KR20170023826A - 이중 흡수성 영역을 가진 와이어 그리드 편광기 - Google Patents

이중 흡수성 영역을 가진 와이어 그리드 편광기 Download PDF

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KR20170023826A
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알. 스튜어트 닐슨
브래들리 알. 윌리엄
벤자민 다운아드
디. 브렌트 윌리엄
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목스테크, 인크
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Abstract

선택적으로-흡수성인 와이어 그리드 편광기(10)는 인접한 로드(rod)들 사이의 갭(15)을 가진 투명한 기판(11)의 표면 위에 배치된 평행하고 연장된 로드(14)의 어레이를 포함하고, 각각의 로드는 두 개의 흡수성 리브(12a, 12b) 사이에 끼어진 반사성 와이어(13)를 포함한다. 이러한 와이어 그리드 편광기를 제조하는 방법을 개시한다. 이미지 프로젝션 시스템(40)에서 이러한 와이어 그리드 편광기의 사용을 개시한다.

Description

이중 흡수성 영역을 가진 와이어 그리드 편광기{WIRE GRID POLARIZER WITH DUAL ABSORPTIVE REGIONS}
본 출원은 일반적으로, 선택적으로 흡수성인 와이어 그리드 편광기 및 이미지 프로젝션 시스템(가령, 컴퓨터 프로젝터)에 관한 것이다.
(1) 광 소스(41)와 액정 디스플레이(LCD, 42) 사이에 끼어있거나 배치된 와이어 그리드 편광기(인커밍 와이어 그리드 편광기, 56); 및 (2) X-큐브(43)와 LCD(42) 사이에 끼어있거나 배치된 또 다른 와이어 그리드 편광기(분석 와이어 그리드 편광기, 55)를 포함하는 이미지 프로젝션 시스템(50)이 도 5에 도시된다. 와이어 그리드 편광기들(55 및 56)은 투명한 기판(11)의 표면 위에 배치된 평행하게 연장된 스트립(54)의 어레이를 가질 수 있다. 각각의 스트립(54)은 반사성 와이어(13)와 흡수성 리브(12)를 포함할 수 있다.
광 소스(41)로부터의 광(44)은 인커밍 와이어 그리드 편광기(56)에서 편광될 수 있다. 인커밍 와이어 그리드 편광기(56)는 한 편광(가령, p-편광된 광)을 실질적으로 전달하고, 광(57)의 반대 편광(가령, s-편광된 광)을 실질적으로 반사한다. 인커밍 와이어 그리드 편광기(56)로부터 반사된 광(57)은 프로젝트된 이미지에 악영향을 줄 수 있다(가령, 고스팅(ghosting)). 그러나, 흡수성 리브(12)가 LCD(42)와 반사성 와이어(13) 사이에 배치되기 때문에, LCD(42)로부터 반사된 광(47)은 인커밍 와이어 그리드 편광기(56)에 의해 흡수될 수 있다.
광(44)의 일부는 LCD(42)를 통과하고, 분석 와이어 그리드 편광기(55)에서 추가로 편광될 수 있다. 분석 와이어 그리드 편광기(55)는 한 편광(가령, p-편광된 광)을 실질적으로 전달하고, 광(57)의 반대 편광(가령, s-편광된 광)을 실질적으로 흡수한다. 흡수성 리브(12)가 LCD(42)와 반사성 와이어(13) 사이에 배치되기 때문에, 반대 편광 또는 s-편광된 광은 분석 와이어 그리드 편광기(55)에 의해 흡수될 수 있다. 그리고 나서, 광(44)은, 서로 다른 방향으로부터의 광이 결합되고 프로젝트될 수 있는 X-큐브(42)에 도달할 수 있다. X-큐브(43)에 도달하는 광의 일부는 시스템으로 다시 반사될 수 있다(다시 분석 와이어 그리드 편광기(55)를 향하여). X-큐브(43)로부터 이처럼 도달된 광(48)은 프로젝트된 이미지에 악영향을 줄 수 있다(가령, 고스팅(ghosting)).
X-큐브는 종종 X-큐브 프리즘 또는 크로스 이색성 프리즘이라고도 불린다. X-큐브는 서로 다른 색의 광을 프로젝트될 단일 이미지로 결합하기 위해 컴퓨터 프로젝터에서 흔히 사용된다. X-큐브는 전형적으로 이색성 코팅물이 있고, 큐브를 형성하기 위해 접합된, 4개의 직각 프리즘으로 제조된다.
LCD로부터 반사된 광뿐만 아니라 인커밍 와이어 그리드 편광기로부터 반사된 광 및 X-큐브로부터 반사된 광을 제거, 최소화 또는 없애는 것이 바람직한 것으로 인식되어 왔다. 본 발명은 LCD, X-큐브, 및/또는 인커밍 와이어 그리드 편광기로부터 반사된 광을 흡수하는데 사용될 수 있는 와이어 그리드 편광기의 다양한 실시예에 관한 것이다. 본 발명은 또한 이러한 와이어 그리드 편광기를 제조하는 다양한 방법 및 이러한 와이어 그리드 편광기를 사용하는 개선된 이미지 프로젝션 시스템에 관한 것이다.
일 실시예에서, 선택적으로-흡수성인 와이어 그리드 편광기는 인접한 로드들 사이의 갭을 가진 투명한 기판의 표면 위에 배치된 평행하고 연장된 로드의 어레이를 포함하고, 각각의 로드는 두 개의 흡수성 리브 사이에 끼어진 반사성 와이어를 포함한다.
일 실시예에서, 선택적으로-흡수성인 와이어 그리드 편광기를 제조하는 방법은,
1. 투명한 기판의 표면 위에 흡수성 물질의 층(제1 층)을 증착시키는 단계와,
2. 제1 층의 표면 위에 반사성 물질의 층(제2 층)을 증착시키는 단계와,
3. 제 층의 표면 위에 흡수성 물질의 층(제3 층)을 증착시키는 단계와,
4. 분리된 로드(rod)를 형성하기 위해 세 개의 층을 에칭하는 단계를 포함하되, 상기 로드는 a. 광의 한 편광을 실질적으로 전달시킬 수 있고, b. 두 개의 반대 방향 중 어느 한 방향으로부터 편광기에 입사하는 광의 반대 편광을 실질적으로 흡수할 수 있는 것을 특징으로 한다.
일 실시예에서, 이미지 프로젝션 시스템은, 광 소스와 액정 디스플레이(LCD) 사이에 배치된 인커밍 와이어 그리드 편광기를 포함한다. 인커밍 와이어 그리드 편광기는 인접한 로드(rod)들 사이의 갭을 가진 투명한 기판의 표면 위에 배치된 평행하고 연장된 로드의 어레이를 포함한다. 각각의 로드는 두 개의 흡수성 리브 사이에 끼어진 반사성 와이어를 포함할 수 있다. 인커밍 와이어 그리드 편광기는 광 소스로부터 광을 수신하기 위한 위치에 배치될 수 있고, 광 소스로부터의 광의 한 편광을 실질적으로 전달할 수 있고 반대 편광을 실질적으로 흡수할 수 있다. 인커밍 와이어 그리드 편광기는 LCD로부터 반사된 광을 수신하기 위한 위치에 배치될 수 있고, LCD로부터 반사된 광을 실질적으로 흡수할 수 있다.
도 1은 본 발명의 실시예에 따른, 두 개의 흡수성 리브(12) 사이에 끼어진 와이어(13)를 포함하는 와이어 그리드 편광기(10)의 개략적인 단면도이다.
도 2는 본 발명의 실시예에 따른, 두 개의 흡수성 리브(12) 사이에 끼어진 와이어(13)를 포함하는 와이어 그리드 편광기(10)의 개략적인 사시도이다.
도 3a-c는 본 발명의 실시예에 따른, 와이어 그리드 편광기를 제조하는 방법의 단계를 나타낸다.
도 4는 본 발명의 실시예에 따른, 이미지 프로젝션 시스템이다.
도 5는 종래 기술에 따른 이미지 프로젝션 시스템이다.
정의
광학 구조물에서 사용되는 많은 물질은 광의 일부 양을 흡수하고, 광의 일부 양을 반사하고, 광의 일부 양을 전달한다. 우선 이하의 4가지 정의는 주로 흡수성, 주로 반사성 또는 주로 전달성인 물질 또는 구조물을 구별하도록 의도된다.
1. 본 명세서에서 사용되는 바와 같이, 용어 "흡수성"은 관심 파장에서 광의 실질적인 흡수성을 의미한다.
a. 물질이 "흡수성"인지는 편광기에서 사용되는 다른 물질과 관련된다. 그러므로, 흡수성 구조물은 반사성 구조물이나 전달성 구조물보다 실질적으로 더욱 흡수할 것이다.
b. 물질이 "흡수성"인지는 관심 파장에 의존한다. 물질은 하나의 파장 범위에서 흡수성일 수 있고, 다른 파장 범위에서는 흡수성이 아니다.
c. 일 태양에서, 흡수성 구조물은 관심 파장에서, 40% 보다 많이 흡수할 수 있고, 60% 보다 적게 반사할 수 있다(흡수성 구조물은 광학적을 두꺼운 필름, 즉, 피부 깊이 두께보다 더 큰 필름이라고 가정함).
d. 흡수성 리브는 광의 한 편광을 선택적으로 흡수하는데 사용될 수 있다.
2. 본 명세서에서 사용되는 바와 같이, 용어 "반사성"은 관심 파장에서 광의 실질적인 반사성을 의미한다.
a. 물질이 "반사성"인지는 편광기에서 사용되는 다름 물질과 관련된다. 그러므로, 반사성 구조물은 흡수성 구조물이나 전달성 구조물보다 실질적으로 더욱 반사할 것이다.
b. 물질이 "반사성"인지는 관심 파장에 의존한다. 물질은 하나의 파장 범위에서 반사성일 수 있고, 다른 파장 범위에서는 반사성이 아니다. 일부 파장 범위는 매우 반사성인 물질을 효과적으로 사용할 수 있다. 다른 파장 범위에서, 특히, 물질 퇴화가 더 잘 발생할 것 같은 더 낮은 파장의 범위에서, 물질의 선택은 더욱 제한될 수 있고, 광학 설계자는 원하는 반사율보다 더 낮은 반사율을 가진 물질을 수용할 필요가 있다.
c. 일 태양에서, 반사성 구조물은 관심 파장에서, 80% 보다 많이 반사할 수 있고, 20% 보다 적게 흡수할 수 있다(반사성 구조물은 광학적을 두꺼운 필름, 즉, 피부 깊이 두께보다 더 큰 필름이라고 가정함).
d. 금속은 반사성 물질로 종종 사용된다.
e. 반사성 와이어는 광의 반대 편광으로부터 광의 한 편광을 분리시키는데 사용될 수 있다.
3. 본 명세서에서 사용되는 바와 같이, 용어 "전달성"은 관심 파장에서 광의 실질적인 전달성을 의미한다.
a. 물질이 "전달성"인지는 편광기에서 사용되는 다름 물질과 관련된다. 그러므로, 전달성 구조물은 흡수성 구조물이나 반사성 구조물보다 실질적으로 더욱 전달할 것이다.
b. 물질이 "전달성"인지는 관심 파장에 의존한다. 물질은 하나의 파장 범위에서 전달성일 수 있고, 다른 파장 범위에서는 전달성이 아니다.
c. 일 태양에서, 전달성 구조물은 관심 파장에서, 90% 보다 많이 전달할 수 있고, 10% 보다 적게 흡수할 수 있다.
4. 이들 정의에서 사용된 바와 같이, 용어 "물질"은 특정 구조물의 전체적인 물질을 말한다. 그러므로, "흡수성"인 구조물은, 물질이 일부 반사성 구성 또는 전달성 구성을 포함할지라도, 실질적으로 흡수성인 물질로 제조된다. 그러므로, 예를 들어, 충분한 양의 흡수성 물질로 제조되어서 실질적으로 광을 흡수하는 리브는, 리브가 그 안에 일부 반사성 물질 또는 전달성 물질을 포함할지라도, 흡수성 리브이다.
5. 본 명세서에서 사용된 바와 같이, 용어 "광"은 x-레이, 자외선, 가시광선 및/또는 적외선, 또는 전자기 스페트럼의 다른 영역에서의 광 또는 전자기선이다.
6. 본 명세서에서 사용된 바와 같이, 용어 "끼어진"은 한 아이템(중심 아이템)이 두 개의 다른 아이템(외곽 아이템) 사이에 위치되나, 중심 아이템이 외곽 아이템을 접촉할 필요는 없다.
7. 본 명세서에서 사용된 바와 같이, 용어 "실질적으로 흡수"는 모든 반사된 광이 흡수된다는 것을 의미하지 않고, 그보다는, 현저한 양이 흡수되어서 이미지 프로젝션 시스템에서 의미있는 개선이 있다는 것을 의미한다.
상세한 설명
와이어 그리드 편광기 구조물
도 1-2에서 도시된 바와 같이, 인접한 로드(rod, 14)들 사이의 갭(15)을 가진 투명한 기판(11)의 표면 위에 배치된 평행하고 연장된 로드(14)의 어레이를 포함하는, 선택적으로-흡수성인 와이어 그리드 편광기(10)가 도시된다. 각각의 로드(14)는 두 개의 흡수성 리브들(12) 사이에 끼어진 반사성 와이어(13)를 포함한다. 갭(15)은, 바닥 리브(12b)(즉, 기판에 가장 가까운 리브(12))의 베이스 또는 베이스 근처로부터 상단 리브(12a)(즉, 기판으로부터 가장 멀리 있는 리브(12))까지 연장될 수 있다. 갭(15)은 공기로 충전될 수 있거나, 유리 또는 그 밖의 다른 유전 물질과 같은 다른 물질로 채워질 수 있다.
리브(12)는 원하는 광 파장 범위에서 충분히 흡수성인 임의의 물질을 포함할 수 있다. 일 태양에서, 리브(12)는 게르마늄, 실리콘, 티타늄, 텅스텐, 탄소, 및/또는 탄탈륨을 포함할 수 있다. 일 태양에서, 리브(12)는 적어도 80%의 질량 퍼센트의 게르마늄, 적어도 80%의 질량 퍼센트의 실리콘, 적어도 80%의 질량 퍼센트의 텅스텐, 적어도 80%의 질량 퍼센트의 탄소, 적어도 80%의 질량 퍼센트의 티타늄, 또는 적어도 80%의 질량 퍼센트의 탄탈륨을 포함할 수 있다.
와이어 (13)는 금속성일 수 있는데, 와이어(13)는 금속(실질적으로 순수한 금속 또는 금속 합금)으로 제조될 수 있다. 일 태양에서, 와이어(13)는 알루미늄, 크롬, 은, 및/또는 금을 포함할 수 있다. 일 태양에서, 와이어(13)는 적어도 80%의 질량 퍼센트의 알루미늄, 적어도 80%의 질량 퍼센트의 크롬, 적어도 80%의 질량 퍼센트의 은 또는 적어도 80%의 질량 퍼센트의 금을 포함할 수 있다.
리브들(12)의 적어도 하나는 와이어(13)에 인접할 수 있다. 대안적으로, 편광기의 성능을 개선시키기 위한 또 다른 얇은 필름 물질과 같은 또 다른 물질은 리브(12) 모두 또는 이들 중 하나와 와이어(13) 사이에 배치될 수 있다. 바닥 리브(12b)는 기판(11)에 인접할 수 있고, 또는 얇은 필름과 같은 또 다른 물질은 바닥 리브(12b)와 기판 사이에 배치될 수 있다. 상단 리브(12a)의 상단 표면의 상단에 또 다른 물질이 있거나 있지 않을 수 있다.
와이어(13) 및 리브(12)는 전체적인 와이어 그리드 편광기 설계에 의존하여, 다양한 두께를 가질 수 있다. 일 실시예에서, 와이어(13)는 140 - 220 나노미터의 두께를 가질 수 있고, 리브들(12)은 10 - 30 나노미터의 두께를 각각 가질 수 있다. 로드(14)는 인커밍 광의 파장의 절반보다 작은 피치를 가질 수 있다. 일 실시예에서, 로드(14)는 40 - 160 나노미터의 피치를 가진다.
본 명세서에서 개시된 실시예에 따라 제조된 와이어 그리드 편광기는 450 나노미터 내지 700 나노미터의 광 파장 범위에서, 편광기의 두 측면으로부터(와이어(13)를 끼고 있는 흡수성 리브(12) 때문에 두 측면)광의 한 편광(가령, s-편광된 광)의 적어도 80%를 흡수할 수 있고, 광의 반대 편광(가령, p-편광된 광)의 적어도 80%를 전달할 수 있다. 또 다른 실시예에서, 리브(12)는 450 나노미터 내지 700 나노미터의 파장 범위에서, 광의 한 편광(가령, s-편광된 광)의 40%보다 많이 흡수할 수 있고, 60% 보다 적게 반사할 수 있다. 일 실시예에서, 와이어(13)는 450 나노미터 내지 700 나노미터의 파장 범위에서, 광의 한 편광의 80%보다 많이 반사할 수 있고, 20% 보다 적게 흡수할 수 있다.
제조 방법
이하는, 상기 기술된 구조와 성능 특징을 포함한, 상기 기술되 실시예 들 중 하나 와 같이, 선택적으로-흡수성인 와이어 그리드 편광기의 제종 방법이다. 본 방법은 다음 단계를 포함하되, 기술된 순서로 수행될 수 있다.
1. 투명한 기판(11)의 표면 위에 흡수성 물질의 층(제1 층)(31)을 증착시키는 단계이다. 도 3a 참조.
2. 제1 층의 표면 위에 반사성 물질의 층(제2 층)(32)을 증착시키는 단계이다. 도 3b 참조.
3. 제2 층의 표면 위에 흡수성 물질의 층(제3 층)(33)을 증착시키는 단계이다. 도 3c 참조.
4. 분리된 로드(rod)를 형성하기 위해 세 개의 층(31-33)을 에칭하는 단계이다. 상기 로드는,
a) 광의 한 편광을 실질적으로 전달시킬 수 있고,
b) 두 개의 반대 방향(d1 및 d2) 중 어느 한 방향으로부터 편광기에 입사하는 광의 반대 편광을 실질적으로 흡수할 수 있다. 도 1-2 참조. 두 개의 반대 방향(d1 및 d2)은 기판의 표면에 대해 수직일 수 있다.
이미지 프로젝션 시스템
(1) 광 소스(41)와 액정 디스플레이(LCD, 42) 사이에 배치된 와이어 그리드 편광기(인커밍 와이어 그리드 편광기, 46)와, (2) X-큐브(43)와 LCD(42) 사이에 배치된 또 다른 와이어 그리드 편광기(분석 와이어 그리드 편광기,45)를 포함하는 이미지 프로젝션 시스템(40)이 도 4에 도시된다. LCD(42)는 와이어 그리드 편광기들(45 및 46) 사이에 배치될 수 있다. 인커밍 와이어 그리드 편광기(46) 및 분석 와이어 그리드 편광기(45)는 상기 기술된 와이어 그리드 편광기(10) 실시예와 같은 구조와 성능 특징을 가질 수 있다.
인커밍 와이어 그리드 편광기(46)는 광 소스(41)로부터 광(44)를 수신하기 위한 위치에 배치될 수 있다. 인커밍 와이어 그리드 편광기(46)는 광 소스(41)로부터의 광의 한 편광(가령, p-편광된 광)을 실질적으로 전달할 수 있고, 반대 편광(가령, s-편광된 광)을 실질적으로 흡수할 수 있다. 인커밍 와이어 그리드 편광기(46)는 LCD(42)로부터 반사된 광(47)을 수신하기 위한 위치에 배치될 수 있다. 인커밍 와이어 그리드 편광기(46)는 LCD(42)로부터 반사된 광(47)을 실질적으로 흡수할 수 있다.
분석 와이어 그리드 편광기(45)는 LCD(42)로부터 광(49)을 수신하기 위한 위치에 배치될 수 있다. 분석 와이어 그리드 편광기(45)는 LCD로부터의 광(49)의 한 편광(가령, p-편광된 광)을 실질적으로 전달할 수 있고, 반대 편광(가령, s-편광된 광)을 실질적으로 흡수할 수 있다. 분석 와이어 그리드 편광기(45)는 X-큐브(43)로부터 반사된 광(48)을 수신하기 위한 위치에 배치될 수 있다. 분석 와이어 그리드 편과기(46)는 X-큐브(43)로부터 수신된 광(48)을 실질적으로 흡수할 수 있다.
정상적으로, 편광기(45 및 46)의 와이어는 도 4에 도시된 바와 같이, LCD(42)를 향하지만, 와이어가 광 소스(41) 및/또는 X-큐브를 향하는 반대 컨피규레이션도 본 발명의 범위에 있다.
본 명세서에서의 도면은 스케일에 맞지 않는다. 기판(11)은 전형적으로 두께가 밀리미터에 근접하나, 적어도 가시광선의 편광을 위해, 로드(14)는 전형적으로 두께가 마이크로미터보다 훨씬 작다. 그러므로, 편광기의 다양한 요소를 도시하기 위해, 도면은 스케일에 맞지 않는다. 또한, 전형적은 와이어 그리드 편광기는 도시된 것보다 더 많은 와이어(13)를 가지나, 구조물을 명확하게 도시하기 위하여, 몇몇 와이어(13) 또는 로드(14)만 도면에 도시된다.

Claims (20)

  1. a. 광 소스와 액정 디스플레이(LCD) 사이에 배치된 인커밍 와이어 그리드 편광기와,
    b. 인접한 로드(rod)들 사이의 갭을 가진 투명한 기판의 표면 위에 배치된 평행하고 연장된 로드의 어레이를 포함하는 인커밍 와이어 그리드 편광기 - 각각의 로드는 두 개의 흡수성 리브 사이에 끼어진 반사성 와이어를 포함함 - 와,
    c. 광 소스로부터 광을 수신하기 위한 위치에 배치되고, 광 소스로부터의 광의 한 편광을 실질적으로 전달할 수 있고 반대 편광을 실질적으로 흡수할 수 있는 인커밍 와이어 그리드 편광기와,
    d. 상기 인커밍 와이어 그리드 편광기는 LCD로부터 반사된 광을 수신하기 위한 위치에 배치되고, LCD로부터 반사된 광을 실질적으로 흡수할 수 있는 것을 특징으로 하는 이미지 프로젝션 시스템.
  2. 제 1 항에 있어서,
    a. 분석 와이어 그리드 편광기 - 상기 분석 와이어 그리드 편광기는, i) 인접한 로드들 사이의 갭을 가진 투명한 기판의 표면 위에 배치된 평행하고 연장된 로드의 어레이를 포함하고, 각각의 로드는 두 개의 흡수성 리브 사이에 끼어진 흡수성 와이어를 포함하며, ii) 인커밍 와이어 그리드 편광기로부터 LCD의 반대 측면에 배치됨 - 와,
    b. LCD로부터 분석 와이어 그리드 편광기의 반대 측면에 배치된 X-큐브를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 이미지 프로젝션 시스템.
  3. 제 1 항에 있어서,
    450 나노미터 내지 700 나노미터의 광 파장 범위에서, 편광기는,
    a. 편광기의 두 측면으로부터 광의 한 편광의 적어도 80%를 흡수할 수 있고,
    b. 광의 반대 편광의 적어도 80%를 전달시킬 수 있는 것을 특징으로 하는 이미지 프로젝션 시스템.
  4. 제 1 항에 있어서,
    a. 리브는, 450 미터 내지 700 나노미터의 파장 범위에서 광의 한 편광의 40%보다 많이 흡수하고, 60% 보다 적게 반사할 수 있고,
    b. 와이어는 450 미터 내지 700 나노미터의 파장 범위에서 광의 한 편광의 80%보다 많이 반사하고, 20% 보다 적게 흡수할 수 있는 것을 특징으로 하는 이미지 프로젝션 시스템.
  5. 제 1 항에 있어서, 리브는 적어도 80% 실리콘, 적어도 80% 티타늄 또는 적어도 80% 탄탈륨의 질량 퍼센트를 포함하는 것을 특징으로 하는 이미지 프로젝션 시스템.
  6. 제 1 항에 있어서, 각각의 로드에서, 리브들 중 적어도 하나는 와이어에 인접한 것을 특징으로 하는 이미지 프로젝션 시스템.
  7. 인접한 로드들 사이의 갭을 가진 투명한 기판의 표면 위에 배치된 평행하고 연장된 로드의 어레이를 포함하되, 각각의 로드는 두 개의 흡수성 리브 사이에 끼어진 반사성 와이어를 포함하는 것을 특징으로 하는 선택적으로-흡수성인 와이어 그리드 편광기.
  8. 제 7 항에 있어서,
    450 나노미터 내지 700 나노미터의 광 파장 범위에서, 편광기는,
    a. 편광기의 두 측면으로부터 광의 한 편광의 적어도 80%를 흡수할 수 있고,
    b. 광의 반대 편광의 적어도 80%를 전달시킬 수 있는 것을 특징으로 하는 선택적으로-흡수성인 와이어 그리드 편광기.
  9. 제 7 항에 있어서,
    a. 리브는, 450 미터 내지 700 나노미터의 파장 범위에서 광의 한 편광의 40%보다 많이 흡수하고, 60% 보다 적게 반사할 수 있고,
    b. 와이어는 450 미터 내지 700 나노미터의 파장 범위에서 광의 한 편광의 80%보다 많이 반사하고, 20% 보다 적게 흡수할 수 있는 것을 특징으로 하는 선택적으로-흡수성인 와이어 그리드 편광기.
  10. 제 7 항에 있어서, 로드는 에칭에 의해 형성되어서, 리브와 와이어를 형성하는 것을 특징으로 하는 선택적으로-흡수성인 와이어 그리드 편광기.
  11. 제 7 항에 있어서, 리브는 실리콘, 티타늄, 탄탈륨 또는 실리콘과 티타늄과 탄탈륨의 조합을 포함하는 것을 특징으로 하는 선택적으로-흡수성인 와이어 그리드 편광기.
  12. 제 7 항에 있어서, 리브는 적어도 80% 실리콘, 적어도 80% 티타늄 또는 적어도 80% 탄탈륨의 질량 퍼센트를 포함하는 것을 특징으로 하는 선택적으로-흡수성인 와이어 그리드 편광기.
  13. 제 7 항에 있어서, 와이어는 금속성인 것을 특징으로 하는 선택적으로-흡수성인 와이어 그리드 편광기.
  14. 제 7 항에 있어서, 리브들 중 적어도 하나는 각각의 로드 내에서 와이어에 인접한 것을 특징으로 하는 선택적으로-흡수성인 와이어 그리드 편광기.
  15. 제 7 항에 있어서, 두 리브들은 각각의 로드 내에서 와이어의 반대 측면들에 인접한 것을 특징으로 하는 선택적으로-흡수성인 와이어 그리드 편광기.
  16. 선택적으로-흡수성인 와이어 그리드 편광기를 제조하는 방법에 있어서, 상기 방법은,
    a. 투명한 기판의 표면 위에 흡수성 물질의 층(제1 층)을 증착시키는 단계와,
    b. 제1 층의 표면 위에 반사성 물질의 층(제2 층)을 증착시키는 단계와,
    c. 제2 층의 표면 위에 흡수성 물질의 층(제3 층)을 증착시키는 단계와,
    d. 분리된 로드(rod)를 형성하기 위해 세 개의 층을 에칭하는 단계를 포함하되, 상기 로드는 i) 광의 한 편광을 실질적으로 전달시킬 수 있고, ii) 두 개의 반대 방향 중 어느 한 방향으로부터 편광기에 입사하는 광의 반대 편광을 실질적으로 흡수할 수 있는 것을 특징으로 하는 선택적으로-흡수성인 와이어 그리드 편광기를 제조하는 방법.
  17. 제 16 항에 있어서,
    450 나노미터 내지 700 나노미터의 광 파장 범위에서, 편광기는,
    a. 편광기의 두 측면으로부터 광의 한 편광의 적어도 80%를 흡수할 수 있고,
    b. 광의 반대 편광의 적어도 80%를 전달시킬 수 있는 것을 특징으로 하는 선택적으로-흡수성인 와이어 그리드 편광기를 제조하는 방법.
  18. 제 16 항에 있어서,
    a. 리브는, 450 미터 내지 700 나노미터의 파장 범위에서 광의 한 편광의 40%보다 많이 흡수하고, 60% 보다 적게 반사할 수 있고,
    b. 와이어는 450 미터 내지 700 나노미터의 파장 범위에서 광의 한 편광의 80%보다 많이 반사하고, 20% 보다 적게 흡수할 수 있는 것을 특징으로 하는 선택적으로-흡수성인 와이어 그리드 편광기를 제조하는 방법.
  19. 제 16 항에 있어서, 리브들 중 적어도 하나는 각각의 로드 내에서 와이어에 인접한 것을 특징으로 하는 선택적으로-흡수성인 와이어 그리드 편광기를 제조하는 방법.
  20. 제 16 항에 있어서, 두 리브들은 각각의 로드 내에서 와이어의 반대 측면들에 인접한 것을 특징으로 하는 선택적으로-흡수성인 와이어 그리드 편광기를 제조하는 방법.
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