KR20160094309A - 박리 필름 및 박리 필름의 제조 방법 - Google Patents

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아츠시 구로카와
료 다카하시
고지 미야모토
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린텍 가부시키가이샤
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Abstract

(과제) 평활성을 가지면서 내블로킹성이 우수한 박리 필름 및 박리 필름의 제조 방법을 제공하는 것.
(해결 수단) 본 발명의 박리 필름 (1) 은, 폴리에스테르 필름으로 이루어지는 기재 (11) 와, 기재 (11) 의 일방의 표면 (11a) 상에 박리제층 형성용 조성물을 도포하여 형성된 박리제층 (12) 을 구비하고, 기재 (11) 는, 산술 평균 거칠기 Ra 가 5 ㎚ 이상 40 ㎚ 이하이고, 최대 돌기 높이 Rp 가 50 ㎚ 이상 1000 ㎚ 이하이고, 박리제층 (12) 은, 두께가 0.05 ㎛ 이상 0.35 ㎛ 이하이며, 원자간력 현미경을 사용하여 측정한 포스 커브로부터 산출된 박리제층 (12) 의 응착 에너지가, 15 mJ/㎡ 이상 35 mJ/㎡ 이하인 것을 특징으로 한다.

Description

박리 필름 및 박리 필름의 제조 방법 {RELEASE FILM AND MANUFACTURING METHOD OF THE RELEASE FILM}
본 발명은, 박리 필름 및 박리 필름의 제조 방법에 관한 것이고, 상세하게는 폴리에스테르 필름을 기재로 하는 박리 필름 및 박리 필름의 제조 방법에 관한 것이다.
박리제층을 갖는 박리 필름은, 점착 재료의 점착면을 보호하도록 점착제층에 적층되거나, 수지막이나 세라믹 그린 시트를 막 제조하기 위한 캐리어로서 사용되고 있다 (예를 들어, 특허문헌 1 참조). 이 특허문헌 1 에 기재된 박리 필름은, 폴리에스테르 필름의 일방의 표면 상에 형성되는 이형층이 실리카 입자 등의 불활성 미립자를 함유한다. 이 박리 필름은, 이형층에 함유되는 불활성 미립자에 의해 이형층의 표면 거칠기가 적당히 거칠어지기 때문에, 박리 필름을 롤상으로 권취했을 때에 발생하는 박리 필름의 표리가 밀착되는 첩부 현상 (이하, 「블로킹」이라고도 한다) 을 방지하는 것이 가능해진다.
일본 공개특허공보 2004-255704호
그러나, 특허문헌 1 에 기재된 박리 필름에 있어서는, 이형층에 불활성 미립자를 함유하기 때문에, 표면 거칠기가 높아져 내블로킹성이 우수한 한편, 점착제에 대한 박리력으로서는, 불활성 미립자의 영향으로 박리력이 높아져, 목적에 따른 박리력의 제어와 내블로킹성의 양립이 곤란하였다. 이 때문에, 특허문헌 1 에 기재된 박리 필름에 있어서는, 이형층의 형성에 사용되는 이형층 형성용 조성물의 종류가 제한되어, 박리 필름으로서 충분한 성능이 얻어지지 않는 경우가 있었다.
본 발명은, 이와 같은 실정을 감안하여 이루어진 것으로, 평활성을 가지면서 내블로킹성이 우수한 박리 필름 및 박리 필름의 제조 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명의 박리 필름은, 폴리에스테르 필름으로 이루어지는 기재와, 상기 기재의 일방의 표면 상에 박리제층 형성용 조성물을 도포하여 형성된 박리제층을 구비하고, 상기 기재는, 산술 평균 거칠기 Ra 가 5 ㎚ 이상 40 ㎚ 이하이고, 최대 돌기 높이 Rp 가 50 ㎚ 이상 1000 ㎚ 이하이고, 상기 박리제층은, 두께가 0.05 ㎛ 이상 0.35 ㎛ 이하이며, 원자간력 현미경을 사용하여 측정한 포스 커브로부터 산출된 상기 박리제층의 응착 에너지가, 15 mJ/㎡ 이상 35 mJ/㎡ 이하인 것을 특징으로 한다.
이 박리 필름에 의하면, 산술 평균 거칠기 Ra 가 5 ㎚ 이상 40 ㎚ 이하이고, 최대 돌기 높이 Rp 가 50 ㎚ 이상 1000 ㎚ 이하이기 때문에, 기재의 표면 및 박리제층의 표면 거칠기가 적당한 범위가 되어, 기재 상에 형성된 박리제층의 표면을 평활하게 할 수 있음과 함께, 적당한 내블로킹성이 얻어진다. 그리고, 박리제층의 두께가 0.05 ㎛ 이상 0.35 ㎛ 이하이기 때문에, 박리제층의 두께 불균일에 의한 박리력의 불균일을 저감시킬 수 있음과 함께, 박리제층 표면의 외관 (도포면 상태) 을 해치지 않고 내블로킹성이 향상된다. 또한, 박리제층의 응착 에너지가 15 mJ/㎡ 이상 35 mJ/㎡ 이하이기 때문에, 적당한 점탄성체가 되어, 박리제층에 불활성 미립자를 함유시키지 않고 내블로킹성이 향상된다. 따라서, 평활성을 가지면서 내블로킹성이 우수한 박리 필름을 실현할 수 있다.
본 발명의 박리 필름에 있어서는, 상기 박리제층 형성용 조성물이, 오르가노폴리실록산을 함유하는 것이 바람직하다. 이 구성에 의해, 점착제에 대해 적당한 박리성이 얻어진다.
본 발명의 박리 필름에 있어서는, 상기 기재의 두께가, 10 ㎛ 이상 150 ㎛ 이하인 것이 바람직하다. 사용 용도에 따라 다르지만, 이 구성에 의해, 기재의 가공성이 향상됨과 함께, 기재의 비용을 저감시키는 것이 가능해진다.
본 발명의 박리 필름의 제조 방법은, 산술 평균 거칠기 Ra 가 5 ㎚ 이상 40 ㎚ 이하이고, 최대 돌기 높이 Rp 가 50 ㎚ 이상 1000 ㎚ 이하인 폴리에스테르 필름으로 이루어지는 기재 상에, 박리제층 형성용 조성물을 도포하여 두께가 0.05 ㎛ 이상 0.35 ㎛ 이하인 박리제층을 형성하여, 원자간력 현미경을 사용하여 측정한 포스 커브로부터 산출된 상기 박리제층의 응착 에너지가, 15 mJ/㎡ 이상 35 mJ/㎡ 이하인 박리 필름을 얻는 공정을 포함하는 것을 특징으로 한다.
이 박리 필름의 제조 방법에 의하면, 산술 평균 거칠기 Ra 가 5 ㎚ 이상 40 ㎚ 이하이고, 최대 돌기 높이 Rp 가 50 ㎚ 이상 1000 ㎚ 이하이기 때문에, 기재의 표면 및 박리제층의 표면 거칠기가 적당한 범위가 되어, 기재 상에 형성된 박리제층의 표면을 평활하게 할 수 있음과 함께, 우수한 내블로킹성이 얻어진다. 그리고, 박리제층의 두께가 0.05 ㎛ 이상 0.35 ㎛ 이하이기 때문에, 박리제층의 두께 불균일에 의한 박리력의 불균일을 저감시킬 수 있음과 함께, 박리제층 표면의 외관을 해치지 않고, 내블로킹성이 향상된다. 또한, 박리제층의 응착 에너지가 15 mJ/㎡ 이상 35 mJ/㎡ 이하이기 때문에, 적당한 점탄성체가 되어, 박리제층에 불활성 미립자를 함유시키지 않고, 내블로킹성이 향상된다. 따라서, 평활성을 가지면서 내블로킹성이 우수한 박리 필름을 실현할 수 있다.
본 발명에 의하면, 평활성을 가지면서 내블로킹성이 우수한 박리 필름 및 박리 필름의 제조 방법을 실현할 수 있다.
도 1 은, 본 발명의 일 실시형태에 관련된 박리 필름의 모식 단면도이다.
이하, 본 발명의 일 실시형태에 대하여, 첨부 도면을 참조하여 상세하게 설명한다. 또한, 본 발명은, 이하의 실시형태에 한정되는 것은 아니며, 적절히 변경하여 실시 가능하다.
(박리 필름 (1))
도 1 은, 본 발명의 일 실시형태에 관련된 박리 필름 (1) 의 모식 단면도이다. 도 1 에 나타내는 바와 같이, 본 실시형태에 관련된 박리 필름 (1) 은, 폴리에스테르 필름으로 이루어지는 기재 (11) 와, 이 기재 (11) 의 일방의 표면 (11a) 상에 박리제층 형성용 조성물을 도포하여 형성된 박리제층 (12) 을 구비한다. 이 박리 필름 (1) 은, 코어재에 롤상으로 권취하여 보관하는 것이 가능하다.
본 실시형태에 관련된 박리 필름 (1) 은, 원자간력 현미경을 사용하여 측정한 포스 커브로부터 산출된 박리제층 (12) 의 응착 에너지가, 15 mJ/㎡ 이상 35 mJ/㎡ 이하이다. 이 박리 필름 (1) 에 있어서는, 박리제층 (12) 의 응착 에너지가 15 mJ/㎡ 이상 35 mJ/㎡ 이하이기 때문에, 박리제층 (12) 이 적당한 점탄성체가 되어, 박리제층 (12) 에 불활성 미립자를 함유시키지 않고, 내블로킹성이 향상된다. 따라서, 박리 필름 (1) 은, 평활성을 가지면서 내블로킹성이 우수하여, 롤상으로 사용되는 박리 필름으로서 바람직하게 사용하는 것이 가능해진다. 상기 서술한 효과를 얻는 관점에서, 박리제층 (12) 의 응착 에너지는, 15 mJ/㎡ 이상이고, 16 mJ/㎡ 이상이 바람직하고, 18 mJ/㎡ 이상이 보다 바람직하고, 또 35 mJ/㎡ 이하이고, 30 mJ/㎡ 이하가 바람직하고, 25 mJ/㎡ 이하가 보다 바람직하다. 이상을 고려하면, 박리제층 (12) 의 응착 에너지는, 15 mJ/㎡ 이상 35 mJ/㎡ 이하이고, 16 mJ/㎡ 이상 30 mJ/㎡ 이하가 바람직하고, 18 mJ/㎡ 이상 25 mJ/㎡ 이하가 보다 바람직하다.
본 실시형태에 있어서는, 박리제층 (12) 의 응착 에너지는, 예를 들어, 원자간력 현미경인 프로브 현미경 (상품명 : SPM-9700, 시마즈 제작소사 제조) 에 실리콘 프로브 (Team nanotec 제조, LRCH 곡률 반경 250 ㎚, 스프링 정수 0.2 N/m) 를 장착하고, 600 m/s 로 탭핑을 실시하여 얻어진 포스 커브에 기초하여 JKR 2 점법에 준거하여 산출한 것이다. 이하, 본 실시형태에 관련된 박리 필름 (1) 의 각종 구성 요소에 대해서 상세하게 설명한다.
박리 필름 (1) 의 두께로는 10 ㎛ 이상이 바람직하고, 15 ㎛ 이상이 보다 바람직하고, 200 ㎛ 이하가 바람직하고, 125 ㎛ 이하가 보다 바람직하다.
(기재 (11))
기재 (11) 로는, 각종 폴리에스테르 필름을 사용하는 것이 가능하다. 폴리에스테르 필름은, 내열성이 우수하고, 또 PP (폴리프로필렌) 나 PE (폴리에틸렌) 와 같은 피쉬아이가 적어, 품질적으로 우수하다. 폴리에스테르 필름으로는, 예를 들어, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트 및 폴리에틸렌나프탈레이트 등의 폴리에스테르 필름이 바람직하다. 또, 폴리에스테르 필름으로는, 2 축 연신 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름이 보다 바람직하다.
기재 (11) 로는, 산술 평균 거칠기 Ra 가 5 ㎚ 이상 40 ㎚ 이하인 것을 사용한다. 기재 (11) 의 산술 평균 거칠기 Ra 가 5 ㎚ 이상임으로써, 기재 (11) 의 표면 및 박리제층 (12) 의 표면이 적당히 거칠어져, 내블로킹성이 향상된다. 또, 기재 (11) 의 산술 평균 거칠기 Ra 가 40 ㎚ 이하임으로써, 기재 (11) 의 표면 및 박리제층 (12) 의 표면이 적당히 평활해지기 때문에, 기재 (11) 상에 형성된 박리제층 (12) 의 표면을 평활하게 할 수 있다. 상기 서술한 효과를 얻는 관점에서, 기재 (11) 의 산술 평균 거칠기 Ra 로는 5 ㎚ 이상이고, 10 ㎚ 이상이 바람직하고, 15 ㎚ 이상이 보다 바람직하고, 또 40 ㎚ 이하이고, 38 ㎚ 이하가 바람직하고, 37 ㎚ 이하가 보다 바람직하다. 이상을 고려하면, 기재 (11) 의 산술 평균 거칠기 Ra 로는, 5 ㎚ 이상 40 ㎚ 이하이고, 10 ㎚ 이상 38 ㎚ 이하가 바람직하고, 15 ㎚ 이상 37 ㎚ 이하가 보다 바람직하다.
또, 기재 (11) 로는, 최대 돌기 높이 Rp 가 50 ㎚ 이상 1000 ㎚ 이하인 것을 사용한다. 기재 (11) 의 최대 돌기 높이 Rp 가 50 ㎚ 이상임으로써, 기재 (11) 의 표면 및 박리제층 (12) 의 표면이 적당히 거칠어져, 내블로킹성이 향상된다. 또, 기재 (11) 의 최대 돌기 높이 Rp 가 1000 ㎚ 이하임으로써, 기재 (11) 의 표면 및 박리제층 (12) 의 표면이 적당히 평활해지기 때문에, 기재 (11) 상에 형성된 박리제층 (12) 의 표면을 평활하게 할 수 있다. 상기 서술한 효과를 얻는 관점에서, 기재 (11) 의 최대 돌기 높이 Rp 로는, 50 ㎚ 이상이고, 100 ㎚ 이상이 바람직하고, 150 ㎚ 이상이 보다 바람직하고, 또 1000 ㎚ 이하이고, 500 ㎚ 이하가 바람직하고, 300 ㎚ 이하가 보다 바람직하다. 이상을 고려하면, 기재 (11) 의 최대 돌기 높이 Rp 로는, 50 ㎚ 이상 1000 ㎚ 이하이고, 100 ㎚ 이상 500 ㎚ 이하가 바람직하고, 150 ㎚ 이상 300 ㎚ 이하가 보다 바람직하다.
기재 (11) 의 두께 (T1) 는, 용도에 따라 적절히 변경 가능하다. 기재 (11) 의 두께 (T1) 는, 박리 필름 (1) 의 강도를 유지하는 관점, 및 박리 필름 (1) 에 적층된 층의 펀칭 가공 적성 및 기타 사용시의 핸들링성을 확보하는 관점에서, 10 ㎛ 이상이 바람직하고, 20 ㎛ 이상이 보다 바람직하고, 30 ㎛ 이상이 더욱 바람직하고, 또 200 ㎛ 이하가 바람직하고, 150 ㎛ 이하가 보다 바람직하고, 125 ㎛ 이하가 더욱 바람직하다. 이상을 고려하면, 기재 (11) 의 두께 (T1) 는, 10 ㎛ 이상 200 ㎛ 이하가 바람직하고, 20 ㎛ 이상 150 ㎛ 이하가 보다 바람직하고, 30 ㎛ 이상 125 ㎛ 이하가 더욱 바람직하다.
(박리제층 (12))
박리제층 (12) 은, 예를 들어, 이형제를 함유하는 박리제층 형성용 조성물의 경화물로 형성된다. 박리제층 형성용 조성물로는, 박리제층 (12) 상에 적층되는 임의의 층을 박리 필름 (1) 으로부터 박리시키는 기능을 박리제층 (12) 에 부여할 수 있는 것이면 특별히 제한은 없다. 이형제로는, 예를 들어 실리콘 (silicone) 수지, 장사슬 알킬 수지 및 알키드 수지 등을 들 수 있다.
실리콘계 이형제로는, 부가 반응형 실리콘, 축합 반응형 실리콘, 에너지선 경화성 실리콘을 들 수 있다. 또, 박리력을 조정하기 위해, 무관능의 폴리디메틸실록산, 페닐 변성 실리콘, 실리콘 레진, 실리카, 셀룰로오스계 화합물을 첨가제로서 사용해도 된다.
박리 필름 (1) 에 있어서는, 박리제층 형성용 조성물이, 오르가노폴리실록산을 함유하는 것이 바람직하다. 이로써, 점착제에 대해 적당한 박리성이 얻어진다.
박리제층 (12) 의 두께 (T2) 는, 0.05 ㎛ 이상 0.35 ㎛ 이하이다. 박리제층 (12) 의 두께 (T2) 가 0.05 ㎛ 이상임으로써, 박리제층 (12) 의 두께 불균일에 의한 박리력의 불균일을 저감시킬 수 있음과 함께, 박리제층 (12) 의 표면의 평활성이 적당히 향상되어 박리 필름 (1) 의 외관이 향상된다. 또, 박리제층 (12) 의 두께 (T2) 가 0.35 ㎛ 이하임으로써, 박리제층 (12) 의 표면 거칠기가 적당히 거칠어져, 박리 필름 (1) 의 내블로킹성이 향상된다. 상기 서술한 효과를 얻는 관점에서, 박리제층 (12) 의 두께 (T2) 는, 0.05 ㎛ 이상이고, 0.075 ㎛ 이상이 바람직하고, 0.10 ㎛ 이상이 보다 바람직하고, 또 0.35 ㎛ 이하이고, 0.325 ㎛ 이하가 바람직하고, 0.30 ㎛ 이하가 보다 바람직하다. 이상을 고려하면, 박리제층 (12) 의 두께 (T2) 는, 0.05 ㎛ 이상 0.35 ㎛ 이하이고, 0.075 ㎛ 이상 0.325 ㎛ 이하가 바람직하고, 0.10 ㎛ 이상 0.30 ㎛ 이하가 보다 바람직하다.
또, 박리제층 형성용 조성물로는, 시판품인 비닐메틸실록산 유닛을 함유하는 오르가노폴리실록산 (상품명 : VDT-163, VDT-954, Gelest 사 제조), 하이드로실릴메틸실록산 유닛의 반복인 오르가노폴리실록산 (상품명 : HMS-993, Gelest 사 제조), 및 비닐기를 갖는 MQ 레진 (토오레ㆍ다우코닝사 제조, 상품명 「SD7292」, 고형분 71 질량％) 등을 톨루엔 등의 유기 용제로 소정 농도가 되도록 희석한 용액에, 백금계 촉매 (고형분 2 질량％, 상품명 : cata PL-50T, 신에츠 화학사 제조) 를 소정량 첨가한 것을 사용할 수 있다.
(박리 필름의 제조 방법)
본 실시형태에 관련된 박리 필름의 제조 방법은, 산술 평균 거칠기 Ra 가 5 ㎚ 이상 40 ㎚ 이하이고, 최대 돌기 높이 Rp 가 50 ㎚ 이상 1000 ㎚ 이하인 폴리에스테르 필름으로 이루어지는 기재 (11) 상에, 박리제층 형성용 조성물을 도포하여 두께가 0.05 ㎛ 이상 0.35 ㎛ 이하인 박리제층 (12) 을 형성하여, 원자간력 현미경을 사용하여 측정한 포스 커브로부터 산출된 박리제층 (12) 의 응착 에너지가, 15 mJ/㎡ 이상 35 mJ/㎡ 이하인 박리 필름 (1) 을 얻는 공정을 포함한다.
본 실시형태에 관련된 박리 필름의 제조 방법에 있어서는, 박리제층 (12) 은, 예를 들어, 박리제층 형성용 조성물을 기재 (11) 의 일방의 면에 종래 공지된 도포 방법으로 도포한 후, 소정의 온도에서 가열하여 건조 및 경화시킴으로써 형성한다. 여기에서는, 박리제층 형성용 조성물은, 유기 용매로 희석한 것을 기재 (11) 상에 도포해도 된다. 유기 용매로는, 톨루엔 및 자일렌 등의 방향족 탄화수소, 아세트산에틸 및 아세트산부틸 등의 지방산 에스테르, 메틸에틸케톤 및 메틸이소부틸케톤 등의 케톤, 헥산, 및 헵탄 등의 지방족 탄화수소 등을 들 수 있다.
박리제층 형성용 조성물의 도포 방법으로는, 예를 들어, 그라비아 코트법, 바 코트법, 스프레이 코트법, 스핀 코트법, 에어 나이프 코트법, 롤 코트법, 블레이드 코트법, 게이트 롤 코트법 및 다이 코트법 등을 들 수 있다. 이들 중에서도, 그라비아 코트법 및 바 코트법이 바람직하다. 또, 박리제층 형성용 조성물의 가열ㆍ건조 방법으로는, 예를 들어, 열풍 건조로 등에서 열 건조하는 방법 등을 들 수 있다. 건조 온도는, 예를 들어, 90 ℃ 이상 150 ℃ 이하이다. 또, 건조 시간은, 예를 들어, 10 초간 ∼ 5 분간인 것이 바람직하다.
박리제층 형성용 조성물의 도포 두께는, 0.05 ㎛ 이상 0.35 ㎛ 이하인 것이 바람직하다. 박리제층 형성용 조성물의 도포 두께는, 0.05 ㎛ 이상이면, 박리제층 (12) 의 두께 불균일에서 기인한 박리력의 불균일을 저감시킬 수 있음과 함께, 박리제층 (12) 의 표면의 평활성이 향상되어 박리 필름 (1) 의 표면의 외관이 향상된다. 또, 박리제층 형성용 조성물의 도포량은, 0.35 ㎛ 이하이면 내블로킹성이 향상된다.
이상 설명한 바와 같이, 상기 실시형태에 의하면, 산술 평균 거칠기 Ra 가 5 ㎚ 이상 40 ㎚ 이하이고, 최대 돌기 높이 Rp 가 50 ㎚ 이상 1000 ㎚ 이하이기 때문에, 기재 (11) 의 표면 (11a) 및 박리제층 (12) 의 표면 거칠기가 적당한 범위가 되기 때문에, 기재 (11) 상에 형성된 박리제층 (12) 의 표면 (12a) 을 평활하게 할 수 있음과 함께, 내블로킹성이 향상된다. 그리고, 박리제층 (12) 의 두께가 0.05 ㎛ 이상 0.35 ㎛ 이하이기 때문에, 박리력의 불균일을 저감시킬 수 있음과 함께, 박리제층 (12) 의 표면 (12a) 의 외관을 해치지 않고, 내블로킹성이 향상된다. 또한, 박리제층 (12) 의 응착 에너지가 15 mJ/㎡ 이상 35 mJ/㎡ 이하이기 때문에, 적당한 점탄성체가 되어, 박리제층 (12) 에 불활성 미립자를 함유시키지 않고, 내블로킹성이 향상된다. 따라서, 평활성을 가지면서 내블로킹성이 우수한 박리 필름 (1) 을 실현할 수 있다.
실시예
이하, 본 발명의 효과를 명확하게 하기 위해 실시한 실시예에 기초하여 본 발명을 보다 상세하게 설명한다. 또한, 본 발명은, 이하의 실시예 및 비교예에 의해 조금도 한정되는 것은 아니다.
＜표면 거칠기＞
표면 거칠기는, 산술 평균 거칠기 Ra 및 최대 돌기 높이 Rp 를 측정하여 평가하였다. 산술 평균 거칠기 Ra 및 최대 돌기 높이 Rp 는, 표면 거칠기 측정기 (상품명 : SV3000S4 (촉침식), 미츠토요사 제조) 를 사용하여, JIS B 0601-1994 에 준거하여 측정하였다. 컷 오프값 등은 이하의 조건으로 하였다. λc ＝ 0.25 ㎜, λs ＝ 0.0025 ㎜, 기준 길이 ＝ 2.5 ㎜, 평가 길이 ＝ 10 ㎜, 레인지 ＝ 80, 주사 속도 ＝ 1.0 ㎜/s
＜응착 에너지＞
박리제층 (12) 의 응착 에너지는, 먼저, 실시예 및 비교예에서 얻어진 박리 필름을 스테인리스성의 시료대에 양면 테이프로 고정시키고, 프로브 현미경 (상품명 : SPM-9700, 시마즈 제작소사 제조) 에 실리콘 프로브 (Team nanotec 제조, LRCH 곡률 반경 250 ㎚, 스프링 정수 0.2 N/m) 를 장착한 후, 600 m/s 로 탭핑을 실시하여 포스 커브를 얻었다. 얻어진 포스 커브의 형상으로부터, JKR 2 점법에 준거하여 박리제층의 응착 에너지를 산출하였다.
＜내블로킹성＞
내블로킹성은, 실시예 및 비교예에서 얻어진 박리 필름을, 폭 1290 ㎜, 길이 6000 m 의 롤상으로 감아 올려 박리 필름 롤로 하여 40 ℃ 의 환경하에 7 일간 보관한 후, 박리 필름 롤의 외관을 육안으로 관찰하여 평가하였다. 평가 기준을 이하에 나타낸다.
○ (블로킹 없음) : 보관 전후로 색조에 변화가 없었던 것
△ (블로킹 약간 있음) : 절반 이하의 영역의 색조가 상이한 것
× (블로킹 있음) : 과반의 영역에 걸쳐 색조가 상이한 것
＜대전성＞
대전성은, 실시예 및 비교예에서 얻어진 박리 필름을, 폭 1290 ㎜, 길이 6000 m 의 롤상으로 감아 올려 박리 필름 롤로 하여 40 ℃ 의 환경하에 7 일간 보관한 후, 박리 필름 롤로부터 박리 필름을 풀어낼 때의 대전량을 방폭형 정전기 전위 측정기 (상품명 : KSD-0108, 카스가 전기사 제조) 를 사용하여 측정하였다. 평가 기준을 이하에 나타낸다.
A : 대전량 5 ㎸ 미만
B : 대전량 5 ㎸ 이상 10 ㎸ 미만
C : 대전량 10 ㎸ 이상
＜외관＞
외관은, 박리제층의 표면의 외관을 관찰하여 평가하였다. 실시예 및 비교예에서 얻어진 박리 필름 (중면(重面)측) 에, 아크릴계 점착제 (상품명 : BPS5127, 토요켐사 제조) 를 건조 후에 20 ㎛ 의 두께가 되도록 도포한 후, 105 ℃ 에서 2 분간 건조시켰다. 다음으로, 박리 필름 (상품명 : PET381130, 린텍사 제조) 를 첩합 (貼合) 하여 양면 점착 시트 (논캐리어 필름) 를 제작하였다. 다음으로, 각각의 양면 점착 시트의 경면 (輕面) 박리 필름 (PET381130) 을 떼어내고, 노출된 박리제층을 흑색 아크릴판 (미츠비시 레이온사 제조) 에 첩합하였다. 그 후, 중면 박리 필름을 떼어내고, 형광등의 광을 반사시켜 박리제층의 표면을 관찰하여 평가하였다. 평가 기준을 이하에 나타낸다.
○ : 비친 형광등의 이미지가 일그러지지 않고 보였다
× : 비친 형광등의 이미지가 일그러져 보였다.
＜박리제층 형성용 조성물 A 의 조제＞
비닐메틸실록산 유닛을 0.5 ㏖％ 함유하는 오르가노폴리실록산 (상품명 : VDT-163, Gelest 사 제조) 30 질량부와, 하이드로실릴메틸실록산 유닛의 반복인 오르가노폴리실록산 (상품명 : HMS-993, Gelest 사 제조) 0.35 질량부를 톨루엔 용매로 고형분 농도가 1.0 질량％ 가 되도록 희석 혼합하였다. 이 용액에 백금계 촉매 (고형분 2 질량％, 상품명 : cata PL-50T, 신에츠 화학사 제조) 를 2 질량부 첨가하여, 박리제층 형성용 조성물 A 를 조제하였다.
＜박리제층 형성용 조성물 B 의 조제＞
비닐메틸실록산 유닛을 0.5 ㏖％ 함유하는 오르가노폴리실록산 (상품명 : VDT-163, Gelest 사 제조) 30 질량부와, 하이드로실릴메틸실록산 유닛의 반복인 오르가노폴리실록산 (상품명 : HMS-993, Gelest 사 제조) 0.35 질량부와, 비닐기를 갖는 MQ 레진 (고형분 71 질량％, 상품명 : SD7292, 토오레ㆍ다우코닝사 제조) 을 고형분 환산으로 15 질량부를 톨루엔 용매로 고형분 농도가 1.0 질량％ 가 되도록 희석 혼합하였다. 이 용액에 백금계 촉매 (고형분 2 질량％, 상품명 : cata PL-50T, 신에츠 화학사 제조) 를 2 질량부 첨가하여, 박리제층 형성용 조성물 B 를 조제하였다.
＜박리제층 형성용 조성물 C 의 조제＞
비닐메틸실록산 유닛을 12.0 ㏖％ 함유하는 오르가노폴리실록산 (상품명 : VDT-954, Gelest 사 제조) 30 질량부와, 하이드로실릴메틸실록산 유닛의 반복인 오르가노폴리실록산 (상품명 : HMS-993, Gelest 사 제조) 4.0 질량부를 톨루엔 용매로 고형분 농도가 1.0 질량％ 가 되도록 희석 혼합하였다. 이 용액에 백금계 촉매 (고형분 2 질량％, 상품명 : cata PL-50T, 신에츠 화학사 제조) 를 2 질량부 첨가하여, 박리제층 형성용 조성물 C 를 조제하였다.
＜박리제층 형성용 조성물 D 의 조제＞
비닐메틸실록산 유닛을 0.5 ㏖％ 함유하는 오르가노폴리실록산 (상품명 : VDT-163, Gelest 사 제조) 30 질량부와, 하이드로실릴메틸실록산 유닛의 반복인 오르가노폴리실록산 (상품명 : HMS-993, Gelest 사 제조) 0.35 질량부와, 중(重)박리 첨가제 (고형분 30 질량％, 상품명 : BY24-4980, 토오레ㆍ다우코닝사 제조) 를 고형분 환산으로 10 질량부를, 톨루엔 용매로 고형분 농도가 1.0 질량％ 가 되도록 희석 혼합하였다. 이 용액에 백금계 촉매 (고형분 2 질량％, 상품명 : cata PL-50T, 신에츠 화학사 제조) 를 2 질량부 첨가하여, 박리제층 형성용 조성물 D 를 조제하였다.
＜박리제층 형성용 조성물 E 의 조제＞
비닐메틸실록산 유닛을 0.5 ㏖％ 함유하는 오르가노폴리실록산 (상품명 : VDT-163, Gelest 사 제조) 30 질량부와, 하이드로실릴메틸실록산 유닛의 반복인 오르가노폴리실록산 (상품명 : HMS-993, Gelest 사 제조) 0.35 질량부와, 중박리 첨가제 (고형분 30 질량％, 상품명 : BY24-4980, 토오레ㆍ다우코닝사 제조) 를 고형분 환산으로 5 질량부를 톨루엔 용매로 고형분 농도가 1.0 질량％ 가 되도록 희석 혼합하였다. 이 용액에 백금계 촉매 (고형분 2 질량％, 상품명 : cata PL-50T, 신에츠 화학사 제조) 를 2 질량부 첨가하여, 박리제층 형성용 조성물 E 를 조제하였다.
(실시예 1)
기재로는, 표면 및 이면이 동일 거칠기인 폴리에틸렌테레프탈레이트 (PET) 필름 (두께 38 ㎛, 산술 평균 거칠기 Ra : 20 ㎚, 최대 돌기 높이 Rp : 200 ㎚) 을 사용하였다. 다음으로, 이 기재의 일방의 면에, 박리제층 형성용 조성물 A 를 건조 후의 두께가 0.1 ㎛ 가 되도록 바 코터로 도포한 후, 120 ℃ 에서 1 분간 건조시켜 박리제층을 형성하여 박리 필름을 얻었다.
(실시예 2)
기재를 두께 38 ㎛, 산술 평균 거칠기 Ra : 9 ㎚, 최대 돌기 높이 Rp : 95 ㎚ 로 한 것 이외에는, 실시예 1 과 동일하게 하여 박리 필름을 제작하였다.
(실시예 3)
박리제층 형성용 조성물 A 대신에 박리제층 형성용 조성물 B 를 사용한 것, 및 건조 후의 두께가 0.15 ㎛ 가 되도록 바 코터로 박리제층 형성용 조성물 B 를 도포한 것 이외에는, 실시예 1 과 동일하게 하여 박리 필름을 제작하였다.
(실시예 4)
박리제층 형성용 조성물 A 대신에 박리제층 형성용 조성물 C 를 사용한 것 이외에는, 실시예 1 과 동일하게 하여 박리 필름을 제작하였다.
(실시예 5)
박리제의 도포량을 0.3 ㎛ 로 한 것 이외에는, 실시예 1 과 동일하게 하여 박리 필름을 제작하였다.
(실시예 6)
기재를 두께 38 ㎛, 산술 평균 거칠기 Ra : 37 ㎚, 최대 돌기 높이 Rp : 600 ㎚ 로 한 것 이외에는, 실시예 1 과 동일하게 하여 박리 필름을 제작하였다.
(비교예 1)
박리제층 형성용 조성물 A 대신에 박리제층 형성용 조성물 D 를 사용한 것 이외에는, 실시예 1 과 동일하게 하여 박리 필름을 제작하였다.
(비교예 2)
기재를 두께 38 ㎛, 산술 평균 거칠기 Ra : 9 ㎚, 최대 돌기 높이 Rp : 95 ㎚ 로 한 것 이외에는, 비교예 1 과 동일하게 하여 박리 필름을 제작하였다.
(비교예 3)
기재를 두께 38 ㎛, 산술 평균 거칠기 Ra : 4 ㎚, 최대 돌기 높이 Rp : 22 ㎚ 로 한 것 이외에는, 실시예 1 과 동일하게 하여 박리 필름을 제작하였다.
(비교예 4)
박리제층 형성용 조성물 A 대신에 박리제층 형성용 조성물 E 를 사용한 것 이외에는, 실시예 1 과 동일하게 하여 박리 필름을 제작하였다.
(비교예 5)
박리제의 도포량을 0.4 ㎛ 로 한 것 이외에는, 실시예 1 과 동일하게 하여 박리 필름을 제작하였다.
(비교예 6)
기재를 두께 38 ㎛, 산술 평균 거칠기 Ra : 70 ㎚, 최대 돌기 높이 Rp : 1200 ㎚ 로 한 것 이외에는, 실시예 1 과 동일하게 하여 박리 필름을 제작하였다.
Figure pat00001
표 1 로부터 알 수 있는 바와 같이, 기재의 산술 평균 거칠기 Ra 가 5 ㎚ 이상 40 ㎚ 이하이고, 최대 돌기 높이 Rp 가 50 ㎚ 이상 1000 ㎚ 이하이고, 박리제층의 두께가 0.05 ㎛ 이상 0.35 ㎛ 이하이며, 박리제층의 응착 에너지가 15 mJ/㎡ 이상 35 mJ/㎡ 이하인 경우에는, 모두 우수한 내블로킹성, 대전성 및 외관의 평가가 되는 것을 알 수 있다 (실시예 1 ∼ 6).
이에 반해, 박리제층의 응착 에너지가 35 mJ/㎡ 를 초과하는 경우에는, 모두 내블로킹성이 현저히 저하되는 것을 알 수 있다 (비교예 1, 2, 4). 이 결과는, 박리제층의 응착 에너지가 지나치게 커졌기 때문에, 박리제층의 점탄 특성의 밸런스가 나빠져, 탄성항에 대해 점성항의 영향이 강해져 블로킹이 발생했기 때문으로 생각된다. 또, 기재의 산술 평균 거칠기 Ra 가 5 ㎚ 미만 및 최대 돌기 높이 Rp 가 50 ㎚ 미만이 되는 경우 (비교예 3) 에도 내블로킹성이 현저히 저하되는 것을 알 수 있다 (비교예 3). 이 결과는, 기재가 지나치게 평활하여 박리제층의 표면이 과도하게 평활해졌기 때문에 블로킹이 발생했기 때문으로 생각된다. 또한, 박리제층의 두께가 0.35 ㎛ 를 초과하는 경우에도, 내블로킹성이 현저히 저하되는 것을 알 수 있다 (비교예 5). 이 결과는, 박리제층의 두께가 지나치게 두꺼워 표면이 과도하게 평활해졌기 때문에 블로킹이 발생했기 때문으로 생각된다. 또, 기재의 산술 평균 거칠기 Ra 가 40 ㎚ 초과 및 최대 돌기 높이 Rp 가 1000 ㎚ 초과인 경우에는, 내블로킹성이 양호해지는 한편, 외관의 평가가 악화되는 것을 알 수 있다 (비교예 6). 이 결과는, 박리 필름의 박리제층의 표면의 표면 거칠기가 지나치게 거칠어졌기 때문으로 생각된다.
1 : 박리 필름
11 : 기재
11a : 표면
12 : 박리제층
12a : 표면

Claims (4)

  1. 폴리에스테르 필름으로 이루어지는 기재와,
    상기 기재의 일방의 표면 상에 박리제층 형성용 조성물을 도포하여 형성된 박리제층을 구비하고,
    상기 기재는 산술 평균 거칠기 Ra 가 5 ㎚ 이상 40 ㎚ 이하이고, 최대 돌기 높이 Rp 가 50 ㎚ 이상 1000 ㎚ 이하이고,
    상기 박리제층은 두께가 0.05 ㎛ 이상 0.35 ㎛ 이하이며,
    원자간력 현미경을 사용하여 측정한 포스 커브로부터 산출된 상기 박리제층의 응착 에너지가, 15 mJ/㎡ 이상 35 mJ/㎡ 이하인 것을 특징으로 하는 박리 필름.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 박리제층 형성용 조성물이 오르가노폴리실록산을 함유하는 박리 필름.
  3. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    상기 기재의 두께가 10 ㎛ 이상 150 ㎛ 이하인 박리 필름.
  4. 산술 평균 거칠기 Ra 가 5 ㎚ 이상 40 ㎚ 이하이고, 최대 돌기 높이 Rp 가 50 ㎚ 이상 1000 ㎚ 이하인 폴리에스테르 필름으로 이루어지는 기재 상에, 박리제층 형성용 조성물을 도포하여 두께가 0.05 ㎛ 이상 0.35 ㎛ 이하인 박리제층을 형성하여, 원자간력 현미경을 사용하여 측정한 포스 커브로부터 산출된 상기 박리제층의 응착 에너지가, 15 mJ/㎡ 이상 35 mJ/㎡ 이하인 박리 필름을 얻는 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 박리 필름의 제조 방법.
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