KR20160125053A - 정렬 키 구조의 원격 플라즈마 소스 블록 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 정렬 키 구조의 원격 플라즈마 소스 블록에 관한 것이고, 구체적으로 서로 결합되는 서브 블록에 정렬 키가 형성되어 원격 플라즈마 소스 블록의 결합 특성이 향상되도록 하는 정렬 키 구조의 원격 플라즈마 소스 블록에 관한 것이다. 정렬 키 구조의 원격 플라즈마 소스 블록은 제1 서브 블록(10) 및 제2 서브 블록(20)이 서로 결합되어 형성되고, 제1 서브 블록(10) 또는 제2 서브 블록(20)의 결합 부분에 정렬 키가 형성된다.

Description

정렬 키 구조의 원격 플라즈마 소스 블록{A Remote Plasma Source Block with Align Key}
본 발명은 정렬 키 구조의 원격 플라즈마 소스 블록에 관한 것이고, 구체적으로 서로 결합되는 서브 블록에 정렬 키가 형성되어 원격 플라즈마 소스 블록의 결합 특성이 향상되도록 하는 정렬 키 구조의 원격 플라즈마 소스 블록에 관한 것이다.
원격 플라즈마는 진공 챔버 또는 공정 챔버로부터 분리된 위치에 설치된 플라즈마 발생 장치에 의하여 생성된 플라즈마 또는 격리된 공간에서 발생되어 확산이 되는 플라즈마를 말한다. 이와 같이 발생된 플라즈마는 적절한 유도 경로를 통하여 예를 들어 세척을 위하여 진공 챔버의 내부로 유도될 수 있다. 그리고 이와 같은 원격 플라즈마는 원격 플라즈마 소스 블록에서 발생될 수 있다.
원격 플라즈마에 의한 세척 공정과 관련된 선행기술로 특허공개번호 제2007-0055655호 ‘원격 플라즈마를 이용한 챔버 세정 시스템’이 있다. 상기 선행기술은 챔버; 상기 챔버의 외부에 위치하는 다수의 플라즈마 발생기; 상기 각 플라즈마 발생기에서 공급되는 가스를 가스 유입 관을 통해 수집하는 한편 챔버 연결 관을 통해 상기 챔버로 공급하는 집하실; 상기 집하실의 내부에 설치되어 상기 각 플라즈마 발생기로부터 공급되는 가스의 유동 방향을 전환시키는 유도 수단을 포함하는 세정 시스템에 대하여 개시한다.
원격 플라즈마 블록과 관련된 선행기술로 특허공개번호 제2012-0054830호 ‘원격 플라즈마 소스 블록’이 있다. 상기 선행기술은 원격 플라즈마 소스 클리닝 시스템에 장착되어 세정가스를 플라즈마 상태로 만들어 공급하는 플라즈마 소스 블록에 관한 것으로, 세정 가스 주입구, 상기 주입구에서 연통되며 한쪽으로 제1, 2 배출공이 형성되어 있는 제1 블록, 그리고 제1 블록에 접하는 결합 면에 제1, 2 배출 공에 각각 대응하여 제1, 2 유입공이 형성되어 있고, 제1, 2 유입 공에 연통되는 배출구가 형성되고, 세정 가스를 점화하는 점화 유닛이 설치되는 제2 블록이 결합되는 원격 플라즈마 소스 블록에 대하여 개시한다.
선행기술에서 개시된 원격 플라즈마 소스 블록은 서로 다른 2개의 서브 블록이 결합되어 형성될 수 있고, 각각의 결합되는 서브 블록의 내부에 플라즈마 발생 장치가 배치되고, 플라즈마 발생을 위한 기체가 입구를 통하여 주입될 수 있다. 서로 다른 서브 블록이 결합되어 플라즈마 경로를 형성하는 경우 밀폐 기능이 확보되어야 한다. 그리고 밀폐 기능의 향상을 위하여 결합 견고성이 요구되고, 결합 과정에서 구조적인 어긋남이 없이 결합되어야 한다.
상기 선행기술은 이와 같은 견고한 결합 구조를 만들 수 있는 원격 플라즈마 소스 블록에 대하여 개시하지 않는다.
본 발명은 선행기술의 문제점을 해결하기 위한 것으로 아래와 같은 목적을 가진다.
선행기술1: 특허공개번호 2007-0055655(주성엔지니어링(주), 2007년05월31일 공개) 원격 플라즈마를 이용한 챔버 세정시스템 선행기술2: 특허공개번호 2012-0054830((주)뉴젠텍, 2012년05월31일 공개) 원격 플라즈마 소스 블록
본 발명의 목적은 서로 결합되는 서브 블록의 적어도 하나에 정렬 키가 형성되어 안정적으로 결합되도록 하면서 이와 동시에 내구성이 향상될 수 있도록 하는 정렬 키 구조의 원격 플라즈마 소스 블록을 제공하는 것이다.
본 발명의 적절한 실시 형태에 따르면, 제1 서브 블록 및 제2 서브 블록이 서로 결합되어 형성되고, 제1 서브 블록 또는 제2 서브 블록의 결합 부분에 정렬 키가 형성된다.
본 발명의 다른 적절한 실시 형태에 따르면, 상기 정렬 키는 제1 서브 블록에 형성된 삽입 키 및 제2 서브 블록에 형성된 고정 키로 이루어진다.
본 발명의 또 다른 적절한 실시 형태에 따르면, 서로 다른 서브 블록이 접촉하는 접촉면에 형성된 홀 키를 더 포함한다.
본 발명의 또 다른 적절한 실시 형태에 따르면, 상기 제1 서브 블록 또는 제2 서브 블록에 형성된 균형 가이드를 더 포함한다.
본 발명의 또 다른 적절한 실시 형태에 따르면, 각각의 서브 블록은 한쪽 끝에 측면 유닛이 형성되고, 내부에 유동 경로가 형성된 경로 형성 유닛; 상기 경로 형성 유닛의 서로 다른 위치에 연결되고, 끝 부분에 결합 입구가 형성된 경로 연결 경로를 포함하고, 상기 제1 서브 블록과 제2 서브 블록의 서로 마주보는 위치에 삽입 키 및 고정 키로 이루어진 정렬 키를 포함한다.
본 발명의 또 다른 적절한 실시 형태에 따르면, 상기 제1 서브 블록 및 제2 서브 블록의 경로 형성 유닛에 제1 경로 연결 유닛 및 제2 경로 연결 유닛이 배치되고, 상기 삽입 키는 제1 서브 블록의 측면 유닛과 제1 경로 연결 유닛의 경계 부분에 형성되고, 상기 고정 키는 제2 서브 블록의 제2 경로 연결 유닛에 형성된다.
본 발명의 또 다른 적절한 실시 형태에 따르면, 상기 제1 서브 블록 또는 제2 서브 블록의 서로 마주보는 접촉면에 균형 가이드가 형성된다.
본 발명에 따른 원격 플라즈마 소스 블록은 정렬 키에 의하여 서로 결합되는 서브 블록이 정해진 위치에서 어긋남이 없이 결합되어 결합 안전성이 향상될 수 있도록 한다. 이와 같은 결합 구조에 의하여 외부 진동 또는 충격에 의한 원격 플라즈마 소스 블록의 변형이 방지되도록 한다. 또한 본 발명에 따른 원격 플라즈마 소스 블록은 균형 가이드에 의하여 조립 과정에서 실링에 과도한 힘이 가해지는 것이 방지되도록 하면서 원격 플라즈마 소스 블록의 접촉면의 편평도가 개선되도록 한다.
도 1은 본 발명에 따른 원격 플라즈마 소스 블록을 형성하는 서브 블록의 실시 예를 도시한 것이다.
도 2a 및 도 2b는 본 발명에 따른 원격 플라즈마 소스 블록의 실시 예를 도시한 것이다.
도 3은 본 발명에 따른 원격 플라즈마 소스 블록의 다른 실시 예를 도시한 것이다.
도 4는 서로 다른 서브 블록이 결합되어 원격 플라즈마 소스 블록을 형성하는 과정의 실시 예를 도시한 것이다.
아래에서 본 발명은 첨부된 도면에 제시된 실시 예를 참조하여 상세하게 설명이 되지만 실시 예는 본 발명의 명확한 이해를 위한 것으로 본 발명은 이에 제한되지 않는다. 아래의 설명에서 서로 다른 도면에서 동일한 도면 부호를 가지는 구성요소는 유사한 기능을 가지므로 발명의 이해를 위하여 필요하지 않는다면 반복하여 설명이 되지 않으며 공지의 구성요소는 간략하게 설명이 되거나 생략이 되지만 본 발명의 실시 예에서 제외되는 것으로 이해되지 않아야 한다.
도 1은 본 발명에 따른 원격 플라즈마 소스 블록을 형성하는 서브 블록의 실시 예를 도시한 것이다.
본 발명에 따른 원격 플라즈마 소스 블록은 서로 결합이 되는 한 쌍의 서브 블록(10)으로 이루어질 수 있고, 적어도 하나의 서브 블록(10)에 정렬 키가 형성될 수 있다. 정렬 키는 서로 결합되는 부분 또는 접촉되는 부분에 형성될 수 있고, 서로 마주보도록 형성되는 삽입 키(161)와 삽입 키(161)의 적어도 일부가 삽입 및 고정되도록 형성되는 고정 키로 이루어질 수 있다. 삽입 키(161)와 고정 키는 각각 서로 다른 서브 블록(10)에 형성될 수 있고, 서로 결합 및 고정이 되는 구조를 가질 수 있다. 삽입 키(161) 또는 고정 키는 다양한 위치에 다양한 구조로 형성될 수 있고 본 발명은 제시된 실시 예에 제한되지 않는다.
원격 플라즈마 소스 블록(remote plasma source block)은 플라즈마의 발생을 위한 블록을 의미하며, 원격 플라즈마 소스 블록에 플라즈마의 발생을 위한 예를 들어 철심 코어, 트랜스포머 또는 전극과 같은 것이 배치될 수 있다. 원격 플라즈마 소스 블록의 한쪽으로 세척을 위한 불화질소(NF3) 또는 아르곤과 같은 불활성 기체로 이루어진 세정 기체가 투입될 수 있고 그리고 다른 쪽으로 내부에서 생성된 플라즈마 상태의 F, F2, N, N2 또는 Ar과 같은 플라즈마가 배출될 수 있다. 세척을 위한 공정은 예를 들어 화학 기상 증착과 같은 증착 공정이 될 수 있지만 이에 제한되지 않고 다양한 반도체 공정의 세척 공정을 포함할 수 있다. 세정 기체의 종류 또는 플라즈마 발생 구조는 세정 공정에 따라 적절하게 결정될 수 있다. 본 발명에 따른 원격 플라즈마 소스 블록은 내부에 배치되는 플라즈마의 발생을 위한 장치에 제한되지 않거나 이와 같은 장치가 배치를 위한 블록을 의미한다. 그러므로 본 발명은 이와 같은 장치의 배치를 위한 블록 상태를 포함한다.
각각의 서브 블록(10)은 예를 들어 알루미늄 또는 알루미늄 합금과 같은 금속 소재로 만들어질 수 있고, 각각의 서브 블록(10)의 표면은 아노다이징과 같은 방법에 의하여 표면 처리가 될 수 있다. 그리고 각각의 서브 블록(10)의 한쪽 끝에 측면 유닛(111)이 형성되고, 내부에 유동 경로가 형성된 경로 형성 유닛(11); 및 경로 형성 유닛(11)의 서로 다른 위치에 연결되고, 끝 부분에 결합 입구(121, 131)가 형성된 경로 연결 유닛(12, 13)을 포함할 수 있다.
경로 형성 유닛(11)은 사각형 단면을 가지면서 선형으로 연장될 수 있고, 한쪽 끝에 측면 유닛(111)이 형성될 수 있다. 경로 형성 유닛(11)의 내부에 발생되는 플라즈마의 이동을 유도하기 위한 유동 경로가 형성될 수 있고, 유동 경로는 측면 유닛(111)에 형성된 입구 또는 출구와 연결될 수 있다. 측면 유닛(111)은 육면체의 블록 형상이 될 수 있고 경로 형성 유닛(11)의 한쪽 끝은 측면 유닛(111)의 한쪽 면에 연결될 수 있다. 그리고 경로 형성 유닛(11)의 양쪽 끝에 위쪽 방향으로 연장되는 제1 경로 연결 유닛(12) 및 제2 경로 연결 유닛(13)이 배치될 수 있다. 제1 경로 연결 유닛(12)은 경로 형성 유닛(11)의 한쪽 면으로부터 경로 형성 유닛(11)에 대하여 수직으로 연장되는 연결 블록의 끝 부분에 플레이트 형상으로 만들어질 수 있고, 제2 경로 연결 유닛(13)은 제1 경로 연결 유닛(12)과 동일한 방향으로 경로 형성 유닛(11)의 위쪽 면에 형성될 수 있다. 제1 경로 연결 유닛(12)은 제2 경로 연결 유닛(13)에 비하여 높은 위치에 형성될 수 있고 측면 유닛(111)의 한쪽 면과 연결될 수 있다.
제1 경로 연결 유닛(12)과 제2 경로 연결 유닛(13)의 위쪽 면에 삽입 입구(121)와 수용 입구(131)가 각각 형성될 수 있다. 삽입 입구(121)는 제1 경로 연결 유닛(12)의 위쪽 평면으로부터 돌출되는 형상으로 만들어질 수 있고, 수용 입구(131)는 제2 경로 연결 유닛(13)의 위쪽 평면으로 오목하게 함몰되는 형상으로 만들어질 수 있다. 원격 플라즈마 소스 블록은 한 쌍의 서브 블록(10)이 서로 결합되어 형성될 수 있고, 하나의 서브 블록(10)의 삽입 입구(121)는 다른 서브 블록의 수용 입구(131)에 결합되고, 하나의 서브 블록(10)의 수용 입구(131)는 다른 서브 블록의 삽입 입구(121)에 결합된다. 그러므로 수용 입구(131)는 삽입 입구(121)와 결합되는 형상으로 만들어질 수 있고, 삽입 입구(121)는 수용 입구(131)와 서로 결합되는 것에 의하여 제1 경로 연결 유닛(12)의 위쪽 면은 다른 서브 블록의 제2 경로 연결 유닛(13)의 위쪽 면과 접하게 된다.
하나의 서브 블록(10)에 삽입 키(161)가 형성될 수 있고, 다른 서브 블록에 고정 키가 형성될 수 있다. 구체적으로 삽입 키(161)는 제1 경로 연결 유닛(12)과 측면 유닛(111)의 경계 부위에 형성될 수 있고, 아래에서 설명되는 것처럼, 고정 키는 제2 경로 연결 유닛(13)에 형성될 수 있다. 그리고 하나의 서브 블록(10)과 다른 서브 블록이 결합되면 삽입 키(161)의 적어도 일부가 고정 키에 결합될 수 있다. 삽입 키(161)는 측면 유닛(111)의 한쪽 면으로부터 돌기 형상으로 재1 경로 연결 유닛(12)의 삽입 입구(121)의 방향으로 연장되는 형상을 가질 수 있고, 끝 부분은 곡면으로 형성될 수 있다. 그리고 고정 키는 삽입 키(161)의 끝 부분이 수용되는 형상을 가질 수 있다. 삽입 키(161) 및 고정 키의 형상, 배치 위치 또는 개수는 제한되지 않는다. 삽입 키(161)는 다양한 형상으로 다양한 위치에 형성될 수 있고, 적어도 하나가 될 수 있다. 그리고 고정 키는 삽입 키(161)와 대응되는 위치에 형성될 수 있다. 그러므로 본 발명은 제시된 실시 예에 제한되지 않는다.
제1 경로 연결 유닛(12) 또는 제2 경로 연결 유닛(13)의 위쪽 면은 접촉면이 될 수 있고, 접촉면에 균형 가이드(141, 142, 151, 152)가 형성될 수 있다. 균형 가이드(141, 142, 151, 152)는 서브 블록(10)의 결합 과정에서 체결되는 세라믹 링과 같은 실링(sealing) 유닛에 과도한 힘이 가해지는 것을 방지하면서 접촉면의 경사도를 개선시키는 기능을 가질 수 있다. 구체적으로 균형 가이드(141, 142, 151, 152)에 의하여 하나의 서브 블록(10)의 접촉면이 다른 서브 블록의 접촉면에 대하여 경사지는 것이 방지될 수 있다. 이와 같이 균형 가이드(141, 142, 151, 152)는 서브 블록(10)이 안정적으로 결합되도록 하면서 접촉면의 한쪽 부분이 기울어지는 것이 방지되도록 하는 스토퍼의 기능을 가질 수 있다. 또한 측면 방향으로 플라즈마 또는 다른 기체가 누설되는 것을 방지하는 기능을 가질 수 있다. 균형 가이드(141, 142, 151, 152)는 한 쌍의 서로 마주보는 선형 가이드 형상이 될 수 있고, 각각의 균형 가이드(141, 142, 151, 152)는 삽입 입구(121) 또는 수용 입구(131)이 양쪽 부위에 대칭으로 위치하면서 경로 형성 유닛(11)의 연장 방향을 따라 연장될 수 있다. 구체적으로 각각의 균형 가이드(141, 142, 151, 152)는 접촉면의 서로 마주보는 변에 인접하여 위쪽 방향으로 돌출되는 막대 형상이 될 수 있고, 연장되는 끝 부분은 경사면을 형성하여 접촉면의 양쪽 변과 연결될 수 있다. 그리고 균형 가이드(141, 142, 151, 152)의 위쪽 면은 평면이 될 수 있고, 필요에 따라 경질 소재로 코팅이 될 수 있다. 이와 같은 균형 가이드(141, 142, 151, 152)의 구조에 의하여 원격 플라즈마 소스 블록의 내구성이 향상될 수 있다. 균형 가이드(141, 142, 151, 152)는 양쪽 끝이 경사면이 되는 계단 형상이 될 수 있지만 이에 제한되지 않고 다양한 위치에 다양한 형상을 가질 수 있다.
균형 가이드(141, 142, 151, 152) 또는 삽입 키(161)는 다양한 형상으로 다양한 위치에 형성될 수 있다. 제시된 실시 예에서, 균형 가이드(141, 142, 151, 152)가 각각 제1 경로 연결 유닛(12) 및 제2 경로 연결 유닛(13)의 위쪽 표면 또는 접촉면에 형성되고, 삽입 키(161)는 측면 유닛(111)과 제1 경로 연결 유닛(12)의 경계 면에 형성된다. 이는 예시적인 것으로 균형 가이드(141, 142, 151, 152) 또는 삽입 키(161)의 형성 위치, 형상 또는 수는 제한되지 않으며, 각각의 균형 가이드(141, 142, 151, 152)는 서로 다른 서브 블록(10)에 형성될 수 있고, 삽입 키(161) 또는 고정 키가 배치되는 서브 블록(10)은 제한되지 않는다. 설계 구조에 따라 하나의 서브 블록(10)에 균형 가이드(141, 142, 151, 152)의 일부가 형성되고, 다른 서브 블록(10)의 다른 위치에 동일 또는 유사한 균형 가이드(141, 142, 151, 152)가 형성될 수 있다. 삽입 키(161) 또는 고정 키도 이와 유사하게 다양한 설계 선택에 따라 다양한 형상 또는 위치에 형성될 수 있다. 삽입 키(161) 또는 고정 키는 서로 다른 서브 블록(10)이 결합되는 방식에 기초하여 결정될 수 있고 본 발명은 제시된 실시 예에 제한되지 않는다.
이와 같이 균형 가이드(141, 142, 151, 152) 또는 삽입 키(161)가 형성된 서브 블록(10)이 서로 결합됨으로써 원격 플라즈마 서브 블록을 형성할 수 있다.
도 2a 및 도 2b는 본 발명에 따른 원격 플라즈마 소스 블록의 실시 예를 도시한 것이다.
도 2a는 제1 서브 블록(10)의 실시 예를 도시한 것이고, 도 2b는 제2 서브 블록(20)에 결합되는 제2 서브 블록(20)의 실시 예를 도시한 것이다.
도 2a를 참조하면, 한 쌍의 제1 균형 가이드(141, 142)는 제1 경로 연결 유닛(12)의 위쪽 평면의 양쪽 측면에 형성될 수 있다. 제1 균형 가이드(141, 142)의 위쪽 부분은 평면 형상이 되고 측면은 양쪽 끝 부분이 경사진 형상이 될 수 있다. 그리고 제1 균형 가이드(141, 142)의 높이는 삽입 입구(121)의 높이에 비하여 약간 작을 수 있다. 제 균형 가이드(141, 142)는 동일한 높이로 형성되면서 위쪽 평면은 경질 소재 또는 낮은 마찰계수로 코팅될 수 있다.
한 쌍의 제2 균형 가이드(151, 152)는 제2 경로 연결 유닛(13)의 위쪽 면에 형성될 수 있고, 수용 입구(131)를 기준으로 대칭으로 형성될 수 있다. 한 쌍의 제2 균형 가이드(151, 152)는 한 쌍의 제1 균형 가이드(141, 142)와 동일 또는 유사한 위치 및 형상으로 만들어질 수 있다.
제1 서브 블록(10)에 형성되는 삽입 키(161)는 측면 유닛(111)과 제1 경로 연결 유닛(12)의 경계면에 형성될 수 있고, 측면 유닛(111)의 안쪽 면으로부터 삽입 입구(121)의 중심 방향으로 측면 유닛(111)으로부터 연장되도록 형성될 수 있다. 삽입 키(161)는 측면 유닛(111)과 일체형으로 만들어지면서 측면 유닛(111)의 안쪽 면으로부터 돌출되는 형상이 될 수 있다. 삽입 키(161)는 삽입 입구(121)의 높이와 동일하거나 약간 클 수 있다.
경로 형성 유닛(11)의 내부에 플라즈마의 흐름을 위한 유동 경로(112)가 형성될 수 있고, 삽입 입구(121)는 유동 경로(112)와 수직 방향으로 연결되는 연결 경로(122)와 연결될 수 있다. 그리고 수용 입구(131)는 유동 경로(112)의 한쪽 끝에 형성된 유도 경로와 연결될 수 있다.
제1 서브 블록(10)은 제2 서브 블록(20)과 결합되어 원격 플라즈마 소스 블록을 형성할 수 있다. 플라즈마의 생성을 위한 장치 및 기체의 주입을 위한 노즐과 같은 장치가 배치되고, 밀폐 유닛이 배치될 수 있다. 그리고 제1 서브 블록(10)과 제2 서브 블록(20)이 결합될 수 있다.
도 2b를 참조하면, 제2 서브 블록(20)은 제1 서브 블록(10)과 동일 또는 유사한 형상으로 만들어질 수 있다.
구체적으로 제2 서브 블록(20)은 내부에 플라즈마의 흐름을 유도하기 위한 유동 경로(212)가 형성된 경로 형성 유닛(21), 삽입 입구(221)와 수용 입구(231)가 각각 형성된 제1 경로 연결 유닛(22)과 제2 경로 연결 유닛(23) 및 유동 경로(212)와 연결된 연결 경로(222)를 포함할 수 있다. 제2 서블 블록(20)에 삽입 키(161)의 일부가 수용되는 고정 키(261)가 형성될 수 있다. 고정 키(261)는 제2 경로 연결 유닛(23)의 위쪽 면의 끝 부분에 홈 형상으로 만들어질 수 있고, 삽입 키(161)의 앞쪽 끝 부분이 수용되어 고정되는 형상이 될 수 있다.
원격 플라즈마 소스 블록의 형성을 위하여 제2 서브 블록(20)의 제1 경로 연결 유닛(22)은 제1 서브 블록(10)의 재2 경로 연결 유닛(13)과 접하게 된다. 그리고 제2 서브 블록(20)의 제2 경로 연결 유닛(23)은 제1 서브 블록(10)의 제1 경로 연결 유닛(12)과 접하게 된다.
그리고 각각의 삽입 입구(121, 221)는 마주보는 수용 입구(131, 231)와 결합될 수 있다. 이와 같은 결합 과정에서 삽입 키(161)와 고정 키(261)는 제1 서브 블록(10)과 제2 서브 블록(20)이 정해진 위치에서 결합되도록 하는 정렬 키의 기능을 가질 수 있다. 그리고 균형 가이드(141, 142, 151, 152)는 결합 과정에서 적절한 압력이 가해지도록 하면서 접촉면의 평탄도가 개선될 수 있도록 한다.
삽입 키(161)와 고정 키(261)는 서브 블록(10, 20)의 다양한 위치에 형성될 수 있고 서로 결합되도록 형성될 수 있고, 균형 가이드(141, 142, 151, 152)도 또한 동일하다.
도 3은 본 발명에 따른 원격 플라즈마 소스 블록의 다른 실시 예를 도시한 것이다.
도 3을 참조하면, 제2 서브 블록(20)에 홀 키(242a, 252a)가 형성되고, 제1 서브 블록(10)에 홀 키(242a, 252a)와 결합되는 채움 키(141a, 142a, 152a)가 형성될 수 있다. 채움 키(141a, 142a, 152a)는 균형 가이드(141, 142, 151, 152)에 인접한 위치에 배치될 수 있고, 홀 키(242a, 252a)가 결합될 수 있는 위치에 형성될 수 있다. 구체적으로 채움 키(141a, 142a, 152a)는 균형 가이드(141, 142, 151, 152)의 안쪽 면에 경로 연결 유닛(12, 13)의 위쪽 표면으로부터 수직으로 돌출되는 원기둥 형상이 될 수 있고, 삽입 입구(121) 및 수용 입구(131)에 비하여 작은 높이를 가질 수 있다. 그리고 홀 키(242a, 252a)는 제2 서브 블록(20)의 제1 경로 연결 유닛(22)과 제2 경로 연결 유닛(23)의 위쪽 표면으로부터 수직으로 내부로 관통하는 홀(hole) 형상으로 만들어질 수 있다. 홀 키(242a, 252a) 및 채움 키(141a, 142a, 152a)를 균형 가이드(141, 142, 151, 152)에 인접하여 형성하는 것은 결합 안정성을 위한 것이다. 홀 키(242a, 252a)와 채움 키(141a, 142a, 152a)는 고정 수단의 기능을 가지므로 각각 서브 블록(10, 20)에서 분산되어 전체적으로 균형을 이루도록 형성될 수 있다.
다양한 위치에 홀 키(242a, 252a) 및 채움 키(141a, 142a, 152a)가 배치될 수 있고, 본 발명은 제시된 실시 예에 제한되지 않는다.
도 4는 서로 다른 서브 블록이 결합되어 원격 플라즈마 소스 블록을 형성하는 과정의 실시 예를 도시한 것이다.
도 4를 참조하면, 제1 서브 블록(10)과 제2 서브 블록(20)의 결합을 위하여 삽입 키(161)가 고정 키에 삽입되면서 정렬이 될 수 있다. 그리고 삽입 키(161)가 고정 키에 삽입되어 정렬되면, 채움 키가 홀 키에 삽입되어 제1 서브 블록(10)과 제2 서브 블록(20)이 정해진 위치에 고정될 수 있다. 그리고 적절한 고정 수단에 의하여 제1 서브 블록(10)과 제2 서브 블록(20)이 완전히 결합되어 고정될 수 있다.
제시된 실시 예에서 제1 경로 연결 유닛(12, 22) 및 제2 경로 연결 유닛(13, 23)이 서로 다른 높이를 가진다. 그러나 제2 경로 연결 유닛(12, 22)과 제2 경로 연결 유닛(12, 23)이 동일한 높이를 가지는 서브 블록에 본 발명에 따른 정렬 키가 적용될 수 있다.
다양한 구조를 가지는 원격 플라즈마 소즈 블록에 본 발명에 본 발명에 따른 정렬 키 구조가 적용될 수 있고 본 발명은 제시된 실시 예에 제한되지 않는다.
본 발명에 따른 원격 플라즈마 소스 블록은 정렬 키에 의하여 서로 결합되는 서브 블록이 정해진 위치에서 어긋남이 없이 결합되어 결합 안전성이 향상될 수 있도록 한다. 이와 같은 결합 구조에 의하여 외부 진동 또는 충격에 의한 원격 플라즈마 소스 블록의 변형이 방지되도록 한다. 또한 본 발명에 따른 원격 플라즈마 소스 블록은 균형 가이드에 의하여 조립 과정에서 실링에 과도한 힘이 가해지는 것이 방지되도록 하면서 원격 플라즈마 소스 블록의 접촉면의 편평도가 개선되도록 한다.
위에서 본 발명은 제시된 실시 예를 참조하여 상세하게 설명이 되었지만 이 분야에서 통상의 지식을 가진 자는 제시된 실시 예를 참조하여 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위에서 다양한 변형 및 수정 발명을 만들 수 있을 것이다. 본 발명은 이와 같은 변형 및 수정 발명에 의하여 제한되지 않으며 다만 아래에 첨부된 청구범위에 의하여 제한된다.
10: 제1 서브 블록 11: 경로 형성 유닛
12: 제1 경로 연결 유닛 13: 제2 경로 연결 유닛
20: 제2 서브 블록 21: 경로 형성 유닛
22: 제1 경로 연결 유닛 23: 제2 경로 연결 유닛
111: 측면 유닛 112: 유동 경로
121: 삽입 입구 122: 연결 경로
131: 수용 입구 141, 142: 제1 균형 가이드
141a, 142a, 152a: 채움 키 151, 152: 제2 균형 가이드
161: 삽입 키 211: 측면 유닛
212: 유동 경로 221: 삽입 입구
222: 연결 경로 231: 수용 입구
242a, 252a: 홀 키 261: 고정 키

Claims (7)

  1. 제1 서브 블록(10) 및 제2 서브 블록(20)이 서로 결합되어 형성되고, 제1 서브 블록(10) 또는 제2 서브 블록(20)의 결합 부분에 정렬 키가 형성된 것을 특징으로 하는 정렬 키 구조의 원격 플라즈마 소스 블록.
  2. 청구항 1에 있어서, 상기 정렬 키는 제1 서브 블록(10)에 형성된 삽입 키(161) 및 제2 서브 블록(20)에 형성된 고정 키(261)로 이루어지는 것을 특징으로 하는 정렬 키 구조의 원격 플라즈마 소스 블록.
  3. 청구항 1에 있어서, 서로 다른 서브 블록이 접촉하는 접촉면에 형성된 홀 키(242a, 252a)를 더 포함하는 원격 플라즈마 소스 블록.
  4. 청구항 1에 있어서, 상기 제1 서브 블록(10) 또는 제2 서브 블록(20)에 형성된 균형 가이드(141, 142, 151, 152)를 더 포함하는 정렬 키 구조의 원격 플라즈마 소스 블록.
  5. 제1 서브 블록(10) 및 제2 서브 블록(20)이 결합되는 원격 플라즈마 소스 블록에 있어서,
    각각의 서브 블록은 한쪽 끝에 측면 유닛(111, 211)이 형성되고, 내부에 유동 경로(112, 212)가 형성된 경로 형성 유닛(11, 21);
    상기 경로 형성 유닛(11, 21)의 서로 다른 위치에 연결되고, 끝 부분에 결합 입구(121, 131, 221, 231)가 형성된 경로 연결 경로(122, 222)를 포함하고,
    상기 제1 서브 블록(10)과 제2 서브 블록(20)의 서로 마주보는 위치에 삽입 키(161) 및 고정 키(261)로 이루어진 정렬 키를 포함하는 정렬 키 구조의 원격 플라즈마 소스 블록.
  6. 청구항 1에 있어서, 상기 제1 서브 블록(10) 및 제2 서브 블록(20)의 경로 형성 유닛(11, 21)에 제1 경로 연결 유닛(12, 22) 및 제2 경로 연결 유닛(13, 23)이 배치되고, 상기 삽입 키(161)는 제1 서브 블록(10)의 측면 유닛(111, 211)과 제1 경로 연결 유닛(12)의 경계 부분에 형성되고, 상기 고정 키(261)는 제2 서브 블록(20)의 제2 경로 연결 유닛(23)에 형성되는 것을 특징으로 하는 정렬 키 구조의 원격 플라즈마 소스 블록.
  7. 청구항 1에 있어서, 상기 제1 서브 블록(10) 또는 제2 서브 블록(20)의 서로 마주보는 접촉면에 균형 가이드(141, 142, 151, 152)가 형성되는 것을 특징으로 하는 원격 플라즈마 소스 블록.
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