KR20170113888A - Laser processing apparatus - Google Patents
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Abstract
레이저 처리 장치는 내부에 피처리체가 위치하며 일 측에 투과부를 포함하는 챔버, 상기 챔버 외부에 위치하며 상기 투과부를 통해 레이저 빔을 상기 피처리체로 조사하는 레이저 유닛, 및 상기 챔버 내부에서 상기 피처리체와 이웃하며 상기 레이저 빔이 통과하는 개구부 및 상기 개구부와 상기 피처리체 사이에 위치하여 상기 레이저 빔이 통과하는 슬릿(slit)을 포함하는 파티클 그래버(particle grabber)를 포함한다. 상기 슬릿의 너비는 상기 개구부의 너비보다 작다.A laser processing apparatus includes a chamber in which an object to be processed is disposed, a chamber including a transmissive portion on one side thereof, a laser unit disposed outside the chamber and irradiating the laser beam to the object to be processed through the transmissive portion, And a particle grabber positioned between the opening and the object to be processed, the particle grabber including a slit through which the laser beam passes. The width of the slit is smaller than the width of the opening.
Description
본 기재는 레이저 처리 장치에 관한 것이다.The present disclosure relates to a laser processing apparatus.
레이저 처리 장치는 레이저 빔을 이용해 피처리체를 처리하는 장치이다.A laser processing apparatus is a device that processes an object to be processed by using a laser beam.
기존의 레이저 처리 장치는 피처리체가 내부에 위치하는 챔버, 피처리체로 레이저 빔을 조사하는 레이저 유닛을 포함한다.Conventional laser processing apparatuses include a chamber in which an object to be processed is located, and a laser unit for irradiating a laser beam to the object to be processed.
레이저 처리 장치를 이용해 피처리체를 가공할 때, 레이저 빔에 의해 피처리체로부터 파티클(particle)이 발생되는데, 이 파티클로 인해 챔버의 내부가 오염되는 문제점이 있다.When the object to be processed is processed using the laser processing apparatus, particles are generated from the object to be processed by the laser beam, and the inside of the chamber is contaminated by the particles.
피처리체로부터 발생되는 파티클로 인해 챔버의 내부가 오염되는 것을 억제하는 레이저 처리 장치를 제공하고자 한다.And to suppress contamination of the inside of the chamber due to particles generated from the object to be processed.
일 측면은 내부에 피처리체가 위치하며, 일 측에 투과부를 포함하는 챔버, 상기 챔버 외부에 위치하며, 상기 투과부를 통해 레이저 빔을 상기 피처리체로 조사하는 레이저 유닛, 및 상기 챔버 내부에서 상기 피처리체와 이웃하며, 상기 레이저 빔이 통과하는 개구부 및 상기 개구부와 상기 피처리체 사이에 위치하여 상기 레이저 빔이 통과하는 슬릿(slit)을 포함하는 파티클 그래버(particle grabber)를 포함하며, 상기 슬릿은 상기 개구부 대비 더 작은 너비를 가지는 레이저 처리 장치를 제공한다.A laser unit for irradiating a laser beam onto the object to be processed through the transparent portion, the laser unit being located inside the chamber; And a particle grabber which is adjacent to the laser beam and includes an opening through which the laser beam passes and a slit which is positioned between the opening and the object to be processed and through which the laser beam passes, A laser processing apparatus having a smaller width than an opening is provided.
상기 파티클 그래버는, 상기 개구부를 포함하는 그래버 본체, 상기 그래버 본체의 제1 부분으로부터 상기 피처리체 방향으로 연장된 제1 플레이트, 및 상기 개구부를 사이에 두고 상기 제1 부분으로부터 이격된 상기 그래버 본체의 제2 부분으로부터 상기 피처리체 방향으로 연장된 제2 플레이트를 더 포함할 수 있으며, 상기 제1 플레이트의 단부 및 상기 제2 플레이트의 단부는 상기 슬릿을 형성할 수 있다.The particle grabber includes a grabber body including the opening portion, a first plate extending from the first portion of the grabber body toward the object to be processed, and a second plate extending from the first portion of the grabber body And a second plate extending from the second portion in the direction of the object to be processed. The end of the first plate and the end of the second plate may form the slit.
상기 제1 플레이트 및 상기 제2 플레이트 중 적어도 하나는 상기 개구부의 적어도 일부를 커버하는 경사면을 포함할 수 있다.At least one of the first plate and the second plate may include an inclined surface covering at least a part of the opening.
상기 파티클 그래버는, 상기 그래버 본체의 상기 제1 부분과 상기 개구부 사이에 위치하는 상기 그래버 본체의 제3 부분으로부터 상기 슬릿 방향으로 연장된 제3 플레이트, 및 상기 그래버 본체의 상기 제2 부분과 상기 개구부 사이에 위치하는 상기 그래버 본체의 제4 부분으로부터 상기 슬릿 방향으로 연장된 제4 플레이트를 더 포함할 수 있다.The particle grabber includes a third plate extending in the slit direction from a third portion of the grabber body positioned between the first portion of the grabber body and the opening portion and a third plate extending between the second portion of the grabber body and the opening, And a fourth plate extending in the slit direction from the fourth portion of the grabber main body.
상기 그래버 본체는 상기 제1 플레이트 및 상기 제2 플레이트를 둘러싸는 격벽부를 더 포함할 수 있다.The grabber body may further include a partition wall portion surrounding the first plate and the second plate.
상기 파티클 그래버는, 상기 그래버 본체의 상기 제1 부분과 상기 격벽부 사이에 위치하는 상기 그래버 본체의 제5 부분으로부터 상기 피처리체 방향으로 연장된 제5 플레이트, 및 상기 그래버 본체의 상기 제2 부분과 상기 격벽부 사이에 위치하는 상기 그래버 본체의 제6 부분으로부터 상기 피처리체 방향으로 연장된 제6 플레이트를 더 포함할 수 있다.The particle grabber includes a fifth plate extending from the fifth portion of the grabber main body positioned between the first portion of the grabber main body and the partition wall portion in the direction of the subject and the second portion of the grabber main body, And a sixth plate extending in the direction from the sixth portion of the grabber body positioned between the partition portions toward the object to be processed.
상기 슬릿은 상기 피처리체의 표면에 대해 수직 방향으로 상기 개구부와 비중첩할 수 있다.The slit may not overlap with the opening in a direction perpendicular to the surface of the object to be processed.
상기 레이저 빔은 상기 피처리체의 상기 표면에 대해 경사진 방향으로 조사될 수 있다.The laser beam may be irradiated in an inclined direction with respect to the surface of the object to be processed.
상기 챔버 내부에서 상기 투과부와 상기 파티클 그래버 사이에 위치하는 윈도우를 더 포함할 수 있다.And a window positioned between the transmissive portion and the particle grabber within the chamber.
상기 파티클 그래버는 금속을 포함할 수 있다.The particle grabber may comprise a metal.
상기 파티클 그래버와 연결된 냉각 유닛을 더 포함할 수 있다.And a cooling unit coupled to the particle grabber.
피처리체로부터 발생되는 파티클로 인해 챔버의 내부가 오염되는 것을 억제하는 레이저 처리 장치가 제공된다.There is provided a laser processing apparatus for suppressing contamination of the inside of a chamber due to particles generated from an object to be processed.
도 1은 일 실시예에 따른 레이저 처리 장치를 나타낸 도면이다.
도 2는 도 1의 A 부분을 확대한 도면이다.
도 3은 다른 실시예에 따른 레이저 처리 장치의 일 부분을 나타낸 도면이다.
도 4는 또 다른 실시예에 따른 레이저 처리 장치의 일 부분을 나타낸 도면이다.
도 5는 또 다른 실시예에 따른 레이저 처리 장치를 나타낸 도면이다.
도 6은 도 5의 B 부분을 확대한 도면이다.
도 7은 또 다른 실시예에 따른 레이저 처리 장치의 일 부분을 나타낸 도면이다.1 is a view showing a laser processing apparatus according to an embodiment.
2 is an enlarged view of a portion A in Fig.
3 is a view showing a part of a laser processing apparatus according to another embodiment.
4 is a view showing a part of a laser processing apparatus according to another embodiment.
5 is a diagram showing a laser processing apparatus according to another embodiment.
6 is an enlarged view of a portion B in Fig.
Fig. 7 is a view showing a part of a laser processing apparatus according to another embodiment.
이하, 첨부한 도면을 참고로 하여 본 발명의 여러 실시예들에 대하여 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 상세히 설명한다. 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시예들에 한정되지 않는다.DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. The present invention may be embodied in many different forms and is not limited to the embodiments described herein.
본 발명을 명확하게 설명하기 위해서 설명과 관계없는 부분은 생략하였으며, 명세서 전체를 통하여 동일 또는 유사한 구성요소에 대해서는 동일한 참조 부호를 붙이도록 한다.In order to clearly illustrate the present invention, parts not related to the description are omitted, and the same or similar components are denoted by the same reference numerals throughout the specification.
또한, 도면에서 나타난 각 구성의 크기 및 두께는 설명의 편의를 위해 임의로 나타내었으므로, 본 발명이 반드시 도시된 바에 한정되지 않는다. 도면에서 여러 층 및 영역을 명확하게 표현하기 위하여 두께를 확대하여 나타내었다. 그리고 도면에서, 설명의 편의를 위해, 일부 층 및 영역의 두께를 과장되게 나타내었다.In addition, since the sizes and thicknesses of the respective components shown in the drawings are arbitrarily shown for convenience of explanation, the present invention is not necessarily limited to those shown in the drawings. In the drawings, the thickness is enlarged to clearly represent the layers and regions. In the drawings, for the convenience of explanation, the thicknesses of some layers and regions are exaggerated.
또한, 층, 막, 영역, 판 등의 부분이 다른 부분 "위에" 또는 "상에" 있다고 할 때, 이는 다른 부분 "바로 위에" 있는 경우뿐 아니라 그 중간에 또 다른 부분이 있는 경우도 포함한다. 반대로 어떤 부분이 다른 부분 "바로 위에" 있다고 할 때에는 중간에 다른 부분이 없는 것을 뜻한다. 또한, 기준이 되는 부분 "위에" 또는 "상에" 있다고 하는 것은 기준이 되는 부분의 위 또는 아래에 위치하는 것이고, 반드시 중력 반대 방향 쪽으로 "위에" 또는 "상에" 위치하는 것을 의미하는 것은 아니다.Also, when a portion such as a layer, a film, an area, a plate, etc. is referred to as being "on" or "on" another portion, this includes not only the case where the other portion is "directly on" . Conversely, when a part is "directly over" another part, it means that there is no other part in the middle. Also, to be "on" or "on" the reference portion is located above or below the reference portion and does not necessarily mean "above" or "above" toward the opposite direction of gravity .
또한, 명세서 전체에서, 어떤 부분이 어떤 구성요소를 "포함" 한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성요소를 더 포함할 수 있는 것을 의미한다.Also, throughout the specification, when an element is referred to as "including" an element, it is understood that the element may include other elements as well, without departing from the other elements unless specifically stated otherwise.
이하, 도 1 및 도 2를 참조하여 일 실시예에 따른 레이저 처리 장치를 설명한다.Hereinafter, a laser processing apparatus according to an embodiment will be described with reference to FIGS. 1 and 2. FIG.
도 1은 일 실시예에 따른 레이저 처리 장치를 나타낸 도면이다.1 is a view showing a laser processing apparatus according to an embodiment.
도 1에 도시된 바와 같이, 일 실시예에 따른 레이저 처리 장치(1000)는 피처리체(OB)를 레이저 빔(LB)을 이용해 처리하는 장치이다. 이하에서, 피처리체(OB)는 기판 형태를 가지는 것을 일례로서 설명하나, 이에 한정되지 않고 피처리체(OB)는 레이저 빔(LB)을 이용해 처리할 수 있다면 원형, 다각형, 타원형, 비정형 형태 등의 다양한 형태를 가질 수 있다.As shown in FIG. 1, the
또한, 레이저 빔(LB)을 이용해 피처리체(OB)를 처리하는 것은 피처리체(OB)를 열처리하거나, 피처리체(OB)를 절단하거나, 피처리체(OB)에 홈을 형성하거나, 피처리체(OB)에 구조물을 형성하는 등 피처리체(OB)에 대한 다양한 처리를 의미할 수 있다.The processing of the object OB using the laser beam LB can be performed by heat treatment of the object OB or cutting the object OB or forming grooves in the object OB, OB) by forming a structure on the workpiece OB.
일 실시예에 따른 레이저 처리 장치(1000)는 레이저 빔(LB)을 이용해 피처리체(OB)를 처리하며, 챔버(100), 레이저 유닛(200), 파티클 그래버(particle grabber)(300), 윈도우(400), 냉각 유닛(500)을 포함한다.A
챔버(100)는 내부에 공간을 형성하며, 챔버(100) 내부에 형성되는 공간은 진공을 유지할 수 있다. 챔버(100)의 내부에는 피처리체(OB), 파티클 그래버(300), 윈도우(400), 냉각 유닛(500)이 위치한다. 챔버(100)의 내부에서 피처리체(OB)가 레이저 빔(LB)에 의해 처리된다. 챔버(100)는 투과부(110)를 포함한다.The
투과부(110)는 챔버(100)의 일 측에 위치하며, 레이저 유닛(200)으로부터 조사된 레이저 빔(LB)이 투과할 수 있다면, 어떠한 재료라도 포함할 수 있다. 일례로, 투과부(110)는 글라스(glass)를 포함할 수 있다.The
레이저 유닛(200)은 챔버(100)의 외부에 위치하며, 레이저 빔(LB)을 투과부(110)를 통해 피처리체(OB)로 조사한다. 레이저 유닛(200)은 공지된 다양한 구조를 가질 수 있으며, 공지된 다양한 레이저 빔(LB)을 피처리체(OB)로 조사할 수 있다.The
도 2는 도 1의 A 부분을 확대한 도면이다.2 is an enlarged view of a portion A in Fig.
도 1 및 도 2에 도시된 바와 같이, 파티클 그래버(300)는 챔버(100) 내부에서 피처리체(OB)와 이웃하고 있다. 파티클 그래버(300)는 피처리체(OB)와 윈도우(400) 사이에 위치한다. 파티클 그래버(300)는 레이저 빔(LB)을 이용한 피처리체(OB)의 처리 과정에서 피처리체(OB)로부터 나오는 파티클(PC)을 포집하며, 피처리체(OB)로부터 나오는 파티클(PC)에 의해 챔버(100) 내부가 오염되는 것을 억제한다. As shown in FIGS. 1 and 2, the
파티클 그래버(300)는 그래버 본체(310), 제1 플레이트(321), 제2 플레이트(322)를 포함한다.The
그래버 본체(310)는 상부가 개방된 박스(box) 형태를 가질 수 있으나, 이에 한정되지는 않는다. 그래버 본체(310)는 저부(318)에 레이저 빔(LB)이 통과하는 개구부(OP)를 포함한다. The
개구부(OP)는 제1 너비(W1)를 가지며, 제1 너비(W1)를 가지는 개구부(OP)를 통해 레이저 유닛(200)으로부터 투과부(110) 및 윈도우(400)를 통과한 레이저 빔(LB)이 피처리체(OB)로 조사된다. 이와 같이, 파티클 그래버(300)는 레이저 빔(LB)이 통과하는 개구부(OP)를 포함한다.The opening OP has a first width W1 and a laser beam LB passing through the
그래버 본체(310)의 내부에는 제1 플레이트(321) 및 제2 플레이트(322)가 위치한다. 그래버 본체(310)는 저부(318)와, 저부(318)로부터 피처리체(OB) 방향으로 연장되어 제1 플레이트(321) 및 제2 플레이트(322)를 둘러싸는 격벽부(319)를 포함할 수 있다. 격벽부(319)는 제1 플레이트(321) 및 제2 플레이트(322)를 둘러싼다면 어떠한 형태로도 연장될 수 있다.The
제1 플레이트(321)는 그래버 본체(310)의 제1 부분(311)으로부터 피처리체(OB) 방향으로 연장되어 있으며, 제2 플레이트(322)는 그래버 본체(310)의 제2 부분(312)으로부터 피처리체(OB) 방향으로 연장되어 있다. 제1 부분(311) 및 제2 부분(312) 각각은 그래버 본체(310)의 저부(318)의 일 부분이다. 제2 부분(312)은 개구부(OP)를 사이에 두고 제1 부분(311)과 이격되어 있다. 제1 플레이트(321) 및 제2 플레이트(322) 각각은 그래버 본체(310)의 저부(318)로부터 경사진 방향으로 연장되어 있다. 제1 플레이트(321) 및 제2 플레이트(322)는 개구부(OP)의 일부를 커버(cover)하는 경사면(IS)을 포함한다. 제1 플레이트(321)의 단부 및 제2 플레이트(322)의 단부는 슬릿(slit)(SL)을 형성한다. The
한편, 제1 플레이트(321) 및 제2 플레이트(322) 중 적어도 하나는 개구부(OP)의 적어도 일부를 커버하는 경사면(IS)을 포함할 수 있다.At least one of the
슬릿(SL)은 개구부(OP)가 가지는 제1 너비(W1) 대비 더 작은 제2 너비(W2)를 가진다. 제2 너비(W2)를 가지는 슬릿(SL)을 통해 레이저 유닛(200)으로부터 투과부(110), 윈도우(400), 개구부(OP)를 통과한 레이저 빔(LB)이 피처리체(OB)로 조사된다. 이와 같이, 파티클 그래버(300)는 레이저 빔(LB)이 통과하는 슬릿(SL)을 포함한다.The slit SL has a second width W2 that is smaller than the first width W1 of the opening OP. The laser beam LB having passed through the
파티클 그래버(300)의 슬릿(SL)은 피처리체(OB)의 표면(SU)에 대해 수직 방향으로 개구부(OP)와 중첩하고 있다. 슬릿(SL)은 개구부(OP)와 연통하고 있다.The slit SL of the
이와 같이, 파티클 그래버(300)가 제1 플레이트(321) 및 제2 플레이트(322)에 의해 형성되는 슬릿(SL)을 포함하고, 이 슬릿(SL)이 개구부(OP) 대비 더 작은 너비를 가짐으로써, 레이저 빔(LB)을 이용한 피처리체(OB)의 처리 과정에서 피처리체(OB)로부터 나오는 파티클(PC)이 개구부(OP)를 통해 파티클 그래버(300) 외부로 나가 챔버(100) 내부가 오염되는 것이 억제된다. 구체적으로, 레이저 빔(LB)을 이용한 피처리체(OB)의 처리 과정에서 피처리체(OB)로부터 나오는 파티클(PC)은 슬릿(SL)을 형성하는 제1 플레이트(321) 및 제2 플레이트(322)에 의해 블록(block)되어 제1 플레이트(321) 및 제2 플레이트(322) 각각의 경사면(IS)을 따라 제1 플레이트(321)와 격벽부(319) 사이 및 제2 플레이트(322)와 격벽부(319) 사이 각각에 포집된다. As described above, the
이와는 다르게, 파티클 그래버(300)가 슬릿(SL)을 포함하지 않을 경우, 피처리체(OB)로부터 나오는 파티클(PC)이 개구부(OP)를 통해 파티클 그래버(300) 외부로 나가 챔버(100) 내부가 오염될 수 있다.When the
또한, 파티클 그래버(300)는 열전도율이 높은 금속을 포함하며, 냉각 유닛(500)과 연결되어 있다. 파티클 그래버(300)는 냉각 유닛(500)에 의해 설정된 온도를 유지할 수 있다. 여기서 설정된 온도는 파티클 그래버(300)에 포집된 파티클(PC)의 승화(sublimation) 온도 미만의 온도를 의미할 수 있다.Further, the
이에 의해 파티클 그래버(300)에 의해 포집된 파티클(PC)이 승화되는 것이 억제된다.This suppresses the sublimation of the particles PC captured by the
윈도우(400)는 챔버(100) 내부에서 투과부(110)와 파티클 그래버(300) 사이에 위치하고 있다. 윈도우(400)는 레이저 빔(LB)이 투과될 수 있다면 어떠한 재료라도 포함할 수 있다. 윈도우(400)는 투과부(110)를 커버(cover)하고 있다. 윈도우(400)는 피처리체(OB)로부터 파티클 그래버(300)를 통해 투과부(110)로 낙하하는 파티클(PC)이 투과부(110)의 표면에 부착되는 것을 블록(block)한다. 윈도우(400)는 도시하지 않은 구동부와 연결되어 챔버(100)의 내부로부터 외부로 이동될 수 있다. 윈도우(400)의 표면에 피처리체(OB)로부터 파티클(PC)이 부착된 경우, 윈도우(400)는 챔버(100)의 내부로부터 외부로 이동되어 세척될 수 있다.The
냉각 유닛(500)은 파티클 그래버(300)와 연결되어 있으며, 파티클 그래버(300)와 열교환하여 파티클 그래버(300)를 설정된 온도로 유지시킨다. 냉각 유닛(500)은 공지된 다양한 구조를 가질 수 있다.The
이상과 같이, 일 실시예에 따른 레이저 처리 장치(1000)는 파티클 그래버(300)가 레이저 빔(LB)이 통과하는 제1 너비(W1)를 가지는 개구부(OP) 및 제1 너비(W1) 대비 더 작은 제2 너비(W2)를 가지는 슬릿(SL)을 포함함으로써, 피처리체(OB)로부터 나오는 파티클(PC)이 개구부(OP)를 통해 파티클 그래버(300) 외부로 나가 챔버(100) 내부가 오염되는 것을 억제한다.As described above, the
또한, 일 실시예에 따른 레이저 처리 장치(1000)는 개구부(OP)의 적어도 일부를 커버하여 슬릿(SL)을 형성하는 제1 플레이트(321) 및 제2 플레이트(322)를 포함함으로써, 피처리체(OB)로부터 나오는 파티클(PC)을 제1 플레이트(321) 및 제2 플레이트(322)를 이용해 블록(block)하기 때문에, 피처리체(OB)로부터 나오는 파티클(PC)이 개구부(OP)를 통해 파티클 그래버(300) 외부로 나가 챔버(100) 내부가 오염되는 것을 억제한다.The
또한, 일 실시예에 따른 레이저 처리 장치(1000)는 파티클 그래버(300)가 열전도율이 높은 금속을 포함하여 냉각 유닛(500)과 연결되어 있음으로써, 파티클 그래버(300)에 의해 포집된 파티클(PC)이 승화(sublimation)되는 것을 억제하기 때문에, 파티클(PC)로부터 승화된 기체에 의해 챔버(100) 내부가 오염되는 것을 억제한다.The
또한, 일 실시예에 따른 레이저 처리 장치(1000)는 투과부(110)와 파티클 그래버(300) 사이에 위치하는 윈도우(400)를 포함함으로써, 윈도우(400)에 의해 파티클 그래버(300)를 통해 투과부(110)로 낙하하는 파티클(PC)이 블록(block)되기 때문에, 파티클(PC)에 의해 투과부(110)가 오염되는 것을 억제한다.The
이하, 도 3을 참조하여 다른 실시예에 따른 레이저 처리 장치를 설명한다.Hereinafter, a laser processing apparatus according to another embodiment will be described with reference to FIG.
이하에서는 상술한 도 1 및 도 2를 참조한 일 실시예에 따른 레이저 처리 장치와 다른 부분에 대해서 설명한다.Hereinafter, portions different from the laser processing apparatus according to the embodiment described above with reference to FIGS. 1 and 2 will be described.
도 3은 다른 실시예에 따른 레이저 처리 장치의 일 부분을 나타낸 도면이다.3 is a view showing a part of a laser processing apparatus according to another embodiment.
도 3에 도시된 바와 같이, 다른 실시예에 따른 레이저 처리 장치(1000)의 파티클 그래버(300)는 그래버 본체(310), 제1 플레이트(321), 제2 플레이트(322), 제3 플레이트(323), 제4 플레이트(324)를 포함한다.3, the
그래버 본체(310)의 내부에는 제1 플레이트(321), 제2 플레이트(322), 제3 플레이트(323), 제4 플레이트(324)가 위치한다. 격벽부(319)는 제1 플레이트(321), 제2 플레이트(322), 제3 플레이트(323), 제4 플레이트(324)를 둘러싼다.A
제3 플레이트(323)는 그래버 본체(310)의 제3 부분(313)으로부터 슬릿(SL) 방향으로 연장되어 있다. 제3 부분(313)은 제1 부분(311)과 개구부(OP) 사이에 위치하고 있다. 제4 플레이트(324)는 그래버 본체(310)의 제4 부분(314)으로부터 슬릿(SL) 방향으로 연장되어 있다. 제4 부분(314)은 제2 부분(312)과 개구부(OP) 사이에 위치하고 있다.The
제3 부분(313) 및 제4 부분(314) 각각은 그래버 본체(310)의 저부(318)의 일 부분이다. 제3 부분(313)은 개구부(OP)를 사이에 두고 제4 부분(314)과 이격되어 있다. 제3 플레이트(323) 및 제4 플레이트(324)는 제1 플레이트(321) 대비 짧은 길이를 가지고 있으나, 이에 한정되지는 않는다. 제3 플레이트(323) 및 제4 플레이트(324)는 제1 플레이트(321) 및 제2 플레이트(322) 각각의 연장 방향과 다른 방향으로 연장되어 있다. 일례로, 제3 플레이트(323) 및 제4 플레이트(324)는 피처리체(OB)의 표면(SU)에 대해 수직 방향으로 연장될 수 있다.Each of the
이와 같이, 파티클 그래버(300)가 제1 플레이트(321) 및 제2 플레이트(322)에 의해 형성되는 슬릿(SL)을 포함하고, 이 슬릿(SL)이 개구부(OP) 대비 너비가 더 작음으로써, 레이저 빔(LB)을 이용한 피처리체(OB)의 처리 과정에서 피처리체(OB)로부터 나오는 파티클(PC)이 개구부(OP)를 통해 파티클 그래버(300) 외부로 나가 챔버(100) 내부가 오염되는 것이 억제된다. Since the
나아가, 파티클 그래버(300)의 제3 플레이트(323)가 제1 플레이트(321)와 개구부(OP) 사이에 위치하고, 제4 플레이트(324)가 제2 플레이트(322)와 개구부(OP) 사이에 위치함으로써, 레이저 빔(LB)을 이용한 피처리체(OB)의 처리 과정에서 피처리체(OB)로부터 나오는 파티클(PC)이 슬릿(SL)을 통해 개구부(OP) 방향으로 이동하더라도, 슬릿(SL)을 통한 이 파티클(PC)이 제1 플레이트(321)와 제3 플레이트(323) 사이 및 제2 플레이트(322)와 제4 플레이트(324) 사이 각각에 포집되기 때문에, 챔버(100) 내부가 오염되는 것이 억제된다.The
즉, 챔버(100) 내부가 파티클(PC)에 의해 오염되는 것을 억제하는 레이저 처리 장치(1000)가 제공된다.That is, there is provided a
이하, 도 4를 참조하여 또 다른 실시예에 따른 레이저 처리 장치를 설명한다.Hereinafter, a laser processing apparatus according to another embodiment will be described with reference to FIG.
이하에서는 상술한 도 3을 참조한 다른 실시예에 따른 레이저 처리 장치와 다른 부분에 대해서 설명한다.Hereinafter, portions different from the laser processing apparatus according to another embodiment described above with reference to FIG. 3 will be described.
도 4는 또 다른 실시예에 따른 레이저 처리 장치의 일 부분을 나타낸 도면이다.4 is a view showing a part of a laser processing apparatus according to another embodiment.
도 4에 도시된 바와 같이, 또 다른 실시예에 따른 레이저 처리 장치(1000)의 파티클 그래버(300)는 그래버 본체(310), 제1 플레이트(321), 제2 플레이트(322), 제3 플레이트(323), 제4 플레이트(324), 제5 플레이트(325), 제6 플레이트(326)를 포함한다.4, the
그래버 본체(310)의 내부에는 제1 플레이트(321), 제2 플레이트(322), 제3 플레이트(323), 제4 플레이트(324), 제5 플레이트(325), 제6 플레이트(326)가 위치한다. 격벽부(319)는 제1 플레이트(321), 제2 플레이트(322), 제3 플레이트(323), 제4 플레이트(324), 제5 플레이트(325) 및 제6 플레이트(326)를 둘러싼다.A
제5 플레이트(325)는 그래버 본체(310)의 제5 부분(315)으로부터 피처리체(OB) 방향으로 연장되어 있다. 제5 부분(315)은 제1 부분(311)과 격벽부(319) 사이에 위치하고 있다. 제6 플레이트(326)는 그래버 본체(310)의 제6 부분(316)으로부터 피처리체(OB) 방향으로 연장되어 있다. 제6 부분(316)은 제2 부분(312)과 격벽부(319) 사이에 위치하고 있다.The fifth plate 325 extends from the
제5 부분(315) 및 제6 부분(316) 각각은 그래버 본체(310)의 저부(318)의 일 부분이다. 제5 부분(315)은 개구부(OP)를 사이에 두고 제6 부분(316)과 이격되어 있다. 제5 플레이트(325) 및 제6 플레이트(326)는 제1 플레이트(321) 및 제2 플레이트(322) 각각의 연장 방향과 다른 방향으로 연장되어 있다. 일례로, 제5 플레이트(325) 및 제6 플레이트(326)는 피처리체(OB)의 표면(SU)에 대해 수직 방향으로 연장될 수 있다.Each of the
이와 같이, 파티클 그래버(300)가 제1 플레이트(321) 및 제2 플레이트(322)에 의해 형성되는 슬릿(SL)을 포함하고, 이 슬릿(SL)이 개구부(OP) 대비 더 작은 너비를 가짐으로써, 레이저 빔(LB)을 이용한 피처리체(OB)의 처리 과정에서 피처리체(OB)로부터 나오는 파티클(PC)이 개구부(OP)를 통해 파티클 그래버(300) 외부로 나가 챔버(100) 내부가 오염되는 것이 억제된다. As described above, the
나아가, 파티클 그래버(300)의 제5 플레이트(325)가 제1 플레이트(321)와 격벽부(319) 사이에 위치하고, 제6 플레이트(326)가 제2 플레이트(322)와 격벽부(319) 사이에 위치함으로써, 레이저 빔(LB)을 이용한 피처리체(OB)의 처리 과정에서 피처리체(OB)로부터 나오는 파티클(PC)이 제1 플레이트(321)와 제5 플레이트(325) 사이 및 제2 플레이트(322)와 제6 플레이트(326) 사이 각각에 포집되기 때문에, 챔버(100) 내부가 오염되는 것이 억제된다.The fifth plate 325 of the
즉, 챔버(100) 내부가 파티클(PC)에 의해 오염되는 것을 억제하는 레이저 처리 장치(1000)가 제공된다.That is, there is provided a
이하, 도 5 및 도 6을 참조하여 또 다른 실시예에 따른 레이저 처리 장치를 설명한다.Hereinafter, a laser processing apparatus according to another embodiment will be described with reference to Figs. 5 and 6. Fig.
이하에서는 상술한 도 1 및 도 2를 참조한 일 실시예에 따른 레이저 처리 장치와 다른 부분에 대해서 설명한다.Hereinafter, portions different from the laser processing apparatus according to the embodiment described above with reference to FIGS. 1 and 2 will be described.
도 5는 또 다른 실시예에 따른 레이저 처리 장치를 나타낸 도면이다. 도 6은 도 5의 B 부분을 확대한 도면이다.5 is a diagram showing a laser processing apparatus according to another embodiment. 6 is an enlarged view of a portion B in Fig.
도 5 및 도 6에 도시된 바와 같이, 또 다른 실시예에 따른 레이저 처리 장치(1000)의 레이저 유닛(200)은 챔버(100)의 외부에 위치하며, 레이저 빔(LB)을 투과부(110)를 통해 피처리체(OB)로 조사한다. 레이저 유닛(200)은 레이저 빔(LB)을 피처리체(OB)의 표면(SU)에 대해 경사진 방향으로 조사한다.5 and 6, the
파티클 그래버(300)는 그래버 본체(310), 제1 플레이트(321), 제2 플레이트(322)를 포함한다.The
제1 플레이트(321) 및 제2 플레이트(322) 각각은 피처리체(OB)의 표면(SU)에 대해 경사진 방향으로 조사되는 레이저 빔(LB)의 조사 경로를 따라 기울어져 연장되어 있다.Each of the
파티클 그래버(300)의 제1 플레이트(321)는 개구부(OP)를 완전히 커버하는 경사면(IS)을 포함한다.The
파티클 그래버(300)는 개구부(OP) 및 슬릿(SL)을 포함하며, 슬릿(SL)은 피처리체(OB)의 표면(SU)에 대해 수직 방향으로 개구부(OP)와 비중첩하고 있다.The
이와 같이, 레이저 빔(LB)이 피처리체(OB)의 표면(SU)에 대해 경사진 방향으로 조사되고, 제2 플레이트(322)와 함께 슬릿(SL)을 형성하는 제1 플레이트(321)가 개구부(OP)를 완전히 커버하는 경사면(IS)을 포함하고, 슬릿(SL)이 피처리체(OB)의 표면(SU)에 대해 수직 방향으로 개구부(OP)와 비중첩하고 있음으로써, 레이저 빔(LB)을 이용한 피처리체(OB)의 처리 과정에서 피처리체(OB)로부터 나오는 파티클(PC)이 개구부(OP)를 통해 파티클 그래버(300) 외부로 나가 챔버(100) 내부가 오염되는 것이 억제된다. 구체적으로, 레이저 빔(LB)을 이용한 피처리체(OB)의 처리 과정에서 피처리체(OB)로부터 나오는 파티클(PC)은 슬릿(SL)을 형성하는 제1 플레이트(321)에 의해 블록(block)되어 제1 플레이트(321)의 경사면(IS)을 따라 제1 플레이트(321)와 격벽부(319) 사이에 포집되는 동시에 제2 플레이트(322)와 격벽부(319) 사이에 포집된다. As described above, the laser beam LB is irradiated in an inclined direction with respect to the surface SU of the object OB, and the
즉, 챔버(100) 내부가 파티클(PC)에 의해 오염되는 것을 억제하는 레이저 처리 장치(1000)가 제공된다.That is, there is provided a
이하, 도 7을 참조하여 또 다른 실시예에 따른 레이저 처리 장치를 설명한다.Hereinafter, a laser processing apparatus according to another embodiment will be described with reference to FIG.
이하에서는 상술한 도 1 및 도 2를 참조한 일 실시예에 따른 레이저 처리 장치와 다른 부분에 대해서 설명한다.Hereinafter, portions different from the laser processing apparatus according to the embodiment described above with reference to FIGS. 1 and 2 will be described.
도 7은 또 다른 실시예에 따른 레이저 처리 장치의 일 부분을 나타낸 도면이다.Fig. 7 is a view showing a part of a laser processing apparatus according to another embodiment.
도 7에 도시된 바와 같이, 또 다른 실시예에 따른 레이저 처리 장치(1000)의 레이저 빔(LB)은 피처리체(OB)의 표면(SU)에 대해 경사진 방향으로 조사된다.As shown in Fig. 7, the laser beam LB of the
파티클 그래버(300)는 그래버 본체(310), 제1 플레이트(321), 제2 플레이트(322), 제3 플레이트(323), 제4 플레이트(324)를 포함한다.The
격벽부(319)는 제1 플레이트(321), 제2 플레이트(322), 제3 플레이트(323), 제4 플레이트(324)를 둘러싼다.The
제1 플레이트(321)는 그래버 본체(310)의 격벽부(319)의 일 부분인 제1 부분(311)으로부터 피처리체(OB) 방향으로 연장되어 있으며, 제2 플레이트(322)는 그래버 본체(310)의 격벽부(319)의 일 부분인 제2 부분(312)으로부터 피처리체(OB) 방향으로 연장되어 있다. 제1 플레이트(321) 및 제2 플레이트(322)는 슬릿(SL)을 형성한다.The
제1 플레이트(321)는 개구부(OP)를 완전히 커버하는 경사면(IS)을 포함한다.The
파티클 그래버(300)의 슬릿(SL)은 피처리체(OB)의 표면(SU)에 대해 수직 방향으로 개구부(OP)와 비중첩하고 있다.The slit SL of the
제3 플레이트(323)는 그래버 본체(310)의 저부(318)의 일 부분인 제3 부분(313)으로부터 슬릿(SL) 방향으로 연장되어 있으며, 제4 플레이트(324)는 그래버 본체(310)의 저부(318)의 일 부분인 제4 부분(314)으로부터 슬릿(SL) 방향으로 연장되어 있다. 제3 부분(313)은 제1 부분(311)과 개구부(OP) 사이에 위치하고 있다. 제4 플레이트(324)는 그래버 본체(310)의 제4 부분(314)으로부터 슬릿(SL) 방향으로 연장되어 있다. 제4 부분(314)은 제2 부분(312)과 개구부(OP) 사이에 위치하고 있다.The
제3 부분(313)은 개구부(OP)를 사이에 두고 제4 부분(314)과 이격되어 있다. 제3 플레이트(323) 및 제4 플레이트(324)는 제1 플레이트(321) 대비 짧은 길이를 가지고 있으나, 이에 한정되지는 않는다. 제3 플레이트(323) 및 제4 플레이트(324)는 제1 플레이트(321) 및 제2 플레이트(322) 각각의 연장 방향과 다른 방향으로 연장되어 있다. 일례로, 제3 플레이트(323) 및 제4 플레이트(324)는 피처리체(OB)에 표면에 대해 경사진 방향으로 조사되는 레이저 빔(LB)의 조사 경로를 따라 기울어져 연장되어 있다The
이와 같이, 레이저 빔(LB)이 피처리체(OB)의 표면(SU)에 대해 경사진 방향으로 조사되고, 제2 플레이트(322)와 함께 슬릿(SL)을 형성하는 제1 플레이트(321)가 개구부(OP)를 완전히 커버하는 경사면(IS)을 포함하고, 슬릿(SL)이 피처리체(OB)의 표면(SU)에 대해 수직 방향으로 개구부(OP)와 비중첩하고 있음으로써, 레이저 빔(LB)을 이용한 피처리체(OB)의 처리 과정에서 피처리체(OB)로부터 나오는 파티클(PC)이 개구부(OP)를 통해 파티클 그래버(300) 외부로 나가 챔버(100) 내부가 오염되는 것이 억제된다. 구체적으로, 레이저 빔(LB)을 이용한 피처리체(OB)의 처리 과정에서 피처리체(OB)로부터 나오는 파티클(PC)은 슬릿(SL)을 형성하는 제1 플레이트(321) 및 제2 플레이트(322)에 의해 블록(block)되어 제1 플레이트(321) 및 제2 플레이트(322) 각각의 경사면(IS)을 따라 제1 플레이트(321)와 격벽부(319) 사이에 포집되는 동시에 제2 플레이트(322)와 격벽부(319) 사이에 포집된다. As described above, the laser beam LB is irradiated in an inclined direction with respect to the surface SU of the object OB, and the
나아가, 파티클 그래버(300)의 제3 플레이트(323)가 제1 플레이트(321)와 개구부(OP) 사이에 위치하고, 제4 플레이트(324)가 제2 플레이트(322)와 개구부(OP) 사이에 위치함으로써, 레이저 빔(LB)을 이용한 피처리체(OB)의 처리 과정에서 피처리체(OB)로부터 나오는 파티클(PC)이 슬릿(SL)을 통해 개구부(OP) 방향으로 이동하더라도, 슬릿(SL)을 통한 이 파티클(PC)이 격벽부(319)과 제3 플레이트(323) 사이 및 격벽부(319)과 제4 플레이트(324) 사이 각각에 포집되기 때문에, 챔버(100) 내부가 오염되는 것이 억제된다.The
즉, 챔버(100) 내부가 파티클(PC)에 의해 오염되는 것을 억제하는 레이저 처리 장치(1000)가 제공된다.That is, there is provided a
이상에서 본 발명의 실시예에 대하여 상세하게 설명하였지만 본 발명의 권리범위는 이에 한정되는 것은 아니고 다음의 청구범위에서 정의하고 있는 본 발명의 기본 개념을 이용한 당업자의 여러 변형 및 개량 형태 또한 본 발명의 권리범위에 속하는 것이다.While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed exemplary embodiments, It belongs to the scope of right.
피처리체(OB), 챔버(100), 레이저 유닛(200), 개구부(OP), 슬릿(SL), 파티클 그래버(300)The treatment object OB, the
Claims (11)
상기 챔버 외부에 위치하며, 상기 투과부를 통해 레이저 빔을 상기 피처리체로 조사하는 레이저 유닛; 및
상기 챔버 내부에서 상기 피처리체와 이웃하며, 상기 레이저 빔이 통과하는 개구부 및 상기 개구부와 상기 피처리체 사이에 위치하여 상기 레이저 빔이 통과하는 슬릿(slit)을 포함하는 파티클 그래버(particle grabber)
를 포함하며,
상기 슬릿은 상기 개구부 대비 더 작은 너비를 가지는 레이저 처리 장치.A chamber in which an object to be processed is disposed, the chamber including a transmissive portion on one side;
A laser unit located outside the chamber, the laser unit irradiating a laser beam onto the object to be processed through the transmission unit; And
A particle grabber adjacent to the object within the chamber, the particle grabber including an opening through which the laser beam passes and a slit through which the laser beam passes, the particle grabber being positioned between the opening and the object,
/ RTI >
Wherein the slit has a smaller width than the opening.
상기 파티클 그래버는,
상기 개구부를 포함하는 그래버 본체;
상기 그래버 본체의 제1 부분으로부터 상기 피처리체 방향으로 연장된 제1 플레이트; 및
상기 개구부를 사이에 두고 상기 제1 부분으로부터 이격된 상기 그래버 본체의 제2 부분으로부터 상기 피처리체 방향으로 연장된 제2 플레이트
를 더 포함하며, 상기 제1 플레이트의 단부 및 상기 제2 플레이트의 단부는 상기 슬릿을 형성하는 레이저 처리 장치.The method of claim 1,
The particle grabber
A grabber body including the opening;
A first plate extending from a first portion of the grabber body toward the object to be processed; And
And a second plate extending from the second portion of the grabber main body away from the first portion in the direction of the subject with the opening interposed therebetween.
Wherein an end of the first plate and an end of the second plate form the slit.
상기 제1 플레이트 및 상기 제2 플레이트 중 적어도 하나는 상기 개구부의 적어도 일부를 커버하는 경사면을 포함하는 레이저 처리 장치.3. The method of claim 2,
Wherein at least one of the first plate and the second plate includes an inclined surface covering at least a part of the opening.
상기 파티클 그래버는,
상기 그래버 본체의 상기 제1 부분과 상기 개구부 사이에 위치하는 상기 그래버 본체의 제3 부분으로부터 상기 슬릿 방향으로 연장된 제3 플레이트; 및
상기 그래버 본체의 상기 제2 부분과 상기 개구부 사이에 위치하는 상기 그래버 본체의 제4 부분으로부터 상기 슬릿 방향으로 연장된 제4 플레이트
를 더 포함하는 레이저 처리 장치.3. The method of claim 2,
The particle grabber
A third plate extending in the slit direction from a third portion of the grabber body positioned between the first portion of the grabber body and the opening; And
A fourth plate extending from the fourth portion of the grabber body between the second portion of the grabber body and the opening and extending in the slit direction;
Further comprising:
상기 그래버 본체는 상기 제1 플레이트 및 상기 제2 플레이트를 둘러싸는 격벽부를 더 포함하는 레이저 처리 장치.3. The method of claim 2,
Wherein the grabber body further comprises a partition wall portion surrounding the first plate and the second plate.
상기 파티클 그래버는,
상기 그래버 본체의 상기 제1 부분과 상기 격벽부 사이에 위치하는 상기 그래버 본체의 제5 부분으로부터 상기 피처리체 방향으로 연장된 제5 플레이트; 및
상기 그래버 본체의 상기 제2 부분과 상기 격벽부 사이에 위치하는 상기 그래버 본체의 제6 부분으로부터 상기 피처리체 방향으로 연장된 제6 플레이트
를 더 포함하는 레이저 처리 장치.The method of claim 5,
The particle grabber
A fifth plate extending in the direction from the fifth portion of the grabber main body, which is located between the first portion of the grabber main body and the partition wall portion, toward the subject; And
And a sixth plate extending from the sixth portion of the grabber main body, which is located between the second portion of the grabber main body and the partition wall portion,
Further comprising:
상기 슬릿은 상기 피처리체의 표면에 대해 수직 방향으로 상기 개구부와 비중첩하는 레이저 처리 장치.The method of claim 1,
Wherein the slit is non-overlapping with the opening in a direction perpendicular to the surface of the object to be processed.
상기 레이저 빔은 상기 피처리체의 상기 표면에 대해 경사진 방향으로 조사되는 레이저 처리 장치.8. The method of claim 7,
Wherein the laser beam is irradiated in an inclined direction with respect to the surface of the object to be processed.
상기 챔버 내부에서 상기 투과부와 상기 파티클 그래버 사이에 위치하는 윈도우를 더 포함하는 레이저 처리 장치.The method of claim 1,
And a window positioned between the transmissive portion and the particle grabber within the chamber.
상기 파티클 그래버는 금속을 포함하는 레이저 처리 장치.The method of claim 1,
Wherein the particle grabber comprises a metal.
상기 파티클 그래버와 연결된 냉각 유닛을 더 포함하는 레이저 처리 장치.The method of claim 1,
And a cooling unit coupled to the particle grabber.
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