JP6669653B2 - Polyvalent carboxylic acid, polyvalent carboxylic acid composition containing the same, epoxy resin composition, thermosetting resin composition, cured product thereof, and optical semiconductor device - Google Patents
Polyvalent carboxylic acid, polyvalent carboxylic acid composition containing the same, epoxy resin composition, thermosetting resin composition, cured product thereof, and optical semiconductor device Download PDFInfo
- Publication number
- JP6669653B2 JP6669653B2 JP2016535981A JP2016535981A JP6669653B2 JP 6669653 B2 JP6669653 B2 JP 6669653B2 JP 2016535981 A JP2016535981 A JP 2016535981A JP 2016535981 A JP2016535981 A JP 2016535981A JP 6669653 B2 JP6669653 B2 JP 6669653B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- acid
- anhydride
- resin composition
- epoxy resin
- group
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims description 199
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 title claims description 161
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 title claims description 161
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 title claims description 149
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 title claims description 92
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 title claims description 83
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims description 54
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims description 38
- -1 isocyanurate compound Chemical class 0.000 claims description 194
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 147
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 116
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 72
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 72
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 61
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims description 55
- CYIDZMCFTVVTJO-UHFFFAOYSA-N pyromellitic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC(C(O)=O)=C(C(O)=O)C=C1C(O)=O CYIDZMCFTVVTJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 48
- ARCGXLSVLAOJQL-UHFFFAOYSA-N trimellitic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C(C(O)=O)=C1 ARCGXLSVLAOJQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 34
- ANSXAPJVJOKRDJ-UHFFFAOYSA-N furo[3,4-f][2]benzofuran-1,3,5,7-tetrone Chemical compound C1=C2C(=O)OC(=O)C2=CC2=C1C(=O)OC2=O ANSXAPJVJOKRDJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 32
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 31
- MUTGBJKUEZFXGO-OLQVQODUSA-N (3as,7ar)-3a,4,5,6,7,7a-hexahydro-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C1CCC[C@@H]2C(=O)OC(=O)[C@@H]21 MUTGBJKUEZFXGO-OLQVQODUSA-N 0.000 claims description 24
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 claims description 23
- VYKXQOYUCMREIS-UHFFFAOYSA-N methylhexahydrophthalic anhydride Chemical compound C1CCCC2C(=O)OC(=O)C21C VYKXQOYUCMREIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 22
- SRPWOOOHEPICQU-UHFFFAOYSA-N trimellitic anhydride Chemical compound OC(=O)C1=CC=C2C(=O)OC(=O)C2=C1 SRPWOOOHEPICQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 17
- MNUSMUGFHGAOIW-UHFFFAOYSA-N cyclohexane-1,1,2-tricarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1CCCCC1(C(O)=O)C(O)=O MNUSMUGFHGAOIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- NAWXUBYGYWOOIX-SFHVURJKSA-N (2s)-2-[[4-[2-(2,4-diaminoquinazolin-6-yl)ethyl]benzoyl]amino]-4-methylidenepentanedioic acid Chemical compound C1=CC2=NC(N)=NC(N)=C2C=C1CCC1=CC=C(C(=O)N[C@@H](CC(=C)C(O)=O)C(O)=O)C=C1 NAWXUBYGYWOOIX-SFHVURJKSA-N 0.000 claims description 10
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 claims description 10
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 10
- 239000000344 soap Substances 0.000 claims description 10
- 239000000376 reactant Substances 0.000 claims description 8
- 239000011701 zinc Substances 0.000 claims description 8
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 150000008064 anhydrides Chemical class 0.000 claims description 3
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 137
- 239000000047 product Substances 0.000 description 112
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 46
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 41
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 description 40
- 239000000463 material Substances 0.000 description 38
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 33
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 33
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 32
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 32
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 30
- 238000000034 method Methods 0.000 description 30
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 29
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 29
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 29
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 28
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 28
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 26
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 26
- 150000005846 sugar alcohols Polymers 0.000 description 26
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 25
- 239000010408 film Substances 0.000 description 23
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 23
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 description 21
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 21
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 20
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 description 19
- 239000003566 sealing material Substances 0.000 description 19
- 230000004580 weight loss Effects 0.000 description 19
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 18
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 18
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 18
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 18
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 18
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 18
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 17
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 17
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 17
- 229910001868 water Inorganic materials 0.000 description 17
- FKBMTBAXDISZGN-UHFFFAOYSA-N 5-methyl-3a,4,5,6,7,7a-hexahydro-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C1C(C)CCC2C(=O)OC(=O)C12 FKBMTBAXDISZGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 16
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 16
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 16
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 16
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 16
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N imidazole Natural products C1=CNC=N1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N isocyanuric acid Chemical compound OC1=NC(O)=NC(O)=N1 ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 15
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 15
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 13
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 13
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 13
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 13
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 12
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 12
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 11
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 11
- 238000004898 kneading Methods 0.000 description 11
- CHJMFFKHPHCQIJ-UHFFFAOYSA-L zinc;octanoate Chemical compound [Zn+2].CCCCCCCC([O-])=O.CCCCCCCC([O-])=O CHJMFFKHPHCQIJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 11
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 10
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 10
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 10
- 239000012321 sodium triacetoxyborohydride Substances 0.000 description 10
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 10
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 10
- YWVFNWVZBAWOOY-UHFFFAOYSA-N 4-methylcyclohexane-1,2-dicarboxylic acid Chemical compound CC1CCC(C(O)=O)C(C(O)=O)C1 YWVFNWVZBAWOOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 9
- PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N bisphenol F Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1CC1=CC=C(O)C=C1 PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 238000013329 compounding Methods 0.000 description 9
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 description 9
- XOOUIPVCVHRTMJ-UHFFFAOYSA-L zinc stearate Chemical compound [Zn+2].CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O.CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O XOOUIPVCVHRTMJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 9
- FWHUTKPMCKSUCV-UHFFFAOYSA-N 1,3-dioxo-3a,4,5,6,7,7a-hexahydro-2-benzofuran-5-carboxylic acid Chemical compound C1C(C(=O)O)CCC2C(=O)OC(=O)C12 FWHUTKPMCKSUCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- VPWNQTHUCYMVMZ-UHFFFAOYSA-N 4,4'-sulfonyldiphenol Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1S(=O)(=O)C1=CC=C(O)C=C1 VPWNQTHUCYMVMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 8
- UMRZSTCPUPJPOJ-KNVOCYPGSA-N norbornane Chemical group C1C[C@H]2CC[C@@H]1C2 UMRZSTCPUPJPOJ-KNVOCYPGSA-N 0.000 description 8
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 8
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 8
- BPXVHIRIPLPOPT-UHFFFAOYSA-N 1,3,5-tris(2-hydroxyethyl)-1,3,5-triazinane-2,4,6-trione Chemical compound OCCN1C(=O)N(CCO)C(=O)N(CCO)C1=O BPXVHIRIPLPOPT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- QCBSYPYHCJMQGB-UHFFFAOYSA-N 2-ethyl-1,3,5-triazine Chemical compound CCC1=NC=NC=N1 QCBSYPYHCJMQGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 7
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 7
- 239000007822 coupling agent Substances 0.000 description 7
- 150000001924 cycloalkanes Chemical group 0.000 description 7
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 125000003055 glycidyl group Chemical group C(C1CO1)* 0.000 description 7
- 239000011256 inorganic filler Substances 0.000 description 7
- 229910003475 inorganic filler Inorganic materials 0.000 description 7
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 7
- OTLDLKLSNZMTTA-UHFFFAOYSA-N octahydro-1h-4,7-methanoindene-1,5-diyldimethanol Chemical compound C1C2C3C(CO)CCC3C1C(CO)C2 OTLDLKLSNZMTTA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- WWZKQHOCKIZLMA-UHFFFAOYSA-N octanoic acid Chemical compound CCCCCCCC(O)=O WWZKQHOCKIZLMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 7
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 7
- 238000010926 purge Methods 0.000 description 7
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 7
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 description 7
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 7
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L Calcium carbonate Chemical compound [Ca+2].[O-]C([O-])=O VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 6
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000004018 acid anhydride group Chemical group 0.000 description 6
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 6
- BGTOWKSIORTVQH-UHFFFAOYSA-N cyclopentanone Chemical compound O=C1CCCC1 BGTOWKSIORTVQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- LSDYBCGXPCFFNM-UHFFFAOYSA-M dimethyl phosphate;tributyl(methyl)phosphanium Chemical compound COP([O-])(=O)OC.CCCC[P+](C)(CCCC)CCCC LSDYBCGXPCFFNM-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical group [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 6
- 125000000816 ethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 6
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 6
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 6
- VDZOOKBUILJEDG-UHFFFAOYSA-M tetrabutylammonium hydroxide Chemical compound [OH-].CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CCCC VDZOOKBUILJEDG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M tetramethylammonium hydroxide Chemical compound [OH-].C[N+](C)(C)C WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- PFANXOISJYKQRP-UHFFFAOYSA-N 2-tert-butyl-4-[1-(5-tert-butyl-4-hydroxy-2-methylphenyl)butyl]-5-methylphenol Chemical compound C=1C(C(C)(C)C)=C(O)C=C(C)C=1C(CCC)C1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C=C1C PFANXOISJYKQRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- MWSKJDNQKGCKPA-UHFFFAOYSA-N 6-methyl-3a,4,5,7a-tetrahydro-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C1CC(C)=CC2C(=O)OC(=O)C12 MWSKJDNQKGCKPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 5
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 5
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- VYGUBTIWNBFFMQ-UHFFFAOYSA-N [N+](#[C-])N1C(=O)NC=2NC(=O)NC2C1=O Chemical group [N+](#[C-])N1C(=O)NC=2NC(=O)NC2C1=O VYGUBTIWNBFFMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000001476 alcoholic effect Effects 0.000 description 5
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 5
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 5
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 5
- 150000001244 carboxylic acid anhydrides Chemical class 0.000 description 5
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 5
- GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N diglycidyl ether Chemical class C1OC1COCC1CO1 GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000012776 electronic material Substances 0.000 description 5
- 239000008393 encapsulating agent Substances 0.000 description 5
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 5
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 5
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 5
- VANNPISTIUFMLH-UHFFFAOYSA-N glutaric anhydride Chemical compound O=C1CCCC(=O)O1 VANNPISTIUFMLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 5
- 239000004611 light stabiliser Substances 0.000 description 5
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 5
- ZUZLIXGTXQBUDC-UHFFFAOYSA-N methyltrioctylammonium Chemical compound CCCCCCCC[N+](C)(CCCCCCCC)CCCCCCCC ZUZLIXGTXQBUDC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- NFHFRUOZVGFOOS-UHFFFAOYSA-N palladium;triphenylphosphane Chemical compound [Pd].C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 NFHFRUOZVGFOOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 5
- 150000004714 phosphonium salts Chemical class 0.000 description 5
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 5
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 5
- 125000005372 silanol group Chemical group 0.000 description 5
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000012463 white pigment Substances 0.000 description 5
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 5
- ICKWICRCANNIBI-UHFFFAOYSA-N 2,4-di-tert-butylphenol Chemical compound CC(C)(C)C1=CC=C(O)C(C(C)(C)C)=C1 ICKWICRCANNIBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- FALRKNHUBBKYCC-UHFFFAOYSA-N 2-(chloromethyl)pyridine-3-carbonitrile Chemical compound ClCC1=NC=CC=C1C#N FALRKNHUBBKYCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- DSKYSDCYIODJPC-UHFFFAOYSA-N 2-butyl-2-ethylpropane-1,3-diol Chemical compound CCCCC(CC)(CO)CO DSKYSDCYIODJPC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- YVPZFPKENDZQEJ-UHFFFAOYSA-N 4-propylcyclohexan-1-ol Chemical compound CCCC1CCC(O)CC1 YVPZFPKENDZQEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N Methanesulfonic acid Chemical compound CS(O)(=O)=O AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N Phosphine Chemical compound P XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N Terephthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-N Trifluoroacetic acid Chemical compound OC(=O)C(F)(F)F DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000007259 addition reaction Methods 0.000 description 4
- ZIXLDMFVRPABBX-UHFFFAOYSA-N alpha-methylcyclopentanone Natural products CC1CCCC1=O ZIXLDMFVRPABBX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 description 4
- WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N butane-1,4-diol Chemical compound OCCCCO WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 4
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 4
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 4
- WJLUBOLDZCQZEV-UHFFFAOYSA-M hexadecyl(trimethyl)azanium;hydroxide Chemical compound [OH-].CCCCCCCCCCCCCCCC[N+](C)(C)C WJLUBOLDZCQZEV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 4
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M hydroxide Chemical compound [OH-] XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 150000002460 imidazoles Chemical class 0.000 description 4
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 4
- QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N isophthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(C(O)=O)=C1 QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 4
- PMOIAJVKYNVHQE-UHFFFAOYSA-N phosphanium;bromide Chemical group [PH4+].[Br-] PMOIAJVKYNVHQE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N phthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 4
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 4
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 4
- GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N resorcinol Chemical compound OC1=CC=CC(O)=C1 GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229940014800 succinic anhydride Drugs 0.000 description 4
- RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N triphenylphosphine Chemical compound C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- GAAKLDANOSASAM-UHFFFAOYSA-N undec-10-enoic acid;zinc Chemical compound [Zn].OC(=O)CCCCCCCCC=C GAAKLDANOSASAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229940118257 zinc undecylenate Drugs 0.000 description 4
- OUPZKGBUJRBPGC-UHFFFAOYSA-N 1,3,5-tris(oxiran-2-ylmethyl)-1,3,5-triazinane-2,4,6-trione Chemical compound O=C1N(CC2OC2)C(=O)N(CC2OC2)C(=O)N1CC1CO1 OUPZKGBUJRBPGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RTBFRGCFXZNCOE-UHFFFAOYSA-N 1-methylsulfonylpiperidin-4-one Chemical compound CS(=O)(=O)N1CCC(=O)CC1 RTBFRGCFXZNCOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- GQHTUMJGOHRCHB-UHFFFAOYSA-N 2,3,4,6,7,8,9,10-octahydropyrimido[1,2-a]azepine Chemical compound C1CCCCN2CCCN=C21 GQHTUMJGOHRCHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RGAHHPQKNPTZEY-UHFFFAOYSA-N 2-ethyl-4-methylhexane-1,1-diol Chemical compound CCC(C)CC(CC)C(O)O RGAHHPQKNPTZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N Epichlorohydrin Chemical compound ClCC1CO1 BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 3
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N Magnesium oxide Chemical compound [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKIZCWYLBDKLSU-UHFFFAOYSA-M N,N,N-Trimethylmethanaminium chloride Chemical compound [Cl-].C[N+](C)(C)C OKIZCWYLBDKLSU-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- STLLXWLDRUVCHL-UHFFFAOYSA-N [2-[1-[2-hydroxy-3,5-bis(2-methylbutan-2-yl)phenyl]ethyl]-4,6-bis(2-methylbutan-2-yl)phenyl] prop-2-enoate Chemical compound CCC(C)(C)C1=CC(C(C)(C)CC)=CC(C(C)C=2C(=C(C=C(C=2)C(C)(C)CC)C(C)(C)CC)OC(=O)C=C)=C1O STLLXWLDRUVCHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000003158 alcohol group Chemical group 0.000 description 3
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 description 3
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 3
- JFCQEDHGNNZCLN-UHFFFAOYSA-N anhydrous glutaric acid Natural products OC(=O)CCCC(O)=O JFCQEDHGNNZCLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 3
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 3
- IIWFPIKUKKAYDT-UHFFFAOYSA-N bicyclo[2.2.1]hept-2-ene-3,4-diol Chemical compound C1CC2(O)C(O)=CC1C2 IIWFPIKUKKAYDT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 3
- XITRBUPOXXBIJN-UHFFFAOYSA-N bis(2,2,6,6-tetramethylpiperidin-4-yl) decanedioate Chemical compound C1C(C)(C)NC(C)(C)CC1OC(=O)CCCCCCCCC(=O)OC1CC(C)(C)NC(C)(C)C1 XITRBUPOXXBIJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- IJRVQAXSAHHCNH-UHFFFAOYSA-M butyl(trimethyl)azanium;hydroxide Chemical compound [OH-].CCCC[N+](C)(C)C IJRVQAXSAHHCNH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 229910000019 calcium carbonate Inorganic materials 0.000 description 3
- 235000010216 calcium carbonate Nutrition 0.000 description 3
- CJZGTCYPCWQAJB-UHFFFAOYSA-L calcium stearate Chemical compound [Ca+2].CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O.CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O CJZGTCYPCWQAJB-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- 235000013539 calcium stearate Nutrition 0.000 description 3
- 239000008116 calcium stearate Substances 0.000 description 3
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 description 3
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 3
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 3
- 229910002026 crystalline silica Inorganic materials 0.000 description 3
- QGBSISYHAICWAH-UHFFFAOYSA-N dicyandiamide Chemical compound NC(N)=NC#N QGBSISYHAICWAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WHGNXNCOTZPEEK-UHFFFAOYSA-N dimethoxy-methyl-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCOCC1CO1 WHGNXNCOTZPEEK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N diphenyl Chemical group C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000003814 drug Substances 0.000 description 3
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 3
- KVFVBPYVNUCWJX-UHFFFAOYSA-M ethyl(trimethyl)azanium;hydroxide Chemical compound [OH-].CC[N+](C)(C)C KVFVBPYVNUCWJX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 3
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 3
- 239000002657 fibrous material Substances 0.000 description 3
- 239000005350 fused silica glass Substances 0.000 description 3
- 125000004836 hexamethylene group Chemical group [H]C([H])([*:2])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[*:1] 0.000 description 3
- XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diol Chemical compound OCCCCCCO XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 238000006459 hydrosilylation reaction Methods 0.000 description 3
- VTHJTEIRLNZDEV-UHFFFAOYSA-L magnesium dihydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Mg+2] VTHJTEIRLNZDEV-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- 239000000347 magnesium hydroxide Substances 0.000 description 3
- 229910001862 magnesium hydroxide Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011572 manganese Substances 0.000 description 3
- 125000001570 methylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])[*:2] 0.000 description 3
- 239000012778 molding material Substances 0.000 description 3
- PSHKMPUSSFXUIA-UHFFFAOYSA-N n,n-dimethylpyridin-2-amine Chemical compound CN(C)C1=CC=CC=N1 PSHKMPUSSFXUIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N neopentyl glycol Chemical compound OCC(C)(C)CO SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N olefin Natural products CCCCCCCC=C JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 description 3
- 230000005693 optoelectronics Effects 0.000 description 3
- AFEQENGXSMURHA-UHFFFAOYSA-N oxiran-2-ylmethanamine Chemical compound NCC1CO1 AFEQENGXSMURHA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 description 3
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 3
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 3
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 3
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000003242 quaternary ammonium salts Chemical class 0.000 description 3
- 230000003014 reinforcing effect Effects 0.000 description 3
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 3
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 3
- 229910052596 spinel Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011029 spinel Substances 0.000 description 3
- 238000005486 sulfidation Methods 0.000 description 3
- 229940073455 tetraethylammonium hydroxide Drugs 0.000 description 3
- LRGJRHZIDJQFCL-UHFFFAOYSA-M tetraethylazanium;hydroxide Chemical compound [OH-].CC[N+](CC)(CC)CC LRGJRHZIDJQFCL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- DDFYFBUWEBINLX-UHFFFAOYSA-M tetramethylammonium bromide Chemical compound [Br-].C[N+](C)(C)C DDFYFBUWEBINLX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- MRYQZMHVZZSQRT-UHFFFAOYSA-M tetramethylazanium;acetate Chemical compound CC([O-])=O.C[N+](C)(C)C MRYQZMHVZZSQRT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- RXMRGBVLCSYIBO-UHFFFAOYSA-M tetramethylazanium;iodide Chemical compound [I-].C[N+](C)(C)C RXMRGBVLCSYIBO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- LPSKDVINWQNWFE-UHFFFAOYSA-M tetrapropylazanium;hydroxide Chemical compound [OH-].CCC[N+](CCC)(CCC)CCC LPSKDVINWQNWFE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 3
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 3
- OLNCQUXQEJCISO-UHFFFAOYSA-M trimethyl(propyl)azanium;hydroxide Chemical compound [OH-].CCC[N+](C)(C)C OLNCQUXQEJCISO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 150000003751 zinc Chemical class 0.000 description 3
- FRZSCIVUSFMNBX-UHFFFAOYSA-L zinc;12-hydroxyoctadecanoate Chemical compound [Zn+2].CCCCCCC(O)CCCCCCCCCCC([O-])=O.CCCCCCC(O)CCCCCCCCCCC([O-])=O FRZSCIVUSFMNBX-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- IJQXGKBNDNQWAT-UHFFFAOYSA-L zinc;docosanoate Chemical compound [Zn+2].CCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O.CCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O IJQXGKBNDNQWAT-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- LTVUCOSIZFEASK-MPXCPUAZSA-N (3ar,4s,7r,7as)-3a-methyl-3a,4,7,7a-tetrahydro-4,7-methano-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C([C@H]1C=C2)[C@H]2[C@H]2[C@]1(C)C(=O)OC2=O LTVUCOSIZFEASK-MPXCPUAZSA-N 0.000 description 2
- KNDQHSIWLOJIGP-UMRXKNAASA-N (3ar,4s,7r,7as)-rel-3a,4,7,7a-tetrahydro-4,7-methanoisobenzofuran-1,3-dione Chemical compound O=C1OC(=O)[C@@H]2[C@H]1[C@]1([H])C=C[C@@]2([H])C1 KNDQHSIWLOJIGP-UMRXKNAASA-N 0.000 description 2
- KMOUUZVZFBCRAM-OLQVQODUSA-N (3as,7ar)-3a,4,7,7a-tetrahydro-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C1C=CC[C@@H]2C(=O)OC(=O)[C@@H]21 KMOUUZVZFBCRAM-OLQVQODUSA-N 0.000 description 2
- RUEBPOOTFCZRBC-UHFFFAOYSA-N (5-methyl-2-phenyl-1h-imidazol-4-yl)methanol Chemical compound OCC1=C(C)NC(C=2C=CC=CC=2)=N1 RUEBPOOTFCZRBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VNQNXQYZMPJLQX-UHFFFAOYSA-N 1,3,5-tris[(3,5-ditert-butyl-4-hydroxyphenyl)methyl]-1,3,5-triazinane-2,4,6-trione Chemical compound CC(C)(C)C1=C(O)C(C(C)(C)C)=CC(CN2C(N(CC=3C=C(C(O)=C(C=3)C(C)(C)C)C(C)(C)C)C(=O)N(CC=3C=C(C(O)=C(C=3)C(C)(C)C)C(C)(C)C)C2=O)=O)=C1 VNQNXQYZMPJLQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FBHPRUXJQNWTEW-UHFFFAOYSA-N 1-benzyl-2-methylimidazole Chemical compound CC1=NC=CN1CC1=CC=CC=C1 FBHPRUXJQNWTEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XZKLXPPYISZJCV-UHFFFAOYSA-N 1-benzyl-2-phenylimidazole Chemical compound C1=CN=C(C=2C=CC=CC=2)N1CC1=CC=CC=C1 XZKLXPPYISZJCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HECLRDQVFMWTQS-RGOKHQFPSA-N 1755-01-7 Chemical group C1[C@H]2[C@@H]3CC=C[C@@H]3[C@@H]1C=C2 HECLRDQVFMWTQS-RGOKHQFPSA-N 0.000 description 2
- DPDQQGBQYIBXDX-UHFFFAOYSA-N 2,4,6-tris(aminomethyl)phenol Chemical compound NCC1=CC(CN)=C(O)C(CN)=C1 DPDQQGBQYIBXDX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WMVJWKURWRGJCI-UHFFFAOYSA-N 2,4-bis(2-methylbutan-2-yl)phenol Chemical compound CCC(C)(C)C1=CC=C(O)C(C(C)(C)CC)=C1 WMVJWKURWRGJCI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OJRJDENLRJHEJO-UHFFFAOYSA-N 2,4-diethylpentane-1,5-diol Chemical compound CCC(CO)CC(CC)CO OJRJDENLRJHEJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JECYUBVRTQDVAT-UHFFFAOYSA-N 2-acetylphenol Chemical compound CC(=O)C1=CC=CC=C1O JECYUBVRTQDVAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YTWBFUCJVWKCCK-UHFFFAOYSA-N 2-heptadecyl-1h-imidazole Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC1=NC=CN1 YTWBFUCJVWKCCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LXBGSDVWAMZHDD-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1h-imidazole Chemical compound CC1=NC=CN1 LXBGSDVWAMZHDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QXSNXUCNBZLVFM-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1h-imidazole;1,3,5-triazinane-2,4,6-trione Chemical compound CC1=NC=CN1.O=C1NC(=O)NC(=O)N1 QXSNXUCNBZLVFM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZCUJYXPAKHMBAZ-UHFFFAOYSA-N 2-phenyl-1h-imidazole Chemical compound C1=CNC(C=2C=CC=CC=2)=N1 ZCUJYXPAKHMBAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RJIQELZAIWFNTQ-UHFFFAOYSA-N 2-phenyl-1h-imidazole;1,3,5-triazinane-2,4,6-trione Chemical compound O=C1NC(=O)NC(=O)N1.C1=CNC(C=2C=CC=CC=2)=N1 RJIQELZAIWFNTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HXIQYSLFEXIOAV-UHFFFAOYSA-N 2-tert-butyl-4-(5-tert-butyl-4-hydroxy-2-methylphenyl)sulfanyl-5-methylphenol Chemical compound CC1=CC(O)=C(C(C)(C)C)C=C1SC1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C=C1C HXIQYSLFEXIOAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IKEHOXWJQXIQAG-UHFFFAOYSA-N 2-tert-butyl-4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C(C(C)(C)C)=C1 IKEHOXWJQXIQAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LLEASVZEQBICSN-UHFFFAOYSA-N 2-undecyl-1h-imidazole Chemical compound CCCCCCCCCCCC1=NC=CN1 LLEASVZEQBICSN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PUMIRPCJLHGLOT-UHFFFAOYSA-N 3,5-diethyloxane-2,6-dione Chemical compound CCC1CC(CC)C(=O)OC1=O PUMIRPCJLHGLOT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AIBRSVLEQRWAEG-UHFFFAOYSA-N 3,9-bis(2,4-ditert-butylphenoxy)-2,4,8,10-tetraoxa-3,9-diphosphaspiro[5.5]undecane Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(C(C)(C)C)=CC=C1OP1OCC2(COP(OC=3C(=CC(=CC=3)C(C)(C)C)C(C)(C)C)OC2)CO1 AIBRSVLEQRWAEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SSADPHQCUURWSW-UHFFFAOYSA-N 3,9-bis(2,6-ditert-butyl-4-methylphenoxy)-2,4,8,10-tetraoxa-3,9-diphosphaspiro[5.5]undecane Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(C)=CC(C(C)(C)C)=C1OP1OCC2(COP(OC=3C(=CC(C)=CC=3C(C)(C)C)C(C)(C)C)OC2)CO1 SSADPHQCUURWSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SESYNEDUKZDRJL-UHFFFAOYSA-N 3-(2-methylimidazol-1-yl)propanenitrile Chemical compound CC1=NC=CN1CCC#N SESYNEDUKZDRJL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BVYPJEBKDLFIDL-UHFFFAOYSA-N 3-(2-phenylimidazol-1-yl)propanenitrile Chemical compound N#CCCN1C=CN=C1C1=CC=CC=C1 BVYPJEBKDLFIDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SZUPZARBRLCVCB-UHFFFAOYSA-N 3-(2-undecylimidazol-1-yl)propanenitrile Chemical compound CCCCCCCCCCCC1=NC=CN1CCC#N SZUPZARBRLCVCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SLJFKNONPLNAPF-UHFFFAOYSA-N 3-Vinyl-7-oxabicyclo[4.1.0]heptane Chemical compound C1C(C=C)CCC2OC21 SLJFKNONPLNAPF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XMYFZAWUNVHVGI-UHFFFAOYSA-N 3-ethylpent-2-ene Chemical group CCC(CC)=CC XMYFZAWUNVHVGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- TXFPEBPIARQUIG-UHFFFAOYSA-N 4'-hydroxyacetophenone Chemical compound CC(=O)C1=CC=C(O)C=C1 TXFPEBPIARQUIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RGHHSNMVTDWUBI-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxybenzaldehyde Chemical compound OC1=CC=C(C=O)C=C1 RGHHSNMVTDWUBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLSZMDLNRCVEIJ-UHFFFAOYSA-N 4-methylimidazole Chemical compound CC1=CNC=N1 XLSZMDLNRCVEIJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- TYOXIFXYEIILLY-UHFFFAOYSA-N 5-methyl-2-phenyl-1h-imidazole Chemical compound N1C(C)=CN=C1C1=CC=CC=C1 TYOXIFXYEIILLY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LQOPXMZSGSTGMF-UHFFFAOYSA-N 6004-79-1 Chemical compound C1CC2C3C(=O)OC(=O)C3C1C2 LQOPXMZSGSTGMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OXQXGKNECHBVMO-UHFFFAOYSA-N 7-oxabicyclo[4.1.0]heptane-4-carboxylic acid Chemical compound C1C(C(=O)O)CCC2OC21 OXQXGKNECHBVMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N Aniline Chemical compound NC1=CC=CC=C1 PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052582 BN Inorganic materials 0.000 description 2
- 229930185605 Bisphenol Natural products 0.000 description 2
- PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N Boron nitride Chemical compound N#B PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000049 Carbon (fiber) Polymers 0.000 description 2
- LZZYPRNAOMGNLH-UHFFFAOYSA-M Cetrimonium bromide Chemical compound [Br-].CCCCCCCCCCCCCCCC[N+](C)(C)C LZZYPRNAOMGNLH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VQTUBCCKSQIDNK-UHFFFAOYSA-N Isobutene Chemical group CC(C)=C VQTUBCCKSQIDNK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FFOPEPMHKILNIT-UHFFFAOYSA-N Isopropyl butyrate Chemical compound CCCC(=O)OC(C)C FFOPEPMHKILNIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002841 Lewis acid Substances 0.000 description 2
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PESHMIZWUHWUJC-UHFFFAOYSA-N OC(C(CCCC1)C1C(OCCN(C(N(CCOC(C(CCCC1)C1C(O)=O)=O)C(N1CCOC(C(CCCC2)C2C(O)=O)=O)=O)=O)C1=O)=O)=O Chemical compound OC(C(CCCC1)C1C(OCCN(C(N(CCOC(C(CCCC1)C1C(O)=O)=O)C(N1CCOC(C(CCCC2)C2C(O)=O)=O)=O)=O)C1=O)=O)=O PESHMIZWUHWUJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KFSLWBXXFJQRDL-UHFFFAOYSA-N Peracetic acid Chemical compound CC(=O)OO KFSLWBXXFJQRDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LGRFSURHDFAFJT-UHFFFAOYSA-N Phthalic anhydride Natural products C1=CC=C2C(=O)OC(=O)C2=C1 LGRFSURHDFAFJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 2
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 2
- ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N Propane Chemical compound CCC ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 2
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZFDXZGUFUMAREO-UHFFFAOYSA-N [1-(hydroxymethyl)-2-phenylimidazol-4-yl]methanol Chemical compound OCC1=CN(CO)C(C=2C=CC=CC=2)=N1 ZFDXZGUFUMAREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IORUEKDKNHHQAL-UHFFFAOYSA-N [2-tert-butyl-6-[(3-tert-butyl-2-hydroxy-5-methylphenyl)methyl]-4-methylphenyl] prop-2-enoate Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(C)=CC(CC=2C(=C(C=C(C)C=2)C(C)(C)C)OC(=O)C=C)=C1O IORUEKDKNHHQAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BGYHLZZASRKEJE-UHFFFAOYSA-N [3-[3-(3,5-ditert-butyl-4-hydroxyphenyl)propanoyloxy]-2,2-bis[3-(3,5-ditert-butyl-4-hydroxyphenyl)propanoyloxymethyl]propyl] 3-(3,5-ditert-butyl-4-hydroxyphenyl)propanoate Chemical compound CC(C)(C)C1=C(O)C(C(C)(C)C)=CC(CCC(=O)OCC(COC(=O)CCC=2C=C(C(O)=C(C=2)C(C)(C)C)C(C)(C)C)(COC(=O)CCC=2C=C(C(O)=C(C=2)C(C)(C)C)C(C)(C)C)COC(=O)CCC=2C=C(C(O)=C(C=2)C(C)(C)C)C(C)(C)C)=C1 BGYHLZZASRKEJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MWKGOHCHXBLCSH-UHFFFAOYSA-L [Zn+2].CCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O.CCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O Chemical compound [Zn+2].CCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O.CCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O MWKGOHCHXBLCSH-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- GTDPSWPPOUPBNX-UHFFFAOYSA-N ac1mqpva Chemical compound CC12C(=O)OC(=O)C1(C)C1(C)C2(C)C(=O)OC1=O GTDPSWPPOUPBNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 2
- 239000004844 aliphatic epoxy resin Substances 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 2
- 229910000410 antimony oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 2
- HUMNYLRZRPPJDN-UHFFFAOYSA-N benzaldehyde Chemical compound O=CC1=CC=CC=C1 HUMNYLRZRPPJDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UCMIRNVEIXFBKS-UHFFFAOYSA-N beta-alanine Chemical compound NCCC(O)=O UCMIRNVEIXFBKS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000010290 biphenyl Nutrition 0.000 description 2
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 description 2
- IMHDGJOMLMDPJN-UHFFFAOYSA-N biphenyl-2,2'-diol Chemical compound OC1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1O IMHDGJOMLMDPJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VCCBEIPGXKNHFW-UHFFFAOYSA-N biphenyl-4,4'-diol Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1C1=CC=C(O)C=C1 VCCBEIPGXKNHFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007767 bonding agent Substances 0.000 description 2
- JHIWVOJDXOSYLW-UHFFFAOYSA-N butyl 2,2-difluorocyclopropane-1-carboxylate Chemical compound CCCCOC(=O)C1CC1(F)F JHIWVOJDXOSYLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000378 calcium silicate Substances 0.000 description 2
- 229910052918 calcium silicate Inorganic materials 0.000 description 2
- OYACROKNLOSFPA-UHFFFAOYSA-N calcium;dioxido(oxo)silane Chemical compound [Ca+2].[O-][Si]([O-])=O OYACROKNLOSFPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YBGHFLPNIGPGHX-UHFFFAOYSA-N calcium;octan-1-olate Chemical compound [Ca+2].CCCCCCCC[O-].CCCCCCCC[O-] YBGHFLPNIGPGHX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004917 carbon fiber Substances 0.000 description 2
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 2
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 2
- 229920001577 copolymer Chemical class 0.000 description 2
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 2
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 2
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 2
- 150000001896 cresols Chemical class 0.000 description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 2
- OZEHOHQZIRILDX-UHFFFAOYSA-N ctk1b7797 Chemical compound O=C1OC(=O)C2C1C1(C)CC2CC1 OZEHOHQZIRILDX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZWAJLVLEBYIOTI-UHFFFAOYSA-N cyclohexene oxide Chemical compound C1CCCC2OC21 ZWAJLVLEBYIOTI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 2
- 239000004205 dimethyl polysiloxane Substances 0.000 description 2
- 150000002009 diols Chemical class 0.000 description 2
- ZZTCPWRAHWXWCH-UHFFFAOYSA-N diphenylmethanediamine Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(N)(N)C1=CC=CC=C1 ZZTCPWRAHWXWCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007922 dissolution test Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000005538 encapsulation Methods 0.000 description 2
- LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-hydroxypropanoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)O LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 2
- 125000003983 fluorenyl group Chemical group C1(=CC=CC=2C3=CC=CC=C3CC12)* 0.000 description 2
- HYBBIBNJHNGZAN-UHFFFAOYSA-N furfural Chemical compound O=CC1=CC=CO1 HYBBIBNJHNGZAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002391 heterocyclic compounds Chemical class 0.000 description 2
- IPCSVZSSVZVIGE-UHFFFAOYSA-N hexadecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O IPCSVZSSVZVIGE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000004687 hexahydrates Chemical class 0.000 description 2
- NAQMVNRVTILPCV-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diamine Chemical compound NCCCCCCN NAQMVNRVTILPCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 2
- 125000001841 imino group Chemical group [H]N=* 0.000 description 2
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 2
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 2
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 2
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 2
- 150000007517 lewis acids Chemical class 0.000 description 2
- 125000005647 linker group Chemical group 0.000 description 2
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 2
- HQKMJHAJHXVSDF-UHFFFAOYSA-L magnesium stearate Chemical compound [Mg+2].CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O.CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O HQKMJHAJHXVSDF-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N magnesium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[Mg+2] AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 2
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 2
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 2
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 description 2
- 229940098779 methanesulfonic acid Drugs 0.000 description 2
- TZIHFWKZFHZASV-UHFFFAOYSA-N methyl formate Chemical compound COC=O TZIHFWKZFHZASV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003094 microcapsule Substances 0.000 description 2
- 239000003607 modifier Substances 0.000 description 2
- KYTZHLUVELPASH-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1,2-dicarboxylic acid Chemical compound C1=CC=CC2=C(C(O)=O)C(C(=O)O)=CC=C21 KYTZHLUVELPASH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NXPPAOGUKPJVDI-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1,2-diol Chemical compound C1=CC=CC2=C(O)C(O)=CC=C21 NXPPAOGUKPJVDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000004780 naphthols Chemical class 0.000 description 2
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 2
- QWVGKYWNOKOFNN-UHFFFAOYSA-N o-cresol Chemical compound CC1=CC=CC=C1O QWVGKYWNOKOFNN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QUAMTGJKVDWJEQ-UHFFFAOYSA-N octabenzone Chemical compound OC1=CC(OCCCCCCCC)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 QUAMTGJKVDWJEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SSDSCDGVMJFTEQ-UHFFFAOYSA-N octadecyl 3-(3,5-ditert-butyl-4-hydroxyphenyl)propanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCOC(=O)CCC1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C(C(C)(C)C)=C1 SSDSCDGVMJFTEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 2
- VTRUBDSFZJNXHI-UHFFFAOYSA-N oxoantimony Chemical compound [Sb]=O VTRUBDSFZJNXHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 2
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004817 pentamethylene group Chemical group [H]C([H])([*:2])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[*:1] 0.000 description 2
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 2
- 150000003003 phosphines Chemical class 0.000 description 2
- 125000005496 phosphonium group Chemical group 0.000 description 2
- OJMIONKXNSYLSR-UHFFFAOYSA-N phosphorous acid Chemical compound OP(O)O OJMIONKXNSYLSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000003018 phosphorus compounds Chemical class 0.000 description 2
- 229910000073 phosphorus hydride Inorganic materials 0.000 description 2
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002798 polar solvent Substances 0.000 description 2
- 229920000435 poly(dimethylsiloxane) Polymers 0.000 description 2
- 229920006122 polyamide resin Polymers 0.000 description 2
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 2
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 2
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 2
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 2
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 2
- RLEFZEWKMQQZOA-UHFFFAOYSA-M potassium;octanoate Chemical compound [K+].CCCCCCCC([O-])=O RLEFZEWKMQQZOA-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 238000004382 potting Methods 0.000 description 2
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 2
- WQGWDDDVZFFDIG-UHFFFAOYSA-N pyrogallol Chemical compound OC1=CC=CC(O)=C1O WQGWDDDVZFFDIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 2
- 239000000565 sealant Substances 0.000 description 2
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 2
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KRZQYDMOEZDDGE-UHFFFAOYSA-N sodium;octan-1-olate Chemical compound [Na+].CCCCCCCC[O-] KRZQYDMOEZDDGE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 2
- KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N succinic acid Chemical compound OC(=O)CCC(O)=O KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005987 sulfurization reaction Methods 0.000 description 2
- 239000000454 talc Substances 0.000 description 2
- 229910052623 talc Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000003505 terpenes Chemical class 0.000 description 2
- 235000007586 terpenes Nutrition 0.000 description 2
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- JRMUNVKIHCOMHV-UHFFFAOYSA-M tetrabutylammonium bromide Chemical compound [Br-].CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CCCC JRMUNVKIHCOMHV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 125000000383 tetramethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 2
- BRKFQVAOMSWFDU-UHFFFAOYSA-M tetraphenylphosphanium;bromide Chemical compound [Br-].C1=CC=CC=C1[P+](C=1C=CC=CC=1)(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 BRKFQVAOMSWFDU-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 150000003536 tetrazoles Chemical class 0.000 description 2
- 230000000930 thermomechanical effect Effects 0.000 description 2
- JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N toluene-4-sulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001721 transfer moulding Methods 0.000 description 2
- 150000003852 triazoles Chemical class 0.000 description 2
- IMFACGCPASFAPR-UHFFFAOYSA-N tributylamine Chemical compound CCCCN(CCCC)CCCC IMFACGCPASFAPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YNJBWRMUSHSURL-UHFFFAOYSA-N trichloroacetic acid Chemical compound OC(=O)C(Cl)(Cl)Cl YNJBWRMUSHSURL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-N triflic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C(F)(F)F ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DQZNLOXENNXVAD-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[2-(7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-yl)ethyl]silane Chemical compound C1C(CC[Si](OC)(OC)OC)CCC2OC21 DQZNLOXENNXVAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOCC1CO1 BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YFTHZRPMJXBUME-UHFFFAOYSA-N tripropylamine Chemical compound CCCN(CCC)CCC YFTHZRPMJXBUME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AJHKJOCIGPIJFZ-UHFFFAOYSA-N tris(2,6-ditert-butylphenyl) phosphite Chemical compound CC(C)(C)C1=CC=CC(C(C)(C)C)=C1OP(OC=1C(=CC=CC=1C(C)(C)C)C(C)(C)C)OC1=C(C(C)(C)C)C=CC=C1C(C)(C)C AJHKJOCIGPIJFZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- COIOYMYWGDAQPM-UHFFFAOYSA-N tris(2-methylphenyl)phosphane Chemical compound CC1=CC=CC=C1P(C=1C(=CC=CC=1)C)C1=CC=CC=C1C COIOYMYWGDAQPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000009849 vacuum degassing Methods 0.000 description 2
- 239000002966 varnish Substances 0.000 description 2
- 229940098697 zinc laurate Drugs 0.000 description 2
- 229940105125 zinc myristate Drugs 0.000 description 2
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 2
- 229940012185 zinc palmitate Drugs 0.000 description 2
- GAWWVVGZMLGEIW-GNNYBVKZSA-L zinc ricinoleate Chemical compound [Zn+2].CCCCCC[C@@H](O)C\C=C/CCCCCCCC([O-])=O.CCCCCC[C@@H](O)C\C=C/CCCCCCCC([O-])=O GAWWVVGZMLGEIW-GNNYBVKZSA-L 0.000 description 2
- 229940100530 zinc ricinoleate Drugs 0.000 description 2
- GPYYEEJOMCKTPR-UHFFFAOYSA-L zinc;dodecanoate Chemical compound [Zn+2].CCCCCCCCCCCC([O-])=O.CCCCCCCCCCCC([O-])=O GPYYEEJOMCKTPR-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- GJAPSKMAVXDBIU-UHFFFAOYSA-L zinc;hexadecanoate Chemical compound [Zn+2].CCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O.CCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O GJAPSKMAVXDBIU-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- GBFLQPIIIRJQLU-UHFFFAOYSA-L zinc;tetradecanoate Chemical compound [Zn+2].CCCCCCCCCCCCCC([O-])=O.CCCCCCCCCCCCCC([O-])=O GBFLQPIIIRJQLU-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 229910052845 zircon Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- GFQYVLUOOAAOGM-UHFFFAOYSA-N zirconium(iv) silicate Chemical compound [Zr+4].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] GFQYVLUOOAAOGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YEYCMBWKTZNPDH-UHFFFAOYSA-N (2,2,6,6-tetramethylpiperidin-4-yl) benzoate Chemical compound C1C(C)(C)NC(C)(C)CC1OC(=O)C1=CC=CC=C1 YEYCMBWKTZNPDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XKMCVHMWMWTINX-UHFFFAOYSA-N (2,3,4-trichlorophenyl) dihydrogen phosphate Chemical compound OP(O)(=O)OC1=CC=C(Cl)C(Cl)=C1Cl XKMCVHMWMWTINX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KJYSXRBJOSZLEL-UHFFFAOYSA-N (2,4-ditert-butylphenyl) 3,5-ditert-butyl-4-hydroxybenzoate Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(C(C)(C)C)=CC=C1OC(=O)C1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C(C(C)(C)C)=C1 KJYSXRBJOSZLEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FGHOOJSIEHYJFQ-UHFFFAOYSA-N (2,4-ditert-butylphenyl) dihydrogen phosphite Chemical compound CC(C)(C)C1=CC=C(OP(O)O)C(C(C)(C)C)=C1 FGHOOJSIEHYJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XMNDMAQKWSQVOV-UHFFFAOYSA-N (2-methylphenyl) diphenyl phosphate Chemical compound CC1=CC=CC=C1OP(=O)(OC=1C=CC=CC=1)OC1=CC=CC=C1 XMNDMAQKWSQVOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WPMYWRWBPPJGRY-UHFFFAOYSA-N (2-tert-butyl-4-methylphenyl) dihydrogen phosphite Chemical compound CC1=CC=C(OP(O)O)C(C(C)(C)C)=C1 WPMYWRWBPPJGRY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N (3-aminopropyl)triethoxysilane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCN WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OLQWMCSSZKNOLQ-ZXZARUISSA-N (3s)-3-[(3r)-2,5-dioxooxolan-3-yl]oxolane-2,5-dione Chemical compound O=C1OC(=O)C[C@H]1[C@@H]1C(=O)OC(=O)C1 OLQWMCSSZKNOLQ-ZXZARUISSA-N 0.000 description 1
- 0 *N(C(N(*OC(*C(O)=O)=O)C(N1I*OC(*C(O)=O)=O)=O)=O)C1=O Chemical compound *N(C(N(*OC(*C(O)=O)=O)C(N1I*OC(*C(O)=O)=O)=O)=O)C1=O 0.000 description 1
- DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N 1,1-Diethoxyethane Chemical compound CCOC(C)OCC DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NWHNXXMYEICZAT-UHFFFAOYSA-N 1,2,2,6,6-pentamethylpiperidin-4-ol Chemical compound CN1C(C)(C)CC(O)CC1(C)C NWHNXXMYEICZAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MRMCMJOXMLGUFT-UHFFFAOYSA-N 1,3,7,9-tetratert-butyl-11-(2-tert-butyl-4-methylphenoxy)-5h-benzo[d][1,3,2]benzodioxaphosphocine Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(C)=CC=C1OP1OC2=C(C(C)(C)C)C=C(C(C)(C)C)C=C2CC(C=C(C=C2C(C)(C)C)C(C)(C)C)=C2O1 MRMCMJOXMLGUFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YYRQGUCZNDDATE-UHFFFAOYSA-N 1,3-dioxo-3a,4,5,6,7,7a-hexahydro-2-benzofuran-4-carboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1CCCC2C(=O)OC(=O)C12 YYRQGUCZNDDATE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WBDUKVMGCKYBBV-UHFFFAOYSA-N 1,9-ditert-butyl-11-(2-tert-butyl-4-methylphenoxy)-3,7-dimethyl-5h-benzo[d][1,3,2]benzodioxaphosphocine Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(C)=CC=C1OP1OC2=C(C(C)(C)C)C=C(C)C=C2CC(C=C(C)C=C2C(C)(C)C)=C2O1 WBDUKVMGCKYBBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MODAACUAXYPNJH-UHFFFAOYSA-N 1-(methoxymethyl)-4-[4-(methoxymethyl)phenyl]benzene Chemical group C1=CC(COC)=CC=C1C1=CC=C(COC)C=C1 MODAACUAXYPNJH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VBICKXHEKHSIBG-UHFFFAOYSA-N 1-monostearoylglycerol Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(=O)OCC(O)CO VBICKXHEKHSIBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KJCVRFUGPWSIIH-UHFFFAOYSA-N 1-naphthol Chemical class C1=CC=C2C(O)=CC=CC2=C1 KJCVRFUGPWSIIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KWKAKUADMBZCLK-UHFFFAOYSA-N 1-octene Chemical group CCCCCCC=C KWKAKUADMBZCLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IEKHISJGRIEHRE-UHFFFAOYSA-N 16-methylheptadecanoic acid;propan-2-ol;titanium Chemical compound [Ti].CC(C)O.CC(C)CCCCCCCCCCCCCCC(O)=O.CC(C)CCCCCCCCCCCCCCC(O)=O.CC(C)CCCCCCCCCCCCCCC(O)=O IEKHISJGRIEHRE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KGRVJHAUYBGFFP-UHFFFAOYSA-N 2,2'-Methylenebis(4-methyl-6-tert-butylphenol) Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(C)=CC(CC=2C(=C(C=C(C)C=2)C(C)(C)C)O)=C1O KGRVJHAUYBGFFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VILCJCGEZXAXTO-UHFFFAOYSA-N 2,2,2-tetramine Chemical compound NCCNCCNCCN VILCJCGEZXAXTO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RNFJDJUURJAICM-UHFFFAOYSA-N 2,2,4,4,6,6-hexaphenoxy-1,3,5-triaza-2$l^{5},4$l^{5},6$l^{5}-triphosphacyclohexa-1,3,5-triene Chemical compound N=1P(OC=2C=CC=CC=2)(OC=2C=CC=CC=2)=NP(OC=2C=CC=CC=2)(OC=2C=CC=CC=2)=NP=1(OC=1C=CC=CC=1)OC1=CC=CC=C1 RNFJDJUURJAICM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VDVUCLWJZJHFAV-UHFFFAOYSA-N 2,2,6,6-tetramethylpiperidin-4-ol Chemical compound CC1(C)CC(O)CC(C)(C)N1 VDVUCLWJZJHFAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GXURZKWLMYOCDX-UHFFFAOYSA-N 2,2-bis(hydroxymethyl)propane-1,3-diol;dihydroxyphosphanyl dihydrogen phosphite Chemical compound OP(O)OP(O)O.OCC(CO)(CO)CO GXURZKWLMYOCDX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZWHPPPRROACAFE-UHFFFAOYSA-N 2,4-ditert-butyl-6-[1-(3,5-ditert-butyl-2-hydroxyphenyl)butyl]phenol Chemical compound C=1C(C(C)(C)C)=CC(C(C)(C)C)=C(O)C=1C(CCC)C1=CC(C(C)(C)C)=CC(C(C)(C)C)=C1O ZWHPPPRROACAFE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZZZRZBIPCKQDQR-UHFFFAOYSA-N 2,4-ditert-butyl-6-methylphenol Chemical compound CC1=CC(C(C)(C)C)=CC(C(C)(C)C)=C1O ZZZRZBIPCKQDQR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XKZQKPRCPNGNFR-UHFFFAOYSA-N 2-(3-hydroxyphenyl)phenol Chemical compound OC1=CC=CC(C=2C(=CC=CC=2)O)=C1 XKZQKPRCPNGNFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LEVFXWNQQSSNAC-UHFFFAOYSA-N 2-(4,6-diphenyl-1,3,5-triazin-2-yl)-5-hexoxyphenol Chemical compound OC1=CC(OCCCCCC)=CC=C1C1=NC(C=2C=CC=CC=2)=NC(C=2C=CC=CC=2)=N1 LEVFXWNQQSSNAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZMWRRFHBXARRRT-UHFFFAOYSA-N 2-(benzotriazol-2-yl)-4,6-bis(2-methylbutan-2-yl)phenol Chemical compound CCC(C)(C)C1=CC(C(C)(C)CC)=CC(N2N=C3C=CC=CC3=N2)=C1O ZMWRRFHBXARRRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BXGYYDRIMBPOMN-UHFFFAOYSA-N 2-(hydroxymethoxy)ethoxymethanol Chemical compound OCOCCOCO BXGYYDRIMBPOMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SZSSMFVYZRQGIM-UHFFFAOYSA-N 2-(hydroxymethyl)-2-propylpropane-1,3-diol Chemical compound CCCC(CO)(CO)CO SZSSMFVYZRQGIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SYNPRNNJJLRHTI-UHFFFAOYSA-N 2-(hydroxymethyl)butane-1,4-diol Chemical compound OCCC(CO)CO SYNPRNNJJLRHTI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LKMJVFRMDSNFRT-UHFFFAOYSA-N 2-(methoxymethyl)oxirane Chemical compound COCC1CO1 LKMJVFRMDSNFRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RWLALWYNXFYRGW-UHFFFAOYSA-N 2-Ethyl-1,3-hexanediol Chemical compound CCCC(O)C(CC)CO RWLALWYNXFYRGW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IXQGCWUGDFDQMF-UHFFFAOYSA-N 2-Ethylphenol Chemical class CCC1=CC=CC=C1O IXQGCWUGDFDQMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WMYINDVYGQKYMI-UHFFFAOYSA-N 2-[2,2-bis(hydroxymethyl)butoxymethyl]-2-ethylpropane-1,3-diol Chemical compound CCC(CO)(CO)COCC(CC)(CO)CO WMYINDVYGQKYMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QSRJVOOOWGXUDY-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[2-[3-(3-tert-butyl-4-hydroxy-5-methylphenyl)propanoyloxy]ethoxy]ethoxy]ethyl 3-(3-tert-butyl-4-hydroxy-5-methylphenyl)propanoate Chemical compound CC(C)(C)C1=C(O)C(C)=CC(CCC(=O)OCCOCCOCCOC(=O)CCC=2C=C(C(O)=C(C)C=2)C(C)(C)C)=C1 QSRJVOOOWGXUDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VFBJXXJYHWLXRM-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[3-(3,5-ditert-butyl-4-hydroxyphenyl)propanoyloxy]ethylsulfanyl]ethyl 3-(3,5-ditert-butyl-4-hydroxyphenyl)propanoate Chemical compound CC(C)(C)C1=C(O)C(C(C)(C)C)=CC(CCC(=O)OCCSCCOC(=O)CCC=2C=C(C(O)=C(C=2)C(C)(C)C)C(C)(C)C)=C1 VFBJXXJYHWLXRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPZIYBJCZRUDEG-UHFFFAOYSA-N 2-[3-(1-hydroxy-2-methylpropan-2-yl)-2,4,8,10-tetraoxaspiro[5.5]undecan-9-yl]-2-methylpropan-1-ol Chemical compound C1OC(C(C)(CO)C)OCC21COC(C(C)(C)CO)OC2 BPZIYBJCZRUDEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SKMNWICOBCDSSQ-UHFFFAOYSA-N 2-[4-[3-(3,5-ditert-butyl-4-hydroxyphenyl)propanoyloxy]-2,2,6,6-tetramethylpiperidin-1-yl]ethyl 3-(3,5-ditert-butyl-4-hydroxyphenyl)propanoate Chemical compound CC(C)(C)C1=C(O)C(C(C)(C)C)=CC(CCC(=O)OCCN2C(CC(CC2(C)C)OC(=O)CCC=2C=C(C(O)=C(C=2)C(C)(C)C)C(C)(C)C)(C)C)=C1 SKMNWICOBCDSSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HXEWWQYSYQOUSD-UHFFFAOYSA-N 2-[5-ethyl-5-(hydroxymethyl)-1,3-dioxan-2-yl]-2-methylpropan-1-ol Chemical compound CCC1(CO)COC(C(C)(C)CO)OC1 HXEWWQYSYQOUSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UZOYICMDDCNJJG-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-(benzotriazol-2-yl)-2-hydroxy-5-methylphenyl]methyl]-4,5,6,7-tetrahydroisoindole-1,3-dione Chemical compound N1=C2C=CC=CC2=NN1C1=CC(C)=CC(CN2C(C3=C(CCCC3)C2=O)=O)=C1O UZOYICMDDCNJJG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol Chemical compound OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GJYCVCVHRSWLNY-UHFFFAOYSA-N 2-butylphenol Chemical class CCCCC1=CC=CC=C1O GJYCVCVHRSWLNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MCRZWYDXIGCFKO-UHFFFAOYSA-N 2-butylpropanedioic acid Chemical compound CCCCC(C(O)=O)C(O)=O MCRZWYDXIGCFKO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RLHGFJMGWQXPBW-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-3-(1h-imidazol-5-ylmethyl)benzamide Chemical compound NC(=O)C1=CC=CC(CC=2NC=NC=2)=C1O RLHGFJMGWQXPBW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HDGHQFQMWUTHKL-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1,3-dioxane Chemical compound CC1OCCCO1 HDGHQFQMWUTHKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIZWPVOGWBRBLX-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-3-(1,2,2,6,6-pentamethylpiperidin-4-yl)prop-2-enoic acid Chemical compound CN1C(C)(C)CC(C=C(C)C(O)=O)CC1(C)C UIZWPVOGWBRBLX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GAODDBNJCKQQDY-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-4,6-bis(octylsulfanylmethyl)phenol Chemical compound CCCCCCCCSCC1=CC(C)=C(O)C(CSCCCCCCCC)=C1 GAODDBNJCKQQDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BKOOMYPCSUNDGP-UHFFFAOYSA-N 2-methylbut-2-ene Chemical group CC=C(C)C BKOOMYPCSUNDGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LZHCVNIARUXHAL-UHFFFAOYSA-N 2-tert-butyl-4-ethylphenol Chemical compound CCC1=CC=C(O)C(C(C)(C)C)=C1 LZHCVNIARUXHAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MSXXDBCLAKQJQT-UHFFFAOYSA-N 2-tert-butyl-6-methyl-4-[3-(2,4,8,10-tetratert-butylbenzo[d][1,3,2]benzodioxaphosphepin-6-yl)oxypropyl]phenol Chemical compound CC(C)(C)C1=C(O)C(C)=CC(CCCOP2OC3=C(C=C(C=C3C=3C=C(C=C(C=3O2)C(C)(C)C)C(C)(C)C)C(C)(C)C)C(C)(C)C)=C1 MSXXDBCLAKQJQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEORPZCZECFIRK-UHFFFAOYSA-N 3,3',5,5'-tetrabromobisphenol A Chemical compound C=1C(Br)=C(O)C(Br)=CC=1C(C)(C)C1=CC(Br)=C(O)C(Br)=C1 VEORPZCZECFIRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PZRWFKGUFWPFID-UHFFFAOYSA-N 3,9-dioctadecoxy-2,4,8,10-tetraoxa-3,9-diphosphaspiro[5.5]undecane Chemical compound C1OP(OCCCCCCCCCCCCCCCCCC)OCC21COP(OCCCCCCCCCCCCCCCCCC)OC2 PZRWFKGUFWPFID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WPMYUUITDBHVQZ-UHFFFAOYSA-M 3-(3,5-ditert-butyl-4-hydroxyphenyl)propanoate Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(CCC([O-])=O)=CC(C(C)(C)C)=C1O WPMYUUITDBHVQZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- WGYUEZQGJJLCKF-UHFFFAOYSA-N 3-(5-methyl-1h-imidazol-2-yl)pyridine Chemical compound N1C(C)=CN=C1C1=CC=CN=C1 WGYUEZQGJJLCKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RNLHGQLZWXBQNY-UHFFFAOYSA-N 3-(aminomethyl)-3,5,5-trimethylcyclohexan-1-amine Chemical compound CC1(C)CC(N)CC(C)(CN)C1 RNLHGQLZWXBQNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KNTKCYKJRSMRMZ-UHFFFAOYSA-N 3-chloropropyl-dimethoxy-methylsilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCCl KNTKCYKJRSMRMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UUEWCQRISZBELL-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropane-1-thiol Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCS UUEWCQRISZBELL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C(C)=C XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YGYPMFPGZQPETF-UHFFFAOYSA-N 4-(4-hydroxy-3,5-dimethylphenyl)-2,6-dimethylphenol Chemical compound CC1=C(O)C(C)=CC(C=2C=C(C)C(O)=C(C)C=2)=C1 YGYPMFPGZQPETF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZFEQSERZJMLTHK-UHFFFAOYSA-N 4-(4-hydroxyphenyl)-2,3,5,6-tetramethylphenol Chemical compound CC1=C(O)C(C)=C(C)C(C=2C=CC(O)=CC=2)=C1C ZFEQSERZJMLTHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PPODUESPZXFNMJ-UHFFFAOYSA-N 4-(4-hydroxyphenyl)-2,3-dimethylphenol Chemical compound C1=C(O)C(C)=C(C)C(C=2C=CC(O)=CC=2)=C1 PPODUESPZXFNMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- STEYNUVPFMIUOY-UHFFFAOYSA-N 4-Hydroxy-1-(2-hydroxyethyl)-2,2,6,6-tetramethylpiperidine Chemical compound CC1(C)CC(O)CC(C)(C)N1CCO STEYNUVPFMIUOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HDPBBNNDDQOWPJ-UHFFFAOYSA-N 4-[1,2,2-tris(4-hydroxyphenyl)ethyl]phenol Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1C(C=1C=CC(O)=CC=1)C(C=1C=CC(O)=CC=1)C1=CC=C(O)C=C1 HDPBBNNDDQOWPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VESRBMGDECAMNH-UHFFFAOYSA-N 4-[2-(4-hydroxyphenyl)propan-2-yl]-2,3,5,6-tetramethylphenol Chemical compound CC1=C(C(=C(C(=C1O)C)C)C(C)(C)C1=CC=C(C=C1)O)C VESRBMGDECAMNH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RPJFWRZEEKJTGN-UHFFFAOYSA-N 4-[2-(4-hydroxyphenyl)propan-2-yl]-2,6-dimethylphenol Chemical compound CC1=C(O)C(C)=CC(C(C)(C)C=2C=CC(O)=CC=2)=C1 RPJFWRZEEKJTGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GCKIRZYWQROFEJ-UHFFFAOYSA-N 4-[2-[4-[1,1-bis(4-hydroxyphenyl)ethyl]phenyl]propyl]phenol Chemical compound C=1C=C(C(C)(C=2C=CC(O)=CC=2)C=2C=CC(O)=CC=2)C=CC=1C(C)CC1=CC=C(O)C=C1 GCKIRZYWQROFEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WFCQTAXSWSWIHS-UHFFFAOYSA-N 4-[bis(4-hydroxyphenyl)methyl]phenol Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1C(C=1C=CC(O)=CC=1)C1=CC=C(O)C=C1 WFCQTAXSWSWIHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UTPHVTOEOCZQJU-UHFFFAOYSA-N 4-methylbicyclo[2.2.1]heptane Chemical group C1CC2CCC1(C)C2 UTPHVTOEOCZQJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UKWUOTZGXIZAJC-UHFFFAOYSA-N 4-nitrosalicylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C([N+]([O-])=O)C=C1O UKWUOTZGXIZAJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HEUUBYJSWGMIIU-UHFFFAOYSA-N 5,5-bis(chloromethyl)-2-phenylcyclohexa-1,3-diene Chemical group C1=CC(CCl)(CCl)CC=C1C1=CC=CC=C1 HEUUBYJSWGMIIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YKCCXOHQOVXCIG-UHFFFAOYSA-N 5-(1-cyanoethyl)-2-(2-phenylethoxymethyl)imidazole-1,4-dicarbonitrile Chemical compound C(#N)C(C)C=1N(C(=NC=1C#N)COCCC1=CC=CC=C1)C#N YKCCXOHQOVXCIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZVVFVKJZNVSANF-UHFFFAOYSA-N 6-[3-(3,5-ditert-butyl-4-hydroxyphenyl)propanoyloxy]hexyl 3-(3,5-ditert-butyl-4-hydroxyphenyl)propanoate Chemical compound CC(C)(C)C1=C(O)C(C(C)(C)C)=CC(CCC(=O)OCCCCCCOC(=O)CCC=2C=C(C(O)=C(C=2)C(C)(C)C)C(C)(C)C)=C1 ZVVFVKJZNVSANF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ADRNSOYXKABLGT-UHFFFAOYSA-N 8-methylnonyl diphenyl phosphite Chemical compound C=1C=CC=CC=1OP(OCCCCCCCC(C)C)OC1=CC=CC=C1 ADRNSOYXKABLGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000005995 Aluminium silicate Substances 0.000 description 1
- BTBUEUYNUDRHOZ-UHFFFAOYSA-N Borate Chemical compound [O-]B([O-])[O-] BTBUEUYNUDRHOZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLZUEZXRPGMBCV-UHFFFAOYSA-N Butylhydroxytoluene Chemical compound CC1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C(C(C)(C)C)=C1 NLZUEZXRPGMBCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WRAGBEWQGHCDDU-UHFFFAOYSA-M C([O-])([O-])=O.[NH4+].[Zr+] Chemical compound C([O-])([O-])=O.[NH4+].[Zr+] WRAGBEWQGHCDDU-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- QDZXJOMXPRWGFG-UHFFFAOYSA-N CCC1=NC=NC=N1.O=C1NC(=O)NC(=O)N1 Chemical compound CCC1=NC=NC=N1.O=C1NC(=O)NC(=O)N1 QDZXJOMXPRWGFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005046 Chlorosilane Substances 0.000 description 1
- MQJKPEGWNLWLTK-UHFFFAOYSA-N Dapsone Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1S(=O)(=O)C1=CC=C(N)C=C1 MQJKPEGWNLWLTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JYFHYPJRHGVZDY-UHFFFAOYSA-N Dibutyl phosphate Chemical compound CCCCOP(O)(=O)OCCCC JYFHYPJRHGVZDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RPNUMPOLZDHAAY-UHFFFAOYSA-N Diethylenetriamine Chemical compound NCCNCCN RPNUMPOLZDHAAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MUXOBHXGJLMRAB-UHFFFAOYSA-N Dimethyl succinate Chemical compound COC(=O)CCC(=O)OC MUXOBHXGJLMRAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N Ethylenediamine Chemical compound NCCN PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BKJLNJYDEMKREK-UHFFFAOYSA-N FNB(F)F Chemical class FNB(F)F BKJLNJYDEMKREK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001218 Gallium arsenide Inorganic materials 0.000 description 1
- DCXXMTOCNZCJGO-UHFFFAOYSA-N Glycerol trioctadecanoate Natural products CCCCCCCCCCCCCCCCCC(=O)OCC(OC(=O)CCCCCCCCCCCCCCCCC)COC(=O)CCCCCCCCCCCCCCCCC DCXXMTOCNZCJGO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101000982628 Homo sapiens Prolyl 3-hydroxylase OGFOD1 Proteins 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004640 Melamine resin Substances 0.000 description 1
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004677 Nylon Substances 0.000 description 1
- ACKKJPKMEDIFLW-UHFFFAOYSA-N OC(CCCC(OCCN(C(N(CCOC(CCCC(O)=O)=O)C(N1CCOC(CCCC(O)=O)=O)=O)=O)C1=O)=O)=O Chemical compound OC(CCCC(OCCN(C(N(CCOC(CCCC(O)=O)=O)C(N1CCOC(CCCC(O)=O)=O)=O)=O)C1=O)=O)=O ACKKJPKMEDIFLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VHJIFCFETXAKOW-UHFFFAOYSA-J OC(CCCCCCCCCCC(=O)[O-])CCCCCC.[Zn+2].[Zn+2].OC(CCCCCCCCCCC(=O)[O-])CCCCCC.OC(CCCCCCCCCCC(=O)[O-])CCCCCC.OC(CCCCCCCCCCC(=O)[O-])CCCCCC Chemical compound OC(CCCCCCCCCCC(=O)[O-])CCCCCC.[Zn+2].[Zn+2].OC(CCCCCCCCCCC(=O)[O-])CCCCCC.OC(CCCCCCCCCCC(=O)[O-])CCCCCC.OC(CCCCCCCCCCC(=O)[O-])CCCCCC VHJIFCFETXAKOW-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- QYFACSDTKGXDDM-UHFFFAOYSA-N OC.OC.C1CCCCCCCCCCCCCC1.C1CCCCCCCCCCCCCC1.C1CCCCCCCCCCCCCC1.C1CCCCCCCCCCCCCC1.C1CCCCCCCCCCCCCC1 Chemical compound OC.OC.C1CCCCCCCCCCCCCC1.C1CCCCCCCCCCCCCC1.C1CCCCCCCCCCCCCC1.C1CCCCCCCCCCCCCC1.C1CCCCCCCCCCCCCC1 QYFACSDTKGXDDM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NTQJRZWGBUJHKP-UHFFFAOYSA-N OP(O)OP(O)O.C1(CCCCC1)C(O)(C(CO)(CO)CO)C1CCCCC1 Chemical compound OP(O)OP(O)O.C1(CCCCC1)C(O)(C(CO)(CO)CO)C1CCCCC1 NTQJRZWGBUJHKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OFHBXWMGEMWFRR-UHFFFAOYSA-M P(=O)(OCC)(OCC)[O-].C[P+](CCCC)(CCCC)CCCC Chemical compound P(=O)(OCC)(OCC)[O-].C[P+](CCCC)(CCCC)CCCC OFHBXWMGEMWFRR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000021314 Palmitic acid Nutrition 0.000 description 1
- ALQSHHUCVQOPAS-UHFFFAOYSA-N Pentane-1,5-diol Chemical compound OCCCCCO ALQSHHUCVQOPAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 239000005062 Polybutadiene Substances 0.000 description 1
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AFWBWPCXSWUCLB-WDSKDSINSA-N Pro-Ser Chemical compound OC[C@@H](C([O-])=O)NC(=O)[C@@H]1CCC[NH2+]1 AFWBWPCXSWUCLB-WDSKDSINSA-N 0.000 description 1
- 102100026942 Prolyl 3-hydroxylase OGFOD1 Human genes 0.000 description 1
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M Propionate Chemical compound CCC([O-])=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910018557 Si O Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 1
- KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N Sodium Chemical compound [Na] KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000021355 Stearic acid Nutrition 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N Sulphide Chemical compound [S-2] UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YSMRWXYRXBRSND-UHFFFAOYSA-N TOTP Chemical compound CC1=CC=CC=C1OP(=O)(OC=1C(=CC=CC=1)C)OC1=CC=CC=C1C YSMRWXYRXBRSND-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001807 Urea-formaldehyde Polymers 0.000 description 1
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ORLQHILJRHBSAY-UHFFFAOYSA-N [1-(hydroxymethyl)cyclohexyl]methanol Chemical compound OCC1(CO)CCCCC1 ORLQHILJRHBSAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CZEQLYJOEGYWPO-UHFFFAOYSA-N [2,3-bis(2,4-ditert-butylphenyl)-4-phenylphenyl]phosphonous acid Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(C(C)(C)C)=CC=C1C1=C(P(O)O)C=CC(C=2C=CC=CC=2)=C1C1=CC=C(C(C)(C)C)C=C1C(C)(C)C CZEQLYJOEGYWPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYZNTUSGTWZGEC-UHFFFAOYSA-N [2,3-bis(2,6-ditert-butylphenyl)-4-phenylphenyl]phosphonous acid Chemical compound CC(C)(C)C1=C(C(=CC=C1)C(C)(C)C)C2=C(C=CC(=C2C3=C(C=CC=C3C(C)(C)C)C(C)(C)C)P(O)O)C4=CC=CC=C4 RYZNTUSGTWZGEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IZMPAOFESFSUKJ-UHFFFAOYSA-N [2,4-bis(2,4-ditert-butylphenyl)-3-phenylphenyl]phosphonous acid Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(=C(C=C1)C2=C(C(=C(C=C2)P(O)O)C3=C(C=C(C=C3)C(C)(C)C)C(C)(C)C)C4=CC=CC=C4)C(C)(C)C IZMPAOFESFSUKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OZBUJTXGDBHKOH-UHFFFAOYSA-N [2,4-bis(2,6-ditert-butylphenyl)-3-phenylphenyl]phosphonous acid Chemical compound CC(C)(C)C1=C(C(=CC=C1)C(C)(C)C)C2=C(C(=C(C=C2)P(O)O)C3=C(C=CC=C3C(C)(C)C)C(C)(C)C)C4=CC=CC=C4 OZBUJTXGDBHKOH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDODWINGEHBYRT-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)cyclohexyl]methanol Chemical compound OCC1CCCCC1CO XDODWINGEHBYRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CGRTZESQZZGAAU-UHFFFAOYSA-N [2-[3-[1-[3-(3-tert-butyl-4-hydroxy-5-methylphenyl)propanoyloxy]-2-methylpropan-2-yl]-2,4,8,10-tetraoxaspiro[5.5]undecan-9-yl]-2-methylpropyl] 3-(3-tert-butyl-4-hydroxy-5-methylphenyl)propanoate Chemical compound CC(C)(C)C1=C(O)C(C)=CC(CCC(=O)OCC(C)(C)C2OCC3(CO2)COC(OC3)C(C)(C)COC(=O)CCC=2C=C(C(O)=C(C)C=2)C(C)(C)C)=C1 CGRTZESQZZGAAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LUSFFPXRDZKBMF-UHFFFAOYSA-N [3-(hydroxymethyl)cyclohexyl]methanol Chemical compound OCC1CCCC(CO)C1 LUSFFPXRDZKBMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BNHVSHVDYVQSNW-UHFFFAOYSA-N [3-[3-bis(2,4-ditert-butylphenoxy)phosphanylphenyl]phenyl]-bis(2,4-ditert-butylphenoxy)phosphane Chemical compound C(C)(C)(C)C1=C(OP(C=2C=C(C=CC=2)C=2C=C(C=CC=2)P(OC2=C(C=C(C=C2)C(C)(C)C)C(C)(C)C)OC2=C(C=C(C=C2)C(C)(C)C)C(C)(C)C)OC2=C(C=C(C=C2)C(C)(C)C)C(C)(C)C)C=CC(=C1)C(C)(C)C BNHVSHVDYVQSNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XTFOCTHEHOLWKC-UHFFFAOYSA-N [3-[4-bis(2,4-ditert-butylphenoxy)phosphanylphenyl]phenyl]-bis(2,4-ditert-butylphenoxy)phosphane Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(C(C)(C)C)=CC=C1OP(C=1C=CC(=CC=1)C=1C=C(C=CC=1)P(OC=1C(=CC(=CC=1)C(C)(C)C)C(C)(C)C)OC=1C(=CC(=CC=1)C(C)(C)C)C(C)(C)C)OC1=CC=C(C(C)(C)C)C=C1C(C)(C)C XTFOCTHEHOLWKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YIMQCDZDWXUDCA-UHFFFAOYSA-N [4-(hydroxymethyl)cyclohexyl]methanol Chemical compound OCC1CCC(CO)CC1 YIMQCDZDWXUDCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIYNIOYNNFXGFN-UHFFFAOYSA-N [4-(hydroxymethyl)cyclohexyl]methanol;7-oxabicyclo[4.1.0]heptane-4-carboxylic acid Chemical compound OCC1CCC(CO)CC1.C1C(C(=O)O)CCC2OC21.C1C(C(=O)O)CCC2OC21 NIYNIOYNNFXGFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZDQGUEHIMBQNFU-UHFFFAOYSA-N [dimethyl(silyloxy)silyl]oxy-dimethyl-silyloxysilane Chemical compound [SiH3]O[Si](C)(C)O[Si](C)(C)O[SiH3] ZDQGUEHIMBQNFU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UMHKOAYRTRADAT-UHFFFAOYSA-N [hydroxy(octoxy)phosphoryl] octyl hydrogen phosphate Chemical compound CCCCCCCCOP(O)(=O)OP(O)(=O)OCCCCCCCC UMHKOAYRTRADAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011354 acetal resin Substances 0.000 description 1
- IKHGUXGNUITLKF-XPULMUKRSA-N acetaldehyde Chemical compound [14CH]([14CH3])=O IKHGUXGNUITLKF-XPULMUKRSA-N 0.000 description 1
- DDQAGDLHARKUFX-UHFFFAOYSA-N acetic acid;methanamine Chemical compound [NH3+]C.CC([O-])=O DDQAGDLHARKUFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 150000001299 aldehydes Chemical class 0.000 description 1
- 150000001335 aliphatic alkanes Chemical class 0.000 description 1
- DTOSIQBPPRVQHS-PDBXOOCHSA-N alpha-linolenic acid Chemical compound CC\C=C/C\C=C/C\C=C/CCCCCCCC(O)=O DTOSIQBPPRVQHS-PDBXOOCHSA-N 0.000 description 1
- 235000020661 alpha-linolenic acid Nutrition 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WNROFYMDJYEPJX-UHFFFAOYSA-K aluminium hydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[OH-].[Al+3] WNROFYMDJYEPJX-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- ILRRQNADMUWWFW-UHFFFAOYSA-K aluminium phosphate Chemical compound O1[Al]2OP1(=O)O2 ILRRQNADMUWWFW-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 235000012211 aluminium silicate Nutrition 0.000 description 1
- VCZQCLHBLSUGML-UHFFFAOYSA-K aluminum octacosanoate Chemical compound [Al+3].CCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O.CCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O.CCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O VCZQCLHBLSUGML-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- ROADCTMRUVIXLV-UHFFFAOYSA-K aluminum;12-hydroxyoctadecanoate Chemical compound [Al+3].CCCCCCC(O)CCCCCCCCCCC([O-])=O.CCCCCCC(O)CCCCCCCCCCC([O-])=O.CCCCCCC(O)CCCCCCCCCCC([O-])=O ROADCTMRUVIXLV-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 230000003321 amplification Effects 0.000 description 1
- RAKMKCZMVZBODU-PIQLPZBWSA-L barium(2+);(z)-12-hydroxyoctadec-9-enoate Chemical compound [Ba+2].CCCCCCC(O)C\C=C/CCCCCCCC([O-])=O.CCCCCCC(O)C\C=C/CCCCCCCC([O-])=O RAKMKCZMVZBODU-PIQLPZBWSA-L 0.000 description 1
- AGXUVMPSUKZYDT-UHFFFAOYSA-L barium(2+);octadecanoate Chemical compound [Ba+2].CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O.CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O AGXUVMPSUKZYDT-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- NFQYEWZFVWVCEL-UHFFFAOYSA-N barium;12-hydroxyoctadecanoic acid Chemical compound [Ba].CCCCCCC(O)CCCCCCCCCCC(O)=O NFQYEWZFVWVCEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001558 benzoic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 150000008366 benzophenones Chemical class 0.000 description 1
- 150000001565 benzotriazoles Chemical class 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- UHVCSNKHFBQKBO-UHFFFAOYSA-N benzyl-ethenyl-[2-(3-trimethoxysilylpropylamino)ethyl]azanium;chloride Chemical compound Cl.CO[Si](OC)(OC)CCCNCCN(C=C)CC1=CC=CC=C1 UHVCSNKHFBQKBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940000635 beta-alanine Drugs 0.000 description 1
- 125000006267 biphenyl group Chemical group 0.000 description 1
- FLPKSBDJMLUTEX-UHFFFAOYSA-N bis(1,2,2,6,6-pentamethylpiperidin-4-yl) 2-butyl-2-[(3,5-ditert-butyl-4-hydroxyphenyl)methyl]propanedioate Chemical compound C1C(C)(C)N(C)C(C)(C)CC1OC(=O)C(C(=O)OC1CC(C)(C)N(C)C(C)(C)C1)(CCCC)CC1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C(C(C)(C)C)=C1 FLPKSBDJMLUTEX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RSOILICUEWXSLA-UHFFFAOYSA-N bis(1,2,2,6,6-pentamethylpiperidin-4-yl) decanedioate Chemical compound C1C(C)(C)N(C)C(C)(C)CC1OC(=O)CCCCCCCCC(=O)OC1CC(C)(C)N(C)C(C)(C)C1 RSOILICUEWXSLA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYCDFODYRFOXDA-UHFFFAOYSA-N bis(2,2,6,6-tetramethyl-1-undecoxypiperidin-4-yl) carbonate Chemical compound C1C(C)(C)N(OCCCCCCCCCCC)C(C)(C)CC1OC(=O)OC1CC(C)(C)N(OCCCCCCCCCCC)C(C)(C)C1 VYCDFODYRFOXDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DJUWPHRCMMMSCV-UHFFFAOYSA-N bis(7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-ylmethyl) hexanedioate Chemical compound C1CC2OC2CC1COC(=O)CCCCC(=O)OCC1CC2OC2CC1 DJUWPHRCMMMSCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XFUOBHWPTSIEOV-UHFFFAOYSA-N bis(oxiran-2-ylmethyl) cyclohexane-1,2-dicarboxylate Chemical compound C1CCCC(C(=O)OCC2OC2)C1C(=O)OCC1CO1 XFUOBHWPTSIEOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FQUNFJULCYSSOP-UHFFFAOYSA-N bisoctrizole Chemical compound N1=C2C=CC=CC2=NN1C1=CC(C(C)(C)CC(C)(C)C)=CC(CC=2C(=C(C=C(C=2)C(C)(C)CC(C)(C)C)N2N=C3C=CC=CC3=N2)O)=C1O FQUNFJULCYSSOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OCWYEMOEOGEQAN-UHFFFAOYSA-N bumetrizole Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(C)=CC(N2N=C3C=C(Cl)C=CC3=N2)=C1O OCWYEMOEOGEQAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001273 butane Substances 0.000 description 1
- BMRWNKZVCUKKSR-UHFFFAOYSA-N butane-1,2-diol Chemical compound CCC(O)CO BMRWNKZVCUKKSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000010354 butylated hydroxytoluene Nutrition 0.000 description 1
- 229940061587 calcium behenate Drugs 0.000 description 1
- AXCZMVOFGPJBDE-UHFFFAOYSA-L calcium dihydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Ca+2] AXCZMVOFGPJBDE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000000920 calcium hydroxide Substances 0.000 description 1
- 229910001861 calcium hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- BRPQOXSCLDDYGP-UHFFFAOYSA-N calcium oxide Chemical compound [O-2].[Ca+2] BRPQOXSCLDDYGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000292 calcium oxide Substances 0.000 description 1
- ODINCKMPIJJUCX-UHFFFAOYSA-N calcium oxide Inorganic materials [Ca]=O ODINCKMPIJJUCX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMBKCSPGKDEPFO-UHFFFAOYSA-L calcium;docosanoate Chemical compound [Ca+2].CCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O.CCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O SMBKCSPGKDEPFO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- HIAAVKYLDRCDFQ-UHFFFAOYSA-L calcium;dodecanoate Chemical compound [Ca+2].CCCCCCCCCCCC([O-])=O.CCCCCCCCCCCC([O-])=O HIAAVKYLDRCDFQ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- FIASKJZPIYCESA-UHFFFAOYSA-L calcium;octacosanoate Chemical compound [Ca+2].CCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O.CCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O FIASKJZPIYCESA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 1
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 description 1
- 150000001733 carboxylic acid esters Chemical class 0.000 description 1
- 125000002843 carboxylic acid group Chemical group 0.000 description 1
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 1
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 1
- 229910010293 ceramic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 230000006835 compression Effects 0.000 description 1
- 238000007906 compression Methods 0.000 description 1
- 238000000748 compression moulding Methods 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 150000004696 coordination complex Chemical class 0.000 description 1
- 229940120693 copper naphthenate Drugs 0.000 description 1
- SEVNKWFHTNVOLD-UHFFFAOYSA-L copper;3-(4-ethylcyclohexyl)propanoate;3-(3-ethylcyclopentyl)propanoate Chemical compound [Cu+2].CCC1CCC(CCC([O-])=O)C1.CCC1CCC(CCC([O-])=O)CC1 SEVNKWFHTNVOLD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 1
- XLJMAIOERFSOGZ-UHFFFAOYSA-M cyanate Chemical compound [O-]C#N XLJMAIOERFSOGZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- WTNDADANUZETTI-UHFFFAOYSA-N cyclohexane-1,2,4-tricarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1CCC(C(O)=O)C(C(O)=O)C1 WTNDADANUZETTI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NZNMSOFKMUBTKW-UHFFFAOYSA-N cyclohexanecarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1CCCCC1 NZNMSOFKMUBTKW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004956 cyclohexylene group Chemical group 0.000 description 1
- STZIXLPVKZUAMV-UHFFFAOYSA-N cyclopentane-1,1,2,2-tetracarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1(C(O)=O)CCCC1(C(O)=O)C(O)=O STZIXLPVKZUAMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001511 cyclopentyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- VILAVOFMIJHSJA-UHFFFAOYSA-N dicarbon monoxide Chemical group [C]=C=O VILAVOFMIJHSJA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- WZPMZMCZAGFKOC-UHFFFAOYSA-N diisopropyl hydrogen phosphate Chemical compound CC(C)OP(O)(=O)OC(C)C WZPMZMCZAGFKOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000539 dimer Substances 0.000 description 1
- JJQZDUKDJDQPMQ-UHFFFAOYSA-N dimethoxy(dimethyl)silane Chemical compound CO[Si](C)(C)OC JJQZDUKDJDQPMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AHUXYBVKTIBBJW-UHFFFAOYSA-N dimethoxy(diphenyl)silane Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Si](OC)(OC)C1=CC=CC=C1 AHUXYBVKTIBBJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CVQVSVBUMVSJES-UHFFFAOYSA-N dimethoxy-methyl-phenylsilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)C1=CC=CC=C1 CVQVSVBUMVSJES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HTDKEJXHILZNPP-UHFFFAOYSA-N dioctyl hydrogen phosphate Chemical compound CCCCCCCCOP(O)(=O)OCCCCCCCC HTDKEJXHILZNPP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XMQYIPNJVLNWOE-UHFFFAOYSA-N dioctyl hydrogen phosphite Chemical compound CCCCCCCCOP(O)OCCCCCCCC XMQYIPNJVLNWOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- LRMJAFKKJLRDLE-UHFFFAOYSA-N dotarizine Chemical compound O1CCOC1(C=1C=CC=CC=1)CCCN(CC1)CCN1C(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 LRMJAFKKJLRDLE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MCPKSFINULVDNX-UHFFFAOYSA-N drometrizole Chemical compound CC1=CC=C(O)C(N2N=C3C=CC=CC3=N2)=C1 MCPKSFINULVDNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 1
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 1
- 239000002305 electric material Substances 0.000 description 1
- 238000009429 electrical wiring Methods 0.000 description 1
- 238000005401 electroluminescence Methods 0.000 description 1
- 239000003480 eluent Substances 0.000 description 1
- 150000002085 enols Chemical class 0.000 description 1
- 238000003912 environmental pollution Methods 0.000 description 1
- 238000005886 esterification reaction Methods 0.000 description 1
- XGZNHFPFJRZBBT-UHFFFAOYSA-N ethanol;titanium Chemical compound [Ti].CCO.CCO.CCO.CCO XGZNHFPFJRZBBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C=C NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LDLDYFCCDKENPD-UHFFFAOYSA-N ethenylcyclohexane Chemical compound C=CC1CCCCC1 LDLDYFCCDKENPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- HCPOCMMGKBZWSJ-UHFFFAOYSA-N ethyl 3-hydrazinyl-3-oxopropanoate Chemical compound CCOC(=O)CC(=O)NN HCPOCMMGKBZWSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940116333 ethyl lactate Drugs 0.000 description 1
- JHYNXXDQQHTCHJ-UHFFFAOYSA-M ethyl(triphenyl)phosphanium;bromide Chemical compound [Br-].C=1C=CC=CC=1[P+](C=1C=CC=CC=1)(CC)C1=CC=CC=C1 JHYNXXDQQHTCHJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 1
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 1
- 238000011049 filling Methods 0.000 description 1
- 239000003063 flame retardant Substances 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 239000000446 fuel Substances 0.000 description 1
- 235000011187 glycerol Nutrition 0.000 description 1
- 150000002357 guanidines Chemical class 0.000 description 1
- 229940083094 guanine derivative acting on arteriolar smooth muscle Drugs 0.000 description 1
- 238000013007 heat curing Methods 0.000 description 1
- JNWGOCSTXJQFEP-UHFFFAOYSA-N hexane-1,1,1,2-tetracarboxylic acid Chemical compound CCCCC(C(O)=O)C(C(O)=O)(C(O)=O)C(O)=O JNWGOCSTXJQFEP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WJRBRSLFGCUECM-UHFFFAOYSA-N hydantoin Chemical group O=C1CNC(=O)N1 WJRBRSLFGCUECM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 1
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 238000009776 industrial production Methods 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- 230000002401 inhibitory effect Effects 0.000 description 1
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 1
- 150000002513 isocyanates Chemical class 0.000 description 1
- 125000004491 isohexyl group Chemical group C(CCC(C)C)* 0.000 description 1
- 125000001972 isopentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- QZUPTXGVPYNUIT-UHFFFAOYSA-N isophthalamide Chemical compound NC(=O)C1=CC=CC(C(N)=O)=C1 QZUPTXGVPYNUIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N kaolin Chemical compound O.O.O=[Al]O[Si](=O)O[Si](=O)O[Al]=O NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960004488 linolenic acid Drugs 0.000 description 1
- KQQKGWQCNNTQJW-UHFFFAOYSA-N linolenic acid Natural products CC=CCCC=CCC=CCCCCCCCC(O)=O KQQKGWQCNNTQJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FPLIHVCWSXLMPX-UHFFFAOYSA-M lithium 12-hydroxystearate Chemical compound [Li+].CCCCCCC(O)CCCCCCCCCCC([O-])=O FPLIHVCWSXLMPX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- VKHLCNWQYFQMLQ-UHFFFAOYSA-M lithium octacosanoate Chemical compound [Li+].CCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O VKHLCNWQYFQMLQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- HGPXWXLYXNVULB-UHFFFAOYSA-M lithium stearate Chemical compound [Li+].CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O HGPXWXLYXNVULB-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- SDIIFPDBZMCCLQ-UHFFFAOYSA-M lithium;docosanoate Chemical compound [Li+].CCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O SDIIFPDBZMCCLQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- AZEPWULHRMVZQR-UHFFFAOYSA-M lithium;dodecanoate Chemical compound [Li+].CCCCCCCCCCCC([O-])=O AZEPWULHRMVZQR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 1
- GVALZJMUIHGIMD-UHFFFAOYSA-H magnesium phosphate Chemical compound [Mg+2].[Mg+2].[Mg+2].[O-]P([O-])([O-])=O.[O-]P([O-])([O-])=O GVALZJMUIHGIMD-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- 239000004137 magnesium phosphate Substances 0.000 description 1
- 229960002261 magnesium phosphate Drugs 0.000 description 1
- 229910000157 magnesium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000010994 magnesium phosphates Nutrition 0.000 description 1
- 235000019359 magnesium stearate Nutrition 0.000 description 1
- VIALJPAGUCTUBQ-UHFFFAOYSA-L magnesium;12-hydroxyoctadecanoate Chemical compound [Mg+2].CCCCCCC(O)CCCCCCCCCCC([O-])=O.CCCCCCC(O)CCCCCCCCCCC([O-])=O VIALJPAGUCTUBQ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- OBQVOBQZMOXRAL-UHFFFAOYSA-L magnesium;docosanoate Chemical compound [Mg+2].CCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O.CCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O OBQVOBQZMOXRAL-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LBSANEJBGMCTBH-UHFFFAOYSA-N manganate Chemical compound [O-][Mn]([O-])(=O)=O LBSANEJBGMCTBH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SGLXWMAOOWXVAM-UHFFFAOYSA-L manganese(2+);octanoate Chemical compound [Mn+2].CCCCCCCC([O-])=O.CCCCCCCC([O-])=O SGLXWMAOOWXVAM-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910000000 metal hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004692 metal hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WSFSSNUMVMOOMR-NJFSPNSNSA-N methanone Chemical compound O=[14CH2] WSFSSNUMVMOOMR-NJFSPNSNSA-N 0.000 description 1
- GQKZBCPTCWJTAS-UHFFFAOYSA-N methoxymethylbenzene Chemical compound COCC1=CC=CC=C1 GQKZBCPTCWJTAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QLPMKRZYJPNIRP-UHFFFAOYSA-M methyl(trioctyl)azanium;bromide Chemical compound [Br-].CCCCCCCC[N+](C)(CCCCCCCC)CCCCCCCC QLPMKRZYJPNIRP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N methyltrimethoxysilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)OC BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001393 microlithography Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 229910003465 moissanite Inorganic materials 0.000 description 1
- MQWFLKHKWJMCEN-UHFFFAOYSA-N n'-[3-[dimethoxy(methyl)silyl]propyl]ethane-1,2-diamine Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCNCCN MQWFLKHKWJMCEN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IFZUFHWISBKFJP-UHFFFAOYSA-N n'-[4-[dimethoxy(methyl)silyl]oxybutyl]ethane-1,2-diamine Chemical compound CO[Si](C)(OC)OCCCCNCCN IFZUFHWISBKFJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GEMHFKXPOCTAIP-UHFFFAOYSA-N n,n-dimethyl-n'-phenylcarbamimidoyl chloride Chemical compound CN(C)C(Cl)=NC1=CC=CC=C1 GEMHFKXPOCTAIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WQEPLUUGTLDZJY-UHFFFAOYSA-N n-Pentadecanoic acid Natural products CCCCCCCCCCCCCCC(O)=O WQEPLUUGTLDZJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IJDNQMDRQITEOD-UHFFFAOYSA-N n-butane Chemical compound CCCC IJDNQMDRQITEOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FDAKZQLBIFPGSV-UHFFFAOYSA-N n-butyl-2,2,6,6-tetramethylpiperidin-4-amine Chemical compound CCCCNC1CC(C)(C)NC(C)(C)C1 FDAKZQLBIFPGSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HRYSOBDFNHXNTM-UHFFFAOYSA-N n-butylbutan-1-amine;1,3,5-triazine Chemical compound C1=NC=NC=N1.CCCCNCCCC HRYSOBDFNHXNTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N n-pentane Natural products CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001971 neopentyl group Chemical group [H]C([*])([H])C(C([H])([H])[H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 1
- 238000006386 neutralization reaction Methods 0.000 description 1
- 239000002667 nucleating agent Substances 0.000 description 1
- 238000003199 nucleic acid amplification method Methods 0.000 description 1
- 229920001778 nylon Polymers 0.000 description 1
- 229950002083 octabenzone Drugs 0.000 description 1
- QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N octadecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OQCDKBAXFALNLD-UHFFFAOYSA-N octadecanoic acid Natural products CCCCCCCC(C)CCCCCCCCC(O)=O OQCDKBAXFALNLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N octane Chemical compound CCCCCCCC TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MBAUOPQYSQVYJV-UHFFFAOYSA-N octyl 3-[4-hydroxy-3,5-di(propan-2-yl)phenyl]propanoate Chemical compound OC1=C(C=C(C=C1C(C)C)CCC(=O)OCCCCCCCC)C(C)C MBAUOPQYSQVYJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229920002601 oligoester Polymers 0.000 description 1
- 238000001579 optical reflectometry Methods 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- 125000005375 organosiloxane group Chemical group 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- RPQRDASANLAFCM-UHFFFAOYSA-N oxiran-2-ylmethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC1CO1 RPQRDASANLAFCM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- QNGNSVIICDLXHT-UHFFFAOYSA-N para-ethylbenzaldehyde Natural products CCC1=CC=C(C=O)C=C1 QNGNSVIICDLXHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UOURRHZRLGCVDA-UHFFFAOYSA-D pentazinc;dicarbonate;hexahydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[Zn+2].[Zn+2].[Zn+2].[Zn+2].[Zn+2].[O-]C([O-])=O.[O-]C([O-])=O UOURRHZRLGCVDA-UHFFFAOYSA-D 0.000 description 1
- 239000013500 performance material Substances 0.000 description 1
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 1
- 150000004965 peroxy acids Chemical class 0.000 description 1
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 1
- 125000004437 phosphorous atom Chemical group 0.000 description 1
- 230000001699 photocatalysis Effects 0.000 description 1
- 125000003386 piperidinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920002037 poly(vinyl butyral) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229920000768 polyamine Polymers 0.000 description 1
- 229920002857 polybutadiene Polymers 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 1
- 229920006324 polyoxymethylene Polymers 0.000 description 1
- 235000013824 polyphenols Nutrition 0.000 description 1
- 238000011417 postcuring Methods 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229940114930 potassium stearate Drugs 0.000 description 1
- ANBFRLKBEIFNQU-UHFFFAOYSA-M potassium;octadecanoate Chemical compound [K+].CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O ANBFRLKBEIFNQU-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 239000001294 propane Substances 0.000 description 1
- 238000010298 pulverizing process Methods 0.000 description 1
- 229940079877 pyrogallol Drugs 0.000 description 1
- 238000010791 quenching Methods 0.000 description 1
- 230000000171 quenching effect Effects 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 239000012779 reinforcing material Substances 0.000 description 1
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 1
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SONJTKJMTWTJCT-UHFFFAOYSA-K rhodium(iii) chloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Cl-].[Rh+3] SONJTKJMTWTJCT-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 239000005060 rubber Substances 0.000 description 1
- SMQUZDBALVYZAC-UHFFFAOYSA-N salicylaldehyde Chemical compound OC1=CC=CC=C1C=O SMQUZDBALVYZAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052594 sapphire Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010980 sapphire Substances 0.000 description 1
- 229930195734 saturated hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 239000012945 sealing adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000008054 signal transmission Effects 0.000 description 1
- LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N silicon monoxide Inorganic materials [Si-]#[O+] LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002545 silicone oil Polymers 0.000 description 1
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 1
- AQRYNYUOKMNDDV-UHFFFAOYSA-M silver behenate Chemical compound [Ag+].CCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O AQRYNYUOKMNDDV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- RYYKJJJTJZKILX-UHFFFAOYSA-M sodium octadecanoate Chemical compound [Na+].CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O RYYKJJJTJZKILX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229940080350 sodium stearate Drugs 0.000 description 1
- NTVDGBKMGBRCKB-UHFFFAOYSA-M sodium;12-hydroxyoctadecanoate Chemical compound [Na+].CCCCCCC(O)CCCCCCCCCCC([O-])=O NTVDGBKMGBRCKB-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- CVYDEWKUJFCYJO-UHFFFAOYSA-M sodium;docosanoate Chemical compound [Na+].CCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O CVYDEWKUJFCYJO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- YKIBJOMJPMLJTB-UHFFFAOYSA-M sodium;octacosanoate Chemical compound [Na+].CCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O YKIBJOMJPMLJTB-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 1
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 1
- 239000008117 stearic acid Substances 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 239000001384 succinic acid Substances 0.000 description 1
- 239000013589 supplement Substances 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 1
- CIHOLLKRGTVIJN-UHFFFAOYSA-N tert‐butyl hydroperoxide Chemical compound CC(C)(C)OO CIHOLLKRGTVIJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WUPCFMITFBVJMS-UHFFFAOYSA-N tetrakis(1,2,2,6,6-pentamethylpiperidin-4-yl) butane-1,2,3,4-tetracarboxylate Chemical compound C1C(C)(C)N(C)C(C)(C)CC1OC(=O)CC(C(=O)OC1CC(C)(C)N(C)C(C)(C)C1)C(C(=O)OC1CC(C)(C)N(C)C(C)(C)C1)CC(=O)OC1CC(C)(C)N(C)C(C)(C)C1 WUPCFMITFBVJMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003698 tetramethyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- USFPINLPPFWTJW-UHFFFAOYSA-N tetraphenylphosphonium Chemical compound C1=CC=CC=C1[P+](C=1C=CC=CC=1)(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 USFPINLPPFWTJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001029 thermal curing Methods 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 239000004408 titanium dioxide Substances 0.000 description 1
- JMXKSZRRTHPKDL-UHFFFAOYSA-N titanium(IV) ethoxide Substances [Ti+4].CC[O-].CC[O-].CC[O-].CC[O-] JMXKSZRRTHPKDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004992 toluidines Chemical class 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
- 150000003918 triazines Chemical class 0.000 description 1
- STCOOQWBFONSKY-UHFFFAOYSA-N tributyl phosphate Chemical compound CCCCOP(=O)(OCCCC)OCCCC STCOOQWBFONSKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N triethoxy(methyl)silane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)OCC CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JCVQKRGIASEUKR-UHFFFAOYSA-N triethoxy(phenyl)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C1=CC=CC=C1 JCVQKRGIASEUKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UDUKMRHNZZLJRB-UHFFFAOYSA-N triethoxy-[2-(7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-yl)ethyl]silane Chemical compound C1C(CC[Si](OCC)(OCC)OCC)CCC2OC21 UDUKMRHNZZLJRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DQWPFSLDHJDLRL-UHFFFAOYSA-N triethyl phosphate Chemical compound CCOP(=O)(OCC)OCC DQWPFSLDHJDLRL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNOCGWVLWPVKAO-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(phenyl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C1=CC=CC=C1 ZNOCGWVLWPVKAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HQYALQRYBUJWDH-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(propyl)silane Chemical compound CCC[Si](OC)(OC)OC HQYALQRYBUJWDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WVLBCYQITXONBZ-UHFFFAOYSA-N trimethyl phosphate Chemical compound COP(=O)(OC)OC WVLBCYQITXONBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QXJQHYBHAIHNGG-UHFFFAOYSA-N trimethylolethane Chemical compound OCC(C)(CO)CO QXJQHYBHAIHNGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004072 triols Chemical class 0.000 description 1
- XZZNDPSIHUTMOC-UHFFFAOYSA-N triphenyl phosphate Chemical compound C=1C=CC=CC=1OP(OC=1C=CC=CC=1)(=O)OC1=CC=CC=C1 XZZNDPSIHUTMOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DCAFJGSRSBLEPX-UHFFFAOYSA-N tris(2,3-dibutylphenyl) phosphite Chemical compound CCCCC1=CC=CC(OP(OC=2C(=C(CCCC)C=CC=2)CCCC)OC=2C(=C(CCCC)C=CC=2)CCCC)=C1CCCC DCAFJGSRSBLEPX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OOZKMYBQDPXENQ-UHFFFAOYSA-N tris(2,3-diethylphenyl) phosphite Chemical compound CCC1=CC=CC(OP(OC=2C(=C(CC)C=CC=2)CC)OC=2C(=C(CC)C=CC=2)CC)=C1CC OOZKMYBQDPXENQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WTLBZVNBAKMVDP-UHFFFAOYSA-N tris(2-butoxyethyl) phosphate Chemical compound CCCCOCCOP(=O)(OCCOCCCC)OCCOCCCC WTLBZVNBAKMVDP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QFGXDXGDZKTYFD-UHFFFAOYSA-N tris[2,3-di(propan-2-yl)phenyl] phosphite Chemical compound CC(C)C1=CC=CC(OP(OC=2C(=C(C(C)C)C=CC=2)C(C)C)OC=2C(=C(C(C)C)C=CC=2)C(C)C)=C1C(C)C QFGXDXGDZKTYFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006097 ultraviolet radiation absorber Substances 0.000 description 1
- 229920006337 unsaturated polyester resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004034 viscosity adjusting agent Substances 0.000 description 1
- 239000003643 water by type Substances 0.000 description 1
- 125000006839 xylylene group Chemical group 0.000 description 1
- 150000003752 zinc compounds Chemical class 0.000 description 1
- JRHDFVNUWLMGBU-UHFFFAOYSA-L zinc octyl phosphate Chemical compound C(CCCCCCC)OP(=O)([O-])[O-].[Zn+2] JRHDFVNUWLMGBU-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910000165 zinc phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- IFNXAMCERSVZCV-UHFFFAOYSA-L zinc;2-ethylhexanoate Chemical compound [Zn+2].CCCCC(CC)C([O-])=O.CCCCC(CC)C([O-])=O IFNXAMCERSVZCV-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- PORPEXMDRRVVNF-UHFFFAOYSA-L zinc;octadecyl phosphate Chemical compound [Zn+2].CCCCCCCCCCCCCCCCCCOP([O-])([O-])=O PORPEXMDRRVVNF-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D251/00—Heterocyclic compounds containing 1,3,5-triazine rings
- C07D251/02—Heterocyclic compounds containing 1,3,5-triazine rings not condensed with other rings
- C07D251/12—Heterocyclic compounds containing 1,3,5-triazine rings not condensed with other rings having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D251/26—Heterocyclic compounds containing 1,3,5-triazine rings not condensed with other rings having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with only hetero atoms directly attached to ring carbon atoms
- C07D251/30—Only oxygen atoms
- C07D251/34—Cyanuric or isocyanuric esters
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G59/00—Polycondensates containing more than one epoxy group per molecule; Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups
- C08G59/18—Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing
- C08G59/40—Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing characterised by the curing agents used
- C08G59/4007—Curing agents not provided for by the groups C08G59/42 - C08G59/66
- C08G59/4014—Nitrogen containing compounds
- C08G59/4028—Isocyanates; Thioisocyanates
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G59/00—Polycondensates containing more than one epoxy group per molecule; Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups
- C08G59/18—Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing
- C08G59/40—Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing characterised by the curing agents used
- C08G59/42—Polycarboxylic acids; Anhydrides, halides or low molecular weight esters thereof
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K5/00—Use of organic ingredients
- C08K5/04—Oxygen-containing compounds
- C08K5/09—Carboxylic acids; Metal salts thereof; Anhydrides thereof
- C08K5/098—Metal salts of carboxylic acids
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/28—Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection
- H01L23/29—Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the material, e.g. carbon
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/28—Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection
- H01L23/31—Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/0001—Technical content checked by a classifier
- H01L2924/0002—Not covered by any one of groups H01L24/00, H01L24/00 and H01L2224/00
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Epoxy Resins (AREA)
- Furan Compounds (AREA)
- Led Device Packages (AREA)
- Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)
Description
本発明は特に光半導体封止用、光半導体反射材などの高い透明性、低着色性が求められる部分に用いるのに好適な、特に光半導体反射材あるいはそれを具備する光半導体装置に用いる場合、硬化物のガラス転移温度を十分高めることができ、成形性に優れる多価カルボン酸およびそれを含有する多価カルボン酸組成物、熱硬化性樹脂組成物、エポキシ樹脂組成物、それらを硬化してなる硬化物、並びに光半導体装置に関する。 INDUSTRIAL APPLICABILITY The present invention is particularly suitable for optical semiconductor encapsulation, for use in a part where high transparency and low coloring properties are required, such as an optical semiconductor reflector, particularly when used in an optical semiconductor reflector or an optical semiconductor device including the same. A polyvalent carboxylic acid which can sufficiently raise the glass transition temperature of a cured product and has excellent moldability and a polyvalent carboxylic acid composition containing the same, a thermosetting resin composition, an epoxy resin composition, and curing them. And an optical semiconductor device.
エポキシ樹脂組成物は、耐熱性に優れた樹脂として、建築、土木、自動車、航空機などの分野で使用されている。近年、特に半導体関連材料の分野においてはカメラ付き携帯電話、超薄型の液晶やプラズマTV、軽量ノート型パソコンなど、軽・薄・短・小がキーワードとなるような製品があふれ、これによりエポキシ樹脂に代表されるパッケージ材料にも非常に高い特性が求められてきている。
さらに、近年オプトエレクトロニクス関連分野における利用が注目されており、高度情報化に伴い、膨大な情報を円滑に伝送、処理するために、従来の電気配線による信号伝送に変わり、光信号を生かした技術が開発されていく中で、光導波路、青色LED、および光半導体等の光学部品の分野においては透明性に優れた硬化物を与える樹脂組成物の開発が望まれている。
一般にオプトエレクトロニクス関連分野で用いられるエポキシ樹脂の硬化剤としては酸無水物系の化合物が挙げられる。特に飽和炭化水素で形成された酸無水物は硬化物が耐光性に優れることから、利用されることが多い。これら酸無水物としては、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸等の脂環式酸無水物が一般的であり、中でも常温で液状であるメチルテトラヒドロ無水フタル酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸等が取扱いの容易さから主に使用されている。Epoxy resin compositions are used as resins having excellent heat resistance in fields such as construction, civil engineering, automobiles, and aircraft. In recent years, especially in the field of semiconductor-related materials, products such as camera-equipped mobile phones, ultra-thin liquid crystal and plasma TVs, and lightweight notebook personal computers have been flooded with products where the key is light, thin, short, and small. Very high characteristics are also required for package materials represented by resins.
Furthermore, in recent years, the use in optoelectronics-related fields has attracted attention, and with the advancement of information technology, technology that utilizes optical signals instead of signal transmission using conventional electrical wiring in order to smoothly transmit and process vast amounts of information. In the field of optical components such as optical waveguides, blue LEDs, and optical semiconductors, the development of resin compositions that give cured products having excellent transparency has been desired.
As an epoxy resin curing agent generally used in the optoelectronics-related field, an acid anhydride-based compound can be used. In particular, acid anhydrides formed of saturated hydrocarbons are often used because cured products have excellent light resistance. As these acid anhydrides, alicyclic acid anhydrides such as methyltetrahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride and tetrahydrophthalic anhydride are generally used, and among them, methyltetrahydrophthalic anhydride, methyltetrahydrophthalic anhydride, Phthalic anhydride is mainly used because of its easy handling.
しかしながら上記脂環式酸無水物をエポキシ樹脂の硬化剤として用いた場合、これらの化合物は蒸気圧が高く、硬化時に一部が蒸発するため、エポキシ樹脂の硬化剤として用いて開放系で熱硬化させる際には、酸無水物自体が大気中に揮発してしまう。この結果、大気への有害物質の放出による環境汚染、人体への悪影響、生産ラインの汚染、硬化物中に所定量のカルボン酸無水物(硬化剤)が存在しないことに起因するエポキシ樹脂組成物の硬化不良が起こるなどの問題が発生する。硬化剤の揮発による硬化条件のバラつきが、硬化物の物性のバラつきとなり、安定して目的とした性能を有する硬化物を得ることが困難となる。
また、揮発の問題は、従来の酸無水物を硬化剤として用いて構成された光半導体封止用硬化性樹脂組成物でLED、特にSMD(Surface Mount Device)を封止した際は顕著であり、使用する樹脂量が少ないため、へこみが発生、ひどい場合には、ワイヤーが露出してしまう。さらには半田リフロー時のクラック、剥離、長期点灯にも耐えることが困難であるという問題が発生する。
一方、イソシアヌル環を有する多価カルボン酸は、例えば特許文献1などで、エポキシ樹脂の硬化剤として公知である。しかしながら特許文献1に記載の多価カルボン酸は酸無水物化合物に溶解することが困難であり、室温(25℃)で、液状で使用することが必要な分野では適応が困難であった。However, when the above alicyclic acid anhydride is used as a curing agent for epoxy resin, these compounds have a high vapor pressure and a part of the compound evaporates during curing. When this is done, the acid anhydride itself volatilizes into the atmosphere. As a result, an epoxy resin composition resulting from environmental pollution due to the release of harmful substances to the atmosphere, adverse effects on the human body, contamination of production lines, and the absence of a predetermined amount of carboxylic anhydride (curing agent) in the cured product. This causes problems such as poor curing. Variations in curing conditions due to volatilization of the curing agent cause variations in physical properties of the cured product, and it is difficult to obtain a cured product having the intended performance stably.
Further, the problem of volatilization is remarkable when an LED, particularly an SMD (Surface Mount Device) is sealed with a curable resin composition for encapsulating an optical semiconductor which is formed using a conventional acid anhydride as a curing agent. Since the amount of resin used is small, dents occur, and in severe cases, the wires are exposed. Furthermore, there is a problem that it is difficult to withstand cracking, peeling, and long-term lighting during solder reflow.
On the other hand, a polyvalent carboxylic acid having an isocyanuric ring is known as a curing agent for an epoxy resin in, for example,
熱硬化性樹脂組成物を半導体の封止材として利用したり、半導体用反射材として利用したりする場合、熱硬化性樹脂組成物が光半導体の発する光を吸収すると光半導体の照度が低下するため、熱硬化性樹脂組成物は高い透過率を有し、光や熱による着色の少ないものが望ましい。したがって、熱硬化性樹脂組成物に配合される硬化剤にも、高い透過率と光や熱による着色の少ないことが要求される。また、耐熱性、成型性、信頼性の観点から、硬化物のガラス転移温度が一定温度以上であることが重要であり、成形性の観点から硬化剤の軟化点や粘度についても一定の範囲にあることが重要である。 When the thermosetting resin composition is used as a semiconductor encapsulant or as a semiconductor reflector, when the thermosetting resin composition absorbs light emitted from the optical semiconductor, the illuminance of the optical semiconductor decreases. Therefore, it is desirable that the thermosetting resin composition has a high transmittance and is less colored by light or heat. Therefore, the curing agent to be blended in the thermosetting resin composition is also required to have high transmittance and less coloring by light or heat. In addition, from the viewpoint of heat resistance, moldability, and reliability, it is important that the glass transition temperature of the cured product is equal to or higher than a certain temperature. From the viewpoint of moldability, the softening point and viscosity of the curing agent are also within a certain range. It is important that there is.
熱硬化性樹脂用硬化剤として使用される酸無水物は、揮発性があること、また低融点であることから、金型成形には向かないことが問題となっていた。 An acid anhydride used as a curing agent for a thermosetting resin has a problem that it is not suitable for mold molding because of its volatility and low melting point.
テトラカルボン酸無水物については、揮発性はないが、高融点(150℃以上)であるため、液状樹脂組成物としては扱い難く、成形性に劣ることから、液状の樹脂を成形させる用途への使用の困難さを考慮すると、目的とする用途には向かない。 Tetracarboxylic anhydride is not volatile, but has a high melting point (150 ° C. or higher), so it is difficult to handle as a liquid resin composition, and is inferior in moldability. Considering the difficulty of use, it is not suitable for the intended use.
カルボン酸をエポキシ樹脂用硬化剤として使用する例も知られているが、比較的融点が高く(150℃以上)上記と同様の課題があり、それだけでなく加熱すると着色しやすいため高い透過率を確保することが極めて困難であることから目的とする用途には向かない。 Although an example of using a carboxylic acid as a curing agent for an epoxy resin is also known, it has a relatively high melting point (150 ° C. or higher) and has the same problem as described above. Because it is extremely difficult to secure, it is not suitable for the intended use.
同様に、ポリカルボン酸化合物についても、高融点(150℃以上)であること、結晶性が高く樹脂混練が難しいこと、また着色があることが問題となり目的とする用途では使用できない。
そのため、従来知られている材料として、上記目的を達成できる化合物は見出せていなかった。Similarly, the polycarboxylic acid compound has a high melting point (150 ° C. or higher), has high crystallinity, and is difficult to knead with the resin.
Therefore, no compound that can achieve the above object has been found as a conventionally known material.
本発明は、特にSMDタイプのLED封止材などの開放系で硬化に使用する場合は、硬化時に揮発が少なく硬化性に優れ、その硬化物は優れた透明性、硬さの硬化物を与える多価カルボン酸およびそれを含有する多価カルボン酸組成物、エポキシ樹脂組成物、その硬化物を提供することを目的とする。さらに、硬化物のガラス転移温度を十分高めることができ、成形性に優れ、硬化物への着色が少ない多価カルボン酸、それを用いた熱硬化性樹脂組成物、および、かかる熱硬化性樹脂組成物を封止材あるいは反射材として使用した半導体装置を提供する。 When the present invention is used for curing in an open system such as an SMD type LED encapsulating material, the volatilization at the time of curing is small and the curability is excellent, and the cured product gives a cured product having excellent transparency and hardness. An object of the present invention is to provide a polycarboxylic acid, a polycarboxylic acid composition containing the same, an epoxy resin composition, and a cured product thereof. Furthermore, the polyvalent carboxylic acid which can sufficiently raise the glass transition temperature of the cured product, is excellent in moldability, and has little coloring to the cured product, a thermosetting resin composition using the same, and such a thermosetting resin Provided is a semiconductor device using the composition as a sealing material or a reflecting material.
本発明者らは前記したような実状に鑑み、鋭意検討した結果、イソシアヌル環を有する多価カルボン酸又はそれを含有する多価カルボン酸組成物、それらのいずれかを含有するエポキシ樹脂組成物または熱硬化性樹脂組成物が上記課題を解決することを見出し、本発明を完成させるに至った。
すなわち本発明は、下記[1]〜[18]に関する。
[1] 下記式(1)で表される多価カルボン酸。The present inventors, in light of the above-described actual situation, as a result of intensive studies, a polyvalent carboxylic acid having an isocyanuric ring or a polyvalent carboxylic acid composition containing the same, an epoxy resin composition containing any of them, or The present inventors have found that a thermosetting resin composition solves the above problems, and have completed the present invention.
That is, the present invention relates to the following [1] to [18].
[1] A polyvalent carboxylic acid represented by the following formula (1).
(式(1)中、R1は炭素数1〜6のアルキレン基を、R6は水素原子又は炭素数1〜10のカルボキシル基を含有する有機基をそれぞれ表す。式(1)中、複数存在するR1、R6はそれぞれ同一であっても異なっていても構わないが、複数存在するR6中、50モル%以上は炭素数1〜10のカルボキシル基を含有する有機基である。)
[2] 下記式(1−1)で表され[1]に記載の多価カルボン酸。(In the formula (1), R 1 represents an alkylene group having 1 to 6 carbon atoms, and R 6 represents a hydrogen atom or an organic group containing a carboxyl group having 1 to 10 carbon atoms. The existing R 1 and R 6 may be the same or different, but among the plurality of R 6 , 50 mol% or more is an organic group containing a carboxyl group having 1 to 10 carbon atoms. )
[2] The polyvalent carboxylic acid according to [1], represented by the following formula (1-1).
(式(1−1)中、R1は前記と同じ意味を表し、R2aは水素原子、炭素数1〜6のアルキル基又はカルボキシル基をそれぞれ表す。式(1−1)中、複数存在するR1、R2aはそれぞれ同一であっても異なっていても構わない。)
[3] 下記式(1−2)で表される[1]に記載の多価カルボン酸。(In the formula (1-1), R 1 represents the same meaning as described above, and R 2a represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or a carboxyl group. R 1 and R 2a may be the same or different.)
[3] The polycarboxylic acid according to [1], represented by the following formula (1-2).
(式(1−2)中、R1は前記と同じ意味を表し、R2bは炭素数1〜10の直鎖または分岐構造を有するアルキレン基をそれぞれ表す。式(1−2)中、複数存在するR1、R2bはそれぞれ同一であっても異なっていても構わない。)
[4] [1]〜[3]のいずれか一項に記載の多価カルボン酸を含有する多価カルボン酸組成物。
[5] さらにカルボン酸無水物化合物を含有する[4]に記載の多価カルボン酸組成物。
[6] カルボン酸無水物化合物が下記式(2)〜(7)で表される化合物より選択される一種以上である、[5]に記載の多価カルボン酸組成物。(In formula (1-2), R 1 represents the same meaning as described above, and R 2b represents an alkylene group having a linear or branched structure having 1 to 10 carbon atoms. The existing R 1 and R 2b may be the same or different.)
[4] A polyvalent carboxylic acid composition containing the polyvalent carboxylic acid according to any one of [1] to [3].
[5] The polycarboxylic acid composition according to [4], further comprising a carboxylic anhydride compound.
[6] The polyvalent carboxylic acid composition according to [5], wherein the carboxylic anhydride compound is at least one selected from compounds represented by the following formulas (2) to (7).
[7] [1]〜[3]のいずれか一項に記載の多価カルボン酸又は[4]〜[6]のいずれか一項に記載の多価カルボン酸組成物と、エポキシ樹脂を含有するエポキシ樹脂組成物。
[8] さらにエポキシ樹脂硬化促進剤を含有する[7]に記載のエポキシ樹脂組成物。
[9] エポキシ樹脂硬化促進剤が、金属石鹸である[8]に記載のエポキシ樹脂組成物。
[10] 金属石鹸が、カルボン酸亜鉛化合物である[9]に記載のエポキシ樹脂組成物。
[11] [7]〜[10]のいずれか一項に記載のエポキシ樹脂組成物を硬化してなる硬化物。
[12] [1]〜[3]のいずれか一項に記載の多価カルボン酸と、熱硬化性樹脂とを含有し、ICIコーンプレート粘度が100〜200℃の範囲で0.01Pa・s〜10Pa・sの範囲にある熱硬化性樹脂組成物。
[13] 軟化点が20℃〜150℃の範囲にある[12]に記載の熱硬化性樹脂組成物。
[14] さらにトリメリット酸、無水トリメリット酸、シクロヘキサントリカルボン酸、シクロヘキサントリカルボン酸無水物、ピロメリット酸、水添ピロメリット酸、ピロメリット酸無水物、水添ピロメリット酸無水物、ヘキサヒドロ無水フタル酸、およびメチルヘキサヒドロ無水フタル酸から選ばれる1種または2種以上の化合物を含有する熱硬化性樹脂用硬化剤を含み、
トリメリット酸、無水トリメリット酸、シクロヘキサントリカルボン酸、シクロヘキサントリカルボン酸無水物、ピロメリット酸、水添ピロメリット酸、ピロメリット酸無水物、水添ピロメリット酸無水物、ヘキサヒドロ無水フタル酸、およびメチルヘキサヒドロ無水フタル酸から選ばれる1種または2種以上の化合物が、全体の1重量%〜90重量%を占める、[12]又は[13]に記載の熱硬化性樹脂組成物。
[15] その硬化物のガラス転移温度(Tg)が30℃以上である[12]〜[14]のいずれか一項に記載の熱硬化性樹脂組成物。
[16] [12]〜[15]のいずれか一項に記載の熱硬化性樹脂組成物を熱硬化してなる硬化物。
[17] [16]に記載の硬化物によって封止された光半導体装置。
[18] [16]に記載の硬化物を反射材として使用した光半導体装置。[7] The polyvalent carboxylic acid according to any one of [1] to [3] or the polyvalent carboxylic acid composition according to any one of [4] to [6], and an epoxy resin. Epoxy resin composition.
[8] The epoxy resin composition according to [7], further comprising an epoxy resin curing accelerator.
[9] The epoxy resin composition according to [8], wherein the epoxy resin curing accelerator is a metal soap.
[10] The epoxy resin composition according to [9], wherein the metal soap is a zinc carboxylate compound.
[11] A cured product obtained by curing the epoxy resin composition according to any one of [7] to [10].
[12] The polyvalent carboxylic acid according to any one of [1] to [3] and a thermosetting resin, and the viscosity of the ICI cone plate is 0.01 Pa · s in a range of 100 to 200 ° C. A thermosetting resin composition in the range of 10 Pa · s to 10 Pa · s;
[13] The thermosetting resin composition according to [12], wherein the softening point is in a range of 20C to 150C.
[14] Further, trimellitic acid, trimellitic anhydride, cyclohexanetricarboxylic acid, cyclohexanetricarboxylic anhydride, pyromellitic acid, hydrogenated pyromellitic acid, pyromellitic anhydride, hydrogenated pyromellitic anhydride, hexahydrophthalic anhydride An acid, and a curing agent for a thermosetting resin containing one or more compounds selected from methylhexahydrophthalic anhydride,
Trimellitic acid, trimellitic anhydride, cyclohexanetricarboxylic acid, cyclohexanetricarboxylic anhydride, pyromellitic acid, hydrogenated pyromellitic acid, pyromellitic anhydride, hydrogenated pyromellitic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, and methyl The thermosetting resin composition according to [12] or [13], wherein one or more compounds selected from hexahydrophthalic anhydride account for 1% to 90% by weight of the whole.
[15] The thermosetting resin composition according to any one of [12] to [14], wherein the glass transition temperature (Tg) of the cured product is 30 ° C or higher.
[16] A cured product obtained by thermosetting the thermosetting resin composition according to any one of [12] to [15].
[17] An optical semiconductor device sealed with the cured product according to [16].
[18] An optical semiconductor device using the cured product according to [16] as a reflector.
本発明によれば、イソシアヌル環を有する特定の構造の多価カルボン酸又はそれを含有する多価カルボン酸組成物を含有するエポキシ樹脂組成物は、硬化時の揮発が少なく硬化性に優れ、その硬化物は優れた透明性、硬さを有する硬化物を与えるため、高い透明性且つ薄膜の硬化物形成が求められ材料、特に光半導体(LEDなど)の封止用樹脂としてきわめて有用である。
また、硬化物の十分なガラス転移温度を有し、成形性に優れ、硬化物にした際の着色が少ない多価カルボン酸、それを用いた熱硬化性樹脂組成物、およびその熱硬化性樹脂組成物を封止材あるいは反射材として使用した光半導体装置を提供できる。さらに、軟化点を抑えることで取扱いが容易になるとともに、十分な混練が可能となり硬化物性に優れる硬化物を提供することが可能となる。また硬化物の強靭性、樹脂の反応性にも優れた熱硬化性樹脂組成物を提供できる。According to the present invention, an epoxy resin composition containing a polyvalent carboxylic acid having a specific structure having an isocyanuric ring or a polyvalent carboxylic acid composition containing the same has excellent volatilization during curing and excellent curability, and Since the cured product gives a cured product having excellent transparency and hardness, it is required to form a cured product of high transparency and a thin film, and is extremely useful as a material, particularly a resin for encapsulating an optical semiconductor (such as an LED).
In addition, a polyvalent carboxylic acid having a sufficient glass transition temperature of the cured product, having excellent moldability, and being less colored when the cured product is obtained, a thermosetting resin composition using the same, and the thermosetting resin thereof An optical semiconductor device using the composition as a sealing material or a reflecting material can be provided. Furthermore, by suppressing the softening point, handling becomes easy and sufficient kneading becomes possible, so that a cured product having excellent cured properties can be provided. In addition, a thermosetting resin composition having excellent toughness of the cured product and excellent reactivity of the resin can be provided.
本発明の多価カルボン酸(A)は、下記式(1)で表される、イソシアヌル環を有する多価カルボン酸である。 The polyvalent carboxylic acid (A) of the present invention is a polyvalent carboxylic acid having an isocyanuric ring represented by the following formula (1).
式(1)中、R1は炭素数1〜6のアルキレン基を、R6は水素原子又は炭素数1〜10のカルボキシル基を含有する有機基をそれぞれ表す。In the formula (1), R 1 represents an alkylene group having 1 to 6 carbon atoms, and R 6 represents an organic group containing a hydrogen atom or a carboxyl group having 1 to 10 carbon atoms.
R1の具体例としては、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ペンチレン基、へキシレン基、イソプロピレン基、イソブチレン基、イソペンチレン基、ネオペンチレン基、イソヘキシレン基、シクロヘキシレン基等が挙げられるが、得られる硬化物の耐熱透明性の観点からメチレン基、エチレン基、プロピレン基が好ましく、エチレン基が特に好ましい。Specific examples of R 1 include a methylene group, an ethylene group, a propylene group, a butylene group, a pentylene group, a hexylene group, an isopropylene group, an isobutylene group, an isopentylene group, a neopentylene group, an isohexylene group, and a cyclohexylene group. However, from the viewpoint of heat resistance and transparency of the obtained cured product, a methylene group, an ethylene group, and a propylene group are preferable, and an ethylene group is particularly preferable.
R6は水素原子又は炭素数1〜10のカルボキシル基を含有する有機基である。ここで、有機基とは、H、C、N、O原子のみからなる基であり、R6は炭素数が1〜10であれば良く、エステル結合、エーテル結合、ウレタン結合、アミド結合、カルボニル基を含んでいても良い。
炭素数1〜10のカルボキシル基を含有する有機基は、1つ以上のカルボキシル基を含有する。R 6 is a hydrogen atom or an organic group containing a carboxyl group having 1 to 10 carbon atoms. Here, the organic group, H, C, N, an O atom only consists group, R 6 may be any from 1 to 10 carbon atoms, an ester bond, an ether bond, a urethane bond, an amide bond, a carbonyl It may contain a group.
The organic group containing a carboxyl group having 1 to 10 carbon atoms contains one or more carboxyl groups.
式(1)中、複数存在するR1、R6はそれぞれ同一であっても異なっていても構わない。In the formula (1), a plurality of R 1 and R 6 may be the same or different.
式(1)中、複数存在するR6中、50モル%以上は炭素数1〜10のカルボキシル基を含有する有機基である。50モル%以上であることにより硬化物の機械強度が優れる。また70モル%以上がより好ましい。In the formula (1), 50 mol% or more of a plurality of R 6 is an organic group containing a carboxyl group having 1 to 10 carbon atoms. When the content is 50 mol% or more, the cured product has excellent mechanical strength. Further, it is more preferably at least 70 mol%.
R6のうち炭素数1〜10のカルボキシル基を含有する有機基として、下記式(8)、(9)で表される有機基が挙げられる。Examples of the organic group containing a carboxyl group having 1 to 10 carbon atoms in R 6 include organic groups represented by the following formulas (8) and (9).
式(8)中、R2aは水素原子又は炭素数1〜6のアルキル基又はカルボキシル基を、式(9)中、R2bは炭素数1〜10の直鎖または分岐構造を有するアルキレン基を表し、式(8)、(9)中の*で式(1)中の酸素原子と結合していることをそれぞれ表す。In the formula (8), R 2a represents a hydrogen atom or an alkyl group or a carboxyl group having 1 to 6 carbon atoms, and in the formula (9), R 2b represents an alkylene group having a linear or branched structure having 1 to 10 carbon atoms. And * in formulas (8) and (9) indicates that it is bonded to an oxygen atom in formula (1).
R2aのうち炭素数1〜6のアルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、t−ブチル基、ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、シクロペンチル基、ヘキシル基、イソヘキシル基、シクロヘキシル基等が挙げられるが、得られる硬化物の耐熱透明性の観点からメチル基が好ましい。Specific examples of the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms in R 2a include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, an isobutyl group, a t-butyl group, a pentyl group, an isopentyl group, a neopentyl group, Examples thereof include a cyclopentyl group, a hexyl group, an isohexyl group, and a cyclohexyl group, and a methyl group is preferable from the viewpoint of heat resistance and transparency of the obtained cured product.
R2aの中でも、メチル基、カルボキシル基が好ましく、多価カルボン酸(A)を含有する多価カルボン酸組成物(C)の室温(25℃)での粘度が上がりすぎない観点と、得られる硬化物の透明性の観点からはメチル基が好ましく、得られる硬化物のガスバリア性、高いガラス転移温度(Tg)、硬さの観点からはカルボキシル基が特に好ましい。Among R 2a , a methyl group and a carboxyl group are preferable, and the viewpoint that the viscosity at room temperature (25 ° C.) of the polycarboxylic acid composition (C) containing the polycarboxylic acid (A) is not excessively increased is obtained. A methyl group is preferred from the viewpoint of transparency of the cured product, and a carboxyl group is particularly preferred from the viewpoint of gas barrier properties, high glass transition temperature (Tg), and hardness of the resulting cured product.
R2bの具体例としては、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ペンチレン基、へキシレン基、ヘプチレン基、オクチレン基、ノニニレン基、デシニレン基、イソプロピレン基、イソブチレン基、イソペンチレン基、ネオペンチレン基、イソヘキシレン基、イソヘプチレン基、イソオクチレン基、イソノニニレン基、イソデシニレン基、ジメチルプロピレン基、ジエチルプロピレン基、ジエチルブチレン基、ジエチルペンチレン基、ジエチルヘキシレン基等が挙げられるが、得られる硬化物の耐熱透明性の観点からエチレン基、プロピレン基、ジエチルプロピレン基が好ましく、本発明の多価カルボン酸(A)の軟化点および室温(25℃)での粘度が低粘度であることからプロピレン基が特に好ましい。Specific examples of R 2b include a methylene group, an ethylene group, a propylene group, a butylene group, a pentylene group, a hexylene group, a heptylene group, an octylene group, a noninylene group, a desinylene group, an isopropylene group, an isobutylene group, an isopentylene group, and a neopentylene group. Group, isohexylene group, isoheptylene group, isooctylene group, isononinylene group, isodecinylene group, dimethylpropylene group, diethylpropylene group, diethylbutylene group, diethylpentylene group, diethylpentylene group, diethylhexylene group, and the like. From the viewpoint of transparency, an ethylene group, a propylene group, and a diethylpropylene group are preferable, and the propylene group is particularly preferable because the softening point and the viscosity at room temperature (25 ° C.) of the polycarboxylic acid (A) of the present invention are low. preferable.
R6のうち炭素数1〜10のカルボキシル基を含有する有機基の具体例として、下記式(8−1)〜(8−3)および(9−1)〜(9−3)で表される有機基が挙げられる。Specific examples of the organic group containing a carboxyl group having 1 to 10 carbon atoms in R 6 are represented by the following formulas (8-1) to (8-3) and (9-1) to (9-3). Organic groups.
(式中、*は前記と同じ意味を表す。) (In the formula, * represents the same meaning as described above.)
式(1)で表される多価カルボン酸(A)は、下記式(10)で表される、イソシアヌル酸トリスヒドロキシアルキル化合物と、下記式(14)で表されるカルボン酸無水物化合物および/又は式(15)で表される、カルボン酸無水物化合物との付加反応により得ることができる。 The polycarboxylic acid (A) represented by the formula (1) includes a trishydroxyalkyl isocyanurate compound represented by the following formula (10), a carboxylic acid anhydride compound represented by the following formula (14) and And / or an addition reaction with a carboxylic anhydride compound represented by the formula (15).
式(10)中、R1は前記と同じ意味を表す。In the formula (10), R 1 has the same meaning as described above.
式(14)中、R2aは前記と同じ意味を表す。
式(15)中、R3は水素原子または炭素数1〜4のアルキル基を、mは整数で1〜9をそれぞれ表し、式(15)中、複数存在するR3は同一であっても異なっていても構わない。R3の中の炭素数1〜4のアルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基が挙げられる。mは整数で1〜9を表し、得られる硬化物の耐熱透明性の観点から、1〜5が好ましく、1〜2が特に好ましい。In the formula (14), R 2a has the same meaning as described above.
In Formula (15), R 3 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, m represents an integer of 1 to 9 respectively, and in Formula (15), even when a plurality of R 3 are the same, They can be different. Specific examples of the alkyl group having 1 to 4 carbon atoms in R 3 include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, and a butyl group. m represents an integer of 1 to 9, preferably 1 to 5, and particularly preferably 1 or 2, from the viewpoint of heat resistance and transparency of the obtained cured product.
式(10)で表される化合物の中でも、下記式(11)〜(13)で表される化合物が、硬化物の透明性、ガスバリア性の観点から好ましい。 Among the compounds represented by the formula (10), the compounds represented by the following formulas (11) to (13) are preferable from the viewpoints of transparency and gas barrier properties of the cured product.
式(14)で表される化合物のうち、下記(5)〜(7)で表される化合物が特に好ましい。 Among the compounds represented by the formula (14), compounds represented by the following (5) to (7) are particularly preferable.
式(15)で表される化合物の中でも、下記式(2)〜(4)で表される化合物が、硬化物の耐熱透明性、多価カルボン酸(A)の粘度、多価カルボン酸組成物(C)の粘度の観点から好ましい化合物として挙げられる。中でも、下記式(4)で表される化合物が好ましい。 Among the compounds represented by the formula (15), the compounds represented by the following formulas (2) to (4) are obtained by heat-resistant transparency of the cured product, the viscosity of the polycarboxylic acid (A), and the composition of the polycarboxylic acid. It is mentioned as a preferable compound from the viewpoint of the viscosity of the product (C). Among them, a compound represented by the following formula (4) is preferable.
本発明の多価カルボン酸(A)の製造は、溶媒中でも無溶剤でも行うことができる。溶剤としては、前述の式(10)で表されるイソシアヌル酸トリスヒドロキシアルキル化合物、式(14)や式(15)で表されるカルボン酸無水物化合物と反応しない溶剤であれば特に制限なく使用できる。使用しうる溶剤としては、例えばジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、テトラヒドロフラン、アセトニトリルなどの非プロトン性極性溶媒、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、メチルイソブチルケトンなどのケトン類、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素等が挙げられ、これらの中で、芳香族炭化水素やケトン類が好ましい。
これらの溶剤は1種又は2種以上を混合して用いても良い。溶剤を用いる場合の使用量は、前述の式(10)で表されるイソシアヌル酸トリスヒドロキシアルキル化合物と式(14)で表されるカルボン酸無水物化合物および/又は式(15)で表されるカルボン酸無水物化合物の合計100質量部に対して、0.5〜300質量部が好ましい。The production of the polycarboxylic acid (A) of the present invention can be carried out with or without a solvent. As the solvent, any solvent that does not react with the trishydroxyalkyl isocyanurate compound represented by the above formula (10) or the carboxylic anhydride compound represented by the formula (14) or (15) can be used without any particular limitation. it can. Solvents that can be used include, for example, aprotic polar solvents such as dimethylformamide, dimethylacetamide, dimethylsulfoxide, tetrahydrofuran, and acetonitrile; ketones such as methyl ethyl ketone, cyclopentanone and methyl isobutyl ketone; and aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene. Hydrogen and the like are mentioned, and among these, aromatic hydrocarbons and ketones are preferable.
These solvents may be used alone or in combination of two or more. When the solvent is used, the amount used is represented by the trishydroxyalkyl isocyanurate compound represented by the above formula (10) and the carboxylic anhydride compound represented by the formula (14) and / or the formula (15). The amount is preferably 0.5 to 300 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the total of the carboxylic anhydride compound.
本発明の多価カルボン酸(A)は室温(25℃)にて固体であることが多いため、溶剤中で合成することが作業性の観点から好ましい。 Since the polycarboxylic acid (A) of the present invention is often a solid at room temperature (25 ° C.), it is preferable to synthesize in a solvent from the viewpoint of workability.
本発明の多価カルボン酸(A)は無触媒でも、触媒を用いても製造する事ができる。触媒を用いる場合、用い得る触媒は、塩酸、硫酸、メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、パラトルエンスルホン酸、硝酸、トリフルオロ酢酸、トリクロロ酢酸等の酸性化合物、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム、水酸化マグネシウム等の金属水酸化物、トリエチルアミン、トリプロピルアミン、トリブチルアミン等のアミン化合物、ピリジン、ジメチルアミノピリジン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデカ−7−エン、イミダゾール、トリアゾール、テトラゾール等の複素環式化合物、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、テトラプロピルアンモニウムヒドロキシド、テトラブチルアンモニウムヒドロキシド、トリメチルエチルアンモニウムヒドロキシド、トリメチルプロピルアンモニウムヒドロキシド、トリメチルブチルアンモニウムヒドロキシド、トリメチルセチルアンモニウムヒドロキシド、トリオクチルメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラメチルアンモニウムクロリド、テトラメチルアンモニウムブロミド、テトラメチルアンモニウムヨージド、テトラメチルアンモニウムアセテート、トリオクチルメチルアンモニウムアセテート等の4級アンモニウム塩、オルトチタン酸テトラエチル、オルトチタン酸テトラメチル等のオルトチタン酸類、オクチル酸スズ、オクチル酸コバルト、オクチル酸亜鉛、オクチル酸マンガン、オクチル酸カルシウム、オクチル酸ナトリウム、オクチル酸カリウム等の金属石鹸類が挙げられる。 The polycarboxylic acid (A) of the present invention can be produced without a catalyst or with a catalyst. When a catalyst is used, usable catalysts include hydrochloric acid, sulfuric acid, methanesulfonic acid, trifluoromethanesulfonic acid, paratoluenesulfonic acid, nitric acid, trifluoroacetic acid, acidic compounds such as trichloroacetic acid, sodium hydroxide, potassium hydroxide, and water. Metal oxides such as calcium oxide and magnesium hydroxide, amine compounds such as triethylamine, tripropylamine and tributylamine, pyridine, dimethylaminopyridine, 1,8-diazabicyclo [5.4.0] undec-7-ene, Heterocyclic compounds such as imidazole, triazole and tetrazole, tetramethylammonium hydroxide, tetraethylammonium hydroxide, tetrapropylammonium hydroxide, tetrabutylammonium hydroxide, trimethylethylammonium hydroxide Loxide, trimethylpropylammonium hydroxide, trimethylbutylammonium hydroxide, trimethylcetylammonium hydroxide, trioctylmethylammonium hydroxide, tetramethylammonium chloride, tetramethylammonium bromide, tetramethylammonium iodide, tetramethylammonium acetate, trioctyl Quaternary ammonium salts such as methylammonium acetate, orthotitanates such as tetraethyl orthotitanate and tetramethyl orthotitanate, tin octylate, cobalt octylate, zinc octylate, manganese octylate, calcium octylate, sodium octylate, And metal soaps such as potassium octylate.
触媒を用いる場合、1種または2種以上を混合して用いることもできる。
触媒を用いる場合の使用量は、前述の式(10)で表されるイソシアヌル酸トリスヒドロキシアルキル化合物と式(14)で表されるカルボン酸無水物化合物および/又は式(15)で表されるカルボン酸無水物化合物の合計100質量部に対して、0.05〜10質量部が好ましい。
触媒の添加方法は、直接添加するか、可溶性の溶剤等に溶解させた状態で使用する。この際、メタノール、エタノール等のアルコール性の溶媒や水を用いることは、未反応の、式(14)や式(15)で表されるカルボン酸無水物化合物と反応してしまうため、避けることが好ましい。
本発明においては、得られる多価カルボン酸(A)又は多価カルボン酸組成物(C)の硬化物において、透明性、耐熱透明性を向上させる観点からはオクチル酸亜鉛等のカルボン酸亜鉛を触媒として好ましく使用することができ、得られる多価カルボン酸(A)又は多価カルボン酸組成物(C)の着色を低減させる観点からは無触媒で反応を行うことが好ましい。
中でも、透明性、耐硫化性に優れる硬化物を得るために、特にステアリン酸カルシウム、カルボン酸亜鉛(2−エチルヘキサン酸亜鉛、ステアリン酸亜鉛、ベヘン酸亜鉛、ミスチリン酸亜鉛)やリン酸エステル亜鉛(オクチルリン酸亜鉛、ステアリルリン酸亜鉛等)等の亜鉛化合物が好ましく使用できる。When a catalyst is used, one kind or a mixture of two or more kinds can be used.
The amount used when a catalyst is used is represented by the trishydroxyalkyl isocyanurate compound represented by the formula (10) and the carboxylic acid anhydride compound represented by the formula (14) and / or the formula (15). The amount is preferably 0.05 to 10 parts by mass based on 100 parts by mass of the total amount of the carboxylic anhydride compound.
The catalyst may be added directly or in a state of being dissolved in a soluble solvent or the like. At this time, use of an alcoholic solvent such as methanol or ethanol or water should be avoided because it will react with unreacted carboxylic anhydride compounds represented by the formulas (14) and (15). Is preferred.
In the present invention, from the viewpoint of improving transparency and heat-resistant transparency, a zinc carboxylate such as zinc octylate is used in the obtained cured product of the polyvalent carboxylic acid (A) or the polyvalent carboxylic acid composition (C). It can be preferably used as a catalyst, and it is preferable to perform the reaction without a catalyst from the viewpoint of reducing the coloring of the obtained polycarboxylic acid (A) or polycarboxylic acid composition (C).
Among them, in order to obtain a cured product excellent in transparency and sulfidation resistance, particularly, calcium stearate, zinc carboxylate (zinc 2-ethylhexanoate, zinc stearate, zinc behenate, zinc mistyphosphate) and zinc phosphate ester ( Zinc compounds such as zinc octyl phosphate and zinc stearyl phosphate are preferably used.
本発明の多価カルボン酸(A)の製造時の反応温度は、触媒量、使用溶剤にもよるが、通常20〜160℃、好ましくは50〜150℃、特に好ましくは60〜145℃である。又、反応時間の総計は通常1〜20時間、好ましくは3〜18時間である。反応は2段階以上で行なっても良く、例えば20〜100℃で1〜8時間反応させた後に、100〜160℃で1〜12時間などで反応させても良い。これは特に式(14)や式(15)で表されるカルボン酸無水物化合物は揮発性の高いものが多く、そのようなものを用いる場合、あらかじめ20〜100℃で反応させた後に、100〜160℃で反応させることで、揮発を抑えることができる。これにより、大気中への有害物質の拡散を抑制するだけでなく、設計どおりの多価カルボン酸(A)をより確実に得ることができる。 The reaction temperature at the time of producing the polycarboxylic acid (A) of the present invention is usually 20 to 160 ° C, preferably 50 to 150 ° C, particularly preferably 60 to 145 ° C, although it depends on the amount of the catalyst and the solvent used. . The total reaction time is usually 1 to 20 hours, preferably 3 to 18 hours. The reaction may be carried out in two or more stages. For example, after reacting at 20 to 100 ° C for 1 to 8 hours, the reaction may be performed at 100 to 160 ° C for 1 to 12 hours. This is particularly because the carboxylic acid anhydride compounds represented by the formulas (14) and (15) often have high volatility, and when such compounds are used, they are preliminarily reacted at 20 to 100 ° C. By reacting at ~ 160 ° C, volatilization can be suppressed. This not only suppresses the diffusion of harmful substances into the atmosphere, but also makes it possible to more reliably obtain the polycarboxylic acid (A) as designed.
触媒を用いて製造を行なった場合は必要に応じてクエンチ、および/又は水洗を行なうことで触媒を除くことができるが、そのまま残存させ、多価カルボン酸(A)および/又は多価カルボン酸組成物(C)を含有するエポキシ樹脂組成物の硬化促進剤として利用することもできる。
水洗工程を行なう場合、使用している溶剤の種類によっては水と分離可能な溶剤を加えることが好ましい。好ましい溶剤としては例えばメチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロペンタノンなどのケトン類、酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸エチル、ブタン酸イソプロピルなどのエステル類、ヘキサン、シクロヘキサン、トルエン、キシレンなどの炭化水素等が例示できる。
反応や水洗に溶剤を用いた場合、減圧濃縮などによって除くことができる。When the production is carried out using a catalyst, the catalyst can be removed by quenching and / or washing with water, if necessary, but the polycarboxylic acid (A) and / or polycarboxylic acid can be left as it is. It can also be used as a curing accelerator for an epoxy resin composition containing the composition (C).
When performing the water washing step, it is preferable to add a solvent that can be separated from water depending on the type of the solvent used. Examples of preferred solvents include ketones such as methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone and cyclopentanone, esters such as ethyl acetate, butyl acetate, ethyl lactate and isopropyl butanoate, and hydrocarbons such as hexane, cyclohexane, toluene and xylene. it can.
When a solvent is used for the reaction or water washing, it can be removed by concentration under reduced pressure.
本発明の多価カルボン酸(A)を製造する際に、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC){測定条件;カラム:SHODEX GPC LF−G(ガードカラム)、KF−603、KF−602.5、KF−602、KF−601(2本)、流速:0.4ml/min.カラム温度:40℃、使用溶剤:THF(テトラヒドロフラン)、検出器:RI(示差屈折検出器)}において、本願式(1)で表される化合物のピークより早いリテンションタイムのピークと遅いリテンションタイムのピークの化合物が混在している。当該早いリテンションタイムのピーク(以下、ピークfと称す。)としては、リテンションタイムが本願式(1)の化合物のピークより1〜3分早い、例えば18〜20分の化合物がある。当該ピークfの化合物のGPCの面積%としては、1〜30面積%であることが機械的強度上昇の観点から好ましく1〜10面積%であることが特に好ましい。また、当該遅いリテンションタイムのピークとしては2〜3つ存在する可能性があり(以下、ピークsと称す。)、リテンションタイムが本願式(1)の化合物のピークより1〜5分遅い、例えば21〜25分の化合物が該当する。当該ピークsの化合物のGPCの面積%としては、1〜10面積%であることが接着性向上の観点から好ましく、1〜5面積%であることがより好ましい。また下記式(16)で表される多価カルボン酸の多量体が生成することがある。尚、これらの化合物はピークfの化合物に該当すると考えられる。 When producing the polycarboxylic acid (A) of the present invention, gel permeation chromatography (GPC) PCmeasurement conditions; column: SHOdex GPC LF-G (guard column), KF-603, KF-602.5, KF-602, KF-601 (2 pieces), flow rate: 0.4 ml / min. Column temperature: 40 ° C., Solvent used: THF (tetrahydrofuran), Detector: RI (differential refraction detector)}, the retention time of which is earlier than the peak of the compound represented by the formula (1) and the retention time which is later. Peak compounds are mixed. As the peak of the early retention time (hereinafter, referred to as peak f), there is a compound having a retention time that is 1 to 3 minutes earlier than the peak of the compound of formula (1) of the present application, for example, 18 to 20 minutes. The area% of GPC of the compound having the peak f is preferably 1 to 30 area%, and particularly preferably 1 to 10 area% from the viewpoint of an increase in mechanical strength. Further, there may be two or three peaks of the slow retention time (hereinafter, referred to as peak s), and the retention time is 1 to 5 minutes later than the peak of the compound of the formula (1), for example, Compounds of 21 to 25 minutes correspond. The area% of GPC of the compound having the peak s is preferably 1 to 10 area% from the viewpoint of improving the adhesiveness, and more preferably 1 to 5 area%. Further, a multimer of a polyvalent carboxylic acid represented by the following formula (16) may be formed. It is considered that these compounds correspond to the compound of peak f.
式(16)中、R1は前記と同じ意味を表し、R4は前記R2bと同じ意味又は下記式(17)で表される構造を表し、R5は水素原子又は下記式(18)で表される構造を表す。In the formula (16), R 1 has the same meaning as described above, R 4 has the same meaning as the above R 2b or a structure represented by the following formula (17), and R 5 represents a hydrogen atom or the following formula (18) Represents a structure represented by
式(17)中、R2aは前記と同じ意味を表し、**は式(16)中のR4の隣のカルボニル炭素と結合していることを表す。In the formula (17), R 2a has the same meaning as described above, and ** indicates that it is bonded to the carbonyl carbon adjacent to R 4 in the formula (16).
式(18)中、R1、R4、R5は前記と同じ意味を表し、***の部位で式(16)中のR5が結合している酸素原子と結合していることを表す。In the formula (18), R 1 , R 4 and R 5 represent the same meaning as described above, and indicate that R 5 in the formula (16) is bonded to the oxygen atom bonded to the site of ***. Represent.
前記式(16)で表される多価カルボン酸の多量体が多価カルボン酸(A)に含まれると、硬化物の機械強度が向上するため好ましいが、含有することにより多価カルボン酸(A)の粘度が過度に上昇しないために、多価カルボン酸(A)100質量部に対して、50質量部以下であることが好ましい。 It is preferable that the multivalent carboxylic acid represented by the formula (16) is contained in the polyvalent carboxylic acid (A) because the mechanical strength of the cured product is improved. In order not to excessively increase the viscosity of A), the amount is preferably 50 parts by mass or less based on 100 parts by mass of the polycarboxylic acid (A).
また、本発明の多価カルボン酸(A)を製造する際に、下記式(19)で表される二価のカルボン酸が生成することがある。尚、当該化合物はピークsの化合物に該当すると考えられる。ここで、前記製造法により得られる多価カルボン酸(A)の下記式(19)で表される化合物のGPC面積%は1〜30面積%が好ましく、1〜20面積%がより好ましい。 When producing the polyvalent carboxylic acid (A) of the present invention, a divalent carboxylic acid represented by the following formula (19) may be produced. The compound is considered to correspond to the compound of peak s. Here, the GPC area% of the compound represented by the following formula (19) of the polycarboxylic acid (A) obtained by the above-mentioned production method is preferably 1 to 30 area%, more preferably 1 to 20 area%.
式(19)中、R1、R4は前記と同じ意味を表す。In the formula (19), R 1 and R 4 represent the same meaning as described above.
前記式(15)で表される二価のカルボン酸が多価カルボン酸(A)に含まれると、硬化物の基材への接着性が向上するため好ましいが、含有することにより硬化物の機械強度が劣ってしまうために多価カルボン酸(A)100質量部に対して、20質量部以下であることが好ましい。 It is preferable that the divalent carboxylic acid represented by the formula (15) is contained in the polyvalent carboxylic acid (A) because the adhesion of the cured product to the substrate is improved. Since the mechanical strength is inferior, the amount is preferably 20 parts by mass or less based on 100 parts by mass of the polycarboxylic acid (A).
また、本発明の多価カルボン酸(A)を製造する際に、下記式(19’)で表される一価のカルボン酸が生成することがある。尚、当該化合物はピークsの化合物に該当すると考えられる。ここで、前記製造法により得られる多価カルボン酸(A)の下記式(19’)で表される化合物のGPC面積%は1〜10面積%が好ましく、1〜5面積%がより好ましい。 When producing the polyvalent carboxylic acid (A) of the present invention, a monovalent carboxylic acid represented by the following formula (19 ') may be produced. The compound is considered to correspond to the compound of peak s. Here, the GPC area% of the compound represented by the following formula (19 ') of the polycarboxylic acid (A) obtained by the above-mentioned production method is preferably 1 to 10 area%, more preferably 1 to 5 area%.
式(19’)中、R1、R4は前記と同じ意味を表す。In the formula (19 ′), R 1 and R 4 represent the same meaning as described above.
前記式(19’)で表される一価のカルボン酸が多価カルボン酸(A)に含まれると、硬化物の基材への接着性が向上するため好ましいが、含有することにより硬化物の機械強度が劣る傾向にあるため多価カルボン酸(A)100質量部に対して、20質量部以下であることが好ましい。 It is preferable that the monovalent carboxylic acid represented by the formula (19 ′) is contained in the polyvalent carboxylic acid (A) because the adhesion of the cured product to the substrate is improved. Is preferably 20 parts by mass or less based on 100 parts by mass of the polyvalent carboxylic acid (A).
他にも、ピークsに該当する化合物としては、アルコールを溶剤に使用した場合は、アルコールと上記式(14)で表されるカルボン酸無水物化合物および/又は上記式(15)で表される化合物の反応物や溶剤中や空気中の水分と上記式(14)で表されるカルボン酸無水物化合物および/又は上記式(15)で表される化合物の反応物、未反応の酸無水物が挙げられる。ここで、アルコールと上記式(9)で表される化合物や溶剤中や空気中の水分と上記式(14)で表されるカルボン酸無水物化合物および/又は上記式(15)で表される化合物の反応物のGPCの面積%としては、硬化物の機械強度の点から5面積%以下が好ましく、3面積%以下であることがより好ましい。 In addition, as a compound corresponding to the peak s, when an alcohol is used as a solvent, an alcohol and a carboxylic anhydride compound represented by the above formula (14) and / or a compound represented by the above formula (15) are used. The reactant of the compound, the water in the solvent or the air and the carboxylic acid anhydride compound represented by the above formula (14) and / or the reactant of the compound represented by the above formula (15), unreacted acid anhydride Is mentioned. Here, alcohol and the compound represented by the above formula (9), water in a solvent or in the air, and the carboxylic acid anhydride compound represented by the above formula (14) and / or the formula (15) The area% of GPC of the reaction product of the compound is preferably 5 area% or less, more preferably 3 area% or less from the viewpoint of mechanical strength of the cured product.
製造された本発明の多価カルボン酸(A)の酸価(JIS K−2501に記載の方法で測定)は150〜415mgKOH/gのものが好ましく、185〜375mgKOH/gのものがより好ましく、特に200〜320mgKOH/gのものが好ましい。酸価が150mgKOH/g以上であれば硬化物の機械特性が向上するため好ましく、415mgKOH/g以下であれば、その硬化物が硬くなり過ぎず、弾性率が適度なものとなり好ましい。
また、本発明の多価カルボン酸(A)の官能基当量は、135〜312g/eqのものが好ましく、150〜300g/eqのものがより好ましく、特に180〜280g/eqが好ましい。The acid value (measured by the method described in JIS K-2501) of the produced polycarboxylic acid (A) of the present invention is preferably from 150 to 415 mgKOH / g, more preferably from 185 to 375 mgKOH / g, In particular, those having 200 to 320 mgKOH / g are preferable. An acid value of 150 mgKOH / g or more is preferable because the mechanical properties of the cured product are improved, and an acid value of 415 mgKOH / g or less is preferable because the cured product does not become too hard and has an appropriate elastic modulus.
Further, the functional equivalent of the polyvalent carboxylic acid (A) of the present invention is preferably 135 to 312 g / eq, more preferably 150 to 300 g / eq, and particularly preferably 180 to 280 g / eq.
次に本発明の多価カルボン酸組成物(C)について説明する。
本発明の多価カルボン酸組成物(C)は、本発明の多価カルボン酸(A)を必須成分とする。
また本発明の多価カルボン酸組成物(C)のうち、多価カルボン酸組成物(C’)は、本発明の多価カルボン酸(A)と、カルボン酸無水物化合物(B)を必須成分とする。Next, the polyvalent carboxylic acid composition (C) of the present invention will be described.
The polycarboxylic acid composition (C) of the present invention contains the polycarboxylic acid (A) of the present invention as an essential component.
Further, among the polycarboxylic acid composition (C) of the present invention, the polycarboxylic acid composition (C ′) essentially includes the polycarboxylic acid (A) of the present invention and the carboxylic anhydride compound (B). Ingredients.
多価カルボン酸組成物(C’)は多価カルボン酸(A)と、カルボン酸無水物化合物(B)を混合して得ることができる。
本発明の多価カルボン酸組成物(C’)は前記各成分を常温もしくは加温下で均一に混合することにより得られる。例えば、薬匙、押出機、ニーダー、三本ロール、万能ミキサー、プラネタリーミキサー、ホモミキサー、ホモディスパー、ビーズミル等を用いて均一になるまで充分に混合し、必要によりSUSメッシュ等によりろ過処理を行うことにより調製される。
調製する際、後述するエポキシ樹脂(D)、硬化促進剤(E)、接着助剤、酸化防止剤、光安定剤等を一緒に混合してもよい。The polycarboxylic acid composition (C ′) can be obtained by mixing the polycarboxylic acid (A) and the carboxylic anhydride compound (B).
The polyvalent carboxylic acid composition (C ′) of the present invention can be obtained by uniformly mixing the above components at room temperature or under heating. For example, a spoon, an extruder, a kneader, a three-roll, a universal mixer, a planetary mixer, a homomixer, a homodisper, a bead mill, etc., and sufficiently mixed until uniform, and if necessary, a filtration treatment with a SUS mesh or the like. It is prepared by performing.
During preparation, an epoxy resin (D), a curing accelerator (E), an adhesion aid, an antioxidant, a light stabilizer, and the like, which will be described later, may be mixed together.
本発明の多価カルボン酸組成物(C)は、必要に応じて溶剤を混合させてワニスやインクとして使用することもできる。溶剤は本発明の多価カルボン酸(A)、カルボン酸無水物化合物(B)、エポキシ樹脂(D)、硬化促進剤(E)、接着助剤、酸化防止剤、光安定剤等に対して高い溶解性を有し、これらと反応しないものであれば使用できる。その具体例としてはジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、テトラヒドロフラン、アセトニトリルなどの非プロトン性極性溶媒、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、メチルイソブチルケトンなどのケトン類、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素等が挙げられ、これらの中で、芳香族炭化水素やケトン類が好ましい。 The polycarboxylic acid composition (C) of the present invention can be used as a varnish or ink by mixing a solvent as necessary. The solvent is used for the polycarboxylic acid (A), the carboxylic anhydride compound (B), the epoxy resin (D), the curing accelerator (E), the adhesion assistant, the antioxidant, the light stabilizer and the like of the present invention. Any substance having high solubility and not reacting with them can be used. Specific examples thereof include aprotic polar solvents such as dimethylformamide, dimethylacetamide, dimethylsulfoxide, tetrahydrofuran, and acetonitrile; ketones such as methyl ethyl ketone, cyclopentanone and methyl isobutyl ketone; and aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene. Among them, aromatic hydrocarbons and ketones are preferable.
本発明の多価カルボン酸組成物(C’)において、前述の多価カルボン酸(A)の製造の際に式(14)で表されるカルボン酸無水物化合物および/又は式(15)で表されるカルボン酸無水物化合物と、多価カルボン酸組成物(C’)中のカルボン酸無水物化合物(B)が同じである場合、多価カルボン酸(A)の製造時に式(10)で表されるイソシアヌル酸トリスヒドロキシアルキル化合物に対して過剰のカルボン酸無水物化合物(B)中で反応を行い、多価カルボン酸(A)の製造が終了した時点で、多価カルボン酸(A)とカルボン酸無水物(B)との混合物として得ることもできる。
この反応の際の両者の仕込み比率としては、その官能基当量で、該酸無水物基1当量に対して、イソシアヌル酸トリスヒドロキシアルキル化合物の水酸基当量で、0.001〜0.7当量、より好ましくは0.01〜0.5当量の範囲で仕込むのが好ましい。In the polycarboxylic acid composition (C ′) of the present invention, the carboxylic acid anhydride compound represented by the formula (14) and / or the carboxylic acid compound represented by the formula (15) in the production of the polycarboxylic acid (A) described above. When the carboxylic acid anhydride compound represented and the carboxylic acid anhydride compound (B) in the polyvalent carboxylic acid composition (C ′) are the same, when the polyvalent carboxylic acid (A) is produced, the compound represented by the formula (10) Is reacted in an excess of the carboxylic anhydride compound (B) with the trishydroxyalkyl isocyanurate compound represented by the formula (1), and when the production of the polycarboxylic acid (A) is completed, the polycarboxylic acid (A) ) And carboxylic anhydride (B).
The ratio of the two charged at the time of this reaction is 0.001 to 0.7 equivalent, in terms of the functional group equivalent and 1 equivalent of the acid anhydride group, in terms of the hydroxyl equivalent of the trishydroxyalkyl isocyanurate compound. Preferably, it is charged in the range of 0.01 to 0.5 equivalent.
このようにして得られた多価カルボン酸組成物(C’)にカルボン酸無水物(B)を混合することで、多価カルボン酸組成物(C’)中の多価カルボン酸(A)の濃度を調整することができる。 By mixing the polycarboxylic acid composition (C ′) thus obtained with the carboxylic anhydride (B), the polycarboxylic acid (A) in the polycarboxylic acid composition (C ′) is mixed. Can be adjusted.
多価カルボン酸(A)の製造時に、過剰のカルボン酸無水物化合物(B)を仕込んで反応させた場合、水洗工程時の水によって過剰のカルボン酸無水物化合物(B)が加水分解されてしまう恐れがあるため、前述の水洗工程は避けたほうがよい。 When an excess carboxylic anhydride compound (B) is charged and reacted during the production of the polyvalent carboxylic acid (A), the excess carboxylic anhydride compound (B) is hydrolyzed by water in the washing step. Therefore, it is better to avoid the above-mentioned washing step.
本発明で使用するカルボン酸無水物化合物(B)は、分子内にカルボン酸無水物基を有する化合物であれば特に制限されないが、下記式(2)〜(7)より一種以上選択されるカルボン酸無水物化合物であることが、硬化物の透明性の観点から好ましい。 The carboxylic acid anhydride compound (B) used in the present invention is not particularly limited as long as it is a compound having a carboxylic acid anhydride group in the molecule, and one or more carboxylic acid compounds selected from the following formulas (2) to (7) An acid anhydride compound is preferable from the viewpoint of transparency of the cured product.
本発明の多価カルボン酸組成物(C’)において、多価カルボン酸(A)とカルボン酸無水物化合物(B)の存在割合は、多価カルボン酸(A)100質量部に対してカルボン酸無水物化合物(B)が1〜1000質量部が好ましく、さらに好ましくは10〜800質量部、特に好ましくは50〜500質量部である。 In the polyvalent carboxylic acid composition (C ′) of the present invention, the proportion of the polyvalent carboxylic acid (A) and the carboxylic anhydride compound (B) is such that The amount of the acid anhydride compound (B) is preferably from 1 to 1,000 parts by mass, more preferably from 10 to 800 parts by mass, particularly preferably from 50 to 500 parts by mass.
本発明の多価カルボン酸(A)又は多価カルボン酸組成物(C)は、エポキシ樹脂の硬化剤として機能するものであり、他のエポキシ樹脂硬化剤を含有することもできる。例えば、アミン系硬化剤、フェノール系硬化剤、多価カルボン酸樹脂が挙げられ、多価カルボン酸樹脂が好ましい。 The polycarboxylic acid (A) or polycarboxylic acid composition (C) of the present invention functions as a curing agent for an epoxy resin, and may contain another epoxy resin curing agent. For example, an amine-based curing agent, a phenol-based curing agent, and a polycarboxylic acid resin are exemplified, and a polyvalent carboxylic acid resin is preferable.
多価カルボン酸樹脂は少なくとも2つ以上のカルボキシル基を有し、脂肪族炭化水素基またはシロキサン骨格を主骨格とすることを特徴とする化合物である。本発明においては多価カルボン酸樹脂とは単一の構造を有する多価カルボン酸化合物だけでなく、置換基の位置が異なる、あるいは置換基の異なる複数の化合物の混合体、すなわち多価カルボン酸組成物も含包し、本発明においてはそれらをまとめて多価カルボン酸樹脂と称す。 The polyvalent carboxylic acid resin is a compound having at least two or more carboxyl groups and having an aliphatic hydrocarbon group or a siloxane skeleton as a main skeleton. In the present invention, the polycarboxylic acid resin is not only a polycarboxylic acid compound having a single structure, but also a mixture of a plurality of compounds having different substituent positions or different substituents, that is, a polycarboxylic acid. The composition also includes a composition, and in the present invention, they are collectively referred to as a polyvalent carboxylic acid resin.
多価カルボン酸樹脂としては、特に2〜6官能のカルボン酸が好ましく、(a);分子内に2つ以上の水酸基を含有する多価アルコール化合物と(b);分子内に1つ以上の酸無水物基を含有する化合物との反応により得られた化合物がより好ましい。ここで、上記(a)及び(b)の反応物においては、さらに別のアルコール化合物を反応してもよく、(a)または(b)成分に該当する化合物を2種類以上使用しても良い。
(a);分子内に2つ以上の水酸基を含有する多価アルコール化合物としては、分子内に2つ以上のアルコール性水酸基を有する化合物であれば特に限定されないがエチレングリコール、プロピレングリコール、1,3−プロパンジオール、1,2−ブタンジオール、1,4−ブタンジオール、1,5−ペンタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、シクロヘキサンジメタノール、2,4−ジエチルペンタンジオール、2−エチル−2−ブチル−1.3−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、トリシクロデカンジメタノール、ノルボルネンジオール、2,2’−ビス(4−ヒドロキシシクロヘキシル)プロパン、2−(1,1−ジメチル−2−ヒドロキシエチル)−5−エチル−5−ヒドロキシメチル−1,3−ジオキサン等のジオール類、グリセリン、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、トリメチロールブタン、2−ヒドロキシメチル−1,4−ブタンジオール等のトリオール類、ペンタエリスリトール、ジトリメチロールプロパン等のテトラオール類、ジペンタエリスリトールなどのヘキサオール等、末端アルコールポリエステル、末端アルコールポリカーボネート、末端アルコールポリエーテル、シロキサン構造を有する多価アルコール等が挙げられる。As the polyvalent carboxylic acid resin, a carboxylic acid having 2 to 6 functional groups is particularly preferable. (A); a polyhydric alcohol compound containing two or more hydroxyl groups in the molecule; and (b); Compounds obtained by reaction with compounds containing acid anhydride groups are more preferred. Here, in the reactants (a) and (b), another alcohol compound may be further reacted, and two or more compounds corresponding to the component (a) or (b) may be used. .
(A); The polyhydric alcohol compound having two or more hydroxyl groups in the molecule is not particularly limited as long as it is a compound having two or more alcoholic hydroxyl groups in the molecule, but ethylene glycol, propylene glycol, 3-propanediol, 1,2-butanediol, 1,4-butanediol, 1,5-pentanediol, 1,6-hexanediol, cyclohexanedimethanol, 2,4-diethylpentanediol, 2-ethyl-2 -Butyl-1.3-propanediol, neopentyl glycol, tricyclodecanedimethanol, norbornenediol, 2,2'-bis (4-hydroxycyclohexyl) propane, 2- (1,1-dimethyl-2-hydroxyethyl) ) -5-Ethyl-5-hydroxymethyl-1,3-dioxane , Glycerin, trimethylolethane, trimethylolpropane, trimethylolbutane, triols such as 2-hydroxymethyl-1,4-butanediol, pentaerythritol, tetraols such as ditrimethylolpropane, dipentaerythritol, etc. And a terminal alcohol polyester, a terminal alcohol polycarbonate, a terminal alcohol polyether, and a polyhydric alcohol having a siloxane structure.
特に好ましいアルコール類としては炭素数が5以上のアルコールであり、特に1,6−ヘキサンジオール、1,4−シクロヘキサンジメタノール、1,3−シクロヘキサンジメタノール、1,2−シクロヘキサンジメタノール、2,4−ジエチルペンタンジオール、2−エチル−2−ブチル−1,3−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、トリシクロデカンジメタノール、ノルボルネンジオール、2,2’−ビス(4−ヒドロキシシクロヘキシル)プロパン、2−(1,1−ジメチル−2−ヒドロキシエチル)−5−エチル−5−ヒドロキシメチル−1,3−ジオキサン等の化合物が挙げられ、中でも2−エチル−2−ブチル−1,3−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、2,4−ジエチルペンタンジオール、1,4−シクロヘキサンジメタノール、トリシクロデカンジメタノール、ノルボルネンジオール、2,2’−ビス(4−ヒドロキシシクロヘキシル)プロパン、2−(1,1−ジメチル−2−ヒドロキシエチル)−5−エチル−5−ヒドロキシメチル−1,3−ジオキサン等の化合物等の分岐鎖状構造や環状構造を有するアルコール類がより好ましい。高い耐硫化性を付与する観点から、2,4−ジエチルペンタンジオール、トリシクロデカンジメタノール、2,2’−ビス(4−ヒドロキシシクロヘキシル)プロパン、2−(1,1−ジメチル−2−ヒドロキシエチル)−5−エチル−5−ヒドロキシメチル−1,3−ジオキサン等の化合物が特に好ましい。中でも、特に分岐鎖状構造においては、分岐鎖を2つ以上有することが好ましく、特に分岐鎖が異なる炭素原子から伸びていることが好ましい。ここで、当該分岐鎖状構造や環状構造を有するアルコール類は炭素数が5〜25であることが好ましく、5〜20であることが特に好ましい。
シロキサン構造を有する多価アルコールは特に限定されないが、例えば下記式で表されるシリコーンオイルを使用することができる。Particularly preferred alcohols are alcohols having 5 or more carbon atoms, particularly 1,6-hexanediol, 1,4-cyclohexanedimethanol, 1,3-cyclohexanedimethanol, 1,2-cyclohexanedimethanol, 4-diethylpentanediol, 2-ethyl-2-butyl-1,3-propanediol, neopentyl glycol, tricyclodecanedimethanol, norbornenediol, 2,2′-bis (4-hydroxycyclohexyl) propane, 2- Compounds such as (1,1-dimethyl-2-hydroxyethyl) -5-ethyl-5-hydroxymethyl-1,3-dioxane and the like, among which 2-ethyl-2-butyl-1,3-propanediol, Neopentyl glycol, 2,4-diethylpentanediol, 1,4-sic Rohexanedimethanol, tricyclodecanedimethanol, norbornenediol, 2,2′-bis (4-hydroxycyclohexyl) propane, 2- (1,1-dimethyl-2-hydroxyethyl) -5-ethyl-5-hydroxy Alcohols having a branched or cyclic structure, such as compounds such as methyl-1,3-dioxane, are more preferred. From the viewpoint of imparting high sulfuration resistance, 2,4-diethylpentanediol, tricyclodecanedimethanol, 2,2′-bis (4-hydroxycyclohexyl) propane, 2- (1,1-dimethyl-2-hydroxy) Compounds such as ethyl) -5-ethyl-5-hydroxymethyl-1,3-dioxane are particularly preferred. Among them, particularly in a branched structure, it is preferable to have two or more branched chains, and it is particularly preferable that the branched chains extend from different carbon atoms. Here, the alcohol having the branched chain structure or the cyclic structure preferably has 5 to 25 carbon atoms, and particularly preferably 5 to 20 carbon atoms.
The polyhydric alcohol having a siloxane structure is not particularly limited, and for example, a silicone oil represented by the following formula can be used.
(式(20)中、A1はエーテル結合を介しても良い炭素総数1〜10アルキレン基を表し、A2はメチル基又はフェニル基を表す。また、sは繰り返し数であり平均値を意味し、1〜100である。)(In formula (20), A 1 represents an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms which may be linked via an ether bond, A 2 represents a methyl group or a phenyl group, and s is the number of repetitions and means an average value. And 1 to 100.)
前記した、(a);分子内に2つ以上の水酸基を含有する多価アルコール化合物は単独で使用しても良いし、2種以上混合して使用しても良い。
得られる多価カルボン酸樹脂を液状で使用し、高い耐硫化性を付与するため、前述したシロキサン構造を有する多価アルコールと、炭素数が5〜25の分岐鎖状構造や環状構造を有するアルコール類を混合して用いることが好ましい。
シロキサン構造を有する多価アルコールと炭素数が5〜25の分岐鎖状構造や環状構造を有するアルコール類を混合して用いる場合、その使用量は全アルコール化合物中(シロキサン構造を有する多価アルコール)/(炭素数が5〜25の分岐鎖状構造や環状構造を有するアルコール類)は1〜20が好ましく、硬化物の耐熱透明性、多価カルボン酸樹脂の適度な粘度の観点から5〜15が好ましく、6〜10が特に好ましい。The above-mentioned (a); the polyhydric alcohol compound containing two or more hydroxyl groups in the molecule may be used alone or in combination of two or more.
The obtained polyvalent carboxylic acid resin is used in a liquid state and imparts high sulfuration resistance. In order to impart high sulfide resistance, the above-mentioned polyhydric alcohol having a siloxane structure and an alcohol having a branched or cyclic structure having 5 to 25 carbon atoms are used. Are preferably used in combination.
When a polyhydric alcohol having a siloxane structure and an alcohol having a branched chain structure or a cyclic structure having 5 to 25 carbon atoms are used as a mixture, the amount used is the total amount of the alcohol compound (polyhydric alcohol having a siloxane structure) / (Alcohol having a branched chain structure or cyclic structure having 5 to 25 carbon atoms) is preferably 1 to 20, and from the viewpoint of heat resistance and transparency of the cured product and appropriate viscosity of the polyvalent carboxylic acid resin, 5 to 15 Is preferred, and 6 to 10 are particularly preferred.
(b);分子内に1つ以上の酸無水物基を含有する化合物としては特にメチルテトラヒドロ無水フタル酸、無水メチルナジック酸、無水ナジック酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、ブタンテトラカルボン酸無水物、ビシクロ[2.2.1]ヘプタン−2,3−ジカルボン酸無水物、メチルビシクロ[2.2.1]ヘプタン−2,3−ジカルボン酸無水物、シクロヘキサン−1,3,4−トリカルボン酸−3,4−無水物、無水グルタル酸、2,4−ジエチル無水グルタル酸、コハク酸無水物等が好ましく、中でもメチルヘキサヒドロ無水フタル酸、シクロヘキサン−1,3,4−トリカルボン酸−3,4−無水物、2,4−ジエチル無水グルタル酸、1,2,3,4−ブタンテトラカルボン酸二無水物、シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物、シクロペンタンテトラカルボン酸二無水物が好ましい。ここで、硬度を上げるためには、シクロヘキサン−1,3,4−トリカルボン酸−3,4−無水物が好ましく、照度保持率を上げるためにはメチルヘキサヒドロ無水フタル酸無水物が好ましく、多価カルボン酸樹脂の過度な粘度上昇を抑えるには2,4−ジエチルグルタル酸、グルタル酸が好ましい。
付加反応の条件は、前述した本発明の多価カルボン酸(A)の製造と同様の条件で反応できる。(B); Compounds containing one or more acid anhydride groups in the molecule include, in particular, methyltetrahydrophthalic anhydride, methylnadic anhydride, nadic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, methylhexahydrophthalic anhydride, butane Tetracarboxylic anhydride, bicyclo [2.2.1] heptane-2,3-dicarboxylic anhydride, methylbicyclo [2.2.1] heptane-2,3-dicarboxylic anhydride, cyclohexane-1,3 , 4-tricarboxylic acid-3,4-anhydride, glutaric anhydride, 2,4-diethyl glutaric anhydride, succinic anhydride and the like are preferable, and among them, methylhexahydrophthalic anhydride, cyclohexane-1,3,4- Tricarboxylic acid-3,4-anhydride, 2,4-diethyl glutaric anhydride, 1,2,3,4-butanetetracarboxylic dianhydride, cycle Hexane tetracarboxylic acid dianhydride, cyclopentane tetracarboxylic dianhydride is preferred. Here, in order to increase the hardness, cyclohexane-1,3,4-tricarboxylic acid-3,4-anhydride is preferable, and in order to increase the illuminance retention, methylhexahydrophthalic anhydride is preferable. To suppress an excessive increase in the viscosity of the polycarboxylic acid resin, 2,4-diethylglutaric acid and glutaric acid are preferred.
The addition reaction can be carried out under the same conditions as in the production of the polycarboxylic acid (A) of the present invention described above.
本発明の多価カルボン酸(A)又は多価カルボン酸組成物(C)とその他のエポキシ樹脂硬化剤を併用する場合、全エポキシ樹脂硬化剤中、本発明の多価カルボン酸(A)又は多価カルボン酸組成物(C)の割合が30〜99質量部であることが好ましく、60〜97質量部が特に好ましい。30質量部を下回ると、硬化物の耐熱透明性が劣る恐れがある。 When the polycarboxylic acid (A) or the polycarboxylic acid composition (C) of the present invention is used in combination with another epoxy resin curing agent, the polycarboxylic acid (A) or the polycarboxylic acid (A) of the present invention may be contained in all the epoxy resin curing agents. The proportion of the polycarboxylic acid composition (C) is preferably from 30 to 99 parts by mass, particularly preferably from 60 to 97 parts by mass. If the amount is less than 30 parts by mass, the cured product may have poor heat resistance and transparency.
次に本発明のエポキシ樹脂組成物について説明する。本発明におけるエポキシ樹脂組成物は、多価カルボン酸(A)又は多価カルボン酸組成物(C)と、エポキシ樹脂(D)を含有することを特徴とする。 Next, the epoxy resin composition of the present invention will be described. The epoxy resin composition in the present invention is characterized by containing a polycarboxylic acid (A) or a polycarboxylic acid composition (C) and an epoxy resin (D).
エポキシ樹脂(D)としては、例えばフェノール化合物のグリシジルエーテル化物であるエポキシ樹脂、各種ノボラック樹脂のグリシジルエーテル化物であるエポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、脂肪族系エポキシ樹脂、複素環式エポキシ樹脂、グリシジルエステル系エポキシ樹脂、グリシジルアミン系エポキシ樹脂、ハロゲン化フェノール類をグリシジル化したエポキシ樹脂、エポキシ基を持つ重合性不飽和化合物とそれ以外の他の重合性不飽和化合物との共重合体、エポキシ基をもつケイ素化合物とそれ以外のケイ素化合物との縮合物、シリコーン変性エポキシ樹脂等が挙げられる。 Examples of the epoxy resin (D) include an epoxy resin that is a glycidyl etherified product of a phenol compound, an epoxy resin that is a glycidyl etherified product of various novolak resins, an alicyclic epoxy resin, an aliphatic epoxy resin, a heterocyclic epoxy resin, Glycidyl ester-based epoxy resin, glycidylamine-based epoxy resin, epoxy resin obtained by glycidylation of halogenated phenols, copolymer of polymerizable unsaturated compound having epoxy group and other polymerizable unsaturated compound, epoxy Examples include a condensate of a silicon compound having a group with another silicon compound, and a silicone-modified epoxy resin.
前記フェノール類化合物のグリシジルエーテル化物であるエポキシ樹脂としては、例えば2−[4−(2,3−エポキシプロポキシ)フェニル]−2−[4−[1,1−ビス[4−(2,3−ヒドロキシ)フェニル]エチル]フェニル]プロパン、ビスフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノールS、4,4’−ビフェノール、テトラメチルビスフェノールA、ジメチルビスフェノールA、テトラメチルビスフェノールF、ジメチルビスフェノールF、テトラメチルビスフェノールS、ジメチルビスフェノールS、テトラメチル−4,4’−ビフェノール、ジメチル−4,4’−ビフェノール、1−(4−ヒドロキシフェニル)−2−[4−(1,1−ビス−(4−ヒドロキシフェニル)エチル)フェニル]プロパン、2,2’−メチレン−ビス(4−メチル−6−tert−ブチルフェノール)、4,4’−ブチリデン−ビス(3−メチル−6−tert−ブチルフェノール)、トリスヒドロキシフェニルメタン、レゾルシノール、ハイドロキノン、ピロガロール、フロログリシノール、ジイソプロピリデン骨格を有するフェノール類、1,1−ジ−4−ヒドロキシフェニルフルオレン等のフルオレン骨格を有するフェノール類、フェノール化ポリブタジエン等のポリフェノール化合物のグリシジルエーテル化物であるエポキシ樹脂等が挙げられる。 Examples of the epoxy resin which is a glycidyl etherified product of the phenol compound include 2- [4- (2,3-epoxypropoxy) phenyl] -2- [4- [1,1-bis [4- (2,3 -Hydroxy) phenyl] ethyl] phenyl] propane, bisphenol A, bisphenol F, bisphenol S, 4,4′-biphenol, tetramethylbisphenol A, dimethylbisphenol A, tetramethylbisphenol F, dimethylbisphenol F, tetramethylbisphenol S, Dimethylbisphenol S, tetramethyl-4,4'-biphenol, dimethyl-4,4'-biphenol, 1- (4-hydroxyphenyl) -2- [4- (1,1-bis- (4-hydroxyphenyl) Ethyl) phenyl] propane, 2,2'-methyl 2-bis (4-methyl-6-tert-butylphenol), 4,4′-butylidene-bis (3-methyl-6-tert-butylphenol), trishydroxyphenylmethane, resorcinol, hydroquinone, pyrogallol, phloroglicinol, Examples include phenols having a diisopropylidene skeleton, phenols having a fluorene skeleton such as 1,1-di-4-hydroxyphenylfluorene, and epoxy resins which are glycidyl etherified products of polyphenol compounds such as phenolized polybutadiene.
前記各種ノボラック樹脂のグリシジルエーテル化物であるエポキシ樹脂としては、例えばフェノール、クレゾール類、エチルフェノール類、ブチルフェノール類、オクチルフェノール類、ビスフェノールA、ビスフェノールF及びビスフェノールS等のビスフェノール類、ナフトール類等の各種フェノールを原料とするノボラック樹脂、キシリレン骨格含有フェノールノボラック樹脂、ジシクロペンタジエン骨格含有フェノールノボラック樹脂、ビフェニル骨格含有フェノールノボラック樹脂、フルオレン骨格含有フェノールノボラック樹脂等の各種ノボラック樹脂のグリシジルエーテル化物等が挙げられる。 Examples of the epoxy resin which is a glycidyl etherified product of the various novolak resins include various phenols such as phenol, cresols, ethylphenols, butylphenols, octylphenols, bisphenols such as bisphenol A, bisphenol F and bisphenol S, and naphthols. Glycidyl etherified products of various novolak resins such as novolak resin, phenol novolak resin having a xylylene skeleton, phenol novolak resin having a dicyclopentadiene skeleton, phenol novolak resin having a biphenyl skeleton, and phenol novolak resin having a fluorene skeleton.
前記脂環式エポキシ樹脂としては、例えば3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−(3,4−エポキシ)シクロヘキシルカルボキシレート、ビス(3,4−エポキシシクロヘキシルメチル)アジペート等の脂肪族環骨格を有する脂環式エポキシ樹脂が挙げられる。
前記脂肪族系エポキシ樹脂としては、例えば1,4−ブタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、ポリエチレングリコール、ペンタエリスリトール等の多価アルコールのグリシジルエーテル類が挙げられる。
前記複素環式エポキシ樹脂としては、例えばイソシアヌル環、ヒダントイン環等の複素環を有する複素環式エポキシ樹脂が挙げられる。
前記グリシジルエステル系エポキシ樹脂としては、例えばヘキサヒドロフタル酸ジグリシジルエステル等のカルボン酸エステル類からなるエポキシ樹脂が挙げられる。
前記グリシジルアミン系エポキシ樹脂としては、例えばアニリン、トルイジン等のアミン類をグリシジル化したエポキシ樹脂が挙げられる。
前記ハロゲン化フェノール類をグリシジル化したエポキシ樹脂としては、例えばブロム化ビスフェノールA、ブロム化ビスフェノールF、ブロム化ビスフェノールS、ブロム化フェノールノボラック、ブロム化クレゾールノボラック、クロル化ビスフェノールS、クロル化ビスフェノールA等のハロゲン化フェノール類をグリシジル化したエポキシ樹脂が挙げられる。Examples of the alicyclic epoxy resin include an alicyclic ring having an alicyclic skeleton such as 3,4-epoxycyclohexylmethyl- (3,4-epoxy) cyclohexylcarboxylate and bis (3,4-epoxycyclohexylmethyl) adipate. Formula epoxy resins are mentioned.
Examples of the aliphatic epoxy resin include glycidyl ethers of polyhydric alcohols such as 1,4-butanediol, 1,6-hexanediol, polyethylene glycol, and pentaerythritol.
Examples of the heterocyclic epoxy resin include a heterocyclic epoxy resin having a heterocyclic ring such as an isocyanuric ring and a hydantoin ring.
Examples of the glycidyl ester-based epoxy resin include an epoxy resin composed of a carboxylic acid ester such as hexahydrophthalic acid diglycidyl ester.
Examples of the glycidylamine-based epoxy resin include epoxy resins obtained by glycidylation of amines such as aniline and toluidine.
Examples of the epoxy resin obtained by glycidylation of the halogenated phenols include brominated bisphenol A, brominated bisphenol F, brominated bisphenol S, brominated phenol novolak, brominated cresol novolak, chlorinated bisphenol S, chlorinated bisphenol A, and the like. And glycidylated halogenated phenols.
エポキシ基を持つ重合性不飽和化合物とそれ以外の他の重合性不飽和化合物との共重合体としては、市場から入手可能な製品ではマープルーフ(商品名)G−0115S、同G−0130S、同G−0250S、同G−1010S、同G−0150M、同G−2050M (日油(株)製)等が挙げられ、エポキシ基を持つ重合性不飽和化合物としては、例えばアクリル酸グリシジル、メタクリル酸グリシジル、4−ビニル−1−シクロヘキセン−1,2−エポキシド等が挙げられる。また他の重合性不飽和化合物としては、例えばメチル(メタ)アクリレート、エーテル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、スチレン、ビニルシクロヘキサンなどが挙げられる。これらエポキシ樹脂は1種又は2種以上を混合して用いても良い。 Examples of copolymers of a polymerizable unsaturated compound having an epoxy group and other polymerizable unsaturated compounds include Marproof (trade name) G-0115S and G-0130S in the products available from the market. G-0250S, G-1010S, G-0150M, G-2050M (manufactured by NOF Corporation) and the like. Examples of the polymerizable unsaturated compound having an epoxy group include glycidyl acrylate and methacrylic acid. Glycidyl acid, 4-vinyl-1-cyclohexene-1,2-epoxide and the like. Examples of other polymerizable unsaturated compounds include methyl (meth) acrylate, ether (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, styrene, and vinylcyclohexane. These epoxy resins may be used alone or in combination of two or more.
前記エポキシ基をもつケイ素化合物とそれ以外のケイ素化合物との縮合物とは、例えばエポキシ基をもつアルコキシシラン化合物とメチル基やフェニル基を持つアルコキシシランとの加水分解縮合物や、エポキシ基をもつアルコキシシラン化合物とシラノール基をもつポリジメチルシロキサン、シラノール基をもつポリジメチルジフェニルシロキサン、シラノール基をもつポリフェニルシロキサンとの縮合物、またはそれらを併用し得られた縮合化合物のことである。エポキシ基をもつアルコキシシラン化合物としては、例えば2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリエトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン等が挙げられる。メチル基やフェニル基をもつアルコキシシラン化合物としては、例えばメチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、メチルフェニルジメトキシシラン等が挙げられる。シラノール基をもつポリジメチルシロキサン、シラノール基をもつポリジメチルジフェニルシロキサンとしては、例えば市場から入手可能な製品では、X−21−5841、KF−9701(信越化学工業(株)製)BY16−873、PRX413(東レ・ダウコーニング(株)製)XC96−723、YF3804、YF3800、XF3905、YF3057(モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社)DMS−S12、DMS−S14、DMS−S15、DMS−S21、DMS−S27、DMS−S31、PDS−0338、PDS−1615(Gelest社製)等が挙げられる。 The condensate of the silicon compound having an epoxy group and another silicon compound is, for example, a hydrolysis condensate of an alkoxysilane compound having an epoxy group and an alkoxysilane having a methyl group or a phenyl group, or having an epoxy group. This refers to a condensate of an alkoxysilane compound with polydimethylsiloxane having a silanol group, polydimethyldiphenylsiloxane having a silanol group, polyphenylsiloxane having a silanol group, or a condensation compound obtained by using them in combination. Examples of the alkoxysilane compound having an epoxy group include 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltriethoxysilane, and 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane. And 3-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane. Examples of the alkoxysilane compound having a methyl group or a phenyl group include methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, phenyltriethoxysilane, dimethyldimethoxysilane, diphenyldimethoxysilane, and methylphenyldimethoxysilane. . Examples of polydimethylsiloxane having a silanol group and polydimethyldiphenylsiloxane having a silanol group include X-21-5841 and KF-9701 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) BY16-873, which are commercially available. PRX413 (manufactured by Dow Corning Toray Co., Ltd.) XC96-723, YF3804, YF3800, XF3905, YF3057 (Momentive Performance Materials Japan GK) DMS-S12, DMS-S14, DMS-S15, DMS-S21, DMS-S27, DMS-S31, PDS-0338, PDS-1615 (manufactured by Gelest) and the like.
前記シリコーン変性エポキシ樹脂とは、シリコーン鎖(Si−O鎖)を主骨格とし、一分子中にエポキシ基を2つ以上有する化合物のことである。シリコーン鎖は直鎖状、分岐状、環状、かご型、ラダー型のいずれであっても構わない。得られる硬化物の透明性、機械強度の観点から下記式(21)で表される環状シリコーン変性エポキシ樹脂が特に好ましい例として挙げられるが、これに限定されるものではない。 The silicone-modified epoxy resin is a compound having a silicone chain (Si-O chain) as a main skeleton and having two or more epoxy groups in one molecule. The silicone chain may be linear, branched, cyclic, cage type, or ladder type. From the viewpoints of transparency and mechanical strength of the obtained cured product, a cyclic silicone-modified epoxy resin represented by the following formula (21) is a particularly preferred example, but is not limited thereto.
式(21)において、R7は炭素数1〜6の炭化水素基を、Xはエポキシ基含有の有機基または炭素数1〜6の炭化水素基を、nは1〜3の整数をそれぞれ表す。式中に複数存在するR7、Xはそれぞれ同一であっても異なっていても構わない。ただし、複数存在するX中、2つ以上はエポキシ基含有の有機基である。In the formula (21), R 7 represents a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, X represents an organic group containing an epoxy group or a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, and n represents an integer of 1 to 3, respectively. . A plurality of R 7 and X present in the formula may be the same or different. However, among a plurality of Xs, two or more are organic groups containing an epoxy group.
R7の具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、フェニル基が挙げられるが、硬化物の耐熱透明性の観点から、メチル基、フェニル基が好ましく、製造容易性の観点からメチル基が特に好ましい。
Xにおける有機基とは、C、H、N、O原子からなる化合物を表し、エポキシ基含有の有機基の具体例としては、2,3−エポキシシクロヘキシルエチル基、3―グリシドキシプロピル基が挙げられ、硬化物の耐熱透明性の観点から2,3−エポキシシクロヘキシルエチル基が好ましい。ここで、有機基における炭素数は1〜20であることが好ましく、3〜15であることがより好ましい。また、炭素数1〜5のアルキレン基を介在して2,3−エポキシシクロヘキシルエチル基、3―グリシドキシプロピル基が付加している基であることが好ましい。
Xにおける炭素数1〜6の炭化水素基の具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、フェニル基が挙げられるが、硬化物の耐熱透明性の観点から、メチル基、フェニル基が好ましく、製造容易性の観点からメチル基が特に好ましい。
nは化合物の製造容易性から2が好ましい。Specific examples of R 7 include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group, a hexyl group, and a phenyl group, and from the viewpoint of heat resistance and transparency of the cured product, a methyl group and a phenyl group are preferable. A methyl group is particularly preferred from the viewpoint of ease of production.
The organic group for X represents a compound consisting of C, H, N, and O atoms. Specific examples of the epoxy group-containing organic group include a 2,3-epoxycyclohexylethyl group and a 3-glycidoxypropyl group. From the viewpoint of heat resistance and transparency of the cured product, a 2,3-epoxycyclohexylethyl group is preferred. Here, the number of carbon atoms in the organic group is preferably from 1 to 20, and more preferably from 3 to 15. In addition, it is preferably a group in which a 2,3-epoxycyclohexylethyl group and a 3-glycidoxypropyl group are added via an alkylene group having 1 to 5 carbon atoms.
Specific examples of the hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms in X include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group, a hexyl group, and a phenyl group. Thus, a methyl group and a phenyl group are preferred, and a methyl group is particularly preferred from the viewpoint of ease of production.
n is preferably 2 from the viewpoint of easy production of the compound.
式(21)で表される環状シリコーン変性エポキシ樹脂は、環状ハイドロジェンシロキサン化合物と分子内にエポキシ基を有するオレフィン化合物とのハイドロシリレーション反応によって得ることができる。
環状ハイドロジェンシロキサン化合物の具体例としては、トリメチルトリシクロシロキサン、トリフェニルトリシクロシロキサン、テトラメチルテトラシクロシロキサン、テトラフェニルテトラシクロシロキサン、ペンタメチルペンタシクロシロキサン、ペンタフェニルペンタシクロシロキサン等が挙げられ、製造の容易性からテトラメチルテトラシロキサンが好ましい。
分子内にエポキシ基を有するオレフィン化合物としては、4−ビニル−1,2−エポキシシクロヘキサン、3−グリシドキシ−1,2−プロペン等が挙げられ、硬化物の耐熱透明性の観点から4−ビニル−1,2−エポキシシクロヘキサンが好ましい。The cyclic silicone-modified epoxy resin represented by the formula (21) can be obtained by a hydrosilylation reaction between a cyclic hydrogensiloxane compound and an olefin compound having an epoxy group in a molecule.
Specific examples of the cyclic hydrogen siloxane compound include trimethyltricyclosiloxane, triphenyltricyclosiloxane, tetramethyltetracyclosiloxane, tetraphenyltetracyclosiloxane, pentamethylpentacyclosiloxane, pentaphenylpentacyclosiloxane, and the like. Tetramethyltetrasiloxane is preferred from the viewpoint of ease of production.
Examples of the olefin compound having an epoxy group in the molecule include 4-vinyl-1,2-epoxycyclohexane, 3-glycidoxy-1,2-propene, and the like. 1,2-epoxycyclohexane is preferred.
ハイドロシリレーション反応は、その触媒として例えば、ロジウム、パラジウム、白金などの公知の金属錯体を用いることができる。具体的には、トリストリフェニルホスフィンロジウムクロリド、ヘキサクロロ白金酸・6水和物等が挙げられ、硬化物の透明性の観点からヘキサクロロ白金酸・6水和物が好ましい。 In the hydrosilylation reaction, a known metal complex such as rhodium, palladium, or platinum can be used as a catalyst. Specific examples include tristriphenylphosphine rhodium chloride, hexachloroplatinic acid hexahydrate, and the like, and hexachloroplatinic acid hexahydrate is preferred from the viewpoint of transparency of the cured product.
ハイドロシリレーション反応に用いる触媒は、溶媒に溶解して溶液にして用いることが、作業性の観点から好ましい。用いうる溶媒は、触媒を溶解する溶媒であれば用いることができるが、溶解性、作業性の観点から、テトラヒドロフラン、トルエンが好ましい。
溶液として用いる場合、触媒を0.05〜50重量%に調整して反応液に添加する。The catalyst used in the hydrosilylation reaction is preferably dissolved in a solvent and used as a solution from the viewpoint of workability. As a solvent that can be used, any solvent can be used as long as it dissolves the catalyst, but tetrahydrofuran and toluene are preferred from the viewpoint of solubility and workability.
When used as a solution, the catalyst is adjusted to 0.05 to 50% by weight and added to the reaction solution.
式(21)で表される環状シリコーン変性エポキシ樹脂は、具体的には下記式(21−1)〜(21−6)で表される化合物が挙げられる。 Specific examples of the cyclic silicone-modified epoxy resin represented by the formula (21) include compounds represented by the following formulas (21-1) to (21-6).
これらエポキシ樹脂(D)は1種又は2種以上を混合して用いても良い。 These epoxy resins (D) may be used alone or in combination of two or more.
前記したエポキシ樹脂(D)の中でも、透明性、耐熱透明性、耐光透明性の観点から、脂環式エポキシ樹脂、エポキシ基をもつケイ素化合物とそれ以外のケイ素化合物との縮合物、シリコーン変性エポキシ樹脂の併用は好ましい。その中でも、骨格にエポキシシクロヘキサン構造を有する環状シリコーン変性エポキシ樹脂が好ましい。 Among the above-mentioned epoxy resins (D), from the viewpoint of transparency, heat-resistant transparency and light-resistant transparency, alicyclic epoxy resins, condensates of silicon compounds having an epoxy group with other silicon compounds, silicone-modified epoxy resins Use of a resin is preferred. Among them, a cyclic silicone-modified epoxy resin having an epoxycyclohexane structure in the skeleton is preferable.
エポキシ樹脂(D)は、多価カルボン酸(A)中のカルボン酸基1当量および/又は多価カルボン酸組成物(C’)中のカルボン酸無水物化合物(B)のカルボン酸無水物1当量に対し、エポキシ基が0.5〜3.0当量になる範囲で使用することが好ましい。0.5当量以上であれば、硬化物の耐熱透明性が向上するため好ましく、3.0以下であれば硬化物の機械物性が向上するため好ましい。 Epoxy resin (D) is obtained by adding 1 equivalent of carboxylic acid group in polyvalent carboxylic acid (A) and / or carboxylic acid anhydride of carboxylic acid anhydride compound (B) in polyvalent carboxylic acid composition (C ′). It is preferable to use the epoxy group within a range of 0.5 to 3.0 equivalents with respect to the equivalents. When it is 0.5 equivalent or more, the heat resistance and transparency of the cured product are improved, and when it is 3.0 or less, the mechanical properties of the cured product are improved.
本発明のエポキシ樹脂組成物には、さらにエポキシ樹脂硬化促進剤(E)を含有することが好ましい。
エポキシ樹脂硬化促進剤(E)としては本発明の多価カルボン酸(A)又は多価カルボン酸組成物(C)と、エポキシ樹脂(D)の硬化反応を促進する能力のあるものは何れも使用可能であるが、使用できる硬化促進剤(E)の例としては、アンモニウム塩系硬化促進剤、ホスホニウム塩系硬化促進剤、金属石鹸系硬化促進剤、イミダゾ−ル系硬化促進剤、アミン系硬化促進剤、ホスフィン系硬化促進剤、ホスファイト系硬化促進剤、ルイス酸系硬化促進剤等が挙げられる。
本発明のエポキシ樹脂組成物においてエポキシ樹脂硬化促進剤(E)の配合比率は、エポキシ樹脂組成物100重量部に対して0.001〜15重量部の硬化促進剤を使用することが好ましい。It is preferable that the epoxy resin composition of the present invention further contains an epoxy resin curing accelerator (E).
As the epoxy resin curing accelerator (E), any one capable of accelerating the curing reaction between the polyvalent carboxylic acid (A) or the polyvalent carboxylic acid composition (C) of the present invention and the epoxy resin (D) can be used. Examples of the curing accelerator (E) which can be used but can be used include ammonium salt-based curing accelerators, phosphonium salt-based curing accelerators, metal soap-based curing accelerators, imidazole-based curing accelerators, and amine-based curing accelerators. Examples include a curing accelerator, a phosphine-based curing accelerator, a phosphite-based curing accelerator, and a Lewis acid-based curing accelerator.
In the epoxy resin composition of the present invention, the mixing ratio of the epoxy resin curing accelerator (E) is preferably such that 0.001 to 15 parts by weight of curing accelerator is used per 100 parts by weight of the epoxy resin composition.
本発明のエポキシ樹脂組成物において、使用できるエポキシ樹脂硬化促進剤(E)の具体例としては、2−メチルイミダゾール、2−フェニルイミダゾール、2−ウンデシルイミダゾール、2−ヘプタデシルイミダゾール、2−フェニル−4−メチルイミダゾール、1−ベンジル−2−フェニルイミダゾール、1−ベンジル−2−メチルイミダゾール、1−シアノエチル−2−メチルイミダゾール、1−シアノエチル−2−フェニルイミダゾール、1−シアノエチル−2−ウンデシルイミダゾール、2,4−ジアミノ−6(2’−メチルイミダゾール(1’))エチル−s−トリアジン、2,4−ジアミノ−6(2’−ウンデシルイミダゾール(1’))エチル−s−トリアジン、2,4−ジアミノ−6(2’−エチル,4−メチルイミダゾール(1’))エチル−s−トリアジン、2,4−ジアミノ−6(2’−メチルイミダゾール(1’))エチル−s−トリアジン・イソシアヌル酸付加物、2−メチルイミダゾールイソシアヌル酸の2:3付加物、2−フェニルイミダゾールイソシアヌル酸付加物、2−フェニル−3,5−ジヒドロキシメチルイミダゾール、2−フェニル−4−ヒドロキシメチル−5−メチルイミダゾール、1−シアノエチル−2−フェニル−3,5−ジシアノエトキシメチルイミダゾールの各種イミダゾール類、および、それらイミダゾール類とフタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、トリメリット酸、ピロメリット酸、ナフタレンジカルボン酸、マレイン酸、蓚酸等の多価カルボン酸との塩類、ジシアンジアミド等のアミド類、1,8−ジアザ−ビシクロ[5.4.0]ウンデセン−7等のジアザ化合物およびそれらのテトラフェニルボレート、フェノールノボラック等の塩類、前記多価カルボン酸類、又はホスフィン酸類との塩類、テトラブチルアンモニュウムブロマイド、セチルトリメチルアンモニュウムブロマイド、トリオクチルメチルアンモニュウムブロマイド等のアンモニュウム塩、トリフェニルホスフィン、トリ(トルイル)ホスフィン、テトラフェニルホスホニウムブロマイド、テトラフェニルホスホニウムテトラフェニルボレート等のホスフィン類やホスホニウム化合物、2,4,6−トリスアミノメチルフェノール等のフェノール類、アミンアダクト、オクチル酸スズ等の金属化合物等、およびこれら硬化促進剤をマイクロカプセルにしたマイクロカプセル型硬化促進剤等が挙げられる。これら硬化促進剤のどれを用いるかは、例えば透明性、硬化速度、作業条件といった得られる透明樹脂組成物に要求される特性によって適宜選択される。 Specific examples of the epoxy resin curing accelerator (E) that can be used in the epoxy resin composition of the present invention include 2-methylimidazole, 2-phenylimidazole, 2-undecylimidazole, 2-heptadecylimidazole, 2-phenyl -4-methylimidazole, 1-benzyl-2-phenylimidazole, 1-benzyl-2-methylimidazole, 1-cyanoethyl-2-methylimidazole, 1-cyanoethyl-2-phenylimidazole, 1-cyanoethyl-2-undecyl Imidazole, 2,4-diamino-6 (2′-methylimidazole (1 ′)) ethyl-s-triazine, 2,4-diamino-6 (2′-undecylimidazole (1 ′)) ethyl-s-triazine , 2,4-diamino-6 (2'-ethyl, 4-methylimidazo (1 ′)) ethyl-s-triazine, 2,4-diamino-6 (2′-methylimidazole (1 ′)) ethyl-s-triazine / isocyanuric acid adduct, and 2-methylimidazole isocyanuric acid. 3-adduct, 2-phenylimidazole isocyanuric acid adduct, 2-phenyl-3,5-dihydroxymethylimidazole, 2-phenyl-4-hydroxymethyl-5-methylimidazole, 1-cyanoethyl-2-phenyl-3,5 -Various imidazoles of dicyanethoxymethylimidazole, and salts of the imidazoles with polycarboxylic acids such as phthalic acid, isophthalic acid, terephthalic acid, trimellitic acid, pyromellitic acid, naphthalenedicarboxylic acid, maleic acid, and oxalic acid. And amides such as dicyandiamide, 1,8-diaza-bis (B) diaza compounds such as [5.4.0] undecene-7 and salts thereof such as tetraphenylborate and phenol novolak, salts with the polycarboxylic acids or phosphinic acids, tetrabutylammonium bromide, and cetyltrimethylammonium bromide , Phosphines and phosphonium compounds such as triphenylphosphine, tri (tolyl) phosphine, tetraphenylphosphonium bromide and tetraphenylphosphonium tetraphenylborate, and 2,4,6-trisaminomethylphenol Such as phenols, amine adducts, metal compounds such as tin octylate, and microcapsule-type curing accelerators in which these curing accelerators are microencapsulated Is mentioned. Which of these curing accelerators is used is appropriately selected depending on characteristics required for the obtained transparent resin composition, such as transparency, curing speed, and working conditions.
これらの中でも、硬化物の透明性の観点から、金属石鹸硬化促進剤が優れ、金属石鹸硬化促進剤の中でもカルボン酸亜鉛化合物が硬化物の透明性の観点から特に好ましい。
金属石鹸系硬化促進剤としては、例えばオクチル酸スズ、オクチル酸コバルト、オクチル酸亜鉛、オクチル酸マンガン、オクチル酸カルシウム、オクチル酸ナトリウム、オクチル酸カリウム、ステアリン酸カルシウム、ステアリン酸亜鉛、ステアリン酸マグネシウム、ステアリン酸アルミニウム、ステアリン酸バリウム、ステアリン酸リチウム、ステアリン酸ナトリウム、ステアリン酸カリウム、12−ヒドロキシリン酸カルシウム、12−ヒドロキシステアリン酸亜鉛、12−ヒドロキシステアリン酸マグネシウム、12−ヒドロキシステアリン酸アルミニウム、12−ヒドロキシステアリン酸バリウム、12−ヒドロキシステアリン酸リチウム、12−ヒドロキシステアリン酸ナトリウム、モンタン酸カルシウム、モンタン酸亜鉛、モンタン酸マグネシウム、モンタン酸アルミニウム、モンタン酸リチウム、モンタン酸ナトリウム、ベヘン酸カルシウム、ベヘン酸亜鉛、ベヘン酸マグネシウム、ベヘン酸リチウム、ベヘン酸ナトリウム、ベヘン酸銀、ラウリン酸カルシウム、ラウリン酸亜鉛、ラウリン酸バリウム、ラウリン酸リチウム、ウンデシレン酸亜鉛、リシノール酸亜鉛、リシノール酸バリウム、ミリスチン酸亜鉛、パルミチン酸亜鉛等が挙げられる。これら触媒は1種又は2種以上を混合して用いても良い。Among these, metal soap curing accelerators are excellent from the viewpoint of transparency of the cured product, and among the metal soap curing accelerators, zinc carboxylate compounds are particularly preferred from the viewpoint of transparency of the cured product.
Examples of the metal soap-based curing accelerator include tin octylate, cobalt octylate, zinc octylate, manganate octylate, calcium octylate, sodium octylate, potassium octylate, calcium stearate, zinc stearate, magnesium stearate, and stearin Aluminum phosphate, barium stearate, lithium stearate, sodium stearate, potassium stearate, 12-calcium hydroxyphosphate, zinc 12-hydroxystearate, magnesium 12-hydroxystearate, aluminum 12-hydroxystearate, 12-hydroxystearic acid Barium, lithium 12-hydroxystearate, sodium 12-hydroxystearate, calcium montanate, zinc montanate, mon Magnesium phosphate, aluminum montanate, lithium montanate, sodium montanate, calcium behenate, zinc behenate, magnesium behenate, lithium behenate, sodium behenate, silver behenate, calcium laurate, zinc laurate, barium laurate , Lithium laurate, zinc undecylenate, zinc ricinoleate, barium ricinoleate, zinc myristate, zinc palmitate and the like. These catalysts may be used alone or in combination of two or more.
透明性、耐硫化性に優れる硬化物を得るために、特にステアリン酸亜鉛、モンタン酸亜鉛、ベヘン酸亜鉛、ラウリン酸亜鉛、ウンデシレン酸亜鉛、リシノール酸亜鉛、ミリスチン酸亜鉛、パルミチン酸亜鉛等の炭素数10〜30のカルボン酸亜鉛、12−ヒドロキシステアリン酸亜鉛等の水酸基を有する炭素数10〜30のモノカルボン酸化合物からなる亜鉛塩が好ましく使用できる。これらの中でも特に、ポットライフ、耐硫化性に優れる観点から、ステアリン酸亜鉛、ウンデシレン酸亜鉛等の炭素数10〜20のモノカルボン酸化合物からなる亜鉛塩、12−ヒドロキシステアリン酸亜鉛等の水酸基を有する炭素数15〜20のモノカルボン酸化合物からなる亜鉛塩が好ましく使用でき、さらに好ましくはステアリン酸亜鉛、ウンデシレン酸亜鉛、12−ヒドロキシステアリン酸亜鉛が使用でき、特に好ましくはステアリン酸亜鉛、12−ヒドロキシステアリン酸亜鉛が使用できる。 In order to obtain a cured product having excellent transparency and sulfidation resistance, carbon such as zinc stearate, zinc montanate, zinc behenate, zinc laurate, zinc undecylenate, zinc ricinoleate, zinc myristate, zinc palmitate, etc. A zinc salt composed of a monocarboxylic acid compound having 10 to 30 carbon atoms and having a hydroxyl group such as zinc carboxylate having several tens to 30 zinc zinc 12-hydroxystearate can be preferably used. Among them, particularly, from the viewpoint of excellent pot life and sulfidation resistance, zinc stearate, a zinc salt composed of a monocarboxylic acid compound having 10 to 20 carbon atoms such as zinc undecylenate, and a hydroxyl group such as zinc 12-hydroxystearate. Zinc salts comprising a monocarboxylic acid compound having 15 to 20 carbon atoms can be preferably used, more preferably zinc stearate, zinc undecylenate, and zinc 12-hydroxystearate, and particularly preferably zinc stearate, 12- Zinc hydroxystearate can be used.
アンモニウム塩系硬化促進剤としては、例えばテトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、テトラプロピルアンモニウムヒドロキシド、テトラブチルアンモニウムヒドロキシド、トリメチルエチルアンモニウムヒドロキシド、トリメチルプロピルアンモニウムヒドロキシド、トリメチルブチルアンモニウムヒドロキシド、トリメチルセチルアンモニウムヒドロキシド、トリオクチルメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラメチルアンモニウムクロリド、テトラメチルアンモニウムブロミド、テトラメチルアンモニウムヨージド、テトラメチルアンモニウムアセテート、トリオクチルメチルアンモニウムアセテート等が挙げられる。ホスホニウム塩系硬化促進剤としては、例えばエチルトリフェニルホスホニウムブロミド、テトラフェニルホスホニウムテトラフェニルボレート、メチルトリブチルホスホニウムジメチルホスフェート、メチルトリブチルホスホニウムジエチルホスフェート等が挙げられる。 Examples of the ammonium salt-based curing accelerator include tetramethylammonium hydroxide, tetraethylammonium hydroxide, tetrapropylammonium hydroxide, tetrabutylammonium hydroxide, trimethylethylammonium hydroxide, trimethylpropylammonium hydroxide, and trimethylbutylammonium hydroxide. , Trimethylcetylammonium hydroxide, trioctylmethylammonium hydroxide, tetramethylammonium chloride, tetramethylammonium bromide, tetramethylammonium iodide, tetramethylammonium acetate, trioctylmethylammonium acetate and the like. Examples of the phosphonium salt-based curing accelerator include ethyl triphenyl phosphonium bromide, tetraphenyl phosphonium tetraphenyl borate, methyl tributyl phosphonium dimethyl phosphate, methyl tributyl phosphonium diethyl phosphate and the like.
その他の汎用用途には、上記アンモニウム塩系硬化促進剤、ホスホニウム塩系硬化促進剤、金属石鹸系硬化促進剤の他、イミダゾール系硬化促進剤、アミン系硬化促進剤、複素環化合物系硬化促進剤、ホスフィン系硬化促進剤、ホスファイト系硬化促進剤、ルイス酸系硬化促進剤等が使用できる。 Other general-purpose applications include the above ammonium salt-based curing accelerators, phosphonium salt-based curing accelerators, metal soap-based curing accelerators, imidazole-based curing accelerators, amine-based curing accelerators, and heterocyclic compound-based curing accelerators And phosphine-based curing accelerators, phosphite-based curing accelerators, Lewis acid-based curing accelerators, and the like.
前記したエポキシ樹脂硬化促進剤(E)は、室温(25℃)において固体の化合物でも液体の化合物でも使用することができる。本発明のエポキシ樹脂組成物を室温(25℃)にて液状であることが必要な用途に使用する場合において、室温(25℃)にて固体の化合物を硬化促進剤として使用する場合、予め樹脂に溶解させて使用することもできる。また、室温(25℃)において固体の化合物を樹脂に分散させて使用することもできる。 As the epoxy resin curing accelerator (E), either a solid compound or a liquid compound at room temperature (25 ° C.) can be used. When the epoxy resin composition of the present invention is used for an application that needs to be liquid at room temperature (25 ° C.), when a compound that is solid at room temperature (25 ° C.) is used as a curing accelerator, Can also be used by dissolving it. Further, a compound which is solid at room temperature (25 ° C.) can be used by dispersing it in a resin.
本発明のエポキシ樹脂組成物には、必要に応じてカップリング剤を使用することで、組成物の粘度調整、硬化物の硬度を補完することが可能である。
使用できるカップリング剤としては、例えば3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、N−(2−アミノエチル)3−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N−(2−アミノエチル)3−アミノプロピルメチルトリメトキシシラン、3−アミノプロピルトリエトキシシラン、3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、N−(2−(ビニルベンジルアミノ)エチル)3−アミノプロピルトリメトキシシラン塩酸塩、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3−クロロプロピルメチルジメトキシシラン、3−クロロプロピルトリメトキシシラン等のシラン系カップリング剤;イソプロピル(N−エチルアミノエチルアミノ)チタネート、イソプロピルトリイソステアロイルチタネート、チタニウムジ(ジオクチルピロフォスフェート)オキシアセテート、テトライソプロピルジ(ジオクチルフォスファイト)チタネート、ネオアルコキシトリ(p−N−(β−アミノエチル)アミノフェニル)チタネート等のチタン系カップリング剤;Zr−アセチルアセトネート、Zr−メタクリレート、Zr−プロピオネート、ネオアルコキシジルコネート、ネオアルコキシトリスネオデカノイルジルコネート、ネオアルコキシトリス(ドデカノイル)ベンゼンスルフォニルジルコネート、ネオアルコキシトリス(エチレンジアミノエチル)ジルコネート、ネオアルコキシトリス(m−アミノフェニル)ジルコネート、アンモニウムジルコニウムカーボネート、Al−アセチルアセトネート、Al−メタクリレート、Al−プロピオネート等のジルコニウム、或いはアルミニウム系カップリング剤等が挙げられる。
これらカップリング剤は1種又は2種以上を混合して用いても良い。
カップリング剤は、本発明のエポキシ樹脂組成物において通常0.05〜20重量部、好ましくは0.1〜10重量部が必要に応じて含有される。The viscosity of the composition can be adjusted and the hardness of the cured product can be complemented by using a coupling agent as needed in the epoxy resin composition of the present invention.
Examples of usable coupling agents include 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, and 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyl Trimethoxysilane, N- (2-aminoethyl) 3-aminopropylmethyldimethoxysilane, N- (2-aminoethyl) 3-aminopropylmethyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, 3-mercaptopropyltri Methoxysilane, vinyltrimethoxysilane, N- (2- (vinylbenzylamino) ethyl) 3-aminopropyltrimethoxysilane hydrochloride, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 3-chloropropylmethyldimethoxysilane, 3-chloro Silane coupling agents such as propyltrimethoxysilane; isopropyl (N-ethylaminoethylamino) titanate, isopropyl triisostearoyl titanate, titanium di (dioctyl pyrophosphate) oxyacetate, tetraisopropyl di (dioctyl phosphite) titanate; Titanium-based coupling agents such as neoalkoxytri (p-N- (β-aminoethyl) aminophenyl) titanate; Zr-acetylacetonate, Zr-methacrylate, Zr-propionate, neoalkoxyzirconate, neoalkoxytrisneodeca Noyl zirconate, neoalkoxytris (dodecanoyl) benzenesulfonyl zirconate, neoalkoxytris (ethylenediaminoethyl) zirconate, neoalco Examples include zirconium such as xithris (m-aminophenyl) zirconate, ammonium zirconium carbonate, Al-acetylacetonate, Al-methacrylate, and Al-propionate, or an aluminum-based coupling agent.
These coupling agents may be used alone or in combination of two or more.
The coupling agent is contained in the epoxy resin composition of the present invention in an amount of usually 0.05 to 20 parts by weight, preferably 0.1 to 10 parts by weight, as necessary.
本発明のエポキシ樹脂組成物には、必要に応じてナノオーダーレベルの無機充填材を使用することで、透明性を阻害せずに機械強度などを補完することが可能である。ナノオーダーレベルとしての目安は、平均粒径が500nm以下、特に平均粒径が200nm以下の充填材を使用することが透明性の観点では好ましい。無機充填剤としては、結晶シリカ、溶融シリカ、アルミナ、ジルコン、珪酸カルシウム、炭酸カルシウム、炭化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ホウ素、ジルコニア、フォステライト、ステアタイト、スピネル、チタニア、タルク等の粉体またはこれらを球形化したビーズ等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。これら充填材は、単独で用いてもよく、2種以上を用いてもよい。これら無機充填剤の含有量は、本発明のエポキシ樹脂組成物中において0〜95重量%を占める量が用いられる。 In the epoxy resin composition of the present invention, by using a nano-order inorganic filler as needed, it is possible to supplement the mechanical strength and the like without inhibiting transparency. As a guideline at the nano order level, it is preferable to use a filler having an average particle diameter of 500 nm or less, particularly, an average particle diameter of 200 nm or less from the viewpoint of transparency. Examples of the inorganic filler include powders of crystalline silica, fused silica, alumina, zircon, calcium silicate, calcium carbonate, silicon carbide, silicon nitride, boron nitride, zirconia, fosterite, steatite, spinel, titania, talc and the like. And the like, but are not limited to these. These fillers may be used alone or in combination of two or more. As the content of these inorganic fillers, an amount occupying 0 to 95% by weight in the epoxy resin composition of the present invention is used.
本発明のエポキシ樹脂組成物に着色防止目的のため、光安定剤としてのアミン化合物又は、酸化防止材としてのリン系化合物およびフェノール系化合物を含有することができる。
前記アミン化合物としては、例えば、テトラキス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)−1,2,3,4−ブタンテトラカルボキシラート、テトラキス(2,2,6,6−トトラメチル−4−ピペリジル)−1,2,3,4−ブタンテトラカルボキシラート、1,2,3,4−ブタンテトラカルボン酸と1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジノールおよび3,9−ビス(2−ヒドロキシ−1,1−ジメチルエチル)−2,4,8,10−テトラオキサスピロ[5.5]ウンデカンとの混合エステル化物、デカン二酸ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)セバケート、ビス(1−ウンデカンオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−イル)カーボネート、2,2,6,6,−テトラメチル−4−ピペリジルメタクリレート、ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)セバケート、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)セバケート、4−ベンゾイルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、1−〔2−〔3−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオニルオキシ〕エチル〕−4−〔3−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオニルオキシ〕−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジニル−メタアクリレート、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジニル)〔〔3,5−ビス(1,1−ジメチルエチル)−4−ヒドロキシフェニル〕メチル〕ブチルマロネート、デカン二酸ビス(2,2,6,6−テトラメチル−1(オクチルオキシ)−4−ピペリジニル)エステル,1,1−ジメチルエチルヒドロペルオキシドとオクタンの反応生成物、N,N’,N”’,N”’−テトラキス−(4,6−ビス−(ブチル−(N−メチル−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−イル)アミノ)−トリアジン−2−イル)−4,7−ジアザデカン−1,10−ジアミン、ジブチルアミン・1,3,5−トリアジン・N,N’−ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル−1,6−ヘキサメチレンジアミンとN−(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)ブチルアミンの重縮合物、ポリ〔〔6−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)アミノ−1,3,5−トリアジン−2,4−ジイル〕〔(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)イミノ〕ヘキサメチレン〔(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)イミノ〕〕、コハク酸ジメチルと4−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメチル−1−ピペリジンエタノールの重合物、2,2,4,4−テトラメチル−20−(β−ラウリルオキシカルボニル)エチル−7−オキサ−3,20−ジアザジスピロ〔5・1・11・2〕ヘネイコサン−21−オン、β−アラニン,N,−(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジニル)−ドデシルエステル/テトラデシルエステル、N−アセチル−3−ドデシル−1−(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジニル)ピロリジン−2,5−ジオン、2,2,4,4−テトラメチル−7−オキサ−3,20−ジアザジスピロ〔5,1,11,2〕ヘネイコサン−21−オン、2,2,4,4−テトラメチル−21−オキサ−3,20−ジアザジシクロ−〔5,1,11,2〕−ヘネイコサン−20−プロパン酸ドデシルエステル/テトラデシルエステル、プロパンジオイックアシッド,〔(4−メトキシフェニル)−メチレン〕−ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジニル)エステル、2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジノールの高級脂肪酸エステル、1,3−ベンゼンジカルボキシアミド,N,N’−ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジニル)等のヒンダートアミン系、オクタベンゾン等のベンゾフェノン系化合物、2−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−4−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)フェノール、2−(2−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−〔2−ヒドロキシ−3−(3,4,5,6−テトラヒドロフタルイミド−メチル)−5−メチルフェニル〕ベンゾトリアゾール、2−(3−tert−ブチル−2−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、2−(2−ヒドロキシ−3,5−ジ−tert−ペンチルフェニル)ベンゾトリアゾール、メチル3−(3−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−5−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネートとポリエチレングリコールの反応生成物、2−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−6−ドデシル−4−メチルフェノール等のベンゾトリアゾール系化合物、2,4−ジ−tert−ブチルフェニル−3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシベンゾエート等のベンゾエート系、2−(4,6−ジフェニル−1,3,5−トリアジン−2−イル)−5−〔(ヘキシル)オキシ〕フェノール等のトリアジン系化合物等が挙げられるが、特に好ましくは、ヒンダートアミン系化合物である。For the purpose of preventing coloration, the epoxy resin composition of the present invention may contain an amine compound as a light stabilizer or a phosphorus compound and a phenol compound as antioxidants.
Examples of the amine compound include tetrakis (1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl) -1,2,3,4-butanetetracarboxylate and tetrakis (2,2,6,6- Totramethyl-4-piperidyl) -1,2,3,4-butanetetracarboxylate, 1,2,3,4-butanetetracarboxylic acid and 1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidinol and 3 , 9-bis (2-hydroxy-1,1-dimethylethyl) -2,4,8,10-tetraoxaspiro [5.5] undecane mixed ester, bis (2,2,6 , 6-Tetramethyl-4-piperidyl) sebacate, bis (1-undecaneoxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidin-4-yl) carbonate, 2,2,6,6- Tramethyl-4-piperidyl methacrylate, bis (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) sebacate, bis (1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl) sebacate, 4-benzoyloxy -2,2,6,6-tetramethylpiperidine, 1- [2- [3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionyloxy] ethyl] -4- [3- (3 , 5-Di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionyloxy] -2,2,6,6-tetramethylpiperidine, 1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidinyl-methacrylate, bis (1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidinyl) [[3,5-bis (1,1-dimethylethyl) -4-hydroxyphenyl] me Butylmalonate, bis (2,2,6,6-tetramethyl-1 (octyloxy) -4-piperidinyl) ester decandioate, a reaction product of 1,1-dimethylethyl hydroperoxide and octane, N , N ', N "", N "'-tetrakis- (4,6-bis- (butyl- (N-methyl-2,2,6,6-tetramethylpiperidin-4-yl) amino) -triazine- 2-yl) -4,7-diazadecane-1,10-diamine, dibutylamine-1,3,5-triazine.N, N'-bis (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl- Polycondensate of 1,6-hexamethylenediamine and N- (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) butylamine, poly [[6- (1,1,3,3-tetramethylbutyl) Amino-1,3,5-tri Gin-2,4-diyl] [(2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) imino] hexamethylene [(2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) imino]], Polymer of dimethyl succinate and 4-hydroxy-2,2,6,6-tetramethyl-1-piperidineethanol, 2,2,4,4-tetramethyl-20- (β-lauryloxycarbonyl) ethyl-7 -Oxa-3,20-diazaspiro [5.1.11.2] heneikosan-21-one, β-alanine, N,-(2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidinyl) -dodecyl ester / Tetradecyl ester, N-acetyl-3-dodecyl-1- (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidinyl) pyrrolidine-2,5-dione, 2,2,4,4-tetramethyl-7 Oxa-3,20-diazadispiro [5,1,11,2] heneikosan-21-one, 2,2,4,4-tetramethyl-21-oxa-3,20-diazadicyclo- [5,1,11, 2] -Heneicosan-20-propanoic acid dodecyl ester / tetradecyl ester, propane dioic acid, [(4-methoxyphenyl) -methylene] -bis (1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidinyl) Ester, higher fatty acid ester of 2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidinol, 1,3-benzenedicarboxamide, N, N′-bis (2,2,6,6-tetramethyl-4- Hindered amine compounds such as piperidinyl), benzophenone compounds such as octabenzone, 2- (2H-benzotriazol-2-yl) -4- (1, , 3,3-tetramethylbutyl) phenol, 2- (2-hydroxy-5-methylphenyl) benzotriazole, 2- [2-hydroxy-3- (3,4,5,6-tetrahydrophthalimido-methyl)- 5-methylphenyl] benzotriazole, 2- (3-tert-butyl-2-hydroxy-5-methylphenyl) -5-chlorobenzotriazole, 2- (2-hydroxy-3,5-di-tert-pentylphenyl ) Benzotriazole, the reaction product of methyl 3- (3- (2H-benzotriazol-2-yl) -5-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate and polyethylene glycol, 2- (2H-benzotriazole-2) Benzotriazole compounds such as -yl) -6-dodecyl-4-methylphenol; Benzoate compounds such as 2,4-di-tert-butylphenyl-3,5-di-tert-butyl-4-hydroxybenzoate, 2- (4,6-diphenyl-1,3,5-triazin-2-yl ) -5-[(hexyl) oxy] phenol and other triazine compounds, etc., with hindered amine compounds being particularly preferred.
前記光安定材であるアミン化合物として、次に示す市販品を使用することができる。
市販されているアミン系化合物としては特に限定されず、例えば、チバスペシャリティケミカルズ製として、TINUVIN(商品名)765、TINUVIN770DF、TINUVIN144、TINUVIN123、TINUVIN622LD、TINUVIN152、CHIMASSORB(商品名)944、ADEKA製として、LA−52、LA−57、LA−62、LA−63P、LA−77Y、LA−81、LA−82、LA−87などが挙げられる。The following commercially available products can be used as the amine compound as the light stabilizer.
The commercially available amine compounds are not particularly limited. For example, as TIVAVIN (trade name) 765, TINUVIN 770DF, TINUVIN 144, TINUVIN 123, TINUVIN 622LD, TINUVIN 152, CHIMASSORB (trade name) 944, manufactured by Ciba Specialty Chemicals, manufactured by ADEKA LA-52, LA-57, LA-62, LA-63P, LA-77Y, LA-81, LA-82, LA-87 and the like.
前記リン系化合物としては特に限定されず、例えば、1,1,3−トリス(2−メチル−4−ジトリデシルホスファイト−5−tert−ブチルフェニル)ブタン、ジステアリルペンタエリスリトールジホスファイト、ビス(2,4−ジ−tert−ブチルフェニル)ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス(2,6−ジ−tert−ブチル−4−メチルフェニル)ペンタエリスリトールジホスファイト、フェニルビスフェノールAペンタエリスリトールジホスファイト、ジシクロヘキシルペンタエリスリトールジホスファイト、トリス(ジエチルフェニル)ホスファイト、トリス(ジ−イソプロピルフェニル)ホスファイト、トリス(ジ−n−ブチルフェニル)ホスファイト、トリス(2,4−ジ−tert−ブチルフェニル)ホスファイト、トリス(2,6−ジ−tert−ブチルフェニル)ホスファイト、トリス(2,6−ジ−tert−ブチルフェニル)ホスファイト、2,2’−メチレンビス(4,6−ジ−tert−ブチルフェニル)(2,4−ジ−tert−ブチルフェニル)ホスファイト、2,2’−メチレンビス(4,6−ジ−tert−ブチルフェニル)(2−tert−ブチル−4−メチルフェニル)ホスファイト、2,2’−メチレンビス(4−メチル−6−tert−ブチルフェニル)(2−tert−ブチル−4−メチルフェニル)ホスファイト、2,2’−エチリデンビス(4−メチル−6−tert−ブチルフェニル)(2−tert−ブチル−4−メチルフェニル)ホスファイト、テトラキス(2,4−ジ−tert−ブチルフェニル)−4,4’−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス(2,4−ジ−tert−ブチルフェニル)−4,3’−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス(2,4−ジ−tert−ブチルフェニル)−3,3’−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス(2,6−ジ−tert−ブチルフェニル)−4,4’−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス(2,6−ジ−tert−ブチルフェニル)−4,3’−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス(2,6−ジ−tert−ブチルフェニル)−3,3’−ビフェニレンジホスホナイト、ビス(2,4−ジ−tert−ブチルフェニル)−4−フェニル−フェニルホスホナイト、ビス(2,4−ジ−tert−ブチルフェニル)−3−フェニル−フェニルホスホナイト、ビス(2,6−ジ−n−ブチルフェニル)−3−フェニル−フェニルホスホナイト、ビス(2,6−ジ−tert−ブチルフェニル)−4−フェニル−フェニルホスホナイト、ビス(2,6−ジ−tert−ブチルフェニル)−3−フェニル−フェニルホスホナイト、テトラキス(2,4−ジ−tert−ブチル−5−メチルフェニル)−4,4’−ビフェニレンジホスホナイト、トリブチルホスフェート、トリメチルホスフェート、トリクレジルホスフェート、トリフェニルホスフェート、トリクロルフェニルホスフェート、トリエチルホスフェート、ジフェニルクレジルホスフェート、ジフェニルモノオルソキセニルホスフェート、トリブトキシエチルホスフェート、ジブチルホスフェート、ジオクチルホスフェート、ジイソプロピルホスフェートなどが挙げられる。 The phosphorus-based compound is not particularly limited. For example, 1,1,3-tris (2-methyl-4-ditridecylphosphite-5-tert-butylphenyl) butane, distearylpentaerythritol diphosphite, bis (2,4-di-tert-butylphenyl) pentaerythritol diphosphite, bis (2,6-di-tert-butyl-4-methylphenyl) pentaerythritol diphosphite, phenylbisphenol A pentaerythritol diphosphite, Dicyclohexylpentaerythritol diphosphite, tris (diethylphenyl) phosphite, tris (di-isopropylphenyl) phosphite, tris (di-n-butylphenyl) phosphite, tris (2,4-di-tert-butylphenyl) Phosph , Tris (2,6-di-tert-butylphenyl) phosphite, tris (2,6-di-tert-butylphenyl) phosphite, 2,2′-methylenebis (4,6-di-tert-butyl) Phenyl) (2,4-di-tert-butylphenyl) phosphite, 2,2′-methylenebis (4,6-di-tert-butylphenyl) (2-tert-butyl-4-methylphenyl) phosphite, 2,2′-methylenebis (4-methyl-6-tert-butylphenyl) (2-tert-butyl-4-methylphenyl) phosphite, 2,2′-ethylidenebis (4-methyl-6-tert-butyl) Phenyl) (2-tert-butyl-4-methylphenyl) phosphite, tetrakis (2,4-di-tert-butylphenyl)- , 4'-biphenylenediphosphonite, tetrakis (2,4-di-tert-butylphenyl) -4,3'-biphenylenediphosphonite, tetrakis (2,4-di-tert-butylphenyl) -3,3 '-Biphenylenediphosphonite, tetrakis (2,6-di-tert-butylphenyl) -4,4'-biphenylenediphosphonite, tetrakis (2,6-di-tert-butylphenyl) -4,3'- Biphenylenediphosphonite, tetrakis (2,6-di-tert-butylphenyl) -3,3′-biphenylenediphosphonite, bis (2,4-di-tert-butylphenyl) -4-phenyl-phenylphosphonite , Bis (2,4-di-tert-butylphenyl) -3-phenyl-phenylphosphonite, bis (2,6-di -N-butylphenyl) -3-phenyl-phenylphosphonite, bis (2,6-di-tert-butylphenyl) -4-phenyl-phenylphosphonite, bis (2,6-di-tert-butylphenyl) -3-phenyl-phenylphosphonite, tetrakis (2,4-di-tert-butyl-5-methylphenyl) -4,4'-biphenylenediphosphonite, tributyl phosphate, trimethyl phosphate, tricresyl phosphate, triphenyl Phosphate, trichlorophenyl phosphate, triethyl phosphate, diphenylcresyl phosphate, diphenyl monoorthoxenyl phosphate, tributoxyethyl phosphate, dibutyl phosphate, dioctyl phosphate, diisopropyl phosphate, etc. It is below.
上記リン系化合物は、市販品を用いることもできる。市販されているリン系化合物としては特に限定されず、例えば、ADEKA製として、アデカスタブ(商品名)PEP−4C、アデカスタブPEP−8、アデカスタブPEP−24G、アデカスタブPEP−36、アデカスタブHP−10、アデカスタブ2112、アデカスタブ260、アデカスタブ522A、アデカスタブ1178、アデカスタブ1500、アデカスタブC、アデカスタブ135Aなどが挙げられる。 Commercial products can also be used as the phosphorus compound. The commercially available phosphorus compounds are not particularly limited. For example, ADEKA products such as ADK STAB (trade name) PEP-4C, ADK STAB PEP-8, ADK STAB PEP-24G, ADK STAB PEP-36, ADK STAB HP-10, and ADK STAB 2112, ADK STAB 260, ADK STAB 522A, ADK STAB 1178, ADK STAB 1500, ADK STAB C, ADK STAB 135A, and the like.
前記フェノール化合物としては特に限定はされず、例えば、2,6−ジ−tert−ブチル−4−メチルフェノール、n−オクタデシル−3−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート、テトラキス[メチレン−3−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]メタン、2,4−ジ−tert−ブチル−6−メチルフェノール、1,6−ヘキサンジオール−ビス−[3−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、トリス(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−イソシアヌレイト、1,3,5−トリメチル−2,4,6−トリス(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)ベンゼン、ペンタエリスリチル−テトラキス[3−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、3,9−ビス−〔2−[3−(3−tert−ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)−プロピオニルオキシ]−1,1−ジメチルエチル〕−2,4,8,10−テトラオキサスピロ[5.5]ウンデカン、トリエチレングリコール−ビス[3−(3−t−ブチル−5−メチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、2,2’−ブチリデンビス(4,6−ジ−tert−ブチルフェノール)、4,4’−ブチリデンビス(3−メチル−6−tert−ブチルフェノール)、2,2’−メチレンビス(4−メチル−6−tert−ブチルフェノール)、2,2’−メチレンビス(4−エチル−6−tert−ブチルフェノール)、2−tert−ブチル−6−(3−tert−ブチル−2−ヒドロキシ−5−メチルベンジル)−4−メチルフェノールアクリレート、2−[1−(2−ヒドロキシ−3,5−ジ−tert−ペンチルフェニル)エチル]−4,6−ジ−tert−ペンチルフェニルアクリレート、4,4’−チオビス(3−メチル−6−tert−ブチルフェノール)、4,4’−ブチリデンビス(3−メチル−6−tert−ブチルフェノール)、2−tert−ブチル−4−メチルフェノール、2,4−ジ−tert−ブチルフェノール、2,4−ジ−tert−ペンチルフェノール、4,4’−チオビス(3−メチル−6−tert−ブチルフェノール)、4,4’−ブチリデンビス(3−メチル−6−tert−ブチルフェノール)、ビス−[3,3−ビス−(4’−ヒドロキシ−3’−tert−ブチルフェニル)−ブタノイックアシッド]−グリコールエステル、2,4−ジ−tert−ブチルフェノール、2,4−ジ−tert−ペンチルフェノール、2−[1−(2−ヒドロキシ−3,5−ジ−tert−ペンチルフェニル)エチル]−4,6−ジ−tert−ペンチルフェニルアクリレート、ビス−[3,3−ビス−(4’−ヒドロキシ−3’−tert−ブチルフェニル)−ブタノイックアシッド]−グリコールエステル等が挙げられる。 The phenol compound is not particularly limited, and for example, 2,6-di-tert-butyl-4-methylphenol, n-octadecyl-3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) Propionate, tetrakis [methylene-3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate] methane, 2,4-di-tert-butyl-6-methylphenol, 1,6-hexanediol- Bis- [3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], tris (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxybenzyl) -isocyanurate, 1,3,3 5-trimethyl-2,4,6-tris (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxybenzyl) benzene, penta Lislicyl-tetrakis [3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], 3,9-bis- [2- [3- (3-tert-butyl-4-hydroxy-5- Methylphenyl) -propionyloxy] -1,1-dimethylethyl] -2,4,8,10-tetraoxaspiro [5.5] undecane, triethylene glycol-bis [3- (3-t-butyl-5) -Methyl-4-hydroxyphenyl) propionate], 2,2′-butylidenebis (4,6-di-tert-butylphenol), 4,4′-butylidenebis (3-methyl-6-tert-butylphenol), 2,2 '-Methylenebis (4-methyl-6-tert-butylphenol), 2,2'-methylenebis (4-ethyl-6-tert-butyl) Phenol), 2-tert-butyl-6- (3-tert-butyl-2-hydroxy-5-methylbenzyl) -4-methylphenol acrylate, 2- [1- (2-hydroxy-3,5-di -Tert-pentylphenyl) ethyl] -4,6-di-tert-pentylphenyl acrylate, 4,4'-thiobis (3-methyl-6-tert-butylphenol), 4,4'-butylidenebis (3-methyl- 6-tert-butylphenol), 2-tert-butyl-4-methylphenol, 2,4-di-tert-butylphenol, 2,4-di-tert-pentylphenol, 4,4′-thiobis (3-methyl- 6-tert-butylphenol), 4,4'-butylidenebis (3-methyl-6-tert-butylphenol) ), Bis- [3,3-bis- (4′-hydroxy-3′-tert-butylphenyl) -butanoic acid] -glycol ester, 2,4-di-tert-butylphenol, 2,4-di -Tert-pentylphenol, 2- [1- (2-hydroxy-3,5-di-tert-pentylphenyl) ethyl] -4,6-di-tert-pentylphenyl acrylate, bis- [3,3-bis -(4'-hydroxy-3'-tert-butylphenyl) -butanoic acid] -glycol ester.
上記フェノール系化合物は、市販品を用いることもできる。市販されているフェノール系化合物としては特に限定されず、例えば、チバスペシャリティケミカルズ製としてIRGANOX(商品名)1010、IRGANOX1035、IRGANOX1076、IRGANOX1135、IRGANOX245、IRGANOX259、IRGANOX295、IRGANOX3114、IRGANOX1098、IRGANOX1520L、アデカ製としては、アデカスタブAO−20、アデカスタブAO−30、アデカスタブAO−40、アデカスタブAO−50、アデカスタブAO−60、アデカスタブAO−70、アデカスタブAO−80、アデカスタブAO−90、アデカスタブAO−330、住友化学工業製として、Sumilizer(商品名)GA−80、Sumilizer MDP−S、Sumilizer BBM−S、Sumilizer GM、Sumilizer GS(F)、Sumilizer GPなどが挙げられる。 Commercial products can also be used as the phenolic compound. The commercially available phenolic compounds are not particularly limited. For example, IRGANOX (trade name) 1010, IRGANOX1035, IRGANOX1076, IRGANOX1135, IRGANOX245, IRGANOX259, IRGANOX295, IRGANOX3114, IRGANOX1520 as IRGANOX manufactured by Ciba Specialty Chemicals Adekastab AO-20, Adekastab AO-30, Adekastab AO-40, Adekastab AO-50, Adekastab AO-60, Adekastab AO-70, Adekastab AO-80, Adekastab AO-90, Adekastab AO-330, manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd. Sumilizer (trade name) GA-80, Sumilizer M P-S, Sumilizer BBM-S, Sumilizer GM, Sumilizer GS (F), and the like Sumilizer GP.
このほか、樹脂の着色防止剤として市販されている添加材を使用することができる。例えば、チバスペシャリティケミカルズ製として、THINUVIN328、THINUVIN234、THINUVIN326、THINUVIN120、THINUVIN477、THINUVIN479、CHIMASSORB2020FDL、CHIMASSORB119FLなどが挙げられる。 In addition, commercially available additives can be used as a coloring prevention agent for the resin. For example, as products manufactured by Ciba Specialty Chemicals, THINUVIN 328, THINVIN 234, THINVIN 326, THINUVIN 120, THINUVIN 477, THINUVIN 479, CHIMASSORB 2020FDL, CHIMASSORB 119FL and the like can be mentioned.
上記リン系化合物、アミン化合物、フェノール系化合物の中から少なくとも1種以上を含有することが好ましく、その配合量としては特に限定されないが、本発明のエポキシ樹脂組成物の全重量に対して、0.005〜5.0重量%の範囲である。 It is preferable to contain at least one or more of the above-mentioned phosphorus compounds, amine compounds, and phenol compounds, and the amount thereof is not particularly limited, but is preferably 0 to the total weight of the epoxy resin composition of the present invention. It is in the range of 0.005 to 5.0% by weight.
さらに本発明のエポキシ樹脂組成物には、必要に応じてバインダー樹脂を配合することも出来る。バインダー樹脂としてはブチラール系樹脂、アセタール系樹脂、アクリル系樹脂、エポキシ−ナイロン系樹脂、NBR−フェノール系樹脂、エポキシ−NBR系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、シリコーン系樹脂などが挙げられるが、これらに限定されるものではない。バインダー樹脂の配合量は、硬化物の難燃性、耐熱性を損なわない範囲であることが好ましく、樹脂成分100重量部に対して通常0.05〜50重量部、好ましくは0.05〜20重量部が必要に応じて用いられる。 Further, the epoxy resin composition of the present invention may optionally contain a binder resin. Examples of the binder resin include butyral resin, acetal resin, acrylic resin, epoxy-nylon resin, NBR-phenol resin, epoxy-NBR resin, polyamide resin, polyimide resin, and silicone resin. However, the present invention is not limited to these. The compounding amount of the binder resin is preferably in a range that does not impair the flame retardancy and heat resistance of the cured product, and is usually 0.05 to 50 parts by weight, preferably 0.05 to 20 parts by weight, per 100 parts by weight of the resin component. Parts by weight are used as needed.
本発明のエポキシ樹脂組成物には、必要に応じて無機充填剤を添加することができる。無機充填剤としては、結晶シリカ、溶融シリカ、アルミナ、ジルコン、珪酸カルシウム、炭酸カルシウム、炭化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ホウ素、ジルコニア、フォステライト、ステアタイト、スピネル、チタニア、タルク等の粉体またはこれらを球形化したビーズ等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。これらは単独で用いてもよく、2種以上を用いてもよい。これら無機充填剤の含有量は、本発明の硬化性樹脂組成物中において0〜95重量%を占める量が用いられる。更に本発明の硬化性樹脂組成物には、シランカップリング剤、ステアリン酸、パルミチン酸、ステアリン酸亜鉛、ステアリン酸カルシウム等の離型剤、顔料等の種々の配合剤、各種熱硬化性樹脂を添加することができる。 An inorganic filler can be added to the epoxy resin composition of the present invention as needed. Examples of the inorganic filler include powders of crystalline silica, fused silica, alumina, zircon, calcium silicate, calcium carbonate, silicon carbide, silicon nitride, boron nitride, zirconia, fosterite, steatite, spinel, titania, talc and the like. And the like, but are not limited to these. These may be used alone or in combination of two or more. As the content of these inorganic fillers, an amount occupying 0 to 95% by weight in the curable resin composition of the present invention is used. Further, to the curable resin composition of the present invention, various compounding agents such as a silane coupling agent, a releasing agent such as stearic acid, palmitic acid, zinc stearate, and calcium stearate, a pigment, and various thermosetting resins are added. can do.
本発明のエポキシ樹脂組成物は前記各成分を常温もしくは加温下で均一に混合することにより得られる。例えば、押出機、ニーダー、三本ロール、万能ミキサー、プラネタリーミキサー、ホモミキサー、ホモディスパー、ビーズミル等を用いて均一になるまで充分に混合し、必要によりSUSメッシュ等によりろ過処理を行うことにより調製される。 The epoxy resin composition of the present invention can be obtained by uniformly mixing the above components at room temperature or under heating. For example, by using an extruder, a kneader, a three-roll, a universal mixer, a planetary mixer, a homomixer, a homodisper, a bead mill, etc., thoroughly mix the mixture until uniform, and optionally perform a filtration treatment with a SUS mesh or the like. Prepared.
本発明のエポキシ樹脂組成物は、本発明の多価カルボン酸(A)又は多価カルボン酸組成物(C)およびエポキシ樹脂(D)および任意に硬化促進剤(E)、酸化防止剤、光安定剤等の添加物を充分に混合することにより調製され、封止材として使用できる。混合方法としては、薬匙、ニーダー、三本ロール、万能ミキサー、プラネタリーミキサー、ホモミキサー、ホモディスパー、ビーズミル等を用いて常温または加温して混合する。 The epoxy resin composition of the present invention comprises the polycarboxylic acid (A) of the present invention or the polycarboxylic acid composition (C) and the epoxy resin (D), and optionally a curing accelerator (E), an antioxidant, It is prepared by sufficiently mixing additives such as a stabilizer and can be used as a sealing material. As a mixing method, mixing is carried out at room temperature or by heating using a medicine spoon, kneader, three-roll, universal mixer, planetary mixer, homomixer, homodisper, bead mill or the like.
本発明のエポキシ樹脂組成物をトルエン、キシレン、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロペンタノン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドン等の溶剤に溶解させ、エポキシ樹脂組成物ワニスとし、ガラス繊維、カ−ボン繊維、ポリエステル繊維、ポリアミド繊維、アルミナ繊維、紙などの基材に含浸させて加熱乾燥して得たプリプレグを熱プレス成形することにより、本発明のエポキシ樹脂組成物の硬化物とすることができる。この際の溶剤は、本発明のエポキシ樹脂組成物と該溶剤の混合物中で通常10〜70重量%、好ましくは15〜70重量%を占める量を用いる。また液状組成物のままRTM方式でカーボン繊維を含有するエポキシ樹脂硬化物を得ることもできる。 The epoxy resin composition of the present invention is dissolved in a solvent such as toluene, xylene, acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclopentanone, dimethylformamide, dimethylacetamide, N-methylpyrrolidone, and the like. A prepreg obtained by impregnating a substrate such as carbon fiber, polyester fiber, polyamide fiber, alumina fiber or paper and drying by heating is subjected to hot press molding to obtain a cured product of the epoxy resin composition of the present invention. can do. In this case, the solvent is used in an amount that usually accounts for 10 to 70% by weight, preferably 15 to 70% by weight in the mixture of the epoxy resin composition of the present invention and the solvent. Also, an epoxy resin cured product containing carbon fibers can be obtained by the RTM method as it is in the liquid composition.
また本発明のエポキシ樹脂組成物をフィルム型組成物の改質剤としても使用できる。具体的にはB−ステージにおけるフレキ性等を向上させる場合に用いることができる。このようなフィルム型の樹脂組成物を得る場合は、本発明のエポキシ樹脂組成物を剥離フィルム上に前記ワニスとして塗布し加熱下で溶剤を除去、Bステージ化を行うことによりシート状の接着剤として得る。このシート状接着剤は多層基板などにおける層間絶縁層として使用することが出来る。 Further, the epoxy resin composition of the present invention can also be used as a modifier for a film type composition. Specifically, it can be used to improve the flexibility and the like in the B-stage. When such a film-type resin composition is obtained, the epoxy resin composition of the present invention is applied as a varnish on a release film, the solvent is removed under heating, and B-staging is performed to form a sheet-like adhesive. Get as. This sheet adhesive can be used as an interlayer insulating layer in a multilayer substrate or the like.
更に、エポキシ樹脂等の熱硬化性樹脂が使用される一般の用途が挙げられ、例えば、接着剤、塗料、コーティング剤、成形材料(シート、フィルム、FRP等を含む)、絶縁材料(プリント基板、電線被覆等を含む)、封止材としての用途の他、封止材、基板用のシアネート樹脂組成物や、レジスト用硬化剤としてアクリル酸エステル系樹脂等、他樹脂等への添加剤としての用途等が挙げられる。 Further, there are general uses in which a thermosetting resin such as an epoxy resin is used, and examples thereof include an adhesive, a paint, a coating agent, a molding material (including a sheet, a film, and FRP), and an insulating material (a printed board, In addition to its use as an encapsulant, as a sealant, a cyanate resin composition for a substrate, and as an additive to other resins, such as an acrylate-based resin as a curing agent for a resist, Applications and the like.
接着剤としては、土木用、建築用、自動車用、一般事務用、医療用の接着剤の他、電子材料用の接着剤が挙げられる。これらのうち電子材料用の接着剤としては、ビルドアップ基板等の多層基板の層間接着剤、ダイボンディング剤、アンダーフィル等の半導体用接着剤、BGA補強用アンダーフィル、異方性導電性フィルム(ACF)、異方性導電性ペースト(ACP)等の実装用接着剤等が挙げられる。 Examples of the adhesive include adhesives for electronic materials, in addition to adhesives for civil engineering, construction, automobiles, general office use, and medical care. Among these, adhesives for electronic materials include interlayer adhesives for multilayer substrates such as build-up substrates, die bonding agents, semiconductor adhesives such as underfills, BGA reinforcing underfills, anisotropic conductive films ( (ACF), mounting adhesives such as anisotropic conductive paste (ACP), and the like.
封止剤としては、コンデンサ、トランジスタ、ダイオード、発光ダイオード、IC、LSIなど用のポッティング、ディッピング、トランスファーモールド封止、IC、LSI類のCOB、COF、TABなど用のポッティング封止、フリップチップなど用のアンダーフィル、QFP、BGA、CSPなどのICパッケージ類実装時の封止(補強用アンダーフィルを含む)などを挙げることができる。 As a sealing agent, potting for capacitors, transistors, diodes, light emitting diodes, ICs, LSIs, etc., dipping, transfer mold sealing, potting sealings for ICs, LSIs such as COB, COF, TAB, flip chips, etc. Sealing (including a reinforcing underfill) when mounting IC packages such as QFP, BGA, and CSP.
本発明で得られる硬化物は光学部品材料をはじめ各種用途に使用できる。光学用材料とは、可視光、赤外線、紫外線、X線、レーザーなどの光をその材料中を通過させる用途に用いる材料一般を示す。より具体的には、ランプタイプ、SMDタイプ等のLED用封止材の他、以下のようなものが挙げられる。液晶ディスプレイ分野における基板材料、導光板、プリズムシート、偏向板、位相差板、視野角補正フィルム、接着剤、偏光子保護フィルムなどの液晶用フィルムなどの液晶表示装置周辺材料である。また、次世代フラットパネルディスプレイとして期待されるカラーPDP(プラズマディスプレイ)の封止材、反射防止フィルム、光学補正フィルム、ハウジング材、前面ガラスの保護フィルム、前面ガラス代替材料、接着剤、またLED表示装置に使用されるLEDのモールド材、LEDの封止材、前面ガラスの保護フィルム、前面ガラス代替材料、接着剤、またプラズマアドレス液晶(PALC)ディスプレイにおける基板材料、導光板、プリズムシート、偏向板、位相差板、視野角補正フィルム、接着剤、偏光子保護フィルム、また有機EL(エレクトロルミネッセンス)ディスプレイにおける前面ガラスの保護フィルム、前面ガラス代替材料、接着剤、またフィールドエミッションディスプレイ(FED)における各種フィルム基板、前面ガラスの保護フィルム、前面ガラス代替材料、接着剤である。光記録分野では、VD(ビデオディスク)、CD/CD−ROM、CD−R/RW、DVD−R/DVD−RAM、MO/MD、PD(相変化ディスク)、光カード用のディスク基板材料、ピックアップレンズ、保護フィルム、封止材、接着剤などである。 The cured product obtained by the present invention can be used for various applications including optical component materials. The optical material generally indicates a material used for the purpose of transmitting light such as visible light, infrared light, ultraviolet light, X-ray, and laser through the material. More specifically, in addition to LED sealing materials such as a lamp type and an SMD type, the following can be mentioned. It is a liquid crystal display device peripheral material such as a substrate material, a light guide plate, a prism sheet, a polarizing plate, a retardation plate, a viewing angle correction film, an adhesive, and a liquid crystal film such as a polarizer protective film in the liquid crystal display field. In addition, encapsulants for color PDPs (plasma displays) expected as next-generation flat panel displays, antireflection films, optical correction films, housing materials, front glass protection films, front glass replacement materials, adhesives, and LED displays LED molding material, LED sealing material, front glass protective film, front glass substitute material, adhesive used for the device, substrate material for plasma addressed liquid crystal (PALC) display, light guide plate, prism sheet, deflection plate , Retardation film, viewing angle correcting film, adhesive, polarizer protective film, protective film for front glass in organic EL (electroluminescence) display, alternative material for front glass, adhesive, and various in field emission display (FED) Film substrate Front glass protective films, front glass substitute material, an adhesive. In the field of optical recording, VD (video disk), CD / CD-ROM, CD-R / RW, DVD-R / DVD-RAM, MO / MD, PD (phase change disk), disk substrate material for optical card, Examples include a pickup lens, a protective film, a sealing material, and an adhesive.
光学機器分野では、スチールカメラのレンズ用材料、ファインダプリズム、ターゲットプリズム、ファインダーカバー、受光センサー部である。また、ビデオカメラの撮影レンズ、ファインダーである。またプロジェクションテレビの投射レンズ、保護フィルム、封止材、接着剤などである。光センシング機器のレンズ用材料、封止材、接着剤、フィルムなどである。光部品分野では、光通信システムでの光スイッチ周辺のファイバー材料、レンズ、導波路、素子の封止材、接着剤などである。光コネクタ周辺の光ファイバー材料、フェルール、封止材、接着剤などである。光受動部品、光回路部品ではレンズ、導波路、LEDの封止材、CCDの封止材、接着剤などである。光電子集積回路(OEIC)周辺の基板材料、ファイバー材料、素子の封止材、接着剤などである。光ファイバー分野では、装飾ディスプレイ用照明・ライトガイドなど、工業用途のセンサー類、表示・標識類など、また通信インフラ用および家庭内のデジタル機器接続用の光ファイバーである。半導体集積回路周辺材料では、LSI、超LSI材料用のマイクロリソグラフィー用のレジスト材料である。自動車・輸送機分野では、自動車用のランプリフレクタ、ベアリングリテーナー、ギア部分、耐蝕コート、スイッチ部分、ヘッドランプ、エンジン内部品、電装部品、各種内外装品、駆動エンジン、ブレーキオイルタンク、自動車用防錆鋼板、インテリアパネル、内装材、保護・結束用ワイヤハーネス、燃料ホース、自動車ランプ、ガラス代替品である。また、鉄道車輌用の複層ガラスである。また、航空機の構造材の靭性付与剤、エンジン周辺部材、保護・結束用ワイヤハーネス、耐蝕コートである。建築分野では、内装・加工用材料、電気カバー、シート、ガラス中間膜、ガラス代替品、太陽電池周辺材料である。農業用では、ハウス被覆用フィルムである。次世代の光・電子機能有機材料としては、有機EL素子周辺材料、有機フォトリフラクティブ素子、光−光変換デバイスである光増幅素子、光演算素子、有機太陽電池周辺の基板材料、ファイバー材料、素子の封止材、接着剤などである。 In the field of optical equipment, it is a lens material for a still camera, a finder prism, a target prism, a finder cover, and a light receiving sensor unit. Also, it is a shooting lens and a finder of a video camera. Further, it is a projection lens of a projection television, a protective film, a sealing material, an adhesive or the like. Materials for optical sensing devices such as lenses, sealing materials, adhesives, and films. In the field of optical components, there are fiber materials, lenses, waveguides, sealing materials for elements, adhesives, etc. around optical switches in optical communication systems. Optical fiber materials, ferrules, sealing materials, adhesives, etc. around the optical connector. In the case of optical passive components and optical circuit components, there are a lens, a waveguide, an LED sealing material, a CCD sealing material, an adhesive and the like. Substrate materials, fiber materials, sealing materials for elements, adhesives, etc. around the optoelectronic integrated circuit (OEIC). In the field of optical fiber, it is used for sensors and displays / signs for industrial use, such as lighting and light guides for decorative displays, and optical fibers for communication infrastructure and for connecting digital equipment in homes. The semiconductor integrated circuit peripheral material is a resist material for microlithography for LSI and VLSI materials. In the field of automobiles and transport equipment, lamp reflectors for automobiles, bearing retainers, gear parts, corrosion-resistant coatings, switch parts, headlamps, engine internal parts, electrical components, various interior and exterior parts, drive engines, brake oil tanks, automotive protection Rusted steel plates, interior panels, interior materials, wire harnesses for protection and bundling, fuel hoses, automotive lamps, and glass substitutes. Further, it is a double glazing for railway vehicles. Further, they are toughness imparting agents for structural materials of aircraft, engine peripheral members, wire harnesses for protection and binding, and corrosion-resistant coatings. In the architectural field, they are interior and processing materials, electrical covers, sheets, glass interlayers, glass substitutes, and solar cell peripheral materials. For agriculture, it is a film for house covering. Next-generation organic materials for optical and electronic functions include organic EL element peripheral materials, organic photorefractive elements, optical amplification elements that are light-to-light conversion devices, optical arithmetic elements, substrate materials around organic solar cells, fiber materials, and elements. Sealant, adhesive and the like.
光学用材料の他の用途としては、硬化性樹脂組成物Aが使用される一般の用途が挙げられ、例えば、接着剤、塗料、コーティング剤、成形材料(シート、フィルム、FRP等を含む)、絶縁材料(プリント基板、電線被覆等を含む)、封止剤の他、他樹脂等への添加剤等が挙げられる。接着剤としては、土木用、建築用、自動車用、一般事務用、医療用の接着剤の他、電子材料用の接着剤が挙げられる。これらのうち電子材料用の接着剤としては、ビルドアップ基板等の多層基板の層間接着剤、ダイボンディング剤、アンダーフィル等の半導体用接着剤、BGA補強用アンダーフィル、異方性導電性フィルム(ACF)、異方性導電性ペースト(ACP)等の実装用接着剤等が挙げられる。 Other uses of the optical material include general uses in which the curable resin composition A is used, for example, adhesives, paints, coatings, molding materials (including sheets, films, FRP, etc.), In addition to insulating materials (including printed circuit boards, electric wire coatings, etc.) and sealing agents, additives to other resins and the like can be mentioned. Examples of the adhesive include adhesives for electronic materials, in addition to adhesives for civil engineering, construction, automobiles, general office use, and medical care. Among these, adhesives for electronic materials include interlayer adhesives for multilayer substrates such as build-up substrates, die bonding agents, semiconductor adhesives such as underfills, BGA reinforcing underfills, anisotropic conductive films ( (ACF), mounting adhesives such as anisotropic conductive paste (ACP), and the like.
高輝度白色LED等の光半導体素子は、一般的にサファイア、スピネル、SiC、Si、ZnO等の基板上に積層させたGaAs、GaP、GaAlAs,GaAsP、AlGa、InP、GaN、InN、AlN、InGaN等の半導体チップを、接着剤(ダイボンド材)を用いてリードフレームや放熱板、パッケージに接着させてなる。電流を流すために金ワイヤー等のワイヤーが接続されているタイプもある。光半導体素子は、その半導体チップを熱や湿気から守り、かつレンズ機能の役割を果たすためにエポキシ樹脂等の封止材で封止されている。本発明のエポキシ樹脂組成物はこの封止材に用いることができる。 Optical semiconductor elements such as high-brightness white LEDs are generally made of GaAs, GaP, GaAlAs, GaAsP, AlGa, InP, GaN, InN, AlN, InGaN laminated on a substrate of sapphire, spinel, SiC, Si, ZnO or the like. And the like are bonded to a lead frame, a heat sink, and a package using an adhesive (die bonding material). There is also a type in which a wire such as a gold wire is connected to pass a current. The optical semiconductor element is sealed with a sealing material such as an epoxy resin in order to protect the semiconductor chip from heat and moisture and to play a role of a lens function. The epoxy resin composition of the present invention can be used for this sealing material.
封止材の成形方式としては、光半導体素子が固定された基板を挿入した型枠内に封止材を注入した後に加熱硬化を行い成形する注入方式、金型上に封止材をあらかじめ注入し、そこに基板上に固定された光半導体素子を浸漬させて加熱硬化をした後に金型から離形する圧縮成形方式等が用いられている。
注入方法としては、ディスペンサー等が挙げられる。
加熱は、熱風循環式、赤外線、高周波等の方法が使用できる。加熱条件は例えば80〜230℃で1分〜24時間程度が好ましい。加熱硬化の際に発生する内部応力を低減する目的で、例えば80〜120℃、30分〜5時間予備硬化させた後に、120〜180℃、30分〜10時間の条件で後硬化させることができる。As a molding method of the sealing material, an injection method in which the sealing material is injected into a mold frame into which the substrate on which the optical semiconductor element is fixed is inserted, and then heat-cured and molded, and the sealing material is previously injected on the mold. Then, a compression molding method or the like is used in which an optical semiconductor element fixed on a substrate is immersed therein, heated and cured, and then released from a mold.
Examples of the injection method include a dispenser.
For the heating, a method such as a hot air circulation system, infrared radiation, or high frequency can be used. The heating condition is preferably, for example, at 80 to 230 ° C. for about 1 minute to 24 hours. For the purpose of reducing internal stress generated during heat curing, for example, after pre-curing at 80 to 120 ° C for 30 minutes to 5 hours, post-curing may be performed at 120 to 180 ° C for 30 minutes to 10 hours. it can.
次に本発明の多価カルボン酸(A)と、熱硬化性樹脂とを含有する熱硬化性樹脂組成物に関して説明する。本発明の熱硬化性樹脂組成物はICIコーンプレート粘度が100〜200℃の範囲で0.01Pa・s〜10Pa・sの範囲にある。 Next, a thermosetting resin composition containing the polyvalent carboxylic acid (A) of the present invention and a thermosetting resin will be described. The thermosetting resin composition of the present invention has an ICI cone plate viscosity in a range of 100 to 200 ° C. and in a range of 0.01 Pa · s to 10 Pa · s.
本発明の多価カルボン酸(A)を用いることで、優れた耐久性を実現することができるとともに、混練に適した熱硬化性樹脂組成物を得ることが可能となる。本発明の熱硬化性樹脂組成物はICIコーンプレート粘度が100〜200℃の範囲で、0.01〜10Pa・sであること、および室温で固形であることから、液状の場合にはプレポリマー化などの前処理なしでは不可能であった混練が、前処理なしで可能となる。また固形であるため、タブレットとして成形しやすい点にも特徴を有している。 By using the polyvalent carboxylic acid (A) of the present invention, excellent durability can be realized and a thermosetting resin composition suitable for kneading can be obtained. Since the thermosetting resin composition of the present invention has an ICI cone plate viscosity in the range of 100 to 200 ° C. and 0.01 to 10 Pa · s, and is solid at room temperature, it is a prepolymer when it is liquid. Kneading, which was not possible without pretreatment such as chemical conversion, is possible without pretreatment. Also, since it is solid, it has a feature in that it can be easily formed as a tablet.
本発明の熱硬化性樹脂組成物においては、ICIコーンプレート粘度が100〜200℃の範囲で、0.01〜10Pa・sである。
当該範囲に調整することにより、常温(25℃)で固形となり、成形が容易となり、ボイド等の不具合を効果的に防止することができるようになるためである。また、このような低粘度の熱硬化性樹脂組成物に設定することで、従来結晶性を有するため軟化点あるいは融点が高く、混練が困難であった各成分が硬化剤に十分に溶融・分散するため、結晶が崩れ、主剤となるエポキシ樹脂と十分混練されることとなり、各成分が効果的に配列し、優れた物性を有する硬化物を得ることができる。軟化点は、20〜150℃であることが好ましく、40〜130℃であることがより好ましく、50〜100℃であることがさらに好ましく、特には70〜100℃であることが好ましい。このような軟化点にあることで、十分な混練を容易に行うことが可能となる。
当該範囲に調整することにより、各種成分をミキサー等によって容易に撹拌、混合することができ、それをさらにミキシングロール、押出機、ニーダー、ロール、エクストルーダー等によって混練または溶融混練し、冷却、粉砕することが可能となる。In the thermosetting resin composition of the present invention, the ICI cone plate viscosity is 0.01 to 10 Pa · s in the range of 100 to 200 ° C.
By adjusting to this range, it becomes solid at room temperature (25 ° C.), molding becomes easy, and defects such as voids can be effectively prevented. In addition, by setting such a low-viscosity thermosetting resin composition, each component, which had a high softening point or melting point because of its conventional crystallinity and was difficult to knead, was sufficiently melted and dispersed in the curing agent. As a result, the crystals are broken and are sufficiently kneaded with the epoxy resin as the main agent, whereby the respective components are effectively arranged and a cured product having excellent physical properties can be obtained. The softening point is preferably from 20 to 150 ° C, more preferably from 40 to 130 ° C, even more preferably from 50 to 100 ° C, and particularly preferably from 70 to 100 ° C. With such a softening point, sufficient kneading can be easily performed.
By adjusting to this range, various components can be easily stirred and mixed by a mixer or the like, and further kneaded or melt-kneaded by a mixing roll, an extruder, a kneader, a roll, an extruder, etc., and then cooled and pulverized. It is possible to do.
本発明の熱硬化性樹脂組成物は、上記式(1)で表される多価カルボン酸(A)と、熱硬化性樹脂と、必要に応じてその他の成分を含む樹脂組成物である。本発明の熱硬化性樹脂組成物においては、その他の成分として熱硬化性樹脂用硬化剤を含有させることができる。好適な熱硬化性樹脂用硬化剤の成分としては、トリメリット酸、無水トリメリット酸、シクロヘキサントリカルボン酸、およびシクロヘキサントリカルボン酸無水物、ピロメリット酸、水添ピロメリット酸、ピロメリット酸無水物、水添ピロメリット酸無水物、ヘキサヒドロ無水フタル酸、およびメチルヘキサヒドロ無水フタル酸、多価カルボン酸(A)以外の多価カルボン酸から選ばれる1種または2種以上の化合物が挙げられる。 The thermosetting resin composition of the present invention is a resin composition containing the polyvalent carboxylic acid (A) represented by the above formula (1), a thermosetting resin, and other components as necessary. In the thermosetting resin composition of the present invention, a curing agent for thermosetting resin can be contained as another component. Preferred components of the curing agent for thermosetting resin include trimellitic acid, trimellitic anhydride, cyclohexanetricarboxylic acid, and cyclohexanetricarboxylic anhydride, pyromellitic acid, hydrogenated pyromellitic acid, pyromellitic anhydride, One or more compounds selected from hydrogenated pyromellitic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, methylhexahydrophthalic anhydride, and polycarboxylic acids other than the polycarboxylic acid (A).
トリメリット酸、無水トリメリット酸、シクロヘキサントリカルボン酸、シクロヘキサントリカルボン酸無水物、ピロメリット酸、水添ピロメリット酸、ピロメリット酸無水物、水添ピロメリット酸無水物、ヘキサヒドロ無水フタル酸、およびメチルヘキサヒドロ無水フタル酸が存在すると架橋密度の高い硬化物が得られるため、高いガラス転移温度を有する硬化物を得ることができる。しかしながら、トリメリット酸、無水トリメリット酸、シクロヘキサントリカルボン酸、シクロヘキサントリカルボン酸無水物、ピロメリット酸、水添ピロメリット酸、ピロメリット酸無水物、および水添ピロメリット酸無水物などのカルボン酸あるいは酸無水物は、結晶性を有するため軟化点あるいは融点が高く、具体的な融点は150℃〜300℃であるため、成型する際に問題となることがある。一方、ヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸については、融点が室温以下であるため、成形する際に問題となることがある。トリメリット酸、無水トリメリット酸、シクロヘキサントリカルボン酸、およびシクロヘキサントリカルボン酸無水物、ピロメリット酸、水添ピロメリット酸、ピロメリット酸無水物、水添ピロメリット酸無水物、ヘキサヒドロ無水フタル酸、およびメチルヘキサヒドロ無水フタル酸のうち、着色しにくさの点で、シクロヘキサントリカルボン酸、およびシクロヘキサントリカルボン酸無水物、水添ピロメリット酸、水添ピロメリット酸無水物、ヘキサヒドロ無水フタル酸、およびメチルヘキサヒドロ無水フタル酸が好ましく、シクロヘキサントリカルボン酸無水物、ヘキサヒドロ無水フタル酸、およびメチルヘキサヒドロ無水フタル酸がさらに好ましい。
シクロヘキサントリカルボン酸無水物としては、シクロヘキサン‐1、2、4‐トリカルボン酸‐1、2‐無水物や、シクロヘキサン‐1、2、3‐トリカルボン酸‐1、2‐無水物が挙げられる。本発明では、これらの酸無水物を組み合わせて使用することもできるが、シクロヘキサン‐1、2、4‐トリカルボン酸‐1、2‐無水物が好ましい。Trimellitic acid, trimellitic anhydride, cyclohexanetricarboxylic acid, cyclohexanetricarboxylic anhydride, pyromellitic acid, hydrogenated pyromellitic acid, pyromellitic anhydride, hydrogenated pyromellitic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, and methyl When hexahydrophthalic anhydride is present, a cured product having a high crosslinking density can be obtained, so that a cured product having a high glass transition temperature can be obtained. However, trimellitic acid, trimellitic anhydride, cyclohexanetricarboxylic acid, cyclohexanetricarboxylic anhydride, pyromellitic acid, hydrogenated pyromellitic acid, pyromellitic anhydride, and carboxylic acids such as hydrogenated pyromellitic anhydride or The acid anhydride has a high softening point or melting point due to its crystallinity, and a specific melting point is 150 ° C. to 300 ° C., which may cause a problem in molding. On the other hand, the melting points of hexahydrophthalic anhydride and methylhexahydrophthalic anhydride are lower than room temperature, which may cause problems in molding. Trimellitic acid, trimellitic anhydride, cyclohexanetricarboxylic acid, and cyclohexanetricarboxylic anhydride, pyromellitic acid, hydrogenated pyromellitic acid, pyromellitic anhydride, hydrogenated pyromellitic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, and Among the methylhexahydrophthalic anhydrides, cyclohexanetricarboxylic acid, cyclohexanetricarboxylic anhydride, hydrogenated pyromellitic acid, hydrogenated pyromellitic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, Hydrophthalic anhydride is preferred, and cyclohexanetricarboxylic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, and methylhexahydrophthalic anhydride are more preferred.
Examples of the cyclohexanetricarboxylic anhydride include cyclohexane-1,2,4-tricarboxylic acid-1,2-anhydride and cyclohexane-1,2,3-tricarboxylic acid-1,2-anhydride. In the present invention, these acid anhydrides can be used in combination, but cyclohexane-1,2,4-tricarboxylic acid-1,2-anhydride is preferred.
本発明の熱硬化性樹脂組成物では、トリメリット酸、無水トリメリット酸、シクロヘキサントリカルボン酸、シクロヘキサントリカルボン酸無水物、ピロメリット酸、水添ピロメリット酸、ピロメリット酸無水物、水添ピロメリット酸無水物、ヘキサヒドロ無水フタル酸、およびメチルヘキサヒドロ無水フタル酸から選ばれる1種または2種以上の化合物の合計が、熱硬化性樹脂組成物に占める割合で、1重量%〜90重量%であることが好ましい。1重量%より低いとガラス転移温度が十分に高くならず、90重量%より高いと融点が高くなり、取扱いが困難になる恐れがある。より好ましくは10〜60重量%であり、さらに好ましくは20〜50重量%である。 In the thermosetting resin composition of the present invention, trimellitic acid, trimellitic anhydride, cyclohexanetricarboxylic acid, cyclohexanetricarboxylic anhydride, pyromellitic acid, hydrogenated pyromellitic acid, pyromellitic anhydride, hydrogenated pyromellitic The total amount of one or more compounds selected from acid anhydride, hexahydrophthalic anhydride, and methylhexahydrophthalic anhydride is 1% by weight to 90% by weight in the proportion of the thermosetting resin composition. Preferably, there is. If it is lower than 1% by weight, the glass transition temperature will not be sufficiently high, and if it is higher than 90% by weight, the melting point will be high and handling may be difficult. More preferably, it is 10 to 60% by weight, and still more preferably 20 to 50% by weight.
また、本発明の熱硬化性樹脂用硬化剤の成分として含有させることができる本発明の多価カルボン酸(A)以外の多価カルボン酸としては、下記式(22)で表される、分子内にエステル構造(好ましくは2つのエステル構造)を有する、末端に複数のカルボキシル基を有する多価カルボン酸が挙げられる。 The polyvalent carboxylic acid other than the polyvalent carboxylic acid (A) of the present invention that can be contained as a component of the curing agent for a thermosetting resin of the present invention includes a molecule represented by the following formula (22). A polyvalent carboxylic acid having an ester structure (preferably two ester structures) therein and having a plurality of carboxyl groups at a terminal.
(式(22)中、Pは0〜6個の酸素原子、窒素原子、リン原子を含んでもよい炭素数2〜20の多価アルコールの残基を、Rは炭素数2〜20の脂肪族炭化水素基を示す。n、kは、平均で1〜6を示す。またnの総計は2以上12未満である。)
中でも、前記式(22)の多価カルボン酸が炭素数6以上の2〜6官能の多価アルコールと飽和脂肪族環状酸無水物とのエステル化反応により得られた化合物であることが好ましい。(In the formula (22), P represents a residue of a polyhydric alcohol having 2 to 20 carbon atoms which may contain 0 to 6 oxygen atoms, nitrogen atoms and phosphorus atoms, and R represents an aliphatic group having 2 to 20 carbon atoms. Represents a hydrocarbon group, n and k represent 1 to 6 on average, and the total of n is 2 or more and less than 12.
Among them, it is preferable that the polyvalent carboxylic acid of the formula (22) is a compound obtained by an esterification reaction of a 2- to 6-functional polyhydric alcohol having 6 or more carbon atoms with a saturated aliphatic cyclic acid anhydride.
より具体的には、前記式(22)に記載の多価カルボン酸において、連結基Rは炭素数4〜10のシクロアルカン骨格、もしくはノルボルナン骨格が好ましく、シクロアルカン骨格においては置換、もしくは無置換のシクロヘキサン構造、特にメチル基を具備するメチルシクロヘキサン構造がその硬化物における光学特性から好ましい。またノルボルナン骨格としてはノルボルナン、メチルノルボルナン構造が好ましい。ここで、置換されたものにおいて適用できる置換基としては、炭素数1〜3のアルキル基、カルボキシル基等が挙げられる。
連結基Pは炭素数2〜10の多価アルコールの残基(反応に用いた多価アルコールから水酸基を除いた残基)であるが、分岐鎖状の架橋基、もしくはシクロアルキル基が好ましく、特にPは下記(a)又は(b)で定義される2価の架橋基であることが好ましい。More specifically, in the polyvalent carboxylic acid represented by the formula (22), the linking group R is preferably a cycloalkane skeleton having 4 to 10 carbon atoms or a norbornane skeleton. In the cycloalkane skeleton, substituted or unsubstituted Is particularly preferred from the viewpoint of optical properties of the cured product. The norbornane skeleton is preferably a norbornane or methylnorbornane structure. Here, examples of the substituent applicable to the substituted one include an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, a carboxyl group, and the like.
The linking group P is a residue of a polyhydric alcohol having 2 to 10 carbon atoms (a residue obtained by removing a hydroxyl group from the polyhydric alcohol used in the reaction), and is preferably a branched cross-linking group or a cycloalkyl group. Particularly, P is preferably a divalent crosslinking group defined by the following (a) or (b).
(a)炭素数6〜20の分岐構造を有する鎖状アルキル鎖であり、該鎖状アルキル鎖が炭素数3〜12の直鎖の主鎖と、2〜4個の側鎖を有し、かつその側鎖の少なくとも1つが炭素数2〜10である架橋基、
又は、
(b)シクロ環上にメチル基を有してもよい、トリシクロデカンジメタノールおよびペンタシクロペンタデカンジメタノールから選ばれる少なくとも1種の架橋多環ジオールから、2つの水酸基を取り除いた2価の架橋基
但し、Pが(b)の場合、連結基Rが炭素数4〜10のシクロアルカン骨格又はノルボルナン骨格のときは、後述する式(2A)において置換基R9が水素原子以外の基を表すことがより好ましい。
尚、上記多価カルボン酸の軟化点は通常50℃以上であるが、60℃以上が好ましく、80℃以上がより好ましい。上限値に特に制限はないが通常500℃以下であり、300℃以下であることが好ましく、200℃以下であることがより好ましい。(A) a linear alkyl chain having a branched structure having 6 to 20 carbon atoms, wherein the linear alkyl chain has a linear main chain having 3 to 12 carbon atoms and 2 to 4 side chains; A crosslinking group having at least one of its side chains having 2 to 10 carbon atoms,
Or
(B) a divalent crosslink obtained by removing two hydroxyl groups from at least one crosslinked polycyclic diol selected from tricyclodecanedimethanol and pentacyclopentadecanedimethanol, which may have a methyl group on the cyclo ring. However, when P is (b), when the connecting group R is a cycloalkane skeleton or a norbornane skeleton having 4 to 10 carbon atoms, the substituent R 9 in Formula (2A) described later represents a group other than a hydrogen atom. Is more preferable.
The softening point of the polycarboxylic acid is usually 50 ° C. or higher, preferably 60 ° C. or higher, more preferably 80 ° C. or higher. Although the upper limit is not particularly limited, it is usually 500 ° C or lower, preferably 300 ° C or lower, more preferably 200 ° C or lower.
上記特に好ましい多価カルボン酸は、炭素数6以上の2〜6官能の多価アルコールと飽和脂肪族環状酸無水物とを、付加反応させることにより得ることができる。
これらの多価カルボン酸は、2種の多価カルボン酸を含む混合物であってもよい。多価カルボン酸を少なくとも2種含む多価カルボン酸混合物を得る方法としては、上記方法で得られた単一の多価カルボン酸を少なくとも2種を混合する方法、または、上記の多価カルボン酸を合成する際に、上記飽和脂肪族環状酸無水物として、下記で選ばれる飽和脂肪族環状酸無水物から少なくとも2種の混合物を使用するか、前記多価アルコールを2種使用して、付加反応を行う方法がある。The above particularly preferred polyvalent carboxylic acid can be obtained by performing an addition reaction of a divalent to hexafunctional polyhydric alcohol having 6 or more carbon atoms and a saturated aliphatic cyclic acid anhydride.
These polycarboxylic acids may be a mixture containing two polycarboxylic acids. As a method of obtaining a polyvalent carboxylic acid mixture containing at least two types of polyvalent carboxylic acids, a method of mixing at least two types of the single polyvalent carboxylic acids obtained by the above method, or a method of mixing the above-mentioned polyvalent carboxylic acids When synthesizing a compound, as the saturated aliphatic cyclic anhydride, a mixture of at least two kinds of saturated aliphatic cyclic anhydrides selected below or a mixture of two kinds of the polyhydric alcohols is used. There is a way to carry out the reaction.
多価カルボン酸の合成に用いる飽和脂肪族環状酸無水物としては、シクロヘキサン構造を有し、該シクロヘキサン環上にメチル基置換もしくはカルボキシル基置換を有し、又は無置換であり、シクロヘキサン環に結合した酸無水物基を分子内に1つ以上(好ましくは1つ)有する化合物を挙げることができる。
具体的にはヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、およびシクロヘキサン−1,2,4−トリカルボン酸−1,2−無水物、無水トリメリット酸、シクロヘキサントリカルボン酸無水物、ピロメリット酸無水物、および水添ピロメリット酸無水物からなる群から選ばれる少なくとも1種の酸無水物が挙げられる。The saturated aliphatic cyclic anhydride used in the synthesis of the polycarboxylic acid has a cyclohexane structure, has a methyl group substitution or a carboxyl group substitution on the cyclohexane ring, or is unsubstituted, and is bonded to the cyclohexane ring. Compounds having one or more (preferably one) of the above-described acid anhydride groups in the molecule can be exemplified.
Specifically, hexahydrophthalic anhydride, methylhexahydrophthalic anhydride, cyclohexane-1,2,4-tricarboxylic acid-1,2-anhydride, trimellitic anhydride, cyclohexanetricarboxylic anhydride, pyromellitic anhydride And at least one acid anhydride selected from the group consisting of hydrogenated pyromellitic anhydride.
上記の多価カルボン酸の合成に用いる炭素数6以上の2〜6官能の多価アルコールとしては、具体的には、前記式(21)中の架橋基Pの末端に水酸基を付けた多価カルボン酸を挙げることができる。
前記式(21)において、Pで表される架橋基は、好ましくは前記(a)または(b)で定義される2価の架橋基であり、それらについて以下に具体的に説明する。
前記(a)で定義される2価の架橋基は、炭素数6〜20の分岐構造を有する2価のアルコール(ジオール)から、水酸基を除いた2価の鎖状アルキル鎖であり、ジオールの2個のアルコール性水酸基に挟まれたアルキル鎖を主鎖とし、該アルキル鎖から分岐したアルキル鎖(側鎖という)を有する構造である。該側鎖は、主鎖を構成するいずれの炭素原子から分岐していてもよく、例えばアルコール性水酸基が結合していた炭素原子(主鎖の末端炭素原子)から分岐している場合も含む。該構造を有する架橋基であれば何れでもよく、このような架橋基の具体例を下記式(a1)に示す。As the 2- to 6-functional polyhydric alcohol having 6 or more carbon atoms used in the synthesis of the polycarboxylic acid, specifically, a polyhydric alcohol having a hydroxyl group attached to the terminal of the crosslinking group P in the above formula (21) Carboxylic acids can be mentioned.
In the formula (21), the crosslinking group represented by P is preferably a divalent crosslinking group defined in the above (a) or (b), and these will be specifically described below.
The divalent cross-linking group defined in the above (a) is a divalent chain alkyl chain obtained by removing a hydroxyl group from a divalent alcohol (diol) having a branched structure having 6 to 20 carbon atoms. The structure has an alkyl chain sandwiched between two alcoholic hydroxyl groups as a main chain, and an alkyl chain branched from the alkyl chain (referred to as a side chain). The side chain may be branched from any carbon atom constituting the main chain, and includes, for example, a case where the side chain is branched from a carbon atom to which an alcoholic hydroxyl group is bonded (terminal carbon atom of the main chain). Any crosslinking group having the above structure may be used, and specific examples of such a crosslinking group are shown in the following formula (a1).
前記式中、*印で式(21)におけるPの両側の酸素原子と結合する。
上記(a)で定義されるアルキレン架橋基は、主鎖アルキレン基に対し、アルキル分岐鎖(側鎖)を有する構造であれば特に制限はないが、主鎖の炭素数が3以上の主鎖であり、少なくとも1個のアルキル側鎖を有するものが好ましく、またアルキル側鎖を2つ以上有するものが特に好ましい。より好ましいものとしては、炭素数3〜12の直鎖の主鎖と、2〜4個の側鎖を有し、かつその側鎖の少なくとも1つが炭素数2〜10である架橋基を挙げることができる。この場合、側鎖の少なくとも2つが炭素数2〜10である架橋基は更に好ましい。また、2〜4個の側鎖は主鎖の異なる炭素原子から分岐していることが好ましい。
より具体的な化合物としては前記式(a1)に記載した架橋基において、*印の位置にヒドロキシル基が結合した化合物を挙げることができる。
原料として使用する多価アルコールの中では、少なくとも2個の側鎖を有し、該側鎖の中で少なくとも2個が炭素数2〜4の側鎖である多価アルコールが好ましい。
このような骨格の中で特に好ましい多価アルコールとしては2,4−ジエチル−1,5−ペンタンジオール、2−エチル−2−ブチル−1,3−プロパンジオール、2−エチル−1,3−ヘキサンジオールなどが挙げられ、特に2,4−ジエチル−1,5−ペンタンジオールが挙げられる。In the above formula, the bond with an oxygen atom on both sides of P in the formula (21) is indicated by an asterisk.
The alkylene bridging group defined in the above (a) is not particularly limited as long as it has an alkyl branched chain (side chain) with respect to the main chain alkylene group, but the main chain has 3 or more carbon atoms in the main chain. And those having at least one alkyl side chain are preferable, and those having two or more alkyl side chains are particularly preferable. More preferable examples include a cross-linking group having a linear main chain having 3 to 12 carbon atoms and 2 to 4 side chains, and at least one of the side chains having 2 to 10 carbon atoms. Can be. In this case, a crosslinking group in which at least two of the side chains have 2 to 10 carbon atoms is more preferable. Further, it is preferable that 2 to 4 side chains are branched from different carbon atoms in the main chain.
As a more specific compound, a compound in which a hydroxyl group is bonded at the position of the mark * in the crosslinking group described in the formula (a1) can be mentioned.
Among the polyhydric alcohols used as a raw material, polyhydric alcohols having at least two side chains and at least two of the side chains having 2 to 4 carbon atoms are preferable.
Particularly preferred polyhydric alcohols in such a skeleton include 2,4-diethyl-1,5-pentanediol, 2-ethyl-2-butyl-1,3-propanediol, and 2-ethyl-1,3- Hexanediol and the like can be mentioned, and in particular, 2,4-diethyl-1,5-pentanediol can be mentioned.
前記(b)で定義される架橋基としては、下記式(b1)で表される2価の基を挙げることができる。 Examples of the crosslinking group defined in the above (b) include a divalent group represented by the following formula (b1).
前記(b)で定義される架橋基の場合の、架橋多環ジオール残基としては、トリシクロデカン構造、ペンタシクロペンタデカン構造を主骨格とするジオール残基であり、下記式(b2)で表される。 In the case of the cross-linking group defined in the above (b), the cross-linked polycyclic diol residue is a diol residue having a main skeleton of a tricyclodecane structure or a pentacyclopentadecane structure, and is represented by the following formula (b2). Is done.
式中、複数存在するR8はそれぞれ独立して、水素原子、もしくはメチル基を表す。これらの中で、R8が全て水素原子である架橋基が好ましい。
具体的にはトリシクロデカンジメタノール、メチルトリシクロデカンジメタノール、ペンタシクロペンタデカンジメタノールなどが挙げられる。In the formula, a plurality of R 8 's each independently represent a hydrogen atom or a methyl group. Among them, a cross-linking group in which all of R 8 are hydrogen atoms is preferable.
Specific examples include tricyclodecane dimethanol, methyltricyclodecane dimethanol, and pentacyclopentadecane dimethanol.
酸無水物と多価アルコールの反応としては一般に酸や塩基を触媒とする付加反応であるが、本発明においては特に無触媒での反応が好ましい。
触媒を用いる場合、使用しうる触媒としては、例えば塩酸、硫酸、メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、パラトルエンスルホン酸、硝酸、トリフルオロ酢酸、トリクロロ酢酸等の酸性化合物、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム、水酸化マグネシウム等の金属水酸化物、トリエチルアミン、トリプロピルアミン、トリブチルアミン等のアミン化合物、ピリジン、ジメチルアミノピリジン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデカ−7−エン、イミダゾール、トリアゾール、テトラゾール等の複素環式化合物、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、テトラプロピルアンモニウムヒドロキシド、テトラブチルアンモニウムヒドロキシド、トリメチルエチルアンモニウムヒドロキシド、トリメチルプロピルアンモニウムヒドロキシド、トリメチルブチルアンモニウムヒドロキシド、トリメチルセチルアンモニウムヒドロキシド、トリオクチルメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラメチルアンモニウムクロリド、テトラメチルアンモニウムブロミド、テトラメチルアンモニウムヨージド、テトラメチルアンモニウムアセテート、トリオクチルメチルアンモニウムアセテート等の4級アンモニウム塩等が挙げられる。これらの触媒は1種又は2種以上を混合して用いても良い。これらの中で、トリエチルアミン、ピリジン、ジメチルアミノピリジンが好ましい。The reaction between the acid anhydride and the polyhydric alcohol is generally an addition reaction using an acid or a base as a catalyst. In the present invention, a reaction without a catalyst is particularly preferable.
When a catalyst is used, examples of the usable catalyst include acidic compounds such as hydrochloric acid, sulfuric acid, methanesulfonic acid, trifluoromethanesulfonic acid, paratoluenesulfonic acid, nitric acid, trifluoroacetic acid and trichloroacetic acid, sodium hydroxide, and hydroxide. Metal hydroxides such as potassium, calcium hydroxide and magnesium hydroxide, amine compounds such as triethylamine, tripropylamine and tributylamine, pyridine, dimethylaminopyridine, 1,8-diazabicyclo [5.4.0] undec-7 -Heterocyclic compounds such as ene, imidazole, triazole, tetrazole, etc., tetramethylammonium hydroxide, tetraethylammonium hydroxide, tetrapropylammonium hydroxide, tetrabutylammonium hydroxide, trimethylethyl Ammonium hydroxide, trimethylpropylammonium hydroxide, trimethylbutylammonium hydroxide, trimethylcetylammonium hydroxide, trioctylmethylammonium hydroxide, tetramethylammonium chloride, tetramethylammonium bromide, tetramethylammonium iodide, tetramethylammonium acetate, And quaternary ammonium salts such as trioctylmethylammonium acetate. These catalysts may be used alone or in combination of two or more. Among them, triethylamine, pyridine and dimethylaminopyridine are preferred.
触媒の使用量には、特に制限はないが、原料の総重量100重量部に対して、通常0.001〜5重量部を、必要により使用するのが好ましい。
本反応においては無溶剤での反応が好ましいが、有機溶剤を使用しても構わない。有機溶剤の使用量としては、反応基質である前記酸無水物と前記多価アルコールの総量1部に対し、重量比で0.005〜1部であり、好ましくは0.005〜0.7部、より好ましくは0.005〜0.5部(すなわち50重量%以下)である。有機溶剤の使用量が上記反応基質1重量部に対して、重量比で1部を超える場合、反応の進行が極度に遅くなることから好ましくない。使用できる有機溶剤の具体的な例としてはヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン等のアルカン類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素化合物、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロペンタノン、アノン等のケトン類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類、酢酸エチル、酢酸ブチル、蟻酸メチルなどのエステル化合物などが使用できる。The amount of the catalyst used is not particularly limited, but it is generally preferable to use 0.001 to 5 parts by weight based on 100 parts by weight of the total weight of the raw materials, if necessary.
In this reaction, a reaction without a solvent is preferable, but an organic solvent may be used. The amount of the organic solvent used is 0.005 to 1 part by weight, preferably 0.005 to 0.7 part, based on 1 part of the total amount of the acid anhydride and the polyhydric alcohol as the reaction substrate. And more preferably 0.005 to 0.5 part (that is, 50% by weight or less). If the amount of the organic solvent used exceeds 1 part by weight based on 1 part by weight of the reaction substrate, it is not preferable because the progress of the reaction becomes extremely slow. Specific examples of usable organic solvents include alkanes such as hexane, cyclohexane and heptane, aromatic hydrocarbon compounds such as toluene and xylene, ketones such as methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclopentanone and anone, and diethyl ether. And ether compounds such as tetrahydrofuran and dioxane, and ester compounds such as ethyl acetate, butyl acetate and methyl formate.
本反応は20℃程度の温度でも十分に反応は進行する。反応時間の問題から反応温度は30〜200℃が好ましく、より好ましくは40〜200℃、特に好ましくは40〜150℃である。特に本反応を無溶剤で行う場合は、酸無水物の揮発があるため、100℃以下での反応が好ましく、30〜100℃または40〜100℃での反応が特に好ましい。 This reaction proceeds sufficiently even at a temperature of about 20 ° C. The reaction temperature is preferably from 30 to 200 ° C, more preferably from 40 to 200 ° C, particularly preferably from 40 to 150 ° C, from the viewpoint of the reaction time. In particular, when this reaction is carried out in the absence of a solvent, the reaction at 100 ° C. or lower is preferable, and the reaction at 30 to 100 ° C. or 40 to 100 ° C. is particularly preferable because the acid anhydride volatilizes.
前記酸無水物と前記多価アルコールとの反応比率は理論的には等モルでの反応が好ましいが、必要に応じて変更可能である。
反応させる際の具体的な両者の仕込み比率としては、その官能基当量で、該酸無水物基1当量に対して、該多価アルコールを、その水酸基当量で、0.001〜2当量、より好ましくは0.01〜1.5当量、さらに好ましくは0.1〜1.2当量となる割合で仕込むのが好ましい。
本発明においては得られる多価カルボン酸が固形であることが好ましく、固形の樹脂状多価カルボン酸を得るためには、理想的には等モル当量以上の多価アルコールを使用することが好ましいが、フィラーを添加するため流動性が重要となり、この流動性を確保する為に、その粘度バランスから、固形を保つ範囲(軟化点50℃以上)で多少のバランスを崩しても構わない。
具体的には、酸無水物当量に対し、アルコール性水酸基の当量比において0.85〜1.20モル当量が好ましく、特に0.90〜1.10モル当量が好ましい。The reaction ratio between the acid anhydride and the polyhydric alcohol is theoretically preferably equimolar, but can be changed as necessary.
As a specific charging ratio of the two at the time of the reaction, the functional alcohol equivalent, 1 equivalent of the acid anhydride group, the polyhydric alcohol, the hydroxyl equivalent, 0.001 to 2 equivalents, Preferably, it is charged at a ratio of preferably 0.01 to 1.5 equivalents, more preferably 0.1 to 1.2 equivalents.
In the present invention, the obtained polycarboxylic acid is preferably solid, and in order to obtain a solid resinous polycarboxylic acid, it is ideally preferable to use a polyhydric alcohol having an equimolar equivalent or more. However, fluidity is important because the filler is added, and in order to secure the fluidity, a slight balance may be broken in the range of maintaining the solid (softening point of 50 ° C. or more) from the viscosity balance.
Specifically, the equivalent ratio of the alcoholic hydroxyl group to the acid anhydride equivalent is preferably 0.85 to 1.20 molar equivalents, and particularly preferably 0.90 to 1.10 molar equivalents.
反応時間は反応温度、触媒量等にもよるが、工業生産という観点から、長時間の反応は多大なエネルギーを消費することになるため好ましくはない。また短すぎる反応時間はその反応が急激であることを意味し、安全性の面から好ましく無い。好ましい範囲としては1〜48時間、好ましくは1〜36時間、より好ましくは1〜24時間、更に好ましくは2〜10時間程度である。 The reaction time depends on the reaction temperature, the amount of the catalyst, and the like, but from the viewpoint of industrial production, a long reaction is not preferable because a large amount of energy is consumed. A reaction time that is too short means that the reaction is rapid, which is not preferable from the viewpoint of safety. A preferred range is about 1 to 48 hours, preferably 1 to 36 hours, more preferably 1 to 24 hours, and even more preferably about 2 to 10 hours.
反応終了後、触媒を用いた場合は、それぞれ中和、水洗、吸着などによって触媒の除去を行い、溶剤を留去することで目的とする多価カルボン酸が得られる。一方、無触媒で反応を行った場合は必要に応じて溶剤を留去することで目的とする多価カルボン酸が得られる。また、溶剤を使用した場合には、溶剤を除去することで目的とする多価カルボン酸が得られる。さらに無溶剤、無触媒の場合はそのまま取り出すことで目的とする多価カルボン酸が得られる。 When a catalyst is used after completion of the reaction, the catalyst is removed by neutralization, washing with water, adsorption or the like, and the solvent is distilled off to obtain the desired polycarboxylic acid. On the other hand, when the reaction is carried out without a catalyst, the objective polyvalent carboxylic acid can be obtained by removing the solvent as required. When a solvent is used, the objective polyvalent carboxylic acid can be obtained by removing the solvent. Further, in the case of no solvent and no catalyst, the target polyvalent carboxylic acid can be obtained by directly taking out the solvent.
最も好適な製造方法としては、前記酸無水物、前記多価アルコールを、無触媒の条件下、40〜150℃で反応させ、溶剤を除去したのち取り出すという手法である。 The most preferable production method is a method in which the acid anhydride and the polyhydric alcohol are reacted at 40 to 150 ° C. under non-catalytic conditions, the solvent is removed, and then the solution is removed.
このようにして得られる前記多価カルボン酸または該多価カルボン酸を含む混合物は、通常、無色〜淡黄色の固形の樹脂状を示す(場合によっては結晶化する)。該多価カルボン酸の軟化点は50〜190℃であることが好ましく、55〜150℃であることがより好ましく、60〜120℃であることが特に好ましい。このような軟化点を有する多価カルボン酸を液状とすることなく直接熱硬化性樹脂組成物中に混ぜることで、極めて高い反射率保持率を有することとなり、耐熱試験にかけた際にも反射率が低下し難い反射部材を提供することが可能となる。
通常、架橋基が、(a)で定義される側鎖を有するアルキレン基である場合、無色〜淡黄色の固形の樹脂状を示す。
本発明においては、このような多価カルボン酸を含む熱硬化性樹脂組成物を使用する最適な方法が、トランスファー成形であることから、多価カルボン酸は固形の樹脂状である。
架橋基が(b)で定義される架橋基の場合、脂肪族炭化水素基が炭素数4〜10のシクロアルカン骨格又はノルボルナン骨格であるとき、脂環式の置換基の全てが水素原子の多価カルボン酸は、硬化時の着色が見られ、特に厳しい光学用途には好適ではない。脂肪族炭化水素基が炭素数4〜10のシクロアルカン骨格又はノルボルナン骨格であるとき、置換基がメチル基またはカルボキシル基の化合物ではそのような着色は少なく、その光学特性が向上する。The polycarboxylic acid or the mixture containing the polycarboxylic acid thus obtained usually shows a colorless to pale yellow solid resinous state (crystallized in some cases). The softening point of the polycarboxylic acid is preferably from 50 to 190C, more preferably from 55 to 150C, and particularly preferably from 60 to 120C. By mixing a polycarboxylic acid having such a softening point directly into a thermosetting resin composition without making it into a liquid state, it will have an extremely high reflectance retention, and even when subjected to a heat resistance test, the reflectance will be high. It is possible to provide a reflection member that is difficult to reduce.
Usually, when the cross-linking group is an alkylene group having a side chain defined in (a), it shows a colorless to pale yellow solid resinous state.
In the present invention, since the most suitable method for using such a thermosetting resin composition containing a polycarboxylic acid is transfer molding, the polycarboxylic acid is a solid resin.
When the cross-linking group is the cross-linking group defined in (b), when the aliphatic hydrocarbon group has a cycloalkane skeleton or a norbornane skeleton having 4 to 10 carbon atoms, all of the alicyclic substituents have many hydrogen atoms. Polyvalent carboxylic acids are colored during curing and are not particularly suitable for severe optical applications. When the aliphatic hydrocarbon group has a cycloalkane skeleton or a norbornane skeleton having 4 to 10 carbon atoms, a compound having a methyl group or a carboxyl group as a substituent has less such coloring, and its optical properties are improved.
前記(a)で定義される架橋基の化合物においても、脂肪族炭化水素基が炭素数4〜10のシクロアルカン骨格又はノルボルナン骨格であるとき、置換基がメチル基またはカルボキシル基の化合物の場合の方が、光学特性が向上し、好ましい。
すなわち、このような多価カルボン酸混合物として、炭素数4〜10のシクロアルカン骨格又はノルボルナン骨格を有する多価カルボン酸を含むとき、置換基は好ましくはメチル基もしくはカルボキシル基、又は両者を有する式(22)の多価カルボン酸を含む混合物が好ましい。該多価カルボン酸を2種以上含む多価カルボン酸混合物の場合、少なくとも当該置換基が水素原子でない式(22)の多価カルボン酸(当該置換基が前記アルキル基、好ましくはメチル基、又はカルボキシル基の多価カルボン酸)を、多価カルボン酸の総量に対して、50モル%以上含む混合物が好ましい。より好ましくは、当該置換基が水素原子でない式(22)の多価カルボン酸を70モル%以上、最も好ましくは90モル%以上含む多価カルボン酸混合物が好ましい。残部が、R3が水素原子である下記式(2A)の多価カルボン酸である。
本発明の熱硬化性樹脂組成物において、本発明の多価カルボン酸以外の好適な多価カルボン酸としては、下記式(2A)で表される多価カルボン酸が用いられる。Also in the compound of the cross-linking group defined in the above (a), when the aliphatic hydrocarbon group is a cycloalkane skeleton or a norbornane skeleton having 4 to 10 carbon atoms, the compound in which the substituent is a methyl group or a carboxyl group is used. It is preferable to improve the optical characteristics.
That is, when such a polyvalent carboxylic acid mixture contains a polyvalent carboxylic acid having a cycloalkane skeleton or a norbornane skeleton having 4 to 10 carbon atoms, the substituent is preferably a methyl group or a carboxyl group, or a formula having both. A mixture containing the polyvalent carboxylic acid of (22) is preferred. In the case of a polycarboxylic acid mixture containing two or more kinds of the polycarboxylic acids, at least the polyvalent carboxylic acid of the formula (22) in which the substituent is not a hydrogen atom (the substituent is the alkyl group, preferably a methyl group, or A mixture containing at least 50 mol% of a polycarboxylic acid having a carboxyl group) based on the total amount of the polycarboxylic acid is preferable. More preferably, a polyvalent carboxylic acid mixture containing at least 70 mol%, most preferably at least 90 mol%, of a polycarboxylic acid of the formula (22) in which the substituent is not a hydrogen atom is preferred. The remainder is a polyvalent carboxylic acid of the following formula (2A) wherein R 3 is a hydrogen atom.
In the thermosetting resin composition of the present invention, as a suitable polycarboxylic acid other than the polycarboxylic acid of the present invention, a polycarboxylic acid represented by the following formula (2A) is used.
(上記式中、Pは上記と同じ意味を表し、R9は水素原子、炭素数1〜3のアルキル基またはカルボキシル基を表す。)
ここで、上記式(2A)においては、上記に記載の通りの理由により、R9が炭素数1〜3のアルキル基またはカルボキシル基を好適に使用できる。
末端カルボン酸オリゴエステルは、数平均分子量Mnが300以上である多価カルボン酸であることが好ましい。(In the above formula, P represents the same meaning as described above, and R 9 represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, or a carboxyl group.)
Here, in the above formula (2A), an alkyl group or a carboxyl group in which R 9 has 1 to 3 carbon atoms can be suitably used for the reasons described above.
The terminal carboxylic acid oligoester is preferably a polyvalent carboxylic acid having a number average molecular weight Mn of 300 or more.
さらに、本発明の熱硬化性樹脂組成物においては、上記式(1)で表される多価カルボン酸とトリメリット酸、無水トリメリット酸、シクロヘキサントリカルボン酸、およびシクロヘキサントリカルボン酸無水物、ピロメリット酸、水添ピロメリット酸、ピロメリット酸無水物、水添ピロメリット酸無水物、ヘキサヒドロ無水フタル酸、およびメチルヘキサヒドロ無水フタル酸から選ばれる1種または2種以上の化合物の混合物における官能基当量が250g/eq.以下であることが好ましく、240g/eq.以下であることがより好ましい。この範囲であることで、トリメリット酸、無水トリメリット酸、シクロヘキサントリカルボン酸、およびシクロヘキサントリカルボン酸無水物、ピロメリット酸、水添ピロメリット酸、ピロメリット酸無水物、水添ピロメリット酸無水物、ヘキサヒドロ無水フタル酸、およびメチルヘキサヒドロ無水フタル酸から選ばれる1種または2種以上の化合物の化合物量の効果が有効に発揮され、耐熱性に優れた硬化物を得ることが可能となる。 Furthermore, in the thermosetting resin composition of the present invention, the polycarboxylic acid represented by the above formula (1) and trimellitic acid, trimellitic anhydride, cyclohexanetricarboxylic acid, cyclohexanetricarboxylic anhydride, and pyromellitic Functional groups in a mixture of one or more compounds selected from acids, hydrogenated pyromellitic acid, pyromellitic anhydride, hydrogenated pyromellitic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, and methylhexahydrophthalic anhydride When the equivalent weight is 250 g / eq. And preferably 240 g / eq. It is more preferred that: By being in this range, trimellitic acid, trimellitic anhydride, cyclohexanetricarboxylic acid, and cyclohexanetricarboxylic anhydride, pyromellitic acid, hydrogenated pyromellitic acid, pyromellitic anhydride, hydrogenated pyromellitic anhydride , Hexahydrophthalic anhydride, and methylhexahydrophthalic anhydride, the effect of the amount of one or more compounds selected from the compounds is effectively exerted, and a cured product having excellent heat resistance can be obtained.
また、重量比としては、上記式(1)で表される多価カルボン酸:(トリメリット酸、無水トリメリット酸、シクロヘキサントリカルボン酸、およびシクロヘキサントリカルボン酸無水物、ピロメリット酸、水添ピロメリット酸、ピロメリット酸無水物、水添ピロメリット酸無水物、ヘキサヒドロ無水フタル酸、およびメチルヘキサヒドロ無水フタル酸から選ばれる1種または2種以上の化合物)が99:1〜10:90であることが好ましく、90:10〜20:80がより好ましく、80:20〜50:50であることが特に好ましい。上記比率にあることで、極めて耐熱性に優れるとともに、粘度も低く十分に混練することが可能となることから硬化物性にも優れる熱硬化性樹脂組成物となる。 The weight ratio of the polycarboxylic acid represented by the above formula (1): (trimellitic acid, trimellitic anhydride, cyclohexanetricarboxylic acid, and cyclohexanetricarboxylic anhydride, pyromellitic acid, hydrogenated pyromellitic Acid, pyromellitic anhydride, hydrogenated pyromellitic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, and one or more compounds selected from methylhexahydrophthalic anhydride) are 99: 1 to 10:90. It is preferably 90:10 to 20:80, and particularly preferably 80:20 to 50:50. When the ratio is in the above range, the thermosetting resin composition is extremely excellent in heat resistance, has a low viscosity and can be sufficiently kneaded, and thus has excellent cured physical properties.
また、上記式(1)で表される多価カルボン酸(A)及び、トリメリット酸、無水トリメリット酸、シクロヘキサントリカルボン酸、およびシクロヘキサントリカルボン酸無水物、ピロメリット酸、水添ピロメリット酸、ピロメリット酸無水物、水添ピロメリット酸無水物、ヘキサヒドロ無水フタル酸、およびメチルヘキサヒドロ無水フタル酸から選ばれる1種または2種以上の化合物とを含む熱硬化性樹脂用硬化剤を含む熱硬化性樹脂組成物において、トリメリット酸、無水トリメリット酸、シクロヘキサントリカルボン酸、シクロヘキサントリカルボン酸無水物、ピロメリット酸、水添ピロメリット酸、ピロメリット酸無水物、水添ピロメリット酸無水物、ヘキサヒドロ無水フタル酸、およびメチルヘキサヒドロ無水フタル酸から選ばれる1種または2種以上の化合物が、熱硬化性樹脂組成物の1重量%〜90重量%を占めることが好ましい。当該重量%であることで、混練性および成型性がより向上し、硬化物性にも優れる熱硬化性樹脂組成物となる。 Further, the polycarboxylic acid (A) represented by the above formula (1), trimellitic acid, trimellitic anhydride, cyclohexanetricarboxylic acid, and cyclohexanetricarboxylic anhydride, pyromellitic acid, hydrogenated pyromellitic acid, Heat containing a curing agent for a thermosetting resin containing one or more compounds selected from pyromellitic anhydride, hydrogenated pyromellitic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, and methylhexahydrophthalic anhydride In the curable resin composition, trimellitic acid, trimellitic anhydride, cyclohexanetricarboxylic acid, cyclohexanetricarboxylic anhydride, pyromellitic acid, hydrogenated pyromellitic acid, pyromellitic anhydride, hydrogenated pyromellitic anhydride, Selected from hexahydrophthalic anhydride and methylhexahydrophthalic anhydride One or more compound preferably accounts for 1% to 90% by weight of the thermosetting resin composition. By being the weight%, a kneading property and a moldability are further improved, and a thermosetting resin composition having excellent curing properties is obtained.
併用しうる硬化剤としては、例えばアミン系化合物、不飽和環構造を有する酸無水物系化合物、オルガノシロキサン骨格を有する酸無水物、アミド系化合物、フェノール系化合物、カルボン酸系化合物などが挙げられる。用いうる硬化剤の具体例としては、ジアミノジフェニルメタン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、ジアミノジフェニルスルホン、イソホロンジアミン、ジシアンジアミド、リノレン酸の2量体とエチレンジアミンより合成されるポリアミド樹脂、無水フタル酸、無水ピロメリット酸、無水マレイン酸、テトラヒドロ無水フタル酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、無水メチルナジック酸、無水ナジック酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、ブタンテトラカルボン酸無水物、ビシクロ[2.2.1]ヘプタン−2,3−ジカルボン酸無水物、メチルビシクロ[2.2.1]ヘプタン−2,3−ジカルボン酸無水物、ビスフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノールS、フルオレンビスフェノール、テルペンジフェノール、4,4’−ビフェノール、2,2’−ビフェノール、3,3’,5,5’−テトラメチル−[1,1’−ビフェニル]−4,4’−ジオール、ハイドロキノン、レゾルシン、ナフタレンジオール、トリス−(4−ヒドロキシフェニル)メタン、1,1,2,2−テトラキス(4−ヒドロキシフェニル)エタン、フェノール類(フェノール、アルキル置換フェノール、ナフトール、アルキル置換ナフトール、ジヒドロキシベンゼン、ジヒドロキシナフタレン等)とホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、ベンズアルデヒド、p−ヒドロキシベンズアルデヒド、o−ヒドロキシベンズアルデヒド、p−ヒドロキシアセトフェノン、o−ヒドロキシアセトフェノン、ジシクロペンタジエン、フルフラール、4,4’−ビス(クロロメチル)−1,1’−ビフェニル、4,4’−ビス(メトキシメチル)−1,1’−ビフェニル、1,4’−ビス(クロロメチル)ベンゼン、1,4’−ビス(メトキシメチル)ベンゼン等との重縮合物及びこれらの変性物、テトラブロモビスフェノールA等のハロゲン化ビスフェノール類、イミダゾール、トリフルオロボラン−アミン錯体、グアニジン誘導体、テルペンとフェノール類の縮合物などが挙げられるが、これらに限定されるものではない。これらは単独で用いてもよく、2種以上を用いてもよい。 Examples of the curing agent that can be used in combination include an amine compound, an acid anhydride compound having an unsaturated ring structure, an acid anhydride having an organosiloxane skeleton, an amide compound, a phenol compound, and a carboxylic acid compound. . Specific examples of the curing agent that can be used include diaminodiphenylmethane, diethylenetriamine, triethylenetetramine, diaminodiphenylsulfone, isophoronediamine, dicyandiamide, a polyamide resin synthesized from a dimer of linolenic acid and ethylenediamine, phthalic anhydride, and pyromeritic anhydride. Acid, maleic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, methyltetrahydrophthalic anhydride, methylnadic anhydride, nadic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, methylhexahydrophthalic anhydride, butanetetracarboxylic anhydride, bicyclo [2.2 .1] heptane-2,3-dicarboxylic anhydride, methylbicyclo [2.2.1] heptane-2,3-dicarboxylic anhydride, bisphenol A, bisphenol F, bisphenol S, fluorenebisulfate Knol, terpene diphenol, 4,4'-biphenol, 2,2'-biphenol, 3,3 ', 5,5'-tetramethyl- [1,1'-biphenyl] -4,4'-diol, hydroquinone , Resorcinol, naphthalene diol, tris- (4-hydroxyphenyl) methane, 1,1,2,2-tetrakis (4-hydroxyphenyl) ethane, phenols (phenol, alkyl-substituted phenol, naphthol, alkyl-substituted naphthol, dihydroxybenzene) , Dihydroxynaphthalene, etc.) and formaldehyde, acetaldehyde, benzaldehyde, p-hydroxybenzaldehyde, o-hydroxybenzaldehyde, p-hydroxyacetophenone, o-hydroxyacetophenone, dicyclopentadiene, furfural, 4,4 -Bis (chloromethyl) -1,1'-biphenyl, 4,4'-bis (methoxymethyl) -1,1'-biphenyl, 1,4'-bis (chloromethyl) benzene, 1,4'-bis Examples include polycondensates with (methoxymethyl) benzene and the like, modified products thereof, halogenated bisphenols such as tetrabromobisphenol A, imidazole, trifluoroborane-amine complexes, guanidine derivatives, condensates of terpenes and phenols, and the like. However, the present invention is not limited to these. These may be used alone or in combination of two or more.
本発明における熱硬化性樹脂組成物とは、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂等の熱硬化性樹脂等を含有する組成物であり、本発明においては、エポキシ樹脂を使用することが望ましい。 The thermosetting resin composition in the present invention is a composition containing a thermosetting resin such as an epoxy resin, a phenol resin, a urea resin, a melamine resin, and an unsaturated polyester resin, and in the present invention, the epoxy resin It is desirable to use
エポキシ樹脂としては、従来の熱硬化性樹脂組成物やエポキシ樹脂組成物として通常配合されているものであれば、特に制限されることなく用いることができる。例えば、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂をはじめとするフェノール類とアルデヒド類のノボラック樹脂をエポキシ化したもの、ビスフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノールS、アルキル置換ビスフェノール等のジグリシジルエーテル、ジアミノジフェニルメタン、イソシアヌル酸等のポリアミンとエピクロルヒドリンの反応により得られるグリシジルアミン型エポキシ樹脂、オレフィン結合を過酢酸等の過酸で酸化して得られる脂環式エポキシ樹脂、ジグリシジルイソシアヌレート、トリグリシジルイソシアヌレート、シルセスキオキサン化合物等が挙げられ、これらは単独でも二種以上併用してもよい。これらエポキシ樹脂のうち、高い耐熱性を有するものが好ましいことから、具体的には、溶融粘度、得られる硬化物の着色およびガラス転移温度等の観点から、グリシジルエーテル型エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、トリグリシジルイソシアヌレートが好ましい。 The epoxy resin can be used without any particular limitation as long as it is usually compounded as a conventional thermosetting resin composition or epoxy resin composition. For example, phenolized novolak type epoxy resin, epoxidized novolak resin of phenols and aldehydes including ortho-cresol novolak type epoxy resin, bisphenol A, bisphenol F, bisphenol S, diglycidyl ether such as alkyl-substituted bisphenol, Glycidylamine type epoxy resin obtained by reaction of polyamine such as diaminodiphenylmethane and isocyanuric acid with epichlorohydrin, alicyclic epoxy resin obtained by oxidizing olefin bond with peracid such as peracetic acid, diglycidyl isocyanurate, triglycidyl isocyanate Nurate, silsesquioxane compounds and the like can be mentioned, and these may be used alone or in combination of two or more. Among these epoxy resins, those having high heat resistance are preferable, and specifically, from the viewpoints of melt viscosity, coloring of the obtained cured product, glass transition temperature, etc., glycidyl ether type epoxy resin, alicyclic epoxy Resins and triglycidyl isocyanurate are preferred.
エポキシ樹脂と、本発明の多価カルボン酸(A)とトリメリット酸、無水トリメリット酸、シクロヘキサントリカルボン酸、およびシクロヘキサントリカルボン酸無水物、ピロメリット酸、水添ピロメリット酸、ピロメリット酸無水物、水添ピロメリット酸無水物、ヘキサヒドロ無水フタル酸、およびメチルヘキサヒドロ無水フタル酸から選ばれる1種または2種以上の化合物とを含む熱硬化性樹脂用硬化剤の配合比は、エポキシ樹脂中のエポキシ基1当量に対して、当該エポキシ基と反応可能な熱硬化性樹脂用硬化剤中の活性基(酸無水物基や水酸基)が0.5〜1.5当量(カルボン酸を1官能、酸無水物を1官能と考える)が好ましく、特に好ましくは0.5〜1.2当量である。エポキシ基1当量に対して、0.5当量に満たない場合、あるいは1.5当量を超える場合、いずれも硬化が不完全となり良好な硬化物性が得られない恐れがあるほか、着色しやすくなる問題もある。 Epoxy resin, polycarboxylic acid (A) of the present invention, trimellitic acid, trimellitic anhydride, cyclohexanetricarboxylic acid, and cyclohexanetricarboxylic anhydride, pyromellitic acid, hydrogenated pyromellitic acid, pyromellitic anhydride The compounding ratio of a curing agent for a thermosetting resin containing one or more compounds selected from hydrogenated pyromellitic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, and methylhexahydrophthalic anhydride is as follows: The active group (acid anhydride group or hydroxyl group) in the thermosetting resin curing agent capable of reacting with the epoxy group is 0.5 to 1.5 equivalent (1 equivalent of carboxylic acid is equivalent to 1 equivalent of epoxy group). , Acid anhydrides are considered to be monofunctional), and particularly preferably 0.5 to 1.2 equivalents. When the amount is less than 0.5 equivalent or more than 1.5 equivalents to 1 equivalent of the epoxy group, curing may be incomplete and good cured physical properties may not be obtained, and coloring may be easily performed. There are also problems.
本発明の硬化性樹脂組成物には、必要に応じて硬化促進剤を添加することができる。硬化促進剤としては、2−メチルイミダゾール、2−フェニルイミダゾール、2−ウンデシルイミダゾール、2−ヘプタデシルイミダゾール、2−フェニル−4−メチルイミダゾール、1−ベンジル−2−フェニルイミダゾール、1−ベンジル−2−メチルイミダゾール、1−シアノエチル−2−メチルイミダゾール、1−シアノエチル−2−フェニルイミダゾール、1−シアノエチル−2−ウンデシルイミダゾール、2,4−ジアミノ−6(2’−メチルイミダゾール(1’))エチル−s−トリアジン、2,4−ジアミノ−6(2’−ウンデシルイミダゾール(1’))エチル−s−トリアジン、2,4−ジアミノ−6(2’−エチル,4−メチルイミダゾール(1’))エチル−s−トリアジン、2,4−ジアミノ−6(2’−メチルイミダゾール(1’))エチル−s−トリアジン・イソシアヌル酸付加物、2−メチルイミダゾールイソシアヌル酸の2:3付加物、2−フェニルイミダゾールイソシアヌル酸付加物、2−フェニル−3,5−ジヒドロキシメチルイミダゾール、2−フェニル−4−ヒドロキシメチル−5−メチルイミダゾール、1−シアノエチル−2−フェニル−3,5−ジシアノエトキシメチルイミダゾールの各種イミダゾール類、及び、それらイミダゾール類とフタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、トリメリット酸、ピロメリット酸、ナフタレンジカルボン酸、マレイン酸、蓚酸等の多価カルボン酸との塩類、ジシアンジアミド等のアミド類、1,8−ジアザ−ビシクロ[5.4.0]ウンデセン−7等のジアザ化合物及びそれらのテトラフェニルボレート、フェノールノボラック等の塩類、前記多価カルボン酸類、又はホスフィン酸類との塩類、テトラブチルアンモニウムブロマイド、セチルトリメチルアンモニウムブロマイド、トリオクチルメチルアンモニウムブロマイド、ヘキサデシルトリメチルアンモニウムヒドロキシド等の4級アンモニウム塩(好ましくはC1〜C20アルキルアンモニウム塩、トリフェニルホスフィン、トリ(トルイル)ホスフィン、テトラフェニルホスホニウムブロマイド、テトラフェニルホスホニウムテトラフェニルボレート等のホスフィン類やホスホニウム化合物、2,4,6−トリスアミノメチルフェノール等のフェノール類、アミンアダクト、オクチル酸スズ、オクタン酸亜鉛、ステアリン酸亜鉛、ナフテン酸銅、ナフテン酸コバルト等の金属化合物等、及びこれら硬化促進剤をマイクロカプセルにしたマイクロカプセル型硬化促進剤等が挙げられる。これら硬化促進剤のどれを用いるかは、例えば透明性、硬化速度、作業条件といった得られる透明樹脂組成物に要求される特性によって適宜選択される。本発明において好ましいものとしては、ホスホニウム化合物(より好ましくは4級ホスホニウム)またはステアリン酸亜鉛が挙げられる。市場から入手可能な4級ホスホニウムの製品例としては、PX−4ET、PX−4MP(いずれも日本化学工業株式会社製)等が挙げられる。
硬化促進剤は、エポキシ樹脂100重量部に対し通常0.001〜15重量部、好ましくは0.01〜5重量部の範囲で使用される。A curing accelerator can be added to the curable resin composition of the present invention as needed. As the curing accelerator, 2-methylimidazole, 2-phenylimidazole, 2-undecylimidazole, 2-heptadecylimidazole, 2-phenyl-4-methylimidazole, 1-benzyl-2-phenylimidazole, 1-benzyl- 2-methylimidazole, 1-cyanoethyl-2-methylimidazole, 1-cyanoethyl-2-phenylimidazole, 1-cyanoethyl-2-undecylimidazole, 2,4-diamino-6 (2′-methylimidazole (1 ′) ) Ethyl-s-triazine, 2,4-diamino-6 (2′-undecylimidazole (1 ′)) ethyl-s-triazine, 2,4-diamino-6 (2′-ethyl, 4-methylimidazole ( 1 ′)) Ethyl-s-triazine, 2,4-diamino-6 (2′-methylimidazo (1 ′)) ethyl-s-triazine isocyanuric acid adduct, 2-methylimidazole isocyanuric acid 2: 3 adduct, 2-phenylimidazole isocyanuric acid adduct, 2-phenyl-3,5-dihydroxymethylimidazole , 2-phenyl-4-hydroxymethyl-5-methylimidazole, 1-cyanoethyl-2-phenyl-3,5-dicyanoethoxymethylimidazole, various imidazoles, and those imidazoles and phthalic acid, isophthalic acid, terephthalic acid , Salts with polycarboxylic acids such as trimellitic acid, pyromellitic acid, naphthalenedicarboxylic acid, maleic acid and oxalic acid, amides such as dicyandiamide, and 1,8-diaza-bicyclo [5.4.0] undecene-7. Diaza compounds such as tetraphenylborate, Salts such as enol novolak, salts with the above-mentioned polycarboxylic acids or phosphinic acids, quaternary ammonium salts such as tetrabutylammonium bromide, cetyltrimethylammonium bromide, trioctylmethylammonium bromide, hexadecyltrimethylammonium hydroxide (preferably C1-C20 alkylammonium salts, phosphines such as triphenylphosphine, tri (tolyl) phosphine, tetraphenylphosphonium bromide, tetraphenylphosphonium tetraphenylborate and the like; phosphonium compounds; phenols such as 2,4,6-trisaminomethylphenol , Amine adducts, metal compounds such as tin octylate, zinc octoate, zinc stearate, copper naphthenate, cobalt naphthenate, and the like, and Microcapsule type curing accelerator or the like of these curing accelerators to the microcapsules and the like. Which one of these curing accelerators is used is appropriately selected depending on characteristics required for the obtained transparent resin composition, such as transparency, curing speed, and working conditions. Preferred in the present invention are a phosphonium compound (more preferably a quaternary phosphonium) or zinc stearate. Examples of quaternary phosphonium products available from the market include PX-4ET and PX-4MP (all manufactured by Nippon Chemical Industry Co., Ltd.).
The curing accelerator is used in an amount of usually 0.001 to 15 parts by weight, preferably 0.01 to 5 parts by weight, based on 100 parts by weight of the epoxy resin.
必要に応じて、上述した添加剤以外の添加剤として、一般によく使用されるエポキシ樹脂用添加剤、例えば、染料、蛍光増白剤、補強材、充填剤、白色顔料またはその他の顔料、核剤、界面活性剤、可塑剤、粘度調整剤、流動性調整剤、難燃剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤を添加してもよい。 If necessary, as additives other than the above-mentioned additives, commonly used additives for epoxy resins, for example, dyes, optical brighteners, reinforcing materials, fillers, white pigments or other pigments, nucleating agents , A surfactant, a plasticizer, a viscosity modifier, a fluidity modifier, a flame retardant, an antioxidant, an ultraviolet absorber, and a light stabilizer.
上述した充填剤としては、結晶シリカ、溶融シリカ、酸化アンチモン、酸化チタン、酸化マグネシウム、酸化ジルコニウム、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、アルミナ等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。これらは単独で用いてもよく、2種以上を用いてもよい。
無機充填剤の配合量は、硬化性樹脂組成物の合計量100重量部に対して、1〜1000重量部であることが好ましく、1〜800重量部であることがより好ましい。Examples of the above-mentioned filler include, but are not limited to, crystalline silica, fused silica, antimony oxide, titanium oxide, magnesium oxide, zirconium oxide, aluminum hydroxide, magnesium hydroxide, and alumina. These may be used alone or in combination of two or more.
The compounding amount of the inorganic filler is preferably from 1 to 1,000 parts by weight, more preferably from 1 to 800 parts by weight, based on 100 parts by weight of the total amount of the curable resin composition.
上述した白色顔料としては、特に限定されないが、例えば、アルミナ、酸化マグネシウム、酸化アンチモン、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、塩基性炭酸亜鉛、カオリン、炭酸カルシウム等を用いることができる。なお、白色顔料は中空粒子であってもよい。また、白色顔料に対して、ケイ素化合物、アルミニウム化合物、有機物等で適宜表面処理をしてもよい。これらは単独でも2種以上を併用しても構わない。また、上記白色顔料の平均粒径は、0.01〜50μmの範囲にあることが好ましい。0.01μm未満であると粒子が凝集しやすく分散性が悪くなる傾向にあり、50μmを超えると硬化物の反射特性が十分に得られない傾向にある。上記平均粒径は、例えば、レーザー回折散乱式粒度分布計を用いて測定することができる。本発明においては酸化チタン、特に二酸化チタンの粉末を使用することが好ましい。白色度、光反射性、および隠蔽力が高く、分散性安定性に優れ、入手が容易なためである。酸化チタンの結晶形は特に限定されず、ルチル型であってもよいし、アナターゼ型であってもよいし、両者が混在していてもよいが、アナターゼ型は光触媒機能を有するため樹脂を劣化させる懸念があるので、本発明においてはルチル型が好ましい。例えば市場から入手可能な製品では、CR−95(石原産業(株)製酸化チタン)等が挙げられる。
また、白色顔料の含有量は、樹脂組成物全体に対して、10重量%〜95重量%、より好ましくは50〜95%の範囲である。合計含有量が10重量%未満であると硬化物の光反射特性が十分得られない傾向にあり、95重量%を超えると樹脂組成物の成型性が悪くなり、基板の作製が困難となる傾向にある。The above-mentioned white pigment is not particularly limited, but for example, alumina, magnesium oxide, antimony oxide, titanium oxide, zirconium oxide, zinc oxide, basic zinc carbonate, kaolin, calcium carbonate and the like can be used. The white pigment may be a hollow particle. The white pigment may be appropriately surface-treated with a silicon compound, an aluminum compound, an organic substance, or the like. These may be used alone or in combination of two or more. The average particle size of the white pigment is preferably in the range of 0.01 to 50 μm. If it is less than 0.01 μm, the particles tend to agglomerate and the dispersibility tends to be poor. If it exceeds 50 μm, the cured product tends to have insufficient reflection characteristics. The average particle diameter can be measured, for example, using a laser diffraction / scattering particle size distribution meter. In the present invention, it is preferable to use a powder of titanium oxide, particularly titanium dioxide. This is because whiteness, light reflectivity, and hiding power are high, the dispersibility is excellent in stability, and it is easy to obtain. The crystal form of titanium oxide is not particularly limited, and may be a rutile type, an anatase type, or a mixture of both, but the anatase type has a photocatalytic function and deteriorates the resin. Therefore, in the present invention, the rutile type is preferable. For example, a commercially available product includes CR-95 (titanium oxide manufactured by Ishihara Sangyo Co., Ltd.).
The content of the white pigment is in the range of 10% by weight to 95% by weight, more preferably 50% to 95%, based on the entire resin composition. If the total content is less than 10% by weight, the light reflection properties of the cured product tend not to be sufficiently obtained. If the total content exceeds 95% by weight, the moldability of the resin composition becomes poor, and the production of the substrate tends to be difficult. It is in.
成形時の高温条件下における熱硬化性樹脂用硬化剤の溶融粘度が、従来の酸無水物硬化剤等より高いことが望ましく、具体的には、成型温度領域である100℃〜200℃で0.01Pa・s〜10Pa・sにすることが望ましい。0.01Pa・sより小さいと、バリが生じやすい。一方、10Pa・sより大きいと生産性が低下する。
本実施形態においては、150℃における熱硬化性樹脂用硬化剤のICI粘度が0.01Pa・s〜10Pa・sであることが好ましく、0.05Pa・s〜5Pa・sであることがより好ましい。It is desirable that the melt viscosity of the curing agent for a thermosetting resin under high temperature conditions during molding be higher than that of a conventional acid anhydride curing agent and the like. It is desirably 0.01 Pa · s to 10 Pa · s. If it is smaller than 0.01 Pa · s, burrs are likely to occur. On the other hand, if it is larger than 10 Pa · s, the productivity is reduced.
In the present embodiment, the ICI viscosity of the thermosetting resin curing agent at 150 ° C. is preferably 0.01 Pa · s to 10 Pa · s, more preferably 0.05 Pa · s to 5 Pa · s. .
軟化点は20℃〜150℃の範囲にあることが望ましい。より具体的には、30℃〜130℃の範囲にあることが好ましく、40℃〜120℃の範囲にあることがより好ましい。 The softening point is desirably in the range of 20C to 150C. More specifically, it is preferably in the range of 30C to 130C, more preferably in the range of 40C to 120C.
硬化物のガラス転移温度は、成形温度よりも高いことが望ましい。硬化物のガラス転移温度が成形温度以下であると、金型の中にある硬化物は低弾性のゴム状態であるため、ゴム状硬化物を金型から取り出すことになり、イジェクターを押し込む際に、変形するなどして不具合が生じるおそれがある。具体的には、ガラス転移温度は30℃以上であることが好ましく、40℃以上であることがより好ましく、50℃以上であることがさらに好ましい。
ここで、本願発明において、硬化物のガラス転移温度は、150℃以下が好ましく、140℃以下がより好ましい。It is desirable that the glass transition temperature of the cured product is higher than the molding temperature. If the glass transition temperature of the cured product is below the molding temperature, the cured product in the mold is in a low-elastic rubber state, so the rubber-like cured product must be removed from the mold, and when the ejector is pushed in, There is a possibility that a defect may occur due to deformation. Specifically, the glass transition temperature is preferably 30 ° C. or higher, more preferably 40 ° C. or higher, and further preferably 50 ° C. or higher.
Here, in the present invention, the glass transition temperature of the cured product is preferably 150 ° C. or lower, more preferably 140 ° C. or lower.
本発明の熱硬化性樹脂組成物は、上記した各種成分を均一に分散混合することで得られる。その方法については特に限定されないが、各種成分をミキサー等によって十分均一に撹拌、混合した後、ミキシングロール、押出機、ニーダー、ロール、エクストルーダー等によって混練または溶融混練し、冷却、粉砕する方法を挙げることができる。混練または溶融混練の条件は、成分の種類や配合量により決定すればよく、特に限定されないが、20〜100℃の範囲で5〜40分間混練することがより好ましい。混練温度が20℃未満であると、各成分の分散性が低下し、十分に混練させることが困難であり、100℃よりも高温であると、樹脂組成物の架橋反応が進行し、樹脂組成物が硬化してしまう恐れがある。 The thermosetting resin composition of the present invention can be obtained by uniformly dispersing and mixing the various components described above. Although there is no particular limitation on the method, a method in which various components are sufficiently uniformly stirred and mixed by a mixer or the like, and then kneaded or melt-kneaded by a mixing roll, an extruder, a kneader, a roll, an extruder, etc., and then cooled and pulverized. Can be mentioned. The conditions for kneading or melt-kneading may be determined according to the types and amounts of the components, and are not particularly limited, but it is more preferable to knead the mixture in a range of 20 to 100 ° C. for 5 to 40 minutes. If the kneading temperature is lower than 20 ° C., the dispersibility of each component is reduced, and it is difficult to sufficiently knead. If the kneading temperature is higher than 100 ° C., the crosslinking reaction of the resin composition proceeds, There is a risk that the object will be cured.
本発明の熱硬化性樹脂組成物は、加熱成型前、0〜30℃の室温において加圧(タブレット)成型可能であることが望ましい。加圧成型は、例えば、0.01〜10MPa、1〜5秒程度の条件下で行う方法が挙げられる。また、加圧(タブレット)成型時に用いる金型は、特に限定されないが、例えば、セラミックス系材料やフッ素系樹脂材料等からなる杵型(上金型)と臼型(下金型)とで構成されるものを用いることが好ましい。 It is desirable that the thermosetting resin composition of the present invention can be pressurized (tablet) molded at room temperature of 0 to 30 ° C. before heat molding. The pressure molding may be performed, for example, under a condition of 0.01 to 10 MPa for about 1 to 5 seconds. The mold used for pressurizing (tablet) molding is not particularly limited, and includes, for example, a punch (upper mold) and a die (lower mold) made of a ceramic material or a fluorine resin material. It is preferable to use one that is used.
本発明の熱硬化性樹脂組成物は、高いガラス転移温度および高い透過率を必要とする光半導体封止材料、光半導体用反射材などの用途において有用である。 INDUSTRIAL APPLICABILITY The thermosetting resin composition of the present invention is useful in applications such as optical semiconductor encapsulating materials and optical semiconductor reflectors that require a high glass transition temperature and high transmittance.
光反射用として使用する場合において、製造方法は特に限定されないが、例えば、本発明の熱硬化性樹脂組成物をトランスファー成型によって製造することが好ましい。本発明の熱硬化性樹脂組成物を金型に注入し、例えば、金型温度150〜190℃、成形圧力2〜20MPaの条件下で、60〜800秒間硬化させた後に金型から取り出し、アフターキュア温度150℃〜180℃で1〜3時間にわたって熱硬化させる。 When used for light reflection, the production method is not particularly limited. For example, it is preferable to produce the thermosetting resin composition of the present invention by transfer molding. The thermosetting resin composition of the present invention is poured into a mold, and is cured, for example, at a mold temperature of 150 to 190 ° C. and a molding pressure of 2 to 20 MPa for 60 to 800 seconds. Thermal curing at a curing temperature of 150 ° C. to 180 ° C. for 1 to 3 hours.
本発明の光半導体装置は、代表的な構造について具体例を例示すると、国際公開第2012/124147号に記載の通り、基板上に円筒状の中空部を有する光反射防止部材を配置し、円筒状の中空部の内部空間において基板上に光半導体素子を配置する。そして、光半導体素子の一端部と基板をワイヤーで繋げ、上記中空部に封止樹脂が封入された構成を有している。 In the optical semiconductor device of the present invention, as a specific example of a typical structure, as described in WO2012 / 124147, a light reflection preventing member having a cylindrical hollow portion is arranged on a substrate, The optical semiconductor element is arranged on the substrate in the internal space of the hollow part. Then, one end of the optical semiconductor element and the substrate are connected by a wire, and a sealing resin is sealed in the hollow portion.
本明細書において、比率、パーセント、部、重量などは、特に断りのない限り、質量に基づくものである。本明細書において、「X〜Y」という表現は、XからYまでの範囲を示し、その範囲はX、Yを含む。 In this specification, ratios, percentages, parts, weights, and the like are based on mass unless otherwise specified. In this specification, the expression “X to Y” indicates a range from X to Y, and the range includes X and Y.
以下、本発明を合成例、実施例により更に詳細に説明する。尚、本発明はこれら合成例、実施例に限定されるものではない。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Synthesis Examples and Examples. Note that the present invention is not limited to these synthesis examples and examples.
−前記式(1)中のR6が、R2aがメチル基である式(8)で表されるカルボキシル基を含む有機基である多価カルボン酸(A)を、液状の多価カルボン酸組成物(C)として実施した例−
合成例、実施例中の各物性値は以下の方法で測定した。ここで、部は特に断りのない限り質量部を表す。A polycarboxylic acid (A) in which R 6 in the formula (1) is an organic group containing a carboxyl group represented by the formula (8) in which R 2a is a methyl group, and a liquid polycarboxylic acid; Example implemented as composition (C)-
Each physical property value in Synthesis Examples and Examples was measured by the following methods. Here, parts are parts by mass unless otherwise specified.
○GPC:GPCは下記条件にて測定した。
GPCの各種条件
メーカー:ウォーターズ
カラム:SHODEX GPC LF−G(ガードカラム)、KF−603、KF−602.5、KF−602、KF−601(2本)
流速:0.4ml/min.
カラム温度:40℃
使用溶剤:THF(テトラヒドロフラン)
検出器:RI(示差屈折検出器)GPC: GPC was measured under the following conditions.
Various conditions of GPC Manufacturer: Waters column: SHOdex GPC LF-G (guard column), KF-603, KF-602.5, KF-602, KF-601 (2 pieces)
Flow rate: 0.4 ml / min.
Column temperature: 40 ° C
Solvent used: THF (tetrahydrofuran)
Detector: RI (differential refraction detector)
○酸価:以下の方法により測定した。
サンプルを約0.15g秤量し、メチルエチルケトン20ml、エタノール20mlで溶解したのち、京都電子工業製滴定装置AT−610を使用し、0.1Nの水酸化ナトリウム溶液を用いて滴定し、酸価を測定した。
○官能基当量:以下の方法により測定した。
多価カルボン酸組成物を約0.15g秤量し、メタノール(試薬特級)40mlで溶解したのち、20〜28℃で10分間撹拌し、測定サンプルとした。測定サンプルを、京都電子工業製滴定装置AT−610を使用し、0.1Nの水酸化ナトリウム溶液を用いて滴定し、酸価として得られた値を官能基当量として算出た。O Acid value: Measured by the following method.
About 0.15 g of a sample is weighed, dissolved in 20 ml of methyl ethyl ketone and 20 ml of ethanol, and then titrated with a 0.1N sodium hydroxide solution using a titrator AT-610 manufactured by Kyoto Denshi Kogyo to measure the acid value. did.
○ Functional group equivalent: measured by the following method.
About 0.15 g of the polyvalent carboxylic acid composition was weighed and dissolved in 40 ml of methanol (special grade reagent), followed by stirring at 20 to 28 ° C. for 10 minutes to obtain a measurement sample. The measurement sample was titrated using a 0.1N sodium hydroxide solution using a titrator AT-610 manufactured by Kyoto Electronics Manufacturing Co., Ltd., and the value obtained as the acid value was calculated as the functional group equivalent.
○DSCを用いた融点:
JIS K7121に記載の方法で測定し、融解ピークの頂点を融点とした。
○粘度:東機産業株式会社製E型粘度計(TV−20)を用い、25℃で測定した。
○熱重量減少:島津製作所製TG/DTA6200を用い、30℃から20℃/minで昇温させ、120℃まで加熱し、120℃で60分保持した後の重量減少率を測定した。測定中、200ml/min.で空気を流した。○ Melting point using DSC:
It was measured by the method described in JIS K7121, and the apex of the melting peak was defined as the melting point.
○ Viscosity: Measured at 25 ° C. using an E-type viscometer (TV-20) manufactured by Toki Sangyo Co., Ltd.
○ Thermal weight loss: Using TG / DTA6200 manufactured by Shimadzu Corporation, the temperature was raised from 30 ° C. at 20 ° C./min, heated to 120 ° C., and maintained at 120 ° C. for 60 minutes, and the weight loss rate was measured. During the measurement, 200 ml / min. Bleed air.
実施例1;多価カルボン酸(A−1)の製造
ガラス製500mlセパラブルフラスコに、窒素パージを施しながらイソシアヌル酸トリス(2−ヒドロキシエチル)26.1g、リカシッドMH−T(四国化成工業製 4−メチルヘキサヒドロフタル酸)52.1g、トルエン70gを仕込み、ジムロートコンデンサ、撹拌装置、温度計を設置し、オイルバスにフラスコを浸した。オイルバスを加熱し、内温を115℃に保ち、そのまま7時間反応させた。
得られた反応液を100℃で減圧濃縮し、トルエンを留去することで、下記式(23)を主成分とする多価カルボン酸(A−1)を71.5g得た。得られた化合物のGPC純度(GPC面積%)は92%、酸価は203.4mgKOH/g、外観は白色の固体であった。また、DSCを用いた融点(ピーク頂点値)は57.0℃、熱重量減少は−3.4%であった。得られた化合物のGPCチャートを図1に示す。Example 1: Production of polycarboxylic acid (A-1) 26.1 g of tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate and Rikacid MH-T (manufactured by Shikoku Chemicals Co., Ltd.) were applied to a 500-ml separable flask made of glass while performing a nitrogen purge. 52.1 g of 4-methylhexahydrophthalic acid) and 70 g of toluene were charged, a Dimroth condenser, a stirrer, and a thermometer were installed, and the flask was immersed in an oil bath. The oil bath was heated, the internal temperature was kept at 115 ° C., and the reaction was allowed to proceed for 7 hours.
The obtained reaction solution was concentrated under reduced pressure at 100 ° C., and toluene was distilled off to obtain 71.5 g of a polycarboxylic acid (A-1) having the following formula (23) as a main component. The GPC purity (GPC area%) of the obtained compound was 92%, the acid value was 203.4 mgKOH / g, and the appearance was a white solid. The melting point (peak peak value) using DSC was 57.0 ° C, and the thermal weight loss was -3.4%. FIG. 1 shows a GPC chart of the obtained compound.
実施例2;多価カルボン酸組成物(C−1)の製造
ガラス製500mlセパラブルフラスコに、窒素パージを施しながらイソシアヌル酸トリス(2−ヒドロキシエチル)26.1g、リカシッドMH−T(四国化成工業製 4−メチルヘキサヒドロフタル酸無水物)123.4gを仕込み、ジムロートコンデンサ、撹拌装置、温度計を設置し、オイルバスにフラスコを浸した。オイルバスを加熱し、内温を78℃に保ち、そのまま4時間反応させた。GPCでイソシアヌル酸トリス(2−ヒドロキシエチル)のピーク1面積%以下を確認し、多価カルボン酸とカルボン酸無水物化合物の混合物である多価カルボン酸組成物(C−1)147gが得られた。得られた混合物は無色透明の液状であり、GPCによる純度は前記式(23)で表される多価カルボン酸(A−1)が59.5面積%、下記式(24)で表される4−メチルヘキサヒドロフタル酸が1.3面積%、4−メチルヘキサヒドロフタル酸無水物が39.3面積%であった。また官能基当量は206g/eq、粘度は32154mPa・s、熱重量減少は−20.8%であった。Example 2 Production of Polyvalent Carboxylic Acid Composition (C-1) 26.1 g of tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate and Rikacid MH-T (Shikoku Chemicals) were applied to a glass 500 ml separable flask while purging with nitrogen. 123.4 g of industrial 4-methylhexahydrophthalic anhydride) was charged, a Dimroth condenser, a stirrer, and a thermometer were installed, and the flask was immersed in an oil bath. The oil bath was heated, the internal temperature was kept at 78 ° C, and the reaction was allowed to proceed for 4 hours. By GPC, a peak of 1% by area or less of tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate was confirmed, and 147 g of a polycarboxylic acid composition (C-1) which was a mixture of a polycarboxylic acid and a carboxylic anhydride compound was obtained. Was. The obtained mixture is a colorless and transparent liquid, and the purity by GPC is 59.5 area% of the polyvalent carboxylic acid (A-1) represented by the above formula (23), and is represented by the following formula (24). 4-methylhexahydrophthalic acid was 1.3 area% and 4-methylhexahydrophthalic anhydride was 39.3 area%. The functional group equivalent was 206 g / eq, the viscosity was 32154 mPa · s, and the thermal weight loss was -20.8%.
実施例3;多価カルボン酸組成物(C−2)の製造
ポリプロピレン製容器に、実施例2で得られた多価カルボン酸組成物(C−1)20g、リカシッドMH−T(四国化成工業製 4−メチルヘキサヒドロフタル酸)6.67gを仕込み、薬匙で混合することにより、多価カルボン酸組成物(C−2)が26.6g得られた。得られた混合物は無色透明の液状であり、GPCによる純度は多価カルボン酸(前記式(23)で表される(A−1))が46.2面積%、4−メチルヘキサヒドロフタル酸(前記式(24))が3.9面積%、4−メチルヘキサヒドロフタル酸無水物が49.9面積%であった。また官能基当量は187g/eq、粘度は24678mPa・s、熱重量減少は−31.7%であった。Example 3 Production of Polyvalent Carboxylic Acid Composition (C-2) In a polypropylene container, 20 g of the polyvalent carboxylic acid composition (C-1) obtained in Example 2 and RIKACID MH-T (Shikoku Chemical Industry) 6.67 g of 4-methylhexahydrophthalic acid (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) was charged and mixed with a spoon to obtain 26.6 g of a polyvalent carboxylic acid composition (C-2). The obtained mixture was a colorless and transparent liquid, and the purity by GPC was 46.2 area% of polycarboxylic acid ((A-1) represented by the formula (23)), 4-methylhexahydrophthalic acid (Formula (24)) was 3.9 area%, and 4-methylhexahydrophthalic anhydride was 49.9 area%. Further, the functional group equivalent was 187 g / eq, the viscosity was 24678 mPa · s, and the thermal weight loss was -31.7%.
実施例4;多価カルボン酸組成物(C−3)の製造
ガラス製50mlビンに、製造例1で得られた多価カルボン酸(A−1)3g、リカシッドMH−T(四国化成工業製 4−メチルヘキサヒドロフタル酸)7gを仕込み、80℃に加温したオーブンに入れ加温した。2時間後に取り出し薬匙で良く混合後、さらに2時間加温し多価カルボン酸組成物(C−3)10gを得た。得られた多価カルボン酸組成物(C−3)は無色透明の液状であり、GPCによる純度は多価カルボン酸(前記式(23)で表される(A−1))が34.3面積%、4−メチルヘキサヒドロフタル酸が2.6面積%、4−メチルヘキサヒドロフタル酸無水物が63.1面積%であった。また官能基当量は187g/eq、粘度は1884mPa・s、熱重量減少は−28.2%であった。Example 4: Production of polyvalent carboxylic acid composition (C-3) In a 50 ml glass bottle, 3 g of the polyvalent carboxylic acid (A-1) obtained in Production Example 1 and RIKACID MH-T (manufactured by Shikoku Chemicals) 7 g of 4-methylhexahydrophthalic acid) was charged, and the mixture was heated in an oven heated to 80 ° C. Two hours later, the mixture was taken out, mixed well with a spoon, and further heated for 2 hours to obtain 10 g of a polyvalent carboxylic acid composition (C-3). The obtained polyvalent carboxylic acid composition (C-3) is a colorless and transparent liquid, and the purity by GPC is 34.3 for a polyvalent carboxylic acid ((A-1) represented by the formula (23)). Area%, 4-methylhexahydrophthalic acid was 2.6 area%, and 4-methylhexahydrophthalic anhydride was 63.1 area%. The functional group equivalent was 187 g / eq, the viscosity was 1,884 mPa · s, and the thermal weight loss was −28.2%.
比較例1;イソシアヌル酸骨格を有する多価カルボン酸のカルボン酸無水物化合物への溶解試験
ガラス製50mlビンに、下記式(25)で表されるイソシアヌル酸トリス(3−カルボキシプロピル)3g、リカシッドMH−T(四国化成工業製 4−メチルヘキサヒドロフタル酸)7gを仕込み、80℃に加温したオーブンに入れ加温した。2時間後に取り出し薬匙で良く混合後、ガラスビンに回転子を入れ、90℃に加温したマグネチックスターラー上で5時間撹拌しながら加温したが、イソシアヌル酸トリス(3−カルボキシプロピル)はリカシッドMH−Tには溶解しなかった。撹拌を止めて室温(25℃)環境下で15時間後に確認したところ、イソシアヌル酸トリス(3−カルボキシプロピル)が沈殿していた。Comparative Example 1: Dissolution test of polyvalent carboxylic acid having isocyanuric acid skeleton in carboxylic anhydride compound In a 50 ml glass bottle, 3 g of tris (3-carboxypropyl) isocyanurate represented by the following formula (25), licaside 7 g of MH-T (4-methylhexahydrophthalic acid manufactured by Shikoku Kasei Kogyo Co., Ltd.) was charged, and the mixture was heated in an oven heated to 80 ° C. After 2 hours, take out and mix well with a medicine spoon, put the rotor in a glass bottle, and heat with stirring on a magnetic stirrer heated to 90 ° C for 5 hours, but tris (3-carboxypropyl) isocyanurate is recyacid It did not dissolve in MH-T. When the stirring was stopped and it was confirmed after 15 hours in a room temperature (25 ° C.) environment, tris (3-carboxypropyl) isocyanurate was precipitated.
(評価試験)
実施例1で得られた多価カルボン酸、実施例2〜4、比較例1で得られた多価カルボン酸組成物、比較例Aとして4−メチルヘキサヒドロフタル酸無水物(新日本理化社製、リカシッドMH−T)の、各成分の含有量、酸価又は官能基当量、粘度、熱重量減少の測定結果を表1にまとめた。(Evaluation test)
The polyvalent carboxylic acid obtained in Example 1, the polyvalent carboxylic acid composition obtained in Examples 2 to 4 and Comparative Example 1, and 4-methylhexahydrophthalic anhydride as Comparative Example A (Shin Nippon Chemical Co., Ltd.) Table 1 summarizes the measurement results of the content, acid value or functional group equivalent, viscosity, and thermogravimetric loss of each component of Ricasid MH-T).
*GPCチャートの面積%のデータであることを表す。 * Indicates that the data is the area% data of the GPC chart.
表1の結果から明らかなように、多価カルボン酸(A−1)および多価カルボン酸(A−1)を含有する多価カルボン酸組成物(C−1〜C−3)は加熱時の重量減少が少ないのに対し、比較例Aの4−メチルヘキサヒドロフタル酸無水物は重量減少が大きい。また比較例1は白濁液体となり、放置することで沈殿が確認されたが、多価カルボン酸組成物(C−1〜C−3)は無色透明液体であるため、特に液状で使用されることが求められる用途での使用に適している。 As is clear from the results in Table 1, the polycarboxylic acid (A-1) and the polycarboxylic acid composition (C-1 to C-3) containing the polycarboxylic acid (A-1) were not heated. Is small, whereas the weight loss of 4-methylhexahydrophthalic anhydride of Comparative Example A is large. In Comparative Example 1, a cloudy liquid was formed, and precipitation was confirmed upon standing. However, since the polyvalent carboxylic acid compositions (C-1 to C-3) were colorless and transparent liquids, they were used in a liquid state. It is suitable for use in applications where is required.
実施例5;エポキシ樹脂組成物の調製
実施例2で得られた多価カルボン酸組成物(C−1)、エポキシ樹脂として3’,4’−エポキシシクロヘキシルメチル 3,4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート((株)ダイセル製、CEL2021P)、硬化促進剤としてオクチル酸亜鉛を、下記表2に記載の量比でポリプロピレン製容器に入れ、混合、5分間脱泡を行い、本発明のエポキシ樹脂組成物を得た。Example 5: Preparation of epoxy resin composition The polyvalent carboxylic acid composition (C-1) obtained in Example 2, 3 ', 4'-
実施例6;エポキシ樹脂組成物の調製
実施例5の多価カルボン酸組成物(C−1)を、実施例3で得られた多価カルボン酸組成物(C−2)に変更した他は実施例5と同様に行い、本発明のエポキシ樹脂組成物を得た。Example 6: Preparation of epoxy resin composition Except that polyvalent carboxylic acid composition (C-1) of Example 5 was changed to polyvalent carboxylic acid composition (C-2) obtained in Example 3 In the same manner as in Example 5, an epoxy resin composition of the present invention was obtained.
実施例7;エポキシ樹脂組成物の調製
実施例5のオクチル酸亜鉛を、第4級ホスホニウムブロマイド塩の硬化促進剤U−CAT5003(サンアプロ社製)に変更した他は実施例5と同様に行い、本発明のエポキシ樹脂組成物を得た。Example 7 Preparation of Epoxy Resin Composition The same procedure as in Example 5 was carried out except that the zinc octylate of Example 5 was replaced with a quaternary phosphonium bromide salt curing accelerator U-CAT5003 (manufactured by San Apro), An epoxy resin composition of the present invention was obtained.
実施例8;エポキシ樹脂組成物の調製
実施例5の多価カルボン酸組成物(C−1)を、実施例3で得られた多価カルボン酸組成物(C−2)に変更し、オクチル酸亜鉛を、第4級ホスホニウムブロマイド塩の硬化促進剤U−CAT5003(サンアプロ社製)に変更した他は実施例5と同様に行い、本発明のエポキシ樹脂組成物を得た。Example 8: Preparation of epoxy resin composition The polyvalent carboxylic acid composition (C-1) of Example 5 was changed to the polyvalent carboxylic acid composition (C-2) obtained in Example 3, and octyl was used. An epoxy resin composition of the present invention was obtained in the same manner as in Example 5, except that zinc acid was changed to a quaternary phosphonium bromide salt curing accelerator U-CAT5003 (manufactured by San Apro).
比較例2;エポキシ樹脂組成物の調製
エポキシ樹脂硬化剤としてリカシッドMH−T(新日本理化社製、4−メチルヘキサヒドロフタル酸無水物)、エポキシ樹脂として3’,4’−エポキシシクロヘキシルメチル 3,4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート((株)ダイセル製、CEL2021P)、硬化促進剤としてオクチル酸亜鉛を、下記表2に記載の量比でポリプロピレン製容器に入れ、混合、5分間脱泡を行い、比較例のエポキシ樹脂組成物を得た。Comparative Example 2 Preparation of Epoxy Resin Composition Ricacid MH-T (4-methylhexahydrophthalic anhydride, manufactured by Shin Nihon Rika Co., Ltd.) as an epoxy resin curing agent, and 3 ′, 4′-
比較例3;エポキシ樹脂組成物の調製
比較例3のオクチル酸亜鉛を、第4級ホスホニウムブロマイド塩の硬化促進剤U−CAT5003(サンアプロ社製)に変更した他は比較例2と同様に行い、比較例のエポキシ樹脂組成物を得た。Comparative Example 3 Preparation of Epoxy Resin Composition Performed in the same manner as in Comparative Example 2, except that zinc octylate of Comparative Example 3 was changed to a quaternary phosphonium bromide salt curing accelerator U-CAT5003 (manufactured by San Apro). An epoxy resin composition of a comparative example was obtained.
実施例5〜8、比較例2、3で得られたエポキシ樹脂組成物の配合比とその粘度、硬化時の重量減少、硬化物透過率、硬化物の硬さ、金ワイヤー露出の有無の結果を表2に示す。表2における試験は以下のように行った。
(1)粘度
東機産業株式会社製E型粘度計(TV−20)を用い、25℃で測定した。
(2)硬化時の重量減少
実施例5〜8、比較例2、3で得られたエポキシ樹脂組成物を真空脱泡5分間実施後、予め質量を秤量しておいた、30mm×20mm×高さ0.8mmになるように耐熱テープでダムを作成したガラス基板上に静かに注型し、注型後の質量を秤量した。その注型物を、120℃×1時間の予備硬化の後150℃×3時間で硬化させ、硬化後の質量を秤量し、硬化時の重量減少率を算出した。Example 5-8, the compounding ratio and viscosity of the epoxy resin compositions obtained in Comparative Examples 2 and 3, the weight loss during curing, the transmittance of the cured product, the hardness of the cured product, and the results of the presence or absence of gold wire exposure. Are shown in Table 2. The tests in Table 2 were performed as follows.
(1) Viscosity The viscosity was measured at 25 ° C. using an E-type viscometer (TV-20) manufactured by Toki Sangyo Co., Ltd.
(2) Weight loss during curing The epoxy resin compositions obtained in Examples 5 to 8 and Comparative Examples 2 and 3 were subjected to vacuum degassing for 5 minutes, and then weighed in advance, 30 mm × 20 mm × height. It was gently poured onto a glass substrate on which a dam was formed with a heat-resistant tape so as to have a thickness of 0.8 mm, and the mass after the casting was weighed. The cast was cured at 150 ° C. for 3 hours after pre-curing at 120 ° C. for 1 hour, and the weight after curing was weighed to calculate the weight loss rate during curing.
(3)硬化物透過率
実施例5〜8、比較例2、3で得られたエポキシ樹脂組成物を真空脱泡5分間実施後、30mm×20mm×高さ0.8mmになるように耐熱テープでダムを作成したガラス基板上に静かに注型した。その注型物を、120℃×1時間の予備硬化の後150℃×3時間で硬化させ、厚さ0.8mmの透過率用試験片を得た。得られた試験片を、ガラス基板から取り出し、下記条件にて400nmの光線透過率を測定した。
<分光光計測定条件>
メーカー:株式会社日立ハイテクノロジーズ
機種:U−3300
スリット幅:2.0nm
スキャン速度:120nm/分
(4)硬化物硬さ
JIS K6253に記載の方法でデュロメータ硬さを測定した。
(5)金ワイヤーの露出
実施例5〜8、比較例2、3で得られたエポキシ樹脂組成物を真空脱泡5分間実施後、シリンジに充填し精密吐出装置を使用して発光波長450nmを持つ発光素子を、金ワイヤーを用いてなる表面実装型LED(2.3×0.4mmの開口部、0.4mmの深さを有し、金ワイヤーの最上部は開口部から0.1mmの位置に存在する)に開口部が平面になるように注型した。120℃×1時間の予備硬化の後150℃×3時間で硬化し、表面実装型LEDを封止した。このように封止した後の硬化剤の揮発に伴う、金ワイヤーの露出(金ワイヤーの上端が硬化物最上面よりも上部にあり、完全に封止されていない状態)の有無を目視で評価した。表中、A;金ワイヤーが露出していない、B;金ワイヤーが露出していることを表す。(3) Permeability of cured product The epoxy resin composition obtained in each of Examples 5 to 8 and Comparative Examples 2 and 3 was subjected to vacuum degassing for 5 minutes, and then a heat-resistant tape having a size of 30 mm x 20 mm x 0.8 mm in height. The glass was gently cast on the glass substrate on which the dam was created. The cast was cured at 150 ° C. for 3 hours after pre-curing at 120 ° C. for 1 hour to obtain a 0.8 mm thick test piece for transmittance. The obtained test piece was taken out from the glass substrate, and the light transmittance at 400 nm was measured under the following conditions.
<Spectrophotometer measurement conditions>
Manufacturer: Hitachi High-Technologies Corporation Model: U-3300
Slit width: 2.0 nm
Scan speed: 120 nm / min (4) Hardness of cured product Durometer hardness was measured by the method described in JIS K6253.
(5) Exposure of gold wire After performing the epoxy resin compositions obtained in Examples 5 to 8 and Comparative Examples 2 and 3 in vacuum for 5 minutes, filling the syringes, and using a precision discharge device, the light emission wavelength of 450 nm was used. A light emitting element having a surface-mounted LED using a gold wire (having an opening of 2.3 × 0.4 mm and a depth of 0.4 mm, and the top of the gold wire having a depth of 0.1 mm from the opening). (Existing in position) was cast such that the opening was flat. After pre-curing at 120 ° C. × 1 hour, curing was performed at 150 ° C. × 3 hours, and the surface-mounted LED was sealed. Visually evaluate whether the gold wire is exposed (the upper end of the gold wire is higher than the uppermost surface of the cured product and is not completely sealed) due to the volatilization of the curing agent after sealing in this way. did. In the table, A: gold wire is not exposed, B: gold wire is exposed.
*硬化物が脆く割れてしまったため、ガラス基板から取り出すことができなかった。 * Since the cured product was brittle and cracked, it could not be removed from the glass substrate.
表2の結果から明らかなように実施例5〜8の組成物は、LED封止材として用いるには適度な粘度であり、硬化時の熱重量減少も少なく作業性に優れる。さらに、それらの硬化物は高い硬化物透過率、硬さを有し、それらで封止した表面実装型LEDの金ワイヤーの露出がなかったのに対し、4−メチルヘキサヒドロフタル酸無水物のみで硬化した比較例2、3は硬化時の重量減少が著しく、金ワイヤーの露出が確認された。以上の事から、本発明の多価カルボン酸組成物を用いたエポキシ樹脂組成物は、特に光半導体封止用硬化性樹脂組成物として好適である。 As is clear from the results in Table 2, the compositions of Examples 5 to 8 have an appropriate viscosity for use as an LED encapsulant, and have a small thermal weight loss during curing and are excellent in workability. Furthermore, those cured products had high cured product transmittance and hardness, and there was no exposure of the gold wire of the surface mounted LED sealed with them, whereas only 4-methylhexahydrophthalic anhydride was used. In Comparative Examples 2 and 3, which were cured in Example 2, the weight loss during curing was remarkable, and exposure of the gold wire was confirmed. From the above, the epoxy resin composition using the polyvalent carboxylic acid composition of the present invention is particularly suitable as a curable resin composition for encapsulating an optical semiconductor.
−前記式(1)中のR6が、R2bがエチレン基およびプロピレン基である式(9)で表されるカルボキシル基を含む有機基である多価カルボン酸(A)を、液状の多価カルボン酸組成物(C)として実施した例−
合成例、実施例中のGPC、酸価、官能基当量、粘度、熱重量減少は前記と同じ方法で測定した。ここで、部は特に断りのない限り質量部を表す。A polycarboxylic acid (A) in which R 6 in the above formula (1) is an organic group containing a carboxyl group represented by the formula (9) wherein R 2b is an ethylene group and a propylene group, Example implemented as polyvalent carboxylic acid composition (C)-
GPC, acid value, functional group equivalent, viscosity, and thermogravimetric loss in Synthesis Examples and Examples were measured by the same methods as described above. Here, parts are parts by mass unless otherwise specified.
実施例9;多価カルボン酸(A−2)の製造
ガラス製500mlセパラブルフラスコに、窒素パージを施しながらイソシアヌル酸トリス(2−ヒドロキシエチル)26.1g、無水コハク酸31.0g、メチルイソブチルケトン100gを仕込み、ジムロートコンデンサ、撹拌装置、温度計を設置し、オイルバスにフラスコを浸した。オイルバスを加熱し、内温を80℃に保ち、そのまま62時間反応させた。
得られた反応液を100℃で減圧濃縮し、メチルイソブチルケトンを留去することで、下記式(26)を主成分とする多価カルボン酸(A−2)を67.8g得た。得られた化合物のGPC面積%は、式(26)で表される化合物が90.0%、式(26)で表される化合物の多量体が2.1%、式(27)で表される化合物が4.6%、無水コハク酸が0.8%、コハク酸が2.6%であった。A−2の酸価は218.1mgKOH/g、外観は淡黄色透明液体であった。また、熱重量減少は−0.6%であった。得られたA−2のGPCチャートを図2に示す。Example 9: Production of polycarboxylic acid (A-2) 26.1 g of tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate, 31.0 g of succinic anhydride, and methyl isobutyl in a 500-ml separable flask made of glass while performing a nitrogen purge. 100 g of ketone was charged, a Dimroth condenser, a stirrer, and a thermometer were installed, and the flask was immersed in an oil bath. The oil bath was heated, the internal temperature was kept at 80 ° C., and the reaction was allowed to proceed for 62 hours.
The obtained reaction solution was concentrated under reduced pressure at 100 ° C., and methyl isobutyl ketone was distilled off to obtain 67.8 g of a polycarboxylic acid (A-2) having the following formula (26) as a main component. The GPC area% of the obtained compound was 90.0% for the compound represented by the formula (26), 2.1% for the polymer of the compound represented by the formula (26), and represented by the formula (27). 4.6%, succinic anhydride 0.8% and succinic acid 2.6%. The acid value of A-2 was 218.1 mgKOH / g, and the appearance was a pale yellow transparent liquid. The thermogravimetric loss was -0.6%. The GPC chart of the obtained A-2 is shown in FIG.
実施例10;多価カルボン酸(A−3)の製造
ガラス製500mlセパラブルフラスコに、窒素パージを施しながらイソシアヌル酸トリス(2−ヒドロキシエチル)26.1g、無水グルタル酸35.5g、トルエン100gを仕込み、ジムロートコンデンサ、撹拌装置、温度計を設置し、オイルバスにフラスコを浸した。オイルバスを加熱し、内温を90℃に保ち、そのまま32.5時間反応させた。
得られた反応液を100℃で減圧濃縮し、トルエンを留去することで、下記式(28)を主成分とする多価カルボン酸(A−3)を56.7g得た。得られた化合物のGPC面積%は、式(28)で表される化合物が73.5%、式(28)で表される化合物の多量体が20.9%、無水グルタル酸が4.3%、グルタル酸が1.3%であった。A−3の酸価は285.6mgKOH/g、外観は淡黄色透明液体であった。また、熱重量減少は−0.7%であった。得られたA−3のGPCチャートを図3に示す。Example 10: Production of polycarboxylic acid (A-3) In a 500-ml separable flask made of glass, while purging with nitrogen, 26.1 g of tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate, 35.5 g of glutaric anhydride, and 100 g of toluene were used. , A Dimroth condenser, a stirrer, and a thermometer were installed, and the flask was immersed in an oil bath. The oil bath was heated, the internal temperature was maintained at 90 ° C., and the reaction was allowed to proceed for 32.5 hours.
The obtained reaction solution was concentrated under reduced pressure at 100 ° C., and toluene was distilled off to obtain 56.7 g of a polycarboxylic acid (A-3) having the following formula (28) as a main component. The GPC area% of the obtained compound was 73.5% for the compound represented by the formula (28), 20.9% for the multimer of the compound represented by the formula (28), and 4.3 for glutaric anhydride. % And glutaric acid were 1.3%. The acid value of A-3 was 285.6 mgKOH / g, and the appearance was a pale yellow transparent liquid. The thermogravimetric loss was -0.7%. The GPC chart of the obtained A-3 is shown in FIG.
実施例11;多価カルボン酸組成物(C−3)の製造
ガラス製50mlビンに、実施例9で得られた多価カルボン酸(A−2)5g、リカシッドMH−T(四国化成工業製 4−メチルヘキサヒドロ無水フタル酸)5gを仕込み、80℃に加温したオーブンに入れ加温した。2時間後に取り出し薬匙で良く混合後、さらに2時間加温し多価カルボン酸組成物(C−3)10gを得た。得られた多価カルボン酸組成物(C−3)は無色透明の液状であり、得られた多価カルボン酸組成物(C−3)のGPC面積%は、式(26)で表される化合物が48.8%、式(26)で表される化合物の多量体が1.3%、式(27)で表される化合物が0.3%、無水コハク酸が1.4%、4−メチルヘキサヒドロ無水フタル酸48.2%であった。C−3の官能基当量は278mgKOH/g、粘度は6216mPa・s、熱重量減少は−19.9%であった。Example 11: Production of polyvalent carboxylic acid composition (C-3) 5 g of polyvalent carboxylic acid (A-2) obtained in Example 9 in a 50-ml glass bottle, and RIKACID MH-T (manufactured by Shikoku Chemicals) 5 g of 4-methylhexahydrophthalic anhydride) was charged and placed in an oven heated to 80 ° C. and heated. Two hours later, the mixture was taken out, mixed well with a spoon, and further heated for 2 hours to obtain 10 g of a polyvalent carboxylic acid composition (C-3). The obtained polyvalent carboxylic acid composition (C-3) is a colorless and transparent liquid, and the GPC area% of the obtained polyvalent carboxylic acid composition (C-3) is represented by the formula (26). 48.8% of the compound, 1.3% of the multimer of the compound represented by the formula (26), 0.3% of the compound represented by the formula (27), 1.4% of the succinic anhydride, 4% -Methylhexahydrophthalic anhydride 48.2%. The functional group equivalent of C-3 was 278 mgKOH / g, the viscosity was 6216 mPa · s, and the thermal weight loss was −19.9%.
実施例12;多価カルボン酸組成物(C−4)の製造
ガラス製50mlビンに、実施例10で得られた多価カルボン酸(A−3)5g、リカシッドMH−T(四国化成工業製 4−メチルヘキサヒドロ無水フタル酸)5gを仕込み、80℃に加温したオーブンに入れ加温した。2時間後に取り出し薬匙で良く混合後、さらに2時間加温し多価カルボン酸組成物(C−4)10gを得た。得られた多価カルボン酸組成物(C−4)は無色透明の液状であり、得られた多価カルボン酸組成物(C−4)のGPC面積%は、式(28)で表される化合物が40.6%、式(28)で表される化合物の多量体が11.5%、無水グルタル酸が3.7%、グルタル酸が0.7%、4−メチルヘキサヒドロ無水フタル酸43.5%であった。C−4の官能基当量は308mgKOH/g、粘度は5356mPa・s、熱重量減少は−24.7%であった。Example 12: Production of polyvalent carboxylic acid composition (C-4) 5 g of the polyvalent carboxylic acid (A-3) obtained in Example 10 in a 50 ml glass bottle was supplied by RIKACID MH-T (manufactured by Shikoku Chemicals). 5 g of 4-methylhexahydrophthalic anhydride) was charged and placed in an oven heated to 80 ° C. and heated. Two hours later, the mixture was taken out, mixed well with a spoon, and further heated for 2 hours to obtain 10 g of a polyvalent carboxylic acid composition (C-4). The obtained polyvalent carboxylic acid composition (C-4) is a colorless and transparent liquid, and the GPC area% of the obtained polyvalent carboxylic acid composition (C-4) is represented by the formula (28). 40.6% of compound, 11.5% of multimer of compound represented by formula (28), 3.7% of glutaric anhydride, 0.7% of glutaric acid, 4-methylhexahydrophthalic anhydride 43.5%. The functional group equivalent of C-4 was 308 mgKOH / g, the viscosity was 5356 mPa · s, and the thermal weight loss was −24.7%.
比較例4;イソシアヌル酸骨格を有する多価カルボン酸のカルボン酸無水物化合物への溶解試験
ガラス製50mlビンに、前記式(25)で表されるイソシアヌル酸トリス(3−カルボキシプロピル)3g、リカシッドMH−T(四国化成工業製 4−メチルヘキサヒドロフタル酸)7gを仕込み、80℃に加温したオーブンに入れ加温した。2時間後に取り出し薬匙で良く混合後、ガラスビンに回転子を入れ、90℃に加温したマグネチックスターラー上で5時間撹拌しながら加温したが、イソシアヌル酸トリス(3−カルボキシプロピル)はリカシッドMH−Tには溶解しなかった。撹拌を止めて室温(25℃)環境下で15時間後に確認したところ、イソシアヌル酸トリス(3−カルボキシプロピル)が沈殿していた。Comparative Example 4: Dissolution test of polycarboxylic acid having isocyanuric acid skeleton in carboxylic acid anhydride compound In a 50 ml glass bottle, 3 g of tris (3-carboxypropyl) isocyanurate represented by the above formula (25), licaside 7 g of MH-T (4-methylhexahydrophthalic acid manufactured by Shikoku Kasei Kogyo Co., Ltd.) was charged and placed in an oven heated to 80 ° C. and heated. After 2 hours, take out and mix well with a medicine spoon, put the rotor in a glass bottle, and heat with stirring on a magnetic stirrer heated to 90 ° C for 5 hours, but tris (3-carboxypropyl) isocyanurate is recyacid It did not dissolve in MH-T. When the stirring was stopped and it was confirmed after 15 hours in a room temperature (25 ° C.) environment, tris (3-carboxypropyl) isocyanurate was precipitated.
(評価試験)
実施例9、10で得られた多価カルボン酸、実施例11、12、比較例4で得られた多価カルボン酸組成物、比較例Bとして4−メチルヘキサヒドロフタル酸無水物(新日本理化社製、リカシッドMH−T)の、各成分の含有量、酸価又は官能基当量、粘度、熱重量減少の測定結果を表3にまとめた。(Evaluation test)
The polyvalent carboxylic acids obtained in Examples 9 and 10, the polyvalent carboxylic acid compositions obtained in Examples 11 and 12, and Comparative Example 4, and 4-methylhexahydrophthalic anhydride (Shin Nihon) as Comparative Example B Table 3 summarizes the measurement results of the content of each component, acid value or functional group equivalent, viscosity, and thermogravimetric loss of Rikashid MH-T manufactured by Rikasha Co., Ltd.
*A−2、A−3は高粘ちょうの液体であるため、25℃での粘度は測定できなかった。
実施例9〜12の成分含有量はGPCの面積%のデータを表す。* Since A-2 and A-3 are highly viscous liquids, the viscosity at 25 ° C. could not be measured.
The component contents of Examples 9 to 12 represent data of area% of GPC.
表3の結果から明らかなように、多価カルボン酸A−2、A−3および多価カルボン酸A−2、A−3をそれぞれ含有する多価カルボン酸組成物C−3、C−4は加熱時の重量減少が少ないのに対し、比較例Bの4−メチルヘキサヒドロフタル酸無水物は重量減少が大きい。また比較例4は白濁液体となり、放置することで沈殿が確認されたが、多価カルボン酸組成物C−3、C−4および多価カルボン酸A−2、A−3は無色透明液体であるため、特に液状で使用されることが求められる用途での使用に適している。 As is clear from the results in Table 3, the polycarboxylic acids A-2 and A-3 and the polycarboxylic acid compositions C-3 and C-4 containing the polycarboxylic acids A-2 and A-3, respectively. Shows a small weight loss during heating, whereas 4-methylhexahydrophthalic anhydride of Comparative Example B has a large weight loss. In Comparative Example 4, a cloudy liquid was formed, and precipitation was confirmed on standing. However, the polycarboxylic acid compositions C-3 and C-4 and the polycarboxylic acids A-2 and A-3 were colorless and transparent liquids. For this reason, it is particularly suitable for use in applications requiring use in a liquid state.
実施例13;エポキシ樹脂組成物の調製
実施例9で得られた多価カルボン酸(A−2)、エポキシ樹脂として3’,4’−エポキシシクロヘキシルメチル−3,4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート((株)ダイセル製、CEL2021P)、硬化促進剤としてオクチル酸亜鉛を、下記表4に記載の量比でポリプロピレン製容器に入れ、混合、5分間脱泡を行い、本発明のエポキシ樹脂組成物を得た。Example 13: Preparation of epoxy resin composition The polyvalent carboxylic acid (A-2) obtained in Example 9 and 3 ', 4'-epoxycyclohexylmethyl-3,4-epoxycyclohexanecarboxylate (( CEL2021P, manufactured by Daicel Co., Ltd.) Zinc octylate as a curing accelerator was placed in a polypropylene container at a ratio shown in Table 4 below, mixed, and defoamed for 5 minutes to obtain an epoxy resin composition of the present invention. Was.
実施例14;エポキシ樹脂組成物の調製
実施例9の多価カルボン酸(A−2)を、実施例11で得られた多価カルボン酸組成物(C−3)に変更した他は実施例13と同様に行い、本発明のエポキシ樹脂組成物を得た。Example 14 Preparation of Epoxy Resin Composition Example was the same as Example 9 except that the polyvalent carboxylic acid (A-2) of Example 9 was changed to the polyvalent carboxylic acid composition (C-3) obtained in Example 11. In the same manner as in Example 13, an epoxy resin composition of the present invention was obtained.
実施例15;エポキシ樹脂組成物の調製
実施例13の多価カルボン酸(A−2)を、実施例2で得られた多価カルボン酸(A−3)に変更した他は実施例13と同様に行い、本発明のエポキシ樹脂組成物を得た。Example 15: Preparation of epoxy resin composition Example 13 was the same as Example 13 except that the polyvalent carboxylic acid (A-2) of Example 13 was changed to the polyvalent carboxylic acid (A-3) obtained in Example 2. The same operation was performed to obtain the epoxy resin composition of the present invention.
実施例16;エポキシ樹脂組成物の調製
実施例13の多価カルボン酸(A−1)を、実施例12で得られた多価カルボン酸組成物(C−4)に変更した他は実施例13と同様に行い、本発明のエポキシ樹脂組成物を得た。Example 16 Preparation of Epoxy Resin Composition Example was the same as Example 13 except that the polycarboxylic acid (A-1) in Example 13 was changed to the polycarboxylic acid composition (C-4) obtained in Example 12. In the same manner as in Example 13, an epoxy resin composition of the present invention was obtained.
比較例5;エポキシ樹脂組成物の調製
エポキシ樹脂硬化剤としてリカシッドMH−T(新日本理化社製、4−メチルヘキサヒドロフタル酸無水物)、エポキシ樹脂として3’,4’−エポキシシクロヘキシルメチル 3,4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート((株)ダイセル製、CEL2021P)、硬化促進剤としてオクチル酸亜鉛を、下記表4に記載の量比でポリプロピレン製容器に入れ、混合、5分間脱泡を行い、比較例のエポキシ樹脂組成物を得た。Comparative Example 5 Preparation of Epoxy Resin Composition Ricacid MH-T (4-methylhexahydrophthalic anhydride, manufactured by Shin Nippon Rika Co., Ltd.) as an epoxy resin curing agent, and 3 ′, 4′-
比較例6;エポキシ樹脂組成物の調製
比較例5のオクチル酸亜鉛を、第4級ホスホニウムブロマイド塩の硬化促進剤U−CAT5003(サンアプロ社製)に変更した他は比較例5と同様に行い、比較例のエポキシ樹脂組成物を得た。Comparative Example 6 Preparation of Epoxy Resin Composition The same procedure as in Comparative Example 5 was carried out except that the zinc octylate of Comparative Example 5 was changed to a quaternary phosphonium bromide salt curing accelerator U-CAT5003 (manufactured by San Apro). An epoxy resin composition of a comparative example was obtained.
実施例13〜16、比較例5、6で得られたエポキシ樹脂組成物の配合比とその粘度、硬化時の重量減少、硬化物透過率、硬化物の硬さ、金ワイヤー露出の有無の結果を表4に示す。表4における試験は前記と同様に行った。 Example 13-16, the mixing ratio of the epoxy resin compositions obtained in Comparative Examples 5 and 6, and their viscosities, weight loss during curing, cured product transmittance, cured product hardness, and the results of the presence or absence of gold wire exposure. Are shown in Table 4. The tests in Table 4 were performed as described above.
*硬化物が脆く割れてしまったため、ガラス基板から取り出すことができなかった。 * Since the cured product was brittle and cracked, it could not be removed from the glass substrate.
表4の結果から明らかなように実施例13〜16の組成物は、LED封止材として用いるには適度な粘度であり、硬化時の熱重量減少も少なく作業性に優れる。さらに、それらの硬化物は高い硬化物透過率、硬さを有し、それらで封止した表面実装型LEDの金ワイヤーの露出がなかったのに対し、4−メチルヘキサヒドロフタル酸無水物のみで硬化した比較例5、6は硬化時の重量減少が著しく、金ワイヤーの露出が確認された。以上の事から、本発明の多価カルボン酸組成物を用いたエポキシ樹脂組成物は、特に光半導体封止用硬化性樹脂組成物として好適である。 As is clear from the results in Table 4, the compositions of Examples 13 to 16 have an appropriate viscosity for use as an LED encapsulant, have a small thermal weight loss during curing, and are excellent in workability. Furthermore, those cured products had high cured product transmittance and hardness, and there was no exposure of the gold wire of the surface mounted LED sealed with them, whereas only 4-methylhexahydrophthalic anhydride was used. In Comparative Examples 5 and 6, which were cured as described above, the weight loss during curing was remarkable, and exposure of the gold wire was confirmed. From the above, the epoxy resin composition using the polyvalent carboxylic acid composition of the present invention is particularly suitable as a curable resin composition for encapsulating an optical semiconductor.
−前記式(1)中のR6が、R2aがメチル基又はカルボキシル基である式(8)で表されるカルボキシル基を含む有機基である多価カルボン酸(A)を、固形の熱硬化性樹脂組成物として実施した例−
合成例において、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(以下、「GPC」という)、ICI粘度、軟化点の各測定は以下の通り行った。
1)GPC
カラムは、Shodex SYSTEM−21カラム(KF−803L、KF−802.5(×2本)、KF−802)、連結溶離液はテトラヒドロフラン、流速は1ml/min.カラム温度は40℃、また検出はRI(Reflective index)で行い、検量線はShodex製標準ポリスチレンを使用した。また官能基当量はGPCより算出した比率より算出し、カルボン酸、酸無水物をそれぞれ1当量として値を求めた。
2)ICI粘度
150℃におけるコーンプレート法における溶融粘度を測定した。
3)軟化点
JIS K−7234に準じた方法で測定した。A polyvalent carboxylic acid (A) in which R 6 in the formula (1) is an organic group containing a carboxyl group represented by the formula (8) in which R 2a is a methyl group or a carboxyl group, Example implemented as a curable resin composition-
In the synthesis examples, each measurement of gel permeation chromatography (hereinafter, referred to as “GPC”), ICI viscosity, and softening point was performed as follows.
1) GPC
The column was a Shodex SYSTEM-21 column (KF-803L, KF-802.5 (× 2), KF-802), the coupled eluent was tetrahydrofuran, and the flow rate was 1 ml / min. The column temperature was 40 ° C., the detection was performed by RI (Reflective index), and the standard curve was Shodex standard polystyrene. The functional group equivalent was calculated from the ratio calculated by GPC, and the value was determined using carboxylic acid and acid anhydride as one equivalent each.
2) ICI viscosity The melt viscosity in the cone plate method at 150 ° C was measured.
3) Softening point Measured by a method according to JIS K-7234.
合成例1(熱硬化性樹脂用硬化剤C−5) Synthesis Example 1 (Curing agent C-5 for thermosetting resin)
撹拌機、還流冷却管、撹拌装置を備えたフラスコに、窒素パージを施しながらイソシアヌル酸トリス(2−ヒドロキシエチル)104.5部、メチルヘキサヒドロフタル酸無水物(新日本理化(株)製、リカシッドMHT)201.8部、MEK306.0部を加え、70℃で7時間加熱撹拌を行うことで、式(29)で示される化合物のMEK溶液を得た。そこへ、メチルヘキサヒドロフタル酸無水物(新日本理化(株)製、リカシッドMHT)61.3部を加え、70℃で1時間加熱撹拌を行った。その後、120℃1時間の条件で溶媒を除去し、熱硬化性樹脂用硬化剤(C−5)を得た。
得られた硬化剤は無色、固形であった。また、官能基当量は232g/eq.であった。ICI粘度は、150℃において0.36Pa・sであった。軟化点は、82.9℃であった。A flask equipped with a stirrer, a reflux condenser, and a stirrer was purged with nitrogen while 104.5 parts of tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate and methylhexahydrophthalic anhydride (manufactured by Nippon Rika Co., Ltd. 201.8 parts of RIKACID MHT) and 306.0 parts of MEK were added, and the mixture was heated and stirred at 70 ° C. for 7 hours to obtain a MEK solution of a compound represented by the formula (29). Thereto was added 61.3 parts of methylhexahydrophthalic anhydride (manufactured by Shin Nippon Rika Co., Ltd., RIKACID MHT), and the mixture was heated and stirred at 70 ° C. for 1 hour. Thereafter, the solvent was removed under the conditions of 120 ° C. for 1 hour to obtain a curing agent (C-5) for a thermosetting resin.
The obtained curing agent was colorless and solid. The functional group equivalent was 232 g / eq. Met. The ICI viscosity was 0.36 Pa · s at 150 ° C. The softening point was 82.9 ° C.
合成例2(熱硬化性樹脂用硬化剤C−6) Synthesis Example 2 (C-6 for thermosetting resin)
(式(30)中、R10はメチル基又はカルボキシル基をそれぞれ表す。式(30)中、複数存在するR10は同一であっても異なっていても構わない。)(In Formula (30), R 10 represents a methyl group or a carboxyl group, respectively. In Formula (30), a plurality of R 10 may be the same or different.)
撹拌機、還流冷却管、撹拌装置を備えたフラスコに、窒素パージを施しながらトリシクロデカンジメタノール98.1部、メチルヘキサヒドロフタル酸無水物(新日本理化(株)製、リカシッドMHT)166.3部、シクロヘキサン−1,2,4−トリカルボン酸−1,2−無水物(三菱ガス化学製 H−TMAn)2.0部、MEK266.4部を加え、60℃で1時間反応後、80℃で5時間加熱撹拌を行うことで(30)式で示される化合物のMEK溶液を得た。そこへ、シクロヘキサン−1,2,4−トリカルボン酸−1,2−無水物(三菱ガス化学製 H−TMAn)59.4部を加え、80℃で2時間加熱撹拌を行った。その後、150℃1時間の条件で溶媒を除去し、熱硬化性樹脂用硬化剤(C−6)を得た。
得られた硬化剤は無色、固形であった。また、官能基当量は195g/eq.であった。ICI粘度は、150℃において0.53Pa・sであった。軟化点は、84.7℃であった。A flask equipped with a stirrer, a reflux condenser, and a stirrer was purged with nitrogen by 98.1 parts of tricyclodecane dimethanol and methylhexahydrophthalic anhydride (Rikashid MHT, manufactured by Nippon Rika Co., Ltd.) 166. Then, 2.0 parts of cyclohexane-1,2,4-tricarboxylic acid-1,2-anhydride (H-TMAn manufactured by Mitsubishi Gas Chemical) and 266.4 parts of MEK were added, and the mixture was reacted at 60 ° C. for 1 hour. By heating and stirring at 80 ° C. for 5 hours, a MEK solution of the compound represented by the formula (30) was obtained. Thereto, 59.4 parts of cyclohexane-1,2,4-tricarboxylic acid-1,2-anhydride (H-TMAn manufactured by Mitsubishi Gas Chemical) was added, and the mixture was heated and stirred at 80 ° C. for 2 hours. Thereafter, the solvent was removed at 150 ° C. for 1 hour to obtain a curing agent (C-6) for a thermosetting resin.
The obtained curing agent was colorless and solid. The functional group equivalent was 195 g / eq. Met. The ICI viscosity was 0.53 Pa · s at 150 ° C. The softening point was 84.7 ° C.
合成例3(グリシジルエーテル型エポキシ樹脂B−1)
攪拌機、還流冷却管、撹拌装置を備えたフラスコをいったん真空にし、窒素置換した後、窒素パージ(窯容量の2倍体積量/hr)を施しながらフェノール化合物(TPA1)(TrisP−PA 本州化学工業製)142部、エピクロロヒドリン370部、メチルグリシジルエーテルを37部、メタノール37部を加え、水浴を75℃にまで昇温した。内温が65℃を越えたところでフレーク状の水酸化ナトリウム42部を90分かけて分割添加した後、更に70℃で1時間後反応を行った。反応終了後水洗を行い、油層からロータリーエバポレータを用いて140℃で減圧下、過剰のエピクロルヒドリン等の溶剤を留去した。残留物にメチルイソブチルケトン400部を加え溶解し、70℃にまで昇温した。撹拌下で30重量%の水酸化ナトリウム水溶液8部を加え、1時間反応を行った後、洗浄水が中性になるまで水洗を行い、得られた溶液を、ロータリーエバポレータを用いて180℃で減圧下にメチルイソブチルケトン等を留去することでエポキシ樹脂(B−1)を182部得た。得られたエポキシ樹脂のエポキシ当量は222g/eq.、軟化点が59.6℃、ICI溶融粘度0.10Pa・s(150℃)、色相0.2以下(ガードナー 40%MEK溶液)であった。またMnは582、Mwは695、Mw/Mnは1.19(ポリスチレン換算)であった。全塩素が960ppmであった。Synthesis Example 3 (glycidyl ether type epoxy resin B-1)
A flask equipped with a stirrer, a reflux condenser, and a stirrer is once evacuated and purged with nitrogen, and then subjected to a nitrogen purge (twice the volume of the kiln / hr) while applying a phenol compound (TPA1) (TrisP-PA Honshu Chemical Industry) 142 parts), 370 parts of epichlorohydrin, 37 parts of methyl glycidyl ether and 37 parts of methanol were added, and the temperature of the water bath was raised to 75 ° C. When the internal temperature exceeded 65 ° C., 42 parts of flaky sodium hydroxide was added in portions over 90 minutes, and the reaction was further carried out at 70 ° C. for 1 hour. After completion of the reaction, water washing was performed, and excess solvent such as epichlorohydrin was distilled off from the oil layer under reduced pressure at 140 ° C. using a rotary evaporator. 400 parts of methyl isobutyl ketone was added to and dissolved in the residue, and the temperature was raised to 70 ° C. After stirring, 8 parts of a 30% by weight aqueous sodium hydroxide solution was added, and the mixture was reacted for 1 hour. After that, the resultant was washed with water until the washing water became neutral, and the obtained solution was rotated at 180 ° C. using a rotary evaporator. By distilling off methyl isobutyl ketone and the like under reduced pressure, 182 parts of an epoxy resin (B-1) was obtained. The epoxy equivalent of the obtained epoxy resin was 222 g / eq. , The softening point was 59.6 ° C, the ICI melt viscosity was 0.10 Pa · s (150 ° C), and the hue was 0.2 or less (Gardner 40% MEK solution). Mn was 582, Mw was 695, and Mw / Mn was 1.19 (in terms of polystyrene). Total chlorine was 960 ppm.
熱硬化性光反射用樹脂組成物の調製(実施例17〜実施例19)
TEPIC−S(日産化学株式会社製トリグリシジルイソシアヌレート)、EHPE−3150(ダイセル化学工業(株)製脂環式エポキシ樹脂)、セロキサイド2021P(ダイセル化学工業(株)製脂環式エポキシ樹脂)、熱硬化性樹脂用硬化剤C−5、熱硬化性樹脂用硬化剤C−6、リカシッドMH−T(新日本理化製エポキシ樹脂用硬化剤)、ヒシコーリンPX−4MP(日本化学工業株式会社製硬化触媒)を使用して、表5に示した配合表に従って各成分を配合し、ミキサーによって十分混練した後、ミキシングロールにより所定条件で溶融混練し、冷却、粉砕を行い、実施例17〜実施例19の熱硬化性樹脂組成物を調製した。なお、表5中の各成分の配合量の単位は重量部であり、空欄は当該成分を使用していないことを表す。Preparation of thermosetting resin composition for light reflection (Examples 17 to 19)
TEPIC-S (triglycidyl isocyanurate manufactured by Nissan Chemical Co., Ltd.), EHPE-3150 (alicyclic epoxy resin manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.), celloxide 2021P (alicyclic epoxy resin manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.), Curing agent C-5 for thermosetting resin, C-6 curing agent for thermosetting resin, RICIDID MH-T (curing agent for epoxy resin manufactured by Nippon Rika), Hishicolin PX-4MP (curing manufactured by Nippon Chemical Industry Co., Ltd.) Using a catalyst), each component was blended according to the blending table shown in Table 5, and the mixture was sufficiently kneaded by a mixer, melt-kneaded under a predetermined condition by a mixing roll, cooled, and pulverized. Nineteen thermosetting resin compositions were prepared. The unit of the amount of each component in Table 5 is parts by weight, and a blank column indicates that the component is not used.
熱硬化性樹脂組成物の評価
実施例17〜実施例19の樹脂組成物について、下記に示す方法により硬化物のDMA、TMA、透過率を測定した。その結果を表5に示す。Evaluation of thermosetting resin composition For the resin compositions of Examples 17 to 19, the DMA, TMA, and transmittance of the cured product were measured by the following methods. Table 5 shows the results.
(a)DMA
粘弾性測定(DMA:Dynamic Mechanical Analysis)については、下記のように作成した試験片を用いて、JIS K7244、JIS K7244−4に記載の方法に従って、エスアイアイ・ナノテクノロジー(株)製DMS6100粘弾性測定装置を使用して下記条件で測定した。ガラス転移温度(Tg)は、貯蔵弾性率(E’)と損失弾性率(E”)の商で表される損失係数(tanδ=E”/E’)の極大点を示す際の温度を示す。
(DMA試験片作成方法)
各実施例及び各比較例の樹脂組成物を、成型型温度150℃、成型圧力10.4MPa、キュア時間300秒の条件でトランスファー成型した後、150℃で3時間ポストキュアすることにより、長さ50.0mm、幅5.0mm、厚み0.5mmのテストピースを作製した。
(DMA測定条件)
初期張力:0.1N
周波数:10Hz
測定モード:引張振動
測定温度:30℃〜280℃
昇温速度:2℃/min(A) DMA
Regarding the viscoelasticity measurement (DMA: Dynamic Mechanical Analysis), DMS6100 viscoelasticity manufactured by SII NanoTechnology Inc. was used according to the method described in JIS K7244 and JIS K7244-4 using a test piece prepared as follows. It measured on condition of the following using a measuring device. The glass transition temperature (Tg) indicates the temperature at which the maximum point of the loss coefficient (tan δ = E ″ / E ′) is expressed by the quotient of the storage elastic modulus (E ′) and the loss elastic modulus (E ″). .
(How to make DMA test pieces)
The resin composition of each example and each comparative example was transfer-molded under the conditions of a mold temperature of 150 ° C., a molding pressure of 10.4 MPa, and a curing time of 300 seconds, and then was post-cured at 150 ° C. for 3 hours to obtain a length. A test piece having a size of 50.0 mm, a width of 5.0 mm, and a thickness of 0.5 mm was produced.
(DMA measurement conditions)
Initial tension: 0.1N
Frequency: 10Hz
Measurement mode: Tensile vibration measurement temperature: 30 ° C to 280 ° C
Heating rate: 2 ° C / min
(b)熱機械分析(TMA)
熱機械分析(TMA)は、下記のように作成した試験片を用いて、エスアイアイ・ナノテクノロジー(株)製TMA/SS6100装置を使用して、下記条件で測定した。なお、ガラス転移温度(Tg)は、得られたデータの線膨張係数の変化点として定義される。
(TMA試験片作成方法)
各実施例及び各比較例の樹脂組成物を、成型型温度150℃、成型圧力10.4MPa、キュア時間300秒の条件でトランスファー成型した後、150℃で3時間ポストキュアすることにより、厚み4.0mmのテストピースを作製した。
(TMA測定条件)
昇温条件:2℃/分
測定モード:圧縮(B) Thermomechanical analysis (TMA)
The thermomechanical analysis (TMA) was measured using a test piece prepared as described below and using a TMA / SS6100 device manufactured by SII Nanotechnology Co., Ltd. under the following conditions. The glass transition temperature (Tg) is defined as a point at which the coefficient of linear expansion of the obtained data changes.
(Method of preparing TMA test piece)
The resin composition of each Example and each Comparative Example was transfer-molded under the conditions of a mold temperature of 150 ° C., a molding pressure of 10.4 MPa, and a cure time of 300 seconds, and was post-cured at 150 ° C. for 3 hours to obtain a thickness of 4 A test piece of 0.0 mm was produced.
(TMA measurement conditions)
Heating condition: 2 ° C / min Measurement mode: Compression
(d)透過率
各実施例及び各比較例の樹脂組成物を、成型型温度150℃ 、成型圧力10.4MPa、キュア時間300秒の条件でトランスファー成型した後、150℃ で3時間ポストキュアすることにより、厚み1.0mmのテストピースを作製した。ついで、積分球型分光光度計UV−3600型(株式会社島津製作所製)にて波長460nmにおける透過率を測定し、各テストピースの着色を評価した。(D) Transmittance The resin composition of each Example and each Comparative Example was transfer-molded under the conditions of a mold temperature of 150 ° C., a molding pressure of 10.4 MPa, and a cure time of 300 seconds, and then post-cured at 150 ° C. for 3 hours. As a result, a test piece having a thickness of 1.0 mm was produced. Next, the transmittance at a wavelength of 460 nm was measured with an integrating sphere spectrophotometer UV-3600 (manufactured by Shimadzu Corporation) to evaluate the coloring of each test piece.
以上の結果から、本発明の熱硬化性樹脂用硬化剤を用いた熱硬化性樹脂組成物は、ガラス転移温度が十分に高く、線膨張率が低く、硬化物の着色が少ない硬化物を与えることがわかる。 From the above results, the thermosetting resin composition using the thermosetting resin curing agent of the present invention has a sufficiently high glass transition temperature, a low coefficient of linear expansion, and gives a cured product with less coloring of the cured product. You can see that.
熱硬化性光反射用樹脂組成物の調製(実施例20、21)
TEPIC−S(日産化学株式会社製トリグリシジルイソシアヌレート)、グリシジルエーテル型エポキシ樹脂B−1、ヒシコーリンPX−4MP(日本化学工業株式会社製硬化触媒)、CR−95(石原産業(株)製酸化チタン)を使用して、表6に示した配合表に従って各成分を配合し、ミキサーによって十分混練した後、ミキシングロールにより所定条件で溶融混練し、冷却、粉砕を行い、実施例20、21の熱硬化性樹脂組成物を調製した。なお、表6中の各成分の配合量の単位は重量部であり、空欄は当該成分を使用していないことを表す。Preparation of thermosetting resin composition for light reflection (Examples 20, 21)
TEPIC-S (triglycidyl isocyanurate manufactured by Nissan Chemical Co., Ltd.), glycidyl ether type epoxy resin B-1, Hishicolin PX-4MP (curing catalyst manufactured by Nippon Chemical Industry Co., Ltd.), CR-95 (oxidation manufactured by Ishihara Sangyo Co., Ltd.) Using titanium), the respective components were blended according to the blending table shown in Table 6, kneaded sufficiently by a mixer, melt-kneaded under predetermined conditions by a mixing roll, cooled and pulverized. A thermosetting resin composition was prepared. The unit of the amount of each component in Table 6 is parts by weight, and a blank column indicates that the component is not used.
以上の結果から、本発明の熱硬化性樹脂用硬化剤を用いた熱硬化性樹脂組成物は、ガラス転移温度が十分に高く、線膨張率が低く、硬化物の着色が少ない硬化物を与えることがわかる。 From the above results, the thermosetting resin composition using the thermosetting resin curing agent of the present invention has a sufficiently high glass transition temperature, a low coefficient of linear expansion, and gives a cured product with less coloring of the cured product. You can see that.
撹拌機、還流冷却管、撹拌装置を備えたフラスコに、窒素パージを施しながらイソシアヌル酸トリス(2−ヒドロキシエチル)130.6部、メチルヘキサヒドロフタル酸無水物(新日本理化(株)製、リカシッドMHT)164.0部、無水グルタル酸59.9部、MIBK350.0部を加え、85℃で9時間加熱撹拌を行うことで、目的とする化合物のMIBK溶液を得た。その後、150℃1時間の条件で溶媒を除去し、熱硬化性樹脂用硬化剤(C−7)を得た。
得られた硬化剤は無色、固形であった。また、官能基当量は242g/eq.であった。ICI粘度は、150℃において0.51Pa・sであった。軟化点は、77.6℃であった。130.6 parts of tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate and methyl hexahydrophthalic anhydride (manufactured by Shin Nippon Rika Co., Ltd.) were applied to a flask equipped with a stirrer, reflux condenser, and stirrer while purging with nitrogen. 164.0 parts of Ricacid MHT, 59.9 parts of glutaric anhydride and 350.0 parts of MIBK were added, and the mixture was heated and stirred at 85 ° C. for 9 hours to obtain a MIBK solution of the desired compound. Thereafter, the solvent was removed at 150 ° C. for 1 hour to obtain a curing agent for a thermosetting resin (C-7).
The obtained curing agent was colorless and solid. The functional group equivalent was 242 g / eq. Met. The ICI viscosity was 0.51 Pa · s at 150 ° C. The softening point was 77.6 ° C.
熱硬化性光反射用樹脂組成物の調製(実施例22)
EHPE−3150(ダイセル化学工業(株)製脂環式エポキシ樹脂)、熱硬化性樹脂用硬化剤C−7、ヒシコーリンPX−4MP(日本化学工業株式会社製硬化触媒)、CR−95(石原産業(株)製酸化チタン)を使用して、表7に示した配合表に従って各成分を配合し、ミキサーによって十分混練した後、ミキシングロールにより所定条件で溶融混練し、冷却、粉砕を行い、実施例22の熱硬化性樹脂組成物を調製した。なお、表7中の各成分の配合量の単位は重量部であり、空欄は当該成分を使用していないことを表す。Preparation of thermosetting resin composition for light reflection (Example 22)
EHPE-3150 (alicyclic epoxy resin manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.), curing agent C-7 for thermosetting resin, Hishicolin PX-4MP (curing catalyst manufactured by Nippon Chemical Industry Co., Ltd.), CR-95 (Ishihara Sangyo Co., Ltd.) Using titanium oxide (manufactured by Co., Ltd.), the respective components were blended according to the blending table shown in Table 7, kneaded well by a mixer, then melt-kneaded under predetermined conditions by a mixing roll, cooled, pulverized, and carried out. A thermosetting resin composition of Example 22 was prepared. In addition, the unit of the compounding amount of each component in Table 7 is part by weight, and a blank column indicates that the component is not used.
以上の結果から、本発明の熱硬化性樹脂用硬化剤を用いた熱硬化性樹脂組成物は、ガラス転移温度が十分に高く、線膨張率が低く、硬化物の着色が少ない硬化物を与えることがわかる。 From the above results, the thermosetting resin composition using the thermosetting resin curing agent of the present invention has a sufficiently high glass transition temperature, a low coefficient of linear expansion, and gives a cured product with less coloring of the cured product. You can see that.
実施例23;多価カルボン酸組成物(C−8)の製造
ガラス製300ml4ツ口フラスコに、窒素パージを施しながらTHEIC−G(四国化成工業製 イソシアヌル酸トリス(2−ヒドロキシエチル))25.8g、HTMAn−S(三菱ガス化学製 水添トリメリット酸無水物)、MEK50gを仕込み、ジムロートコンデンサ、撹拌装置、温度計を設置し、ウォーターバスにフラスコを浸した。ウォーターバスを加熱し、内温を65℃に保ち、そのまま6時間反応させた。その後、リカシッドMH−T(新日本理化製 4−メチルヘキサヒドロフタル酸)49.4g、MEK50gを添加し、ウォーターバスを加熱し、内温を65℃に保ち、そのまま4時間反応させた。
GPCでトリスヒドロキシエチルイソシアヌル酸のピーク面積1%以下を確認し、得られた反応液を150℃で減圧濃縮し、MEKを留去することで、下記式(a1)を主成分とする多価カルボン酸とカルボン酸無水物化合物の混合物である多価カルボン酸組成物(C−8)90.4gが得られた。得られた化合物の外観は無色の固体であり、GPCによる純度(GPC面積%)は式(a2〜a4)で表される多価カルボン酸高分子量体混合物が2.4%、式(a1)で表される多価カルボン酸が82.9%、式(a5)で表されるシクロヘキサン−1,2,4−トリカルボン酸が1.5%、式(a6)で表される4−メチルヘキサヒドロフタル酸が5.4%、4−メチルヘキサヒドロフタル酸無水物が7.8%であった。また官能基当量は188.8g/eq、150℃におけるICI粘度は1.49Pa・s、軟化点は95.3℃であった。得られた化合物のGPCチャートを図4に示す。Example 23: Production of polyvalent carboxylic acid composition (C-8) The THEIC-G (tris (2-hydroxyethyl isocyanurate) manufactured by Shikoku Chemicals Co., Ltd.) was applied to a glass 300 ml four-necked flask while purging with nitrogen. 8 g, HTMAn-S (hydrogenated trimellitic anhydride manufactured by Mitsubishi Gas Chemical) and 50 g of MEK were charged, a Dimroth condenser, a stirrer, and a thermometer were installed, and the flask was immersed in a water bath. The water bath was heated, the internal temperature was maintained at 65 ° C., and the reaction was allowed to proceed for 6 hours. Thereafter, 49.4 g of RIKACID MH-T (4-methylhexahydrophthalic acid manufactured by Shin Nippon Rika) and 50 g of MEK were added, the water bath was heated, and the reaction was continued for 4 hours while maintaining the internal temperature at 65 ° C.
The peak area of trishydroxyethyl isocyanuric acid was confirmed to be 1% or less by GPC, the obtained reaction solution was concentrated under reduced pressure at 150 ° C., and MEK was distilled off to obtain a polyvalent compound having the following formula (a1) as a main component. 90.4 g of a polycarboxylic acid composition (C-8), which was a mixture of a carboxylic acid and a carboxylic anhydride compound, was obtained. The appearance of the obtained compound is a colorless solid, and the purity by GPC (GPC area%) is 2.4% for the polyvalent carboxylic acid high molecular weight mixture represented by the formula (a2 to a4), and the formula (a1) 82.9% of the polycarboxylic acid represented by the formula (a5), 1.5% of cyclohexane-1,2,4-tricarboxylic acid represented by the formula (a5), and 4-methylhexa represented by the formula (a6). Hydrophthalic acid was 5.4% and 4-methylhexahydrophthalic anhydride was 7.8%. The functional group equivalent was 188.8 g / eq, the ICI viscosity at 150 ° C was 1.49 Pa · s, and the softening point was 95.3 ° C. FIG. 4 shows a GPC chart of the obtained compound.
式(a1)中、R9はメチル基、またはカルボキシル基である。In the formula (a1), R 9 is a methyl group or a carboxyl group.
式(a2〜a4)中、R9は前記と同じ意味を表す。 In the formulas (a2 to a4), R9 has the same meaning as described above.
実施例24;熱硬化性光反射用樹脂組成物の調製
実施例23で得られた多価カルボン酸組成物(C−8)、EHPE−3150(ダイセル化学工業(株)製 脂環式エポキシ樹脂)、ヒシコーリンPX−4MP(日本化学工業(株)製 硬化触媒)、FB−910(電気化学工業(株)製 シリカ)、CR−75(石原産業(株)製 酸化チタン)、を使用して、表8に示した配合表に従って各成分を配合し、ミキサーによって十分混練した後、ミキシングロールにより所定条件で溶融混練し、冷却、粉砕を行い、実施例24の熱硬化性樹脂組成物を調製した。Example 24: Preparation of thermosetting resin composition for light reflection Polyvalent carboxylic acid composition (C-8) obtained in Example 23, EHPE-3150 (Alicyclic epoxy resin manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.) ), Hishicolin PX-4MP (curing catalyst manufactured by Nippon Chemical Industry Co., Ltd.), FB-910 (silica manufactured by Denki Kagaku Kogyo Co., Ltd.), CR-75 (titanium oxide manufactured by Ishihara Sangyo Co., Ltd.) After blending the components according to the blending table shown in Table 8, sufficiently kneading with a mixer, melt-kneading under predetermined conditions with a mixing roll, cooling and pulverizing to prepare a thermosetting resin composition of Example 24. did.
実施例24で得られた熱硬化性樹脂組成物の配合比と、そのガラス転移温度、線膨張係数、反射率の結果を表8に表す。なお、表8中の各成分の配合量の単位は重量部であり、空欄は当該成分を使用していないことを表す。 Table 8 shows the compounding ratio of the thermosetting resin composition obtained in Example 24 and the results of its glass transition temperature, linear expansion coefficient, and reflectance. In addition, the unit of the compounding amount of each component in Table 8 is part by weight, and a blank column indicates that the component is not used.
実施例25;熱硬化性光反射用樹脂組成物の調製
実施例10で得られた多価カルボン酸(A−3)、EHPE−3150(ダイセル化学工業(株)製 脂環式エポキシ樹脂)、ヒシコーリンPX−4MP(日本化学工業(株)製 硬化触媒)、FB−910(電気化学工業(株)製 シリカ)、CR−75(石原産業(株)製 酸化チタン)、を使用して、表9に示した配合表に従って各成分を配合し、ミキサーによって十分混練した後、ミキシングロールにより所定条件で溶融混練し、冷却、粉砕を行い、実施例25の熱硬化性樹脂組成物を調製した。Example 25: Preparation of thermosetting resin composition for light reflection The polyvalent carboxylic acid (A-3) obtained in Example 10, EHPE-3150 (alicyclic epoxy resin manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.), Using Hishicolin PX-4MP (curing catalyst manufactured by Nippon Chemical Industry Co., Ltd.), FB-910 (silica manufactured by Denki Kagaku Kogyo Co., Ltd.), CR-75 (titanium oxide manufactured by Ishihara Sangyo Co., Ltd.) Each component was blended according to the blending table shown in No. 9, sufficiently kneaded by a mixer, then melt-kneaded under predetermined conditions by a mixing roll, cooled and pulverized to prepare a thermosetting resin composition of Example 25.
実施例25で得られた熱硬化性樹脂組成物の配合比と、そのガラス転移温度、線膨張係数、反射率の結果を表9に表す。なお、表9中の各成分の配合量の単位は重量部であり、空欄は当該成分を使用していないことを表す。 Table 9 shows the mixing ratio of the thermosetting resin composition obtained in Example 25 and the results of its glass transition temperature, linear expansion coefficient, and reflectance. In addition, the unit of the compounding amount of each component in Table 9 is part by weight, and a blank column indicates that the component is not used.
本発明を特定の態様を参照して詳細に説明したが、本発明の精神と範囲を離れることなく様々な変更および修正が可能であることは、当業者にとって明らかである。
なお、本出願は、2014年7月24日付で出願された日本国特許出願(特願2014−150862)、2014年10月17日付で出願された日本国特許出願(特願2014−212176)、2014年12月16日付で出願された日本国特許出願(特願2014−254374)に基づいており、その全体が引用により援用される。また、ここに引用されるすべての参照は全体として取り込まれる。Although the present invention has been described in detail with reference to particular embodiments, it will be apparent to those skilled in the art that various changes and modifications can be made without departing from the spirit and scope of the invention.
The present application is a Japanese patent application filed on July 24, 2014 (Japanese Patent Application No. 2014-150862), a Japanese patent application filed on October 17, 2014 (Japanese Patent Application No. 2014-212176), It is based on a Japanese patent application filed on December 16, 2014 (Japanese Patent Application No. 2014-254374), which is incorporated by reference in its entirety. Also, all references cited herein are incorporated in their entirety.
本発明の多価カルボン酸およびそれを含有する多価カルボン酸組成物は、硬化時に揮発が少なく硬化性に優れ、その硬化物は優れた透明性、硬さの硬化物を与えるので、これを用いたエポキシ樹脂組成物は、電気電子材料用途、特に光半導体封止用、光半導体反射材として有用である。また本発明の多価カルボン酸およびそれを含有する多価カルボン酸組成物は、その硬化物のガラス転移温度を十分高めることができ、成形性に優れ、硬化物への着色が少ないので、それを用いた熱硬化性樹脂組成物は、半導体装置用の封止材、反射材として有用である。 The polycarboxylic acid of the present invention and the polycarboxylic acid composition containing the same have less volatilization during curing and have excellent curability, and the cured product gives a cured product having excellent transparency and hardness. The epoxy resin composition used is useful for electric and electronic materials, particularly for optical semiconductor encapsulation and as an optical semiconductor reflector. Moreover, the polyvalent carboxylic acid of the present invention and the polycarboxylic acid composition containing the same can sufficiently increase the glass transition temperature of the cured product, have excellent moldability, and have less coloring to the cured product. Is useful as a sealing material and a reflecting material for a semiconductor device.
Claims (16)
下記式(1−1)で表される多価カルボン酸と、該多価カルボン酸の多量体とを含み、
下記式(1−1)で表される多価カルボン酸のGPC面積%が92%以下である、
反応物。
Includes a polyvalent carboxylic acid represented by the following formula (1-1), and multimers of the polycarboxylic acid,
GPC area% of polyvalent carboxylic acid represented by the following formula (1-1) is 92% or less,
Reactants.
トリメリット酸、無水トリメリット酸、シクロヘキサントリカルボン酸、シクロヘキサントリカルボン酸無水物、ピロメリット酸、水添ピロメリット酸、ピロメリット酸無水物、水添ピロメリット酸無水物、ヘキサヒドロ無水フタル酸、およびメチルヘキサヒドロ無水フタル酸から選ばれる1種または2種以上の化合物が、全体の1重量%〜90重量%を占める、請求項10又は請求項11に記載の熱硬化性樹脂組成物。 Further trimellitic acid, trimellitic anhydride, cyclohexanetricarboxylic acid, cyclohexanetricarboxylic anhydride, pyromellitic acid, hydrogenated pyromellitic acid, pyromellitic anhydride, hydrogenated pyromellitic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, and Including a curing agent for a thermosetting resin containing one or more compounds selected from methylhexahydrophthalic anhydride,
Trimellitic acid, trimellitic anhydride, cyclohexanetricarboxylic acid, cyclohexanetricarboxylic anhydride, pyromellitic acid, hydrogenated pyromellitic acid, pyromellitic anhydride, hydrogenated pyromellitic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, and methyl The thermosetting resin composition according to claim 10 or 11, wherein one or more compounds selected from hexahydrophthalic anhydride account for 1% to 90% by weight of the whole.
Applications Claiming Priority (7)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014150862 | 2014-07-24 | ||
JP2014150862 | 2014-07-24 | ||
JP2014212176 | 2014-10-17 | ||
JP2014212176 | 2014-10-17 | ||
JP2014254374 | 2014-12-16 | ||
JP2014254374 | 2014-12-16 | ||
PCT/JP2015/071044 WO2016013642A1 (en) | 2014-07-24 | 2015-07-23 | Polycarboxylic acid and polycarboxylic acid composition containing same, epoxy resin composition, thermosetting resin composition, and cured material of same, and optical semiconductor device |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2016013642A1 JPWO2016013642A1 (en) | 2017-06-29 |
JP6669653B2 true JP6669653B2 (en) | 2020-03-18 |
Family
ID=55162796
Family Applications (3)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2015519667A Expired - Fee Related JP5864031B1 (en) | 2014-07-24 | 2015-04-06 | Polyvalent carboxylic acid and polyvalent carboxylic acid composition, epoxy resin composition, thermosetting resin composition, cured product thereof, and optical semiconductor device containing the same |
JP2016535981A Active JP6669653B2 (en) | 2014-07-24 | 2015-07-23 | Polyvalent carboxylic acid, polyvalent carboxylic acid composition containing the same, epoxy resin composition, thermosetting resin composition, cured product thereof, and optical semiconductor device |
JP2015250234A Expired - Fee Related JP6595329B2 (en) | 2014-07-24 | 2015-12-22 | Polyvalent carboxylic acid and polyvalent carboxylic acid composition, epoxy resin composition, thermosetting resin composition, cured product thereof, and optical semiconductor device containing the same |
Family Applications Before (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2015519667A Expired - Fee Related JP5864031B1 (en) | 2014-07-24 | 2015-04-06 | Polyvalent carboxylic acid and polyvalent carboxylic acid composition, epoxy resin composition, thermosetting resin composition, cured product thereof, and optical semiconductor device containing the same |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2015250234A Expired - Fee Related JP6595329B2 (en) | 2014-07-24 | 2015-12-22 | Polyvalent carboxylic acid and polyvalent carboxylic acid composition, epoxy resin composition, thermosetting resin composition, cured product thereof, and optical semiconductor device containing the same |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
JP (3) | JP5864031B1 (en) |
KR (2) | KR20170048356A (en) |
CN (2) | CN107074785A (en) |
TW (2) | TW201605816A (en) |
WO (2) | WO2016013257A1 (en) |
Families Citing this family (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2016013257A1 (en) * | 2014-07-24 | 2016-01-28 | 日本化薬株式会社 | Polycarboxylic acid, polycarboxylic acid composition, epoxy resin composition and heat-curable resin composition each containing said polycarboxylic acid, cured products of said compositions, and optical semiconductor device |
JP6441024B2 (en) * | 2014-10-22 | 2018-12-19 | 信越化学工業株式会社 | Epoxy resin containing silicone-modified epoxy resin and polyvalent carboxylic acid compound and cured product thereof |
WO2016125874A1 (en) * | 2015-02-05 | 2016-08-11 | 日本化薬株式会社 | Thermosetting resin composition including polyhydric alcohol compound, acid anhydride compound and thermosetting resin, polycarboxylic acid resin, thermosetting resin composition using same, and photosemiconductor device using either one of the thermosetting resin compositions as sealing material or reflective material |
WO2016136281A1 (en) * | 2015-02-27 | 2016-09-01 | クラスターテクノロジー株式会社 | Curable epoxy resin composition for white reflector molding, cured product of same, substrate for optical semiconductor element mounting, and optical semiconductor device |
JP2017095548A (en) * | 2015-11-19 | 2017-06-01 | 信越化学工業株式会社 | Thermosetting epoxy resin composition for optical semiconductor element encapsulation and optical semiconductor deice using the same |
JPWO2017131152A1 (en) * | 2016-01-27 | 2018-11-29 | クラスターテクノロジー株式会社 | Curable epoxy resin composition for white reflector and cured product thereof, substrate for mounting optical semiconductor element, and optical semiconductor device |
JP2017137408A (en) * | 2016-02-03 | 2017-08-10 | クラスターテクノロジー株式会社 | Curable epoxy resin composition for white reflector and cured article thereof, substrate for mounting optical semiconductor element and optical semiconductor device |
CN111770967A (en) * | 2018-02-28 | 2020-10-13 | 日立化成株式会社 | Composite powder |
CN109134827B (en) * | 2018-08-21 | 2021-01-12 | 合肥工业大学 | Tri-functionality carboxyl epoxy resin curing agent and preparation method thereof |
CN111410736B (en) * | 2020-05-06 | 2022-02-18 | 山东迈特新材料科技有限公司 | Seaker polyester derivative and preparation method thereof |
JP7567317B2 (en) | 2020-09-24 | 2024-10-16 | 株式会社レゾナック | Light-reflecting thermosetting resin composition, optical semiconductor element mounting substrate, and optical semiconductor device |
CN113698575B (en) * | 2021-09-02 | 2022-04-26 | 四川大学 | Siloxane Schiff base structure-based high-impact-resistance remodelable flame-retardant epoxy resin and preparation method thereof |
CN114853996B (en) * | 2022-05-18 | 2024-02-02 | 中南民族大学 | High-temperature-resistant hyperbranched polyester, preparation method, application and nylon composite material |
KR102638827B1 (en) * | 2023-08-14 | 2024-02-21 | 주식회사 엠티지 | Silicon composition and gasket |
Family Cites Families (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5833243B2 (en) * | 1975-04-22 | 1983-07-19 | 大日本インキ化学工業株式会社 | Jyushiso Saibutsu |
JPS605615B2 (en) * | 1976-05-28 | 1985-02-13 | 東レ株式会社 | Polyamide molding composition |
ES2058239T3 (en) * | 1987-11-27 | 1994-11-01 | Enichem Sintesi | LIQUID COMPOSITION THERMOFRAGUANTE CONTAINING A POLYEPOXIDE. |
JPH02187421A (en) * | 1988-08-19 | 1990-07-23 | Haisoole Japan Kk | Ultraviolet ray transmitting protective or supporting material for ultraviolet ray sensitive or transmitting element |
JP2724499B2 (en) * | 1989-05-25 | 1998-03-09 | 新日本理化株式会社 | Epoxy resin composition |
US5371167A (en) * | 1992-01-27 | 1994-12-06 | Basf Corporation | Carboxyl-functional compound for curable coating composition |
JPH09176528A (en) * | 1995-12-25 | 1997-07-08 | Dainippon Ink & Chem Inc | Resin composition for powder coating |
US5744522A (en) * | 1996-09-13 | 1998-04-28 | Mitsui Toatsu Chemicals, Inc. | Low gloss coating compositions |
JP3876251B2 (en) * | 2003-12-12 | 2007-01-31 | スタンレー電気株式会社 | Thermosetting resin composition and light emitting diode using the composition as sealant |
JP4716031B2 (en) * | 2004-07-21 | 2011-07-06 | 日産化学工業株式会社 | Heat-resistant and water-soluble flux composition for solder |
US9387608B2 (en) * | 2006-11-15 | 2016-07-12 | Hitachi Chemical Company, Ltd. | Thermosetting resin composition for light reflection, method for manufacturing the resin composition and optical semiconductor element mounting substrate and optical semiconductor device using the resin composition |
JP2008144127A (en) * | 2006-11-15 | 2008-06-26 | Hitachi Chem Co Ltd | Thermosetting resin composition for light reflection, photosemiconductor element-loading substrate using the same, photosemiconductor device, and manufacturing process for the articles |
JP5638812B2 (en) * | 2010-02-01 | 2014-12-10 | 株式会社ダイセル | Curable epoxy resin composition |
WO2012002404A1 (en) * | 2010-06-30 | 2012-01-05 | 日本化薬株式会社 | Polyvalent carboxylic acid composition, curing agent composition, and curable resin composition containing polyvalent carboxylic acid composition or curing agent composition as curing agent for epoxy resin |
JP6021416B2 (en) * | 2012-05-01 | 2016-11-09 | 日東電工株式会社 | Lead frame with reflector for optical semiconductor device, optical semiconductor device using the same, and manufacturing method thereof |
JP2015165013A (en) * | 2014-02-05 | 2015-09-17 | 日本化薬株式会社 | Epoxy resin curing agent composition and epoxy resin composition |
WO2016013257A1 (en) * | 2014-07-24 | 2016-01-28 | 日本化薬株式会社 | Polycarboxylic acid, polycarboxylic acid composition, epoxy resin composition and heat-curable resin composition each containing said polycarboxylic acid, cured products of said compositions, and optical semiconductor device |
-
2015
- 2015-04-06 WO PCT/JP2015/060776 patent/WO2016013257A1/en active Application Filing
- 2015-04-06 JP JP2015519667A patent/JP5864031B1/en not_active Expired - Fee Related
- 2015-04-06 CN CN201580051872.3A patent/CN107074785A/en active Pending
- 2015-04-06 KR KR1020177005173A patent/KR20170048356A/en unknown
- 2015-04-13 TW TW104111725A patent/TW201605816A/en unknown
- 2015-07-23 JP JP2016535981A patent/JP6669653B2/en active Active
- 2015-07-23 WO PCT/JP2015/071044 patent/WO2016013642A1/en active Application Filing
- 2015-07-23 KR KR1020177005178A patent/KR20170048357A/en unknown
- 2015-07-23 CN CN201580051996.1A patent/CN106795125A/en active Pending
- 2015-07-24 TW TW104124033A patent/TW201609676A/en unknown
- 2015-12-22 JP JP2015250234A patent/JP6595329B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TW201605816A (en) | 2016-02-16 |
TW201609676A (en) | 2016-03-16 |
CN107074785A (en) | 2017-08-18 |
WO2016013257A1 (en) | 2016-01-28 |
CN106795125A (en) | 2017-05-31 |
JP2016135764A (en) | 2016-07-28 |
KR20170048357A (en) | 2017-05-08 |
JP5864031B1 (en) | 2016-02-17 |
WO2016013642A1 (en) | 2016-01-28 |
JPWO2016013257A1 (en) | 2017-04-27 |
KR20170048356A (en) | 2017-05-08 |
JP6595329B2 (en) | 2019-10-23 |
JPWO2016013642A1 (en) | 2017-06-29 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6669653B2 (en) | Polyvalent carboxylic acid, polyvalent carboxylic acid composition containing the same, epoxy resin composition, thermosetting resin composition, cured product thereof, and optical semiconductor device | |
JP5574447B2 (en) | Polyvalent carboxylic acid composition and method for producing the same, and curable resin composition containing the polyvalent carboxylic acid composition | |
JP5878862B2 (en) | Curable resin composition and cured product thereof | |
JP5948317B2 (en) | Polyvalent carboxylic acid resin and composition thereof | |
JP5730852B2 (en) | Method for producing organopolysiloxane, organopolysiloxane obtained by the production method, and composition containing the organopolysiloxane | |
JP6058684B2 (en) | Polyvalent carboxylic acid resin and epoxy resin composition | |
JP6143359B2 (en) | Silicone-modified epoxy resin and composition thereof | |
JP6671222B2 (en) | Epoxy resin, epoxy resin composition containing the same and cured product thereof | |
JP6884192B2 (en) | Epoxy resin curing agent composition, epoxy resin composition containing it, cured product thereof | |
JP6377445B2 (en) | Epoxy resin composition and cured product thereof | |
JP6501359B2 (en) | Curable resin composition containing a sulfur-based antioxidant, epoxy resin composition and cured product thereof | |
WO2014112539A1 (en) | Epoxy resin, epoxy resin composition and cured material | |
JP6602170B2 (en) | Polyvalent carboxylic acid resin and polyvalent carboxylic acid resin composition, epoxy resin composition, thermosetting resin composition, cured product thereof, and semiconductor device containing the same | |
JP6376692B2 (en) | Carboxylic anhydride group-containing cyclic siloxane compound, epoxy resin composition containing the same, and cured product thereof | |
JPWO2011043474A1 (en) | Curable resin composition and cured product thereof | |
JP6767816B2 (en) | Polycarboxylic acid and polyvalent carboxylic acid composition containing it, epoxy resin composition, cured products thereof, and optical semiconductor device | |
JP6478808B2 (en) | Polyvalent carboxylic acid, polyvalent carboxylic acid composition containing the same, and epoxy resin composition | |
JP2017082073A (en) | Epoxy resin curing agent composition, epoxy resin composition comprising the same, and cured product thereof |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20180417 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20190514 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20190710 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20191105 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20191125 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20200204 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20200227 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6669653 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |