KR20170064125A - Display device - Google Patents

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Abstract

본 발명에 의한 표시장치는 이형 액티브영역, 베젤 영역, 게이트 구동회로, 제1 도전층 및 보조 도전층을 포함한다. 이형 액티브영역은 스캔라인들과 데이터라인들에 의해 구획된 픽셀들을 갖는다. 베젤 영역은 액티브영역의 외측에 위치한다. 게이트 구동회로는 베젤 영역에 배치되며, 스캔 펄스를 발생한다. 제1 도전층은 베젤 영역에 배치되며, 게이트 구동회로로부터 스캔 펄스가 인가된다. 보조 도전층은 베젤 영역에 배치되며, 제1 도전층을 스캔 라인에 전기적으로 연결하여 제1 도전층으로부터의 스캔 펄스를 스캔라인으로 전달한다. 이때, 제1 도전층 및 상기 스캔라인은, 동일층 상에서 서로 분리된다. 보조 도전층은 제1 도전층 및 스캔라인의 아래에 배치된다. 보조 도전층과, 상기 제1 도전층 및 상기 스캔라인 사이에는 하나 이상의 절연층이 개재된다. A display device according to the present invention includes a mold-releasing active region, a bezel region, a gate driving circuit, a first conductive layer, and an auxiliary conductive layer. The emitter active region has pixels delimited by scan lines and data lines. The bezel region is located outside the active region. The gate driving circuit is disposed in the bezel region, and generates a scan pulse. The first conductive layer is disposed in the bezel region, and a scan pulse is applied from the gate driving circuit. The auxiliary conductive layer is disposed in the bezel region and electrically connects the first conductive layer to the scan line to transfer the scan pulse from the first conductive layer to the scan line. At this time, the first conductive layer and the scan line are separated from each other on the same layer. The auxiliary conductive layer is disposed under the first conductive layer and the scan line. At least one insulating layer is interposed between the auxiliary conductive layer and the first conductive layer and the scan line.

Description

표시장치{DISPLAY DEVICE}Display device {DISPLAY DEVICE}

본 발명은 이형 액티브영역을 갖는 표시장치에 관한 것이다. The present invention relates to a display device having a release active region.

정보화 기술이 발달함에 따라 사용자와 정보 간의 연결 매체인 표시장치의 시장이 커지고 있다. 이에 따라, 유기발광 다이오드 표시장치(Organic Light Emitting Display: OLED), 양자점 표시장치(Quantum Dot Display; QDD), 액정 표시장치(Liquid Crystal Display: LCD) 및 플라즈마 표시장치(Plasma Display Panel: PDP) 등과 같은 표시장치의 사용이 증가하고 있다.As the information technology is developed, the market of display devices, which is a connection medium between users and information, is getting larger. As a result, the organic light emitting diode (OLED), the quantum dot display (QDD), the liquid crystal display (LCD) and the plasma display panel (PDP) The use of the same display device is increasing.

또한, 최근에는 플렉서블(flexible) 표시장치가 상용화되고 있다. 플렉서블 표시장치는 다양한 디자인 구현이 가능하고 휴대성과 내구성에 장점이 있다. 이러한 플렉서블 표시장치는 스마트폰과 태블릿 PC와 같은 모바일 기기 뿐만 아니라 TV(Television), 자동차 디스플레이, 웨어러블 기기 등 다양한 분야에 적용되고 있다. 이러한 플렉서블 표시장치는 다양한 분야에 적용되기 위해, 기존의 사각형 형태가 아닌 다양한 형태의 이형(異形)일 것이 요구되고 있다. In addition, in recent years, flexible display devices have been commercialized. Flexible display devices are available in various designs and have advantages in portability and durability. Such flexible display devices are being applied not only to mobile devices such as smart phones and tablet PCs but also to various fields such as TVs (Television), automobile displays, and wearable devices. Such a flexible display device is required to be in various shapes other than a conventional rectangular shape in order to be applied to various fields.

이러한 이형 표시장치는 기존의 표시장치들과 형상을 달리하기 때문에, 표시장치를 구성하는 여러 구조물들의 배치가 달라질 수 밖에 없다. 예를 들어, 이형 표시장치에서는, 기존의 표시장치와는 다른 라인 배열 구조가 필요하다. 즉, 이형 표시장치의 특성에 맞게 배열되되, 서로 다른 신호(또는, 전압)가 인가되는 각 신호 라인들 사이에서 단락(short circuit) 불량 등이 발생하지 않도록 효율적으로 배치할 수 있는 신규한 라인 배열 구조 개발이 요구된다. Since the mold release display device has a different shape from that of the conventional display devices, the arrangement of various structures constituting the display device can not help but be changed. For example, in the mold release display device, a line array structure different from that of the conventional display device is required. That is, a new line array (not shown) which is arranged in accordance with the characteristics of the display device and can be efficiently arranged so that short-circuit defects do not occur between signal lines to which different signals Structure development is required.

본 발명은 베젤 영역을 지나가는 신호 라인의 배열 구조를 달리하여, 서로 다른 신호가 인가되는 신호 라인들 사이에 발생할 수 있는 불량을 최소화한 표시장치를 제공한다. The present invention provides a display device in which defects that may occur between signal lines to which different signals are applied are minimized by differently arranging signal lines passing through a bezel region.

상기 목적을 달성하기 위해, 본 발명에 의한 표시장치는 이형 액티브영역, 베젤 영역, 제1 도전층, 보조 도전층을 포함한다. 이형 액티브영역은 스캔라인들과 데이터라인들에 의해 구획된 픽셀들을 갖는다. 베젤 영역은 액티브영역의 외측에 위치한다. 제1 도전층은 베젤 영역에 배치되며, 게이트 구동회로로부터 스캔 펄스가 인가된다. 보조 도전층은 베젤 영역에 배치되며, 제1 도전층으로부터 스캔라인에 스캔 펄스를 전달한다. 이때, 보조 도전층은 적어도 하나 이상의 절연층을 사이에 두고, 제1 도전층 및 스캔라인의 아래에 배치된다. In order to achieve the above object, a display device according to the present invention includes a release active region, a bezel region, a first conductive layer, and an auxiliary conductive layer. The emitter active region has pixels delimited by scan lines and data lines. The bezel region is located outside the active region. The first conductive layer is disposed in the bezel region, and a scan pulse is applied from the gate driving circuit. The auxiliary conductive layer is disposed in the bezel region and transfers the scan pulse from the first conductive layer to the scan line. At this time, the auxiliary conductive layer is disposed under the first conductive layer and the scan line with at least one insulating layer therebetween.

보조 도전층은 제1 도전층 보다 얇을 수 있다.The auxiliary conductive layer may be thinner than the first conductive layer.

스캔라인들과 연결된 보조 도전층들 중 적어도 어느 하나는 다른 하나와 길이가 상이할 수 있다. At least one of the auxiliary conductive layers connected to the scan lines may be different in length from the other.

본 발명에 의한 표시장치는 링크 영역, 제2 도전층을 더 포함할 수 있다. 링크 영역은 게이트 구동회로와 액티브영역 사이에 정의되며, 보조 도전층이 배치된다. 제2 도전층은 적어도 하나 이상의 절연층을 사이에 두고 제1 도전층 및 스캔라인 위에 배치되며, 데이터라인으로부터 데이터 전압을 공급받는다. 이때, 제2 도전층은 링크 영역에서, 보조 도전층과 중첩되어 제1 커패시터를 형성한다. The display device according to the present invention may further include a link region and a second conductive layer. The link region is defined between the gate drive circuit and the active region, and the auxiliary conductive layer is disposed. The second conductive layer is disposed over the first conductive layer and the scan line with at least one insulating layer therebetween, and receives the data voltage from the data line. At this time, the second conductive layer overlaps the auxiliary conductive layer in the link region to form the first capacitor.

본 발명에 의한 표시장치는 제3 도전층을 더 포함할 수 있다. 제3 도전층은 적어도 하나 이상의 절연층을 사이에 두고, 제2 도전층 위에 배치된다. 이때, 제2 도전층은, 링크 영역에서, 제3 도전층과 중첩되어 제2 커패시터를 형성한다. The display device according to the present invention may further include a third conductive layer. The third conductive layer is disposed on the second conductive layer with at least one insulating layer therebetween. At this time, the second conductive layer overlaps the third conductive layer in the link region to form the second capacitor.

보조 도전층의 일단은, 절연층을 관통하는 제1 콘택홀을 통해 제1 도전층과 접속되고, 보조 도전층의 타단은, 절연층을 관통하는 제2 콘택홀을 통해 스캔라인과 접속될 수 있다. One end of the auxiliary conductive layer is connected to the first conductive layer through the first contact hole passing through the insulating layer and the other end of the auxiliary conductive layer is connected to the scan line through the second contact hole passing through the insulating layer have.

본 발명의 바람직한 실시예는 게이트 구동회로와 액티브영역 사이의 층간 라인 구조를 변경하여, 도전층 상의 스텝 커버리지(step coverage) 불량을 개선하고, 서로 다른 신호가 인가되는 도전층들 사이의 단락(short circuit)을 방지할 수 있다. A preferred embodiment of the present invention is a method for improving the step coverage defect on the conductive layer by changing the interlayer line structure between the gate drive circuit and the active region and improving the short circuit between the conductive layers to which different signals are applied circuit can be prevented.

또한, 액티브 영역의 형상이 이형인 경우, 스캔라인들은 그 위치에 따라 길이가 상이할 수 있다. 본 발명에 의한 바람직한 실시예는 게이트 구동 회로와 액티브영역 사이에서의 층간 라인 구조를 변경하여, 액티브영역에 형성되는 스캔라인들의 길이 차이에 의한 로드(load) 편차 보상을 용이하게 할 수 있다. Further, when the shape of the active area is a variation, the lengths of the scan lines may be different depending on their positions. The preferred embodiment of the present invention can change the interlayer line structure between the gate driving circuit and the active area to facilitate compensation of load deviation due to the difference in length of the scan lines formed in the active area.

도 1은 본 발명에 의한 표시장치를 보여 주는 블록도이다.
도 2는 본 발명에 의한 표시패널을 보여 주는 도면이다.
도 3은 픽셀 어레이의 일부를 간략하게 보여 주는 도면이다.
도 4 및 도 5는 GIP 회로가 표시패널의 양측에 배치된 경우, 게이트 구동회로와 스캔라인들의 다양한 연결 형태를 보여 주는 도면들이다.
도 6은 게이트 구동회로와 액티브영역의 연결관계를 개략적으로 도시한 블록도이다.
도 7은 게이트 구동회로의 시프트 레지스터가 GIP 회로로 구현된 예를 보여 주는 도면들이다.
도 8은 GIP 회로에서 하나의 스테이지 회로 구성을 간략히 보여 주는 도면이다.
도 9는 액티브영역 내의 픽셀을 개략적으로 나타낸 구성도이다.
도 10은 도 9에 도시된 픽셀 내 회로 구성도의 일 예를 보여주는 등가 회로도이다.
도 11은 도 10에 도시된 등가 회로도의 동작을 보여주는 파형도이다.
도 12는 링크 영역의 층간 배치 구조를 설명하기 위한 단면도이다.
도 13은 본 발명의 바람직한 실시예에 의한 게이트 구동회로와 액티브영역의 연결관계를 개략적으로 도시한 블록도이다.
도 14 내지 16은 본 발명의 바람직한 실시예를 설명하기 위해 링크 영역의 층간 배치 구조를 개략적으로 도시한 단면도들이다.
도 17은 본 발명의 바람직한 실시예에 의한 효과를 설명하기 위한 도면들이다.
1 is a block diagram showing a display device according to the present invention.
2 is a view showing a display panel according to the present invention.
Figure 3 is a simplified view of a portion of a pixel array.
Figs. 4 and 5 are views showing various connection forms of the gate driving circuit and the scan lines when the GIP circuit is disposed on both sides of the display panel.
6 is a block diagram schematically showing a connection relationship between a gate driving circuit and an active region.
7 is a diagram showing an example in which a shift register of a gate driving circuit is implemented by a GIP circuit.
8 is a view schematically showing one stage circuit configuration in the GIP circuit.
9 is a schematic diagram showing pixels in the active area.
10 is an equivalent circuit diagram showing an example of a circuit configuration diagram in the pixel shown in FIG.
11 is a waveform diagram showing the operation of the equivalent circuit diagram shown in Fig.
12 is a cross-sectional view for explaining the interlayer arrangement structure of the link area.
13 is a block diagram schematically illustrating a connection relationship between a gate driving circuit and an active region according to a preferred embodiment of the present invention.
Figs. 14 to 16 are cross-sectional views schematically showing an inter-layer arrangement structure of a link region to explain a preferred embodiment of the present invention.
17 is a view for explaining effects according to a preferred embodiment of the present invention.

이하 첨부된 도면을 참조하여 본 발명에 따른 바람직한 실시예들을 상세히 설명한다. 명세서 전체에 걸쳐서 동일한 참조번호들은 실질적으로 동일한 구성요소들을 의미한다. 이하의 설명에서, 본 발명과 관련된 공지 기능 혹은 구성에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우, 그 상세한 설명을 생략한다.DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Reference will now be made in detail to the preferred embodiments of the present invention, examples of which are illustrated in the accompanying drawings. Like reference numerals throughout the specification denote substantially identical components. In the following description, a detailed description of known functions and configurations incorporated herein will be omitted when it may make the subject matter of the present invention rather unclear.

제1, 제2 등과 같이 서수를 포함하는 용어는 다양한 구성요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성요소들은 상기 용어들에 의해 한정되지는 않는다. 상기 용어들은 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다.Terms including ordinals, such as first, second, etc., may be used to describe various elements, but the elements are not limited to these terms. The terms are used only for the purpose of distinguishing one component from another.

어떤 구성요소가 다른 구성요소에 "연결되어" 있다거나 "접속되어" 있다고 언급된 때에는, 그 다른 구성요소에 직접적으로 연결되어 있거나 또는 접속되어 있을 수도 있지만, 중간에 다른 구성요소가 존재할 수도 있다고 이해되어야 할 것이다. 반면에, 어떤 구성요소가 다른 구성요소에 "직접 연결되어" 있다거나 "직접 접속되어" 있다고 언급된 때에는, 중간에 다른 구성요소가 존재하지 않는 것으로 이해되어야 할 것이다.It is to be understood that when an element is referred to as being "connected" or "connected" to another element, it may be directly connected or connected to the other element, . On the other hand, when an element is referred to as being "directly connected" or "directly connected" to another element, it should be understood that there are no other elements in between.

본 발명에 의한 표시장치는 액정표시장치(Liquid Crystal Display, LCD), 전계방출 표시장치(Field Emission Display : FED), 플라즈마 디스플레이 패널(Plasma Display Panel, PDP), 유기발광 다이오드 표시장치(Organic Light Emitting Display, OLED), 전기영동 표시소자(Electrophoresis, EPD) 등의 표시장치 기반으로 구현될 수 있다. 이하, 설명의 편의를 위해, 표시장치가 유기발광 다이오드 소자를 포함하는 경우를 예로 들어 설명한다. The display device according to the present invention can be applied to a liquid crystal display (LCD), a field emission display (FED), a plasma display panel (PDP), an organic light emitting diode Display, OLED, electrophoresis (EPD), or the like. Hereinafter, for convenience of explanation, a case where the display device includes an organic light emitting diode element will be described as an example.

도 1은 본 발명에 의한 표시장치를 보여 주는 블록도이다. 도 2는 본 발명에 의한 표시패널을 보여 주는 도면이다. 도 3은 픽셀 어레이의 일부를 간략하게 보여 주는 도면이다. 도 4 및 도 5는 GIP 회로가 표시패널의 양측에 배치된 경우, 게이트 구동회로와 스캔라인들의 다양한 연결 형태를 보여 주는 도면들이다. 1 is a block diagram showing a display device according to the present invention. 2 is a view showing a display panel according to the present invention. Figure 3 is a simplified view of a portion of a pixel array. Figs. 4 and 5 are views showing various connection forms of the gate driving circuit and the scan lines when the GIP circuit is disposed on both sides of the display panel.

도 1 내지 도 3을 참조하면, 본 발명에 의한 표시장치는 디스플레이 구동회로 및 표시패널(110)을 포함한다. 1 to 3, a display device according to the present invention includes a display driving circuit and a display panel 110. [

디스플레이 구동 회로는 게이트 구동회로(120), 데이터 구동회로(140) 및 타이밍 콘트롤러(30)를 포함하여 입력 영상의 비디오 데이터전압을 표시 패널(110)의 픽셀들에 기입한다. 데이터 구동회로(140)는 타이밍 콘트롤러(30)로부터 입력되는 디지털 비디오 데이터(RGB)를 아날로그 감마보상전압으로 변환하여 데이터전압을 발생한다. 데이터 구동회로(140)로부터 출력된 데이터전압은 데이터라인들(DL)에 공급된다. 게이트 구동회로(120)는 데이터전압에 동기되는 스캔 펄스를 스캔라인들(GL)에 순차적으로 공급하여 데이터 전압이 기입되는 표시 패널(110)의 픽셀들을 선택한다.The display driving circuit includes a gate driving circuit 120, a data driving circuit 140, and a timing controller 30, and writes the video data voltage of the input image to the pixels of the display panel 110. The data driving circuit 140 converts the digital video data RGB input from the timing controller 30 into an analog gamma compensation voltage to generate a data voltage. The data voltage output from the data driving circuit 140 is supplied to the data lines DL. The gate driving circuit 120 sequentially supplies the scan pulses synchronized with the data voltages to the scan lines GL to select the pixels of the display panel 110 into which the data voltages are written.

타이밍 콘트롤러(30)는 호스트 시스템(20)으로부터 입력되는 수직 동기신호(Vsync), 수평 동기신호(Hsync), 데이터 인에이블 신호(Data Enable, DE), 메인 클럭(MCLK) 등의 타이밍신호를 입력받아 데이터 구동회로(140)와 게이트 구동회로(120)의 동작 타이밍을 동기시킨다. 데이터 구동회로(140)를 제어하기 위한 데이터 타이밍 제어신호는 소스 샘플링 클럭(Source Sampling Clock, SSC), 소스 출력 인에이블신호(Source Output Enable, SOE) 등을 포함한다. 게이트 구동회로(120)를 제어하기 위한 게이트 타이밍 제어신호는 게이트 스타트 펄스(Gate Start Pulse, GSP), 게이트 쉬프트 클럭(Gate Shift Clock, GSC), 게이트 출력 인에이블신호(Gate Output Enable, GOE) 등을 포함한다.The timing controller 30 inputs timing signals such as a vertical synchronization signal Vsync, a horizontal synchronization signal Hsync, a data enable signal DE and a main clock MCLK input from the host system 20 And synchronizes the operation timings of the data driving circuit 140 and the gate driving circuit 120 with each other. The data timing control signal for controlling the data driving circuit 140 includes a source sampling clock (SSC), a source output enable (SOE) signal, and the like. The gate timing control signal for controlling the gate driving circuit 120 includes a gate start pulse GSP, a gate shift clock GSC, a gate output enable signal GOE .

호스트 시스템(20)은 텔레비젼 시스템, 셋톱박스, 네비게이션 시스템, DVD 플레이어, 블루레이 플레이어, 개인용 컴퓨터(PC), 홈 시어터 시스템, 폰 시스템(Phone system) 중 어느 하나로 구현될 수 있다. 호스트 시스템(20)은 스케일러(scaler)를 내장한 SoC(System on chip)을 포함하여 입력 영상의 디지털 비디오 데이터(RGB)를 표시 패널(110)에 표시하기에 적합한 포맷으로 변환한다. 호스트 시스템(20)은 디지털 비디오 데이터와 함께 타이밍 신호들(Vsync, Hsync, DE, MCLK)을 타이밍 콘트롤러(30)로 전송한다.The host system 20 may be implemented as any one of a television system, a set-top box, a navigation system, a DVD player, a Blu-ray player, a personal computer (PC), a home theater system, and a phone system. The host system 20 converts the digital video data RGB of the input image into a format suitable for display on the display panel 110, including a system on chip (SoC) with a built-in scaler. The host system 20 transmits the timing signals Vsync, Hsync, DE, and MCLK to the timing controller 30 together with the digital video data.

표시패널(110)의 외관을 형성하는 기판(SUB)의 형상은 특정 형상으로 한정되지 않는다. 즉, 도면에서는 기판(SUB)의 형상이 대략 원형의 형상을 갖는 경우를 예로 들어 도시하였으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 기판(SUB)의 평면 형상은 다각형, 원형, 타원형 등 다양한 평면 도형 형상을 가질 수 있다. 이하, 기판(SUB)의 형상이 원형인 경우를 예로 들어 설명한다. The shape of the substrate SUB forming the outer surface of the display panel 110 is not limited to a specific shape. That is, although the substrate SUB has a substantially circular shape in the drawing, it is not limited thereto. The plane shape of the substrate SUB may have various planar shapes such as a polygonal shape, a circular shape, and an elliptical shape. Hereinafter, the case where the shape of the substrate SUB is circular will be described as an example.

표시패널(110)은 액티브영역(AA)과 베젤 영역(BZ)을 포함한다. 액티브영역(AA)은 기존의 사각형 형상이 아닌 이형이다. 액티브영역(AA)의 평면 형상은 기판(SUB)의 평면 형상과 동일할 수 있으나, 상이할 수도 있다. 예를 들어, 사각형의 외형을 갖는 표시패널(110) 상에 원형의 액티브영역(AA)이 정의될 수 있다. 이하 설명에서는, 액티브영역(AA)이 원형인 경우를 예로 들어 설명한다. The display panel 110 includes an active area AA and a bezel area BZ. The active area AA is a deformed shape that is not a conventional rectangular shape. The planar shape of the active area AA may be the same as the planar shape of the substrate SUB, but may be different. For example, a circular active area AA may be defined on the display panel 110 having a rectangular outline. In the following description, the case where the active area AA is circular will be described as an example.

액티브영역(AA)은 데이터라인들(DL), 데이터라인들(DL)과 교차하는 스캔라인들(GL), 및 데이터라인들(DL)과 스캔라인들(GL)에 의해 매트릭스 형태로 정의된 픽셀들(10)을 포함한다. 액티브영역(AA)에는 입력 영상의 데이터가 표시된다. 액티브영역(AA)은 기준전압(Vref)을 픽셀들(10)에 공급하는 기준전압 라인(Reference Line, "REF 라인"이라 함), 고전위 전원 전압(VDD)을 픽셀들(10)에 공급하는 고전위 라인(VDD Line, 이하 "VDD 라인"이라 함)을 더 포함한다. 스캔라인들(GL)은 픽셀들(10)에 스캔 펄스를 공급한다. 스캔라인들(GL)은, 제1 스캔 펄스(SCAN1)가 인가되는 제1 스캔라인들(GL1)과, 제2 스캔 펄스(SCAN2)가 인가되는 제2 스캔라인들(GL2)을 포함한다. 데이터라인들(DL)은 픽셀들(10)에 데이터전압을 전달한다.The active area AA includes data lines DL and scan lines GL intersecting with the data lines DL and data lines DL and scan lines GL defined in a matrix form Pixels 10. Data of the input image is displayed in the active area AA. The active area AA supplies a reference voltage line (reference line, "REF line") for supplying the reference voltage Vref to the pixels 10, a high potential power supply voltage VDD to the pixels 10 (Hereinafter, referred to as "VDD line"). The scan lines GL supply scan pulses to the pixels 10. The scan lines GL include first scan lines GL1 to which a first scan pulse SCAN1 is applied and second scan lines GL2 to which a second scan pulse SCAN2 is applied. The data lines DL transfer the data voltages to the pixels 10. [

픽셀들(10) 각각은 컬러 구현을 위하여 적색 서브 픽셀, 녹색 서브 픽셀 및 청색 서브 픽셀로 나뉘어진다. 픽셀들(10) 각각은 백색 서브 픽셀을 더 포함할 수 있다. 픽셀들(10) 각각에 데이터라인(DL), 스캔라인(GL), REF 라인, 및 VDD 라인 등이 연결된다.Each of the pixels 10 is divided into a red subpixel, a green subpixel, and a blue subpixel for color implementation. Each of the pixels 10 may further include a white subpixel. A data line DL, a scan line GL, a REF line, and a VDD line are connected to each of the pixels 10.

베젤 영역(BZ)은 액티브영역(AA)의 외측에 배치된다. 베젤 영역(BZ)에는 데이터 라우팅부(111), 멀티플렉서(Multiplexer, 160), 고전위 라우팅부(112), 기준전압 라우팅부(113), 게이트 구동회로(GIC, 120) 및 저전위 라우팅부(114)를 포함할 수 있다. 상기한 각 구성들은, 상호간 단락(shrt circuit)을 방지하기 위해, 각각 일정 간격 이격 배치되는 것이 바람직하다. 표시장치의 심미성을 향상시키기 위해, 상기 구성들을 적절히 분리 배치하여 베젤 영역(BZ)을 최소화하는 것이 바람직하다.The bezel region BZ is disposed outside the active region AA. The bezel region BZ includes a data routing unit 111, a multiplexer 160, a high potential routing unit 112, a reference voltage routing unit 113, a gate driving circuit (GIC) 120, 114). In order to prevent mutual shrt circuit, each of the above-described components is preferably spaced apart from each other by a predetermined distance. In order to improve the aesthetics of the display device, it is desirable to minimize the bezel area BZ by appropriately separating and arranging the above structures.

데이터 라우팅부(111)는 패드부(180)로부터 베젤 영역(BZ)의 양측으로 연장되며, 액티브영역(AA)의 형상을 따라 정의될 수 있다. 데이터 라우팅부(111)에는 복수의 데이터 라우팅 라인들이 배치된다. 데이터 라우팅 라인들은 데이터 구동회로(140)에 전기적으로 연결되어, 데이터 구동회로(140)에서 출력되는 데이터전압을 픽셀들(10)에 공급한다. 데이터 라우팅부(111)에 형성된 데이터 라우팅 라인들은 패드부(180)에 구비된 패드들과 전기적으로 연결되며, 데이터 구동회로(140)의 출력 채널들에 일대일로 대응된다. The data routing part 111 extends from the pad part 180 to both sides of the bezel area BZ and can be defined along the shape of the active area AA. A plurality of data routing lines are arranged in the data routing unit 111. The data routing lines are electrically connected to the data driving circuit 140 to supply the data voltages output from the data driving circuit 140 to the pixels 10. [ The data routing lines formed in the data routing unit 111 are electrically connected to the pads provided in the pad unit 180 and correspond to the output channels of the data driving circuit 140 on a one-to-one basis.

데이터 구동회로(140)는 연성회로기판(140a) 상에 실장되어 이방성 도전 필름(Anisotropic Conductive Film, ACF)을 통해 패드부(180)와 전기적으로 연결될 수 있다. 연성회로기판(140a)은 표시패널(110)의 배면 방향으로 벤딩될 수 있고, 이때, 데이터 구동회로(140)는 표시패널(110)의 배면에 위치할 수 있다.The data driving circuit 140 may be mounted on the flexible circuit board 140a and electrically connected to the pad unit 180 through an anisotropic conductive film (ACF). The flexible circuit board 140a may be bent toward the back of the display panel 110 and the data driving circuit 140 may be positioned at the back of the display panel 110. [

멀티플렉서(MUX, 160)는 액티브영역(AA)과 데이터 라우팅부(111) 사이에 배치된다. 멀티플렉서(160)는 데이터 라우팅부(111)에 구비된 데이터 라우팅 라인들로부터 데이터전압을 공급받아 액티브영역(AA)의 데이터라인들(DL)에 분배한다. 멀티플렉서(160)의 일단은 데이터 라우팅부(111)의 데이터 라우팅 라인들에 전기적으로 연결되고, 타단은 액티브영역(AA)의 데이터라인(DL)들과 전기적으로 연결된다. 멀티플렉서(160)는 먹스 인에이블 신호에 응답하여 데이터 구동회로(140)에서 하나의 출력 단자로부터 출력된 데이터 신호를 다수의 데이터라인들(DL)로 시분할 분배한다. 따라서, 멀티플렉서(160)는 데이터 구동회로(140)의 출력 단자와 그에 연결된 데이터 라우팅 라인들의 개수를 줄인다. A multiplexer (MUX) 160 is disposed between the active area AA and the data routing unit 111. The multiplexer 160 receives the data voltages from the data routing lines provided in the data routing unit 111 and distributes the data voltages to the data lines DL of the active area AA. One end of the multiplexer 160 is electrically connected to the data routing lines of the data routing unit 111 and the other end of the multiplexer 160 is electrically connected to the data lines DL of the active area AA. The multiplexer 160 divides the data signal output from one output terminal in the data driving circuit 140 into a plurality of data lines DL in response to the mux enable signal. Accordingly, the multiplexer 160 reduces the number of output terminals of the data driving circuit 140 and the number of data routing lines connected thereto.

데이터 라우팅부(111)와 멀티플렉서(160)는 액티브영역(AA)과 인접하도록 배치하는 것이 바람직하다. 데이터 라우팅부(111)와 멀티플렉서(160)는 액티브영역(AA)의 상반구 및 하반구 중 어느 하나에만 배치될 수 있다. 액티브영역(AA)의 상반구는 액티브영역(AA)의 중심을 지나는 수평라인을 기준으로 상부 영역을 의미한다. 액티브영역(AA)의 하반구는 액티브영역(AA)의 중심을 지나는 수평라인을 기준으로 하부 영역을 의미한다. 데이터 라우팅부(111)와 멀티플렉서(160)는 데이터 구동회로(140)와 인접하도록 배치하는 것이 바람직하다. It is preferable that the data routing unit 111 and the multiplexer 160 are disposed adjacent to the active area AA. The data routing unit 111 and the multiplexer 160 may be disposed only in one of the upper half and lower half of the active area AA. The upper half of the active area AA refers to the upper area with respect to the horizontal line passing through the center of the active area AA. The lower half of the active area AA refers to a lower area with respect to a horizontal line passing through the center of the active area AA. It is preferable that the data routing unit 111 and the multiplexer 160 are disposed adjacent to the data driving circuit 140.

베젤 영역(BZ)의 일측에는 AP(Auto Probe)스위치 회로(115)가 더 구비될 수 있다. AP스위치 회로(115)는 액티브영역(AA)의 스캔라인들(GL) 및 데이터라인들(DL)과 전기적으로 연결되어 픽셀(10)의 점등을 검사하기 위해 동작한다.An AP (Auto Probe) switch circuit 115 may be further provided at one side of the bezel area BZ. The AP switch circuit 115 is electrically connected to the scan lines GL and the data lines DL of the active area AA and operates to check the lighting of the pixel 10. [

고전위 라우팅부(112)는 패드부(180)로부터 베젤 영역(BZ)의 양측으로 연장되며, 액티브영역(AA)의 형상을 따라 정의될 수 있다. 고전위 라우팅부(112)는 데이터 라우팅부(111) 외측에 정의될 수 있다. 고전위 라우팅부(112)에는 VDD 라우팅 라인이 배치된다. VDD 라우팅 라인은 전원발생부에서 출력되는 고전위 전원 전압(VDD)을 공급받는다. VDD 라우팅 라인은 액티브영역(AA)의 VDD 라인들과 각각 전기적으로 연결된다. 고전위 전원 전압(VDD)은 VDD 라우팅 라인을 통해 VDD 라인들에 각각 전달된다. 고전위 전원 전압(VDD)은 보상화소의 구동 박막 트랜지스터(Thin Film Transistor, 이하 "TFT"라 함)를 구동하거나 유기발광 다이오드(Organic Light Emitting Diode, 이하 "OLED"라 함) 구동에 필요한 전원이다. The high potential routing portion 112 extends from the pad portion 180 to both sides of the bezel region BZ and can be defined along the shape of the active region AA. The high-potential routing unit 112 may be defined outside the data routing unit 111. A VDD routing line is disposed in the high potential routing portion 112. [ The VDD routing line is supplied with the high potential power supply voltage (VDD) output from the power generation unit. The VDD routing line is electrically connected to the VDD lines of the active area AA, respectively. The high-potential power supply voltage VDD is transmitted to the VDD lines through the VDD routing line, respectively. The high-potential power supply voltage VDD is a power required to drive a driving thin film transistor (hereinafter referred to as "TFT ") or an organic light emitting diode (OLED) .

기준전압 라우팅부(113)는 패드부(180)로부터 베젤 영역(BZ)의 양측으로 연장되며, 액티브영역(AA)의 형상을 따라 정의될 수 있다. 기준전압 라우팅부(113)는 데이터 라우팅부(111) 외측에 정의될 수 있다. 기준전압 라우팅부(113)에는 REF 라우팅 라인이 배치된다. REF 라우팅 라인은 전원발생부에서 출력되는 기준 전압(Vref)을 공급받는다. REF 라우팅 라인은 액티브영역(AA)의 REF 라인들과 각각 전기적으로 연결된다. 기준 전압(Vref)은 REF 라우팅 라인을 통해 REF 라인들 각각에 전달된다. 기준 전압(Vref)은 보상화소 구동 시, TFT 및 OLED의 전위를 초기화(Reset)하기 위해 필요한 전원이다. 기준전압(Vref)은 초기화(initial(VINI)) 전원일 수 있다.The reference voltage routing part 113 extends from the pad part 180 to both sides of the bezel area BZ and can be defined along the shape of the active area AA. The reference voltage routing unit 113 may be defined outside the data routing unit 111. The reference voltage routing unit 113 is provided with a REF routing line. The REF routing line receives the reference voltage Vref output from the power generating unit. The REF routing line is electrically connected to the REF lines of the active area AA, respectively. The reference voltage Vref is transmitted to each of the REF lines through the REF routing line. The reference voltage Vref is a power required to reset the potential of the TFT and the OLED when the compensating pixel is driven. The reference voltage Vref may be an initial (VINI) power source.

도시한 바와 같이, 고전위 라우팅부(112)와 기준전압 라우팅부(113) 중 어느 하나는 패드부(180)로부터 연장되어 상반구에 위치하고, 다른 하나는 패드부(180)로부터 연장되어 상반구 및 하반구에 위치할 수 있다. 다만, 이에 한정되는 것은 아니며, 고전위 라우팅부(112)와 기준전압 라우팅부(113) 모두 패드부(180)로부터 연장되어 상반구 및 하반구에 위치할 수 있다. 다른 예로, 전원발생부와 연결되는 패드부가 상, 하측 모두에 구비된 경우, 고전위 라우팅부(112)와 기준전압 라우팅부(113) 중 어느 하나는 상측 패드부로부터 연장되어 상반구에 위치할 수 있고, 다른 하나는 하측 패드부로부터 연장되어 하반구에 위치할 수 있다. 고전위 라우팅부(112)와 기준전압 라우팅부(113)에 각각 배치되는 VDD 라우팅 라인과 REF 라우팅 라인은 안정적으로 전압 레벨을 유지할 수 있는 충분한 면적을 갖도록 형성되는 것이 바람직하다. One of the high potential routing portion 112 and the reference voltage routing portion 113 extends from the pad portion 180 and is located in the upper half region and the other extends from the pad portion 180, And the lower hemisphere. However, the present invention is not limited thereto, and both the high-potential routing unit 112 and the reference voltage routing unit 113 may extend from the pad unit 180 and be located in the upper half and lower half. As another example, when the pad portion connected to the power generating portion is provided on both the upper and lower sides, one of the high potential routing portion 112 and the reference voltage routing portion 113 extends from the upper pad portion, And the other may extend from the lower pad portion and be located in the lower hemisphere. The VDD routing line and the REF routing line, which are disposed in the high potential routing part 112 and the reference voltage routing part 113, respectively, are preferably formed to have a sufficient area to stably maintain the voltage level.

액티브영역(AA)이 이형인 경우, 액티브영역(AA)의 전원 라인(REF 라인 또는 VDD 라인)들은 형성 위치에 따라 그 길이가 상이하다. 즉, 액티브영역(AA)의 중심부와 외곽부에 배치되는 전원 라인들의 길이는 서로 상이하다. 전원 라인들은 형성 위치에 따라 그 길이가 상이하기 때문에, 각 전원 라인들 마다 그에 연결된 픽셀 개수도 상이하다. 이에 따라, 전원 라인들 사이에는 로드(load) 편차가 발생할 수 있다.When the active area AA is a variant, the power supply line (REF line or VDD line) of the active area AA is different in length depending on the formation position. That is, the lengths of the power supply lines disposed in the central part and the outer part of the active area AA are different from each other. Since the power supply lines have different lengths depending on their forming positions, the number of pixels connected to each power supply line also differs. Accordingly, a load deviation may occur between the power supply lines.

로드 편차로 인한 휘도 균일도 저하를 방지하기 위해, 액티브영역(AA)과 인접한 영역에는 고전위 링크 라인(117) 및 기준전압 링크 라인(118)이 형성된다. 고전위 링크 라인(117) 및 기준전압 링크 라인(118)은 등 전위를 형성을 위한 라인을 의미한다. 서로 대응되는 VDD 라우팅 라인과 VDD 라인들은 VDD 링크 채널들에 의해 각각 전기적으로 연결된다. 고전위 링크 라인(117)은 액티브영역(AA)과 인접하게 배치되어, VDD 링크 채널들을 전기적으로 연결시킨다. 서로 대응되는 REF 라우팅 라인과 REF 라인들은 REF 링크 채널들에 의해 각각 전기적으로 연결된다. 기준전압 링크 라인(118)은 액티브영역(AA)과 인접하게 배치되어, REF 링크 채널들을 전기적으로 연결시킨다. 고전위 링크 라인(117) 및 기준전압 링크 라인(118)을 형성함으로써, 액티브영역(AA)의 픽셀(10)에 고전위 전원 전압(VDD) 및 기준 전압(Vref)을 균일하게 공급할 수 있다.In order to prevent luminance uniformity degradation due to load deviation, a high-potential link line 117 and a reference voltage link line 118 are formed in an area adjacent to the active area AA. The high-potential link line 117 and the reference voltage link line 118 refer to a line for forming the equipotential. The VDD routing lines and the VDD lines corresponding to each other are electrically connected to each other by the VDD link channels. The high-potential link line 117 is disposed adjacent to the active area AA to electrically connect the VDD link channels. The REF routing lines and the REF lines corresponding to each other are electrically connected by the REF link channels, respectively. The reference voltage link line 118 is disposed adjacent to the active area AA to electrically connect the REF link channels. The high potential power supply voltage VDD and the reference voltage Vref can be uniformly supplied to the pixel 10 of the active area AA by forming the high potential link line 117 and the reference voltage link line 118. [

액티브영역(AA)이 이형인 경우, 액티브영역(AA)의 데이터라인들(DL)은 형성 위치에 따라 그 길이가 상이하다. 즉, 액티브영역(AA)의 중심부와 외곽부에 배치되는 데이터라인들(DL)의 길이는 서로 상이하다. 데이터라인들(DL)은 형성 위치에 따라 그 길이가 상이하기 때문에, 각 데이터라인들(DL) 마다 그에 연결된 픽셀 개수도 상이하다. 데이터라인들(DL)의 길이 차이에 의해 커패시터 편차가 발생할 수 있으며, 이는 휘도 불균일 문제 등을 야기하여 표시장치의 표시 품질을 저하시킨다. When the active area AA is a mold release, the lengths of the data lines DL of the active area AA are different depending on the formation position. That is, the lengths of the data lines DL arranged in the central part and the outer part of the active area AA are different from each other. Since the lengths of the data lines DL are different depending on the forming positions, the number of pixels connected to the data lines DL also differs for each data line DL. The capacitor difference may occur due to the difference in the lengths of the data lines DL, which causes a non-uniformity of luminance and the like, thereby deteriorating the display quality of the display device.

이를 방지하기 위해, 베젤 영역(BZ)에는 보상 커패시터(116)가 형성될 수 있다. 도시된 바와 같이, 보상 커패시터(116)는 기준전압 라우팅부(113)에 형성될 수 있다. 다만 이에 한정되는 것은 아니다. 보상 커패시터(116)는 적어도 하나 이상의 절연층을 사이에 두고 제1 커패시터 전극과 제2 커패시터 전극이 중첩되어 형성될 수 있다. 제1 커패시터 전극은 액티브영역(AA)의 데이터라인(DL)과 전기적으로 연결된다. 보상 커패시터(116)가 기준전압 라우팅부(113)에 형성된 경우, 제2 커패시터 전극은 REF 라우팅 라인일 수 있다.To prevent this, a compensation capacitor 116 may be formed in the bezel region BZ. As shown, the compensation capacitor 116 may be formed in the reference voltage routing unit 113. However, the present invention is not limited thereto. The compensation capacitor 116 may be formed by overlapping the first capacitor electrode and the second capacitor electrode with at least one insulating layer interposed therebetween. The first capacitor electrode is electrically connected to the data line DL of the active area AA. When the compensation capacitor 116 is formed in the reference voltage routing unit 113, the second capacitor electrode may be a REF routing line.

보상 커패시터(116)는 수직방향으로 형성된 이중 커패시터일 수 있다. 상부에서는 제1 커패시터 전극과 제2 커패시터 전극이 중첩되어 제1 커패시터를 형성할 수 있고, 하부에서는 제1 커패시터 전극과 제3 커패시터 전극이 중첩되어 제2 커패시터를 형성할 수 있다. 이때, 제3 커패시터 전극은 이웃하는 게이트 구동회로(120)로부터 공급된 스캔 펄스가 인가되는 전극일 수 있다.The compensation capacitor 116 may be a dual capacitor formed in the vertical direction. The first capacitor electrode and the second capacitor electrode overlap each other to form a first capacitor. In the lower portion, the first capacitor electrode and the third capacitor electrode overlap each other to form a second capacitor. In this case, the third capacitor electrode may be an electrode to which a scan pulse supplied from the neighboring gate driving circuit 120 is applied.

보상 커패시터(116)는 필요에 따라 복수 개일 수 있으며, 복수 개의 보상 커패시터(116)들 중 적어도 어느 하나는 다른 하나와 다른 용량 값을 가질 수 있다. 즉, 보상 커패시터(116)들은 대응되는 데이터라인(DL)의 길이에 따라 편차를 보상할 수 있는 적절한 용량값을 갖도록 마련된다. The compensation capacitor 116 may have a plurality of compensation capacitors 116, and at least one of the plurality of compensation capacitors 116 may have a capacitance value different from the other compensation capacitors 116. That is, the compensation capacitors 116 are provided to have an appropriate capacitance value capable of compensating for the deviation according to the length of the corresponding data line DL.

게이트 구동회로(120)는 시프트 레지스터(Shift Register)를 포함한다. 시프트 레지스터(Shift Register)는 종속적으로 접속된 스테이지들을 포함한다. 스테이지들은 스타트 펄스(GSP)에 응답하여 스캔 펄스(SCAN1, SCAN2)를 출력하고, 시프트 클럭(GCLK1 내지 GCLK4)에 따라 스캔 펄스(SCAN1, SCAN2)의 출력을 시프트한다. 게이트 구동회로(120)는 GIP(Gate-driver In Panel) 회로의 방식에 따라 표시패널(110)의 베젤 영역(BZ) 상에 직접 배치될 수 있다. The gate driving circuit 120 includes a shift register. A shift register includes stages that are connected in a dependent manner. The stages output the scan pulses SCAN1 and SCAN2 in response to the start pulse GSP and shift the outputs of the scan pulses SCAN1 and SCAN2 according to the shift clocks GCLK1 to GCLK4. The gate driving circuit 120 may be disposed directly on the bezel area BZ of the display panel 110 according to the scheme of a gate-driver In Panel (GIP) circuit.

게이트 구동회로(120)는 베젤 영역(BZ) 상에서 액티브영역(AA)과 일정한 간격만큼 이격되어 액티브영역(AA)의 형상을 따라 배치될 수 있다. 게이트 구동회로(120)는 스캔라인들(GL)에 스캔 펄스를 공급한다. 게이트 구동회로(120)는 액티브영역(AA)을 중심으로 베젤 영역(BZ)의 양측 각각에 배치될 수 있다. 다만, 이에 한정되는 것은 아니며, 게이트 구동회로(120)는 베젤 영역(BZ)의 어느 일측에 배치될 수 있다. 게이트 구동회로(120)는 스캔라인(GL)을 소정의 그룹으로 나누고, 나누어진 그룹 별로 스캔 펄스를 공급할 수 있다. The gate drive circuit 120 may be disposed along the shape of the active area AA and spaced apart from the active area AA by a predetermined distance on the bezel area BZ. The gate driving circuit 120 supplies scan pulses to the scan lines GL. The gate drive circuit 120 may be disposed on each side of the bezel area BZ on the active area AA. However, the present invention is not limited thereto, and the gate driving circuit 120 may be disposed at any side of the bezel region BZ. The gate driving circuit 120 divides the scan lines GL into predetermined groups and supplies scan pulses to the divided groups.

예를 들어, 도 4를 더 참조하면, 게이트 구동회로(120)는 표시패널(110)의 일측에 배치되는 제1 GIP 회로(GIP(L))와, 표시패널(110)의 타측에 배치되는 제2 GIP 회로(GIP(R))를 포함할 수 있다.4, the gate driving circuit 120 includes a first GIP circuit GIP (L) arranged on one side of the display panel 110 and a second GIP circuit GIP (L) disposed on the other side of the display panel 110 And a second GIP circuit (GIP (R)).

제1 및 제2 GIP 회로(GIP(L), GIP(R)) 각각은 모든 스캔라인들(GL1 내지 GLn)에 연결될 수 있다. 제1 및 제2 GIP 회로(GIP(L), GIP(R)) 각각은 스타트 펄스(GSP)를 입력받아 동시에 스캔 펄스를 출력한다. 따라서, 제1 및 제2 GIP 회로(GIP(L), GIP(R))로부터 출력된 스캔 펄스는 같은 스캔라인(GL)의 양 끝단에 동시에 인가된다.Each of the first and second GIP circuits GIP (L) and GIP (R) may be connected to all the scan lines GL1 to GLn. Each of the first and second GIP circuits GIP (L) and GIP (R) receives the start pulse GSP and simultaneously outputs a scan pulse. Therefore, the scan pulses output from the first and second GIP circuits GIP (L) and GIP (R) are simultaneously applied to both ends of the same scan line GL.

다른 예로, 도 5를 더 참조하면, 제1 GIP 회로(GIP(L))는 제1 그룹의 스캔라인들(GL)에 연결되어 제1 그룹의 스캔라인들(GL)에 스캔 펄스를 순차적으로 공급한다. 제2 GIP 회로(GIP(R))는 제2 그룹의 스캔라인들(GL)에 연결되어 제2 그룹의 스캔라인들(GL)에 스캔 펄스를 순차적으로 공급한다. 제1 그룹의 스캔라인들(GL)은 기수 번째 스캔라인들(GL1, GL3,...GL2n-1)일 수 있다. 제2 그룹의 스캔라인들(GL)은 우수 번째 스캔라인들(GL2, GL4,...GL2n)일 수 있다. 제1 및 제2 GIP 회로(GIP(L), GIP(R))에는 소정의 시간차를 두고 스타트 펄스(GSP)가 공급될 수 있다. 따라서, 제1 및 제2 GIP 회로(120, (GIP(L), GIP(R))의 스캔 펄스 출력 타이밍과 캐리 신호 출력 타이밍에서 소정의 시간차가 있을 수 있다. 예를 들어, 제1 GIP 회로(120, GIP(L))로부터 제1 스캔 펄스가 제1 스캔라인(GL1)에 공급된 후, 대략 1 수평 기간 뒤에 제2 GIP 회로(GIP(R))로부터 제2 스캔 펄스가 제2 스캔라인(GL2)에 공급될 수 있다.5, the first GIP circuit GIP (L) is connected to the first group of scan lines GL to sequentially apply scan pulses to the first group of scan lines GL. Supply. The second GIP circuit GIP (R) is connected to the second group of scan lines GL to sequentially supply scan pulses to the second group of scan lines GL. The first group of scan lines GL may be odd-numbered scan lines GL1, GL3, ..., GL2n-1. The second group of scan lines GL may be the even scan lines GL2, GL4, ..., GL2n. The start pulse GSP may be supplied to the first and second GIP circuits GIP (L) and GIP (R) with a predetermined time difference. Therefore, there may be a predetermined time difference between the scan pulse output timing and the carry signal output timing of the first and second GIP circuits 120 (GIP (L), GIP (R)). For example, After the first scan pulse is supplied from the first scan line 120 (GIP (L)) to the first scan line (GL1), a second scan pulse is applied from the second GIP circuit (GIP And may be supplied to the line GL2.

저전위 라우팅부(114)는 패드부(180)로부터 연장되며, 액티브영역(AA)의 형상을 따라 정의될 수 있다. 저전위 라우팅부(114)는 전원발생부로부터 저전위 전원 전압(VSS)을 공급받아 픽셀(10)에 공급한다. The low potential routing portion 114 extends from the pad portion 180 and can be defined along the shape of the active region AA. The low-potential routing unit 114 receives the low-potential power supply voltage VSS from the power generation unit and supplies the low-potential power supply voltage VSS to the pixel 10.

이하, 도 6 내지 12를 더 참조하여, 게이트 구동회로(120)와 액티브영역(AA) 내의 픽셀(10)과의 연결관계를 설명한다. 도 6은 게이트 구동회로와 액티브영역의 연결관계를 개략적으로 도시한 블록도이다. 도 7은 게이트 구동회로의 시프트 레지스터가 GIP 회로로 구현된 예를 보여 주는 도면들이다. 도 8은 GIP 회로에서 하나의 스테이지 회로 구성을 간략히 보여 주는 도면이다.  Hereinafter, the connection relationship between the gate driving circuit 120 and the pixel 10 in the active area AA will be described with reference to FIGS. 6 to 12. FIG. 6 is a block diagram schematically showing a connection relationship between a gate driving circuit and an active region. 7 is a diagram showing an example in which a shift register of a gate driving circuit is implemented by a GIP circuit. 8 is a view schematically showing one stage circuit configuration in the GIP circuit.

도 6을 참조하면, 게이트 구동회로(120)는 GIP 방식으로 표시패널(110)의 기판(SUB)상에 형성될 수 있다. 액티브영역(AA)은 스캔라인들(GL)과 데이터라인들(DL)에 의해 정의된 픽셀(10)들을 포함한다. 게이트 구동회로(120)는 타이밍 콘트롤러(30)의 제어 하에 스캔 펄스(SCAN1, SCAN2)를 액티브영역(AA)의 스캔라인들(GL)에 공급한다. Referring to FIG. 6, the gate driving circuit 120 may be formed on the substrate SUB of the display panel 110 in a GIP manner. Active region AA includes pixels 10 defined by scan lines GL and data lines DL. The gate driving circuit 120 supplies the scan pulses SCAN1 and SCAN2 to the scan lines GL of the active area AA under the control of the timing controller 30. [

도 7 및 도 8을 더 참조하여, GIP 회로를 개략적으로 설명한다. 도 7 및 도 8은 GIP 회로의 일 예를 도시한 것으로, 본 발명이 이에 한정되는 것은 아님에 주의하여야 한다. With further reference to Figures 7 and 8, the GIP circuit is schematically described. 7 and 8 show one example of the GIP circuit, and it should be noted that the present invention is not limited to this.

게이트 구동회로(120)는 제1 스캔 펄스(SCAN1)를 제1 스캔라인들(GL)에 공급하고, 제2 스캔 펄스(SCAN2)를 제2 스캔라인들(GL)에 공급한다. 스캔 펄스(SCAN1, SCAN2)는 데이터전압에 동기된다. GIP 회로(120)는 시프트 레지스터(Shift Register)를 포함한다. 시프트 레지스터는 종속적으로 접속된 스테이지들(S(N-2)~S(N+2))을 포함한다. 스테이지들(S(N-2)~S(N+2))은 스타트 펄스(Vst)에 응답하여 스캔 펄스(SCAN1, SCAN2)를 출력하기 시작하고, 시프트 클럭(GCLK1 내지 GCLK4)에 따라 출력을 시프트한다. 스테이지들(S(N-2)~S(N+2))로부터 순차적으로 출력되는 출력 신호는 스캔 펄스(SCAN1, SCAN2)로서 스캔라인들(GL)에 공급된다. 스테이지들(S(N-2)~S(N+2)) 각각의 출력은 다음 스테이지의 스타트 펄스(Vst)로서 입력되고, 또한 그 출력은 리셋 신호(Reset signal)로서 앞 단 스테이지에 입력될 수 있다. 스테이지들은 스캔 펄스와 별도의 캐리 신호(Carry signal)를 출력하여 스타트 펄스(Vst)로서 다음 스테이지에 공급할 수 있다. 캐리 신호는 다음 단 스테이지의 스타트 펄스로서 입력되고, 리셋 신호는 이전 스테이지의 출력을 방전시킨다. 스테이지들(S(N-2)~S(N+2))에는 스타트 펄스(Vst), 시프트 클럭(GCLK1 내지 GCLK4) 등의 스캔 타이밍 제어신호들이 스캔라인들(GL)을 통해 입력된다. 스테이지들(S(N-2)~S(N+2)) 각각은 풀업 트랜지스터(pull-up transistor)(Tu)를 제어하는 Q 노드(Q), 풀다운 트랜지스터(pull-down transistor)(Td)를 제어하는 QB 노드(QB), Q 노드(Q)와 QB 노드(QB)의 충방전을 제어하는 스위치 회로를 포함할 수 있다.The gate driving circuit 120 supplies a first scan pulse SCAN1 to the first scan lines GL and a second scan pulse SCAN2 to the second scan lines GL. The scan pulses SCAN1 and SCAN2 are synchronized with the data voltage. The GIP circuit 120 includes a shift register. The shift register includes the stages S (N-2) to S (N + 2) that are connected in a dependent manner. The stages S (N-2) to S (N + 2) start outputting the scan pulses SCAN1 and SCAN2 in response to the start pulse Vst and output the outputs in accordance with the shift clocks GCLK1 to GCLK4 Shift. Output signals sequentially output from the stages S (N-2) to S (N + 2) are supplied to the scan lines GL as scan pulses SCAN1 and SCAN2. The output of each of the stages S (N-2) to S (N + 2) is input as a start pulse Vst of the next stage and its output is input to the previous stage as a reset signal . The stages may output a carry signal different from the scan pulse and supply the start pulse Vst to the next stage. The carry signal is input as the next stage start pulse, and the reset signal discharges the output of the previous stage. Scan timing control signals such as a start pulse Vst and shift clocks GCLK1 to GCLK4 are input to the stages S (N-2) to S (N + 2) through the scan lines GL. Each of the stages S (N-2) to S (N + 2) includes a Q node Q for controlling a pull-up transistor Tu, a pull-down transistor Td, A QB node QB for controlling the charge and discharge of the Q node QB, and a switch circuit for controlling charge and discharge of the Q node QB and the QB node QB.

도 9 내지 도 11을 더 참조하여, 픽셀 내 회로 구성을 개략적으로 설명한다. 도 9는 액티브영역 내의 픽셀을 개략적으로 나타낸 구성도이다. 도 10은 도 9에 도시된 픽셀 내 회로 구성도의 일 예를 보여주는 등가 회로도이다. 도 11은 도 10에 도시된 등가 회로도의 동작을 보여주는 파형도이다. 9 to 11, a circuit configuration in a pixel is schematically described. 9 is a schematic diagram showing pixels in the active area. 10 is an equivalent circuit diagram showing an example of a circuit configuration diagram in the pixel shown in FIG. 11 is a waveform diagram showing the operation of the equivalent circuit diagram shown in Fig.

도 9를 더 참조하면, 표시 패널(DIS)에는 다수의 데이터라인들(DL)과, 다수의 게이트라인들(GL)이 교차되고, 이 교차영역마다 픽셀들(10)이 매트릭스 형태로 배치된다. 픽셀들(10) 각각은 OLED, OLED에 흐르는 전류량을 제어하는 구동 TFT(DT), 구동 TFT(DT)의 게이트-소스간 전압을 셋팅하기 위한 프로그래밍부(SC)를 포함한다. 9, a plurality of data lines DL and a plurality of gate lines GL are intersected with the display panel DIS, and the pixels 10 are arranged in a matrix form for each of the intersection areas . Each of the pixels 10 includes an OLED, a driving TFT DT for controlling the amount of current flowing in the OLED, and a programming portion SC for setting the gate-source voltage of the driving TFT DT.

프로그래밍부(SC)는 적어도 하나 이상의 스위치 TFT와, 적어도 하나 이상의 스토리지 커패시터를 포함할 수 있다. 스위치 TFT는 스캔라인(GL)으로부터의 스캔 펄스에 응답하여 턴 온 됨으로써, 데이터라인(DL)으로부터의 데이터전압을 스토리지 커패시터의 일측 전극에 인가한다. 구동 TFT(DT)는 스토리지 커패시터에 충전된 전압의 크기에 따라 OLED로 공급되는 전류량을 제어하여 OLED의 발광량을 조절한다. OLED의 발광량은 구동 TFT(DT)로부터 공급되는 전류량에 비례한다. 이러한 픽셀은 고전위 전압원(VDD)과 저전위 전압원(VSS)에 연결되어, 도시하지 않은 전원발생부로부터 각각 고전위 전원과 저전위 전원을 공급받는다. 픽셀을 구성하는 TFT들은 p 타입으로 구현되거나 또는, n 타입으로 구현될 수 있다. 또한, 픽셀을 구성하는 TFT들의 반도체층은, 아몰포스 실리콘 또는, 폴리 실리콘 또는, 산화물을 포함할 수 있다. OLED는 애노드 전극(ANO), 캐소드 전극(CAT), 및 애노드 전극(ANO)과 캐소드 전극(CAT) 사이에 개재된 유기 화합물층을 포함한다. 애노드 전극(ANO)은 구동 TFT(DT)와 접속된다. The programming portion SC may include at least one switch TFT and at least one storage capacitor. The switch TFT is turned on in response to the scan pulse from the scan line GL, thereby applying the data voltage from the data line DL to one electrode of the storage capacitor. The driving TFT DT controls the amount of current supplied to the OLED according to the magnitude of the voltage charged in the storage capacitor to control the amount of light emitted from the OLED. The amount of light emission of the OLED is proportional to the amount of current supplied from the driving TFT DT. These pixels are connected to a high potential power source VDD and a low potential power source VSS, and are supplied with a high potential power source and a low potential power source, respectively, from a power source not shown. The TFTs constituting the pixel may be implemented as a p-type or an n-type. In addition, the semiconductor layer of the TFTs constituting the pixel may include amorphous silicon, polysilicon, or an oxide. The OLED includes an anode electrode ANO, a cathode electrode CAT, and an organic compound layer interposed between the anode electrode ANO and the cathode electrode CAT. The anode electrode ANO is connected to the driving TFT DT.

도 10을 더 참조하면, 픽셀은 6T (Transistor) 1C (Capacitor)로 구성될 수 있다. 다만, 본 발명의 픽셀 구성이 6T 1C 구조에 한정되는 것은 아님에 주의하여야한다. 즉, 본 발명은 구동 TFT를 이용하여 OLED에 흐르는 전류를 조절하는 방식을 사용하는 모든 OLED 픽셀 구조를 포함할 수 있다. Referring to FIG. 10, the pixel may be composed of a transistor 6C (Capacitor). It should be noted, however, that the pixel structure of the present invention is not limited to the 6T 1C structure. That is, the present invention can include all OLED pixel structures using a method of regulating the current flowing in the OLED using a driving TFT.

도 10 및 도 11을 참조하면, 픽셀(10)의 1 프레임 기간은 초기화 기간(Ti), 샘플링 기간(Ts), 및 에미션 기간(Te)으로 나뉘어질 수 있다.10 and 11, one frame period of the pixel 10 can be divided into an initialization period Ti, a sampling period Ts, and an emission period Te.

제1 스캔 펄스(Scan1)는 초기화 기간(Ti) 및 샘플링 기간(Ts) 동안 ON 레벨로 발생되어 제1 TFT(T1)를 턴-온(turn-on)시키고, 에미션 기간(Te)에 OFF 레벨로 반전되어 제1 TFT(T1)를 턴-오프(turn-off)시킨다.The first scan pulse Scan1 is generated at the ON level during the initialization period Ti and the sampling period Ts to turn the first TFT T1 on and turns off during the emission period Te Level so as to turn off the first TFT < RTI ID = 0.0 > T1. ≪ / RTI >

제2 스캔 펄스(Scan2)는 초기화 기간(Ti)과 에미션 기간(Te) 동안 ON 레벨로 발생되어 제2 TFT(T2)를 턴-온(turn-on)시키고, 샘플링 기간(Ts) 동안 OFF 레벨을 유지하여 제2 TFT(T2)를 오프 상태로 제어한다.The second scan pulse Scan2 is generated at the ON level during the initialization period Ti and the emission period Te to turn on the second TFT T2 and is turned off during the sampling period Ts. Level and controls the second TFT T2 to be in the off state.

OLED는 제4 노드(N4)와 저전위 전원 전압(VSS) 사이에 접속되어 구동 TFT(DT)로부터 인가되는 구동 전류에 따라 발광한다.The OLED is connected between the fourth node N4 and the low potential power supply voltage VSS and emits light in accordance with the driving current applied from the driving TFT DT.

구동 TFT(DT)는 자신의 게이트-소스 간 전압에 따라 OLED에 흐르는 구동 전류를 제어한다. 구동 TFT(DT)의 게이트는 제1 노드(N1)에 접속되고, 소스는 고전위 전원 전압(VDD)의 입력단에 접속되며, 드레인은 제3 노드(N3)에 접속된다.The driving TFT DT controls the driving current flowing in the OLED according to its gate-source voltage. The gate of the driving TFT DT is connected to the first node N1, the source is connected to the input terminal of the high potential power supply voltage VDD, and the drain is connected to the third node N3.

제1 TFT(T1)는 제1 스캔 펄스(Scan1)에 응답하여 데이터라인(DL)과 제2 노드(N2) 사이의 전류 패스를 온/오프 시킨다. 제1 TFT(T1)의 게이트는 제1 스캔라인(GL)에 접속되고, 소스는 데이터라인(DL)에 접속되며, 드레인은 제2 노드(N2)에 접속된다.The first TFT T1 turns on / off the current path between the data line DL and the second node N2 in response to the first scan pulse Scan1. The gate of the first TFT T1 is connected to the first scan line GL, the source is connected to the data line DL, and the drain is connected to the second node N2.

제2 TFT(T2)는 제1 스캔 펄스(Scan1)에 응답하여 제1 노드(N1)와 제3 노드(N3) 사이의 전류 패스를 온/오프 시킨다. 제2 TFT(T2)의 게이트는 제1 스캔라인(GL)에 접속되고, 소스는 제1 노드(N1)에 접속되며, 드레인은 제3 노드(N3)에 접속된다.The second TFT T2 turns on / off the current path between the first node N1 and the third node N3 in response to the first scan pulse Scan1. The gate of the second TFT T2 is connected to the first scan line GL, the source is connected to the first node N1, and the drain is connected to the third node N3.

제3 TFT(T3)는 제1 스캔 펄스(Scan1)에 응답하여 기준전압(Vref)의 입력단과 제4 노드(N4) 사이의 전류 패스를 온/오프 시킨다. 제3 TFT(T3)의 게이트는 제1 스캔라인(GL)에 접속되고, 소스는 기준전압(Vref)의 입력단에 접속되며, 드레인은 제4 노드(N4)에 접속된다.The third TFT T3 turns on / off the current path between the input terminal of the reference voltage Vref and the fourth node N4 in response to the first scan pulse Scan1. The gate of the third TFT T3 is connected to the first scan line GL, the source thereof is connected to the input terminal of the reference voltage Vref, and the drain thereof is connected to the fourth node N4.

제4 TFT(T4)는 제2 스캔 펄스(Scan2)에 응답하여 기준전압(Vref)의 입력단과 제2 노드(N2) 사이의 전류 패스를 온/오프 시킨다. 제4 TFT(T4)의 게이트는 제2 스캔라인(GL)에 접속되고, 소스는 기준전압(Vref)의 입력단에 접속되며, 드레인은 제2 노드(N2)에 접속된다.The fourth TFT T4 turns on / off the current path between the input terminal of the reference voltage Vref and the second node N2 in response to the second scan pulse Scan2. The gate of the fourth TFT T4 is connected to the second scan line GL, the source thereof is connected to the input terminal of the reference voltage Vref, and the drain thereof is connected to the second node N2.

제5 TFT(T5)는 제2 스캔 펄스(Scan2)에 응답하여 제3 노드(N3)와 제4 노드(N4) 사이의 전류 패스를 온/오프 시킨다. 제5 TFT(T5)의 게이트는 제2 스캔라인(GL)에 접속되고, 소스는 제3 노드(N3)에 접속되며, 드레인은 제4 노드(N4)에 접속된다. 스토리지 커패시터(Cst)는 제1 노드(N1)와 제2 노드(N2) 사이에 접속된다.The fifth TFT T5 turns on / off the current path between the third node N3 and the fourth node N4 in response to the second scan pulse Scan2. The gate of the fifth TFT T5 is connected to the second scan line GL, the source is connected to the third node N3, and the drain is connected to the fourth node N4. The storage capacitor Cst is connected between the first node N1 and the second node N2.

초기화 기간(Ti) 동안 제1 내지 제5 TFT(T1 내지 T5)가 ON 레벨의 제1 및 제2 스캔 펄스(Scan1, Scan2)에 응답하여 턴-온(turn-on)된다. 초기화 기간(Ti) 동안 제1 내지 제4 노드(N1내지N4)의 전압은 기준 전압(Vref)으로 초기화된다.During the initialization period Ti, the first to fifth TFTs T1 to T5 are turned on in response to the first and second scan pulses Scan1 and Scan2 at the ON level. During the initialization period Ti, the voltages of the first to fourth nodes N1 to N4 are initialized to the reference voltage Vref.

샘플링 기간(Ts) 동안 제1 내지 제3 TFT(T1 내지 T3)는 ON 레벨의 제1 스캔 펄스(Scan1)에 응답하여 턴 온(turn-on) 상태를 유지하는 데 반해, 제4 및 제5 TFT(T4, T5)는 OFF 레벨의 제2 스캔 펄스(Scan2)에 응답하여 턴 오프(turn-off) 된다. 샘플링 기간(Ts) 동안 데이터전압(Vdata)은 데이터라인(DL)을 통해 제2 노드(N2)에 인가된다. 샘플링 기간(Ts) 동안, 제1 및 제3 노드(N1, N3)의 전위는 "VDD-Vth"가 된다. Vth는 구동 TFT(DT)의 문턱전압을 지시한다.During the sampling period Ts, the first to third TFTs T1 to T3 maintain a turn-on state in response to the first scan pulse Scan1 at the ON level, whereas the fourth and fifth TFTs The TFTs T4 and T5 are turned off in response to the second scan pulse Scan2 of the OFF level. During the sampling period Ts, the data voltage Vdata is applied to the second node N2 through the data line DL. During the sampling period Ts, the potentials of the first and third nodes N1 and N3 become "VDD-Vth ". Vth indicates the threshold voltage of the driving TFT DT.

에미션 기간(Te)은 샘플링 기간(Ts) 이후부터 그 다음 프레임의 초기화 기간(Ti)까지 연속된다. 에미션 기간(Te) 동안 제1 내지 제3 TFT(T1 내지 T3)는 OFF 레벨의 제1 스캔 펄스(Scan1)에 응답하여 턴 오프(turn-off)되고, 제4 및 제5 TFT(T4, T5)는 ON 레벨의 제2 스캔 펄스(Scan2)에 응답하여 턴 온(turn-on) 된다.The emission period Te continues from the sampling period Ts to the initialization period Ti of the next frame. During the emission period Te, the first to third TFTs T1 to T3 are turned off in response to the first scan pulse Scan1 of the OFF level, and the fourth and fifth TFTs T4, T5 are turned on in response to the second scan pulse Scan2 of the ON level.

에미션 기간(Te) 동안 제2 노드(N2)에는 기준전압(Vref)이 인가되며, 제2 노드(N2)의 전위 변화분(Vref-Vdata)은 제1 노드(N1)에 반영된다. 에미션 기간(Te) 동안 제1 노드(N1)의 전위는 "(VDD-Vth)+(Vref-Vdata)"로 프로그래밍 된다. 따라서, 에미션 기간(Te) 동안, 구동 TFT(DT)의 게이트-소스 간 전압(Vgs)은 "Vdata-Vref+Vth"으로 프로그래밍된다. OLED는 에미션 기간(Te) 동안 OLED에 흐르는 구동 전류(Ioled)에 의해 발광되어 입력 영상의 밝기를 표현한다.The reference voltage Vref is applied to the second node N2 during the emission period Te and the potential change Vref-Vdata of the second node N2 is reflected to the first node N1. During the emission period Te, the potential of the first node N1 is programmed to "(VDD-Vth) + (Vref-Vdata) ". Therefore, during the emission period Te, the gate-source voltage Vgs of the driving TFT DT is programmed to "Vdata-Vref + Vth". The OLED emits light by the driving current Ioled flowing through the OLED during the emission period Te to express the brightness of the input image.

게이트 구동회로(120)와 액티브영역(AA) 사이(이하, "링크 영역"이라 함)(LN)에는 유기 및/또는 무기 절연물질을 포함하는 절연층들을 사이에 두고, 다수의 구동 소자 및 서로 다른 신호(또는, 전압)가 인가되는 전극들이 배치된다. 예를 들어, 도 2의 AR 영역을 참조하면, 링크 영역(LN)에는 기준전압 라우팅부(113), 보상 커패시터(116), AP 스위치 회로(115)가 구비될 수 있다. 이 경우, 링크 영역(LN)에는, 기준 전압(Vref)이 인가되는 기준전압 라우팅 라인, 보상 커패시터(116)를 형성하는 커패시터 전극, AP 스위치 회로(115) 소자들이 배치될 수 있다. 게이트 구동회로(120)로부터 액티브영역(AA)으로 공급되는 스캔 펄스는 제1 도전층(M1)을 통해 전달되며, 제1 도전층(M1)은 링크 영역(LN)을 지나간다. An insulating layer including organic and / or inorganic insulating materials is interposed between the gate driving circuit 120 and the active area AA (hereinafter referred to as "link area") LN, Electrodes to which other signals (or voltages) are applied are disposed. For example, referring to the AR region of FIG. 2, the reference voltage routing unit 113, the compensation capacitor 116, and the AP switch circuit 115 may be provided in the link region LN. In this case, the reference voltage routing line to which the reference voltage Vref is applied, the capacitor electrode forming the compensation capacitor 116, and the AP switch circuit 115 elements may be disposed in the link region LN. The scan pulse supplied from the gate driving circuit 120 to the active area AA is transmitted through the first conductive layer M1 and the first conductive layer M1 passes through the link area LN.

링크 영역(LN)에는 서로 다른 신호가 인가되는 다수의 신호 라인 및 구동 소자들이 배치되기 때문에, 이들이 단락(short circuit)되지 않도록 서로 이격되면서도 베젤 영역(BZ)을 줄일 수 있는 적절한 레이어(layer) 설계 방안이 요구된다. Since a plurality of signal lines and driving elements to which different signals are applied are arranged in the link area LN, a proper layer design that can reduce the bezel area BZ while being spaced apart from each other so that they are not short-circuited A solution is required.

구체적으로, 도 12를 참조하여 링크 영역(LN)에서의 층간 배치 구조를 설명한다. 도 12는 링크 영역의 층간 배치 구조를 설명하기 위한 단면도이다. Specifically, the interlayer arrangement structure in the link area LN will be described with reference to FIG. 12 is a cross-sectional view for explaining the interlayer arrangement structure of the link area.

도 12를 참조하면, 기판(SUB) 상에는 서로 다른 신호가 인가되는 3개의 도전층들 즉, 제1 도전층(M1), 제2 도전층(M2), 및 제3 도전층(M3)이 절연층들을 사이에 두고 서로 다른 층에 배치된다. 12, three conductive layers, i.e., a first conductive layer M1, a second conductive layer M2, and a third conductive layer M3, to which different signals are applied, are formed on a substrate SUB And are disposed on different layers with layers therebetween.

기판(SUB) 상에는 버퍼층(BUF)과 게이트 절연막(GI)이 형성된다. 제1 도전층(M1)은 게이트 절연막(GI) 위에 형성된다. 제1 도전층(M1)에는 게이트 구동회로(120)로부터 제1 스캔 펄스가 인가된다. 제1 도전층(M1)은 게이트 구동회로(120)로부터 연장된다. 제1 도전층(M1)은 액티브영역(AA)의 스캔라인(GL)과 동일층에 형성되며, 스캔라인(GL)과 전기적으로 연결된다. 제1 도전층(M1)과 스캔라인(GL)은 한 몸체로 게이트 구동회로(120)로부터 연장되어 형성될 수 있다. 제1 스캔 펄스는 게이트 구동회로(120)로부터 제1 도전층(M1)을 통해 스캔라인(GL)으로 전달된다. 제1 도전층(M1)에 제1 스캔 펄스가 인가되는 경우를 예로 들어 설명하였으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 본 발명은 제1 도전층(M1)에 게이트 구동회로(120)로부터 인가되는 스캔 신호들 중 어느 하나가 인가되는 경우를 모두 포함할 수 있다. A buffer layer BUF and a gate insulating film GI are formed on the substrate SUB. The first conductive layer M1 is formed on the gate insulating film GI. A first scan pulse is applied to the first conductive layer (M1) from the gate driving circuit (120). The first conductive layer (M1) extends from the gate drive circuit (120). The first conductive layer M1 is formed on the same layer as the scan line GL of the active area AA and is electrically connected to the scan line GL. The first conductive layer M1 and the scan line GL may extend from the gate driving circuit 120 as a body. The first scan pulse is transmitted from the gate driving circuit 120 to the scan line GL through the first conductive layer M1. The case where the first scan pulse is applied to the first conductive layer M1 has been described as an example, but the present invention is not limited thereto. The present invention may include all the cases where any one of the scan signals applied from the gate driving circuit 120 is applied to the first conductive layer M1.

제2 도전층(M2)은 제1 절연층(IN1)을 사이에 두고, 제1 도전층(M1) 위에 형성된다. 제2 도전층(M2)은 액티브영역(AA)의 데이터라인(DL)과 전기적으로 연결되어 데이터 전압을 인가받을 수 있다. 이 경우, 제2 도전층(M2)과 데이터라인(DL)은 서로 다른 층에 형성된다. 데이터라인(DL)은 제3 도전층(M3)과 동일한 층에 형성되어, 제1 절연층(IN1)을 관통하는 콘택홀을 통해 제2 도전층(M2)과 접촉된다. 링크 영역(LN)에서, 제1 도전층(M1)과 제2 도전층(M2)은, 제1 절연층(IN1)을 사이에 두고 중첩되어 제1 커패시터(C1)를 형성한다. 제1 커패시터(C1)는 데이터라인(DL)의 커패시터 편차에 의한 휘도 불균일을 방지하기 위해 구비된 보상 커패시터(116)로써 기능한다. The second conductive layer M2 is formed on the first conductive layer M1 with the first insulating layer IN1 therebetween. The second conductive layer M2 may be electrically connected to the data line DL of the active area AA to receive the data voltage. In this case, the second conductive layer M2 and the data line DL are formed in different layers. The data line DL is formed in the same layer as the third conductive layer M3 and is in contact with the second conductive layer M2 through the contact hole passing through the first insulating layer IN1. In the link region LN, the first conductive layer M 1 and the second conductive layer M 2 are overlapped with each other with the first insulating layer IN 1 interposed therebetween to form the first capacitor C 1. The first capacitor C1 functions as a compensation capacitor 116 provided to prevent luminance unevenness due to capacitor deviation of the data line DL.

제3 도전층(M3)은 제2 절연층(IN2)을 사이에 두고, 제2 도전층(M2) 위에 형성된다. 제2 도전층(M2)은 기준전압(Vref)이 인가되는 REF 라우팅 라인일 수 있다. 제3 도전층(M3)은 액티브영역(AA)의 데이터라인(DL)과 동일층에 형성된다. 제2 도전층(M2)이 데이터라인(DL)과 전기적으로 연결된 경우, 링크 영역(LN)에서 제2 도전층(M2)과 제3 도전층(M3)은 제2 절연층(IN2)을 사이에 두고 중첩되어 제2 커패시터(C2)를 형성한다. 제2 커패시터(C2)는 데이터라인들(DL)의 커패시터 편차에 의한 휘도 불균일을 방지하기 위해 구비된 보상 커패시터(116)로써 기능한다.The third conductive layer M3 is formed on the second conductive layer M2 with the second insulating layer IN2 interposed therebetween. The second conductive layer M2 may be a REF routing line to which the reference voltage Vref is applied. The third conductive layer M3 is formed on the same layer as the data line DL of the active area AA. When the second conductive layer M2 is electrically connected to the data line DL, the second conductive layer M2 and the third conductive layer M3 in the link region LN are sandwiched between the second insulating layer IN2 So that the second capacitor C2 is formed. The second capacitor C2 functions as a compensation capacitor 116 provided to prevent luminance unevenness due to capacitor deviation of the data lines DL.

이와 같이 다층의 도전층들이 적층된 링크 영역(LN)에서, 소정의 두께(t1)를 갖는 제1 도전층(M1)에 기인하여 스텝 커버리지(step coverage) 불량이 발생할 수 있다. 제1 도전층(M1) 상의 절연층에는 스텝 커버리지 불량에 의해 부분적으로 얇아지는 부분이 생길 수 있고, 이 부분에 전류가 집중하게 되어, 서로 다른 신호가 인가되는 도전층들이 서로 단락(short circuit)되는 불량이 발생할 수 있다. 예를 들어, 정전기가 인가되면 제1 도전층(M1)과 제2 도전층(M2) 사이의 절연층이 녹아 절연 파괴를 초래하여 이웃한 제1 도전층(M1)과 제2 도전층(M2)이 단락될 수 있고, 이웃한 제1 도전층(M1)과 제2 도전층(M2)을 통해 큰 전류가 구동회로 등에 유입되어 그 회로가 손상될 수 있다. 스텝 커버리지 불량에 의한 도전층들의 단락 문제는, 제1 도전층(M1)과 제2 도전층(M2) 사이의 거리(G1)가 가까울수록 더욱 문제된다.In the link region LN in which the multilayered conductive layers are stacked, the step coverage failure may occur due to the first conductive layer M1 having the predetermined thickness t1. A portion of the insulating layer on the first conductive layer M1 may become thinner due to defective step coverage, and a current may be concentrated on the portion, so that the conductive layers to which different signals are applied are short- May occur. For example, when the static electricity is applied, the insulating layer between the first conductive layer M 1 and the second conductive layer M 2 melts to cause dielectric breakdown, and the neighboring first conductive layer M 1 and the second conductive layer M 2 ) May be short-circuited, and a large current may flow into the driver circuit or the like through the neighboring first conductive layer (M1) and the second conductive layer (M2), and the circuit may be damaged. The short circuit problem of the conductive layers due to the step coverage failure is more problematic as the distance G1 between the first conductive layer M1 and the second conductive layer M2 is closer.

이하, 도 13 내지 17 참조하여, 전술한 문제점을 해결한 본 발명의 바람직한 실시예를 설명한다. 도 13은 본 발명의 바람직한 실시예에 의한 게이트 구동회로와 액티브영역의 연결관계를 개략적으로 도시한 블록도이다. 도 14 내지 16은 본 발명의 바람직한 실시예를 설명하기 위해 링크 영역의 층간 배치 구조를 개략적으로 도시한 단면도들이다. 도 17은 본 발명의 바람직한 실시예에 의한 효과를 설명하기 위한 도면들이다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention in which the above-described problems are solved will be described with reference to Figs. 13 is a block diagram schematically illustrating a connection relationship between a gate driving circuit and an active region according to a preferred embodiment of the present invention. Figs. 14 to 16 are cross-sectional views schematically showing an inter-layer arrangement structure of a link region to explain a preferred embodiment of the present invention. 17 is a view for explaining effects according to a preferred embodiment of the present invention.

도 13 및 도 14를 참조하면, 링크 영역(LN)의 기판(SUB) 상에는 보조 도전층(M4)이 형성된다. 보조 도전층(M4)에는 게이트 구동회로(120)로부터 제1 스캔 펄스가 인가된다. 제1 스캔 펄스는 보조 도전층(M4)을 통해 액티브영역(AA)의 스캔라인(GL)에 전달된다. 이를 위하여, 보조 도전층(M4)의 일단은 게이트 구동회로(120)로부터 연장된 제1 도전층(M1)과 전기적으로 연결된다. 제1 도전층(M1)과 보조 도전층(M4)은 전기적으로 연결되어 게이트 구동회로(120)로부터의 제1 스캔 펄스를 스캔라인(GL)으로 공급하는 신호 전송 경로가 된다. 보조 도전층(M4)의 타단은 액티브영역(AA)의 스캔라인(GL)과 전기적으로 연결된다. 13 and 14, an auxiliary conductive layer M4 is formed on the substrate SUB of the link region LN. A first scan pulse is applied from the gate drive circuit 120 to the auxiliary conductive layer M4. The first scan pulse is transmitted to the scan line GL of the active area AA through the auxiliary conductive layer M4. To this end, one end of the auxiliary conductive layer M4 is electrically connected to the first conductive layer M1 extending from the gate drive circuit 120. [ The first conductive layer M1 and the auxiliary conductive layer M4 are electrically connected to each other and serve as a signal transmission path for supplying the first scan pulse from the gate drive circuit 120 to the scan line GL. The other end of the auxiliary conductive layer M4 is electrically connected to the scan line GL of the active area AA.

다시 말해, 게이트 구동회로(120)와 연결된 제1 도전층(M1) 및 액티브영역(AA)의 스캔라인(GL)은, 동일층 상에서 서로 분리된다. 보조 도전층(M4)은 제1 도전층(M1) 및 스캔라인(GL)의 아래에 배치된다. 보조 도전층(M4)과, 제1 도전층(M1) 및 스캔라인(GL) 사이에는 하나 이상의 절연층이 개재된다. 보조 도전층(M4)은 제1 도전층(M1)을 스캔라인(GL)에 전기적으로 연결하여, 제1 도전층(M1)을 통해 인가된 제1 스캔 펄스를 스캔라인(GL)으로 전달한다.In other words, the first conductive layer M1 connected to the gate driving circuit 120 and the scan lines GL of the active area AA are separated from each other on the same layer. The auxiliary conductive layer M4 is disposed under the first conductive layer M1 and the scan line GL. At least one insulating layer is interposed between the auxiliary conductive layer M4 and the first conductive layer M1 and the scan line GL. The auxiliary conductive layer M4 electrically connects the first conductive layer M1 to the scan line GL and transmits the first scan pulse applied through the first conductive layer M1 to the scan line GL .

도 15를 더 참조하면, 게이트 구동회로(120)와 링크 영역(LN)이 이웃한 영역에서, 게이트 구동회로(120)로부터 연장된 제1 도전층(M1)과 링크 영역(LN)에 형성된 보조 도전층(M4)은, 전기적으로 연결된다. 즉, 제1 도전층(M1)과 보조 도전층(M4)은 게이트 절연막(GI)과 버퍼층(BUF)을 관통하는 제1 콘택홀(CH1)을 통해 접촉될 수 있다. 15, the gate drive circuit 120 and the auxiliary region formed in the first conductive layer M1 and the link region LN extending from the gate drive circuit 120 in the region where the link region LN is adjacent to the gate drive circuit 120, The conductive layer M4 is electrically connected. That is, the first conductive layer M1 and the auxiliary conductive layer M4 may be in contact through the first contact hole CH1 passing through the gate insulating film GI and the buffer layer BUF.

도 16을 더 참조하면, 링크 영역(LN)과 액티브영역(AA)이 이웃한 영역에서, 링크 영역(LN)에 형성된 보조 도전층(M4)과 액티브영역(AA)에 형성된 스캔라인(GL)은, 전기적으로 연결된다. 즉, 보조 도전층(M4)과 스캔라인(GL)은 게이트 절연막(GI)과 버퍼층(BUF)을 관통하는 제2 콘택홀(CH2)을 통해 접촉될 수 있다. 이상에서는, 제1 스캔 펄스가 인가되는 신호 전송 경로만을 예로 들어 설명하였으나, 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니다. 본 발명의 바람직한 실시예는 게이트 구동회로(120)로부터 인가된 어느 하나의 신호가 진행하는 신호 경로에 모두 적용될 수 있다. 16, the auxiliary conductive layer M4 formed in the link region LN and the scan line GL formed in the active region AA in the region where the link region LN and the active region AA are adjacent to each other, Are electrically connected. That is, the auxiliary conductive layer M4 and the scan line GL can be contacted through the second contact hole CH2 passing through the gate insulating film GI and the buffer layer BUF. Although the signal transmission path to which the first scan pulse is applied has been described above, the present invention is not limited thereto. The preferred embodiment of the present invention can be applied to all the signal paths in which any one signal applied from the gate driving circuit 120 proceeds.

본 발명의 바람직한 실시예는, 링크 영역(LN)에서 스캔 펄스가 전달되는 신호 전송 경로로 제1 도전층(M1) 대신 보조 도전층(M4)을 이용한다. 이때, 보조 도전층(M4)은 제1 도전층(M1)보다 얇은 두께(t2)를 갖도록 형성된다. 이에 따라, 본 발명은, 스캔 펄스의 신호 전송 경로로써 제1 도전층(M1)만을 이용함에 따라 발생하는 스텝 커버리지 불량을 방지할 수 있다. 설사, 스텝 커버리지 불량이 발생하더라도 보조 도전층(M4)과 제2 도전층(M2) 사이에 충분한 거리(G2)를 확보함으로써, 서로 다른 신호가 인가되는 제2 도전층(M2)과 보조 도전층(M4) 사이에서 단락이 발생하는 문제를 방지할 수 있다. A preferred embodiment of the present invention uses an auxiliary conductive layer M4 instead of the first conductive layer M1 as a signal transmission path through which a scan pulse is transmitted in the link region LN. At this time, the auxiliary conductive layer M4 is formed to have a thickness t2 that is thinner than the first conductive layer M1. Thus, the present invention can prevent a step coverage failure caused by using only the first conductive layer (M1) as a signal transmission path of a scan pulse. A sufficient distance G2 between the auxiliary conductive layer M4 and the second conductive layer M2 is ensured even if a step coverage failure occurs so that the second conductive layer M2 to which different signals are applied and the auxiliary conductive layer M2, It is possible to prevent a problem that short-circuiting occurs between the first and second terminals M4.

링크 영역(LN)에서, 제2 도전층(M2)은 버퍼층(BUF), 게이트 절연막(GI), 제1 절연층(IN1)을 사이에 두고, 보조 도전층(M4) 위에 형성된다. 제2 도전층(M2)은 액티브영역(AA)의 데이터라인(DL)과 전기적으로 연결될 수 있다. 이 경우, 제2 도전층(M2)과 데이터라인(DL)은 서로 다른 층에 형성된다. 데이터라인(DL)은 제3 도전층(M3)과 동일한 층에 형성되어, 제1 절연층(IN1)을 관통하는 콘택홀을 통해 제2 도전층(M2)과 접촉된다. 링크 영역(LN)에서, 보조 도전층(M4)과 제2 도전층(M2)은, 제1 절연층(IN1), 게이트 절연막(GI), 버퍼층(BUF)을 사이에 두고 중첩되어 제1' 커패시터(C1')를 형성한다. 제1' 커패시터(C1')는 데이터라인(DL)의 커패시터 편차에 의한 휘도 불균일을 방지하기 위해 구비된 보상 커패시터(116)로써 기능한다. In the link region LN, the second conductive layer M2 is formed on the auxiliary conductive layer M4 with the buffer layer BUF, the gate insulating film GI, and the first insulating layer IN1 interposed therebetween. The second conductive layer M2 may be electrically connected to the data line DL of the active area AA. In this case, the second conductive layer M2 and the data line DL are formed in different layers. The data line DL is formed in the same layer as the third conductive layer M3 and is in contact with the second conductive layer M2 through the contact hole passing through the first insulating layer IN1. In the link region LN, the auxiliary conductive layer M4 and the second conductive layer M2 are stacked with the first insulating layer IN1, the gate insulating film GI, and the buffer layer BUF interposed therebetween, Thereby forming the capacitor C1 '. The first capacitor C1 'functions as a compensation capacitor 116 provided to prevent luminance unevenness due to capacitor deviation of the data line DL.

제3 도전층(M3)은 제2 절연층(IN2)을 사이에 두고, 제2 도전층(M2) 위에 형성된다. 제2 도전층(M2)은 기준전압(Vref)이 인가되는 REF 라우팅 라인일 수 있다. 제3 도전층(M3)은 액티브영역(AA)의 데이터라인(DL)과 동일층에 형성된다. 제2 도전층(M2)이 데이터라인(DL)과 전기적으로 연결된 경우, 링크 영역(LN)에서 제2 도전층(M2)과 제3 도전층(M3)은 제2 절연층(IN2)을 사이에 두고 중첩되어 제2 커패시터(C2)를 형성한다. 제2 커패시터(C2)는 데이터라인(DL)의 커패시터 편차에 의한 휘도 불균일을 방지하기 위해 구비된 보상 커패시터(116)로써 기능한다.The third conductive layer M3 is formed on the second conductive layer M2 with the second insulating layer IN2 interposed therebetween. The second conductive layer M2 may be a REF routing line to which the reference voltage Vref is applied. The third conductive layer M3 is formed on the same layer as the data line DL of the active area AA. When the second conductive layer M2 is electrically connected to the data line DL, the second conductive layer M2 and the third conductive layer M3 in the link region LN are sandwiched between the second insulating layer IN2 So that the second capacitor C2 is formed. The second capacitor C2 functions as a compensation capacitor 116 provided to prevent luminance unevenness due to capacitor deviation of the data line DL.

도 17의 (a)를 더 참조하면, 액티브영역(AA)이 이형인 경우, 액티브영역(AA)의 스캔라인들(GL)은 형성 위치에 따라 그 길이가 상이하다. 즉, 액티브영역(AA)의 중심부에 배치된 스캔라인들(GL_C)과 외곽부에 배치되는 스캔라인들(GL_E)의 길이는 서로 상이하다. 이에 따라, 스캔라인들(GL_C, GL_E) 사이에는 로드 편차가 발생할 수 있다. 본 발명의 바람직한 실시예는 스캔라인(GL)에 스캔펄스를 공급하기 위한 신호 전송 경로를, 보조 도전층(M4)을 경유하도록 형성함으로써 스캔라인들(GL_C, GL_E)의 로드 편차 보상을 용이하게 할 수 있다. Referring to FIG. 17A, when the active area AA is a release type, the lengths of the scan lines GL in the active area AA are different depending on the formation position. That is, the lengths of the scan lines GL_C arranged in the central part of the active area AA and the lengths of the scan lines GL_E arranged in the outer part are different from each other. Accordingly, a load deviation may occur between the scan lines GL_C and GL_E. The preferred embodiment of the present invention facilitates the load deviation compensation of the scan lines GL_C and GL_E by forming the signal transmission path for supplying the scan pulse to the scan line GL via the auxiliary conductive layer M4 can do.

스캔라인들(GL)의 편차 보상을 위해, 다른 길이를 갖는 스캔라인들(GL)에 인가되는 스캔펄스의 시상수(t = R×C)를 맞출 필요가 있다. 본 발명의 바람직한 실시예는 스캔라인들(GL_C, GL_E)에 스캔펄스가 전달되는 신호 전송 경로들의 저항(R_C, R_E)을 다르게 설계하여 스캔라인들(GL) 사이의 로드 편차를 줄일 수 있다.It is necessary to match the time constant (t = R x C) of the scan pulse applied to the scan lines GL having different lengths in order to compensate for the deviation of the scan lines GL. The preferred embodiment of the present invention can reduce the load deviation between the scan lines GL by designing the resistances R_C and R_E of the signal transmission paths through which the scan pulse is transmitted to the scan lines GL_C and GL_E.

예를 들어, 도 17의(b)와 같이, 게이트 구동회로(120)로부터 스캔라인들(GL_C, GL_E)에 스캔펄스를 전달하는 신호 전송 경로들(P_C, P_E)의 길이를 서로 다르게 할 수 있다. 신호 전송 경로들(P_C, P_E) 중 길이 변형이 이루어지는 부분은 링크 영역(LN)의 보조 도전층(M4)일 수 있다. 즉, 액티브영역(AA)의 중심부에 배치된 스캔라인들(GL_C)에 연결되는 보조 도전층(M4)(P_C)과, 외곽부에 배치된 스캔라인들(GL_E)에 연결되는 보조 도전층(M4)(P_E)의 길이를 서로 다르게 형성하여 그 저항값(R_C, R_E)을 각각 다르게 할 수 있다. 액티브영역(AA)에 형성된 스캔라인들(GL)과 연결된 보조 도전층(M4)들 중 적어도 어느 하나의 길이는 다른 하나의 길이와 다를 수 있다. 도시한 바와 같이, 액티브영역(AA)의 외곽부에 배치된 스캔라인들(GL_E)에 연결되는 보조 도전층(M4)(P_E)의 평면 형상은 계단 패턴일 수 있다. 다만, 이에 한정되는 것은 아니다. 보조 도전층(M4)들 각각의 길이는, 대응되는 스캔라인(GL)의 길이에 따라 로드 편차를 보상할 수 있는 적절한 저항값을 갖도록 선택될 수 있다. For example, as shown in FIG. 17B, the lengths of the signal transmission paths P_C and P_E for transferring the scan pulse from the gate driving circuit 120 to the scan lines GL_C and GL_E may be different from each other have. The length of the signal transmission paths P_C and P_E may be the auxiliary conductive layer M4 of the link region LN. That is, the auxiliary conductive layer M4 (P_C) connected to the scan lines GL_C disposed at the center of the active area AA and the auxiliary conductive layer (M_4) connected to the scan lines GL_E M4, and P_E may be formed to have different lengths so that the resistance values R_C and R_E may be different from each other. The length of at least one of the auxiliary conductive layers M4 connected to the scan lines GL formed in the active area AA may be different from the length of the other. As shown, the planar shape of the auxiliary conductive layer M4 (P_E) connected to the scan lines GL_E disposed in the outer portion of the active area AA may be a stepped pattern. However, the present invention is not limited thereto. The length of each of the auxiliary conductive layers M4 may be selected to have an appropriate resistance value capable of compensating the load deviation according to the length of the corresponding scan line GL.

본 발명의 바람직한 실시예는 제1 도전층(M1)보다 얇은 두께를 가짐으로써 보다 높은 저항값을 갖는 보조 도전층(M4)을 이용하기 때문에, 스캔라인들(GL)의 길이 차이에 의한 로드 편차 보상에 유리하다. 또한, 본 발명의 바람직한 실시예는 스캔 펄스의 신호 전송 경로가 동일층에서 진행되지 않고 다른층에 배치된 보조 도전층(M4)을 경유하기 때문에, 그 신호 전송 경로의 길이가 길어져 보다 높은 저항값을 갖는다. 이에 따라, 스캔라인들(GL)의 길이 차이에 의한 로드 편차 보상에 유리하다. Since the preferred embodiment of the present invention uses the auxiliary conductive layer M4 having a higher resistance value by having a thickness smaller than that of the first conductive layer M1, the load variation due to the length difference of the scan lines GL It is advantageous to compensation. In the preferred embodiment of the present invention, since the signal transmission path of the scan pulse passes through the auxiliary conductive layer M4 disposed on the other layer without progressing in the same layer, the length of the signal transmission path becomes longer, Respectively. This is advantageous in compensating the load deviation due to the difference in length of the scan lines GL.

이상 설명한 내용을 통해 당업자라면 본 발명의 기술 사상을 일탈하지 아니하는 범위 내에서 다양한 변경 및 수정이 가능함을 알 수 있을 것이다. 따라서, 본 발명은 상세한 설명에 기재된 내용으로 한정되는 것이 아니라 특허 청구 범위에 의해 정해져야만 할 것이다.It will be apparent to those skilled in the art that various modifications and variations can be made in the present invention without departing from the spirit or scope of the invention. Therefore, the present invention should not be limited to the details described in the detailed description, but should be defined by the claims.

100 : 표시장치 110 : 표시패널
AA : 이형 액티브영역 BZ : 베젤 영역
111 : 데이터 라우팅부 112 : 고전위 라우팅부
113 : 기준전압 라우팅부 114 : 저전위 라우팅부
115 : AP 스위치 회로 116 : 보상 커패시터
117 : 고전위 링크 라인 118 : 기준전압 링크 라인
120 : 게이트 구동회로 140 : 데이터 구동회로
160 : 멀티플렉서
100: display device 110: display panel
AA: Release active area BZ: Bezel area
111: data routing unit 112: high-potential routing unit
113: Reference voltage routing unit 114: Low potential routing unit
115: AP switch circuit 116: compensation capacitor
117: high potential link line 118: reference voltage link line
120: Gate driving circuit 140: Data driving circuit
160: multiplexer

Claims (8)

스캔라인들과 데이터라인들에 의해 구획된 픽셀들을 갖는 이형 액티브영역;
상기 액티브영역의 외측에 위치하는 베젤 영역;
상기 베젤 영역에 배치되며, 스캔 펄스를 발생하는 게이트 구동회로;
상기 베젤 영역에 배치되며, 상기 게이트 구동회로로부터 스캔 펄스가 인가되는 제1 도전층; 및
상기 베젤 영역에 배치되며, 상기 제1 도전층을 상기 스캔 라인에 전기적으로 연결하여 상기 제1 도전층으로부터의 스캔 펄스를 상기 스캔라인으로 전달하는 보조 도전층을 포함하고,
상기 제1 도전층 및 상기 스캔라인은, 동일층 상에서 서로 분리되고,
상기 보조 도전층은, 상기 제1 도전층 및 상기 스캔라인과 서로 다른 층에 배치된 표시장치.
A release active area having pixels delimited by scan lines and data lines;
A bezel region located outside the active region;
A gate driving circuit disposed in the bezel region for generating a scan pulse;
A first conductive layer disposed in the bezel region and to which a scan pulse is applied from the gate driving circuit; And
And an auxiliary conductive layer disposed in the bezel region and electrically connecting the first conductive layer to the scan line to transmit a scan pulse from the first conductive layer to the scan line,
The first conductive layer and the scan line are separated from each other on the same layer,
Wherein the auxiliary conductive layer is disposed on a different layer from the first conductive layer and the scan line.
제 1 항에 있어서,
상기 보조 도전층과, 상기 제1 도전층 및 상기 스캔라인 사이에 개재된 적어도 하나 이상의 절연층을 더 포함하는 표시장치.
The method according to claim 1,
The auxiliary conductive layer, and at least one insulating layer interposed between the first conductive layer and the scan line.
제 1 항에 있어서,
상기 보조 도전층은,
상기 제1 도전층 보다 얇은 두께를 갖는 표시장치.
The method according to claim 1,
Wherein the auxiliary conductive layer
Wherein the first conductive layer has a thickness smaller than that of the first conductive layer.
제 1 항에 있어서,
상기 스캔 라인들과 연결된 상기 보조 도전층들 중 적어도 어느 하나는 다른 하나와 그 저항값을 달리하는 표시장치.
The method according to claim 1,
Wherein at least one of the auxiliary conductive layers connected to the scan lines has a different resistance value from the other.
제 1 항에 있어서,
상기 스캔라인들과 연결된 상기 보조 도전층들 중 적어도 어느 하나는 다른 하나와 길이가 상이한 표시장치.
The method according to claim 1,
Wherein at least one of the auxiliary conductive layers connected to the scan lines is different in length from the other.
제 1 항에 있어서,
상기 게이트 구동회로와 상기 액티브영역 사이에 정의되며, 상기 보조 도전층이 배치되는 링크 영역;
상기 제1 도전층 및 상기 스캔라인 위에 배치되고, 상기 데이터라인과 연결되어 데이터 전압을 인가받는 제2 도전층; 및
상기 제2 도전층과, 상기 제1 도전층 및 상기 스캔라인 사이에 개재된 하나 이상의 절연층을 더 포함하고,
상기 제2 도전층은,
상기 링크 영역에서, 상기 보조 도전층과 중첩되어 제1 커패시터를 형성하는 표시장치.
The method according to claim 1,
A link region defined between the gate driving circuit and the active region, the link region in which the auxiliary conductive layer is disposed;
A second conductive layer disposed on the first conductive layer and the scan line, the second conductive layer being connected to the data line and receiving a data voltage; And
The second conductive layer, and at least one insulating layer interposed between the first conductive layer and the scan line,
Wherein the second conductive layer comprises:
And in the link region, overlaps the auxiliary conductive layer to form a first capacitor.
제 6 항에 있어서,
상기 제2 도전층 위에 배치된 제3 도전층; 및
상기 제3 도전층과 상기 제2 도전층 사이에 개재된 하나 이상의 절연층을 더 포함하고,
상기 제2 도전층은,
상기 링크 영역에서, 상기 제3 도전층과 중첩되어 제2 커패시터를 형성하는 표시장치.
The method according to claim 6,
A third conductive layer disposed over the second conductive layer; And
Further comprising at least one insulating layer interposed between the third conductive layer and the second conductive layer,
Wherein the second conductive layer comprises:
And in the link region, overlaps with the third conductive layer to form a second capacitor.
제 1 항에 있어서,
상기 보조 도전층의 일단은,
상기 절연층을 관통하는 제1 콘택홀을 통해 상기 제1 도전층과 접속되고,
상기 보조 도전층의 타단은,
상기 절연층을 관통하는 제2 콘택홀을 통해 상기 스캔라인과 접속된 표시장치.
The method according to claim 1,
Wherein one end of the auxiliary conductive layer
A second conductive layer connected to the first conductive layer through a first contact hole passing through the insulating layer,
And the other end of the auxiliary conductive layer,
And connected to the scan line through a second contact hole passing through the insulating layer.
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