KR20160108165A - 비접촉식 피부 치료 장치 및 방법 - Google Patents

비접촉식 피부 치료 장치 및 방법 Download PDF

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KR20160108165A
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토마스 슈바르쯔
얀 자리스키
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비티엘 홀딩스 리미티드
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Abstract

비접촉식 피부 치료 장치 및 방법은 피부 및 사람 조직의 비-침습성 치료를 위해 피드백 전력 제어를 사용한다. 전자기 에너지는 피부 또는 조직을 가열한다. 피드백 시스템은 장치로부터 환자로의 전자기파의 출력 이전에 출력 물리량을 측정한다. 대안으로, 피드백 시스템은 환자의 또는 환자 근처의 물리량에 대한 값을 스캔한다. 상기 장치 및 방법은 장치에 대한 열 부하를 감소시키면서 환자에게 최적 에너지량의 전달을 가능하게 한다.

Description

비접촉식 피부 치료 장치 및 방법 {DEVICE AND METHOD FOR CONTACTLESS SKIN TREATMENT}
사람의 피부는 3개의 기본 층인 표피, 진피 및 하피로 구성된다. 피부의 외층이 표피이다. 표피는 3개의 층 중 가장 얇으며 외측을 각질화시키고 차폐(coverage)를 보장하는 주로 중층 편평 상피(stratified squamous epithelium)를 포함한다. 그 내측은 색소를 포함한다. 피부의 중간 층이 진피이다. 진피는 주로 콜라겐 섬유, 탄력 섬유 및 망상 섬유로 구성된다. 피부의 바닥 층이 하피이다. 하피는 주로 혈관, 림프관, 신경 섬유, 섬유아세포 및 특히 지방세포에 의해 형성된다.
평균 기대 수명의 증가, 비만, 건강하지 않은 생활습관, 유전적 소인 및 다른 요인들이 미적으로 탐탁치 않은 피부 외관의 원인일 수 있다. 탐탁치 않은 피부 외관은 과도한 양의 지방, 셀룰라이트(cellulite), 피부 이완, 탄력 상실, 견고성 상실 등에 의해서 발현될 수 있다. 탐탁치 않은 외관은 과도한 양의 지방 세포, 콜라겐, 탄력 섬유들의 약화 및/또는 붕괴, 또는 다른 공지된 이유들이 주 원인이다.
전자기 에너지를 전달하는 미용 장치(aesthetic device)가 최근에 개발되었으며 탐탁치 않은 피부 외관을 해결하는 다양한 침습성 및 접촉식 접근방법이 공지되었다. 그러나 침습성 방법은 오랜 회복 시간을 요구하고 개업의사에게 많은 시간과 숙련기술의 요구를 주문한다. 침습성 방법은 또한, 멸균 환경 및 생체적합성에 대한 엄격한 요건을 포함한다. 침습성 치료는 고통스럽고 정신적 외상을 초래할 수 있다. 게다가, 치료된 조직의 감염과 염증의 위험이 상존한다.
환자와의 접촉을 여전히 요구하는 비-침습성 방법도 또한, 높은 멸균 및 생체적합성 요건을 만족해야 한다. 접촉식 장치의 조작자는 기구의 사용 이전에 또는 사용 중에 기구의 개별 접촉 부품을 소독하거나 교체해야 하는데, 이는 조작자의 시간을 낭비한다.
비-접촉식 치료는 이들 단점을 제거하는데, 이는 개별 접촉 부품의 소독 및 교체 또는 치료 부위에 따른 조종에 요구되는 시간을 감소시키기 때문이다. 상기 장치들이 환자와 접촉하지 않기 때문에 생체적합성 재료가 불필요하다.
비-접촉식 무선주파수 치료법이 하피 내의 지방 세포의 양과 수의 감축, 셀룰라이트의 제거, 신체 윤곽성형, 네오엘라스토제네시스(neoelastogenesis) 및 네오콜라제네시스(neocollagenesis)에 사용될 수 있다. 이들 치료의 방법은 인용에 의해 본 발명에 포함되는 예를 들어, 미국 특허 출원 번호 2014/0249609 호에 설명된다.
그러나, 비접촉식 무선주파수 치료 중에 환자의 피부로 전달되는 에너지의 양을 최적화하려는 공학적 도전이 남아 있다. 비접촉식 무선주파수 치료를 위한 현재의 장치는 HF 발생기에서 측정된 값을 환자에게 보내는 실제 출력 값으로서 제공하며 이들 값으로부터 치료 중에 전달되는 에너지를 계산한다. 그러나, 상당한 양의 RF 에너지는 기생 효과, 변환 손실, 다양한 전도체 재료의 저항 등으로 인해 비접촉식 피부 치료용 장치 내에서 다른 형태의 에너지로 의도치 않게 전환되며, 이는 출력 에너지의 양을 제한한다.
환자에게 전달되는 실제 치료 에너지는 환자의 임피던스 및 환자와 무선주파수 전극 사이의 거리에 따라 변한다. 환자가 RF 신호의 소스와 직접적으로 접촉하지 않기 때문에, 시간 치료(time therapy) 중 환자와 무선주파수 전극 사이의 거리가 변한다. 이는 치료된 조직의 움직임을 유발하는 호흡과 심장박동과 같은 생체 리듬 또는 치료 기간 중의 움직임이 원인일 수 있다. 전달되는 치료 에너지는 몇몇 환자의 낮은 전기 저항, 및 비접촉식 장치의 각각의 대칭 분기부에 수천 볼트의 전위 생성을 유도하는 거리 변경으로 인해 불충분해질 수 있다.
따라서, 피부의 상부 층 또는 내부 층에 대한 어떠한 부상도 유발하지 않고 목표 피부와 사람 조직에 대한 연속적인 가열을 달성하고 환자의 피부 내측으로 최적 에너지 양을 연속적으로 전달하도록 입력 전력을 제어하기 위한 비접촉식 피부 치료용 장치에 대한 개선이 필요하다.
피부 및 사람 조직 치료를 위한 장치 및 방법은 예를 들어, 미용 의학에 전자기파의 비-침습성 및 비-접촉식 적용을 사용한다. 전자기파를 발생하기 위한 입력 전력은 장치 내측의 (전압, 전류 또는 위상과 같은)적어도 하나의 물리량에 대한 측정값 또는 환자에게서 또는 환자 근처에서 측정된 하나 이상의 물리량에 대한 값에 따라 조절된다. 피드백 전력 제어를 통해서, 본 발명의 장치 및 방법은 환자에게로 더욱 최적화된 에너지량의 제어 및 연속 전달을 그리고 과열 보호를 제공한다.
전자기장은 파워 서플라이, 고주파 발생기 및 하나 이상의 전극을 갖는 시스템에서 1 ㎒ 내지 100 ㎓ 범위의 주파수에서 발생한다. 선택적으로, 트랜스매치(transmatch)가 임피던스를 매칭시킴으로써 전력 전달을 개선하기 위해서 사용될 수 있다. 트랜스매치는 고주파수 발생기와 적어도 하나의 전극 사이에 배치될 수 있다.
고주파수 발생기는 추가적으로 트랜스매치로 가는 신호를 발생시킨다. 트랜스매치는 전송 케이블을 따른 정상파의 형성을 방지하도록 임피던스를 매칭시킨다. 그 후에 무선 주파수 신호가 적어도 하나의 전극으로 공급된다. 비접촉식 피부 치료 장치는 대칭 전압 파워 서플라이로서 거동한다.
최적 에너지에 의한 선택된 조직의 연속 가열을 보장하기 위해서, 파워 서플라이와 전극 사이의 적어도 하나의 물리량에 대한 값이 측정된다. 측정된 값은 그 후에 제어 유닛으로 보내지거나 파워 서플라이로 직접적으로 보내질 수 있으며, 이는 측정된 값에 기초하여 입력 전력을 조정한다. 유사하게, 단지 미리설정된 임계값을 초과하는지에 관한 정보만을 보내고 그에 따라 입력 전력을 조정하는 것이 가능하다.
대안으로, 입력 전력은 다음 매개변수들인 온도, 전극과 환자 사이의 거리, 임피던스, 전기장 세기 중의 적어도 하나를 측정하는 적어도 하나의 내장 센서 또는 외부 센서의 값에 기초하여 조정된다.
도 1은 피드백 제어에 의해 비접촉식 피부 및 사람 조직 치료를 위한 장치의 블록 선도이다.
용어 해설
본 발명의 개시의 문맥에서 달리 언급하지 않는 한,
"입력 값(input value)"은 고주파 발생기로의 입력 이전의 물리량에 대한 값을 의미한다.
"출력 값(output value)"은 고주파 발생기로부터의 출력 이후의 물리량에 대한 값을 의미한다.
"입력 전력(input power)"은 고주파 발생기로 입력되는 에너지를 의미한다.
"출력 파워(output power)"는 장치로부터 출력되어 환자에게로 보내지는 에너지를 의미한다.
상세한 설명
도 1은 입력 전력의 피드백 제어에 의해 피부 및 피하 조직의 비접촉식 치료를 위한 장치의 블록 선도를 도시한다. 상기 장치는 파워 서플라이(1), HF 발생기(2) 및 적어도 하나의 전극(5)을 포함할 수 있다. 파워 서플라이(1)는 전원에 연결된다. 발생된 신호의 입력 전력은 40W, 그리고 더 바람직하게는 80W를 초과한다. HF 발생기(2)는 1 ㎒ 내지 100 ㎓ 범위의 전자기장 또는 임의의 다른 주파수의 전기장도 역시 발생할 수 있다. 6.78, 13.56, 27.12 및 40.68 ㎒; 2.45, 5.80 ㎓ 그리고 모든 다른 ISM 대역은 이들 주파수가 자유 주파수 또는 개방 주파수로서 배타적으로 할당되기 때문에 무선주파수 간섭의 생성을 방지한다.
HF 발생기(2)로부터의 출력 신호는 차후에, 피부의 표면 위에 위치되거나 피부 표면과 접촉하는 유전체 또는 절연성 비-접촉 재료에 적용될 수 있는 전극(5)으로 안내된다. RF 에너지를 환자에게 전달하는 비접촉식 피부 치료를 위한 장치는 대칭 전압 파워 서플라이로서 구성된다.
하나 이상의 센서(4)가 적어도 하나의 물리량, 예를 들어 전압, 전류 또는 물리량들 사이의 위상 변이에 대한 값을 측정하도록 HF 발생기(2)와 적어도 하나의 전극(5) 사이에 위치된다.
선택적으로, 트랜스매치(3)가 전송 케이블에 의해서 HF 발생기(2)에 연결될 수 있다. 트랜스매치(3)는 RF 발생기(2)로부터의 신호를 적합화하고, 예를 들어 SWR 계기에 의해 측정된 반사 계수에 기초하여 전력 전달을 최적화하고 반사 신호 부하를 최소화하기 위해 임피던스를 매칭시킨다. 트랜스매치(3)는 관련기술분야에 공지된 바와 같은 적절한 전기기계식 부품을 사용함으로써 높은 전력 부하에 견디도록 설계된다.
트랜스매치(3)로부터의 출력 신호는 기생 효과가 발생할 수 있는 전송 케이블에 의해 전극(5)에 제공된다. 바람직하지 않은 기생 효과는 전송 케이블의 내부 정전용량이 주 원인이다. 기생 정전용량은 전송 케이블의 인접, 다른 전도체의 인접 또는 고주파수 신호에 의해 심해질 수 있다. 기생 효과는 출력 파워의 감소를 유발하며 센서(4)에 의해 측정된 값을 왜곡시킨다.
기생 정전용량의 상당한 감소는 전송 케이블의 재료 조성 및 전송 케이블(8)의 쉐이딩(shading)에 의해 달성될 수 있다. 예를 들어, 전송 케이블 내의 기생 정전용량은 전도체들 사이의 공간이 유전체로 채워지는 외부 원통형 전도체와 내부 전도체를 갖춘 전기 케이블을 사용함으로써 감소 또는 제거된다. 결과적으로, 장치 내측의 적어도 하나의 물리량에 대한 값을 더 정확하게 측정하는 것이 가능하며, 이는 치료 중에 환자에게 전달되는 실제 파워가 결정될 수 있게 한다.
도 1에 도시된 바와 같이, 파워 서플라이(1), HF 발생기(2), 트랜스매치(3) 및 센서(4)는 마이크로프로세서 제어 유닛(6)에 통신 가능하게 연결될 수 있다. 마이크로프로세서 제어 유닛(6)은 장치의 디스플레이 상의 터치 스크린일 수 있는 사용자 인터페이스(7)와의 통신을 제공할 수 있다.
전파에 의해 피부 및 사람 조직의 치료를 위한 비접촉식 장치는 환자의 지정된 부위에 대한 제어식 가열을 유발한다. 예를 들어, 미국 특허 공보 제 2014/0249609 호에 설명된 바와 같은 치료 장치의 설정에 기초하여, 전파는 진피 및/또는 하피에 대한 선택적인 가열을 유발한다. 제어식 가열은 지질-풍부-세포(lipid-rich cell)의 양에 대한 리모델링 또는 축소를 유도하고/하거나 콜라겐 조직의 리모델링 및/또는 탄력 섬유의 리모델링을 유도할 수 있다.
그러나, 환자와 치료 전극의 평균 임피던스는 하기에서 논의되는 이유로 인해 치료 중에 변하며, 이는 치료의 불균일을 유발할 수 있다. 환자와 치료 전극의 임피던스는 커패시터와 저항기로 구성되는 직렬 회로의 임피던스와 비교될 수 있다. 통상적인 정전용량 값은 약 0.1 내지 100 pF 범위이고 저항은 약 0.1 내지 100 옴(ohm) 범위이다.
환자가 RF 신호의 소스와 직접적으로 접촉하지 않기 때문에, 치료 중에 환자와 적어도 하나의 전극 사이의 거리는 항시 변한다. 환자의 피부와 적어도 하나의 전극 사이의 공간은 공기 간극에 의해 또는 고도의 통기성 재료에 의해 점유된다. 전극과 환자 사이의 거리는 환자의 움직임으로 인해 그리고 진동을 유발하는 호흡 및 심장박동과 같은 생체 리듬에 의해 또는 치료 조직의 움직임에 의해 변한다. 치료 중의 작은 움직임 및 변위는 임피던스 변경을 유발할 수 있으며 전체 치료 시간 동안에 신호는 바뀌지 않는다. 그러므로, 환자에게로 보내지고 환자에 의해 흡수되는 출력 에너지는 치료 중에 달라질 수 있다.
실제 임피던스는 위에서 언급한 요인들 이외에도, 환자의 몸매와 기질 및 지방 조직의 양에도 또한 의존한다. 환자의 치료되는 피부 또는 피하 조직에 대한 최적 가열을 낮은 저항으로 달성하기 위해서, 공급되는 전력을 증가시키는 것이 필요하다. 그러나, 정전용량은 바람직하지 않은 고전압의 형성을 유발한다. 그 전압은 이러한 부위에서 약 수 kV로 발생할 수 있다. 과도한 전압은 표피 층에서 소모되는 에너지의 가변 양에 따라서, 치료 과정의 품질에 영향을 끼치며 치료의 불균일을 유도할 수 있다. 고전압은 또한 근처 전기 장비와의 간섭을 유발할 수 있다.
이들 치료의 불규칙성을 극복하기 위해서, 일 실시예에서 센서(4)는 적어도 하나의 물리량(예를 들어, 전압, 전류) 또는 물리량들 사이의 위상 편이에 대한 출력 값을 측정한다. 하나 초과의 전극을 사용하는 경우에, 센서(4)는 각각의 전극으로 이어지는 대칭 신호 케이블의 상이한 분기부들 사이의 값을 측정할 수 있다. 전극에 더 가까우면 가까울수록 센서는 측정될 값을 더욱더 정확하게 측정할 수 있다.
그러나, 센서(4)가 전극 근처에 배치될 때, 상기 값은 출력 값이 수 kV에 도달할 수 있기 때문에 일반적인 측정 장치의 범위를 벗어날 수 있다. 그러므로, 센서(4)는 선택적으로 트랜스매치(3)의 뒤쪽에 가깝게 배치될 수 있다. 이러한 부분에서 측정된 값은 장치의 전극에 근접하게 위치되는 정도에 비례하고, 수십 내지 수백 볼트 범위에 있다.
다른 실시예에서, 장치의 임의의 부분에서 값들이 측정될지라도 적어도 하나의 물리량에 대한 출력 값을 결정하기 위해서 참조표(look-up-table) 또는 보정 함수가 사용될 수 있다. 참조표는 또한, 환자에게로 전달되는 출력 파워를 결정하는데 사용될 수 있다. 유사한 방식으로, 장치의 전송 특징에 대응하는 보정 함수, 예를 들어 y = f(x)(여기서, 입력(x)은 장치 내측의 물리량에 대한 측정 값을 나타냄)에 의해 환자에게 전달되는 출력 파워를 결정하는 것이 가능하다. 따라서, 전송 특징의 결정에 의해서 출력 값을 측정하고 환자에게 전달되는 출력 파워를 계산하도록 트랜스매치 뒤의 어느 곳에든 센서(4)를 배치하는 것이 가능하다.
주어진 시간에 환자에게 전달되는 실제 전력은 공식 P = U·I·cos φ에 따라 계산될 수 있다. 여기서, U는 전압 출력 값, I는 전류 출력 값, cos φ는 전압과 전류 사이의 위상 변이이다. 그와 같은 계산의 요약은 또한 조작자에게 치료 중 환자에게 전달되는 진 에너지(true energy)를 제공할 수 있다.
측정된 값은 심지어 센서 그 자체에 의해 또는 센서(4)에 전기적으로 접속되는 마이크로프로세서 제어 유닛(6)에 의해 모니터되고 평가될 수 있다. 측정된 값이 미리 결정된 한계값을 초과하면, 피드백 신호가 입력 전력을 조정하도록 파워 서플라이(1) 또는 HF 발생기(2)로 보내진다. 그 신호는 정성적인(예를 들어, 예/아니오) 및 정량적인 값(예를 들어, 실제 값) 양자 모두인 임계값을 초과하는 것에 관한 정보를 포함할 수 있다. 센서(4)로부터의 신호는 전송된 신호에 대한 전자기장 효과를 제거하도록 예를 들어, 광 섬유에 의해 광 정보로서 전송될 수 있다.
비접촉식 피부 및 사람 조직 치료를 위한 방법은 입력 전력을 점진적으로 증가시킴으로써 시작된다. 최초 입력 전력은 예를 들어, 10W일 수 있으며, 결과적으로 주어진 치료법에 대한 최대 입력 전력까지 추가의, 예를 들어 10W만큼의 미리 결정된 간격으로 증가될 수 있다. 유사하게, 입력 전력은 연속적으로 추가될 수 있다. 최초 입력 전력의 크기, 연속 증분의 급격한 증가 또는 비율은 치료 종류에 따라 상이할 수 있다.
입력 전력은 출력 값을 측정하는 센서(4)가 임계값보다 더 큰 출력 값을 측정할 때까지 점진적으로 증가된다. 측정된 값이 임계값을 초과할 때, 입력 전력은 마지막 증분만큼 감소되거나 마지막으로 측정된 값이 임계값을 초과하는 양과 동일한 값만큼 감소된다. 출력량에 대한 임계값은 치료 종류에 기초하여 조정될 수 있다.
환자의 임피던스가 전극과 환자의 피부 사이의 거리에서의 임의의 변동에 의존하기 때문에, 시스템은 그와 같은 변동에 반응하는 것이 유리하다. 적어도 하나의 물리량에 대한 출력값의 표본 주파수 측정값은 0.01 ㎐보다 높아야 한다.
치료 기간은 계산된 출력 파워에 의해 영향을 받을 수 있다. 예로서 특정 종류의 치료법을 위한 출력 파워에 대한 미리 결정된 범위가 있을 수 있다. 미리 결정된 범위 내에서 소비되는 치료 시간은 실제 치료 시간으로 계산될 것이다. 그러므로, 낮은/높은 전력이 치료 시간에 포함되지 않을 것이기 때문에 치료는 더욱더 정확해질 것이다.
또 다른 실시예에 따라서 비접촉식 피부 및 사람 조직 치료를 위한 장치는 전기장 세기를 측정하는 센서와 통신한다. 전기장 세기 센서에 의해 측정된 값에 기초하여 입력 전력이 조정된다. 통신 링크는 유선 및 무선일 수 있다. 전기장 세기를 측정하는 센서는 환자의 피부에 아주 근접하게 또는 피부에 직접적으로 배치될 수 있거나 상기 센서는 장치에 내장되거나 외부 장치일 수 있다. 전기장 세기가 미리정해진 임계값을 초과하면, 입력 전력은 마지막 증분만큼 감소되거나 마지막으로 측정된 값이 임계값을 초과하는 양과 동일한 값만큼 감소된다.
환자의 피부 온도는 임의로 측정될 수 있으며, 측정된 피부 온도에 기초하여 입력 전력이 조정된다. 치료 중의 최적 피부 표면 온도는 38℃ 내지 48℃, 바람직하게 41℃ 내지 44℃이다. 환자의 피부의 온도를 측정하는 센서는 환자의 피부에 아주 근접하게 배치되거나 피부 위에 직접적으로 배치될 수 있다. 피부 온도가 미리정해진 임계값을 초과하면, 입력 전력은 마지막 증분만큼 감소되거나 마지막으로 측정된 값이 임계값을 초과하는 양과 동일한 값만큼 감소된다. 유사하게, 인용에 의해 본 발명에 포함되는 예를 들어 WO2014114433 호에서 처럼 비접촉식 방법에 의해 피부 및/또는 사람 조직의 온도를 측정하는 것이 가능하다. 이들은 깊은 층들에서 온도에 관한 상세한 정보를 얻기 위한 접촉식 또는 비접촉식 또는 침습성 방법일 수 있다. 환자의 온도를 측정하는 센서는 내장 장치 또는 외부 장치일 수 있다.
거리 센서는 적어도 하나의 전극과 환자 사이의 거리를 측정할 수 있다. 측정된 거리 값에 기초하여, 입력 전력이 즉시 조정될 수 있다. 전극과 환자 사이의 최적 거리는 전파의 치료 주파수, 치료된 부위, 임피던스 및 지속 시간에 따라 변한다. 최적 거리는 십분의 수 센티미터에 걸쳐 변할 것이다. 그 거리가 미리 정해진 임계값을 초과하면, 입력 전력은 마지막 증분만큼 감소되거나 마지막으로 측정된 값이 임계값을 초과하는 양과 동일한 값만큼 감소된다. 적어도 하나의 전극과 환자 사이의 거리를 측정하는 센서는 내장 장치 또는 외부 장치일 수 있다.
대안으로, 시스템은 수신된 환자의 임피던스 값에 따라 입력 전력을 제어할 수 있다. 환자의 임피던스를 측정하는 센서는 내장 장치 또는 외부 장치일 수 있다.

Claims (19)

  1. 전자기파에 의한 비접촉식 피부 치료 장치이며,
    고주파 발생기에 전기적으로 접속되는 파워 서플라이; 및
    각각 전송 케이블에 연결되는 적어도 두 개의 전극을 포함하며;
    상기 고주파 발생기는 전송 케이블에 의해 적어도 두 개의 전극으로 전송되는 고주파 신호를 발생하며,
    상기 전송 케이블은 대칭 신호를 운송하며,
    상기 전송 케이블은 외부 원통형 전도체 및 내부 전도체를 가지며 상기 전도체들 사이의 공간은 유전체 재료로 채워지는 전자기파에 의한 비접촉식 피부 치료 장치.
  2. 제1항에 있어서, 적어도 하나의 물리량을 측정하는 센서를 더 포함하는 전자기파에 의한 비접촉식 피부 치료 장치.
  3. 제2항에 있어서, 상기 센서는 고주파 발생기와 전극 사이의 적어도 하나의 물리량에 대한 값을 측정하는 전자기파에 의한 비접촉식 피부 치료 장치.
  4. 제2항에 있어서, 상기 고주파 발생기와 센서 사이에 트랜스매치(transmatch)를 더 포함하는 전자기파에 의한 비접촉식 피부 치료 장치.
  5. 제4항에 있어서, 상기 센서는 트랜스매치와 전극 사이의 적어도 하나의 물리량에 대한 값을 측정하는 전자기파에 의한 비접촉식 피부 치료 장치.
  6. 제1항에 있어서, 상기 장치는 피부에 유해하지 않은 전자기파를 발생하는 전자기파에 의한 비접촉식 피부 치료 장치.
  7. 제6항에 있어서, 상기 전자기파는 피부에 대한 가열을 유발하는 전자기파에 의한 비접촉식 피부 치료 장치.
  8. 제6항에 있어서, 상기 전자기파는 진피 및/또는 하피에 대한 선택적인 가열을 유발하는 전자기파에 의한 비접촉식 피부 치료 장치.
  9. 제7항에 있어서, 상기 가열은 지질-풍부 세포의 양에 대한 리모델링 및/또는 축소를 유발하고/하거나 콜라겐 조직의 리모델링 및/또는 탄력 섬유의 리모델링을 유발하는 전자기파에 의한 비접촉식 피부 치료 장치.
  10. 제2항에 있어서, 상기 파워 서플라이 및 센서에 전기적으로 접속되는 제어 유닛을 더 포함하는 전자기파에 의한 비접촉식 피부 치료 장치.
  11. 제10항에 있어서, 상기 제어 유닛은 참조표 또는 전달 함수를 사용하여 물리량에 대한 출력 값을 결정하며 상기 제어 유닛에서 입력 전력이 상기 출력 값에 기초하여 조절되는 전자기파에 의한 비접촉식 피부 치료 장치.
  12. 제10항에 있어서, 상기 제어 유닛은 출력 파워를 계산하는 전자기파에 의한 비접촉식 피부 치료 장치.
  13. 제11항에 있어서, 상기 출력 값은 온도인 전자기파에 의한 비접촉식 피부 치료 장치.
  14. 제11항에 있어서, 상기 출력 값은 전극과 피부 사이의 거리인 전자기파에 의한 비접촉식 피부 치료 장치.
  15. 제11항에 있어서, 상기 출력 값은 임피던스인 전자기파에 의한 비접촉식 피부 치료 장치.
  16. 제2항에 있어서, 상기 물리량은 전기장 세기인 전자기파에 의한 비접촉식 피부 치료 장치.
  17. 제2항에 있어서, 상기 적어도 하나의 물리량은 전류인 전자기파에 의한 비접촉식 피부 치료 장치.
  18. 제2항에 있어서, 상기 적어도 하나의 물리량은 전압인 전자기파에 의한 비접촉식 피부 치료 장치.
  19. 제2항에 있어서, 상기 적어도 하나의 물리량은 위상 변이인 전자기파에 의한 비접촉식 피부 치료 장치.
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