−、−CONH−、−NHCO−、−(CH2)4−、−(CH2)2COO−、−OCO(CH2)2−、−CH=CH−COO−、または−OCO−CH=CH−であり;Pが炭素数1〜17のアルキレンであり、このアルキレンにおいて任意の−CH2−は−O−で置き換えられてもよく、任意の1つまたは2つの−CH2−は−COO−または−OCO−で置き換えられてもよく、そして任意の1つの−CH2−は−CH=CH−で置き換えられてもよい請求項1または2に記載の化合物。 In the formula (1), R is hydrogen or alkyl having 1 to 5 carbon atoms, and in this alkyl, arbitrary hydrogen may be replaced by fluorine or chlorine; A is independently 1,4-phenylene; In this 1,4-phenylene, any hydrogen may be replaced with fluorine or chlorine, and any one or two hydrogens may be replaced with methyl, ethyl, or trifluoromethyl; Having
Z is independently a single bond, — (CH 2 ) 2 —, —C≡C—, —CH 2 O—, —OCH 2 —, —COO—, —OCO—, —CONH—, —NHCO—, — (CH 2 ) 4 —, — (CH 2 ) 2 COO—, —OCO (CH 2 ) 2 —, —CH═CH—COO—, or —OCO—CH═CH—; 17 alkylene, in which any —CH 2 — may be replaced by —O—, and any one or two —CH 2 — may be replaced by —COO— or —OCO—. The compound according to claim 1, wherein any one —CH 2 — may be replaced by —CH═CH—.
上式において、Rが炭素数1〜5のアルキルであり;Aが独立して1,4−フェニレン、2−フルオロ−1,4−フェニレン、2−クロロ−1,4−フェニレン、2−メチル−1,2−トリフルオロメチル−1,4−フェニレン、2,3−ジフルオロ−1,4−フェニレン、2,5−ジフルオロ−1,4−フェニレン、2,6−ジフルオロ−1,4−フェニレン、2,3,5−トリフルオロ−1,4−フェニレン、または2,3,5,6−テトラフルオロ−1,4−フェニレンであり;Zが独立して単結合、−(CH2)2−、−C≡C−、−CH2O−、−OCH2−、−COO−、−OCO−、−CONH−、−NHCO−、−(CH2)4−、−(CH2)2COO−、−OCO(CH2)2−、−CH=CH−COO−、または−OCO−CH=CH−であり;Pが−O−、−O−(CH2)r−、−(CH2)r−O−、−(CH2)r−、−O−(CH2)r−O−、または−O−(CH2CH2O)s−であり、rが1から15の整数であり、そしてsが2から5の整数である。 The compound represented by any one of following formula (2)-(9).
In the above formula, R is alkyl having 1 to 5 carbon atoms; A is independently 1,4-phenylene, 2-fluoro-1,4-phenylene, 2-chloro-1,4-phenylene, 2-methyl. -1,2-trifluoromethyl-1,4-phenylene, 2,3-difluoro-1,4-phenylene, 2,5-difluoro-1,4-phenylene, 2,6-difluoro-1,4-phenylene 2,3,5-trifluoro-1,4-phenylene, or 2,3,5,6-tetrafluoro-1,4-phenylene; Z is independently a single bond, — (CH 2 ) 2 —, —C≡C—, —CH 2 O—, —OCH 2 —, —COO—, —OCO—, —CONH—, —NHCO—, — (CH 2 ) 4 —, — (CH 2 ) 2 COO -, - OCO (CH 2) 2 -, - CH = CH-COO Or -OCO-CH = CH- and is,; -, - P is -O O- (CH 2) r - , - (CH 2) r-O -, - (CH 2) r -, - O- ( CH 2 ) r—O—, or —O— (CH 2 CH 2 O) s—, where r is an integer from 1 to 15 and s is an integer from 2 to 5.
式(M1)〜式(M4)において、Raは水素、フッ素、塩素、−CN、−OCF3、炭素数1〜20のアルキル、炭素数1〜20のアルコキシ、炭素数2〜20のアルコキシアルキル、炭素数2〜20のアルケニル、または炭素数2〜20のアルケニルオキシであり;Rbは水素または炭素数1〜5のアルキルであり;Bは独立して1,4−シクロへキシレンまたは1,4−フェニレンであり、この1,4−フェニレンにおいて任意の水素はフッ素で置き換えられてもよく、そして任意の1つまたは2つの水素はメチルまたはトリフルオロメチルで置き換えられてもよく、そしてBの1つはナフタレン−2,6−ジイル、フルオレン−2,7−ジイル、9−メチルフルオレン−2,7−ジイル、9−エチルフルオレン−2,7−ジイル、9,9−ジメチルフルオレン−2,7−ジイル、9−クロロフルオレン−2,7−ジイル、または9,9−ジフルオロフルオレン−2,7−ジイルであってもよく;Yは独立して単結合、−COO−、−OCO−、−(CH2)2−、または−C≡C−であり;Qは独立して単結合または炭素数1〜20のアルキレンであり、このアルキレンにおいて1つまたは2つの−CH2は−O−で置き換えられてもよく;そしてtは1または2である。 The composition according to claim 10, wherein the second component is at least one compound selected from the group of compounds represented by formula (M1), formula (M2), formula (M3) and formula (M4).
In the formulas (M1) to (M4), Ra is hydrogen, fluorine, chlorine, —CN, —OCF 3 , alkyl having 1 to 20 carbons, alkoxy having 1 to 20 carbons, or alkoxyalkyl having 2 to 20 carbons. , Alkenyloxy having 2 to 20 carbons, or alkenyloxy having 2 to 20 carbons; Rb is hydrogen or alkyl having 1 to 5 carbons; B is independently 1,4-cyclohexylene or 1, 4-phenylene, in which any hydrogen may be replaced by fluorine, and any one or two hydrogens may be replaced by methyl or trifluoromethyl, and B One is naphthalene-2,6-diyl, fluorene-2,7-diyl, 9-methylfluorene-2,7-diyl, 9-ethylfluorene-2,7-diyl, , 9-dimethylfluorene-2,7-diyl, 9-chlorofluorene-2,7-diyl, or 9,9-difluorofluorene-2,7-diyl; Y is independently a single bond, —COO—, —OCO—, — (CH 2 ) 2 —, or —C≡C—; Q is independently a single bond or alkylene having 1 to 20 carbons, and in this alkylene, one or two Two —CH 2 may be replaced by —O—; and t is 1 or 2.
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