KR20160138896A - Transparent Dielectric Films, Electrostatic Capacity Type Touch Panels and Flexible Displays - Google Patents

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Abstract

The object of the present invention is to provide a transparent dielectric film having a high dielectric constant and excellent transparency. The transparent dielectric film of the present invention includes high dielectric constant fine particles having polymer graft chains are arranged two-dimensionally or three-dimensionally through the polymer graft chains. The high dielectric constant fine particles used in the transparent dielectric film of the present invention may be at least one selected among a group consisting of BaTiO3 fine particles, TiO2 and ZrO2 and the like.

Description

투명 유전성 필름, 정전용량식 터치 패널 및 플렉서블 디스플레이{Transparent Dielectric Films, Electrostatic Capacity Type Touch Panels and Flexible Displays}Transparent Dielectric Film, Capacitive Touch Panel, and Flexible Display {Transparent Dielectric Films, Electrostatic Capacity Type Touch Panels and Flexible Displays}

본 발명은 투명 유전성 필름, 정전용량식 터치 패널 및 플렉서블 디스플레이에 관한 것이다. The present invention relates to a transparent dielectric film, a capacitive touch panel, and a flexible display.

터치 패널은 텔레비전, 휴대 전화기, 휴대 정보 단말 등에 사용되는 각종 디스플레이에 널리 사용되고 있다. 터치 패널 방식으로는 저항막식, 정전용량식 등이 알려져 있지만 특히 멀티 입력이 용이하게 가능한 정전용량식 터치 패널에 주목이 집중되고 있다. BACKGROUND ART [0002] Touch panels are widely used in various displays used in televisions, mobile phones, portable information terminals and the like. In the touch panel method, a resistive film type, a capacitive type, and the like are known, but in particular, attention is focused on a capacitive type touch panel capable of multi-input easily.

종래, 정전용량식 터치 패널이 구비된 디스플레이에서는 정전용량식 터치 패널의 상면(터치면 측)에 배치되는 커버재로서, 투명성이 높고 유전율이 높으며 감도가 뛰어나다는 이유로 일반적으로 화학 강화 유리가 사용되어 왔다. 그러나 화학 강화 유리는 고가이기 때문에 디스플레이의 제조 비용이 상승한다는 문제가 있다. 한편 화학 강화 유리는 충분한 유연성을 갖고 있지 않기 때문에 정전용량식 터치 패널을 구비한 플렉서블 디스플레이의 커버재로서 사용할 수 없다. 또한 터치 패널의 전극부터 터치면까지의 사이에 배치된 부재의 유전율이 터치 감도에 영향을 미치기 때문에 일반적인 유전율을 갖는 수지 필름을 커버재로서 사용하면 터치 패널의 감도가 저하된다는 문제가 발생한다. 더욱이 동일한 이유 때문에 터치 패널의 기판 중 터치 패널의 전극과 터치면 사이에 위치하는 기판으로서, 일반적인 유전율을 갖는 수지 필름을 사용하는 경우에도 터치 패널의 감도가 저하된다는 문제가 발생한다. 따라서 터치 패널의 기판 또는 플렉서블 디스플레이의 커버재로서, 티탄산 바륨 등 고유전체 미립자를 수지 필름 중에 함유시킨 투명 유전성 필름을 사용하는 것이 제안되고 있다(예를 들면 특허문헌 1).Conventionally, in a display provided with a capacitive touch panel, a cover material disposed on the upper surface (touch surface side) of the capacitive touch panel is generally made of chemically tempered glass because of its high transparency, high dielectric constant and excellent sensitivity come. However, since the chemically tempered glass is expensive, there is a problem that the manufacturing cost of the display rises. On the other hand, since the chemically tempered glass has not sufficient flexibility, it can not be used as a cover material for a flexible display having a capacitive touch panel. Further, since the dielectric constant of the member disposed between the electrode of the touch panel and the touch surface affects touch sensitivity, there arises a problem that the sensitivity of the touch panel is lowered when a resin film having a general dielectric constant is used as the cover member. Furthermore, even when a resin film having a general permittivity is used as a substrate positioned between the touch panel electrode and the touch panel among the substrates of the touch panel due to the same reason, the sensitivity of the touch panel deteriorates. Therefore, it has been proposed to use a transparent dielectric film in which a high dielectric constant particle such as barium titanate is contained in a resin film as a substrate of a touch panel or a cover material of a flexible display (for example, Patent Document 1).

특허문헌 1 : 일본공개특허공보 2014-203151 호Patent Document 1: JP-A-2014-203151

그러나 고유전체 미립자는 수지 필름 중에 균일하게 분산시키는 것이 어렵다. 예를 들면 고유전체 미립자를 함유하는 수지 필름은 고유전체 미립자를 포함하는 수지 재료를 필름 형상으로 성형함으로써 제조되는바, 고유전체 미립자가 수지 재료 중에서 응집 및/또는 침전되는 일이 있기 때문에 고유전체 미립자가 균일하게 분산된 수지 필름을 얻는 것이 어렵다. 그리고 수지 필름 중의 고유전체 미립자의 응집은 수지 필름이 백탁되는 원인이 되기 때문에 수지 필름의 투명성이 충분히 확보되지 않는다. However, it is difficult to uniformly disperse the high-dielectric particles in the resin film. For example, a resin film containing high-purity fine particles is produced by molding a resin material containing high-purity fine particles into a film shape. Since the high-purity fine particles may aggregate and / or precipitate in the resin material, It is difficult to obtain a resin film uniformly dispersed. The aggregation of the high-dielectric fine particles in the resin film causes the resin film to become opaque, so that the transparency of the resin film can not be sufficiently secured.

본 발명은 상기와 같은 문제를 해결하기 위해서 이루어진 것으로, 유전율이 높고 또한 투명성이 뛰어난 투명 유전성 필름을 제공하는 것을 목적으로 한다. 또한 본 발명은 당해 특성을 갖는 투명 유전성 필름을 구비한 정전용량식 터치 패널 및 플렉서블 디스플레이를 제공하는 것을 목적으로 한다. SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in order to solve the above problems, and it is an object of the present invention to provide a transparent dielectric film having a high dielectric constant and excellent transparency. Another object of the present invention is to provide a capacitive touch panel and a flexible display provided with a transparent dielectric film having such characteristics.

본 발명자들은 고분자 그래프트 사슬이 형성된 고유전체 미립자를, 고분자 그래프트 사슬을 통하여 2차원 또는 3차원으로 배열시킴으로써 상기 문제를 해결할 수 있는 것을 발견하고 본 발명을 완성하는데 이르렀다. The present inventors have found that the above problems can be solved by arranging the high-molecular fine grains formed with the polymer graft chains in two-dimensional or three-dimensional directions through the polymer graft chain, and accomplished the present invention.

즉, 본 발명은 고분자 그래프트 사슬이 형성된 고유전체 미립자가 상기 고분자 그래프트 사슬을 통하여 2차원 또는 3차원으로 배열되어 있는 것을 특징으로 하는 투명 유전성 필름이다. That is, the present invention is a transparent dielectric film characterized in that high-dielectric fine particles formed with a polymer graft chain are arranged two-dimensionally or three-dimensionally through the polymer graft chain.

또한 본 발명은 상기 투명 유전성 필름을 갖는 것을 특징으로 하는 정전용량식 터치 패널 및 플렉서블 디스플레이다. Further, the present invention is a capacitive touch panel and a flexible display, characterized by having the transparent dielectric film.

본 발명에 의하면 유전율이 높고 또한 투명성이 뛰어난 투명 유전성 필름을 제공할 수 있다. 또한 본 발명에 의하면 당해 특성을 갖는 투명 유전성 필름을 구비한 정전용량식 터치 패널 및 플렉서블 디스플레이를 제공할 수 있다. According to the present invention, a transparent dielectric film having a high dielectric constant and excellent transparency can be provided. Further, according to the present invention, it is possible to provide a capacitive touch panel and a flexible display provided with a transparent dielectric film having such characteristics.

도 1은 실시예1 및 2와 비교예1에서 얻어진 자립성 필름의 가시 영역에서의 광 투과율 측정 결과이다.
도 2는 실시예1 및 2와 비교예1에서 얻어진 자립성 필름의 비유전율 측정 결과이다.
Fig. 1 shows the results of measurement of light transmittance in the visible region of the self-supporting films obtained in Examples 1 and 2 and Comparative Example 1. Fig.
Fig. 2 shows the measurement results of relative dielectric constants of the self-supporting films obtained in Examples 1 and 2 and Comparative Example 1. Fig.

본 발명의 투명 유전성 필름은, 고분자 그래프트 사슬이 형성된 고유전체 미립자가 고분자 그래프트 사슬을 통하여 2차원 또는 3차원으로 배열되어 있는 것을 특징으로 한다. The transparent dielectric film of the present invention is characterized in that the high-dielectric microparticles formed with the polymer graft chain are arranged two-dimensionally or three-dimensionally through the polymer graft chain.

여기서, 본 명세서에서 '고분자 그래프트 사슬'은, 고유전체 미립자 표면으로부터 중합 반응에 의해 신장하여 형성된 사슬 길이가 2개 이상(중합도(n)가 2 이상)인 폴리머 사슬을 의미하고, 폴리머 브러시라고도 불린다. Here, the term "polymer graft chain" means a polymer chain having two or more chain lengths (degree of polymerization (n) of 2 or more) formed by extending from the surface of the high-dielectric fine particles by polymerization reaction, and is also referred to as a polymer brush .

본 명세서에서 '고유전체 미립자'는 비유전율이 10 이상, 바람직하게는 20 이상, 더욱 바람직하게는 30 이상인 유전체 입자를 의미한다. 고유전체 미립자의 예로는, BaTiO3(티탄산 바륨) 미립자(비유전율 1200), TiO2(이산화티탄) 미립자(비유전율 100), ZrO2(산화지르코늄) 미립자(비유전율 30) 등을 들 수 있다. 이들은 단독 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다. 또한 이들 중에서도 투명 유전성 필름의 유전율 관점에서 BaTiO3 미립자가 바람직하다. As used herein, the term " high dielectric particles " means dielectric particles having a relative dielectric constant of 10 or more, preferably 20 or more, more preferably 30 or more. Examples of the high specific gravity particles include BaTiO 3 (barium titanate) fine particles (relative dielectric constant 1200), TiO 2 (titanium dioxide) fine particles (relative dielectric constant 100), ZrO 2 (zirconium oxide) fine particles (relative dielectric constant 30) . These may be used alone or in combination of two or more. Among them, BaTiO 3 fine particles are preferable from the viewpoint of the dielectric constant of the transparent dielectric film.

본 명세서에서 '미립자'는 1 ㎛ 이하의 평균 입자경을 갖는 입자를 의미하고, 미립자의 '평균 입자경'은 레이저 회절식 입도 분포 측정 장치에 의해 측정한 50 % 누적 입경을 의미한다. In the present specification, "fine particles" means particles having an average particle diameter of 1 μm or less, and "average particle diameter" of fine particles means 50% cumulative particle diameter measured by a laser diffraction particle size distribution measuring apparatus.

고유전체 미립자는 평균 입자경이 작아질수록 투명 유전성 필름의 투명성을 향상시킬 수 있는 한편 입자 자체의 유전율이 저하된다. 따라서 고유전체 미립자의 평균 입자경은, 바람직하게는 1 ㎚ ~ 500 ㎚, 보다 바람직하게는 2 ㎚ ~ 100 ㎚, 더욱 바람직하게는 3 ㎚ ~ 50 ㎚, 가장 바람직하게는 4 ㎚ ~ 30 ㎚이다. As the average particle size of the high-dielectric fine particles becomes smaller, the transparency of the transparent dielectric film can be improved, while the dielectric constant of the particle itself decreases. Therefore, the average particle diameter of the high-dielectric fine particles is preferably 1 nm to 500 nm, more preferably 2 nm to 100 nm, further preferably 3 nm to 50 nm, and most preferably 4 nm to 30 nm.

고분자 그래프트 사슬이 형성된 고유전체 미립자는, 리빙 라디칼 중합에 의한 표면 그래프트 중합법에 의해 형성할 수 있다. 이 방법을 시용함으로써, 사슬 길이 및 사슬 길이 분포가 규제된 고분자 그래프트 사슬을 고밀도로 고유전체 미립자의 표면에 형성할 수 있다. 고유전체 미립자의 표면 근방에서는, 고분자 그래프트 사슬은 인접하는 고분자 그래프트 사슬간의 입체 반발에 의해, 고유전체 미립자의 표면에 대하여 수직 방향으로 신장된 상태(농후 폴리머 브러시 상태)가 된다. 고유전체 미립자의 표면으로부터 어느 정도 떨어지면 고분자 그래프트 사슬간 입체 반발이 완화되기 때문에 고분자 그래프트 사슬은 농후 폴리머 브러시 상태에 비하여 신장 정도가 낮은 상태(준희박 폴리머 브러시 상태)가 된다. 농후 폴리머 브러시 상태에서는, 고분자 그래프트 사슬의 그래프트 밀도가 0.1 가닥 사슬/㎚2 이상, 바람직하게는 0.1 ~ 1.2 가닥 사슬/㎚2가 되고, 준희박 폴리머 브러시 상태에서는 고분자 그래프트 사슬의 그래프트 밀도가 0.1 가닥 사슬/㎚2 미만, 바람직하게는 0.01 가닥 사슬/㎚2 이상 0.1 가닥 사슬/㎚2 미만이 된다. The high-purity fine particles in which the polymer graft chain is formed can be formed by surface graft polymerization by living radical polymerization. By using this method, a polymer graft chain having a controlled chain length and a chain length distribution can be formed at high density on the surface of the high-dielectric-constant fine particles. In the vicinity of the surface of the high-dielectric fine particles, the polymer graft chain is in a state of being stretched in the direction perpendicular to the surface of the high-dielectric fine particles (rich polymer brush state) due to steric repulsion between adjacent polymer graft chains. Since the steric repulsion between the polymer graft chains is alleviated to some extent from the surface of the high-purity fine particles, the polymer graft chain is in a state of low elongation (semi-lean polymer brush state) compared to the state of the thick polymer brush. In the state of the polymer-rich polymer brush, the graft density of the polymer graft chain is 0.1 strand / nm 2 or more, preferably 0.1 to 1.2 strands / nm 2 , and in the semi-lean polymer brush state, the graft density of the polymer graft chain is 0.1 strand is a chain / ㎚ 2, preferably less than 0.01-stranded chain / ㎚ 2 0.1-stranded chain / ㎚ less than 2.

또한 고분자 그래프트 사슬의 그래프트 밀도는, 당해 기술 분야에서 공지 방법에 준하여 산출할 수 있다. 구체적으로는 원소 분석에 의해 고유전체 미립자에 그래프트된 고분자 그래프트 사슬의 양(그래프트량)을 구하고, 그 그래프트량과 고유전체 미립자의 비중 및 표면적, 고분자 그래프트 사슬의 수평균 분자량을 사용함으로써 고분자 그래프트 사슬의 그래프트 밀도를 산출할 수 있다. The graft density of the polymer graft chain can be calculated in accordance with a known method in the art. Specifically, the amount (graft amount) of the polymer graft chain grafted to the high-purity fine grains is determined by elemental analysis. By using the graft amount, the specific gravity and the surface area of the high-purity fine grains and the number average molecular weight of the polymer graft chain, Can be calculated.

고유전체 미립자에 형성되는 고분자 그래프트 사슬은 농후 브러시 상태만 갖는 것, 즉 고분자 그래프트 사슬의 그래프트 밀도가 0.1 가닥 사슬/㎚2 이상인 것이 바람직하다. 농후 브러시 상태로만 된 고분자 그래프트 사슬을 갖는 미립자를 사용함으로써, 형성되는 투명 유전성 필름의 내열성 등의 특성을 향상시킬 수 있다. 농후 브러시 상태로만 된 고분자 그래프트 사슬은, 중합도를 조정함으로써 얻을 수 있다. It is preferable that the polymer graft chain formed in the high-purity fine particles has only a rich brush state, that is, the graft density of the polymer graft chain is 0.1 strand chain / nm 2 or more. By using fine particles having a polymer graft chain only in a rich brush state, properties such as heat resistance of the formed transparent dielectric film can be improved. The polymer graft chain only in the rich brush state can be obtained by adjusting the polymerization degree.

여기서, 본 명세서에서 '리빙 라디칼 중합'은, 라디칼 중합 반응에서 연쇄 이동 반응 및 정지 반응이 실질적으로 일어나지 않고, 라디칼 중합성 모노머가 반응을 다한 후에도 연쇄 성장 말단이 활성을 유지하는 중합 반응을 의미한다. 이 중합 반응에서는, 중합 반응 종료 후에도 생성 중합체 말단에 중합 활성을 유지하고 있어, 라디칼 중합성 모노머를 더하면 다시 중합 반응을 개시시킬 수 있다. 또한 리빙 라디칼 중합은 라디칼 중합성 모노머와 중합개시제의 농도비를 조절함으로써 임의의 평균 분자량을 갖는 중합체 합성을 할 수 있고, 생성되는 중합체의 분자량 분포가 매우 좁다는 등의 특징이 있다. Herein, the term "living radical polymerization" means a polymerization reaction in which a chain transfer reaction and a termination reaction do not substantially occur in a radical polymerization reaction, and the chain growth end remains active even after the radical polymerizable monomer completes the reaction . In this polymerization reaction, the polymerization activity is maintained at the end of the produced polymer even after the completion of the polymerization reaction, and if the radical polymerizable monomer is added, the polymerization reaction can be started again. Further, the living radical polymerization is characterized in that it is possible to synthesize a polymer having an arbitrary average molecular weight by controlling the concentration ratio of the radical polymerizable monomer and the polymerization initiator, and the resulting polymer has a very narrow molecular weight distribution.

본 발명에 사용되는 리빙 라디칼 중합의 대표적인 예는 원자 이동 라디칼 중합(Atom Transfer Radical Polymerization, ATRP)이다. 예를 들면 원자 이동 라디칼 중합을 수행하는 경우, 중합개시제를 고유전체 미립자의 표면에 고정한 후, 할로겐화구리/리간드 착물을 사용하여 라디칼 중합성 모노머의 원자 이동 라디칼 중합을 수행함으로써 고분자 그래프트 사슬이 형성된 고유전체 미립자를 얻을 수 있다. A representative example of the living radical polymerization used in the present invention is Atom Transfer Radical Polymerization (ATRP). For example, in the case of performing atom transfer radical polymerization, the polymerization initiator is fixed on the surface of the high-dielectric microparticles, and atom transfer radical polymerization of the radically polymerizable monomer is then performed using a copper halide / ligand complex to form a polymer graft chain All the fine particles can be obtained.

중합개시제를 고유전체 미립자의 표면에 고정하는 방법은 특별히 한정되지 않고, 예를 들면 고유전체 미립자와 중합개시제를 접촉시키면 된다. The method of fixing the polymerization initiator to the surface of the high-dielectric fine particles is not particularly limited, and for example, the high-dielectric fine particles may be brought into contact with the polymerization initiator.

본 발명에 사용되는 중합개시제로는 고유전체 미립자 표면에 고정하는 것이 가능한 것이라면 특별히 한정되지 않고 당해 기술 분야에서 공지된 것을 사용할 수 있다. 본 발명에서 사용하기에 바람직한 중합개시제로는 말단에 할로겐을 갖는 화합물로, 예를 들면 하기의 일반식(1) 또는 (2)로 나타낸 화합물을 사용할 수 있다. The polymerization initiator used in the present invention is not particularly limited as long as it can be fixed on the surface of the high-dielectric fine particles, and those known in the art can be used. The polymerization initiator preferably used in the present invention is a compound having a halogen at the terminal, for example, a compound represented by the following general formula (1) or (2) can be used.

화학식1Formula 1

화학식2(2)

일반식(1) 및 (2) 중에서 R1은 각각 독립적으로 C1 ~ C3의 알킬기, 바람직하게는 메틸기 또는 에틸기이고, R2는 각각 독립적으로 메틸기 또는 에틸기이며, X는 할로겐원자, 바람직하게는 Br이고, m은 2 ~ 10, 바람직하게는 3 ~ 8의 정수이며, n은 3 ~ 10의 정수, 바람직하게는 4 ~ 8의 정수이다. 일반식(1)의 화합물의 구체적인 예로는 2-Bromo-2-methyl-N-[3-(triethoxysilyl)propyl]propanamide; BPA 등을 들 수 있고, 일반식(2)의 화합물의 구체적인 예로는 (2-Bromo-2-methyl)propionyloxyhexyltriethoxysilane; BHE 등을 들 수 있다. In the general formulas (1) and (2), R1 is independently an alkyl group of C1 to C3, preferably a methyl group or an ethyl group, R2 is independently a methyl group or an ethyl group, X is a halogen atom, m is an integer of 2 to 10, preferably 3 to 8, and n is an integer of 3 to 10, preferably an integer of 4 to 8. Specific examples of the compound of formula (1) include 2-bromo-2-methyl-N- [3- (triethoxysilyl) propyl] propanamide; BPA, and specific examples of the compound of the general formula (2) include (2-Bromo-2-methyl) propionyloxyhexyltriethoxysilane; BHE and the like.

리빙 라디칼 중합에 사용되는 라디칼 중합성 모노머는 유기 라디칼의 존재 하에서 라디칼 중합을 수행할 수 있는 불포화 결합을 갖는 것으로, 예를 들면 아크릴산 유도체, 메타크릴산 유도체, 스티렌 유도체, 아세트산비닐 및 아크릴로니트릴 등을 들 수 있다. 구체적으로는 메틸메타크릴레이트(MMA), 에틸메타크릴레이트, 프로필메타크릴레이트, n-부틸메타크릴레이트, t-부틸메타크릴레이트, 헥실메타크릴레이트, 2-에틸헥실메타크릴레이트, 노닐메타크릴레이트, 벤질메타크릴레이트, 사이클로헥실메타크릴레이트, 라우릴메타크릴레이트, n-옥틸메타크릴레이트, 2-메톡시에틸메타크릴레이트, 부톡시에틸메타크릴레이트, 메톡시테트라에틸렌글리콜메타크릴레이트, 2-하이드록시에틸메타크릴레이트, 2-하이드록시프로필메타크릴레이트, 3-클로로-2-하이드록시프로필메타크릴레이트, 테트라하이드로퍼프릴메타크릴레이트, 2-하이드록시-3-페녹시프로필메타크릴레이트, 디에틸렌글리콜메타크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜메타크릴레이트, 2-(디메틸아미노)에틸메타크릴레이트 등의 메타크릴레이트계 모노머; 메틸아크릴레이트, 에틸아크릴레이트, 프로필아크릴레이트, n-부틸아크릴레이트, t-부틸아크릴레이트, 헥실아크릴레이트, 2-에틸헥실아크릴레이트, 노닐아크릴레이트, 벤질아크릴레이트, 사이클로헥실아크릴레이트, 라우릴아크릴레이트, n-옥틸아크릴레이트, 2-메톡시에틸아크릴레이트, 부톡시에틸아크릴레이트, 메톡시테트라에틸렌글리콜아크릴레이트, 2-하이드록시에틸아크릴레이트, 2-하이드록시프로필아크릴레이트, 3-클로로-2-하이드록시프로필아크릴레이트, 테트라하이드로퍼프릴아크릴레이트, 2-하이드록시-3-페녹시프로필아크릴레이트, 디에틸렌글리콜아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜아크릴레이트, 2-(디메틸아미노)에틸아크릴레이트, N,N-디메틸아크릴아마이드, N-메틸올아크릴아마이드, N-메틸올메타크릴아마이드 등의 아크릴레이트계 모노머; 스티렌, o-, m-, p-메톡시스티렌, o-, m-, p-t-부톡시스티렌, o-, m-, p-클로로메틸스티렌, 프로피온산비닐, 비닐메틸케톤, 비닐헥실케톤, 메틸이소프로페닐케톤, N-비닐피롤리돈, N-비닐피롤, N-비닐카바졸, N-비닐인돌, 아크릴로니트릴, 메타아크릴로니트릴, 아크릴아마이드, 이소프로필아크릴아마이드, 메타크릴아마이드, 염화비닐, 염화비닐리덴, 테트라클로로에틸렌, 헥사클로로프렌, 불화비닐 등을 사용할 수 있다. 이들은 단독 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.The radical polymerizable monomer used in the living radical polymerization has an unsaturated bond capable of performing radical polymerization in the presence of an organic radical, and examples thereof include acrylic acid derivatives, methacrylic acid derivatives, styrene derivatives, vinyl acetate and acrylonitrile . Specific examples include methyl methacrylate (MMA), ethyl methacrylate, propyl methacrylate, n-butyl methacrylate, t-butyl methacrylate, hexyl methacrylate, 2-ethylhexyl methacrylate, Acrylate, methacrylate, methacrylate, methacrylate, methacrylate, methacrylate, methacrylate, methacrylate, methacrylate, Hydroxyethyl methacrylate, 2-hydroxypropyl methacrylate, 3-chloro-2-hydroxypropyl methacrylate, tetrahydroperfuryl methacrylate, 2-hydroxy-3-phenoxy Methacrylate monomers such as propyl methacrylate, diethylene glycol methacrylate, polyethylene glycol methacrylate and 2- (dimethylamino) ethyl methacrylate; Acrylates such as methyl acrylate, ethyl acrylate, propyl acrylate, n-butyl acrylate, t-butyl acrylate, hexyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, nonyl acrylate, benzyl acrylate, cyclohexyl acrylate, Acrylate, n-octyl acrylate, 2-methoxyethyl acrylate, butoxy ethyl acrylate, methoxytetraethylene glycol acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, diethylene glycol acrylate, polyethylene glycol acrylate, 2- (dimethylamino) ethyl acrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, N, N-dimethylacrylamide, N-methylolacrylamide and N-methylolmethacrylamide. Murray; Styrene, o-, m-, p-methoxystyrene, o-, m-, pt-butoxystyrene, o-, m-, p-chloromethylstyrene, vinyl propionate, vinyl methyl ketone, vinyl hexyl ketone, methyl Vinyl pyrrolidone, N-vinyl carbazole, N-vinyl indole, acrylonitrile, methacrylonitrile, acrylamide, isopropylacrylamide, methacrylamide, Vinyl chloride, vinylidene chloride, tetrachlorethylene, hexachloroprene, vinyl fluoride, and the like. These may be used alone or in combination of two or more.

할로겐화구리/리간드 착물을 제공하는 할로겐화구리는 특별히 한정되지 않고 리빙 라디칼 중합에서 일반적으로 공지된 것을 사용할 수 있다. 할로겐화구리의 예로서는 CuBr, CuCl, CuI 등을 들 수 있다. Copper halides which provide a copper halide / ligand complex are not particularly limited and those generally used in living radical polymerization can be used. Examples of the halogenated copper include CuBr, CuCl, CuI and the like.

할로겐화구리/리간드 착물을 제공하는 리간드 화합물은 특별히 한정되지 않고 리빙 라디칼 중합에서 일반적으로 공지된 것을 사용할 수 있다. 리간드 화합물의 예로서는 트리페닐포스판, 4,4ㅄ-디노닐-2,2ㅄ-디피리딘(dNbipy), N,N,Nㅄ,NㅄN˝-펜타메틸디에틸렌트리아민(PMDETA), 1,1,4,7,10,10-헥사메틸트리에틸렌테트라아민 등을 들 수 있다.The ligand compound which provides the copper halide / ligand complex is not particularly limited, and those generally known in living radical polymerization can be used. Examples of the ligand compound include triphenylphosphine, 4,4-dinonyl-2,2-dipyridine (dNbipy), N, N, N 2, N 2 -pentamethyldiethylenetriamine (PMDETA) 1,1,4,7,10,10-hexamethyltriethylenetetraamine, and the like.

고분자 그래프트 사슬이 형성된 고유전체 미립자의 제조에 있어서, 사용하는 고유전체 미립자, 중합개시제, 라디칼 중합성 모노머, 할로겐화구리, 리간드 화합물의 양은 그들의 종류 등에 따라서 적절히 조절하면 되고 특별히 한정되지 않는다. 또한 제조 조건도, 사용하는 원료의 종류 등에 따라서 적절히 조절하면 되고 특별히 한정되지 않는다. The amount of the high-dielectric-constant fine particles, the polymerization initiator, the radically polymerizable monomer, the copper halide and the ligand compound to be used in the preparation of the high-molecular-weight graft chain-containing high-purity fine particles may be appropriately adjusted according to their kind and the like, and is not particularly limited. The production conditions may also be appropriately adjusted according to the type of the raw material to be used and the like, and are not particularly limited.

또한 리빙 라디칼 중합은 무용매로 수행해도 되지만, 리빙 라디칼 중합에서 일반적으로 사용되는 용매를 사용해도 된다. 사용 가능한 용매로서는 예를 들면 벤젠, 톨루엔, 아니솔, N,N-디메틸포름아마이드(DMF), 디메틸설폭시드(DMSO), 아세톤, 클로로포름, 사염화탄소, 테트라하이드로퓨란(THF), 아세트산에틸, 트리플루오로메틸벤젠, 메탄올, 에탄올, 이소프로판올, n-부탄올, 에틸셀로솔브, 부틸셀로솔브, 2-메톡시 에탄올, 1-메톡시-2-프로판올 등의 유기용매, 물 등을 들 수 있다. 용매의 양은, 사용하는 원료의 종류에 따라서 적절히 조절하면 되고 특별히 한정되지 않는다. The living radical polymerization may be carried out without solvent, but a solvent generally used in living radical polymerization may be used. Examples of usable solvents include benzene, toluene, anisole, N, N-dimethylformamide (DMF), dimethylsulfoxide (DMSO), acetone, chloroform, carbon tetrachloride, tetrahydrofuran (THF) Organic solvents such as methanol, ethanol, isopropanol, n-butanol, ethyl cellosolve, butyl cellosolve, 2-methoxyethanol and 1-methoxy-2-propanol, water and the like. The amount of the solvent can be suitably adjusted according to the kind of the raw material to be used, and is not particularly limited.

리빙 라디칼 중합에 의해 형성되는 고분자 그래프트 사슬의 분자량은 반응 온도, 반응 시간, 사용하는 원료의 종류와 양에 의해 조정 가능하지만, 일반적으로 수평균 분자량이 500 ~ 1000000, 바람직하게는 1000 ~ 500000, 중량평균 분자량이 1000 ~ 2000000, 바람직하게는 2000 ~ 1000000이다. 또한 고분자 그래프트 사슬의 분자량 분포(Mw/Mn)는 특별히 한정되지 않지만, 1.05 ~ 2.80, 바람직하게는 1.20 ~ 2.50이다. The molecular weight of the polymer graft chain formed by the living radical polymerization can be controlled by the reaction temperature, the reaction time, the kind and the amount of the raw material to be used, but the number average molecular weight is generally 500 to 1,000,000, preferably 1,000 to 500,000, And an average molecular weight of 1,000 to 2,000,000, preferably 2,000 to 1,000,000. The molecular weight distribution (M w / M n ) of the polymer graft chain is not particularly limited, but is 1.05 to 2.80, preferably 1.20 to 2.50.

본 발명의 투명 유전성 필름은, 상기와 같은 특징을 갖는 고분자 그래프트 사슬이 형성된 고유전체 미립자를, 고분자 그래프트 사슬을 통하여 2차원 또는 3차원으로 배열시킨 구조를 갖는다. The transparent dielectric film of the present invention has a structure in which high-molecular fine grains formed with polymer graft chains having the above-described characteristics are arranged two-dimensionally or three-dimensionally through a polymer graft chain.

또한 본 발명의 투명 유전성 필름은 자립성 필름으로서 형성할 수 있다. 여기서, 본 명세서에서 '자립성 필름'은 지지체를 사용하지 않고, 단독으로 형상을 충분히 유지하는 것이 가능한 필름을 의미한다. Further, the transparent dielectric film of the present invention can be formed as a self-supporting film. Herein, the term "self-supporting film" means a film capable of maintaining a shape sufficiently without using a support.

본 발명의 투명 유전성 필름은 당해 기술 분야에서 공지된 방법을 이용하여 제조할 수 있다. 예를 들면 용매캐스팅법을 이용하는 경우, 고분자 그래프트 사슬이 형성된 고유전체 미립자를 용매에 분산시키고, 그 분산액을 기판 상에 도포하고 용매를 증발시킴으로써 투명 유전성 필름을 형성한 후, 형성된 투명 유전성 필름을 기판으로부터 박리함으로써 제조할 수 있다. The transparent dielectric film of the present invention can be produced using methods known in the art. For example, when a solvent casting method is used, a transparent dielectric film is formed by dispersing high-dielectric particles in which a polymer graft chain is formed in a solvent, coating the dispersion on a substrate, and evaporating the solvent, And the like.

고유전체 미립자를 용매에 분산시킨 분산액을 도포하는 기판은 특별히 한정되지 않고, 당해 기술 분야에서 공지된 것을 사용할 수 있다. 기판의 예로는 유리판, 스테인레스판, 스테인레스 벨트, 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET) 필름 등이 사용된다. 이들 기판에는 투명 유전성 필름의 박리성을 향상시키기 위해, 필요에 따라서 거울면 가공이나 표면 이형제 처리 등을 수행해도 된다. There is no particular limitation on the substrate on which the dispersion liquid in which the high-dielectric-constant fine particles are dispersed in the solvent is used, and those known in the art can be used. Examples of the substrate include a glass plate, a stainless plate, a stainless belt, a polyethylene terephthalate (PET) film, and the like. In order to improve the releasability of the transparent dielectric film, these substrates may be subjected to mirror surface processing, surface release agent treatment or the like, if necessary.

고분자 그래프트 사슬이 형성된 고유전체 미립자를 분산시키는 용매는 특별히 한정되지 않고 당해 기술 분야에서 공지된 것을 사용할 수 있다. 용매의 예로는 N,N-디메틸포름아마이드(DMF), N,N-디메틸아세트아마이드, N-메틸-2-피롤리돈, 디메틸설폭시드 등의 비프로톤성 극성 용매; 디클로로메탄, 클로로포름, 1,2-디클로로에탄, 클로로벤젠, 디클로로벤젠 등의 염소계 용매; 메탄올, 에탄올, 프로판올 등의 알코올류; 에틸렌글리콜모노메틸에테르, 에틸렌글리콜모노에틸에테르, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 프로필렌글리콜모노에틸에테르 등의 알킬렌글리콜모노알킬에테르; 톨루엔; 아니솔; 물 등을 들 수 있다. 이들은 단독 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다. The solvent for dispersing the high-dielectric particles in which the polymer graft chain is formed is not particularly limited and those known in the art can be used. Examples of the solvent include aprotic polar solvents such as N, N-dimethylformamide (DMF), N, N-dimethylacetamide, N-methyl-2-pyrrolidone and dimethylsulfoxide; Chlorinated solvents such as dichloromethane, chloroform, 1,2-dichloroethane, chlorobenzene, and dichlorobenzene; Alcohols such as methanol, ethanol and propanol; Alkylene glycol monoalkyl ethers such as ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monomethyl ether and propylene glycol monoethyl ether; toluene; Anisole; Water and the like. These may be used alone or in combination of two or more.

분산액 중 고분자 그래프트 사슬이 형성된 고유전체 미립자의 농도는 특별히 한정되지 않지만, 일반적으로 0.1 ~ 30 wt%, 바람직하게는 0.5 ~ 20 wt%, 보다 바람직하게는 1 ~ 10 wt%이다. The concentration of the high-molecular fine grains in which the polymer graft chain is formed is not particularly limited, but is generally 0.1 to 30 wt%, preferably 0.5 to 20 wt%, more preferably 1 to 10 wt%.

기판에 대한 분산액의 도포량은, 투명 유전성 필름이 사용되는 용도에 따라서 적절히 조정하면 되며 특별히 한정되지 않는다. 또한 소망하는 두께의 투명 유전성 필름을 얻기 위해서 분산액 도포 및 용매 증발을 복수 회 수행해도 된다. 플렉서블 디스플레이의 커버재에 적합한 투명 유전성 필름의 두께는 일반적으로 0.1 ㎛ ~ 500 ㎛, 바람직하게는 0.5 ㎛ ~ 300 ㎛, 보다 바람직하게는 1 ㎛ ~ 250 ㎛이다. 투명 유전성 필름의 두께가 0.1 ㎛ 보다 얇으면 커버재로서 사용 가능한 기계적 강도를 얻을 수 없는 경우가 있다. 한편 투명 유전성 필름의 두께가 500 ㎛를 초과하면 투명 유전성 필름의 유연성 및 투명성이 손상되는 경우가 있다. 또한 투명 유전성 필름의 두께는 캐스팅법에 의해 얻어진 투명 유전성 필름을 적층하고 가열, 가압하여 일체화함으로써 조정하는 것도 가능하다. The amount of dispersion of the dispersion on the substrate is not particularly limited as long as it is appropriately adjusted according to the application in which the transparent dielectric film is used. Further, in order to obtain a transparent dielectric film having a desired thickness, application of the dispersion and evaporation of the solvent may be performed plural times. The thickness of the transparent dielectric film suitable for the cover material of the flexible display is generally 0.1 탆 to 500 탆, preferably 0.5 탆 to 300 탆, more preferably 1 탆 to 250 탆. If the thickness of the transparent dielectric film is thinner than 0.1 占 퐉, mechanical strength usable as a cover material may not be obtained. On the other hand, when the thickness of the transparent dielectric film exceeds 500 탆, flexibility and transparency of the transparent dielectric film may be impaired. Further, the thickness of the transparent dielectric film can be adjusted by laminating the transparent dielectric film obtained by the casting method, heating, pressing and integrating.

또한 분산액을 증발시킬 때의 조건에 대해서는 특별히 한정되지 않고, 분산액으로 사용하는 용매의 종류에 따라서 적절히 조절하면 된다. 일반적으로는 용매의 비점보다 높은 온도로 가열하면 된다. The conditions for evaporating the dispersion are not particularly limited and may be appropriately adjusted according to the type of the solvent used as the dispersion. Generally, the solvent is heated to a temperature higher than the boiling point of the solvent.

상기와 같이 해서 제조되는 본 발명의 투명 유전성 필름은, 고분자 그래프트 사슬이 형성된 고유전체 미립자를 사용하고 있기 때문에 투명 유전성 필름 안에서 고유전체 미립자가 응집되는 일 등 없이 균일하게 분산되어 있고, 유전율이 높을 뿐만 아니라 투명성도 뛰어나다. Since the transparent dielectric film of the present invention manufactured as described above uses the high-dielectric fine particles formed with the polymer graft chain, the high dielectric constant film is uniformly dispersed in the transparent dielectric film without aggregation of the high-dielectric fine particles, Not only transparency.

본 발명의 투명 유전성 필름에서의 고유전체 미립자의 체적 함유율은 특별히 한정되지 않지만, 바람직하게는 2 vol% ~ 30 vol%, 보다 바람직하게는 3 vol% ~ 20 vol%, 더욱 바람직하게는 4 vol% ~ 15 vol%, 가장 바람직하게는 5 vol% ~ 12 vol%이다. 여기서 본 명세서에서 '고유전체 미립자의 체적 함유율'은 TGA(열중량측정)에 의해 산출된 고유전체 미립자의 체적분율을 의미한다. 구체적으로는 투명 유전체 필름을 10 ℃/min로 450 ℃까지 승온하고, 450 ℃에서의 잔사량으로부터 고유전체 미립자의 체적분율을 구할 수 있다. The volume fraction of the high dielectric fine particles in the transparent dielectric film of the present invention is not particularly limited, but is preferably 2 vol.% To 30 vol.%, More preferably 3 vol.% To 20 vol.%, Still more preferably 4 vol. To 15 vol%, and most preferably from 5 vol% to 12 vol%. In the present specification, the 'volume fraction of high-dielectric particles' refers to the volume fraction of high-dielectric particles calculated by TGA (thermogravimetry). Specifically, the volume fraction of the high-dielectric-constant fine particles can be obtained from the amount of the residue at 450 DEG C by raising the temperature of the transparent dielectric film to 450 DEG C at 10 DEG C / min.

본 발명의 투명 유전성 필름은, 서로 인접하는 고유전체 미립자의 고분자 그래프트 사슬간에 화학 결합이 형성되어 있어도 된다. 예를 들면 리빙 라디칼 중합에 사용하는 라디칼 중합성 모노머로서 빛 또는 열 등의 외부 자극에 의해 가교 또는 중합하는 관능기를 측사슬에 도입한 모노머를 사용하고, 자립성 필름에 빛 또는 열 등의 외부 자극을 부여함으로써, 서로 인접하는 미립자의 고분자 그래프트 사슬간에 화학 결합을 형성할 수 있다. 이로써 투명 유전성 필름의 기계적 특성을 향상시킬 수 있다.In the transparent dielectric film of the present invention, chemical bonds may be formed between the polymer graft chains of the high-dielectric fine particles adjacent to each other. For example, a radically polymerizable monomer used for living radical polymerization may be a monomer obtained by introducing a functional group crosslinked or polymerized by external stimuli such as light or heat into a side chain, and an external stimulus such as light or heat is applied to the self- A chemical bond can be formed between the polymer graft chains of the adjacent microparticles. As a result, the mechanical properties of the transparent dielectric film can be improved.

본 발명의 투명 유전성 필름은, 주파수 1 kHz에서의 비유전율(25 ℃)이 3.5 이상, 바람직하게는 4.0 이상이다. 비유전율은 시판 비유전율 측정 장치에 의해 측정할 수 있다. The transparent dielectric film of the present invention has a relative dielectric constant (25 DEG C) of 3.5 or more, preferably 4.0 or more at a frequency of 1 kHz. The relative dielectric constant can be measured by a commercially available relative dielectric constant measuring apparatus.

본 발명의 투명 유전성 필름은, 가시 영역(파장 400 ㎚ ~ 800 ㎚)에서의 빛 투과율의 평균값이 80 % 이상이다. 특히 본 발명의 투명 유전성 필름은, 550 ㎚에서의 광 투과율이 80 % 이상, 바람직하게는 85 % 이상이다. 여기서 본 명세서에서 '광 투과율'은 두께 100 ㎛인 투명 유전성 필름을 빛이 투과하는 비율을 의미하고, 수치가 클수록 투명도가 높은 것을 나타낸다. 광 투과율은 시판 광 투과율 측정 장치에 의해 측정할 수 있다. In the transparent dielectric film of the present invention, the average value of the light transmittance in the visible region (wavelength 400 nm to 800 nm) is 80% or more. In particular, the transparent dielectric film of the present invention has a light transmittance at 550 nm of 80% or more, preferably 85% or more. Herein, the term 'light transmittance' means a rate at which light is transmitted through a transparent dielectric film having a thickness of 100 μm, and a larger value indicates higher transparency. The light transmittance can be measured by a commercially available light transmittance measuring apparatus.

본 발명의 투명 유전성 필름은 유전율이 높고 또한 투명성이 뛰어나기 때문에 정전용량식 터치 패널을 구비한 각종 디스플레이의 커버재로서 사용할 수 있다. 특히 본 발명의 투명 유전성 필름은 유연성도 뛰어나기 때문에 정전용량식 터치 패널을 구비한 플렉서블 디스플레이의 커버재로서 적용할 수도 있다. 또한 본 발명의 투명 유전성 필름은 정전용량식 터치 패널의 기재로서 적용할 수도 있다. 더욱이 본 발명의 투명 유전성 필름은, 본 출원인들에 의해 2014년 10월 17일에 출원된 일본 특허출원 제 2014-212174 호에 기재되어 있는 것과 같이 내열성, 표면 경도도 뛰어나고 리타데이션값도 작기 때문에, 플렉서블 디스플레이에 사용되는 기판으로도 사용할 수 있다. Since the transparent dielectric film of the present invention has a high dielectric constant and is excellent in transparency, it can be used as a cover material for various displays having a capacitive touch panel. In particular, since the transparent dielectric film of the present invention is excellent in flexibility, it can be applied as a cover material of a flexible display having capacitive touch panels. The transparent dielectric film of the present invention can also be applied as a substrate of a capacitive touch panel. Furthermore, since the transparent dielectric film of the present invention is excellent in heat resistance, surface hardness and retardation value as disclosed in Japanese Patent Application No. 2014-212174 filed on October 17, 2014 by the present applicants, It can also be used as a substrate for flexible displays.

<실시예><Examples>

이하, 실시예에 의해 본 발명을 상세히 설명하지만, 이들에 의해 본 발명이 한정되는 것은 아니다. Hereinafter, the present invention will be described in detail by way of examples, but the present invention is not limited thereto.

실시예1Example 1

평균 입자경이 7 ㎚인 티탄산 바륨(BaTiO3) 미립자의 2-메톡시에탄올 분산액(JGC Catalysts and Chemicals Ltd. 제품, BaTiO3 미립자 함유량 8 wt%) 15.5 g에 암모니아수 1.5 ㎖를 가하고, 40 ℃에서 15분 교반했다. 다음으로 이 혼합액에, 2-메톡시에탄올 2.0 g에 용해한 중합개시제(BPA) 1.00 g을 천천히 떨어뜨리고, 40 ℃에서 18시간 교반했다. 다음으로 증발기(Evaporator)를 이용하여 이 혼합액으로부터 용매를 제거한 후, 물을 소량 가하고 4500 rpm으로 10분간 원심 분리를 수행함으로써 BPA가 표면에 고정된 BaTiO3 미립자(이하, 'BPA-BaTiO3' 미립자라고 생략한다)를 얻었다. 1.5 ml of ammonia water was added to 15.5 g of a 2-methoxyethanol dispersion of barium titanate (BaTiO 3 ) fine particles having an average particle size of 7 nm (a content of BaTiO 3 fine particles of 8 wt%, manufactured by JGC Catalysts and Chemicals Ltd.) Min. Then, 1.00 g of a polymerization initiator (BPA) dissolved in 2.0 g of 2-methoxyethanol was slowly dropped into the mixed solution, and the mixture was stirred at 40 占 폚 for 18 hours. Subsequently, the solvent was removed from the mixed solution by using an evaporator, and a small amount of water was added thereto. The mixture was centrifuged at 4500 rpm for 10 minutes to obtain BaTiO 3 fine particles (hereinafter referred to as BPA-BaTiO 3 fine particles ).

다음으로 BPA-BaTiO3 미립자 204.9 mg에, MMA 500 mg, DMF 6.00 g, PMDETA 33.7 mg을 더하고 호모지나이저를 이용하여 Ice Bath 하에서 교반했다. 다음으로 이 혼합액을 2구 플라스크에 넣고 동결융해법에 의해 3회 탈기한 후, CuBr 24.6 mg을 더하여 질소 치환을 수행하고 70 ℃에서 1시간 중합 반응을 수행했다. 반응 종료 후, 혼합액을 버블링하여 Cu를 실활(失活, 활성 상실)시켰다. 다음으로 혼합액을 THF에 용해하고, 메탄올/0.1 M의 EDTA 수용액의 혼합 용액(체적비 20/1)에서 재침전을 수행하고, 4500 rpm으로 10분간 원심 분리를 수행했다. 재침전 및 원심 분리를 3회 반복한 후, 80 ℃에서 하룻밤 진공 건조시킴으로써, PMMA 사슬이 형성된 BaTiO3 미립자(이하, 'PMMA-BaTiO3 미립자'라고 생략한다)를 얻었다. Then, 500 mg of MMA, 6.00 g of DMF and 33.7 mg of PMDETA were added to 204.9 mg of BPA-BaTiO 3 fine particles and stirred under ice bath using a homogenizer. Next, this mixed solution was put into a two-necked flask, degassed three times by freeze-thaw method, and 24.6 mg of CuBr was added thereto, followed by nitrogen substitution and polymerization was carried out at 70 ° C for 1 hour. After completion of the reaction, the mixed solution was bubbled to deactivate (inactivate, deactivate) Cu. Next, the mixed solution was dissolved in THF, reprecipitated in a mixed solution of methanol / 0.1 M aqueous EDTA solution (volume ratio 20/1), and centrifuged at 4500 rpm for 10 minutes. After repeating three times the reprecipitation, and centrifuged to thereby give a by overnight vacuum drying at 80 ℃, BaTiO 3 fine particles (hereinafter omitted as "PMMA-BaTiO 3 fine particle") is a chain formed of PMMA.

상기에서 얻어진 PMMA-BaTiO3 미립자를 불산에 침지시키고, BaTiO3 미립자를 용해시킴으로써 분리된 PMMA(고분자 그래프트 사슬)의 분자량을, GPC 측정 장치(JASCO Corporation 제품, LC-2000plus)를 이용하여 평가했다. 표준 시료로는 폴리스티렌을 사용하고 검출기로는 UV 검출기를 이용했다. 그 결과, 수평균 분자량이 39500, 중량평균 분자량(Mw)이 92000이었다. The molecular weight of the PMMA (polymer graft chain) separated by immersing the PMMA-BaTiO 3 fine particles obtained above in hydrofluoric acid and dissolving the BaTiO 3 fine particles was evaluated using a GPC measuring device (product of JASCO Corporation, LC-2000plus). Polystyrene was used as a standard sample and UV detector was used as a detector. As a result, the number average molecular weight was 39,500 and the weight average molecular weight (Mw) was 92,000.

또한 PMMA-BaTiO3 미립자의 그래프트 밀도를 당해 기술 분야에서 공지된 방법에 준하여 산출한 결과, 0.18 가닥 사슬/㎚2이었다. The graft density of the PMMA-BaTiO 3 fine particles was calculated in accordance with a method known in the art, and as a result, it was 0.18 strands / nm 2 .

다음으로 아니솔을 용매로서 사용하고, 1 wt%의 PMMA-BaTiO3 미립자를 포함하는 분산액을 조제했다. 다음으로 이 분산액을 실온에서 기판 상에 도포한 후 진공 하에서 80 ℃로 건조시킴으로써 두께가 100 ㎛인 자립성 필름을 얻었다. Next, a dispersion containing 1 wt% of PMMA-BaTiO 3 fine particles was prepared using anisole as a solvent. This dispersion was then applied to a substrate at room temperature and then dried at 80 DEG C under vacuum to obtain a self-supporting film having a thickness of 100 mu m.

얻어진 자립성 필름은 직경 6 ㎜의 막대에 감는 것이 가능하고 충분한 유연성을 가지고 있는 것이 확인되었다. 또한 자립성 필름에 대하여 BaTiO3 미립자의 체적 함유율을 TGA(열중량 측정)에 의해 산출한 결과, BaTiO3 미립자의 체적 함유율은 10.0 vol%이었다. 또한 자립성 필름에 대하여 소각 X선 산란(Small Angle X-ray Scattering, SAXS) 측정 및 주사형 전자 현미경(Transmission Electron Microscope, TEM) 관찰을 수행한 결과, PMMA-BaTiO3 미립자는 응집되는 일 등 없이 균일하게 분산되어 있는 것이 확인되었다. It was confirmed that the obtained self-supporting film could be wound on a rod having a diameter of 6 mm and had sufficient flexibility. Further, the volume fraction of BaTiO 3 fine particles was calculated by TGA (thermogravimetry) with respect to the self-supporting film, and as a result, the volume fraction of BaTiO 3 fine particles was found to be 10.0 vol%. As a result of measurement of small angle X-ray scattering (SAXS) and observation of TEM (Transmission Electron Microscope) on the self-supporting film, PMMA-BaTiO 3 fine particles were uniformly dispersed As shown in Fig.

실시예2Example 2

중합 조건으로서, BPA-BaTiO3 미립자와 MMA의 혼합 비율(질량비)을 1:10이 되도록 조정하고, 중합 시간을 3시간으로 변경한 것 이외에는 실시예 1과 동일하게 하여 PMMA-BaTiO3 미립자를 제작하여 자립성 필름을 얻었다. As the polymerization conditions, PMMA-BaTiO 3 fine particles were produced in the same manner as in Example 1 except that the mixing ratio (mass ratio) of the BPA-BaTiO 3 fine particles and MMA was adjusted to 1:10 and the polymerization time was changed to 3 hours To obtain a self-supporting film.

상기에서 얻어진 PMMA-BaTiO3 미립자에 대하여 PMMA(고분자 그래프트 사슬)의 분자량을 실시예 1과 동일하게 하여 평가한 결과, 수평균 분자량이 38700, 중량평균 분자량(Mw)이 61800이었다. The PMMA-BaTiO 3 fine particles thus obtained were evaluated for the molecular weight of PMMA (polymer graft chain) in the same manner as in Example 1. The number average molecular weight was 38700 and the weight average molecular weight (Mw) was 61800.

또한 PMMA-BaTiO3 미립자의 그래프트 밀도를 당해 기술 분야에서 공지된 방법에 준하여 산출한 결과, 0.43 가닥 사슬/㎚2이었다. The graft densities of the PMMA-BaTiO 3 fine particles were calculated according to a method known in the art and found to be 0.43 strands / nm 2 .

다음으로 아니솔을 용매로서 사용하고, 1 wt%의 PMMA-BaTiO3 미립자를 포함하는 분산액을 조제했다. 다음으로 이 분산액을 실온에서 기판 상에 도포한 후 진공 하에서 80 ℃로 건조시킴으로써 두께가 100 ㎛인 자립성 필름을 얻었다. Next, a dispersion containing 1 wt% of PMMA-BaTiO 3 fine particles was prepared using anisole as a solvent. This dispersion was then applied to a substrate at room temperature and then dried at 80 DEG C under vacuum to obtain a self-supporting film having a thickness of 100 mu m.

얻어진 자립성 필름은 직경 6 ㎜의 막대에 감는 것이 가능하고 충분한 유연성을 가지고 있는 것이 확인되었다. 또한 자립성 필름에 대하여 BaTiO3 미립자의 체적 함유율을 TGA(열중량 측정)에 의해 산출한 결과, BaTiO3 미립자의 체적 함유율은 4.7 vol%이었다. 또한 자립성 필름에 대하여 소각 X선 산란(SAXS) 측정 및 주사형 전자 현미경(TEM) 관찰을 수행한 결과, PMMA-BaTiO3 미립자는 응집되는 일 등 없이 균일하게 분산되어 있는 것이 확인되었다. It was confirmed that the obtained self-supporting film could be wound on a rod having a diameter of 6 mm and had sufficient flexibility. Further, the volume fraction of BaTiO 3 fine particles was calculated by TGA (thermogravimetry) with respect to the self-supporting film, and as a result, the volume fraction of BaTiO 3 fine particles was found to be 4.7 vol%. Further, as a result of measurement of incineration X-ray scattering (SAXS) and observation of a scanning electron microscope (TEM) on the self-supporting film, it was confirmed that the PMMA-BaTiO 3 fine particles were uniformly dispersed without being agglomerated.

실시예3Example 3

중합 조건으로서, BPA-BaTiO3 미립자와 MMA의 혼합 비율(질량비)을 1:4가 되도록 조정하고, 중합 시간을 3시간으로 변경한 것 이외에는 실시예1과 동일하게 하여 PMMA-BaTiO3 미립자를 제작하여 자립성 필름을 얻었다. As the polymerization conditions, PMMA-BaTiO 3 fine particles were produced in the same manner as in Example 1 except that the mixing ratio (mass ratio) of the BPA-BaTiO 3 fine particles and MMA was adjusted to 1: 4 and the polymerization time was changed to 3 hours To obtain a self-supporting film.

상기에서 얻어진 PMMA-BaTiO3 미립자에 대하여 PMMA(고분자 그래프트 사슬)의 분자량을 실시예1과 동일하게 하여 평가한 결과, 수평균 분자량이 125000, 중량평균 분자량(Mw)이 159100이었다. The PMMA-BaTiO 3 fine particles thus obtained were evaluated for the molecular weight of PMMA (polymer graft chain) in the same manner as in Example 1. The number average molecular weight was 125000 and the weight average molecular weight (Mw) was 159100.

또한 PMMA-BaTiO3 미립자의 그래프트 밀도를 당해 기술 분야에서 공지된 방법에 준하여 산출한 결과, 0.10 가닥 사슬/㎚2이었다. The graft densities of the PMMA-BaTiO 3 fine particles were calculated in accordance with a method known in the art and found to be 0.10 strand / nm 2 .

다음으로 아니솔을 용매로서 사용하고, 1 wt%의 PMMA-BaTiO3 미립자를 포함하는 분산액을 조제했다. 다음으로 이 분산액을 실온에서 기판 상에 도포한 후 진공 하에서 80 ℃로 건조시킴으로써 두께가 100 ㎛인 자립성 필름을 얻었다. Next, a dispersion containing 1 wt% of PMMA-BaTiO 3 fine particles was prepared using anisole as a solvent. This dispersion was then applied to a substrate at room temperature and then dried at 80 DEG C under vacuum to obtain a self-supporting film having a thickness of 100 mu m.

얻어진 자립성 필름은 직경 6 ㎜의 막대에 감는 것이 가능하고 충분한 유연성을 가지고 있는 것이 확인되었다. 또한 자립성 필름에 대하여 BaTiO3 미립자의 체적 함유율을 TGA(열중량 측정)에 의해 산출한 결과, BaTiO3 미립자의 체적 함유율은 6.2 vol%이었다. 또한 자립성 필름에 대하여 소각 X선 산란(SAXS) 측정 및 주사형 전자 현미경(TEM) 관찰을 수행한 결과, PMMA-BaTiO3 미립자는 응집되는 일 등 없이 균일하게 분산되어 있는 것이 확인되었다. It was confirmed that the obtained self-supporting film could be wound on a rod having a diameter of 6 mm and had sufficient flexibility. In addition, a result of calculation by the volume content of the BaTiO 3 particles with respect to the free-standing film to TGA (thermogravimetric measurement), the volume content of the BaTiO 3 particles was 6.2 vol%. Further, as a result of measurement of incineration X-ray scattering (SAXS) and observation of a scanning electron microscope (TEM) on the self-supporting film, it was confirmed that the PMMA-BaTiO 3 fine particles were uniformly dispersed without being agglomerated.

실시예4Example 4

중합 조건으로서, BPA-BaTiO3 미립자와 MMA의 혼합 비율(질량비)을 1:4가 되도록 조정하고, 중합 시간을 20시간으로 변경한 것 이외에는 실시예1과 동일하게 하여 PMMA-BaTiO3 미립자를 제작하여 자립성 필름을 얻었다. As PMMA-BaTiO 3 fine particles were produced in the same manner as in Example 1 except that the mixing ratio (mass ratio) of BPA-BaTiO 3 fine particles to MMA was adjusted to be 1: 4 and the polymerization time was changed to 20 hours To obtain a self-supporting film.

상기에서 얻어진 PMMA-BaTiO3 미립자에 대하여 PMMA(고분자 그래프트 사슬)의 분자량을 실시예1과 동일하게 하여 평가한 결과, 수평균 분자량이 64900, 중량평균 분자량(Mw)이 100700이었다. The PMMA-BaTiO 3 fine particles obtained above were evaluated for the molecular weight of PMMA (polymer graft chain) in the same manner as in Example 1. The number average molecular weight was 64900 and the weight average molecular weight (Mw) was 100700.

또한 PMMA-BaTiO3 미립자의 그래프트 밀도를 당해 기술 분야에서 공지된 방법에 준하여 산출한 결과, 0.13 가닥 사슬/㎚2이었다. The graft density of PMMA-BaTiO 3 fine particles was calculated according to a method known in the art, and as a result, it was found to be 0.13 strands / nm 2 .

다음으로 아니솔을 용매로서 사용하고, 1 wt%의 PMMA-BaTiO3 미립자를 포함하는 분산액을 조제했다. 다음으로 이 분산액을 실온에서 기판 상에 도포한 후 진공 하에서 80 ℃로 건조시킴으로써 두께가 100 ㎛인 자립성 필름을 얻었다. Next, a dispersion containing 1 wt% of PMMA-BaTiO 3 fine particles was prepared using anisole as a solvent. This dispersion was then applied to a substrate at room temperature and then dried at 80 DEG C under vacuum to obtain a self-supporting film having a thickness of 100 mu m.

얻어진 자립성 필름은 직경 6 ㎜의 막대에 감는 것이 가능하고 충분한 유연성을 가지고 있는 것이 확인되었다. 또한 자립성 필름에 대하여 BaTiO3 미립자의 체적 함유율을 TGA(열중량 측정)에 의해 산출한 결과, BaTiO3 미립자의 체적 함유율은 9.1 vol%이었다. 또한 자립성 필름에 대하여 소각 X선 산란(SAXS) 측정 및 주사형 전자 현미경(TEM) 관찰을 수행한 결과, PMMA-BaTiO3 미립자는 응집되는 일 등 없이 균일하게 분산되어 있는 것이 확인되었다. It was confirmed that the obtained self-supporting film could be wound on a rod having a diameter of 6 mm and had sufficient flexibility. Further, the volume fraction of BaTiO 3 fine particles was calculated by TGA (thermogravimetry) with respect to the self-supporting film, and as a result, the volume fraction of BaTiO 3 fine particles was 9.1 vol%. Further, as a result of measurement of incineration X-ray scattering (SAXS) and observation of a scanning electron microscope (TEM) on the self-supporting film, it was confirmed that the PMMA-BaTiO 3 fine particles were uniformly dispersed without being agglomerated.

비교예1Comparative Example 1

비교예1에서는 BaTiO3 미립자를 함유하지 않는 PMMA로만 이루어지는 두께 100 ㎛인 자립성 필름을 제작했다. Comparative Example 1 to prepare a self-supporting film having a thickness of 100 ㎛ made of only PMMA containing no BaTiO 3 particles.

얻어진 자립성 필름은 직경 6 ㎜의 막대에 감는 것이 가능하고 충분한 유연성을 가지고 있는 것이 확인되었다.It was confirmed that the obtained self-supporting film could be wound on a rod having a diameter of 6 mm and had sufficient flexibility.

다음으로 실시예1 및 2와 비교예1에서 얻어진 자립성 필름에 대하여 Shimadzu Corporation제 V-570을 이용하여 가시 영역에서의 광 투과율을 측정했다. 그 결과를 도 1에 도시한다. Next, for the self-supporting films obtained in Examples 1 and 2 and Comparative Example 1, the light transmittance in the visible region was measured using Shimadzu Corporation V-570. The results are shown in Fig.

또한 실시예1 및 2와 비교예1에서 얻어진 자립성 필름에 대하여 TOYO Corporation제 SH2-Z 샘플 홀더를 접속한 Solatron 1255B 임피던스 분석기를 이용하여 25 ℃에서 비유전율을 측정했다. 그 결과를 도 2에 도시한다. The relative permittivity of the self-supporting films obtained in Examples 1 and 2 and Comparative Example 1 was measured at 25 캜 using a Solatron 1255B impedance analyzer connected to a SH2-Z sample holder made by TOYO Corporation. The results are shown in Fig.

도 1에 도시되어 있는 것과 같이 실시예1 및 2의 자립성 필름은, 가시 영역에서의 빛 투과율의 평균값이 80 % 이상이고, 충분한 투명성을 갖는 것이 확인되었다. 그 중에서도 실시예1의 자립성 필름은 550 ㎚에서의 광 투과율이 85 % 이상으로 투명성이 특히 뛰어난 것이 확인되었다. As shown in Fig. 1, it was confirmed that the self-supporting films of Examples 1 and 2 had an average value of light transmittance in the visible region of 80% or more and had sufficient transparency. In particular, it was confirmed that the self-supporting film of Example 1 had a light transmittance of at least 85% at 550 nm, which was particularly excellent in transparency.

또한 도 2에 도시되어 있는 것과 같이 실시예1 및 2의 자립성 필름은, 비교예1의 자립성 필름에 비교하여 유전율이 높은 것이 확인되었다. 그 중에서도 실시예1의 자립성 필름은, 주파수 1 kHz에서의 비유전율이 4.0 이상으로 높고, 유전율이 특히 높은 것이 확인되었다. Also, as shown in Fig. 2, the self-supporting films of Examples 1 and 2 were confirmed to have higher dielectric constants as compared with the self-supporting films of Comparative Example 1. [ In particular, it was confirmed that the self-supporting film of Example 1 had a dielectric constant as high as 4.0 or more at a frequency of 1 kHz and a particularly high dielectric constant.

이상의 결과로부터 알 수 있듯이 본 발명에 의하면 유전율이 높고 또한 투명성이 뛰어난 투명 유전성 필름을 제공할 수 있다. 또한 본 발명에 의하면 당해 특성을 갖는 투명 유전성 필름을 구비하는 정전용량식 터치 패널 및 플렉서블 디스플레이를 제공할 수 있다. As can be seen from the above results, according to the present invention, a transparent dielectric film having a high dielectric constant and excellent transparency can be provided. Further, according to the present invention, it is possible to provide a capacitive touch panel and a flexible display having a transparent dielectric film having such characteristics.

Claims (11)

고분자 그래프트 사슬이 형성된 고유전체 미립자가 상기 고분자 그래프트 사슬을 통하여 2차원 또는 3차원으로 배열되어 있는 투명 유전성 필름.
Wherein the high-dielectric-constant fine particles having the polymer graft chain formed thereon are arranged two-dimensionally or three-dimensionally through the polymer graft chain.
제 1 항에 있어서,
상기 고유전체 미립자는, BaTiO3 미립자, TiO2 미립자 및 ZrO2 미립자로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종인 투명 유전성 필름.
The method according to claim 1,
Wherein the high-dielectric-constant fine particles are at least one selected from the group consisting of BaTiO 3 fine particles, TiO 2 fine particles, and ZrO 2 fine particles.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
주파수 1 kHz에서의 비유전율이 4 이상인 투명 유전성 필름.
3. The method according to claim 1 or 2,
A transparent dielectric film having a relative dielectric constant of 4 or more at a frequency of 1 kHz.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
550 ㎚에서의 광 투과율이 80 % 이상인 투명 유전성 필름.
3. The method according to claim 1 or 2,
And a light transmittance at 550 nm of 80% or more.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 고유전체 미립자의 체적 함유율은 2 vol% ~ 30 vol%인 투명 유전성 필름.
3. The method according to claim 1 or 2,
Wherein the volume percentage of the high-dielectric-constant fine particles is from 2 vol% to 30 vol%.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 고유전체 미립자의 평균 입자경은 100 ㎚ 이하인 투명 유전성 필름.
3. The method according to claim 1 or 2,
Wherein the high-dielectric-constant fine particles have an average particle size of 100 nm or less.
제 1 항 또는 제 2 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 고분자 그래프트 사슬의 그래프트 밀도는 0.1 가닥 사슬/㎚2 이상인 투명 유전성 필름.
3. The method according to any one of claims 1 to 3,
Wherein the polymer graft chain has a graft density of 0.1 strand chain / nm 2 or more.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 고분자 그래프트 사슬은 아크릴산 유도체, 메타크릴산 유도체, 스티렌 유도체, 아세트산비닐 및 아크릴로니트릴로부터 선택되는 1종 이상의 화합물의 리빙 라디칼 중합에 의해 형성되는 투명 유전성 필름.
3. The method according to claim 1 or 2,
Wherein the polymer graft chain is formed by living radical polymerization of at least one compound selected from acrylic acid derivatives, methacrylic acid derivatives, styrene derivatives, vinyl acetate and acrylonitrile.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
서로 인접하는 상기 고유전체 미립자의 상기 고분자 그래프트 사슬간에 화학 결합이 형성되어 있는 투명 유전성 필름.
3. The method according to claim 1 or 2,
Wherein chemical bonds are formed between the polymer graft chains of the high-dielectric fine particles adjacent to each other.
제 1 항 또는 제 2 항에 기재된 투명 유전성 필름을 갖는 정전용량식 터치 패널.
A capacitive touch panel having the transparent dielectric film according to any one of claims 1 to 3.
제 1 항 또는 제 2 항에 기재된 투명 유전성 필름을 갖는 플렉서블 디스플레이.A flexible display having the transparent dielectric film according to any one of claims 1 to 3.
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