KR20160146502A - 광 배향용 편광광 조사장치 - Google Patents

광 배향용 편광광 조사장치 Download PDF

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KR20160146502A
KR20160146502A KR1020160010805A KR20160010805A KR20160146502A KR 20160146502 A KR20160146502 A KR 20160146502A KR 1020160010805 A KR1020160010805 A KR 1020160010805A KR 20160010805 A KR20160010805 A KR 20160010805A KR 20160146502 A KR20160146502 A KR 20160146502A
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irradiation unit
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다카아키 다나카
아키히코 다우치
유키노부 나카가와
쇼헤이 마에다
다케오 가토
아츠시 후지오카
고키 히노
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도시바 라이텍쿠 가부시키가이샤
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Abstract

본 발명은 피조사물에 대한 편광광의 조사상태를 적정하게 관리하고, 품질이 저하된 피조사물의 제조를 억제하는 것을 과제로 한다.
본 발명은 피조사물에 편광광을 조사하는 조사면이 설치된 조사유닛과, 피조사물이 탑재되는 스테이지와, 스테이지상의 피조사물이, 조사면으로부터 편광광이 조사되는 조사영역을 조사면과 평행으로 통과하도록 스테이지를 반송하는 반송기구와, 반송기구에 의해 반송되는 스테이지의 이동중에, 스테이지 또는 피조사물의 위치를 검출하는 위치검출수단과, 위치검출수단이 검출한 검출결과에 기초하여 소정의 제어를 실시하는 제어수단을 구비한다.

Description

광 배향용 편광광 조사장치{POLARIZED LIGHT ILLUMINATING APPARATUS FOR PHOTO-ALIGNMENT}
본 발명의 실시형태는 광 배향용 편광광 조사장치에 관한 것이다.
액정패널 등의 제조공정에서는 액정패널의 배향막이나 시야각 보상 필름의 배향층 등의 피조사물의 배향처리가 실시되고 있다. 배향처리에서는 배향막에 소정 파장의 편광광을 조사함으로써 배향을 실시하는, 소위 광 배향을 실시하기 위해 사용되는 광 배향용 편광광 조사장치가 알려져 있다.
이러한 종류의 광 배향용 편광광 조사장치로서는 예를 들어 편광광을 조사하는 조사면이 설치된 조사유닛과, 배향막이 형성된 기판이 탑재되는 스테이지와, 스테이지를 반송하는 반송기구를 구비하는 구성이 있다. 조사 유닛은 조사면으로부터 편광광을 조사하는 조사영역을 갖는다. 반송기구는 스테이지상의 기판이 조사 유닛의 조사영역을 조사면과 평행으로 통과하도록 스테이지를 반송한다.
또한, 상술한 광 배향용 편광광 조사장치에 유사한 장치로서는 기판이 탑재된 제1 및 제2 스테이지가 기판에 대해서 노광광을 조사하는 노광부를 통과하도록 제1 및 제2 스테이지를 반송하는 노광장치가 알려져 있다.
일본 공개특허공보 제2008-191302호
그런데 액정패널의 제조공정에서는 피조사물인 배향막에 조사되는 편광광의 광축의 위치 오차를, ±1° 정도의 허용 값 내에 수용하는 정밀도가 요구되는 경우가 있다. 한편, 상술한 광 배향용 편광광 조사장치에서는 반송기구에 의해 반송되는 스테이지의 이동 중에 반송기구의 반송상태의 경시변화나 반송기구의 열화 등에 따라서 스테이지에 진동이 발생할 우려가 있다. 이동 중의 스테이지에 진동이 발생한 경우, 기판이 조사 영역을 통과할 때 배향막에 대한 편광광의 조사상태가 변동되므로, 배향막의 품질의 저하를 초래하는 문제가 있다. 특히, 조사유닛의 조사면에 직교하는 축 회전에 대한 스테이지의 위치 오차나 진동은, 배향막의 품질에 큰 영향을 미치는 경향이 있다.
그래서, 본 발명은 피조사물에 대한 편광광의 조사상태를 적정하게 관리하고, 품질이 저하된 피조사물의 제조를 억제할 수 있는 광 배향용 편광광 조사장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.
실시형태에 관한 광 배향용 편광광 조사장치는 피조사물에 편광광을 조사하는 조사면이 설치된 조사유닛과, 상기 피조사물이 탑재되는 스테이지와, 상기 스테이지 상의 상기 피조사물이 상기 조사면으로부터 조사되는 편광광의 조사영역을 상기 조사면과 평행으로 통과하도록 상기 스테이지를 반송하는 반송기구와, 상기 반송기구에 의해 반송되는 상기 스테이지의 이동 중에, 상기 스테이지 또는 상기 피조사물의 위치를 검출하는 위치검출수단과, 상기 위치검출수단이 검출한 검출 결과에 기초하여 소정의 제어를 실시하는 제어수단을 구비한다.
본 발명에 따르면 피조사물에 대한 편광광의 조사상태를 적정하게 관리하고, 품질이 저하된 피조사물의 제조를 억제할 수 있다.
도 1은 제1 실시형태에 관한 광 배향용 편광광 조사장치를 도시한 사시도이다.
도 2는 제1 실시형태에 관한 광 배향용 편광광 조사장치를 도시한 평면도이다.
도 3은 제1 실시형태에 관한 광 배향용 편광광 조사장치를 도시한 측면도이다.
도 4는 제1 실시형태에 관한 광 배향용 편광광 조사장치에 있어서, 광센서의 검출결과에 기초하는 처리를 설명하기 위한 플로우차트이다.
도 5는 제1 실시형태에 관한 변형 예 1의 광 배향용 편광광 조사장치를 도시한 측면도이다.
도 6은 제1 실시형태에 관한 변형 예 2의 광 배향용 편광광 조사장치를 도시한 평면도이다.
도 7은 제1 실시형태에 관한 변형 예 2의 광 배향용 편광광 조사장치를 도시한 측면도이다.
도 8은 제1 실시형태에 관한 변형 예 3의 광 배향용 편광광 조사장치를 모식적으로 도시한 측면도이다.
도 9는 제2 실시형태에 관한 광 배향용 편광광 조사장치를 도시한 사시도이다.
도 10은 제2 실시형태에 관한 광 배향용 편광광 조사장치를 도시한 평면도이다.
도 11은 제2 실시형태에 관한 광 배향용 편광광 조사장치를 도시한 측면도이다.
도 12는 제2 실시형태에 관한 변형 예 1의 광 배향용 편광광 조사장치를 도시한 평면도이다.
도 13은 제2 실시형태에 관한 변형 예 1의 광 배향용 편광광 조사장치를 도시한 측면도이다.
이하에서 설명하는 실시형태에 관한 광 배향용 편광광 조사장치(이하, 편광광 조사장치라고 부름)(1)은 조사 유닛(13), 스테이지(15), 반송기구(16), 위치검출수단으로서의 광센서(18), 및 제어수단으로서의 제어부(19)를 구비한다. 조사유닛(13)에는 조사면(B)이 설치되어 있다. 조사면(B)은 피조사물로서의 기판(11)에 편광광을 조사하는 조사영역(A)을 갖는다. 스테이지(15)에는 기판(11)이 탑재된다. 반송기구(16)는 스테이지(15)상의 기판(11)이 조사영역(A)을 조사면(B)과 평행으로 통과하도록 스테이지(15)를 반송한다. 광센서(18)는 반송기구(16)에 의해 반송되는 스테이지(15)의 이동중에 스테이지(15) 또는 기판(11)의 위치를 검출한다. 제어부(19)는 광센서(18)가 검출한 검출결과에 기초하여 소정의 제어를 실시한다.
또한, 이하에서 설명하는 실시형태에 관한 편광광 조사장치(1)가 갖는 광센서(18)는 조사면(B)에 직교하는 축 회전에 있어서, 스테이지(15)의 반송방향에 대한 스테이지(15) 또는 기판(11)의 회전각을 검출한다.
또한, 이하에서 설명하는 실시형태에 관한 편광광 조사장치(1)가 갖는 광센서(18)는 조사영역(A) 내, 조사영역(A)에 대해서 스테이지(15)의 반송방향에서의 일방측 및 타방측 중 적어도 한곳에 배치되어 있다.
또한, 이하에서 설명하는 실시형태에 관한 편광광 조사장치(1)가 갖는 광센서(18)는 조사면(B)에 직교하는 방향 및 조사면(B)에 평행인 방향 중 적어도 한쪽에서의 스테이지(15) 또는 기판(11)의 위치를 검출하도록 배치되어 있다.
또한, 이하에서 설명하는 실시형태에 관한 편광광 조사장치(1)는 조사 유닛(13)을 갖는 조사부(12)를 구비한다. 광센서(18)는 조사부(12)에 설치되어 있다.
또한, 이하에서 설명하는 실시형태에 관한 편광광 조사장치(3)는 조사유닛(13)을 갖는 조사부(12)를 구비한다. 반송기구(16)는 제1 반송로(17a)와, 제2 반송로(17b)를 갖는다. 제1 반송로(17a)는 스테이지(15)가 조사영역(A)을 향하여 이동을 개시하는 개시위치(P1)와 조사부(12) 사이에 설치되어 있다. 제2 반송로(17b)는 조사영역(A)을 통과한 스테이지(15)가 정지하는 정지위치(P1)와 조사부(12) 사이에 설치되어 있다. 광센서(18)는 제1 반송로(17a) 및 제2 반송로(17b) 중 적어도 한쪽을 따르는 위치에 설치되어 있다.
또한, 이하에서 설명하는 실시형태에 관한 편광광 조사장치(5)가 갖는 광센서(18)는 스테이지(15)에 설치되어 있다.
또한, 이하에서 설명하는 실시형태에 관한 편광광 조사장치(5)가 갖는 광센서(18)는 조사면(B)에 직교하는 방향 및 조사면(B)에 평행인 방향 중 적어도 한쪽에 대한 스테이지(15)의 위치를 검출하도록 배치되어 있다.
또한, 이하에서 설명하는 실시형태에 관한 편광광 조사장치(5)는 조사 유닛(13)을 갖는 조사부(12)를 구비한다. 조사부(12)는 광센서(18)에 의해 조사면(B)에 직교하는 방향 및 조사면(B)에 평행인 방향에 대한 스테이지(15)의 위치를 검출하기 위한 기준면(29a)을 갖는다.
또한, 이하에서 설명하는 실시형태에 관한 편광광 조사장치(5)가 갖는 조사 유닛(13)은 편광소자로서의 편광판(13c)과 유지부재(13d)를 갖는다. 편광판(13c)은 편광광을 출사한다. 유지부재(13d)는 편광판(13c)을 유지한다. 유지부재(13d)에는 광센서(18)에 의해 조사면(B)에 직교하는 방향에 대한 스테이지(15)의 위치를 검출하기 위한 기준면(29a)이 설치되어 있다.
또한, 이하에서 설명하는 실시형태에 관한 편광광 조사장치(6)는 조사 유닛(13)을 갖는 조사부(12)를 구비한다. 반송기구(16)는 제1 반송로(17a)와 제2 반송로(17b)를 갖는다. 제1 반송로(17a)는 스테이지(15)가 조사영역(A)을 향하여 이동을 개시하는 개시위치(P1)와 조사부(12) 사이에 설치되어 있다. 제2 반송로(17b)는 조사영역(A)을 통과한 스테이지(15)가 정지하는 정지위치(P2)와 조사부(12) 사이에 설치되어 있다. 제1 반송로(17a) 및 제2 반송로(17b) 중 적어도 한쪽을 따른 위치에는 광센서(18)에 의해 조사면(B)에 직교하는 방향 및 조사면(B)에 평행인 방향에 대한 스테이지(15)의 위치를 검출하기 위한 기준면(29a)이 설치되어 있다.
(제1 실시형태)
이하, 실시형태에 관한 편광광 조사장치에 대해서, 도면을 참조하여 설명한다.
본 실시형태에 관한 편광광 조사장치는 피조사물인 배향막이 형성된 기판에 직선 편광광 등의 편광광을 조사함으로써, 광 배향을 실시하기 위해 사용된다. 본 실시형태에 관한 편광광 조사장치는 예를 들어 액정패널의 배향막이나, 시야각 보상필름 등의 광학필름의 배향층의 제조에 사용된다.
(편광광 조사장치의 구성)
도 1은 제1 실시형태에 관한 편광광 조사장치를 도시한 사시도이다. 도 2는 제1 실시형태에 관한 편광광 조사장치를 도시한 평면도이다. 도 3은 제1 실시형태에 관한 편광광 조사장치를 도시한 측면도이다.
제1 실시형태의 편광광 조사장치(1)는 도 1~도 3에 도시한 바와 같이, 조사유닛(13)을 갖는 조사부(12), 스테이지(15), 반송기구(16), 및 위치검출수단으로서의 복수의 광센서(18)를 구비한다. 또한, 편광광 조사장치(1)는 제어수단으로서의 제어부(19)를 구비한다.
도 2 및 도 3에 도시한 바와 같이, 조사부(12)는 조사유닛(13)과, 조사유닛(13)을 지지하는 프레임(14)을 갖는다. 조사유닛(13)은 도 3에 도시한 바와 같이, 피조사물로서의 배향막이 형성된 직사각형 형상의 기판(11)(이하, 간단히 기판(11)으로 부름)에, 편광광을 조사하는 조사영역(A)을 갖는 조사면(B)이 향하게 되어 있다. 조사면(B)은 도 2 중에 도시한 X-Y 평면과 평행으로 배치되어 있고, 조사면(B)의 면적이 조사영역(A)에 상당한다.
또한, 조사유닛(13)은 도 3에 도시한 바와 같이, 자외선을 포함하는 광을 발하는 관 형상의 광원(13a)과, 광원(13a)이 발한 광을 반사하는 반사판(13b)을 갖는다. 또한, 조사유닛(13)은 광원(13a)이 발한 광과, 반사판(13b)에서 반사된 광이 입사되어 편광광을 출사하는 편광소자로서의 편광판(13c)과, 편광판(13c)을 유지하는 틀 형상의 유지부재(13d)를 갖는다.
또한, 여기에서 말하는 「조사영역(A)」이라는 것은 조사유닛(13)의 최하면의 개구, 즉 조사유닛(13)에서 가장 피조사물에 가까운 위치에 배치된 개구로부터 편광광이 조사되는 범위를 가리킨다. 또한, 「조사면(B)」이라는 것은 조사유닛(13)의 최하면에 배치된 광학소자에서 편광광을 출사하는 출사면을 가리킨다. 예를 들어, 조사유닛(13)의 최하면에 편광판(13c)이 배치되어 있는 경우, 편광판(13c)이 배치된 개구로부터 편광광이 조사되는 범위가 조사영역(A)에 상당하고, 편광판(13c)의 출사면이 조사면(B)에 상당한다. 또한, 편광판(13c)의 피조사물 측에 차광판(도시하지 않음)이 배치되어 있는 경우, 차광판이 배치된 개구로부터 편광광이 조사되는 범위가 조사영역(A)에 상당하고, 차광판의 출사면이 조사면(B)에 상당한다. 또한, 차광판에 보호 유리(도시하지 않음)가 배치되어 있는 경우, 보호 유리가 배치된 개구로부터 편광광이 조사되는 범위가 조사영역(A)에 상당하고, 보호 유리의 출사면이 조사면(B)에 상당한다.
광원(13a)은 예를 들어 자외선 투과성의 유리관내에 수은, 아르곤, 크세논 등의 희가스가 봉입된 고압수은램프나, 고압수은램프에 철이나 요오드 등의 메탈할라이드가 추가로 봉입된 메탈할라이드 램프 등의 관형상 방전 램프가 사용되고 있고, 직선형상의 발광부를 갖는다. 광원(13a)은 발광부의 길이 방향이, 조사유닛(13)에 대한 스테이지(15)의 반송방향과 직교하고 있고, 발광부의 길이가 기판(11)의 한변의 길이보다 길게 되어 있다. 광원(13a)은 직선형상의 발광부로부터 예를 들어 파장이 200㎚ 정도부터 400㎚ 정도까지의 자외선을 포함하는 광을 발하는 것이 가능해져 있다. 광원(13a)이 발하는 광은 여러가지 편광축 성분을 갖는 소위 비편광의 광이다.
반사판(13b)은 광원(13a)에 대향하는 면에, 광원(13a)이 발한 광을 반사하는 반사면을 갖고 있고, 반사면이 타원의 일부를 이루는 형상으로 형성되어 있다. 이에 의해, 반사판(13b)은 광원(13a)이 발한 광을 집광하는 소위 집광형 반사판으로서 구성되어 있다. 편광판(13c)은 광원(13a)이 발하고, 똑같이 모든 방향으로 진동한 여러 편광축 성분을 포함하는 광으로부터 기준방향으로만 진동한 편광축의 광을 취출하는 것이 가능해져 있다. 또한, 기준방향으로만 진동된 편광축의 광을, 일반적으로 직선 편광광이라고 한다. 또한, 편광축이라는 것은 광의 전장(電場) 및 자장(磁場)의 진동방향이다.
조사부(12)의 프레임(14)은 도 2 및 도 3에 도시한 바와 같이, 반송기구(16)의 후술하는 가이드레일(16a)에 걸쳐 배치되어 있다. 프레임(14)의 내부의 상방에는 조사 유닛(13)이 지지되어 있다.
스테이지(15)는 직사각형 판형상으로 형성되어 있고, 배향막이 형성된 기판(11)이 탑재된다. 도 2 및 도 3에 도시한 바와 같이, 스테이지(15)는 반송기구(16)에 의해 Y축 방향으로 이동 가능하게 지지되어 있다. 또한, 스테이지(15)의 외형 치수는 후술하는 복수의 광센서(18)의 검출광이 각각 동시에 조사되는 크기로 설정되는 것이 바람직하지만, 하나의 광센서(18)의 구성에 따라서 적절하게 설정된다.
반송기구(16)는 도 2 및 도 3에 도시한 바와 같이, 직선형상의 가이드레일(16a)과, 가이드레일(16a) 위를 따라서 이동하는 구동유닛(16b)을 갖는다. 가이드레일(16a)은 스테이지(15)가 조사부(12)의 조사영역(A)을 향하여 이동을 개시하는 개시위치(P1)와, 조사부(12)를 통과한 스테이지(15)가 정지하는 정지위치(P2) 사이에서 스테이지(15)가 왕복 이동하도록 설치되어 있다. 가이드레일(16a)에 의해, 스테이지(15)를 Y축 방향을 따라서 반송하는 직선형상의 반송로(17)가 구성되어 있다. 또한, 구동유닛(16b)상에는 스테이지(15)가 고정되어 있다. 그리고, 반송기구(16)는 구동유닛(16b)을 가이드레일(16a)을 따라서 이동시킴으로써, 스테이지(15) 상의 기판(11)이 조사영역(A)을 통과하도록 스테이지(15)를 조사면(B)과 평행으로 반송한다.
반송로(17)는 개시위치(P1)와 조사부(12) 사이의 제1 반송로(17a)와, 조사부(12)와 정지위치(P2) 사이의 제2 반송로(17b)와, 제1 반송로(17a)와 제2 반송로(17b) 사이에서 조사부(12) 내에 배치된 제3 반송로(17c)를 포함한다.
복수의 광센서(18)는 반송기구(16)에 의해 반송되는 스테이지(15)의 이동 중에, 스테이지(15)의 위치를 검출하도록 배치되어 있다. 도시하지 않지만, 광센서(18)는 검출광을 발하는 발광부와, 스테이지(15)에 의해 반사된 검출광을 수광하는 수광부를 갖는다.
제1 실시형태에서 조사부(12)의 내부에는 조사유닛(13)의 조사면(B)과 동일면상(X-Y평면상)에, 3개의 광센서(18)가 소정의 간격을 두고 배치되어 있다. 3개의 광센서(18)는 조사부(12) 내를 통과하는 스테이지(15)의 탑재면에 대향하는 위치에, 검출광을 하방을 향하여 출사하는 방향으로 배치되어 있다. X-Y 평면상에 배치된 3개의 광센서(18) 중, Y축방향으로 간격을 두고 배치된 각 광센서(18)에 의해 X축 회전에 대한 스테이지(15)의 진동이 검출된다. 또한, X-Y평면상에 배치된 3개의 광세서(18) 중, X축 방향으로 간격을 두고 배치된 각 광센서(18)에 의해 Y축 회전에 대한 스테이지(15)의 진동이 검출된다.
또한, 3개의 광센서(18)는 조사유닛(13)의 편광판(13c)을 유지하는 유지부재(13d)에 고정되어 있다. 이 구성에 따르면, 광센서(18)를 지지하는 지지체를 통하여 광센서(18)를 조사부(12)에 부착할 필요가 없어지고, 부착 구조의 간소화가 도모된다. 또한, 광센서(18)는 조사유닛(13)의 조사면(B)을 기준면으로 하여 스테이지(15)의 위치를 검출할 수 있으므로, 적정한 검출정밀도를 용이하게 확보할 수 있다.
또한, 조사부(12)의 내부에는 측면(Y-Z평면)에, 2개의 광센서(18)가 스테이지(15)의 반송방향(Y축 방향)으로 소정의 간격을 두고 배치되어 있다. 2개의 광센서(18)는 지지체(21)를 통하여 프레임(14)에 고정되어 있고, 스테이지(15)의 반송방향에 대한 조사영역(A)의 양측에 배치되어 있다. 또한, 2개의 광센서(18)는, 스테이지(15)의 측면이 통과하는 위치에 대향하여, 검출광을 스테이지(15)의 측면을 향하여 출사하는 방향으로 배치되어 있다. Y-Z 평면상에 Y축 방향에 대해서 간격을 두고 배치된 각 광센서(18)에 의해 Z축 회전에 대한 스테이지(15)의 진동이 검출된다.
또한, X-Y 평면상에 배치되는 3개의 광센서(18)는 스테이지(15) 상방에 배치하는 구성에 한정되는 것은 아니고, 도 3에 도시한 바와 같이, 스테이지(15)의 하방에 배치되어도 좋다. 이 구성의 경우, 3개의 광센서(18)는, 예를 들어 가이드레일(16a)에 인접하는 위치에 소정의 간격을 두고, 검출광을 상방을 향하여 출사하는 방향으로 배치된다.
복수의 광센서(18)를 사용하여, 스테이지(15)의 이동중에, 도 1에 도시한 X축, Y축 및 Z축의 3축 회전에 관한 스테이지(15)의 위치를 각각 검출함으로써, 3축 회전에 대한 스테이지(15)의 진동이 검출된다. 다시 말하면, 복수의 광센서(18)를 사용함으로써, Y축 방향에 대해서 이동중의 스테이지(15)에 대해서, X축 회전인 요축(yaw axis) 회전에 대한 진동, Y축 회전인 롤축(roll axis) 회전에 대한 진동, Z축 회전인 피치축 회전에 대한 진동이 각각 검출된다. 본 실시형태에서는 X축 및 Y축 방향이, 조사유닛(13)의 조사면(B)에 평행인 방향에 상당하고, 수평방향이다. 또한, 본 실시형태에서는 Z축이 조사면(B)에 직교하는 축에 상당하고, 연직방향이다.
또한, 3축 회전에 대한 각 진동 중, 특히 조사유닛(13)의 조사면(B)에 직교하는 Z축 회전에 대하여 발생하는 스테이지(15)의 위치오차나 진동이, 배향막의 품질에 큰 영향을 미치는 경향이 있다. 이 때문에, Y-Z 평면상에 Y축 방향을 따라서 배치된 2개의 광센서(18)를 사용하여 적어도 Z축 회전에 대한 스테이지(15)의 진동에서 Y축쪽에 대한 스테이지(15)의 회전각을 검출함으로써, 품질이 저하된 배향막의 제조를 억제하는 것이 가능해진다.
또한, 제1 실시형태에서는 5개의 광센서(18)를 사용하지만, 광센서(18)의 갯수를 한정하는 것은 아니다. 광센서(18)를 사용한 위치의 검출에서는 이동중의 스테이지(15)의 위치를 동시에 검출하는 광센서(18)의 갯수를 증가시키고, 스테이지(15)의 위치를 동시에 검출하는 각 광센서(18) 간의 간격을 크게 함으로써 검출정밀도를 높이는 것이 가능하다. 이 때문에, 광센서(18)의 갯수나 배치는 3축 방향에서 스테이지(15)의 진동을 검출하는 방향이나 검출정밀도의 요구에 따라서 적절하게 설정된다.
도 1에 도시한 바와 같이, 제어부(19)는 복수의 광센서(18) 및 조작부(20)와 전기적으로 접속되어 있고, 복수의 광센서(18)가 검출한 검출결과에 기초하여 조작부(20)를 제어한다.
조작부(20)는 경고를 포함하는 각종 정보를 표시하는 표시패널(20a)을 갖는다.
제어부(19)는 복수의 광센서(18)에 의해 검출된 스테이지(15)의 진동이 소정의 범위내인지를 판정한다. 스테이지(15)의 진동이 소정의 범위내보다 커진 경우, 제어부(19)는 조작부(20)를 제어하여, 표시패널(20a)에 경고를 표시시킨다.
이때, 표시패널(20a)에는 예를 들어, 스테이지(15)의 변위량에 관한 검출값이나, 검출값을 사용하여 산출한 산출값 등의 정보를 포함한 경고가 표시된다. 또한, 제어부(19)는 필요에 따라서 경고등을 점등하거나, 경보기가 경고음을 울리는 제어를 실시함으로써 다른 경고를 발해도 좋다.
또한, 스테이지(15)의 진동을 판정하기 위한 소정의 범위는, 예를 들어 기판(11)의 배향막의 품질이 적정하게 얻어지는 진폭의 상한값 및 하한값으로 설정함으로써, 품질이 불량한 배향막이 제조되기 전에, 적절한 타이밍으로 유지관리작업을 실시하는 것이 가능해진다.
또한, 본 실시형태에서는 복수의 광센서(18)를 사용하여 스테이지(15)의 진동을 검출하도록 구성되었지만, 스테이지(15) 상의 기판(11)의 진동을 검출하도록 구성되어도 좋다. 기판(11)의 진동을 직접 검출하는 경우에는 스테이지(15)상에 위치 결정되는 기판(11)의 탑재위치의 편차의 영향을 배제할 수 있으므로, 배향막의 위치의 검출정밀도를 더욱 높일 수 있다.
(편광광의 조사시의 동작)
도 2 및 도 3에 도시한 바와 같이, 편광광 조사장치(1)에서는 개시위치(P1)에서 스테이지(15)상에 기판(11)이 탑재되고, 반송기구(16)에 의해 스테이지(15)가 개시 위치(P1)와 정지위치(P2) 사이를 왕복 이동한다. 스테이지(15)가 개시위치(P1)와 정지위치(P2) 사이를 왕복 이동할 때, 스테이지(15)상의 기판(11)이 조사면(B)과 평행으로 반송되고, 조사영역(A)을 통과함으로써, 기판(11)상의 배향막에 대해서 원하는 광 배향이 실시된다.
이와 같이 반송기구(16)에 의해 반송되는 스테이지(15)의 이동 중에, 스테이지(15)가, 복수의 광센서(18)가 검출하는 검출위치를 통과함으로써, 스테이지(15)의 3축 회전에 대한 진동이 각각 검출된다. 도 4는 제1 실시형태의 편광광 조사장치(1)에서 복수의 광센서(18)의 검출결과에 기초하는 처리를 설명하기 위한 플로우차트이다.
도 4에 도시한 바와 같이 복수의 광센서(18)는 스테이지(15)상의 기판(11)이 조사부(12) 내에 진입하고, 기판(11)이 조사영역(A)을 통과할 때 X, Y, Z축 회전에 대한 스테이지(15)의 각 진동이 검출된다(단계(S1)). 제어부(19)는 복수의 광센서(18)가 검출한 X, Y, Z축 회전에 대한 스테이지(15)의 각 진동에 관하여, 각각 소정의 범위내인지, 예를 들어 스테이지(15)의 변위량인 진폭이 소정의 상한값과 하한값의 범위내인지를 판정한다(단계(S2)). 또한, 광센서(18)를 사용하여 Z축 회전에 대한 스테이지(15)의 회전각을 검출하는 경우, 제어부(19)는 X-Y 평면상에서의 Y축 방향에 대한 스테이지(15)의 회전각이 소정의 범위내인지 여부를 판정한다.
그리고, 제어부(19)는 단계(S2)에서 X, Y, Z축 회전에 대한 스테이지(15)의 진폭, 또는 상술한 스테이지(15)의 회전각이 소정의 범위를 벗어난 경우(단계(S2, 아니오), 조작부(20)의 표시패널(20a)을 사용하여 경고를 발하도록 제어를 실시한다(단계(S3)). 또한, 단계(S2)에서 스테이지(15)의 진동이 소정의 범위내인 경우(단계(S2), 예), 예를 들어 스테이지(15)의 진폭이 소정의 범위내인 경우에는 단계(S1)로 되돌아가고, 복수의 광센서(8)를 사용하여 스테이지(15)의 진동의 검출을 계속한다.
단계(S3)에서 제어부(19)가 경고를 발한 경우, 이동중의 스테이지(15)상의 기판(11)으로의 편광광의 조사를 종료한 후, 사용자가 조작부(20)를 조작하고, 반송기구(16)가 정지된다. 또한, 제어부(19)는 경고를 발하고, 또한 이동중의 스테이지(15)상의 기판(11)으로의 편광광의 조사를 종료한 후, 반송기구(16)를 정지하도록 제어를 실시해도 좋다. 또한, 이 경우, 반송기구(16)의 반송상태나 스테이지(15)의 고정위치 등에 관한 유지관리 작업이 실시되고, 이동중의 스테이지(15)의 진폭 또는 상술한 회전각이 소정의 범위내가 되도록 조정된다.
제1 실시형태의 편광광 조사장치(1)는 스테이지(15)의 이동중에 스테이지(15)의 위치를 검출하는 광센서(18)와, 광센서(18)가 검출한 검출결과에 기초하여 경고를 발하는 제어부(19) 및 표시패널(20a)을 갖는다. 이에 의해, 광센서(18)에 의해 스테이지(15)의 이동 중에 발생하는 진동을 검출하는 것이 가능해지고, 기판(11)의 배향막에 대한 편광광의 조사상태를 적정하게 관리하고, 품질이 저하된 배향막의 제조를 억제할 수 있다. 그 결과, 배향막의 제조공정에서의 수율을 향상시킬 수 있다.
또한, 편광광 조사장치(1)는 광센서(18)가 조사면(B)에 직교하는 Z축 회전에 대한 스테이지(15)의 회전각을 검출함으로써, 배향막의 품질에 대한 영향이 큰 위치오차성분에 기초하여, 배향막의 품질을 효과적으로 관리하는 것이 가능해진다.
이하, 제1 실시형태에 관한 변형 예, 제2 실시형태 및 제2 실시형태에 관한 변형 예의 편광광 조사장치에 대해서 도면을 참조하여 설명한다. 또한, 제1 실시형태의 변형 예, 제2 실시형태 및 그 변형 예에서, 제1 실시형태와 동일한 구성부재에는 제1 실시형태와 동일한 부호를 붙여 설명을 생략한다.
(제1 실시형태에 관한 변형 예 1)
도 5는 제1 실시형태에 관한 변형 예 1의 편광광 조사장치를 도시한 측면도이다. 이 변형 예 1은 광센서(18)의 배치가 제1 실시형태와 다르다.
도 5에 도시한 바와 같이, 변형 예 1의 편광광 조사장치(2)가 갖는 복수의 광센서(18)는 조사부(12)의 외측에 배치되어 있다. X축 및 Y축 회전에 대한 스테이지(15)의 진동을 검출하는 각 광센서(18)는 스테이지(15)의 상방에 배치되어 있고, 조사 유닛(13)의 조사면(B)과 동일한 평면상(X-Y 평면상)에 위치하도록, 조사부(12)의 프레임(14)의 측면에 설치되어 있다. 또한, Z축 회전에 대한 스테이지(15)의 진동을 검출하는 각 광센서(18)는 스테이지(15)의 측면이 통과하는 위치에 대향하여 배치되어 있고, 조사면(B)에 직교하는 Y-Z 평면상에 Y축 방향으로 간격을 두고 지지체(21)를 통하여 프레임(14)의 측면에 설치되어 있다.
또한, 스테이지(15)의 반송방향에 대해서 간격을 두고 배치된 각 광 센서(18)의 검출광은 스테이지(15)상의 기판(11)에 조사광이 조사되는 동안, 스테이지(15)상에 동시에 조사되도록, 스테이지(15)의 외형 치수 등이 설정되어 있다. 또한, 각 도면 중에 도시한 광센서(18)의 위치에 복수의 광센서(18)가 배치되어도 좋고, 스테이지(15)의 크기에 관계없이, 스테이지(15)의 진동을 검출하는 것도 가능하다. 또는, 복수의 발광부 및 수광부를 갖는 광센서(18)를 사용함으로써, 하나의 광센서(18)가 단독으로 스테이지(15)의 진동을 검출 가능하게 구성되어도 좋다.
또한, 변형 예 1에서도 X-Y 평면상에 배치되는 복수의 광센서(18)는 스테이지(15)의 하방에 배치되어도 좋다. 이 경우, 광센서(18)는 검출광을 상방을 향하여 출사하는 방향으로 배치된다.
이상과 같이 구성된 변형 예 1에서도, 제1 실시형태와 동일하게 복수의 광센서(18)에 의해 3축 회전에 대한 스테이지(15)의 진동을 검출할 수 있으므로, 배향막의 품질을 적정하게 관리하고, 품질이 저하된 배향막의 제조를 억제할 수 있다.
또한, 변형 예 1에 따르면, 조사부(12)의 내측에 각 광센서(18)가 배치된 제1 실시형태와 비교하여, 스테이지(15)의 반송방향(Y축 방향)에 대한 각 광센서(18)의 간격을 넓히는 것이 가능해진다. 이 때문에, 변형 예 1은 특히 Z축 회전에 대한 스테이지(15)의 진동의 검출정밀도를 높이는 것이 가능해진다.
(제1 실시형태에 관한 변형 예 2)
도 6은 제1 실시형태에 관한 변형 예 2의 편광광 조사장치를 도시한 평면도이다. 도 7은 제1 실시형태에 관한 변형 예 2의 편광광 조사장치를 도시한 측면도이다. 이 변형 예 2는 광센서(18)의 배치가, 제1 실시형태 및 변형 예 1과 다르다.
도 6 및 도 7에 도시한 바와 같이, 변형 예 2의 편광광 조사장치(3)는 광센서(18)가 설치된 1그룹의 센서 지지부(23)를 갖는다. 1그룹의 센서 지지부(23)는 스테이지(15)의 반송방향(Y축 방향)에서 반송기구(16)에서의 제1 반송로(17a) 및 제2 반송로(17b)를 따른 위치에 배치되어 있다. 다시 말하면, 변형 예 2에서의 각 광센서(18)는 개시위치(P1)와 조사부(12) 사이의 제1 반송로(17a)를 따른 위치와, 조사부(12)와 정지위치(P2) 사이의 제2 반송로(17b)를 따른 위치에 각각 배치되어 있다.
1그룹의 센서 지지부(23)는 각 광센서(18)를 지지하는 프레임(23a)을 갖는다. 프레임(23a)은 반송로(17)의 가이드레일(16a)에 걸쳐 배치되어 있다. 프레임(23a)의 상부에는 X축 및 Y축 회전에 대한 스테이지(15)의 진동을 검출하는 광센서(18)가 제1 및 제2 반송로(17a, 17b)를 따라서 이동하는 스테이지(15)의 상방에 배치되어 있다. 또한, 프레임(23a)의 측부에는 Z축 회전에 대한 스테이지(15)의 진동을 검출하는 광센서(18)가, 제1 및 제2 반송로(17a, 17b)를 따라서 이동하는 스테이지(15)의 측면에 대향하여 배치되어 있다. 이 광센서(18)는 지지체(21)를 통하여 프레임(23a)의 측부에 설치되어 있다.
또한, 각 도면에서는 광센서(18)를 간략히 도시하지만, 예를 들어 하나의 광센서(18)가 복수의 발광부 및 수광부를 갖고 있고, 단독으로 X축, Y축 및 Z축 회전에 대한 스테이지(15)의 진동을 검출 가능하게 구성되어 있다.
이상과 같이 구성된 변형 예 2에서도 제1 실시형태와 동일하게, 복수의 광센서(18)에 의해 3축 회전에 대한 스테이지(15)의 진동을 검출할 수 있으므로, 배향막의 품질을 적정하게 관리하고, 품질이 저하된 배향막의 제조를 억제할 수 있다.
(제1 실시형태에 관한 변형 예 3)
도 8은 제1 실시형태에 관한 변형 예 3의 편광광 조사장치를 모식적으로 도시한 측면도이다. 이 변형 예 3은 광센서(18)의 검출결과에 기초하여 스테이지(15)의 위치를 보정하는 점이 제1 실시형태와 다르다.
도 8에 도시한 바와 같이, 변형 예 3의 편광광 조사장치(4)는 스테이지(15)를 X, Y 및 Z축 회전에 대해서 이동 가능하게 지지하는 위치보정기구(25)와, 각 광센서(18)가 검출한 검출결과에 기초하여 위치보정기구(25)를 제어하는 제어수단으로서의 제어부(19)를 구비한다.
변형 예 3에서의 각 광센서(18)는, 예를 들어 상술한 제1 실시형태 및 그 변형 예 1 및 변형 예 2와 동일하게 배치되어 있다. 위치보정기구(25)는 제어부(19)와 전기적으로 접속되어 있다. 제어부(19)는 각 광센서(18)의 검출결과에 기초하여 위치보정기구(25)를 제어함으로써, 위치보정기구(25)에 의해 이동중의 스테이지(15)의 위치가 적정한 위치로 보정된다. 제어부(19)는 예를 들어 스테이지(15)의 이동중에 광센서(18)가 검출한 스테이지(15)의 진동에 기초하여, 스테이지(15)의 진폭이 소정의 범위내가 되도록 위치보정기구(25)를 제어한다.
또한, 위치보정기구(25)가 스테이지(15)의 위치를 보정하는 타이밍은 반송기구(16)에 의해 반송되는 스테이지(15)의 이동 중에 한정되지 않고, 다른 타이밍으로 제어가 실시되어도 좋다. 예를 들어, 스테이지(15)상의 기판(11)으로의 편광광의 조사가 종료되고, 스테이지(15)가 개시위치(P1)로 되돌아간 후, 선행한 스테이지(15)의 이동중에 광센서(18)가 검출한 검출결과에 기초하여, 대기중의 스테이지(15)의 위치를 보정하도록, 제어부(19)가 위치보정기구(25)의 제어를 실시해도 좋다.
이상과 같이 구성된 변형 예 3에 따르면 광센서(18)의 검출결과에 기초하여 위치보정기구(25)에 의해 스테이지(15)의 위치를 보정함으로써, 배향막의 품질이 저하되는 것을 더욱 억제하는 것이 가능해진다. 따라서, 변형 예 3에서도, 제1 실시형태와 동일하게 배향막의 품질을 적정하게 관리하고, 품질이 저하된 배향막의 제조를 억제할 수 있다.
제1 실시형태 및 그 변형 예 1~3에서는 위치검출수단으로서 광센서(18)가 사용되었지만, 예를 들어 초음파 위치 센서 등의 다른 비접촉식의 위치센서가 사용되어도 좋다.
또한, 위치검출수단은 비접촉식의 위치센서에 한정되는 것은 아니고, 예를 들어 스테이지(15)에 접촉되는 접촉자를 갖는 접촉식의 변위센서가 사용되어도 좋다. 또한, 광센서(18)로서는 상술한 반사형 센서에 한정되는 것은 아니고, 투과형 센서가 사용되어도 좋다. 이 경우에는, 예를 들어 스테이지(15)에 설치된 광투과부를 투과한 검출광을 수광함으로써 스테이지(15)의 위치를 검출해도 좋다.
접촉식의 변위센서를 사용하는 경우에는 예를 들어 스테이지(15)의 반송로를 따른 위치에 이동중인 스테이지(15)에 접하도록 복수의 변위센서가 배치된다. 또한, 이와 같은 변위센서를 사용하는 경우에는 소정의 타이밍으로 변위센서를 스테이지(15)에 억압함으로써 스테이지(15)의 위치를 검출해도 좋다.
(제2 실시형태)
도 9는 제2 실시형태에 관한 편광광 조사장치를 도시한 사시도이다. 도 10은 제1 실시형태에 관한 편광광 조사장치를 도시한 평면도이다. 도 11은 제2 실시형태에 관한 평광광 조사장치를 도시한 측면도이다. 제2 실시형태는, 광센서(18)는 스테이지(15)측에 배치되는 점이, 제1 실시형태 및 그 변형 예와 다르다.
도 9~도 11에 도시한 바와 같이, 제2 실시형태의 편광광 조사장치(5)가 갖는 복수의 광센서(18)는 스테이지(15)에 설치되어 있다. 편광광 조사장치(5)는 위치검출수단으로서 광센서(18)와, 광센서(18)가 위치를 검출하기 위한 기준면(29a)을 갖는 반사판(29)을 갖는다. 광센서(18)는 스테이지(11)의 이동중에 기준면(29a)에서 반사된 검출광을 수광함으로써 스테이지(11)의 진동을 검출한다.
도 9 이후에서는 간략히 3개의 광센서(18)만을 도시하고 있고, 하나의 광센서(18)가 단독으로 스테이지(15)의 진동을 검출 가능하게 구성되어 있다. 또한, 3축의 각 축 회전에 대한 진동(진폭)을 검출하기 위해, 예를 들어 5개의 광센서(18)가 스테이지(15)에 설치되어도 좋다. 스테이지(15)에 설치되는 광센서(18)의 위치나 갯수는 본 실시형태에 한정되지 않고, 진동을 검출하는 방향이나 검출정밀도 등에 관한 필요에 따라서 적절하게 설정된다.
도 10 및 도 11에 도시한 바와 같이, 스테이지(15)에는 개시위치(P1)로부터 조사부(12)를 향하여 진행할 때의 전방의 측면의 양측에, X축 및 Y축 회전에 대한 스테이지(15)의 진동을 검출하는 각 광센서(18)가 설치되어 있다. 이들의 광센서(18)는, 검출광을 스테이지(15)의 하방에 출사하는 방향으로 설치되어 있다. 또한, 이들의 광센서(18)에 대응하여 조사부(12)의 내부에는, 조사유닛(13)의 조사면B과 동일한 면상(X-Y 평면상)에 기준면(29a)이 위치하도록 복수의 반사판(29)이 설치되어 있다.
또한, 스테이지(15)에는 반송방향에 평행인 측면에, Z축 회전에 대한 스테이지(15)의 진동을 검출하는 광센서(18)가 설치되어 있다. 이 광센서(18)는 스테이지(15)상의 기판(11)이 조사영역(A) 내를 이동하는 동안에 조사부(12) 내의 측면에 검출광을 조사하는 방향으로 설치되어 있다. 또한, 상기 광센서(18)에 대응하여, 조사부(12)의 내부에는 측면상(Y-Z 평면상)에 기준면(29a)이 위치하도록 반사판(29)이 설치되어 있다. 이 반사판(29)은 스테이지(15)상의 기판(11)이 조사영역(A) 내를 이동하는 동안에, 광센서(18)가 통과하는 위치에 기준면(29a)이 대향하도록 배치되어 있다.
또한, X축 및 Y축 회전에 대한 스테이지(15)의 진동을 검출하는 각 광센서(18)는 검출광을 스테이지(15)의 하방으로 출사하는 방향으로 설치되었지만, 도 11에 도시한 바와 같이 검출광을 스테이지(15)의 상방으로 출사하는 방향으로 설치되어도 좋다. 스테이지(15)의 하방으로 검출광을 출사하도록 광센서(18)가 설치되는 경우, 스테이지(15)의 하방에, 광센서(18)에 대향하도록 반사판(29)이 배치된다. 이 반사판(29)은, 조사부(12)의 내부의 하방에, 가이드레일(16a)을 따라서 설치되어 있고, 광센서(18)에 대향하는 기준면(29a)이 조사면(B)에 평행인 X-Y 평면상에 위치하도록 배치된다.
또한, 광센서(18)의 갯수나 배치, 기준면(29a)의 갯수, 스테이지(15)의 반송방향에 대한 기준면(29a)의 치수는, 광센서(18) 및 기준면(29a)에 의해, 스테이지(15)상의 기판(11)이 조사영역(A) 내를 이동하는 동안에 걸쳐 스테이지(15)의 진동을 검출가능하도록 설정되는 것이 바람직하다.
이상과 같이 구성된 제2 실시형태에서도, 제1 실시형태 및 그 변형 예 1~3과 동일하게, 복수의 광센서(18) 및 반사판(29)에 의해 3축 회전에 대한 스테이지(15)의 진동을 검출할 수 있으므로, 배향막의 품질을 적정하게 관리하고, 품질이 저하된 배향막의 제조를 억제할 수 있다.
(제2 실시형태에 관한 변형 예 1)
도 12는 제2 실시형태에 관한 변형 예 1의 편광광 조사장치를 도시한 평면도이다. 도 13은 제2 실시형태에 관한 변형 예 1의 편광광 조사장치를 도시한 측면도이다. 제2 실시형태의 변형 예 1은 광센서(18)가 이용하는 기준면(29a)의 배치가, 제1 실시형태와 다르다.
도 12 및 도 13에 도시한 바와 같이, 제2 실시형태의 변형 예 1의 편광광 조사장치(6)는 반사판(29)이 설치된 1그룹의 반사판 지지부(33)를 갖는다. 1그룹의 반사판 지지부(33)는 스테이지(15)의 반송방향(Y축 방향)에서 반송기구(16)에서의 제1 반송로(17a) 및 제2 반송로(17b)를 따른 위치에 배치되어 있다. 다시 말하면, 이 변형 예 1에서의 각 반사판(29)의 기준면(29a)은 개시위치(P1)와 조사부(12) 사이의 제1 반송로(17a)을 따른 위치와, 조사부(12)와 정지위치(P2) 사이의 제2 반송로(17b)를 따른 위치에 각각 배치되어 있다.
1그룹의 반사판 지지부(33)는 각 반사판(29)을 지지하는 프레임(33a)을 갖는다. 프레임(33a)은 반송로(17)의 가이드레일(16a)에 걸쳐 배치되어 있다. 프레임(33a)의 상부에는, X축 및 Y축 회전에 대한 스테이지(15)의 진동을 검출하는 광센서(18)의 검출광을, 기준면(29a)에서 반사하도록, 반사판(29)이, 제1 및 제2 반송로(17a, 17b)를 따라서 이동하는 스테이지(15)의 상방에 배치되어 있다. 또한, 프레임(33a)의 측부에는, Z축 회전에 대한 스테이지(15)의 진동을 검출하는 광센서(18)의 검출광을, 기준면(29a)에서 반사하도록, 반사판(29)이, 제1 및 제2 반송로(17a, 17b)를 따라서 이동하는 스테이지(15)의 측면에 대향하여 배치되어 있다.
이상과 같이 구성된 제2 실시형태에 관한 변형 예 1에서도, 제1 실시형태 등과 동일하게 광센서(18) 및 반사판(29)에 의해 3축 회전에 대한 스테이지(15)의 진동을 검출할 수 있으므로, 배향막의 품질을 적정하게 관리하고, 품질이 저하된 배향막의 제조를 억제할 수 있다.
(제2 실시형태에 관한 변형 예 2)
위치검출수단으로서 상술한 광센서(18) 및 기준면(29a)을 갖는 반사판(29)을 사용하는 대신, 스테이지(15)에 자이로센서가 설치되어도 좋다. 도시하지 않지만, 하나의 자이로센서에 의해 3축 회전에 대한 스테이지(15)의 각 진동을 검출하는 것이 가능해지고, 위치검출수단의 구성을 간소화할 수 있다.
또한, 자이로센서를 예를 들어 스테이지(15)의 내부에 편성함으로써, 자이로센서가 조사유닛(13)의 조사영역(A)에 노출되는 것을 피하게 되므로, 자이로센서의 내구성이나 검출동작의 신뢰성을 높이는 것이 가능해진다. 또한, 자이로센서가 무선통신으로 제어부(19)에 검출신호를 송신하도록 구성되어도 좋고, 스테이지(15)의 위치를 검출하기 위한 구성의 자유도가 높아진다.
이상과 같이 구성된 제2 실시형태에 관한 변형 예 2에서도, 제1 실시형태 등과 동일하게, 자이로센서에 의해 3축 회전에 대한 스테이지(15)의 진동을 검출할 수 있으므로, 배향막의 품질을 적정하게 관리하고, 품질이 저하된 배향막의 제조를 억제할 수 있다.
또한, 제2 실시형태 및 그 변형 예 1 및 변형 예 2에서도 광센서(18) 및 반사판(29) 대신, 예를 들어 초음파 위치 센서 등의 다른 비접촉식의 위치센서나, 접촉식의 변위센서가 사용되어도 좋다.
또한, 제2 실시형태 및 그 변형 예 1 및 변형 예 2에서도, 제1 실시형태에 관한 변형 예 3과 동일하게, 위치검출수단으로서의 광센서(18) 및 반사판(29)이나 자이로센서가 검출한 검출결과에 기초하여, 스테이지(15)의 위치가 위치보정기구(25)에 의해 보정되도록 구성되어도 좋다.
또한, 상술한 실시형태 및 변형 예에서는 반송기구(16)가 하나의 스테이지(15)를 반송하도록 구성되었지만, 조사유닛(13)의 조사영역(A)에 대하여 복수의 스테이지(15)를 번갈아 반송하도록 구성되어도 좋다. 이 구성의 경우에서도, 위치검출수단에 의해 이동중인 각 스테이지(15)의 위치를 검출함으로써, 상술한 실시형태 및 변형 예와 동일한 효과를 얻을 수 있다.
또한, 실시형태에서는 조사유닛(13)이 편광광을 연직 방향으로 조사하도록 배치되었지만, 편광광의 조사방향을 한정하는 것은 아니다. 예를 들어, 스테이지(15)의 반송방향이 수평방향에 대해서 경사지고, 스테이지(15)상의 기판(11)에 조사되는 편광광의 광축이 연직방향으로 경사져도 좋다.
상술한 각 실시형태에서는 하나의 조사유닛(13)을 구비하여 구성되었지만, 이 구성에 한정되는 것은 아니다. 예를 들어, 복수의 조사유닛(13)이 소정의 간격을 두고 설치되어도 좋다. 이 경우, 조사영역(A)은 복수의 조사유닛(13)의 바로 아래뿐만 아니라, 일단에 설치된 조사유닛(13)의 가장 아래면의 개구의 일단으로부터, 타단의 조사유닛(13)의 가장 아래 면의 개구의 타 단까지의 사이의 영역으로 해도 좋다.
본 발명의 실시형태를 설명했지만, 실시형태는 예로서 제시한 것이고, 본 발명의 범위를 한정하려는 의도는 없다. 실시형태는 그 밖의 여러가지 형태로 실시하는 것이 가능하고, 발명의 요지를 벗어나지 않는 범위에서, 여러 가지 생략, 치환, 변경을 실시할 수 있다. 실시형태나 그 변형은 본 발명의 범위나 요지에 포함되면, 동일하게 특허청구범위에 기재된 발명과 그 균등한 범위에 포함되는 것이다.
1: 광 배향용 편광광 조사장치 11: 기판
12: 조사부 13: 조사유닛
15: 스테이지 16: 반송기구
17: 반송로 17a: 제1 반송로
17b: 제2 반송로 18: 광센서
19: 제어부 20: 조작부
20a: 표시패널 A: 조사영역
B: 조사면 P1: 개시위치 P2: 정지위치

Claims (11)

  1. 피조사물에 편광광을 조사하는 조사면이 설치된 조사유닛,
    상기 피조사물이 탑재되는 스테이지,
    상기 스테이지상의 상기 피조사물이, 상기 조사면으로부터 조사되는 편광광의 조사영역을 상기 조사면과 평행으로 통과하도록 상기 스테이지를 반송하는 반송기구,
    상기 반송기구에 의해 반송되는 상기 스테이지의 이동 중에, 상기 스테이지 또는 상기 피조사물의 위치를 검출하는 위치검출수단, 및
    상기 위치검출수단이 검출한 검출결과에 기초하여 소정의 제어를 실시하는 제어수단을 구비하는 광 배향용 편광광 조사장치.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 위치검출수단은 상기 조사면에 직교하는 축 회전에서, 상기 스테이지의 반송방향에 대한 상기 스테이지 또는 상기 피조사물의 회전각을 검출하는, 광 배향용 편광광 조사장치.
  3. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    상기 위치검출수단은 상기 조사영역 내, 상기 조사영역에 대해서 상기 스테이지의 반송방향에서의 일방측 및 타방측 중 적어도 한곳에 배치되어 있는, 광 배향용 편광광 조사장치.
  4. 제 3 항에 있어서,
    상기 위치검출수단은 상기 조사면에 직교하는 방향 및 상기 조사면에 평행인 방향 중 적어도 한쪽에서의 상기 스테이지 또는 상기 피조사물의 위치를 검출하도록 배치되어 있는, 광 배향용 편광광 조사장치.
  5. 제 3 항에 있어서,
    상기 조사유닛을 갖는 조사부를 구비하고,
    상기 위치검출수단은 상기 조사부에 설치되어 있는, 광 배향용 편광광 조사장치.
  6. 제 3 항에 있어서,
    상기 조사유닛을 갖는 조사부를 구비하고,
    상기 반송기구는 상기 스테이지가 상기 조사영역을 향하여 이동을 개시하는 개시위치와 상기 조사부 사이에 설치된 제1 반송로와, 상기 조사영역을 통과한 상기 스테이지가 정지하는 정지위치와 상기 조사부 사이에 설치된 제2 반송로를 구비하고,
    상기 위치검출수단은 상기 제1 반송로 및 상기 제2 반송로 중 적어도 한쪽을 따른 위치에 설치되어 있는, 광 배향용 편광광 조사장치.
  7. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    상기 위치검출수단은 상기 스테이지에 설치되어 있는, 광 배향용 편광광 조사장치.
  8. 제 7 항에 있어서,
    상기 위치검출수단은 상기 조사면에 직교하는 방향 및 상기 조사면에 평행인 방향 중 적어도 한쪽에 대한 상기 스테이지의 위치를 검출하도록 배치되어 있는, 광 배향용 편광광 조사장치.
  9. 제 7 항에 있어서,
    상기 조사유닛을 갖는 조사부를 구비하고,
    상기 조사부는 상기 위치검출수단에 의해, 상기 조사면에 직교하는 방향 및 상기 조사면에 평행인 방향에 대한 상기 스테이지의 위치를 검출하기 위한 기준면을 갖는, 광 배향용 편광광 조사장치.
  10. 제 7 항에 있어서,
    상기 조사유닛은 편광광을 출사하는 편광소자와, 상기 편광소자를 유지하는 유지부재를 구비하고,
    상기 유지부재에는 상기 위치검출수단에 의해, 상기 조사면에 직교하는 방향에 대한 상기 스테이지의 위치를 검출하기 위한 기준면이 설치되어 있는, 광 배향용 편광광 조사장치.
  11. 제 8 항에 있어서,
    상기 조사유닛을 갖는 조사부를 구비하고,
    상기 반송기구는, 상기 스테이지가 상기 조사영역을 향하여 이동을 개시하는 개시위치와 상기 조사부 사이에 설치된 제1 반송로와, 상기 조사영역을 통과한 상기 스테이지가 정지하는 정지위치와 상기 조사부 사이에 설치된 제2 반송로를 구비하고,
    상기 제1 반송로 및 상기 제2 반송로 중 적어도 한쪽을 따른 위치에는, 상기 위치검출수단에 의해 상기 조사면에 직교하는 방향 및 상기 조사면에 평행인 방향에 대한 상기 스테이지의 위치를 검출하기 위한 기준면이 설치되어 있는, 광 배향용 편광광 조사장치.
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Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107272267A (zh) * 2017-08-10 2017-10-20 武汉华星光电技术有限公司 光配向补正设备及光配向补正调节方法
JP2019101226A (ja) * 2017-12-01 2019-06-24 シャープ株式会社 偏光照射装置、及び、感光膜付き基板の製造方法
CN108761926A (zh) * 2018-05-09 2018-11-06 深圳市华星光电技术有限公司 配向微观检测设备及配向检测方法

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008191302A (ja) 2007-02-02 2008-08-21 Fujifilm Corp 描画装置及び方法

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4451374B2 (ja) * 2005-10-17 2010-04-14 住友重機械工業株式会社 ステージ装置
NL1036742A1 (nl) * 2008-04-18 2009-10-20 Asml Netherlands Bv Stage system calibration method, stage system and lithographic apparatus comprising such stage system.
NL2006981A (en) * 2010-07-26 2012-01-30 Asml Netherlands Bv Position control system, lithographic apparatus, and method to control a position of a movable object.
JP2012145786A (ja) * 2011-01-13 2012-08-02 Hitachi High-Technologies Corp 露光装置及び露光方法
US9366908B2 (en) * 2013-06-03 2016-06-14 Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co., Ltd Optical alignment device and the method thereof
JP5862616B2 (ja) * 2013-07-17 2016-02-16 ウシオ電機株式会社 光配向用偏光光照射装置及び光配向用偏光光照射方法

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008191302A (ja) 2007-02-02 2008-08-21 Fujifilm Corp 描画装置及び方法

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