KR20170095359A - 양이온성 벤족사진 유도체 및 모발 염색에서의 용도 - Google Patents

양이온성 벤족사진 유도체 및 모발 염색에서의 용도 Download PDF

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Abstract

본 발명은 아래의 화학식 (I)의 신규한 양이온성 벤족사진계 화합물에 관련되며,
Figure pct00044
(I)
[식 중, ● R 은 수소 원자 또는 C1-C4 알킬 또는 C1-C4 히드록시알킬 라디칼을 나타내며, ● R2, R3, R4 및 R5 는 하기를 독립적으로 나타내며: - 수소 원자, - 히드록실 라디칼로 임의로 치환된, 선형 C1-C4 또는 분지형 C3-C4 알킬 라디칼, ● L 은 선형 또는 분지형, 포화형 C1-C30 탄화수소계 사슬을 나타내며, ● CAT+ 는 하기로부터 선택된 양이온성 라디칼을 나타내며: - O, N 및 S로부터 선택된 적어도 하나의 헤테로원자를 함유하는 5 내지 8 개 고리 원을 포함하는 양이온성 헤테로고리 라디칼, - 트리(히드록시)(C1-C4)알킬암모늄 라디칼, - 양이온성 라디칼로 치환된, 피롤리딘과 같이, O 및 N으로부터 선택된 적어도 하나의 헤테로원자를 함유하는 5 또는 6 개 고리 원을 포함하는 비-양이온성 헤테로고리, An- 는, 유기 또는 무기이고 화장용으로 허용 가능한 음이온 또는 음이온의 혼합물을 나타냄].

Description

양이온성 벤족사진 유도체 및 모발 염색에서의 용도{CATIONIC BENZOXAZINE DERIVATIVES AND USE IN HAIR DYEING}
본 발명은 신규한 양이온성 벤족사진계 화합물에, 케라틴 섬유를 염색하는 이의 용도에 그리고 또한 이들 화합물을 사용한 염색 방법에 관한 것이다.
오쏘- 또는 파라-페닐렌디아민, 오쏘- 또는 파라-아미노페놀 및 헤테로고리 화합물과 같이, 산화 베이스로서 일반적으로 알려진 산화 염료 전구체들을 포함하는 염료 조성물들로 케라틴 섬유, 특히 인간 모발을 염색하는 것이 알려져 있다. 이들 산화 베이스는, 산화 생성물과 결합되는 경우, 산화 축합의 방법을 통해 유색 화합물을 생기게 할 수도 있는 무색 또는 묽은 색 화합물이다.
이들 산화 베이스로 획득된 색조는 산화 베이스와 커플러 또는 컬러 개질제를 결합함으로써 변할 수도 있다는 것이 또한 알려져 있으며, 커플러 또는 컬러 개질제는 특히 방향족 메타-디아민, 메타-아미노페놀, 메타-디페놀과 인돌 화합물과 같은 특정한 헤테로고리 화합물로부터 선택된다.
산화 베이스 및 커플러로서 사용되는 다양한 분자들은 넓은 범위의 색들이 획득되는 것을 허용한다.
이들 커플러 및 산화 염료에 의하여 획득된 "오래 유지되는" 착색은 더구나 특정한 수의 요건들을 충족해야만 한다. 따라서, 그것은 독물학적 단점들이 없어야 하며, 색조가 원하는 강도로 획득되는 것을 허용해야 하고, 빛, 악천후, 세척, 파마 트리트먼트(permanent waving treatment), 땀흘림 및 문지름과 같은 외부 인자들에 대해 양호한 저항성을 보여주어야 한다.
염료는 회색 모발이 커버되는 것을 또한 허용해야 하고, 마지막으로, 염료는 가능한 한 비선택성이어야 하며, 즉, 염료는 일반적으로 말단 및 모근 사이에서 상이하게 민감화된 (즉, 손상된), 동일한 케라틴 섬유를 따라 색에서 가능한 가장 작은 차이를 생성해야 한다.
본 발명의 목적은 강도 및/또는 색도 및/또는 선택성 및/또는 외부 인자에 대한 저항성의 측면에서 개선된 염색 성질을 제공할 수 있는 모발 염색 화합물을 획득하는 것이다.
놀랍게도 그리고 유리하게는, 출원인은 벤족사진 유도체로 구성되는 새로운 종류의 산화 염료 전구체를 발견하였다. 이들 화합물은 산화 염색에서 넓은 범위의 색을 유도한다. 이는 특히 색 범위를 넓히는 것과, 다양한 색조로 강력한 착색 및 드물게 선택적인 착색을 획득하는 것을 가능하게 하며, 이는 모발이 받을 수 있는 다양한 외부 공격 요인들 (샴푸감기(shampooing), 빛, 땀 또는 파마 재변형) 에 대한 양호한 저항성을 보여준다.
본 발명은 그러므로 아래의 화학식 (I)의 양이온성 벤족사진계 화합물, 이의 부가염, 이의 광학 이성질체, 기하 이성질체 및 호변이성질체 및/또는 이의 용매화물에 관련된다:
Figure pct00001
(I)
[ 화학식 (I) 중,
● R 은 수소 원자 또는 C1-C4 알킬 또는 C1-C4 히드록시알킬 라디칼을 나타내며; 바람직하게는, R 은 수소 원자를 나타내며,
● R2, R3, R4 및 R5 는:
- 수소 원자,
- 히드록실 라디칼로 임의로 치환된, 선형 C1-C4 또는 분지형 C3-C4 알킬 라디칼
을 독립적으로 나타내며,
● L 은 하나 이상의 비-인접 산소 원자로 또는 하나 이상의 비-인접 라디칼 NR' 로 임의로 간섭된, 하나 이상의 히드록실 라디칼로 임의로 치환된, 선형 또는 분지형, 포화형 C1-C30 탄화수소계 사슬을 나타내며, R' 은 수소 원자 또는 C1-C4 알킬 라디칼을 표시하며,
● CAT+ 는:
- 선형 또는 분지형 C1-C4 알킬 라디칼 또는 선형 또는 분지형 C1-C4 히드록시알킬 라디칼로부터 선택된, 동일 또는 상이할 수도 있는, 하나 이상의 라디칼로 임의로 치환된, O, N 및 S로부터 선택된 적어도 하나의 헤테로원자를 함유하는 5 내지 8 개 고리 원을 포함하는 양이온성 헤테로고리 라디칼,
- 트리(히드록시)(C1-C4)알킬암모늄 라디칼,
- 하기로부터 선택된 양이온성 라디칼로 치환된, 피롤리딘과 같이, O 및 N으로부터 선택된 적어도 하나의 헤테로원자를 함유하는 5 또는 6 개 고리 원을 포함하는 비-양이온성 헤테로고리: 선형 또는 분지형 C1-C4 알킬 라디칼 및 선형 또는 분지형 C1-C4 히드록시알킬 라디칼로부터 선택된 하나 이상의 동일 또는 상이한 라디칼로 임의로 치환된, 이미다졸륨, 피리디늄, 피페라지늄, 피롤리디늄, 모르폴리늄, 피리미디늄, 티아졸륨, 벤지미다졸륨, 벤조티아졸륨, 옥사졸륨, 벤조트리아졸륨, 피라졸륨, 트리아졸륨, 벤족사졸륨 및 피페리디늄, 또는
- 트리(히드록시)(C1-C4)알킬암모늄 라디칼
로부터 선택된 양이온성 라디칼을 나타내며,
An- 은, 유기 또는 무기이고 화장용으로 허용 가능한 음이온 또는 음이온의 혼합물을 나타냄].
본 발명의 주제는 또한 케라틴 섬유, 특히 모발과 같은 인간 케라틴 섬유를 염색하기 위한, 위에서 정의된 바와 같은, 아래의 화학식 (I)의 화합물의 용도이다.
본 발명의 주제는 또한 위에서 설명된 화학식 (I)의 적어도 하나의 양이온성 벤족사진계 화합물을 포함하는 조성물, 특히 화장품 조성물, 특히 인간 케라틴 섬유 특히 모발과 같은 케라틴 섬유를 처리하기 위한 조성물이다.
마지막으로, 본 발명의 주제는 위에서 설명된 화학식 (I)의 화합물을 포함하는 조성물을 상기 섬유에 적용하는 단계를 포함하는, 케라틴 섬유, 특히 모발을 염색하는 방법이다.
본 발명의 화합물은 산화 염색에서 사용하기에 적합한 그리고 강도 또는 색도 및/또는 선택성 및/또는 샴푸, 땀, 파마 재변형 및 빛과 같은 외부 인자에 대한 저항성의 측면에서 개선된 염색 성질을 갖는 모발 착색을 획득하는 것을 가능하게 하는 케라틴 섬유를 염색하기 위한 조성물을 획득하는 것을 특히 가능하게 한다.
화학식 (I)의 화합물의 전기중성은 유기 또는 무기이고 화장용으로 허용 가능한, An- 로 라벨표시된 음이온 또는 음이온의 혼합물에 의해 보장된다.
An- 는, 예를 들어, 염화물, 브롬화물, 불화물 또는 요오드화물과 같은 할로겐화물; 수산화물; 황산염; 황산수소염; 선형 또는 분지형 알킬 부분이 C1-C6인 알킬황산염, 이를테면 메틸황산염 또는 에틸황산염 이온; 탄산염 및 탄산수소염; 카르복실산의 염, 이를테면 포름산염, 아세테이트, 시트르산염, 타르타르산염 및 옥살산염; 선형 또는 분지형 알킬 부분이 C1-C6인 알킬 술폰산염들, 이를테면 메틸술폰산염 이온; 아릴 부분, 바람직하게는 페닐이 하나 이상의 C1-C4 알킬 라디칼로 임의로 치환되는 아릴술폰산염, 예를 들면 4-톨루일술폰산염; 및 메실산염과 같은 알킬술포닐로부터 선택된 음이온 또는 음이온의 혼합물을 나타낸다.
일반 화학식 (I)의 화합물은 염산, 브롬화수소산, 황산 및 인산으로부터 바람직하게 선택된 무기 산을 갖는 또는 예를 들어, 시트르산, 숙신산, 타르타르산, 젖산, 4-톨루일술폰산, 벤젠술폰산, 아세트산, 파라-톨루엔술폰산, 개미산 및 메탄술폰산과 같은 유기 산을 갖는 부가염과 같은 염의 형태로 또는 유리 형태로 있을 수도 있다.
이 화합물은 또한 용매화물, 예를 들어 에탄올 또는 이소프로판올과 같은 선형 또는 분지형 알코올의 용매화물 또는 수화물의 형태일 수도 있다.
본 발명의 목적을 위해 그리고 달리 표시되지 않는 한:
■ "알킬 라디칼"이 선형 또는 분지형 C1-C20 이고 바람직하게는 C1-C8 탄화수소계 라디칼이며;
■ "알케닐렌 라디칼"이 1부터 4 개까지의 공액된(conjugated) 또는 비공액된 이중 결합 -C=C- 를 포함할 수도 있는 이전에 정의된 바와 같은 불포화형 탄화수소계 2가 라디칼이며; 알케닐렌기는 특히 1 또는 2 개의 불포화를 포함하며;
■ 알킬 라디칼에 적용되는 "임의로 치환된"이란 용어는, 상기 알킬 라디칼이 다음의 라디칼로부터 선택된 하나 이상의 라디칼로 치환될 수도 있다는 것을 의미한다: i) 히드록실, ii) C1-C4 알콕시, iii) 아실아미노, iv) 하나 또는 두 개의 동일한 또는 상이한 C1-C4 알킬 라디칼로 임의로 치환된 아미노, 상기 알킬 라디칼은, 다른 질소 또는 비-질소 헤테로원자를 임의로 포함하여, 질소 원자와 가능하게는 5 원 내지 8 원 헤테로고리를 형성하며; 또는 v) 동일 또는 상이할 수도 있는 R', R'' 및 R'''이 수소 원자 또는 C1-C4 알킬기를 나타내거나, 또는 아니면 -N+R'R''R'''이 C1-C4 알킬기로 임의로 치환된 이미다졸륨과 같은 헤테로아릴을 형성하고, M- 는 해당 유기 산, 무기 산 또는 할로겐화물의 반대이온을 나타내는 사차 암모늄기 -N+R'R''R''', M-;
■ "알콕시 라디칼"이, 알킬 라디칼이 선형 또는 분지형 C1-C16 이고 우선적으로 C1-C8 탄화수소계 라디칼인 알킬-옥시 라디칼이고;
■ 알콕시기가 임의로 치환되는 경우, 이는 알킬기가 이전에 정의된 바와 같이 임의로 치환됨을 의미하며;
■ "적어도 하나"는 용어는 "하나 이상의"와 동등하며; 그리고
■ 농도의 범위에 대한 "포함하여"라는 용어는 그 범위의 한계가 정의된 범위에 포함됨을 의미한다.
이후의 텍스트에서, 달리 표시되지 않는 한, 값의 범위의 제한은 그 범위에 포함되는 것에 주의해야 한다.
제 1 주제에 따르면, 본 발명은 따라서 하기의 화학식 (I)의 화합물, 이의 부가염, 이의 광학 이성질체, 기하 이성질체 및 호변이성질체 및/또는 이의 용매화물에 관련된다:
Figure pct00002
(I)
[화학식 (I) 중,
● R 은 수소 원자 또는 C1-C4 알킬 또는 C1-C4 히드록시알킬 라디칼을 나타내며; 바람직하게는, R 은 수소 원자를 나타내며,
● R2, R3, R4 및 R5 는:
- 수소 원자,
- 히드록실 라디칼로 임의로 치환된, 선형 C1-C4 또는 분지형 C3-C4 알킬 라디칼
을 독립적으로 나타내며,
● L 은 하나 이상의 비-인접 산소 원자로 또는 하나 이상의 비-인접 라디칼 NR' 로 임의로 간섭된, 하나 이상의 히드록실 라디칼로 임의로 치환된, 선형 또는 분지형, 포화형 C1-C30 탄화수소계 사슬을 나타내며, R' 은 수소 원자 또는 C1-C4 알킬 라디칼을 표시하며,
● CAT+ 는:
- 선형 또는 분지형 C1-C4 알킬 라디칼 또는 선형 또는 분지형 C1-C4 히드록시알킬 라디칼로부터 선택된, 동일 또는 상이할 수도 있는, 하나 이상의 라디칼로 임의로 치환된, O, N 및 S로부터 선택된 적어도 하나의 헤테로원자를 함유하는 5 내지 8 개 고리 원을 포함하는 양이온성 헤테로고리 라디칼,
- 트리(히드록시)(C1-C4)알킬암모늄 라디칼,
- 하기로부터 선택된 양이온성 라디칼로 치환된, 피롤리딘과 같이, O 및 N으로부터 선택된 헤테로원자를 함유하는 5 또는 6 개 고리 원을 포함하는 비-양이온성 헤테로고리: 선형 또는 분지형 C1-C4 알킬 라디칼 및 선형 또는 분지형 C1-C4 히드록시알킬 라디칼로부터 선택된 하나 이상의 동일 또는 상이한 라디칼로 임의로 치환된, 이미다졸륨, 피리디늄, 피페라지늄, 피롤리디늄, 모르폴리늄, 피리미디늄, 티아졸륨, 벤지미다졸륨, 벤조티아졸륨, 옥사졸륨, 벤조트리아졸륨, 피라졸륨, 트리아졸륨, 벤족사졸륨 및 피페리디늄, 또는
트리(히드록시)(C1-C4)알킬암모늄 라디칼
로부터 선택된 양이온성 라디칼을 나타냄].
언급될 수도 있는 O, N 및 S로부터 선택된 적어도 하나의 헤테로원자를 함유하는 5 내지 8 개 고리 원을 포함하는 양이온성 헤테로고리의 예는, 이미다졸륨, 피리디늄, 피페라지늄, 피롤리디늄, 모르폴리늄, 피리미디늄, 티아졸륨, 벤지미다졸륨, 벤조티아졸륨, 옥사졸륨, 벤조트리아졸륨, 피라졸륨, 트리아졸륨, 벤족사졸륨 및 피페리디늄을 포함한다.
트리(히드록시)(C1-C4)알킬암모늄 라디칼에 의하여, 트리메틸암모늄, 트리에틸암모늄, 디메틸에틸암모늄, 디에틸메틸암모늄, 디이소프로필메틸암모늄, 디에틸프로필암모늄, 2-히드록시에틸디에틸암모늄, 디-베타-히드록시에틸메틸암모늄, 트리-베타-히드록시에틸암모늄, 디메틸히드록시에틸암모늄, 2-히드록시에틸디메틸암모늄 및 2-히드록시에틸메틸에틸암모늄이 언급될 수도 있다.
바람직하게는, R, R2, R3, R4 및 R5 는 수소 원자 또는 선형 C1-C4 또는 분지형 C3-C4 알킬 라디칼을 독립적으로 나타낸다.
보다 바람직하게는, R, R2, R3, R4 및 R5 는 수소 원자를 나타낸다.
바람직하게는, L 은 하나 또는 두 개의 비-인접 산소 원자로 또는 하나 또는 두 개의 비-인접 라디칼 NR'로 임의로 간섭된, 하나 이상의 히드록실 라디칼로 임의로 치환된, 선형 또는 분지형, 포화형 C1-C20, 바람직하게는 C1-C10, 탄화수소계 사슬을 나타내며, R' 은 수소 원자 또는 C1-C4 알킬 라디칼을 표시한다.
훨씬 더 바람직하게는, L 은 산소 원자 및/또는 라디칼 NR'으로 임의로 간섭된, 선형, 포화형 C1-C10 탄화수소계 사슬을 나타내며, R' 는 수소 원자 또는 C1-C4 알킬 라디칼, 바람직하게는 수소 원자를 표시한다.
하나의 바람직한 구현예에 따르면, L 은 하기 기를 나타낸다:
Figure pct00003
[식 중:
- B 는, 산소 원자, 또는 R' 이 수소 원자 또는 C1-C4 알킬 라디칼을 나타내는 라디칼 NR'을 나타내며,
- n 은 1과 5 사이의 정수를 나타내며, 바람직하게는 n= 1 또는 2이며,
- AK 는 하나 이상의 히드록실 라디칼로 임의로 치환된 선형 또는 분지형, 포화형 C1-C10 탄화수소계 사슬을 나타내며, 그리고 p = 0, 1 또는 2이며, 바람직하게는, p = 0 또는 1이며, p가 2 인 경우, 라디칼 B 각각과 AK는 동일하거나 또는 상이하며,
- 결합 a 는 기 L과 양이온성 라디칼 CAT+를 연결시키고 결합 b 는 기 L과 옥사진 고리의 질소 원자를 연결시킴].
바람직하게는, R' 은 H 또는 CH3를 그리고 훨씬 더 우선적으로는 수소 원자를 나타낸다.
바람직하게는, AK 는 하나 이상의 히드록실 라디칼로 임의로 치환된 선형 또는 분지형, 포화형 C1-C6 탄화수소계 사슬을 나타내며, 보다 바람직하게는 AK 는 선형, 포화형 C1-C4 탄화수소계 사슬을 나타낸다.
바람직하게는 CAT+ 는:
- 선형 또는 분지형 C1-C4 알킬 라디칼 및 선형 또는 분지형 C1-C4 히드록시알킬 라디칼로부터 선택된 하나 이상의 동일한 또는 상이한 라디칼로 임의로 치환되는, 이미다졸륨, 피페라지늄, 피롤리디늄, 모르폴리늄 및 피페리디늄으로부터 선택된 양이온성 헤테로고리 라디칼;
- 트리메틸암모늄, 트리에틸암모늄, 디메틸에틸암모늄, 디에틸메틸암모늄, 디이소프로필메틸암모늄, 디에틸프로필암모늄, 2-히드록시에틸디메틸암모늄, 디에틸히드록시에틸암모늄 및 2-히드록시에틸디에틸암모늄으로부터 선택된 트리(히드록시)(C1-C4)알킬암모늄 라디칼;
- 예를 들어, 트리(히드록시)(C1-C4)알킬암모늄 라디칼, 예를 들면 트리메틸암모늄, 트리에틸암모늄, 디메틸에틸암모늄, 디에틸메틸암모늄, 디이소프로필메틸암모늄, 디에틸프로필암모늄, 2-히드록시에틸디에틸암모늄, 디-베타-히드록시에틸메틸암모늄, 트리-베타-히드록시에틸암모늄, 디메틸히드록시에틸암모늄 또는 2-히드록시에틸디메틸암모늄, 2-히드록시에틸메틸에틸암모늄, 특히 트리메틸암모늄 또는 2-히드록시에틸메틸에틸암모늄으로 치환된, 피롤리딘과 같이, O 및 N으로부터 선택된 헤테로원자를 함유하는 5 또는 6 개 고리 원을 포함하는 비-양이온성 헤테로고리
로부터 선택된 양이온성 라디칼을 나타낸다.
훨씬 더 바람직하게는, CAT+ 는:
- 선형 또는 분지형 C1-C4 알킬 라디칼 및 선형 C1-C4 히드록시알킬 라디칼로부터 선택된 하나 이상의 동일한 또는 상이한 라디칼로 임의로 치환되는 이미다졸륨, 피페라지늄, 피롤리디늄, 모르폴리늄 및 피페리디늄으로부터 선택된 양이온성 헤테로고리 라디칼,
- 트리메틸암모늄, 트리에틸암모늄, 디메틸에틸암모늄, 디에틸메틸암모늄, 디이소프로필메틸암모늄, 2-히드록시에틸메틸에틸암모늄, 2-히드록시에틸디메틸암모늄, 디-베타-히드록시에틸메틸암모늄, 트리-베타-히드록시에틸암모늄, 디메틸히드록시에틸암모늄, 및 2-히드록시에틸디메틸암모늄, 특히 트리메틸암모늄 및 2-히드록시에틸메틸에틸암모늄로부터 선택된 라디칼,
- 트리메틸암모늄 라디칼로 치환된 피롤리딘 라디칼
로부터 선택된 양이온성 라디칼을 나타낸다.
I/ 본 발명의 제 1 구현예에 따르면, 화학식 (I)의 화합물은, 하기와 같다:
- L 은 선형, 포화형 C1-C6 탄화수소계 사슬을 나타내며,
- R, R 2 , R 3 , R 4 및 R 5 는 수소 원자를 나타내며,
- CAT+ 는:
o 하나 이상의 동일한 또는 상이한 선형 또는 분지형 C1-C4 알킬 또는 선형 C1-C4 히드록시알킬 라디칼로 임의로 치환되는 이미다졸륨, 피페라지늄, 피롤리디늄, 모르폴리늄 및 피페리디늄으로부터 선택된 양이온성 헤테로고리 라디칼,
o 트리메틸암모늄, 트리에틸암모늄, 디메틸에틸암모늄, 디에틸메틸암모늄, 디이소프로필메틸암모늄, 2-히드록시에틸디메틸암모늄, 2-히드록시에틸메틸에틸암모늄, 디-베타-히드록시에틸메틸암모늄, 트리-베타-히드록시에틸암모늄, 디메틸히드록시에틸암모늄, 및 2-히드록시에틸디메틸암모늄, 특히 트리메틸암모늄 및 2-히드록시에틸메틸에틸암모늄으로부터 선택된 라디칼,
o 트리메틸암모늄 라디칼로 치환된 피롤리딘 라디칼
로부터 선택된 양이온성 라디칼을 나타낸다.
이 구현예에 따르면, 특히 바람직한 화합물은:
Figure pct00004
Figure pct00005
Figure pct00006
Figure pct00007
Figure pct00008
Figure pct00009
그리고 또한 이의 부가염, 이의 광학 이성질체, 기하 이성질체 및 호변이성질체 및/또는 이의 용매화물로부터 선택되며, An- 은 이전에 주어진 의미를 가진다.
II/ 본 발명의 제 2 구현예에 따르면, 화학식 (I)의 화합물은 하기와 같다:
- L 은 산소 원자로 및/또는 -NH 기로 간섭된 선형 C2-C10 알킬 라디칼을 나타내며,
- R, R2, R3, R4 및 R5 는 수소 원자를 나타내며,
- CAT+ 는:
o 하나 이상의 동일한 또는 상이한 선형 또는 분지형 C1-C4 알킬 또는 선형 C1-C4 히드록시알킬 라디칼로 임의로 치환되는 이미다졸륨, 피페라지늄, 피롤리디늄, 모르폴리늄 및 피페리디늄으로부터 선택된 양이온성 헤테로고리 라디칼,
o 트리메틸암모늄, 트리에틸암모늄, 디메틸에틸암모늄, 디에틸메틸암모늄, 디이소프로필메틸암모늄, 2-히드록시에틸디메틸암모늄, 2-히드록시에틸메틸에틸암모늄, 디-베타-히드록시에틸메틸암모늄, 트리-베타-히드록시에틸암모늄, 디메틸히드록시에틸암모늄, 및 2-히드록시에틸디메틸암모늄, 특히 트리메틸암모늄 및 2-히드록시에틸메틸에틸암모늄으로부터 선택된 라디칼,
o 트리메틸암모늄 라디칼로 치환된 피롤리딘 라디칼
로부터 선택된 양이온성 라디칼을 나타낸다.
이 제 2 변형예에 따르면, 특히 바람직한 화학식 (I)의 화합물은:
Figure pct00010
Figure pct00011
Figure pct00012
Figure pct00013
그리고 또한 이의 부가염, 이의 광학 이성질체, 기하 이성질체 및 호변이성질체 및/또는 이의 용매화물로부터 선택되며, An- 은 이전에 주어진 의미를 가진다.
염료 조성물
위에서 정의된 바와 같은 화학식 (I)의 화합물은 적합한 매질을 포함하는 케라틴 섬유를 염색하는 조성물에서 사용될 수도 있다.
화학식 (I)의 화합물은 염료 조성물의 총 중량의 대략 0.001 중량%와 10 중량% 사이, 바람직하게는 0.005 중량%와 6 중량%사이의 양으로 조성물에 각각 존재할 수도 있다.
그 조성물은, 화학식 (I)의 상기 화합물 외에, 적어도 하나의 추가적인 산화 베이스를 또한 포함할 수도 있다. 이들 베이스는 파라-페닐렌디아민, 비스(페닐)알킬렌디아민, 파라-아미노페놀, 오쏘-아미노페놀 및 헤테로고리 베이스, 그리고 이의 부가염으로부터 특히 선택될 수도 있다.
파라-페닐렌디아민 중에서, 언급될 수도 있는 예는 보다 특히 파라-페닐렌디아민, 파라-톨릴렌디아민, 2-클로로-파라-페닐렌디아민, 2,3-디메틸-파라-페닐렌디아민, 2,6-디메틸-파라-페닐렌디아민, 2,6-디에틸-파라-페닐렌디아민, 2,5-디메틸-파라-페닐렌디아민, N,N-디메틸-파라-페닐렌디아민, N,N-디에틸-파라-페닐렌디아민, N,N-디프로필-파라-페닐렌디아민, 4-아미노-N,N-디에틸-3-메틸아닐린, N,N-비스(β-히드록시에틸)-파라-페닐렌디아민, 4-N,N-비스(β-히드록시에틸)아미노-2-메틸아닐린, 4-N,N-비스(β-히드록시에틸)아미노-2-클로로아닐린, 2-β-히드록시에틸-파라-페닐렌디아민, 2-플루오로-파라-페닐렌디아민, 2-이소프로필-파라-페닐렌디아민, N-(β-히드록시프로필)-파라-페닐렌디아민, 2-히드록시메틸-파라-페닐렌디아민, N,N-디메틸-3-메틸-파라-페닐렌디아민, N-에틸-N-(β-히드록시에틸)-파라-페닐렌디아민, N-(β,γ-디히드록시프로필)-파라-페닐렌디아민, N-(4'-아미노페닐)-파라-페닐렌디아민, N-페닐-파라-페닐렌디아민, 2-β-히드록시에틸옥시-파라-페닐렌디아민, 2-β-아세틸아미노에틸옥시-파라-페닐렌디아민, N-(β-메톡시에틸)-파라-페닐렌디아민, 4-아미노페닐피롤리딘, 2-티에닐-파라-페닐렌디아민, 2-β-히드록시에틸아미노-5-아미노톨루엔, 3-히드록시-1-(4'-아미노페닐)피롤리딘, 6-(4-아미노페닐아미노)헥산-1-올, N-(4-아미노-3-메틸페닐)-N-[3-(1H-이미다졸-1-일)프로필]아민 및 N-(4-아미노페닐)-N-[3-(1H-이미다졸-1-일)프로필]아민, 그리고 산을 갖는 이의 부가염을 포함한다.
위에서 언급된 파라-페닐렌디아민 중에서, 파라-페닐렌디아민, 파라-톨릴렌디아민, 2-이소프로필-파라-페닐렌디아민, 2-β-히드록시에틸-파라-페닐렌디아민, 2-β-히드록시에틸옥시-파라-페닐렌디아민, 2,6-디메틸-파라-페닐렌디아민, 2,6-디에틸-파라-페닐렌디아민, 2,3-디메틸-파라-페닐렌디아민, N,N-비스(β-히드록시에틸)-파라-페닐렌디아민, 2-클로로-파라-페닐렌디아민, 2-β-아세틸아미노에틸옥시-파라-페닐렌디아민 및 2-[{2-[(4-아미노페닐)아미노]에틸}(2-히드록시에틸)아미노]에탄올, 그리고 산을 갖는 이의 부가염이, 특히 바람직하다.
비스(페닐)알킬렌디아민 중에서, 언급될 수도 있는 예는 N,N'-비스(β-히드록시에틸)-N,N'-비스(4'-아미노페닐)-1,3-디아미노프로판올, N,N'-비스(β-히드록시에틸)-N,N'-비스(4'-아미노페닐)에틸렌디아민, N,N'-비스(4-아미노페닐)테트라메틸렌디아민, N,N'-비스(β-히드록시에틸)-N,N'-비스(4-아미노페닐)테트라메틸렌디아민, N,N'-비스(4-메틸아미노페닐)테트라메틸렌디아민, N,N'-비스(에틸)-N,N'-비스(4'-아미노-3'-메틸페닐)에틸렌디아민 및 1,8-비스(2,5-디아미노페녹시)-3,6-디옥사옥탄, 그리고 산을 갖는 이의 부가염을 포함한다.
파라-아미노페놀 중에서, 언급될 수도 있는 예는 파라-아미노페놀, 4-아미노-3-메틸페놀, 4-아미노-3-플루오로페놀, 4-아미노-2-클로로페놀, 4-아미노-3-클로로페놀, 4-아미노-3-히드록시메틸페놀, 4-아미노-2-메틸페놀, 4-아미노-2-히드록시메틸페놀, 4-아미노-2-메톡시메틸페놀, 4-아미노-2-아미노메틸페놀, 4-아미노-2-(β-히드록시에틸아미노메틸)페놀, 4-아미노-2-플루오로페놀, 4-아미노-2,6-디클로로페놀, 4-아미노-6-[((5'-아미노-2'-히드록시-3'-메틸)페닐)메틸]-2-메틸페놀 및 비스[(5'-아미노-2'-히드록시)페닐메탄, 그리고 산을 갖는 이의 부가염을 포함한다.
오쏘-아미노페놀 중에서, 언급될 수도 있는 예는 2-아미노페놀, 2-아미노-5-메틸페놀, 2-아미노-6-메틸페놀 및 5-아세타미도-2-아미노페놀, 그리고 산을 갖는 이의 부가염을 포함한다.
언급될 수도 있는 헤테로고리 베이스 중에는, 예를 들어, 피리딘 유도체, 피리미딘 유도체 및 피라졸 유도체가 있다.
피리딘 유도체 중에서, 예를 들어 특허 GB 1 026 978 및 GB 1 153 196에서 설명된 화합물, 2,5-디아미노피리딘, 2-(4-메톡시페닐)아미노-3-아미노피리딘, 3,4-디아미노피리딘, 및 산을 갖는 이의 부가염이 언급될 수도 있다.
본 발명에서 유용한 다른 피리딘 산화 베이스는, 예를 들어, 특허 출원 FR 2 801 308에서 설명되는 3-아미노피라졸로[1,5-a]피리딘 산화 베이스 또는 이의 부가염이다. 언급될 수도 있는 예는 피라졸로[1,5-a]피리드-3-일아민, 2-아세틸아미노피라졸로[1,5-a]피리드-3-일아민, 2-(모르폴린-4-일)피라졸로[1,5-a]피리드-3-일아민, 3-아미노피라졸로[1,5-a]피리딘-2-카르복실산, 2-메톡시피라졸로[1,5-a]피리드-3-일아민, (3-아미노피라졸로[1,5-a]피리드-7-일)메탄올, 2-(3-아미노피라졸로[1,5-a]피리드-5-일)에탄올, 2-(3-아미노피라졸로[1,5-a]피리드-7-일)에탄올, (3-아미노피라졸로[1,5-a]피리드-2-일)메탄올, 3,6-디아미노피라졸로[1,5-a]피리딘, 3,4-디아미노피라졸로[1,5-a]피리딘, 피라졸로[1,5-a]피리딘-3,7-디아민, 7-(모르폴린-4-일)피라졸로[1,5-a]피리드-3-일아민, 피라졸로[1,5-a]피리딘-3,5-디아민, 5-(모르폴린-4-일)피라졸로[1,5-a]피리드-3-일아민, 2-[(3-아미노피라졸로[1,5-a]피리드-5-일)(2-히드록시에틸)아미노]에탄올, 2-[(3-아미노피라졸로[1,5-a]피리드-7-일)(2-히드록시에틸)아미노]에탄올, 3-아미노피라졸로[1,5-a]피리딘-5-올, 3-아미노피라졸로[1,5-a]피리딘-4-올, 3-아미노피라졸로[1,5-a]피리딘-6-올 및 3-아미노피라졸로[1,5-a]피리딘-7-올, 그리고 산을 갖는 이의 부가염을 포함한다.
본 발명에 유용한 피리딘 베이스 중에서, 특허 출원 EP 1792903 및 EP 1792606 에서 설명되는 화합물 및 이의 부가염이 또한 언급될 수도 있다.
피리미딘 유도체 중에서, 예를 들어, 특허 DE 2359399, JP 88-169571, JP 05-63124 및 EP 0/770/375 또는 특허 출원 WO 96/15765에서 설명되는 화합물, 이를테면 2,4,5,6-테트라아미노피리미딘, 4-히드록시-2,5,6-트리아미노피리미딘, 2-히드록시-4,5,6-트리아미노피리미딘, 2,4-디히드록시-5,6-디아미노피리미딘, 2,5,6-트리아미노피리미딘 및 이의 부가염, 그리고, 호변이성질체 동등물이 존재하는 경우, 이의 호변이성질체 형태가 언급될 수도 있다.
피라졸로피리미딘 유도체 중에서, 예를 들어, 특허 출원 EP 0847271, EP 0926149 및 EP 1147109에서 설명되는 화합물과 이의 부가염이 언급될 수도 있다.
피라졸 유도체 중에서, 특허 DE 3843892 및 DE 4133957과 특허 출원 WO 94/08969, WO 94/08970, FR-A-2 733 749 및 DE 195 43 988에서 설명되는 화합물, 예를 들면 4,5-디아미노1-메틸피라졸, 4,5-디아미노-1-(β-히드록시에틸)피라졸, 3,4-디아미노피라졸, 4,5-디아미노-1-(4'-클로로벤질)피라졸, 4,5-디아미노-1,3-디메틸피라졸, 4,5-디아미노-3-메틸-1-페닐피라졸, 4,5-디아미노-1-메틸-3-페닐피라졸, 4-아미노-1,3-디메틸-5-히드라지노피라졸, 1-벤질-4,5-디아미노-3-메틸피라졸, 4,5-디아미노-3-tert-부틸-1-메틸피라졸, 4,5-디아미노-1-tert-부틸-3-메틸피라졸, 4,5-디아미노-1-(β-히드록시에틸)-3-메틸피라졸, 4,5-디아미노-1-에틸-3-메틸피라졸, 4,5-디아미노-1-에틸-3-(4'-메톡시페닐)피라졸, 4,5-디아미노-1-에틸-3-히드록시메틸피라졸, 4,5-디아미노-3-히드록시메틸-1-메틸피라졸, 4,5-디아미노-3-히드록시메틸-1-이소프로필피라졸, 4,5-디아미노-3-메틸-1-이소프로필피라졸, 4-아미노-5-(2'-아미노에틸)아미노-1,3-디메틸피라졸, 3,4,5-트리아미노피라졸, 1-메틸-3,4,5-트리아미노피라졸, 3,5-디아미노-1-메틸-4-메틸아미노피라졸 및 3,5-디아미노-4-(β-히드록시에틸)아미노-1-메틸피라졸, 그리고 이의 부가염이 언급될 수도 있다.
산화 베이스로서, 하기의 화학식 (III)의 디아미노-N,N-디히드로피라졸론 유도체 또는 이의 부가염 또는 용매화물이 또한 언급될 수도 있다:
Figure pct00014
(III)
[화학식 (III) 중:
동일 또는 상이할 수도 있는 R1, R2, R3 및 R4 는:
- 라디칼 OR5, 라디칼 NR6R7, 카르복실 라디칼, 술폰 라디칼, 카르복사미도 라디칼 CONR6R7, 술폰아미도 라디칼 SO2NR6R7, 헤테로아릴, (C1-C4)알킬, 히드록실, C1-C2 알콕시, 아미노 또는 (디)알킬(C1-C2)아미노 기로 임의로 치환된 아릴로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 라디칼로 임의로 치환된 선형 또는 분지형 C1-C6 알킬 라디칼;
- 하나 이상의 (C1-C4)알킬, 히드록실, C1-C2 알콕시, 아미노 또는 (디)알킬(C1-C2)아미노로 임의로 치환된 아릴 라디칼;
- (C1-C4)알킬 및 (C1-C2)알콕시로부터 선택된 하나 이상의 라디칼로 임의로 치환된 5-원 또는 6-원 헤테로아릴 라디칼
을 나타내며;
R3 및 R4 는 수소 원자를 또한 나타낼 수도 있으며;
동일 또는 상이할 수도 있는 R5, R6 및 R7 은, 수소 원자; 히드록실, C1-C2 알콕시, 카르복사미도 CONR8R9, 술포닐 SO2R8, (C1-C4)알킬, 히드록실, C1-C2 알콕시, 아미노 또는 (디)(C1-C2)알킬아미노로 임의로 치환된 아릴로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 라디칼로 임의로 치환된 선형 또는 분지형 C1-C4 알킬 라디칼; (C1-C4)알킬, 히드록실, C1-C2 알콕시, 아미노 또는 (디)(C1-C2)알킬아미노로 임의로 치환된 아릴을 나타내며;
동일 또는 상이할 수도 있는 R6 및 R7 은, 카르복사미도 라디칼 CONR8R9; 술포닐 라디칼 SO2R8을 또한 나타낼 수도 있으며;
동일 또는 상이할 수도 있는 R8 및 R9 은, 수소 원자; 하나 이상의 히드록실 또는 C1-C2 알콕시로 임의로 치환된 선형 또는 분지형 C1-C4 알킬 라디칼을 나타내며;
한편으로는 R1 및 R2, 그리고 다른 한편으로는 R3 및 R4 는, 부착되어 있는 질소 원자와 함께, 할로겐 원자와 아미노, (디)알킬(C1-C4)아미노, 히드록실, 카르복실, 카르복사미도 및 (C1-C2)알콕시 라디칼, 하나 이상의 히드록실, 아미노, (디)알킬아미노, 알콕시, 카르복실 또는 술포닐 라디칼로 임의로 치환된 C1-C4 알킬 라디칼로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 라디칼로 임의로 치환된 포화형 또는 불포화형 5-원 내지 8-원 헤테로고리를 형성할 수도 있으며;
R3 및 R4 는 이들이 부착되어 있는 질소 원자와 함께, 탄소 원자가 임의로 치환된 산소 또는 질소 원자로 대체될 수도 있는 5-원 또는 7-원 헤테로고리를 또한 형성할 수도 있다].
이들 디아미노-N,N-디히드로피라졸론 유도체는 특히 특허 출원 FR 2866338에서 설명되고, 2,3-디아미노-6,7-디히드로-1H,5H-피라졸로[1,2-a]피라졸-1-온 디메탄술폰산염이 특히 바람직한 유도체이다.
또한 언급될 수도 있는 산화 베이스는 하기 화학식 (IV)의 디아미노-N,N-디히드로피라졸론 유도체 또는 이의 부가염 또는 용매화물을 포함한다:
Figure pct00015
(IV)
[화학식 (IV) 중:
Figure pct00016
z 는 하기를 독립적으로 나타내며:
- 단일 공유결합,
- 하기로부터 선택된 2가 라디칼
- 산소 원자,
- 수소 원자 또는 C1-C6 알킬 라디칼을 나타내고, 이들이 부착되어 있는 질소 원자와 함께 R3 와 치환된 또는 비치환된, 포화형 또는 불포화형, 방향족 또는 비-방향족 5-원 내지 8-원 헤테로고리를 형성하는 R6를 갖는 라디칼 -NR6, 이는 헤테로고리가 양이온성이 되는 것 및/또는 양이온성 라디칼로 치환되는 것이 가능하게 하고,
- 알킬 라디칼을 독립적으로 나타내는 R7 및 R8을 갖는 라디칼 -N+R7R8-; 알킬 라디칼은 OH 또는 -O알킬로 치환될 수도 있음,
Figure pct00017
R3 는 하기를 나타내며:
- 수소,
- 알킬 라디칼이 아마도 헤테로원자 또는 O, N, Si, S, SO 및 SO2로부터 선택된 기로 간섭된, 임의로 치환된 C1-C10 알킬 라디칼,
- 양이온성 라디칼로 치환 및/또는 간섭된 C1-C10 알킬 라디칼,
- 할로겐,
- SO3H 라디칼,
- 고리가 양이온성이 되는 것 및/또는 양이온 라디칼로 치환되는 것이 가능한, 하나 이상의 헤테로원자 또는 N, O, S, SO2 및 -CO-로부터 선택된 기를 임의로 포함하는, 치환된 또는 비치환된, 포화형, 불포화형 또는 방향족, 5-원 내지 8-원 고리,
Figure pct00018
동일 또는 상이할 수도 있는 R1 및 R2 는, 하기를 나타내며:
- 라디칼 OR5, 라디칼 NR9R10, 카르복실 라디칼, 술폰 라디칼, 카르복사미도 라디칼 CONR9R10, 술폰아미도 라디칼 SO2NR9R10, 헤테로아릴, (C1-C4)알킬, 히드록실, C1-C2 알콕시, 아미노 또는 (디)알킬(C1-C2)아미노 기로 임의로 치환된 아릴로부터 선택된 하나 이상의 라디칼로 임의로 치환된 선형 또는 분지형 C1-C6 알킬 라디칼;
- 하나 이상의 (C1-C4)알킬, 히드록실, C1-C2 알콕시, 아미노 또는 (디)알킬(C1-C2)아미노로 임의로 치환된 아릴 라디칼;
- (C1-C2)알콕시 또는 -O알킬 또는 OH로 단일치환된 또는 다중치환된 (C1-C4)알킬로부터 선택된 하나 이상의 라디칼로 임의로 치환된 5-원 또는 6-원 헤테로아릴 라디칼;
R1 및 R2 는, 이들이 부착되어 있는 질소 원자와 함께, 할로겐 원자와 아미노, (디)알킬(C1-C4)아미노, 히드록실, 카르복실, 카르복사미도 및 (C1-C2)알콕시 라디칼, 하나 이상의 히드록실, 아미노, (디)알킬아미노, 알콕시, 카르복실 또는 술포닐 라디칼로 임의로 치환된 C1-C4 알킬 라디칼로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 라디칼로 임의로 치환된 포화형 또는 불포화형 5-원 내지 8-원 헤테로고리를 형성할 수도 있으며;
An- 는 화학식 (IV)의 화합물의 전기적 중성을 보장하는 음이온 또는 음이온 군을 나타내며,
다만 기 Z 및 R3 중 적어도 하나는 양이온성 라디칼을 나타낸다는 것을 조건으로 한다].
디아미노-N,N-디히드로피라졸론의 이들 유도체는 특허 출원 FR 2 927 078에 기재되어 있다.
대체로, 추가적인 산화 베이스(들)의 농도는 조성물의 총 중량에 대하여 0.0001 중량%부터 20 중량%까지 그리고 바람직하게는 0.005 중량%부터 6 중량%까지의 범위이다.
커플러
본 발명에 따른 염료 조성물은, 케라틴 섬유를 염색하기 위해 기존에 사용된 화학식 (I)의 화합물이 아닌, 하나 이상의 추가적인 산화 커플러를 포함할 수도 있고 바람직하게는 포함한다. 이들 커플러 중에는, 특히 메타-페닐렌디아민, 메타-아미노페놀, 메타-디페놀, 나프탈렌 커플러 및 헤테로고리 커플러, 그리고 이의 부가염이 언급될 수도 있다.
언급될 수도 있는 추가적인 커플러의 예는, 2-메틸-5-아미노페놀, 5-N-(β-히드록시에틸)아미노-2-메틸페놀, 6-클로로-2-메틸-5-아미노페놀, 3-아미노페놀, 2,4-디클로로-3-아미노페놀, 5-아미노-4-클로로-o-크레졸, 1,3-디히드록시벤젠, 1,3-디히드록시-2-메틸벤젠, 4-클로로-1,3-디히드록시벤젠, 2,4-디아미노-1-(β-히드록시에틸옥시)벤젠, 2-아미노-4-(β-히드록시에틸아미노)-1-메톡시벤젠, 1,3-디아미노벤젠, 1,3-비스(2,4-디아미노페녹시)프로판, 3-우레이도아닐린, 3-우레이도-1-디메틸아미노벤젠, 세사몰, 1-β-히드록시에틸아미노-3,4-메틸렌디옥시벤젠, α-나프톨, 2-메틸-1-나프톨, 1,5-디히드록시나프탈렌, 2,7-나프탈렌디올, 1-아세톡시-2-메틸나프탈렌, 6-히드록시인돌, 4-히드록시인돌, 4-히드록시-N-메틸인돌, 2-아미노-3-히드록시피리딘, 6-히드록시벤조모르폴린, 3,5-디아미노-2,6-디메톡시피리딘, 2,6-디히드록시-3-4-디메틸피리딘, 3-아미노-2-메틸아미노-6-메톡시피리딘, 1-N-(β-히드록시에틸)아미노-3,4-메틸렌디옥시벤젠, 2,6-비스(β-히드록시에틸아미노)톨루엔 및 3-메틸-1-페닐-5-피라졸론 그리고 산을 갖는 이의 부가염을 포함한다.
본 발명의 염료 조성물에서, 추가적인 커플러(들)는, 그것들이 존재한다면, 대략 조성물의 총 중량에 대하여 0.001 중량%와 10 중량% 사이, 바람직하게는 0.005 중량%와 6 중량% 사이의 양을 일반적으로 나타낸다.
본 발명에 따른 염료 조성물은 니트로벤젠 염료, 아조 직접 염료 및 메틴 직접 염료로부터 특히 선택될 수도 있는 하나 이상의 직접 염료를 또한 포함할 수도 있다. 이들 직접 염료는 비이온, 음이온 또는 양이온 성질로 될 수도 있다.
염색에 적합한, 또한 염료 지지물로서 알려진 매질은, 물 또는 하나 이상의 용매, 예를 들면 에탄올 및 이소프로판올과 같은 C1-C4 저급(lower) 알카놀, 폴리올, 예를 들면 프로필렌 글리콜, 디프로필렌 글리콜 또는 글리세롤, 및 폴리올 에테르, 예를 들면 디프로필렌 글리콜 모노메틸 에테르와 물의 혼합물을 일반적으로 포함한다.
용매(들)는 염료 조성물의 총 중량에 대하여 대략 1 중량%와 40 중량% 사이 그리고 더 바람직하게는 대략 3 중량%와 30 중량% 사이일 수도 있는 비율로 일반적으로 존재한다.
본 발명에 따른 염료 조성물은 모발 염료 조성물에서 기존에 사용된 다양한 보조제, 이를테면 음이온성, 양이온성, 비이온성, 양쪽성 또는 쌍성 계면활성제 또는 그 혼합물, 음이온성, 양이온성, 비이온성, 양쪽성 또는 쌍성 폴리머들 또는 그 혼합물, 무기 또는 유기 증점제, 특히 음이온성, 양이온성, 비이온성 및 양쪽성 중합 회합(polymeric associative) 증점제, 산화방지제, 침투제, 격리제, 프레이그런스, 완충제, 분산제, 조절제, 예를 들면 휘발성 또는 비휘발성, 개질된 또는 비개질된 실리콘, 막형성제, 세라미드, 보존제 및 유백체를 또한 포함할 수도 있다.
위의 보조제는 각각이 조성물의 중량에 대하여 0.01 중량%와 20 중량% 사이의 양으로 일반적으로 존재한다.
말할 필요도 없이, 본 기술분야의 통상의 기술자는 본 발명에 따른 산화 염료 조성물에 본질적으로 연관된 유리한 성질이 예상된 추가(들)에 의해 악영향을 받지 않거나 또는 실질적으로 받지 않도록 이 또는 이들 옵션적 추가적 화합물(들)을 주의하여 선택할 것이다.
본 발명에 따른 염료 조성물의 pH는 대략 3과 12 사이 그리고 바람직하게는 대략 5와 11 사이에 일반적으로 있다. 그것은 케라틴 섬유의 염색에서 습관적으로 사용되는 산성화 또는 염기성화 작용제에 의하여, 또는 대안적으로 표준 완충제 시스템을 사용하여 원하는 값으로 조정될 수도 있다.
산성화 작용제 중에서, 언급될 수도 있는 예는 무기 또는 유기 산, 예를 들면 염산, 오르토인산, 황산, 카르복실산, 예를 들면 아세트산, 타르타르산, 시트르산 및 젖산, 그리고 술폰산을 포함한다.
염기성화 작용제 중에서, 언급될 수도 있는 예는 수화 암모니아, 알칼리 금속 탄산염, 알카놀아민 이를테면 모노에탄올아민, 디에탄올아민 및 트리에탄올아민, 그리고 또한 이의 유도체, 수산화나트륨, 수산화칼륨 및 아래의 화학식 (III)의 화합물을 포함한다:
Figure pct00019
(III)
[화학식 (III) 중 W는 히드록실 기 또는 C1-C4 알킬 라디칼로 임의로 치환된 프로필렌 잔기; 동일 또는 상이할 수도 있는 Ra, Rb, Rc 및 Rd 는 수소 원자 또는 C1-C4 알킬 또는 C1-C4 히드록시알킬 라디칼을 나타낸다].
본 발명에 따른 조성물은 하나 이상의 산화제를 포함할 수도 있다.
산화제는 케라틴 섬유의 산화 염색을 위해 기존에 사용되는 것, 예를 들어 과산화수소, 과산화요소, 알칼리 금속 브롬산염, 과염 이를테면 과붕산염 및 과황산염, 과산 그리고 산화효소 효소이며, 그것들 중에서 과산화효소, 2-전자 산화환원효소들 이를테면 우리카제, 및 4-전자 옥시게나제, 예를 들면 락카제가 언급될 수도 있다. 과산화수소가 특히 바람직하다.
본 발명에 따른 산화제를 갖거나 또는 갖지 않는 염료 조성물은 다양한 형태, 이를테면 액체, 크림 또는 젤의 형태로, 또는 케라틴 섬유, 특히 인간 모발을 염색하기에 적합한 임의의 다른 형태로 있을 수도 있다.
그것은 여러 조성물의 사용 시의 혼합으로 초래될 수도 있다.
특히, 그것은, 하나의 조성물이 화학식 (I)의 적어도 하나의 화합물, 임의로 하나 이상의 추가적인 산화 베이스, 및 화학식 (I)의 화합물이 아닌 임의로 하나 이상의 추가적인 커플러, 또는 이의 염을 포함하고, 제 2 조성물이 이전에 설명된 바와 같은 하나 이상의 산화제를 포함하는 적어도 두 개의 조성물의 혼합으로 초래된다.
본 발명의 조성물은 따라서 케라틴 섬유의 염색을 위해, 비개질된 형태로 또는 하나 이상의 산화제가 있는 데서 중 어느 하나로 모발에 적용된다.
본 발명의 방법은, 원하는 색을 발현하기에 충분한 시간 동안, 이전에 정의된 바와 같은 본 발명에 따른 조성물이 단독으로 또는 산화제가 있는 데서 중 어느 하나로 섬유에 적용되는 방법이다. 색은 산성, 중성 또는 알칼리 pH에서 발현될 수도 있고, 산화제는 본 발명의 조성물에 바로 그 사용 시에 첨가될 수도 있거나, 또는 그 산화제는 자신을 포함하고, 본 발명의 조성물과 동시에 또는 본 발명의 조성물에 순차적으로 적용되는 산화 조성물로부터 시작하여 사용될 수 있다.
특정 구현예에 따르면, 조성물은 산화제가 없고, 염색에 적합한 매질 속에, 하나 이상의 산화제를 포함하는 조성물과 바람직하게는 사용 시에 혼합되며, 이들 산화제는 색을 발현하기에 충분하게 존재한다. 획득된 혼합물은 그 다음에 케라틴 섬유에 적용된다. 대략 3 내지 50 분, 바람직하게는 대략 5 내지 30 분의 방치 시간 후, 케라틴 섬유는 헹구어지며, 샴푸로 세척되며, 다시 헹구어진 다음 건조된다.
산화제는 위에서 나타낸 것이다.
산화 조성물은 모발을 염색하기 위한 조성물에서 기존에 사용되고, 위에서 정의한 다양한 보조제를 또한 포함할 수도 있다.
산화제를 포함하는 산화 조성물의 pH는, 염료 조성물과의 혼합 후, 케라틴 섬유에 적용되는 결과적인 조성물의 pH가 바람직하게는 대략 3과 12 사이 그리고 더욱 바람직하게는 5와 11 사이에서 가변하도록 하는 것이다. 그것은 케라틴 섬유의 염색에서 보통 사용되는 그리고 이전에 정의된 바와 같은 산성화 또는 염기성화 작용제에 의하여 원하는 값으로 조정될 수도 있다.
케라틴 섬유에 마지막으로 적용되는 즉시 사용가능(ready-to-use) 조성물은 다양한 형태로, 이를테면 액체, 크림 또는 젤의 형태로 또는 케라틴 섬유, 특히 인간 모발을 염색하기에 적합한 임의의 다른 형태로 있을 수도 있다.
본 발명의 다른 주제는 제 1 구획이 화학식 (I)의 화합물 또는 산을 갖는 이의 부가염으로부터 선택된 하나 이상의 산화 베이스를 포함하는 위에서 정의된 본 발명의 산화제가 없는 염료 조성물을 포함하고 제 2 구획이 하나 이상의 산화제를 포함하는 염색 "키트" 또는 다중-구획 기기이다.
이들 기기에는 본 출원인명의 특허 FR-2 586 913에서 설명된 기기와 같이, 모발 상에 원하는 혼합물을 디스펜싱하는 수단이 갖추어질 수도 있다.
화학식 (I)의 화합물의 제조
화학식 (I)의 화합물의 합성은, 예를 들어, 이후로 설명되는 다음의 절차에 따라 수행될 수도 있다.
하나의 특정 구현예에 따르면, 화학식 (I)의 양이온성 화합물의 합성은 다음의 반응식에 따라 제조된 구조적 배포체(structural distributor) "A"를 사용하여 수행될 수도 있다:
Figure pct00020
이후, 구조적 배포체 "A"는 그 다음에 화학식 (I)의 화합물을 제공하기 위해 아래의 반응식에 따라 사용된다.
Figure pct00021
하나의 특정 구현예에 따르면, L 이 이전에 정의된 바와 같은 기를 나타내는 화학식 (I)의 화합물의 합성이, 다음의 반응식에 따라 수행될 수 있다:
Figure pct00022
p =0인 경우
Figure pct00023
p = 1 또는 2인 경우
Figure pct00024
또는
Figure pct00025
CAT+ 는 이전에 정의된 바와 같은 양이온성 라디칼이며, 전기적 중성은 이전에 정의된 바와 같은 An- 에 의해 보장되며,
PRECAT은 양이온화 후에 CAT+ 라디칼을 생성하는 양이온화성 라디칼이다.
제 1 단계는 기존의 조건 하의, 예를 들어 알코올, 알킬 아세테이트, THF, 디옥산 등의 유형의 극성 용매 내에서, 0 ℃와 100 ℃ 사이의 온도에서의 할로아세틸 할로겐화물 또는 유도체 (A)와의 반응에 의한 7-니트로-1,2,3,4-테트라히드로퀴놀린 (1)의 아실화 반응 또는 알킬화 반응이다. 할로아세틸의 성질에 의존하여, 화합물 (7) 또는 (10)이 획득되며, 화합물 (A)와의 반응은 중간물 (2)를 초래한다.
그 뒤에 사용되는 아민의 성질에 의존하여, 양이온성 질소 화합물 (3), (8) 또는 (8') 중 어느 하나가 직접적으로 생성되거나, 또는 유도체 (4) 또는 (9) 또는 (9')을 생성하기 위해서 아민 또는 아미노알콕시드로 화합물 (2) 또는 (7) 또는 (10)의 이탈기를 치환시키는 것이 필요하다. 화합물 (7), (9) 및 (9')의 카르보닐 관능기는 그 다음에 유도체 (4) 또는 (4')을 제공하기 위해서 기존의 조건 하에서, 예를 들어, 극성 또는 비-극성 용매, 예를 들면 THF에서 BH3로 환원된다.
유도체 (4) 및 (4')은 (6) 또는 (6')를 제공하기 위해서 양이온화되거나 그 유도체의 니트로 관능기는 화합물 (5) 또는 (5')을 제공하기 위해서 환원된다.
본 발명의 화합물은 그 다음에 반응식에서 표시된 바와 같이 환원되거나 또는 양이온화된다.
니트로기의 환원은, 예를 들어, 불균일 촉매 하에 Pd/C, Pd(II)/C, Ni/Ra 등이 있는 데서 수소화 반응을 수행함으로써, 또는 대안적으로 금속과의, 예를 들어 아연, 철, 주석 등과의 환원 반응을 수행함으로써 표준 조건 하에서 수행된다(Advanced Organic Chemistry, 3rd Edition, J. March, 1985, Wiley Interscience 및 Reduction in Organic Chemistry, M. Hudlicky, 1983, Ellis Horwood Series Chemical Science 참조).
양이온화는 양이온성 질소 화합물을 제공하기 위해서, THF, 아세토니트릴, 디옥산 또는 아세트산 에틸과 같은 용매 내에서 15 분 내지 24 시간 동안 15 ℃부터 용매의 환류 온도까지의 범위의 온도에서 알킬 할로겐화물, 메틸 황산염 또는 알킬 탄산염의 적어도 하나의 동등물과의 반응에 의해 수행된다.
다음의 예는 그러나 제한하는 특성 없이 본 발명을 예시하는 역할을 한다.
실시예
Figure pct00026
구조적 배포체 A = 2-(7-니트로-2,3-디히드로-4H-1,4-벤족사진-4-일)에틸 메탄술폰산염의 합성
Figure pct00027
100 ml의 디클로로메탄, 6.7 g (0.030 mol) 의 2-(7-니트로-2,3-디히드로-4H-1,4-벤족사진-4-일)에탄올 및 6.8 g (0.06 mol) 의 염화메실이 온도계, 응축기, 버블러 및 적하 깔때기가 갖추어진, 자성 교반되는, 100 ml 3구 플라스크 내에 연속적으로 배치되었다. 6 g (0.060 mol) 의 트리에틸아민이 이 용액에 적하식으로 첨가된다. 이 맑은 용액이 주변 온도에서 16 시간 동안 교반된다.
유기 상이 물로 세척되고 무수 황산 마그네슘을 통해 건조되며, 그리고 그 용매는 조생성물을 제공하도록 증발되며, 그것은, 아세트산 에틸로부터의 재결정화에 의한 정제 후, 노란색 파우더 형태의 6.8 g (72% 수율)의 예상되는 화합물 A를 제공한다.
NMR (1H 400 MHz 및 13C 100.61 MHz DMSO-d6) 및 질량 분광분석법 분석은 예상되는 구조와 일치한다.
질량 분광분석법 분석은 예상되는 화합물 C11H14N2O6을 확인해 준다. 예상되는 분자의 준-분자 이온 [M+H]+, [M+Na]+, [M-H]-가 주로 검출된다.
실시예 1 : 1-[2-(7-아미노-2,3-디히드로-4H-1,4-벤족사진-4-일)에틸]-3-메틸-1H-이미다졸-3-이움 메탄술폰산염 히드로클로라이드의 합성
Figure pct00028
- 3-메틸-1-[2-(7-니트로-2,3-디히드로-4H-1,4-벤족사진-4-일)에틸]-1H-이미다졸-3-이움 메탄술폰산염의 합성
Figure pct00029
300 ml의 테트라하이드로퓨란, 2 g (0.066 mol) 의 구조적 배포체 "A" 2-(7-니트로-2,3-디히드로-4H-1,4-벤족사진-4-일)에틸 메탄술폰산염과 그 다음의 1.58 ml (0.07 mol) 의 메틸이미다졸이, 온도계, 응축기, 버블러 및 적하 깔때기가 갖추어진, 자성 교반하는 50 ml 3구 플라스크에 적하식으로, 연속적으로 첨가된다. 균질 매질이 30 분 동안 가열된다. 형성된 침전물은 주변 온도까지의 냉각 후에 여과에 의해 분리된다.
형성된 고체는 회수되고 진공 하의 30 ℃에서 흡습제가 있는 데서 건조되어, 노란색 파우더 형태의 2.15 g (84.6% 수율) 의 예상되는 화합물을 제공한다.
NMR 분석 (HMBC 유형의 1D 1H 및 2D 1H/13C NMR 스펙트럼들) 은 예상되는 구조와 일치한다.
- 1-[2-(7-아미노-2,3-디히드로-4H-1,4-벤족사진-4-일)에틸]-3-메틸-1H-이미다졸-3-이움 메탄술폰산염 히드로클로라이드의 합성
Figure pct00030
1000 ml의 무수 에탄올에 있는 5 g (0.0165 mol) 의 3-메틸-1-[2-(7-니트로-2,3-디히드로-4H-1,4-벤족사진-4-일)에틸]-1H-이미다졸-3-이움 메탄술폰산염으로부터 생겨난 용액이, 수소가 존재하는 H-큐브 시스템에서 80 ℃에서 50 bar의 압력 하에 분 당 3 ml의 유속으로 팔라듐 촉매의 카트리지 상에 도입된다.
머신 출구에서, 획득된 용액은 아르곤 하의 75 ml의 6N 염화수소 이소프로판올의 용액에 첨가된다.
형성된 연회색 고체는 여과에 의해 회수되고 진공 하의 30 ℃에서 흡습제가 있는 데서 건조되어, 밝은 회색 파우더 형태의 4.4 g (84.3% 수율) 의 예상되는 화합물이 제공된다.
NMR 분석 (HMBC 유형의 1D 1H 및 2D 1H/13C NMR 스펙트럼) 은 예상되는 구조와 일치한다.
실시예 2: 염료 조성물
다음의 염료 조성물이 제조되었다:
Figure pct00031
(*): 염료 지지물 (1) pH 9.5
Figure pct00032
사용 시, 각각의 조성물은 동일 중량의 20-볼륨 수성 과산화수소 용액(6 중량%)과 혼합된다. 9.5의 최종 pH가 획득된다.
획득된 각각의 혼합물은 90% 백색 모발을 포함하는 회색 모발에 적용된다. 30 분의 방치 시간 후, 머리는 헹구어지며, 표준 샴푸로 씻어지며, 다시 헹구어진 다음 건조되어, 언급된 색조를 제공한다.

Claims (18)

  1. 아래의 화학식 (I)의 화합물, 이의 부가염, 이의 광학 이성질체, 기하 이성질체 및 호변이성질체 및/또는 이의 용매화물:
    Figure pct00033
    (I)
    [화학식 (I) 중,
    ● R 은 수소 원자 또는 C1-C4 알킬 또는 C1-C4 히드록시알킬 라디칼을 나타내며; 바람직하게는, R 은 수소 원자를 나타내며,
    ● R2, R3, R4 및 R5 는 하기를 독립적으로 나타내며:
    - 수소 원자,
    - 히드록실 라디칼로 임의로 치환된, 선형 C1-C4 또는 분지형 C3-C4 알킬 라디칼,
    ● L 은 하나 이상의 비-인접 산소 원자로 또는 하나 이상의 비-인접 라디칼 NR' 로 임의로 간섭된, 하나 이상의 히드록실 라디칼로 임의로 치환된, 선형 또는 분지형, 포화형 C1-C30 탄화수소계 사슬을 나타내며, R' 은 수소 원자 또는 C1-C4 알킬 라디칼을 표시하며,
    ● CAT+ 는 하기로부터 선택된 양이온성 라디칼을 나타내며:
    - 선형 또는 분지형 C1-C4 알킬 라디칼 또는 선형 또는 분지형 C1-C4 히드록시알킬 라디칼로부터 선택된, 동일 또는 상이할 수도 있는, 하나 이상의 라디칼로 임의로 치환된, O, N 및 S로부터 선택된 적어도 하나의 헤테로원자를 함유하는 5 내지 8 개 고리 원을 포함하는 양이온성 헤테로고리 라디칼,
    - 트리(히드록시)(C1-C4)알킬암모늄 라디칼,
    - 하기로부터 선택된 양이온성 라디칼로 치환된, 피롤리딘과 같이, O 및 N으로부터 선택된 헤테로원자를 함유하는 5 또는 6 개 고리 원을 포함하는 비-양이온성 헤테로고리:
    선형 또는 분지형 C1-C4 알킬 라디칼 및 선형 또는 분지형 C1-C4 히드록시알킬 라디칼로부터 선택된 하나 이상의 동일 또는 상이한 라디칼로 임의로 치환된, 이미다졸륨, 피리디늄, 피페라지늄, 피롤리디늄, 모르폴리늄, 피리미디늄, 티아졸륨, 벤지미다졸륨, 벤조티아졸륨, 옥사졸륨, 벤조트리아졸륨, 피라졸륨, 트리아졸륨, 벤족사졸륨 및 피페리디늄, 또는
    트리(히드록시)(C1-C4)알킬암모늄 라디칼,
    An- 은, 유기 또는 무기이고 화장용으로 허용 가능한 음이온 또는 음이온의 혼합물을 나타냄].
  2. 제 1 항에 있어서, L 은, 하나 또는 두 개의 비-인접 산소 원자 또는 비-인접 라디칼 NR'으로 임의로 간섭된, 하나 이상의 히드록실 라디칼로 임의로 치환된, 선형 또는 분지형, 포화형 C1-C20, 바람직하게는 C1-C10 탄화수소계 사슬을 나타내며, R' 은 수소 원자 또는 C1-C4 알킬 라디칼을 표시하는 것을 특징으로 하는 조성물.
  3. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, L 은 하기 기를 나타내는 것을 특징으로 하는 화합물:
    Figure pct00034

    [식 중:
    - B 는, 산소 원자 또는 R' 이 수소 원자 또는 C1-C4 알킬 라디칼을 나타내는 라디칼 NR'을 나타내며,
    - n 은 1과 5 사이의 정수를 나타내며, 바람직하게는 n= 1 또는 2이며,
    - AK 는 하나 이상의 히드록실 라디칼로 임의로 치환된 선형 또는 분지형, 포화형 C1-C10 탄화수소계 사슬을 나타내며,
    - p = 0, 1 또는 2이며, p 가 2 인 경우, 라디칼 B 각각과 AK는 동일하거나 또는 상이하고,
    - 결합 a 는 기 L과 양이온성 라디칼 CAT+를 연결시키고 결합 b 는 기 L과 옥사진 고리의 질소 원자를 연결시킴].
  4. 제 3 항에 있어서, p = 0 또는 1인 것을 특징으로 하는 화합물.
  5. 제 3 항 또는 제 4 항에 있어서, AK 는 하나 이상의 히드록실 라디칼로 임의로 치환된, 선형 또는 분지형, 포화형 C1-C6 탄화수소계 사슬, 바람직하게는 선형, 포화형 C1-C4 탄화수소계 사슬을 나타내는 것을 특징으로 하는 화합물.
  6. 제 1 항 내지 제 5 항 중 한 항에 있어서, R' 은 H 또는 CH3, 바람직하게는 수소 원자를 나타내는 것을 특징으로 하는 화합물.
  7. 제 1 항 내지 제 6 항 중 한 항에 있어서, L 은 선형, 포화형 C1-C6 탄화수소계 사슬을 나타내는 것을 특징으로 하는 화합물.
  8. 제 1 항 내지 제 6 항 중 한 항에 있어서, L 은 산소 원자로 및/또는 -NH 기로 간섭된, 선형 C2-C10 알킬 라디칼을 나타내는 것을 특징으로 하는 화합물.
  9. 제 1 항 내지 제 8 항 중 한 항에 있어서, O, N 및 S로부터 선택된 적어도 하나의 헤테로원자를 함유하는 5 내지 8 개 고리 원을 포함하는 양이온성 헤테로고리 라디칼은, 이미다졸륨, 피리디늄, 피페라지늄, 피롤리디늄, 모르폴리늄, 피리미디늄, 티아졸륨, 벤지미다졸륨, 벤조티아졸륨, 옥사졸륨, 벤조트리아졸륨, 피라졸륨, 트리아졸륨, 벤족사졸륨 및 피페리디늄으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 화합물.
  10. 제 1 항 내지 제 9 항 중 한 항에 있어서, 트리(히드록시)(C1-C4)알킬암모늄 라디칼은 트리메틸암모늄, 트리에틸암모늄, 디메틸에틸암모늄, 디에틸메틸암모늄, 디이소프로필메틸암모늄, 디에틸프로필암모늄, 2-히드록시에틸디에틸암모늄, 디-베타-히드록시에틸메틸암모늄, 트리-베타-히드록시에틸암모늄, 디메틸히드록시에틸암모늄, 2-히드록시에틸디메틸암모늄 및 2-히드록시에틸메틸에틸암모늄으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 화합물.
  11. 제 1 항 내지 제 10 항 중 한 항에 있어서, CAT+ 는, 하기로부터 선택된 양이온성 라디칼을 나타내는 것을 특징으로 하는 화합물:
    - 선형 또는 분지형 C1-C4 알킬 라디칼 및 선형 또는 분지형 C1-C4 히드록시알킬 라디칼로부터 선택된 하나 이상의 동일한 또는 상이한 라디칼로 임의로 치환되는 이미다졸륨, 피페라지늄, 피롤리디늄, 모르폴리늄 및 피페리디늄으로부터 선택된 양이온성 헤테로고리 라디칼,
    - 트리메틸암모늄, 트리에틸암모늄, 디메틸에틸암모늄, 디에틸메틸암모늄, 디이소프로필메틸암모늄, 디에틸프로필암모늄, 2-히드록시에틸디메틸암모늄, 디에틸히드록시에틸암모늄 및 2-히드록시에틸디에틸암모늄으로부터 선택된 트리(히드록시)(C1-C4)알킬암모늄 라디칼,
    - 예를 들어, 트리(히드록시)(C1-C4)알킬암모늄 라디칼, 예를 들면 트리메틸암모늄, 트리에틸암모늄, 디메틸에틸암모늄, 디에틸메틸암모늄, 디이소프로필메틸암모늄, 디에틸프로필암모늄, 2-히드록시에틸디에틸암모늄, 2-히드록시에틸메틸에틸암모늄, 디-베타-히드록시에틸메틸암모늄, 트리-베타-히드록시에틸암모늄, 디메틸히드록시에틸암모늄 또는 2-히드록시에틸디메틸암모늄, 특히 트리메틸암모늄 또는 2-히드록시에틸메틸에틸암모늄으로 치환된, 피롤리딘과 같이, O 및 N으로부터 선택된 헤테로원자를 함유하는 5 또는 6 개 고리 원을 포함하는 비-양이온성 헤테로고리.
  12. 제 1 항 내지 제 11 항 중 한 항에 있어서, CAT+ 는 하기로부터 선택된 양이온성 라디칼을 나타내는 것을 특징으로 하는 화합물:
    - 선형 또는 분지형 C1-C4 알킬 라디칼 및 선형 C1-C4 히드록시알킬 라디칼로부터 선택된 하나 이상의 동일한 또는 상이한 라디칼로 임의로 치환되는 이미다졸륨, 피페라지늄, 피롤리디늄, 모르폴리늄 및 피페리디늄으로부터 선택된 양이온성 헤테로고리 라디칼,
    - 트리메틸암모늄, 트리에틸암모늄, 디메틸에틸암모늄, 디에틸메틸암모늄, 디이소프로필메틸암모늄, 2-히드록시에틸디메틸암모늄, 2-히드록시에틸메틸에틸암모늄, 디-베타-히드록시에틸메틸암모늄, 트리-베타-히드록시에틸암모늄, 디메틸히드록시에틸암모늄, 및 2-히드록시에틸디메틸암모늄, 특히 트리메틸암모늄 및 2-히드록시에틸메틸에틸암모늄으로부터 선택된 라디칼,
    - 트리메틸암모늄 라디칼로 치환된 피롤리딘 라디칼.
  13. 제 1 항 내지 제 12 항 중 한 항에 있어서, R, R2, R3, R4 및 R5 는 수소 원자 또는 선형 C1-C4 또는 분지형 C3-C4 알킬 라디칼을 독립적으로 나타내는 것을 특징으로 하는 화합물.
  14. 제 1 항 내지 제 13 항 중 한 항에 있어서, R, R2, R3, R4 및 R5 는 수소 원자를 나타내는 것을 특징으로 하는 화합물.
  15. 제 1 항 내지 제 14 항 중 한 항에 있어서, 화학식 (I)의 화합물은, 하기의 화합물:
    Figure pct00035

    Figure pct00036

    Figure pct00037

    Figure pct00038

    Figure pct00039

    Figure pct00040

    Figure pct00041

    Figure pct00042

    Figure pct00043

    그리고 또한 이의 부가염, 이의 광학 이성질체, 기하 이성질체 및 호변이성질체 및/또는 이의 용매화물로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 화학식 (I)의 화합물.
  16. 케라틴 섬유, 특히 모발과 같은 인간 케라틴 섬유를 염색하기 위한, 제 1 항 내지 제 15 항 중 한 항에 정의된 바와 같은 화학식 (I)의 화합물로부터 선택된 화합물의 용도.
  17. 케라틴 섬유, 특히 모발을 염색하는 방법으로서, 제 1 항 내지 제 15 항 중 한 항에 따른 화학식 (I)의 화합물을 포함하는 조성물을 상기 섬유에 적용하는 단계를 포함하는, 방법.
  18. 제 1 항 내지 제 15 항 중 한 항에 따른 화학식 (I)의 적어도 하나의 벤족사진계 화합물을 포함하는 조성물, 특히 화장품 조성물.
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