KR20170048357A - Polycarboxylic acid and polycarboxylic acid composition containing same, epoxy resin composition, thermosetting resin composition, and cured material of same, and optical semiconductor device - Google Patents

Polycarboxylic acid and polycarboxylic acid composition containing same, epoxy resin composition, thermosetting resin composition, and cured material of same, and optical semiconductor device Download PDF

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나오후사 미야가와
시즈카 아오키
마사토 야리타
에이이치 타나카
요시히로 카와다
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닛뽄 가야쿠 가부시키가이샤
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Abstract

본 발명은 경화시에 휘발이 적고 경화성이 뛰어나며, 그 경화물이 뛰어난 투명성, 경도의 경화물을 부여하고, 또한 경화물의 유리전이온도를 충분히 높일 수 있으며, 성형성이 뛰어나고, 경화물로의 착색이 적은 다가 카르복실산 및 그것을 함유하는 다가 카르복실산 조성물, 에폭시 수지 조성물, 열경화성 수지 조성물, 그 경화물, 반도체 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명의 다가 카르복실산은, 하기 식(1)으로 나타내어진다.

Figure pct00050

(식(1) 중, R1은 탄소수 1~6의 알킬렌기를, R6은 수소원자 또는 탄소수 1~10의 카르복실기를 함유하는 유기기를 각각 나타낸다. 식(1) 중, 복수 존재하는 R1, R6은 각각 동일해도 상관없고 달라도 상관없지만, 복수 존재하는 R6 중, 50몰% 이상은 탄소수 1~10의 카르복실기를 함유하는 유기기이다.)The present invention relates to a cured product which is low in volatilization and excellent in curing property at the time of curing, is excellent in transparency and hardness and can sufficiently increase the glass transition temperature of the cured product, An epoxy resin composition, a thermosetting resin composition, a cured product thereof, and a semiconductor device.
The polyvalent carboxylic acid of the present invention is represented by the following formula (1).
Figure pct00050

(Formula (1) of, R 1 is an alkylene group having 1 to 6, R 6 is a hydrogen atom or represents respectively an organic group containing a carboxyl group having 1 to 10 carbon atoms. In the formula (1), a plurality existence R 1 to And R 6 may be the same or different, but among the plural R 6 s , at least 50 mol% is an organic group containing a carboxyl group having 1 to 10 carbon atoms.)

Description

다가 카르복실산 및 그것을 함유하는 다가 카르복실산 조성물, 에폭시 수지 조성물, 열경화성 수지 조성물, 그것들의 경화물 및 광반도체 장치{POLYCARBOXYLIC ACID AND POLYCARBOXYLIC ACID COMPOSITION CONTAINING SAME, EPOXY RESIN COMPOSITION, THERMOSETTING RESIN COMPOSITION, AND CURED MATERIAL OF SAME, AND OPTICAL SEMICONDUCTOR DEVICE}TECHNICAL FIELD [0001] The present invention relates to a polycarboxylic acid and a polyvalent carboxylic acid composition containing the polycarboxylic acid, an epoxy resin composition, a thermosetting resin composition, a cured product thereof, and a photonic semiconductor device using the polycarboxylic acid composition. MATERIAL OF SAME, AND OPTICAL SEMICONDUCTOR DEVICE}

본 발명은 특히 광반도체 밀봉용, 광반도체 반사재 등의 높은 투명성, 저착색성이 요구되는 부분에 사용하는 것에 바람직한, 특히 광반도체 반사재 또는 그것을 구비하는 광반도체 장치에 사용할 경우 경화물의 유리전이온도를 충분히 높일 수 있고, 성형성이 뛰어난 다가 카르복실산 및 그것을 함유하는 다가 카르복실산 조성물, 열경화성 수지 조성물, 에폭시 수지 조성물, 그것들을 경화해서 이루어지는 경화물, 및 광반도체 장치에 관한 것이다.Particularly, the present invention relates to an optical semiconductor reflective material which is suitable for use in a part where high transparency and low coloring property are required, particularly for optical semiconductor encapsulation and optical semiconductor reflective material, A polyvalent carboxylic acid composition excellent in moldability and a polyvalent carboxylic acid composition containing the same, a thermosetting resin composition, an epoxy resin composition, a cured product obtained by curing the composition, and an optical semiconductor device.

에폭시 수지 조성물은 내열성이 뛰어난 수지로서, 건축, 토목, 자동차, 항공기 등의 분야에서 사용되고 있다. 최근, 특히 반도체 관련 재료의 분야에 있어서는 카메라 부착 휴대전화, 초박형의 액정이나 플라즈마 TV, 경량 노트북 컴퓨터 등 경·박·단·소가 키워드가 되는 제품이 넘쳐, 이것에 의해 에폭시 수지로 대표되는 패키지 재료에도 매우 높은 특성이 요구되어 오고 있다.BACKGROUND ART Epoxy resin compositions are resins having excellent heat resistance and are used in fields such as construction, civil engineering, automobiles, and aircraft. In recent years, especially in the field of semiconductor related materials, there are overflow products such as lightweight, thin, short, and small keywords such as mobile phones with a camera, ultra-thin liquid crystal, plasma TV and lightweight notebook computer, Materials have been required to have very high characteristics.

또한, 최근 옵토 일렉트로닉스 관련 분야에 있어서의 이용이 주목받고 있고, 고도 정보화에 따라 방대한 정보를 원활하게 전송, 처리하기 위해서, 종래의 전기 배선에 의한 신호 전송 대신에 광신호를 활용한 기술이 개발되어 가는 중에서, 광도파로, 청색 LED, 및 광반도체 등의 광학 부품의 분야에 있어서는 투명성이 뛰어난 경화물을 부여하는 수지 조성물의 개발이 요망되고 있다.In recent years, attention has been focused on the use in the field related to optoelectronics. In order to smoothly transmit and process vast amounts of information according to high-level informationization, techniques utilizing optical signals instead of conventional signal transmission by electric wiring have been developed In the field of optical components such as optical waveguides, blue LEDs, and optical semiconductors, it is desired to develop a resin composition which gives a cured product excellent in transparency.

일반적으로 옵토 일렉트로닉스 관련 분야에서 사용되는 에폭시 수지의 경화제로서는 산 무수물계의 화합물을 들 수 있다. 특히 포화탄화수소로 형성된 산 무수물은 경화물이 내광성이 뛰어나기 때문에 이용되는 경우가 많다. 이들 산 무수물로서는 메틸테트라히드로 무수 프탈산, 헥사히드로 무수 프탈산, 테트라히드로 무수 프탈산 등의 지환식 산 무수물이 일반적이고, 그 중에서도 상온에서 액상인 메틸테트라히드로 무수 프탈산, 메틸테트라히드로 무수 프탈산 등이 취급의 용이함 때문에 주로 사용되고 있다.As the curing agent of the epoxy resin generally used in the field of optoelectronics, an acid anhydride-based compound can be mentioned. Particularly, the acid anhydrides formed from saturated hydrocarbons are often used because the cured products are excellent in light resistance. As these acid anhydrides, alicyclic acid anhydrides such as methyltetrahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, and tetrahydrophthalic anhydride are typical. Of these, methyltetrahydrophthalic anhydride and methyltetrahydrophthalic anhydride, which are liquid at room temperature, It is mainly used because of easiness.

그러나 상기 지환식 산 무수물을 에폭시 수지의 경화제로서 사용했을 경우, 이들 화합물은 증기압이 높고 경화시에 일부가 증발하기 때문에, 에폭시 수지의 경화제로서 사용하여 개방계에서 열경화시킬 때에는 산 무수물 자체가 대기 중에 휘발해 버린다. 이 결과, 대기로의 유해물질의 방출에 의한 환경오염, 인체로의 악영향, 생산 라인의 오염, 경화물 중에 소정량의 카르복실산 무수물(경화제)이 존재하지 않는 것에 기인하는 에폭시 수지 조성물의 경화 불량이 일어나는 등의 문제가 발생한다. 경화제의 휘발에 의한 경화 조건의 편차가 경화물의 물성의 편차로 되어, 안정적으로 목적으로 한 성능을 갖는 경화물을 얻는 것이 곤란해진다.However, when these alicyclic acid anhydrides are used as curing agents for epoxy resins, these compounds have a high vapor pressure and partly evaporate during curing. Therefore, when these compounds are used as curing agents for epoxy resins and thermally cured in an open system, And volatilize. As a result, the curing of the epoxy resin composition due to the environmental pollution due to the release of harmful substances into the atmosphere, the adverse effect on the human body, the contamination of the production line, and the absence of a predetermined amount of carboxylic anhydride (curing agent) Problems such as failure occur. The deviation of the curing conditions caused by the volatilization of the curing agent becomes a deviation of the physical properties of the cured product, and it becomes difficult to stably obtain a cured product having a desired performance.

또한, 휘발의 문제는 종래의 산 무수물을 경화제로서 사용해서 구성된 광반도체 밀봉용 경화성 수지 조성물로 LED, 특히 SMD(Surface Mount Device)를 밀봉했을 때에는 현저하고, 사용하는 수지량이 적기 때문에 패임이 발생하고, 심할 경우에는 와이어가 노출되어 버린다. 또한, 땜납 리플로우시의 크랙, 박리, 장기 점등에도 견디는 것이 곤란하다고 하는 문제가 발생한다.In addition, the problem of volatilization is remarkable when an LED, particularly an SMD (Surface Mount Device) is sealed with a curable resin composition for optical semiconductor encapsulation using a conventional acid anhydride as a curing agent, and the amount of resin used is small, , And when the wire is severely exposed, the wire is exposed. Further, there arises a problem that it is difficult to withstand cracking, peeling, and long-term lighting during solder reflow.

한편, 이소시아누르환을 갖는 다가 카르복실산은, 예를 들면 특허문헌 1 등에서 에폭시 수지의 경화제로서 공지이다. 그러나, 특허문헌 1에 기재된 다가 카르복실산은 산 무수물 화합물에 용해하는 것이 곤란해서, 실온(25℃)에서 액상으로 사용하는 것이 필요한 분야에서는 적용이 곤란했다.On the other hand, a polyvalent carboxylic acid having an isocyanuric ring is known as a curing agent for an epoxy resin in, for example, Patent Document 1. However, it is difficult to dissolve the polyvalent carboxylic acid described in Patent Document 1 in an acid anhydride compound, and thus it has been difficult to apply the polyvalent carboxylic acid in a liquid state at room temperature (25 DEG C).

열경화성 수지 조성물을 반도체의 밀봉재로서 이용하거나, 반도체용 반사재로서 이용하거나 할 경우, 열경화성 수지 조성물이 광반도체가 발하는 광을 흡수하면 광반도체의 조도가 저하하기 때문에 열경화성 수지 조성물은 높은 투과율을 갖고, 광이나 열에 의한 착색이 적은 것이 바람직하다. 따라서, 열경화성 수지 조성물에 배합되는 경화제에도 높은 투과율과 광이나 열에 의한 착색이 적은 것이 요구된다. 또한, 내열성, 성형성, 신뢰성의 관점에서 경화물의 유리전이온도가 일정 온도 이상인 것이 중요하고, 성형성의 관점에서 경화제의 연화점이나 점도에 대해서도 일정 범위에 있는 것이 중요하다.When the thermosetting resin composition is used as a sealing material for semiconductors or as a reflective material for semiconductors, the light transmittance of the thermosetting resin composition is high because the lightness of the optical semiconductor is lowered when the thermosetting resin composition absorbs the light emitted by the optical semiconductor, And less coloring due to heat. Therefore, a curing agent to be mixed with the thermosetting resin composition is required to have high transmittance and little coloring due to light or heat. From the viewpoints of heat resistance, moldability, and reliability, it is important that the glass transition temperature of the cured product is a certain temperature or more, and it is important that the softening point and viscosity of the curing agent are also within a certain range from the viewpoint of moldability.

열경화성 수지용 경화제로서 사용되는 산 무수물은 휘발성이 있는 것, 또한 저융점인 점에서 금형 성형에는 알맞지 않는 것이 문제가 되고 있었다.The acid anhydrides used as the curing agent for thermosetting resins are volatile and have a low melting point, which is not suitable for mold formation.

테트라카르복실산 무수물에 대해서는 휘발성은 없지만 고융점(150℃ 이상)이기 때문에 액상 수지 조성물로서는 취급하기 어렵고, 성형성이 떨어지기 때문에 액상의 수지를 성형시키는 용도로의 사용의 곤란함을 고려하면 목적으로 하는 용도에는 알맞지 않다.Although tetracarboxylic acid anhydrides are not volatile, they are difficult to handle as a liquid resin composition because they have a high melting point (150 ° C or higher) and are poor in moldability. Therefore, considering the difficulty in use for the purpose of molding a liquid resin, It is not suitable for the use as.

카르복실산을 에폭시 수지용 경화제로서 사용하는 예도 알려져 있지만 비교적 융점이 높아(150℃ 이상) 상기와 마찬가지의 과제가 있고, 그뿐만 아니라 가열하면 착색되기 쉽기 때문에 높은 투과율을 확보하는 것이 매우 곤란한 점에서 목적으로 하는 용도에는 알맞지 않다.Although an example in which a carboxylic acid is used as a curing agent for an epoxy resin is also known, it has a comparatively high melting point (150 DEG C or more) and has the same problems as those described above. In addition to this, there is a problem that it is very difficult to secure a high transmittance It is not suitable for the intended use.

마찬가지로, 폴리카르복실산 화합물에 대해서도 고융점(150℃ 이상)인 것, 결정성이 높아 수지 혼련이 어려운 것, 또한 착색이 있는 것이 문제가 되어 목적으로 하는 용도에서는 사용할 수 없다.Likewise, polycarboxylic acid compounds also have a high melting point (150 DEG C or higher), high crystallinity and difficulty in resin kneading, and coloring problems, which can not be used in an intended use.

그 때문에, 종래 알려져 있는 재료로서 상기 목적을 달성할 수 있는 화합물은 발견할 수 없었다.Therefore, no compound capable of achieving the above object could be found as a conventionally known material.

일본국 특허 제 3765946호 공보Japanese Patent No. 3765946 국제공개 제 2005/049597호 팸플릿International Publication No. 2005/049597 pamphlet 국제공개 제 2005/121202호 팸플릿International Publication No. 2005/121202 pamphlet

본 발명은 특히 SMD 타입의 LED 밀봉재 등의 개방계에서 경화에 사용하는 경우에는 경화시에 휘발이 적고 경화성이 뛰어나고, 그 경화물은 뛰어난 투명성, 경도의 경화물을 부여하는 다가 카르복실산 및 그것을 함유하는 다가 카르복실산 조성물, 에폭시 수지 조성물, 그 경화물을 제공하는 것을 목적으로 한다. 또한, 경화물의 유리전이온도를 충분히 높일 수 있고, 성형성이 뛰어나며, 경화물로의 착색이 적은 다가 카르복실산, 그것을 사용한 열경화성 수지 조성물, 및 이러한 열경화성 수지 조성물을 밀봉재 또는 반사재로서 사용한 반도체 장치를 제공한다.In particular, when the present invention is used for curing in an open system such as an SMD type LED sealing material, the cured product is less volatile at the time of curing and excellent in curing property. The cured product is a polyvalent carboxylic acid which gives a cured product of excellent transparency and hardness, , An epoxy resin composition, and a cured product thereof. In addition, a polyvalent carboxylic acid which can sufficiently increase the glass transition temperature of the cured product, is excellent in moldability and is hardly colored as a cured product, a thermosetting resin composition using the thermosetting resin composition and a semiconductor device using such a thermosetting resin composition as a sealing material or a reflective material to provide.

본 발명자들은 상기한 바와 같은 실상을 감안하여 예의 검토한 결과, 이소시아누르환을 갖는 다가 카르복실산 또는 그것을 함유하는 다가 카르복실산 조성물, 그것들 중 어느 하나를 함유하는 에폭시 수지 조성물 또는 열경화성 수지 조성물이 상기 과제를 해결하는 것을 발견하고, 본 발명을 완성시키는 것에 이르렀다.DISCLOSURE OF THE INVENTION The present inventors have intensively studied in view of the above-mentioned circumstances and have found that a polyvalent carboxylic acid having an isocyanuric ring or a polyvalent carboxylic acid composition containing the polyvalent carboxylic acid, an epoxy resin composition containing the polyvalent carboxylic acid or a thermosetting resin composition Has solved the above problems, and has reached the present invention.

즉 본 발명은, 하기 [1]~[18]에 관한 것이다.That is, the present invention relates to the following [1] to [18].

[1] 하기 식(1)으로 나타내어지는 다가 카르복실산.[1] A polybasic carboxylic acid represented by the following formula (1).

Figure pct00001
Figure pct00001

(식(1) 중, R1은 탄소수 1~6의 알킬렌기를, R6은 수소원자 또는 탄소수 1~10의 카르복실기를 함유하는 유기기를 각각 나타낸다. 식(1) 중, 복수 존재하는 R1, R6은 각각 동일해도 상관없고 달라도 상관없지만, 복수 존재하는 R6 중, 50몰% 이상은 탄소수 1~10의 카르복실기를 함유하는 유기기이다.)(Formula (1) of, R 1 is an alkylene group having 1 to 6, R 6 is a hydrogen atom or represents respectively an organic group containing a carboxyl group having 1 to 10 carbon atoms. In the formula (1), a plurality existence R 1 to And R 6 may be the same or different, but among the plural R 6 s , at least 50 mol% is an organic group containing a carboxyl group having 1 to 10 carbon atoms.)

[2] 하기 식(1-1)으로 나타내어지고 [1]에 기재된 다가 카르복실산.[2] A polyvalent carboxylic acid represented by the following formula (1-1) and described in [1].

Figure pct00002
Figure pct00002

(식(1-1) 중, R1은 상기와 같은 의미를 나타내고, R2a는 수소원자, 탄소수 1~6의 알킬기 또는 카르복실기를 각각 나타낸다. 식(1-1) 중, 복수 존재하는 R1, R2a는 각각 동일해도 상관없고 달라도 상관없다.)(In formula (1-1) wherein R 1 represents the same meanings as defined above, R 2a represents an alkyl group or a carboxyl group of a hydrogen atom, a group having 1 to 6 carbon atoms, respectively. In the formula (1-1) wherein R 1 to present a plurality , And R < 2a > may be the same or different.

[3] 하기 식(1-2)으로 나타내어지는 [1]에 기재된 다가 카르복실산.[3] The polyvalent carboxylic acid according to [1], which is represented by the following formula (1-2).

Figure pct00003
Figure pct00003

(식(1-2) 중, R1은 상기와 같은 의미를 나타내고, R2b는 탄소수 1~10의 직쇄 또는 분기 구조를 갖는 알킬렌기를 각각 나타낸다. 식(1-2) 중, 복수 존재하는 R1, R2b는 각각 동일해도 상관없고 달라도 상관없다.)(In the formula (1-2), R 1 has the same meaning as defined above, and R 2b represents a linear or branched alkylene group having 1 to 10 carbon atoms. R 1 and R 2b may be the same or different.

[4] [1]~[3] 중 어느 한 항에 기재된 다가 카르복실산을 함유하는 다가 카르복실산 조성물.[4] A polybasic carboxylic acid composition containing a polybasic carboxylic acid according to any one of [1] to [3].

[5] 카르복실산 무수물 화합물을 더 함유하는 [4]에 기재된 다가 카르복실산 조성물.[5] The polybasic carboxylic acid composition according to [4] further containing a carboxylic acid anhydride compound.

[6] 카르복실산 무수물 화합물이 하기 식 (2)~(7)로 나타내어지는 화합물에서 선택되는 1종 이상인, [5]에 기재된 다가 카르복실산 조성물.[6] The polybasic carboxylic acid composition according to [5], wherein the carboxylic acid anhydride compound is at least one selected from the compounds represented by the following formulas (2) to (7).

Figure pct00004
Figure pct00004

[7] [1]~[3] 중 어느 한 항에 기재된 다가 카르복실산 또는 [4]~[6] 중 어느 한 항에 기재된 다가 카르복실산 조성물과, 에폭시 수지를 함유하는 에폭시 수지 조성물.[7] An epoxy resin composition comprising a polyvalent carboxylic acid according to any one of [1] to [3], or a polyvalent carboxylic acid composition according to any one of [4] to [6], and an epoxy resin.

[8] 에폭시 수지 경화 촉진제를 더 함유하는 [7]에 기재된 에폭시 수지 조성물.[8] An epoxy resin composition according to [7], further comprising an epoxy resin curing accelerator.

[9] 에폭시 수지 경화 촉진제가 금속 비누인 [8]에 기재된 에폭시 수지 조성물.[9] The epoxy resin composition according to [8], wherein the epoxy resin curing accelerator is a metal soap.

[10] 금속 비누가 카르복실산 아연 화합물인 [9]에 기재된 에폭시 수지 조성물.[10] The epoxy resin composition according to [9], wherein the metal soap is a zinc carboxylate compound.

[11] [7]~[10] 중 어느 한 항에 기재된 에폭시 수지 조성물을 경화해서 이루어지는 경화물.[11] A cured product obtained by curing the epoxy resin composition according to any one of [7] to [10].

[12] [1]~[3] 중 어느 한 항에 기재된 다가 카르복실산과 열경화성 수지를 함유하고, ICI 콘플레이트 점도가 100~200℃의 범위에서 0.01Pa·s~10Pa·s의 범위에 있는 열경화성 수지 조성물.[12] A resin composition comprising the polyvalent carboxylic acid according to any one of [1] to [3] and a thermosetting resin, wherein the ICI cone plate viscosity is in the range of 100 to 200 ° C in the range of 0.01 Pa · s to 10 Pa · s Thermosetting resin composition.

[13] 연화점이 20℃~150℃의 범위에 있는 [12]에 기재된 열경화성 수지 조성물.[13] The thermosetting resin composition according to [12], wherein the softening point is in a range of 20 ° C to 150 ° C.

[14] 트리멜리트산, 무수 트리멜리트산, 시클로헥산트리카르복실산, 시클로헥산트리카르복실산 무수물, 피로멜리트산, 수소 첨가 피로멜리트산, 피로멜리트산 무수물, 수소 첨가 피로멜리트산 무수물, 헥사히드로 무수 프탈산, 및 메틸헥사히드로 무수 프탈산에서 선택되는 1종 또는 2종 이상의 화합물을 함유하는 열경화성 수지용 경화제를 더 포함하고,[14] A thermosetting resin composition comprising a thermosetting resin composition comprising trimellitic acid, trimellitic anhydride, cyclohexanetricarboxylic acid, cyclohexanetricarboxylic acid anhydride, pyromellitic acid, hydrogenated pyromellitic acid, pyromellitic acid anhydride, hydrogenated pyromellitic anhydride, Further comprising a curing agent for thermosetting resin containing at least one compound selected from the group consisting of phthalic anhydride, phthalic anhydride, and methylhexahydrophthalic anhydride,

트리멜리트산, 무수 트리멜리트산, 시클로헥산트리카르복실산, 시클로헥산트리카르복실산 무수물, 피로멜리트산, 수소 첨가 피로멜리트산, 피로멜리트산 무수물, 수소 첨가 피로멜리트산 무수물, 헥사히드로 무수 프탈산, 및 메틸헥사히드로 무수 프탈산에서 선택되는 1종 또는 2종 이상의 화합물이 전체의 1중량%~90중량%를 차지하는, [12] 또는 [13]에 기재된 열경화성 수지 조성물.But are not limited to, trimellitic acid, trimellitic anhydride, cyclohexanetricarboxylic acid, cyclohexanetricarboxylic acid anhydride, pyromellitic acid, hydrogenated pyromellitic acid, pyromellitic anhydride, hydrogenated pyromellitic anhydride, hexahydrophthalic anhydride , And methylhexahydrophthalic anhydride. The thermosetting resin composition according to [12] or [13], wherein the thermosetting resin composition comprises 1 to 90% by weight of the whole compound.

[15] 그 경화물의 유리전이온도(Tg)가 30℃ 이상인 [12]~[14] 중 어느 한 항에 기재된 열경화성 수지 조성물.[15] The thermosetting resin composition according to any one of [12] to [14], wherein the cured product has a glass transition temperature (Tg) of 30 ° C or higher.

[16] [12]~[15] 중 어느 한 항에 기재된 열경화성 수지 조성물을 열경화해서 이루어지는 경화물.[16] A cured product obtained by thermally curing the thermosetting resin composition according to any one of [12] to [15].

[17] [16]에 기재된 경화물에 의해 밀봉된 광반도체 장치.[17] A photosemiconductor device sealed with a cured product according to [16].

[18] [16]에 기재된 경화물을 반사재로서 사용한 광반도체 장치.[18] A photosemiconductor device using the cured product described in [16] as a reflective material.

(발명의 효과)(Effects of the Invention)

본 발명에 의하면, 이소시아누르환을 갖는 특정 구조의 다가 카르복실산 또는 그것을 함유하는 다가 카르복실산 조성물을 함유하는 에폭시 수지 조성물은 경화시의 휘발이 적고 경화성이 뛰어나며, 그 경화물은 뛰어난 투명성, 경도를 갖는 경화물을 부여하기 때문에, 높은 투명성과 박막의 경화물 형성이 요구되는 재료, 특히 광반도체(LED 등)의 밀봉용 수지로서 매우 유용하다.INDUSTRIAL APPLICABILITY According to the present invention, an epoxy resin composition containing a polybasic carboxylic acid having a specific structure and an isocyanuric ring, or a polybasic carboxylic acid composition containing the polybasic carboxylic acid composition has low volatilization during curing and excellent curability, And hardness, it is very useful as a sealing resin for a material which requires high transparency and the formation of a cured product of a thin film, in particular, an optical semiconductor (LED or the like).

또한, 경화물이 충분한 유리전이온도를 갖고, 성형성이 뛰어나고, 경화물로 했을 때의 착색이 적은 다가 카르복실산, 그것을 사용한 열경화성 수지 조성물, 및 그 열경화성 수지 조성물을 밀봉재 또는 반사재로서 사용한 광반도체 장치를 제공할 수 있다. 또한, 연화점을 억제함으로써 취급이 용이해짐과 아울러, 충분한 혼련이 가능해져 경화 물성이 뛰어난 경화물을 제공하는 것이 가능해진다. 또한, 경화물의 강인성, 수지의 반응성에도 뛰어난 열경화성 수지 조성물을 제공할 수 있다.Also disclosed is a polyvalent carboxylic acid having a sufficient glass transition temperature, excellent moldability and little discoloration when made into a cured product, a thermosetting resin composition using the same, and an optical semiconductor using the thermosetting resin composition as a sealing material or a reflective material Device can be provided. In addition, by suppressing the softening point, handling is facilitated, and sufficient kneading is enabled, and it is possible to provide a cured product excellent in cured properties. In addition, it is possible to provide a thermosetting resin composition which is also excellent in the toughness of the cured product and the reactivity of the resin.

도 1은 실시예 1에서 얻어진 다가 카르복실산(A-1)의 GPC 차트이다.
도 2는 실시예 9에서 얻어진 다가 카르복실산(A-2)의 GPC 차트이다.
도 3은 실시예 10에서 얻어진 다가 카르복실산(A-3)의 GPC 차트이다.
도 4는 실시예 23에서 얻어진 다가 카르복실산 조성물(C-8)의 GPC 차트이다.
1 is a GPC chart of the polyvalent carboxylic acid (A-1) obtained in Example 1. Fig.
2 is a GPC chart of the polyvalent carboxylic acid (A-2) obtained in Example 9. Fig.
3 is a GPC chart of the polyvalent carboxylic acid (A-3) obtained in Example 10. Fig.
4 is a GPC chart of the polyvalent carboxylic acid composition (C-8) obtained in Example 23. Fig.

본 발명의 다가 카르복실산(A)은 하기 식(1)으로 나타내어지는 이소시아누르환을 갖는 다가 카르복실산이다.The polyvalent carboxylic acid (A) of the present invention is a polyvalent carboxylic acid having an isocyanuric ring represented by the following formula (1).

Figure pct00005
Figure pct00005

식(1) 중, R1은 탄소수 1~6의 알킬렌기를, R6은 수소원자 또는 탄소수 1~10의 카르복실기를 함유하는 유기기를 각각 나타낸다.In the formula (1), R 1 represents an alkylene group having 1 to 6 carbon atoms, and R 6 represents a hydrogen atom or an organic group containing a carboxyl group having 1 to 10 carbon atoms.

R1의 구체예로서는 메틸렌기, 에틸렌기, 프로필렌기, 부틸렌기, 펜틸렌기, 헥실렌기, 이소프로필렌기, 이소부틸렌기, 이소펜틸렌기, 네오펜틸렌기, 이소헥실렌기, 시클로헥실렌기 등을 들 수 있지만, 얻어지는 경화물의 내열 투명성의 관점에서 메틸렌기, 에틸렌기, 프로필렌기가 바람직하고, 에틸렌기가 특히 바람직하다.Specific examples of R 1 include methylene, ethylene, propylene, butylene, pentylene, hexylene, isopropylene, isobutylene, isopentylene, neopentylene, isohexylene, cyclohexylene and the like From the viewpoint of the heat resistance and transparency of the obtained cured product, a methylene group, an ethylene group and a propylene group are preferable, and an ethylene group is particularly preferable.

R6은 수소원자 또는 탄소수 1~10의 카르복실기를 함유하는 유기기이다. 여기에서 유기기란 H, C, N, O원자만으로 이루어지는 기이며, R6은 탄소수가 1~10이면 좋고, 에스테르 결합, 에테르 결합, 우레탄 결합, 아미드 결합, 카르보닐기를 함유하고 있어도 좋다.R 6 is an organic group containing a hydrogen atom or a carboxyl group having 1 to 10 carbon atoms. Herein, the organic group is a group consisting of only H, C, N, and O atoms. R 6 may have 1 to 10 carbon atoms, and may contain an ester bond, an ether bond, a urethane bond, an amide bond or a carbonyl group.

탄소수 1~10의 카르복실기를 함유하는 유기기는 1개 이상의 카르복실기를 함유한다.The organic group containing a carboxyl group having 1 to 10 carbon atoms contains at least one carboxyl group.

식(1) 중, 복수 존재하는 R1, R6은 각각 동일해도 상관없고 달라도 상관없다.In the formula (1), plural R 1 and R 6 present may be the same or different.

식(1) 중, 복수 존재하는 R6 중, 50몰% 이상은 탄소수 1~10의 카르복실기를 함유하는 유기기이다. 50몰% 이상임으로써 경화물의 기계 강도가 뛰어나다. 또한, 70몰% 이상이 보다 바람직하다.Of the R 6 s present in the formula (1), at least 50 mol% of the R 6 present is an organic group containing a carboxyl group having 1 to 10 carbon atoms. And the mechanical strength of the cured product is excellent because it is 50 mol% or more. Further, it is more preferably 70 mol% or more.

R6 중 탄소수 1~10의 카르복실기를 함유하는 유기기로서, 하기 식 (8), (9)로 나타내어지는 유기기를 들 수 있다.As the organic group containing a carboxyl group having 1 to 10 carbon atoms in R 6 , organic groups represented by the following formulas (8) and (9) are exemplified.

Figure pct00006
Figure pct00006

식(8) 중, R2a는 수소원자 또는 탄소수 1~6의 알킬기 또는 카르복실기를, 식(9) 중, R2b는 탄소수 1~10의 직쇄 또는 분기 구조를 갖는 알킬렌기를 나타내고, 식 (8), (9) 중의 *에서 식(1) 중의 산소원자와 결합하고 있는 것을 각각 나타낸다.In formula (8), R 2a represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or a carboxyl group, and R 2b represents a linear or branched alkylene group having 1 to 10 carbon atoms, ) And (*) in (9) are bonded to the oxygen atom in formula (1).

R2a 중 탄소수 1~6의 알킬기의 구체예로서는, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 이소프로필기, 부틸기, 이소부틸기, t-부틸기, 펜틸기, 이소펜틸기, 네오펜틸기, 시클로펜틸기, 헥실기, 이소헥실기, 시클로헥실기 등을 들 수 있지만, 얻어지는 경화물의 내열 투명성의 관점에서 메틸기가 바람직하다.Specific examples of the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms in R 2 a include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, an isobutyl group, a t-butyl group, a pentyl group, an isopentyl group, a neopentyl group, , A hexyl group, an isohexyl group, and a cyclohexyl group. From the viewpoint of heat resistance and transparency of the resulting cured product, a methyl group is preferable.

R2a 중에서도 메틸기, 카르복실기가 바람직하고, 다가 카르복실산(A)을 함유하는 다가 카르복실산 조성물(C)의 실온(25℃)에서의 점도가 지나치게 상승하지 않는 관점과, 얻어지는 경화물의 투명성의 관점에서는 메틸기가 바람직하고, 얻어지는 경화물의 가스배리어성, 높은 유리전이온도(Tg), 경도의 관점에서는 카르복실기가 특히 바람직하다.R 2a is preferably a methyl group or a carboxyl group and that the viscosity of the polyvalent carboxylic acid composition (C) containing the polyvalent carboxylic acid (A) at room temperature (25 ° C) is not excessively elevated and that the transparency of the obtained cured product , The methyl group is preferable, and the carboxyl group is particularly preferable from the viewpoints of gas barrier property, high glass transition temperature (Tg) and hardness of the resulting cured product.

R2b의 구체예로서는 메틸렌기, 에틸렌기, 프로필렌기, 부틸렌기, 펜틸렌기, 헥실렌기, 헵틸렌기, 옥틸렌기, 노니닐렌기, 데시닐렌기, 이소프로필렌기, 이소부틸렌기, 이소펜틸렌기, 네오펜틸렌기, 이소헥실렌기, 이소헵틸렌기, 이소옥틸렌기, 이소노닐렌기, 이소데시닐렌기, 디메틸프로필렌기, 디에틸프로필렌기, 디에틸부틸렌기, 디에틸펜틸렌기, 디에틸헥실렌기 등을 들 수 있지만, 얻어지는 경화물의 내열 투명성의 관점에서 에틸렌기, 프로필렌기, 디에틸프로필렌기가 바람직하고, 본 발명의 다가 카르복실산(A)의 연화점 및 실온(25℃)에서의 점도가 저점도이기 때문에 프로필렌기가 특히 바람직하다.Specific examples of R 2b include a methylene group, an ethylene group, a propylene group, a butylene group, a pentylene group, a hexylene group, a heptylene group, an octylene group, a nonynylene group, a decynylene group, an isopropylene group, an isobutylene group, An isopentylene group, an isopentylene group, an isohexylene group, an isononylene group, an isodecylene group, a dimethylpropylene group, a diethylpropylene group, a diethylbutylene group, a diethylpentylene group, a diethylhexylene group Propylene group and diethylpropylene group are preferable from the viewpoint of heat resistance and transparency of the obtained cured product, and the softening point of the polyvalent carboxylic acid (A) of the present invention and the viscosity at room temperature (25 ° C) The propylene group is particularly preferable.

R6 중 탄소수 1~10의 카르복실기를 함유하는 유기기의 구체예로서, 하기 식 (8-1)~(8-3) 및 (9-1)~(9-3)으로 나타내어지는 유기기를 들 수 있다.As specific examples of organic groups containing a carboxyl group having 1 to 10 carbon atoms in R 6 , organic groups represented by the following formulas (8-1) to (8-3) and (9-1) to (9-3) .

Figure pct00007
Figure pct00007

(식 중, *은 상기와 같은 의미를 나타낸다.)(Wherein * has the same meaning as described above.)

식(1)으로 나타내어지는 다가 카르복실산(A)은, 하기 식(10)으로 나타내어지는 이소시아누르산 트리스히드록시알킬 화합물과 하기 식(14)으로 나타내어지는 카르복실산 무수물 화합물 및/또는 식(15)으로 나타내어지는 카르복실산 무수물 화합물의 부가 반응에 의해 얻을 수 있다.The polyvalent carboxylic acid (A) represented by the formula (1) is obtained by reacting an isocyanuric acid trishydroxyalkyl compound represented by the following formula (10) with a carboxylic acid anhydride compound represented by the following formula (14) and / Can be obtained by an addition reaction of a carboxylic acid anhydride compound represented by the formula (15).

Figure pct00008
Figure pct00008

식(10) 중, R1은 상기와 같은 의미를 나타낸다.In the formula (10), R 1 has the same meaning as described above.

Figure pct00009
Figure pct00009

식(14) 중, R2a는 상기와 같은 의미를 나타낸다.In the formula (14), R 2a has the same meaning as described above.

식(15) 중, R3은 수소원자 또는 탄소수 1~4의 알킬기를, m은 정수로 1~9를 각각 나타내며, 식(15) 중, 복수 존재하는 R3은 동일해도 상관없고 달라도 상관없다. R3 중의 탄소수 1~4의 알킬기의 구체예로서는 메틸기, 에틸기, 프로필기, 부틸기를 들 수 있다. m은 정수로 1~9를 나타내고, 얻어지는 경화물의 내열 투명성의 관점에서 1~5가 바람직하고, 1~2가 특히 바람직하다.In the formula (15), R 3 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and m represents an integer of 1 to 9, and in the formula (15), plural R 3 groups present may be the same or different . Specific examples of the alkyl group having 1 to 4 carbon atoms in R 3 include a methyl group, an ethyl group, a propyl group and a butyl group. m is an integer of 1 to 9 and is preferably 1 to 5, particularly preferably 1 to 2, from the viewpoint of thermal resistance and transparency of the obtained cured product.

식(10)으로 나타내어지는 화합물 중에서도, 하기 식 (11)~(13)으로 나타내어지는 화합물이 경화물의 투명성, 가스배리어성의 관점에서 바람직하다.Among the compounds represented by the formula (10), the compounds represented by the following formulas (11) to (13) are preferable from the viewpoint of transparency and gas barrier property of the cured product.

Figure pct00010
Figure pct00010

식(14)으로 나타내어지는 화합물 중, 하기 (5)~(7)로 나타내어지는 화합물이 특히 바람직하다.Among the compounds represented by the formula (14), the compounds represented by the following formulas (5) to (7) are particularly preferable.

Figure pct00011
Figure pct00011

식(15)으로 나타내어지는 화합물 중에서도, 하기 식 (2)~(4)로 나타내어지는 화합물이, 경화물의 내열 투명성, 다가 카르복실산(A)의 점도, 다가 카르복실산 조성물(C)의 점도의 관점에서 바람직한 화합물로서 들 수 있다. 그 중에서도, 하기 식(4)으로 나타내어지는 화합물이 바람직하다.Among the compounds represented by the formula (15), it is preferable that the compounds represented by the following formulas (2) to (4) are selected from the group consisting of heat-resistant transparency of the cured product, viscosity of the polyvalent carboxylic acid (A), viscosity of the polyvalent carboxylic acid composition And the like. Among them, a compound represented by the following formula (4) is preferable.

Figure pct00012
Figure pct00012

본 발명의 다가 카르복실산(A)의 제조는 용매 중에서도 무용제에서도 행할 수 있다. 용제로서는 상술의 식(10)으로 나타내어지는 이소시아누르산 트리히드록시알킬 화합물, 식(14)이나 식(15)으로 나타내어지는 카르복실산 무수물 화합물과 반응하지 않는 용제이면 특별히 제한없이 사용할 수 있다. 사용할 수 있는 용제로서는, 예를 들면 디메틸포름아미드, 디메틸아세트아미드, 디메틸술폭시드, 테트라히드로푸란, 아세토니트릴 등의 비프로톤성 극성 용매, 메틸에틸케톤, 시클로펜탄온, 메틸이소부틸케톤 등의 케톤류, 톨루엔, 크실렌 등의 방향족 탄화수소 등을 들 수 있고, 이것들 중에서 방향족 탄화수소나 케톤류가 바람직하다.The polyvalent carboxylic acid (A) of the present invention can be produced in a solvent or in a solvent. The solvent is not particularly limited as long as it is a solvent that does not react with the isocyanuric acid trihydroxyalkyl compound represented by the formula (10) and the carboxylic acid anhydride compound represented by the formula (14) or (15) . Examples of usable solvents include aprotic polar solvents such as dimethylformamide, dimethylacetamide, dimethylsulfoxide, tetrahydrofuran and acetonitrile; ketones such as methyl ethyl ketone, cyclopentanone and methyl isobutyl ketone; , Aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene, and the like. Of these, aromatic hydrocarbons and ketones are preferable.

이들 용제는 1종 또는 2종 이상을 혼합해서 사용해도 좋다. 용제를 사용할 경우의 사용량은 상술의 식(10)으로 나타내어지는 이소시아누르산 트리스히드록시알킬 화합물과 식(14)으로 나타내어지는 카르복실산 무수물 화합물 및/또는 식(15)으로 나타내어지는 카르복실산 무수물 화합물의 합계 100질량부에 대하여, 0.5~300질량부가 바람직하다.These solvents may be used alone or in combination of two or more. When the solvent is used, the amount of the solvent to be used may be selected from the group consisting of the isocyanuric acid trishydroxyalkyl compound represented by the formula (10), the carboxylic anhydride compound represented by the formula (14) and / or the carboxyl The amount is preferably 0.5 to 300 parts by mass per 100 parts by mass of the total amount of the acid anhydride compound.

본 발명의 다가 카르복실산(A)은 실온(25℃)에서 고체인 경우가 많기 때문에, 용제 중에서 합성하는 것이 작업성의 관점에서 바람직하다.Since the polyvalent carboxylic acid (A) of the present invention is often solid at room temperature (25 캜), it is preferable to synthesize the polyvalent carboxylic acid in a solvent from the viewpoint of workability.

본 발명의 다가 카르복실산(A)은 무촉매로도 제조할 수 있고, 촉매를 이용해도 제조할 수 있다. 촉매를 사용할 경우, 사용할 수 있는 촉매는 염산, 황산, 메탄술폰산, 트리플루오로메탄술폰산, 파라톨루엔술폰산, 질산, 트리플루오로아세트산, 트리클로로아세트산 등의 산성 화합물, 수산화나트륨, 수산화칼륨, 수산화칼슘, 수산화마그네슘 등의 금속 수산화물, 트리에틸아민, 트리프로필아민, 트리부틸아민 등의 아민 화합물, 피리딘, 디메틸아미노피리딘, 1,8-디아자비시클로[5.4.0]운데카-7-엔, 이미다졸, 트리아졸, 테트라졸 등의 복소환식 화합물, 테트라메틸암모늄히드록시드, 테트라에틸암모늄히드록시드, 테트라프로필암모늄히드록시드, 테트라부틸암모늄히드록시드, 트리메틸에틸암모늄히드록시드, 트리메틸프로필암모늄히드록시드, 트리메틸부틸암모늄히드록시드, 트리메틸세틸암모늄히드록시드, 트리옥틸메틸암모늄히드록시드, 테트라메틸암모늄클로라이드, 테트라메틸암모늄브로마이드, 테트라메틸암모늄요오다이드, 테트라메틸암모늄아세테이트, 트리옥틸메틸암모늄아세테이트 등의 4급 암모늄염, 오르토티탄산 테트라에틸, 오르토티탄산 테트라메틸 등의 오르토티탄산류, 옥틸산 주석, 옥틸산 코발트, 옥틸산 아연, 옥틸산 망간, 옥틸산 칼슘, 옥틸산 나트륨, 옥틸산 칼륨 등의 금속 비누류를 들 수 있다.The polyvalent carboxylic acid (A) of the present invention can be produced without using a catalyst, and can also be produced using a catalyst. When a catalyst is used, the catalyst that can be used is an acidic compound such as hydrochloric acid, sulfuric acid, methanesulfonic acid, trifluoromethanesulfonic acid, para toluenesulfonic acid, nitric acid, trifluoroacetic acid, trichloroacetic acid, etc., sodium hydroxide, potassium hydroxide, A metal hydroxide such as magnesium hydroxide, an amine compound such as triethylamine, tripropylamine or tributylamine, an amine compound such as pyridine, dimethylaminopyridine, 1,8-diazabicyclo [5.4.0] undeca- , Triazole, and tetrazole, and heterocyclic compounds such as tetramethylammonium hydroxide, tetraethylammonium hydroxide, tetrapropylammonium hydroxide, tetrabutylammonium hydroxide, trimethylethylammonium hydroxide, trimethylpropylammonium Hydroxides such as hydroxides, trimethylbutylammonium hydroxides, trimethylcetylammonium hydroxides, trioctylmethylammonium hydroxides, tetramethylammonium hydroxides, Quaternary ammonium salts such as tetraethylammonium chloride, tetramethylammonium bromide, tetramethylammonium iodide, tetramethylammonium acetate and trioctylmethylammonium acetate, orthotitanic acids such as tetraethyl orthotitanate and tetramethyl orthotitanate, , Cobalt octylate, zinc octylate, manganese octylate, calcium octylate, sodium octylate, and potassium octylate.

촉매를 사용할 경우, 1종 또는 2종 이상을 혼합해서 사용할 수도 있다.When a catalyst is used, one or more of them may be used in combination.

촉매를 사용할 경우의 사용량은 상술의 식(10)으로 나타내어지는 이소시아누르산 트리스히드록시알킬 화합물과 식(14)으로 나타내어지는 카르복실산 무수물 화합물 및/또는 식(15)으로 나타내어지는 카르복실산 무수물 화합물의 합계 100질량부에 대하여, 0.05~10질량부가 바람직하다.When the catalyst is used, the amount of the catalyst to be used may be selected from the group consisting of the isocyanuric acid trishydroxyalkyl compound represented by the formula (10), the carboxylic acid anhydride compound represented by the formula (14) and / or the carboxyl Is preferably 0.05 to 10 parts by mass per 100 parts by mass of the total amount of the acid anhydride compound.

촉매의 첨가 방법은 직접 첨가하거나, 가용성의 용제 등에 용해시킨 상태에서 사용한다. 이때, 메탄올, 에탄올 등의 알콜성 용매나 물을 사용하는 것은 미반응의 식(14)이나 식(15)으로 나타내어지는 카르복실산 무수물 화합물과 반응해 버리기 때문에, 피하는 것이 바람직하다.The catalyst may be added directly or dissolved in a soluble solvent or the like. At this time, it is preferable to use an alcoholic solvent or water such as methanol or ethanol because it reacts with the carboxylic acid anhydride compound represented by the unreacted formula (14) or formula (15).

본 발명에 있어서는, 얻어지는 다가 카르복실산(A) 또는 다가 카르복실산 조성물(C)의 경화물에 있어서 투명성, 내열 투명성을 향상시키는 관점에서는 옥틸산 아연 등의 카르복실산 아연을 촉매로서 바람직하게 사용할 수 있고, 얻어지는 다가 카르복실산(A) 또는 다가 카르복실산 조성물(C)의 착색을 저감시키는 관점에서는 무촉매로 반응을 행하는 것이 바람직하다.In the present invention, from the viewpoint of improving transparency and heat-resistant transparency in the obtained cured product of the polyvalent carboxylic acid (A) or polyvalent carboxylic acid composition (C), zinc carboxylate such as zinc octylate is preferably used as a catalyst , And it is preferable to carry out the reaction in the absence of a catalyst from the viewpoint of reducing the coloration of the obtained polyvalent carboxylic acid (A) or polyvalent carboxylic acid composition (C).

그 중에서도, 투명성, 내황화성이 뛰어난 경화물을 얻기 위해서, 특히 스테아르산 칼슘, 카르복실산 아연(2-에틸헥산산 아연, 스테아르산 아연, 베헨산 아연, 미리스트산 아연)이나 인산 에스테르아연(옥틸인산 아연, 스테아릴인산 아연 등) 등의 아연 화합물을 바람직하게 사용할 수 있다.Among them, calcium stearate, zinc carboxylate (zinc 2-ethylhexanoate, zinc stearate, zinc behenate, zinc myristate) and zinc phosphate (zinc stearate) are particularly preferable in order to obtain a cured product excellent in transparency and resistance to sulfidization Zinc octylphosphate, zinc stearyl phosphate, etc.) can be preferably used.

본 발명의 다가 카르복실산(A)의 제조시의 반응 온도는 촉매량, 사용 용제에도 따르지만, 통상 20~160℃, 바람직하게는 50~150℃, 특히 바람직하게는 60~145℃이다. 또한, 반응 시간의 총계는 통상 1~20시간, 바람직하게는 3~18시간이다. 반응은 2단계 이상으로 행해도 좋고, 예를 들면 20~100℃에서 1~8시간 반응시킨 후에, 100~160℃에서 1~12시간 등으로 반응시켜도 좋다. 이것은 특히 식(14)이나 식(15)으로 나타내어지는 카르복실산 무수물 화합물은 휘발성이 높은 것이 많고, 그와 같은 것을 사용할 경우 미리 20~100℃에서 반응시킨 후에, 100~160℃에서 반응시킴으로써 휘발을 억제할 수 있다. 이것에 의해, 대기 중으로의 유해물질의 확산을 억제할 뿐만 아니라, 설계대로의 다가 카르복실산(A)을 보다 확실하게 얻을 수 있다.The reaction temperature in the production of the polyvalent carboxylic acid (A) of the present invention is usually from 20 to 160 캜, preferably from 50 to 150 캜, and particularly preferably from 60 to 145 캜, though it depends on the amount of the catalyst and the solvent used. The total amount of the reaction time is usually 1 to 20 hours, preferably 3 to 18 hours. The reaction may be carried out in two or more stages. For example, the reaction may be carried out at 20 to 100 ° C for 1 to 8 hours and then at 100 to 160 ° C for 1 to 12 hours. In particular, the carboxylic acid anhydride compound represented by the formula (14) or the formula (15) is often highly volatile. When such a compound is used, the reaction is carried out at 20 to 100 ° C in advance and then at 100 to 160 ° C, Can be suppressed. As a result, not only the diffusion of harmful substances into the atmosphere can be suppressed, but also the polyvalent carboxylic acid (A) as designed can be obtained more reliably.

촉매를 이용하여 제조를 행한 경우에는 필요에 따라서 ?치, 및/또는 수세를 행함으로써 촉매를 제거할 수 있지만, 그대로 잔존시켜 다가 카르복실산(A) 및/또는 다가 카르복실산 조성물(C)을 함유하는 에폭시 수지 조성물의 경화 촉진제로서 이용할 수도 있다.(A) and / or the polycarboxylic acid composition (C), the catalyst may be removed as required, and the catalyst may be left as it is. May be used as a curing accelerator of the epoxy resin composition.

수세 공정을 행할 경우, 사용하고 있는 용제의 종류에 따라서는 물과 분리 가능한 용제를 첨가하는 것이 바람직하다. 바람직한 용제로서는, 예를 들면 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 시클로펜탄온 등의 케톤류, 아세트산 에틸, 아세트산 부틸, 락트산 에틸, 부탄산 이소프로필 등의 에스테르류, 헥산, 시클로헥산, 톨루엔, 크실렌 등의 탄화수소 등을 예시할 수 있다.When the washing step is carried out, it is preferable to add a solvent which can be separated from water depending on the kind of the solvent used. Examples of the preferable solvent include ketones such as methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone and cyclopentanone, esters such as ethyl acetate, butyl acetate, ethyl lactate and isopropyl butanoate, hexane, cyclohexane, toluene, xylene and the like And the like.

반응이나 수세에 용제를 사용했을 경우, 감압 농축 등에 의해 제거할 수 있다.When a solvent is used for the reaction or washing, it can be removed by concentration under reduced pressure or the like.

본 발명의 다가 카르복실산(A)을 제조할 때에, 겔 퍼미에이션 크로마토그래피(GPC){측정 조건; 컬럼: SHODEX GPC LF-G(가드 컬럼), KF-603, KF-602.5, KF-602, KF-601(2개), 유속: 0.4ml/min. 컬럼 온도: 40℃, 사용 용제: THF(테트라히드로푸란), 검출기: RI(시차 굴절 검출기)}에 있어서 본원 식(1)으로 나타내어지는 화합물의 피크보다 빠른 리텐션 타임의 피크와 느린 리텐션 타임의 피크의 화합물이 혼재하고 있다. 상기 빠른 리텐션 타임의 피크(이하, 피크 f라고 칭함.)로서는 리텐션 타임이 본원 식(1)의 화합물의 피크보다 1~3분 빠른, 예를 들면 18~20분의 화합물이 있다. 상기 피크 f의 화합물의 GPC의 면적%로서는 1~30면적%인 것이 기계적 강도 상승의 관점에서 바람직하고, 1~10면적%인 것이 특히 바람직하다. 또한, 상기 느린 리텐션 타임의 피크로서는 2~3개 존재할 가능성이 있고(이하, 피크 s라고 칭함.), 리텐션 타임이 본원 식(1)의 화합물의 피크보다 1~5분 느린, 예를 들면 21~25분의 화합물이 해당한다. 상기 피크 s의 화합물의 GPC의 면적%로서는 1~10면적%인 것이 접착성 향상의 관점에서 바람직하고, 1~5면적%인 것이 보다 바람직하다. 또한, 하기 식(16)으로 나타내어지는 다가 카르복실산의 다량체가 생성될 경우가 있다. 또한, 이들 화합물은 피크 f의 화합물에 해당한다고 생각된다.In the production of the polyvalent carboxylic acid (A) of the present invention, gel permeation chromatography (GPC) (measurement conditions; Column: SHODEX GPC LF-G (guard column), KF-603, KF-602.5, KF-602, KF-601 (two), flow rate: 0.4 ml / min. A peak of the retention time faster than the peak of the compound represented by the formula (1) and a slow retention time in the compound of the formula (1) in the column temperature: 40 캜, the solvent used: THF (tetrahydrofuran) Lt; / RTI > are mixed. As the peak of the fast retention time (hereinafter referred to as peak f), there is a compound whose retention time is 1 to 3 minutes faster than that of the compound of the formula (1), for example, 18 to 20 minutes. The area% of the GPC of the compound having the peak f is preferably 1 to 30% by area from the viewpoint of increasing the mechanical strength, and particularly preferably 1 to 10% by area. It is also possible that there are two to three peaks of the slow retention time (hereinafter referred to as peak s), and the retention time is one to five minutes slower than the peak of the compound of the present invention (1) For 21 to 25 minutes. The area% of the GPC of the compound having the peak s is preferably 1 to 10% by area from the viewpoint of improving the adhesiveness, more preferably 1 to 5% by area. In addition, a multimer of a polyvalent carboxylic acid represented by the following formula (16) may be produced. These compounds are considered to correspond to the compounds of peak f.

Figure pct00013
Figure pct00013

식(16) 중, R1은 상기와 같은 의미를 나타내고, R4는 상기 R2b와 같은 의미 또는 하기 식(17)으로 나타내어지는 구조를 나타내고, R5는 수소원자 또는 하기 식(18)으로 나타내어지는 구조를 나타낸다.In the formula (16), R 1 has the same meaning as above, R 4 has the same meaning as R 2b or a structure represented by the following formula (17), R 5 represents a hydrogen atom or a group represented by the following formula Represents the structure shown.

Figure pct00014
Figure pct00014

식(17) 중, R2a는 상기와 같은 의미를 나타내고, **은 식(16) 중의 R4의 이웃하는 카르보닐 탄소와 결합하고 있는 것을 나타낸다.In the formula (17), R 2a has the same meaning as described above, and ** indicates that it is bonded to the adjacent carbonyl carbon of R 4 in the formula (16).

Figure pct00015
Figure pct00015

식(18) 중, R1, R4, R5는 상기와 같은 의미를 나타내고, ***의 부위에서 식(16) 중의 R5가 결합하고 있는 산소원자와 결합하고 있는 것을 나타낸다.Formula (18) of, R 1, R 4, R 5 indicates that combines with oxygen atom to which R 5 in the combination shown in the same meaning as described hereinbefore. *** site of the expression (16).

상기 식(16)으로 나타내어지는 다가 카르복실산의 다량체가 다가 카르복실산(A)에 포함되면 경화물의 기계 강도가 향상되기 때문에 바람직하지만, 함유함으로써 다가 카르복실산(A)의 점도가 과도하게 상승하지 않기 위해서 다가 카르복실산(A) 100질량부에 대하여 50질량부 이하인 것이 바람직하다.When the polyvalent carboxylic acid represented by the formula (16) is contained in the polyvalent carboxylic acid (A), the mechanical strength of the cured product is improved. However, the polyvalent carboxylic acid (A) It is preferably 50 parts by mass or less based on 100 parts by mass of the polycarboxylic acid (A).

또한, 본 발명의 다가 카르복실산(A)을 제조할 때에, 하기 식(19)으로 나타내어지는 2가의 카르복실산이 생성될 경우가 있다. 또한, 상기 화합물은 피크 s의 화합물에 해당한다고 생각된다. 여기에서, 상기 제조법에 의해 얻어지는 다가 카르복실산(A)의 하기 식(19)으로 나타내어지는 화합물의 GPC 면적%는 1~30면적%가 바람직하고, 1~20면적%가 보다 바람직하다.Further, when preparing the polyvalent carboxylic acid (A) of the present invention, a bivalent carboxylic acid represented by the following formula (19) may be produced. It is also believed that the compound corresponds to a compound of peak s. Here, the GPC area% of the compound represented by the following formula (19) of the polyvalent carboxylic acid (A) obtained by the above production method is preferably 1 to 30% by area, more preferably 1 to 20% by area.

Figure pct00016
Figure pct00016

식(19) 중, R1, R4는 상기와 같은 의미를 나타낸다.In the formula (19), R 1 and R 4 have the same meanings as above.

상기 식(15)으로 나타내어지는 2가의 카르복실산이 다가 카르복실산(A)에 포함되면 경화물의 기재로의 접착성이 향상되기 때문에 바람직하지만, 함유함으로써 경화물의 기계 강도가 떨어져 버리기 때문에 다가 카르복실산(A) 100질량부에 대하여 20질량부 이하인 것이 바람직하다.When the divalent carboxylic acid represented by the above formula (15) is contained in the polyvalent carboxylic acid (A), the adhesion of the cured product to the substrate is improved. However, since the mechanical strength of the cured product is lowered by inclusion of the polyvalent carboxylic acid, It is preferably 20 parts by mass or less based on 100 parts by mass of the acid (A).

또한, 본 발명의 다가 카르복실산(A)을 제조할 때에, 하기 식(19')으로 나타내어지는 1가의 카르복실산이 생성될 경우가 있다. 또한, 상기 화합물은 피크 s의 화합물에 해당한다고 생각된다. 여기에서, 상기 제조법에 의해 얻어지는 다가 카르복실산(A)의 하기 식(19')으로 나타내어지는 화합물의 GPC 면적%는 1~10면적%가 바람직하고, 1~5면적%가 보다 바람직하다.Further, in producing the polyvalent carboxylic acid (A) of the present invention, a monovalent carboxylic acid represented by the following formula (19 ') may be produced. It is also believed that the compound corresponds to a compound of peak s. Here, the GPC area% of the compound represented by the following formula (19 ') of the polyvalent carboxylic acid (A) obtained by the above production method is preferably 1 to 10% by area, more preferably 1 to 5% by area.

Figure pct00017
Figure pct00017

식(19') 중, R1, R4는 상기와 같은 의미를 나타낸다.In the formula (19 '), R 1 and R 4 have the same meanings as described above.

상기 식(19')으로 나타내어지는 1가의 카르복실산이 다가 카르복실산(A)에 포함되면 경화물의 기재로의 접착성이 향상되기 때문에 바람직하지만, 함유함으로써 경화물의 기계 강도가 떨어지는 경향이 있기 때문에 다가 카르복실산(A) 100질량부에 대하여 20질량부 이하인 것이 바람직하다.When the monovalent carboxylic acid represented by the above formula (19 ') is contained in the polycarboxylic acid (A), the adhesion of the cured product to the substrate is improved. However, since the mechanical strength of the cured product tends to be lowered It is preferably 20 parts by mass or less based on 100 parts by mass of the polyvalent carboxylic acid (A).

그 외에도, 피크 s에 해당하는 화합물로서는, 알콜을 용제로 사용한 경우에는 알콜과 상기 식(14)으로 나타내어지는 카르복실산 무수물 화합물 및/또는 상기 식(15)으로 나타내어지는 화합물의 반응물이나 용제 중이나 공기 중의 수분과 상기 식(14)으로 나타내어지는 카르복실산 무수물 화합물 및/또는 상기 식(15)으로 나타내어지는 화합물의 반응물, 미반응의 산 무수물을 들 수 있다. 여기에서, 알콜과 상기 식(9)으로 나타내어지는 화합물이나 용제 중이나 공기 중의 수분과 상기 식(14)으로 나타내어지는 카르복실산 무수물 화합물 및/또는 상기 식(15)으로 나타내어지는 화합물의 반응물의 GPC의 면적%로서는, 경화물의 기계 강도의 점에서 5면적% 이하가 바람직하고, 3면적% 이하인 것이 보다 바람직하다.In addition, as the compound corresponding to the peak s, when an alcohol is used as a solvent, a reaction product or a solvent of the alcohol with the carboxylic acid anhydride compound represented by the formula (14) and / or the compound represented by the formula (15) A reaction product of a water content in the air with a carboxylic acid anhydride compound represented by the formula (14) and / or a compound represented by the formula (15), and unreacted acid anhydride. Here, a reaction product of the alcohol and the compound represented by the formula (9) or the solvent and the moisture in the air and the carboxylic acid anhydride compound represented by the formula (14) and / or the compound represented by the formula (15) Is preferably not more than 5% by area, more preferably not more than 3% by area in view of the mechanical strength of the cured product.

제조된 본 발명의 다가 카르복실산(A)의 산가(JIS K-2501에 기재된 방법으로 측정)는 150~415㎎KOH/g인 것이 바람직하고, 185~375㎎KOH/g인 것이 보다 바람직하며, 특히 200~320㎎KOH/g인 것이 바람직하다. 산가가 150㎎KOH/g 이상이면 경화물의 기계 특성이 향상되기 때문에 바람직하고, 415㎎KOH/g 이하이면 그 경화물이 지나치게 단단해지지 않고, 탄성율이 적당한 것이 되어 바람직하다.The acid value (measured by the method described in JIS K-2501) of the polyvalent carboxylic acid (A) of the present invention produced is preferably 150 to 415 mgKOH / g, more preferably 185 to 375 mgKOH / g , Particularly preferably from 200 to 320 mg KOH / g. If the acid value is 150 mgKOH / g or more, the mechanical properties of the cured product are improved, and if it is 415 mgKOH / g or less, the cured product is not excessively hardened and the modulus of elasticity is suitable.

또한, 본 발명의 다가 카르복실산(A)의 관능기당량은 135~312g/eq인 것이 바람직하고, 150~300g/eq인 것이 보다 바람직하며, 특히 180~280g/eq가 바람직하다.The functional group equivalent of the polyvalent carboxylic acid (A) of the present invention is preferably 135 to 312 g / eq, more preferably 150 to 300 g / eq, and particularly preferably 180 to 280 g / eq.

이어서, 본 발명의 다가 카르복실산 조성물(C)에 대하여 설명한다.Next, the polyvalent carboxylic acid composition (C) of the present invention will be described.

본 발명의 다가 카르복실산 조성물(C)은 본 발명의 다가 카르복실산(A)을 필수 성분으로 한다.The polyvalent carboxylic acid composition (C) of the present invention contains the polyvalent carboxylic acid (A) of the present invention as an essential component.

또한, 본 발명의 다가 카르복실산 조성물(C) 중, 다가 카르복실산 조성물(C')은 본 발명의 다가 카르복실산(A)과 카르복실산 무수물 화합물(B)을 필수 성분으로 한다.Also, in the polyvalent carboxylic acid composition (C) of the present invention, the polyvalent carboxylic acid composition (C ') contains the polyvalent carboxylic acid (A) and the carboxylic anhydride compound (B) of the present invention as essential components.

다가 카르복실산 조성물(C')은 다가 카르복실산(A)과 카르복실산 무수물 화합물(B)을 혼합해서 얻을 수 있다.The polycarboxylic acid composition (C ') can be obtained by mixing the polycarboxylic acid (A) and the carboxylic anhydride compound (B).

본 발명의 다가 카르복실산 조성물(C')은 상기 각 성분을 상온 또는 가온 하에서 균일하게 혼합함으로써 얻어진다. 예를 들면, 약숟가락, 압출기, 니더, 3단롤, 만능 믹서, 플래니터리 믹서, 호모 믹서, 호모디스퍼, 비드밀 등을 이용하여 균일해질 때까지 충분히 혼합하고, 필요에 따라 SUS 메쉬 등에 의해 여과 처리를 행함으로써 조제된다.The polyvalent carboxylic acid composition (C ') of the present invention is obtained by uniformly mixing the above components at room temperature or under heating. For example, the mixture is thoroughly mixed using a spoon, an extruder, a kneader, a three-roll mixer, a universal mixer, a planetary mixer, a homomixer, a homodisper, and a bead mill until homogeneous, Followed by filtration.

조제할 때, 후술하는 에폭시 수지(D), 경화 촉진제(E), 접착조제, 산화방지제, 광 안정제 등을 함께 혼합해도 좋다.(D), a curing accelerator (E), an adhesion promoter, an antioxidant, a light stabilizer, and the like may be mixed together at the time of preparation.

본 발명의 다가 카르복실산 조성물(C)은 필요에 따라서 용제를 혼합시켜서 바니시나 잉크로서 사용할 수도 있다. 용제는 본 발명의 다가 카르복실산(A), 카르복실산 무수물 화합물(B), 에폭시 수지(D), 경화 촉진제(E), 접착조제, 산화방지제, 광 안정제 등에 대하여 높은 용해성을 갖고, 이것들과 반응하지 않는 것이면 사용할 수 있다. 그 구체예로서는 디메틸포름아미드, 디메틸아세트아미드, 디메틸술폭시드, 테트라히드로푸란, 아세토니트릴 등의 비프로톤성 극성 용매, 메틸에틸케톤, 시클로펜탄온, 메틸이소부틸케톤 등의 케톤류, 톨루엔, 크실렌 등의 방향족 탄화수소 등을 들 수 있고, 이것들 중에서 방향족 탄화수소나 케톤류가 바람직하다.The polyvalent carboxylic acid composition (C) of the present invention may be used as varnishes or inks by mixing solvents as required. The solvent has a high solubility with respect to the polyvalent carboxylic acid (A), the carboxylic acid anhydride compound (B), the epoxy resin (D), the curing accelerator (E), the adhesion aid, the antioxidant and the light stabilizer, Can be used. Specific examples thereof include aprotic polar solvents such as dimethylformamide, dimethylacetamide, dimethylsulfoxide, tetrahydrofuran and acetonitrile, ketones such as methyl ethyl ketone, cyclopentanone and methyl isobutyl ketone, and ketones such as toluene and xylene. Aromatic hydrocarbons, etc. Among them, aromatic hydrocarbons and ketones are preferable.

본 발명의 다가 카르복실산 조성물(C')에 있어서, 상술의 다가 카르복실산(A)의 제조시에 식(14)으로 나타내어지는 카르복실산 무수물 화합물 및/또는 식(15)으로 나타내어지는 카르복실산 무수물 화합물과, 다가 카르복실산 조성물(C') 중의 카르복실산 무수물 화합물(B)이 같을 경우, 다가 카르복실산(A)의 제조시에 식(10)으로 나타내어지는 이소시아누르산 트리스히드록시알킬 화합물에 대하여 과잉의 카르복실산 무수물 화합물(B) 중에서 반응을 행하여, 다가 카르복실산(A)의 제조가 종료한 시점에서 다가 카르복실산(A)과 카르복실산 무수물(B)의 혼합물로서 얻을 수도 있다.In the polyvalent carboxylic acid composition (C ') of the present invention, the carboxylic acid anhydride compound represented by the formula (14) and / or the carboxylic acid anhydride compound represented by the formula (15) in the preparation of the polyvalent carboxylic acid (A) When the carboxylic acid anhydride compound and the carboxylic acid anhydride compound (B) in the polyvalent carboxylic acid composition (C ') are the same, the isocyanurate represented by the formula (10) in the production of the polycarboxylic acid (A) The reaction is carried out in excess of the carboxylic acid anhydride compound (B) relative to the acid trishydroxyalkyl compound, and the polyvalent carboxylic acid (A) and the carboxylic anhydride ( B). ≪ / RTI >

이 반응시의 양자의 투입 비율로서는, 그 관능기당량으로 상기 산 무수물기 1당량에 대하여 이소시아누르산 트리스히드록시알킬 화합물의 수산기당량으로 0.001~0.7당량, 보다 바람직하게는 0.01~0.5당량의 범위로 투입하는 것이 바람직하다.The proportion of the both in the reaction is preferably in the range of 0.001 to 0.7 equivalents, more preferably 0.01 to 0.5 equivalents in terms of the hydroxyl group equivalent of the isocyanuric acid trishydroxyalkyl compound to 1 equivalent of the acid anhydride group in the functional group equivalent thereof .

이렇게 하여 얻어진 다가 카르복실산 조성물(C')에 카르복실산 무수물(B)을 혼합함으로써, 다가 카르복실산 조성물(C') 중의 다가 카르복실산(A)의 농도를 조정할 수 있다.The concentration of the polyvalent carboxylic acid (A) in the polyvalent carboxylic acid composition (C ') can be adjusted by mixing the carboxylic acid anhydride (B) with the thus obtained polyvalent carboxylic acid composition (C').

다가 카르복실산(A)의 제조시에 과잉의 카르복실산 무수물 화합물(B)을 투입하여 반응시켰을 경우, 수세 공정시의 물에 의해 과잉의 카르복실산 무수물 화합물(B)이 가수분해되어 버릴 우려가 있기 때문에, 상술의 수세 공정은 피하는 편이 좋다.When excess carboxylic acid anhydride compound (B) is added and reacted during the production of the polycarboxylic acid (A), the excess carboxylic acid anhydride compound (B) is hydrolyzed by the water during the water washing step Therefore, it is better to avoid the aforementioned water washing process.

본 발명에서 사용하는 카르복실산 무수물 화합물(B)은 분자 내에 카르복실산 무수물기를 갖는 화합물이면 특별히 제한되지 않지만, 하기 식 (2)~(7)에서 1종 이상 선택되는 카르복실산 무수물 화합물인 것이 경화물의 투명성의 관점에서 바람직하다.The carboxylic acid anhydride compound (B) used in the present invention is not particularly limited as long as it is a compound having a carboxylic acid anhydride group in the molecule, but may be a carboxylic acid anhydride compound selected from one or more of the following formulas (2) to Is preferable from the viewpoint of transparency of the cured product.

Figure pct00018
Figure pct00018

본 발명의 다가 카르복실산 조성물(C')에 있어서, 다가 카르복실산(A)과 카르복실산 무수물 화합물(B)의 존재 비율은 다가 카르복실산(A) 100질량부에 대하여 카르복실산 무수물 화합물(B)이 1~1000질량부가 바람직하고, 더욱 바람직하게는 10~800질량부, 특히 바람직하게는 50~500질량부이다.In the polyvalent carboxylic acid composition (C ') of the present invention, the proportion of the polyvalent carboxylic acid (A) and the carboxylic acid anhydride compound (B) is 100 parts by mass based on 100 parts by mass of the polyvalent carboxylic acid (A) The amount of the anhydride compound (B) is preferably 1 to 1000 parts by mass, more preferably 10 to 800 parts by mass, and particularly preferably 50 to 500 parts by mass.

본 발명의 다가 카르복실산(A) 또는 다가 카르복실산 조성물(C)은 에폭시 수지의 경화제로서 기능하는 것으로, 다른 에폭시 수지 경화제를 함유할 수도 있다. 예를 들면, 아민계 경화제, 페놀계 경화제, 다가 카르복실산 수지를 들 수 있고, 다가 카르복실산 수지가 바람직하다.The polyvalent carboxylic acid (A) or polyvalent carboxylic acid composition (C) of the present invention functions as a curing agent for the epoxy resin, and may contain other curing agents for epoxy resins. For example, an amine-based curing agent, a phenol-based curing agent, and a polycarboxylic acid resin can be mentioned, and a polycarboxylic acid resin is preferable.

다가 카르복실산 수지는 적어도 2개 이상의 카르복실기를 갖고, 지방족 탄화수소기 또는 실록산 골격을 주골격으로 하는 것을 특징으로 하는 화합물이다. 본 발명에 있어서는 다가 카르복실산 수지란, 단일의 구조를 갖는 다가 카르복실산 화합물뿐만 아니라 치환기의 위치가 다른, 또는 치환기가 다른 복수의 화합물의 혼합체, 즉 다가 카르복실산 조성물도 포함하여 본 발명에 있어서는 그것들을 통합해서 다가 카르복실산 수지라고 칭한다.The polycarboxylic acid resin is a compound having at least two or more carboxyl groups and having an aliphatic hydrocarbon group or a siloxane skeleton as a main skeleton. In the present invention, the polyvalent carboxylic acid resin means not only a polyvalent carboxylic acid compound having a single structure but also a mixture of a plurality of compounds having different substituent positions or different substituents, that is, a polycarboxylic acid composition, , They are collectively referred to as a polycarboxylic acid resin.

다가 카르복실산 수지로서는, 특히 2~6관능의 카르복실산이 바람직하고, (a); 분자 내에 2개 이상의 수산기를 함유하는 다가 알콜 화합물과 (b); 분자 내에 1개 이상의 산 무수물기를 함유하는 화합물의 반응에 의해 얻어진 화합물이 보다 바람직하다. 여기에서, 상기 (a) 및 (b)의 반응물에 있어서는, 다른 알콜 화합물을 더 반응시켜도 좋고, (a) 또는 (b) 성분에 해당하는 화합물을 2종류 이상 사용해도 좋다.As the polycarboxylic acid resin, a carboxylic acid having 2 to 6 functional groups is particularly preferable, and (a); (B) a polyhydric alcohol compound containing two or more hydroxyl groups in the molecule; A compound obtained by the reaction of a compound containing at least one acid anhydride group in the molecule is more preferable. Here, in the reactants (a) and (b), other alcohol compounds may be further reacted, and two or more compounds corresponding to the component (a) or (b) may be used.

(a); 분자 내에 2개 이상의 수산기를 함유하는 다가 알콜 화합물로서는, 분자 내에 2개 이상의 알콜성 수산기를 갖는 화합물이면 특별히 한정되지 않지만, 에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜, 1,3-프로판디올, 1,2-부탄디올, 1,4-부탄디올, 1,5-펜탄디올, 1,6-헥산디올, 시클로헥산디메탄올, 2,4-디에틸펜탄디올, 2-에틸-2-부틸-1.3-프로판디올, 네오펜틸글리콜, 트리시클로데칸디메탄올, 노보넨디올, 2,2'-비스(4-히드록시시클로헥실)프로판, 2-(1,1-디메틸-2-히드록시에틸)-5-에틸-5-히드록시메틸-1,3-디옥산 등의 디올류, 글리세린, 트리메틸올에탄, 트리메틸올프로판, 트리메틸올부탄, 2-히드록시메틸-1,4-부탄디올 등의 트리올류, 펜타에리스리톨, 디메틸올프로판 등의 테트라올류, 디펜타에리스리톨 등의 헥사올 등, 말단 알콜폴리에스테르, 말단 알콜폴리카보네이트, 말단 알콜폴리에테르, 실록산 구조를 갖는 다가 알콜 등을 들 수 있다.(a); The polyhydric alcohol compound containing two or more hydroxyl groups in the molecule is not particularly limited as long as it is a compound having two or more alcoholic hydroxyl groups in the molecule, and examples thereof include ethylene glycol, propylene glycol, 1,3-propanediol, 1,3-propanediol, 1,4-butanediol, 1,5-pentanediol, 1,6-hexanediol, cyclohexanedimethanol, , Tricyclodecane dimethanol, norbornene diol, 2,2'-bis (4-hydroxycyclohexyl) propane, 2- (1,1-dimethyl-2-hydroxyethyl) 1,3-dioxane, and the like, triols such as glycerin, trimethylol ethane, trimethylol propane, trimethylol butane and 2-hydroxymethyl-1,4-butanediol, pentaerythritol, dimethylol propane And hexaols such as dipentaerythritol, etc., terminal alcohol polyesters, terminal alcohol polycarbonates, terminal alcohols Polyether, there may be mentioned polyhydric alcohols and having a siloxane structure.

특히 바람직한 알콜류로서는 탄소수가 5 이상인 알콜이며, 특히 1,6-헥산디올, 1,4-시클로헥산디메탄올, 1,3-시클로헥산디메탄올, 1,2-시클로헥산디메탄올, 2,4-디에틸펜탄디올, 2-에틸-2-부틸-1,3-프로판디올, 네오펜틸글리콜, 트리시클로데칸디메탄올, 노보넨디올, 2,2'-비스(4-히드록시시클로헥실)프로판, 2-(1,1-디메틸-2-히드록시에틸)-5-에틸-5-히드록시메틸-1,3-디옥산 등의 화합물을 들 수 있고, 그 중에서도 2-에틸-2-부틸-1,3-프로판디올, 네오펜틸글리콜, 2,4-디에틸펜탄디올, 1,4-시클로헥산디메탄올, 트리시클로데칸디메탄올, 노보넨디올, 2,2'-비스(4-히드록시시클로헥실)프로판, 2-(1,1-디메틸-2-히드록시에틸)-5-에틸-5-히드록시메틸-1,3-디옥산 등의 화합물 등의 분기쇄상 구조나 환상 구조를 갖는 알콜류가 보다 바람직하다. 높은 내황화성을 부여하는 관점에서 2,4-디에틸펜탄디올, 트리시클로데칸디메탄올, 2,2'-비스(4-히드록시시클로헥실)프로판, 2-(1,1-디메틸-2-히드록시에틸)-5-에틸-5-히드록시메틸-1,3-디옥산 등의 화합물이 특히 바람직하다. 그 중에서도, 특히 분기쇄상 구조에 있어서는 분기쇄를 2개 이상 갖는 것이 바람직하고, 특히 분기쇄가 다른 탄소원자로부터 신장되어 있는 것이 바람직하다. 여기에서, 상기 분기쇄상 구조나 환상 구조를 갖는 알콜류는 탄소수가 5~25인 것이 바람직하고, 5~20인 것이 특히 바람직하다.Particularly preferred alcohols are alcohols having 5 or more carbon atoms, and particularly preferred are alcohols having 5 or more carbon atoms such as 1,6-hexanediol, 1,4-cyclohexanedimethanol, 1,3-cyclohexanedimethanol, Butyl-1,3-propanediol, neopentyl glycol, tricyclodecane dimethanol, norbornene diol, 2,2'-bis (4-hydroxycyclohexyl) Dimethyl-2-hydroxyethyl) -5-ethyl-5-hydroxymethyl-1,3-dioxane and the like, among which 2-ethyl- 1,3-propanediol, neopentyl glycol, 2,4-diethylpentanediol, 1,4-cyclohexanedimethanol, tricyclodecanedimethanol, norbornenediol, 2,2'-bis (4- (Cyclohexyl) propane, and 2- (1,1-dimethyl-2-hydroxyethyl) -5-ethyl-5-hydroxymethyl-1,3-dioxane. Alcohols are more preferable. (4-hydroxycyclohexyl) propane, 2- (1,1-dimethyl-2-pyrrolidone) Hydroxyethyl) -5-ethyl-5-hydroxymethyl-1,3-dioxane and the like are particularly preferable. Among them, in particular, in the branched chain structure, it is preferable that two or more branched groups are present, and in particular, the branched chain is preferably extended from other carbon atoms. Here, the alcohols having the branched chain structure or the cyclic structure preferably have 5 to 25 carbon atoms, particularly preferably 5 to 20 carbon atoms.

실록산 구조를 갖는 다가 알콜은 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면 하기 식으로 나타내어지는 실리콘 오일을 사용할 수 있다.The polyhydric alcohol having a siloxane structure is not particularly limited, and for example, a silicone oil represented by the following formula can be used.

Figure pct00019
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(식(20) 중, A1은 에테르 결합을 통해도 좋은 탄소 총수 1~10 알킬렌기를 나타내고, A2는 메틸기 또는 페닐기를 나타낸다. 또한, s는 반복수로 평균값을 의미하며, 1~100이다.)(In the formula (20), A 1 represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms which may be bonded through an ether bond, A 2 represents a methyl group or a phenyl group, s represents an average value in terms of the number of repeating units, to be.)

상기한 (a); 분자 내에 2개 이상의 수산기를 함유하는 다가 알콜 화합물은 단독으로 사용해도 좋고, 2종 이상 혼합해서 사용해도 좋다.(A) above; The polyhydric alcohol compound containing two or more hydroxyl groups in the molecule may be used alone or in combination of two or more.

얻어지는 다가 카르복실산 수지를 액상으로 사용하여 높은 내황화성을 부여하기 위해서, 상술한 실록산 구조를 갖는 다가 알콜과 탄소수가 5~25인 분기쇄상 구조나 환상 구조를 갖는 알콜류를 혼합해서 사용하는 것이 바람직하다.It is preferable to use a polyhydric alcohol having a siloxane structure and a branched chain structure having 5 to 25 carbon atoms or alcohols having a cyclic structure in order to impart a high resistance to sulfidation using the obtained polyvalent carboxylic acid resin as a liquid phase Do.

실록산 구조를 갖는 다가 알콜과 탄소수가 5~25인 분기쇄상 구조나 환상 구조를 갖는 알콜류를 혼합해서 사용할 경우, 그 사용량은 전체 알콜 화합물 중 (실록산 구조를 갖는 다가 알콜)/(탄소수가 5~25인 분기쇄상 구조나 환상 구조를 갖는 알콜류)는 1~20이 바람직하고, 경화물의 내열 투명성, 다가 카르복실산 수지의 적당한 점도의 관점에서 5~15가 바람직하며, 6~10이 특히 바람직하다.When a polyhydric alcohol having a siloxane structure and a branched chain structure having 5 to 25 carbon atoms or alcohols having a cyclic structure are mixed and used, the amount of the polyhydric alcohol having a siloxane structure (polyvalent alcohol having a siloxane structure) / (number of carbon atoms: 5 to 25 Is preferably from 1 to 20, and is preferably from 5 to 15, particularly preferably from 6 to 10 from the viewpoints of the heat-resistant transparency of the cured product and the suitable viscosity of the polycarboxylic acid resin.

(b); 분자 내에 1개 이상의 산 무수물기를 함유하는 화합물로서는 특히 메틸테트라히드로 무수 프탈산, 무수 메틸나딕산, 무수 나딕산, 헥사히드로 무수 프탈산, 메틸헥사히드로 무수 프탈산, 부탄테트라카르복실산 무수물, 비시클로[2.2.1]헵탄-2,3-디카르복실산 무수물, 메틸비시클로[2.2.1]헵탄-2,3-디카르복실산 무수물, 시클로헥산-1,3,4-트리카르복실산-3,4-무수물, 무수 글루타르산, 2,4-디에틸 무수 글루타르산, 숙신산 무수물 등이 바람직하고, 그 중에서도 메틸헥사히드로 무수 프탈산, 시클로헥산-1,3,4-트리카르복실산-3,4-무수물, 2,4-디에틸 무수 글루타르산, 1,2,3,4-부탄테트라카르복실산 2무수물, 시클로헥산테트라카르복실산 2무수물, 시클로펜탄테트라카르복실산 2무수물이 바람직하다. 여기에서, 경도를 높이기 위해서는 시클로헥산-1,3,4-트리카르복실산-3,4-무수물이 바람직하고, 조도 유지율을 높이기 위해서는 메틸헥사히드로 무수 프탈산 무수물이 바람직하며, 다가 카르복실산 수지의 과도한 점도 상승을 억제하기 위해서는 2,4-디에틸글루타르산, 글루타르산이 바람직하다.(b); Examples of the compound containing at least one acid anhydride group in the molecule include methyltetrahydrophthalic anhydride, methylnadic anhydride, anhydrous nadic acid, hexahydrophthalic anhydride, methylhexahydrophthalic anhydride, butanetetracarboxylic anhydride, bicyclo [2.2 Heptane-2,3-dicarboxylic acid anhydride, methylbicyclo [2.2.1] heptane-2,3-dicarboxylic acid anhydride, cyclohexane-1,3,4-tricarboxylic acid- , 4-anhydride, anhydrous glutaric acid, 2,4-diethyl anhydroglutaric acid, succinic anhydride and the like are preferable, and among them, methylhexahydrophthalic anhydride, cyclohexane-1,3,4-tricarboxylic acid- But are not limited to, 3,4-anhydride, 2,4-diethyl anhydroglutaric acid, 1,2,3,4-butanetetracarboxylic acid dianhydride, cyclohexanetetracarboxylic acid dianhydride, cyclopentanetetracarboxylic acid dianhydride . Here, cyclohexane-1,3,4-tricarboxylic acid-3,4-anhydride is preferable for increasing the hardness, and methylhexahydrophthalic anhydride is preferable for increasing the roughness retention, and the polycarboxylic acid resin 2,4-diethylglutaric acid and glutaric acid are preferable in order to suppress the excessive increase of the viscosity.

부가 반응의 조건은 상술한 본 발명의 다가 카르복실산(A)의 제조와 마찬가지의 조건에서 반응할 수 있다.The conditions for the addition reaction can be the same as in the preparation of the polyvalent carboxylic acid (A) of the present invention described above.

본 발명의 다가 카르복실산(A) 또는 다가 카르복실산 조성물(C)과 기타 에폭시 수지 경화제를 병용할 경우, 전체 에폭시 수지 경화제 중, 본 발명의 다가 카르복실산(A) 또는 다가 카르복실산 조성물(C)의 비율이 30~99질량부인 것이 바람직하고, 60~97질량부가 특히 바람직하다. 30질량부를 밑돌면, 경화물의 내열 투명성이 떨어질 우려가 있다.When the polyvalent carboxylic acid (A) or the polyvalent carboxylic acid composition (C) of the present invention is used together with other epoxy resin curing agents, the polyvalent carboxylic acid (A) or polyvalent carboxylic acid The proportion of the composition (C) is preferably from 30 to 99 parts by mass, particularly preferably from 60 to 97 parts by mass. If it is less than 30 parts by mass, the heat-resistant transparency of the cured product may deteriorate.

이어서, 본 발명의 에폭시 수지 조성물에 대하여 설명한다. 본 발명에 있어서의 에폭시 수지 조성물은 다가 카르복실산(A) 또는 다가 카르복실산 조성물(C)과, 에폭시 수지(D)를 함유하는 것을 특징으로 한다.Next, the epoxy resin composition of the present invention will be described. The epoxy resin composition according to the present invention is characterized by containing a polyvalent carboxylic acid (A) or a polyvalent carboxylic acid composition (C) and an epoxy resin (D).

에폭시 수지(D)로서는, 예를 들면 페놀 화합물의 글리시딜에테르화물인 에폭시 수지, 각종 노볼락 수지의 글리시딜에테르화물인 에폭시 수지, 지환식 에폭시 수지, 지방족계 에폭시 수지, 복소환식 에폭시 수지, 글리시딜에스테르계 에폭시 수지, 글리시딜아민계 에폭시 수지, 할로겐화 페놀류를 글리시딜화한 에폭시 수지, 에폭시기를 갖는 중합성 불포화 화합물과 그 이외의 다른 중합성 불포화 화합물의 공중합체, 에폭시기를 갖는 규소 화합물과 그 이외의 규소 화합물의 축합물, 실리콘 변성 에폭시 수지 등을 들 수 있다.Examples of the epoxy resin (D) include an epoxy resin which is a glycidyl ether compound of a phenol compound, an epoxy resin which is a glycidyl ether compound of various novolak resins, an alicyclic epoxy resin, an aliphatic epoxy resin, a heterocyclic epoxy resin , A glycidyl ester-based epoxy resin, a glycidylamine-based epoxy resin, an epoxy resin obtained by glycidylating halogenated phenols, a copolymer of a polymerizable unsaturated compound having an epoxy group and other polymerizable unsaturated compounds, A condensation product of a silicon compound and other silicon compounds, and a silicone-modified epoxy resin.

상기 페놀류 화합물의 글리시딜에테르 화물인 에폭시 수지로서는, 예를 들면 2-[4-(2,3-에폭시프로폭시)페닐]-2-[4-[1,1-비스[4-(2,3-히드록시)페닐]에틸]페닐]프로판, 비스페놀 A, 비스페놀 F, 비스페놀 S, 4,4'-비페놀, 테트라메틸비스페놀 A, 디메틸비스페놀 A, 테트라메틸비스페놀 F, 디메틸비스페놀 F, 테트라메틸비스페놀 S, 디메틸비스페놀 S, 테트라메틸-4,4'-비페놀, 디메틸-4,4'-비페놀, 1-(4-히드록시페닐)-2-[4-(1,1-비스-(4-히드록시페닐)에틸)페닐]프로판, 2,2'-메틸렌-비스(4-메틸-6-tert-부틸페놀), 4,4'-부틸리덴-비스(3-메틸-6-tert-부틸페놀), 트리스히드록시페닐메탄, 레조르시놀, 히드로퀴논, 피로갈롤, 플로로글루시놀, 디이소프로필리덴 골격을 갖는 페놀류, 1,1-디-4-히드록시페닐플루오렌 등의 플루오렌 골격을 갖는 페놀류, 페놀화 폴리부타디엔 등의 폴리페놀 화합물의 글리시딜에테르화물인 에폭시 수지 등을 들 수 있다.Examples of the epoxy resin which is a glycidyl ether compound of the phenol compound include 2- [4- (2,3-epoxypropoxy) phenyl] -2- [4- [1,1- Bisphenol A, bisphenol F, bisphenol S, 4,4'-biphenol, tetramethyl bisphenol A, dimethyl bisphenol A, tetramethyl bisphenol F, dimethyl bisphenol F, tetra Bisphenol S, dimethyl bisphenol S, tetramethyl-4,4'-biphenol, dimethyl-4,4'-biphenol, 1- (4-hydroxyphenyl) -2- [4- (4-methyl-6-tert-butylphenol), 4,4'-butylidene-bis (3-methyl- 6-tert-butylphenol), trishydroxyphenylmethane, resorcinol, hydroquinone, pyrogallol, fluoroglucinol, phenols having a diisopropylidene skeleton, 1,1-di-4-hydroxyphenylfluorene Phenol having a fluorene skeleton such as phenolated polybutadiene, And an epoxy resin which is a glycidyl ether compound of the compound.

상기 각종 노볼락 수지의 글리시딜에테르화물인 에폭시 수지로서는, 예를 들면 페놀, 크레졸류, 에틸페놀류, 부틸페놀류, 옥틸페놀류, 비스페놀 A, 비스페놀 F 및 비스페놀 S 등의 비스페놀류, 나프톨류 등의 각종 페놀을 원료로 하는 노볼락 수지, 크실릴렌 골격 함유 페놀 노볼락 수지, 디시클로펜타디엔 골격 함유 페놀 노볼락 수지, 비페닐 골격 함유 페놀 노볼락 수지, 플루오렌 골격 함유 페놀 노볼락 수지 등의 각종 노볼락 수지의 글리시딜에테르화물 등을 들 수 있다.Examples of the epoxy resin which is the glycidyl etherified product of the various novolac resins include phenols such as phenol, cresol, ethylphenol, butylphenol, octylphenol, bisphenols such as bisphenol A, bisphenol F and bisphenol S, Phenolic novolak resins containing a dicyclopentadiene skeleton, phenol novolak resins containing a biphenyl skeleton, and phenol novolac resins containing a fluorene skeleton, and the like, And glycidyl ether compounds of various novolac resins.

상기 지환식 에폭시 수지로서는, 예를 들면 3,4-에폭시시클로헥실메틸-(3,4-에폭시)시클로헥실카르복시레이트, 비스(3,4-에폭시시클로헥실메틸)아디페이트 등의 지방족환 골격을 갖는 지환식 에폭시 수지를 들 수 있다.Examples of the alicyclic epoxy resin include alicyclic skeletons such as 3,4-epoxycyclohexylmethyl- (3,4-epoxy) cyclohexylcarboxylate and bis (3,4-epoxycyclohexylmethyl) adipate, Containing epoxy resin.

상기 지방족계 에폭시 수지로서는, 예를 들면 1,4-부탄디올, 1,6-헥산디올, 폴리에틸렌글리콜, 펜타에리스리톨 등의 다가 알콜의 글리시딜에테르류를 들 수 있다.Examples of the aliphatic epoxy resin include glycidyl ethers of polyhydric alcohols such as 1,4-butanediol, 1,6-hexanediol, polyethylene glycol and pentaerythritol.

상기 복소환식 에폭시 수지로서는, 예를 들면 이소시아누르환, 히단토인환 등의 복소환을 갖는 복소환식 에폭시 수지를 들 수 있다.Examples of the above-mentioned heterocyclic epoxy resin include heterocyclic epoxy resins having heterocyclic rings such as isocyanuric ring and hydantoin ring.

상기 글리시딜 에스테르계 에폭시 수지로서는, 예를 들면 헥사히드로프탈산 디글리시딜에스테르 등의 카르복실산 에스테르류로 이루어지는 에폭시 수지를 들 수 있다.Examples of the glycidyl ester-based epoxy resin include epoxy resins composed of carboxylic acid esters such as hexahydrophthalic acid diglycidyl ester.

상기 글리시딜아민계 에폭시 수지로서는, 예를 들면 아닐린, 톨루이딘 등의 아민류를 글리시딜화한 에폭시 수지를 들 수 있다.Examples of the glycidylamine-based epoxy resin include epoxy resins obtained by glycidylating amines such as aniline and toluidine.

상기 할로겐화 페놀류를 글리시딜화한 에폭시 수지로서는, 예를 들면 브롬화비스페놀 A, 브롬화비스페놀 F, 브롬화비스페놀 S, 브롬화페놀노볼락, 브롬화크레졸노볼락, 클로로화비스페놀 S, 클로로화비스페놀 A 등의 할로겐화페놀류를 글리시딜화한 에폭시 수지를 들 수 있다.Examples of the epoxy resin obtained by glycidylating the halogenated phenols include halogenated phenols such as brominated bisphenol A, brominated bisphenol F, brominated bisphenol S, brominated phenol novolac, brominated cresol novolak, chlorinated bisphenol S and chlorinated bisphenol A And epoxy resins obtained by glycidylation.

에폭시기를 갖는 중합성 불포화 화합물과 그 이외의 다른 중합성 불포화 화합물의 공중합체로서는, 시장으로부터 입수 가능한 제품으로는 마플루프(상품명) G-0115S, 동 G-0130S, 동 G-0250S, 동 G-1010S, 동 G-0150M, 동 G-2050M(니치유(주)제) 등을 들 수 있고, 에폭시기를 갖는 중합성 불포화 화합물로서는, 예를 들면 아크릴산 글리시딜, 메타크릴산 글리시딜, 4-비닐-1-시클로헥센-1,2-에폭시드 등을 들 수 있다. 또한, 다른 중합성 불포화 화합물로서는, 예를 들면 메틸(메타)아크릴레이트, 에테르(메타)아크릴레이트, 벤질(메타)아크릴레이트, 시클로헥실(메타)아크릴레이트, 스티렌, 비닐시클로헥산 등을 들 수 있다. 이들 에폭시 수지는 1종 또는 2종 이상을 혼합해서 사용해도 좋다.G-0115S, G-0130S, G-0250S, G-0250S, and G-0250S may be used as the copolymer of the polymerizable unsaturated compound having an epoxy group and other polymerizable unsaturated compounds, Examples of the polymerizable unsaturated compound having an epoxy group include glycidyl acrylate, glycidyl methacrylate, glycidyl methacrylate, 4-ethylhexyl acrylate, -Vinyl-1-cyclohexene-1,2-epoxide, and the like. Examples of other polymerizable unsaturated compounds include methyl (meth) acrylate, ether (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, styrene and vinylcyclohexane. have. These epoxy resins may be used alone or in combination of two or more.

상기 에폭시기를 갖는 규소 화합물과 그 이외의 규소 화합물의 축합물이란, 예를 들면 에폭시기를 갖는 알콕시실란 화합물과 메틸기나 페닐기를 갖는 알콕시실란의 가수분해 축합물이나, 에폭시기를 갖는 알콕시실란 화합물과 실라놀기를 갖는 폴리디메틸실록산, 실라놀기를 갖는 폴리디메틸디페닐실록산, 실라놀기를 갖는 폴리페닐실록산의 축합물, 또는 그것들을 병용해 얻어진 축합 화합물이다. 에폭시기를 갖는 알콕시실란 화합물로서는, 예를 들면 2-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸트리메톡시실란, 2-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸트리에톡시실란, 3-글리시독시프로필트리메톡시실란, 3-글리시독시프로필메틸디메톡시실란 등을 들 수 있다. 메틸기나 페닐기를 갖는 알콕시실란 화합물로서는, 예를 들면 메틸트리메톡시실란, 메틸트리에톡시실란, 페닐트리메톡시실란, 페닐트리에톡시실란, 디메틸디메톡시실란, 디페닐디메톡시실란, 메틸페닐디메톡시실란 등을 들 수 있다. 실라놀기를 갖는 폴리디메틸실록산, 실라놀기를 갖는 폴리디메틸디페닐실록산으로서는 예를 들면, 시장으로부터 입수 가능한 제품으로는 X-21-5841, KF-9701(신에쓰 가가꾸 고교(주)제) BY16-873, PRX413(도레이·다우코닝(주)제) XC96-723, YF3804, YF3800, XF3905, YF3057(모멘티브·퍼포먼스·머테리얼즈·재팬 고우도우가이샤) DMS-S12, DMS-S14, DMS-S15, DMS-S21, DMS-S27, DMS-S31, PDS-0338, PDS-1615(Gelest사제) 등을 들 수 있다.The condensate of the silicon compound having an epoxy group and the other silicon compound means a condensation product of an alkoxysilane compound having an epoxy group and a hydrolyzed condensate of an alkoxysilane having a methyl group or a phenyl group and a condensation product of an alkoxysilane compound having an epoxy group and a silanol , A condensate of polyphenyldimethylsiloxane having silanol groups, or a condensed compound obtained by using them in combination. Examples of the alkoxysilane compound having an epoxy group include 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltriethoxysilane, 3- Propyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, and the like. Examples of the alkoxysilane compound having a methyl group or a phenyl group include methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, phenyltriethoxysilane, dimethyldimethoxysilane, diphenyldimethoxysilane, Ethoxy silane, and the like. Examples of polydimethyldiphenylsiloxane having a silanol group and polydimethyldiphenylsiloxane having a silanol group include X-21-5841 and KF-9701 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) BY16 DMS-S12, DMS-S14, DMS-S14, and DMS-S73 were used. The results are shown in Table 1 below. S15, DMS-S21, DMS-S27, DMS-S31, PDS-0338 and PDS-1615 (manufactured by Gelest).

상기 실리콘 변성 에폭시 수지란, 실리콘쇄(Si-O쇄)를 주골격으로 하고, 1분자 중에 에폭시기를 2개 이상 갖는 화합물이다. 실리콘쇄는 직쇄상, 분기상, 환상, 바구니형, 래더형 중 어느 것이라도 상관없다. 얻어지는 경화물의 투명성, 기계 강도의 관점에서 하기 식(21)으로 나타내어지는 환상 실리콘 변성 에폭시 수지를 특히 바람직한 예로서 들 수 있지만, 이것에 한정되는 것은 아니다.The silicone-modified epoxy resin is a compound having a silicon chain (Si-O chain) as a main skeleton and having two or more epoxy groups in one molecule. The silicon chain may be any of linear, branched, cyclic, basket-like, and ladder-type. A cyclic silicone-modified epoxy resin represented by the following formula (21) is particularly preferred from the viewpoint of transparency and mechanical strength of the resulting cured product, but is not limited thereto.

Figure pct00020
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식(21)에 있어서, R7은 탄소수 1~6의 탄화수소기를, X는 에폭시기 함유의 유기기 또는 탄소수 1~6의 탄화수소기를, n은 1~3의 정수를 각각 나타낸다. 식 중에 복수 존재하는 R7, X는 각각 동일해도 상관없고 달라도 상관없다. 단, 복수 존재하는 X 중, 2개 이상은 에폭시기 함유의 유기기이다.In the formula (21), R 7 represents a hydrocarbon group of 1 to 6 carbon atoms, X represents an organic group containing an epoxy group or a hydrocarbon group of 1 to 6 carbon atoms, and n represents an integer of 1 to 3, respectively. R 7 and X which are plural in the formula may be the same or different. Provided that at least two of X groups present are an organic group containing an epoxy group.

R7의 구체예로서는 메틸기, 에틸기, 프로필기, 부틸기, 펜틸기, 헥실기, 페닐기를 들 수 있지만, 경화물의 내열 투명성의 관점에서 메틸기, 페닐기가 바람직하고, 제조 용이성의 관점에서 메틸기가 특히 바람직하다.Specific examples of R 7 include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group, a hexyl group and a phenyl group, but a methyl group and a phenyl group are preferable from the viewpoint of heat resistance and transparency of a cured product, Do.

X에 있어서의 유기기란, C, H, N, O원자로 이루어지는 화합물을 나타내고, 에폭시기 함유의 유기기의 구체예로서는 2,3-에폭시시클로헥실에틸기, 3-글리시독시프로필기를 들 수 있고, 경화물의 내열 투명성의 관점에서 2,3-에폭시시클로헥실에틸기가 바람직하다. 여기에서, 유기기에 있어서의 탄소수는 1~20인 것이 바람직하고, 3~15인 것이 보다 바람직하다. 또한, 탄소수 1~5의 알킬렌기를 개재해서 2,3-에폭시시클로헥실에틸기, 3-글리시독시프로필기가 부가하고 있는 기인 것이 바람직하다.The organic group in X represents a compound composed of C, H, N and O atoms. Specific examples of the organic group containing an epoxy group include a 2,3-epoxycyclohexylethyl group and a 3-glycidoxypropyl group. From the viewpoint of heat resistance transparency, a 2,3-epoxycyclohexylethyl group is preferable. Here, the number of carbon atoms in the organic group is preferably 1 to 20, more preferably 3 to 15. It is also preferable that a 2,3-epoxycyclohexylethyl group and a 3-glycidoxypropyl group are added via an alkylene group having 1 to 5 carbon atoms.

X에 있어서의 탄소수 1~6의 탄화수소기의 구체예로서는, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 부틸기, 펜틸기, 헥실기, 페닐기를 들 수 있지만, 경화물의 내열 투명성의 관점에서 메틸기, 페닐기가 바람직하고, 제조 용이성의 관점에서 메틸기가 특히 바람직하다.Specific examples of the hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms in X include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group, a hexyl group and a phenyl group. From the viewpoint of heat resistance and transparency of the cured product, , And a methyl group is particularly preferable from the viewpoint of ease of production.

n은 화합물의 제조 용이성으로부터 2가 바람직하다.n is preferably 2 from the ease of preparation of the compound.

식(21)으로 나타내어지는 환상 실리콘 변성 에폭시 수지는, 환상 하이드로젠실록산 화합물과 분자 내에 에폭시기를 갖는 올레핀 화합물의 하이드로실릴레이션 반응에 의해 얻을 수 있다.The cyclic silicone-modified epoxy resin represented by the formula (21) can be obtained by a hydrosilylation reaction between a cyclic hydrogen siloxane compound and an olefin compound having an epoxy group in the molecule.

환상 하이드로젠실록산 화합물의 구체예로서는 트리메틸트리시클로실록산, 트리페닐트리시클로실록산, 테트라메틸테트라시클로실록산, 테트라페닐테트라시클로실록산, 펜타메틸펜타시클로실록산, 펜타페닐펜타시클로실록산 등을 들 수 있고, 제조의 용이성으로부터 테트라메틸테트라실록산이 바람직하다.Specific examples of the cyclic hydrogensiloxane compound include trimethyltricyclosiloxane, triphenyltricyclosiloxane, tetramethyltetracyclosiloxane, tetraphenyltetracyclosiloxane, pentamethylpentacyclosiloxane, pentaphenylpentacyclooxysiloxane, and the like. Tetramethyltetrasiloxane is preferred for its ease of use.

분자 내에 에폭시기를 갖는 올레핀 화합물로서는 4-비닐-1,2-에폭시시클로헥산, 3-글리시독시-1,2-프로펜 등을 들 수 있고, 경화물의 내열 투명성의 관점에서 4-비닐-1,2-에폭시시클로헥산이 바람직하다.Examples of the olefin compound having an epoxy group in the molecule include 4-vinyl-1,2-epoxycyclohexane and 3-glycidoxy-1,2-propene. From the viewpoint of heat resistance and transparency of the cured product, , 2-epoxycyclohexane are preferable.

하이드로실릴레이션 반응은 그 촉매로서 예를 들면 로듐, 팔라듐, 백금 등의 공지의 금속착체를 사용할 수 있다. 구체적으로는, 트리스트리페닐포스핀로듐클로라이드, 헥사클로로백금산 ·6수화물 등을 들 수 있고, 경화물의 투명성의 관점에서 헥사클로로백금산 ·6수화물이 바람직하다.As the catalyst for the hydrosilylation reaction, for example, known metal complexes such as rhodium, palladium and platinum can be used. Specific examples thereof include tris (triphenylphosphine) rhodium chloride, hexachloroplatinic acid, hexahydrate, and the like, and hexachloroplatinic acid hexahydrate is preferable from the viewpoint of transparency of the cured product.

하이드로실릴레이션 반응에 사용하는 촉매는 용매에 용해해서 용액으로 해서 사용하는 것이 작업성의 관점에서 바람직하다. 사용할 수 있는 용매는 촉매를 용해하는 용매이면 사용할 수 있지만, 용해성, 작업성의 관점에서 테트라히드로푸란, 톨루엔이 바람직하다.From the viewpoint of workability, it is preferable to use the catalyst used in the hydrolysis reaction as a solution in a solvent. The solvent which can be used is any solvent which can dissolve the catalyst, but tetrahydrofuran and toluene are preferable from the viewpoints of solubility and workability.

용액으로서 사용할 경우, 촉매를 0.05~50중량%로 조정해서 반응액에 첨가한다.When used as a solution, the catalyst is adjusted to 0.05 to 50% by weight and added to the reaction solution.

식(21)으로 나타내어지는 환상 실리콘 변성 에폭시 수지는, 구체적으로는 하기 식 (21-1)~(21-6)으로 나타내어지는 화합물을 들 수 있다.The cyclic silicone-modified epoxy resin represented by the formula (21) specifically includes the compounds represented by the following formulas (21-1) to (21-6).

Figure pct00021
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이들 에폭시 수지(D)는 1종 또는 2종 이상을 혼합해서 사용해도 좋다.These epoxy resins (D) may be used alone or in combination of two or more.

상기한 에폭시 수지(D) 중에서도, 투명성, 내열 투명성, 내광 투명성의 관점에서 지환식 에폭시 수지, 에폭시기를 갖는 규소 화합물과 그 이외의 규소 화합물의 축합물, 실리콘 변성 에폭시 수지의 병용은 바람직하다. 그 중에서도, 골격에 에폭시시클로헥산 구조를 갖는 환상 실리콘 변성 에폭시 수지가 바람직하다.Among the above-mentioned epoxy resins (D), alicyclic epoxy resins, condensation products of silicon compounds having an epoxy group with other silicon compounds, and silicon-modified epoxy resins are preferably used in view of transparency, heat resistance transparency and light fastness. Among them, a cyclic silicone-modified epoxy resin having an epoxy cyclohexane structure in the skeleton is preferable.

에폭시 수지(D)는 다가 카르복실산(A) 중의 카르복실산기 1당량 및/또는 다가 카르복실산 조성물(C') 중의 카르복실산 무수물 화합물(B)의 카르복실산 무수물 1당량에 대하여, 에폭시기가 0.5~3.0당량이 되는 범위에서 사용하는 것이 바람직하다. 0.5당량 이상이면 경화물의 내열 투명성이 향상되기 때문에 바람직하고, 3.0 이하이면 경화물의 기계 물성이 향상되기 때문에 바람직하다.The epoxy resin (D) is used in an amount of 1 equivalent of the carboxylic acid group in the polyvalent carboxylic acid (A) and / or 1 equivalent of the carboxylic acid anhydride of the carboxylic acid anhydride compound (B) in the polyvalent carboxylic acid composition (C ' It is preferable that the epoxy group is used in a range of 0.5 to 3.0 equivalents. When the equivalent weight is 0.5 or more, the heat resistance of the cured product is improved, so that the heat resistance is preferably improved, and if it is 3.0 or less, the mechanical properties of the cured product are improved.

본 발명의 에폭시 수지 조성물에는 에폭시 수지 경화 촉진제(E)를 더 함유하는 것이 바람직하다.The epoxy resin composition of the present invention preferably further contains an epoxy resin curing accelerator (E).

에폭시 수지 경화 촉진제(E)로서는 본 발명의 다가 카르복실산(A) 또는 다가 카르복실산 조성물(C)과, 에폭시 수지(D)의 경화 반응을 촉진하는 능력이 있는 것은 모두 사용 가능하지만, 사용할 수 있는 경화 촉진제(E)의 예로서는 암모늄염계 경화 촉진제, 포스포늄염계 경화 촉진제, 금속 비누계 경화 촉진제, 이미다졸계 경화 촉진제, 아민계 경화 촉진제, 포스핀계 경화 촉진제, 포스파이트계 경화 촉진제, 루이스산계 경화 촉진제 등을 들 수 있다.As the epoxy resin curing accelerator (E), it is possible to use both the polyvalent carboxylic acid (A) or the polyvalent carboxylic acid composition (C) of the present invention and those having an ability to accelerate the curing reaction of the epoxy resin (D) Examples of the hardening accelerator (E) that can be used include ammonium salt-based hardening accelerator, phosphonium salt hardening accelerator, metal soap hardening accelerator, imidazole hardening accelerator, amine hardening accelerator, phosphine hardening accelerator, phosphite hardening accelerator, A curing accelerator and the like.

본 발명의 에폭시 수지 조성물에 있어서 에폭시 수지 경화 촉진제(E)의 배합비율은, 에폭시 수지 조성물 100중량부에 대하여 0.001~15중량부의 경화 촉진제를 사용하는 것이 바람직하다.The mixing ratio of the epoxy resin curing accelerator (E) in the epoxy resin composition of the present invention is preferably 0.001 to 15 parts by weight, based on 100 parts by weight of the epoxy resin composition, of a curing accelerator.

본 발명의 에폭시 수지 조성물에 있어서, 사용할 수 있는 에폭시 수지 경화 촉진제(E)의 구체예로서는 2-메틸이미다졸, 2-페닐이미다졸, 2-운데실이미다졸, 2-헵타데실이미다졸, 2-페닐-4-메틸이미다졸, 1-벤질-2-페닐이미다졸, 1-벤질-2-메틸이미다졸, 1-시아노에틸-2-메틸이미다졸, 1-시아노에틸-2-페닐이미다졸, 1-시아노에틸-2-운데실이미다졸, 2,4-디아미노-6(2'-메틸이미다졸(1'))에틸-s-트리아진, 2,4-디아미노-6(2'-운데실이미다졸(1'))에틸-s-트리아진, 2,4-디아미노-6(2'-에틸,4-메틸이미다졸(1'))에틸-s-트리아진, 2,4-디아미노-6(2'-메틸이미다졸(1'))에틸-s-트리아진·이소시아누르산 부가물, 2-메틸이미다졸이소시아누르산의 2:3 부가물, 2-페닐이미다졸이소시아누르산 부가물, 2-페닐-3,5-디히드록시메틸이미다졸, 2-페닐-4-히드록시메틸-5-메틸이미다졸, 1-시아노에틸-2-페닐-3,5-디시아노에톡시메틸이미다졸의 각종 이미다졸류, 및 그것들 이미다졸류와 프탈산, 이소프탈산, 테레프탈산, 트리멜리트산, 피로멜리트산, 나프탈렌디카르복실산, 말레산, 옥살산 등의 다가 카르복실산의 염류, 디시안디아미드 등의 아미드류, 1,8-디아자-비시클로[5.4.0]운데센-7 등의 디아자 화합물 및 그것들의 테트라페닐보레이트, 페놀노볼락 등의 염류, 상기 다가 카르복실산류, 또는 포스핀산류와의 염류, 테트라부틸암모늄브로마이드, 세틸트리메틸암모늄브로마이드, 트리옥틸메틸암모늄브로마이드 등의 암모늄염, 트리페닐포스핀, 트리(톨루일)포스핀, 테트라페닐포스포늄브로마이드, 테트라페닐포스포늄테트라페닐보레이트 등의 포스핀류나 포스포늄 화합물, 2,4,6-트리스아미노메틸페놀 등의 페놀류, 아민아닥트, 옥틸산 주석 등의 금속 화합물 등, 및 이것들 경화 촉진제를 마이크로캡슐로 한 마이크로캡슐형 경화 촉진제 등을 들 수 있다. 이들 경화 촉진제 중 어느 것을 사용할지는, 예를 들면 투명성, 경화 속도, 작업 조건과 같은 얻어지는 투명 수지 조성물에 요구되는 특성에 따라 적절히 선택된다.Specific examples of epoxy resin curing accelerators (E) that can be used in the epoxy resin composition of the present invention include 2-methylimidazole, 2-phenylimidazole, 2-undecylimidazole, 2-heptadecylimidazole Benzimidazole, 1-benzyl-2-methylimidazole, 1-cyanoethyl-2-methylimidazole, 1- 2-phenylimidazole, 1-cyanoethyl-2-undecylimidazole, 2,4-diamino-6 (2'-methylimidazole (1 ')) ethyl- Triazine, 2,4-diamino-6 (2'-undecylimidazole (1 ')) ethyl-s-triazine, 2,4- (2 '-methylimidazole (1')) ethyl-s-triazine isocyanuric acid adduct, 2,4-diamino- -Methylimidazole is a 2: 3 adduct of isocyanuric acid, 2-phenylimidazole isocyanuric acid adduct, 2-phenyl-3,5-dihydroxymethylimidazole, 2-phenyl- - hydroxymethyl-5-methylimidazole, 1-cyanoethyl-2- 3,5-dicyanoethoxymethylimidazole, and imidazoles of imidazoles thereof with at least one of phthalic acid, isophthalic acid, terephthalic acid, trimellitic acid, pyromellitic acid, naphthalenedicarboxylic acid, maleic acid, Diacid compounds such as 1,8-diaza-bicyclo [5.4.0] undecene-7, and their tetraphenylborates, phenol novolacs, Boric acid and the like, salts with polycarboxylic acids or phosphinic acids, ammonium salts such as tetrabutylammonium bromide, cetyltrimethylammonium bromide and trioctylmethylammonium bromide, triphenylphosphine, tri (toluyl) phosphine , Tetraphenylphosphonium bromide, and tetraphenylphosphonium tetraphenylborate, phenols such as 2,4,6-trisaminomethylphenol, amines such as aminodextrin and tin octylate Compounds and the like, and microcapsule type curing accelerators in which these curing accelerators are microcapsules. Which of these curing accelerators are used is appropriately selected depending on properties required for the obtained transparent resin composition such as transparency, curing rate, and working conditions.

이것들 중에서도, 경화물의 투명성의 관점에서 금속 비누 경화 촉진제가 뛰어나고, 금속 비누 경화 촉진제 중에서도 카르복실산 아연 화합물이 경화물의 투명성의 관점에서 특히 바람직하다.Among these, the metal soap hardening accelerator is excellent from the viewpoint of transparency of the hardened product, and among the metal soap hardening accelerators, the zinc carboxylate compound is particularly preferable from the viewpoint of transparency of the cured product.

금속 비누계 경화 촉진제로서는, 예를 들면 옥틸산 주석, 옥틸산 코발트, 옥틸산 아연, 옥틸산 망간, 옥틸산 칼슘, 옥틸산 나트륨, 옥틸산 칼륨, 스테아르산 칼슘, 스테아르산 아연, 스테아르산 마그네슘, 스테아르산 알루미늄, 스테아르산 바륨, 스테아르산 리튬, 스테아르산 나트륨, 스테아르산 칼륨, 12-히드록시인산 칼슘, 12-히드록시스테아르산 아연, 12-히드록시스테아르산 마그네슘, 12-히드록시스테아르산 알루미늄, 12-히드록시스테아르산 바륨, 12-히드록시스테아르산 리튬, 12-히드록시스테아르산 나트륨, 몬탄산 칼슘, 몬탄산 아연, 몬탄산 마그네슘, 몬탄산 알루미늄, 몬탄산 리튬, 몬탄산 나트륨, 베헨산 칼슘, 베헨산 아연, 베헨산 마그네슘, 베헨산 리튬, 베헨산 나트륨, 베헨산 은, 라우린산 칼슘, 라우린산 아연, 라우린산 바륨, 라우린산 리튬, 운데실렌산 아연, 리시놀산 아연, 리시놀산 바륨, 미리스트산 아연, 팔미트산 아연 등을 들 수 있다. 이들 촉매는 1종 또는 2종 이상을 혼합해서 사용해도 좋다.Examples of the metal soap hardening accelerator include tin octylate, cobalt octylate, zinc octylate, manganese octylate, calcium octylate, sodium octylate, potassium octylate, calcium stearate, zinc stearate, magnesium stearate, Aluminum stearate, barium stearate, lithium stearate, sodium stearate, potassium stearate, calcium 12-hydroxyphosphate, zinc 12-hydroxystearate, magnesium 12-hydroxystearate, aluminum 12-hydroxystearate Hydroxystearic acid, sodium 12-hydroxystearate, calcium montanate, zinc montanate, magnesium montanate, aluminum montanate, lithium montanate, sodium montanate, sodium montanate, Calcium laurate, zinc laurate, lithium barium laurate, lithium laurate, calcium laurate, calcium laurate, calcium laurate, calcium laurate, Zinc decylate, zinc ricinoleate, barium ricinoleate, zinc myristate, and zinc palmitate. These catalysts may be used alone or in combination of two or more.

투명성, 내황화성이 뛰어난 경화물을 얻기 위해서, 특히 스테아르산 아연, 몬탄산 아연, 베헨산 아연, 라우린산 아연, 운데실렌산 아연, 리시놀산 아연, 미리스트산 아연, 팔미트산 아연 등의 탄소수 10~30의 카르복실산 아연, 12-히드록시스테아르산 아연 등의 수산기를 갖는 탄소수 10~30의 모노카르복실산 화합물로 이루어지는 아연염을 바람직하게 사용할 수 있다. 이것들 중에서도 특히, 포트 라이프, 내황화성이 뛰어난 관점에서 스테아르산 아연, 운데실렌산 아연 등의 탄소수 10~20의 모노카르복실산 화합물로 이루어지는 아연염, 12-히드록시스테아르산 아연 등의 수산기를 갖는 탄소수 15~20의 모노카르복실산 화합물로 이루어지는 아연염을 바람직하게 사용할 수 있고, 더욱 바람직하게는 스테아르산 아연, 운데실렌산 아연, 12-히드록시스테아르산 아연을 사용할 수 있고, 특히 바람직하게는 스테아르산 아연, 12-히드록시스테아르산 아연을 사용할 수 있다.In order to obtain a cured product excellent in transparency and resistance to sulfidation, it is particularly preferable to use a curing agent such as zinc stearate, zinc montanate, zinc behenate, zinc laurate, zinc undecylenate, zinc ricinoleate, zinc myristate and zinc palmitate A zinc salt of a carboxylic acid having 10 to 30 carbon atoms and a monocarboxylic acid compound having 10 to 30 carbon atoms and having a hydroxyl group such as 12-hydroxystearic acid can be preferably used. Among them, particularly preferred are zinc salts such as zinc stearate, zinc salts of monocarboxylic acid compounds having 10 to 20 carbon atoms such as undecylenic acid, and zinc salts such as 12-hydroxystearic acid zinc having a hydroxyl group A zinc salt of a monocarboxylic acid compound having 15 to 20 carbon atoms can be preferably used, and zinc stearate, zinc undecylenic acid and zinc 12-hydroxystearate are more preferably used, Zinc stearate, and zinc 12-hydroxystearate can be used.

암모늄염계 경화 촉진제로서는, 예를 들면 테트라메틸암모늄히드록시드, 테트라에틸암모늄히드록시드, 테트라프로필암모늄히드록시드, 테트라부틸암모늄히드록시드, 트리메틸에틸암모늄히드록시드, 트리메틸프로필암모늄히드록시드, 트리메틸부틸암모늄히드록시드, 트리메틸세틸암모늄히드록시드, 트리옥틸메틸암모늄히드록시드, 테트라메틸암모늄클로라이드, 테트라메틸암모늄브로마이드, 테트라메틸암모늄요오다이드, 테트라메틸암모늄아세테이트, 트리옥틸메틸암모늄아세테이트 등을 들 수 있다. 포스포늄염계 경화 촉진제로서는, 예를 들면 에틸트리페닐포스포늄브로마이드, 테트라페닐포스포늄테트라페닐보레이트, 메틸트리부틸포스포늄디메틸포스페이트, 메틸트리부틸포스포늄디에틸포스페이트 등을 들 수 있다.Examples of the ammonium salt-based curing accelerator include tetramethyl ammonium hydroxide, tetraethyl ammonium hydroxide, tetrapropyl ammonium hydroxide, tetrabutyl ammonium hydroxide, trimethyl ethyl ammonium hydroxide, , Trimethylbutylammonium hydroxide, trimethylcetylammonium hydroxide, trioctylmethylammonium hydroxide, tetramethylammonium chloride, tetramethylammonium bromide, tetramethylammonium iodide, tetramethylammonium acetate, trioctylmethylammonium acetate And the like. Examples of the phosphonium salt-based curing accelerator include ethyltriphenylphosphonium bromide, tetraphenylphosphonium tetraphenylborate, methyltributylphosphonium dimethylphosphate, and methyltributylphosphonium diethylphosphate.

기타 범용 용도에는 상기 암모늄염계 경화 촉진제, 포스포늄염계 경화 촉진제, 금속 비누계 경화 촉진제 외, 이미다졸계 경화 촉진제, 아민계 경화 촉진제, 복소환 화합물계 경화 촉진제, 포스핀계 경화 촉진제, 포스파이트계 경화 촉진제, 루이스산계 경화 촉진제 등을 사용할 수 있다.Other general-purpose applications include the ammonium salt-based curing accelerator, the phosphonium salt-based curing accelerator, the metal soap-based curing accelerator, the imidazole-based curing accelerator, the amine-based curing accelerator, the heterocyclic compound-based curing accelerator, Accelerators, Lewis acid-based curing accelerators and the like.

상기한 에폭시 수지 경화 촉진제(E)는 실온(25℃)에 있어서 고체의 화합물에서도 사용할 수 있고, 액체의 화합물에서도 사용할 수 있다. 본 발명의 에폭시 수지 조성물을 실온(25℃)에서 액상인 것이 필요한 용도로 사용할 경우에 있어서, 실온(25℃)에서 고체의 화합물을 경화 촉진제로서 사용할 경우, 미리 수지에 용해시켜서 사용할 수도 있다. 또한, 실온(25℃)에 있어서 고체의 화합물을 수지에 분산시켜서 사용할 수도 있다.The above-mentioned epoxy resin curing accelerator (E) can be used as a solid compound at room temperature (25 캜), and can also be used as a liquid compound. When a solid compound is used as a curing accelerator at room temperature (25 占 폚) in the case where the epoxy resin composition of the present invention is used in a liquid state at room temperature (25 占 폚), it may be dissolved in a resin beforehand. It is also possible to use a solid compound dispersed in a resin at room temperature (25 캜).

본 발명의 에폭시 수지 조성물에는, 필요에 따라서 커플링제를 사용함으로써 조성물의 점도 조정, 경화물의 경도를 보완하는 것이 가능하다.In the epoxy resin composition of the present invention, the viscosity of the composition can be adjusted and the hardness of the cured product can be compensated by using a coupling agent as required.

사용할 수 있는 커플링제로서는 예를 들면, 3-글리시독시프로필트리메톡시실란, 3-글리시독시프로필메틸디메톡시실란, 3-글리시독시프로필메틸디메톡시실란, 2-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸트리메톡시실란, N-(2-아미노에틸)3-아미노프로필메틸디메톡시실란, N-(2-아미노에틸)3-아미노프로필메틸트리메톡시실란, 3-아미노프로필트리에톡시실란, 3-머캅토프로필트리메톡시실란, 비닐트리메톡시실란, N-(2-(비닐벤질아미노)에틸)3-아미노프로필트리메톡시실란염산염, 3-메타크릴옥시프로필트리메톡시실란, 3-클로로프로필메틸디메톡시실란, 3-클로로프로필트리메톡시실란 등의 실란계 커플링제; 이소프로필(N-에틸아미노에틸아미노)티타네이트, 이소프로필트리이소스테아로일티타네이트, 티타늄디(디옥틸피로포스페이트)옥시아세테이트, 테트라이소프로필디(디옥틸포스파이트)티타네이트, 네오알콕시트리(p-N-(β-아미노에틸)아미노페닐)티타네이트 등의 티탄계 커플링제; Zr-아세틸아세토네이트, Zr-메타크릴레이트, Zr-프로피오네이트, 네오알콕시지르코네이트, 네오알콕시트리스네오데칸오일지르코네이트, 네오알콕시트리스(도데칸오일)벤젠술포닐지르코네이트, 네오알콕시트리스(에틸렌디아미노에틸)지르코네이트, 네오알콕시트리스(m-아미노페닐)지르코네이트, 암모늄지르코늄카보네이트, Al-아세틸아세토네이트, Al-메타크릴레이트, Al-프로피오네이트 등의 지르코늄, 또는 알루미늄계 커플링제 등을 들 수 있다.Examples of the coupling agent that can be used include 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, 2- (3,4- Epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, N- (2-aminoethyl) 3-aminopropylmethyldimethoxysilane, N- (2-aminoethyl) Methacryloxypropyltrimethoxysilane, ethoxysilane, 3-mercaptopropyltrimethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, N- (2- (vinylbenzylamino) ethyl) 3-aminopropyltrimethoxysilane hydrochloride, A silane-based coupling agent such as 3-chloropropylmethyldimethoxysilane, 3-chloropropyltrimethoxysilane and the like; (Dioctyl pyrophosphate) oxyacetate, tetraisopropyl di (dioctyl phosphite) titanate, neo alkoxy tri (meth) acrylate, (pN- (p-aminoethyl) aminophenyl) titanate; Zr-acetylacetonate, Zr-methacrylate, Zr-propionate, neoalkoxyzirconate, neoalkoxytris neodecane oil zirconate, neoalkoxytris (dodecane oil) benzenesulfonyl zirconate, neo Zirconium such as alkoxytris (ethylenediaminoethyl) zirconate, neoalkoxytris (m-aminophenyl) zirconate, ammonium zirconium carbonate, Al-acetylacetonate, Al-methacrylate, Or an aluminum-based coupling agent.

이들 커플링제는 1종 또는 2종 이상을 혼합해서 사용해도 좋다.These coupling agents may be used alone or in combination of two or more.

커플링제는 본 발명의 에폭시 수지 조성물에 있어서 통상 0.05~20중량부, 바람직하게는 0.1~10중량부가 필요에 따라서 함유된다.The coupling agent is contained in the epoxy resin composition of the present invention in an amount of usually 0.05 to 20 parts by weight, preferably 0.1 to 10 parts by weight, if necessary.

본 발명의 에폭시 수지 조성물에는 필요에 따라서 나노 오더 레벨의 무기 충전제를 사용함으로써, 투명성을 저해하지 않고 기계 강도 등을 보완하는 것이 가능하다. 나노 오더 레벨로서의 기준은 평균 입경이 500㎚ 이하, 특히 평균 입경이 200㎚ 이하인 충전제를 사용하는 것이 투명성의 관점에서는 바람직하다. 무기 충전제로서는 결정 실리카, 용융 실리카, 알루미나, 지르콘, 규산 칼슘, 탄산 칼슘, 탄화규소, 질화규소, 질화붕소, 지르코니아, 포스테라이트, 스테아타이트, 스피넬, 티타니아, 탤크 등의 분체 또는 이것들을 구형화한 비드 등을 들 수 있지만, 이것들에 한정되는 것은 아니다. 이들 충전제는 단독으로 사용해도 좋고, 2종 이상을 사용해도 좋다. 이들 무기 충전제의 함유량은, 본 발명의 에폭시 수지 조성물 중에 있어서 0~95중량%를 차지하는 양이 사용된다.The epoxy resin composition of the present invention can supplement mechanical strength and the like without impairing transparency by using an inorganic filler having a nano-order level as required. It is preferable from the viewpoint of transparency to use a filler having an average particle diameter of 500 nm or less, particularly an average particle diameter of 200 nm or less as a reference as a nano-order level. Examples of the inorganic filler include powders of crystalline silica, fused silica, alumina, zircon, calcium silicate, calcium carbonate, silicon carbide, silicon nitride, boron nitride, zirconia, forsterite, stearate, spinel, titania, talc, Beads, and the like. However, the present invention is not limited to these. These fillers may be used singly or in combination of two or more kinds. The content of these inorganic fillers is in the range of 0 to 95% by weight in the epoxy resin composition of the present invention.

본 발명의 에폭시 수지 조성물에 착색 방지 목적을 위해서, 광 안정제로서의 아민 화합물, 또는 산화방지제로서의 인계 화합물 및 페놀계 화합물을 함유할 수 있다.For the purpose of preventing coloration, the epoxy resin composition of the present invention may contain an amine compound as a light stabilizer or a phosphorus compound and a phenol compound as an antioxidant.

상기 아민 화합물로서는 예를 들면, 테트라키스(1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜)-1,2,3,4-부탄테트라카르복실레이트, 테트라키스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)-1,2,3,4-부탄테트라카르복실레이트, 1,2,3,4-부탄테트라카르복실산과 1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딘올 및 3,9-비스(2-히드록시-1,1-디메틸에틸)-2,4,8,10-테트라옥사스피로[5.5]운데칸의 혼합 에스테르화물, 데칸 2산 비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)세바케이트, 비스(1-운데칸옥시-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일)카보네이트, 2,2,6,6,-테트라메틸-4-피페리딜메타크릴레이트, 비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)세바케이트, 비스(1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜)세바케이트, 4-벤조일옥시-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘, 1-〔2-〔3-(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시페닐)프로피오닐옥시〕에틸〕-4-〔3-(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시페닐)프로피오닐옥시〕-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘, 1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리디닐-메타아크릴레이트, 비스(1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리디닐)〔〔3,5-비스(1,1-디메틸에틸)-4-히드록시페닐〕메틸〕부틸말로네이트, 데칸 2산 비스(2,2,6,6-테트라메틸-1(옥틸옥시)-4-피페리디닐)에스테르,1,1-디메틸에틸히드로퍼옥사이드와 옥탄의 반응 생성물, N, N',N"',N"'-테트라키스-(4,6-비스-(부틸-(N-메틸-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일)아미노)-트리아진-2-일)-4,7-디아자데칸-1,10-디아민, 디부틸아민·1,3,5-트리아진·N,N'-비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜-1,6-헥사메틸렌디아민과 N-(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)부틸아민의 중축합물, 폴리〔〔6-(1,1,3,3-테트라메틸부틸)아미노-1,3,5-트리아진-2,4-디일〕〔(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)이미노〕헥사메틸렌〔(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)이미노〕〕, 숙신산 디메틸과 4-히드록시-2,2,6,6-테트라메틸-1-피페리딘에탄올의 중합물, 2,2,4,4-테트라메틸-20-(β-라우릴옥시카르보닐)에틸-7-옥사-3,20-디아자디스피로〔5·1·11·2〕헤네이코산-21-온, β-알라닌,N,-(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리디닐)-도데실에스테르/테트라데실에스테르, N-아세틸-3-도데실-1-(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리디닐)피롤리딘-2,5-디온, 2,2,4,4-테트라메틸-7-옥사-3,20-디아자디스피로〔5,1,11,2〕헤네이코산-21-온, 2,2,4,4-테트라메틸-21-옥사-3,20-디아자디시클로-〔5,1,11,2〕-헤네이코산-20-프로판산 도데실에스테르/테트라데실에스테르, 프로판디오익애시드,〔(4-메톡시페닐)-메틸렌〕-비스(1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리디닐)에스테르, 2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딘올의 고급 지방산 에스테르, 1,3-벤젠디카르복시아미드, N,N'-비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리디닐) 등의 힌더드아민계, 옥타벤존 등의 벤조페논계 화합물, 2-(2H-벤조트리아졸-2-일)-4-(1,1,3,3-테트라메틸부틸)페놀, 2-(2-히드록시-5-메틸페닐)벤조트리아졸, 2-〔2-히드록시-3-(3,4,5,6-테트라히드로프탈이미드-메틸)-5-메틸페닐〕벤조트리아졸, 2-(3-tert-부틸-2-히드록시-5-메틸페닐)-5-클로로벤조트리아졸, 2-(2-히드록시-3,5-디-tert-펜틸페닐)벤조트리아졸, 메틸3-(3-(2H-벤조트리아졸-2-일)-5-tert-부틸-4-히드록시페닐)프로피오네이트와 폴리에틸렌글리콜의 반응 생성물, 2-(2H-벤조트리아졸-2-일)-6-도데실-4-메틸페놀 등의 벤조트리아졸계 화합물, 2,4-디-tert-부틸페닐-3,5-디-tert-부틸-4-히드록시벤조에이트 등의 벤조에이트계, 2-(4,6-디페닐-1,3,5-트리아진-2-일)-5-〔(헥실)옥시〕페놀 등의 트리아진계 화합물 등을 들 수 있지만, 특히 바람직하게는 힌더드아민계 화합물이다.Examples of the amine compound include tetrakis (1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl) -1,2,3,4-butanetetracarboxylate, tetrakis (2, 2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) -1,2,3,4-butane tetracarboxylate, 1,2,3,4-butanetetracarboxylic acid and 1,2,2,6 , 6-pentamethyl-4-piperidino and 3,9-bis (2-hydroxy-1,1-dimethylethyl) -2,4,8,10-tetraoxaspiro [5.5] undecane (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) sebacate, bis (1-undecaneoxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidin- - 2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl methacrylate, bis (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) sebacate, bis Pentamethyl-4-piperidyl) sebacate, 4-benzoyloxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidine, 1- [2- [3- Ethyl] -4- [3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionyloxy] ) Propionyloxy] -2,2,6,6-tetramethylpiperidine, 1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidinyl-methacrylate, bis , 6,6-pentamethyl-4-piperidinyl) [[3,5-bis (1,1-dimethylethyl) -4- hydroxyphenyl] methyl] butyl malonate, decane diacid bis N, N '', N '' '- N'-diphenylmethane diisocyanate, reaction product of 1,1-dimethylethyl hydroperoxide and octane, Tetrakis- (4,6-bis- (N - methyl- 2,2,6,6-tetramethylpiperidin-4-yl) amino) -triazin- -Diazadecane-1,10-diamine, dibutylamine 1,3,5-triazine N, N'-bis (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl- A polycondensation product of 6-hexamethylenediamine and N- (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) butylamine, a poly [6- (1,1,3,3-tetramethylbutyl) Amino-1,3,5-triazine-2,4-diyl] [(2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) imino] hexamethylene [ - tetramethyl-4-piperidyl) Mino], a polymer of dimethyl succinate and 4-hydroxy-2,2,6,6-tetramethyl-1-piperidine ethanol, 2,2,4,4-tetramethyl-20- (β- Oxycarbonyl) ethyl-7-oxa-3,20-diazabicyclo [5.1.11.2] heneic acid-21-one, beta -alanine, N, - (2,2,6,6- Acetyl-3-dodecyl-1- (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidinyl) pyrrolidine -2,5-dione, 2,2,4,4-tetramethyl-7-oxa-3,20-diazadispyro [5,1,11,2] heneic acid-21- 4,4-tetramethyl-21-oxa-3,20-diazadicyclo- [5,1,11,2] -henate acid-20-propanoate dodecyl ester / tetradecyl ester, propanedioic acid, [(4-methoxyphenyl) methylene] -bis (1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidinyl) ester, 2,2,6,6-tetramethyl- N, N'-bis (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperazin-1-yl) 2-yl) -4- (1,1,3,3-tetramethylbutyl) phenol, 2 (2H-benzotriazol-2-yl) - (2-hydroxy-5-methylphenyl) benzotriazole, 2- [2-hydroxy-3- (3,4,5,6-tetrahydrophthalimide- , 2- (3-tert-butyl-2-hydroxy-5-methylphenyl) -5- chlorobenzotriazole, 2- The reaction product of methyl 3- (3- (2H-benzotriazol-2-yl) -5-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate with polyethylene glycol, 2- (2H-benzotriazol- Di-tert-butylphenyl-3,5-di-tert-butyl-4-hydroxybenzoate, and the like; Based compounds such as 2- (4,6-diphenyl-1,3,5-triazin-2-yl) -5 - [(hexyl) oxy] phenol and the like, The hindered amine compound All.

상기 광안정제인 아민 화합물로서, 이어서 나타내는 시판품을 사용할 수 있다.As the amine compound as the light stabilizer, a commercially available product represented by the following formula can be used.

시판되고 있는 아민계 화합물로서는 특별히 한정되지 않고, 예를 들면 치바 스페셜리티 케미컬즈제로서 TINUVIN(상품명)765, TINUVIN770DF, TINUVIN144, TINUVIN123, TINUVIN622LD, TINUVIN152, CHIMASSORB(상품명)944, ADEKA제로서 LA-52, LA-57, LA-62, LA-63P, LA-77Y, LA-81, LA-82, LA-87 등을 들 수 있다.Examples of commercially available amine compounds include, but are not limited to, TINUVIN 765, TINUVIN 770DF, TINUVIN 144, TINUVIN 123, TINUVIN 622LD, TINUVIN 152 and CHIMASSORB 944 as commercial products of Chiba Specialty Chemicals, LA- -57, LA-62, LA-63P, LA-77Y, LA-81, LA-82 and LA-87.

상기 인계 화합물로서는 특별히 한정되지 않고, 예를 들면 1,1,3-트리스(2-메틸-4-디트리데실포스파이트-5-tert-부틸페닐)부탄, 디스테아릴펜타에리스리톨디포스파이트, 비스(2,4-디-tert-부틸페닐)펜타에리스리톨디포스파이트, 비스(2,6-디-tert-부틸-4-메틸페닐)펜타에리스리톨디포스파이트, 페닐비스페놀 A 펜타에리스리톨디포스파이트, 디시클로헥실펜타에리스리톨디포스파이트, 트리스(디에틸페닐)포스파이트, 트리스(디-이소프로필페닐)포스파이트, 트리스(디-n-부틸페닐)포스파이트, 트리스(2,4-디-tert-부틸페닐)포스파이트, 트리스(2,6-디-tert-부틸페닐)포스파이트, 트리스(2,6-디-tert-부틸페닐)포스파이트, 2,2'-메틸렌비스(4,6-디-tert-부틸페닐)(2,4-디-tert-부틸페닐)포스파이트, 2,2'-메틸렌비스(4,6-디-tert-부틸페닐)(2-tert-부틸-4-메틸페닐)포스파이트, 2,2'-메틸렌비스(4-메틸-6-tert-부틸페닐)(2-tert-부틸-4-메틸페닐)포스파이트, 2,2'-에틸리덴비스(4-메틸-6-tert-부틸페닐)(2-tert-부틸-4-메틸페닐)포스파이트, 테트라키스(2,4-디-tert-부틸페닐)-4,4'-비페닐렌디포스포나이트, 테트라키스(2,4-디-tert-부틸페닐)-4,3'-비페닐렌디포스포나이트, 테트라키스(2,4-디-tert-부틸페닐)-3,3'-비페닐렌디포스포나이트, 테트라키스(2,6-디-tert-부틸페닐)-4,4'-비페닐렌디포스포나이트, 테트라키스(2,6-디-tert-부틸페닐)-4,3'-비페닐렌디포스포나이트, 테트라키스(2,6-디-tert-부틸페닐)-3,3'-비페닐렌디포스포나이트, 비스(2,4-디-tert-부틸페닐)-4-페닐-페닐포스포나이트, 비스(2,4-디-tert-부틸페닐)-3-페닐-페닐포스포나이트, 비스(2,6-디-n-부틸페닐)-3-페닐-페닐포스포나이트, 비스(2,6-디-tert-부틸페닐)-4-페닐-페닐포스포나이트, 비스(2,6-디-tert-부틸페닐)-3-페닐-페닐포스포나이트, 테트라키스(2,4-디-tert-부틸-5-메틸페닐)-4,4'-비페닐렌디포스포나이트, 트리부틸포스페이트, 트리메틸포스페이트, 트리크레실포스페이트, 트리페닐포스페이트, 트리클로로페닐포스페이트, 트리에틸포스페이트, 디페닐크레실포스페이트, 디페닐모노오르소크세닐포스페이트, 트리부톡시에틸포스페이트, 디부틸포스페이트, 디옥틸포스페이트, 디이소프로필포스페이트 등을 들 수 있다.The phosphorus compound is not particularly limited and examples thereof include 1,1,3-tris (2-methyl-4-ditridecylphosphite-5-tert-butylphenyl) butane, distearylpentaerythritol diphosphite, bis (2,6-di-tert-butyl-4-methylphenyl) pentaerythritol diphosphite, phenyl bisphenol A pentaerythritol diphosphite, dicyclohexyl penta (Di-isopropylphenyl) phosphite, tris (di-n-butylphenyl) phosphite, tris (di-tert- butylphenyl) (2,6-di-tert-butylphenyl) phosphite, 2,2'-methylenebis (4,6-di- Butylphenyl) phosphite, 2,2'-methylenebis (4,6-di-tert-butylphenyl) (2-tert- butyl-4-methylphenyl) phosphite , 2,2'-methylene Butylphenyl) (2-tert-butyl-4-methylphenyl) phosphite, 2,2'-ethylidenebis (4-methyl- (2,4-di-tert-butylphenyl) -4,4'-biphenylene diphosphonite, tetrakis (2,4-di-tert- butylphenyl) Phenyl) -4,3'-biphenylene diphosphonite, tetrakis (2,4-di-tert-butylphenyl) -3,3'-biphenylene diphosphonite, tetrakis butylphenyl) -4,4'-biphenylene diphosphonite, tetrakis (2,6-di-tert-butylphenyl) -4,3'-biphenylene diphosphonite, tetrakis Bis (2,4-di-tert-butylphenyl) -4-phenyl-phenylphosphonite, bis (2,4- Butylphenyl) -3-phenyl-phenylphosphonite, bis (2,6-di-n-butylphenyl) butylphenyl) -4-phenyl-phenylphosphonite, bis (2,6-di-tert-butylphenyl) (2,4-di-tert-butyl-5-methylphenyl) -4,4'-biphenylene diphosphonite, tributylphosphate, trimethylphosphate, tricresylphosphate, triphenylphosphate, Trichlorophenyl phosphate, triethyl phosphate, diphenylcresyl phosphate, diphenyl mono isocecenyl phosphate, tributoxyethyl phosphate, dibutyl phosphate, dioctyl phosphate, diisopropyl phosphate, and the like.

상기 인계 화합물은 시판품을 사용할 수도 있다. 시판되고 있는 인계 화합물로서는 특별히 한정되지 않고, 예를 들면 ADEKA제로서 아데카스타브(상품명) PEP-4C, 아데카스타브 PEP-8, 아데카스타브 PEP-24G, 아데카스타브 PEP-36, 아데카스타브 HP-10, 아데카스타브 2112, 아데카스타브 260, 아데카스타브 522A, 아데카스타브 1178, 아데카스타브 1500, 아데카스타브 C, 아데카스타브 135A 등을 들 수 있다.Commercially available products of the phosphorus compound may be used. Examples of commercially available phosphorus compounds include, but are not limited to, adekastab (trade name) PEP-4C, adecastab PEP-8, adecastab PEP-24G, adecastab PEP-36, Tabak HP-10, Adekastab 2112, Adekastab 260, Adekastab 522A, Adekastab 1178, Adekastab 1500, Adekastab C, Adekastab 135A and the like.

상기 페놀 화합물로서는 특별히 한정은 되지 않고, 예를 들면 2,6-디-tert-부틸-4-메틸페놀, n-옥타데실-3-(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시페닐)프로피오네이트, 테트라키스[메틸렌-3-(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시페닐)프로피오네이트]메탄, 2,4-디-tert-부틸-6-메틸페놀, 1,6-헥산디올-비스-[3-(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시페닐)프로피오네이트], 트리스(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시벤질)-이소시아누레이트, 1,3,5-트리메틸-2,4,6-트리스(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시벤질)벤젠, 펜타에리스리틸-테트라키스[3-(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시페닐)프로피오네이트], 3,9-비스-〔2-[3-(3-tert-부틸-4-히드록시-5-메틸페닐)-프로피오닐옥시]-1,1-디메틸에틸〕-2,4,8,10-테트라옥사스피로[5.5]운데칸, 트리에틸렌글리콜-비스[3-(3-t-부틸-5-메틸-4-히드록시페닐)프로피오네이트], 2,2'-부틸리덴비스(4,6-디-tert-부틸페놀), 4,4'-부틸리덴비스(3-메틸-6-tert-부틸페놀), 2,2'-메틸렌비스(4-메틸-6-tert-부틸페놀), 2,2'-메틸렌비스(4-에틸-6-tert-부틸페놀), 2-tert-부틸-6-(3-tert-부틸-2-히드록시-5-메틸벤질)-4-메틸페놀아크릴레이트, 2-[1-(2-히드록시-3,5-디-tert-펜틸페닐)에틸]-4,6-디-tert-펜틸페닐아크릴레이트, 4,4'-티오비스(3-메틸-6-tert-부틸페놀), 4,4'-부틸리덴비스(3-메틸-6-tert-부틸페놀), 2-tert-부틸-4-메틸페놀, 2,4-디-tert-부틸페놀, 2,4-디-tert-펜틸페놀, 4,4'-티오비스(3-메틸-6-tert-부틸페놀), 4,4'-부틸리덴비스(3-메틸-6-tert-부틸페놀), 비스-[3,3-비스-(4'-히드록시-3'-tert-부틸페닐)-부타노익애시드]-글리콜에스테르, 2,4-디-tert-부틸페놀, 2,4-디-tert-펜틸페놀, 2-[1-(2-히드록시-3,5-디-tert-펜틸페닐)에틸]-4,6-디-tert-펜틸페닐아크릴레이트, 비스-[3,3-비스-(4'-히드록시-3'-tert-부틸페닐)-부타노익애시드]-글리콜에스테르 등을 들 수 있다.The phenol compound is not particularly limited, and examples thereof include 2,6-di-tert-butyl-4-methylphenol, n-octadecyl-3- (3,5- Phenyl) propionate, tetrakis [methylene-3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate] methane, 2,4-di-tert- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], 1,6-hexanediol- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxybenzyl) benzene, pentaerythritol-tetrakis [ (3-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], 3,9-bis- [2- [3- Methylphenyl) propionyloxy] -1,1-dimethylethyl] -2,4,8,10-tetraoxaspiro [5.5] undecane, triethylene glycol-bis [3- (3- Methyl-4-hydroxyphenyl) propionate], 2,2'-butylidenebis (4,6-di-tert-butyl Phenol), 4,4'-butylidenebis (3-methyl-6-tert-butylphenol), 2,2'- Butylphenol acrylate, methylene bis (4-ethyl-6-tert-butylphenol), 2-tert- butyl-6- (3- (4-tert-butylphenyl) ethyl] -4,6-di-tert-pentylphenyl acrylate, 4,4'-thiobis (3-methyl- tert-butylphenol), 4,4'-butylidenebis (3-methyl-6-tert-butylphenol) Butylphenol, 4,4'-thiobis (3-methyl-6-tert-butylphenol), 4,4'-butylidenebis Phenol), bis- [3,3-bis- (4'-hydroxy-3'-tert-butylphenyl) -butanooic acid] -glycol ester, 2,4-di- Di-tert-pentylphenol, 2- [1- (2-hydroxy-3,5-di-tert- pentylphenyl) ethyl] , 3-bis- (4'-hydroxy-3'-tert-butylphenyl) -butanoic acid] - And the like call ester.

상기 페놀계 화합물은 시판품을 사용할 수도 있다. 시판되고 있는 페놀계 화합물로서는 특별히 한정되지 않고, 예를 들면 치바 스페셜리티 케미컬즈제로서 IRGANOX(상품명)1010, IRGANOX1035, IRGANOX1076, IRGANOX1135, IRGANOX245, IRGANOX259, IRGANOX295, IRGANOX3114, IRGANOX1098, IRGANOX1520L, 아데카제로서는 아데카스타브 AO-20, 아데카스타브 AO-30, 아데카스타브 AO-40, 아데카스타브 AO-50, 아데카스타브 AO-60, 아데카스타브 AO-70, 아데카스타브 AO-80, 아데카스타브 AO-90, 아데카스타브 AO-330, 스미토모카가쿠코교제로서 Sumilizer(상품명) GA-80, Sumilizer MDP-S, Sumilizer BBM-S, Sumilizer GM, Sumilizer GS(F), Sumilizer GP 등을 들 수 있다.Commercially available products of the phenolic compound may be used. Examples of commercially available phenol compounds include, but are not limited to, IRGANOX (trade name) 1010, IRGANOX1035, IRGANOX1076, IRGANOX11535, IRGANOX245, IRGANOX259, IRGANOX295, IRGANOX3114, IRGANOX1098 and IRGANOX1520L as the Ciba Specialty Chemicals, 50, adecastab AO-60, adecastab AO-70, adecastab AO-80, adecastab AO-40, adecastab AO-50, adecastab AO-60, adecastab AO- Sumilizer (trade name) GA-80, Sumilizer MDP-S, Sumilizer BBM-S, Sumilizer GM, Sumilizer GS (F) and Sumilizer GP as Adekustab AO-330 and Sumitomo Chemical Co., have.

이 외에, 수지의 착색 방지제로서 시판되고 있는 첨가제를 사용할 수 있다. 예를 들면, 치바 스페셜리티 케미컬즈제로서 THINUVIN328, THINUVIN234, THINUVIN326, THINUVIN120, THINUVIN477, THINUVIN479, CHIMASSORB2020FDL, CHIMASSORB119FL 등을 들 수 있다.In addition, commercially available additives can be used as the coloring preventing agent for the resin. For example, THINUVIN328, THINUVIN234, THINUVIN326, THINUVIN120, THINUVIN477, THINUVIN479, CHIMASSORB2020FDL, CHIMASSORB119FL and the like can be mentioned as Ciba Specialty Chemicals.

상기 인계 화합물, 아민 화합물, 페놀계 화합물 중에서 적어도 1종 이상을 함유하는 것이 바람직하고, 그 배합량으로서는 특별히 한정되지 않지만, 본 발명의 에폭시 수지 조성물의 전체 중량에 대하여 0.005~5.0중량%의 범위이다.The phosphorus compound, the amine compound, and the phenol compound are preferably contained in an amount of 0.005 to 5.0% by weight based on the total weight of the epoxy resin composition of the present invention, although the amount thereof is not particularly limited.

또한, 본 발명의 에폭시 수지 조성물에는 필요에 따라서 바인더 수지를 배합할 수도 있다. 바인더 수지로서는 부티랄계 수지, 아세탈계 수지, 아크릴계 수지, 에폭시-나일론계 수지, NBR-페놀계 수지, 에폭시-NBR계 수지, 폴리아미드계 수지, 폴리이미드계 수지, 실리콘계 수지 등을 들 수 있지만, 이것들에 한정되는 것은 아니다. 바인더 수지의 배합량은 경화물의 난연성, 내열성을 손상하지 않는 범위인 것이 바람직하고, 수지 성분 100중량부에 대하여 통상 0.05~50중량부, 바람직하게는 0.05~20중량부가 필요에 따라서 사용된다.The epoxy resin composition of the present invention may optionally contain a binder resin. As the binder resin, a butyral resin, an acetal resin, an acrylic resin, an epoxy-nylon resin, an NBR-phenol resin, an epoxy -NBR resin, a polyamide resin, a polyimide resin, But the present invention is not limited thereto. The blending amount of the binder resin is preferably within a range that does not impair the flame retardancy and heat resistance of the cured product, and is usually 0.05 to 50 parts by weight, preferably 0.05 to 20 parts by weight, based on 100 parts by weight of the resin component.

본 발명의 에폭시 수지 조성물에는 필요에 따라서 무기 충전제를 첨가할 수 있다. 무기 충전제로서는 결정 실리카, 용융 실리카, 알루미나, 지르콘, 규산 칼슘, 탄산 칼슘, 탄화규소, 질화규소, 질화붕소, 지르코니아, 포스테라이트, 스테아타이트, 스피넬, 티타니아, 탤크 등의 분체 또는 이것들을 구형화한 비드 등을 들 수 있지만, 이것들에 한정되는 것은 아니다. 이것들은 단독으로 사용해도 좋고, 2종 이상을 사용해도 좋다. 이들 무기 충전제의 함유량은, 본 발명의 경화성 수지 조성물 중에 있어서 0~95중량%를 차지하는 양이 사용된다. 본 발명의 경화성 수지 조성물에는 실란커플링제, 스테아르산, 팔미트산, 스테아르산 아연, 스테아르산 칼슘 등의 이형제, 안료 등의 여러 가지의 배합제, 각종 열경화성 수지를 더 첨가할 수 있다.An inorganic filler may be added to the epoxy resin composition of the present invention if necessary. Examples of the inorganic filler include powders of crystalline silica, fused silica, alumina, zircon, calcium silicate, calcium carbonate, silicon carbide, silicon nitride, boron nitride, zirconia, forsterite, stearate, spinel, titania, talc, Beads, and the like. However, the present invention is not limited to these. These may be used alone or in combination of two or more. The content of these inorganic fillers in the curable resin composition of the present invention is 0 to 95% by weight. To the curable resin composition of the present invention, various compounding agents such as a silane coupling agent, stearic acid, palmitic acid, zinc stearate, a release agent such as calcium stearate, a pigment, and various thermosetting resins may be further added.

본 발명의 에폭시 수지 조성물은 상기 각 성분을 상온 또는 가온 하에서 균일하게 혼합함으로써 얻어진다. 예를 들면, 압출기, 니더, 3단롤, 만능 믹서, 플래니터리 믹서, 호모 믹서, 호모디스퍼, 비드밀 등을 이용하여 균일해질 때까지 충분히 혼합하고, 필요에 따라서 SUS 메쉬 등에 의해 여과 처리를 행함으로써 조제된다.The epoxy resin composition of the present invention is obtained by uniformly mixing the above components at room temperature or under heating. For example, the mixture is sufficiently mixed by using an extruder, a kneader, a three-stage roll, an all-purpose mixer, a planetary mixer, a homomixer, a homodisper, a bead mill, etc. until homogeneous, .

본 발명의 에폭시 수지 조성물은 본 발명의 다가 카르복실산(A) 또는 다가 카르복실산 조성물(C) 및 에폭시 수지(D) 및 임의로 경화 촉진제(E), 산화방지제, 광 안정제 등의 첨가물을 충분히 혼합함으로써 조제되고, 밀봉재로서 사용할 수 있다. 혼합 방법으로서는 약숟가락, 니더, 3단롤, 만능 믹서, 플래니터리 믹서, 호모 믹서, 호모디스퍼, 비드밀 등을 이용하여 상온 또는 가온해서 혼합한다.The epoxy resin composition of the present invention can be obtained by sufficiently adding additives such as the polyvalent carboxylic acid (A) or the polyvalent carboxylic acid composition (C) and the epoxy resin (D) of the present invention and optionally a curing accelerator (E) And they can be used as a sealing material. As the mixing method, mixing is carried out at room temperature or by using a spoon, kneader, three-stage roll, universal mixer, planetary mixer, homomixer, homodisper, bead mill or the like.

본 발명의 에폭시 수지 조성물을 톨루엔, 크실렌, 아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 시클로펜탄온, 디메틸포름아미드, 디메틸아세트아미드, N-메틸피롤리돈 등의 용제에 용해시켜 에폭시 수지 조성물 바니시로 하고, 유리 섬유, 카본 섬유, 폴리에스테르 섬유, 폴리아미드 섬유, 알루미나 섬유, 종이 등의 기재에 함침시켜서 가열 건조해서 얻은 프리프레그를 열 프레스 성형함으로써, 본 발명의 에폭시 수지 조성물의 경화물로 할 수 있다. 이때의 용제는, 본 발명의 에폭시 수지 조성물과 상기 용제의 혼합물 중에서 통상 10~70중량%, 바람직하게는 15~70중량%를 차지하는 양을 사용한다. 또한, 액상 조성물인 상태에서 RTM 방식으로 카본 섬유를 함유하는 에폭시 수지 경화물을 얻을 수도 있다.The epoxy resin composition of the present invention is dissolved in a solvent such as toluene, xylene, acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclopentanone, dimethyl formamide, dimethylacetamide and N- methylpyrrolidone to prepare an epoxy resin composition varnish , A prepreg obtained by impregnating a substrate such as glass fiber, carbon fiber, polyester fiber, polyamide fiber, alumina fiber, paper or the like with heating and drying is hot-pressed to obtain a cured product of the epoxy resin composition of the present invention . The amount of the solvent used in the mixture of the epoxy resin composition of the present invention and the solvent is usually 10 to 70% by weight, preferably 15 to 70% by weight. Further, an epoxy resin cured product containing carbon fibers may be obtained by an RTM method in the state of being a liquid composition.

또한, 본 발명의 에폭시 수지 조성물을 필름형 조성물의 개질제로서도 사용할 수 있다. 구체적으로는, B-스테이지에 있어서의 플렉시블성 등을 향상시키는 경우에 사용할 수 있다. 이와 같은 필름형의 수지 조성물을 얻은 경우에는, 본 발명의 에폭시 수지 조성물을 박리 필름 상에 상기 바니시로서 도포하고 가열 하에서 용제를 제거, B 스테이지화를 행함으로써 시트상의 접착제로서 얻는다. 이 시트상 접착제는 다층 기판 등에 있어서의 층간 절연층으로서 사용할 수 있다.The epoxy resin composition of the present invention can also be used as a modifier for film-like compositions. Concretely, it can be used in the case of improving the flexibility in the B-stage. When such a film-like resin composition is obtained, the epoxy resin composition of the present invention is applied as a varnish on the release film, the solvent is removed under heating, and B staging is carried out to obtain a sheet-like adhesive. This sheet-like adhesive can be used as an interlayer insulating layer in a multilayer substrate or the like.

또한, 에폭시 수지 등의 열경화성 수지가 사용되는 일반의 용도를 들 수 있고, 예를 들면 접착제, 도료, 코팅제, 성형 재료(시트, 필름, FRP 등을 포함함), 절연 재료(프린트 기판, 전선 피복 등을 포함함), 밀봉재로서의 용도 외에, 밀봉재, 기판용의 시아네이트 수지 조성물이나, 레지스트용 경화제로서 아크릴산 에스테르계 수지 등, 다른 수지 등으로의 첨가제로서의 용도 등을 들 수 있다.Further, general applications in which a thermosetting resin such as an epoxy resin is used include adhesives, paints, coating agents, molding materials (including sheets, films, FRP and the like), insulating materials (printed boards, And the like), as a sealing material, a cyanate resin composition for a sealing material and a substrate, and an acrylic ester resin as a curing agent for a resist, as an additive to other resins, and the like.

접착제로서는 토목용, 건축용, 자동차용, 일반 사무용, 의료용의 접착제 외에, 전자 재료용의 접착제를 들 수 있다. 이것들 중 전자 재료용의 접착제로서는, 빌드업 기판 등의 다층 기판의 층간 접착제, 다이본딩제, 언더필 등의 반도체용 접착제, BGA 보강용 언더필, 이방성 도전성 필름(ACF), 이방성 도전성 페이스트(ACP) 등의 실장용 접착제 등을 들 수 있다.As the adhesive, adhesives for electronic materials, in addition to adhesives for civil engineering, construction use, automobile use, general office use, and medical use, can be mentioned. Among these, examples of the adhesive for electronic materials include an interlayer adhesive of a multilayer substrate such as a build-up substrate, a die bonding agent, an adhesive for semiconductor such as underfill, an underfill for BGA reinforcement, an anisotropic conductive film (ACF), an anisotropic conductive paste And an adhesive for mounting of the adhesive layer.

밀봉제로서는 콘덴서, 트랜지스터, 다이오드, 발광다이오드, IC, LSI용 등의 폿팅, 딥핑, 트랜스퍼 몰드 밀봉, IC, LSI류의 COB, COF, TAB용 등의 폿팅 밀봉, 플립칩용 등의 언더필, QFP, BGA, CSP 등의 IC 패키지류 실장시의 밀봉(보강용 언더필을 포함함) 등을 들 수 있다.Examples of the sealing agent include potting, dipping, transfer mold sealing such as capacitors, transistors, diodes, light emitting diodes, ICs and LSIs, potting sealing such as COB, COF, TAB for IC and LSI, underfill for QFP, BGA, CSP, and the like (including reinforcing underfill), and the like.

본 발명에서 얻어지는 경화물은 광학 부품 재료를 비롯하여 각종 용도에 사용할 수 있다. 광학용 재료란, 가시광, 적외선, 자외선, X선, 레이저 등의 광을 그 재료 속을 통과시키는 용도로 사용하는 재료 일반을 나타낸다. 보다 구체적으로는, 램프 타입, SMD 타입 등의 LED용 밀봉재 외에 이하와 같은 것을 들 수 있다. 액정 디스플레이 분야에 있어서의 기판 재료, 도광판, 프리즘 시트, 편향판, 위상차판, 시야각 보상 필름, 접착제, 편광자 보호 필름 등의 액정용 필름 등의 액정 표시 장치 주변 재료이다. 또한, 차세대 플랫 패널 디스플레이로서 기대되는 컬러 PDP(플라즈마 디스플레이)의 밀봉재, 반사 방지 필름, 광학 보상 필름, 하우징재, 앞면 유리의 보호 필름, 앞면 유리 대체 재료, 접착제, 또한 LED 표시 장치에 사용되는 LED의 몰드재, LED의 밀봉재, 앞면 유리의 보호 필름, 앞면 유리 대체 재료, 접착제, 또한 플라즈마 어드레스 액정(PALC) 디스플레이에 있어서의 기판 재료, 도광판, 프리즘 시트, 편향판, 위상차판, 시야각 보상 필름, 접착제, 편광자 보호 필름, 또한 유기 EL(일렉트로루미네선스) 디스플레이에 있어서의 앞면 유리의 보호 필름, 앞면 유리 대체 재료, 접착제, 또한 필드에미션 디스플레이(FED)에 있어서의 각종 필름 기판, 앞면 유리의 보호 필름, 앞면 유리 대체 재료, 접착제이다. 광기록 분야에서는 VD(비디오디스크), CD/CD-ROM, CD-R/RW, DVD-R/DVD-RAM, MO/MD, PD(상변화 디스크), 광 카드용의 디스크 기판 재료, 픽업 렌즈, 보호 필름, 밀봉재, 접착제 등이다.The cured product obtained in the present invention can be used for various applications including optical component materials. The optical material refers to a general material used for passing light such as visible light, infrared light, ultraviolet light, X-ray, and laser through the material. More specifically, in addition to LED sealing materials such as a lamp type and an SMD type, the following materials may be mentioned. A liquid crystal film such as a substrate material, a light guide plate, a prism sheet, a deflection plate, a retardation plate, a viewing angle compensation film, an adhesive, and a polarizer protective film in the field of liquid crystal displays. In addition, LEDs used in LED PDPs, anti-reflection films, optical compensation films, housing materials, front glass protection films, front glass substitute materials, adhesives, and LED display devices, which are expected to be the next generation of flat panel displays A light guide plate, a prism sheet, a deflecting plate, a retardation plate, a viewing angle compensating film, an adhesive, and a substrate for a plasma addressed liquid crystal display (PALC) A protective film for a front glass in an organic EL (electroluminescence) display, a material for a front glass, an adhesive, various film substrates in a field emission display (FED), a front glass Protective film, front glass replacement material, and adhesive. In the field of optical recording, a disk substrate material for a VD (video disk), a CD / CD-ROM, a CD-R / RW, a DVD-R / DVD-RAM, a MO / MD, a PD A lens, a protective film, a sealing material, and an adhesive.

광학 기기 분야에서는 스틸 카메라의 렌즈용 재료, 파인더 프리즘, 타깃 프리즘, 파인더 커버, 수광 센서부이다. 또한, 비디오 카메라의 촬영 렌즈, 파인더이다. 또한, 프로젝션 텔레비젼의 투사 렌즈, 보호 필름, 밀봉재, 접착제 등이다. 광 센싱 기기의 렌즈용 재료, 밀봉재, 접착제, 필름 등이다. 광 부품 분야에서는 광통신 시스템에서의 광 스위치 주변의 파이버 재료, 렌즈, 도파로, 소자의 밀봉재, 접착제 등이다. 광 커넥터 주변의 광파이버 재료, 페룰, 밀봉재, 접착제 등이다. 광 수동 부품, 광 회로 부품으로는 렌즈, 도파로, LED의 밀봉재, CCD의 밀봉재, 접착제 등이다. 광전자 집적 회로(OEIC) 주변의 기판 재료, 파이버 재료, 소자의 밀봉재, 접착제 등이다. 광파이버 분야에서는 장식 디스플레이용 조명·라이트 가이드 등, 공업 용도의 센서류, 표시·표지류 등, 또한 통신 인프라용 및 가정 내의 디지털 기기 접속용의 광파이버이다. 반도체 집적 회로 주변 재료에서는 LSI, 초LSI 재료용의 마이크로 리소그래피용의 레지스트 재료이다. 자동차·수송기 분야에서는 자동차용의 램프 리플렉터, 베어링 리테이너, 기어 부분, 내식 코트, 스위치 부분, 헤드램프, 엔진 내 부품, 전장 부품, 각종 내외장품, 구동 엔진, 브레이크 오일 탱크, 자동차용 방청 강판, 인테리어 패널, 내장재, 보호·결속용 와이어 하네스, 연료 호스, 자동차 램프, 유리 대체품이다. 또한, 철도 차량용의 복층 유리이다. 또한, 항공기의 구조재의 인성 부여제, 엔진 주변 부재, 보호·결속용 와이어 하네스, 내식 코트이다. 건축 분야에서는 내장·가공용 재료, 전기 커버, 시트, 유리 중간막, 유리 대체품, 태양 전지 주변 재료이다. 농업용에서는 하우스 피복용 필름이다. 차세대의 광·전자 기능 유기 재료로서는 유기 EL 소자 주변 재료, 유기 포토리플렉티브 소자, 광-광변환 디바이스인 광증폭 소자, 광연산 소자, 유기 태양 전지 주변의 기판 재료, 파이버 재료, 소자의 밀봉재, 접착제 등이다.In the field of optical instruments, it is a lens material for a still camera, a finder prism, a target prism, a finder cover, and a light receiving sensor part. It is also a photographing lens and a finder of a video camera. Further, projection lenses, protective films, sealing materials, and adhesives of projection televisions and the like are used. Materials for lenses of optical sensing devices, sealing materials, adhesives, and films. In the field of optical components, fiber materials, lenses, waveguides, sealing materials for devices, adhesives, etc. around optical switches in optical communication systems. An optical fiber material around the optical connector, a ferrule, a sealing material, an adhesive, and the like. Optical passive components, optical circuit components include lenses, waveguides, LED encapsulants, CCD encapsulants, and adhesives. Substrate materials around the optoelectronic integrated circuit (OEIC), fiber materials, sealing materials for devices, and adhesives. In the optical fiber field, it is an optical fiber for connection to digital devices such as illumination / light guide for decorative display, industrial use sensors, display / mark, communication infrastructure, and home digital devices. In the semiconductor integrated circuit peripheral material, it is a resist material for microlithography for LSI and super LSI materials. In the field of automobiles and transportation vehicles, lamp reflector, bearing retainer, gear part, corrosion coat, switch part, head lamp, engine parts, electric parts, various internal and external parts, driving engine, brake oil tank, Panels, interiors, wire harnesses for protection and bonding, fuel hoses, automotive lamps, and glass substitutes. Further, it is a multilayer glass for a railway car. In addition, the toughness-imparting agent of the structural material of the aircraft, the members around the engine, the wire harness for protection and binding, and the corrosion-resistant coat. In the construction sector, it is used for interior and working materials, electric covers, sheets, glass interlayers, glass substitutes, and solar cell materials. For agricultural use, it is a house film. As a next-generation optoelectronic functional organic material, organic EL device peripheral materials, organic photoreflective devices, optical amplifiers as optical-to-optical conversion devices, optical computing devices, substrate materials around organic solar cells, fiber materials, , And adhesives.

광학용 재료의 다른 용도로서는 경화성 수지 조성물 A가 사용되는 일반의 용도를 들 수 있고, 예를 들면 접착제, 도료, 코팅제, 성형 재료(시트, 필름, FRP 등을 포함함), 절연 재료(프린트 기판, 전선 피복 등을 포함함), 밀봉제 외에 다른 수지 등으로의 첨가제 등을 들 수 있다. 접착제로서는 토목용, 건축용, 자동차용, 일반 사무용, 의료용의 접착제 외에, 전자 재료용의 접착제를 들 수 있다. 이들 중 전자 재료용의 접착제로서는 빌드업 기판 등의 다층 기판의 층간 접착제, 다이본딩제, 언더필 등의 반도체용 접착제, BGA 보강용 언더필, 이방성 도전성 필름(ACF), 이방성 도전성 페이스트(ACP) 등의 실장용 접착제 등을 들 수 있다.Examples of other uses of the optical material include general use in which the curable resin composition A is used. Examples of the optical material include adhesives, paints, coating agents, molding materials (including sheets, films, FRP, , Wire coating and the like), additives to resins other than the sealing agent, and the like. As the adhesive, adhesives for electronic materials, in addition to adhesives for civil engineering, construction use, automobile use, general office use, and medical use, can be mentioned. Among these, adhesives for electronic materials include adhesives for semiconductors such as die-bonding agents and underfills, underfill for BGA reinforcement, anisotropic conductive films (ACF), and anisotropic conductive pastes (ACP) Adhesive for mounting, and the like.

고휘도 백색 LED 등의 광반도체 소자는 일반적으로 사파이어, 스피넬, SiC, Si, ZnO 등의 기판 상에 적층시킨 GaAs, GaP, GaAlAs, GaAsP, AlGa, InP, GaN, InN, AlN, InGaN 등의 반도체칩을, 접착제(다이본드재)를 이용하여 리드 프레임이나 방열판, 패키지에 접착시켜서 이루어진다. 전류를 흐르게 하기 위해서 금 와이어 등의 와이어가 접속되어 있는 타입도 있다. 광반도체 소자는 그 반도체칩을 열이나 습기로부터 지키고, 또한 렌즈 기능의 역할을 담당하기 위해서 에폭시 수지 등의 밀봉재로 밀봉되어 있다. 본 발명의 에폭시 수지 조성물은 이 밀봉재로 사용할 수 있다.BACKGROUND ART An optical semiconductor device such as a high-brightness white LED generally has a semiconductor chip such as GaAs, GaP, GaAlAs, GaAsP, AlGa, InP, GaN, InN, AlN, InGaN, etc. stacked on a substrate of sapphire, spinel, SiC, Is adhered to a lead frame, a heat sink or a package using an adhesive (die bond material). There is a type in which a wire such as a gold wire is connected to make a current flow. The optical semiconductor element is sealed with a sealing material such as an epoxy resin in order to protect the semiconductor chip from heat or moisture and also to serve as a lens function. The epoxy resin composition of the present invention can be used as this sealing material.

밀봉재의 성형 방식으로서는, 광반도체 소자가 고정된 기판을 삽입한 형틀 내에 밀봉재를 주입한 후에 가열 경화를 행해 성형하는 주입 방식, 금형 상에 밀봉재를 미리 주입하고, 거기에 기판 상에 고정된 광반도체 소자를 침지시켜서 가열 경화를 한 후에 금형으로부터 이형하는 압축 성형 방식 등이 사용되고 있다.As a molding method of the sealing material, there are a molding method in which a sealing material is injected into a mold in which a substrate on which an optical semiconductor element is fixed is injected, followed by heat curing and molding, a sealing material is preliminarily injected onto the mold, A compression molding method in which a device is immersed and heat-cured and then released from a mold is used.

주입 방법으로서는, 디스펜서 등을 들 수 있다.As the injection method, a dispenser or the like can be mentioned.

가열은 열풍 순환식, 적외선, 고주파 등의 방법을 사용할 수 있다. 가열 조건은 예를 들면, 80~230℃에서 1분~24시간 정도가 바람직하다. 가열 경화시에 발생하는 내부 응력을 저감할 목적으로, 예를 들면 80~120℃, 30분~5시간 예비 경화시킨 후에, 120~180℃, 30분~10시간의 조건으로 후경화시킬 수 있다.Heating can be carried out using a hot air circulation type, an infrared ray or a high frequency wave. The heating conditions are preferably, for example, 80 to 230 DEG C for about 1 minute to 24 hours. Curing can be performed at 120 to 180 ° C for 30 minutes to 10 hours after pre-curing at 80 to 120 ° C for 30 minutes to 5 hours for the purpose of reducing internal stress generated at the time of heat curing .

이어서, 본 발명의 다가 카르복실산(A)과 열경화성 수지를 함유하는 열경화성 수지 조성물에 관해서 설명한다. 본 발명의 열경화성 수지 조성물은 ICI 콘플레이트 점도가 100~200℃의 범위에서 0.01Pa·s~10Pa·s의 범위에 있다.Next, the thermosetting resin composition containing the polyvalent carboxylic acid (A) of the present invention and the thermosetting resin will be described. The thermosetting resin composition of the present invention has an ICI cone plate viscosity in the range of 100 to 200 占 폚 in the range of 0.01 Pa · s to 10 Pa · s.

본 발명의 다가 카르복실산(A)을 사용함으로써, 뛰어난 내구성을 실현할 수 있음과 아울러 혼련에 적합한 열경화성 수지 조성물을 얻는 것이 가능해진다. 본 발명의 열경화성 수지 조성물은 ICI 콘플레이트 점도가 100~200℃의 범위에서 0.01~10Pa·s인 것, 및 실온에서 고형이기 때문에 액상의 경우에는 프리폴리머화 등의 전처리 없이는 불가능했던 혼련이 전처리 없이 가능해진다. 또한, 고형이기 때문에 태블릿으로서 성형하기 쉬운 점에도 특징을 갖고 있다.By using the polyvalent carboxylic acid (A) of the present invention, excellent durability can be realized, and a thermosetting resin composition suitable for kneading can be obtained. Since the viscosity of the ICI cone plate of the present invention is 0.01 to 10 Pa · s in the range of 100 to 200 ° C. and it is solid at room temperature, it is possible to perform kneading which is impossible without pretreatment such as prepolymerization in the case of liquid phase without pretreatment It becomes. In addition, since it is solid, it is also easy to form as a tablet.

본 발명의 열경화성 수지 조성물에 있어서는, ICI 콘플레이트 점도가 100~200℃의 범위에서 0.01~10Pa·s이다.In the thermosetting resin composition of the present invention, the ICI cone plate viscosity is 0.01 to 10 Pa · s in the range of 100 to 200 ° C.

상기 범위로 조정함으로써 상온(25℃)에서 고형으로 되어 성형이 용이해지고, 보이드 등의 문제를 효과적으로 방지할 수 있게 되기 때문이다. 또한, 이와 같은 저점도의 열경화성 수지 조성물로 설정함으로써, 종래 결정성을 갖기 때문에 연화점 또는 융점이 높아 혼련이 곤란했던 각 성분이 경화제에 충분히 용융·분산되기 때문에, 결정이 무너지고, 주제가 되는 에폭시 수지와 충분히 혼련되게 되고, 각 성분이 효과적으로 배열되어 뛰어난 물성을 갖는 경화물을 얻을 수 있다. 연화점은 20~150℃인 것이 바람직하고, 40~130℃인 것이 보다 바람직하고, 50~100℃인 것이 더욱 바람직하며, 특히 70~100℃인 것이 바람직하다. 이와 같은 연화점에 있음으로써 충분한 혼련을 용이하게 행하는 것이 가능해진다.By adjusting to the above-mentioned range, it becomes solid at room temperature (25 DEG C) to facilitate molding, and it is possible to effectively prevent problems such as voids. Further, by setting such a low-viscosity thermosetting resin composition, each component having a high softening point or melting point due to its high crystallinity and being difficult to be kneaded is sufficiently melted and dispersed in the curing agent, so crystals are broken, And each component is effectively arranged, and a cured product having excellent physical properties can be obtained. The softening point is preferably 20 to 150 ° C, more preferably 40 to 130 ° C, even more preferably 50 to 100 ° C, and particularly preferably 70 to 100 ° C. With such softening point, sufficient kneading can be easily performed.

상기 범위로 조정함으로써 각종 성분을 믹서 등에 의해 용이하게 교반, 혼합할 수 있고, 그것을 또한 믹싱롤, 압출기, 니더, 롤, 익스트루더 등에 의해 혼련 또는 용융 혼련하고, 냉각, 분쇄하는 것이 가능해진다.By adjusting to the above-mentioned range, various components can be easily stirred and mixed by a mixer or the like, and it can be kneaded or melt-kneaded by a mixing roll, an extruder, a kneader, a roll or an extruder, and cooled and pulverized.

본 발명의 열경화성 수지 조성물은 상기 식(1)으로 나타내어지는 다가 카르복실산(A)과, 열경화성 수지와, 필요에 따라서 기타 성분을 포함하는 수지 조성물이다. 본 발명의 열경화성 수지 조성물에 있어서는, 기타 성분으로서 열경화성 수지용 경화제를 함유시킬 수 있다. 바람직한 열경화성 수지용 경화제의 성분으로서는 트리멜리트산, 무수 트리멜리트산, 시클로헥산트리카르복실산, 및 시클로헥산트리카르복실산 무수물, 피로멜리트산, 수소 첨가 피로멜리트산, 피로멜리트산 무수물, 수소 첨가 피로멜리트산 무수물, 헥사히드로 무수 프탈산, 및 메틸헥사히드로 무수 프탈산, 다가 카르복실산(A) 이외의 다가 카르복실산에서 선택되는 1종 또는 2종 이상의 화합물을 들 수 있다.The thermosetting resin composition of the present invention is a resin composition comprising a polyvalent carboxylic acid (A) represented by the above formula (1), a thermosetting resin and, if necessary, other components. In the thermosetting resin composition of the present invention, a curing agent for a thermosetting resin may be contained as other components. Preferred examples of the component of the curing agent for a thermosetting resin include trimellitic acid, trimellitic anhydride, cyclohexanetricarboxylic acid, and cyclohexanetricarboxylic acid anhydride, pyromellitic acid, hydrogenated pyromellitic acid, pyromellitic acid anhydride, And one or more compounds selected from pyromellitic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, methylhexahydrophthalic anhydride, polybasic carboxylic acid (A), and other polycarboxylic acids.

트리멜리트산, 무수 트리멜리트산, 시클로헥산트리카르복실산, 시클로헥산트리카르복실산 무수물, 피로멜리트산, 수소 첨가 피로멜리트산, 피로멜리트산 무수물, 수소 첨가 피로멜리트산 무수물, 헥사히드로 무수 프탈산, 및 메틸헥사히드로 무수 프탈산이 존재하면 가교 밀도가 높은 경화물이 얻어지기 때문에, 높은 유리전이온도를 갖는 경화물을 얻을 수 있다. 그러나, 트리멜리트산, 무수 트리멜리트산, 시클로헥산트리카르복실산, 시클로헥산트리카르복실산 무수물, 피로멜리트산, 수소 첨가 피로멜리트산, 피로멜리트산 무수물, 및 수소 첨가 피로멜리트산 무수물 등의 카르복실산 또는 산 무수물은 결정성을 갖기 때문에 연화점 또는 융점이 높고, 구체적인 융점은 150℃~300℃이기 때문에 성형할 때에 문제가 될 경우가 있다. 한편, 헥사히드로 무수 프탈산, 메틸헥사히드로 무수 프탈산에 대해서는 융점이 실온 이하이기 때문에, 성형할 때에 문제가 될 경우가 있다. 트리멜리트산, 무수 트리멜리트산, 시클로헥산트리카르복실산, 및 시클로헥산트리카르복실산 무수물, 피로멜리트산, 수소 첨가 피로멜리트산, 피로멜리트산 무수물, 수소 첨가 피로멜리트산 무수물, 헥사히드로 무수 프탈산, 및 메틸헥사히드로 무수 프탈산 중, 착색되기 어려운 점에서 시클로헥산트리카르복실산, 및 시클로헥산트리카르복실산 무수물, 수소 첨가 피로멜리트산, 수소 첨가 피로멜리트산 무수물, 헥사히드로 무수 프탈산, 및 메틸헥사히드로 무수 프탈산이 바람직하고, 시클로헥산트리카르복실산 무수물, 헥사히드로 무수 프탈산, 및 메틸헥사히드로 무수 프탈산이 더욱 바람직하다.But are not limited to, trimellitic acid, trimellitic anhydride, cyclohexanetricarboxylic acid, cyclohexanetricarboxylic acid anhydride, pyromellitic acid, hydrogenated pyromellitic acid, pyromellitic anhydride, hydrogenated pyromellitic anhydride, hexahydrophthalic anhydride , And methylhexahydrophthalic anhydride are present, a cured product having a high crosslinking density can be obtained, so that a cured product having a high glass transition temperature can be obtained. However, it is also possible to use an acid anhydride such as trimellitic acid, anhydride trimellitic acid, cyclohexanetricarboxylic acid, cyclohexanetricarboxylic acid anhydride, pyromellitic acid, hydrogenated pyromellitic acid, pyromellitic acid anhydride and hydrogenated pyromellitic anhydride Since the carboxylic acid or the acid anhydride has crystallinity, it has a high softening point or melting point, and a specific melting point is 150 ° C to 300 ° C, which is a problem in molding. On the other hand, since the melting point of hexahydrophthalic anhydride and methylhexahydrophthalic anhydride is not more than room temperature, there is a problem in molding. Trimellitic acid, trimellitic anhydride, cyclohexanetricarboxylic acid, and cyclohexanetricarboxylic acid anhydride, pyromellitic acid, hydrogenated pyromellitic acid, pyromellitic anhydride, hydrogenated pyromellitic anhydride, hexahydroanhydride Phthalic acid, and methylhexahydrophthalic anhydride, cyclohexanetricarboxylic acid, cyclohexanetricarboxylic acid anhydride, hydrogenated pyromellitic acid, hydrogenated pyromellitic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, and Methyl hexahydrophthalic anhydride is preferable, and cyclohexanetricarboxylic acid anhydride, hexahydrophthalic anhydride, and methylhexahydrophthalic anhydride are more preferable.

시클로헥산트리카르복실산 무수물로서는 시클로헥산-1,2,4-트리카르복실산-1,2-무수물이나, 시클로헥산-1,2,3-트리카르복실산-1,2-무수물을 들 수 있다. 본 발명에서는 이들 산 무수물을 조합시켜서 사용할 수도 있지만, 시클로헥산-1,2,4-트리카르복실산-1,2-무수물이 바람직하다.As the cyclohexanetricarboxylic acid anhydride, cyclohexane-1,2,4-tricarboxylic acid-1,2-anhydride and cyclohexane-1,2,3-tricarboxylic acid-1,2- . In the present invention, these acid anhydrides may be used in combination, but cyclohexane-1,2,4-tricarboxylic acid-1,2-anhydride is preferable.

본 발명의 열경화성 수지 조성물에서는 트리멜리트산, 무수 트리멜리트산, 시클로헥산트리카르복실산, 시클로헥산트리카르복실산 무수물, 피로멜리트산, 수소 첨가 피로멜리트산, 피로멜리트산 무수물, 수소 첨가 피로멜리트산 무수물, 헥사히드로 무수 프탈산, 및 메틸헥사히드로 무수 프탈산에서 선택되는 1종 또는 2종 이상의 화합물의 합계가, 열경화성 수지 조성물에 차지하는 비율로 1중량%~90중량%인 것이 바람직하다. 1중량%보다 낮으면 유리전이온도가 충분하게 높아지지 않고, 90중량%보다 높으면 융점이 높아져서 취급이 곤란해질 우려가 있다. 보다 바람직하게는 10~60중량%이고, 더욱 바람직하게는 20~50중량%이다.In the thermosetting resin composition of the present invention, it is preferable to use at least one of trimellitic acid, trimellitic anhydride, cyclohexanetricarboxylic acid, cyclohexanetricarboxylic acid anhydride, pyromellitic acid, hydrogenated pyromellitic acid, pyromellitic acid anhydride, hydrogenated pyromellitic acid It is preferable that the total amount of one or two or more compounds selected from the group consisting of acetic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride and methylhexahydrophthalic anhydride in the thermosetting resin composition is 1 wt% to 90 wt%. If it is lower than 1% by weight, the glass transition temperature does not become sufficiently high. If it is higher than 90% by weight, the melting point becomes high and handling may become difficult. More preferably 10 to 60% by weight, and still more preferably 20 to 50% by weight.

또한, 본 발명의 열경화성 수지용 경화제의 성분으로서 함유시킬 수 있는 본 발명의 다가 카르복실산(A) 이외의 다가 카르복실산으로서는, 하기 식(22)으로 나타내어지는 분자 내에 에스테르 구조(바람직하게는 2개의 에스테르 구조)를 갖는, 말단에 복수의 카르복실기를 갖는 다가 카르복실산을 들 수 있다.The polyvalent carboxylic acid other than the polyvalent carboxylic acid (A) of the present invention which can be contained as a component of the curing agent for thermosettable resins of the present invention is preferably a polyvalent carboxylic acid having an ester structure (preferably, Two ester structures), and polyvalent carboxylic acids having a plurality of carboxyl groups at the terminals.

Figure pct00022
Figure pct00022

(식(22) 중, P는 0~6개의 산소원자, 질소원자, 인원자를 포함해도 좋은 탄소수 2~20의 다가 알콜의 잔기를, R은 탄소수 2~20의 지방족 탄화수소기를 나타낸다. n, k는 평균으로 1~6을 나타낸다. 또한, n의 총계는 2 이상 12 미만이다.)(In the formula (22), P represents a residue of a polyhydric alcohol having 2 to 20 carbon atoms which may contain 0 to 6 oxygen atoms, a nitrogen atom or a phosphorus atom, and R represents an aliphatic hydrocarbon group having 2 to 20 carbon atoms. Represents an average of 1 to 6. Also, the total number of n is 2 or more and less than 12.)

그 중에서도, 상기 식(22)의 다가 카르복실산이 탄소수 6 이상의 2~6관능의 다가 알콜과 포화지방족 환상 산 무수물의 에스테르화 반응에 의해 얻어진 화합물인 것이 바람직하다.Among them, the polyvalent carboxylic acid of the formula (22) is preferably a compound obtained by esterification reaction of a polyhydric alcohol having 2 to 6 functional groups and having 6 or more carbon atoms and a saturated aliphatic cyclic acid anhydride.

보다 구체적으로는, 상기 식(22)에 기재된 다가 카르복실산에 있어서 연결 기 R은 탄소수 4~10의 시클로알칸 골격, 또는 노보난 골격이 바람직하고, 시클로알칸 골격에 있어서는 치환, 또는 무치환의 시클로헥산 구조, 특히 메틸기를 구비하는 메틸시클로헥산 구조가 그 경화물에 있어서의 광학 특성에서 바람직하다. 또한, 노보난 골격으로서는 노보난, 메틸노보난 구조가 바람직하다. 여기에서, 치환된 것에 있어서 적용할 수 있는 치환기로서는 탄소수 1~3의 알킬기, 카르복실기 등을 들 수 있다.More specifically, in the polyvalent carboxylic acid represented by the formula (22), the linking group R is preferably a cycloalkane skeleton having 4 to 10 carbon atoms or a norbornane skeleton, and the cycloalkane skeleton is preferably a substituted or unsubstituted A methylcyclohexane structure having a cyclohexane structure, particularly a methyl group, is preferable in terms of optical properties in the cured product. The novolac skeleton is preferably a norbornane or methyl norbornane structure. Here, examples of substituents which may be substituted include alkyl groups having 1 to 3 carbon atoms, carboxyl groups, and the like.

연결기 P는 탄소수 2~10의 다가 알콜의 잔기(반응에 사용한 다가 알콜로부터 수산기를 제외한 잔기)이지만, 분기쇄상의 가교기, 또는 시클로알킬기가 바람직하고, 특히 P는 하기 (a) 또는 (b)로 정의되는 2가의 가교기인 것이 바람직하다.The linking group P is preferably a residue of a polyhydric alcohol having 2 to 10 carbon atoms (a residue excluding a hydroxyl group from the polyhydric alcohol used in the reaction), but a branched chain crosslinking group or a cycloalkyl group is preferable, Is preferably a divalent crosslinking group defined by the following formula

(a) 탄소수 6~20의 분기 구조를 갖는 쇄상 알킬쇄이고, 상기 쇄상 알킬쇄가 탄소수 3~12의 직쇄의 주쇄와 2~4개의 측쇄를 갖고, 또한 그 측쇄 중 적어도 1개가 탄소수 2~10인 가교기,(a) a chain alkyl chain having a branched structure having 6 to 20 carbon atoms, the chain alkyl chain having a main chain of a straight chain having 3 to 12 carbon atoms and 2 to 4 side chains, and at least one of the side chains having 2 to 10 carbon atoms In addition,

또는or

(b) 시클로환 상에 메틸기를 가져도 좋은, 트리시클로데칸디메탄올 및 펜타시클로펜타데칸디메탄올에서 선택되는 적어도 1종의 가교 다환 디올로부터 2개의 수산기를 제거한 2가의 가교기(b) a divalent crosslinking group in which two hydroxyl groups have been removed from at least one crosslinked polycyclic diol selected from tricyclodecane dimethanol and pentacyclopentadecane dimethanol, which may have a methyl group on the cyclo ring,

단, P가 (b)인 경우, 연결기 R이 탄소수 4~10의 시클로알칸 골격 또는 노보난 골격일 때에는, 후술하는 식(2A)에 있어서 치환기 R9가 수소원자 이외의 기를 나타내는 것이 보다 바람직하다.When P is (b), when the linking group R is a cycloalkane skeleton having 4 to 10 carbon atoms or a norbornane skeleton, it is more preferable that the substituent R 9 in the formula (2A) described below represents a group other than a hydrogen atom .

또한, 상기 다가 카르복실산의 연화점은 통상 50℃ 이상이지만, 60℃ 이상이 바람직하고, 80℃ 이상이 보다 바람직하다. 상한값에 특별히 제한은 없지만 통상 500℃ 이하이고, 300℃ 이하인 것이 바람직하며, 200℃ 이하인 것이 보다 바람직하다.The polycarboxylic acid usually has a softening point of 50 DEG C or higher, but is preferably 60 DEG C or higher, more preferably 80 DEG C or higher. The upper limit is not particularly limited, but is usually 500 ° C or lower, preferably 300 ° C or lower, and more preferably 200 ° C or lower.

상기 특히 바람직한 다가 카르복실산은 탄소수 6 이상의 2~6관능의 다가 알콜과 포화지방족 환상 산 무수물을 부가 반응시킴으로써 얻을 수 있다.The particularly preferable polyvalent carboxylic acid can be obtained by addition reaction of a polyhydric alcohol having 2 to 6 functional groups having a carbon number of 6 or more and a saturated aliphatic cyclic acid anhydride.

이들 다가 카르복실산은 2종의 다가 카르복실산을 포함하는 혼합물이라도 좋다. 다가 카르복실산을 적어도 2종 포함하는 다가 카르복실산 혼합물을 얻는 방법으로서는, 상기 방법으로 얻어진 단일 다가 카르복실산을 적어도 2종을 혼합하는 방법, 또는 상기 다가 카르복실산을 합성할 때에, 상기 포화지방족 환상 산 무수물로서 하기에서 선택되는 포화지방족 환상 산 무수물로부터 적어도 2종의 혼합물을 사용하거나, 상기 다가 알콜을 2종 사용하여 부가 반응을 행하는 방법이 있다.These polyvalent carboxylic acids may be a mixture containing two polyvalent carboxylic acids. As a method for obtaining a polyvalent carboxylic acid mixture containing at least two polyvalent carboxylic acids, a method of mixing at least two polyvalent carboxylic acids obtained by the above method, or a method of mixing the polyvalent carboxylic acids As the saturated aliphatic cyclic acid anhydride, there may be used a mixture of at least two kinds of saturated aliphatic cyclic acid anhydrides selected from the following, or an addition reaction is carried out by using two kinds of the above-mentioned polyhydric alcohols.

다가 카르복실산의 합성에 사용하는 포화지방족 환상 산 무수물로서는 시클로헥산 구조를 갖고, 상기 시클로헥산환 상에 메틸기 치환 또는 카르복실기 치환을 갖거나, 또는 무치환이며, 시클로헥산환에 결합된 산 무수물기를 분자 내에 1개 이상(바람직하게는 1개) 갖는 화합물을 들 수 있다.As the saturated aliphatic cyclic acid anhydride used in the synthesis of the polycarboxylic acid, an acid anhydride group having a cyclohexane structure and having a methyl group substitution or a carboxyl group substitution on the cyclohexane ring, or an unsubstituted cyclohexane ring bonded to the cyclohexane ring A compound having at least one (preferably one) in the molecule.

구체적으로는 헥사히드로 무수 프탈산, 메틸헥사히드로 무수 프탈산, 및 시클로헥산-1,2,4-트리카르복실산-1,2-무수물, 무수 트리멜리트산, 시클로헥산트리카르복실산 무수물, 피로멜리트산 무수물, 및 수소 첨가 피로멜리트산 무수물로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종의 산 무수물을 들 수 있다.Specific examples thereof include hexahydrophthalic anhydride, methylhexahydrophthalic anhydride, and cyclohexane-1,2,4-tricarboxylic acid-1,2-anhydride, trimellitic anhydride, cyclohexanetricarboxylic acid anhydride, At least one acid anhydride selected from the group consisting of acetic acid anhydride, acetic acid anhydride, acetic acid anhydride,

상기 다가 카르복실산의 합성에 사용하는 탄소수 6 이상의 2~6관능의 다가 알콜로서는, 구체적으로는 상기 식(21) 중의 가교기 P의 말단에 수산기를 붙인 다가 카르복실산을 들 수 있다.Specific examples of the polyhydric alcohols having 6 to 6 carbon atoms and having 6 or more carbon atoms used for synthesizing the above polyvalent carboxylic acid include a polyvalent carboxylic acid having a hydroxyl group at the terminal of the crosslinking group P in the formula (21).

상기 식(21)에 있어서, P로 나타내어지는 가교기는 바람직하게는 상기 (a) 또는 (b)로 정의되는 2가의 가교기이며, 그것들에 대해서 이하에 구체적으로 설명한다.In the formula (21), the crosslinking group represented by P is preferably a divalent crosslinking group defined by the above (a) or (b), and these will be specifically described below.

상기 (a)로 정의되는 2가의 가교기는 탄소수 6~20의 분기 구조를 갖는 2가의 알콜(디올)로부터 수산기를 제외한 2가의 쇄상 알킬쇄이며, 디올의 2개의 알콜성 수산기에 끼워진 알킬쇄를 주쇄로 하고, 상기 알킬쇄로부터 분기된 알킬쇄(측쇄라고 함)를 갖는 구조이다. 상기 측쇄는 주쇄를 구성하는 어느 탄소원자로부터 분기되어 있어도 좋고, 예를 들면 알콜성 수산기가 결합되어 있던 탄소원자(주쇄의 말단 탄소원자)로부터 분기되어 있는 경우도 포함한다. 상기 구조를 갖는 가교기이면 어느 것이든 좋고, 이와 같은 가교기의 구체예를 하기 식(a1)에 나타낸다.The divalent crosslinking group defined by the above (a) is a bivalent straight chain alkyl chain excluding a hydroxyl group from a bivalent alcohol (diol) having a branched structure having 6 to 20 carbon atoms, and an alkyl chain interposed between two alcoholic hydroxyl groups of the diol is a main chain , And an alkyl chain branched from the alkyl chain (referred to as a side chain). The side chain may be branched from any carbon atom constituting the main chain and includes, for example, branched from the carbon atom (terminal carbon atom of the main chain) to which the alcoholic hydroxyl group is bonded. Any crosslinking group having the above structure may be used, and specific examples of such a crosslinking group are shown in the following formula (a1).

Figure pct00023
Figure pct00023

상기 식 중, * 표시에서 식(21)에 있어서의 P의 양측의 산소원자와 결합한다.In the above formula, the oxygen atom on both sides of P in the formula (21) is bonded to the * symbol.

상기 (a)로 정의되는 알킬렌 가교기는 주쇄 알킬렌기에 대하여 알킬 분기쇄(측쇄)를 갖는 구조이면 특별히 제한은 없지만, 주쇄의 탄소수가 3 이상인 주쇄이고, 적어도 1개의 알킬 측쇄를 갖는 것이 바람직하고, 또한 알킬 측쇄를 2개 이상 갖는 것이 특히 바람직하다. 보다 바람직한 것으로서는, 탄소수 3~12의 직쇄의 주쇄와 2~4개의 측쇄를 갖고, 또한 그 측쇄 중 적어도 1개가 탄소수 2~10인 가교기를 들 수 있다. 이 경우, 측쇄 중 적어도 2개가 탄소수 2~10인 가교기는 더욱 바람직하다. 또한, 2~4개의 측쇄는 주쇄의 다른 탄소원자로부터 분기되어 있는 것이 바람직하다.The alkylene bridging group defined by the above (a) is not particularly limited as long as it has an alkyl branch chain (side chain) with respect to the main chain alkylene group, but is preferably a main chain having 3 or more carbon atoms in the main chain and at least one alkyl side chain , And it is particularly preferable to have two or more alkyl side chains. More preferred examples thereof include a crosslinking group having a main chain of a straight chain having 3 to 12 carbon atoms and 2 to 4 side chains and at least one of the side chains having 2 to 10 carbon atoms. In this case, a crosslinking group in which at least two of the side chains have 2 to 10 carbon atoms is more preferable. It is preferable that two to four side chains are branched from other carbon atoms in the main chain.

보다 구체적인 화합물로서는 상기 식(a1)에 기재한 가교기에 있어서, *표시의 위치에 히드록실기가 결합된 화합물을 들 수 있다.As a more specific compound, a compound in which a hydroxyl group is bonded at the position marked with * in the crosslinking group described in the formula (a1) may be mentioned.

원료로서 사용하는 다가 알콜 중에서는 적어도 2개의 측쇄를 갖고, 상기 측쇄 중에서 적어도 2개가 탄소수 2~4의 측쇄인 다가 알콜이 바람직하다.Of polyhydric alcohols used as raw materials, polyhydric alcohols having at least two side chains and at least two of the side chains having a side chain of 2 to 4 carbon atoms are preferable.

이와 같은 골격 중에서 특히 바람직한 다가 알콜로서는, 2,4-디에틸-1,5-펜탄디올, 2-에틸-2-부틸-1,3-프로판디올, 2-에틸-1,3-헥산디올 등을 들 수 있고, 특히 2,4-디에틸-1,5-펜탄디올을 들 수 있다.Particularly preferred polyhydric alcohols among such skeletons include 2,4-diethyl-1,5-pentanediol, 2-ethyl-2-butyl- And 2,4-diethyl-1,5-pentanediol, among others.

상기 (b)로 정의되는 가교기로서는, 하기 식(b1)으로 나타내어지는 2가의 기를 들 수 있다.The crosslinking group defined by the above-mentioned (b) includes a bivalent group represented by the following formula (b1).

Figure pct00024
Figure pct00024

상기 (b)로 정의되는 가교기의 경우의 가교 다환 디올 잔기로서는 트리시클로데칸 구조, 펜타시클로펜타데칸 구조를 주골격으로 하는 디올 잔기이며, 하기 식(b2)으로 나타내어진다.The crosslinked polycyclic diol residue in the case of the crosslinking group defined in the above (b) is a diol residue having a tricyclodecane structure and a pentacyclopentadecane structure as main skeletons and is represented by the following formula (b2).

Figure pct00025
Figure pct00025

식 중, 복수 존재하는 R8은 각각 독립적으로 수소원자, 또는 메틸기를 나타낸다. 이것들 중에서, R8이 모두 수소원자인 가교기가 바람직하다.In the formulas, plural R 8 s present each independently represent a hydrogen atom or a methyl group. Of these, crosslinking groups in which all of R < 8 > are hydrogen atoms are preferable.

구체적으로는 트리시클로데칸디메탄올, 메틸트리시클로데칸디메탄올, 펜타시클로펜타데칸디메탄올 등을 들 수 있다.Specific examples thereof include tricyclodecane dimethanol, methyltricyclodecane dimethanol and pentacyclopentadecane dimethanol.

산 무수물과 다가 알콜의 반응으로서는 일반적으로 산이나 염기를 촉매로 하는 부가 반응이지만, 본 발명에 있어서는 특히 무촉매에서의 반응이 바람직하다.The reaction between the acid anhydride and the polyhydric alcohol is generally an addition reaction using an acid or a base as a catalyst, but in the present invention, a reaction is particularly preferable in the absence of a catalyst.

촉매를 사용할 경우, 사용할 수 있는 촉매로서는 예를 들면, 염산, 황산, 메탄술폰산, 트리플루오로메탄술폰산, 파라톨루엔술폰산, 질산, 트리플루오로아세트산, 트리클로로아세트산 등의 산성 화합물, 수산화나트륨, 수산화칼륨, 수산화칼슘, 수산화마그네슘 등의 금속 수산화물, 트리에틸아민, 트리프로필아민, 트리부틸아민 등의 아민 화합물, 피리딘, 디메틸아미노피리딘, 1,8-디아자비시클로[5.4.0]운데카-7-엔, 이미다졸, 트리아졸, 테트라졸 등의 복소환식 화합물, 테트라메틸암모늄히드록시드, 테트라에틸암모늄히드록시드, 테트라프로필암모늄히드록시드, 테트라부틸암모늄히드록시드, 트리메틸에틸암모늄히드록시드, 트리메틸프로필암모늄히드록시드, 트리메틸부틸암모늄히드록시드, 트리메틸세틸암모늄히드록시드, 트리옥틸메틸암모늄히드록시드, 테트라메틸암모늄클로라이드, 테트라메틸암모늄브로마이드, 테트라메틸암모늄요오다이드, 테트라메틸암모늄아세테이트, 트리옥틸메틸암모늄아세테이트 등의 4급 암모늄염 등을 들 수 있다. 이들 촉매는 1종 또는 2종 이상을 혼합해서 사용해도 좋다. 이것들 중에서, 트리에틸아민, 피리딘, 디메틸아미노피리딘이 바람직하다.When the catalyst is used, examples of the catalyst that can be used include acidic compounds such as hydrochloric acid, sulfuric acid, methanesulfonic acid, trifluoromethanesulfonic acid, para toluenesulfonic acid, nitric acid, trifluoroacetic acid and trichloroacetic acid, Metal hydroxides such as potassium hydroxide, calcium hydroxide and magnesium hydroxide, amine compounds such as triethylamine, tripropylamine and tributylamine, pyridine, dimethylaminopyridine, 1,8-diazabicyclo [5.4.0] undeca- , Heterocyclic compounds such as imidazole, triazole, and tetrazole, tetramethylammonium hydroxide, tetraethylammonium hydroxide, tetrapropylammonium hydroxide, tetrabutylammonium hydroxide, trimethylethylammonium hydroxide , Trimethylpropylammonium hydroxide, trimethylbutylammonium hydroxide, trimethylcetylammonium hydroxide, trioctylmethylammonium hydroxide It can be a seed, a quaternary ammonium salt such as tetramethylammonium chloride, tetramethylammonium bromide, tetramethylammonium iodide, tetramethylammonium acetate, tri-octyl-methyl ammonium acetate, and the like. These catalysts may be used alone or in combination of two or more. Of these, triethylamine, pyridine, and dimethylaminopyridine are preferable.

촉매의 사용량에는 특별히 제한은 없지만, 원료의 총 중량 100중량부에 대하여 통상 0.001~5중량부를 필요에 따라 사용하는 것이 바람직하다.The amount of the catalyst to be used is not particularly limited, but is preferably 0.001 to 5 parts by weight based on 100 parts by weight of the total weight of the raw materials.

본 반응에 있어서는 무용제에서의 반응이 바람직하지만, 유기 용제를 사용해도 상관없다. 유기 용제의 사용량으로서는, 반응 기질인 상기 산 무수물과 상기 다가 알콜의 총량 1부에 대하여 중량비로 0.005~1부이고, 바람직하게는 0.005~0.7부, 보다 바람직하게는 0.005~0.5부(즉 50중량% 이하)이다. 유기 용제의 사용량이 상기 반응 기질 1중량부에 대하여 중량비로 1부를 초과할 경우, 반응의 진행이 극도로 늦어지기 때문에 바람직하지 못하다. 사용할 수 있는 유기 용제의 구체적인 예로서는 헥산, 시클로헥산, 헵탄 등의 알칸류, 톨루엔, 크실렌 등의 방향족 탄화수소 화합물, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 시클로펜탄온, 아논 등의 케톤류, 디에틸에테르, 테트라히드로푸란, 디옥산 등의 에테르류, 아세트산 에틸, 아세트산 부틸, 포름산 메틸 등의 에스테르 화합물 등을 사용할 수 있다.In this reaction, a reaction in a solvent is preferred, but an organic solvent may be used. The amount of the organic solvent to be used is 0.005 to 1 part by weight, preferably 0.005 to 0.7 part by weight, more preferably 0.005 to 0.5 part by weight, based on 1 part by weight of the total amount of the acid anhydride and the polyhydric alcohol as a reaction substrate % Or less). If the amount of the organic solvent used is more than 1 part by weight based on 1 part by weight of the reaction substrate, the progress of the reaction becomes extremely slow, which is not preferable. Specific examples of the organic solvent that can be used include alkanes such as hexane, cyclohexane and heptane, aromatic hydrocarbon compounds such as toluene and xylene, ketones such as methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclopentanone and ananone, Ethers such as tetrahydrofuran and dioxane, ester compounds such as ethyl acetate, butyl acetate and methyl formate can be used.

본 반응은 20℃ 정도의 온도에서도 충분히 반응은 진행된다. 반응 시간의 문제로부터 반응 온도는 30~200℃가 바람직하고, 보다 바람직하게는 40~200℃, 특히 바람직하게는 40~150℃이다. 특히 본 반응을 무용제에서 행할 경우에는, 산 무수물의 휘발이 있기 때문에 100℃ 이하에서의 반응이 바람직하고, 30~100℃ 또는 40~100℃에서의 반응이 특히 바람직하다.The reaction proceeds sufficiently at a temperature of about 20 ° C. From the problem of the reaction time, the reaction temperature is preferably 30 to 200 占 폚, more preferably 40 to 200 占 폚, particularly preferably 40 to 150 占 폚. Particularly, when the present reaction is carried out in a solventless manner, the reaction at 100 ° C or lower is preferable and the reaction at 30 to 100 ° C or 40 to 100 ° C is particularly preferable because of the volatilization of the acid anhydride.

상기 산 무수물과 상기 다가 알콜의 반응 비율은 이론적으로는 등몰에서의 반응이 바람직하지만, 필요에 따라서 변경 가능하다.The reaction ratio between the acid anhydride and the polyhydric alcohol is theoretically preferable to be equivalent, but it can be changed if necessary.

반응시킬 때의 구체적인 양자의 투입 비율로서는, 그 관능기당량으로 상기 산 무수물기 1당량에 대하여 상기 다가 알콜을 그 수산기당량으로 0.001~2당량, 보다 바람직하게는 0.01~1.5당량, 더욱 바람직하게는 0.1~1.2당량으로 되는 비율로 투입하는 것이 바람직하다.Specifically, the amount of the polyhydric alcohol is preferably 0.001 to 2 equivalents, more preferably 0.01 to 1.5 equivalents, more preferably 0.1 to 1.5 equivalents, based on the equivalent of the acid anhydride group, To 1.2 equivalents of the total amount of water.

본 발명에 있어서는 얻어지는 다가 카르복실산이 고형인 것이 바람직하고, 고형의 수지상 다가 카르복실산을 얻기 위해서는 이상적으로는 등몰당량 이상의 다가 알콜을 사용하는 것이 바람직하지만, 필러를 첨가하기 때문에 유동성이 중요해지고, 이 유동성을 확보하기 위해서 그 점도 밸런스에서 고형을 유지하는 범위(연화점 50℃ 이상)에서 다소의 밸런스를 무너뜨려도 상관없다.In the present invention, the polyvalent carboxylic acid to be obtained is preferably solid, and in order to obtain a solid dendritic carboxylic acid, polyhydric alcohol having an equimolar equivalent or more is preferably used. However, fluidity becomes important because a filler is added, In order to secure this fluidity, some balance may be broken in a range where the solidity is maintained in the viscosity balance (softening point is 50 ° C or more).

구체적으로는, 산 무수물당량에 대하여 알콜성 수산기의 당량비에 있어서 0.85~1.20몰당량이 바람직하고, 특히 0.90~1.10몰당량이 바람직하다.Concretely, the equivalent ratio of the alcoholic hydroxyl group to the acid anhydride equivalent is preferably 0.85 to 1.20, more preferably 0.90 to 1.10.

반응 시간은 반응 온도, 촉매량 등에도 따르지만, 공업 생산이라고 하는 관점에서 장시간의 반응은 많은 에너지를 소비하는 것이기 때문에 바람직하지 않다. 또한, 지나치게 짧은 반응 시간은 그 반응이 급격한 것을 의미하여, 안전성의 면에서 바람직하지 않다. 바람직한 범위로서는 1~48시간, 바람직하게는 1~36시간, 보다 바람직하게는 1~24시간, 더욱 바람직하게는 2~10시간 정도이다.The reaction time is also dependent on the reaction temperature, the amount of catalyst, etc. However, a long reaction time from the viewpoint of industrial production is not preferable because it consumes a large amount of energy. In addition, an excessively short reaction time means that the reaction is rapid, which is not preferable from the viewpoint of safety. The preferred range is 1 to 48 hours, preferably 1 to 36 hours, more preferably 1 to 24 hours, and still more preferably 2 to 10 hours.

반응 종료 후, 촉매를 사용한 경우에는 각각 중화, 수세, 흡착 등에 의해 촉매의 제거를 행하고, 용제를 증류 제거함으로써 목적으로 하는 다가 카르복실산이 얻어진다. 한편, 무촉매로 반응을 행한 경우에는 필요에 따라서 용제를 증류 제거함으로써 목적으로 하는 다가 카르복실산이 얻어진다. 또한, 용제를 사용했을 경우에는, 용제를 제거함으로써 목적으로 하는 다가 카르복실산이 얻어진다. 또한, 무용제, 무촉매의 경우에는 그대로 인출함으로써 목적으로 하는 다가 카르복실산이 얻어진다.When the catalyst is used after completion of the reaction, the catalyst is removed by neutralization, washing with water, adsorption, etc., and the solvent is distilled off to obtain the intended polyvalent carboxylic acid. On the other hand, when the reaction is carried out in the absence of a catalyst, the objective polyvalent carboxylic acid can be obtained by distilling off the solvent as necessary. Further, when a solvent is used, the desired polyvalent carboxylic acid can be obtained by removing the solvent. Further, in the case of a solventless or no catalyst, a desired polyvalent carboxylic acid can be obtained by withdrawing it directly.

가장 바람직한 제조 방법으로서는, 상기 산 무수물, 상기 다가 알콜을 무촉매의 조건 하, 40~150℃에서 반응시켜서 용제를 제거한 후 인출한다고 하는 방법이다.As a most preferred production method, the acid anhydride and the polyhydric alcohol are allowed to react at 40 to 150 ° C under a non-catalytic condition to remove the solvent and withdraw the solvent.

이렇게 하여 얻어지는 상기 다가 카르복실산 또는 상기 다가 카르복실산을 포함하는 혼합물은, 통상 무색~담황색의 고형의 수지상을 나타낸다(경우에 따라서는 결정화한다). 상기 다가 카르복실산의 연화점은 50~190℃인 것이 바람직하고, 55~150℃인것이 보다 바람직하며, 60~120℃인 것이 특히 바람직하다. 이와 같은 연화점을 갖는 다가 카르복실산을 액상으로 하지 않고 직접 열경화성 수지 조성물 중에 혼합함으로써 매우 높은 반사율 유지율을 갖게 되고, 내열 시험을 행했을 때에도 반사율이 저하되기 어려운 반사 부재를 제공하는 것이 가능해진다.The mixture containing the polycarboxylic acid or the polycarboxylic acid thus obtained usually exhibits a colorless to light yellow solid resin phase (which crystallizes in some cases). The polycarboxylic acid preferably has a softening point of 50 to 190 ° C, more preferably 55 to 150 ° C, and particularly preferably 60 to 120 ° C. By mixing the polyvalent carboxylic acid having such a softening point directly into the thermosetting resin composition without forming it into a liquid, it is possible to provide a reflecting member having a very high reflectance retention rate and a reflectance which is hardly lowered even when the heat resistance test is performed.

통상, 가교기가 (a)로 정의되는 측쇄를 갖는 알킬렌기일 경우, 무색~담황색의 고형의 수지상을 나타낸다.Usually, when the crosslinking group is an alkylene group having a side chain defined by (a), it represents a colorless to light yellow solid resinous phase.

본 발명에 있어서는, 이와 같은 다가 카르복실산을 포함하는 열경화성 수지 조성물을 사용하는 최적의 방법이 트랜스퍼 성형이기 때문에, 다가 카르복실산은 고형의 수지상이다.In the present invention, the polycarboxylic acid is a solid dendritic resin because the transfer method is the optimum method of using the thermosetting resin composition containing the polyvalent carboxylic acid.

가교기가 (b)로 정의되는 가교기의 경우, 지방족 탄화수소기가 탄소수 4~10의 시클로알칸 골격 또는 노보난 골격일 때, 지환식의 치환기 모두가 수소원자인 다가 카르복실산은 경화시의 착색이 보여 특히 엄격한 광학 용도에는 바람직하지는 않다. 지방족 탄화수소기가 탄소수 4~10의 시클로알칸 골격 또는 노보난 골격일 때, 치환기가 메틸기 또는 카르복실기의 화합물에서는 그와 같은 착색은 적고, 그 광학 특성이 향상된다.In the case of a crosslinking group defined as a crosslinking group (b), a polycarboxylic acid in which all alicyclic substituents are hydrogen atoms is colored when the aliphatic hydrocarbon group is a cycloalkane skeleton having 4 to 10 carbon atoms or a norbornane skeleton Which is not particularly desirable for stringent optical applications. When the aliphatic hydrocarbon group is a cycloalkane skeleton having 4 to 10 carbon atoms or a norbornane skeleton, such a compound having a substituent group of methyl group or carboxyl group is less colored and its optical characteristics are improved.

상기 (a)로 정의되는 가교기의 화합물에 있어서도 지방족 탄화수소기가 탄소수 4~10의 시클로알칸 골격 또는 노보난 골격일 때, 치환기가 메틸기 또는 카르복실기의 화합물의 경우인 편이 광학 특성이 향상되어 바람직하다.Also in the compound of the crosslinking group defined in the above (a), when the aliphatic hydrocarbon group is a cycloalkane skeleton having 4 to 10 carbon atoms or a norbornane skeleton, the substituent is a compound of a methyl group or a carboxyl group.

즉, 이와 같은 다가 카르복실산 혼합물로서 탄소수 4~10의 시클로알칸 골격 또는 노보난 골격을 갖는 다가 카르복실산을 포함할 때, 치환기는 바람직하게는 메틸기 또는 카르복실기, 또는 양자를 갖는 식(22)의 다가 카르복실산을 포함하는 혼합물이 바람직하다. 상기 다가 카르복실산을 2종 이상 포함하는 다가 카르복실산 혼합물의 경우, 적어도 상기 치환기가 수소원자가 아닌 식(22)의 다가 카르복실산(상기 치환기가 상기 알킬기, 바람직하게는 메틸기, 또는 카르복실기의 다가 카르복실산)을 다가 카르복실산의 총량에 대하여 50몰% 이상 포함하는 혼합물이 바람직하다. 보다 바람직하게는, 상기 치환기가 수소원자가 아닌 식(22)의 다가 카르복실산을 70몰% 이상, 가장 바람직하게는 90몰% 이상 포함하는 다가 카르복실산 혼합물이 바람직하다. 잔부가, R3이 수소원자인 하기 식(2A)의 다가 카르복실산이다.That is, when such a polyvalent carboxylic acid mixture contains a polycarboxylic acid having a cycloalkane skeleton having 4 to 10 carbon atoms or a novolak skeleton, the substituent is preferably a methyl group or a carboxyl group, Of a polyvalent carboxylic acid is preferred. In the case of a polyvalent carboxylic acid mixture comprising at least two polyvalent carboxylic acids, at least the polyvalent carboxylic acid of the formula (22) in which the substituent is not a hydrogen atom (the substituent is the above-mentioned alkyl group, preferably a methyl group or a carboxyl group A polybasic carboxylic acid) in an amount of 50 mol% or more based on the total amount of the polycarboxylic acid. More preferably, a polyvalent carboxylic acid mixture containing 70 mol% or more, and most preferably 90 mol% or more of the polyvalent carboxylic acid of the formula (22) in which the substituent is not a hydrogen atom is preferable. And the remainder is a polyvalent carboxylic acid of the formula (2A) wherein R 3 is a hydrogen atom.

본 발명의 열경화성 수지 조성물에 있어서, 본 발명의 다가 카르복실산 이외의 바람직한 다가 카르복실산으로서는 하기 식(2A)으로 나타내어지는 다가 카르복실산이 사용된다.In the thermosetting resin composition of the present invention, a polyvalent carboxylic acid represented by the following formula (2A) is used as a preferable polycarboxylic acid other than the polyvalent carboxylic acid of the present invention.

Figure pct00026
Figure pct00026

(상기 식 중, P는 상기와 같은 의미를 나타내고, R9는 수소원자, 탄소수 1~3의 알킬기 또는 카르복실기를 나타낸다.)(Wherein P has the same meaning as described above, and R 9 represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms or a carboxyl group.)

여기에서, 상기 식(2A)에 있어서는 상기에 기재된 바와 같은 이유에 의해, R9가 탄소수 1~3의 알킬기 또는 카르복실기를 바람직하게 사용할 수 있다.Here, in the formula (2A), R 9 may preferably be an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms or a carboxyl group for the reasons described above.

말단 카르복실산 올리고 에스테르는 수평균 분자량 Mn이 300 이상인 다가 카르복실산인 것이 바람직하다.The terminal carboxylic acid oligoester is preferably a polyvalent carboxylic acid having a number average molecular weight Mn of 300 or more.

또한, 본 발명의 열경화성 수지 조성물에 있어서는, 상기 식(1)으로 나타내어지는 다가 카르복실산과 트리멜리트산, 무수 트리멜리트산, 시클로헥산트리카르복실산, 및 시클로헥산트리카르복실산 무수물, 피로멜리트산, 수소 첨가 피로멜리트산, 피로멜리트산 무수물, 수소 첨가 피로멜리트산 무수물, 헥사히드로 무수 프탈산, 및 메틸헥사히드로 무수 프탈산에서 선택되는 1종 또는 2종 이상의 화합물의 혼합물에 있어서의 관능기당량이 250g/eq. 이하인 것이 바람직하고, 240g/eq. 이하인 것이 보다 바람직하다. 이 범위임으로써 트리멜리트산, 무수 트리멜리트산, 시클로헥산트리카르복실산, 및 시클로헥산트리카르복실산 무수물, 피로멜리트산, 수소 첨가 피로멜리트산, 피로멜리트산 무수물, 수소 첨가 피로멜리트산 무수물, 헥사히드로 무수 프탈산, 및 메틸헥사히드로 무수 프탈산에서 선택되는 1종 또는 2종 이상의 화합물의 화합물량의 효과가 유효하게 발휘되어, 내열성이 뛰어난 경화물을 얻는 것이 가능해진다.In the thermosetting resin composition of the present invention, the polyvalent carboxylic acid represented by the above formula (1) is reacted with trimellitic acid, trimellitic anhydride, cyclohexanetricarboxylic acid, cyclohexanetricarboxylic acid anhydride, pyromellitic acid The equivalent of the functional group in the mixture of one or more compounds selected from acetic acid, hydrogenated pyromellitic acid, pyromellitic anhydride, hydrogenated pyromellitic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, and methylhexahydrophthalic anhydride is 250 g / eq. Or less, more preferably 240 g / eq. Or less. These ranges include trimellitic acid, trimellitic anhydride, cyclohexanetricarboxylic acid, and cyclohexanetricarboxylic acid anhydride, pyromellitic acid, hydrogenated pyromellitic acid, pyromellitic acid anhydride, hydrogenated pyromellitic acid anhydride , Hexahydrophthalic anhydride, and methylhexahydrophthalic anhydride, the effect of the compounding amount of one or more compounds selected from the group consisting of hexahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride and methylhexahydrophthalic anhydride can be effectively exhibited, and a cured product having excellent heat resistance can be obtained.

또한, 중량비로서는 상기 식(1)으로 나타내어지는 다가 카르복실산:(트리멜리트산, 무수 트리멜리트산, 시클로헥산트리카르복실산, 및 시클로헥산트리카르복실산 무수물, 피로멜리트산, 수소 첨가 피로멜리트산, 피로멜리트산 무수물, 수소 첨가 피로멜리트산 무수물, 헥사히드로 무수 프탈산, 및 메틸헥사히드로 무수 프탈산에서 선택되는 1종 또는 2종 이상의 화합물)이 99:1~10:90인 것이 바람직하고, 90:10~20:80이 보다 바람직하며, 80:20~50:50인 것이 특히 바람직하다. 상기 비율에 있음으로써 매우 내열성이 뛰어남과 아울러 점도도 낮아 충분히 혼련하는 것이 가능해지기 때문에, 경화 물성에도 뛰어난 열경화성 수지 조성물로 된다.As the weight ratio, the polyvalent carboxylic acid represented by the above formula (1): (trimellitic acid, anhydrous trimellitic acid, cyclohexanetricarboxylic acid, and cyclohexanetricarboxylic acid anhydride, pyromellitic acid, At least one member selected from the group consisting of maleic anhydride, maleic anhydride, maleic anhydride, maleic anhydride, maleic anhydride, maleic anhydride, maleic anhydride, More preferably from 90:10 to 20:80, and particularly preferably from 80:20 to 50:50. Since the ratio is in the above range, the thermosetting resin composition is excellent in heat resistance and low in viscosity and can be sufficiently kneaded.

또한, 상기 식(1)으로 나타내어지는 다가 카르복실산(A), 및 트리멜리트산, 무수 트리멜리트산, 시클로헥산트리카르복실산, 및 시클로헥산트리카르복실산 무수물, 피로멜리트산, 수소 첨가 피로멜리트산, 피로멜리트산 무수물, 수소 첨가 피로멜리트산 무수물, 헥사히드로 무수 프탈산, 및 메틸헥사히드로 무수 프탈산에서 선택되는 1종 또는 2종 이상의 화합물을 포함하는 열경화성 수지용 경화제를 포함하는 열경화성 수지 조성물에 있어서, 트리멜리트산, 무수 트리멜리트산, 시클로헥산트리카르복실산, 시클로헥산트리카르복실산 무수물, 피로멜리트산, 수소 첨가 피로멜리트산, 피로멜리트산 무수물, 수소 첨가 피로멜리트산 무수물, 헥사히드로 무수 프탈산, 및 메틸헥사히드로 무수 프탈산에서 선택되는 1종 또는 2종 이상의 화합물이 열경화성 수지 조성물의 1중량%~90중량%를 차지하는 것이 바람직하다. 상기 중량%임으로써 혼련성 및 성형성이 보다 향상되고, 경화물성에도 뛰어난 열경화성 수지 조성물로 된다.The polyvalent carboxylic acid (A) represented by the above-mentioned formula (1), and the polyvalent carboxylic acid (A) represented by the above formula (1) and the polyvalent carboxylic acid A thermosetting resin composition comprising a thermosetting resin-containing curing agent comprising at least one compound selected from pyromellitic acid, pyromellitic anhydride, hydrogenated pyromellitic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, and methylhexahydrophthalic anhydride It is preferable to use at least one of trimellitic acid, trimellitic anhydride, cyclohexanetricarboxylic acid, cyclohexanetricarboxylic acid anhydride, pyromellitic acid, hydrogenated pyromellitic acid, pyromellitic acid anhydride, hydrogenated pyromellitic anhydride, Phthalic anhydride, and methylhexahydrophthalic anhydride is used as the thermosetting water It accounts for 1% by weight of the composition to 90% by weight is preferred. By the above weight%, the thermosetting resin composition is further improved in kneading property and moldability and also in curing properties.

병용할 수 있는 경화제로서는, 예를 들면 아민계 화합물, 불포화환 구조를 갖는 산 무수물계 화합물, 오가노실록산 골격을 갖는 산 무수물, 아미드계 화합물, 페놀계 화합물, 카르복실산계 화합물 등을 들 수 있다. 사용할 수 있는 경화제의 구체예로서는 디아미노디페닐메탄, 디에틸렌트리아민, 트리에틸렌테트라민, 디아미노디페닐술폰, 이소포론디아민, 디시안디아미드, 리놀렌산의 2량체와 에틸렌디아민에 의해 합성되는 폴리아미드 수지, 무수 프탈산, 무수 피로멜리트산, 무수 말레산, 테트라히드로 무수 프탈산, 메틸테트라히드로 무수 프탈산, 무수 메틸나딕산, 무수 나딕산, 헥사히드로 무수 프탈산, 메틸헥사히드로 무수 프탈산, 부탄테트라카르복실산 무수물, 비시클로[2.2.1]헵탄-2,3-디카르복실산 무수물, 메틸비시클로[2.2.1]헵탄-2,3-디카르복실산 무수물, 비스페놀 A, 비스페놀 F, 비스페놀 S, 플루오렌비스페놀, 테르펜디페놀, 4,4'-비페놀, 2,2'-비페놀, 3,3',5,5'-테트라메틸-[1,1'-비페닐]-4,4'-디올, 하이드로퀴논, 레조르신, 나프탈렌디올, 트리스-(4-히드록시페닐)메탄, 1,1,2,2-테트라키스(4-히드록시페닐)에탄, 페놀류(페놀, 알킬 치환 페놀, 나프톨, 알킬 치환 나프톨, 디히드록시벤젠, 디히드록시나프탈렌 등)와 포름알데히드, 아세트알데히드, 벤즈알데히드, p-히드록시벤즈알데히드, o-히드록시벤즈알데히드, p-히드록시아세토페논, o-히드록시아세토페논, 디시클로펜타디엔, 푸르푸랄, 4,4'-비스(클로로메틸)-1,1'-비페닐, 4,4'-비스(메톡시메틸)-1,1'-비페닐, 1,4'-비스(클로로메틸)벤젠, 1,4'-비스(메톡시메틸)벤젠 등의 중축합물 및 이것들의 변성물, 테트라브로모비스페놀 A 등의 할로겐화 비스페놀류, 이미다졸, 트리플루오로보란-아민 착체, 구아니딘 유도체, 테르펜과 페놀류의 축합물 등을 들 수 있지만, 이것들에 한정되는 것은 아니다. 이것들은 단독으로 사용해도 좋고, 2종 이상을 사용해도 좋다.Examples of the curing agent that can be used in combination include an amine compound, an acid anhydride compound having an unsaturated ring structure, an acid anhydride having an organosiloxane skeleton, an amide compound, a phenol compound, and a carboxylic acid compound . Specific examples of the curing agent that can be used include polyamides synthesized by dimer of diaminodiphenylmethane, diethylenetriamine, triethylenetetramine, diaminodiphenylsulfone, isophoronediamine, dicyandiamide, linolenic acid and ethylene diamine A resin selected from the group consisting of resin, phthalic anhydride, pyromellitic anhydride, maleic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, methyltetrahydrophthalic anhydride, methylnadic anhydride, nadic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, methylhexahydrophthalic anhydride, butanetetracarboxylic acid Bis [2, 3] dicarboxylic anhydride, methylbicyclo [2.2.1] heptane-2,3-dicarboxylic acid anhydride, bisphenol A, bisphenol F, bisphenol S, Fluorene bisphenol, terpendiphenol, 4,4'-biphenol, 2,2'-biphenol, 3,3 ', 5,5'-tetramethyl- [1,1'-biphenyl] -4,4 '-Diol, hydroquinone, resorcin, naphthalene diol, tris- (4-hydroxyphenyl) Methane, 1,1,2,2-tetrakis (4-hydroxyphenyl) ethane, phenols (phenol, alkyl substituted phenol, naphthol, alkyl substituted naphthol, dihydroxybenzene, dihydroxynaphthalene, etc.) and formaldehyde, Hydroxybenzaldehyde, p-hydroxyacetophenone, o-hydroxyacetophenone, dicyclopentadiene, furfural, 4,4'-bis (chloromethyl) - biphenylacetaldehyde, (Methoxymethyl) -1,1'-biphenyl, 1,4'-bis (chloromethyl) benzene, 1,4'-bis ) And benzene, and modified products thereof, halogenated bisphenols such as tetrabromobisphenol A, imidazoles, trifluoroborane-amine complexes, guanidine derivatives, condensates of terpenes and phenols, and the like. . These may be used alone or in combination of two or more.

본 발명에 있어서의 열경화성 수지 조성물이란, 에폭시 수지, 페놀 수지, 요소 수지, 멜라민 수지, 불포화 폴리에스테르 수지 등의 열경화성 수지 등을 함유하는 조성물이며, 본 발명에 있어서는 에폭시 수지를 사용하는 것이 바람직하다.The thermosetting resin composition in the present invention is a composition containing a thermosetting resin such as an epoxy resin, a phenol resin, a urea resin, a melamine resin, and an unsaturated polyester resin, and it is preferable to use an epoxy resin in the present invention.

에폭시 수지로서는 종래의 열경화성 수지 조성물이나 에폭시 수지 조성물로서 통상 배합되어 있는 것이면 특별히 제한되지 않고 사용할 수 있다. 예를 들면, 페놀노볼락형 에폭시 수지, 오르토크레졸노볼락형 에폭시 수지를 비롯한 페놀류와 알데히드류의 노볼락 수지를 에폭시화한 것, 비스페놀 A, 비스페놀 F, 비스페놀 S, 알킬 치환 비스페놀 등의 디글리시딜에테르, 디아미노디페닐메탄, 이소시아누르산 등의 폴리아민과 에피클로로히드린의 반응에 의해 얻어지는 글리시딜아민형 에폭시 수지, 올레핀 결합을 과아세트산 등의 과산으로 산화해서 얻어지는 지환식 에폭시 수지, 디글리시딜이소시아누레이트, 트리글리시딜이소시아누레이트, 실세스퀴옥산 화합물 등을 들 수 있고, 이것들은 단독으로 사용해도 좋고 2종 이상 병용해도 좋다. 이들 에폭시 수지 중, 높은 내열성을 갖는 것이 바람직하기 때문에, 구체적으로는 용융 점도, 얻어지는 경화물의 착색 및 유리전이온도 등의 관점에서 글리시딜에테르형 에폭시 수지, 지환식 에폭시 수지, 트리글리시딜이소시아누레이트가 바람직하다.As the epoxy resin, any conventional thermosetting resin composition or epoxy resin composition may be used as long as it is normally blended. Examples thereof include phenol novolak type epoxy resins, orthocresol novolak type epoxy resins, epoxidized novolac resins of phenols and aldehydes, diglycidyl ethers such as bisphenol A, bisphenol F, bisphenol S and alkyl substituted bisphenols Glycidylamine type epoxy resins obtained by the reaction of epichlorohydrin with polyamines such as cidyl ether, diaminodiphenylmethane and isocyanuric acid, alicyclic epoxy resins obtained by oxidation of olefin bonds with peracid such as peracetic acid, Polyglycidyl isocyanurate, diglycidyl isocyanurate, triglycidyl isocyanurate, and silsesquioxane compounds. These may be used alone or in combination of two or more. From the viewpoints of the melt viscosity, the coloration of the resulting cured product, and the glass transition temperature, among these epoxy resins, those having high heat resistance are preferred, and glycidyl ether type epoxy resins, alicyclic epoxy resins, And the like.

에폭시 수지와, 본 발명의 다가 카르복실산(A)과 트리멜리트산, 무수 트리멜리트산, 시클로헥산트리카르복실산, 및 시클로헥산트리카르복실산 무수물, 피로멜리트산, 수소 첨가 피로멜리트산, 피로멜리트산 무수물, 수소 첨가 피로멜리트산 무수물, 헥사히드로 무수 프탈산, 및 메틸헥사히드로 무수 프탈산에서 선택되는 1종 또는 2종 이상의 화합물을 포함하는 열경화성 수지용 경화제의 배합비는, 에폭시 수지 중의 에폭시기 1당량에 대하여 상기 에폭시기와 반응 가능한 열경화성 수지용 경화제 중의 활성기(산 무수물기나 수산기)가 0.5~1.5당량(카르복실산을 1관능, 산 무수물을 1관능으로 생각함)이 바람직하고, 특히 바람직하게는 0.5~1.2당량이다. 에폭시기 1당량에 대하여 0.5당량에 미달인 경우, 또는 1.5당량을 초과할 경우 모두 경화가 불완전하게 되어 양호한 경화 물성이 얻어지지 않을 우려가 있는 것 외에, 착색되기 쉬워지는 문제도 있다.An epoxy resin, and a polyvalent carboxylic acid (A) of the present invention, and at least one member selected from the group consisting of trimellitic acid, anhydrous trimellitic acid, cyclohexanetricarboxylic acid and cyclohexanetricarboxylic acid anhydride, pyromellitic acid, hydrogenated pyromellitic acid, The blending ratio of the thermosetting resin curing agent comprising one or two or more compounds selected from pyromellitic anhydride, hydrogenated pyromellitic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, and methylhexahydrophthalic anhydride is preferably in the range of 1 equivalent of the epoxy group in the epoxy resin (Acid anhydride group or hydroxyl group) in the curing agent for thermosetting resin capable of reacting with the epoxy group is preferably 0.5 to 1.5 equivalents (the carboxylic acid is considered as one functional group and the acid anhydride as one functional group), particularly preferably 0.5 To 1.2 equivalents. When the amount is less than 0.5 equivalents or exceeds 1.5 equivalents with respect to one equivalent of the epoxy group, curing is incomplete in all cases, and there is a possibility that good curing properties may not be obtained.

본 발명의 경화성 수지 조성물에는 필요에 따라서 경화 촉진제를 첨가할 수 있다. 경화 촉진제로서는 2-메틸이미다졸, 2-페닐이미다졸, 2-운데실이미다졸, 2-헵타데실이미다졸, 2-페닐-4-메틸이미다졸, 1-벤질-2-페닐이미다졸, 1-벤질-2-메틸이미다졸, 1-시아노에틸-2-메틸이미다졸, 1-시아노에틸-2-페닐이미다졸, 1-시아노에틸-2-운데실이미다졸, 2,4-디아미노-6(2'-메틸이미다졸(1'))에틸-s-트리아진, 2,4-디아미노-6(2'-운데실이미다졸(1'))에틸-s-트리아진, 2,4-디아미노-6(2'-에틸,4-메틸이미다졸(1'))에틸-s-트리아진, 2,4-디아미노-6(2'-메틸이미다졸(1'))에틸-s-트리아진·이소시아누르산 부가물, 2-메틸이미다졸이소시아누르산의 2:3 부가물, 2-페닐이미다졸이소시아누르산 부가물, 2-페닐-3,5-디히드록시메틸이미다졸, 2-페닐-4-히드록시메틸-5-메틸이미다졸, 1-시아노에틸-2-페닐-3,5-디시아노에톡시메틸이미다졸의 각종 이미다졸류, 및 그들 이미다졸류와 프탈산, 이소프탈산, 테레프탈산, 트리멜리트산, 피로멜리트산, 나프탈렌디카르복실산, 말레산, 옥살산 등의 다가 카르복실산의 염류, 디시안디아미드 등의 아미드류, 1,8-디아자-비시클로[5.4.0]운데센-7 등의 디아자 화합물 및 그것들의 테트라페닐보레이트, 페놀노볼락 등의 염류, 상기 다가 카르복실산류, 또는 포스핀산류와의 염류, 테트라부틸암모늄브로마이드, 세틸트리메틸암모늄브로마이드, 트리옥틸메틸암모늄브로마이드, 헥사데실트리메틸암모늄히드록시드 등의 4급 암모늄염(바람직하게는 C1~C20 알킬암모늄염, 트리페닐포스핀, 트리(톨루일)포스핀, 테트라페닐포스포늄브로마이드, 테트라페닐포스포늄테트라페닐보레이트 등의 포스핀류나 포스포늄 화합물, 2,4,6-트리스아미노메틸페놀 등의 페놀류, 아민아닥트, 옥틸산 주석, 옥탄산 아연, 스테아르산 아연, 나프텐산 구리, 나프텐산 코발트 등의 금속 화합물 등, 및 이들 경화 촉진제를 마이크로캡슐로 한 마이크로캡슐형 경화 촉진제 등을 들 수 있다. 이들 경화 촉진제 중 어느 것을 사용할지는, 예를 들면 투명성, 경화 속도, 작업 조건과 같은 얻어지는 투명 수지 조성물에 요구되는 특성에 따라 적당하게 선택된다. 본 발명에 있어서 바람직한 것으로서는, 포스포늄 화합물(보다 바람직하게는 4급 포스포늄) 또는 스테아르산 아연을 들 수 있다. 시장으로부터 입수 가능한 4급 포스포늄의 제품예로서는 PX-4ET, PX-4MP(모두 닛폰카가쿠코교가부시키가이샤 제) 등을 들 수 있다.A curing accelerator may be added to the curable resin composition of the present invention if necessary. Examples of the curing accelerator include 2-methylimidazole, 2-phenylimidazole, 2-undecylimidazole, 2-heptadecylimidazole, 2-phenyl- Phenylimidazole, 1-benzyl-2-methylimidazole, 1-cyanoethyl-2-methylimidazole, 1-cyanoethyl- (2'-methylimidazole (1 ')) ethyl-s-triazine, 2,4-diamino-6 (2'-undecylimidazole Sol (1 ')) ethyl-s-triazine, 2,4-diamino-6 (2'-ethyl, 4-methylimidazole (2'-methylimidazole (1 ')) ethyl-s-triazine isocyanuric acid adduct, a 2: 3 adduct of 2-methylimidazole isocyanuric acid, 2-phenyl Imidazole isocyanuric acid adduct, 2-phenyl-3,5-dihydroxymethylimidazole, 2-phenyl-4-hydroxymethyl-5-methylimidazole, 1-cyanoethyl- - phenyl-3,5-dicyanoethoxymethylimidazole, and imidadoles and derivatives thereof. Salts of polycarboxylic acids such as acetic anhydride, isophthalic acid, terephthalic acid, trimellitic acid, pyromellitic acid, naphthalenedicarboxylic acid, maleic acid and oxalic acid, amides such as dicyandiamide, Cyclo [5.4.0] undecene-7, and salts thereof such as tetraphenylborate and phenol novolac, salts with polycarboxylic acids or phosphines, tetrabutylammonium bromide, cetyltrimethyl Quaternary ammonium salts such as ammonium bromide, trioctylmethylammonium bromide and hexadecyltrimethylammonium hydroxide (preferably C1 to C20 alkylammonium salts, triphenylphosphine, tri (toluyl) phosphine, tetraphenylphosphonium bromide, Phosphonium compounds such as tetraphenylphosphonium tetraphenylborate and the like, phenols such as 2,4,6-trisaminomethylphenol, aminodecane, tin octylate, zinc octanoate, And cobalt naphthenate, and microcapsule-type curing accelerators containing these curing accelerators in the form of microcapsules. Examples of the curing accelerator to be used are transparency, transparency, Curing speed, working conditions and the like of the obtained transparent resin composition. Preferable examples of the present invention include a phosphonium compound (more preferably, quaternary phosphonium) or zinc stearate. Examples of products of quaternary phosphonium available from the market include PX-4ET and PX-4MP (both manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.).

경화 촉진제는 에폭시 수지 100중량부에 대하여 통상 0.001~15중량부, 바람직하게는 0.01~5중량부의 범위에서 사용된다.The curing accelerator is used in an amount of usually 0.001 to 15 parts by weight, preferably 0.01 to 5 parts by weight, based on 100 parts by weight of the epoxy resin.

필요에 따라서, 상술한 첨가제 이외의 첨가제로서 일반적으로 자주 사용되는 에폭시 수지용 첨가제, 예를 들면 염료, 형광증백제, 보강재, 충전제, 백색 안료 또는 기타 안료, 핵제, 계면활성제, 가소제, 점도 조정제, 유동성 조정제, 난연제, 산화방지제, 자외선 흡수제, 광 안정제를 첨가해도 좋다.If necessary, additives such as a dye, a fluorescent whitening agent, a reinforcing agent, a filler, a white pigment or other pigment, a nucleating agent, a surfactant, a plasticizer, a viscosity adjusting agent, A flow control agent, a flame retardant, an antioxidant, an ultraviolet absorber, and a light stabilizer may be added.

상술한 충전제로서는 결정 실리카, 용융 실리카, 산화안티몬, 산화티탄, 산화마그네슘, 산화지르코늄, 수산화알루미늄, 수산화마그네슘, 알루미나 등을 들 수 있지만, 이것들에 한정되는 것은 아니다. 이것들은 단독으로 사용해도 좋고, 2종 이상을 사용해도 좋다.Examples of the filler include, but are not limited to, crystalline silica, fused silica, antimony oxide, titanium oxide, magnesium oxide, zirconium oxide, aluminum hydroxide, magnesium hydroxide, and alumina. These may be used alone or in combination of two or more.

무기 충전제의 배합량은 경화성 수지 조성물의 합계량 100중량부에 대하여 1~1000중량부인 것이 바람직하고, 1~800중량부인 것이 보다 바람직하다.The blending amount of the inorganic filler is preferably 1 to 1000 parts by weight, more preferably 1 to 800 parts by weight based on 100 parts by weight of the total amount of the curable resin composition.

상술한 백색 안료로서는 특별하게 한정되지 않지만, 예를 들면 알루미나, 산화마그네슘, 산화안티몬, 산화티탄, 산화지르코늄, 산화아연, 염기성 탄산 아연, 카오린, 탄산 칼슘 등을 사용할 수 있다. 또한, 백색 안료는 중공 입자라도 좋다. 또한, 백색 안료에 대하여 규소화합물, 알루미늄화합물, 유기물 등으로 적당하게 표면 처리를 행해도 좋다. 이것들은 단독으로 사용해도 상관없고, 2종 이상을 병용해도 상관없다. 또한, 상기 백색 안료의 평균 입경은 0.01~50㎛의 범위에 있는 것이 바람직하다. 0.01㎛ 미만이면 입자가 응집되기 쉬워 분산성이 나빠지는 경향이 있고, 50㎛를 초과하면 경화물의 반사 특성이 충분히 얻어지지 않는 경향이 있다. 상기 평균 입경은 예를 들면, 레이저 회절 산란식 입도 분포계를 이용하여 측정할 수 있다. 본 발명에 있어서는 산화티탄, 특히 이산화티탄의 분말을 사용하는 것이 바람직하다. 백색도, 광반사성, 및 은폐력이 높고, 분산성 안정성이 뛰어나며, 입수가 용이하기 때문이다. 산화티탄의 결정형은 특별히 한정되지 않고, 루틸형이여도 좋고, 아나타제형이여도 좋고, 양자가 혼재하고 있어도 좋지만, 아나타제형은 광촉매 기능을 갖기 때문에 수지를 열화시킬 염려가 있으므로 본 발명에 있어서는 루틸형이 바람직하다. 예를 들면, 시장으로부터 입수 가능한 제품으로는 CR-95(이시하라산교(주)제 산화티탄) 등을 들 수 있다.Examples of the white pigment include, but are not limited to, alumina, magnesium oxide, antimony oxide, titanium oxide, zirconium oxide, zinc oxide, basic zinc carbonate, kaolin and calcium carbonate. The white pigment may be hollow particles. Further, the white pigment may be suitably subjected to surface treatment with a silicon compound, an aluminum compound, an organic material, or the like. These may be used alone or in combination of two or more. The average particle diameter of the white pigment is preferably in the range of 0.01 to 50 탆. If it is less than 0.01 mu m, the particles tends to agglomerate easily and the dispersibility tends to deteriorate. If it exceeds 50 mu m, the cured product tends not to be sufficiently obtained. The average particle diameter can be measured using, for example, a laser diffraction scattering particle size distribution meter. In the present invention, it is preferable to use titanium oxide, especially titanium dioxide powder. This is because it has high whiteness, light reflectivity and hiding power, excellent dispersibility stability, and is easy to obtain. The crystal form of the titanium oxide is not particularly limited and may be a rutile type, an anatase type or a mixture of both. The anatase type may have a photocatalytic function and may deteriorate the resin. Therefore, in the present invention, . For example, commercially available products from the market include CR-95 (titanium oxide manufactured by Ishihara Sangyo Co., Ltd.).

또한, 백색 안료의 함유량은 수지 조성물 전체에 대하여 10중량%~95중량%, 보다 바람직하게는 50~95%의 범위이다. 합계 함유량이 10중량% 미만이면 경화물의 광반사 특성이 충분히 얻어지지 않는 경향이 있고, 95중량%를 초과하면 수지 조성물의 성형성이 나빠져서 기판의 제작이 곤란해지는 경향이 있다.The content of the white pigment is in the range of 10 wt% to 95 wt%, more preferably 50 wt% to 95 wt% with respect to the whole resin composition. When the total content is less than 10% by weight, the light reflection property of the cured product tends to be insufficient. When the total content exceeds 95% by weight, the moldability of the resin composition is deteriorated and the production of the substrate tends to be difficult.

성형시의 고온 조건 하에 있어서의 열경화성 수지용 경화제의 용융 점도가 종래의 산 무수물 경화제 등보다 높은 것이 바람직하고, 구체적으로는 성형 온도 영역인 100℃~200℃에서 0.01Pa·s~10Pa·s로 하는 것이 바람직하다. 0.01Pa·s보다 작으면 버(burr)가 발생하기 쉽다. 한편, 10Pa·s보다 크면 생산성이 저하된다.It is preferable that the curing agent for a thermosetting resin under a high temperature condition at the time of molding is higher in melt viscosity than that of a conventional acid anhydride curing agent or the like. Specifically, the curing agent for a thermosetting resin is preferably at a temperature in the range of 100 ° C to 200 ° C in the range of 0.01 Pa · s to 10 Pa · s . If it is less than 0.01 Pa · s, burrs are likely to occur. On the other hand, if it is larger than 10 Pa · s, productivity decreases.

본 실시형태에 있어서는, 150℃에 있어서의 열경화성 수지용 경화제의 ICI 점도가 0.01Pa·s~10Pa·s인 것이 바람직하고, 0.05Pa·s~5Pa·s인 것이 보다 바람직하다.In the present embodiment, the ICI viscosity of the thermosetting resin curing agent at 150 캜 is preferably 0.01 Pa · s to 10 Pa · s, more preferably 0.05 Pa · s to 5 Pa · s.

연화점은 20℃~150℃의 범위에 있는 것이 바람직하다. 보다 구체적으로는 30℃~130℃의 범위에 있는 것이 바람직하고, 40℃~120℃의 범위에 있는 것이 보다 바람직하다.The softening point is preferably in the range of 20 占 폚 to 150 占 폚. More specifically, the temperature is preferably in the range of 30 ° C to 130 ° C, and more preferably in the range of 40 ° C to 120 ° C.

경화물의 유리전이온도는 성형 온도보다 높은 것이 바람직하다. 경화물의 유리전이온도가 성형 온도 이하이면 금형 중에 있는 경화물은 저탄성의 고무 상태이기 때문에, 고무상 경화물을 금형으로부터 인출하게 되어 이젝터를 밀어넣을 때에 변형되거나 하여 문제가 발생할 우려가 있다. 구체적으로는 유리전이온도는 30℃ 이상인 것이 바람직하고, 40℃ 이상인 것이 보다 바람직하며, 50℃ 이상인 것이 더욱 바람직하다.The glass transition temperature of the cured product is preferably higher than the molding temperature. If the glass transition temperature of the cured product is lower than the molding temperature, the cured product in the mold is in a rubbery state of low elasticity, so that the rubbery cured product is taken out of the mold and deformed when the ejector is pushed thereinto. Specifically, the glass transition temperature is preferably 30 占 폚 or higher, more preferably 40 占 폚 or higher, and still more preferably 50 占 폚 or higher.

여기에서, 본원 발명에 있어서 경화물의 유리전이온도는 150℃ 이하가 바람직하고, 140℃ 이하가 보다 바람직하다.Here, in the present invention, the glass transition temperature of the cured product is preferably 150 占 폚 or lower, more preferably 140 占 폚 or lower.

본 발명의 열경화성 수지 조성물은 상기한 각종 성분을 균일하게 분산 혼합함으로써 얻어진다. 그 방법에 대해서는 특별하게 한정되지 않지만, 각종 성분을 믹서 등에 의해 충분히 균일하게 교반, 혼합한 후, 믹싱롤, 압출기, 니더, 롤, 익스트루더 등에 의해 혼련 또는 용융 혼련하고, 냉각, 분쇄하는 방법을 들 수 있다. 혼련 또는 용융 혼련의 조건은 성분의 종류나 배합량에 따라 결정하면 좋고, 특별하게 한정되지 않지만 20~100℃의 범위에서 5~40분간 혼련하는 것이 보다 바람직하다. 혼련 온도가 20℃ 미만이면 각 성분의 분산성이 저하하여 충분히 혼련시키는 것이 곤란하고, 100℃보다 고온이면 수지 조성물의 가교 반응이 진행되어 수지 조성물이 경화해 버릴 우려가 있다.The thermosetting resin composition of the present invention is obtained by uniformly dispersing and mixing the above-mentioned various components. Although the method is not particularly limited, a method of sufficiently mixing and mixing various components uniformly with a mixer or the like and then kneading or melt-kneading the mixture with a mixing roll, an extruder, a kneader, a roll or an extruder, . The conditions of kneading or melt-kneading may be determined depending on the type and amount of the components, and are not particularly limited, and it is more preferable to knead the mixture at 20 to 100 占 폚 for 5 to 40 minutes. If the kneading temperature is lower than 20 캜, the dispersibility of each component is lowered and it is difficult to sufficiently knead the resin composition. If the temperature is higher than 100 캜, the crosslinking reaction of the resin composition proceeds and the resin composition may be cured.

본 발명의 열경화성 수지 조성물은 가열 성형 전, 0~30℃의 실온에 있어서 가압(태블릿) 성형 가능한 것이 바람직하다. 가압 성형은, 예를 들면 0.01~10㎫, 1~5초 정도의 조건 하에서 행하는 방법을 들 수 있다. 또한, 가압(태블릿) 성형시에 사용하는 금형은 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면 세라믹스계 재료나 불소계 수지 재료 등으로 이루어지는 절굿공이형(상금형)과 절구형(하금형)으로 구성되는 것을 사용하는 것이 바람직하다.The thermosetting resin composition of the present invention is preferably capable of press forming (tablet) at room temperature of 0 to 30 占 폚 before thermoforming. The pressure molding may be carried out under the conditions of, for example, 0.01 to 10 MPa and 1 to 5 seconds. The mold used for pressurizing (tablet) molding is not particularly limited. For example, it is possible to use a mold made of a ceramic material or a fluorine resin material, .

본 발명의 열경화성 수지 조성물은 높은 유리전이온도 및 높은 투과율을 필요로 하는 광반도체 밀봉 재료, 광반도체용 반사재 등의 용도에 있어서 유용하다.The thermosetting resin composition of the present invention is useful in applications such as optical semiconductor sealing materials and reflective materials for optical semiconductors which require high glass transition temperature and high transmittance.

광반사용으로서 사용할 경우에 있어서 제조 방법은 특별하게 한정되지 않지만, 예를 들면 본 발명의 열경화성 수지 조성물을 트랜스퍼 성형에 의해 제조하는 것이 바람직하다. 본 발명의 열경화성 수지 조성물을 금형에 주입하고, 예를 들면 금형 온도 150~190℃, 성형 압력 2~20㎫의 조건 하에서 60~800초간 경화시킨 후에 금형으로부터 인출하고, 애프터 큐어 온도 150℃~180℃에서 1~3시간에 걸쳐 열경화시킨다.In the case of using as a light-use film, the production method is not particularly limited, but it is preferable to produce the thermosetting resin composition of the present invention by transfer molding, for example. The thermosetting resin composition of the present invention is poured into a mold and is cured for 60 to 800 seconds under the conditions of, for example, a mold temperature of 150 to 190 DEG C and a molding pressure of 2 to 20 MPa, Lt; 0 > C for 1 to 3 hours.

본 발명의 광반도체 장치는 대표적인 구조에 대해서 구체예를 예시하면, 국제공개 제 2012/124147호에 기재된 바와 같이 기판 상에 원통상의 중공부를 갖는 광반사 방지 부재를 배치하고, 원통상의 중공부의 내부 공간에 있어서 기판 상에 광반도체 소자를 배치한다. 그리고, 광반도체 소자의 일단부와 기판을 와이어로 연결하고, 상기 중공부에 밀봉 수지가 밀봉된 구성을 갖고 있다.As an example of a typical structure of the optical semiconductor device of the present invention, a light reflection preventing member having a cylindrical hollow portion is disposed on a substrate as described in International Publication No. 2012/124147, and a cylindrical hollow portion An optical semiconductor element is arranged on a substrate in an internal space. Then, one end of the optical semiconductor element and the substrate are connected by a wire, and the hollow portion is sealed with a sealing resin.

본 명세서에 있어서, 비율, 퍼센트, 부, 중량 등은 특별히 기재하지 않는 한 질량에 의거하는 것이다. 본 명세서에 있어서, 「X~Y」라고 하는 표현은 X로부터 Y까지의 범위를 나타내고, 그 범위는 X, Y를 포함한다.In this specification, the ratios, percentages, parts, weights and the like are based on mass unless otherwise specified. In the present specification, the expression "X to Y" represents a range from X to Y, and the range includes X, Y.

실시예Example

이하, 본 발명을 합성예, 실시예에 의해 더욱 상세하게 설명한다. 또한, 본 발명은 이것들 합성예, 실시예에 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Synthesis Examples and Examples. The present invention is not limited to these examples and examples.

- 상기 식(1) 중의 R6이, R2a가 메틸기인 식(8)으로 나타내어지는 카르복실기를 포함하는 유기기인 다가 카르복실산(A)을, 액상의 다가 카르복실산 조성물(C)로해서 실시한 예-- The polyvalent carboxylic acid (A) in which R 6 in the formula (1) is an organic group containing a carboxyl group represented by the formula (8) wherein R 2a is a methyl group is used as a liquid polyvalent carboxylic acid composition (C) Examples -

합성예, 실시예 중의 각 물성값은 이하의 방법으로 측정했다. 여기에서 부는 특별히 기재하지 않는 한 질량부를 나타낸다.Each physical property value in Synthesis Examples and Examples was measured by the following method. Unless otherwise specified, parts denote parts by weight.

○ GPC: GPC는 하기 조건에서 측정했다.GPC: GPC was measured under the following conditions.

GPC의 각종 조건Various conditions of GPC

메이커: 워터즈Manufacturer: Waters

컬럼: SHODEX GPC LF-G(가드 컬럼), KF-603, KF-602.5, KF-602, KF-601(2개)Column: SHODEX GPC LF-G (guard column), KF-603, KF-602.5, KF-602, KF-

유속: 0.4ml/min.Flow rate: 0.4 ml / min.

컬럼 온도: 40℃Column temperature: 40 ° C

사용 용제: THF(테트라히드로푸란)Solvents used: THF (tetrahydrofuran)

검출기: RI(시차 굴절 검출기)Detector: RI (differential refraction detector)

○ 산가: 이하의 방법에 의해 측정했다.Acid value: Measured by the following method.

샘플을 약 0.15g 칭량하고, 메틸에틸케톤 20ml, 에탄올 20ml로 용해한 뒤, 쿄토덴시코교제 적정 장치 AT-610을 사용하고 0.1N의 수산화나트륨 용액을 이용하여 적정하고, 산가를 측정했다.About 0.15 g of the sample was weighed, dissolved in 20 ml of methyl ethyl ketone and 20 ml of ethanol, titrated with 0.1 N sodium hydroxide solution using a titration apparatus AT-610 manufactured by Kyoto Denshi Co., and the acid value was measured.

○ 관능기당량: 이하의 방법에 의해 측정했다.○ Functional equivalent: Measured by the following method.

다가 카르복실산 조성물을 약 0.15g 칭량하고, 메탄올(시약 특급) 40ml로 용해한 뒤, 20~28℃에서 10분간 교반하여 측정 샘플로 했다. 측정 샘플을 쿄토덴시코교제 적정 장치 AT-610을 사용하고 0.1N의 수산화나트륨 용액을 이용하여 적정하고, 산가로서 얻어진 값을 관능기당량으로서 산출했다.About 0.15 g of the polycarboxylic acid composition was weighed, dissolved in 40 ml of methanol (reagent grade), and stirred at 20 to 28 ° C for 10 minutes to obtain a measurement sample. The measurement sample was titrated using a 0.1 N sodium hydroxide solution using a titration apparatus AT-610 manufactured by Kyoto Denshi Co., and the value obtained as the acid value was calculated as the functional group equivalent.

○ DSC를 사용한 융점:○ Melting point using DSC:

JIS K7121에 기재된 방법으로 측정하여, 융해 피크의 정점을 융점으로 했다.The melting point was measured by the method described in JIS K7121, and the peak of the melting peak was defined as the melting point.

○ 점도: 토키산교가부시키가이샤제 E형 점도계(TV-20)를 사용하여, 25℃에서 측정했다.? Viscosity: Measured at 25 占 폚 using an E-type viscometer (TV-20) manufactured by Toray Industries, Ltd.

○ 열중량 감소: 시마즈세이사쿠쇼제 TG/DTA6200을 사용하여 30℃에서 20℃/min으로 승온시켜 120℃까지 가열하고, 120℃에서 60분 유지한 후의 중량 감소율을 측정했다. 측정 중, 200ml/min.으로 공기를 흐르게 했다.Reduction in thermal weight: The weight reduction rate was measured after heating to 120 deg. C at 30 deg. C / min at 30 deg. C using Shimadzu Seisakusho TG / DTA6200 and holding at 120 deg. C for 60 min. During the measurement, air was caused to flow at 200 ml / min.

실시예 1; 다가 카르복실산(A-1)의 제조Example 1; Preparation of polyvalent carboxylic acid (A-1)

유리제 500ml 세퍼러블 플라스크에, 질소 퍼지를 실시하면서 이소시아누르산 트리스(2-히드록시에틸) 26.1g, 리카시드 MH-T(시코쿠카세이코교제 4-메틸헥사히드로프탈산) 52.1g, 톨루엔 70g을 투입하고, 디무로트 냉각기, 교반 장치, 온도계를 설치하여 오일배스에 플라스크를 담갔다. 오일배스를 가열하여 내부 온도를 115℃로 유지하고, 그대로 7시간 반응시켰다.26.1 g of isocyanuric acid tris (2-hydroxyethyl), 52.1 g of ricaside MH-T (4-methylhexahydrophthalic acid manufactured by Shikoku Chemicals) and 70 g of toluene were placed in a glass 500 ml separable flask, The flask was immersed in an oil bath with a demultiplex cooler, a stirrer, and a thermometer. The oil bath was heated to maintain the internal temperature at 115 占 폚, and the reaction was continued for 7 hours.

얻어진 반응액을 100℃에서 감압 농축하고, 톨루엔을 증류 제거함으로써 하기 식(23)을 주성분으로 하는 다가 카르복실산(A-1)을 71.5g 얻었다. 얻어진 화합물의 GPC 순도(GPC 면적%)는 92%, 산가는 203.4㎎KOH/g, 외관은 백색의 고체였다. 또한, DSC를 사용한 융점(피크 정점값)은 57.0℃, 열중량 감소는 -3.4%였다. 얻어진 화합물의 GPC 차트를 도 1에 나타낸다.The resulting reaction solution was concentrated under reduced pressure at 100 占 폚, and toluene was distilled off to obtain 71.5 g of a polyvalent carboxylic acid (A-1) having the following formula (23) as a main component. The GPC purity (GPC area%) of the obtained compound was 92%, the acid value was 203.4 mgKOH / g, and the appearance was a white solid. In addition, the melting point (peak peak value) using DSC was 57.0 占 폚, and the decrease in thermogravimetry was -3.4%. A GPC chart of the obtained compound is shown in Fig.

Figure pct00027
Figure pct00027

실시예 2; 다가 카르복실산 조성물(C-1)의 제조Example 2: Preparation of polyvalent carboxylic acid composition (C-1)

유리제 500ml 세퍼러블 플라스크에, 질소 퍼지를 실시하면서 이소시아누르산 트리스(2-히드록시에틸) 26.1g, 리카시드 MH-T(시코쿠카세이코교제 4-메틸헥사히드로프탈산 무수물) 123.4g을 투입하고, 디무로트 냉각기, 교반 장치, 온도계를 설치하여 오일배스에 플라스크를 담갔다. 오일배스를 가열하여 내부 온도를 78℃로 유지하고, 그대로 4시간 반응시켰다. GPC로 이소시아누르산 트리스(2-히드록시에틸)의 피크 1면적% 이하를 확인하여, 다가 카르복실산과 카르복실산 무수물 화합물의 혼합물인 다가 카르복실산 조성물(C-1) 147g이 얻어졌다. 얻어진 혼합물은 무색 투명의 액상이며, GPC에 의한 순도는 상기 식(23)으로 나타내어지는 다가 카르복실산(A-1)이 59.5면적%, 하기 식(24)으로 나타내어지는 4-메틸헥사히드로프탈산이 1.3면적%, 4-메틸헥사히드로프탈산 무수물이 39.3면적%였다. 또한, 관능기당량은 206g/eq, 점도는 32154mPa·s, 열중량 감소는 -20.8%였다.26.1 g of isocyanuric acid tris (2-hydroxyethyl) and 123.4 g of ricardized MH-T (4-methylhexahydrophthalic anhydride of Shikoku Chemicals) were charged into a glass 500 ml separable flask while purging with nitrogen, , A Dimroth condenser, a stirrer, and a thermometer, and the flask was immersed in an oil bath. The oil bath was heated to maintain the internal temperature at 78 占 폚, and the reaction was continued for 4 hours. 1% or less of the peak of isocyanuric acid tris (2-hydroxyethyl) was confirmed by GPC to obtain 147 g of a polycarboxylic acid composition (C-1) which is a mixture of a polycarboxylic acid and a carboxylic acid anhydride compound . The obtained mixture was a colorless transparent liquid, and the purity by GPC was 59.5% by area of the polyvalent carboxylic acid (A-1) represented by the formula (23), 4-methylhexahydrophthalic acid 1.3% by area, and 4-methylhexahydrophthalic anhydride was 39.3% by area. The functional group equivalent was 206 g / eq, the viscosity was 32154 mPa · s, and the thermogravimetric reduction was -20.8%.

Figure pct00028
Figure pct00028

실시예 3; 다가 카르복실산 조성물(C-2)의 제조Example 3: Preparation of polyvalent carboxylic acid composition (C-2)

폴리프로필렌제 용기에, 실시예 2에서 얻어진 다가 카르복실산 조성물(C-1) 20g, 리카시드 MH-T(시코쿠카세이코교제 4-메틸헥사히드로프탈산) 6.67g을 투입하고, 약숟가락으로 혼합함으로써 다가 카르복실산 조성물(C-2)이 26.6g 얻어졌다. 얻어진 혼합물은 무색 투명의 액상이며, GPC에 의한 순도는 다가 카르복실산(상기 식(23)으로 나타내어지는 (A-1))이 46.2면적%, 4-메틸헥사히드로프탈산(상기 식(24))이 3.9면적%, 4-메틸헥사히드로프탈산 무수물이 49.9면적%였다. 또한, 관능기당량은 187g/eq, 점도는 24678mPa·s, 열중량 감소는 -31.7%였다.20 g of the polyvalent carboxylic acid composition (C-1) obtained in Example 2 and 6.67 g of Ricaside MH-T (4-methylhexahydrophthalic acid, manufactured by Shikoku Seiko Co., Ltd.) were put into a container made of polypropylene and mixed with about a spoon 26.6 g of the polycarboxylic acid composition (C-2) was obtained. The obtained mixture was a colorless transparent liquid phase, and the purity by GPC was 46.2% by area of a polyvalent carboxylic acid ((A-1) represented by the above formula (23)), 4-methylhexahydrophthalic acid ) Was 3.9% by area, and 4-methylhexahydrophthalic anhydride was 49.9% by area. The functional group equivalent was 187 g / eq, the viscosity was 24678 mPa · s, and the thermogravimetric reduction was -31.7%.

실시예 4; 다가 카르복실산 조성물(C-3)의 제조Example 4; Preparation of polycarboxylic acid composition (C-3)

유리제 50ml 병에, 실시예 1에서 얻어진 다가 카르복실산(A-1) 3g, 리카시드 MH-T(시코쿠카세이코교제 4-메틸헥사히드로프탈산) 7g을 투입하고, 80℃로 가온한 오븐에 넣어 가온시켰다. 2시간 후에 인출하여 약숟가락으로 잘 혼합 후, 2시간 더 가온하여 다가 카르복실산 조성물(C-3) 10g을 얻었다. 얻어진 다가 카르복실산 조성물(C-3)은 무색 투명의 액상이며, GPC에 의한 순도는 다가 카르복실산(상기 식(23)으로 나타내어지는 (A-1))이 34.3면적%, 4-메틸헥사히드로프탈산이 2.6면적%, 4-메틸헥사히드로프탈산 무수물이 63.1면적%였다. 또한, 관능기당량은 187g/eq, 점도는 1884mPa·s, 열중량 감소는 -28.2%였다.3 g of the polyvalent carboxylic acid (A-1) obtained in Example 1 and 7 g of ricaside MH-T (4-methylhexahydrophthalic acid, manufactured by Shikoku Seiko Co., Ltd.) were introduced into a glass 50 ml bottle, And warmed. The mixture was withdrawn after 2 hours, mixed well with a spoon, and then warmed for another 2 hours to obtain 10 g of the polycarboxylic acid composition (C-3). The obtained polyvalent carboxylic acid composition (C-3) was a colorless transparent liquid, and its purity by GPC was 34.3% by area in the polyvalent carboxylic acid (A-1 represented by the formula (23) Hexahydrophthalic acid was 2.6% by area and 4-methylhexahydrophthalic anhydride was 63.1% by area. The functional group equivalent was 187 g / eq, the viscosity was 1884 mPa · s, and the thermogravimetric reduction was -28.2%.

비교예 1; 이소시아누르산 골격을 갖는 다가 카르복실산의 카르복실산 무수물 화합물에의 용해 시험Comparative Example 1; Dissolution test of polycarboxylic acid having isocyanuric acid skeleton to carboxylic acid anhydride compound

유리제 50ml 병에, 하기 식(25)으로 나타내어지는 이소시아누르산 트리스(3-카르복시프로필) 3g, 리카시드 MH-T(시코쿠카세이코교제 4-메틸헥사히드로프탈산) 7g을 투입하고, 80℃로 가온한 오븐에 넣어 가온시켰다. 2시간 후에 인출하여 약숟가락으로 잘 혼합 후, 유리병에 회전자를 넣고 90℃로 가온한 마그네틱 스터러 상에서 5시간 교반하면서 가온했지만, 이소시아누르산 트리스(3-카르복시프로필)은 리카시드 MH-T에는 용해되지 않았다. 교반을 멈추고 실온(25℃) 환경 하에서 15시간 후에 확인한 결과, 이소시아누르산 트리스(3-카르복시프로필)이 침전되어 있었다.3 g of isocyanuric acid tris (3-carboxypropyl) represented by the following formula (25) and 7 g of ricaside MH-T (4-methylhexahydrophthalic acid manufactured by Shikoku Seiko Co., Ltd.) were added to a glass 50 ml bottle, In a heated oven. After 2 hours, the mixture was withdrawn and mixed well with a spoon. The mixture was heated in a magnetic stirrer heated to 90 DEG C with stirring for 5 hours, but isocyanuric acid tris (3-carboxypropyl) -T did not dissolve. Stirring was stopped, and after 15 hours at room temperature (25 캜), it was confirmed that isocyanuric acid tris (3-carboxypropyl) had precipitated.

Figure pct00029
Figure pct00029

(평가 시험)(Evaluation test)

실시예 1에서 얻어진 다가 카르복실산, 실시예 2~4, 비교예 1에서 얻어진 다가 카르복실산 조성물, 비교예 A로서 4-메틸헥사히드로프탈산 무수물(신닛폰리카사제, 리카시드 MH-T)의 각 성분의 함유량, 산가 또는 관능기당량, 점도, 열중량 감소의 측정 결과를 표 1에 정리했다.4-methylhexahydrophthalic anhydride (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., Riccad MH-T) as the polyvalent carboxylic acid obtained in Example 1, the polyvalent carboxylic acid composition obtained in Examples 2 to 4 and Comparative Example 1, , The acid value, the functional group equivalent, the viscosity and the thermogravimetric reduction of the respective components are summarized in Table 1.

Figure pct00030
Figure pct00030

* GPC 차트의 면적%의 데이터인 것을 나타낸다.* Indicates that the data is area% of the GPC chart.

표 1의 결과로부터 분명한 바와 같이, 다가 카르복실산(A-1) 및 다가 카르복실산(A-1)을 함유하는 다가 카르복실산 조성물(C-1~C-3)은 가열시의 중량 감소가 적은 것에 대해, 비교예 A의 4-메틸헥사히드로프탈산 무수물은 중량 감소가 크다. 또한, 비교예 1은 백탁 액체로 되어 방치함으로써 침전이 확인되었지만, 다가 카르복실산 조성물(C-1~C-3)은 무색 투명 액체이기 때문에, 특히 액상으로 사용되는 것이 요구되는 용도에서의 사용에 적합하다.As is apparent from the results in Table 1, the polyvalent carboxylic acid compositions (C-1 to C-3) containing the polyvalent carboxylic acid (A-1) and the polyvalent carboxylic acid (A- The amount of 4-methylhexahydrophthalic anhydride of Comparative Example A was reduced by a large amount. In Comparative Example 1, precipitation was confirmed by standing as a clouding liquid. However, since the polyvalent carboxylic acid compositions (C-1 to C-3) are colorless and transparent liquids, Lt; / RTI >

실시예 5; 에폭시 수지 조성물의 조제Example 5; Preparation of epoxy resin composition

실시예 2에서 얻어진 다가 카르복실산 조성물(C-1), 에폭시 수지로서 3',4'-에폭시시클로헥실메틸3,4-에폭시시클로헥산카르복실레이트((주)다이셀제, CEL2021P), 경화 촉진제로서 옥틸산 아연을 하기 표 2에 기재된 양비로 폴리프로필렌제 용기에 넣고, 혼합, 5분간 탈포를 행하여 본 발명의 에폭시 수지 조성물을 얻었다.(3), 4'-epoxycyclohexylmethyl 3,4-epoxycyclohexanecarboxylate (Daicel Co., Ltd., CEL2021P) as the epoxy resin, and the polyvalent carboxylic acid composition (C- As a promoter, zinc octylate was placed in a polypropylene container in the proportions shown in Table 2 below, mixed and defoamed for 5 minutes to obtain an epoxy resin composition of the present invention.

실시예 6; 에폭시 수지 조성물의 조제Example 6; Preparation of epoxy resin composition

실시예 5의 다가 카르복실산 조성물(C-1)을 실시예 3에서 얻어진 다가 카르복실산 조성물(C-2)로 변경한 것 이외에는, 실시예 5와 마찬가지로 행하여 본 발명의 에폭시 수지 조성물을 얻었다.An epoxy resin composition of the present invention was obtained in the same manner as in Example 5 except that the polyvalent carboxylic acid composition (C-1) of Example 5 was changed to the polyvalent carboxylic acid composition (C-2) obtained in Example 3 .

실시예 7; 에폭시 수지 조성물의 조제Example 7; Preparation of epoxy resin composition

실시예 5의 옥틸산 아연을 제 4급 포스포늄브로마이드염의 경화 촉진제 U-CAT5003(산아프로제)로 변경한 것 이외에는, 실시예 5와 마찬가지로 행하여 본 발명의 에폭시 수지 조성물을 얻었다.The epoxy resin composition of the present invention was obtained in the same manner as in Example 5 except that zinc octylate in Example 5 was changed to a curing accelerator U-CAT5003 (manufactured by San Jae Pro) of a quaternary phosphonium bromide salt.

실시예 8; 에폭시 수지 조성물의 조제Example 8; Preparation of epoxy resin composition

실시예 5의 다가 카르복실산 조성물(C-1)을 실시예 3에서 얻어진 다가 카르복실산 조성물(C-2)로 변경하고, 옥틸산 아연을 제 4급 포스포늄브로마이드염의 경화 촉진제 U-CAT5003(산아프로사제)로 변경한 것 이외에는, 실시예 5와 마찬가지로 행하여 본 발명의 에폭시 수지 조성물을 얻었다.The polyvalent carboxylic acid composition (C-1) of Example 5 was changed to the polyvalent carboxylic acid composition (C-2) obtained in Example 3, and zinc octylate was added to the curing accelerator U-CAT5003 of quaternary phosphonium bromide salt (Manufactured by SAN-PRO), the procedure of Example 5 was repeated to obtain an epoxy resin composition of the present invention.

비교예 2; 에폭시 수지 조성물의 조제Comparative Example 2; Preparation of epoxy resin composition

에폭시 수지 경화제로서 리카시드 MH-T(신닛폰리카사제, 4-메틸헥사히드로프탈산 무수물), 에폭시 수지로서 3',4'-에폭시시클로헥실메틸 3,4-에폭시시클로헥산카르복실레이트((주)다이셀제, CEL2021P), 경화 촉진제로서 옥틸산 아연을 하기 표 2에 기재된 양비로 폴리프로필렌제 용기에 넣고, 혼합, 5분간 탈포를 행하여 비교예의 에폭시 수지 조성물을 얻었다.(4-methylhexahydrophthalic anhydride, manufactured by Shin-Nippon Rikagaku Co., Ltd.) as an epoxy resin curing agent, 3 parts by weight of 3 ', 4'-epoxycyclohexylmethyl 3,4-epoxycyclohexanecarboxylate ), CEL2021P) and zinc octylate as a curing accelerator were placed in a container made of polypropylene in the proportions shown in Table 2 below, followed by mixing and defoaming for 5 minutes to obtain an epoxy resin composition of a comparative example.

비교예 3; 에폭시 수지 조성물의 조제Comparative Example 3; Preparation of epoxy resin composition

비교예 3의 옥틸산 아연을 제 4급 포스포늄브로마이드염의 경화 촉진제 U-CAT5003(산아프로사제)으로 변경한 것 이외에는, 비교예 2와 마찬가지로 행하여 비교예의 에폭시 수지 조성물을 얻었다.An epoxy resin composition of a comparative example was obtained in the same manner as in Comparative Example 2 except that zinc octylate of Comparative Example 3 was changed to a curing accelerator U-CAT5003 (manufactured by San Aro Co.) of a quaternary phosphonium bromide salt.

실시예 5~8, 비교예 2, 3에서 얻어진 에폭시 수지 조성물의 배합비와 그 점도, 경화시의 중량 감소, 경화물 투과율, 경화물의 경도, 금 와이어 노출 유무의 결과를 표 2에 나타낸다. 표 2에 있어서의 시험은 이하와 같이 행하였다.Table 2 shows the mixing ratios of the epoxy resin compositions obtained in Examples 5 to 8 and Comparative Examples 2 and 3, the viscosity thereof, the weight loss at the time of curing, the cured product permeability, the hardness of the cured product, The tests in Table 2 were carried out as follows.

(1) 점도(1) Viscosity

토키산교가부시키가이샤제 E형 점도계(TV-20)를 사용하여, 25℃에서 측정했다.The measurement was carried out at 25 캜 using an E-type viscometer (TV-20) manufactured by Toki Sangyo Corporation.

(2) 경화시의 중량 감소(2) Weight reduction during curing

실시예 5~8, 비교예 2, 3에서 얻어진 에폭시 수지 조성물을 진공 탈포 5분간 실시 후, 미리 질량을 칭량해 둔 30㎜×20㎜×높이 0.8㎜가 되도록 내열 테이프로 댐을 작성한 유리 기판 상에 조용히 주형하고, 주형 후의 질량을 칭량했다. 그 주형물을 120℃×1시간의 예비 경화 후 150℃×3시간으로 경화시키고, 경화 후의 질량을 칭량하여 경화시의 중량 감소율을 산출했다.After the epoxy resin composition obtained in Examples 5 to 8 and Comparative Examples 2 and 3 was subjected to vacuum degassing for 5 minutes, a glass substrate on which a dam was formed with a heat-resistant tape so as to have a mass of 30 mm x 20 mm x height of 0.8 mm And the mass after the mold was weighed. The preform was pre-cured at 120 ° C for 1 hour and then cured at 150 ° C for 3 hours. The weight after curing was weighed to calculate the weight reduction rate at the time of curing.

(3) 경화물 투과율(3) Cured product permeability

실시예 5~8, 비교예 2, 3에서 얻어진 에폭시 수지 조성물을 진공 탈포 5분간 실시 후, 30㎜×20㎜×높이 0.8㎜가 되도록 내열 테이프로 댐을 작성한 유리 기판 상에 조용히 주형했다. 그 주형물을 120℃×1시간의 예비 경화 후, 150℃×3시간으로 경화시켜서 두께 0.8㎜의 투과율용 시험편을 얻었다. 얻어진 시험편을 유리 기판으로부터 인출하여, 하기 조건에서 400㎚의 광선 투과율을 측정했다.The epoxy resin compositions obtained in Examples 5 to 8 and Comparative Examples 2 and 3 were subjected to vacuum degassing for 5 minutes and then gently cast on a glass substrate on which a dam was formed with heat resistant tape so as to have a size of 30 mm x 20 mm x height 0.8 mm. The preform was pre-cured at 120 ° C for 1 hour and then cured at 150 ° C for 3 hours to obtain a test piece for transmittance having a thickness of 0.8 mm. The obtained test piece was taken out from the glass substrate, and the light transmittance at 400 nm was measured under the following conditions.

<분광광계 측정 조건>&Lt; Spectrophotometer measurement conditions >

메이커: 가부시키가이샤 히타치 하이테크놀로지스Manufacturer: Hitachi High-Technologies Corporation

기종: U-3300Model: U-3300

슬릿폭: 2.0㎚Slit width: 2.0 nm

스캔 속도: 120㎚/분Scan speed: 120 nm / min

(4) 경화물 경도(4) Cured hardness

JIS K6253에 기재된 방법으로 듀로미터 경도를 측정했다.The durometer hardness was measured by the method described in JIS K6253.

(5) 금 와이어의 노출(5) Exposure of gold wire

실시예 5~8, 비교예 2, 3에서 얻어진 에폭시 수지 조성물을 진공 탈포 5분간 실시 후, 시린지에 충전하고 정밀 토출 장치를 사용해서 발광 파장 450㎚를 갖는 발광 소자를, 금 와이어를 사용하여 이루어지는 표면 실장형 LED(2.3㎜×0.4㎜의 개구부, 0.4㎜의 깊이를 갖고, 금 와이어의 최상부는 개구부로부터 0.1㎜의 위치에 존재함)에 개구부가 평면이 되도록 주형했다. 120℃×1시간의 예비 경화 후 150℃×3시간으로 경화시켜서 표면 실장형 LED를 밀봉했다. 이와 같이 밀봉한 후의 경화제의 휘발에 따른 금 와이어의 노출(금 와이어의 상단이 경화물 최상면보다 상부에 있고, 완전히 밀봉되어 있지 않은 상태)의 유무를 육안으로 평가했다. 표 중, A; 금 와이어가 노출되어 있지 않음, B; 금 와이어가 노출되어 있는 것을 나타낸다.The epoxy resin compositions obtained in Examples 5 to 8 and Comparative Examples 2 and 3 were subjected to vacuum degassing for 5 minutes, then filled in a syringe, and a light emitting element having an emission wavelength of 450 nm was formed using a precision ejection apparatus, The mold was molded so that the openings were flat on the surface mount type LED (openings of 2.3 mm x 0.4 mm, depth of 0.4 mm, and uppermost portions of the gold wires were located at positions 0.1 mm from the openings). Preliminarily cured at 120 ° C for 1 hour, and then cured at 150 ° C for 3 hours to seal the surface mount type LED. The presence or absence of the exposure of the gold wire due to the volatilization of the curing agent after the sealing (the upper end of the gold wire was located above the uppermost surface of the cured product and the wire was not completely sealed) was visually evaluated. In the table, A; Gold wire is not exposed, B; It indicates that the gold wire is exposed.

Figure pct00031
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* 경화물이 물러 깨져 버렸기 때문에, 유리 기판으로부터 인출할 수 없었다.* Since the cured product was shattered, it could not be drawn out from the glass substrate.

표 2의 결과로부터 분명한 바와 같이, 실시예 5~8의 조성물은 LED 밀봉재로서 사용하기에는 적당한 점도이며, 경화시의 열중량 감소도 적어 작업성이 뛰어나다. 또한, 그들 경화물은 높은 경화물 투과율, 경도를 갖고, 그것들로 밀봉한 표면 실장형 LED의 금 와이어의 노출이 없었던 것에 대해, 4-메틸헥사히드로프탈산 무수물만으로 경화한 비교예 2, 3은 경화시의 중량 감소가 현저하고, 금 와이어의 노출이 확인되었다. 이상의 점으로부터, 본 발명의 다가 카르복실산 조성물을 사용한 에폭시 수지 조성물은, 특히 광반도체 밀봉용 경화성 수지 조성물로서 바람직하다.As is clear from the results in Table 2, the compositions of Examples 5 to 8 are suitable for use as an LED sealing material, and exhibit excellent workability due to a reduction in thermal weight at the time of curing. In addition, although the cured products had a high cured product permeability and hardness and no gold wire of the surface mount type LED sealed with them was exposed, Comparative Examples 2 and 3, which were cured with only 4-methylhexahydrophthalic anhydride, The weight loss of the hour was remarkable, and the gold wire was exposed. From the above, the epoxy resin composition using the polyvalent carboxylic acid composition of the present invention is particularly preferable as the curable resin composition for optical semiconductor encapsulation.

- 상기 식(1) 중의 R6이, R2b가 에틸렌기 및 프로필렌기인 식(9)으로 나타내어지는 카르복실기를 포함하는 유기기인 다가 카르복실산(A)을, 액상의 다가 카르복실산 조성물(C)로 해서 실시한 예 -Wherein the formula (1) R 6 a, R 2b is an ethylene group and a propylene group formula (9) indicated an organic group polyvalent carboxylic acid (A) a polyvalent carboxylic acid composition in a liquid comprising a carboxyl group that is in of the (C ) Example -

합성예, 실시예 중의 GPC, 산가, 관능기당량, 점도, 열중량 감소는 상기와 같은 방법으로 측정했다. 여기에서, 부는 특별히 기재하지 않는 한 질량부를 나타낸다.GPC, acid value, functional group equivalent, viscosity, and thermal weight loss in the examples of synthesis and examples were measured by the same method as described above. Unless otherwise specified, parts denote parts by weight.

실시예 9; 다가 카르복실산(A-2)의 제조Example 9; Preparation of polyvalent carboxylic acid (A-2)

유리제 500ml 세퍼러블 플라스크에, 질소 퍼지를 실시하면서 이소시아누르산 트리스(2-히드록시에틸) 26.1g, 무수 숙신산 31.0g, 메틸이소부틸케톤 100g을 투입하고, 디무로트 냉각기, 교반 장치, 온도계를 설치하여 오일배스에 플라스크를 담갔다. 오일배스를 가열하고, 내부 온도를 80℃로 유지하여 그대로 62시간 반응시켰다.26.1 g of isocyanuric acid tris (2-hydroxyethyl), 31.0 g of anhydrous succinic acid, and 100 g of methyl isobutyl ketone were charged into a glass 500 ml separable flask while purging with nitrogen, and a dimer cooler, a stirrer, a thermometer And settled the flask in the oil bath. The oil bath was heated, and the internal temperature was maintained at 80 DEG C, and the reaction was continued for 62 hours.

얻어진 반응액을 100℃에서 감압 농축하고, 메틸이소부틸케톤을 증류 제거함으로써 하기 식(26)을 주성분으로 하는 다가 카르복실산(A-2)을 67.8g 얻었다. 얻어진 화합물의 GPC 면적%는 식(26)으로 나타내어지는 화합물이 90.0%, 식(26)으로 나타내어지는 화합물의 다량체가 2.1%, 식(27)으로 나타내어지는 화합물이 4.6%, 무수 숙신산이 0.8%, 숙신산이 2.6%였다. A-2의 산가는 218.1㎎KOH/g, 외관은 담황색 투명 액체였다. 또한, 열중량 감소는 -0.6%였다. 얻어진 A-2의 GPC 차트를 도 2에 나타낸다.The obtained reaction solution was concentrated under reduced pressure at 100 占 폚 and methyl isobutyl ketone was distilled off to obtain 67.8 g of a polyvalent carboxylic acid (A-2) having the following formula (26) as a main component. The GPC area% of the obtained compound was 90.0% for the compound represented by the formula (26), 2.1% for the multimer of the compound represented by the formula (26), 4.6% for the compound represented by the formula (27) , And succinic acid was 2.6%. The acid value of A-2 was 218.1 mg KOH / g and the appearance was a pale yellow transparent liquid. In addition, the thermogravimetric reduction was -0.6%. A GPC chart of the obtained A-2 is shown in Fig.

Figure pct00032
Figure pct00032

실시예 10; 다가 카르복실산(A-3)의 제조Example 10; Preparation of polyvalent carboxylic acid (A-3)

유리제 500ml 세퍼러블 플라스크에, 질소 퍼지를 실시하면서 이소시아누르산 트리스(2-히드록시에틸) 26.1g, 무수 글루타르산 35.5g, 톨루엔 100g을 투입하고, 디무로트 냉각기, 교반 장치, 온도계를 설치하여 오일배스에 플라스크를 담갔다. 오일배스를 가열하고, 내부 온도를 90℃로 유지하여 그대로 32.5시간 반응시켰다.26.1 g of isocyanuric acid tris (2-hydroxyethyl), 35.5 g of anhydrous glutaric acid, and 100 g of toluene were charged into a glass 500 ml separable flask while purging with nitrogen, and a dimer cooler, stirrer, thermometer And soaked the flask in an oil bath. The oil bath was heated, and the internal temperature was maintained at 90 占 폚, and the reaction was continued for 32.5 hours.

얻어진 반응액을 100℃에서 감압 농축하고, 톨루엔을 증류 제거함으로써 하기 식(28)을 주성분으로 하는 다가 카르복실산(A-3)을 56.7g 얻었다. 얻어진 화합물의 GPC 면적%는 식(28)으로 나타내어지는 화합물이 73.5%, 식(28)으로 나타내어지는 화합물의 다량체가 20.9%, 무수 글루타르산이 4.3%, 글루타르산이 1.3%였다. A-3의 산가는 285.6㎎KOH/g, 외관은 담황색 투명 액체였다. 또한, 열중량 감소는 -0.7%였다. 얻어진 A-3의 GPC 차트를 도 3에 나타낸다.The obtained reaction solution was concentrated under reduced pressure at 100 占 폚, and toluene was distilled off to obtain 56.7 g of a polyvalent carboxylic acid (A-3) having the following formula (28) as a main component. The GPC area% of the obtained compound was 73.5% for the compound represented by the formula (28), 20.9% for the multimer of the compound represented by the formula (28), 4.3% for the anhydroglutaric acid and 1.3% for the glutaric acid. The acid value of A-3 was 285.6 mgKOH / g and the appearance was a pale yellow transparent liquid. In addition, the thermogravimetric reduction was -0.7%. A GPC chart of the obtained A-3 is shown in Fig.

Figure pct00033
Figure pct00033

실시예 11; 다가 카르복실산 조성물(C-3)의 제조Example 11; Preparation of polycarboxylic acid composition (C-3)

유리제 50ml 병에, 실시예 9에서 얻어진 다가 카르복실산(A-2) 5g, 리카시드 MH-T(시코쿠카세이코교제 4-메틸헥사히드로 무수 프탈산) 5g을 투입하고, 80℃로 가온한 오븐에 넣어 가온시켰다. 2시간 후에 인출하여 약숟가락으로 잘 혼합 후, 2시간 더 가온시켜 다가 카르복실산 조성물(C-3) 10g을 얻었다. 얻어진 다가 카르복실산 조성물(C-3)은 무색 투명의 액상이며, 얻어진 다가 카르복실산 조성물(C-3)의 GPC 면적%는 식(26)으로 나타내어지는 화합물이 48.8%, 식(26)으로 나타내어지는 화합물의 다량체가 1.3%, 식(27)으로 나타내어지는 화합물이 0.3%, 무수 숙신산이 1.4%, 4-메틸헥사히드로 무수 프탈산 48.2%였다. C-3의 관능기당량은 278㎎KOH/g, 점도는 6216mPa·s, 열중량 감소는 -19.9%였다.5 g of the polyvalent carboxylic acid (A-2) obtained in Example 9 and 5 g of ricardized MH-T (4-methylhexahydrophthalic anhydride in the product of Shikoku) were added to a glass bottle of 50 ml, Lt; / RTI &gt; The mixture was withdrawn after 2 hours, mixed well with a spoon, and then heated for another 2 hours to obtain 10 g of a polycarboxylic acid composition (C-3). The obtained polyvalent carboxylic acid composition (C-3) was a colorless transparent liquid. The GPC area% of the obtained polyvalent carboxylic acid composition (C-3) was 48.8% Was 1.3%, the compound represented by the formula (27) was 0.3%, the anhydrous succinic acid was 1.4%, and the 4-methylhexahydrophthalic anhydride was 48.2%. The functional group equivalent of C-3 was 278 mgKOH / g, the viscosity was 6216 mPa · s, and the thermogravimetric reduction was -19.9%.

실시예 12; 다가 카르복실산 조성물(C-4)의 제조Example 12; Production of polyvalent carboxylic acid composition (C-4)

유리제 50ml 병에, 실시예 10에서 얻어진 다가 카르복실산(A-3) 5g, 리카시드 MH-T(시코쿠카세이코교제 4-메틸헥사히드로 무수 프탈산) 5g을 투입하고, 80℃로 가온한 오븐에 넣어 가온시켰다. 2시간 후에 인출하여 약숟가락으로 잘 혼합 후, 2시간 더 가온시켜 다가 카르복실산 조성물(C-4) 10g을 얻었다. 얻어진 다가 카르복실산 조성물(C-4)은 무색 투명의 액상이며, 얻어진 다가 카르복실산 조성물(C-4)의 GPC 면적%는 식(28)으로 나타내어지는 화합물이 40.6%, 식(28)으로 나타내어지는 화합물의 다량체가 11.5%, 무수 글루타르산이 3.7%, 글루타르산이 0.7%, 4-메틸헥사히드로 무수 프탈산 43.5%였다. C-4의 관능기당량은 308㎎KOH/g, 점도는 5356mPa·s, 열중량 감소는 -24.7%였다.5 g of the polyvalent carboxylic acid (A-3) obtained in Example 10 and 5 g of ricaside MH-T (4-methylhexahydrophthalic anhydride, manufactured by Shikoku Chemicals Co., Ltd.) were fed into a glass 50 ml bottle, Lt; / RTI &gt; The mixture was withdrawn after 2 hours, mixed well with a spoon, and then heated for another 2 hours to obtain 10 g of a polycarboxylic acid composition (C-4). The obtained polyvalent carboxylic acid composition (C-4) was a colorless transparent liquid. The GPC area% of the obtained polyvalent carboxylic acid composition (C-4) was 40.6% Was 11.5%, the anhydroglutaric acid was 3.7%, the glutaric acid was 0.7%, and the 4-methylhexahydrophthalic anhydride was 43.5%. The functional group equivalent of C-4 was 308 mgKOH / g, the viscosity was 5356 mPa · s, and the thermogravimetric reduction was -24.7%.

비교예 4; 이소시아누르산 골격을 갖는 다가 카르복실산의 카르복실산 무수물 화합물으로의 용해 시험Comparative Example 4; Dissolution Test of Polyvalent Carboxylic Acid Having Isocyanuric Acid Structure with Carboxylic Anhydride Compound

유리제 50ml 병에, 상기 식(25)으로 나타내어지는 이소시아누르산 트리스(3-카르복시프로필) 3g, 리카시드 MH-T(시코쿠카세이코교제 4-메틸헥사히드로프탈산) 7g을 투입하고, 80℃로 가온한 오븐에 넣어 가온시켰다. 2시간 후에 인출하여 약숟가락으로 잘 혼합 후, 유리병에 회전자를 넣어 90℃로 가온한 마그네틱 스터러 상에서 5시간 교반하면서 가온했지만, 이소시아누르산 트리스(3-카르복시프로필)은 리카시드 MH-T에는 용해되지 않았다. 교반을 멈추고 실온(25℃) 환경 하에서 15시간 후에 확인한 결과, 이소시아누르산 트리스(3-카르복시프로필)이 침전되어 있었다.3 g of isocyanuric acid tris (3-carboxypropyl) represented by the above formula (25) and 7 g of ricaside MH-T (4-methylhexahydrophthalic acid manufactured by Shikoku Seiko Co., Ltd.) were added to a glass bottle of 50 ml, In a heated oven. After 2 hours, the mixture was withdrawn and mixed well with a spoon. The mixture was warmed with stirring on a magnetic stirrer heated to 90 DEG C for 5 hours with a rotator placed in a glass bottle, but isocyanuric acid tris (3-carboxypropyl) -T did not dissolve. Stirring was stopped, and after 15 hours at room temperature (25 캜), it was confirmed that isocyanuric acid tris (3-carboxypropyl) had precipitated.

(평가 시험)(Evaluation test)

실시예 9, 10에서 얻어진 다가 카르복실산, 실시예 11, 12, 비교예 4에서 얻어진 다가 카르복실산 조성물, 비교예 B로서 4-메틸헥사히드로프탈산 무수물(신닛폰리카사제, 리카시드 MH-T)의 각 성분의 함유량, 산가 또는 관능기당량, 점도, 열중량 감소의 측정 결과를 표 3에 정리했다.The polyvalent carboxylic acid compositions obtained in Examples 9 and 10, the polyvalent carboxylic acid compositions obtained in Examples 11 and 12 and Comparative Example 4, and 4-methylhexahydrophthalic anhydride (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., Rikasid MH- T, the acid value, the functional group equivalent, the viscosity and the thermogravimetric reduction of the respective components are summarized in Table 3.

Figure pct00034
Figure pct00034

* A-2, A-3은 고점조의 액체이기 때문에, 25℃에서의 점도는 측정할 수 없었다.* Viscosity at 25 ° C could not be measured because A-2 and A-3 are liquids of a high viscosity.

실시예 9~12의 성분 함유량은 GPC의 면적%의 데이터를 나타낸다.The content of components in Examples 9 to 12 represents data on the area% of GPC.

표 3의 결과로부터 분명한 바와 같이, 다가 카르복실산 A-2, A-3 및 다가 카르복실산 A-2, A-3을 각각 함유하는 다가 카르복실산 조성물 C-3, C-4는 가열시의 중량 감소가 적은 것에 대해, 비교예 B의 4-메틸헥사히드로프탈산 무수물은 중량 감소가 크다. 또한, 비교예 4는 백탁 액체로 되어 방치함으로써 침전이 확인되었지만, 다가 카르복실산 조성물 C-3, C-4 및 다가 카르복실산 A-2, A-3은 무색 투명 액체이기 때문에, 특히 액상으로 사용되는 것이 요구되는 용도에서의 사용에 적합하다.As is clear from the results in Table 3, the polyvalent carboxylic acid compositions C-3 and C-4 each containing the polyvalent carboxylic acids A-2 and A-3 and the polyvalent carboxylic acids A- The weight loss of the 4-methylhexahydrophthalic anhydride of Comparative Example B was large, while the weight loss of the sample was small. The polyvalent carboxylic acid compositions C-3 and C-4 and the polyvalent carboxylic acids A-2 and A-3 were colorless and transparent liquids, It is suitable for use in applications where it is required to be used as a catalyst.

실시예 13; 에폭시 수지 조성물의 조제Example 13; Preparation of epoxy resin composition

실시예 9에서 얻어진 다가 카르복실산(A-2), 에폭시 수지로서 3',4'-에폭시시클로헥실메틸-3,4-에폭시시클로헥산카르복실레이트((주)다이셀제, CEL2021P), 경화 촉진제로서 옥틸산 아연을 하기 표 4에 기재된 양비로 폴리프로필렌제 용기에 넣고, 혼합, 5분간 탈포를 행하여 본 발명의 에폭시 수지 조성물을 얻었다.(A-2) obtained in Example 9, 3 ', 4'-epoxycyclohexylmethyl-3,4-epoxycyclohexanecarboxylate (Daicel, CEL2021P) as the epoxy resin, As a promoter, zinc octylate was placed in a polypropylene vessel in the proportions shown in Table 4 below, mixed and defoamed for 5 minutes to obtain an epoxy resin composition of the present invention.

실시예 14; 에폭시 수지 조성물의 조제Example 14; Preparation of epoxy resin composition

실시예 9의 다가 카르복실산(A-2)을 실시예 11에서 얻어진 다가 카르복실산 조성물(C-3)로 변경한 것 이외에는, 실시예 13과 마찬가지로 행하여 본 발명의 에폭시 수지 조성물을 얻었다.An epoxy resin composition of the present invention was obtained in the same manner as in Example 13 except that the polyvalent carboxylic acid (A-2) of Example 9 was changed to the polyvalent carboxylic acid composition (C-3) obtained in Example 11.

실시예 15; 에폭시 수지 조성물의 조제Example 15; Preparation of epoxy resin composition

실시예 13의 다가 카르복실산(A-2)을 실시예 2에서 얻어진 다가 카르복실산(A-3)으로 변경한 것 이외에는, 실시예 13과 마찬가지로 행하여 본 발명의 에폭시 수지 조성물을 얻었다.An epoxy resin composition of the present invention was obtained in the same manner as in Example 13 except that the polyvalent carboxylic acid (A-2) of Example 13 was changed to the polyvalent carboxylic acid (A-3) obtained in Example 2.

실시예 16; 에폭시 수지 조성물의 조제Example 16; Preparation of epoxy resin composition

실시예 13의 다가 카르복실산(A-1)을 실시예 12에서 얻어진 다가 카르복실산 조성물(C-4)로 변경한 것 이외에는, 실시예 13과 마찬가지로 행하여 본 발명의 에폭시 수지 조성물을 얻었다.An epoxy resin composition of the present invention was obtained in the same manner as in Example 13 except that the polyvalent carboxylic acid (A-1) of Example 13 was changed to the polyvalent carboxylic acid composition (C-4) obtained in Example 12.

비교예 5; 에폭시 수지 조성물의 조제Comparative Example 5; Preparation of epoxy resin composition

에폭시 수지 경화제로서 리카시드 MH-T(신닛폰리카사제, 4-메틸헥사히드로프탈산 무수물), 에폭시 수지로서 3',4'-에폭시시클로헥실메틸 3,4-에폭시시클로헥산카르복실레이트((주)다이셀제, CEL2021P), 경화 촉진제로서 옥틸산 아연을 하기 표 4에 기재된 양비로 폴리프로필렌제 용기에 넣고, 혼합, 5분간 탈포를 행하여 비교예의 에폭시 수지 조성물을 얻었다.(4-methylhexahydrophthalic anhydride, manufactured by Shin-Nippon Rikagaku Co., Ltd.) as an epoxy resin curing agent, 3 parts by weight of 3 ', 4'-epoxycyclohexylmethyl 3,4-epoxycyclohexanecarboxylate ), CEL2021P), and zinc octylate as a curing accelerator were charged into a container made of polypropylene in the proportions shown in Table 4, followed by mixing and defoaming for 5 minutes to obtain an epoxy resin composition of a comparative example.

비교예 6; 에폭시 수지 조성물의 조제Comparative Example 6; Preparation of epoxy resin composition

비교예 5의 옥틸산 아연을 제 4급 포스포늄브로마이드염의 경화 촉진제 U-CAT5003(산아프로사제)으로 변경한 것 이외에는, 비교예 5와 마찬가지로 행하여 비교예의 에폭시 수지 조성물을 얻었다.The epoxy resin composition of Comparative Example 5 was obtained in the same manner as in Comparative Example 5, except that zinc octylate of Comparative Example 5 was changed to a curing accelerator U-CAT5003 (manufactured by San A Co.) of quaternary phosphonium bromide salt.

실시예 13~16, 비교예 5, 6에서 얻어진 에폭시 수지 조성물의 배합비와 그 점도, 경화시의 중량 감소, 경화물 투과율, 경화물의 경도, 금 와이어 노출의 유무의 결과를 표 4에 나타낸다. 표 4에 있어서의 시험은 상기와 마찬가지로 행하였다.Table 4 shows the compounding ratios of the epoxy resin compositions obtained in Examples 13 to 16 and Comparative Examples 5 and 6, the viscosity thereof, the weight loss upon curing, the cured product permeability, the hardness of the cured product, The tests in Table 4 were carried out in the same manner as described above.

Figure pct00035
Figure pct00035

* 경화물이 물러 깨져 버렸기 때문에, 유리 기판으로부터 인출할 수 없었다.* Since the cured product was shattered, it could not be drawn out from the glass substrate.

표 4의 결과로부터 분명한 바와 같이, 실시예 13~16의 조성물은 LED 밀봉재로서 사용하기에는 적당한 점도이며, 경화시의 열중량 감소도 적어 작업성이 뛰어나다. 또한, 그것들 경화물은 높은 경화물 투과율, 경도를 갖고, 그것들로 밀봉한 표면 실장형 LED의 금 와이어의 노출이 없었던 것에 대해, 4-메틸헥사히드로프탈산 무수물만으로 경화한 비교예 5, 6은 경화시의 중량 감소가 현저하고, 금 와이어의 노출이 확인되었다. 이상의 것으로부터, 본 발명의 다가 카르복실산 조성물을 사용한 에폭시 수지 조성물은, 특히 광반도체 밀봉용 경화성 수지 조성물로서 바람직하다.As is clear from the results in Table 4, the compositions of Examples 13 to 16 are suitable for use as an LED sealing material, and have excellent workability because of a reduced weight loss upon curing. In addition, although the cured products thereof had a high cured product permeability and hardness, and no gold wire of the surface mount type LED sealed with them was exposed, Comparative Examples 5 and 6, which were cured with only 4-methylhexahydrophthalic anhydride, The weight loss of the hour was remarkable, and the gold wire was exposed. From the above, the epoxy resin composition using the polyvalent carboxylic acid composition of the present invention is particularly preferable as the curable resin composition for optical semiconductor encapsulation.

- 상기 식(1) 중의 R6이, R2a가 메틸기 또는 카르복실기인 식(8)으로 나타내어지는 카르복실기를 포함하는 유기기인 다가 카르복실산(A)을, 고형의 열경화성 수지 조성물로 해서 실시한 예 -- Examples in which R 6 in the formula (1) is a solid thermosetting resin composition which is a polyvalent carboxylic acid (A) which is an organic group containing a carboxyl group represented by the formula (8) in which R 2a is a methyl group or a carboxyl group.

합성예에 있어서, 겔 퍼미에이션 크로마토그래피(이하, 「GPC」라고 함), ICI 점도, 연화점의 각 측정은 이하와 같이 행하였다.In the synthesis examples, gel permeation chromatography (hereinafter referred to as &quot; GPC &quot;), ICI viscosity and softening point were measured as follows.

1) GPC1) GPC

컬럼은 Shodex SYSTEM-21 컬럼(KF-803L, KF-802.5(×2개), KF-802), 연결 용리액은 테트라히드로푸란, 유속은 1ml/min. 컬럼 온도는 40℃, 또한 검출은 RI(Reflective index)로 행하고, 검량선은 Shodex제 표준 폴리스티렌을 사용했다. 또한, 관능기당량은 GPC로부터 산출한 비율로 산출하고, 카르복실산, 산 무수물을 각각 1당량으로 해서 값을 구했다.The column was a Shodex SYSTEM-21 column (KF-803L, KF-802.5 (× 2), KF-802), the eluent was tetrahydrofuran and the flow rate was 1 ml / min. The column temperature was 40 캜, and the detection was carried out by RI (Reflective index). The calibration curve was standard polystyrene standardized by Shodex. The functional group equivalent was calculated from the ratio calculated from GPC, and the value was determined by making one equivalent of each of carboxylic acid and acid anhydride.

2) ICI 점도2) ICI viscosity

150℃에 있어서의 콘플레이트법에 있어서의 용융 점도를 측정했다.And the melt viscosity in the cone plate method at 150 占 폚 was measured.

3) 연화점3) Softening point

JIS K-7234에 준한 방법으로 측정했다.It was measured by the method according to JIS K-7234.

합성예 1(열경화성 수지용 경화제 C-5)Synthesis Example 1 (Curing agent for thermosetting resin C-5)

Figure pct00036
Figure pct00036

교반기, 환류 냉각관, 교반 장치를 구비한 플라스크에, 질소 퍼지를 실시하면서 이소시아누르산 트리스(2-히드록시에틸) 104.5부, 메틸헥사히드로프탈산 무수물(신닛폰리카(주)제, 리카시드 MHT) 201.8부, MEK 306.0부를 첨가하고, 70℃에서 7시간 가열 교반을 행함으로써 식(29)으로 나타내어지는 화합물의 MEK 용액을 얻었다. 거기에 메틸헥사히드로프탈산 무수물(신닛폰리카(주)제, 리카시드 MHT) 61.3부를 첨가하여, 70℃에서 1시간 가열 교반을 행하였다. 그 후, 120℃ 1시간의 조건에서 용매를 제거하여 열경화성 수지용 경화제(C-5)를 얻었다.A flask equipped with a stirrer, a reflux condenser and a stirrer was charged with 104.5 parts of isocyanuric acid tris (2-hydroxyethyl), 10 parts of methylhexahydrophthalic anhydride (manufactured by Shinnippon Pharmaceutical Co., Ltd., MHT) and 306.0 parts of MEK were added, and the mixture was heated and stirred at 70 占 폚 for 7 hours to obtain a MEK solution of the compound represented by the formula (29). And 61.3 parts of methylhexahydrophthalic anhydride (Rikaside MHT, manufactured by Shin-Nippon Rikagaku) was added thereto, and the mixture was heated and stirred at 70 ° C for 1 hour. Thereafter, the solvent was removed under the conditions of 120 占 폚 for 1 hour to obtain a curing agent for thermosetting resin (C-5).

얻어진 경화제는 무색, 고형이었다. 또한, 관능기당량은 232g/eq.였다. ICI 점도는, 150℃에 있어서 0.36Pa·s이었다. 연화점은 82.9℃였다.The curing agent obtained was colorless and solid. The functional group equivalent was 232 g / eq. The ICI viscosity was 0.36 Pa · s at 150 ° C. The softening point was 82.9 ° C.

합성예 2(열경화성 수지용 경화제 C-6)Synthesis Example 2 (Curing agent for thermosetting resin C-6)

Figure pct00037
Figure pct00037

(식(30) 중, R10은 메틸기 또는 카르복실기를 각각 나타낸다. 식(30) 중, 복수 존재하는 R10은 동일해도 상관없고 달라도 상관없다.)(In the formula (30), R 10 represents a methyl group or a carboxyl group, respectively. In formula (30), plural R 10 s present may be the same or different.)

교반기, 환류 냉각관, 교반 장치를 구비한 플라스크에, 질소 퍼지를 실시하면서 트리시클로데칸디메탄올 98.1부, 메틸헥사히드로프탈산 무수물(신닛폰리카(주)제, 리카시드 MHT) 166.3부, 시클로헥산-1,2,4-트리카르복실산-1,2-무수물(미쓰비시 가스카가쿠제 H-TMAn) 2.0부, MEK 266.4부를 추가하여 60℃에서 1시간 반응 후, 80℃에서 5시간 가열 교반을 행함으로써 (30)식으로 나타내어지는 화합물의 MEK 용액을 얻었다. 거기에 시클로헥산-1,2,4-트리카르복실산-1,2-무수물(미쓰비시 가스카가쿠제 H-TMAn) 59.4부를 첨가하여 80℃에서 2시간 가열 교반을 행하였다. 그 후, 150℃ 1시간의 조건에서 용매를 제거하여 열경화성 수지용 경화제(C-6)를 얻었다.A flask equipped with a stirrer, a reflux condenser, and a stirrer was charged with 98.1 parts of tricyclodecane dimethanol, 166.3 parts of methyl hexahydrophthalic anhydride (Rikacid MHT, manufactured by Shin-Nippon Rika KK), 10.0 parts of cyclohexane -1,2,4-tricarboxylic acid-1,2-anhydride (H-TMAn manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Company, H-TMAn) and 266.4 parts of MEK were added and reacted at 60 ° C for 1 hour, followed by heating and stirring at 80 ° C for 5 hours To obtain a MEK solution of the compound represented by the formula (30). 59.4 parts of cyclohexane-1,2,4-tricarboxylic acid-1,2-anhydride (H-TMAn manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Company) was added and the mixture was heated and stirred at 80 ° C for 2 hours. Thereafter, the solvent was removed under the condition of 150 占 폚 for 1 hour to obtain a curing agent for thermosetting resin (C-6).

얻어진 경화제는 무색, 고형이었다. 또한, 관능기당량은 195g/eq.이었다. ICI 점도는, 150℃에 있어서 0.53Pa·s이었다. 연화점은 84.7℃였다.The curing agent obtained was colorless and solid. The functional group equivalent was 195 g / eq. The ICI viscosity was 0.53 Pa · s at 150 ° C. The softening point was 84.7 ° C.

합성예 3(글리시딜에테르형 에폭시 수지 B-1)Synthesis Example 3 (glycidyl ether type epoxy resin B-1)

교반기, 환류 냉각관, 교반 장치를 구비한 플라스크를 일단 진공으로 하고 질소 치환한 후, 질소 퍼지(가마 용량의 2배 체적량/hr)를 실시하면서 페놀 화합물(TPA1)(TrisP-PA 혼슈카가쿠코교제) 142부, 에피클로로히드린 370부, 메틸글리시딜에테르를 37부, 메탄올 37부를 첨가하여 수욕을 75℃까지 승온시켰다. 내온이 65℃를 초과했을 때에 플레이크상의 수산화나트륨 42부를 90분 걸쳐서 분할 첨가한 후, 70℃에서 1시간 후반응을 더 행하였다. 반응 종료 후 수세를 행하고, 유층으로부터 로터리 에바포레이터를 이용하여 140℃에서 감압 하, 과잉의 에피클로로히드린 등의 용제를 증류 제거했다. 잔류물에 메틸이소부틸케톤 400부를 첨가하여 용해하고, 70℃까지 승온시켰다. 교반 하에서 30중량%의 수산화나트륨 수용액 8부를 추가하여 1시간 반응을 행한 후, 세정수가 중성이 될 때까지 수세를 행하여 얻어진 용액을 로터리 에바포레이터를 이용하여 180℃에서 감압 하에 메틸이소부틸케톤 등을 증류 제거함으로써 에폭시 수지(B-1)를 182부 얻었다. 얻어진 에폭시 수지의 에폭시 당량은 222g/eq., 연화점이 59.6℃, ICI 용융 점도 0.10Pa·s(150℃), 색상 0.2 이하(가드너 40% MEK 용액)였다. 또한, Mn은 582, Mw는 695, Mw/Mn은 1.19(폴리스티렌 환산)였다. 전체 염소가 960ppm이었다.A flask equipped with a stirrer, a reflux condenser and a stirrer was once evacuated and purged with nitrogen, and a phenol compound (TPA1) (TrisP-PA Honshu Kagaku Co., Ltd., , 370 parts of epichlorohydrin, 37 parts of methyl glycidyl ether and 37 parts of methanol were added, and the water bath was heated to 75 占 폚. When the internal temperature exceeded 65 캜, 42 parts of sodium hydroxide on the flakes was dividedly added over 90 minutes, and then the reaction was further performed at 70 캜 for 1 hour. After completion of the reaction, the reaction mixture was washed with water, and a solvent such as excess epichlorohydrin was distilled off from the oil layer under reduced pressure at 140 占 폚 using a rotary evaporator. 400 parts of methyl isobutyl ketone was added to the residue and dissolved, and the temperature was raised to 70 占 폚. 8 parts of an aqueous solution of 30% by weight of sodium hydroxide was added under stirring to conduct a reaction for 1 hour, followed by washing with water until the washing water became neutral. The resulting solution was treated with a rotary evaporator at 180 캜 under reduced pressure to give methyl isobutyl ketone Was distilled off to obtain 182 parts of an epoxy resin (B-1). The obtained epoxy resin had an epoxy equivalent of 222 g / eq., A softening point of 59.6 ° C, an ICI melt viscosity of 0.10 Pa · s (150 ° C) and a color of 0.2 or less (Gardner 40% MEK solution). Mn was 582, Mw was 695, and Mw / Mn was 1.19 (in terms of polystyrene). Total chlorine was 960 ppm.

열경화성 광반사용 수지 조성물의 조제(실시예 17~실시예 19)Preparation of thermosetting light-sensitive resin composition (Examples 17 to 19)

TEPIC-S(닛산카가쿠가부시키가이샤제 트리글리시딜이소시아누레이트), EHPE-3150(다이셀카가쿠코교(주)제 지환식 에폭시 수지), 셀록사이드 2021P(다이셀카가쿠코교(주)제 지환식 에폭시 수지), 열경화성 수지용 경화제 C-5, 열경화성 수지용 경화제 C-6, 리카시드 MH-T(신닛폰리카제 에폭시 수지용 경화제), 히시콜린 PX-4MP(닛폰카가쿠코교가부시키가이샤제 경화 촉매)를 사용하여 표 5에 나타낸 배합표에 따라서 각 성분을 배합하고, 믹서에 의해 충분히 혼련한 후, 믹싱롤에 의해 소정 조건에서 용융 혼련하고, 냉각, 분쇄를 행하여 실시예 17~실시예 19의 열경화성 수지 조성물을 조제했다. 또한, 표 5 중의 각 성분의 배합량의 단위는 중량부이며, 공란은 상기 성분을 사용하고 있지 않은 것을 나타낸다.(Trade name: TEPIC-S (triglycidylisocyanurate manufactured by Nissan Kagaku K.K.), EHPE-3150 (alicyclic epoxy resin manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.), Celloxide 2021P (Curing agent for epoxy resin made by Shin-Nippon Rikagaku), Hishikolin PX-4MP (manufactured by Nippon Kagaku Kogyo Co., Ltd.), a thermosetting resin curing agent C-5, a thermosetting resin curing agent C- Each component was compounded in accordance with the formulation table shown in Table 5, and sufficiently kneaded by a mixer, and then melt-kneaded under a predetermined condition by a mixing roll, followed by cooling and pulverization. The thermosetting resin composition of Example 19 was prepared. The unit of the blending amount of each component in Table 5 is parts by weight, and the blank indicates that the above components are not used.

열경화성 수지 조성물의 평가Evaluation of thermosetting resin composition

실시예 17~실시예 19의 수지 조성물에 대해서, 하기에 나타내는 방법에 의해 경화물의 DMA, TMA, 투과율을 측정했다. 그 결과를 표 5에 나타낸다.With respect to the resin compositions of Examples 17 to 19, DMA, TMA and transmittance of the cured product were measured by the following methods. The results are shown in Table 5.

(a) DMA(a) DMA

점탄성 측정(DMA: Dynamic Mechanical Analysis)에 대해서는 하기와 같이 작성한 시험편을 이용하여, JIS K7244, JIS K7244-4에 기재된 방법을 따라 에스아이아이·나노테크놀로지(주)제 DMS6100 점탄성 측정 장치를 사용하여 하기 조건에서 측정했다. 유리전이온도(Tg)는 저장 탄성률(E')과 손실 탄성률(E") 상에서 나타내어지는 손실계수(tanδ=E"/E')의 극대점을 나타낼 때의 온도를 나타낸다.With respect to the dynamic mechanical analysis (DMA), a test specimen prepared as described below was subjected to a method described in JIS K7244 and JIS K7244-4, using a DMS6100 viscoelasticity measuring device manufactured by SII Eye Nanotechnology Co., Ltd. Lt; / RTI &gt; The glass transition temperature Tg represents the temperature at which the maximum value of the loss coefficient (tan? = E "/ E ') expressed on the storage elastic modulus (E') and the loss elastic modulus (E").

(DMA 시험편 작성 방법)(DMA specimen preparation method)

각 실시예 및 각 비교예의 수지 조성물을 성형틀 온도 150℃, 성형 압력 10.4㎫, 큐어 시간 300초의 조건에서 트랜스퍼 성형한 후, 150℃에서 3시간 포스트 큐어함으로써 길이 50.0㎜, 폭 5.0㎜, 두께 0.5㎜의 테스트 피스를 제작했다.The resin compositions of each of the examples and comparative examples were transferred and molded under the conditions of a mold temperature of 150 캜, a molding pressure of 10.4 MPa and a cure time of 300 seconds and then post-cured at 150 캜 for 3 hours to obtain a resin composition having a length of 50.0 mm, Mm test pieces were produced.

(DMA 측정 조건)(DMA measurement condition)

초기 장력: 0.1NInitial tension: 0.1 N

주파수: 10㎐Frequency: 10㎐

측정 모드: 인장 진동Measurement mode: Tensile vibration

측정 온도: 30℃~280℃Measuring temperature: 30 ° C to 280 ° C

승온 속도: 2℃/minHeating rate: 2 캜 / min

(b) 열기계 분석(TMA)(b) Thermomechanical analysis (TMA)

열기계 분석(TMA)은 이하와 같이 작성한 시험편을 이용하고, 에스아이아이·나노테크놀로지(주)제 TMA/SS6100 장치를 사용하여 하기 조건에서 측정했다. 또한, 유리전이온도(Tg)는 얻어진 데이터의 선팽창계수의 변화점으로서 정의된다.The thermomechanical analysis (TMA) was carried out using the test piece prepared as described below and measuring under the following conditions using a TMA / SS6100 device manufactured by SIA i NANO TECHNOLOGY CO., LTD. The glass transition temperature (Tg) is defined as a point of change in the linear expansion coefficient of the obtained data.

(TMA 시험편 작성 방법)(TMA specimen preparation method)

각 실시예 및 각 비교예의 수지 조성물을 성형틀 온도 150℃, 성형 압력 10.4㎫, 큐어 시간 300초의 조건에서 트랜스퍼 성형한 후, 150℃에서 3시간 포스트 큐어함으로써 두께 4.0㎜의 테스트 피스를 제작했다.The resin compositions of each of the examples and comparative examples were transfer-molded under the conditions of a mold temperature of 150 캜, a molding pressure of 10.4 MPa, and a cure time of 300 seconds, and then post-cured at 150 캜 for 3 hours to prepare test pieces having a thickness of 4.0 mm.

(TMA 측정 조건)(TMA measurement condition)

승온 조건: 2℃/분Temperature rise condition: 2 ° C / minute

측정 모드: 압축Measurement mode: Compression

(d) 투과율(d) Transmittance

각 실시예 및 각 비교예의 수지 조성물을 성형틀 온도 150℃, 성형 압력 10.4㎫, 큐어 시간 300초의 조건에서 트랜스퍼 성형한 후, 150℃에서 3시간 포스트 큐어함으로써 두께 1.0㎜의 테스트 피스를 제작했다. 이어서, 적분구형 분광 광도계 UV-3600형(가부시키가이샤 시마즈 세이사쿠쇼제)으로 파장 460㎚에 있어서의 투과율을 측정하고, 각 테스트 피스의 착색을 평가했다.The resin compositions of each of the examples and comparative examples were transfer-molded under the conditions of a molding die temperature of 150 캜, a molding pressure of 10.4 MPa, and a cure time of 300 seconds, and post-curing was performed at 150 캜 for 3 hours to produce a test piece having a thickness of 1.0 mm. Then, the transmittance at a wavelength of 460 nm was measured with an integral spherical spectrophotometer UV-3600 (manufactured by Shimadzu Seisakusho Co., Ltd.), and the coloration of each test piece was evaluated.

Figure pct00038
Figure pct00038

이상의 결과로부터, 본 발명의 열경화성 수지용 경화제를 사용한 열경화성 수지 조성물은 유리전이온도가 충분히 높고, 선팽창률이 낮으며, 경화물의 착색이 적은 경화물을 부여하는 것을 알 수 있다.From the above results, it can be seen that the thermosetting resin composition using the thermosetting resin curing agent of the present invention gives a cured product having a sufficiently high glass transition temperature, low linear expansion rate, and little coloration of the cured product.

열경화성 광반사용 수지 조성물의 조제(실시예 20, 21)Preparation of thermosetting light-use resin composition (Examples 20 and 21)

TEPIC-S(닛산카가쿠가부시키가이샤제 트리글리시딜이소시아누레이트), 글리시딜에테르형 에폭시 수지 B-1, 히시콜린 PX-4MP(닛폰카가쿠코교가부시키가이샤제 경화 촉매), CR-95(이시하라산교(주)제 산화티탄)를 사용하고, 표 6에 나타낸 배합표에 따라서 각 성분을 배합하여 믹서에 의해 충분히 혼련한 후, 믹싱롤에 의해 소정 조건에서 용융 혼련하고, 냉각, 분쇄를 행하여 실시예 20, 21의 열경화성 수지 조성물을 조제했다. 또한, 표 6 중의 각 성분의 배합량의 단위는 중량부이며, 공란은 상기 성분을 사용하고 있지 않은 것을 나타낸다.(Glycidyl ether type epoxy resin B-1, Hikikolin PX-4MP (a curing catalyst manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.)), TEPIC-S (triglycidyl isocyanurate manufactured by Nissan Kagaku K.K.) , And CR-95 (titanium oxide manufactured by Ishihara Sangyo Co., Ltd.) were used, and the respective components were blended according to the formulation table shown in Table 6, sufficiently kneaded by a mixer, and melt-kneaded under a predetermined condition by a mixing roll, And pulverized to prepare thermosetting resin compositions of Examples 20 and 21. The unit of the blending amount of each component in Table 6 is parts by weight, and the blank indicates that the above components are not used.

Figure pct00039
Figure pct00039

이상의 결과로부터, 본 발명의 열경화성 수지용 경화제를 사용한 열경화성 수지 조성물은 유리전이온도가 충분히 높고, 선팽창률이 낮으며, 경화물의 착색이 적은 경화물을 부여하는 것을 알 수 있다.From the above results, it can be seen that the thermosetting resin composition using the thermosetting resin curing agent of the present invention gives a cured product having a sufficiently high glass transition temperature, low linear expansion rate, and little coloration of the cured product.

교반기, 환류 냉각관, 교반 장치를 구비한 플라스크에, 질소 퍼지를 실시하면서 이소시아누르산 트리스(2-히드록시에틸) 130.6부, 메틸헥사히드로프탈산 무수물(신닛폰리카(주)제, 리카시드 MHT) 164.0부, 무수 글루타르산 59.9부, MIBK 350.0부를 첨가하고, 85℃에서 9시간 가열 교반을 행함으로써 목적으로 하는 화합물의 MIBK 용액을 얻었다. 그 후, 150℃ 1시간의 조건에서 용매를 제거하여 열경화성 수지용 경화제(C-7)를 얻었다.A flask equipped with a stirrer, a reflux condenser, and a stirrer was charged with 130.6 parts of isocyanuric acid tris (2-hydroxyethyl), 10 parts of methylhexahydrophthalic anhydride (manufactured by Shinnippon Pharmaceutical Co., Ltd., MHT), 59.9 parts of anhydrous glutaric acid, and 350.0 parts of MIBK were added, and the mixture was heated and stirred at 85 ° C for 9 hours to obtain a desired compound MIBK solution. Thereafter, the solvent was removed under the conditions of 150 ° C for 1 hour to obtain a curing agent for thermosetting resin (C-7).

얻어진 경화제는 무색, 고형이었다. 또한, 관능기당량은 242g/eq.이었다. ICI 점도는, 150℃에 있어서 0.51Pa·s이었다. 연화점은 77.6℃였다.The curing agent obtained was colorless and solid. The functional group equivalent was 242 g / eq. The ICI viscosity was 0.51 Pa · s at 150 ° C. The softening point was 77.6 ° C.

열경화성 광반사용 수지 조성물의 조제(실시예 22)Preparation of thermosetting light-sensitive resin composition (Example 22)

EHPE-3150(다이셀카가쿠코교(주)제 지환식 에폭시 수지), 열경화성 수지용 경화제 C-7, 히시콜린 PX-4MP(닛폰카가쿠코교가부시키가이샤제 경화 촉매), CR-95(이시하라산교(주)제 산화티탄)를 사용하고, 표 7에 나타낸 배합표에 따라서 각 성분을 배합하여 믹서에 의해 충분히 혼련한 후, 믹싱롤에 의해 소정 조건에서 용융 혼련하고, 냉각, 분쇄를 행하여 실시예 22의 열경화성 수지 조성물을 조제했다. 또한, 표 7 중의 각 성분의 배합량의 단위는 중량부이며, 공란은 상기 성분을 사용하고 있지 않은 것을 나타낸다.EHPE-3150 (a cycloaliphatic epoxy resin manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.), a curing agent for thermosetting resin C-7, Hishikolin PX-4MP (a curing catalyst manufactured by Nippon Kagaku Kogyo K.K.), CR- Titanium oxide produced by Sankyo Co., Ltd.) was used and each component was compounded in accordance with the formulation table shown in Table 7, sufficiently kneaded by a mixer, and then melt-kneaded under a predetermined condition by a mixing roll, followed by cooling and pulverization, 22 &lt; / RTI &gt; The unit of the blending amount of each component in Table 7 is parts by weight, and the blank indicates that the above components are not used.

Figure pct00040
Figure pct00040

이상의 결과로부터, 본 발명의 열경화성 수지용 경화제를 사용한 열경화성 수지 조성물은 유리전이온도가 충분히 높고, 선팽창률이 낮으며, 경화물의 착색이 적은 경화물을 부여하는 것을 알 수 있다.From the above results, it can be seen that the thermosetting resin composition using the thermosetting resin curing agent of the present invention gives a cured product having a sufficiently high glass transition temperature, low linear expansion rate, and little coloration of the cured product.

실시예 23; 다가 카르복실산 조성물(C-8)의 제조Example 23; Preparation of polyvalent carboxylic acid composition (C-8)

유리제 300ml 4구 플라스크에, 질소 퍼지를 실시하면서 THEIC-G(시코쿠카세이코교제 이소시아누르산 트리스(2-히드록시에틸)) 25.8g, HTMAn-S(미쓰비시 가스카가쿠제 수소 첨가 트리멜리트산 무수물), MEK 50g을 투입하고, 디무로트 냉각기, 교반 장치, 온도계를 설치하여 워터배스에 플라스크를 담갔다. 워터배스를 가열하여 내부 온도를 65℃로 유지하고, 그대로 6시간 반응시켰다. 그 후, 리카시드 MH-T (신닛폰리카제 4-메틸헥사히드로프탈산) 49.4g, MEK 50g을 첨가하고, 워터배스를 가열하여 내부 온도를 65℃로 유지하고, 그대로 4시간 반응시켰다.A glass 300 mL four-necked flask was charged with 25.8 g of THEIC-G (isocyanuric acid tris (2-hydroxyethyl), manufactured by Shikoku Chemicals Co., Ltd.), HTMAn-S (hydrogenated trimellitic anhydride ), And 50 g of MEK were put into the flask, and the flask was immersed in a water bath by installing a demultiplex cooler, a stirrer, and a thermometer. The water bath was heated to maintain the internal temperature at 65 占 폚, and the reaction was continued for 6 hours. Thereafter, 49.4 g of Ricassid MH-T (4-methylhexahydrophthalic acid manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) and 50 g of MEK were added, and the water bath was heated to maintain the internal temperature at 65 캜 and reacted for 4 hours.

GPC로 트리히드록시에틸이소시아누르산의 피크 면적 1% 이하를 확인하여 얻어진 반응액을 150℃에서 감압 농축하고, MEK를 증류 제거함으로써 하기 식(a1)을 주성분으로 하는 다가 카르복실산과 카르복실산 무수물 화합물의 혼합물인 다가 카르복실산 조성물(C-8) 90.4g이 얻어졌다. 얻어진 화합물의 외관은 무색의 고체이며, GPC에 의한 순도(GPC 면적%)는 식(a2~a4)으로 나타내어지는 다가 카르복실산 고분자량체 혼합물이 2.4%, 식(a1)으로 나타내어지는 다가 카르복실산이 82.9%, 식(a5)으로 나타내어지는 시클로헥산-1,2,4-트리카르복실산이 1.5%, 식(a6)으로 나타내어지는 4-메틸헥사히드로프탈산이 5.4%, 4-메틸헥사히드로프탈산 무수물이 7.8%였다. 또한, 관능기당량은 188.8g/eq, 150℃에 있어서의 ICI 점도는 1.49Pa·s, 연화점은 95.3℃였다. 얻어진 화합물의 GPC 차트를 도 4에 나타낸다.The reaction solution obtained by confirming that the peak area of trihydroxyethyl isocyanuric acid was 1% or less by GPC was concentrated under reduced pressure at 150 ° C and the MEK was distilled off to obtain a polyvalent carboxylic acid and a carboxyl 90.4 g of a polycarboxylic acid composition (C-8) which is a mixture of acid anhydride compounds was obtained. The appearance of the obtained compound was a colorless solid, and the purity (GPC area%) by GPC was 2.4% for the mixture of the polyvalent carboxylic acid high molecular weight compound represented by the formula (a2 to a4), the polyvalent carboxyl represented by the formula , An acid was 82.9%, a cyclohexane-1,2,4-tricarboxylic acid represented by the formula (a5) was 1.5%, a 4-methylhexahydrophthalic acid represented by the formula (a6) was 5.4%, 4-methylhexahydrophthalic acid The anhydride content was 7.8%. The functional group equivalent was 188.8 g / eq, the ICI viscosity at 150 ° C was 1.49 Pa · s, and the softening point was 95.3 ° C. A GPC chart of the obtained compound is shown in Fig.

Figure pct00041
Figure pct00041

식(a1) 중, R9는 메틸기, 또는 카르복실기이다.In the formula (a1), R 9 is a methyl group or a carboxyl group.

Figure pct00042
Figure pct00042

식(a2~a4) 중, R9는 상기와 같은 의미를 나타낸다.In the formulas (a2 to a4), R 9 has the same meaning as described above.

Figure pct00043
Figure pct00043

실시예 24; 열경화성 광반사용 수지 조성물의 조제Example 24; Preparation of thermosetting light-sensitive resin composition

실시예 23에서 얻어진 다가 카르복실산 조성물(C-8), EHPE-3150(다이셀카가쿠코교(주)제 지환식 에폭시 수지), 히시콜린 PX-4MP(닛폰카가쿠코교(주)제 경화 촉매), FB-910(덴키카가쿠코교(주)제 실리카), CR-75(이시하라산교(주)제 산화티탄)를 사용하여 표 8에 나타낸 배합표에 따라서 각 성분을 배합하고, 믹서에 의해 충분히 혼련한 후, 믹싱롤에 의해 소정 조건에서 용융 혼련하고, 냉각, 분쇄를 행하여 실시예 24의 열경화성 수지 조성물을 조제했다.The polyvalent carboxylic acid composition (C-8), EHPE-3150 (alicyclic epoxy resin manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.), Hikikolin PX-4MP (manufactured by Nippon Kayaku Kogyo Co., Ltd.) ), FB-910 (silica produced by Denki Kagaku Kogyo Co., Ltd.) and CR-75 (titanium oxide manufactured by Ishihara Sangyo Co., Ltd.) were used to blend each component in accordance with the formulation table shown in Table 8, After kneading, the mixture was melt-kneaded under a predetermined condition by a mixing roll, followed by cooling and pulverization to prepare a thermosetting resin composition of Example 24.

실시예 24에서 얻어진 열경화성 수지 조성물의 배합비와 그 유리전이온도, 선팽창계수, 반사율의 결과를 표 8에 나타낸다. 또한, 표 8 중의 각 성분의 배합량의 단위는 중량부이며, 공란은 상기 성분을 사용하고 있지 않은 것을 나타낸다.Table 8 shows the compounding ratio of the thermosetting resin composition obtained in Example 24, the glass transition temperature, the coefficient of linear expansion and the reflectance. The unit of the blending amount of each component in Table 8 is parts by weight, and the blank indicates that the above components are not used.

Figure pct00044
Figure pct00044

실시예 25; 열경화성 광반사용 수지 조성물의 조제Example 25; Preparation of thermosetting light-sensitive resin composition

실시예 10에서 얻어진 다가 카르복실산(A-3), EHPE-3150(다이셀카가쿠코교(주)제 지환식 에폭시 수지), 히시콜린 PX-4MP(닛폰카가쿠코교(주)제 경화 촉매), FB-910(덴키카가쿠코교(주)제 실리카), CR-75(이시하라산교(주)제 산화티탄)를 사용하여 표 9에 나타낸 배합표에 따라서 각 성분을 배합하고, 믹서에 의해 충분히 혼련한 후, 믹싱롤에 의해 소정 조건에서 용융 혼련하고, 냉각, 분쇄를 행하여 실시예 25의 열경화성 수지 조성물을 조제했다.(A-3), EHPE-3150 (alicyclic epoxy resin manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.), Hikikolin PX-4MP (a curing catalyst manufactured by Nippon Kayaku Kogyo Co., Ltd.) , Each component was blended according to the formulation table shown in Table 9 using FB-910 (silica manufactured by Denki Kagaku Kogyo Co., Ltd.) and CR-75 (titanium oxide manufactured by Ishihara Sangyo Co., Ltd.) Then, the mixture was melt-kneaded under a predetermined condition by a mixing roll, followed by cooling and pulverization to prepare a thermosetting resin composition of Example 25.

실시예 25에서 얻어진 열경화성 수지 조성물의 배합비와 그 유리전이온도, 선팽창계수, 반사율의 결과를 표 9에 나타낸다. 또한, 표 9 중의 각 성분의 배합량의 단위는 중량부이며, 공란은 상기 성분을 사용하고 있지 않은 것을 나타낸다.Table 9 shows the compounding ratio of the thermosetting resin composition obtained in Example 25, the glass transition temperature, the coefficient of linear expansion and the reflectance. The unit of the blending amount of each component in Table 9 is parts by weight, and the blank indicates that the above components are not used.

Figure pct00045
Figure pct00045

본 발명을 특정 형태를 참조해서 상세하게 설명했지만, 본 발명의 정신과 범위를 벗어나지 않고 다양한 변경 및 수정이 가능한 것은 당업자에 있어서 명확하다.Although the present invention has been described in detail with reference to specific embodiments thereof, it will be apparent to those skilled in the art that various changes and modifications can be made without departing from the spirit and scope of the present invention.

또한, 본 출원은 2014년 7월 24일자로 출원된 일본국 특허출원(특원 2014-150862), 2014년 10월 17일자로 출원된 일본국 특허출원(특원 2014-212176), 2014년 12월 16일자로 출원된 일본국 특허출원(특원 2014-254374)에 의거하고 있고, 그 전체가 인용에 의해 원용된다. 또한, 여기에 인용되는 모든 참조는 전체로서 받아들여진다.This application is also a continuation-in-part of Japanese Patent Application No. 2014-150862 filed on July 24, 2014, Japanese Patent Application No. 2014-212176 filed on October 17, 2014, December 16, 2014 (Japanese Patent Application No. 2014-254374), filed on the same date, and the entirety thereof is cited by reference. In addition, all references cited herein are incorporated by reference in their entirety.

<산업상의 이용 가능성>&Lt; Industrial Availability >

본 발명의 다가 카르복실산 및 그것을 함유하는 다가 카르복실산 조성물은 경화시에 휘발이 적고 경화성이 뛰어나며, 그 경화물은 뛰어난 투명성, 경도의 경화물을 부여하므로, 이것을 사용한 에폭시 수지 조성물은 전기 전자 재료 용도, 특히 광반도체 밀봉용, 광반도체 반사재로서 유용하다. 또한, 본 발명의 다가 카르복실산 및 그것을 함유하는 다가 카르복실산 조성물은 그 경화물의 유리전이온도를 충분히 높일 수 있어 성형성이 뛰어나 경화물로의 착색이 적으므로, 그것을 사용한 열경화성 수지 조성물은 반도체 장치용의 밀봉재, 반사재로서 유용하다.INDUSTRIAL APPLICABILITY The polyvalent carboxylic acid of the present invention and the polyvalent carboxylic acid composition containing the polyvalent carboxylic acid of the present invention exhibit less volatilization and excellent curability at the time of curing and the cured product imparts a cured product having excellent transparency and hardness, It is useful for material applications, especially for optical semiconductor encapsulation, as a light semiconductor reflector. Further, the polyvalent carboxylic acid of the present invention and the polyvalent carboxylic acid composition containing the same can sufficiently increase the glass transition temperature of the cured product, so that the molded product is excellent in moldability and less colored in a cured product. Therefore, Sealing materials for devices, and reflective materials.

Claims (18)

하기 식(1)으로 나타내어지는 다가 카르복실산.
Figure pct00046

(식(1) 중, R1은 탄소수 1~6의 알킬렌기를, R6은 수소원자 또는 탄소수 1~10의 카르복실기를 함유하는 유기기를 각각 나타낸다. 식(1) 중, 복수 존재하는 R1, R6은 각각 동일해도 상관없고 달라도 상관없지만, 복수 존재하는 R6 중, 50몰% 이상은 탄소수 1~10의 카르복실기를 함유하는 유기기이다.)
A polyvalent carboxylic acid represented by the following formula (1).
Figure pct00046

(Formula (1) of, R 1 is an alkylene group having 1 to 6, R 6 is a hydrogen atom or represents respectively an organic group containing a carboxyl group having 1 to 10 carbon atoms. In the formula (1), a plurality existence R 1 to And R 6 may be the same or different, but among the plural R 6 s , at least 50 mol% is an organic group containing a carboxyl group having 1 to 10 carbon atoms.)
제 1 항에 있어서,
하기 식(1-1)으로 나타내어지는 다가 카르복실산.
Figure pct00047

(식(1-1) 중, R1은 상기와 같은 의미를 나타내고, R2a는 수소원자, 탄소수 1~6의 알킬기 또는 카르복실기를 각각 나타낸다. 식(1-1) 중, 복수 존재하는 R1, R2a는 각각 동일해도 상관없고 달라도 상관없다.)
The method according to claim 1,
A polyvalent carboxylic acid represented by the following formula (1-1).
Figure pct00047

(In formula (1-1) wherein R 1 represents the same meanings as defined above, R 2a represents an alkyl group or a carboxyl group of a hydrogen atom, a group having 1 to 6 carbon atoms, respectively. In the formula (1-1) wherein R 1 to present a plurality , And R &lt; 2a &gt; may be the same or different.
제 1 항에 있어서,
하기 식(1-2)으로 나타내어지는 다가 카르복실산.
Figure pct00048

(식(1-2) 중, R1은 상기와 같은 의미를 나타내고, R2b는 탄소수 1~10의 직쇄 또는 분기 구조를 갖는 알킬렌기를 각각 나타낸다. 식(1-2) 중, 복수 존재하는 R1, R2b는 각각 동일해도 상관없고 달라도 상관없다.)
The method according to claim 1,
A polyvalent carboxylic acid represented by the following formula (1-2).
Figure pct00048

(In the formula (1-2), R 1 has the same meaning as defined above, and R 2b represents a linear or branched alkylene group having 1 to 10 carbon atoms. R 1 and R 2b may be the same or different.
제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 기재된 다가 카르복실산을 함유하는 다가 카르복실산 조성물.A polybasic carboxylic acid composition containing the polybasic carboxylic acid according to any one of claims 1 to 3. 제 4 항에 있어서,
카르복실산 무수물 화합물을 더 함유하는 다가 카르복실산 조성물.
5. The method of claim 4,
A polycarboxylic acid composition further comprising a carboxylic acid anhydride compound.
제 5 항에 있어서,
카르복실산 무수물 화합물이 하기 식 (2)~(7)로 나타내어지는 화합물에서 선택되는 1종 이상인, 다가 카르복실산 조성물.
Figure pct00049
6. The method of claim 5,
Wherein the carboxylic acid anhydride compound is at least one selected from the compounds represented by the following formulas (2) to (7).
Figure pct00049
제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 기재된 다가 카르복실산 또는 제 4 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 기재된 다가 카르복실산 조성물과, 에폭시 수지를 함유하는 에폭시 수지 조성물.A polyvalent carboxylic acid composition according to any one of claims 1 to 3, or a polyvalent carboxylic acid composition according to any one of claims 4 to 6, and an epoxy resin composition containing an epoxy resin. 제 7 항에 있어서,
에폭시 수지 경화 촉진제를 더 함유하는 에폭시 수지 조성물.
8. The method of claim 7,
And an epoxy resin curing accelerator.
제 8 항에 있어서,
에폭시 수지 경화 촉진제가 금속 비누인 에폭시 수지 조성물.
9. The method of claim 8,
Wherein the epoxy resin curing accelerator is a metal soap.
제 9 항에 있어서,
금속 비누가 카르복실산 아연 화합물인 에폭시 수지 조성물.
10. The method of claim 9,
Wherein the metal soap is a zinc carboxylate compound.
제 7 항 내지 제 10 항 중 어느 한 항에 기재된 에폭시 수지 조성물을 경화해서 이루어지는 경화물.A cured product obtained by curing the epoxy resin composition according to any one of claims 7 to 10. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 기재된 다가 카르복실산과 열경화성 수지를 함유하고, ICI 콘플레이트 점도가 100~200℃의 범위에서 0.01Pa·s~10Pa·s의 범위에 있는 열경화성 수지 조성물.A thermosetting resin composition comprising a polyvalent carboxylic acid according to any one of claims 1 to 3 and a thermosetting resin and having an ICI cone plate viscosity in a range of 100 to 200 占 폚 in a range of 0.01 Pa · s to 10 Pa · s . 제 12 항에 있어서,
연화점이 20℃~150℃의 범위에 있는 열경화성 수지 조성물.
13. The method of claim 12,
And the softening point is in the range of 20 占 폚 to 150 占 폚.
제 12 항 또는 제 13 항에 있어서,
트리멜리트산, 무수 트리멜리트산, 시클로헥산트리카르복실산, 시클로헥산트리카르복실산 무수물, 피로멜리트산, 수소 첨가 피로멜리트산, 피로멜리트산 무수물, 수소 첨가 피로멜리트산 무수물, 헥사히드로 무수 프탈산, 및 메틸헥사히드로 무수 프탈산에서 선택되는 1종 또는 2종 이상의 화합물을 함유하는 열경화성 수지용 경화제를 더 포함하고,
트리멜리트산, 무수 트리멜리트산, 시클로헥산트리카르복실산, 시클로헥산트리카르복실산 무수물, 피로멜리트산, 수소 첨가 피로멜리트산, 피로멜리트산 무수물, 수소 첨가 피로멜리트산 무수물, 헥사히드로 무수 프탈산, 및 메틸헥사히드로 무수 프탈산에서 선택되는 1종 또는 2종 이상의 화합물이 전체의 1중량%~90중량%를 차지하는, 열경화성 수지 조성물.
The method according to claim 12 or 13,
But are not limited to, trimellitic acid, trimellitic anhydride, cyclohexanetricarboxylic acid, cyclohexanetricarboxylic acid anhydride, pyromellitic acid, hydrogenated pyromellitic acid, pyromellitic acid anhydride, hydrogenated pyromellitic anhydride, hexahydrophthalic anhydride , And methylhexahydrophthalic anhydride, and a curing agent for a thermosetting resin containing one or more compounds selected from methylhexahydrophthalic anhydride,
But are not limited to, trimellitic acid, trimellitic anhydride, cyclohexanetricarboxylic acid, cyclohexanetricarboxylic acid anhydride, pyromellitic acid, hydrogenated pyromellitic acid, pyromellitic acid anhydride, hydrogenated pyromellitic anhydride, hexahydrophthalic anhydride , And methylhexahydrophthalic anhydride is 1% by weight to 90% by weight of the total amount of the compound.
제 12 항 내지 제 14 항 중 어느 한 항에 있어서,
그 경화물의 유리전이온도(Tg)가 30℃ 이상인, 열경화성 수지 조성물.
15. The method according to any one of claims 12 to 14,
Wherein the cured product has a glass transition temperature (Tg) of 30 占 폚 or higher.
제 12 항 내지 제 15 항 중 어느 한 항에 기재된 열경화성 수지 조성물을 열경화해서 이루어지는 경화물.A cured product obtained by thermally curing the thermosetting resin composition according to any one of claims 12 to 15. 제 16 항에 기재된 경화물에 의해 밀봉된 광반도체 장치.A photosemiconductor device sealed with the cured product according to claim 16. 제 16 항에 기재된 경화물을 반사재로서 사용한 광반도체 장치.A photosemiconductor device using the cured product according to claim 16 as a reflective material.
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