KR20160117286A - Molding die and low-adhesion material - Google Patents

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KR20160117286A
KR20160117286A KR1020160037507A KR20160037507A KR20160117286A KR 20160117286 A KR20160117286 A KR 20160117286A KR 1020160037507 A KR1020160037507 A KR 1020160037507A KR 20160037507 A KR20160037507 A KR 20160037507A KR 20160117286 A KR20160117286 A KR 20160117286A
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molding
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쿠니히코 후지와라
다이스케 히가시
토모코 키시모토
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토와 가부시기가이샤
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Abstract

Provided is a molding die used when molding molded articles, the molding die comprising a substrate (10) which is made of a metallic material, and a ceramic layer (20) which is provided on the substrate (10), includes yttrium oxide, nitrogen and cations of an element of Group 4A, and comes into contact with a molded article. Preferably, the molding die can further comprise a middle layer (30) interposed between the substrate (10) and the ceramic layer (20). The middle layer (30) has a greater hardness than the substrate (10) and has a portion which has a greater toughness than the ceramic layer (20). The molding die, after the molding surface thereof is cleaned, continues to be used for molding molded articles. The molding die of the present invention has excellent release, low adhesion, and anti-fouling properties.

Description

성형틀 및 저밀착성 재료{MOLDING DIE AND LOW-ADHESION MATERIAL}BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention [0001] The present invention relates to a molding die and a low-

본 발명은, 성형품을 성형할 때에 사용되는 성형틀(成形型) 및 저밀착성 재료에 관한 것이다.TECHNICAL FIELD [0001] The present invention relates to a molding die (molding die) used for molding a molded article and a low-adhesion material.

특허 문헌 1(일본 특개2011-79261호 공보)에는, 세라믹스로 이루어지는 기재(基材)(5)의 표면(8)에 이형층(4)이 형성된 성형틀이 개시되어 있다.Patent Literature 1 (Japanese Patent Laid-Open Publication No. 2011-79261) discloses a forming die in which a release layer 4 is formed on a surface 8 of a base material 5 made of ceramics.

일본 특개2011-79261호 공보Japanese Patent Laid-Open Publication No. 11-79261

특허 문헌 1에 기재된 이형층(4)은, 이형성(離型性), 저밀착성 및 방오성(防汚性)에 우수하다고 되어 있다. 다른 한편, 특허 문헌 1에서는, 세라믹스로 이루어지는 기재를 사용하고 있는데, 이와 같이 한 경우, 기재의 기계 가공이 어렵다, 기재의 취급이 어렵다(갈라짐이나 이빠짐이 생기기 쉽다)는 문제가 있다. 본 출원 서류에서는, 「방오성」이라는 문구는, 오염의 부착을 방지한 성질과 부착한 오염이 용이하게 떨어지는(제거되는) 성질의 쌍방을 의미한다. 어느 물질에 대해 저밀착성을 나타내는 재료는 그 물질에 대한 방오성을 갖는다고 생각된다. 이에 의거하여, 본 출원 서류에서는, 「방오성」이라는 문구와 「저밀착성」이라는 문구의 쌍방을 적절히 사용한다.The release layer 4 described in Patent Document 1 is said to be excellent in releasing property, low adhesion property and antifouling property. On the other hand, in Patent Document 1, a substrate made of ceramics is used. In such a case, it is difficult to machine the substrate, and there is a problem in that handling of the substrate is difficult (easy to cause cracking or aggravation). In the present application, the phrase " antifouling property " means both properties that prevent the adhesion of contamination and properties that allow the contamination to be easily dropped (removed). It is considered that a material exhibiting low adhesion to a substance has antifouling property to the substance. Based on this, in the present application, both the phrase "antifouling property" and the phrase "low adhesion property" are appropriately used.

본 발명은, 상술한 문제를 감안하여 이루어진 것이다. 본 발명의 제1의 목적은, 이형성 및 저밀착성에 우수하고, 또한, 갈라짐이나 이빠짐이 생기기 어려운 성형틀을 제공하는 것에 있다. 본 발명의 제2의 목적은, 저밀착성에 우수하고, 또한, 갈라짐이나 이빠짐이 생기기 어려운 저밀착성 재료를 제공하는 것에 있다.The present invention has been made in view of the above-described problems. It is a first object of the present invention to provide a molding frame that is excellent in releasability and low adhesion property and is less prone to cracking and fatigue. A second object of the present invention is to provide a low-adhesion material which is excellent in low-adhesion property and is less prone to cracking or bending.

본 발명에 관한 성형틀은, 성형품을 성형할 때에 사용되는 성형틀로서, 금속제의 기재와, 기재상에 마련되고, 산화이트륨, 질소 및 4A족 원소의 카티온을 포함하고, 성형품과 접촉하는 세라믹스층을 구비하고, 형면(型面)이 클리닝된 후에 이어서 성형품을 성형하기 위해 사용되는 것을 특징으로 한다.A molding die according to the present invention is a molding die used for molding a molded product. The molding die is provided with a base made of metal, ceramics which is provided on the base material and contains cations of yttrium oxide, nitrogen and 4A group elements, And is used for molding a molded article after the mold surface is cleaned.

본 발명에 관한 성형틀은, 상술한 성형틀에서, 기재와 세라믹층과의 사이에 개재하는 접착층을 더욱 구비하는 것을 특징으로 한다.The molding die according to the present invention is characterized by further comprising an adhesive layer interposed between the base material and the ceramic layer in the above-described molding die.

본 발명에 관한 성형틀은, 성형품을 성형할 때에 사용되는 성형틀로서, 금속제의 기재와, 산화이트륨, 질소 및 4A족 원소의 카티온을 포함하고, 성형품과 접촉하는 세라믹스층과, 기재와 세라믹스층과의 사이에 개재하는 중간층을 구비하고, 형면이 클리닝된 후에 이어서 성형품을 성형하기 위해 사용되는 것을 특징으로 한다.A molding die according to the present invention is a molding die used for molding a molded product. The molding die includes a metal base, a ceramics layer containing a yttrium oxide, a nitrogen and a cation of the 4A group element and in contact with the molded product, And an intermediate layer interposed between the mold and the mold, and is used for molding the molded article after the mold surface is cleaned.

본 발명에 관한 성형틀은, 상술한 성형틀에서, 기재와 중간층과의 사이에 개재하는 접착층을 더욱 구비하는 것을 특징으로 한다.The molding die according to the present invention is characterized by further comprising an adhesive layer interposed between the substrate and the intermediate layer in the above-described molding die.

본 발명에 관한 성형틀은, 상술한 성형틀에서, 중간층과 세라믹스층과의 사이에 개재하는 접착층을 더욱 구비하는 것을 특징으로 한다.The molding die according to the present invention is characterized by further comprising an adhesive layer interposed between the intermediate layer and the ceramics layer in the above-described molding die.

본 발명에 관한 성형틀은, 상술한 성형틀에서, 중간층이 단층으로 형성되는 것을 특징으로 한다.The molding die according to the present invention is characterized in that, in the molding die described above, the intermediate layer is formed as a single layer.

본 발명에 관한 성형틀은, 상술한 성형틀에서, 중간층이 복수층으로 형성되는 것을 특징으로 한다.The molding die according to the present invention is characterized in that, in the molding die described above, the intermediate layer is formed in a plurality of layers.

본 발명에 관한 성형틀은, 상술한 성형틀에서, 중간층이 복수층으로 형성되고, 복수의 중간층에서의 적어도 2개의 중간층의 사이에 접착층을 개재시키는 것을 특징으로 한다.The molding die according to the present invention is characterized in that in the above molding die, the intermediate layer is formed in a plurality of layers, and the adhesive layer is interposed between at least two intermediate layers in the plurality of intermediate layers.

본 발명에 관한 성형틀은, 상술한 성형틀에서, 접착층이 단층으로 형성되는 것을 특징으로 한다.The molding die according to the present invention is characterized in that, in the above molding die, the adhesive layer is formed as a single layer.

본 발명에 관한 성형틀은, 상술한 성형틀에서, 접착층이 복수층으로 형성되는 것을 특징으로 한다.The molding die according to the present invention is characterized in that, in the above molding die, the adhesive layer is formed in a plurality of layers.

본 발명에 관한 성형틀은, 상술한 성형틀에서, 중간층은, 기재보다도 경도(硬度)가 높고, 또한, 세라믹스층보다도 인성(靭性)이 높은 부분을 갖는 것을 특징으로 한다.The molding die according to the present invention is characterized in that in the molding die described above, the intermediate layer has a portion having higher hardness than the base material and higher toughness than the ceramic layer.

본 발명에 관한 성형틀은, 상술한 성형틀에서, 중간층은, 적어도 세라믹스층측의 표면 부분에서 기재보다도 경도가 높은 것을 특징으로 한다.The molding die according to the present invention is characterized in that in the above-described molding die, the intermediate layer has a hardness higher than that of the base material at least on the surface portion on the ceramic layer side.

본 발명에 관한 성형틀은, 상술한 성형틀에서, 중간층은, 기재측부터 세라믹스층측을 향하여 고경도가 되도록 경도가 변화하는 완충층을 포함하는 것을 특징으로 한다.The molding die according to the present invention is characterized in that in the above molding die, the intermediate layer includes a buffer layer whose hardness changes so as to have a high hardness from the base side to the ceramics layer side.

본 발명에 관한 성형틀은, 상술한 성형틀에서, 중간층은, 중간층의 조성을 변화시킴에 의해, 경도를 연속적으로 변화시키는 완충층을 포함하는 것을 특징으로 한다.The molding die according to the present invention is characterized in that in the molding die described above, the intermediate layer includes a buffer layer continuously changing the hardness by changing the composition of the intermediate layer.

본 발명에 관한 성형틀은, 상술한 성형틀에서, 중간층은, M-A계(M은, 티탄, 크롬, 니켈, 지르코늄, 알루미늄, 또는 실리콘이고, A는, 질소, 탄소, 또는 산소이다.)의 질화물, 탄화물, 산화물로 이루어지는 부분을 포함하는 것을 특징으로 한다.The molding die according to the present invention is characterized in that in the molding die described above, the intermediate layer is made of an MA-based (M is titanium, chromium, nickel, zirconium, aluminum or silicon and A is nitrogen, A nitride, a carbide, and an oxide.

본 발명에 관한 성형틀은, 상술한 성형틀에서, 접착층은, 티탄, 크롬, 니켈, 지르코늄, 이트륨, 알루미늄, 실리콘의 금속 단체(單體)나 그들의 혼합물, 또는, 금속 단체의 산화물 또는 금속 단체를 복수 포함하는 산화물로 이루어지는 부분을 포함하는 것을 특징으로 한다.The molding die according to the present invention is characterized in that in the molding die described above, the adhesive layer is made of a single metal or a mixture thereof of titanium, chromium, nickel, zirconium, yttrium, aluminum, And a portion made of an oxide containing a plurality of oxides.

본 발명에 관한 저밀착성 재료는, 성형품을 성형할 때에 사용되는 수지에 대한 저밀착성을 갖는 저밀착성 재료로서, 금속제의 기재와, 기재상에 마련되고, 산화이트륨, 질소 및 4A족 원소의 카티온을 포함하고, 수지에 접촉하는 세라믹스층을 구비하는 것을 특징으로 한다.The low-adhesion material according to the present invention is a low-adhesion material having low adhesion to a resin used for molding a molded article. The low-adhesion material is composed of a metal base material and a layer made of a material selected from the group consisting of yttrium oxide, And a ceramic layer contacting the resin.

본 발명에 관한 저밀착성 재료는, 상술한 저밀착성 재료에 있어서, 기재와 세라믹층과의 사이에 개재하는 접착층을 더욱 구비하는 것을 특징으로 한다.The low-adhesion material according to the present invention is characterized by further comprising an adhesive layer interposed between the substrate and the ceramic layer in the above-mentioned low-adhesion material.

본 발명에 관한 저밀착성 재료는, 성형품을 성형할 때에 사용되는 수지에 대한 저밀착성을 갖는 저밀착성 재료로서, 금속제의 기재와, 산화이트륨, 질소 및 4A족 원소의 카티온을 포함하고, 수지에 접촉하는 세라믹스층과, 기재와 세라믹스층과의 사이에 개재하는 중간층을 구비하는 것을 특징으로 한다.The low-adhesion material according to the present invention is a low-adhesion material having low adhesion to a resin used for molding a molded article, which comprises a metal base and a cation of yttrium oxide, nitrogen and a group 4A element, And an intermediate layer interposed between the substrate and the ceramic layer.

본 발명에 관한 저밀착성 재료는, 상술한 저밀착성 재료에 있어서, 기재와 중간층과의 사이에 개재하는 접착층을 더욱 구비하는 것을 특징으로 한다.The low-adhesion material according to the present invention is characterized by further comprising an adhesive layer interposed between the substrate and the intermediate layer in the above-mentioned low-adhesion material.

본 발명에 관한 저밀착성 재료는, 상술한 저밀착성 재료에 있어서, 중간층과 세라믹스층과의 사이에 개재하는 접착층을 더욱 구비하는 것을 특징으로 한다.The low-adhesion material according to the present invention is characterized by further comprising an adhesive layer interposed between the intermediate layer and the ceramic layer in the above-mentioned low-adhesion material.

본 발명에 관한 저밀착성 재료는, 상술한 저밀착성 재료에 있어서, 중간층이 단층으로 형성되는 것을 특징으로 한다.The low-adhesion material according to the present invention is characterized in that, in the above-mentioned low-adhesion material, the intermediate layer is formed as a single layer.

본 발명에 관한 저밀착성 재료는, 상술한 저밀착성 재료에 있어서, 중간층이 복수층으로 형성되는 것을 특징으로 한다.The low-adhesion material according to the present invention is characterized in that, in the above-mentioned low-adhesion material, the intermediate layer is formed of a plurality of layers.

본 발명에 관한 저밀착성 재료는, 상술한 저밀착성 재료에 있어서, 중간층이 복수층으로 형성되고, 복수의 중간층에서의 적어도 2개의 중간층의 사이에 접착층을 개재시키는 것을 특징으로 한다.The low-adhesion material according to the present invention is characterized in that in the low-adhesion material described above, the intermediate layer is formed of a plurality of layers, and the adhesive layer is interposed between at least two intermediate layers in the plurality of intermediate layers.

본 발명에 관한 저밀착성 재료는, 상술한 저밀착성 재료에 있어서, 접착층이 단층으로 형성되는 것을 특징으로 한다.The low-adhesion material according to the present invention is characterized in that, in the above-mentioned low-adhesion material, the adhesive layer is formed as a single layer.

본 발명에 관한 저밀착성 재료는, 상술한 저밀착성 재료에 있어서, 접착층이 복수층으로 형성되는 것을 특징으로 한다.The low-adhesion material according to the present invention is characterized in that, in the above-mentioned low-adhesion material, the adhesive layer is formed of a plurality of layers.

본 발명에 관한 저밀착성 재료는, 상술한 저밀착성 재료에 있어서, 중간층은, 기재보다도 경도가 높고, 또한, 세라믹스층보다도 인성이 높은 부분을 갖는 것을 특징으로 한다.The low-adhesion material according to the present invention is characterized in that, in the above-mentioned low-adhesion material, the intermediate layer has a hardness higher than that of the substrate and higher toughness than the ceramic layer.

본 발명에 관한 저밀착성 재료는, 상술한 저밀착성 재료에 있어서, 중간층은, 적어도 세라믹스층측의 표면 부분에서 기재보다도 경도가 높은 것을 특징으로 한다.The low-adhesion material according to the present invention is characterized in that in the above-described low-adhesion material, the intermediate layer has a hardness higher than that of the substrate at least on the surface portion on the ceramic layer side.

본 발명에 관한 저밀착성 재료는, 상술한 저밀착성 재료에 있어서, 중간층은, 기재측부터 세라믹스층측을 향하여 고경도가 되도록 경도가 변화하는 완충층을 포함하는 것을 특징으로 한다.The low-adhesion material according to the present invention is characterized in that, in the above-mentioned low-adhesion material, the intermediate layer includes a buffer layer whose hardness changes so as to have a high hardness from the substrate side to the ceramics layer side.

본 발명에 관한 저밀착성 재료는, 상술한 저밀착성 재료에 있어서, 중간층은, 중간층의 조성을 변화시킴에 의해, 경도를 연속적으로 변화시키는 완충층을 포함하는 것을 특징으로 한다.The low-adhesion material according to the present invention is characterized in that, in the above-mentioned low-adhesion material, the intermediate layer includes a buffer layer continuously changing the hardness by changing the composition of the intermediate layer.

본 발명에 관한 저밀착성 재료는, 상술한 저밀착성 재료에 있어서, 중간층은, M-A계(M은, 티탄, 크롬, 니켈, 지르코늄, 알루미늄, 또는 실리콘이고, A는, 질소, 탄소, 또는 산소이다.)의 질화물, 탄화물, 산화물로 이루어지는 부분을 포함하는 것을 특징으로 한다.The low-adhesion material according to the present invention is a low-adhesion material as described above, wherein the intermediate layer is an MA-based material (M is titanium, chromium, nickel, zirconium, aluminum, or silicon and A is nitrogen, , A nitride, a carbide, and an oxide.

본 발명에 관한 저밀착성 재료는, 상술한 저밀착성 재료에 있어서, 접착층은, 티탄, 크롬, 니켈, 지르코늄, 이트륨, 알루미늄, 실리콘의 금속 단체나 그들의 혼합물, 또는, 금속 단체의 산화물 또는 금속 단체를 복수 포함하는 산화물로 이루어지는 부분을 포함하는 것을 특징으로 한다.The low-adhesion material according to the present invention is a low-adhesion material in which the adhesive layer is made of a metal single or a mixture of titanium, chromium, nickel, zirconium, yttrium, aluminum or silicon, And a plurality of oxide-containing portions.

또한, 본원 명세서에서 「경도」란, 주식회사시마즈제작소제의 「다이내믹 미소 경도계」(형번 : DUH - 211S)를 이용하고, 측정 조건은, 「압자(壓子) : 삼각추 압자(베르코비치 타입, 능간각(陵間角) 115°), 표면부터의 압입(押入) 깊이 : 0.1㎛, 부하 속도 : 설정치 80(0.8758mN/sec), 부하 유지 시간 : 15sec」로서 측정한 것을 의미한다.In the present specification, "hardness" means "dynamic microhardness tester" (model number: DUH-211S) manufactured by Shimadzu Corporation, and measurement conditions are "indenter: triangular indenter (Berkovich type, Quot ;, and a load holding time: 15 seconds "), a depth of penetration from the surface of 0.1 [micro] m, a loading speed of 80 (0.8758 mN / sec) and a load holding time of 15 seconds.

본 발명에 의하면, 이형성 및 저밀착성에 우수하고, 또한, 갈라짐이나 이빠짐이 생기기 어려운 성형틀과, 저밀착성에 우수하고, 또한, 갈라짐이나 이빠짐이 생기기 어려운 저밀착성 재료를, 제공할 수 있다.According to the present invention, it is possible to provide a molding frame which is excellent in releasability and low-adhesion property and which is less prone to cracking and fatigue, a low-adhesion material which is excellent in low-adhesion property and which is less prone to cracking or bending .

이 발명의 상기 및 다른 목적, 특징, 국면 및 이점은, 첨부한 도면과 관련하여 이해되는 본 발명에 관한 다음의 상세한 설명으로부터 분명해질 것이다.These and other objects, features, aspects and advantages of the present invention will become apparent from the following detailed description of the present invention when taken in conjunction with the accompanying drawings.

도 1은 본 발명의 하나의 실시의 형태에 관한 성형틀의 단면을 도시하는 도면.
도 2는 본 발명의 다른 실시의 형태에 관한 성형틀의 단면을 도시하는 도면.
도 3은 중간층의 구조의 한 예를 보다 상세히 도시하는 단면도.
도 4는 중간층의 구조의 다른 예를 보다 상세히 도시하는 단면도.
도 5는 중간층의 구조의 다른 예를 보다 상세히 도시하는 단면도.
도 6은 본 발명의 한 실시례에 관한 성형틀과 비교례에 관한 성형틀에 대해 이형성을 평가한 실험 결과를 도시하는 도면.
도 7은 본 발명의 한 실시례에 관한 성형틀을 사용하여 소정 회수의 성형 동작을 행한 후의 당해 성형틀의 저면을 도시하는 사진.
도 8은 비교례에 관한 성형틀을 사용하여 소정 회수의 성형 동작을 행한 후의 당해 성형틀의 저면을 도시하는 사진.
도 9A, 도 9B는 본 발명의 한 실시례에 관한 성형틀을 사용하여 소정 회수의 성형 동작을 행한 후의 당해 성형틀의 저면과, 비교례에 관한 성형틀을 사용하여 소정 회수의 성형 동작을 행한 후의 당해 성형틀의 저면을, 각각 저면을 도시하는 사진.
도 10A, 도 10B에서 본 발명의 한 실시례에 관한 성형틀과 비교례에 관한 성형틀을 사용하여, 도 10A는, 4종류의 수지를 사용하여 접착력을 평가한 실험 결과를, 도 10B는, 같은 수지를 사용하여 연속 접착 회수와 접착력과의 관계를 평가한 실험 결과를, 각각 도시하는 도면.
BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS Fig. 1 is a view showing a section of a mold according to one embodiment of the present invention. Fig.
2 is a view showing a section of a mold according to another embodiment of the present invention.
3 is a sectional view showing an example of the structure of the intermediate layer in more detail;
4 is a cross-sectional view showing another example of the structure of the intermediate layer in more detail;
5 is a cross-sectional view showing another example of the structure of the intermediate layer in more detail;
6 is a view showing an experimental result of evaluating the moldability of a mold according to one embodiment of the present invention and a mold of a comparative example.
7 is a photograph showing a bottom surface of the molding die after a predetermined number of molding operations are performed using the molding die according to one embodiment of the present invention.
8 is a photograph showing the bottom surface of the molding die after a predetermined number of molding operations are performed using the molding die according to the comparative example.
Figs. 9A and 9B are views showing a case where a predetermined number of molding operations are performed using the bottom surface of the molding die after a predetermined number of molding operations have been performed using the molding die according to one embodiment of the present invention, and a molding die according to a comparative example And the bottom surface of the molding die after that, respectively.
Figs. 10A and 10B show the results of an experiment in which four types of resins were used to evaluate the adhesive force, and Fig. 10B shows the results of experiments, And the results of evaluating the relationship between the number of continuous adhesion and the adhesive force using the same resin.

이하에, 본 발명의 실시의 형태에 관해 설명한다. 또한, 동일 또는 상당하는 부분에 동일한 참조 부호를 붙이고, 그 설명을 반복하지 않는 경우가 있다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described. In addition, the same or equivalent portions are denoted by the same reference numerals, and the description thereof may not be repeated.

또한, 이하에 설명하는 실시의 형태에서, 개수, 양(量) 등으로 언급하는 경우, 특히 기재가 있는 경우를 제외하고, 본 발명의 범위는 반드시 그 개수, 양 등으로 한정되지 않는다. 또한, 이하의 실시의 형태에서, 각각의 구성 요소는, 특히 기재가 있는 경우를 제외하고, 본 발명에 있어서 반드시 필수의 것은 아니다.In addition, in the embodiments described below, the scope of the present invention is not necessarily limited to the number, amount, and the like, unless specifically stated otherwise. In the following embodiments, each component is not necessarily essential to the present invention except for the case where there is a substrate in particular.

우선, 본 발명의 실시의 형태를 개략적으로 설명한다.First, an embodiment of the present invention will be outlined.

본 발명의 실시의 하나의 형태는, 성형품을 성형할 때에 사용되는 성형틀로서, 금속제의 기재와, 상기 기재상에 마련되고, 산화이트륨, 질소 및 4A족 원소의 카티온을 포함하고, 상기 성형품과 접촉하는 세라믹스층을 구비한 성형틀이다. 상기 기재와 상기 세라믹층과의 사이에는 접착층을 마련하여도 좋다.One embodiment of the present invention is a mold for molding a molded article, which comprises a metal base, and a cation provided on the base, the yttrium oxide, the nitrogen and the cations of the 4A group element, And a ceramic layer which is in contact with the ceramic layer. An adhesive layer may be provided between the substrate and the ceramic layer.

또한, 본 발명의 하나의 형태는, 성형품을 성형할 때에 사용되는 성형틀로서, 금속제의 기재와, 산화이트륨, 질소 및 4A족 원소의 카티온을 포함하고, 상기 성형품과 접촉하는 세라믹스층을 구비하고, 상기 기재와 상기 세라믹스층과의 사이에 개재하는 중간층을 더욱 구비한 성형틀이다. 또한, 상기 기재와 중간층과의 사이에 접착층을 개재시켜도 좋다. 또한, 상기 중간층과 상기 세라믹스층과의 사이에 접착층을 개재시켜도 좋다.In addition, one embodiment of the present invention is a molding die used for molding a molded article, which comprises a metal base, a ceramic layer containing a yttrium oxide, a nitrogen and a cation of a 4A group element and in contact with the molded article And an intermediate layer interposed between the substrate and the ceramics layer. An adhesive layer may be interposed between the substrate and the intermediate layer. Further, an adhesive layer may be interposed between the intermediate layer and the ceramics layer.

또한, 상기 중간층을 복수층으로 형성한 경우, 상기 복수의 중간층에서의 적어도 2개의 중간층의 사이에 접착층을 개재시켜도 좋다.When the intermediate layer is formed of a plurality of layers, an adhesive layer may be interposed between at least two intermediate layers in the plurality of intermediate layers.

또한, 상기 접착층을 단층 또는 복수층으로 형성하여도 좋다.The adhesive layer may be a single layer or a plurality of layers.

또한, 상기 성형틀에서, 상기 중간층은, 상기 기재보다도 경도가 높고, 또한, 상기 세라믹스층보다도 인성이 높은 부분을 갖는다. 또한, 상기 중간층은, 적어도 상기 세라믹스층측의 표면 부분에서 상기 기재보다도 경도가 높다.Further, in the above-described mold, the intermediate layer has a hardness higher than that of the base material and a toughness higher than that of the ceramics layer. In addition, the intermediate layer has a hardness higher than that of the substrate at least on the surface portion on the ceramic layer side.

또한, 상기 성형틀에서, 상기 중간층에 완충층을 포함할 수 있고, 예를 들면, 상기 완충층은, 상기 기재측부터 상기 세라믹스층측을 향하여 고경도가 되도록 경도가 변화하도록 구성되어 있다.In the molding die, the intermediate layer may include a buffer layer. For example, the buffer layer is configured to change its hardness so as to have a high hardness from the substrate side toward the ceramics layer side.

또한, 상기 성형틀에서, 상기 중간층에 접착층을 포함하는 구성으로 할 수 있다.Further, in the above-described mold, the intermediate layer may include an adhesive layer.

또한, 완충층을 복수층, 마련할 수 있고, 적어도 2개의 완충층의 사이에, 단층 또는 복수층의 접착층을 개재시킬 수 있다.Further, a plurality of buffer layers can be provided, and a single layer or a plurality of adhesive layers can be interposed between at least two buffer layers.

또한, 상기 접착층이 완충층의 기능을 나타내는 경우가 있다.In addition, the adhesive layer may function as a buffer layer.

또한, 예를 들면, 중간층(완충층)과 세라믹스층을 단층의 접착층으로 접합하기 어려운 경우가 있다. 이 경우, 중간층(완충층)과 세라믹스층을 다층의 접착층(예를 들면 3층인 경우, 세라믹스층측부터 제1 접착층, 제2 접착층, 제3 접착층이라고 한다)을 개재시켜서 단계적으로 접합하여도 좋다(도 5 참조).Further, for example, it may be difficult to bond the intermediate layer (buffer layer) and the ceramics layer with a single-layer adhesive layer. In this case, the intermediate layer (buffer layer) and the ceramics layer may be step-wise bonded with a multi-layered adhesive layer (for example, in the case of three layers, the first adhesive layer, the second adhesive layer and the third adhesive layer from the ceramic layer side) 5).

즉, 세라믹스층과 접하는 제1 접착층을 세라믹스층과 접착하기 쉬운 물질로 구성하고, 또한, 중간층(완충층)과 접하는 다른 접착층(상기 제3 접착층에 상당한다)을 중간층(완충층)과 접착하기 쉬운 물질로 형성할 수 있다. 즉 접착층을 필요에 응하여 다층 구조로 할 수 있다.That is, the first adhesive layer in contact with the ceramics layer is made of a material that is easy to adhere to the ceramic layer and the other adhesive layer (corresponding to the third adhesive layer) in contact with the intermediate layer (buffer layer) . That is, the adhesive layer can be formed into a multi-layered structure as required.

또한, 상기 다층의 접착층을 3층으로 한 경우, 상기 제1 접착층과 상기 제3 접착층을 상기 제1 및 제3 접착층과 접착하기 쉬운 물질로 형성되는 제2 접착층으로 접합할 수 있다.When the multilayer adhesive layer has three layers, the first adhesive layer and the third adhesive layer may be bonded to each other with a second adhesive layer formed of a material that is easily adhered to the first and third adhesive layers.

또한, 대체로 말하면, 상기 중간층은 실질적으로 완충층이고, 상기 중간층(완충층)은 다른 층과 접착층을 통하여 접합할 수 있다(중간층에 대한 접착층의 외적(外的) 부가(附加)).Generally speaking, the intermediate layer is substantially a buffer layer, and the intermediate layer (buffer layer) can be bonded to another layer through an adhesive layer (external addition of the adhesive layer to the intermediate layer).

또한, 도시한 예에 도시하는 바와 같이, 상기 중간층은 완충층과 접착층으로 구성할 수 있고, 상기 중간층은 상기 접착층을 포함하는 중간층으로 되어 있다(중간층에서의 접착층의 내적(內的) 부가).Further, as shown in the example shown in the drawing, the intermediate layer may be composed of a buffer layer and an adhesive layer, and the intermediate layer is an intermediate layer including the adhesive layer (inner portion of the adhesive layer in the intermediate layer).

따라서, 본 발명에 관한 중간층은, 실질적인 중간층이 되는 완충층에 대해, 접착층을 외적으로 또는 내적으로 부가할 수 있는 것이다.Therefore, in the intermediate layer according to the present invention, the adhesive layer can be externally or internally added to the buffer layer, which is a substantial intermediate layer.

또한, 본 발명에 관한 중간층은 완충층뿐이라도 좋고, 접착층뿐이라도 좋다.The intermediate layer according to the present invention may be only a buffer layer or only an adhesive layer.

또한, 완충층이 접착 작용을 갖는 경우도 있고, 접착층이 완충 작용을 갖는 경우도 있다.In addition, the buffer layer may have an adhesive action, and the adhesive layer may have a buffer action.

또한, 전술한 중간층(완충층 또는 접착층)에 의한 완충 작용에 관해 언급한다. 상기 세라믹스층은 박층(薄層)이고 상기 금속제의 기재에 대해 경도가 딱딱하고 인성이 낮은 것이다. 이 양자의 경도의 차 및 인성의 차를 완충하는 층으로서 중간층이 마련된 것이 된다.The buffering action by the above-mentioned intermediate layer (buffer layer or adhesive layer) is also mentioned. The ceramic layer is a thin layer and has a hardness harder and a low toughness with respect to the metal base. An intermediate layer is provided as a layer for buffering the difference in hardness and toughness between the two.

이하, 도면을 이용하여 보다 구체적으로 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to the drawings.

도 1은, 본 실시의 형태에 관한 성형틀의 단면을 도시하는 도면이다. 본 실시의 형태에 관한 성형틀은, 수지 성형품 등을 성형할 때에 사용되는 것이고, 도 1에 도시하는 바와 같이, 금속 기재(10)와, 금속 기재(10)상에 마련되고, 성형품과 접촉하는 세라믹스층(20)을 구비한다.1 is a view showing a section of a mold according to the present embodiment. As shown in Fig. 1, the mold frame according to the present embodiment is used for molding a resin molded article and the like. The mold frame 10 includes a metal base 10, And a ceramic layer (20).

금속 기재(10)는, 철계의 재료(예를 들면, 스테인리스강, 탄소강, 합금강, 합금공구강, 고속도강, 프리하든강 등)로 구성되어도 좋고, 비철계의 재료(구리계, 알루미늄계, 초경합금계 등)로 구성되어도 좋다. 이에 의해, 가공성에 우수함과 함께, 갈라짐이나 이빠짐이 생기기 어려운 금속 기재(10)로 할 수 있다.The metal base 10 may be made of a ferrous material (for example, stainless steel, carbon steel, alloy steel, alloy tool steel, high speed steel, free hard steel, etc.) Or the like). As a result, the metal base 10 can be made excellent in workability and less prone to cracking or bending.

세라믹스층(20)은, 산화이트륨, 질소 및 4A족 원소의 카티온을 포함한다. 이에 의해, 이형성 및 저밀착성에 우수한 성형틀이 제공된다. 금속 기재(10)와 세라믹스층(20)은, 도시하지 않은 접착층을 통하여 접합하여도 좋다.Ceramics layer 20 includes yttria, nitrogen, and cations of Group 4A elements. Thereby, a molding frame excellent in releasability and low adhesion property is provided. The metal base 10 and the ceramics layer 20 may be joined to each other through an adhesive layer (not shown).

금속 기재(10)는, 절삭 가공이나 방전 가공 등, 종래의 금속 가공법으로 형성 가능하다. 세라믹스층은, 예를 들면, 스퍼터링이나 이온플레이팅 등의 물리적 증착법(PVD)에 의해 형성 가능하다.The metal base 10 can be formed by a conventional metal working method such as cutting or electric discharge machining. The ceramic layer can be formed by, for example, physical vapor deposition (PVD) such as sputtering or ion plating.

도 1의 예에서, 세라믹스층(20)의 두께는, 0.1㎛∼5㎛ 정도이다. 금속 기재(10)와 세라믹스층(20)과의 사이의 접착층의 두께는, 0.01㎛∼1㎛ 정도이다.In the example of Fig. 1, the thickness of the ceramics layer 20 is about 0.1 mu m to 5 mu m. The thickness of the adhesive layer between the metal substrate 10 and the ceramic layer 20 is about 0.01 mu m to 1 mu m.

도 2는, 다른 실시의 형태에 관한 성형틀의 단면을 도시하는 도면이다. 도 2에 도시하는 실시의 형태에서, 성형틀은, 기재(10)와 세라믹스층(20)과의 사이에 개재하는 중간층(30)을 더욱 구비한다. 중간층(30)은, 금속 기재(10)보다도 경도가 높고, 또한, 세라믹스층(20)보다도 인성이 높은 부분을 갖는다. 이에 의해, 세라믹스층(20)이 갈라지거나 금속 기재(10)로부터 박리하거나 하는 것을 억제할 수 있다.Fig. 2 is a view showing a section of a mold according to another embodiment. Fig. 2, the forming mold further includes an intermediate layer 30 interposed between the base material 10 and the ceramic layer 20. [0050] The intermediate layer 30 has a portion higher in hardness than the metal base 10 and higher in toughness than the ceramic layer 20. As a result, it is possible to prevent the ceramic layer 20 from being cracked or peeling off from the metal base 10.

도 2의 예에서, 중간층(30)의 두께는, 0.2㎛∼5㎛ 정도이다. 세라믹스층(20)의 두께는, 도 1의 예와 마찬가지로 0.1㎛∼5㎛ 정도이다.In the example of Fig. 2, the thickness of the intermediate layer 30 is about 0.2 to 5 m. The thickness of the ceramics layer 20 is about 0.1 m to 5 m in the same manner as in the example of Fig.

다음에, 도 3 내지 도 5를 이용하여, 중간층(30)의 구조를 보다 상세히 설명한다. 도 3의 예에서, 중간층(30)은, 완충층(31A, 31B)과 접착층(32A, 32B)을 가지며, 도 4의 예에서, 중간층(30)은, 완충층(31)과 접착층(32A, 32B)을 가지며, 도 5의 예에서, 중간층(30)은, 완충층(31A, 31B)과 접착층(32A∼32D)을 갖는다.Next, the structure of the intermediate layer 30 will be described in more detail with reference to Figs. 3 to 5. Fig. In the example of Fig. 3, the intermediate layer 30 has the buffer layers 31A and 31B and the adhesive layers 32A and 32B. In the example of Fig. 4, the intermediate layer 30 includes the buffer layer 31 and the adhesive layers 32A and 32B In the example of Fig. 5, the intermediate layer 30 has buffer layers 31A and 31B and adhesive layers 32A to 32D.

즉, 완충층은, 도 3, 도 5에 도시하는 바와 같이 복수층으로 이루어지는 것이라도 좋고, 도 4에 도시하는 바와 같이 단층으로 이루어지는 것이라도 좋다. 접착층도, 도 3, 도 4에 도시하는 바와 같이, 완충층의 양측에서 단층으로 이루어지는 것이라도 좋고, 도 5에 도시하는 바와 같이, 완충층의 일방측에서 복수층, 타방측에서 단층으로 이루어지는 것이라도 좋고, 또한, 완충층의 양측에서 복수층으로 이루어지는 것이라도 좋다.That is, the buffer layer may be composed of a plurality of layers as shown in Figs. 3 and 5, or a single layer as shown in Fig. As shown in Figs. 3 and 4, the adhesive layer may be composed of a single layer on both sides of the buffer layer. Alternatively, as shown in Fig. 5, the adhesive layer may be composed of a plurality of layers on one side of the buffer layer and a single layer on the other side , Or it may be composed of a plurality of layers on both sides of the buffer layer.

또한, 도 5의 중간층(30)에서, 실질적으로 중간층이 되는 완충층(31A, 31B)과의 사이에 단층 또는 복수층으로 이루어지는 접착층을 마련하여도 좋다. 또한, 상기 완충층(실질적인 중간층)에 다른 층과의 접착층을 마련한 경우, 상기 중간층은 접착층을 포함하는 것으로 된다.In the intermediate layer 30 shown in Fig. 5, a single layer or a plurality of adhesive layers may be provided between the buffer layer 31A and the buffer layer 31B, which are substantially intermediate layers. Further, in the case where an adhesive layer with another layer is provided in the buffer layer (substantial intermediate layer), the intermediate layer includes an adhesive layer.

또한, 도 4에서, 완충층(31)과 금속 기재(10)를 직접적으로 접합할 수 있다. 또한, 도 4에서, 완충층(31)과 세라믹스층(20)을 직접적으로 접합할 수 있다.4, the buffer layer 31 and the metal base 10 can be directly bonded. 4, the buffer layer 31 and the ceramic layer 20 can be directly bonded.

완충층 및 접착층 모두, 예를 들면, 스퍼터링이나 이온플레이팅 등의 물리적 증착법(PVD)에 의해 형성 가능하다.Both the buffer layer and the adhesive layer can be formed by physical vapor deposition (PVD) such as sputtering or ion plating.

완충층은, 경도가 낮은 금속 기재(10)측부터 경도가 높은 세라믹스층(20)측을 향하여 고경도가 되도록 경도가 변화하는 것인 것이 바람직하다. 예를 들면, 도 3, 도 5와 같이 적층 구조의 완충층(31A, 31B)의 경우는, 금속 기재(10)측의 완충층(31A)의 경도를 세라믹스층(20)측의 완충층(31B)의 경도보다도 낮게 함에 의해, 경도를 단계적으로 변화시킬 수 있다. 또한, 도 4와 같이 단층 구조 완충층(31)의 경우는, 완충층의 두께 방향으로 조성을 변화시킴(예를 들면 금속 기재(10)에 근접한함에 따라 질소 농도를 저감한다)에 의해, 경도를 연속적으로 변화시킬 수 있다.It is preferable that the buffer layer changes its hardness so as to have a high hardness from the side of the metal base 10 having a low hardness to the side of the ceramic layer 20 having a high hardness. 3 and 5, the hardness of the buffer layer 31A on the side of the metal base 10 is set to be larger than the hardness of the buffer layer 31B on the side of the ceramic layer 20 in the case of the buffer layers 31A and 31B of the laminated structure, By making the hardness lower than the hardness, the hardness can be changed stepwise. In the case of the single-layer structure buffer layer 31 as shown in Fig. 4, the hardness is changed continuously by changing the composition in the thickness direction of the buffer layer (for example, by decreasing the nitrogen concentration in the vicinity of the metal substrate 10) Can be changed.

완충층은, 예를 들면, M-A계(M은, 티탄, 크롬, 니켈, 지르코늄, 알루미늄, 또는 실리콘이고, A는, 질소, 탄소, 또는 산소이다.)의 질화물, 탄화물, 산화물로 이루어진다.The buffer layer is composed of, for example, nitride, carbide, or oxide of an MA system (M is titanium, chromium, nickel, zirconium, aluminum, or silicon and A is nitrogen, carbon, or oxygen).

접착층은, 예를 들면, 티탄, 크롬, 니켈, 지르코늄, 이트륨, 알루미늄, 실리콘의 금속 단체나 그들의 혼합물, 또는, 상기 금속 단체의 산화물 또는 상기 금속을 복수 포함하는 산화물로 이루어진다.The adhesive layer is composed of, for example, a single metal or a mixture thereof of titanium, chromium, nickel, zirconium, yttrium, aluminum, or silicon, or an oxide of the metal alone or an oxide containing a plurality of the metals.

완충층을 구성하는 소재 및 접착층을 구성하는 소재는, 적절히 선택하여 조합시키는 것이 가능하다. 또한, 완충층의 두께(합계)는, 0.2㎛∼5㎛ 정도이다.The material constituting the buffer layer and the material constituting the adhesive layer can be appropriately selected and combined. The thickness (total) of the buffer layer is about 0.2 탆 to 5 탆.

다음에, 도 6을 이용하여, 본 발명의 실시례에 의한 이형성의 향상에 관해 설명한다. 도 6은, 본 발명의 하나의 실시례에 관한 성형틀과 비교례에 관한 성형틀(금속 기재에 경질 크롬 도금을 입힌 것)에 대해 소정 회수의 성형 동작을 행하고, 그때마다, 이형력을 측정함에 의해 이형성을 평가한 실험 결과를 나타내는 것이다. 후술하는 실험도 포함하여, 실험에 사용되는 수지는 열경화성 수지(구체적으로는 에폭시 수지)이다.Next, the improvement in releasability according to the embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. Fig. 6 is a graph showing the relationship between the molding die according to one embodiment of the present invention and a molding die (hard metal chromium-plated metal substrate) according to a comparative example in a predetermined number of times, And the results are shown in FIG. The resin used in the experiment is a thermosetting resin (specifically, an epoxy resin), including an experiment to be described later.

도 6을 참조하면, 본 발명의 실시례에 관한 성형틀에 의하면, 비교례에 관한 성형틀과 비교하여, 이형력이 저감되어 있고, 세라믹스층(20)에 의해, 이형성에 우수한 성형틀로 되어 있음을 알 수 있다.Referring to Fig. 6, the forming mold according to the embodiment of the present invention has a reduced releasing force as compared with the forming mold according to the comparative example, and the forming mold is excellent in releasability by the ceramics layer 20 .

다음에, 도 7, 도 8을 이용하여, 본 발명의 실시례에 의한 저밀착성의 향상에 관해 설명한다. 도 7, 도 8은, 각각, 본 발명의 실시례에 관한 성형틀, 및, 비교례에 관한 성형틀을 사용하여 소정 회수(도 7 : 1000회, 도 8 : 300회)의 성형 동작을 행한 후의 당해 성형틀의 저면(底面)을 도시하는 사진이다.Next, the improvement of the low adhesion property according to the embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 7 and 8. FIG. Figs. 7 and 8 are diagrams for explaining a case where the molding operation is performed a predetermined number of times (Fig. 7: 1000 times, Fig. 8: 300 times) using the molding die according to the embodiment of the present invention and the molding die according to the comparative example Is a photograph showing the bottom surface of the molding die after the molding.

도 7, 도 8을 참조하면, 본 발명의 실시례에 관한 성형틀(도 7)에서는, 1000회의 성형 동작을 행한 후도, 눈에 띄는 오염은 인정되지 않음에 대해, 비교례에 관한 성형틀(도 8)에서는, 300회의 성형 동작의 후, A부에서 수지의 고착이 인정되는 외에, B부에서 플래시의 퇴적이 인정된다. 또한, 캐비티 저면 전체에서 변색이 인정된다. 이상의 결과로부터, 세라믹스층(20)에 의해, 저밀착성에 우수한 성형틀로 되어 있음을 알 수 있다.7 and 8, in the mold (FIG. 7) according to the embodiment of the present invention, even after performing the molding operation for 1000 times, no noticeable contamination is recognized, (Fig. 8), adhesion of the resin is recognized in part A after 300 molding operations, and flash deposition is recognized in part B. Also, discoloration is recognized throughout the cavity bottom surface. From the above results, it can be seen that the ceramics layer 20 provides a molding frame excellent in low adhesion.

이와 같이, 본 실시의 형태에 관한 성형틀에 의하면, 세라믹스층(20)을 사용함에 의해 이형성 및 저밀착성에 우수한 성형틀로 함과 함께, 금속 기재(10)를 사용함에 의해, 성형틀의 갈라짐이나 이빠짐을 억제할 수 있다. 또한, 중간층(30)에 의해, 금속 기재(10)와 세라믹스층(20)과의 접합 구조를 개선하고, 세라믹스층(20)의 갈라짐이나 금속 기재(10)로부터의 박리를 억제할 수 있다.As described above, according to the molding die of the present embodiment, by using the ceramics layer 20, a molding frame excellent in releasability and low adhesion can be obtained. In addition, by using the metal base 10, It is possible to inhibit or prevent overloading. The intermediate layer 30 improves the bonding structure between the metal base 10 and the ceramic layer 20 and can prevent cracking of the ceramic layer 20 and peeling from the metal base 10. [

또한, 상기 성형틀은, 예를 들면, 사출 성형, 트랜스퍼 성형, 압축 성형에 이용할 수 있다.Further, the above-described mold can be used for injection molding, transfer molding, compression molding, for example.

트랜스퍼 성형(내지는 압축 성형)의 경우, 수지 재료를 사용하여, 기판에 장착한 반도체 칩을 세라믹스층이 마련된 캐비티 내에서 당해 캐비티의 형상에 대응한 패키지(성형품) 내에 밀봉 성형(내지는 압축 성형)할 수 있다.In the case of transfer molding (or compression molding), the semiconductor chip mounted on the substrate is sealed (or compression molded) in a package (molded product) corresponding to the shape of the cavity in the cavity provided with the ceramic layer .

본 발명에 관한 저밀착성 재료는, 여기까지 설명한 성형틀의 각각에 사용된다. 본 발명에 관한 저밀착성 재료는, 여기까지 설명한 성형틀 외에 다음의 틀(型)에 사용된다. 제1의 틀(型)은, 타정기(打錠機)에 부착하여 사용되는 타정형(打鉦型)(성형기의 일종)이다. 제2의 틀(型)은, 탄소섬유 강화 플라스틱 등을 제조할 때에 사용되는 프리프레그를 가열·가압하는 성형틀, 또는 로드(맨드릴) 등의 성형틀이다.The low-adhesion material according to the present invention is used for each of the above-described molds. The low-adhesion material according to the present invention is used in the following molds in addition to the molds described so far. The first mold is a punching type (a type of a molding machine) used by attaching to a tableting machine. The second mold is a molding mold for heating and pressing a prepreg used for producing a carbon fiber-reinforced plastic or the like, or a mold such as a rod (mandrel).

도 9A, 도 9B를 참조하여, 본 발명의 실시례에 관한 저밀착성 재료(개발재)에 의한 오염의 부착의 저감을 설명한다. 비교례로서는, 금속 기재(강계 재료)에 경질 크롬 도금을 입힌 재료(종래재)로 이루어지는 성형틀을 사용하였다. 개발재로 이루어지는 성형틀과 종래재로 이루어지는 성형틀을 사용하여, 각각 250회만큼 성형 동작을 행하였다.With reference to Figs. 9A and 9B, reduction of adhesion of contamination by a low-adhesion material (developed material) according to an embodiment of the present invention will be described. As a comparative example, a molding frame made of a material (conventional material) coated with hard chromium on a metal base material (steel base material) was used. The molding operation was carried out for each 250 times using the mold made of the developed material and the mold made of the conventional material.

실험의 결과, 도 9A에 도시된 형면의 초기 상태에 비교하여, 도 9B에 도시된 성형 후의 형면의 상태를 얻을 수 있다. 도 9B의 좌측의 사진에 도시되는 바와 같이, 개발재에서는, 우하(右下)의 부분에 희미한 수지 오염의 부착이 보여진다. 그 이외에는, 수지 오염의 부착은 보여지지 않는다. 도 9B의 우측의 사진에 도시되는 바와 같이, 종래재에서는, 우상(右上)의 부분에 흑색의 수지(여분의 수지)의 부착이 확실하게 보여진다. 부착한 여분의 수지로부터 좌하에 계속되는 부분에는 금속 광택이 보여진다. 이 금속 광택은, 부착한 여분의 수지가 박리한 때에 표면층이 벗겨진 흔적일 가능성이 있다. 나머지 부분에는, 일양(一樣)하게 수지 오염의 부착이 보여진다. 사진에 도시된 색조로부터, 이 나머지 부분의 수지 오염은, 개발재에서의 우하의 부분에 희미하게 보여지는 수지 오염에 비교하여 동등 또는 강한 부착의 정도를 갖는 것이, 추측된다. 이상의 것으로부터, 본 발명의 실시례에 관한 저밀착성 재료는, 열경화성 수지에 대해 우수한 저밀착성을 가짐을 알 수 있다.As a result of the experiment, the state of the mold surface after molding shown in Fig. 9B can be obtained as compared with the initial state of the mold surface shown in Fig. 9A. As shown in the photograph on the left side of Fig. 9B, in the developed material, adhesion of faint resin contamination is observed in the lower right portion. Other than that, adhesion of resin contamination is not shown. As shown in the photograph on the right side of Fig. 9B, adhesion of black resin (extra resin) is reliably shown in the upper right portion in the conventional material. Metallic luster is shown in the portion that continues to the left below from the attached excess resin. This metallic luster may be a sign that the surface layer is peeled off when the attached extra resin peels off. In the remaining part, adhesion of resin contamination is uniformly seen. It is presumed from the color hue shown in the photograph that the resin contamination of the remaining portion has an equal or strong adhesion degree as compared with the resin contamination which appears dimly on the lower right portion in the developed material. From the above, it can be understood that the low-adhesion material according to the embodiment of the present invention has a low adhesion property to the thermosetting resin.

도 10A, 도 10B를 참조하여, 본 발명의 실시례에 관한 저밀착성 재료(개발재)에 의한 오염의 부착의 저감을 설명한다. 비교례로서는, 종래재로 이루어지는 성형틀을 사용하였다. 도 10A에 도시되는 바와 같이, 4종류의 수지의 어느 것에 대해서도, 개발재와 수지와의 접착력이 종래재와 수지와의 접착력의 28∼50%까지 감소하고 있다. 도 10B에 도시되는 바와 같이, 어느 수지에 관해서는, 재료의 표면을 클리닝한 후의 1회째에 있어서, 개발재와 수지와의 접착력이 종래재와 수지와의 접착력의 28%까지 감소하고 있다.With reference to Figs. 10A and 10B, the reduction of adhesion of contamination by the low-adhesion material (developed material) according to the embodiment of the present invention will be described. As a comparative example, a mold made of a conventional material was used. As shown in Fig. 10A, the adhesive force between the developed material and the resin is reduced to 28 to 50% of the adhesive strength between the conventional material and the resin, for all four kinds of resins. As shown in Fig. 10B, the adhesive force between the developed material and the resin is reduced to 28% of the adhesive strength between the conventional material and the resin, for the first time after cleaning the surface of the material.

이들의 결과는, 저밀착성 재료를 사용한 성형틀의 표면(형면)을 클리닝한 후에, 이른바 길들임 성형을 행하는 일 없이 성형품을 성형할 수 있음을 나타낸다. 길들임 성형이라는 용어는, 이형제를 형면에 부착시키는 목적으로 특별한 수지(성형품을 성형할 때에 사용되는 수지와는 다른 수지)를 사용하여 행하여지는 성형을 의미한다. 따라서 형면이 클리닝된 후에 이어서 성형품을 성형할 수 있기 때문에, 성형 공정의 효율이 향상한다. 저밀착성 재료와 수지와의 궁합에 의해서는, 길들임 성형을 행하여도 좋다.These results indicate that the molded article can be molded without cleaning the surface (mold surface) of the mold with the low-adhesion material, so-called tampering. The term tame molding means molding performed using a special resin (a resin different from a resin used for molding a molded product) for the purpose of adhering a release agent to a mold surface. Therefore, since the molded product can be molded after the mold surface is cleaned, the efficiency of the molding process is improved. Depending on the compatibility between the low-adhesion material and the resin, shaping may be performed.

성형에 사용되는 수지로서는, 상술한 에폭시 수지로 대표되는 열경화성 수지를 들 수 있다. 본 발명에 관한 성형틀 및 저밀착성 재료는, 열가소성 수지에 대해서도 적용될 수 있다.As the resin used for molding, thermosetting resins typified by the above-mentioned epoxy resins can be mentioned. The mold and the low-adhesion material according to the present invention can also be applied to a thermoplastic resin.

본 발명에 관한 저밀착성 재료가 적용되는 대상은, 성형품을 성형할 때에 사용되는 성형틀로 한정되지 않는다. 본 발명에 관한 저밀착성 재료는, 성형품을 성형할 때에 사용되는 수지를 제조하는 공정, 성형품을 성형하는 공정 등에서 사용되는 성형틀, 부품, 치구류, 공구류 등에 적용될 수 있다.본 발명에 관한 저밀착성 재료는, 수지를 혼련하여 제조할 때에 사용되는 부품 등, 예를 들면, 혼련, 태블릿의 타정 등에 사용하는 부품, 치구류, 공구류에 적용될 수 있다.본 발명에 관한 저밀착성 재료는, 프리프레그 등의 중간제품을 제조할 때에 사용되는, 가열된 프리프레그를 늘리거나 형태를 갖추거나 재단하거나 하기 위한 부품, 치구류, 공구류 등에 적용될 수 있다. 또한, 본 발명에 관한 저밀착성 재료는, 예를 들면, 노즐, 스크루 등의 사출 성형용 부품 등에 적용될 수 있다.The subject to which the low-adhesion material according to the present invention is applied is not limited to a molding frame used for molding a molded article. The low-adhesion material according to the present invention can be applied to a molding frame, a component, a fixture, a tool, etc. used in a step of producing a resin used for molding a molded article, a step of molding a molded article, The material can be applied to parts used for kneading resin, for example, parts used for kneading, tableting, tableting, tools and the like. The low-adhesion material according to the present invention can be used as a prepreg A jig, a tool, or the like for increasing or shaping or cutting the heated prepreg, which is used when producing an intermediate product of the present invention. Further, the low-adhesion material according to the present invention can be applied to injection molding parts such as nozzles, screws and the like.

본 발명의 실시의 형태에 관해 설명하는데, 금회 개시된 실시의 형태는 모든 점에서 예시이고 제한적인 것이 아니라고 생각되어야 할 것이다. 본 발명의 범위는 청구의 범위에 의해 나타나고, 청구의 범위와 균등한 의미 및 범위 내에서의 모든 변경이 포함되는 것이 의도된다.DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS [0028] The embodiments of the present invention will now be described, but it should be understood that the embodiments disclosed herein are illustrative and non-restrictive in all respects. It is intended that the scope of the invention be indicated by the appended claims and that all changes which come within the meaning and range of equivalency of the claims are intended to be embraced therein.

10 : 금속 기재
20 : 세라믹스층
30 : 중간층
31, 31A, 31B : 완충층
32A, 32B, 32C, 32D : 접착층
10: metal substrate
20: Ceramic layer
30: middle layer
31, 31A, 31B: buffer layer
32A, 32B, 32C and 32D:

Claims (32)

성형품을 성형할 때에 사용되는 성형틀로서,
금속제의 기재와,
상기 기재상에 마련되고, 산화이트륨, 질소 및 4A족 원소의 카티온을 포함하고, 상기 성형품과 접촉하는 세라믹스층을 구비하고,
형면이 클리닝된 후에 이어서 상기 성형품을 성형하기 위해 사용되는 것을 특징으로 하는 성형틀.
As a molding die used for molding a molded article,
A metal substrate,
A ceramic layer provided on the substrate and including a cation of yttrium oxide, nitrogen, and a Group 4A element, the ceramic layer being in contact with the molded product,
Wherein the mold is used for molding the molded article after the mold surface is cleaned.
제1항에 있어서,
상기 기재와 상기 세라믹층과의 사이에 개재하는 접착층을 더욱 구비한 것을 특징으로 하는 성형틀.
The method according to claim 1,
Further comprising an adhesive layer interposed between the substrate and the ceramic layer.
성형품을 성형할 때에 사용되는 성형틀로서,
금속제의 기재와,
산화이트륨, 질소 및 4A족 원소의 카티온을 포함하고, 상기 성형품과 접촉하는 세라믹스층과,
상기 기재와 상기 세라믹스층과의 사이에 개재하는 중간층을 구비하고,
형면이 클리닝된 후에 이어서 상기 성형품을 성형하기 위해 사용되는 것을 특징으로 하는 성형틀.
As a molding die used for molding a molded article,
A metal substrate,
A ceramic layer including a yttrium oxide, a nitrogen and a cation of a Group 4A element,
And an intermediate layer interposed between the substrate and the ceramics layer,
Wherein the mold is used for molding the molded article after the mold surface is cleaned.
제3항에 있어서,
상기 기재와 상기 중간층과의 사이에 개재하는 접착층을 더욱 구비한 것을 특징으로 하는 성형틀.
The method of claim 3,
Further comprising an adhesive layer interposed between the substrate and the intermediate layer.
제3항에 있어서,
상기 중간층과 상기 세라믹스층과의 사이에 개재하는 접착층을 더욱 구비한 것을 특징으로 하는 성형틀.
The method of claim 3,
Further comprising an adhesive layer interposed between the intermediate layer and the ceramics layer.
제3항에 있어서,
상기 중간층이 단층으로 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 성형틀.
The method of claim 3,
Wherein the intermediate layer is formed as a single layer.
제3항에 있어서,
상기 중간층이 복수층으로 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 성형틀.
The method of claim 3,
Wherein the intermediate layer is formed in a plurality of layers.
제3항에 있어서,
상기 중간층이 복수층으로 형성되고, 상기 복수의 중간층에서의 적어도 2개의 중간층의 사이에 접착층을 개재시킨 것을 특징으로 하는 성형틀.
The method of claim 3,
Wherein the intermediate layer is formed in a plurality of layers, and an adhesive layer is interposed between at least two intermediate layers in the plurality of intermediate layers.
제2항, 제4항, 제5항, 제8항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 접착층이 단층으로 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 성형틀.
The method according to any one of claims 2, 4, 5, and 8,
Wherein the adhesive layer is formed as a single layer.
제2항, 제4항, 제5항, 제8항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 접착층이 복수층으로 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 기재된 성형틀.
The method according to any one of claims 2, 4, 5, and 8,
Wherein the adhesive layer is formed in a plurality of layers.
제3항에 있어서,
상기 중간층은, 상기 기재보다도 경도가 높고, 또한, 상기 세라믹스층보다도 인성이 높은 부분을 갖는 것을 특징으로 하는 성형틀.
The method of claim 3,
Wherein the intermediate layer has a portion higher in hardness than the substrate and higher in toughness than the ceramic layer.
제3항에 있어서,
상기 중간층은, 적어도 상기 세라믹스층측의 표면 부분에서 상기 기재보다도 경도가 높은 것을 특징으로 하는 성형틀.
The method of claim 3,
Wherein the intermediate layer has a hardness higher than that of the substrate at least on a surface portion of the ceramics layer side.
제3항에 있어서,
상기 중간층은, 상기 기재측부터 상기 세라믹스층측을 향하여 고경도가 되도록 경도가 변화하는 완충층을 포함하는 것을 특징으로 하는 성형틀.
The method of claim 3,
Wherein the intermediate layer includes a buffer layer whose hardness changes so as to have a high hardness toward the ceramic layer side from the substrate side.
제3항에 있어서,
상기 중간층은, 상기 중간층의 조성을 변화시킴에 의해, 경도를 연속적으로 변화시키는 완충층을 포함하는 것을 특징으로 하는 성형틀.
The method of claim 3,
Wherein the intermediate layer comprises a buffer layer continuously changing the hardness by changing the composition of the intermediate layer.
제3항에 있어서,
상기 중간층은, M-A계(M은, 티탄, 크롬, 니켈, 지르코늄, 알루미늄, 또는 실리콘이고, A는, 질소, 탄소, 또는 산소이다.)의 질화물, 탄화물, 산화물로 이루어지는 부분을 포함하는 것을 특징으로 하는 성형틀.
The method of claim 3,
Characterized in that said intermediate layer comprises a portion composed of nitride, carbide and oxide of MA series (M is titanium, chromium, nickel, zirconium, aluminum or silicon and A is nitrogen, carbon or oxygen) .
제2항, 제4항, 제5항, 제8항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 접착층은, 티탄, 크롬, 니켈, 지르코늄, 이트륨, 알루미늄, 실리콘의 금속 단체나 그들의 혼합물, 또는, 상기 금속 단체의 산화물 또는 상기 금속 단체를 복수 포함하는 산화물로 이루어지는 부분을 포함하는 것을 특징으로 하는 성형틀.
The method according to any one of claims 2, 4, 5, and 8,
Wherein the adhesive layer comprises a metal single layer or a mixture thereof of titanium, chromium, nickel, zirconium, yttrium, aluminum or silicon, or a portion composed of an oxide of the metal single crystal or an oxide containing a plurality of the metal single crystals Molding frame.
성형품을 성형할 때에 사용되는 수지에 대한 저밀착성을 갖는 저밀착성 재료로서,
금속제의 기재와,
상기 기재상에 마련되고, 산화이트륨, 질소 및 4A족 원소의 카티온을 포함하고, 상기 수지에 접촉하는 세라믹스층을 구비한 것을 특징으로 하는 저밀착성 재료.
As a low-adhesion material having low adhesion to a resin used for molding a molded article,
A metal substrate,
And a ceramic layer provided on the substrate and including a cation of yttrium oxide, nitrogen, and a group 4A element, and contacting the resin.
제17항에 있어서,
상기 기재와 상기 세라믹층과의 사이에 개재하는 접착층을 더욱 구비한 것을 특징으로 하는 저밀착성 재료.
18. The method of claim 17,
Further comprising an adhesive layer interposed between the substrate and the ceramic layer.
성형품을 성형할 때에 사용되는 수지에 대한 저밀착성을 갖는 저밀착성 재료로서,
금속제의 기재와,
산화이트륨, 질소 및 4A족 원소의 카티온을 포함하고, 상기 수지에 접촉하는 세라믹스층과,
상기 기재와 상기 세라믹스층과의 사이에 개재하는 중간층을 구비한 것을 특징으로 하는 저밀착성 재료.
As a low-adhesion material having low adhesion to a resin used for molding a molded article,
A metal substrate,
A ceramic layer containing a yttrium oxide, a nitrogen and a cation of a Group 4A element and in contact with the resin,
And an intermediate layer interposed between the substrate and the ceramics layer.
제19항에 있어서,
상기 기재와 상기 중간층과의 사이에 개재하는 접착층을 더욱 구비한 것을 특징으로 하는 저밀착성 재료.
20. The method of claim 19,
Further comprising an adhesive layer interposed between the substrate and the intermediate layer.
제19항에 있어서,
상기 중간층과 상기 세라믹스층과의 사이에 개재하는 접착층을 더욱 구비한 것을 특징으로 하는 저밀착성 재료.
20. The method of claim 19,
Further comprising an adhesive layer interposed between the intermediate layer and the ceramics layer.
제19항에 있어서,
상기 중간층이 단층으로 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 저밀착성 재료.
20. The method of claim 19,
Wherein the intermediate layer is formed as a single layer.
제19항에 있어서,
상기 중간층이 복수층으로 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 저밀착성 재료.
20. The method of claim 19,
Wherein the intermediate layer is formed in a plurality of layers.
제19항에 있어서,
상기 중간층이 복수층으로 형성되고, 상기 복수의 중간층에서의 적어도 2개의 중간층의 사이에 접착층을 개재시킨 것을 특징으로 하는 저밀착성 재료.
20. The method of claim 19,
Wherein the intermediate layer is formed in a plurality of layers, and an adhesive layer is interposed between at least two intermediate layers in the plurality of intermediate layers.
제18항, 제20항, 제21항, 제24항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 접착층이 단층으로 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 저밀착성 재료.
The method according to any one of claims 18, 20, 21, and 24,
Wherein the adhesive layer is formed as a single layer.
제18항, 제20항, 제21항, 제24항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 접착층이 복수층으로 형성되어 있는, 것을 특징으로 하는 저밀착성 재료.
The method according to any one of claims 18, 20, 21, and 24,
Wherein the adhesive layer is formed in a plurality of layers.
제19항에 있어서,
상기 중간층은, 상기 기재보다도 경도가 높고, 또한, 상기 세라믹스층보다도 인성이 높은 부분을 갖는 것을 특징으로 하는 저밀착성 재료.
20. The method of claim 19,
Wherein the intermediate layer has a hardness higher than that of the substrate and a higher toughness than the ceramic layer.
제19항에 있어서,
상기 중간층은, 적어도 상기 세라믹스층측의 표면 부분에서 상기 기재보다도 경도가 높은 것을 특징으로 하는 저밀착성 재료.
20. The method of claim 19,
Wherein the intermediate layer has a hardness higher than that of the substrate at least on the surface portion of the ceramics layer side.
제19항에 있어서,
상기 중간층은, 상기 기재측부터 상기 세라믹스층측을 향하여 고경도가 되도록 경도가 변화하는 완충층을 포함하는 것을 특징으로 하는 저밀착성 재료.
20. The method of claim 19,
Wherein the intermediate layer comprises a buffer layer whose hardness changes so as to have a high hardness toward the ceramics layer side from the substrate side.
제19항에 있어서,
상기 중간층은, 상기 중간층의 조성을 변화시킴에 의해, 경도를 연속적으로 변화시키는 완충층을 포함하는 것을 특징으로 하는 저밀착성 재료.
20. The method of claim 19,
Wherein the intermediate layer comprises a buffer layer continuously changing the hardness by changing the composition of the intermediate layer.
제19항에 있어서,
상기 중간층은, M-A계(M은, 티탄, 크롬, 니켈, 지르코늄, 알루미늄, 또는 실리콘이고, A는, 질소, 탄소, 또는 산소이다.)의 질화물, 탄화물, 산화물로 이루어지는 부분을 포함하는 것을 특징으로 하는 저밀착성 재료.
20. The method of claim 19,
Characterized in that said intermediate layer comprises a portion composed of nitride, carbide and oxide of MA series (M is titanium, chromium, nickel, zirconium, aluminum or silicon and A is nitrogen, carbon or oxygen) As the low adhesion material.
제18항, 제20항, 제21항, 제24항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 접착층은, 티탄, 크롬, 니켈, 지르코늄, 이트륨, 알루미늄, 실리콘의 금속 단체나 그들의 혼합물, 또는, 상기 금속 단체의 산화물 또는 상기 금속 단체를 복수 포함하는 산화물로 이루어지는 부분을 포함하는 것을 특징으로 하는 저밀착성 재료.
The method according to any one of claims 18, 20, 21, and 24,
Wherein the adhesive layer includes a metal single layer or a mixture thereof of titanium, chromium, nickel, zirconium, yttrium, aluminum, silicon, or a portion composed of an oxide of the metal single crystal or an oxide containing a plurality of the metal single crystals Low adhesion material.
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