KR20170029435A - 치료용 처치 디바이스 - Google Patents

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KR20170029435A
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테라끌리옹 에스에이
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Abstract

다음의 구성요소들을 포함한 치료용 처치를 위한 디바이스(1): HIFU 트랜듀서(2) (HIFU 트랜듀서(2)가 초점 포인트(5)를 갖는 펄스(3)의 방출을 포함한 적어도 하나의 프로빙 동작 특성으로 동작되는 적어도 프로빙 모드에서, 그리고 HIFU 트랜듀서(2)가 프로빙 동작 특성과 상이한 적어도 하나의 처치 동작 특성에 의하여 동작되는 처치 모드에서, HIFU 펄스들(3)을 발생시키고 동작 가능한 표적(4)으로 송신하기 위해 제공됨), 검출기(6) (상기 프로빙 단계 동안 상기 표적(4)에서 상기 HIFU 펄스들(3)에 의해 야기된 조직 속성들의 변화를 검출하기 위함), 산출 수단(7) (적어도 하나의 프로빙 파라미터를 결정하기 위함), 제어부(8) (상기 프로빙 파라미터들에 기초하여 상기 처치 파라미터들을 정의하기 위함).

Description

치료용 처치 디바이스{THERAPEUTIC TREATMENT DEVICE}
본 발명은 독립 청구항들에 따른 치료용 처치를 위한 디바이스, 치료용 처치를 제어하기 위한 방법, 조직을 처치하기 위한 방법 및 컴퓨터 프로그램 제품에 관한 것이다.
특히, 본 발명은 고 강도 집속 초음파들(HIFU)을 가진 처치를 위한 디바이스들 및 방법들에 관한 것이다.
종래에, HIFU 치료에서, 음향 처치 트랜듀서는 표적 조직으로 집중된 음향 파들을 방출한다. 이들 파동들은 조직에 의해 흡수되며, 이것은 초점 영역에서의 조직에서 온도 상승을 유발한다. 이러한 온도 증가는 결과적으로 국부 괴사를 유발하며 그에 의해 임의의 직접 접촉 없이 멀리서 살아있는 조직의 파괴를 허용한다. 동작의 또 다른 모드는 초음파 장이 존재하고, 생성되거나 또는 조직으로 주입되는 기포들과 상호 작용하여, 상기 조직에 대한 기계적 손상을 생성하는, 공동 현상(cavitation)이다. 이러한 동작의 모드의 예는 "histotripsy"로 별명이 붙여진다.
대부분의 HIFU 시스템들에서, 펄스 및 휴지(pause) 방법이 사용된다. 그 안에서, 빔은 표적 조직상에서의 매우 작은 초점으로 집중된다. 빔은 HIFU의 방출 동안 처치될 조직에 대하여 고정된다. 미리 정의된 휴지 기간 후, 트랜듀서는 또 다른 위치로 이동되며 새로운 펄스가 방출된다.
이러한 집중된 빔들은 그것들이, 예를 들면, 상기 조직의 영역이 불필요한 높은 온도가 되게 함으로써 초점 주위에서의 과잉 처치를 야기할 수 있기 때문에 불리할 수 있다. 이러한 경우에, 온 라인 초음파 영상에 의해 가시적일 수 있는 탈기 또는 비등(boiling)이 일어날 수 있다. 이러한 상황은 한편으로 그것이 병변 크기 예측 가능성에 영향을 주기 때문에, 즉 건강한 이웃 조직이 영향을 받을 수 있기 때문에 바람직하지 않다. 다른 한편으로, 음향 에너지가 이미 죽은 조직상에서 낭비되어, 불필요한 긴 처치 지속 기간들을 야기한다.
HIFU 기술과 연관된 주요 도전들 중 하나는 이러한 기술에 의한 온도 증가 및 생성된 병변의 크기의 제어이다. 제어에 대한 가능성들 중에서 몇몇 디바이스는 MRI 영상을 구현하며, 이것은 처치된 영역에서 온도의 직접 시각화를 허용한다. 이들 MRI 시스템들은, 그러나, 값비싸며 높은 처치 비용들을 야기한다.
나선형 궤적을 따르는 단일 펄스에 의해 열 병변들을 생성하는 것이 제안되어 왔다(예로서, MR-유도 집속 초음파를 가진 국부 온열 요법: 표적 영역에서 온도 균일성을 위해 최적화된 초점 포인트의 나선형 궤적; 자기 공명 영상의 저널, 12:571-583 참조). 초당 죽는 조직의 체적은, 열 구축, 즉 주변 조직의 예열 때문에, 펄스를 따라 증가한다. 주요 문제점들 중 하나는, 특히 조직의 직접 온도 측정의 부재 시, 크기 및 위치에 관하여 생성된 병변의 제어이다.
US 2008/0114274 A1은 온도 측정을 위해 MRI 영상을 사용하며 미리 결정된 궤적 상에서 초점 포인트를 이동시키도록 제안한다. 이러한 움직임은 온도의 공간적 분포를 야기한다. 움직임 동안, 온도는 MRI 영상 프로브로 측정된다.
상기 서술된 바와 같이, 이러한 MRI 시스템들은 값비싸며 높은 처치 비용들을 야기한다. 뿐만 아니라, 이러한 시스템에서, 열의 분배는 단지 초점 포인트의 움직임을 통해서만 달성되어, 열 분배 및 상이한 표적 피처들로의 적응화의 제한된 옵션들을 야기한다.
본 발명의 목적은 종래 기술의 단점들을 방지하며, 특히 생성된 병변들의 신뢰 가능하고, 저렴하며 적응적인 제어를 제공하는 디바이스 및 방법을 제공하는 것이다.
상기 목적은 독립 청구항들에 따른 디바이스, 방법들 및 프로그램에 의해 달성된다.
특히, 상기 목적은 다음의 구성요소들을 포함한 치료용 처치를 위한 디바이스로 달성된다: HIFU 트랜듀서는 HIFU 펄스들을 발생시키며 표적으로 송신하기 위해 제공된다. 상기 HIFU 트랜듀서는 프로빙 단계 동안 적어도 프로빙 모드에서 및 치처 단계 동안 처치 모드에서 동작 가능하다. 프로빙 단계에서, HIFU 트랜듀서는 적어도 하나의 프로빙 동작 특성으로 동작된다. 상기 프로빙 동작 특성은 초점 포인트를 갖는 펄스의 방출을 포함한다. 처치 단계에서, HIFU 트랜듀서는 프로빙 동작 특성과 상이한 적어도 하나의 처치 동작 특성으로 동작된다. HIFU 트랜듀서는 여러 개의 트랜듀서들로 구성될 수 있다. 바람직하게는 이들 트랜듀서들은 공통 초점을 공유한다. HIFU 트랜듀서는 또한 다중-요소들로 구성될 수 있다.
상기 디바이스는 프로빙 단계 동안 표적에서 상기 HIFU 펄스들에 의해 야기된 조직 속성들의 변화를 검출하도록 설계된 검출기를 추가로 포함한다.
상기 디바이스는 프로빙 단계 동안 검출기에 의해 검출된 상기 조직 속성들의 변화를 달성하기 위해 필요한 적어도 하나의 프로빙 파라미터를 결정하기 위해 컴퓨터 또는 마이크로프로세서와 같은 산출 수단을 추가로 포함한다.
뿐만 아니라, 상기 프로빙 파라미터들에 기초하여 상기 처치 파라미터들을 정의하기 위한 제어부가 제공된다.
상기 제어부는 또한 처치 단계 동안 상기 HIFU 펄스에 의해 충돌된 적어도 하나의 단일 병변의 표적 상에서의 영역을 증가시킴으로써 프로빙 단계에서 처치 단계로 동작 특성들을 변경하도록 설계된다.
여기에서 사용된 바와 같이 "동작 특성들"은 펄스의 전력 또는 지속 기간, 펄스들 사이에서의 휴지 기간과 같은 "동작 파라미터들", 뿐만 아니라 또한 예를 들면 각각 처치 트랜듀서 또는 초점 포인트의 초점 및/또는 움직임과 같은 다른 특성들을 포함한다. 상기 용어는 또한 트랜듀서에서 표적까지의 거리를 포함할 수 있다.
검출기는 영상 프로브일 수 있다. 대안적으로 또는 부가적으로, 검출기는 조직 수정들을 나타내는 반사 신호 또는 간섭 패턴을 분석할 수 있다. 검출의 개념은 여기에서 참조로서 통합되는, WO 2013/135801에서 추가로 설명된다.
조직 속성들의 변화를 검출하기 위해 사용된 검출기는 바람직하게는 초음파 영상 프로브이다. 상기 검출기는 조직의 음향 속성들의 일부를 추정할 수 있다.
초음파 프로브는 다소 저렴하며 다루기에 용이하다. 뿐만 아니라, 초음파 프로브는 예로서 MRI 영상을 위한 튜브 및 자기 코일과 같은, 추가 요소들 없이 사용 가능하다.
프로빙 단계 동안, 전력은 조직 속성들의 변화를 달성하기 위해 하나의 펄스에서 또 다른 것으로 증가될 수 있다. 예를 들면, 저 전력 펄스로 시작하여 변화가 검출될 때까지 하나의 펄스에서 다음으로 전력을 증가시키는 것이 가능하다. 부가적으로 또는 대안적으로, 예로서 펄스들의 지속 기간이 조정될 수 있다.
대안적으로, 펄스들의 전력 및/또는 지속 기간은 프로빙 단계 동안 일정한 채로 있다. 변화는 그 후 다수의 펄스들을 인가함으로써 조직의 열 구축을 통해 달성될 수 있다.
현재의 맥락에서, 조직 속성들의 변화들은 처치 중에 조직의 음향 속성들에서의 변화에 대한 임의의 표시인 것으로 정의된다. 바람직하게는, 음향 속성들에서의 변화들은 고에코성 마크들이다. 조직의 음향 속성들에서의 변화는 고조파의 광대역 방출들 또는 스펙트럼일 수 있으며, 이것은 공동 현상으로 인해 발생할 수 있다. 특히, 고에코성 마크들은 특히 새롭게 생성된 가스 기포들에서 비롯된, 처치된 영역에서의 조직의 증가된 음향 반사율의 징후이다. 더욱이, 이러한 변화들은, 예를 들면, 온도 증가 및 조직 비등, 관성 공동 현상 또는 조직 경화에서 생겨날 수 있다. 고에코성 마크들은 조직에서의 기포들의 갑작스런 발생을 반영할 수 있으며, 이것은 트랜듀서로 다시 인입하는 초음파들의 반사를 국소적으로 증가시킬 것이다. 이들 반사된 파동들은 결과적으로 처치된 영역의 초음파 이미지에 대한 백색화에 의해 또는 HIFU 트랜듀서로의 반사된 전기 신호의 급증에 의해 검출될 수 있다.
조직 속성들의 이러한 변화가 그것의 도착 시간과 함께, 검출기에 의해 검출될 때, 산출 수단은 적어도 하나, 바람직하게는 모든, 프로빙 파라미터를 결정하며, 이것은 조직 속성들의 변화가 달성될 때까지 사용되었다. 조직의 변화는 예로서 표적으로부터의 전력 반사의 증가 또는 간섭 이미지의 변화 때문에, 검출기에 의해 검출될 수 있다.
산출된 프로빙 파라미터(들)에 기초하여, 처치 파라미터들이 그 후 제어 수단에 의해 설정된다. 바람직하게는, 처치 단계의 적어도 하나의 파라미터는 프로빙 단계에서의 각각의 파라미터와 상이하게 선택된다.
대안적으로, 처치 단계 동안 파라미터들은 프로빙 단계에서 사용된 파라미터들과 동일하다.
처치 단계는 프로빙 단계에 바로 인접하여 시작할 수 있다.
대안적으로, 어떤 HIFU 펄스들도 송신되지 않는 프로빙 단계 및 처치 단계 사이에 휴지가 있다. 이러한 휴지 동안, 표적 상에서의 조직, 즉 환자의 피부는 차가울 수 있다. 이러한 냉각은 과잉 처치의 회피를 포함시킬 수 있으며, 피부 화상과 같은 안전 이슈들을 피할 수 있다.
파라미터들의 산출이 주로 프로빙 단계에서 달성되며 표적의 처치가 주로 처치 단계에서 달성될지라도, 파라미터들의 산출은 후속 처치를 위해 파라미터들을 적응시키기 위해 처치 단계에서 또한 행해질 수 있으며, 즉 프로빙이 처치 단계에서 추가로 발생할 수 있다. 프로빙 단계 동안 제 1 제거가 이미 발생할 수 있으며, 즉 제 1 부분 처치가 프로빙 단계에서 이미 발생할 수 있다.
그것과 함께, 처치 단계를 위한 파라미터들이 예로서, 고에코성 스팟들 또는 오버버닝의 발생을 회피하기 위해서와 같이 설정될 수 있다.
동작 특성들은 처치 단계 동안 HIFU 펄스에 의해 충돌된 적어도 하나의, 바람직하게는 모든 펄스들의 표적 상에서의 영역을 증가시킴으로써 추가로 변경된다. 그러므로, 하나의 펄스에 의해 펄스 단계 동안 충돌된 영역은 확대된다. 영역의 증가는 보다 양호한 열 분포를 야기한다. 그것과 함께, 보다 큰 표적 영역은 동일한 양의 에너지로 처치된다. 이것은 또한 동일한 시간에, 보다 적은 에너지가 처치 단계에서 영역마다 전달됨을 의미한다. 이것은 처치 단계 동안 표적의 오버버닝 또는 비등을 회피한다.
처치가 예로서 미리 정의된 수의 펄스들(예로서, 10 또는 또 다른 수의 펄스들)을 실행함으로써 수행된 후, 새로운 프로빙 단계가 시작될 수 있다. 대안적으로 프로빙 단계는 변화들이 처치 단계 동안 조직에서 검출된다면 시작될 수 있다. 나중에, 새로운 처치 단계가 시작될 수 있다. 이러한 루프는 처치의 끝까지 수행될 수 있다. 새로운 프로빙 단계를 시작하기 전에, HIFU 파동들의 송신이 없는 휴지가 수행될 수 있다. 휴지 시, 표적은 차가울 수 있다.
처치 펄스들 사이에서 피부를 차갑게 하기 위해 처치 단계의 상이한 펄스들 사이에 휴지가 또한 있을 수 있다.
본 발명에 따른 디바이스는 파라미터들의 적응화에 의해 및 HIFU 펄스 동안 처치 영역의 증가에 의해 프로빙 특성들에서 처치 특성들로의 변화를 허용한다. 이러한 디바이스로, 사용된 에너지당 표적에서의 처치된 체적은 보통의 레거시 펄스 방법에 대하여 증가될 수 있다.
표적의 조직 속성들에서의 변화를 달성하기 위해 요구된 처치 파라미터들이 정의된다면, 이러한 변화를 달성하기 위해 요구된 에너지가 알려진다. 그것과 함께, 그것은 최소 에너지로 원하는 효과를 달성하기 위해서와 같은 및 과잉 처치를 회피하기 위해서와 같은 특성들을 적응시킬 수 있다. 그것과 함께, 처치의 길이에 연계된 비용들이 감소되며 처치와 연관된 위험들이 상당히 감소된다.
바람직하게는, 디바이스의 제어는 HIFU 펄스들을 디포커싱(defocus)하거나 또는 스위핑함으로써 상기 HIFU 펄스에 의해 충돌된 표적 상에서의 영역을 증가시키도록 설계된다. 산출 수단 및 제어부는 하나의 공동 컴퓨터에 의해 또는 분리된 전용 마이크로프로세서들에 의해 구현될 수 있다. 프로빙 단계의 출력에 기초하여, 제어 수단은 또한 어떤 이동 패턴 또는 패턴 크기가 상기 특정한 처치 구성을 위해 가장 적절한지를 결정할 수 있다.
펄스를 디포커싱함으로써, 증가된 영역은 하나의 HIFU 펄스로 처치된다. 그것과 함께, 보다 적은 에너지가 영역당 시간마다 전달되며, 이것은 오버버닝 또는 비등을 회피한다.
본 발명에 따른 대안적인 바람직한 디바이스에서, 제어부는 표적에 걸쳐 펄스 동안 상기 초점 포인트를 이동시킴으로써 각각의 HIFU 펄스에 의해 충돌된 표적 상에서의 영역을 증가시키도록 설계된다.
초점 포인트의 이동은 기계적 또는 전자적 수단으로 달성될 수 있다. 기계적 수단의 경우에, 로봇 시스템은 바람직하게는 2 내지 3의 자유도로 트랜듀서를 작동시킨다.
펄스 동안 초점 포인트를 이동시키는 것은 디포커싱과 유사하게, 증가된 영역이 하나의 HIFU 펄스로 처치되는 것을 달성한다. 그것과 함께, 보다 적은 에너지가 영역당 시간마다 전달되며, 이것은 디포커싱에 대해 상기에서 이미 설명된 바와 같이 오버버닝 또는 비등을 회피한다. 초점 포인트는 바람직하게는 미리 결정된 특정 패턴으로, 즉 미리 결정된 궤적을 따라 이동된다. 예를 들면, 패턴은 원형 또는 데이지의 형태에 있을 수 있다.
비등 또는 공동 현상은, 특히 제거 단계 동안 주 전파 축을 따라, 병변 크기를 증가시키기 위해 사용될 수 있다. 이것은 트랜듀서의 f-수가 비등 또는 공동 현상이 병변 크기에서의 정밀도의 상당한 손실을 야기하지 않도록 충분히 작다면 특히 사실이다.
그러므로, 초점 궤적은 이 구역에서 비등 또는 공동 현상을 유지하며 열 침적을 증가시키기 위해 병변의 중심 부분으로 되돌아갈 수 있다. 바람직하게는, 초점은 약 2 내지 12회 제거 펄스 동안 궤적 중심 주위에서 1 mm-원에 걸쳐 이동된다.
바람직하게는, 제거 단계는 제거된 체적을 증가시키기 위해 프로빙 단계 동안 축적된 에너지로부터 이득을 얻도록 설계된다. 예를 들면, 마지막 프로빙 펄스가 조직 온도 또는 유도 비등을 상당히 증가시키며 그것이 이웃하는, 바람직하게는 동일한, 위치에서 전달된 특정한 경우에, 중심 부분으로 되돌아간 특정 궤적은 제거 단계 동안 프로빙 단계의 잔여 열로부터 이득을 얻기 위해 사용될 수 있다. 바람직하게는 제거 펄스 궤적의 중심에 있는 중심 부분은 프로빙 단계에서 예열되었다. 항상 이러한 중심 스팟으로 되돌아가는 궤적으로, 중심에서의 비등은 곧 있을 에너지가 병변 크기를 증가시키도록 유지될 것이다.
본 발명에 따른 디바이스에서, 산출 수단은 바람직하게는 HIFU 펄스들의 지속 기간 및 HIFU 펄스들의 전력 중 적어도 하나를 포함한 파라미터들을 검출하도록 설계된다. 산출 수단은 바람직하게는 및 통상적으로 컴퓨터 또는 마이크로프로세서에 의해 형성된다.
이미 언급된 바와 같이, 처치 단계에서 영역당 전력은 프로빙 단계에서보다 적다. 이것은 적어도 하나의 펄스의 충돌 영역의 증가를 통해 달성된다. 뿐만 아니라, 펄스 지속 기간 및/또는 전력과 같은 몇몇 파라미터들은 프로빙 단계에서 처치 단계로 변경될 수 있다. 지속 기간 및 전력은 영역당 전달된 총 에너지를 정의한다. 지속 기간 및/또는 전력을 측정하는 것 및 측정된 파라미터의 가능한 적응화는 영역당 전력을 감소시키기 위한 및 그러므로 가열을 감소시키기 위한 간단한 방법을 제공한다.
대안적으로, 프로빙 단계에서 산출된 파라미터들은 처치 단계에 대해 대체로 동일하게 설정될 수 있으며 영역당 전달된 에너지의 감소는 전적으로 충돌 영역의 증가에 의해 달성된다. 그럼에도 불구하고, 이들 파라미터들은 바람직하게는 처치 단계에서 (동일한) 파라미터들을 설정하기 위해 프로빙 단계에서 측정된다.
바람직하게는, 디바이스의 제어는 프로빙 단계 동안 2 내지 8, 바람직하게는 4 초의 길이를 가진 HIFU 펄스들을 발생시키도록 설계된다. 펄스 동안 검출기는 조직 속성들의 변화를 검사한다. 하나 이상의 짧은 펄스가, 예로서 초기 펄스 전력이 너무 낮기 때문에 필요할 수 있다. 전력은 조직 속성 변화를 달성하기 위해 하나의 펄스에서 다음으로 증가될 수 있다. 대안적으로, 동일한 전력을 가진 다수의 펄스들은 조직이 다수의 펄스들의 나중 펄스들에 의해 조직 속성들에서의 이러한 변화를 달성하기 위해 다수의 펄스들의 앞서 말한 펄스들에 의해 예열되도록 표적으로 향하여질 수 있다.
부가적으로 또는 대안적으로, 펄스의 지속 기간은 변경될 수 있다. 각각 2 초 또는 8초보다 짧거나 또는 긴 펄스들을 사용하는 것이 또한 가능하다.
제어부는 바람직하게는 처치 단계 동안 8 내지 30 또는 8 내지 10 및/또는 10 내지 30, 바람직하게는 12초의 길이를 가진 HIFU 펄스들을 발생시키도록 추가로 설계된다.
처치 단계 동안 펄스들은 그러므로 바람직하게는 프로빙 단계에서보다 길다. 처치 단계 동안, 펄스에 의해 충돌된 영역은 증가되며, 그러므로 보다 적은 에너지가 영역마다 전달된다. 그러므로, 보다 긴 펄스들은 오버버닝 또는 비등을 야기하지 않고 표적의 제거만을 야기하여 전달될 수 있다.
각각, 처치 단계에서 10초 또는 30초보다 짧거나 또는 긴 펄스들을 사용하는 것이 또한 가능하다. 처치 단계 동안 펄스들은 또한 프로빙 단계에서의 펄스들과 동일한 길이를 가질 수 있다.
바람직하게는, 디바이스의 제어부는 처치 단계 동안 트랜듀서의 전력을, 검출기에 의해 검출된 표적에서 조직 속성들의 변화들을 달성하기 위해 필요한 프로빙 단계 동안 트랜듀서의 전력의 100% 미만으로, 바람직하게는 약 75%로 설정하도록 설계된다.
상기 설명된 바와 같이, 영역당 처치 단계 동안 전력은 오버버닝으로 인한 에너지의 낭비 또는 비등으로 인한 병변 크기의 잘못된 추정을 회피하기 위해 프로빙 단계에 비교하여 더 적다. 처치 단계 동안 트랜듀서의 전력을 프로빙 단계 동안 전력의 100% 미만으로 설정함으로써, 과잉 처치 및 비등이 방지된다. 처치 단계의 펄스들이 프로빙 단계의 펄스들보다 더 길 수 있으므로, 전력의 이러한 감소가 필요할 수 있다.
대안적으로, 프로빙 단계의 전력의 100%가 처치 단계에서 사용된다. 과잉 처치의 회피가 그 후 전적으로 처치 단계 동안 충돌된 영역의 증가를 통해 달성될 수 있다.
본 발명은 또한 다음의 단계들을 포함한, 치료용 처치 디바이스, 바람직하게는 상기 설명된 바와 같은 디바이스를 제어하기 위한 방법에 관한 것이다:
- 검출기로 프로빙 동작 특성들에 의하여 프로빙 단계 동안 동작된 HIFU 트랜듀서에 의해 방출된 HIFU 파동들에 의해 야기된 조직 속성들의 변화들을 검출하는 단계,
- 프로빙 단계 동안 검출기에 의해 검출된 상기 조직 속성들의 변화를 달성하기 위해 필요한 적어도 하나의 프로빙 파라미터를 결정하는 단계,
- 상기 프로빙 파라미터들에 기초하여 처치 단계를 위한 처치 파라미터들을 정의하는 단계,
- 처치 단계 동안 표적 상에서의 적어도 하나의 HIFU 펄스에 의해 충돌된 표적 상에서의 적어도 하나의 펄스의 영역을 증가시킴으로써 프로빙 단계에서 처치 단계로 동작 특성들을 변경하는 단계.
이러한 방법으로 디바이스를 제어함으로써, 영역당 처치 단계에서 전달된 에너지는 조직 속성들의 변화를 이끄는 프로빙 단계 동안 에너지에 비교하여 감소될 수 있다. 이러한 방법으로, 오버버닝 및/또는 고에코성 마크들 및 그러므로, 에너지 낭비 및/또는 예측 가능하지 않은 병변 크기들이 회피될 수 있다.
방법에서, 상기 HIFU 펄스에 의해 충돌된 표적 상에서의 영역은 바람직하게는 HIFU 트랜듀서의 HIFU 펄스들을 디포커싱함으로써 증가된다.
대안적인 바람직한 방법에서, 상기 HIFU 펄스에 의해 충돌된 표적은 표적에 걸쳐 HIFU 트랜듀서의 HIFU 펄스들의 초점 포인트를 이동시킴으로써 증가된다.
HIFU 펄스들을 이동시키거나 또는 디포커싱하는 것은 또한 트랜듀서 요소들의 어레이를 제공함으로써 달성될 수 있으며, 여기에서 각각의 단일 요소는, 예를 들면, 어레이의 다른 요소들의 단계들에 대하여 그것의 단계를 조정함으로써, 명확하게 활성화된다.
바람직한 디포커싱 배열에서, 트랜듀서는 환상면 HIFU 빔을 형성하기 위해 설정되며, 여기에서 빔은 링 초점으로 집중된다. 이것은 자연적 포커싱에 의해 달성될 수 있으며, 즉 트랜듀서의 형태는 환상면이다. 이 경우에, 프로빙 단계는 HIFU 빔이 프로빙될 영역에 위치된 중심을 갖고 구형이도록 트랜듀서의 요소들의 단계를 전자적으로 설정함으로써 실행된다. 또 다른 배열에서, 트랜듀서는 구형이며 처치 단계는 방출된 HIFU 빔이 환상면이도록 트랜듀서에 동력을 공급하는 것으로 실행된다.
어느 하나의 방법은 표적 상에서 영역당 전달된 전력의 감소를 야기한다.
본 발명은 또한 다음의 단계들을 포함한, 치료용 처치 디바이스, 바람직하게는 상기 설명된 바와 같은 디바이스로부터 HIFU로 조직을 처치하기 위한 방법에 관한 것이다:
- 프로빙 단계 동안 프로빙 동작 특성들에 의하여 동작된, HIFU 트랜듀서로 정의된 파라미터들로 HIFU 파동들을 방출하는 단계,
- 검출기로 방출된 HIFU 파동들에 의해 야기된 조직 속성들의 변화들을 검출하는 단계,
- 프로빙 단계 동안 검출기에 의해 검출된 상기 조직 속성들의 변화를 달성하기 위해 필요한 적어도 하나의 프로빙 파라미터를 결정하는 단계,
- 상기 프로빙 특성에 기초하여 처치 단계를 위한 처치 동작 특성들을 정의하는 단계,
- 상기 HIFU 펄스에 의해 충돌된 표적 상에서 적어도 하나의 펄스의 영역을 증가시킴으로써 프로빙 단계에서 처치 단계로 동작 특성들을 변경하는 단계,
- 상기 처치 단계 동안 정의된 파라미터들로 HIFU 파동들을 방출하는 단계.
이러한 처치에서, 영역당 처치 단계에서 전달된 에너지는 조직 속성들의 검출 가능한 변화를 이끄는 프로빙 단계 동안 전달된 에너지에 비교하여 감소될 수 있다. 그것과 함께, 오버버닝 및/또는 고에코성 마크들, 및 그러므로 에너지 낭비 및/또는 예측 가능하지 않은 병변 크기들이 처치 동안 회피될 수 있다. 처치 단계에서 펄스당 전달된 에너지는 프로빙 단계에서 펄스에 의해 전달된 에너지와 비슷할 수 있다.
상기 방법에서, 상기 HIFU 펄스에 의해 충돌된 표적 상에서의 영역은 바람직하게는 HIFU 트랜듀서의 HIFU 펄스들을 디포커싱함으로써 증가된다.
대안적인 바람직한 방법에서, 상기 HIFU 펄스에 의해 충돌된 표적은 표적에 걸쳐 HIFU 트랜듀서의 HIFU 펄스들의 초점 포인트를 이동시킴으로써 증가된다.
어느 하나의 방법은 표적 상에서 영역마다 초당 전달된 에너지의 감소를 야기한다. 표적은 처치되며 제거가 과잉 처치에 대한 에너지를 낭비하지 않고 발생한다.
본 발명은 또한 컴퓨터 프로그램 제품이 컴퓨터상에서 구동될 때, 이전에 언급된 방법 중 임의의 하나의 단계들을 수행하기 위한 소프트웨어 코드 부분들을 포함한 컴퓨터 프로그램 제품에 관한 것이다.
프로그램은 방법을 자동으로 수행하기 위해 사용될 수 있다.
대안적으로, 방법들은 수동으로 수행된다.
본 발명은 또한 디바이스, 바람직하게는 이전에 여기에서 설명된 바와 같은 디바이스에 관한 것이다. 상기 디바이스는 HIFU 펄스들을 발생시키며 표적으로 송신하기 위한 HIFU 트랜듀서를 포함한다. 상기 디바이스는 초점 포인트를 이동시키기 위한 제어부를 추가로 포함한다. 상기 제어부는 미리 정의된 궤적에서 초점 포인트를 이동시켜서, 표적 상에서의 적어도 하나의 포인트가 궤적 상에서의 남아있는 포인트들보다 더 자주 충돌되도록 설계된다.
이러한 배열로, 적어도 하나의 포인트에서의 비등은 궤적이 항상 이러한 특정 포인트로 되돌아감에 따라 유지된다. 그러므로, 병변 크기는 증가될 것이다.
본 발명은 또한 디바이스, 바람직하게는 상기 개시된 바와 같은 디바이스를 제어하기 위한 방법에 관한 것이다. 상기 방법은 트랜듀서로 HIFU 펄스들을 발생시키며 표적으로 송신하는 단계들을 포함한다. 뿐만 아니라, 방법에서 HIFU 펄스의 초점 포인트는 제어부에 의하여 미리 정의된 궤적으로 이동되며, 따라서 표적 상에서의 적어도 하나의 포인트가 궤적 상에서의 남아있는 포인트들보다 더 자주 충돌된다.
이러한 방법으로, 적어도 하나의 포인트에서의 비등은 궤적이 항상 이러한 특정 포인트로 되돌아감에 따라 유지된다. 그러므로, 병변 크기는 증가될 것이다.
설명은 다음에서 본 발명의 비-제한적인 예들을 보여주는, 개략적인 도면들을 참조하여 설명된다.
도 1: 프로빙 단계에서 본 발명에 따른 디바이스의 개략도
도 2: 처치 단계에서 도 1에 따른 디바이스의 개략도
도 3: 본 발명에 따른 제 1 처치 사이클의 다이어그램
도 4: 본 발명에 따른 대안적인 처치 사이클의 다이어그램
도 5: 처치 단계 동안 생성된 병변 및 사용된 궤적
도 6: 처치 단계 동안 초점 포인트의 두 개의 이동 옵션들
도 1은 프로빙 단계에서 본 발명에 따른 디바이스(1)의 개략도를 도시한다. 디바이스는 처치 트랜듀서(2)를 포함한다. 처치 트랜듀서(2)는 표적(4) 상에서의 트랜듀서 출력에서 4초 길이 및 80 Wa의 총 음향 전력의 HIFU 펄스들(3)을 송신한다. 도 1에서 도시된 바와 같이 프로빙 단계에서, HIFU 펄스들(3)은 표적(4) 상에서 초점 포인트(5)를 가진다. HIFU 펄스들(3)은 검출기(6)가 예로서, 표적(4)의 조직에서 고에코성 마크를 검출할 때까지 표적(4)으로 송신된다.
검출기(6)에 및 트랜듀서(2)에 연결되는, 마이크로프로세서의 형태에서의 산출 수단(7)은 고에코성 마크들의 발생, 또는 반사된 신호 또는 간섭 패턴에서의 변화까지 처치 트랜듀서(2)에 의해 사용된 조직 속성들의 변화를 달성하기 위해 필요한 프로빙 파라미터들을 결정한다. 산출 수단(7)은 트랜듀서(2)의 동작을 제어하기 위해 제어부(8)에 추가로 연결된다. 제어부(8)는 프로빙 단계 동안 산출된 파라미터들에 기초하여 처치 단계(도 2 참조)를 위한 처치 파라미터들을 정의하며, 이것은 고에코성 마크들이 표적(4) 상에서 발생할 때까지 사용된다. 제어부(8)는 HIFU 펄스들(3)을 디포커싱함으로써 처치 트랜듀서(2)의 동작 특성들을 추가로 변경한다.
전체 프로세스는 프로세서 유닛(9) 상에서 구동되는 컴퓨터 프로그램에 의해 수행된다.
도 2는 처치 단계에서 도 1의 디바이스(1)를 도시한다. 처치 단계에서, 트랜듀서(2)에 의해 송신된 HIFU 펄스들(3)은 제어부(8)에 의해 디포커싱된다. 그것과 함께, 표적(4)의 보다 큰 영역(A)은 각각의 HIFU 펄스(3)에 의해 충돌된다. 처치 단계에서 HIFU 펄스들은 12초의 길이를 가지며 프로빙 단계의 전력의 75%인 트랜듀서 출력에서 60 Wa의 총 음향 전력으로 송신된다. 처치 트랜듀서(2)는 통상적으로 12초의 10개의 HIFU 펄스들(3)을 표적(4)으로 송신한다.
나중에, 제어부(8)는 파라미터들을 재액세스하기 위해 프로빙 단계의 것들로 다시 처치 트랜듀서(2)의 동작 특성들을 변경한다. 초점 포인트(5)는 그 후 표적(4) 상에서의 또 다른 포인트로 이동된다. 프로빙 단계는 고에코성 마크들이 검출기(6)에 의해 검출될 때까지 다시 구동한다. 나중에, 제어부(8)는 처치 특성들에 의하여 처치 단계로 다시 변한다. 프로빙에서 처치 단계로 및 반대로의 스위칭을 포함한 이러한 스위칭은 처치의 끝까지, 예로서 전체 표적(4)의 제거까지 구동된다.
도 3은 본 발명에 따른 대안적인 방법의 다이어그램을 도시한다. 프로빙 단계에서, 초점 포인트(5)는 고정되며 4초의 다수의 짧은 HIFU 펄스들(3)은 표적(4)으로 전달된다. 펄스들은 고정된 80 Wa를 가진다. 비등의 발생, 즉 고에코성 마크는 반사 전력에서의 상당한 증가 때문에 검출기(6)에 의해 검출된다. 조직 속성들에서의 이러한 변화가 검출기(6)에 의해 검출되면, 파라미터들은 프로세서(7)에 의해 결정되며 제어부(8)는 후속 처치 단계("제거")(2)를 위한 트랜듀서의 전력을 조정할 것이다. 조정은 산출 수단(7)에 의해 산출된 프로빙 단계의 결정된 파라미터들에 기초한다. 처치 단계의 조정된 전력은 프로빙 단계의 전력의 75%이다. 뿐만 아니라, 제어부(8)는 처치 단계의 펄스들(3) 동안 트랜듀서(2)를 이동시킴으로써 미리 결정된 패턴으로 초점 포인트(5)를 이동시킨다. 이들 HIFU 펄스들(3)은 24초의 길이를 가진다. 처치 단계에서의 10개의 펄스들(3)의 송신 후, 트랜듀서는 환자의 피부를 차갑게 하기 위해 추가 펄스들(3)을 전달하는 것을 정지시킨다. 나중에, 표적이 아직 완전히 제거되지 않았다면, 새로운 프로빙 단계가 처치 단계에 앞서 시작할 수 있다.
도 4는 본 발명에 따른 추가의 대안적인 방법에 대한 다이어그램을 도시한다. 프로빙 단계에서 펄스들(3)의 전력 및 지속 기간은 도 3에서 도시된 방법에서와 동일하다. 그러나, 고에코성 마크가 검출기(6)에 의해 검출된 후, 휴지가 도 3에 도시된 바와 같이 처치 단계로의 직접 변화에 반해서 수행된다. 휴지 동안, 환자의 피부는 차가울 수 있다. 휴지 후, 초점 포인트(5)가 제어부(8)에 의해 미리 결정된 패턴으로 이동되는 처치 단계가 시작된다. 처치 단계에서의 펄스들(3)은 도 3 하에서 상기 논의된 바와 동일한 지속 기간 및 전력을 가진다. 처치 단계에서 12초의 제 1 펄스(3) 후, 제어부(8)는 추가 펄스(3)를 송신하도록 트랜듀서(2)를 제어하기 전에 피부를 차갑게 하기 위해 휴지를 다시 야기한다.
도 5는 우측 상에 그려진 초점 포인트의 궤적에 따라 처치 단계 동안 생성된 병변을 좌측 상에 도시한다. 그려진 바와 같이, 초점 포인트의 움직임은 데이지 형이다.
도 6은 에너지 확산이 기계적 수단에 의해 운반되는 상황에서 두 개의 상이한 옵션들을 도시한다. 옵션 A에서, 데카르트 축들을 따라 이동하는 전동 시스템이 사용된다. 이 상황에서, 트랜듀서(2)의 축(B)은 z 축과 평행한 채로 있다. 옵션 B의 바람직한 실시예에서, 트랜듀서는 Θ(극의 각) 및 φ(방위각) 주위에서 기울며, 이것은 트랜듀서의 보다 적은 변위 및 보다 양호한 전체 제어를 야기한다. 이러한 상황에서, 트랜듀서(2)의 중심은 계속해서 고정된 위치에 있는 반면, 트랜듀서 축은 초점(5)이 초점 포인트 경로를 따라 이동하도록 기울어진다. 양쪽 경우들 모두에서, z 축을 따르는 움직임은 상이한 높이들의 병변들을 생성하기 위해 부가될 수 있다.
표 1은 최신 기술("레거시"로서 라벨링된)로부터 알려진 펄스 및 휴지 방법에 본 발명의 방법("고속 스캐닝"으로 라벨링된)을 비교한다. 도시된 바와 같이, 각각의 개개의 병변의 체적은 10배 이상만큼 증가될 수 있다. Ton은 처치 동안 펄스들의 시간을 나타낸다. Toff는 펄스들 사이에서의 냉각을 위해 사용된 시간이다. 펄스 및 휴지 방법은 프로빙 단계를 갖지 않는다. 그러므로, 어떤 시간도 프로빙 단계에서 "레거시" 방법에 대해 도시되지 않는다. 높이, 직경 및 개개의 병변 체적은 각각의 처치 펄스에 의해 응고되는 표적의 크기를 나타낸다.
프로빙 시간 = 프로빙 펄스의 Ton + Toff
프로빙 듀티 사이클: 처치 단계에 대한 프로빙의 빈도를 나타낸다, 여기에서 10개 처치 펄스들마다 하나의 프로빙.
체적 비 = 프로빙 단계에 의해 야기된 처치 지속 기간에서의 증가를 고려하는 제거의 레이트.
표 2는 표 1에서와 동일한 방법을 개시하지만 "고속 스캐닝"을 위한 대안적인 파라미터들을 사용한다. 대안적인 파라미터들로, 각각의 개개의 병변의 체적은 여전히 6배 이상만큼 증가될 수 있다.
'고속 스캐닝' '레거시' 단위
높이 17 9 mm
직경 4.5 1,9 mm
개개의 병변 체적 270 26 mm3 (실린더)
Ton 12 4 s
Toff 30 15 s (펄스들 간 냉각)
프로빙 시간 20 해당 없음 s
프로빙 듀티 사이클 10 해당 없음
체적비 6.1 1,3 (mm3/초)
'고속 스캐닝' '레거시' 단위
높이 8 9 mm
직경 5 1,9 mm
개개의 병변 체적 157 26 mm3 (실린더)
Ton 12 4 s
Toff 30 15 s (펄스들 간 냉각)
프로빙 시간 20 해당 없음 s
프로빙 듀티 사이클 10 해당 없음
체적비 4.5 1,3 (mm3/초)

Claims (18)

  1. 치료용 처치를 위한 디바이스(1)에 있어서,
    HIFU 펄스들(3)을 발생시키며 표적(4)으로 송신하기 위한 HIFU 트랜듀서(2)로서, 상기 HIFU 트랜듀서(2)는 프로빙 단계 동안 적어도 프로빙 모드에서 및 처치 단계 동안 처치 모드에서 동작 가능하고, 상기 프로빙 단계에서 상기 HIFU 트랜듀서(2)는 적어도 하나의 프로빙 동작 특성에 의하여 동작되고, 상기 동작 특성은 초점 포인트(5)를 가진 펄스(3)의 방출을 포함하며, 상기 처치 단계에서 상기 HIFU 트랜듀서(2)는 상기 프로빙 동작 특성과 상이한 적어도 하나의 처치 동작 특성으로 동작되는, 상기 HIFU 트랜듀서(2),
    상기 프로빙 단계 동안 상기 표적(4)에서 상기 HIFU 펄스들(3)에 의해 야기된 조직 속성들의 변화를 검출하도록 설계된 검출기(6),
    상기 프로빙 단계 동안 상기 검출기(6)에 의해 검출된 상기 조직 속성들의 변화를 달성하기 위해 필요한 적어도 하나의 프로빙 파라미터를 결정하기 위한 산출 수단(7),
    상기 적어도 하나의 프로빙 파라미터에 기초하여 상기 처치 파라미터들을 정의하기 위한 제어부(8)를 포함하며,
    상기 제어부(8)는 상기 처치 단계 동안 상기 HIFU 펄스(3)에 의해 충돌된 적어도 하나의 펄스의 상기 표적(4) 상에서의 영역을 증가시킴으로써 상기 프로빙 단계에서 상기 처치 단계로 상기 동작 특성들을 변경하도록 추가로 설계되는, 치료용 처치를 위한 디바이스.
  2. 청구항 1에 있어서,
    상기 제어부(8)는 상기 HIFU 펄스들(3)을 디포커싱함으로써 상기 HIFU 펄스(3)에 의해 충돌된 상기 표적(4) 상에서의 영역을 증가시키도록 설계되는, 치료용 처치를 위한 디바이스.
  3. 청구항 1에 있어서,
    상기 제어부(8)는 상기 표적(4)에 걸쳐 상기 초점 포인트(5)를 이동시킴으로써 상기 HIFU 펄스에 의해 충돌된 상기 표적(4) 상에서의 영역을 증가시키도록 설계되는, 치료용 처치를 위한 디바이스.
  4. 청구항 3에 있어서,
    상기 제어부(8)는 미리 정의된 궤적에서 상기 초점 포인트(5)를 이동시켜서, 상기 표적 상에서의 적어도 하나의 포인트가 상기 궤적 상에서의 남아있는 포인트들보다 더 자주 충돌되도록 설계되는, 치료용 처치를 위한 디바이스.
  5. 청구항 1 내지 청구항 4 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 산출 수단(7)은 HIFU 펄스들(3)의 지속 기간 및 HIFU 펄스들(3)의 전력 중 적어도 하나를 포함한 파라미터들을 추정하도록 설계되는, 치료용 처치를 위한 디바이스.
  6. 청구항 1 내지 청구항 5 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 프로빙 단계 동안 상기 제어부(8)는 2초 내지 8초, 바람직하게는 4초의 길이를 가진 HIFU 펄스들을 발생시키도록 설계되는, 치료용 처치를 위한 디바이스.
  7. 청구항 1 내지 청구항 6 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 처치 단계 동안, 상기 제어부(8)는 8초 내지 30초 또는 8초 내지 10초 및/또는 10초 내지 30초, 바람직하게는 12초의 길이를 가진 HIFU 펄스들(3)을 발생시키도록 설계되는, 치료용 처치를 위한 디바이스.
  8. 청구항 1 내지 청구항 7 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 디바이스(1)의 상기 제어부(8)는 상기 처치 단계 동안 상기 트랜듀서(2)의 전력을 상기 검출기(6)에 의해 검출된 상기 표적(4)에서의 조직 속성들의 변화를 달성하기 위해 필요한 상기 프로빙 단계 동안 상기 트랜듀서(2)의 전력의 100% 미만으로, 바람직하게는 약 75%로 설정하도록 설계되는, 치료용 처치를 위한 디바이스.
  9. 청구항 1 내지 청구항 8 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 트랜듀서(2)는 환상면이며 환상면 HIFU 빔을 형성하도록 설정되고, 상기 빔은 링 초점으로 집중되는, 치료용 처치를 위한 디바이스.
  10. 치료용 처치 디바이스(1), 바람직하게는 청구항 1 내지 청구항 9 중 어느 한 항에 따른 디바이스를 제어하기 위한 방법에 있어서,
    검출기(6)로 프로빙 동작 특성들에 의하여 프로빙 단계 동안 동작된 HIFU 트랜듀서(2)에 의해 방출된 HIFU 파동들(3)에 의해 야기된 조직 속성들의 변화들을 검출하는 단계,
    상기 프로빙 단계 동안 상기 검출기(6)에 의해 검출된 상기 조직 속성들의 변화를 달성하기 위해 필요한 적어도 하나의 프로빙 파라미터를 결정하는 단계,
    상기 프로빙 파라미터들에 기초하여 처치 단계를 위한 처치 파라미터들을 정의하는 단계,
    상기 처치 단계 동안 상기 HIFU 펄스(3)에 의해 충돌된 상기 표적(4) 상에서의 적어도 하나의 펄스의 영역을 증가시킴으로써 상기 프로빙 단계에서 상기 처치 단계로 상기 동작 특성들을 변경하는 단계를 포함하는, 방법.
  11. 청구항 10에 있어서,
    상기 HIFU 펄스(3)에 의해 충돌된 상기 표적 상에서의 영역은 상기 HIFU 트랜듀서(2)의 상기 HIFU 펄스들(3)을 디포커싱함으로써 증가되는, 방법.
  12. 청구항 10에 있어서,
    상기 HIFU 펄스(3)에 의해 충돌된 상기 표적(4) 상에서의 영역은 상기 표적에 걸쳐 상기 HIFU 트랜듀서(2)의 상기 HIFU 펄스들(3)의 초점 포인트(5)를 이동시킴으로써 증가되는, 방법.
  13. 치료용 처치 디바이스(1), 바람직하게는 청구항 1 내지 청구항 9 중 어느 한 항에 따른 디바이스로부터 HIFU로 조직을 처치하기 위한 방법에 있어서,
    프로빙 단계 동안 프로빙 동작 특성들에 의해 동작된 HIFU 트랜듀서(2)로, 정의된 파라미터들로 HIFU 파동들(3)을 방출하는 단계,
    검출기(6)로 방출된 상기 HIFU 파동들(3)에 의해 야기된 조직 속성들의 변화들을 검출하는 단계,
    상기 프로빙 단계 동안 상기 검출기(6)에 의해 검출된 상기 조직 속성들의 변화를 달성하기 위해 필요한 적어도 하나의 프로빙 파라미터를 결정하는 단계,
    상기 프로빙 특성에 기초하여 처치 단계를 위한 처치 동작 특성들을 정의하는 단계,
    상기 HIFU 펄스(3)에 의해 충돌된 상기 표적(4) 상에서의 적어도 하나의 펄스의 영역을 증가시킴으로써 상기 프로빙 단계에서 상기 처치 단계로 상기 동작 특성들을 변경하는 단계,
    상기 처치 단계 동안 정의된 파라미터들로 HIFU 파동들(3)을 방출하는 단계를 포함하는, 방법.
  14. 청구항 13에 있어서,
    상기 HIFU 펄스(4)에 의해 충돌된 상기 표적(4) 상에서의 상기 영역은 상기 HIFU 트랜듀서(2)의 상기 HIFU 펄스들(3)을 디포커싱함으로써 증가되는, 방법.
  15. 청구항 13에 있어서,
    상기 HIFU 펄스(3)에 의해 충돌된 상기 표적(4) 상에서의 상기 영역은 상기 표적(4)에 걸쳐 상기 HIFU 트랜듀서(2)의 상기 HIFU 펄스들(3)의 초점 포인트(5)를 이동시킴으로써 증가되는, 방법.
  16. 컴퓨터 프로그램 제품에 있어서,
    상기 제품이 컴퓨터(9) 상에서 구동될 때, 청구항 9 내지 청구항 15 중 어느 한 항에 따른 방법의 단계들을 수행하기 위한 소프트웨어 코드 부분들을 포함하는, 컴퓨터 프로그램 제품.
  17. 디바이스, 바람직하게는 청구항 1 내지 청구항 9 중 어느 한 항에 따른 디바이스에 있어서,
    HIFU 펄스들(3)을 발생시키며 표적(4)으로 송신하기 위한 HIFU 트랜듀서(2) 및 초점 포인트를 이동시키기 위한 제어부(8)를 포함하며, 상기 제어부(8)는 미리 정의된 궤적으로 상기 초점 포인트(5)를 이동시켜서, 상기 표적 상에서의 적어도 하나의 포인트가 상기 궤적 상에서의 남아있는 포인트들보다 더 자주 충돌되도록 설계되는, 디바이스.
  18. 디바이스(1), 바람직하게는 청구항 17에 따른 디바이스를 제어하기 위한 방법에 있어서,
    트랜듀서(2)로 HIFU 펄스들(3)을 발생시키며 표적(4)으로 송신하는 단계, 제어부(8)로 상기 미리 정의된 궤적으로 초점 포인트(5)를 이동시켜서, 상기 표적 상에서의 적어도 하나의 포인트가 상기 궤적 상에서의 남아있는 포인트들보다 더 자주 충돌되도록 하는 단계를 포함하는, 방법.
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