KR20160121893A - 유연기구 메커니즘을 이용한 중공형 2축 직선운동 스테이지 - Google Patents
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Abstract
유연기구 메커니즘을 이용한 중공형 2축 직선운동 스테이지가 개시된다. 본 발명에 따른 중공형 2축 직선운동 스테이지은 시편이 위치되는 최종단, 최종단의 X축 및 Y축 중 적어도 하나의 방향으로 상기 최종단을 이송시키는 구동부, 최종단의 이송방향을 가이드하는 가이드부 및 내부에 구동부 및 가이드부를 포함하고, 최종단과 결합되어 스테이지의 본체를 형성하는 베이스를 포함한다.
Description
본 발명은 운동 스테이지에 관한 것으로, 보다 상세하게는 초정밀 생산장비 또는 정밀 측정장치에 사용되는 다양한 형태의 시편 이송장치 중 유연기구 메커니즘을 이용한 중공형 2축 직선운동 스테이지에 관한 것이다.
최근 반도체 제조공정이나, 원자현미경(AFM/STM)과 같은 정밀 측정 시스템 및 대면적 나노리소그래피(nano lithography) 등의 분야에 있어서, 수 백 ㎛이상의 구동범위를 가지면서 ㎚수준의 위치결정 정밀도 및 ㎚미만의 직선운동(X, Y motion)의 구현이 가능한 대구동 나노위치결정기구에 대한 수요가 증가하고 있다.
특히, AFM(Atomic Force Microscope)는 시료나 AFM 팁을 정밀하게 이동시켜 위치시키는 것이 중요하고, 축의 움직임에 대하여 간섭없이 독립적이어야 하는 조건이 요구된다.
이러한 조건을 만족하기 위해, 종래에는 피에조 현상(Piezoelectricity)과 유연 힌지부(flexure mechanism) 메커니즘을 이용하여 초정밀 위치결정기구를 제작하는 연구가 많이 이루어져 왔다.
즉, 피에조 현상은 ㎚미만의 분해능을 가지고 있고, 열발산이 없으며, 빠른 응답속도를 가지고 큰 힘을 낼 수 있다는 장점이 있다. 또한 유연 힌지부 메커니즘은 마모에 강하고, 연속적인 가이드 모션(guide motion)을 가지고, 움직임을 증폭하기 위한 압상 레버(force lever) 등의 다양한 기구를 적용하기 용이한 장점이 있다.
따라서, 종래 AFM이나 SEM(Scanning Electron Microscope) 등과 같은 정밀측정장치는 시편의 이송을 위해 피에조 현상과 유연기구 메커니즘을 이용한 스테이지가 사용되고 있다.
일반적으로, 압력을 가하면 압력에 비례하는 양음의 전하가 나타나는 압전현상을 역으로 이용한 압전소자를 사용하여 구현된 운동 스테이지가 사용되고 있다. 여기서, 종래의 압전소자를 이용한 운동 스테이지의 원리는 소자의 양단에 전압을 가하면 소자가 변형하여 신장이 일어나고, 신장된 방향에 수직한 방향에서는 수축이 일어나게 되므로, 이러한 변위를 이용하여 스테이지를 구동한다.
압전소자는 수 ㎛ 내지 수십 ㎛의 운동범위를 가지므로, 이보다 큰 범위에서 구동하기 위해서는 운동량의 증폭이 필요하다는 문제도 있으며, 이를 위해 종래에는 일반적으로 레버구조의 유연기구가 사용되었다. 즉, 종래 레버구조의 유연기구는 유연 힌지부구조에 레버가 부착되는 구성을 가지고, 레버에서 유연 힌지부구조의 회전중심으로부터 가까운 지점에 변위를 주면 상대적으로 먼 지점에 증폭된 원주방향의 변위가 생성되는 것을 이용한다.
그러나 레버구조의 유연기구는 변위가 증폭해줄 수 있으나, 생성되는 운동이 원주방향이므로 순수 직선운동이 불가능한 단점이 있다.
따라서, 상기 문제를 해결하기 위해 종래에는 브리지타입(bridge type)의 증폭 메커니즘을 이용하였다. 브리지타입의 증폭 메커니즘은 PZT가 양쪽으로 신장되는 모션이 증폭되어 위, 아래로 움직이는 모션으로 변환된다.
또한 AFM 또는 SEM 등과 같은 초정밀 생산장비 및 정밀 측정장치는 정밀도나 공정속도 및 측정속도를 증가시키기 위해 스테이지가 소형 사이즈이고, 큰 구동범위 및 빠른 속도를 가지는 것이 바람직하나, 아직까지 이러한 요구를 모두 만족시키는 장치 또는 방법은 제공되지 못하고 있는 실정이다.
한국등록특허공보 제10-0947857호는 이동프레임의 각 변에 두 개 이상씩 선형탄성체가 연결되고, 이 선형탄성체에 자체구동이 가능한 이중복합 변위구동부와 이중복합 선형스프링부를 각각 대응되도록 설치하여 이동프레임을 변위시키는 이중복합 변위구동부에 의해 종래 별도의 구동메카니즘이 생략될 수 있어 설치지역에 제한이 없고, 설치공간을 가소시킬 수 있어 설치비용이 감소되며, 자체구동이 가능하여 구성이 간단함에 따라 휴대 및 이동이 용이하고, 이중복합변위구동부의 이동방향 변위확대에 의해 기생오차를 최소화시켜 이동프레임을 직선운동 시킴에 따라 초정밀 부품을 초정밀하게 이동시킬 수 있어 작업의 효율성을 향상시킬 수 있는 초정밀 위치결정용 선형 2축 스테이지에 관한 것이다.
한국등록특허공보 제10-0507840호는 구조의 복잡성을 피하기 위해 가이드 메커니즘을 단일한 판스프링 가이드로 구현하고, 판스프링을 대칭으로 배치하여 열적 특성과 안정적 운동을 보장하고, 각 축방향 스테이지를 동일 평면상에 형성하여 피치와 롤 모션의 발생을 방지하도록 하는 판스프링 가이드를 이용한 이중서보 XY 스테이지에 관한 것이다.
본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 X축 및 Y축 중 적어도 하나의 방향에 대한 직선운동을 수행하여 시편의 위치를 정확하고, 정밀하게 이송하는 유연기구 메커니즘을 이용한 중공형 2축 직선운동 스테이지를 제공하는데 목적이 있다.
본 발명이 이루고자 하는 다른 기술적 과제는 중공형 타입에 소형 사이즈를 가지고, 무게중심이 낮으며, 큰 구동범위를 가지는 유연기구 메커니즘을 이용한 중공형 2축 직선운동 스테이지를 제공하는데 목적이 있다.
상기 목적을 달성하기 위해,
본 발명에 따른 유연기구 메커니즘을 이용한 중공형 2축 직선운동 스테이지는, 시편이 위치되는 최종단, 상기 최종단의 X축 및 Y축 중 적어도 하나의 방향으로 상기 최종단을 이송시키는 구동부, 상기 최종단의 이송방향을 가이드하는 가이드부 및 내부에 상기 구동부 및 상기 가이드부를 포함하고, 상기 최종단과 결합되어 스테이지의 본체를 형성하는 베이스를 포함한다.
상기 구동부 및 상기 가이드부를 상기 최종단과 연결하는 제1 힌지부를 더 포함하는 것을 특징으로 한다.
상기 구동부는, 상기 베이스의 일측면에 배치되는 제1 구동부 및 상기 최종단의 중심을 기준으로 xy평면상에서 상기 제1 구동부와 직교하는 축상에 배치되는 제2 구동부를 포함하는 것을 특징으로 한다.
상기 구동부는 압전소자가 구비된 증폭 메커니즘(amplification mechanisms)를 포함하는 것을 특징으로 한다.
상기 증폭 메커니즘은, 브리지 구조(bridge structure)로 형성되고, 상기 형성된 브리지 구조의 내부에 PZT 액츄에이터(piezoelectric actuator)가 위치하여 형성되고, 나머지가 제2 힌지부로 연결되어 형성되는 것을 특징으로 한다.
상기 가이드부는, 상기 제1 구동부와 Y축 대칭으로 배치되는 제1 가이드부 및 상기 제2 구동부와 X축 대칭으로 배치되는 제2 가이드부를 포함하는 것을 특징으로 한다.
상기 가이드부는, 강체로 형성되고, 상기 형성된 강체의 구조가 제1 힌지부 및 제3 힌지부와 연결되어 형성되는 것을 특징으로 한다.
상기 제1 구동부가 상기 최종단을 Y축 방향으로 이송시킬 경우, 상기 제1 가이드부는 Y축 방향을 지지하여 이송되는 방향을 가이드하고, 상기 제2 구동부가 상기 최종단을 X축 방향으로 이송을 시킬 경우, 상기 제2 가이드부는 X축 방향을 지지하여 이송되는 방향을 가이드하는 것을 특징으로 한다.
상기 베이스는, 센서가 구비되는 센서고정부를 포함하는 것을 특징으로 한다.
본 발명에 따른 유연기구 메커니즘을 이용한 중공형 2축 직선운동 스테이지에 의하면, X축 및 Y축 중 적어도 하나의 방향에 대한 직선운동을 수행하여 시편의 위치를 정확하고, 정밀하게 이송할 수 있다.
또한 중공형 타입에 소형 사이즈를 가지고, 무게중심이 낮으며, 큰 구동범위를 가짐으로써, 초정밀 생산장비와 정밀 측정장치의 정밀도, 공정속도 및 측정속도를 증가시켜 생산력을 높일 수 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 중공형 2축 직선운동 스테이지를 설명하기 위한 사시도이다.
도 2는 도 1의 중공형 2축 직선운동 스테이지 중 케이스가 제거된 모습을 설명하기 위한 사시도이다.
도 3은 도 2의 중공형 2축 직선운동 스테이지 중 센서고정부가 제거된 모습을 설명하기 위한 사시도이다.
도 4는 도 2의 중공형 2축 직선운동 스테이지 중 센서고정부가 제거된 모습을 설명하기 위한 평면도이다.
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 구동부, 가이드부 및 최종단을 설명하기 위한 평면도이다.
도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 중공형 2축 직선운동 스테이지의 직선운동을 설명하기 위한 예시도이다.
도 7은 본 발명의 일 실시예에 따른 제1 구동부 중 일부를 확대하여 보다 상세하게 설명하기 위한 예시도이다.
도 2는 도 1의 중공형 2축 직선운동 스테이지 중 케이스가 제거된 모습을 설명하기 위한 사시도이다.
도 3은 도 2의 중공형 2축 직선운동 스테이지 중 센서고정부가 제거된 모습을 설명하기 위한 사시도이다.
도 4는 도 2의 중공형 2축 직선운동 스테이지 중 센서고정부가 제거된 모습을 설명하기 위한 평면도이다.
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 구동부, 가이드부 및 최종단을 설명하기 위한 평면도이다.
도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 중공형 2축 직선운동 스테이지의 직선운동을 설명하기 위한 예시도이다.
도 7은 본 발명의 일 실시예에 따른 제1 구동부 중 일부를 확대하여 보다 상세하게 설명하기 위한 예시도이다.
이하 본 발명의 실시예를 첨부된 도면들을 참조하여 상세히 설명한다. 우선 각 도면의 구성요소들에 참조부호를 부가함에 있어서, 동일한 구성요소들에 대해서는 비록 다른 도면상에 표시되더라도 가능한 한 동일한 부호를 가지도록 하고 있음에 유의한다. 또한 본 발명을 설명함에 있어, 관련된 공지 구성 또는 기능에 대한 구체적인 설명이 당업자에게 자명하거나 본 발명의 요지를 흐릴 수 있다고 판단되는 경우에는 그 상세한 설명은 생략한다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 중공형 2축 직선운동 스테이지를 설명하기 위한 사시도이고, 도 2는 도 1의 중공형 2축 직선운동 스테이지 중 케이스가 제거된 모습을 설명하기 위한 사시도이며, 도 3은 도 2의 중공형 2축 직선운동 스테이지 중 센서고정부가 제거된 모습을 설명하기 위한 사시도이고, 도 4는 도 2의 중공형 2축 직선운동 스테이지 중 센서고정부가 제거된 모습을 설명하기 위한 평면도이다.
도 1 내지 도 4를 참조하면, 중공형 2축 직선운동 스테이지(1)는 X축 및 Y축 중 적어도 하나의 방향에 대한 직선운동을 수행하여 시편의 위치를 정확하고, 정밀하게 이송한다. 중공형 2축 직선운동 스테이지(1)는 중공형 타입에 소형 사이즈를 가지고, 무게중심이 낮으며, 큰 구동범위를 가진다. 따라서, 중공형 2축 직선운동 스테이지(1)는 초정밀 생산장비와 정밀 측정장치의 정밀도, 공정속도 및 측정속도를 증가시켜 생산력을 높일 수 있다. 중공형 2축 직선운동 스테이지(1)는 최종단(110), 베이스(120), 케이스(130), 구동부, 가이드부 및 센서고정부를 포함한다.
최종단(110)은 상부에 시편을 위치시키는 장착부를 구비하고, 사각모양의 형상으로 형성된다. 최종단 (110)은 시편을 움직이지 않고, 고정시킬 수 있으며, 스테이지의 중앙에 배치된다. 최종단(110)은 구동부와 결합되어 구동부의 직선운동에 따라 이송된다. 따라서, 최종단(110)의 상부에 구비된 시편도 같이 이송된다.
베이스(120)는 내부에는 구동부 및 가이드부를 포함하고, 최종단(110)과 결합되어 스테이지의 본체를 형성한다. 베이스(120)는 센서(미도시)가 구비되는 센서고정부를 포함한다.
센서고정부는 제1 센서고정부(250) 및 제2 센서고정부(260)를 포함한다. 여기서, 제1 센서고정부(250)에 구비된 센서는 Y축에 대한 변위를 측정하고, 제2 센서고정부(260)에 구비된 센서는 X축에 대한 변위를 측정한다.
상기 센서는 커패시턴스 센서(capacitance sensor)일 수 있다. 커패시턴스 센서는 2개의 센서 위치에 따른 최종단(110)의 변위를 측정한다. 즉, 커패시턴스 센서는 최종단(110) 중심부분의 X축과 Y축의 변위를 각각 측정하여 검출할 수 있다.
케이스(130)는 베이스(120)의 상부와 결합되어 스테이지의 본체를 보호한다. 즉, 케이스(130)는 베이스(120)의 내부에 포함된 구동부 및 가이드부도 보호할 수 있다.
구동부는 최종단(110)을 X축 및 Y축 중 적어도 하나의 방향으로 이송시킨다. 구동부는 최종단(110)과 결합되어 최종단(110)에 직선운동에 필요한 힘을 전달한다. 특히, 구동부는 티(T)자 형상으로 최종단(110)과 결합되게 형성된다. 구동부는 제1 구동부(210) 및 제2 구동부(220)를 포함한다.
제1 구동부(210)는 베이스(120)의 일측면에 배치되고, 제2 구동부(220)는 최종단(110)의 중심을 기준으로 xy평면상에서 제1 구동부(210)와 직교하는 축상에 배치된다.
여기서, 제1 구동부(210) 및 제2 구동부(220)의 일측은 베이스(120)에 고정된다. 따라서, 제1 구동부(210) 및 제2 구동부(220)는 일측이 고정된 상태에서 압전소자(미도시)의 변형에 따라 미는 힘을 최종단(110)에 전달한다. 즉, 제1 구동부(210)는 Y축 직선운동에 대한 미는 힘을 최종단(110)에 전달하고, 제2 구동부(220)는 X축 직선운동에 대한 미는 힘을 최종단(110)에 전달한다.
가이드부는 최종단(110)이 이송되는 방향을 가이드한다. 즉, 가이드부는 최종단(110)이 올바른 방향으로 이송되도록 이송경로를 지지하여 회전운동을 방지할 수 있다. 특히, 가이드부는 역 기역(┏)자 형상으로 최종단(110)과 결합되게 형성된다. 가이드부는 제1 가이드부(230) 및 제2 가이드부(240)를 포함한다.
제1 가이드부(230)는 제1 구동부(210)와 Y축 대칭으로 배치되고, 제2 가이드부(240)는 제2 구동부(220)와 X축 대칭으로 배치된다.
여기서, 제1 가이드부(230)는 제1 구동부(210)로부터 전달된 힘이 직선운동을 할 수 있도록 이송경로를 가이드하고, 제2 가이드부(240)는 제2 구동부(220)로부터 전달된 힘이 직선운동을 할 수 있도록 이송경로를 가이드한다.
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 구동부, 가이드부 및 최종단을 설명하기 위한 평면도이다.
도 5를 참조하면, 중공형 2축 직선운동 스테이지(1)는 구동부와 가이드부를 이용하여 최종단(110)을 원하는 위치로 이송시킨다. 중공형 2축 직선운동 스테이지(1)는 구동부 및 가이드부를 최종단(110)과 연결하는 제1 힌지부(510)를 더 포함한다. 상기 제1 힌지부(510)는 A, B, C, D 구역에 포함되는 복수의 힌지이다.
구동부는 증폭 메커니즘(amplification mechanisms)을 포함하고, 상기 증폭 메커니즘은 최종단(110)과 결합되어 구동을 한다. 여기서, 증폭 메커니즘은 압전소자를 구비한다. 상기 압전소자는 PZT 액츄에이터(piezoelectric actuator)일 수 있다.
증폭메커니즘은 브리지 구조(bridge structure)로 형성된다. 증폭메커니즘은 형성된 브리지 구조의 내부에 압전소자가 위치하여 형성되고, 나머지가 제2 힌지부(520)로 연결되어 형성된다.
가이드부는 강체(rigid body)로 형성되고, 형성된 강체의 구조가 제1 힌지부(510) 및 제3 힌지부(530)와 연결되어 형성된다.
제1 내지 제3 힌지부(510, 520, 530)는 플렉시블(flexible)한 재질의 물질로 구성되며, 이를 통해 외부 힘에 의해 휘어짐이 유연하게 이루어질 수 있다. 여기서, 제1 내지 제3 힌지부는 도면상에서 하나의 힌지를 가르치는 것에 한정하지 않고, 각 부분에 해당되는 복수의 힌지를 가르친다.
특히, 제1 내지 제3 힌지부(510, 520, 530)는 다른 물체와 접착 등에 의해 고정되는 것이 아니라 가공으로 힌지 부분만을 남기고 잘라내는 것으로 최종단(110), 구동부 및 가이드부가 하나의 형상으로 형성된다. 여기서, 제1 내지 제3 힌지부(510, 520, 530)는 리프 스프링(leaf spring), 원형 유연 힌지(circular notched hinge) 등의 다양한 형상으로 형성될 수 있다.
도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 중공형 2축 직선운동 스테이지의 직선운동을 설명하기 위한 예시도이다. 도 6(a)는 중공형 2축 직선운동 스테이지의 Y축 이송을 설명하는 예시도이고, 도 6(b)는 중공형 2축 직선운동 스테이지의 X축 이송을 설명하는 예시도이다.
도 6을 참조하면, 중공형 2축 직선운동 스테이지(1)는 제1 구동부(210) 및 제1 가이드부(230)를 이용하여 최종단(110)을 Y축 방향으로 이송하고, 제2 구동부(220) 및 제2 가이드부(240)를 이용하여 최종단(110)을 X축 방향으로 이송한다.
제1 구동부(210)의 압전소자에 전압이 인가되는 경우, 신장력이 생성되어 제1 구동부(210)의 제2 힌지부(520)가 신장력에 의해 생성된 미는 힘을 A 구역의 제1 힌지부(510)로 전달을 한다. A 구역의 제1 힌지부(510)는 전달받는 힘을 최종단(110)으로 다시 전달을 하고, 최종단(110)은 이로 인해 Y축으로 이송된다. 이 때, A, C 구역의 제1 힌지부(510)는 이송방향을 지지하고, B, D 구역의 제1 힌지부(510)는 이송방향을 따라 변형된다. 또한 제1 가이드부(230)의 제3 힌지부(530)는 일측면이 베이스(120)에 고정되어서 Y축 방향으로 변형될 수 있다.
제2 구동부(220)의 압전소자에 전압이 인가되는 경우, 신장력이 생성되어 제2 구동부(220)의 제2 힌지부(520)가 신장력에 의해 생성된 미는 힘을 B 구역의 제1 힌지부(510)로 전달을 한다. B 구역의 제1 힌지부(510)는 전달받는 힘을 최종단(110)으로 다시 전달을 하고, 최종단(110)은 이로 인해 X축으로 이송된다. 이 때, B, D 구역의 제1 힌지부(510)는 이송방향을 지지하고, A, C 구역의 제1 힌지부(510)는 이송방향을 따라 변형된다. 또한 제2 가이드부(240)의 제3 힌지부(530)는 일측면이 베이스(120)에 고정되어서 X축 방향으로 변형될 수 있다.
여기서, 압전소자에 인가되던 전압이 줄어들 경우, 압전소자의 신장력이 줄어들어 최종단(110)에 힘이 전달되지 않는다. 즉, 최종단(110)은 처음 상태의 위치로 이송된다.
도 7은 본 발명의 일실시예에 따른 제1 구동부 중 일부를 확대하여 보다 상세하게 설명하기 위한 예시도이다.
도 7을 참조하면, 제1 구동부(210)는 압력소자를 구비하는 증폭 메커니즘을 포함한다. 제1 구동부(210)는 압력소자(610)을 탈부착할 수 있으며, 압력소자의 신장력(630)을 이용하여 증폭 메커니즘을 구동한다.
증폭 메커니즘은 일측면이 베이스(120)에 고정이 되어 있으며, 각 증폭 구조물을 연결하는 제2 힌지부(520)가 포함하는 복수의 힌지의 위치를 다르게 배치하여 압력소자(610)에 전압이 인가될 경우, 신장력에 의해 발생되는 힘의 방향을 조절할 수 있다.
즉, 증폭 메커니즘은 압력소자(610)에 전압이 인가되면 신장력(630)이 생성되고 이로 인해 증폭 구조물들이 미는 힘(620)을 생성한다. 여기서, 상기 미는 힘(620)을 제어하기 위해 힌지의 중심을 도시된 점선과 같이 위치에 배치할 수 있다.
이상에서 본 발명의 바람직한 실시예에 대해 도시하고 설명하였으나, 본 발명은 상술한 특정의 바람직한 실시예에 한정되지 아니하며, 청구범위에서 청구하는 본 발명의 요지를 벗어남이 없이 당해 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 누구든지 다양한 변형 실시가 가능한 것은 물론이고, 그와 같은 변경은 청구범위 기재의 범위 내에 있게 된다.
1: 중공형 2축 직선운동 스테이지
110: 최종단
120: 베이스
130: 케이스
210: 제1 구동부
220: 제2 구동부
230: 제1 가이드부
240: 제2 가이드부
250: 제1 센서고정부
260: 제2 센서고정부
510: 제1 힌지부
520: 제2 힌지부
530: 제3 힌지부
610: 압전소자
620: 미는 힘
630: 신장력
110: 최종단
120: 베이스
130: 케이스
210: 제1 구동부
220: 제2 구동부
230: 제1 가이드부
240: 제2 가이드부
250: 제1 센서고정부
260: 제2 센서고정부
510: 제1 힌지부
520: 제2 힌지부
530: 제3 힌지부
610: 압전소자
620: 미는 힘
630: 신장력
Claims (10)
- 시편이 위치되는 최종단;
상기 최종단의 X축 및 Y축 중 적어도 하나의 방향으로 상기 최종단을 이송시키는 구동부;
상기 최종단의 이송방향을 가이드하는 가이드부; 및
내부에 상기 구동부 및 상기 가이드부를 포함하고, 상기 최종단과 결합되어 스테이지의 본체를 형성하는 베이스를 포함하는 유연기구 메커니즘을 이용한 중공형 2축 직선운동 스테이지.
- 제 1항에 있어서,
상기 구동부 및 상기 가이드부를 상기 최종단과 연결하는 제1 힌지부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 유연기구 메커니즘을 이용한 중공형 2축 직선운동 스테이지.
- 제 1항에 있어서,
상기 구동부는,
상기 베이스의 일측면에 배치되는 제1 구동부; 및
상기 최종단의 중심을 기준으로 xy평면상에서 상기 제1 구동부와 직교하는 축상에 배치되는 제2 구동부를 포함하는 것을 특징으로 하는 유연기구 메커니즘을 이용한 중공형 2축 직선운동 스테이지.
- 제 3항에 있어서,
상기 구동부는 압전소자가 구비된 증폭 메커니즘(amplification mechanisms)를 포함하는 것을 특징으로 하는 유연기구 메커니즘을 이용한 중공형 2축 직선운동 스테이지.
- 제 4항에 있어서,
상기 증폭 메커니즘은,
브리지 구조(bridge structure)로 형성되고, 상기 형성된 브리지 구조의 내부에 PZT 액츄에이터(piezoelectric actuator)위치되어 형성되고, 나머지가 제2 힌지부로 연결되어 형성되는 것을 특징으로 하는 것을 특징으로 하는 유연기구 메커니즘을 이용한 중공형 2축 직선운동 스테이지.
- 제 3항에 있어서,
상기 가이드부는,
상기 제1 구동부와 Y축 대칭으로 배치되는 제1 가이드부; 및
상기 제2 구동부와 X축 대칭으로 배치되는 제2 가이드부를 포함하는 것을 특징으로 하는 유연기구 메커니즘을 이용한 중공형 2축 직선운동 스테이지.
- 제 6항에 있어서,
상기 가이드부는,
강체(rigid body)로 형성되고, 상기 형성된 강체의 구조가 제1 힌지부 및 제3 힌지부와 연결되어 형성되는 것을 특징으로 하는 유연기구 메커니즘을 이용한 중공형 2축 직선운동 스테이지.
- 제 6항에 있어서,
상기 제1 구동부가 상기 최종단을 Y축 방향으로 이송시킬 경우, 상기 제1 가이드부는 Y축 방향을 지지하여 이송되는 방향을 가이드하고,
상기 제2 구동부가 상기 최종단을 X축 방향으로 이송을 시킬 경우, 상기 제2 가이드부는 X축 방향을 지지하여 이송되는 방향을 가이드하는 것을 특징으로 하는 유연기구 메커니즘을 이용한 중공형 2축 직선운동 스테이지.
- 제 1항에 있어서,
상기 베이스는,
센서가 구비되는 센서고정부를 포함하는 것을 특징으로 하는 유연기구 메커니즘을 이용한 중공형 2축 직선운동 스테이지.
- 제 1항 내지 제 9항 중 어느 한 항에 따른 유연기구 메커니즘을 이용한 중공형 2축 직선운동 스테이지를 이용하여 구성되는 측정장치.
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN108231968A (zh) * | 2017-12-11 | 2018-06-29 | 厦门市三安光电科技有限公司 | 微发光二极管及其转移方法 |
CN109217718A (zh) * | 2018-10-31 | 2019-01-15 | 大连交通大学 | 压电纤维驱动微旋转移动平台 |
CN110689916A (zh) * | 2019-10-18 | 2020-01-14 | 江南大学 | 基于柔性杆的高精度柔性微定位平台 |
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