KR20170095343A - 전자 장치에서 사용하기 위한 유기 반도체 물질로서의 6h-피롤로[3,2-b:4,5-b']비스[1,4]벤조티아진-6-카르복실산 에스테르 - Google Patents
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- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims abstract description 50
- 239000000463 material Substances 0.000 title abstract description 47
- 239000002253 acid Substances 0.000 title description 3
- OUNDGARMZDNTFJ-UHFFFAOYSA-N 2h-1,2-benzothiazine-6-carboxylic acid Chemical compound S1NC=CC2=CC(C(=O)O)=CC=C21 OUNDGARMZDNTFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 title 1
- 125000000739 C2-C30 alkenyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 109
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 76
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims abstract description 73
- 125000000081 (C5-C8) cycloalkenyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 68
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 45
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 24
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 claims abstract description 19
- 125000000392 cycloalkenyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 17
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 claims abstract description 4
- 125000001072 heteroaryl group Chemical group 0.000 claims description 93
- 125000006704 (C5-C6) cycloalkyl group Chemical group 0.000 claims description 48
- -1 - cycloalkyl Chemical group 0.000 claims description 42
- 230000005669 field effect Effects 0.000 claims description 41
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims description 41
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 32
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims description 27
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 claims description 27
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 20
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 18
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 15
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 15
- 125000003358 C2-C20 alkenyl group Chemical group 0.000 claims description 14
- 125000006649 (C2-C20) alkynyl group Chemical group 0.000 claims description 13
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 13
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 claims description 7
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000005349 heteroarylcycloalkyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- 239000008186 active pharmaceutical agent Substances 0.000 description 41
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 27
- HBENZIXOGRCSQN-VQWWACLZSA-N (1S,2S,6R,14R,15R,16R)-5-(cyclopropylmethyl)-16-[(2S)-2-hydroxy-3,3-dimethylpentan-2-yl]-15-methoxy-13-oxa-5-azahexacyclo[13.2.2.12,8.01,6.02,14.012,20]icosa-8(20),9,11-trien-11-ol Chemical compound N1([C@@H]2CC=3C4=C(C(=CC=3)O)O[C@H]3[C@@]5(OC)CC[C@@]2([C@@]43CC1)C[C@@H]5[C@](C)(O)C(C)(C)CC)CC1CC1 HBENZIXOGRCSQN-VQWWACLZSA-N 0.000 description 25
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 25
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 16
- 238000000425 proton nuclear magnetic resonance spectrum Methods 0.000 description 14
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 14
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 13
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 12
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 12
- DYHSDKLCOJIUFX-UHFFFAOYSA-N tert-butoxycarbonyl anhydride Chemical compound CC(C)(C)OC(=O)OC(=O)OC(C)(C)C DYHSDKLCOJIUFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 11
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Substances C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- ZNPSUQQXTRRSBM-UHFFFAOYSA-N 4-n-Pentylphenol Chemical compound CCCCCC1=CC=C(O)C=C1 ZNPSUQQXTRRSBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- JNPGUXGVLNJQSQ-BGGMYYEUSA-M (e,3r,5s)-7-[4-(4-fluorophenyl)-1,2-di(propan-2-yl)pyrrol-3-yl]-3,5-dihydroxyhept-6-enoate Chemical compound CC(C)N1C(C(C)C)=C(\C=C\[C@@H](O)C[C@@H](O)CC([O-])=O)C(C=2C=CC(F)=CC=2)=C1 JNPGUXGVLNJQSQ-BGGMYYEUSA-M 0.000 description 6
- 0 C*(C)c1ccc(c(cccc2)c2[s]2)c2c1 Chemical compound C*(C)c1ccc(c(cccc2)c2[s]2)c2c1 0.000 description 6
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000003989 dielectric material Substances 0.000 description 6
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- GVOISEJVFFIGQE-YCZSINBZSA-N n-[(1r,2s,5r)-5-[methyl(propan-2-yl)amino]-2-[(3s)-2-oxo-3-[[6-(trifluoromethyl)quinazolin-4-yl]amino]pyrrolidin-1-yl]cyclohexyl]acetamide Chemical compound CC(=O)N[C@@H]1C[C@H](N(C)C(C)C)CC[C@@H]1N1C(=O)[C@@H](NC=2C3=CC(=CC=C3N=CN=2)C(F)(F)F)CC1 GVOISEJVFFIGQE-YCZSINBZSA-N 0.000 description 6
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-dimethylformamide Substances CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 5
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 5
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 5
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 5
- 150000001282 organosilanes Chemical class 0.000 description 5
- VHYFNPMBLIVWCW-UHFFFAOYSA-N 4-Dimethylaminopyridine Chemical compound CN(C)C1=CC=NC=C1 VHYFNPMBLIVWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- SRVFFFJZQVENJC-IHRRRGAJSA-N aloxistatin Chemical compound CCOC(=O)[C@H]1O[C@@H]1C(=O)N[C@@H](CC(C)C)C(=O)NCCC(C)C SRVFFFJZQVENJC-IHRRRGAJSA-N 0.000 description 4
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 4
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 4
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 4
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 4
- 239000002094 self assembled monolayer Substances 0.000 description 4
- 239000013545 self-assembled monolayer Substances 0.000 description 4
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 4
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 4
- SHAHPWSYJFYMRX-GDLCADMTSA-N (2S)-2-(4-{[(1R,2S)-2-hydroxycyclopentyl]methyl}phenyl)propanoic acid Chemical compound C1=CC([C@@H](C(O)=O)C)=CC=C1C[C@@H]1[C@@H](O)CCC1 SHAHPWSYJFYMRX-GDLCADMTSA-N 0.000 description 3
- AFINAILKDBCXMX-PBHICJAKSA-N (2s,3r)-2-amino-3-hydroxy-n-(4-octylphenyl)butanamide Chemical compound CCCCCCCCC1=CC=C(NC(=O)[C@@H](N)[C@@H](C)O)C=C1 AFINAILKDBCXMX-PBHICJAKSA-N 0.000 description 3
- VIMMECPCYZXUCI-MIMFYIINSA-N (4s,6r)-6-[(1e)-4,4-bis(4-fluorophenyl)-3-(1-methyltetrazol-5-yl)buta-1,3-dienyl]-4-hydroxyoxan-2-one Chemical compound CN1N=NN=C1C(\C=C\[C@@H]1OC(=O)C[C@@H](O)C1)=C(C=1C=CC(F)=CC=1)C1=CC=C(F)C=C1 VIMMECPCYZXUCI-MIMFYIINSA-N 0.000 description 3
- IGVKWAAPMVVTFX-BUHFOSPRSA-N (e)-octadec-5-en-7,9-diynoic acid Chemical compound CCCCCCCCC#CC#C\C=C\CCCC(O)=O IGVKWAAPMVVTFX-BUHFOSPRSA-N 0.000 description 3
- KVBAKSQRUXXHCK-UHFFFAOYSA-N 3,4-Dichloro-5-hydroxy-2H-pyrrol-2-one Chemical compound ClC1=C(Cl)C(=O)NC1=O KVBAKSQRUXXHCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YLEIFZAVNWDOBM-ZTNXSLBXSA-N ac1l9hc7 Chemical compound C([C@H]12)C[C@@H](C([C@@H](O)CC3)(C)C)[C@@]43C[C@@]14CC[C@@]1(C)[C@@]2(C)C[C@@H]2O[C@]3(O)[C@H](O)C(C)(C)O[C@@H]3[C@@H](C)[C@H]12 YLEIFZAVNWDOBM-ZTNXSLBXSA-N 0.000 description 3
- 239000003570 air Substances 0.000 description 3
- 238000000231 atomic layer deposition Methods 0.000 description 3
- 239000002800 charge carrier Substances 0.000 description 3
- 238000013086 organic photovoltaic Methods 0.000 description 3
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 3
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 3
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 3
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 3
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 3
- FANCTJAFZSYTIS-IQUVVAJASA-N (1r,3s,5z)-5-[(2e)-2-[(1r,3as,7ar)-7a-methyl-1-[(2r)-4-(phenylsulfonimidoyl)butan-2-yl]-2,3,3a,5,6,7-hexahydro-1h-inden-4-ylidene]ethylidene]-4-methylidenecyclohexane-1,3-diol Chemical compound C([C@@H](C)[C@@H]1[C@]2(CCCC(/[C@@H]2CC1)=C\C=C\1C([C@@H](O)C[C@H](O)C/1)=C)C)CS(=N)(=O)C1=CC=CC=C1 FANCTJAFZSYTIS-IQUVVAJASA-N 0.000 description 2
- PHDIJLFSKNMCMI-ITGJKDDRSA-N (3R,4S,5R,6R)-6-(hydroxymethyl)-4-(8-quinolin-6-yloxyoctoxy)oxane-2,3,5-triol Chemical compound OC[C@@H]1[C@H]([C@@H]([C@H](C(O1)O)O)OCCCCCCCCOC=1C=C2C=CC=NC2=CC=1)O PHDIJLFSKNMCMI-ITGJKDDRSA-N 0.000 description 2
- VAVHMEQFYYBAPR-ITWZMISCSA-N (e,3r,5s)-7-[4-(4-fluorophenyl)-1-phenyl-2-propan-2-ylpyrrol-3-yl]-3,5-dihydroxyhept-6-enoic acid Chemical compound CC(C)C1=C(\C=C\[C@@H](O)C[C@@H](O)CC(O)=O)C(C=2C=CC(F)=CC=2)=CN1C1=CC=CC=C1 VAVHMEQFYYBAPR-ITWZMISCSA-N 0.000 description 2
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 description 2
- VRVRGVPWCUEOGV-UHFFFAOYSA-N 2-aminothiophenol Chemical compound NC1=CC=CC=C1S VRVRGVPWCUEOGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KJWMCPYEODZESQ-UHFFFAOYSA-N 4-Dodecylphenol Chemical compound CCCCCCCCCCCCC1=CC=C(O)C=C1 KJWMCPYEODZESQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HIHOEGPXVVKJPP-JTQLQIEISA-N 5-fluoro-2-[[(1s)-1-(5-fluoropyridin-2-yl)ethyl]amino]-6-[(5-methyl-1h-pyrazol-3-yl)amino]pyridine-3-carbonitrile Chemical compound N([C@@H](C)C=1N=CC(F)=CC=1)C(C(=CC=1F)C#N)=NC=1NC=1C=C(C)NN=1 HIHOEGPXVVKJPP-JTQLQIEISA-N 0.000 description 2
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 2
- DGJMHKMYSDYOFP-MRXNPFEDSA-N C=CC(N(CCC1)C[C@@H]1N1N=C(C2=CN(CC(C3=CC=CC=C3)(F)F)N=N2)C2=C(N)N=CN=C12)=O Chemical compound C=CC(N(CCC1)C[C@@H]1N1N=C(C2=CN(CC(C3=CC=CC=C3)(F)F)N=N2)C2=C(N)N=CN=C12)=O DGJMHKMYSDYOFP-MRXNPFEDSA-N 0.000 description 2
- SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N Dodecane Natural products CCCCCCCCCCCC SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 2
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 2
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HGDWHTASNMRJMP-UHFFFAOYSA-N [1-(hydroxyamino)-1-oxo-5-(3-phenoxyphenyl)pentan-2-yl]phosphonic acid Chemical compound ONC(=O)C(P(O)(O)=O)CCCC1=CC=CC(OC=2C=CC=CC=2)=C1 HGDWHTASNMRJMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 2
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000012080 ambient air Substances 0.000 description 2
- UMIVXZPTRXBADB-UHFFFAOYSA-N benzocyclobutene Chemical compound C1=CC=C2CCC2=C1 UMIVXZPTRXBADB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940125904 compound 1 Drugs 0.000 description 2
- 229940125782 compound 2 Drugs 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- ZFTFAPZRGNKQPU-UHFFFAOYSA-N dicarbonic acid Chemical compound OC(=O)OC(O)=O ZFTFAPZRGNKQPU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003438 dodecyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- AVAACINZEOAHHE-VFZPANTDSA-N doripenem Chemical compound C=1([C@H](C)[C@@H]2[C@H](C(N2C=1C(O)=O)=O)[C@H](O)C)S[C@@H]1CN[C@H](CNS(N)(=O)=O)C1 AVAACINZEOAHHE-VFZPANTDSA-N 0.000 description 2
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 2
- 238000013213 extrapolation Methods 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- PHWISQNXPLXQRU-UHFFFAOYSA-N n,n-dimethylcarbamothioyl chloride Chemical compound CN(C)C(Cl)=S PHWISQNXPLXQRU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000003013 phosphoric acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 2
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 2
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 2
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 2
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 2
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 2
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- PYJJCSYBSYXGQQ-UHFFFAOYSA-N trichloro(octadecyl)silane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC[Si](Cl)(Cl)Cl PYJJCSYBSYXGQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IMNIMPAHZVJRPE-UHFFFAOYSA-N triethylenediamine Chemical group C1CN2CCN1CC2 IMNIMPAHZVJRPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002948 undecyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 2
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 2
- CVBYFNQCQSAPMH-UHFFFAOYSA-N (1-methylcyclohexyl) (1-methylcyclohexyl)oxycarbonyl carbonate Chemical compound C(=O)(OC1(CCCCC1)C)OC(=O)OC1(CCCCC1)C CVBYFNQCQSAPMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QFLWZFQWSBQYPS-AWRAUJHKSA-N (3S)-3-[[(2S)-2-[[(2S)-2-[5-[(3aS,6aR)-2-oxo-1,3,3a,4,6,6a-hexahydrothieno[3,4-d]imidazol-4-yl]pentanoylamino]-3-methylbutanoyl]amino]-3-(4-hydroxyphenyl)propanoyl]amino]-4-[1-bis(4-chlorophenoxy)phosphorylbutylamino]-4-oxobutanoic acid Chemical compound CCCC(NC(=O)[C@H](CC(O)=O)NC(=O)[C@H](Cc1ccc(O)cc1)NC(=O)[C@@H](NC(=O)CCCCC1SC[C@@H]2NC(=O)N[C@H]12)C(C)C)P(=O)(Oc1ccc(Cl)cc1)Oc1ccc(Cl)cc1 QFLWZFQWSBQYPS-AWRAUJHKSA-N 0.000 description 1
- LKKMOHGEXHXKGT-UHFFFAOYSA-N (4-methyl-1-propan-2-ylcyclohex-3-en-1-yl) (4-methyl-1-propan-2-ylcyclohex-3-en-1-yl)oxycarbonyl carbonate Chemical compound C(=O)(OC1(CC=C(CC1)C)C(C)C)OC(=O)OC1(CC=C(CC1)C)C(C)C LKKMOHGEXHXKGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000069 2-butynyl group Chemical group [H]C([H])([H])C#CC([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001494 2-propynyl group Chemical group [H]C#CC([H])([H])* 0.000 description 1
- UJVBZCCNLAAMOV-UHFFFAOYSA-N 2h-1,2-benzothiazine Chemical class C1=CC=C2C=CNSC2=C1 UJVBZCCNLAAMOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GXYQEINWUZMOTC-UHFFFAOYSA-N 3,7-dimethyloctan-3-yl 3,7-dimethyloctan-3-yloxycarbonyl carbonate Chemical compound C(=O)(OC(CCCC(C)C)(C)CC)OC(=O)OC(CCCC(C)C)(C)CC GXYQEINWUZMOTC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004975 3-butenyl group Chemical group C(CC=C)* 0.000 description 1
- 125000000474 3-butynyl group Chemical group [H]C#CC([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- QRAZRBGYBYIGRL-UHFFFAOYSA-N 4-(4-pentylcyclohexyl)phenol Chemical compound C1CC(CCCCC)CCC1C1=CC=C(O)C=C1 QRAZRBGYBYIGRL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XCSZUNWWLUTCFZ-UHFFFAOYSA-N 4-docosylphenol Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCC1=CC=C(O)C=C1 XCSZUNWWLUTCFZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KNDDEFBFJLKPFE-UHFFFAOYSA-N 4-n-Heptylphenol Chemical compound CCCCCCCC1=CC=C(O)C=C1 KNDDEFBFJLKPFE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PBFGGYXTTPKAHK-UHFFFAOYSA-N 4-tetradecylphenol Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCC1=CC=C(O)C=C1 PBFGGYXTTPKAHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYXACFVIMUBDAD-UHFFFAOYSA-N CC(C)c1cc(c2n[s]nc2c2c3[s]cc2)c3[s]1 Chemical compound CC(C)c1cc(c2n[s]nc2c2c3[s]cc2)c3[s]1 RYXACFVIMUBDAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CKUIKWFICBXNPZ-UHFFFAOYSA-N CC(C)c1cc2c3NC=CNc3c(cc[s]3)c3c2[s]1 Chemical compound CC(C)c1cc2c3NC=CNc3c(cc[s]3)c3c2[s]1 CKUIKWFICBXNPZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PCKSWKKCKVGTBA-UHFFFAOYSA-N CC(C)c1ccc(c(cccc2)c2[o]2)c2c1 Chemical compound CC(C)c1ccc(c(cccc2)c2[o]2)c2c1 PCKSWKKCKVGTBA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MDPNHGRDJBIKAM-UHFFFAOYSA-N CCCCCc(cc1)cc2c1SC1=C3Sc(ccc(CCCCC)c4)c4N=C3N(C(OC(C)(C)C=C)=O)C1=N2 Chemical compound CCCCCc(cc1)cc2c1SC1=C3Sc(ccc(CCCCC)c4)c4N=C3N(C(OC(C)(C)C=C)=O)C1=N2 MDPNHGRDJBIKAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000252506 Characiformes Species 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BZLVMXJERCGZMT-UHFFFAOYSA-N Methyl tert-butyl ether Chemical compound COC(C)(C)C BZLVMXJERCGZMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001665 Poly-4-vinylphenol Polymers 0.000 description 1
- 239000004695 Polyether sulfone Substances 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BEXZJJQVPWJPOA-VOTSOKGWSA-N [(e)-hept-2-enyl] 6-methyl-4-(4-nitrophenyl)-2-oxo-3,4-dihydro-1h-pyrimidine-5-carboxylate Chemical compound CCCC\C=C\COC(=O)C1=C(C)NC(=O)NC1C1=CC=C([N+]([O-])=O)C=C1 BEXZJJQVPWJPOA-VOTSOKGWSA-N 0.000 description 1
- HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N alpha-acetylene Natural products C#C HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 1
- 125000004097 arachidonyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])/C([H])=C([H])\C([H])([H])/C([H])=C([H])\C([H])([H])/C([H])=C([H])\C([H])([H])/C([H])=C([H])\C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001204 arachidyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 1
- OSVHLUXLWQLPIY-KBAYOESNSA-N butyl 2-[(6aR,9R,10aR)-1-hydroxy-9-(hydroxymethyl)-6,6-dimethyl-6a,7,8,9,10,10a-hexahydrobenzo[c]chromen-3-yl]-2-methylpropanoate Chemical compound C(CCC)OC(C(C)(C)C1=CC(=C2[C@H]3[C@H](C(OC2=C1)(C)C)CC[C@H](C3)CO)O)=O OSVHLUXLWQLPIY-KBAYOESNSA-N 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 229940126214 compound 3 Drugs 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000001162 cycloheptenyl group Chemical group C1(=CCCCCC1)* 0.000 description 1
- 125000000582 cycloheptyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000000596 cyclohexenyl group Chemical group C1(=CCCCC1)* 0.000 description 1
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000000522 cyclooctenyl group Chemical group C1(=CCCCCCC1)* 0.000 description 1
- 125000000640 cyclooctyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000002433 cyclopentenyl group Chemical group C1(=CCCC1)* 0.000 description 1
- 125000001511 cyclopentyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 1
- SCIGVHCNNXTQDB-UHFFFAOYSA-N decyl dihydrogen phosphate Chemical group CCCCCCCCCCOP(O)(O)=O SCIGVHCNNXTQDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DZQISOJKASMITI-UHFFFAOYSA-N decyl-dioxido-oxo-$l^{5}-phosphane;hydron Chemical compound CCCCCCCCCCP(O)(O)=O DZQISOJKASMITI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005070 decynyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C#C* 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 239000012973 diazabicyclooctane Substances 0.000 description 1
- 239000003480 eluent Substances 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000002534 ethynyl group Chemical group [H]C#C* 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 1
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 1
- 238000003818 flash chromatography Methods 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 125000006038 hexenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005980 hexynyl group Chemical group 0.000 description 1
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001972 isopentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- JFOZKMSJYSPYLN-QHCPKHFHSA-N lifitegrast Chemical compound CS(=O)(=O)C1=CC=CC(C[C@H](NC(=O)C=2C(=C3CCN(CC3=CC=2Cl)C(=O)C=2C=C3OC=CC3=CC=2)Cl)C(O)=O)=C1 JFOZKMSJYSPYLN-QHCPKHFHSA-N 0.000 description 1
- 125000005644 linolenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005645 linoleyl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000005923 long-lasting effect Effects 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 125000001971 neopentyl group Chemical group [H]C([*])([H])C(C([H])([H])[H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000005187 nonenyl group Chemical group C(=CCCCCCCC)* 0.000 description 1
- 125000005071 nonynyl group Chemical group C(#CCCCCCCC)* 0.000 description 1
- 125000004365 octenyl group Chemical group C(=CCCCCCC)* 0.000 description 1
- 125000005069 octynyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C#C* 0.000 description 1
- 125000001117 oleyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])/C([H])=C([H])\C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000012074 organic phase Substances 0.000 description 1
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 125000005981 pentynyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000009832 plasma treatment Methods 0.000 description 1
- 229920002492 poly(sulfone) Polymers 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920006393 polyether sulfone Polymers 0.000 description 1
- 239000011112 polyethylene naphthalate Substances 0.000 description 1
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- 125000004368 propenyl group Chemical group C(=CC)* 0.000 description 1
- 238000010791 quenching Methods 0.000 description 1
- 230000000171 quenching effect Effects 0.000 description 1
- 238000001953 recrystallisation Methods 0.000 description 1
- 125000002914 sec-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 1
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 1
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000002207 thermal evaporation Methods 0.000 description 1
- RCHUVCPBWWSUMC-UHFFFAOYSA-N trichloro(octyl)silane Chemical group CCCCCCCC[Si](Cl)(Cl)Cl RCHUVCPBWWSUMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002889 tridecyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- 229910021642 ultra pure water Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012498 ultrapure water Substances 0.000 description 1
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
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Abstract
본 발명은 하기 화학식 1의 화합물, 및 반도체 물질로서 상기 화합물을 포함하는 전자 장치를 제공한다.
<화학식 1>
상기 식에서,
X는 O, S 또는 NR10이고,
여기서, R10은 H, C1-30-알킬, 치환된 C1-30-알킬, C2-30-알케닐, 치환된 C2-30-알케닐, C2-30-알키닐, 치환된 C2-30-알키닐 또는 C(O)-OR11이고,
R1 및 R11이 서로 독립적으로 C1-30-알킬, 치환된 C1-30-알킬, C2-30-알케닐, 치환된 C2-30-알케닐, C2-30-알키닐, 치환된 C2-30-알키닐, C5-8-시클로알킬, 치환된 C5-8-시클로알킬, C5-8-시클로알케닐, 및 치환된 C5-8-시클로알케닐로 이루어진 군으로부터 선택된다.
<화학식 1>
상기 식에서,
X는 O, S 또는 NR10이고,
여기서, R10은 H, C1-30-알킬, 치환된 C1-30-알킬, C2-30-알케닐, 치환된 C2-30-알케닐, C2-30-알키닐, 치환된 C2-30-알키닐 또는 C(O)-OR11이고,
R1 및 R11이 서로 독립적으로 C1-30-알킬, 치환된 C1-30-알킬, C2-30-알케닐, 치환된 C2-30-알케닐, C2-30-알키닐, 치환된 C2-30-알키닐, C5-8-시클로알킬, 치환된 C5-8-시클로알킬, C5-8-시클로알케닐, 및 치환된 C5-8-시클로알케닐로 이루어진 군으로부터 선택된다.
Description
유기 반도체 물질은 전자 장치, 예컨대 유기 광전지 소자 (OPV), 유기 전계 효과 트랜지스터 (OFET), 유기 발광 다이오드 (OLED), 및 유기 전기변색 소자 (ECD)에서 사용될 수 있다.
효율적이고 오래 지속되는 성능을 위해, 유기 반도체 물질-기재 장치가 높은 전하 캐리어 이동도뿐 아니라, 특히 공기에 의한 산화에 대해 높은 안정성을 나타내는 것이 바람직하다.
또한, 액체 가공 기술이 가공성의 측면에서 편리하기 때문에, 유기 반도체 물질이 액체 가공 기술, 예컨대 스핀 코팅에 적합하고, 따라서 저비용의 유기 반도체 물질-기재 전자 장치의 생산을 허용하는 것이 바람직하다. 또한, 액체 가공 기술이 플라스틱 기판에도 적합하며, 따라서 경량이고 기계적으로 가요성인 유기 반도체 물질-기재 전자 장치의 생산을 허용한다.
반도체 물질로서 피롤로비스(벤조티아진)의 사용은 관련 기술 분야에 공지되어 있다.
Hong, W.; Wei, Z.; Xu, W.; Wang, Q.; Zho, D. Chinese Journal of Chemistry (2009), 27(4), 846-849에는 유기 전자제품에서 사용하기 위한 공기-안정하고 유망한 n-형 반도체 물질인 하기 화합물이 기재되어 있다.
Hong, W.; Wei, Z.; Xi, H.; Xu, W.; Hu, W.; Wang, Q. Zhu, D. J. Mater. Chem. 2008, 18, 4814-4820에는 하기 화합물, 및 p-형 반도체 화합물로서 이들 화합물을 포함하는 전계 효과 트랜지스터가 기재되어 있다.
반도체 물질로서 화학식 1의 화합물을 포함하는 유기 전계 효과 트랜지스터는 (60℃ 기판 온도에서 진공 증착에 의해 증착시) 0.34 cm2 V-1s-1의 이동도를 나타내지만, 화합물 1은 THF, 고온 DMF 및 DMSO 중에서 단지 약간만 용해성인 것으로 확인되었다. 반도체 물질로서 화학식 2의 화합물을 포함하는 유기 전계 효과 트랜지스터는 (60℃ 기판 온도에서 진공 증착에 의해 증착시) 단지 1.77 x 10-4 cm2 V-1s-1의 이동도를 나타내지만, 화합물 2는 CH2Cl2 중에서 매우 용해성인 것으로 확인되었다. 반도체 물질로서 화학식 3의 화합물을 포함하는 유기 전계 효과 트랜지스터는 (60℃ 기판 온도에서 진공 증착에 의해 증착시) 단지 3.01 x 10-3 cm2 V-1s-1의 이동도를 나타내지만, 화합물 3은 CH2Cl2 중에서 매우 가용성인 것으로 확인되었다.
Wei, Z.; Hong, W.; Geng, H.; Wang, C.; Liu, Y.; Li, R.; Xu, W.; Shuai, Z.; Hu, W.; Wang, Q., Zhu, D. Advanced Materials 22 (22), 2010, 2458 to 2468에도 하기 화합물, 및 p-형 반도체 화합물로서 이들 화합물을 포함하는 전계 효과 트랜지스터가 기재되어 있다.
상기 화합물 1의 단점은 유기 용매 중에서의 낮은 용해도이다. 화합물 2 및 3의 단점은 반도체 물질로서 화합물 2 및 3을 포함하는 유기 전계 효과 트랜지스터가 낮은 이동도를 나타낸다는 것이다.
본 발명의 목적은 유기 용매 중에서 높은 용해도 및 공기에 의한 산화에 대해 높은 안정성을 나타내고, 동시에 유기 전자 장치에서 층으로 도포시 양호한 성능, 예컨대 높은 전하 캐리어 이동도를 나타내는 유기 전자 장치를 생산하는 유기 반도체 물질을 제공하는 것이다.
상기 목적은 청구항 1의 화합물, 청구항 8의 방법, 청구항 9의 전자 장치, 및 청구항 11의 용도에 의해 해결된다.
본 발명의 유기 반도체 물질은 하기 화학식 1의 화합물이다.
<화학식 1>
상기 식에서,
X는 O, S 또는 NR10이고,
여기서, R10은 H, C1-30-알킬, 치환된 C1-30-알킬, C2-30-알케닐, 치환된 C2-30-알케닐, C2-30-알키닐, 치환된 C2-30-알키닐 또는 C(O)-OR11이고,
R1 및 R11은 서로 독립적으로 C1-30-알킬, 치환된 C1-30-알킬, C2-30-알케닐, 치환된 C2-30-알케닐, C2-30-알키닐, 치환된 C2-30-알키닐, C5-8-시클로알킬, 치환된 C5-8-시클로알킬, C5-8-시클로알케닐, 및 치환된 C5-8-시클로알케닐로 이루어진 군으로부터 선택되고,
R2, R3, R4, R5, R6, R7, R8 및 R9는 서로 독립적으로 H, C1-30-알킬, 치환된 C1-30-알킬, C2-30-알케닐, 치환된 C2-30-알케닐, C2-30-알키닐, 치환된 C2-30-알키닐, C5-8-시클로알킬, 치환된 C5-8-시클로알킬, C5-8-시클로알케닐, 치환된 C5-8-시클로알케닐, O-C1-30-알킬, 치환된 O-C1-30-알킬, S-C1-30-알킬, 치환된 S-C1-30-알킬, C6-14-아릴, 치환된 C6-14-아릴, 5 내지 15 원 헤테로아릴, 치환된 5 내지 15 원 헤테로아릴 및 할로겐으로 이루어진 군으로부터 선택되거나; 또는 R2 및 R3, R3 및 R4, R4 및 R5, R6 및 R7, R7 및 R8, 또는 R8 및 R9는 그들이 연결된 C-원자와 함께 6 내지 10 원 방향족 고리계, 치환된 6 내지 10 원 방향족 고리계, 5 내지 12 원 헤테로방향족 고리계 또는 치환된 5 내지 12 원 헤테로방향족 고리계를 형성하고,
여기서, 각각의 경우에 치환된 C1-30-알킬, 치환된 C2-30-알케닐, 치환된 C2-30-알키닐, 치환된 O-C1-30-알킬 및 치환된 S-C1-30-알킬은 각각 C5-6-시클로알킬, C6-10-아릴, 5 내지 12 원 헤테로아릴, ORa, OC(O)-Ra, OC(O)-ORa, OC(O)-NRaRb, C(O)-Ra, C(O)-ORa, C(O)-NRaRb, C(O)-NRa-NRbRc, C(O)-NRa-ORb, C(O)-NRa-C(O)-Rb, C(O)-NRa-C(O)-ORb, C(O)-SRa, NRaRb, NRa-NRbRc, NRa-C(O)Rb, NRa-C(O)-ORb, NRa-C(O)-NRbRc, SRa, S-C(O)-Ra, 할로겐, CN, 및 NO2로 이루어진 군으로부터 독립적으로 선택된 적어도 1개의 치환기로 치환된 C1-30-알킬, C2-30-알케닐, C2-30-알키닐, O-C1-30-알킬, 및 S-C1-30-알킬이고;
각각의 경우에 치환된 C5-8-시클로알킬 및 치환된 C5-8-시클로알케닐은 각각 C1-20-알킬, C2-20-알케닐, C2-20-알키닐, C5-6-시클로알킬, C6-10-아릴, 5 내지 12 원 헤테로아릴, ORa, OC(O)-Ra, OC(O)-ORa, OC(O)-NRaRb, C(O)-Ra, C(O)-ORa, C(O)-NRaRb, C(O)-NRa-NRbRc, C(O)-NRa-ORb, C(O)-NRa-C(O)-Rb, C(O)-NRa-C(O)-ORb, C(O)-SRa, NRaRb, NRa-NRbRc, NRa-C(O)Rb, NRa-C(O)-ORb, NRa-C(O)-NRbRc, SRa, S-C(O)-Ra, 할로겐, CN, 및 NO2로 이루어진 군으로부터 독립적으로 선택된 적어도 1개의 치환기로 치환된 C5-8-시클로알킬 및 C5-8-시클로알케닐이고;
각각의 경우에 치환된 C6-14-아릴, 치환된 5 내지 15 원 헤테로아릴, 치환된 6 내지 10 원 방향족 고리계, 및 치환된 5 내지 12 원 헤테로방향족 고리계는 각각 C1-20-알킬, C2-20-알케닐, C2-20-알키닐, C5-6-시클로알킬, C5-6-시클로알케닐, C6-10-아릴, 5 내지 12 원 헤테로아릴, ORa, OC(O)-Ra, OC(O)-ORa, OC(O)-NRaRb, C(O)-Ra, C(O)-ORa, C(O)-NRaRb, C(O)-NRa-NRbRc, C(O)-NRa-ORb, C(O)-NRa-C(O)-Rb, C(O)-NRa-C(O)-ORb, C(O)-SRa, NRaRb, NRa-NRbRc, NRa-C(O)Rb, NRa-C(O)-ORb, NRa-C(O)-NRbRc, SRa, S-C(O)-Ra, 할로겐, CN, 및 NO2로 이루어진 군으로부터 독립적으로 선택된 적어도 1개의 치환기로 치환된 C6-14-아릴, 5 내지 15 원 헤테로아릴, 6 내지 10 원 방향족 고리계, 및 5 내지 12 원 헤테로방향족 고리계이고,
여기서, C1-30-알킬, 치환된 C1-30-알킬, C2-30-알케닐, 치환된 C2-30-알케닐, C2-30-알키닐, 치환된 C2-30-알키닐, C5-8-시클로알킬, 치환된 C5-8-시클로알킬, C5-8-시클로알케닐, 치환된 C5-8-시클로알케닐, O-C1-30-알킬, 치환된 O-C1-30-알킬, S-C1-30-알킬 및 치환된 S-C1-30-알킬의 적어도 1개의 CH2-기, 그러나 인접하지 않는 CH2-기는 O, S, NR12, CO, O-C(O), C(O)-O, O-C(O)-O, S-C(O), C(O)-S, NR12-C(O), C(O)-NR12, OC(O)-NR12 및 NR12-C(O)-O로 이루어진 군으로부터 선택된 연결기로 대체될 수 있고,
여기서, R12는 H, C1-30-알킬, 치환된 C1-30-알킬, C2-30-알케닐, 치환된 C2-30-알케닐, C2-30-알키닐, 치환된 C2-30-알키닐 또는 C(O)-ORd이고,
Ra, Rb, Rc 및 Rd는 서로 독립적으로 및 각각의 경우에 H, C1-20-알킬, C2-20-알케닐, C2-20-알키닐, C5-6-시클로알킬, C5-6-시클로알케닐, C6-10-아릴, 및 5 내지 12 원 헤테로아릴로 이루어진 군으로부터 선택된다.
C1-20-알킬 및 C1-30-알킬은 분지형 또는 비분지형일 수 있다. C1 -20-알킬의 예는 메틸, 에틸, n-프로필, 이소프로필, n-부틸, sec-부틸, 이소부틸, tert-부틸, n-펜틸, 네오펜틸, 이소펜틸, n-(1-에틸)프로필, n-헥실, n-헵틸, n-옥틸, n-(2-에틸)헥실, n-노닐, n-데실, n-운데실, n-도데실, n-운데실, n-도데실, n-트리데실, n-테트라데실, n-펜타데실, n-헥사데실, n-헵타데실, n-옥타데실, n-노나데실 및 n-아이코실 (C20)이다. C1 -30-알킬의 예는 C1-20-알킬 및 n-도코실 (C22), n-테트라코실 (C24), n-헥사코실 (C26), n-옥타코실 (C28) 및 n-트리아콘틸 (C30)이다.
C2-20-알케닐 및 C2-30-알케닐은 분지형 또는 비분지형일 수 있다. C2 -20-알케닐의 예는 비닐, 프로페닐, 시스-2-부테닐, 트랜스-2-부테닐, 3-부테닐, 시스-2-펜테닐, 트랜스-2-펜테닐, 시스-3-펜테닐, 트랜스-3-펜테닐, 4-펜테닐, 2-메틸-3-부테닐, 헥세닐, 헵테닐, 옥테닐, 노네닐, 도세닐, 리놀레일 (C18), 리놀레닐 (C18), 올레일 (C18), 및 아라키도닐 (C20)이다. C2 -30-알케닐의 예는 C2-20-알케닐 및 에루실 (C22)이다.
C2-20-알키닐 및 C2-30-알키닐은 분지형 또는 비분지형일 수 있다. C2 -20-알키닐 및 C2-30-알키닐의 예는 에티닐, 2-프로피닐, 2-부티닐, 3-부티닐, 펜티닐, 헥시닐, 헵티닐, 옥티닐, 노니닐, 데시닐, 운데시닐, 도데시닐, 운데시닐, 도데시닐, 트리데시닐, 테트라데시닐, 펜타데시닐, 헥사데시닐, 헵타데시닐, 옥타데시닐, 노나데시닐 및 아이코시닐 (C20)이다.
C5-6-시클로알킬의 예는 시클로펜틸 및 시클로헥실이다. C5 -8-시클로알킬의 예는 C5-6-시클로알킬 및 시클로헵틸 및 시클로옥틸이다.
C5-6-시클로알케닐의 예는 시클로펜테닐 및 시클로헥세닐이다. C5 -8-시클로알케닐의 예는 C5-6-시클로알케닐 및 시클로헵테닐 및 시클로옥테닐이다.
C6-10-아릴의 예는
C6-14-아릴의 예는 C6-10-아릴 및
5 내지 9 원 헤테로아릴의 예는
이고, 여기서 R100은 H 또는 C1-20-알킬이다.
5 내지 12 원 헤테로아릴의 예는 5 내지 9 원 헤테로아릴 및
이고, 여기서 R100은 H 또는 C1-20-알킬이다.
5 내지 15 원 헤테로아릴의 예는 5 내지 12 원 헤테로아릴 및
이고, 여기서 R100은 H 또는 C1-20-알킬이다.
할로겐의 예는 F, Cl, Br 및 I이다.
6 원 방향족 고리계는 이고, 여기서 *로 표시한 C-원자는 각각 R2 및 R3, R3 및 R4, R4 및 R5, R6 및 R7, R7 및 R8, 및 R8 및 R가 연결되는 C-원자이다.
6 내지 10 원 방향족 고리계의 예는
이고, 여기서 *로 표시한 C-원자는 각각 R2 및 R3, R3 및 R4, R4 및 R5, R6 및 R7, R7 및 R8, 및 R8 및 R이 연결되는 C-원자이다.
5 내지 9 원 헤테로방향족 고리계의 예는
이고, 여기서 R100은 H 또는 C1-20-알킬이고, *로 표시한 C-원자는 각각 R2 및 R3, R3 및 R4, R4 및 R5, R6 및 R7, R7 및 R8, 및 R8 및 R이 연결되는 C-원자이다.
5 내지 12 원 헤테로방향족 고리계의 예는 5 내지 9 원 헤테로방향족 고리계 및
이고, 여기서 R100은 H 또는 C1-20-알킬이고, *로 표시한 C-원자는 각각 R2 및 R3, R3 및 R4, R4 및 R5, R6 및 R7, R7 및 R8, 및 R8 및 R이 연결되는 C-원자이다.
바람직한 화학식 1의 화합물에서
X는 O, S 또는 NR10이고,
여기서, R10은 H, C1-30-알킬, 치환된 C1-30-알킬, C2-30-알케닐, 치환된 C2-30-알케닐 또는 C(O)-OR11이고,
R1 및 R11은 서로 독립적으로 C1-30-알킬, 치환된 C1-30-알킬, C2-30-알케닐, 치환된 C2-30-알케닐, C5-8-시클로알킬, 치환된 C5-8-시클로알킬, C5-8-시클로알케닐 및 치환된 C5-8-시클로알케닐로 이루어진 군으로부터 선택되고,
R2, R3, R4, R5, R6, R7, R8 및 R9는 서로 독립적으로 H, C1-30-알킬, 치환된 C1-30-알킬, C2-30-알케닐, 치환된 C2-30-알케닐, C5-8-시클로알킬, 치환된 C5-8-시클로알킬, C5-8-시클로알케닐 및 치환된 C5-8-시클로알케닐, O-C1-30-알킬, 치환된 O-C1-30-알킬, S-C1-30-알킬, 치환된 S-C1-30-알킬, C6-14-아릴, 치환된 C6-14-아릴, 5 내지 15 원 헤테로아릴, 치환된 5 내지 15 원 헤테로아릴 및 할로겐으로 이루어진 군으로부터 선택되거나; 또는 R2 및 R3, R3 및 R4, R4 및 R5, R6 및 R7, R7 및 R8, 또는 R8 및 R9는 그들이 연결된 C-원자와 함께 6 내지 10 원 방향족 고리계, 치환된 6 내지 10 원 방향족 고리계, 5 내지 12 원 헤테로방향족 고리계 또는 치환된 5 내지 12 원 헤테로방향족 고리계를 형성하고,
여기서, 각각의 경우에 치환된 C1-30-알킬, 치환된 C2-30-알케닐, 치환된 O-C1-30-알킬 및 치환된 S-C1-30-알킬은 각각 C5-6-시클로알킬, C6-10-아릴, 5 내지 12 원 헤테로아릴, ORa, OC(O)-Ra, OC(O)-ORa, OC(O)-NRaRb, C(O)-Ra, C(O)-ORa, C(O)-NRaRb, C(O)-NRa-NRbRc, C(O)-NRa-ORb, C(O)-NRa-C(O)-Rb, C(O)-NRa-C(O)-ORb, C(O)-SRa, NRaRb, NRa-NRbRc, NRa-C(O)Rb, NRa-C(O)-ORb, NRa-C(O)-NRbRc, SRa, S-C(O)-Ra, 할로겐, CN, 및 NO2로 이루어진 군으로부터 독립적으로 선택된 적어도 1개의 치환기로 치환된 C1-30-알킬, C2-30-알케닐, O-C1-30-알킬, 및 S-C1-30-알킬이고;
각각의 경우에 치환된 C5-8-시클로알킬 및 치환된 C5-8-시클로알케닐은 각각 C1-20-알킬, C5-6-시클로알킬, C6-10-아릴, 5 내지 12 원 헤테로아릴, ORa, OC(O)-Ra, OC(O)-ORa, OC(O)-NRaRb, C(O)-Ra, C(O)-ORa, C(O)-NRaRb, C(O)-NRa-NRbRc, C(O)-NRa-ORb, C(O)-NRa-C(O)-Rb, C(O)-NRa-C(O)-ORb, C(O)-SRa, NRaRb, NRa-NRbRc, NRa-C(O)Rb, NRa-C(O)-ORb, NRa-C(O)-NRbRc, SRa, S-C(O)-Ra, 할로겐, CN, 및 NO2로 이루어진 군으로부터 독립적으로 선택된 적어도 1개의 치환기로 치환된 C5-8-시클로알킬 및 C5-8-시클로알케닐이고;
각각의 경우에 치환된 C6-14-아릴, 치환된 5 내지 15 원 헤테로아릴, 치환된 6 내지 10 원 방향족 고리계 및 치환된 5 내지 12 원 헤테로방향족 고리계는 각각 C1-20-알킬, C5-6-시클로알킬, C6-10-아릴, 5 내지 12 원 헤테로아릴, ORa, OC(O)-Ra, OC(O)-ORa, OC(O)-NRaRb, C(O)-Ra, C(O)-ORa, C(O)-NRaRb, C(O)-NRa-NRbRc, C(O)-NRa-ORb, C(O)-NRa-C(O)-Rb, C(O)-NRa-C(O)-ORb, C(O)-SRa, NRaRb, NRa-NRbRc, NRa-C(O)Rb, NRa-C(O)-ORb, NRa-C(O)-NRbRc, SRa, S-C(O)-Ra, 할로겐, CN, 및 NO2로 이루어진 군으로부터 독립적으로 선택된 적어도 1개의 치환기로 치환된 C6-14-아릴, 5 내지 15 원 헤테로아릴, 6 내지 10 원 방향족 고리계, 및 5 내지 12 원 헤테로방향족 고리계이고,
여기서, C1-30-알킬, 치환된 C1-30-알킬, C2-30-알케닐, 치환된 C2-30-알케닐, C5-8-시클로알킬, 치환된 C5-8-시클로알킬, C5-8-시클로알케닐 및 치환된 C5-8-시클로알케닐, O-C1-30-알킬, 치환된 O-C1-30-알킬, S-C1-30-알킬 및 치환된 S-C1-30-알킬의 적어도 1개의 CH2-기, 그러나 인접하지 않는 CH2-기는 O, S, NR12, CO, O-C(O), C(O)-O, O-C(O)-O, S-C(O), C(O)-S, NR12-C(O), C(O)-NR12, OC(O)-NR12 및 NR12-C(O)-O로 이루어진 군으로부터 선택된 연결기로 대체될 수 있고,
여기서, R12는 H, C1-30-알킬, 치환된 C1-30-알킬, 또는 C(O)-ORd이고,
Ra, Rb, Rc 및 Rd는 서로 독립적으로 및 각각의 경우에 H, C1-20-알킬, C5-6-시클로알킬, C6-10-아릴, 및 5 내지 12 원 헤테로아릴로 이루어진 군으로부터 선택된다.
더욱 바람직한 화학식 1의 화합물에서
X는 O, S 또는 NR10이고,
여기서, R10은 H, C1-30-알킬, 치환된 C1-30-알킬 또는 C(O)-OR11이고,
R1 및 R11은 서로 독립적으로 C1-30-알킬, 치환된 C1-30-알킬, C2-30-알케닐, 치환된 C2-30-알케닐, C5-8-시클로알킬, 치환된 C5-8-시클로알킬, C5-8-시클로알케닐 및 치환된 C5-8-시클로알케닐로 이루어진 군으로부터 선택되고,
R2, R3, R4, R5, R6, R7, R8 및 R9는 서로 독립적으로 H, C1-30-알킬, 치환된 C1-30-알킬, C5-8-시클로알킬, 치환된 C5-8-시클로알킬, C6-14-아릴, 치환된 C6-14-아릴, 5 내지 15 원 헤테로아릴 및 치환된 5 내지 15 원 헤테로아릴로 이루어진 군으로부터 선택되거나; 또는 R2 및 R3, R3 및 R4, R4 및 R5, R6 및 R7, R7 및 R8, 또는 R8 및 R9는 그들이 연결된 C-원자와 함께 6 내지 10 원 방향족 고리계, 치환된 6 내지 10 원 방향족 고리계, 5 내지 12 원 헤테로방향족 고리계 또는 치환된 5 내지 12 원 헤테로방향족 고리계를 형성하고,
여기서, 각각의 경우에 치환된 C1-30-알킬 및 치환된 C2-30-알케닐은 각각 C5-6-시클로알킬, C6-10-아릴, 5 내지 12 원 헤테로아릴, ORa, OC(O)-Ra, OC(O)-ORa, OC(O)-NRaRb, C(O)-Ra, C(O)-ORa, C(O)-NRaRb, C(O)-NRa-NRbRc, C(O)-NRa-ORb, C(O)-NRa-C(O)-Rb, C(O)-NRa-C(O)-ORb, C(O)-SRa, NRaRb, NRa-NRbRc, NRa-C(O)Rb, NRa-C(O)-ORb, NRa-C(O)-NRbRc, SRa, S-C(O)-Ra, 할로겐, CN, 및 NO2로 이루어진 군으로부터 독립적으로 선택된 적어도 1개의 치환기로 치환된 C1-30-알킬 및 C2-30-알케닐이고;
각각의 경우에 치환된 C5-8-시클로알킬 및 치환된 C5-8-시클로알케닐은 각각 C1-20-알킬, C5-6-시클로알킬, C6-10-아릴, 5 내지 12 원 헤테로아릴, ORa, OC(O)-Ra, OC(O)-ORa, OC(O)-NRaRb, C(O)-Ra, C(O)-ORa, C(O)-NRaRb, C(O)-NRa-NRbRc, C(O)-NRa-ORb, C(O)-NRa-C(O)-Rb, C(O)-NRa-C(O)-ORb, C(O)-SRa, NRaRb, NRa-NRbRc, NRa-C(O)Rb, NRa-C(O)-ORb, NRa-C(O)-NRbRc, SRa, S-C(O)-Ra, 할로겐, CN, 및 NO2로 이루어진 군으로부터 독립적으로 선택된 적어도 1개의 치환기로 치환된 C5-8-시클로알킬 및 C5-8-시클로알케닐이고;
각각의 경우에 치환된 C6-14-아릴, 치환된 5 내지 15 원 헤테로아릴, 치환된 6 내지 10 원 방향족 고리계, 및 치환된 5 내지 12 원 헤테로방향족 고리계는 각각 C1-20-알킬, C5-6-시클로알킬, C6-10-아릴, 5 내지 12 원 헤테로아릴, ORa, OC(O)-Ra, OC(O)-ORa, OC(O)-NRaRb, C(O)-Ra, C(O)-ORa, C(O)-NRaRb, C(O)-NRa-NRbRc, C(O)-NRa-ORb, C(O)-NRa-C(O)-Rb, C(O)-NRa-C(O)-ORb, C(O)-SRa, NRaRb, NRa-NRbRc, NRa-C(O)Rb, NRa-C(O)-ORb, NRa-C(O)-NRbRc, SRa, S-C(O)-Ra, 할로겐, CN, 및 NO2로 이루어진 군으로부터 독립적으로 선택된 적어도 1개의 치환기로 치환된 C6-14-아릴, 5 내지 15 원 헤테로아릴, 6 내지 10 원 방향족 고리계, 및 5 내지 12 원 헤테로방향족 고리계이고,
여기서, C1-30-알킬, 치환된 C1-30-알킬, C2-30-알케닐, 치환된 C2-30-알케닐, C5-8-시클로알킬, 치환된 C5-8-시클로알킬 C5-8-시클로알케닐 및 치환된 C5-8-시클로알케닐의 적어도 1개의 CH2-기, 그러나 인접하지 않는 CH2-기는 O, S, NR12, CO, O-C(O), C(O)-O, O-C(O)-O, S-C(O), C(O)-S, NR12-C(O), C(O)-NR12, OC(O)-NR12 및 NR12-C(O)-O로 이루어진 군으로부터 선택된 연결기로 대체될 수 있고,
여기서, R12는 H, C1-30-알킬, 치환된 C1-30-알킬 또는 C(O)-ORd이고,
Ra, Rb, Rc 및 Rd는 서로 독립적으로 및 각각의 경우에 H, C1-20-알킬, C5-6-시클로알킬, C6-10-아릴, 및 5 내지 12 원 헤테로아릴로 이루어진 군으로부터 선택된다.
더욱 더 바람직한 화학식 1의 화합물에서
X는 O, S 또는 NR10이고,
여기서, R10은 H, C1-30-알킬, 치환된 C1-30-알킬 또는 C(O)-OR11이고,
R1 및 R11은 서로 독립적으로 C1-30-알킬, 치환된 C1-30-알킬, C2-30-알케닐, 치환된 C2-30-알케닐, C5-8-시클로알킬, 치환된 C5-8-시클로알킬, C5-8-시클로알케닐 및 치환된 C5-8-시클로알케닐로 이루어진 군으로부터 선택되고,
R2, R3, R4, R5, R6, R7, R8 및 R9는 서로 독립적으로 H, C1-30-알킬, 치환된 C1-30-알킬, C5-8-시클로알킬, 치환된 C5-8-시클로알킬, C6-14-아릴, 치환된 C6-14-아릴, 5 내지 15 원 헤테로아릴 및 치환된 5 내지 15 원 헤테로아릴로 이루어진 군으로부터 선택되거나; 또는 R2 및 R3, R3 및 R4, R4 및 R5, R6 및 R7, R7 및 R8, 또는 R8 및 R9는 그들이 연결된 C-원자와 함께 6 내지 10 원 방향족 고리계, 치환된 6 내지 10 원 방향족 고리계, 5 내지 12 원 헤테로방향족 고리계 또는 치환된 5 내지 12 원 헤테로방향족 고리계를 형성하고,
여기서, 각각의 경우에 치환된 C1-30-알킬 및 치환된 C2-30-알케닐은 각각 C5-6-시클로알킬, C6-10-아릴, 및 5 내지 12 원 헤테로아릴로 이루어진 군으로부터 독립적으로 선택된 적어도 1개의 치환기로 치환된 C1-30-알킬 및 C2-30-알케닐이고,
각각의 경우에 치환된 C5-8-시클로알킬 및 치환된 C5-8-시클로알케닐은 각각 C1-20-알킬, C5-6-시클로알킬, C6-10-아릴, 및 5 내지 12 원 헤테로아릴로 이루어진 군으로부터 독립적으로 선택된 적어도 1개의 치환기로 치환된 C5-8-시클로알킬 및 C5-8-시클로알케닐이고;
각각의 경우에 치환된 C6-14-아릴, 치환된 5 내지 15 원 헤테로아릴, 치환된 6 내지 10 원 방향족 고리계, 및 치환된 5 내지 12 원 헤테로방향족 고리계는 각각 C1-20-알킬, C5-6-시클로알킬, C6-10-아릴, 5 내지 12 원 헤테로아릴로 이루어진 군으로부터 독립적으로 선택된 적어도 1개의 치환기로 치환된 C6-14-아릴, 5 내지 15 원 헤테로아릴, 6 내지 10 원 방향족 고리계, 및 5 내지 12 원 헤테로방향족 고리계이고;
여기서, C1-30-알킬, 치환된 C1-30-알킬, C2-30-알케닐, 치환된 C2-30-알케닐, C5-8-시클로알킬, 치환된 C5-8-시클로알킬, C5-8-시클로알케닐 및 치환된 C5-8-시클로알케닐의 적어도 1개의 CH2-기, 그러나 인접하지 않는 CH2-기는 O, S, 및 NR12로 이루어진 군으로부터 선택된 연결기로 대체될 수 있고,
여기서, R12는 H, C1-30-알킬, 치환된 C1-30-알킬 또는 C(O)-ORd이고,
Rd는 각각의 경우에 H, C1-20-알킬, C2-20-알케닐, C2-20-알키닐, C5-6-시클로알킬, C5-6-시클로알케닐, C6-10-아릴, 및 5 내지 12 원 헤테로아릴로 이루어진 군으로부터 선택된다.
가장 바람직한 화학식 1의 화합물에서
X는 S이고,
R1은 C1-30-알킬, 치환된 C1-30-알킬, C2-30-알케닐, 치환된 C2-30-알케닐, C5-8-시클로알킬, 치환된 C5-8-시클로알킬, C5-8-시클로알케닐 및 치환된 C5-8-시클로알케닐로 이루어진 군으로부터 선택되고,
R2, R3, R4, R5, R6, R7, R8 및 R9는 서로 독립적으로 H, C1-30-알킬, 치환된 C1-30-알킬, C5-8-시클로알킬, 치환된 C5-8-시클로알킬, C6-10-아릴, 치환된 C6-10-아릴, 5 내지 12 원 헤테로아릴, 및 치환된 5 내지 12 원 헤테로아릴로 이루어진 군으로부터 선택되거나; 또는 R2 및 R3, R3 및 R4, R4 및 R5, R6 및 R7, R7 및 R8, 또는 R8 및 R9는 그들이 연결된 C-원자와 함께 6 원 방향족 고리계, 치환된 6 원 방향족 고리계, 5 내지 9 원 헤테로방향족 고리계 또는 치환된 5 내지 9 원 헤테로방향족 고리계를 형성하고,
여기서, 각각의 경우에 치환된 C1-30-알킬 및 치환된 C2-30-알케닐은 각각 C5-6-시클로알킬, 페닐 및 5 내지 9 원 헤테로아릴로 이루어진 군으로부터 독립적으로 선택된 적어도 1개의 치환기로 치환된 C1-30-알킬 및 C2-30-알케닐이고,
각각의 경우에 치환된 C5-8-시클로알킬 및 치환된 C5-8-시클로알케닐은 각각 C1-20-알킬, C5-6-시클로알킬, 페닐 및 5 내지 9 원 헤테로아릴로 이루어진 군으로부터 독립적으로 선택된 적어도 1개의 치환기로 치환된 C5-8-시클로알킬 및 C5-8-시클로알케닐이고,
각각의 경우에 치환된 C6-10-아릴, 치환된 5 내지 12 원 헤테로아릴, 치환된 6 원 방향족 고리계, 및 치환된 5 내지 9 원 헤테로방향족 고리계는 각각 C1-20-알킬, C5-6-시클로알킬, 페닐, 5 내지 9 원 헤테로아릴로 이루어진 군으로부터 독립적으로 선택된 적어도 1개의 치환기로 치환된 C6-10-아릴, 5 내지 12 원 헤테로아릴, 6 원 방향족 고리계, 및 5 내지 9 원 헤테로방향족 고리계이고,
여기서, C1-30-알킬, 치환된 C1-30-알킬, C5-8-시클로알킬 및 치환된 C5-8-시클로알킬의 적어도 1개의 CH2-기, 그러나 인접하지 않는 CH2-기는 연결기 O로 대체될 수 있다.
더 가장 바람직한 화학식 1의 화합물에서
X는 S이고,
R1은 C1-30-알킬, 치환된 C1-30-알킬, C2-30-알케닐, 치환된 C2-30-알케닐, C5-8-시클로알킬, 치환된 C5-8-시클로알킬, C5-8-시클로알케닐 및 치환된 C5-8-시클로알케닐로 이루어진 군으로부터 선택되고,
R2, R3, R4, R5, R6, R7, R8 및 R9는 서로 독립적으로 H, C1-30-알킬, 치환된 C1-30-알킬, C5-8-시클로알킬, 및 치환된 C5-8-시클로알킬로 이루어진 군으로부터 선택되고,
여기서, 각각의 경우에 치환된 C1-30-알킬 및 치환된 C2-30-알케닐은 각각 C5-6-시클로알킬, 페닐 및 5 내지 9 원 헤테로아릴로 이루어진 군으로부터 독립적으로 선택된 적어도 1개의 치환기로 치환된 C1-30-알킬 및 C2-30-알케닐이고,
각각의 경우에 치환된 C5-8-시클로알킬 및 치환된 C5-8-시클로알케닐은 각각 C1-20-알킬, C5-6-시클로알킬, 페닐 및 5 내지 9 원 헤테로아릴로 이루어진 군으로부터 독립적으로 선택된 적어도 1개의 치환기로 치환된 C5-8-시클로알킬 및 C5-8-시클로알케닐이다.
특히 바람직한 화학식 1의 화합물에서
X는 S이고,
R1은 C1-30-알킬, 치환된 C1-30-알킬, C2-30-알케닐, 치환된 C2-30-알케닐, C5-8-시클로알킬, 치환된 C5-8-시클로알킬, C5-8-시클로알케닐 및 치환된 C5-8-시클로알케닐로 이루어진 군으로부터 선택되고,
R2, R4, R5, R6, R7 및 R9는 H이고,
R3 및 R8은 서로 독립적으로 H, C1-30-알킬, 치환된 C1-30-알킬, C5-8-시클로알킬 및 치환된 C5-8-시클로알킬로 이루어진 군으로부터 선택되고,
여기서, 각각의 경우에 치환된 C1-30-알킬 및 치환된 C2-30-알케닐은 각각 C5-6-시클로알킬 및 페닐로 이루어진 군으로부터 독립적으로 선택된 적어도 1개의 치환기로 치환된 C1-30-알킬 및 C2-30-알케닐이고,
각각의 경우에 치환된 C5-8-시클로알킬 및 치환된 C5-8-시클로알케닐은 각각 C1-20-알킬, C5-6-시클로알킬 및 페닐로 이루어진 군으로부터 독립적으로 선택된 적어도 1개의 치환기로 치환된 C5-8-시클로알킬 및 C5-8-시클로알케닐이다.
하기 화학식 2의 화합물을
<화학식 2>
(상기 식에서, X, R2, R3, R4, R5, R6, R7, R8 및 R9는 화학식 1의 화합물에 대해 나타낸 것과 같은 의미를 가짐)
R1O-C(O)-LG (여기서, R1은 화학식 1의 화합물에 대해 나타낸 것과 같은 의미를 갖고, LG는 이탈기임)로 처리하여
화학식 1의 화합물을 수득하는 단계를 포함하는, 하기 화학식 1의 화합물의 제조 방법 또한 본 발명의 일부이다.
<화학식 1>
상기 식에서
X는 O, S 또는 NR10이고,
여기서, R10은 H, C1-30-알킬, 치환된 C1-30-알킬, C2-30-알케닐, 치환된 C2-30-알케닐, C2-30-알키닐, 치환된 C2-30-알키닐 또는 C(O)-OR11이고,
R1 및 R11은 서로 독립적으로 C1-30-알킬, 치환된 C1-30-알킬, C2-30-알케닐, 치환된 C2-30-알케닐, C2-30-알키닐, 치환된 C2-30-알키닐, C5-8-시클로알킬, 치환된 C5-8-시클로알킬, C5-8-시클로알케닐, 및 치환된 C5-8-시클로알케닐로 이루어진 군으로부터 선택되고,
R2, R3, R4, R5, R6, R7, R8 및 R9는 서로 독립적으로 H, C1-30-알킬, 치환된 C1-30-알킬, C2-30-알케닐, 치환된 C2-30-알케닐, C2-30-알키닐, 치환된 C2-30-알키닐, C5-8-시클로알킬, 치환된 C5-8-시클로알킬, C5-8-시클로알케닐, 치환된 C5-8-시클로알케닐, O-C1-30-알킬, 치환된 O-C1-30-알킬, S-C1-30-알킬, 치환된 S-C1-30-알킬, C6-14-아릴, 치환된 C6-14-아릴, 5 내지 15 원 헤테로아릴, 치환된 5 내지 15 원 헤테로아릴 및 할로겐으로 이루어진 군으로부터 선택되거나; 또는 R2 및 R3, R3 및 R4, R4 및 R5, R6 및 R7, R7 및 R8, 또는 R8 및 R9는 그들이 연결된 C-원자와 함께 6 내지 10 원 방향족 고리계, 치환된 6 내지 10 원 방향족 고리계, 5 내지 12 원 헤테로방향족 고리계 또는 치환된 5 내지 12 원 헤테로방향족 고리계를 형성하고,
여기서, 각각의 경우에 치환된 C1-30-알킬, 치환된 C2-30-알케닐, 치환된 C2-30-알키닐, 치환된 O-C1-30-알킬 및 치환된 S-C1-30-알킬은 각각 C5-6-시클로알킬, C6-10-아릴, 5 내지 12 원 헤테로아릴, ORa, OC(O)-Ra, OC(O)-ORa, OC(O)-NRaRb, C(O)-Ra, C(O)-ORa, C(O)-NRaRb, C(O)-NRa-NRbRc, C(O)-NRa-ORb, C(O)-NRa-C(O)-Rb, C(O)-NRa-C(O)-ORb, C(O)-SRa, NRaRb, NRa-NRbRc, NRa-C(O)Rb, NRa-C(O)-ORb, NRa-C(O)-NRbRc, SRa, S-C(O)-Ra, 할로겐, CN, 및 NO2로 이루어진 군으로부터 독립적으로 선택된 적어도 1개의 치환기로 치환된 C1-30-알킬, C2-30-알케닐, C2-30-알키닐, O-C1-30-알킬, 및 S-C1-30-알킬이고;
각각의 경우에 치환된 C5-8-시클로알킬 및 치환된 C5-8-시클로알케닐은 각각 C1-20-알킬, C2-20-알케닐, C2-20-알키닐, C5-6-시클로알킬, C6-10-아릴, 5 내지 12 원 헤테로아릴, ORa, OC(O)-Ra, OC(O)-ORa, OC(O)-NRaRb, C(O)-Ra, C(O)-ORa, C(O)-NRaRb, C(O)-NRa-NRbRc, C(O)-NRa-ORb, C(O)-NRa-C(O)-Rb, C(O)-NRa-C(O)-ORb, C(O)-SRa, NRaRb, NRa-NRbRc, NRa-C(O)Rb, NRa-C(O)-ORb, NRa-C(O)-NRbRc, SRa, S-C(O)-Ra, 할로겐, CN, 및 NO2로 이루어진 군으로부터 독립적으로 선택된 적어도 1개의 치환기로 치환된 C5-8-시클로알킬 및 C5-8-시클로알케닐이고;
각각의 경우에 치환된 C6-14-아릴, 치환된 5 내지 15 원 헤테로아릴, 치환된 6 내지 10 원 방향족 고리계, 및 치환된 5 내지 12 원 헤테로방향족 고리계는 각각 C1-20-알킬, C2-20-알케닐, C2-20-알키닐, C5-6-시클로알킬, C5-6-시클로알케닐, C6-10-아릴, 5 내지 12 원 헤테로아릴, ORa, OC(O)-Ra, OC(O)-ORa, OC(O)-NRaRb, C(O)-Ra, C(O)-ORa, C(O)-NRaRb, C(O)-NRa-NRbRc, C(O)-NRa-ORb, C(O)-NRa-C(O)-Rb, C(O)-NRa-C(O)-ORb, C(O)-SRa, NRaRb, NRa-NRbRc, NRa-C(O)Rb, NRa-C(O)-ORb, NRa-C(O)-NRbRc, SRa, S-C(O)-Ra, 할로겐, CN, 및 NO2로 이루어진 군으로부터 독립적으로 선택된 적어도 1개의 치환기로 치환된 C6-14-아릴, 5 내지 15 원 헤테로아릴, 6 내지 10 원 방향족 고리계, 및 5 내지 12 원 헤테로방향족 고리계이고,
여기서, C1-30-알킬, 치환된 C1-30-알킬, C2-30-알케닐, 치환된 C2-30-알케닐, C2-30-알키닐, 치환된 C2-30-알키닐, C5-8-시클로알킬, 치환된 C5-8-시클로알킬, C5-8-시클로알케닐, 치환된 C5-8-시클로알케닐, O-C1-30-알킬, 치환된 O-C1-30-알킬, S-C1-30-알킬 및 치환된 S-C1-30-알킬의 적어도 1개의 CH2-기, 그러나 인접하지 않는 CH2-기는 O, S, NR12, CO, O-C(O), C(O)-O, O-C(O)-O, S-C(O), C(O)-S, NR12-C(O), C(O)-NR12, OC(O)-NR12 및 NR12-C(O)-O로 이루어진 군으로부터 선택된 연결기로 대체될 수 있고,
여기서, R12는 H, C1-30-알킬, 치환된 C1-30-알킬, C2-30-알케닐, 치환된 C2-30-알케닐, C2-30-알키닐, 치환된 C2-30-알키닐 또는 C(O)-ORd이고,
Ra, Rb, Rc 및 Rd는 서로 독립적으로 및 각각의 경우에 H, C1-20-알킬, C2-20-알케닐, C2-20-알키닐, C5-6-시클로알킬, C5-6-시클로알케닐, C6-10-아릴, 및 5 내지 12 원 헤테로아릴로 이루어진 군으로부터 선택된다.
상기 반응은 보통 주위 온도에서 수행된다. 상기 반응은 보통 적합한 유기 용매, 예컨대 THF 중에서 수행된다.
R2, R3, R4, R5, R6, R7, R8 및 R9가 모두 H이고, X가 S인 경우, 화학식 2의 화합물은 하기 화학식 2a를 가지며,
<화학식 2a>
이는 o-아미노티오페놀을 디클로로말레이미드로 처리함으로써 제조될 수 있다. 상기 반응은 보통 상승된 온도에서, 예컨대 80 내지 150℃ 범위의 온도에서 아세트산의 존재하에 수행된다.
X가 S인 경우, 화학식 2의 화합물은 하기 화학식 2-I을 가지며,
<화학식 2-I>
(상기 식에서, R2, R3, R4, R5, R6, R7, R8 및 R9는 화학식 2의 화합물에 대해 나타낸 것과 같은 의미를 가짐)
이는 하기 화학식 3의 화합물을 디클로로말레이미드로 처리함으로써 제조될 수 있다.
<화학식 3>
(상기 식에서, R2, R3, R4, R5, R6, R7, R8 및 R9는 화학식 2의 화합물에 대해 나타낸 것과 같은 의미를 가짐)
상기 반응은 보통 상승된 온도에서, 예컨대 80 내지 180℃ 범위의 온도에서 아세트산의 존재하에 수행된다.
R9 = R2, R8 = R3, R7 = R4 및 R6 = R5인 경우, 화학식 3의 화합물은 하기 화학식 3-I을 가지며,
<화학식 3-I>
(상기 식에서, R2, R3, R4 및 R5는 화학식 2의 화합물에 대해 나타낸 것과 같은 의미를 가짐)
이는 하기 화학식 4의 화합물을 아연으로 처리함으로써 제조될 수 있다.
<화학식 4>
(상기 식에서, R2, R3, R4 및 R5는 화학식 2의 화합물에 대해 나타낸 것과 같은 의미를 가짐)
상기 반응은 보통 상승된 온도에서, 예컨대 40 내지 80℃ 범위의 온도에서 산, 예컨대 HCl 또는 아세트산의 존재하에 수행된다.
하기 화학식 4의 화합물은 하기 화학식 5의 화합물을 가열함으로써 제조될 수 있다.
<화학식 4>
(상기 식에서, R2, R3, R4 및 R5는 화학식 2의 화합물에 대해 나타낸 것과 같은 의미를 가짐)
<화학식 5>
(상기 식에서, R2, R3, R4 및 R5는 화학식 2의 화합물에 대해 나타낸 것과 같은 의미를 가짐)
상기 반응은 보통 상승된 온도에서, 예컨대 160 내지 260℃ 범위의 온도에서 수행된다.
하기 화학식 5의 화합물은 하기 화학식 6의 화합물을 N,N-디메틸티오카르바모일 클로라이드로 처리함으로써 제조될 수 있다.
<화학식 5>
(상기 식에서, R2, R3, R4 및 R5는 화학식 2의 화합물에 대해 나타낸 것과 같은 의미를 가짐)
<화학식 6>
상기 반응은 보통 염기의 존재하에 수행된다. 염기의 예는 1,4-디아자비시클로[2.2.2]옥탄 (DABCO)이다. 상기 반응은 보통 상승된 온도에서, 예컨대 50 내지 120℃ 범위의 온도에서 수행된다. 상기 반응은 보통 적합한 유기 용매, 예컨대 DMF 중에서 수행된다.
하기 화학식 6의 화합물은 하기 화학식 7의 화합물을 질산으로 처리함으로써 제조될 수 있다.
<화학식 6>
<화학식 7>
(상기 식에서, R2, R3, R4 및 R5는 화학식 2의 화합물에 대해 나타낸 것과 같은 의미를 가짐)
상기 반응은 보통 10 내지 20℃ 범위의 온도에서 수행된다. 상기 반응은 보통 산, 예컨대 아세트산의 존재하에 수행된다.
본 발명의 화합물을 포함하는 전자 장치 또한 본 발명의 일부이다.
전자 장치는 유기 광전지 소자 (OPV), 유기 전계 효과 트랜지스터 (OFET), 유기 발광 다이오드 (OLED) 또는 유기 포토다이오드 (OPD)일 수 있다.
바람직하게는, 전자 장치는 유기 광전지 소자 (OPV), 유기 전계 효과 트랜지스터 (OFET) 또는 유기 포토다이오드 (OPD)이다.
더욱 바람직하게는, 전자 장치는 유기 전계 효과 트랜지스터 (OFET)이다.
보통, 유기 전계 효과 트랜지스터는 유전체 층, 반도체 층 및 기판을 포함한다. 또한, 유기 전계 효과 트랜지스터는 보통 게이트 전극 및 소스/드레인 전극을 포함한다.
바람직하게는, 반도체 층은 본 발명의 화합물을 포함한다. 반도체 층은 5 내지 500 nm, 바람직하게는 10 내지 100 nm, 더욱 바람직하게는 20 내지 50 nm의 두께를 가질 수 있다.
유전체 층은 유전 물질을 포함한다. 유전 물질은 이산화규소 또는 산화알루미늄, 또는 유기 중합체, 예컨대 폴리스티렌 (PS), 폴리(메틸메타크릴레이트) (PMMA), 폴리(4-비닐페놀) (PVP), 폴리(비닐 알콜) (PVA), 벤조시클로부텐 (BCB), 또는 폴리이미드 (PI)일 수 있다. 유전체 층은 10 내지 2000 nm, 바람직하게는 50 내지 1000 nm, 더욱 바람직하게는 100 내지 800 nm의 두께를 가질 수 있다.
유전체 층은 유전 물질 외에도 유기 실란 유도체 또는 유기 인산 유도체의 자기-조립 단층을 포함한다. 유기 실란 유도체의 예는 옥틸트리클로로실란이다. 유기 인산 유도체의 예는 데실인산이다. 유전체 층을 구성하는 자기-조립 단층은 보통 반도체 층과 접촉하고 있다.
소스/드레인 전극은 임의의 적합한 유기 또는 무기 소스/드레인 물질로 재조될 수 있다. 무기 소스/드레인 물질의 예는 금 (Au), 은 (Ag) 또는 구리 (Cu), 뿐만 아니라 이들 물질 중 적어도 1종을 포함하는 합금이다. 소스/드레인 전극은 1 내지 100 nm, 바람직하게는 20 내지 70 nm의 두께를 가질 수 있다.
게이트 전극은 임의의 적합한 게이트 물질, 예컨대 고도로 도핑된 규소, 알루미늄 (Al), 텅스텐 (W), 인듐 주석 산화물 또는 금 (Au), 또는 이들 물질 중 적어도 1종을 포함하는 합금으로 제조될 수 있다. 게이트 전극은 1 내지 200 nm, 바람직하게는 5 내지 100 nm의 두께를 갖는다.
기판은 임의의 적합한 기판, 예컨대 유리, 또는 플라스틱 기판, 예컨대 폴리에테르술폰, 폴리카르보네이트, 폴리술폰, 폴리에틸렌 테레프탈레이트 (PET) 및 폴리에틸렌 나프탈레이트 (PEN)일 수 있다. 유기 전계 효과 트랜지스터의 설계에 따라, 게이트 전극, 예를 들어 고도로 도핑된 규소 또한 기판으로서 기능할 수 있다.
유기 전계 효과 트랜지스터는 관련 기술 분야에 공지된 방법에 의해 제조될 수 있다.
예를 들어, 하부-게이트 상부-접촉 유기 전계 효과 트랜지스터는 다음과 같이 제조될 수 있다: 유전 물질, 예를 들어 Al2O3 또는 이산화규소를 적합한 증착 방법, 예컨대 원자 층 증착 (ALD) 또는 열 증발에 의해 기판으로도 기능하는 게이트 전극, 예컨대 고도로 도핑된 규소 웨이퍼 상에 층으로 도포할 수 있다. 유기 인산 유도체 또는 유기 실란 유도체의 자기-조립 단층을 유전 물질의 층에 도포할 수 있다. 예를 들어, 유기 인산 유도체 또는 유기 실란 유도체를 용액으로부터 용액-증착 기술을 이용하여 도포할 수 있다. 반도체 층은 유기 인산 유도체 또는 유기 실란 유도체의 자기-조립 단층 상에 본 발명의 화합물을 진공하에 용액 증착 또는 열 증발시킴으로써 형성할 수 있다. 소스/드레인 전극은 섀도우 마스크를 통해 반도체 층 상에 적합한 소스/드레인 물질, 예를 들어 탄탈륨 (Ta) 및/또는 금 (Au)을 증착시킴으로써 형성할 수 있다. 채널 폭 (W)은 전형적으로 500 ㎛이고, 채널 길이 (L)는 전형적으로 100 ㎛이다.
예를 들어, 상부-게이트 하부-접촉 유기 전계 효과 트랜지스터는 다음과 같이 제조될 수 있다: 소스/드레인 전극은 적합한 기판, 예를 들어 유리 기판 상의 포토-리쏘그래피 한정된 전극 상에서 적합한 소스/드레인 물질, 예를 들어 금 (Au)을 증발시킴으로써 형성할 수 있다. 반도체 층은 예를 들어 스핀-코팅에 의해 본 발명의 화합물의 용액을 소스/드레인 전극 상에 증착시킨 후, 상승된 온도에서, 예컨대 80 내지 360℃ 범위의 온도에서 상기 층을 어닐링시킴으로써 형성할 수 있다. 유전체 층은, 반도체 층을 켄칭시킨 후, 예를 들어 스핀-코팅에 의해 적합한 유전 물질, 예컨대 폴리(메틸메타크릴레이트)의 용액을 반도체 층 상에 도포함으로써 형성할 수 있다. 적합한 소스/드레인 물질, 예를 들어 금 (Au)의 게이트 전극은 섀도우 마스크를 통해 유전체 층 상에서 증발시킬 수 있다.
반도체 물질로서의 본 발명의 화합물의 용도 또한 본 발명의 일부이다.
본 발명의 화합물은 유기 용매, 예컨대 톨루엔, DMF, THF, 클로로벤젠 및 CHCl3 중에서 높은 용해도를 나타내고, 따라서 액체 가공 기술에 적합하다. 동시에, 본 발명의 화합물은 유기 전자 장치에서 층으로 도포될 때, 양호한 성능, 예컨대 바람직하게는 5.0 x 10-3 cm2 V-1s-1 초과의 높은 전하 캐리어 이동도를 나타내는 유기 전자 장치를 생산한다.
또한, 본 발명의 화합물은 공기에 의한 산화에 대해 높은 안정성도 나타낸다.
도 1은 -11 V, -10 V, -9 V 및 -8 V의 게이트 전압 VGS에서 반도체 물질로서 화합물 1a를 포함하는 실시예 14의 전계 효과 트랜지스터에서 드레인-소스 전압 VDS에 대한 드레인-소스 전류 Ids (출력 곡선)를 도시한다.
도 2는 -5 V의 드레인-소스 전압 VDS에서 반도체 물질로서 화합물 1a를 포함하는 실시예 14의 전계 효과 트랜지스터에서 게이트-소스 전압 VGS에 대한 드레인-소스 전류 IDS (전달 곡선)를 도시한다.
도 3은 -11 V, -10 V, -9 V 및 -7 V의 게이트 전압 VGS에서 반도체 물질로서 화합물 1b를 포함하는 실시예 14의 전계 효과 트랜지스터에서 드레인-소스 전압 VDS에 대한 드레인-소스 전류 Ids (출력 곡선)를 도시한다.
도 4는 -5 V의 드레인-소스 전압 VDS에서 반도체 물질로서 화합물 1b를 포함하는 실시예 14의 전계 효과 트랜지스터에서 게이트-소스 전압 VGS에 대한 드레인-소스 전류 IDS (전달 곡선)를 도시한다.
도 5는 -10 V, -8 V 및 -6 V의 게이트 전압 VGS에서 반도체 물질로서 화합물 1e를 포함하는 실시예 14의 전계 효과 트랜지스터에서 드레인-소스 전압 VDS에 대한 드레인-소스 전류 Ids (출력 곡선)를 도시한다.
도 6은 -5 V의 드레인-소스 전압 VDS에서 반도체 물질로서 화합물 1e를 포함하는 실시예 14의 전계 효과 트랜지스터에서 게이트-소스 전압 VGS에 대한 드레인-소스 전류 IDS (전달 곡선)를 도시한다.
도 7은 -10 V, -9 V 및 -8 V의 게이트 전압 VGS에서 반도체 물질로서 화합물 1g를 포함하는 실시예 14의 전계 효과 트랜지스터에서 드레인-소스 전압 VDS에 대한 드레인-소스 전류 Ids (출력 곡선)를 도시한다.
도 8은 -5 V의 드레인-소스 전압 VDS에서 반도체 물질로서 화합물 1g를 포함하는 실시예 14의 전계 효과 트랜지스터에서 게이트-소스 전압 VGS에 대한 드레인-소스 전류 IDS (전달 곡선)를 도시한다.
도 9는 -80 V, -60 V, -40 V, -20 V 및 0 V의 게이트 전압 VGS에서 반도체 물질로서 화합물 1b를 포함하는 실시예 16의 전계 효과 트랜지스터에서 드레인-소스 전압 VDS에 대한 드레인-소스 전류 IDS (출력 곡선)를 도시한다.
도 10은 -80 V의 드레인-소스 전압 VDS에서 반도체 물질로서 화합물 1b를 포함하는 실시예 16의 전계 효과 트랜지스터에서 게이트-소스 전압 VGS에 대한 드레인-소스 전류 IDS (전달 곡선)를 도시한다.
실시예
실시예 1
화합물 1a의 제조
화합물
2a
의 제조
0.83 g (5 mmol)의 디클로로말레이미드 및 1.25 g (10 mmol)의 o-아미노티오페놀을 30 ml의 아세트산에 첨가하고, 120℃에서 6 시간 동안 N2 하에 교반하였다. 실온으로 냉각시킨 후, 침전물을 여과에 의해 단리하고, 메탄올 및 THF로 세척하였다. 화합물 2a (1.26 g)를 추가로 정제하지 않고 다음 단계에서 사용하였다.
화합물
1a
의 제조
215 mg (0.7 mmol)의 화합물 2a, 13 mg (0.1 mmol)의 4-디메틸아미노피리딘, 및 458 mg (2.1 mmol)의 디-tert-부틸 디카르보네이트를 10 ml의 THF에 첨가하고, 실온에서 밤새 N2 하에 교반하였다. 침전물을 여과에 의해 단리하고, tert-부틸메틸에테르로 세척하여, 232 mg (0.57 mmol; 81 %)의 화합물 1a를 오렌지색 고체로서 수득하였다. 1H-NMR 스펙트럼 (CDCl3). δ [ppm] 1.72 (s, 9H), 7.15 (t, 2H), 7.21-7.28 (m, 4H), 7.50 (d, 2H).
실시예 2
화합물 1b의 제조
화합물
6a
의 제조
10-15℃ 범위의 온도를 유지하면서 70 ml의 아세트산 중 9.85 g (60 mmol)의 4-펜틸페놀의 용액에 20 ml의 아세트산에 용해된 7.6 g의 질산을 적가하였다. 반응 혼합물을 실온에서 4 시간 동안 교반한 다음, 물에 붓고, 에틸 아세테이트로 추출하였다. 유기 상을 NaHCO3aq 및 물로 세척하고, MgSO4 상에서 건조하고, 농축시켰다. 화합물 6a를 추가로 정제하지 않고 다음 단계에서 사용하였다.
화합물
5a
의 제조
50 ml의 DMF 중 10.5 g (50 mmol)의 화합물 6a, 15.1 g (135 mmol)의 DABCO의 용액에 7.73 g (63 mmol)의 N,N-디메틸티오카르바모일 클로라이드를 일부씩 나누어 첨가하였다. 반응 혼합물을 70℃에서 3 시간 동안 교반한 다음, 물에 붓고, 6N HCl로 산성화시켰다. 화합물 5a를 에틸 아세테이트로 추출하고, 물로 세척하고, MgSO4 상에서 건조시키고, 농축시켰다. 잔류물을 용리액으로서 헥산 및 CH2Cl2 (1:1)를 사용하여 실리카 겔 상에서 플래쉬 크로마토그래피에 의해 정제하여, 13.0 g (44 mmol; 88 %)의 화합물 5a를 갈색 액체로서 수득하였다. 1H-NMR (CDCl3). δ [ppm]: 0.90 (t, 3H), 1.25-1.38 (m, 4H), 1.62-1.70 (m, 2H), 2.69 (t, 2H), 3.39 (s, 3H), 3.46 (s, 3H), 7.15 (d, 1H), 7.46 (d, 1H), 7.92 (s, 1H).
화합물
4a
의 제조
12.7 g (43 mmol)의 화합물 5a를 반응 용기에 넣고, 교반하면서 210℃에서 N2 하에 3 시간 동안 가열하였다. 실온으로 냉각시킨 후, 80 ml의 THF를 첨가하였다. 상기 용액에 빙조에 의해 냉각하면서 20 ml의 메탄올에 용해된 5.31 g (95 mmol)의 수산화칼륨을 적가하였다. 반응 혼합물을 실온에서 30 분 동안 교반하고, 얼음에 붓고, 진한 HCl로 산성화시켰다. 화합물 4a를 에틸 아세테이트로 추출하고, 물로 세척하고, MgSO4 상에서 건조하고, 농축시켰다. 1H-NMR 스펙트럼 (CDCl3). δ [ppm]: 0.89 (t, 3H), 1.25-1.37 (m, 4H), 1.55-1.65 (m, 2H), 2.63 (t, 2H), 3.96 (s, 1H), 7.25 (d, 1H), 7.33 (d, 1H), 8.06 (s, 1H).
화합물
3a
의 제조
9 ml의 진한 HCl 및 170 ml의 아세트산 중 5.15 g (23 mmol)의 화합물 4a의 용액에 60℃에서 18.0 g (275 mmol)의 아연을 일부씩 나누어 첨가하였다. 반응 혼합물을 60℃에서 밤새 교반하였다. 실온으로 냉각시킨 후, 불용성 고체를 여과에 의해 제거하였다. 여과액을 회전식 증발기에 의해 농축시키고, 물을 잔류물에 첨가하여, 침전물을 수득하였다. 침전물을 여과에 의해 단리하고, 에탄올로 세척하였다. 화합물 3b를 5.16 g (11 mmol; 99 %)의 수율로 백색 고체로서 수득하였다. 1H-NMR 스펙트럼 (DMSO-d6). δ [ppm]: 0.83 (t, 6H), 1.18-1.32 (m, 8H), 1.42-1.53 (m, 4H), 2.39 (t, 4H), 5.72 (br s, 4H), 6.63 (d, 2H), 6.83 (s, 2H), 7.18 (d, 2H).
화합물
2b
의 제조
300 ml의 아세트산에 7.26 g (16 mmol)의 화합물 3a 및 2.66 g (16 mmol)의 3,4-디클로로말레이미드를 첨가하고, 140℃에서 밤새 교반하였다. 회전식 증발기에 의해 용매를 제거한 후, 잔류물을 물에 현탁시켰다. 고체를 여과에 의해 단리하고, 메탄올로 세척하였다. 화합물 2b를 오렌지색 고체로서 수득하였다. 화합물 2b를 추가로 정제하지 않고 다음 단계에서 사용하였다.
화합물
1b
의 제조
30 ml의 THF에 1.34 g (3 mmol)의 화합물 2b, 55 mg (0.45 mmol)의 4-디메틸아미노피리딘, 및 1.96 g (9 mmol)의 디-tert-부틸 디카르보네이트를 첨가하고, 실온에서 밤새 N2 하에 교반하였다. 생성물을 CH2Cl2로 추출하고, 물로 세척하고, MgSO4 상에서 건조하고, 농축시켰다. 잔류물을 에틸 아세테이트 및 헥산 (1:1) 용액으로부터 재결정화에 의해 정제하여, 1.06 g (1.9 mmol; 65 %)의 화합물 1b를 오렌지색 고체로서 수득하였다. 1H-NMR (CDCl3). δ [ppm]: 0.89 (t, 6H), 1.28-1.39 (m, 8H), 1.57-1.68 (m, 4H), 1.72 (s, 9H), 2.59 (t, 4H), 6.98 (d, 2H), 7.12 (d, 2H), 7.33 (s, 2H).
실시예 3
화합물 1c의 제조
화합물 1c는 4-펜틸페놀 대신에 4-헵틸-페놀로부터 출발하여 실시예 2의 화합물 1b와 유사하게 제조하여, 오렌지색 고체로서 수득하였다. 1H-NMR 스펙트럼 (CDCl3) δ [ppm]: 0.88 (t, 6H), 1.20-1.38 (m, 16H), 1.55-1.63 (m, 4H), 1.71 (s, 9H), 2.59 (t, 4H), 6.98 (d, 2H), 7.12 (d, 2H), 7.33 (s, 2H).
실시예 4
화합물 1d의 제조
화합물 1d는 4-펜틸페놀 대신에 4-도데실-페놀로부터 출발하여 실시예 2의 화합물 1b와 유사하게 제조하여, 오렌지색 고체로서 수득하였다. 1H-NMR 스펙트럼 (CDCl3) d [ppm]: 0.88 (t, 6H), 1.21-1.36 (m, 36H), 1.53-1.63 (m, 4H), 1.72 (s, 9H), 2.58 (t, 4H), 6.98 (d, 2H), 7.11 (d, 2H), 7.32 (s, 2H).
실시예 5
화합물 1e의 제조
화합물 1e는 4-펜틸페놀 대신에 4-테트라데실-페놀로부터 출발하여 실시예 2의 화합물 1b와 유사하게 제조하여, 오렌지색 고체로서 수득하였다. 1H-NMR 스펙트럼 (CDCl3) d [ppm]: 0.87 (t, 6H), 1.20-1.33 (m, 44H), 1.60-1.70 (m, 4H), 1.72 (s, 9H), 2.59 (t, 4H), 6.98 (d, 2H), 7.12 (d, 2H), 7.33 (s, 2H).
실시예 6
화합물 1f의 제조
화합물 1f는 4-펜틸페놀 대신에 4-도코실-페놀로부터 출발하여 실시예 2의 화합물 1b와 유사하게 제조하여, 오렌지색 고체로서 수득하였다. 1H-NMR 스펙트럼 (CDCl3) d [ppm]: 0.86 (t, 6H), 1.20-1.35 (m, 76H), 1.56-1.63 (m, 4H), 1.72 (s, 9H), 2.58 (t, 4H), 6.98 (d, 2H), 7.12 (d, 2H), 7.32 (s, 2H).
실시예 7
화합물 1g의 제조
화합물 1g는 4-펜틸페놀 대신에 4-[4-펜틸-시클로헥실)-페놀로부터 출발하여 실시예 2의 화합물 1b와 유사하게 제조하여, 오렌지색 고체로서 수득하였다. 1H-NMR 스펙트럼 (CDCl3) d [ppm]: 0.89 (t, 6H), 0.98-1.10 (m, 4H), 1.18-1.38 (m, 18H), 1.38-1.52 (m, 4H), 1.72 (s, 9H), 1.83-1.92 (m, 8H), 2.40-2.49 (m, 2H), 7.02 (d, 2H), 7.12 (d, 2H), 7.35 (s, 2H).
실시예 8
화합물 1h의 제조
화합물 1h는 4-펜틸페놀 대신에 4-도데실-페놀로부터 출발하여 실시예 2의 화합물 1b와 유사하게 제조하여, 오렌지색 고체로서 수득하였다. 1H-NMR 스펙트럼 (CDCl3) d [ppm]: 0.85 (t, 3H), 1.21-1.37 (m, 18H), 1.60-1.68 (m, 11H), 2.67 (t, 2H), 7.22 (d, 1H), 7.29 (d, 1H), 7.36-7.48 (m, 5H), 7.61-7.67 (m, 3H), 7.75 (s, 1H).
실시예 9
화합물 1i의 제조
화합물 1i는 디-tert-부틸 디카르보네이트 대신에 디-(2-메틸-sec-부틸) 디카르보네이트를 사용하여 실시예 2의 화합물 1b와 유사하게 제조하여, 오렌지색 고체로서 수득하였다. 1H-NMR 스펙트럼 (CDCl3) d [ppm]: 0.89 (t, 6H), 1.12 (t, 3H), 1.25-1.38 (m, 8H), 1.55-1.64 (m, 4H), 1.70 (s, 6H), 1.99 (q, 2H), 2.59 (t, 4H), 6.98 (d, 2H), 7.11 (d, 2H), 7.33 (s, 2H).
실시예 10
화합물 1j의 제조
화합물 1j는 디-tert-부틸 디카르보네이트 대신에 디-(1-메틸-시클로헥실) 디카르보네이트를 사용하여 실시예 2의 화합물 1b와 유사하게 제조하여, 오렌지색 고체로서 수득하였다. 1H-NMR 스펙트럼 (CDCl3) d [ppm]: 0.80-0.95 (m, 6H), 1.10-1.65 (m, 21H), 1.95-2.08 (m, 2H), 2.40-2.49 (m, 2H), 2.58 (t, 4H), 6.98 (d, 2H), 7.12 (d, 2H), 7.34 (s, 2H).
실시예 11
화합물 1k의 제조
화합물 1k는 디-tert-부틸 디카르보네이트 대신에 디-(1-에틸-1,5-디메틸-헥실) 디카르보네이트를 사용하여 실시예 2의 화합물 1b와 유사하게 제조하여, 오렌지색 고체로서 수득하였다. 1H-NMR 스펙트럼 (CDCl3) d [ppm]: 0.86-0.91 (m, 12H), 1.07 (t, 3H), 1.20-1.37 (m, 12H), 1.47-1.67 (m, 8H), 1.85-2.13 (m, 4H), 2.58 (t, 4H), 6.97 (d, 2H), 7.11 (d, 2H), 7.32 (s, 2H).
실시예 12
화합물 1l의 제조
화합물 1l은 디-tert-부틸 디카르보네이트 대신에 디-(1-이소프로필-4-메틸-시클로헥스-3-엔-1-일) 디카르보네이트를 사용하여 실시예 2의 화합물 1b와 유사하게 제조하여, 오렌지색 고체로서 수득하였다. 1H-NMR 스펙트럼 (CDCl3) d [ppm]: 0.80-1.72 (m, 27H), 1.75-1.87 (m, 1H), 1.92-2.03 (m, 1H), 2.27-2.45 (m, 2H), 2.58 (t, 4H), 2.65-2.79 (m, 1H), 2.92-3.02 (m, 1H), 5.32 (s, 1H), 6.97 (d, 2H), 7.12 (d, 2H), 7.29 (s, 2H).
실시예 13
화합물 1m의 제조
화합물 1m은 디-tert-부틸 디카르보네이트 대신에 디-(1,1-디메틸알릴) 디카르보네이트를 사용하여 실시예 2의 화합물 1b와 유사하게 제조하여, 오렌지색 고체로서 수득하였다. 1H-NMR 스펙트럼 (CDCl3) d [ppm]: 0.82-0.95 (m, 6H), 1.20-1.40 (m, 12H), 1.52-1.67 (m, 4H), 1.79 (s, 6H), 2.59 (t, 4H), 5.23 (d, 1H), 5.51 (d, 1H), 6.28 (dd, 1H), 6.98 (d, 2H), 7.11 (d, 2H), 7.33 (s, 2H).
실시예 14
반도체 물질로서 화합물 1a, 1b, 1e 및 1g를 각각 포함하는 전계 효과 트랜지스터의 제조
30 nm ALD Al2O3으로 코팅된 고도로 도핑된 규소 웨이퍼를 아세톤 및 이소프로판올로 철저히 세척하고, 짧은 산소 플라즈마 처리 후에, 이소프로판올 중 데실-포스폰산의 용액으로 처리하였다. 화합물 1a, 1b, 1e 및 1g를 각각 고진공 (<10-5 mbar)에서 열 증발시켰다. 소스 및 드레인 전극을 위해 50 nm-두께의 Au 층을 섀도우 마스크를 통해 증착시켜, 상부 접촉 OFET 장치를 수득하였다. 채널 폭 (W)은 500 ㎛이고, 채널 길이 (L)는 100 ㎛이었다.
모든 전기 측정은 B1500 애질런트(Agilent) 파라미터 분석기를 이용하여 주위 공기에서 어둡게 하여 수행하였다.
도 1에는 -11 V, -10 V, -9 V 및 -8 V의 게이트 전압 VGS에서 반도체 물질로서 화합물 1a를 포함하는 실시예 14의 전계 효과 트랜지스터에서 드레인-소스 전압 VDS에 대한 드레인-소스 전류 Ids (출력 곡선)가 도시된다.
도 2에는 -5 V의 드레인-소스 전압 VDS에서 반도체 물질로서 화합물 1a를 포함하는 실시예 14의 전계 효과 트랜지스터에서 게이트-소스 전압 VGS에 대한 드레인-소스 전류 IDS (전달 곡선)가 도시된다.
도 3에는 -11 V, -10 V, -9 V 및 -7 V의 게이트 전압 VGS에서 반도체 물질로서 화합물 1b를 포함하는 실시예 14의 전계 효과 트랜지스터에서 드레인-소스 전압 VDS에 대한 드레인-소스 전류 Ids (출력 곡선)가 도시된다.
도 4에는 -5 V의 드레인-소스 전압 VDS에서 반도체 물질로서 화합물 1b를 포함하는 실시예 14의 전계 효과 트랜지스터에서 게이트-소스 전압 VGS에 대한 드레인-소스 전류 IDS (전달 곡선)가 도시된다.
도 5에는 -10 V, -8 V 및 -6 V의 게이트 전압 VGS에서 반도체 물질로서 화합물 1e를 포함하는 실시예 14의 전계 효과 트랜지스터에서 드레인-소스 전압 VDS에 대한 드레인-소스 전류 Ids (출력 곡선)가 도시된다.
도 6에는 -5 V의 드레인-소스 전압 VDS에서 반도체 물질로서 화합물 1e를 포함하는 실시예 14의 전계 효과 트랜지스터에서 게이트-소스 전압 VGS에 대한 드레인-소스 전류 IDS (전달 곡선)가 도시된다.
도 7에는 -10 V, -9 V 및 -8 V의 게이트 전압 VGS에서 반도체 물질로서 화합물 1g를 포함하는 실시예 14의 전계 효과 트랜지스터에서 드레인-소스 전압 VDS에 대한 드레인-소스 전류 Ids (출력 곡선)가 도시된다.
도 8에는 -5 V의 드레인-소스 전압 VDS에서 반도체 물질로서 화합물 1g를 포함하는 실시예 14의 전계 효과 트랜지스터에서 게이트-소스 전압 VGS에 대한 드레인-소스 전류 IDS (전달 곡선)가 도시된다.
1a, 1b, 1e 및 1g를 각각 포함하는 전계 효과 트랜지스터는 전형적인 p-형 특징을 나타내었다.
전하-캐리어 이동도 (μ)는 식 μ = 2L/(W*Ci)*(dIDS 1 /2/dVGS)2 (여기서, L은 채널 길이이고, W는 채널 폭이고, Ci는 유전체 층의 단위 면적당 정전용량이고, IDS는 드레인-소스 전류이고, VGS는 게이트-소스 전압임)를 사용하여 포화 영역에서 (IDS)1/2 대 VGS의 기울기로부터 구하였다.
임계 전압 (Vth)은 IDS 1 /2 대 VGS 플롯의 선형 외삽과 VGS 축의 교차점으로부터 구하였다.
결과는 표 1에 나타내었다.
<표 1>
실시예 15
25℃에서 화합물 1a, 1b, 1c 및 1d의 용해도를 하기 화학식 2a의 화합물의 용해도와 비교하였다.
결과는 표 2에 나타내었다.
<표 2>
실시예 16
반도체 물질로서 화합물 1b를 포함하는 전계 효과 트랜지스터의 제조
SiO2/Si 기판을 피라나 용액, 초순수에 이어, 이소프로판올로 철저히 세척하고, 상기 기판을 용액으로부터의 옥타데실트리클로로실란 (OTS)으로 관능화시켰다. OTS-처리된 SiO2/Si 기판 상에 4000 rpm에서 30 초 동안 CHCl3 중 화합물 1b의 5 mg/ml 용액을 스핀 코팅함으로써 화합물 1b의 박막을 형성하고, 핫플레이트 상에서 200℃에서 10 분 동안 어닐링하였다. 유기 박막의 상부에 섀도우 마스크를 통해 소스 및 드레인 전극으로서 Au 층을 증착시켜, 상부 접촉 OFET 장치를 수득하였다. 채널 폭 (W)은 3 mm이고, 채널 길이 (L)는 50 ㎛이었다.
모든 전기 측정은 카이틀리(Keithley) 4200 파라미터 분석기를 사용하여 주위 공기에서 어둡게 하여 수행하였다.
도 9에는 -80 V, -60 V, -40 V, -20 V 및 0 V의 게이트 전압 VGS에서 반도체 물질로서 화합물 1b를 포함하는 실시예 16의 전계 효과 트랜지스터에서 드레인-소스 전압 VDS에 대한 드레인-소스 전류 IDS (출력 곡선)가 도시된다.
도 10에는 -80 V의 드레인-소스 전압 VDS에서 반도체 물질로서 화합물 1b를 포함하는 실시예 16의 전계 효과 트랜지스터에서 게이트-소스 전압 VGS에 대한 드레인-소스 전류 IDS (전달 곡선)가 도시된다.
1b를 포함하는 전계 효과 트랜지스터는 전형적인 p-형 특징을 나타내었다.
전달 곡선을 기록하기 위해, 드레인-소스 전압 (VDS)은 -80 V로 유지하였다. 전하-캐리어 이동도 (μ)는 식 μ = 2L/(W*Ci)*(dIDS 1 /2/dVGS)2 (여기서, L은 채널 길이이고, W는 채널 폭이고, Ci는 유전체 층의 단위 면적당 정전용량이고, IDS는 드레인-소스 전류이고, VGS는 게이트-소스 전압임)를 사용하여 포화 영역에서 (IDS)1/2 대 VGS의 기울기로부터 구하였다.
임계 전압 (Vth)은 IDS 1 /2 대 VGS 플롯의 선형 외삽과 VGS 축의 교차점으로부터 구하였다.
결과는 표 3에 나타내었다.
<표 3>
Claims (11)
- 하기 화학식 1의 화합물.
<화학식 1>
상기 식에서,
X는 O, S 또는 NR10이고,
여기서, R10은 H, C1-30-알킬, 치환된 C1-30-알킬, C2-30-알케닐, 치환된 C2-30-알케닐, C2-30-알키닐, 치환된 C2-30-알키닐 또는 C(O)-OR11이고,
R1 및 R11은 서로 독립적으로 C1-30-알킬, 치환된 C1-30-알킬, C2-30-알케닐, 치환된 C2-30-알케닐, C2-30-알키닐, 치환된 C2-30-알키닐, C5-8-시클로알킬, 치환된 C5-8-시클로알킬, C5-8-시클로알케닐, 및 치환된 C5-8-시클로알케닐로 이루어진 군으로부터 선택되고,
R2, R3, R4, R5, R6, R7, R8 및 R9는 서로 독립적으로 H, C1-30-알킬, 치환된 C1-30-알킬, C2-30-알케닐, 치환된 C2-30-알케닐, C2-30-알키닐, 치환된 C2-30-알키닐, C5-8-시클로알킬, 치환된 C5-8-시클로알킬, C5-8-시클로알케닐, 치환된 C5-8-시클로알케닐, O-C1-30-알킬, 치환된 O-C1-30-알킬, S-C1-30-알킬, 치환된 S-C1-30-알킬, C6-14-아릴, 치환된 C6-14-아릴, 5 내지 15 원 헤테로아릴, 치환된 5 내지 15 원 헤테로아릴 및 할로겐으로 이루어진 군으로부터 선택되거나; 또는 R2 및 R3, R3 및 R4, R4 및 R5, R6 및 R7, R7 및 R8, 또는 R8 및 R9는 그들이 연결된 C-원자와 함께 6 내지 10 원 방향족 고리계, 치환된 6 내지 10 원 방향족 고리계, 5 내지 12 원 헤테로방향족 고리계 또는 치환된 5 내지 12 원 헤테로방향족 고리계를 형성하고,
여기서, 각각의 경우에 치환된 C1-30-알킬, 치환된 C2-30-알케닐, 치환된 C2-30-알키닐, 치환된 O-C1-30-알킬, 및 치환된 S-C1-30-알킬은 각각 C5-6-시클로알킬, C6-10-아릴, 5 내지 12 원 헤테로아릴, ORa, OC(O)-Ra, OC(O)-ORa, OC(O)-NRaRb, C(O)-Ra, C(O)-ORa, C(O)-NRaRb, C(O)-NRa-NRbRc, C(O)-NRa-ORb, C(O)-NRa-C(O)-Rb, C(O)-NRa-C(O)-ORb, C(O)-SRa, NRaRb, NRa-NRbRc, NRa-C(O)Rb, NRa-C(O)-ORb, NRa-C(O)-NRbRc, SRa, S-C(O)-Ra, 할로겐, CN, 및 NO2로 이루어진 군으로부터 독립적으로 선택된 적어도 1개의 치환기로 치환된 C1-30-알킬, C2-30-알케닐, C2-30-알키닐, O-C1-30-알킬, 및 S-C1-30-알킬이고;
각각의 경우에 치환된 C5-8-시클로알킬 및 치환된 C5-8-시클로알케닐은 각각 C1-20-알킬, C2-20-알케닐, C2-20-알키닐, C5-6-시클로알킬, C6-10-아릴, 5 내지 12 원 헤테로아릴, ORa, OC(O)-Ra, OC(O)-ORa, OC(O)-NRaRb, C(O)-Ra, C(O)-ORa, C(O)-NRaRb, C(O)-NRa-NRbRc, C(O)-NRa-ORb, C(O)-NRa-C(O)-Rb, C(O)-NRa-C(O)-ORb, C(O)-SRa, NRaRb, NRa-NRbRc, NRa-C(O)Rb, NRa-C(O)-ORb, NRa-C(O)-NRbRc, SRa, S-C(O)-Ra, 할로겐, CN, 및 NO2로 이루어진 군으로부터 독립적으로 선택된 적어도 1개의 치환기로 치환된 C5-8-시클로알킬 및 C5-8-시클로알케닐이고;
각각의 경우에 치환된 C6-14-아릴, 치환된 5 내지 15 원 헤테로아릴, 치환된 6 내지 10 원 방향족 고리계, 및 치환된 5 내지 12 원 헤테로방향족 고리계는 각각 C1-20-알킬, C2-20-알케닐, C2-20-알키닐, C5-6-시클로알킬, C5-6-시클로알케닐, C6-10-아릴, 5 내지 12 원 헤테로아릴, ORa, OC(O)-Ra, OC(O)-ORa, OC(O)-NRaRb, C(O)-Ra, C(O)-ORa, C(O)-NRaRb, C(O)-NRa-NRbRc, C(O)-NRa-ORb, C(O)-NRa-C(O)-Rb, C(O)-NRa-C(O)-ORb, C(O)-SRa, NRaRb, NRa-NRbRc, NRa-C(O)Rb, NRa-C(O)-ORb, NRa-C(O)-NRbRc, SRa, S-C(O)-Ra, 할로겐, CN, 및 NO2로 이루어진 군으로부터 독립적으로 선택된 적어도 1개의 치환기로 치환된 C6-14-아릴, 5 내지 15 원 헤테로아릴, 6 내지 10 원 방향족 고리계, 및 5 내지 12 원 헤테로방향족 고리계이고,
여기서, C1-30-알킬, 치환된 C1-30-알킬, C2-30-알케닐, 치환된 C2-30-알케닐, C2-30-알키닐, 치환된 C2-30-알키닐, C5-8-시클로알킬, 치환된 C5-8-시클로알킬, C5-8-시클로알케닐, 치환된 C5-8-시클로알케닐, O-C1-30-알킬, 치환된 O-C1-30-알킬, S-C1-30-알킬 및 치환된 S-C1-30-알킬의 적어도 1개의 CH2-기, 그러나 인접하지 않는 CH2-기는 O, S, NR12, CO, O-C(O), C(O)-O, O-C(O)-O, S-C(O), C(O)-S, NR12-C(O), C(O)-NR12, OC(O)-NR12 및 NR12-C(O)-O로 이루어진 군으로부터 선택된 연결기로 대체될 수 있고,
여기서, R12는 H, C1-30-알킬, 치환된 C1-30-알킬, C2-30-알케닐, 치환된 C2-30-알케닐, C2-30-알키닐, 치환된 C2-30-알키닐 또는 C(O)-ORd이고,
Ra, Rb, Rc 및 Rd는 서로 독립적으로 및 각각의 경우에 H, C1-20-알킬, C2-20-알케닐, C2-20-알키닐, C5-6-시클로알킬, C5-6-시클로알케닐, C6-10-아릴, 및 5 내지 12 원 헤테로아릴로 이루어진 군으로부터 선택된다. - 제1항에 있어서,
X가 O, S 또는 NR10이고,
여기서, R10이 H, C1-30-알킬, 치환된 C1-30-알킬, C2-30-알케닐, 치환된 C2-30-알케닐 또는 C(O)-OR11이고,
R1 및 R11이 서로 독립적으로 C1-30-알킬, 치환된 C1-30-알킬, C2-30-알케닐, 치환된 C2-30-알케닐, C5-8-시클로알킬, 치환된 C5-8-시클로알킬, C5-8-시클로알케닐 및 치환된 C5-8-시클로알케닐로 이루어진 군으로부터 선택되고,
R2, R3, R4, R5, R6, R7, R8 및 R9가 서로 독립적으로 H, C1-30-알킬, 치환된 C1-30-알킬, C2-30-알케닐, 치환된 C2-30-알케닐, C5-8-시클로알킬, 치환된 C5-8-시클로알킬, C5-8-시클로알케닐 및 치환된 C5-8-시클로알케닐, O-C1-30-알킬, 치환된 O-C1-30-알킬, S-C1-30-알킬, 치환된 S-C1-30-알킬, C6-14-아릴, 치환된 C6-14-아릴, 5 내지 15 원 헤테로아릴, 치환된 5 내지 15 원 헤테로아릴 및 할로겐으로 이루어진 군으로부터 선택되거나; 또는 R2 및 R3, R3 및 R4, R4 및 R5, R6 및 R7, R7 및 R8, 또는 R8 및 R9가 그들이 연결된 C-원자와 함께 6 내지 10 원 방향족 고리계, 치환된 6 내지 10 원 방향족 고리계, 5 내지 12 원 헤테로방향족 고리계 또는 치환된 5 내지 12 원 헤테로방향족 고리계를 형성하고,
여기서, 각각의 경우에 치환된 C1-30-알킬, 치환된 C2-30-알케닐, 치환된 O-C1-30-알킬, 및 치환된 S-C1-30-알킬이 각각 C5-6-시클로알킬, C6-10-아릴, 5 내지 12 원 헤테로아릴, ORa, OC(O)-Ra, OC(O)-ORa, OC(O)-NRaRb, C(O)-Ra, C(O)-ORa, C(O)-NRaRb, C(O)-NRa-NRbRc, C(O)-NRa-ORb, C(O)-NRa-C(O)-Rb, C(O)-NRa-C(O)-ORb, C(O)-SRa, NRaRb, NRa-NRbRc, NRa-C(O)Rb, NRa-C(O)-ORb, NRa-C(O)-NRbRc, SRa, S-C(O)-Ra, 할로겐, CN, 및 NO2로 이루어진 군으로부터 독립적으로 선택된 적어도 1개의 치환기로 치환된 C1-30-알킬, C2-30-알케닐, O-C1-30-알킬, 및 S-C1-30-알킬이고;
각각의 경우에 치환된 C5-8-시클로알킬 및 치환된 C5-8-시클로알케닐이 각각 C1-20-알킬, C5-6-시클로알킬, C6-10-아릴, 5 내지 12 원 헤테로아릴, ORa, OC(O)-Ra, OC(O)-ORa, OC(O)-NRaRb, C(O)-Ra, C(O)-ORa, C(O)-NRaRb, C(O)-NRa-NRbRc, C(O)-NRa-ORb, C(O)-NRa-C(O)-Rb, C(O)-NRa-C(O)-ORb, C(O)-SRa, NRaRb, NRa-NRbRc, NRa-C(O)Rb, NRa-C(O)-ORb, NRa-C(O)-NRbRc, SRa, S-C(O)-Ra, 할로겐, CN, 및 NO2로 이루어진 군으로부터 독립적으로 선택된 적어도 1개의 치환기로 치환된 C5-8-시클로알킬 및 C5-8-시클로알케닐이고;
각각의 경우에 치환된 C6-14-아릴, 치환된 5 내지 15 원 헤테로아릴, 치환된 6 내지 10 원 방향족 고리계 및 치환된 5 내지 12 원 헤테로방향족 고리계가 각각 C1-20-알킬, C5-6-시클로알킬, C6-10-아릴, 5 내지 12 원 헤테로아릴, ORa, OC(O)-Ra, OC(O)-ORa, OC(O)-NRaRb, C(O)-Ra, C(O)-ORa, C(O)-NRaRb, C(O)-NRa-NRbRc, C(O)-NRa-ORb, C(O)-NRa-C(O)-Rb, C(O)-NRa-C(O)-ORb, C(O)-SRa, NRaRb, NRa-NRbRc, NRa-C(O)Rb, NRa-C(O)-ORb, NRa-C(O)-NRbRc, SRa, S-C(O)-Ra, 할로겐, CN, 및 NO2로 이루어진 군으로부터 독립적으로 선택된 적어도 1개의 치환기로 치환된 C6-14-아릴, 5 내지 15 원 헤테로아릴, 6 내지 10 원 방향족 고리계, 및 5 내지 12 원 헤테로방향족 고리계이고,
여기서, C1-30-알킬, 치환된 C1-30-알킬, C2-30-알케닐, 치환된 C2-30-알케닐, C5-8-시클로알킬, 치환된 C5-8-시클로알킬, C5-8-시클로알케닐 및 치환된 C5-8-시클로알케닐, O-C1-30-알킬, 치환된 O-C1-30-알킬, S-C1-30-알킬 및 치환된 S-C1-30-알킬의 적어도 1개의 CH2-기, 그러나 인접하지 않는 CH2-기가 O, S, NR12, CO, O-C(O), C(O)-O, O-C(O)-O, S-C(O), C(O)-S, NR12-C(O), C(O)-NR12, OC(O)-NR12 및 NR12-C(O)-O로 이루어진 군으로부터 선택된 연결기로 대체될 수 있고,
여기서, R12가 H, C1-30-알킬, 치환된 C1-30-알킬, 또는 C(O)-ORd이고,
Ra, Rb, Rc 및 Rd가 서로 독립적으로 및 각각의 경우에 H, C1-20-알킬, C5-6-시클로알킬, C6-10-아릴, 및 5 내지 12 원 헤테로아릴로 이루어진 군으로부터 선택되는 것인 화학식 1의 화합물. - 제1항에 있어서,
X가 O, S 또는 NR10이고,
여기서, R10이 H, C1-30-알킬, 치환된 C1-30-알킬 또는 C(O)-OR11이고,
R1 및 R11이 서로 독립적으로 C1-30-알킬, 치환된 C1-30-알킬, C2-30-알케닐, 치환된 C2-30-알케닐, C5-8-시클로알킬, 치환된 C5-8-시클로알킬, C5-8-시클로알케닐 및 치환된 C5-8-시클로알케닐로 이루어진 군으로부터 선택되고,
R2, R3, R4, R5, R6, R7, R8 및 R9가 서로 독립적으로 H, C1-30-알킬, 치환된 C1-30-알킬, C5-8-시클로알킬, 치환된 C5-8-시클로알킬, C6-14-아릴, 치환된 C6-14-아릴, 5 내지 15 원 헤테로아릴 및 치환된 5 내지 15 원 헤테로아릴로 이루어진 군으로부터 선택되거나; 또는 R2 및 R3, R3 및 R4, R4 및 R5, R6 및 R7, R7 및 R8, 또는 R8 및 R9가 그들이 연결된 C-원자와 함께 6 내지 10 원 방향족 고리계, 치환된 6 내지 10 원 방향족 고리계, 5 내지 12 원 헤테로방향족 고리계 또는 치환된 5 내지 12 원 헤테로방향족 고리계를 형성하고,
여기서, 각각의 경우에 치환된 C1-30-알킬 및 치환된 C2-30-알케닐이 각각 C5-6-시클로알킬, C6-10-아릴, 5 내지 12 원 헤테로아릴, ORa, OC(O)-Ra, OC(O)-ORa, OC(O)-NRaRb, C(O)-Ra, C(O)-ORa, C(O)-NRaRb, C(O)-NRa-NRbRc, C(O)-NRa-ORb, C(O)-NRa-C(O)-Rb, C(O)-NRa-C(O)-ORb, C(O)-SRa, NRaRb, NRa-NRbRc, NRa-C(O)Rb, NRa-C(O)-ORb, NRa-C(O)-NRbRc, SRa, S-C(O)-Ra, 할로겐, CN, 및 NO2로 이루어진 군으로부터 독립적으로 선택된 적어도 1개의 치환기로 치환된 C1-30-알킬 및 C2-30-알케닐이고;
각각의 경우에 치환된 C5-8-시클로알킬 및 치환된 C5-8-시클로알케닐이 각각 C1-20-알킬, C5-6-시클로알킬, C6-10-아릴, 5 내지 12 원 헤테로아릴, ORa, OC(O)-Ra, OC(O)-ORa, OC(O)-NRaRb, C(O)-Ra, C(O)-ORa, C(O)-NRaRb, C(O)-NRa-NRbRc, C(O)-NRa-ORb, C(O)-NRa-C(O)-Rb, C(O)-NRa-C(O)-ORb, C(O)-SRa, NRaRb, NRa-NRbRc, NRa-C(O)Rb, NRa-C(O)-ORb, NRa-C(O)-NRbRc, SRa, S-C(O)-Ra, 할로겐, CN, 및 NO2로 이루어진 군으로부터 독립적으로 선택된 적어도 1개의 치환기로 치환된 C5-8-시클로알킬 및 C5-8-시클로알케닐이고;
각각의 경우에 치환된 C6-14-아릴, 치환된 5 내지 15 원 헤테로아릴, 치환된 6 내지 10 원 방향족 고리계, 및 치환된 5 내지 12 원 헤테로방향족 고리계가 각각 C1-20-알킬, C5-6-시클로알킬, C6-10-아릴, 5 내지 12 원 헤테로아릴, ORa, OC(O)-Ra, OC(O)-ORa, OC(O)-NRaRb, C(O)-Ra, C(O)-ORa, C(O)-NRaRb, C(O)-NRa-NRbRc, C(O)-NRa-ORb, C(O)-NRa-C(O)-Rb, C(O)-NRa-C(O)-ORb, C(O)-SRa, NRaRb, NRa-NRbRc, NRa-C(O)Rb, NRa-C(O)-ORb, NRa-C(O)-NRbRc, SRa, S-C(O)-Ra, 할로겐, CN, 및 NO2로 이루어진 군으로부터 독립적으로 선택된 적어도 1개의 치환기로 치환된 C6-14-아릴, 5 내지 15 원 헤테로아릴, 6 내지 10 원 방향족 고리계, 및 5 내지 12 원 헤테로방향족 고리계이고,
여기서, C1-30-알킬, 치환된 C1-30-알킬, C2-30-알케닐, 치환된 C2-30-알케닐, C5-8-시클로알킬, 치환된 C5-8-시클로알킬 C5-8-시클로알케닐 및 치환된 C5-8-시클로알케닐의 적어도 1개의 CH2-기, 그러나 인접하지 않는 CH2-기가 O, S, NR12, CO, O-C(O), C(O)-O, O-C(O)-O, S-C(O), C(O)-S, NR12-C(O), C(O)-NR12, OC(O)-NR12 및 NR12-C(O)-O로 이루어진 군으로부터 선택된 연결기로 대체될 수 있고,
여기서, R12가 H, C1-30-알킬, 치환된 C1-30-알킬 또는 C(O)-ORd이고,
Ra, Rb, Rc 및 Rd가 서로 독립적으로 및 각각의 경우에 H, C1-20-알킬, C5-6-시클로알킬, C6-10-아릴, 및 5 내지 12 원 헤테로아릴로 이루어진 군으로부터 선택되는 것인 화학식 1의 화합물. - 제1항에 있어서,
X가 O, S 또는 NR10이고,
여기서, R10이 H, C1-30-알킬, 치환된 C1-30-알킬 또는 C(O)-OR11이고,
R1 및 R11이 서로 독립적으로 C1-30-알킬, 치환된 C1-30-알킬, C2-30-알케닐, 치환된 C2-30-알케닐, C5-8-시클로알킬, 치환된 C5-8-시클로알킬, C5-8-시클로알케닐 및 치환된 C5-8-시클로알케닐로 이루어진 군으로부터 선택되고,
R2, R3, R4, R5, R6, R7, R8 및 R9가 서로 독립적으로 H, C1-30-알킬, 치환된 C1-30-알킬, C5-8-시클로알킬, 치환된 C5-8-시클로알킬, C6-14-아릴, 치환된 C6-14-아릴, 5 내지 15 원 헤테로아릴 및 치환된 5 내지 15 원 헤테로아릴로 이루어진 군으로부터 선택되거나; 또는 R2 및 R3, R3 및 R4, R4 및 R5, R6 및 R7, R7 및 R8, 또는 R8 및 R9가 그들이 연결된 C-원자와 함께 6 내지 10 원 방향족 고리계, 치환된 6 내지 10 원 방향족 고리계, 5 내지 12 원 헤테로방향족 고리계 또는 치환된 5 내지 12 원 헤테로방향족 고리계를 형성하고,
여기서, 각각의 경우에 치환된 C1-30-알킬 및 치환된 C2-30-알케닐이 각각 C5-6-시클로알킬, C6-10-아릴, 및 5 내지 12 원 헤테로아릴로 이루어진 군으로부터 독립적으로 선택된 적어도 1개의 치환기로 치환된 C1-30-알킬 및 C2-30-알케닐이고,
각각의 경우에 치환된 C5-8-시클로알킬 및 치환된 C5-8-시클로알케닐이 각각 C1-20-알킬, C5-6-시클로알킬, C6-10-아릴, 및 5 내지 12 원 헤테로아릴로 이루어진 군으로부터 독립적으로 선택된 적어도 1개의 치환기로 치환된 C5-8-시클로알킬 및 C5-8-시클로알케닐이고;
각각의 경우에 치환된 C6-14-아릴, 치환된 5 내지 15 원 헤테로아릴, 치환된 6 내지 10 원 방향족 고리계, 및 치환된 5 내지 12 원 헤테로방향족 고리계가 각각 C1-20-알킬, C5-6-시클로알킬, C6-10-아릴, 5 내지 12 원 헤테로아릴로 이루어진 군으로부터 독립적으로 선택된 적어도 1개의 치환기로 치환된 C6-14-아릴, 5 내지 15 원 헤테로아릴, 6 내지 10 원 방향족 고리계, 및 5 내지 12 원 헤테로방향족 고리계이고;
여기서, C1-30-알킬, 치환된 C1-30-알킬, C2-30-알케닐, 치환된 C2-30-알케닐, C5-8-시클로알킬, 치환된 C5-8-시클로알킬, C5-8-시클로알케닐 및 치환된 C5-8-시클로알케닐의 적어도 1개의 CH2-기, 그러나 인접하지 않는 CH2-기가 O, S, 및 NR12로 이루어진 군으로부터 선택된 연결기로 대체될 수 있고,
여기서, R12가 H, C1-30-알킬, 치환된 C1-30-알킬 또는 C(O)-ORd이고,
Rd가 각각의 경우에 H, C1-20-알킬, C2-20-알케닐, C2-20-알키닐, C5-6-시클로알킬, C5-6-시클로알케닐, C6-10-아릴, 및 5 내지 12 원 헤테로아릴로 이루어진 군으로부터 선택되는 것인 화학식 1의 화합물. - 제1항에 있어서,
X가 S이고,
R1이 C1-30-알킬, 치환된 C1-30-알킬, C2-30-알케닐, 치환된 C2-30-알케닐, C5-8-시클로알킬, 치환된 C5-8-시클로알킬, C5-8-시클로알케닐 및 치환된 C5-8-시클로알케닐로 이루어진 군으로부터 선택되고,
R2, R3, R4, R5, R6, R7, R8 및 R9가 서로 독립적으로 H, C1-30-알킬, 치환된 C1-30-알킬, C5-8-시클로알킬, 치환된 C5-8-시클로알킬, C6-10-아릴, 치환된 C6-10-아릴, 5 내지 12 원 헤테로아릴, 및 치환된 5 내지 12 원 헤테로아릴로 이루어진 군으로부터 선택되거나; 또는 R2 및 R3, R3 및 R4, R4 및 R5, R6 및 R7, R7 및 R8, 또는 R8 및 R9가 그들이 연결된 C-원자와 함께 6 원 방향족 고리계, 치환된 6 원 방향족 고리계, 5 내지 9 원 헤테로방향족 고리계 또는 치환된 5 내지 9 원 헤테로방향족 고리계를 형성하고,
여기서, 각각의 경우에 치환된 C1-30-알킬 및 치환된 C2-30-알케닐이 각각 C5-6-시클로알킬, 페닐 및 5 내지 9 원 헤테로아릴로 이루어진 군으로부터 독립적으로 선택된 적어도 1개의 치환기로 치환된 C1-30-알킬 및 C2-30-알케닐이고,
각각의 경우에 치환된 C5-8-시클로알킬 및 치환된 C5-8-시클로알케닐이 각각 C1-20-알킬, C5-6-시클로알킬, 페닐 및 5 내지 9 원 헤테로아릴로 이루어진 군으로부터 독립적으로 선택된 적어도 1개의 치환기로 치환된 C5-8-시클로알킬 및 C5-8-시클로알케닐이고,
각각의 경우에 치환된 C6-10-아릴, 치환된 5 내지 12 원 헤테로아릴, 치환된 6 원 방향족 고리계, 및 치환된 5 내지 9 원 헤테로방향족 고리계가 각각 C1-20-알킬, C5-6-시클로알킬, 페닐, 5 내지 9 원 헤테로아릴로 이루어진 군으로부터 독립적으로 선택된 적어도 1개의 치환기로 치환된 C6-10-아릴, 5 내지 12 원 헤테로아릴, 6 원 방향족 고리계, 및 5 내지 9 원 헤테로방향족 고리계이고,
여기서, C1-30-알킬, 치환된 C1-30-알킬, C5-8-시클로알킬 및 치환된 C5-8-시클로알킬의 적어도 1개의 CH2-기, 그러나 인접하지 않는 CH2-기가 연결기 O로 대체될 수 있는 것인 화학식 1의 화합물. - 제1항에 있어서,
X가 S이고,
R1이 C1-30-알킬, 치환된 C1-30-알킬, C2-30-알케닐, 치환된 C2-30-알케닐, C5-8-시클로알킬, 치환된 C5-8-시클로알킬, C5-8-시클로알케닐 및 치환된 C5-8-시클로알케닐로 이루어진 군으로부터 선택되고,
R2, R3, R4, R5, R6, R7, R8 및 R9가 서로 독립적으로 H, C1-30-알킬, 치환된 C1-30-알킬, C5-8-시클로알킬, 및 치환된 C5-8-시클로알킬로 이루어진 군으로부터 선택되고,
여기서, 각각의 경우에 치환된 C1-30-알킬 및 치환된 C2-30-알케닐이 각각 C5-6-시클로알킬, 페닐 및 5 내지 9 원 헤테로아릴로 이루어진 군으로부터 독립적으로 선택된 적어도 1개의 치환기로 치환된 C1-30-알킬 및 C2-30-알케닐이고,
각각의 경우에 치환된 C5-8-시클로알킬 및 치환된 C5-8-시클로알케닐이 각각 C1-20-알킬, C5-6-시클로알킬, 페닐 및 5 내지 9 원 헤테로아릴로 이루어진 군으로부터 독립적으로 선택된 적어도 1개의 치환기로 치환된 C5-8-시클로알킬 및 C5-8-시클로알케닐인 화학식 1의 화합물. - 제1항에 있어서,
X가 S이고,
R1이 C1-30-알킬, 치환된 C1-30-알킬, C2-30-알케닐, 치환된 C2-30-알케닐, C5-8-시클로알킬, 치환된 C5-8-시클로알킬, C5-8-시클로알케닐 및 치환된 C5-8-시클로알케닐로 이루어진 군으로부터 선택되고,
R2, R4, R5, R6, R7 및 R9가 H이고,
R3 및 R8이 서로 독립적으로 H, C1-30-알킬, 치환된 C1-30-알킬, C5-8-시클로알킬 및 치환된 C5-8-시클로알킬로 이루어진 군으로부터 선택되고,
여기서, 각각의 경우에 치환된 C1-30-알킬 및 치환된 C2-30-알케닐이 각각 C5-6-시클로알킬 및 페닐로 이루어진 군으로부터 독립적으로 선택된 적어도 1개의 치환기로 치환된 C1-30-알킬 및 C2-30-알케닐이고,
각각의 경우에 치환된 C5-8-시클로알킬 및 치환된 C5-8-시클로알케닐이 각각 C1-20-알킬, C5-6-시클로알킬 및 페닐로 이루어진 군으로부터 독립적으로 선택된 적어도 1개의 치환기로 치환된 C5-8-시클로알킬 및 C5-8-시클로알케닐인 화학식 1의 화합물. - 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항의 화합물을 포함하는 전자 장치.
- 제9항에 있어서, 유기 전계 효과 트랜지스터 (OFET)인 전자 장치.
- 반도체 물질로서의 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항의 화합물의 용도.
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
EP14199287 | 2014-12-19 | ||
EP14199287.5 | 2014-12-19 | ||
PCT/EP2015/079966 WO2016096967A1 (en) | 2014-12-19 | 2015-12-16 | 6h-pyrrolo[3,2-b:4,5-b']bis[1,4]benzothiazine-6-carboxylic acid esters as organic semiconductor materials for use in electronic devices |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20170095343A true KR20170095343A (ko) | 2017-08-22 |
KR102484452B1 KR102484452B1 (ko) | 2023-01-04 |
Family
ID=52231917
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020177019583A KR102484452B1 (ko) | 2014-12-19 | 2015-12-16 | 전자 장치에서 사용하기 위한 유기 반도체 물질로서의 6h-피롤로[3,2-b:4,5-b']비스[1,4]벤조티아진-6-카르복실산 에스테르 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US10079346B2 (ko) |
EP (1) | EP3233868B1 (ko) |
JP (1) | JP6590932B2 (ko) |
KR (1) | KR102484452B1 (ko) |
CN (1) | CN107001388B (ko) |
TW (1) | TWI694079B (ko) |
WO (1) | WO2016096967A1 (ko) |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20120003895A (ko) * | 2009-03-23 | 2012-01-11 | 바스프 에스이 | 유기 반도체 장치에 사용하기 위한 디케토피롤로피롤 중합체 |
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Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
AT303884B (de) * | 1970-05-22 | 1972-12-11 | Norma Messtechnik Gmbh | Schaltung zur Prüfung und zur Justierung von Stromteilern |
DE102010030500A1 (de) * | 2010-06-24 | 2011-12-29 | Heliatek Gmbh | Verdampfbares organisch halbleitendes Material und dessen Verwendung in einem optoelektronischen Bauelement |
JP2014181189A (ja) * | 2013-03-18 | 2014-09-29 | Nagoya City | インドロキノキサリン化合物、その製造方法、及びインドロキノキサリン化合物を用いた電子素子 |
-
2015
- 2015-12-16 EP EP15810633.6A patent/EP3233868B1/en active Active
- 2015-12-16 CN CN201580068347.2A patent/CN107001388B/zh active Active
- 2015-12-16 US US15/537,522 patent/US10079346B2/en active Active
- 2015-12-16 JP JP2017533246A patent/JP6590932B2/ja active Active
- 2015-12-16 WO PCT/EP2015/079966 patent/WO2016096967A1/en active Application Filing
- 2015-12-16 KR KR1020177019583A patent/KR102484452B1/ko active IP Right Grant
- 2015-12-18 TW TW104142839A patent/TWI694079B/zh active
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP6590932B2 (ja) | 2019-10-16 |
TW201630919A (zh) | 2016-09-01 |
WO2016096967A1 (en) | 2016-06-23 |
KR102484452B1 (ko) | 2023-01-04 |
EP3233868B1 (en) | 2018-11-07 |
CN107001388A (zh) | 2017-08-01 |
JP2018504385A (ja) | 2018-02-15 |
TWI694079B (zh) | 2020-05-21 |
EP3233868A1 (en) | 2017-10-25 |
CN107001388B (zh) | 2019-10-11 |
US10079346B2 (en) | 2018-09-18 |
US20170365791A1 (en) | 2017-12-21 |
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