KR20170101647A - Shield device of electromagnetic interference and method of fabricating the same - Google Patents

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Abstract

The present invention relates to an electromagnetic wave shielding apparatus including a molding member for shielding an electromagnetic wave, and a manufacturing method thereof. The electromagnetic wave shielding apparatus according to an embodiment of the present invention comprises: a molding member surrounding at least one electronic component mounted on a substrate; and a shielding member including a first conductive film, a second conductive film, a third conductive film, and a fourth conductive film, which are sequentially stacked to surround the molding member, wherein the first conductive film is thinner than the second conductive film.

Description

전자파 차폐 장치 및 이의 제조 방법{SHIELD DEVICE OF ELECTROMAGNETIC INTERFERENCE AND METHOD OF FABRICATING THE SAME}TECHNICAL FIELD [0001] The present invention relates to an electromagnetic wave shielding device and a method of manufacturing the same,

실시 예는 전자파 차폐 장치에 관한 것이다.An embodiment relates to an electromagnetic wave shielding apparatus.

현재 널리 사용되는 휴대폰, PDA(Personal Digital Assistant), 스마트폰과 같은 이동 통신 단말기, 통신 장비, 각종 미디어 플레이어 등에는 다수의 전자 소자가 내장되어 기능되고, 전자 소자는 인쇄 회로 기판(Printed Circuit Board; PCB) 상에서 집적 모듈을 이루어 구성되는 것이 일반적이다.2. Description of the Related Art A large number of electronic devices are incorporated and functioned in widely used mobile communication terminals, PDAs (Personal Digital Assistants), mobile communication terminals such as smart phones, communication equipment, and various media players, and electronic devices include a printed circuit board PCB). ≪ / RTI >

특히, RF(Radio Frequency) 집적 모듈은 전자파 간섭에 노출되고 전자파 간섭에 의해 집적 모듈을 이루는 전자 소자에 이상 기능이 유발된다. 이러한 전자파 간섭은 EMI(Electromagnetic Interference)라고 불리며, 전자 소자로부터 불필요하게 방사(Radiated Emission; RE)되거나 전도(Conducted Emission; CE)되어 인접된 전자 소자의 기능에 영향을 준다. 이에 따라, 회로 기능이 저하되어 기기의 오동작이 발생한다.In particular, an RF (Radio Frequency) integrated module is exposed to electromagnetic interference and an abnormal function is caused in an electronic device constituting an integrated module by electromagnetic interference. Such electromagnetic interference is called EMI (Electromagnetic Interference), and is unnecessarily Radiated Emission (RE) or Conducted Emission (CE) from an electronic device, thereby affecting the function of an adjacent electronic device. As a result, the circuit function is deteriorated and malfunction of the device occurs.

일반적으로, CE(전도 방출)는 주로 30MHz 이하에서 발생되는 전자파 잡음으로서, 신호선 또는 전원선 같은 매질을 통해서 전달된다. 그리고, RE(방사 방출)는 주로 30MHz 이상에서 발생되는 전자파 잡음으로서, 대기중으로 방사되어 전달되어 CE보다 넓은 방사 범위를 갖는다.Generally, CE (conduction emission) is an electromagnetic noise generated mainly at 30MHz or less, and is transmitted through a medium such as a signal line or a power line. RE (radiated emission) is an electromagnetic noise generated mainly at 30 MHz or more, and is radiated to the atmosphere, and has a wider radiation range than CE.

상기와 같은 문제점을 해소하기 위하여, 전자파 차단을 위한 금속 캔(metal can)이 사용될 수 있다. 그런데, 금속 캔은 기판 상에 실장된 복수 개의 전자 소자를 개별적으로 덮는 것으로, 금속 캔의 높이, 금속 캔의 재질 및 금속 캔의 두께까지 고려해야 하므로, 다양한 모듈에 적용하기 어렵다. 더욱이, 금속 캔과 인쇄 회로 기판의 틈에 의해 완전한 전자파 차단이 어려운 문제가 있다.In order to solve the above-described problems, a metal can for shielding electromagnetic waves can be used. However, the metal can covers a plurality of electronic elements mounted on the substrate individually, and it is difficult to apply it to various modules because the height of the metal can, the material of the metal can, and the thickness of the metal can must be considered. Furthermore, there is a problem that complete electromagnetic wave shielding is difficult due to the gap between the metal can and the printed circuit board.

실시 예는 전자파 차단을 위한 몰딩 부재를 포함하는 전자파 차폐 장치 및 이의 제조 방법을 제공한다.An embodiment provides an electromagnetic wave shielding apparatus including a molding member for electromagnetic wave shielding and a method of manufacturing the same.

실시 예의 전자파 차폐 장치는 기판 상에 실장된 적어도 하나의 전자 소자를 감싸는 몰딩 부재; 및 상기 몰딩 부재를 감싸도록 차례로 적층된 제 1 도전막, 제 2 도전막, 제 3 도전막 및 제 4 도전막을 포함하는 차폐 부재를 포함하며, 상기 제 1 도전막의 두께가 상기 제 2 도전막보다 얇다.The electromagnetic shielding apparatus of the embodiment includes: a molding member for enclosing at least one electronic element mounted on a substrate; And a shielding member including a first conductive film, a second conductive film, a third conductive film, and a fourth conductive film stacked in order to surround the molding member, wherein the thickness of the first conductive film is larger than that of the second conductive film thin.

실시 예의 전자파 차폐 장치 및 이의 제조 방법은 다음과 같은 효과가 있다.The electromagnetic wave shielding apparatus of the embodiment and its manufacturing method have the following effects.

첫째, 전자파 차폐 장치의 몰딩 부재와 직접 밀착되는 제 1 도전막이 제 3 도전막의 시드층(seed layer)인 제 2 도전막보다 얇아, 차폐 부재와 몰딩 부재의 밀착력이 향상된다.First, the first conductive film which is in direct contact with the molding member of the electromagnetic wave shielding device is thinner than the second conductive film which is a seed layer of the third conductive film, so that the adhesion between the shielding member and the molding member is improved.

둘째, 차폐 부재가 기판의 적어도 일 측면까지 감싸도록 형성되어, 기판 상에 실장된 전자 소자가 기판, 몰딩 부재 및 차폐 부재에 의해 완전히 밀봉된다. 따라서, 전자파 차폐 기능이 향상될 수 있다.Secondly, the shielding member is formed so as to cover at least one side of the substrate, so that the electronic element mounted on the substrate is completely sealed by the substrate, the molding member and the shielding member. Therefore, the electromagnetic wave shielding function can be improved.

도 1은 본 발명 실시 예의 전자파 차폐 장치의 단면도이다.
도 2는 몰딩 부재에 블리스터(blister)가 발생한 사진이다.
도 3은 본 발명의 다른 실시 예의 전자파 차폐 장치의 단면도이다.
도 4는 본 발명의 전자파 차폐를 나타낸 그래프이다.
도 5a 내지 도 5f는 본 발명 실시 예의 전자파 차폐 장치의 제조 방법을 나타낸 단면도이다.
1 is a cross-sectional view of an electromagnetic wave shielding apparatus according to an embodiment of the present invention.
2 is a photograph showing a blister formed on the molding member.
3 is a cross-sectional view of an electromagnetic wave shielding apparatus according to another embodiment of the present invention.
4 is a graph showing the electromagnetic wave shielding of the present invention.
5A to 5F are cross-sectional views illustrating a method of manufacturing an electromagnetic wave shielding apparatus according to an embodiment of the present invention.

본 발명은 다양한 변경을 가할 수 있고 여러 가지 실시 예를 가질 수 있는 바, 특정 실시 예를 도면에 예시하고 설명하고자 한다. 그러나, 이는 본 발명 실시 예를 특정한 실시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 실시 예의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변경, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다.While the invention is susceptible to various modifications and alternative forms, specific embodiments thereof are shown by way of example in the drawings and will herein be described in detail. It should be understood, however, that the embodiments of the present invention are not intended to be limited to the specific embodiments but include all modifications, equivalents, and alternatives falling within the spirit and scope of the embodiments.

제 1, 제 2 등과 같이 서수를 포함하는 용어는 다양한 구성 요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성 요소들은 상기 용어들에 의해 한정되지는 않는다. 상기 용어들은 하나의 구성 요소를 다른 구성 요소로부터 구별하는 목적으로 사용된다. 예를 들어, 실시 예의 권리 범위를 벗어나지 않으면서 제 2 구성 요소는 제 1 구성 요소로 명명될 수 있고, 유사하게 제 1 구성 요소도 제 2 구성 요소로 명명될 수 있다. 및/또는 이라는 용어는 복수의 관련된 기재된 항목들의 조합 또는 복수의 관련된 기재된 항목들 중의 어느 항목을 포함한다.Terms including ordinals, such as first, second, etc., may be used to describe various elements, but the elements are not limited to these terms. The terms are used for the purpose of distinguishing one component from another. For example, without departing from the scope of the embodiments, the second component may be referred to as a first component, and similarly, the first component may also be referred to as a second component. And / or < / RTI > includes any combination of a plurality of related listed items or any of a plurality of related listed items.

어떤 구성 요소가 다른 구성 요소에 "연결되어" 있다거나 "접속되어" 있다고 언급된 때에는, 그 다른 구성 요소에 직접적으로 연결되어 있거나 또는 접속되어 있을 수도 있지만, 중간에 다른 구성 요소가 존재할 수도 있다고 이해되어야 할 것이다. 반면에, 어떤 구성 요소가 다른 구성 요소에 "직접 연결되어" 있다거나 "직접 접속되어" 있다고 언급된 때에는, 중간에 다른 구성 요소가 존재하지 않는 것으로 이해되어야 할 것이다.It is to be understood that when an element is referred to as being "connected" or "connected" to another element, it may be directly connected or connected to the other element, . On the other hand, when an element is referred to as being "directly connected" or "directly connected" to another element, it should be understood that there are no other elements in between.

본 출원에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시 예를 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 발명 실시 예를 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 출원에서, "포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 명세서상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성 요소, 부품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성 요소, 부품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.The terminology used herein is for the purpose of describing particular embodiments only and is not intended to limit the embodiments of the invention. The singular expressions include plural expressions unless the context clearly dictates otherwise. In the present application, the terms "comprises" or "having" and the like are used to specify that there is a feature, a number, a step, an operation, an element, a component or a combination thereof described in the specification, But do not preclude the presence or addition of one or more other features, integers, steps, operations, elements, components, or combinations thereof.

실시 예의 설명에 있어서, 어느 한 구성 요소가 다른 구성 요소의 "상(위) 또는 하(아래)(on or under)"에 형성되는 것으로 기재되는 경우에 있어, 상(위) 또는 하(아래)(on or under)는 두 개의 구성 요소가 서로 직접(directly)접촉되거나 하나 이상의 다른 구성 요소가 상기 두 구성 요소 사이에 배치되어(indirectly) 형성되는 것을 모두 포함한다. 또한 "상(위) 또는 하(아래)(on or under)"으로 표현되는 경우 하나의 구성 요소를 기준으로 위쪽 방향뿐만 아니라 아래쪽 방향의 의미도 포함할 수 있다.In the description of the embodiments, when an element is described as being formed "on or under" another element, the upper or lower (lower) (on or under) all include that the two components are in direct contact with each other or that one or more other components are indirectly formed between the two components. Also, when expressed as "on or under", it may include not only an upward direction but also a downward direction with respect to one component.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 실시 예를 상세히 설명하되, 도면 부호에 관계없이 동일하거나 대응하는 구성 요소는 동일한 참조 번호를 부여하고 이에 대한 중복되는 설명은 생략하기로 한다.Hereinafter, embodiments will be described in detail with reference to the accompanying drawings, wherein like or corresponding elements are denoted by the same reference numerals, and redundant description thereof will be omitted.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명 실시 예의 전자파 차폐 장치를 상세히 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, an electromagnetic wave shielding apparatus according to an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 1은 본 발명 실시 예의 전자파 차폐 장치의 단면도이다.1 is a cross-sectional view of an electromagnetic wave shielding apparatus according to an embodiment of the present invention.

도 1과 같이, 본 발명 실시 예의 전자파 차폐 장치는 몰딩 부재(15) 및 몰딩 부재(15)를 감싸도록 차례로 적층된 제 1 도전막(20a), 제 2 도전막(20b), 제 3 도전막(20c) 및 제 4 도전막(20d)을 포함하는 차폐 부재(20)를 포함하며, 전자파 차폐 장치는 기판(10)에 실장된 전자 소자(10a, 10b)를 완전히 감싸도록 배치될 수 있다. 특히, 전자파 차폐 장치는 복수 개의 전자 소자(10a, 10b)를 한번에 감싸는 구조이다.1, the electromagnetic wave shielding apparatus of the embodiment of the present invention includes a first conductive film 20a, a second conductive film 20b, a third conductive film 20b, and a third conductive film 20b, which are sequentially stacked so as to surround the molding member 15 and the molding member 15, A shielding member 20 including a first conductive layer 20c and a fourth conductive layer 20d and the electromagnetic shielding device may be disposed to completely enclose the electronic elements 10a and 10b mounted on the substrate 10. [ Particularly, the electromagnetic wave shielding device is a structure that encloses a plurality of electronic elements 10a and 10b at a time.

기판(10)은 배선 등을 포함하는 전자 회로가 형성된 PCB(Printed Circuit Board), LTCC(Low temperature co-fired ceramic) 등에서 선택될 수 있으며, 이에 한정하지 않는다. LTCC는 800℃ 내지 1000℃의 온도에서 세라믹과 금속의 동시 소성 방법을 이용하여 형성된 것으로, 녹는점이 낮은 글라스(glass)와 세라믹(ceramic)이 혼합된 구조의 그린 시트(Green sheet) 상에 은, 동과 같은 도전성 페이스트를 인쇄하여 형성될 수 있다. 상기와 같은 LTCC는 커패시터(Capacitor), 저항(Resistor), 인덕터(Inductor) 등과 같은 수동 소자가 형성되어 고집적화, 경박단소화가 가능하다.The substrate 10 may be selected from a PCB (Printed Circuit Board), an LTCC (Low Temperature Co-fired ceramic), and the like, on which electronic circuits including wiring and the like are formed. The LTCC is formed by using a method of co-firing ceramic and metal at a temperature of 800 ° C to 1000 ° C. A green sheet having a structure in which a glass having low melting point and a ceramic are mixed is coated with silver, And can be formed by printing a conductive paste such as copper. In the LTCC as described above, a passive element such as a capacitor, a resistor, an inductor, or the like is formed, which enables high integration and slimness reduction.

상기와 같은 기판(10) 상에 실장된 전자 소자(10a, 10b)는 기판(10)에 형성된 배선과 연결되어 구동될 수 있다.The electronic devices 10a and 10b mounted on the substrate 10 may be connected to wirings formed on the substrate 10 and driven.

기판(10) 상에는 복수 개의 전자 소자(10a, 10b)가 실장되어 집적 모듈을 구성하며, 특히, 추적 시스템 장치, 전압 제어 발진기, 광통신용 송수신 장치 등에 사용되는 무선 주파수(Radio Frequency; RF) 집적 모듈은 심한 전파 간섭에 노출된다. 이러한 전파 간섭은 집적 모듈을 이루는 전자 소자(10a, 10b)의 전자파 간섭(Electromagnetic Interference; EMI)을 발생시킨다. 그리고, 이에 따라 기판(10)의 회로 기능이 저하되거나 장치의 오동작이 발생하여 신뢰성이 저하된다.A plurality of electronic devices 10a and 10b are mounted on the substrate 10 to form an integrated module and a radio frequency integrated module (hereinafter, referred to as " RF ") integrated module used for a tracking system device, a voltage controlled oscillator, Are exposed to severe radio interference. Such electromagnetic interference generates electromagnetic interference (EMI) of the electronic devices 10a and 10b constituting the integrated module. Thus, the circuit function of the substrate 10 may be deteriorated or malfunction of the apparatus may occur and reliability may be deteriorated.

따라서, 본 발명과 같은 전자파 차폐 장치로 전자 소자(10a, 10b)를 감싸 전자파 간섭을 방지할 수 있다. 전자파 차폐 장치는 몰딩 부재(15)와 차폐 부재(20)를 포함할 수 있다.Therefore, the electromagnetic wave shielding apparatus according to the present invention can surround the electronic devices 10a and 10b to prevent electromagnetic interference. The electromagnetic wave shielding device may include a molding member 15 and a shielding member 20.

몰딩 부재(15)는 전자 소자(10a, 10b)를 외부의 충격으로부터 보호하고, 전자 소자(10a, 10b)와 기판(1)이 고정된 본딩 영역의 단락을 방지할 수 있다. 상기와 같은 몰딩 부재(15)는 복수 개의 전자 소자(10a, 10b)를 완전히 감싸도록 형성될 수 있다. 몰딩 부재(15)는 안테나를 제외한 기판(10) 전면에 형성될 수 있다The molding member 15 protects the electronic devices 10a and 10b from external impact and can prevent a short circuit of the electronic devices 10a and 10b and the bonding region to which the substrate 1 is fixed. The molding member 15 may be formed to completely enclose the plurality of electronic devices 10a and 10b. The molding member 15 may be formed on the entire surface of the substrate 10 except for the antenna

몰딩 부재(15)는 에폭시, 실리콘과 같은 합성수지 재질을 포함할 수 있으며, 예를 들어, 몰딩 부재(15)는 에폭시 몰딩 컴파운드(Epoxy Molding Compound; EMC)일 수 있다. 몰딩 부재(15)의 물질은 이에 한정하지 않는다. 몰딩 부재(15)는 댐&필(Dam&Fill) 몰딩 방식, 트랜스퍼(Transfer) 몰딩 방식 등으로 형성될 수 있다.The molding member 15 may include a synthetic resin material such as epoxy or silicone. For example, the molding member 15 may be an epoxy molding compound (EMC). The material of the molding member 15 is not limited thereto. The molding member 15 may be formed by a dam & fill molding method, a transfer molding method, or the like.

몰딩 부재(15)의 상부면은 요철 패턴(15a)을 포함하여 이루어져, 차폐 부재(20)와 몰딩 부재(15)의 결합력 및 고정력을 향상시킬 수 있다. 요철 패턴(15a)은 이온 빔(Ion beam), 플라즈마(Plasma) 등을 이용하는 몰딩 부재(15)의 표면 처리를 통해 형성될 수 있으며, 이에 한정하지 않는다.The upper surface of the molding member 15 includes the uneven pattern 15a to improve the bonding force and the fixing force between the shield member 20 and the molding member 15. [ The concavo-convex pattern 15a may be formed through a surface treatment of the molding member 15 using an ion beam, a plasma or the like, but is not limited thereto.

요철 패턴(15a)의 평균 거칠기(Roughness average; Ra)는 5㎛ 이하인 것이 바람직하다. 이는, 요철 패턴(15a)의 평균 거칠기가 너무 크면 몰딩 부재(15)가 전자 소자(10a, 10b)를 부분적으로 노출시킬 수 있으므로, 이를 방지하기 몰딩 부재(15)의 두께가 매우 두꺼워야 한다. 즉, 전자파 차폐 장치의 두께가 증가하여 전자파 차폐 장치의 박형화가 어렵다.The roughness average (Ra) of the uneven pattern 15a is preferably 5 占 퐉 or less. This is because the molding member 15 may partially expose the electronic devices 10a and 10b if the average roughness of the uneven pattern 15a is too large. To prevent this, the molding member 15 should have a very thick thickness. That is, since the thickness of the electromagnetic wave shielding apparatus is increased, it is difficult to reduce the thickness of the electromagnetic wave shielding apparatus.

차폐 부재(20)는 제 1, 제 2, 제 3 및 제 4 도전막(20a, 20b, 20c, 20d)을 포함하며, 제 1, 제 2, 제 3 및 제 4 도전막(20a, 20b, 20c, 20d)이 차례로 몰딩 부재(15)를 감싸는 구조일 수 있다. 이 때, 제 1, 제 2 도전막(20a, 20b)은 요철 패턴(15a)을 따라 형성될 수 있다.The shielding member 20 includes first, second, third and fourth conductive films 20a, 20b, 20c and 20d, and the first, second, third and fourth conductive films 20a, 20b, 20c, and 20d may in turn enclose the molding member 15. At this time, the first and second conductive films 20a and 20b may be formed along the uneven pattern 15a.

제 1 도전막(20a)은 차폐 부재(20)와 몰딩 부재(15)의 결합력을 향상시키기 위한 것으로, 제 1 도전막(20a)과 차폐 부재(20)가 직접 밀착된다. 제 1 도전막(20a)은 스퍼터링(sputtering) 방식으로 형성될 수 있으며, 몰딩 부재(15)의 측면에도 형성되도록 원통형의 스퍼터 장치를 이용하여 형성될 수 있다. 이 때, 제 1 도전막(20a)의 두께(d1)는 제 2 도전막(20b)의 두께(d2)보다 얇다.The first conductive layer 20a is provided to improve the bonding force between the shielding member 20 and the molding member 15. The first conductive layer 20a and the shielding member 20 are in direct contact with each other. The first conductive layer 20a may be formed by a sputtering method or may be formed using a cylindrical sputtering apparatus so as to be formed on a side surface of the molding member 15. [ At this time, the thickness d1 of the first conductive film 20a is thinner than the thickness d2 of the second conductive film 20b.

제 2 도전막(20b)은 스퍼터링(sputtering) 방식, 무전해 도금(electroless plating) 방식 등으로 형성될 수 있다. 제 2 도전막(20b)을 스퍼터링(sputtering) 방식으로 형성하는 경우, 상술한 바와 같이 원통형의 스퍼터 장치를 이용하면 제 1 도전막(20a) 전면에 제 2 도전막(20b)을 형성할 수 있다. The second conductive layer 20b may be formed by a sputtering method, an electroless plating method, or the like. When the second conductive film 20b is formed by a sputtering method, the second conductive film 20b may be formed on the entire surface of the first conductive film 20a by using a cylindrical sputtering apparatus as described above .

일반적으로, 제 2 도전막(20b)은 제 3 도전막(20c)을 형성하기 위한 시드층(seed layer)로 기능한다. 따라서, 제 2 도전막(20b) 상에 제 3 도전막(20c)을 충분한 두께로 형성하고 동시에 제 3 도전막(20c)의 막 특성이 저하되는 것을 방지하기 위해, 제 2 도전막(20b)의 두께(d2)를 감소시키는데 한계가 있다.In general, the second conductive layer 20b functions as a seed layer for forming the third conductive layer 20c. Therefore, in order to form the third conductive film 20c to a sufficient thickness on the second conductive film 20b and prevent the film characteristic of the third conductive film 20c from being degraded, the second conductive film 20b is formed, There is a limit in reducing the thickness (d2)

그런데, 제 2 도전막(20b)이 몰딩 부재(15)와 직접 밀착되는 경우, 제 2 도전막(20b)의 두께(d2)에 의해 몰딩 부재(15)의 밀착력이 저하될 수 있다. 이 경우, 전자 소자(10a, 10b)와 기판(10)의 배선(미도시)의 전기적 연결을 위한 리플로우(reflow) 공정 시, 제 2 도전막(20b)과 몰딩 부재(15) 사이의 계면이 들뜨는 문제가 발생할 수 있다.However, when the second conductive film 20b is in direct contact with the molding member 15, the adhesion of the molding member 15 may be reduced due to the thickness d2 of the second conductive film 20b. In this case, during the reflow process for electrical connection between the electronic elements 10a and 10b and the wiring (not shown) of the substrate 10, the interface between the second conductive film 20b and the molding member 15 This can cause problems.

도 2는 몰딩 부재에 블리스터(blister)가 발생한 사진이다.2 is a photograph showing a blister formed on the molding member.

약 260°에서 리플로우(reflow) 공정 시, 몰딩 부재(15)와 차폐 부재(20)의 계면이 들떠, 도 2와 같이 몰딩 부재(15) 표면에 블리스터(blister)가 발생할 수 있다. 그리고, 이에 따라 전자파 차폐 기능이 저하될 수 있다.The interface between the molding member 15 and the shielding member 20 is extinguished at a reflow process at about 260 ° and a blister may be generated on the surface of the molding member 15 as shown in FIG. In this way, the electromagnetic wave shielding function can be deteriorated.

반면에, 본 발명은 몰딩 부재(15)와 제 2 도전막(20b) 사이에 제 2 도전막(20b)의 두께(d2)보다 얇은 두께(d1)의 제 1 도전막(20a)을 배치하여, 차폐 부재(20)와 몰딩 부재(15)의 밀착력이 향상될 수 있다. 더욱이, 얇은 두께(d1)의 제 1 도전막(20a)이 몰딩 부재(15)의 요철 패턴(15a)을 따라 균일하게 형성될 수 있다. 이에 따라, 차폐 부재(20)와 몰딩 부재(15)는 요철 패턴(15a)을 통해 밀착되는 영역이 증가하여 결합력이 더욱 향상될 수 있다.On the other hand, in the present invention, the first conductive film 20a having a thickness d1 thinner than the thickness d2 of the second conductive film 20b is disposed between the molding member 15 and the second conductive film 20b , The adhesion between the shielding member 20 and the molding member 15 can be improved. Furthermore, the first conductive film 20a having a small thickness d1 can be uniformly formed along the concave-convex pattern 15a of the molding member 15. [ Accordingly, the area of the shielding member 20 and the molding member 15 which are in close contact with each other through the uneven pattern 15a increases, so that the bonding force can be further improved.

더욱이, 제 1 도전막(20a)이 제 2 도전막(20b)의 시드층(seed layer)으로 기능함으로써, 제 2 도전막(20b)의 표면 에너지(anchoring energy)가 향상될 수 있다. 따라서, 제 2 도전막(20b) 상에 균일하게 제 3 도전막(20c)이 형성될 수 있다.Furthermore, the first conductive layer 20a functions as a seed layer of the second conductive layer 20b, so that the anchoring energy of the second conductive layer 20b can be improved. Therefore, the third conductive film 20c can be uniformly formed on the second conductive film 20b.

제 1 도전막(20a)은 니켈(Ni), 니켈 크롬(NiCr) 등을 포함할 수 있으며, 제 2 도전막(20b)은 구리(Cu)를 포함할 수 있다. 이 때, 제 1, 제 2 도전막(20a, 20b)의 물질은 이에 한정하지 않는다. 또한, 상기와 같이 제 1 도전막(20a)을 니켈(Ni), 니켈 크롬(NiCr)으로 형성하는 경우, 제 1 도전막(20a)의 두께(d1)는 0.1㎛ 내지 0.5㎛ 일 수 있으며, 제 2 도전막(20b)을 구리로 형성하는 경우, 제 2 도전막(20b)의 두께(d2)는 0.6㎛ 내지 1㎛일 수 있다.The first conductive layer 20a may include nickel (Ni), nickel chrome (NiCr), and the second conductive layer 20b may include copper (Cu). In this case, the materials of the first and second conductive films 20a and 20b are not limited thereto. When the first conductive layer 20a is formed of nickel (Ni) or nickel chromium (NiCr) as described above, the thickness d1 of the first conductive layer 20a may be in the range of 0.1 탆 to 0.5 탆, When the second conductive film 20b is formed of copper, the thickness d2 of the second conductive film 20b may be 0.6 탆 to 1 탆.

제 3 도전막(20c)은 제 1, 제 2 도전막(20a, 20b)보다 두꺼운 두께를 가져, 전자 소자(10a, 10b)에서 발생하는 전자파를 실질적으로 차단할 수 있다. 제 3 도전막(20c)은 전기 도금(Electro plating) 방법을 이용하여 제 2 도전막(20b) 표면에 형성될 수 있으며, 제 3 도전막(20c)은 구리(Cu)를 포함할 수 있다.The third conductive film 20c has a thickness larger than that of the first and second conductive films 20a and 20b and can substantially block electromagnetic waves generated in the electronic devices 10a and 10b. The third conductive layer 20c may be formed on the surface of the second conductive layer 20b by using an electroplating method and the third conductive layer 20c may include copper.

제 3 도전막(20c)은 후술할 제 4 도전막(20d)의 표면이 평탄하도록 몰딩 부재(15)의 요철 패턴(15a)을 덮도록 형성될 수 있다. 이를 위해, 제 3 도전막(20c) 제 1, 제 2 도전막(20a, 20b)보다 두꺼운 두께를 가질 수 있다.The third conductive film 20c may be formed to cover the concave-convex pattern 15a of the molding member 15 so that the surface of the fourth conductive film 20d, which will be described later, is flat. For this, the third conductive film 20c may have a thickness greater than that of the first and second conductive films 20a and 20b.

예를 들어, 제 3 도전막(20c)의 두께가 너무 얇은 경우, 제 3 도전막(20c)에 의한 전자파 차폐 기능이 저하되며, 제 3 도전막(20c)의 두께가 너무 두꺼운 경우 공정 시간이 늘어나며 전자파 차폐 장치의 부피가 커져 모듈의 크기가 커질 수 있다. 따라서, 제 3 도전막(20c)의 두께는 2.5㎛ 내지 2.8㎛일 수 있다.For example, when the thickness of the third conductive film 20c is too small, the electromagnetic wave shielding function of the third conductive film 20c is lowered. If the thickness of the third conductive film 20c is too thick, The volume of the electromagnetic shielding device is increased and the size of the module can be increased. Therefore, the thickness of the third conductive film 20c may be 2.5 占 퐉 to 2.8 占 퐉.

제 4 도전막(20d)은 전기 도금(Electro plating) 방법을 이용하여 형성될 수 있다. 제 4 도전막(20d)은 차폐 부재(20)의 최 외곽에 형성되어 차폐 부재(20)의 변색이나 산화를 방지할 수 있다. 이를 위해, 제 4 도전막(20d)은 반응성이 낮은 안정된 금속으로 형성될 수 있으며, 예를 들어, 제 4 도전막(20d)은 내식성(corrosion resistance)이 높은 니켈(Ni)을 포함할 수 있다. 제 4 도전막(20d)의 두께는 0.6㎛ 내지 1㎛일 수 있으며, 이에 한정하지 않는다.The fourth conductive layer 20d may be formed using an electroplating method. The fourth conductive film 20d may be formed at the outermost portion of the shielding member 20 to prevent discoloration and oxidation of the shielding member 20. [ For this purpose, the fourth conductive layer 20d may be formed of a stable metal having a low reactivity. For example, the fourth conductive layer 20d may include nickel (Ni) having a high corrosion resistance . The thickness of the fourth conductive film 20d may be 0.6 탆 to 1 탆, but is not limited thereto.

상기와 같은 본 발명 실시 예의 전자파 차폐 장치는 몰딩 부재(15)와 차폐 부재(20)의 밀착력이 향상될 수 있다. 이 때, 복수 개의 전자 소자(10a, 10b)를 감싸도록 전자파 차폐 장치가 일체형으로 형성되며, 몰딩 부재(15) 및 차폐 부재(20)는 전자 소자(10a, 10b)의 전파를 방사시키는 안테나와 같은 송신부를 제외한 기판(10) 전면을 감싸도록 형성될 수 있다. 더욱이, 차폐 부재(20)는 송신부는 노출시키며, 기판(10)의 적어도 일 측면까지 감싸도록 형성되며, 전자 소자(10a, 10b)가 기판(10), 몰딩 부재(15) 및 차폐 부재(20)에 의해 완전히 밀봉된 구조일 수 있다.In the electromagnetic wave shielding apparatus of the present invention as described above, the adhesion between the molding member 15 and the shielding member 20 can be improved. The molding member 15 and the shielding member 20 are integrally formed with an antenna for radiating radio waves of the electronic devices 10a and 10b, It may be formed so as to surround the entire surface of the substrate 10 except for the same transmitting portion. The shielding member 20 exposes the transmitting portion and is formed to cover at least one side of the substrate 10 so that the electronic elements 10a and 10b are connected to the substrate 10, the molding member 15 and the shielding member 20 ). ≪ / RTI >

도 3은 본 발명의 다른 실시 예의 전자파 차폐 장치의 단면도이다.3 is a cross-sectional view of an electromagnetic wave shielding apparatus according to another embodiment of the present invention.

도 3과 같이, 요철 패턴(15a)은 몰딩 부재(15)의 상부면 뿐만 아니라 몰딩 부재(15)의 측면에도 형성될 수 있다. 이 경우, 제 1, 제 2 도전막(20a, 20b) 역시 상부면과 측면이 요철 패턴(15a)을 따라 형성됨으로써, 몰딩 부재(15)와 차폐 부재(20)의 밀착되는 영역이 더욱 증가하여 결합력이 더욱 향상될 수 있다.As shown in Fig. 3, the uneven pattern 15a may be formed not only on the upper surface of the molding member 15, but also on the side surface of the molding member 15 as well. In this case, since the first and second conductive films 20a and 20b are also formed along the concavo-convex pattern 15a on the upper surface and the side surface, the area where the molding member 15 and the shield member 20 are closely contacted further increases The bonding force can be further improved.

도 4는 본 발명의 전자파 차폐를 나타낸 그래프이다.4 is a graph showing the electromagnetic wave shielding of the present invention.

도 4와 같이, 모듈이 전자파 차폐 장치를 포함하지 않은 경우, 모듈은 원 신호를 포함하여 4 개의 픽(peak)을 발생시킨다. 그러나, 전자파 차폐 장치를 구비한 경우, 모듈은 원 신호(1개의 peak)만을 발생시킬 수 있다. 그리고, 1 개의 peak은 상술한 바와 같이 전자파 차폐 장치에 의해 노출된 안테나를 통해 송신될 수 있다.As shown in FIG. 4, when the module does not include the electromagnetic wave shielding device, the module generates four peaks including the original signal. However, when the electromagnetic wave shielding apparatus is provided, the module can generate only the original signal (one peak). And, one peak can be transmitted through the antenna exposed by the electromagnetic wave shielding device as described above.

이하, 본 발명 실시 예의 전자파 차폐 장치의 제조 방법을 구체적으로 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, a method for manufacturing an electromagnetic wave shielding apparatus according to an embodiment of the present invention will be described in detail.

도 5a 내지 도 5f는 본 발명 실시 예의 전자파 차폐 장치의 제조 방법을 나타낸 단면도이다.5A to 5F are cross-sectional views illustrating a method of manufacturing an electromagnetic wave shielding apparatus according to an embodiment of the present invention.

도 5a와 같이, 기판(10) 상에 배치된 전자 소자(10a, 10b)를 감싸도록 기판(10) 상에 몰딩 부재(15)를 형성한다. 도시하지는 않았으나. 몰딩 부재(15)는 모듈의 안테나를 제외한 기판(10) 전면에 형성될 수 있다. 그리고, 도 5b와 같이, 몰딩 부재(15)의 표면에 이온 빔, 플라즈마를 이용하여 요철 패턴(15a)을 형성한다. 도시하지는 않았으나 몰딩 부재(15)의 측면에도 요철 패턴(15a)을 형성할 수 있다.The molding member 15 is formed on the substrate 10 so as to enclose the electronic devices 10a and 10b disposed on the substrate 10 as shown in FIG. Not shown. The molding member 15 may be formed on the entire surface of the substrate 10 except for the antenna of the module. Then, as shown in Fig. 5B, a concave-convex pattern 15a is formed on the surface of the molding member 15 by using an ion beam and plasma. The concave-convex pattern 15a can be formed on the side surface of the molding member 15 though not shown.

도 5c와 같이, 몰딩 부재(15)를 감싸도록 제 1 도전막(20a)을 형성한다. 제 1 도전막(20a)은 스퍼터링(sputtering) 방식으로 형성될 수 있으며, 몰딩 부재(15)의 측면에도 형성되도록 원통형의 스퍼터 장치를 이용하여 형성될 수 있다. 이 때, 제 1 도전막(20a)은 요철 패턴(15a)을 따라 형성될 수 있다.The first conductive layer 20a is formed to surround the molding member 15, as shown in FIG. The first conductive layer 20a may be formed by a sputtering method or may be formed using a cylindrical sputtering apparatus so as to be formed on a side surface of the molding member 15. [ At this time, the first conductive film 20a may be formed along the concave-convex pattern 15a.

도 5d와 같이, 제 1 도전막(20a) 표면에 제 2 도전막(20b)을 형성한다. 제 2 도전막(20b)은 스퍼터링(sputtering) 방식, 무전해 도금(electroless plating) 방식 등으로 형성될 수 있으며, 스퍼터링(sputtering) 방식을 이용하는 경우, 상술한 바와 같이 원통형의 스퍼터 장치를 이용하여 형성될 수 있다. 제 2 도전막(20b) 역시 요철 패턴(15a)을 따라 형성될 수 있다. 이 때, 제 2 도전막(20b)의 두께(d2)는 제 1 도전막(20a)의 두께(d1)보다 두껍다.5D, a second conductive layer 20b is formed on the surface of the first conductive layer 20a. The second conductive layer 20b may be formed by a sputtering method or an electroless plating method. When the sputtering method is used, the second conductive layer 20b may be formed using a cylindrical sputtering apparatus as described above. . The second conductive film 20b may also be formed along the uneven pattern 15a. At this time, the thickness d2 of the second conductive film 20b is thicker than the thickness d1 of the first conductive film 20a.

예를 들어, 제 1 도전막(20a)은 니켈(Ni), 니켈 크롬(NiCr) 등을 포함할 수 있으며, 제 2 도전막(20b)은 구리(Cu)를 포함할 수 있다. 이 때, 제 1, 제 2 도전막(20a, 20b)의 물질은 이에 한정하지 않는다. 또한, 상기와 같이 제 1 도전막(20a)을 니켈(Ni), 니켈 크롬(NiCr)으로 형성하는 경우, 제 1 도전막(20a)의 두께(d1)는 0.1㎛ 내지 0.5㎛일 수 있으며, 제 2 도전막(20b)을 구리로 형성하는 경우, 제 2 도전막(20b)의 두께(d2)는 0.6㎛ 내지 1㎛일 수 있다.For example, the first conductive layer 20a may include nickel (Ni), nickel chromium (NiCr), and the second conductive layer 20b may include copper (Cu). In this case, the materials of the first and second conductive films 20a and 20b are not limited thereto. When the first conductive layer 20a is formed of nickel (Ni) or nickel chromium (NiCr) as described above, the thickness d1 of the first conductive layer 20a may be in the range of 0.1 탆 to 0.5 탆, When the second conductive film 20b is formed of copper, the thickness d2 of the second conductive film 20b may be 0.6 탆 to 1 탆.

도 5e와 같이, 제 2 도전막(20b)을 감싸도록 제 3 도전막(20c)을 형성한다. 제 3 도전막(20c)은 전자 소자(10a, 10b)에서 발생하는 전자파를 실질적으로 차단하는 것으로 전기 도금(Electro plating) 방법을 이용하여 형성될 수 있다.As shown in FIG. 5E, the third conductive layer 20c is formed to surround the second conductive layer 20b. The third conductive film 20c substantially blocks electromagnetic waves generated from the electronic devices 10a and 10b and may be formed using an electroplating method.

그리고, 도 5f와 같이, 제 3 도전막(20c)을 감싸도록 제 4 도전막(20d)을 형성한다. 제 4 도전막(20d)은 전기 도금(Electro plating) 방법을 이용하여 형성될 수 있다. 제 4 도전막(20d)은 차폐 부재(20)의 최 외곽에 형성되어 차폐 부재(20)의 변색이나 산화를 방지할 수 있다.Then, as shown in FIG. 5F, a fourth conductive layer 20d is formed to surround the third conductive layer 20c. The fourth conductive layer 20d may be formed using an electroplating method. The fourth conductive film 20d may be formed at the outermost portion of the shielding member 20 to prevent discoloration and oxidation of the shielding member 20. [

상기와 같이 제 1, 제 2, 제 3 및 제 4 도전막(20a, 20b, 20c, 20d)을 포함하는 차폐 부재(20)는 상술한 바와 같이 안테나는 노출시키며, 기판(10)의 적어도 일 측면까지 감싸도록 형성되며, 전자 소자(10a, 10b)는 기판(10), 몰딩 부재(15) 및 차폐 부재(20)에 의해 완전히 밀봉된 구조일 수 있다.As described above, the shielding member 20 including the first, second, third and fourth conductive films 20a, 20b, 20c and 20d exposes the antenna as described above, And the electronic devices 10a and 10b may be structured to be completely sealed by the substrate 10, the molding member 15, and the shielding member 20.

따라서, 본 발명 실시 예의 전자파 차폐 장치를 포함하는 모듈을 고전력 제품에 적용하더라도 전자파 간섭을 효율적으로 방지할 수 있으며, 차폐 부재(20)와 몰딩 부재(15)의 밀착력이 향상되어 차폐 부재(20)와 몰딩 부재(15)의 계면에서 블리스터(blister)가 발생하는 것을 방지할 수 있다.Therefore, even when the module including the electromagnetic wave shielding device of the embodiment of the present invention is applied to a high-power product, electromagnetic interference can be effectively prevented and adhesion of the shielding member 20 and the molding member 15 is improved, It is possible to prevent a blister from being generated at the interface between the molding member 15 and the molding member 15. [

이상에서 설명한 본 발명은 상술한 실시 예 및 첨부된 도면에 한정되는 것이 아니고, 실시 예의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 여러 가지 치환, 변형 및 변경이 가능하다는 것이 본 발명이 속하는 기술분야에서 종래의 지식을 가진 자에게 있어 명백할 것이다.It will be apparent to those skilled in the art that various modifications and variations can be made in the present invention without departing from the spirit or scope of the inventions. It will be clear to those who have knowledge.

10: 기판 10a, 10b: 전자 소자
15: 몰딩 부재 15a: 요철 패턴
20: 차폐 부재 20a: 제 1 도전막
20b: 제 2 도전막 20c: 제 3 도전막
20d: 제 4 도전막
10: Substrate 10a, 10b: Electronic element
15: molding member 15a: concave / convex pattern
20: shield member 20a: first conductive film
20b: second conductive film 20c: third conductive film
20d: fourth conductive film

Claims (7)

기판 상에 실장된 적어도 하나의 전자 소자를 감싸는 몰딩 부재; 및
상기 몰딩 부재를 감싸도록 차례로 적층된 제 1 도전막, 제 2 도전막, 제 3 도전막 및 제 4 도전막을 포함하는 차폐 부재를 포함하며,
상기 제 1 도전막의 두께가 상기 제 2 도전막보다 얇은 전자파 차폐 장치.
A molding member surrounding at least one electronic component mounted on a substrate; And
And a shielding member including a first conductive film, a second conductive film, a third conductive film, and a fourth conductive film stacked in order to surround the molding member,
And the thickness of the first conductive film is thinner than that of the second conductive film.
제1항에 있어서,
상기 제 1 도전막의 두께는 0.1㎛ 내지 0.5㎛이며, 상기 제 2 도전막의 두께는 0.6㎛ 내지 1㎛인 전자파 차폐 장치.
The method according to claim 1,
Wherein the thickness of the first conductive film is 0.1 占 퐉 to 0.5 占 퐉, and the thickness of the second conductive film is 0.6 占 퐉 to 1 占 퐉.
제1항에 있어서,
상기 제 1 도전막은 니켈 또는 니켈 크롬을 포함하며,
상기 제 2 도전막은 구리를 포함하는 전자파 차폐 장치.
The method according to claim 1,
Wherein the first conductive film comprises nickel or nickel chromium,
And the second conductive film comprises copper.
제1항에 있어서,
상기 몰딩 부재는 적어도 하나 이상의 전자 소자를 모두 감싸는 전자파 차폐 장치.
The method according to claim 1,
Wherein the molding member surrounds all of at least one electronic device.
제1항에 있어서,
상기 몰딩 부재와 상기 차폐 부재의 적어도 일 계면에 형성된 요철 패턴을 포함하는 전자파 차폐 장치.
The method according to claim 1,
And an uneven pattern formed on at least one interface between the molding member and the shielding member.
제5항에 있어서,
상기 몰딩 부재 표면에 상기 요철 패턴이 형성되고, 상기 제 1 도전막 및 상기 제 2 도전막이 상기 요철 패턴을 따라 형성된 전자파 차폐 장치.
6. The method of claim 5,
And the first conductive film and the second conductive film are formed along the concavo-convex pattern on the surface of the molding member.
제1항에 있어서,
상기 차폐 부재는 상기 기판의 적어도 일 측면을 감싸는 전자파 차폐 장치.
The method according to claim 1,
Wherein the shield member surrounds at least one side of the substrate.
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