KR20170000060A - 액정 표시 장치 및 액정 표시 장치의 제조 방법 - Google Patents

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Abstract

본 발명의 일 실시예는, 복수의 화소 영역들로 구획된 기판 상에 배치된 박막 트랜지스터, 상기 복수의 화소 영역들 각각에 배치되며 상기 박막 트랜지스터와 전기적으로 연결된 복수의 화소 전극들, 상기 복수의 화소 전극들에 대향되도록 배치된 지붕층, 상기 복수의 화소 전극들 각각과 상기 지붕층 사이에 배치되며 제1 영역 및 상기 제1 영역의 하부에 배치되며 상기 제1 영역에 대하여 상기 기판과 실질적으로 평행한 방향으로 돌출된 돌출부를 포함하는 제2 영역을 포함하고 서로 이격되어 있는 복수의 미세 공간들, 상기 복수의 미세 공간들 각각의 내측면에 배치된 배향막, 및 상기 복수의 미세 공간들 각각에 채워져 있는 액정을 포함하는, 액정 표시 장치를 개시한다.

Description

액정 표시 장치 및 액정 표시 장치의 제조 방법{Liquid crystal display apparatus and method for manufacturing the same}
본 발명의 실시예들은 액정 표시 장치 및 이의 제조 방법에 관한 것이다.
핸드폰, PDA, 컴퓨터, 대형 TV와 같은 각종 전자기기가 발전함에 따라 이에 적용할 수 있는 평판 표시 장치에 대한 요구가 점차 증대하고 있다. 평판 표시 장치 중 액정 표시 장치(LCD; Liquid Crystal Display)는 낮은 전력 소모, 용이한 동화상 표시 및 높은 콘트라스트비 등의 장점을 갖는다.
액정 표시 장치는 두 장의 표시판 사이에 배치된 액정층을 포함하며, 액정층에 전기장을 인가하여 액정 분자의 배열 방향을 변화시켜 입사광의 편광 방향을 변화시키며, 이를 편광자와 연동시켜 화소 별로 입사광의 투과 여부를 제어함으로써 화상을 표시한다.
일 실시예에 따르면, 기판 상에 희생층을 형성하고 희생층 상부에 지붕층을 형성한 후 희생층을 제거하고, 희생층이 제거된 미세 공간에 액정을 주입시킴으로써 박형의 액정 표시 장치를 제조할 수 있다.
상기 미세 공간에 액정을 주입시키기 전에 배향막을 형성하기 위한 배향액을 먼저 주입할 수 있다. 그러나, 배향액을 건조시키는 과정에서 입구부 및/또는 미세 공간 내부에 배향막이 뭉치는 현상이 발생하며, 이로 인해 액정의 정렬 방향이 틀어져 빛샘이 유발되는 문제가 발생된다.
본 발명 상기와 같은 문제점을 포함하여 여러 문제점들을 해결하기 위한 것으로서, 배향막의 뭉침을 방지함으로써 빛샘을 개선한 액정 표시 장치 및 이의 제조 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다. 그러나, 이러한 과제는 예시적인 것으로, 이에 의해 본 발명의 범위가 한정되는 것은 아니다.
본 발명의 일 실시예는, 복수의 화소 영역들로 구획된 기판 상에 배치된 박막 트랜지스터, 상기 복수의 화소 영역들 각각에 배치되며 상기 박막 트랜지스터와 전기적으로 연결된 복수의 화소 전극들, 상기 복수의 화소 전극들에 대향되도록 배치된 지붕층, 상기 복수의 화소 전극들 각각과 상기 지붕층 사이에 배치되며 제1 영역 및 상기 제1 영역의 하부에 배치되며 상기 제1 영역에 대하여 상기 기판과 실질적으로 평행한 방향으로 돌출된 돌출부를 포함하는 제2 영역을 포함하고 서로 이격되어 있는 복수의 미세 공간들, 상기 복수의 미세 공간들 각각의 내측면에 배치된 배향막, 및 상기 복수의 미세 공간들 각각에 채워져 있는 액정을 포함하는, 액정 표시 장치를 개시한다.
일 실시예에 있어서, 상기 복수의 미세 공간들 사이에 배치되며, 상기 복수의 미세 공간들을 밀봉하는 캐핑층을 더 포함할 수 있다.
일 실시예에 있어서, 상기 제1 영역은 제1 면, 제2 면, 제3 면, 및 제4 면을 포함하는 사각 뿔대 형상(frustum of quadrangular pyramid shape)이며, 상기 돌출부는 서로 대향하는 상기 제1 면 및 상기 제2 면에 대하여 돌출될 수 있다.
일 실시예에 있어서, 상기 제3 면 및 제4 면은 상기 캐핑층과 접할 수 있다.
일 실시예에 있어서, 상기 제2 영역은 평면상(in plan view) 사각 형상이며, 일 방향에 대하여 상기 제1 영역의 너비보다 넓은 너비를 갖을 수 있다.
일 실시예에 있어서, 상기 제2 영역은, 상기 제1 면 및 상기 제2 면의 양 가장자리 영역에 배치된 적어도 4개의 돌출부를 포함할 수 있다.
일 실시예에 있어서, 상기 배향막은, 상기 캐핑층과 접하는 영역을 제외한 상기 복수의 미세 공간들 각각의 내측면 전체에 배치될 수 있다.
일 실시예에 있어서, 상기 제1 면 및 상기 제2 면이 배치된 방향을 따라 서로 이격되어 있는 상기 복수의 미세 공간들의 사이에는 상기 지붕층이 배치될 수 있다.
일 실시예에 있어서, 상기 기판과 상기 복수의 화소 전극들 각각의 사이에 배치된 복수의 컬러 필터들 및 상기 복수의 컬러 필터들 사이에 배치된 블랙 매트릭스를 더 포함할 수 있다.
일 실시예에 있어서, 상기 블랙 매트릭스는 서로 이격되어 있는 복수의 미세 공간들의 사이에 대응되도록 배치되며, 상기 블랙 매트릭스의 적어도 일부는 상기 돌출부와 평면상 중첩되도록 배치될 수 있다.
일 실시예에 있어서, 상기 박막 트랜지스터와 전기적으로 연결되어, 상기 박막 트랜지스터에 스캔 신호와 데이터 신호를 각각 전달하는 스캔 배선 및 데이터 배선을 더 포함하며, 상기 돌출부는 상기 스캔 배선 및 상기 데이터 배선 중 적어도 하나의 적어도 일부와 평면상 중첩되도록 배치될 수 있다.
본 발명의 다른 실시예는, 복수의 화소 영역들로 구획된 기판 상에 박막 트랜지스터를 형성하는 단계, 상기 복수의 화소 영역들 각각에 상기 박막 트랜지스터와 전기적으로 연결된 복수의 화소 전극들을 형성하는 단계, 상기 복수의 화소 전극들 상에, 상부 영역 및 상기 상부 영역의 하부에 배치되며 상기 상부 영역에 대하여 상기 기판과 실질적으로 평행한 방향으로 돌출된 돌출부를 포함하는 하부 영역을 포함하며 서로 이격되어 있는 복수의 희생층들을 형성하는 단계, 상기 복수의 희생층들을 덮도록 지붕층을 형성하는 단계, 상기 복수의 희생층들 각각의 일부가 노출되도록 상기 지붕층을 패터닝하여 복수의 주입구들을 형성하는 단계, 상기 복수의 희생층들을 제거하여 상기 화소 전극과 상기 지붕층 사이에 복수의 빈 공간들을 형성하는 단계, 상기 복수의 주입구들을 통해 상기 복수의 빈 공간들에 배향액을 주입하는 단계, 상기 배향액을 경화시켜 배향막을 형성하는 단계, 상기 복수의 주입구들을 통해 상기 복수의 빈 공간들에 액정을 주입하는 단계, 및 상기 지붕층 상에 캐핑층을 형성하여 상기 액정이 채워진 상기 복수의 빈 공간들을 밀봉하며, 상기 복수의 빈 공간들이 나뉘어진 복수의 미세 공간들을 형성하는 단계를 포함할 수 있다.
일 실시예에 있어서, 상기 미세 공간들은, 제1 영역 및 상기 제1 영역의 하부에 배치되며 상기 제1 영역에 대하여 상기 기판과 실질적으로 평행한 방향으로 돌출된 돌출부를 포함하는 제2 영역을 포함할 수 있다.
일 실시예에 있어서, 상기 복수의 희생층들을 형성하는 단계는, 상기 상부 영역에 대응되는 차광부, 상기 돌출부에 대응되는 반투광부, 및 나머지 영역에 대응되는 투광부를 포함하는 하프톤 마스크를 이용하여 상기 복수의 희생층들을 형성하는 단계를 포함할 수 있다.
일 실시예에 있어서, 상기 복수의 화소 전극들을 형성하는 단계 전에, 상기 기판 상에 복수의 컬러 필터 및 상기 복수의 컬러 필터들 사이에 배치된 블랙 매트릭스를 형성하는 단계를 더 포함할 수 있다.
일 실시예에 있어서, 상기 복수의 희생층들을 형성하는 단계는, 상기 돌출부가 상기 블랙 매트릭스와 평면상 중첩되도록 상기 복수의 희생층들을 형성하는 단계를 포함할 수 있다.
일 실시예에 있어서, 상기 복수의 화소 전극들을 형성하는 단계 전에, 상기 기판 상에 상기 박막 트랜지스터와 전기적으로 연결되어, 상기 박막 트랜지스터에 스캔 신호와 데이터 신호를 각각 전달하는 스캔 배선 및 데이터 배선을 형성하는 단계를 더 포함하며, 상기 복수의 희생층들을 형성하는 단계는, 상기 돌출부가 상기 스캔 배선 및 상기 데이터 배선 중 적어도 하나의 적어도 일부와 평면상 중첩되도록 상기 복수의 희생층들을 형성하는 단계를 포함할 수 있다.
일 실시예에 있어서, 상기 제1 영역은 제1 면, 제2 면, 제3 면, 및 제4 면을 포함하는 사각 뿔대 형상이며, 상기 돌출부는 서로 대향하는 상기 제1 면 및 상기 제2 면에 대하여 돌출될 수 있다.
일 실시예에 있어서, 상기 제2 영역은 평면상(in plan view) 사각 형상이며, 일 방향에 대하여 상기 제1 영역의 너비보다 넓은 너비를 갖을 수 있다.
일 실시예에 있어서, 상기 제2 영역은, 상기 제1 면 및 상기 제2 면의 양 가장자리 영역에 배치된 적어도 4개의 돌출부를 포함할 수 있다.
전술한 것 외의 다른 측면, 특징, 이점이 이하의 도면, 특허청구범위 및 발명의 상세한 설명으로부터 명확해질 것이다.
상기한 바와 같이 이루어진 본 발명의 일 실시예에 따르면, 배향막의 뭉침을방지함으로써 빛샘을 개선한 액정 표시 장치 및 이의 제조 방법을 제공할 수 있다.
또한, 간이한 공정으로 형성할 수 있는 박형의 액정 표시 장치 및 이의 제조방법을 제공할 수 있다.
물론 이러한 효과에 의해 본 발명의 범위가 한정되는 것은 아니다.
도 1은 일 실시예에 따른 액정 표시 장치를 개략적으로 도시한 평면도이다.
도 2a 및 도 2b는 각각 도 1의 액정 표시 장치에 포함된 미세 공간을 개략적으로 도시한 횡단면도 및 종단면도이다.
도 3은 도 1의 Ⅲ-Ⅲ' 선을 따라 취한 단면도이다.
도 4는 도 1의 Ⅳ-Ⅳ' 선을 따라 취한 단면도이다.
도 5 내지 도 19는 도 1의 액정 표시 장치를 제조하는 방법을 순차적으로 나타낸 단면도들이다.
도 20은 일 실시예에 따른 액정 표시 장치를 개략적으로 도시한 평면도이다.
도 21a, 21b 및 도 21c는 각각 도 20의 액정 표시 장치에 포함된 미세 공간의 Ⅶa-Ⅶa', Ⅶb-Ⅶb', 및 Ⅶc-Ⅶc' 선을 따라 취한 단면도이다.
본 발명은 다양한 변환을 가할 수 있고 여러 가지 실시예를 가질 수 있는 바, 특정 실시예들을 도면에 예시하고 상세한 설명에 상세하게 설명하고자 한다. 본 발명의 효과 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예들에 한정되는 것이 아니라 다양한 형태로 구현될 수 있다.
이하의 실시예에서, 제1, 제2 등의 용어는 한정적인 의미가 아니라 하나의 구성 요소를 다른 구성 요소와 구별하는 목적으로 사용되었다.
이하의 실시예에서, 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다.
이하의 실시예에서, 포함하다 또는 가지다 등의 용어는 명세서상에 기재된 특징, 또는 구성요소가 존재함을 의미하는 것이고, 하나 이상의 다른 특징들 또는 구성요소가 부가될 가능성을 미리 배제하는 것은 아니다.
이하의 실시예에서, 막, 영역, 구성 요소 등의 부분이 다른 부분 위에 또는 상에 있다고 할 때, 다른 부분의 바로 위에 있는 경우뿐만 아니라, 그 중간에 다른 막, 영역, 구성 요소 등이 개재되어 있는 경우도 포함한다.
도면에서는 설명의 편의를 위하여 구성 요소들이 그 크기가 과장 또는 축소될 수 있다. 예컨대, 도면에서 나타난 각 구성의 크기 및 두께는 설명의 편의를 위해 임의로 나타내었으므로, 본 발명이 반드시 도시된 바에 한정되지 않는다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예들을 상세히 설명하기로 하며, 도면을 참조하여 설명할 때 동일하거나 대응하는 구성 요소는 동일한 도면부호를 부여하고 이에 대한 중복되는 설명은 생략하기로 한다.
도 1은 일 실시예에 따른 액정 표시 장치를 개략적으로 도시한 평면도이고, 도 2a 및 도 2b는 각각 도 1의 액정 표시 장치에 포함된 미세 공간을 개략적으로 도시한 횡단면도 및 종단면도이고, 도 3은 도 1의 Ⅲ-Ⅲ' 선을 따라 취한 단면도이고, 도 4는 도 1의 Ⅳ-Ⅳ' 선을 따라 취한 단면도이다.
도 1 내지 도 4를 참조하면, 일 실시예에 따른 액정 표시 장치(100)는 복수의 화소 영역(P)으로 구획된 기판(110) 상에 배치된 박막 트랜지스터(TFT), 복수의 화소 영역(P) 각각에 배치되며 박막 트랜지스터(TFT)와 전기적으로 연결된 복수의 화소 전극(150), 복수의 화소 전극(150)에 대향되도록 배치된 지붕층(180), 복수의 화소 전극(150) 각각과 지붕층(180) 사이에 배치되며, 제1 영역(121) 및 제1 영역(121)의 하부에 배치되며 제1 영역(121)에 대하여 기판(110)과 실질적으로 평행한 방향으로 돌출된 돌출부(122b)를 포함하는 제2 영역(122)을 포함하고 서로 이격되어 있는 복수의 미세 공간(120), 복수의 미세 공간(120) 각각의 내측면에 배치된 배향막(160a, 160b, 160c) 및 복수의 미세 공간(120) 각각에 채워져 있는 액정(LC)을 포함한다.
상기 기판(110)은 유리 또는 플라스틱 등으로 구성되며, 복수의 화소 영역(P)으로 구획될 수 있다. 상기 복수의 화소 영역(P)은 일 방향으로 연장되어 있는 스캔 배선(SL) 및 상기 일 방향과 교차하는 방향으로 연장되어 있는 데이터 배선(DL)에 의해 정의될 수 있다.
상기 박막 트랜지스터(TFT)는 게이트 전극(131), 반도체층(132), 소스 전극(133), 및 드레인 전극(134)을 포함할 수 있으며, 스캔 배선(SL)은 게이트 전극(131)에 스캔 신호를 인가하고 데이터 배선(DL)은 소스 전극(133)에 데이터 신호를 인가할 수 있다. 상기 드레인 전극(134)은 복수의 화소 전극(150) 각각과 전기적으로 연결될 수 있으며, 박막 트랜지스터(TFT)의 스위칭 신호에 따라 복수의 화소 전극(150) 각각에 선택적으로 전압이 인가될 수 있다. 상기 게이트 전극(131)과 반도체층(132) 사이에는 제1 절연층(111), 소스 전극(133) 및 드레인 전극(134) 상에는 제2 절연층(113)이 배치될 수 있다. 예를 들면, 상기 제1 절연층(111)은 무기 물질로 구성된 단일막 또는 다중막일 수 있으며, 제2 절연층(113)은 무기 물질 또는 유기 물질로 구성된 단일막 또는 다중막일 수 있다. 상기 제2 절연층(113)은 필요에 따라 생략될 수 있다.
상기 게이트 전극(131)은 스캔 배선(SL)의 일부일 수 있으며, 상기 데이터 배선(DL)은 소스 전극(133) 및 드레인 전극(134)과 동일층에 동일 물질로 형성될 수 있다.
상기 스캔 배선(SL), 데이터 배선(DL), 및 박막 트랜지스터(TFT) 상에는, 블랙 매트릭스(142)가 배치될 수 있으며, 복수의 화소 영역(P) 각각에는 컬러 필터(141)가 배치될 수 있다. 상기 블랙 매트릭스(142)는 혼색 및 빛샘이 발생하지 않도록 컬러 필터(141)를 구획하는 기능 이외에 상기 박막 트랜지스터(TFT) 등의 회로부가 사용자에게 시인되지 않도록 회로부를 투과한 광 및 회로부에 의해 반사된 광을 차단하는 기능을 수행할 수 있다.
상기 컬러 필터(141) 및 블랙 매트릭스(142) 상에는 제3 절연층(115)이 배치될 수 있으며, 제3 절연층(115) 상에는 화소 전극(150)이 배치될 수 있다. 즉, 컬러 필터(141)는 기판(110)과 화소 전극(150) 사이에 배치되며 블랙 매트릭스(142)는 컬러 필터(141) 사이에 배치될 수 있다. 화소 전극(150)은 제2 절연층(113), 블랙 매트릭스(142), 및 제3 절연층(115)에 형성된 비아홀(VIA)을 통해 박막 트랜지스터(TFT)의 드레인 전극(134)과 연결될 수 있다. 상기 제3 절연층(115)은 무기 물질로 구성될 수 있으며, 필요에 따라 생략될 수 있다.
일 실시예에 따르면, 복수의 화소 영역(P) 각각에 형성된 화소 전극(150)은 도 3에 도시된 바와 같이 슬릿 형태로 전극들이 배치된 영역을 포함할 수 있으나, 본 발명은 이에 제한되지 않으며 화소 전극(150)은 다양한 형태로 형성될 수 있다.
상기 화소 전극(150) 상에는 액정(LC)이 채워져 있는 미세 공간(120)이 배치될 수 있다. 상기 미세 공간(120)은 각각의 화소 영역들(P) 각각에 서로 이격되어 배치될 수 있다. 상기 미세 공간(120)의 내측면에는 배향막(160a, 160b, 160c)이 배치될 수 있다.
도 1, 도 2a, 및 도 2b를 참조하면, 상기 미세 공간(120)은 제1 영역(121) 및 제2 영역(122)을 포함할 수 있으며, 제1 영역(121)은 제1 면(121a), 제2 면(121b), 제3 면(121c), 및 제4 면(121d)을 포함하는 사각 뿔대 형상(frustum of quadrangular pyramid shape)일 수 있다. 상기 돌출부(122b)는 제1 면(121a) 및 제2 면(121b)에 대하여 돌출되어 있을 수 있다. 즉, 상기 제3 면(121c) 및 제4 면(121d)에 대해서는 돌출된 영역이 존재하지 않을 수 있다. 상기 도 2a 및 도 2b에서는 미세 공간(120)의 하면이 편평하게 도시되어 있지만, 미세 공간(120)의 하면은 화소 전극(150)에 의한 요철을 포함할 수 있다. 다만, 미세 공간(120)의 높이에 비하여 화소 전극(150)의 두께는 매우 작으므로 미세 공간(120)은 실질적으로 편평할 수 있다.
상기 제2 영역(122)은 도 1과 같이 평면에서 봤을 때 사각 형상일 수 있으며, 제1 영역(121)과 중첩되는 중첩 영역(122a) 및 제1 영역(121)에 대하여 돌출되어 있는 돌출부(122b)를 포함할 수 있다. 중첩 영역(122a) 및 돌출부(122b)를 포함하는 제2 영역(122)은 일 방향에 대하여 제1 영역(121)의 너비(W1)보다 넓은 너비(W2)를 가질 수 있다. 상기 제1 영역(121)의 너비(W1) 및 제2 영역(122)의 너비(W2)는 각각 제1 영역(121)과 제2 영역(122)이 접하는 영역이 맞닿는 면 상에서의 너비를 나타낸다.
상기 제3 면(121c) 및 제4 면(121d)을 제외한 미세 공간(120)의 내측면 전체에는 배향막(160a, 160b, 160c)이 배치될 수 있다. 즉, 배향막(160a, 160b, 160c)은 화소 전극(150) 상부에 배치된 영역(160a), 공통 전극(170) 하부에 배치된 영역(160b) 및 미세 공간(120)의 제1 면(121a), 제2 면(121b), 및 돌출부(122b)의 내측에 배치된 영역(160c)을 포함할 수 있다.
상기 배향막(160a, 160b, 160c)을 형성하는 과정에서 미세 공간(120)의 내측면에 배향막(160a, 160b, 160c)이 뭉치는 현상이 발생할 수 있으며, 상기 뭉침에 의해 액정(LC)의 정렬 방향이 틀어져 빛샘을 유발될 수 있다. 그러나, 일 실시예에 따르면, 미세 공간(120)은 돌출부(122b)를 포함하며, 돌출부(122b)는 뭉침 현상이 발생하기 쉬운 미세 공간(120)의 가장자리 영역에 배치될 수 있다. 즉, 배향막(160a, 160b, 160c)의 뭉침은 주로 돌출부(122b)에서 발생할 수 있다.
상기 미세 공간(120)에는 액정(LC)이 채워져 있으며, 상기 액정(LC)은 네마틱(nematic), 스메틱(smetic), 콜레스테릭(cholesteric), 또는 카이랄(chiral) 액정 물질일 수 있으며, 네거티브형 또는 포지티브형일 수 있다. 상기 액정(LC)은 배향막(160a, 160b, 160c)에 의해 소정의 방향으로 정렬될 수 있으며, 화소 전극(150) 및 공통 전극(170)에 전압이 인가되어 액정(LC)이 배치된 영역에 전기장이 발생하는 경우, 전기장에 의해 다른 방향으로 재정렬될 수 있다.
상기 블랙 매트릭스(142)는 서로 이격되어 있는 복수의 미세 공간(120) 사이에 대응되도록 배치될 수 있으며, 상기 돌출부(122b)는 블랙 매트릭스(142)의 적어도 일부와 평면상 중첩되도록 배치될 수 있다. 즉, 블랙 매트릭스(142)에 의해 광이 차단되어 돌출부(122b)에는 광이 입사되지 않을 수 있으며, 따라서 돌출부(122b)에 배향막(160a, 160b, 160c)의 뭉침이 발생하더라도 이로 인해 빛샘이 발생하거나 표시 품질이 저하되지 않을 수 있다.
상기 돌출부(122b)는 블랙 매트릭스(142)에 의해 덮여있는 스캔 배선(SL) 및 데이터 배선(DL) 중 적어도 하나의 적어도 일부와 평면상 중첩되도록 배치될 수 있으며, 일 실시예에 따르면, 돌출부(122b)는 데이터 배선(DL)의 적어도 일부와 중첩될 수 있다. 상기 돌출부(122b)를 배선이 배치된 영역까지 연장시킴으로써 돌출부(122b)에 의해 액정 표시 장치(100)에서 화소 영역(P)이 차지하는 면적이 감소하는 문제를 방지할 수 있다.
상기 미세 공간(120) 상에는 공통 전극(170)이 배치될 수 있다. 화소 전극(150)은 화소 영역(P) 각각에 서로 전기적으로 분리되어 있는 반면, 상기 공통 전극(170)은 복수의 화소 영역(P)에 연결되도록 배치될 수 있다. 상기 공통 전극(170) 상에는 제4 절연층(117)이 배치될 수 있으며, 제4 절연층(117) 상에는 지붕층(180)이 배치될 수 있다. 일 실시예에 따른 액정 표시 장치(100)는 공통 전극(170)이 미세 공간(120)의 상부에 배치된 경우를 예시하고 있지만, 본 발명은 이에 제한되지 않으며 공통 전극(170)은 화소 전극(150)과 마찬가지로 미세 공간(120)의 하부에 배치될 수도 있다.
상기 지붕층(180)은 유기 물질로 구성될 수 있으며, 상기 미세 공간(120)의 형상을 유지시키는 기능을 수행한다. 상기 지붕층(180)은 미세 공간(120)의 상부 및 제1 면(121a) 및 제2 면(121b)이 배치된 방향을 따라 서로 이격되어 있는 복수의 미세 공간(120) 사이에 배치될 수 있다. 즉, 하나의 화소 영역(P)에 포함된 미세 공간(120)의 제1 면(121a)에 대하여 돌출되어 있는 돌출부(122b)와 이에 인접한 다른 화소 영역(P)에 포함된 미세 공간(120)의 제2 면(121b)에 대하여 돌출되어 있는 돌출부(122b) 사이에 지붕층(180)이 배치될 수 있다. 즉, 서로 인접한 화소 영역(P)에 각각 포함된 돌출부(122b)는 지붕층(180)에 의해 분리될 수 있다.
상기 지붕층(180)은 미세 공간(120)의 제3 면(121c) 및 제4 면(121d)에 대응되는 영역에 형성된 개구(180a)를 포함할 수 있으며, 상기 개구(180a)는 배향막(160a, 160b, 160c)을 형성하기 위한 배향액 및 액정(LC)의 주입구(INJ, 도 15)로써 기능할 수 있다. 상기 지붕층(180)의 상면 및 개구면에는 무기 물질로 구성된 제5 절연층(119)이 배치될 수 있다. 상기 제5 절연층(119)은 필요에 따라 생략될 수 있다.
상기 제5 절연층(119) 상에는 캐핑층(190)이 배치될 수 있다. 상기 캐핑층(190)은 상기 미세 공간(120)의 제3 면(121c) 및 제4 면(121d)에 접하며, 액정(LC)이 채워져 있는 상기 미세 공간(120)을 밀봉할 수 있다. 상기 캐핑층(190)은 미세 공간(120)의 제3 면(121c) 및 제4 면(121d)이 배치된 방향을 따라 서로 이격되어 있는 복수의 미세 공간(120) 사이에 배치될 수 있으며, 상기 미세 공간(120)의 제3 면(121c), 제4 면(121d), 제5 절연층의 상부면, 및 지붕층(180)의 개구(180a)를 덮는 제5 절연층(119)의 측면을 모두 덮을 수 있다.
도 5 내지 도 19는 도 1의 액정 표시 장치를 제조하는 방법을 순차적으로 나타낸 단면도들이다.
도 5, 도 7, 도 9, 도 11, 도 13, 도 16, 및 도 18은 도 1의 Ⅲ-Ⅲ' 선을 따라 취한 단면을 제조 순서에 따라 나타낸 것이며, 도 6, 도 8, 도 10, 도 12, 도 14, 도 15, 도 17, 및 도 19는 도 1의 Ⅳ-Ⅳ' 선을 따라 취한 단면을 제조 순서에 따라 나타낸 것이다.
도 5 및 도 6을 참조하면, 기판(110) 상에 게이트 전극(131), 반도체층(132), 소스 전극(133), 및 드레인 전극(134)을 포함하는 박막 트랜지스터(TFT)을 형성할 수 있다. 상기 게이트 전극(131)은 스캔 배선(SL)의 일부일 수 있으며, 데이터 배선(DL)은 소스 전극(133) 및 드레인 전극(134)과 동일층에 동일 물질로 형성될 수 있다. 상기 게이트 전극(131)와 반도체층(132) 사이에는 무기 물질로 구성된 제1 절연층(111)을 형성할 수 있다. 상기 게이트 전극(131), 반도체층(132), 소스 전극(133) 및 드레인 전극(134)의 통상의 포토리소그래피 공정을 통해 패터닝될 수 있으며, 상기 공정은 공지된 기술로써 이에 대한 설명은 생략한다.
도 7 및 도 8을 참조하면, 상기 박막 트랜지스터(TFT)을 덮도록 제2 절연층(113)을 형성한 후, 제2 절연층(113) 상에 컬러 필터(141)을 블랙 매트릭스(142)를 형성할 수 있다. 상기 제2 절연층(113)은 무기 물질 또는 유기 물질로 구성된 단일막 또는 다중막일 수 있다.
상기 컬러 필터(141)은 복수의 화소 영역(P, 도 1) 각각에 대응되도록 형성되며, 상기 블랙 매트릭스(142)는 컬러 필터(141) 사이에 형성될 수 있다. 상기 블랙 매트릭스(142)는 상기 박막 트랜지스터(TFT), 스캔 배선(SL), 및 데이터 배선(DL)을 완전히 덮도록 형성될 수 있다. 일 실시예에 따르면, 상기 컬러 필터(141)는 적색 컬러 필터, 녹색 컬러 필터, 또는 청색 컬러 필터일 수 있으나, 이에 제한되지 않는다.
도 7 및 도 8은 컬러 필터(141)가 형성된 후, 컬러 필터(141)의 일부를 덮도록 블랙 매트릭스(142)가 형성된 구성을 도시하고 있으나, 본 발명은 이에 제한되지 않으며 블랙 매트릭스(142)가 먼저 형성된 후 컬러 필터(141)가 형성될 수도 있다.
도 9 및 도 10을 참조하면, 컬러 필터(141) 및 블랙 매트릭스(142) 상에 제3 절연층(115)을 형성한 후, 제2 절연층(113), 블랙 매트릭스(142), 및 제3 절연층을 패터닝하여 상기 드레인 전극(134)의 일부를 노출하는 비아홀(VIA)을 형성할 수 있다. 상기 제3 절연층(115)은 유기 물질로 구성된 컬러 필터(141) 및 블랙 매트릭스(152)를 보호하기 위한 것으로, 무기 물질로 구성될 수 있다.
상기 제3 절연층(115) 상에, 비아홀(VIA)에 매립되어 비아홀(VIA)을 통해 노출된 드레인 전극(134)과 접하도록 화소 전극(150)을 형성할 수 있다. 상기 화소 전극(150)은 투명한 도전 물질을 증착한 후 이를 패터닝하여 형성할 수 있으며, 예를 들면 인듐-주석 산화물(ITO; indium tin oxide), 인듐-아연 산화물(IZO; indium zinc oxide) 등일 수 있다. 일 실시예에 따르면, 화소 전극(150)은 슬릿 형태로 전극들이 배치된 영역을 포함하지만, 본 발명은 이에 제한되지 않으며 화소 전극(150)은 다양한 형태로 형성될 수 있다.
도 11 및 도 12를 참조하면, 상기 화소 전극(150) 상에 희생층(120')을 형성할 수 있다. 상기 희생층(120')은 화소 전극(150) 상에 감광성 유기 물질(120'')을 도포한 후 희생층(120')의 상부 영역(121')에 대응되는 차광부(Ma), 돌출부(122b')에 대응되는 반투광부(Mb) 및, 나머지 영역에 대응되는 투광부(Mc)를 포함하는 하프톤 마스크(HM)을 통과하도록 광을 조사한 후, 식각 및 에싱 등의 공정을 거쳐 형성될 수 있다.
예를 들면, 상기 감광성 유기 물질(120'')은 폴리이미드(PI; polyimide) 등의 포지티브 감광 물질일 수 있으며, 투광부(Mc)을 통해 광이 조사된 영역의 감광성 유기 물질(120'')은 완전히 제거되고 반투광부(Mb)을 통해 일부의 광만이 조사된 영역의 감광성 유기 물질(120'')은 일부만 제거되며 차광부(Ma)에 의해 광이 조사되지 않은 영역의 감광성 유기 물질(120'')은 제거되지 않을 수 있다.
상기 공정을 통해 형성된 희생층(120')은, 상부 영역(121') 및 상부 영역(121')의 하부에 배치되며 상부 영역(121')에 대하여 기판(110)과 실질적으로 평행한 방향으로 돌출된 돌출부(122b')를 포함하는 하부 영역(122')을 포함할 수 있다. 상기 하부 영역(122')은 돌출부(122b') 이외에 상기 상부 영역(121')과 평면상 중첩된 중첩 영역(122a')을 더 포함할 수 있다.
상기 희생층(120')은 도 1의 열 방향으로 복수의 화소 영역들(P)에 걸쳐 길게 연장될 수 있으며, 행 방향으로는 각각의 화소 영역들(P)마다 서로 분리되도록 형성될 수 있다. 상기 돌출부(122b')는 행 방향으로 서로 분리된 화소 영역들(P)의 사이 영역에 대응되도록 형성될 수 있다.
도 13 및 도 14를 참조하면, 상기 희생층(120') 상에 공통 전극(170), 제4 절연층(117), 및 지붕층(180)을 형성할 수 있다. 상기 지붕층(180)은 희생층(120')의 상면 및 서로 이격되어 있는 희생층(120')의 사이 공간을 채우도록 형성될 수 있다.
상기 지붕층(180)을 형성한 후, 이를 패터닝하여 제4 절연층(117)의 일부가 노출되는 개구(180a)를 형성할 수 있다. 상기 개구(180a)를 형성한 후, 지붕층(180)의 상면 및 개구면에 제5 절연층(119)을 형성할 수 있다. 상기 제5 절연층(119)은 무기 물질로 구성될 수 있다.
도 15를 참조하면, 상기 개구(180a)에 의해 노출된 제4 절연층(117) 및 제4 절연층(117)의 하부에 배치된 공통 전극(170)을 제거한 후, 희생층(120')을 노출시킬 수 있다. 희생층(120')이 노출된 기판(110) 상에 현상액을 공급하여 희생층(120')을 식각한 후 산소 플라즈마를 이용하여 남아있는 희생층(120')을 애싱할 수 있다.
희생층(120')이 제거된 영역은 빈 공간(ES)이 되며, 지붕층(180)에 형성된 개구(180a)를 통해 배향액 및 액정이 주입될 수 있다. 즉, 상기 개구(180a)가 배치된 영역은 주입구(INJ)에 대응될 수 있다.
도 16 및 도 17을 참조하면, 주입구(INJ)을 통해 빈 공간(ES)에 배향액을 주입한 후 이를 경화시켜 빈 공간(ES)의 내측면에 배향막(160a, 160b, 160c)를 형성할 수 있다. 상기 배향막(160a, 160b, 160c)은 경화 과정에서 서로 뭉칠 수 있으며, 일 실시예에 따르면, 상기 뭉침은 빈 공간(ES)의 돌출부(122b', 도 11)에 대응되는 영역에 집중되어 발생할 수 있다.
배향막(160a, 160b, 160c)은 액정(LC)의 정렬 방향을 결정하는 막으로써, 배향막(160a, 160b, 160c)에 뭉침이 발생하는 경우, 액정(LC)의 정렬 방향이 틀어져 빛샘이 발생할 수 있다. 그러나, 상기 돌출부(122b')에 대응되는 영역은, 상술한 바와 같이 블랙 매트릭스(142) 및 데이터 배선(DL)의 적어도 일부와 중첩되는 영역으로 화상을 구현하기 위하여 광을 외부로 방출하는 화소 영역(P, 도 1)의 외측 영역일 수 있다. 따라서, 돌출부(122b')에 배향막(160a, 160b, 160c)의 뭉침이 발생하더라도, 뭉침에 의해 빛샘이 발생하거나 구현되는 화상에 영향을 미치지 않을 수 있다.
상기 배향막(160a, 160b, 160c)을 형성한 후, 주입구(INJ)를 통해 액정(LC)을 주입하여 빈 공간(ES)에 액정(LC)을 채울 수 있다.
도 18 및 도 19를 참조하면, 액정(LC)이 채워진 공간을 밀봉하기 위해 제5 절연층(119) 상에 캐핑층(190)을 형성할 수 있다. 상기 캐핑층(190)은 주입구(INJ)를 완전히 덮을 수 있으며, 액정(LC)이 채워진 공간을 화소 영역(P, 도 1) 별로 분리시켜 미세 공간(120)을 형성할 수 있다.
상기 미세 공간(120)은 도 2a 및 도 2b에서 설명한 바와 같이, 제1 영역(121) 및 제1 영역(121)의 하부에 배치되며 제1 영역(121)에 대하여 기판(110)과 실질적으로 평행한 방향으로 돌출된 돌출부(122b)를 포함하는 제2 영역(122)을 포함할 수 있다.
다시 도 2a를 참조하면, 상기 제1 영역(121)은 제1 면(121a), 제2 면(121b), 제3 면(121c), 및 제4 면(121d)를 포함하는 사각 뿔대 형상일 수 있으며, 돌출부(122b)는 서로 대향하는 제1 면(121a) 및 제2 면(121b)에 대하여 돌출될 수 있다.
상기 제2 영역(122)은 평면상 사각 형상이며, 일 방향에 대하여 제1 영역(121)의 너비(W1)보다 넓은 너비(W2)를 가질 수 있다. 상기 제1 영역(121)의 너비(W1) 및 제2 영역(122)의 너비(W2)는 각각 제1 영역(121)과 제2 영역(122)이 접하는 영역이 맞닿는 면 상에서의 너비를 나타낸다.
도 20은 일 실시예에 따른 액정 표시 장치를 개략적으로 도시한 평면도이고, 도 21a, 21b 및 도 21c는 각각 도 20의 액정 표시 장치에 포함된 미세 공간의 Ⅶa-Ⅶa', Ⅶb-Ⅶb', 및 Ⅶc-Ⅶc' 선을 따라 취한 단면도이다.
도 20, 도 21a, 도 21b, 및 도 21c를 참조하면, 일 실시예에 따른 액정 표시 장치(200)는, 복수의 화소 영역(P)으로 구획된 기판(210) 상에 배치된 박막 트랜지스터(TFT, 도 4), 복수의 화소 영역(P) 각각에 배치되며 박막 트랜지스터(TFT, 도 4)와 전기적으로 연결된 복수의 화소 전극(150, 도 3), 복수의 화소 전극(150, 도 3)에 대향되도록 배치된 지붕층(180, 도 3), 복수의 화소 전극(150, 도 3) 각각과 지붕층(180, 도 3) 사이에 배치되며, 제1 영역(221) 및 제1 영역(221)의 하부에 배치되며 제1 영역(221)에 대하여 기판(210)과 실질적으로 평행한 방향으로 돌출된 돌출부(222b)를 포함하는 제2 영역(222)을 포함하고 서로 이격되어 있는 복수의 미세 공간(220)을 포함할 수 있다. 상기 복수의 미세 공간(220) 각각의 내측면에는 배향막(160a, 160b, 160c, 도 3)이 배치될 수 있으며, 복수의 미세 공간(220) 각각의 내부에는 액정(LC, 도 3)이 배치될 수 있다.
도 20의 액정 표시 장치(200)의 미세 공간(220)을 제외한 다른 구성은 도 1의 액정 표시 장치(100)와 동일할 수 있으므로, 이하에서 미세 공간(220)을 제외한 다른 구성에 대한 설명은 생략한다.
상기 미세 공간(220)은 제1 영역(221) 및 제2 영역(222)을 포함할 수 있으며, 제1 영역(221)은 제1 면(221a), 제2 면(221b), 제3 면(221c), 및 제4 면(221d)을 포함하는 사각 뿔대 형상(frustum of quadrangular pyramid shape)일 수 있다. 상기 돌출부(222b)는 제1 면(221a) 및 제2 면(221b)에 대하여 돌출되어 있을 수 있다. 즉, 상기 제3 면(221c) 및 제4 면(221d)에 대해서는 돌출된 영역이 존재하지 않을 수 있다.
상기 제2 영역(222)은 제1 영역(221)과 중첩되는 중첩 영역(222a) 및 제1 영역(221)의 제1 면(221a) 및 제2 면(221b)의 양 가장자리 영역으로부터 돌출된 적어도 4개의 돌출부(222b)를 포함할 수 있다. 도 20에서는 상기 돌출부(222b)가 4개인 경우를 예시하고 있지만, 본 발명은 이에 제한되지 않으며 상기 돌출부(222b)는 4개 미만 또는 4개 초과일 수도 있다.
상기 제1 면(221a) 및 제2 면(221b)의 가장자리 영역은 배향액을 경화시켜 배향막(160a, 160b, 160c, 도 3)을 형성할 때, 배향막(160a, 160b, 160c)의 뭉침이 주로 발생하는 영역으로, 상기 가장자리 영역에 각각 돌출부(222b)를 형성함으로써 화상을 구현하는 화소 영역(P)에 대응되는 위치에 형성된 배향막(160a, 160b, 160c)의 뭉침을 방지하여 빛샘 현상을 개선할 수 있다.
상기한 바와 같이 이루어진 본 발명의 일 실시예에 따르면, 배향막의 뭉침을방지함으로써 빛샘을 개선하며, 간이한 공정으로 형성할 수 있는 박형의 액정 표시 장치 및 이의 제조 방법을 제공할 수 있다.
본 발명은 도면에 도시된 실시예를 참고로 설명되었으나 이는 예시적인 것에 불과하며, 당해 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 다른 실시예가 가능하다는 점을 이해할 것이다. 따라서, 본 발명의 진정한 기술적 보호 범위는 첨부된 특허청구범위의 기술적 사상에 의하여 정해져야 할 것이다.
100, 200: 액정 표시 장치 110, 210: 기판
120, 220: 미세 공간 121, 221: 제1 영역
122, 222: 제2 영역 122a, 222a: 중첩 영역
122b, 222b: 돌출부 141: 컬러 필터
142: 블랙 매트릭스 150: 화소 전극
160a, 160b, 160c: 배향막 170: 공통 전극
180: 지붕층 190: 캐핑층
TFT: 박막 트랜지스터 SL: 스캔 배선
DL: 데이터 배선

Claims (20)

  1. 복수의 화소 영역들로 구획된 기판 상에 배치된 박막 트랜지스터;
    상기 복수의 화소 영역들 각각에 배치되며, 상기 박막 트랜지스터와 전기적으로 연결된 복수의 화소 전극들;
    상기 복수의 화소 전극들에 대향되도록 배치된 지붕층;
    상기 복수의 화소 전극들 각각과 상기 지붕층 사이에 배치되며, 제1 영역 및 상기 제1 영역의 하부에 배치되며 상기 제1 영역에 대하여 상기 기판과 실질적으로 평행한 방향으로 돌출된 돌출부를 포함하는 제2 영역을 포함하고 서로 이격되어 있는 복수의 미세 공간들;
    상기 복수의 미세 공간들 각각의 내측면에 배치된 배향막; 및
    상기 복수의 미세 공간들 각각에 채워져 있는 액정;을 포함하는, 액정 표시 장치.
  2. 제1 항에 있어서,
    상기 복수의 미세 공간들 사이에 배치되며, 상기 복수의 미세 공간들을 밀봉하는 캐핑층을 더 포함하는, 액정 표시 장치.
  3. 제2 항에 있어서,
    상기 제1 영역은 제1 면, 제2 면, 제3 면, 및 제4 면을 포함하는 사각 뿔대 형상(frustum of quadrangular pyramid shape)이며, 상기 돌출부는 서로 대향하는 상기 제1 면 및 상기 제2 면에 대하여 돌출된, 액정 표시 장치.
  4. 제3 항에 있어서,
    상기 제3 면 및 제4 면은 상기 캐핑층과 접하는, 액정 표시 장치.
  5. 제3 항에 있어서,
    상기 제2 영역은 평면상(in plan view) 사각 형상이며, 일 방향에 대하여 상기 제1 영역의 너비보다 넓은 너비를 갖는, 액정 표시 장치.
  6. 제3 항에 있어서,
    상기 제2 영역, 상기 제1 면 및 상기 제2 면의 양 가장자리 영역으로부터 돌출된 적어도 4개의 돌출부를 포함하는, 액정 표시 장치.
  7. 제4 항에 있어서,
    상기 배향막은, 상기 캐핑층과 접하는 영역을 제외한 상기 복수의 미세 공간들 각각의 내측면 전체에 배치된, 액정 표시 장치.
  8. 제4 항에 있어서,
    상기 제1 면 및 상기 제2 면이 배치된 방향을 따라 서로 이격되어 있는 상기 복수의 미세 공간들의 사이에는 상기 지붕층이 배치된, 액정 표시 장치.
  9. 제1 항에 있어서,
    상기 기판과 상기 복수의 화소 전극들 각각의 사이에 배치된 복수의 컬러 필터들 및 상기 복수의 컬러 필터들 사이에 배치된 블랙 매트릭스를 더 포함하는, 액정 표시 장치.
  10. 제9 항에 있어서,
    상기 블랙 매트릭스는 서로 이격되어 있는 복수의 미세 공간들의 사이에 대응되도록 배치되며, 상기 블랙 매트릭스의 적어도 일부는 상기 돌출부와 평면상 중첩되도록 배치된, 액정 표시 장치.
  11. 제1 항에 있어서,
    상기 박막 트랜지스터와 전기적으로 연결되어, 상기 박막 트랜지스터에 스캔 신호와 데이터 신호를 각각 전달하는 스캔 배선 및 데이터 배선을 더 포함하며,
    상기 돌출부는, 상기 스캔 배선 및 상기 데이터 배선 중 적어도 하나의 적어도 일부와 평면상 중첩되도록 배치된, 액정 표시 장치.
  12. 복수의 화소 영역들로 구획된 기판 상에 박막 트랜지스터를 형성하는 단계;
    상기 복수의 화소 영역들 각각에 상기 박막 트랜지스터와 전기적으로 연결된 복수의 화소 전극들을 형성하는 단계;
    상기 복수의 화소 전극들 상에, 상부 영역 및 상기 상부 영역의 하부에 배치되며 상기 상부 영역에 대하여 상기 기판과 실질적으로 평행한 방향으로 돌출된 돌출부를 포함하는 하부 영역을 포함하며 서로 이격되어 있는 복수의 희생층들을 형성하는 단계;
    상기 복수의 희생층들을 덮도록 지붕층을 형성하는 단계;
    상기 복수의 희생층들 각각의 일부가 노출되도록 상기 지붕층을 패터닝하여 복수의 주입구들을 형성하는 단계;
    상기 복수의 희생층들을 제거하여 상기 화소 전극과 상기 지붕층 사이에 복수의 빈 공간들을 형성하는 단계;
    상기 복수의 주입구들을 통해 상기 복수의 빈 공간들에 배향액을 주입하는 단계;
    상기 배향액을 경화시켜 배향막을 형성하는 단계;
    상기 복수의 주입구들을 통해 상기 복수의 빈 공간들에 액정을 주입하는 단계; 및
    상기 지붕층 상에 캐핑층을 형성하여 상기 액정이 채워진 상기 복수의 빈 공간들을 밀봉하며, 상기 복수의 빈 공간들이 나뉘어진 복수의 미세 공간들을 형성하는 단계;를 포함하는, 액정 표시 장치의 제조 방법.
  13. 제12 항에 있어서,
    상기 미세 공간들은, 제1 영역 및 상기 제1 영역의 하부에 배치되며 상기 제1 영역에 대하여 상기 기판과 실질적으로 평행한 방향으로 돌출된 돌출부를 포함하는 제2 영역을 포함하는, 액정 표시 장치의 제조 방법.
  14. 제12 항에 있어서,
    상기 복수의 희생층들을 형성하는 단계는, 상기 상부 영역에 대응되는 차광부, 상기 돌출부에 대응되는 반투광부, 및 나머지 영역에 대응되는 투광부를 포함하는 하프톤 마스크를 이용하여 상기 복수의 희생층들을 형성하는 단계를 포함하는, 액정 표시 장치의 제조 방법.
  15. 제12 항에 있어서,
    상기 복수의 화소 전극들을 형성하는 단계 전에, 상기 기판 상에 복수의 컬러 필터 및 상기 복수의 컬러 필터들 사이에 배치된 블랙 매트릭스를 형성하는 단계를 더 포함하는, 액정 표시 장치의 제조 방법.
  16. 제15 항에 있어서,
    상기 복수의 희생층들을 형성하는 단계는, 상기 돌출부가 상기 블랙 매트릭스와 평면상 중첩되도록 상기 복수의 희생층들을 형성하는 단계를 포함하는, 액정 표시 장치의 제조 방법.
  17. 제12 항에 있어서,
    상기 복수의 화소 전극들을 형성하는 단계 전에, 상기 기판 상에 상기 박막 트랜지스터와 전기적으로 연결되어, 상기 박막 트랜지스터에 스캔 신호와 데이터 신호를 각각 전달하는 스캔 배선 및 데이터 배선을 형성하는 단계를 더 포함하며,
    상기 복수의 희생층들을 형성하는 단계는, 상기 돌출부가 상기 스캔 배선 및 상기 데이터 배선 중 적어도 하나의 적어도 일부와 평면상 중첩되도록 상기 복수의 희생층들을 형성하는 단계를 포함하는, 액정 표시 장치의 제조 방법.
  18. 제13 항에 있어서,
    상기 제1 영역은 제1 면, 제2 면, 제3 면, 및 제4 면을 포함하는 사각 뿔대 형상이며, 상기 돌출부는 서로 대향하는 상기 제1 면 및 상기 제2 면에 대하여 돌출된, 액정 표시 장치의 제조 방법.
  19. 제18 항에 있어서,
    상기 제2 영역은 평면상(in plan view) 사각 형상이며, 일 방향에 대하여 상기 제1 영역의 너비보다 넓은 너비를 갖는, 액정 표시 장치의 제조 방법.
  20. 제18 항에 있어서,
    상기 제2 영역, 상기 제1 면 및 상기 제2 면의 양 가장자리 영역으로부터 돌출된 적어도 4개의 돌출부를 포함하는, 액정 표시 장치의 제조 방법.
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