KR20160088980A - 도포 균일성 검사 장치 - Google Patents

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Abstract

본 발명의 실시예에 따른 도포 균일성 검사 장치는, 가시광선을 제공하는 가시광선 광원; 근적외선을 제공하는 근적외선 광원; 가시광선 광원으로부터의 가시광선과, 근적외선 광원으로부터의 근적외선의 적어도 일부분을 중첩시켜 중첩광으로 변환시키는 제1 이색 거울; 중첩광을 빔스플리팅하여 일부는 레퍼런스단으로 보내고 다른 일부는 측정 대상물이 놓인 샘플단으로 보내는 빔스플리터; 레퍼런스단 및 샘플단으로부터 반사된 후 빔스플리터를 통해 전달되는 반사광을 다시 가시광선 및 근적외선 파장의 광신호로 나누는 제2 이색 거울; 제2 이색 거울을 통해 전달되는 가시광선 파장의 광신호를 측정하여 측정 대상물의 표면의 이미지를 획득하는 표면 측정부; 및 제2 이색 거울을 통해 전달되는 근적외선 파장의 광신호를 측정하여 측정 대상물의 단층 이미지를 획득하는 단층 측정부;를 포함할 수 있다.

Description

도포 균일성 검사 장치{Apparatus to detect uniformity of spreaded material}
도포 균일성 검사 장치가 개시된다. 보다 상세하게는, 측정 대상물의 도포 영역뿐 아니라 도포의 균일성을 입체적으로 확인할 수 있는 도포 균일성 검사 장치가 개시된다.
일반적으로 특정 표면에 도포된 물질의 도포 균일성을 검사하기 위해 평면 이미지를 획득하는 것과 단층 이미지를 획득하는 방법이 적용될 수 있다.
이러한 방법은 페인트, 화장품, 안료, 염료 등의 도포 상태 및 균일성을 검사할 때 적용될 수 있을 뿐만 아니라 비파괴 검사 장치 또는 표면 상태 계측 장치 등에도 적용될 수 있다.
그런데, 종래의 도포 균일성 검사 방법은, 도포의 균일성 검사를 위해 표면의 반사율 정보만 이용하거나 도포 물질의 두께만 측정하는 하나의 방식으로만 적용되어 측정 대상물의 단편적인 정보만을 얻을 수 있었다.
두 검사를 병행하는 경우, 측정을 2회 시행해야 하는 번거로움이 있고, 아울러 동일 부위를 측정할 때 좌표의 일치성을 보장하기 어렵다는 한계 또한 있었다.
본 발명의 실시예에 따른 목적은, 일반적으로 육안으로 확인하기 어려운 대비성을 갖고 있는 측정 대상물의 도포 상태에 대하여 가시광선 광원을 통해 특정 파장의 반사율을 확인하는 것으로 균일도의 차이를 극대화하여 보여줄 수 있음은 물론 측정 대상물의 도포 균일성에 대한 정보를 제공하기 때문에 도포 영역뿐 아니라 도포의 균일성을 입체적으로 확인할 수 있는 도포 균일성 검사 장치를 제공하는 것이다.
또한 본 발명의 실시예에 따른 다른 목적은, 하나의 장치로 측정 대상물의 표면 상태뿐만 아니라 단층 정보까지 획득할 수 있어 장치의 슬림화를 구현할 수 있는 도포 균일성 검사 장치를 제공하는 것이다.
본 발명의 실시예에 따른 도포 균일성 검사 장치는, 가시광선을 제공하는 가시광선 광원; 근적외선을 제공하는 근적외선 광원; 상기 가시광선 광원으로부터의 상기 가시광선과, 상기 근적외선 광원으로부터의 상기 근적외선의 적어도 일부분을 중첩시켜 중첩광으로 변환시키는 제1 이색 거울; 상기 중첩광을 빔스플리팅하여 일부는 레퍼런스단으로 보내고 다른 일부는 측정 대상물이 놓인 샘플단으로 보내는 빔스플리터; 상기 레퍼런스단 및 상기 샘플단으로부터 반사된 후 상기 빔스플리터를 통해 전달되는 반사광을 다시 가시광선 및 근적외선 파장의 광신호로 나누는 제2 이색 거울; 상기 제2 이색 거울을 통해 전달되는 상기 가시광선 파장의 광신호를 측정하여 상기 측정 대상물의 표면의 이미지를 획득하는 표면 측정부; 및 상기 제2 이색 거울을 통해 전달되는 상기 근적외선 파장의 광신호를 측정하여 상기 측정 대상물의 단층 이미지를 획득하는 단층 측정부;를 포함할 수 있으며, 이러한 구성에 의해서, 일반적으로 육안으로 확인하기 어려운 대비성을 갖고 있는 측정 대상물의 도포 상태에 대하여 가시광선 광원을 통해 특정 파장의 반사율을 확인하는 것으로 균일도의 차이를 극대화하여 보여줄 수 있음은 물론 측정 대상물의 도포 균일성에 대한 정보를 제공하기 때문에 도포 영역뿐 아니라 도포의 균일성을 입체적으로 확인할 수 있다.
일측에 따르면, 상기 가시광선 광원은 복수 개이며, 상기 가시광선 광원과 상기 이색 거울 사이에 배치되어 상기 가시광선 광원으로부터의 상기 가시광선을 평탄화시키는 빔 평탄화소자를 더 포함할 수 있다.
일측에 따르면, 상기 빔 평탄화소자는 광학 디퓨져(diffuser), 다중 렌즈 어레이(Multi lens array), 다중 모드 광섬유(multi mode fiber), 광섬유 다발(fiber array), 렌즈형 광섬유 다발(lensed-fiber array), 라이트 파이프 다발, 광학 격자(optical grating), 빔 형상 변환기(beam shaper) 중 어느 하나일 수 있다.
일측에 따르면, 상기 근적외선 광원과 상기 제1 이색 거울 사이에 배치되어 상기 근적외선 광원으로부터의 상기 근적외선의 반사 방향을 조절하는 반사 방향 가변 거울을 더 포함할 수 있다.
일측에 따르면, 상기 제2 이색 거울과, 상기 표면 측정부의 사이에 개재되어 상기 가시광선 파장의 광신호로부터 외부광에 의한 스펙트럼 간섭을 제거하는 파장 필터를 더 포함할 수 있다.
일측에 따르면, 상기 표면 측정부 또는 상기 단층 측정부에 의해 획득된 영상을 디스플레이하는 디스플레이부를 더 포함할 수 있다.
일측에 따르면, 상기 가시광선 광원은 단색 가시광 대역의 광원이고, 상기 근적외선 광원은 근적외선 대역의 파장 가변 레이저일 수 있다.
일측에 따르면, 상기 가시광선 광원 또는 상기 근적외선 광원은, VCSEL(vertical cavity surface-emitting laser), MEMS(micro electro mechanical system) 기반 소자, ECL(external cavity laser) 기반 소자, DFB(distributed feedback) 소자, DBR(distributed Bragg reflector) 소자이거나, 파장 가변 레이저를 대신하기 위한 중심파장이 서로 다른 하나 이상의 LED(light emitting diode), SLD(super luminescent diode), 할로겐 램프, 제논 램프, CCFL일 수 있다.
일측에 따르면, 상기 가시광선 광원 또는 상기 근적외선 광원은, 캐비티(cavity) 길이를 조정하거나 격자 또는 반사 각도를 조정하거나 작동 온도를 조절하거나 다수의 형광체를 이용하거나 입력 전류를 변화시킴으로써 출력광의 파장 또는 세기가 조정될 수 있다.
일측에 따르면, 상기 표면 측정부 또는 상기 단층 측정부는, 이미징 센서 또는 광검출부기로서 CCD 또는 CMOS를 갖는 고화소 센서이거나 PD(photo diode) 또는 APD(avalanche photo diode)일 수 있다.
일측에 따르면, 상기 표면 측정부에 전달된 상기 가시광선 파장의 광신호 또는 상기 단층 측정부에 전달된 상기 근적외선 파장의 광신호를 푸리에 변환하거나 파수 선형화 보정하거나 영값 삽입을 포함하는 처리를 함으로써 출력 영상의 왜곡을 보정하는 보정부를 더 포함할 수 있다.
본 발명의 실시예에 따르면, 일반적으로 육안으로 확인하기 어려운 대비성을 갖고 있는 측정 대상물의 도포 상태에 대하여 가시광선 광원을 통해 특정 파장의 반사율을 확인하는 것으로 균일도의 차이를 극대화하여 보여줄 수 있음은 물론 측정 대상물의 도포 균일성에 대한 정보를 제공하기 때문에 도포 영역뿐 아니라 도포의 균일성을 입체적으로 확인할 수 있다.
또한 본 발명의 실시예에 따르면, 하나의 장치로 측정 대상물의 표면 상태뿐만 아니라 단층 정보까지 획득할 수 있어 장치의 슬림화를 구현할 수 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 도포 균일성 검사 장치의 개략적인 구성을 도시한 도면이다.
이하, 첨부 도면을 참조하여 본 발명의 실시예에 따른 구성 및 적용에 관하여 상세히 설명한다. 이하의 설명은 특허 청구 가능한 본 발명의 여러 태양(aspects) 중 하나이며, 하기의 기술(description)은 본 발명에 대한 상세한 기술(detailed description)의 일부를 이룬다.
다만, 본 발명을 설명함에 있어서, 공지된 기능 혹은 구성에 관한 구체적인 설명은 본 발명의 요지를 명료하게 하기 위하여 생략하기로 한다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 도포 균일성 검사 장치의 개략적인 구성을 도시한 도면이다.
도 1을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 도포 균일성 검사 장치(100)는, 가시광선 광원(110)과, 근적외선 광원(120)과, 제1 이색 거울(130)과, 빔스플리터(140)와, 제2 이색 거울(170)과, 표면 측정부(190)와, 단층 측정부(180)를 포함할 수 있다.
이러한 구성에 의해서, 예를 들면, 페인트, 화장품, 안료 또는 염료 등의 가시광의 반사율이 높은 물질의 도포의 균일성을 다각도로 확인할 수 있다. 다시 말해, 측정 대상물(153)의 표면 상태(예를 들면 표면의 반사율 정보) 및 두께 균일성 등을 하나의 장치로 정확하게 측정할 수 있는 것이다.
본 실시예의 가시광선 광원(110)은, 단색의 가시광선을 제공하는 것으로서, 복수 개로 마련된다. 이러한 가시광선 광원(110)으로부터 발생된 가시광선의 여러 경로를 거쳐 표면 측정부(190)에 도달되는 것이며, 이를 통해 측정 대상물(153)의 표면 영상을 얻을 수 있다.
가시광선 광원(110)과 제1 이색 거울(130) 사이에는 복수 개의 가시광선 광원(110)으로부터 가시광선을 빔 평탄화하기 위한 빔 평탄화소자(115)가 개재된다. 이를 통해 측정 대상물(153)의 대상 면적에 균일한 출력광을 조사할 수 있다.
빔 평탄화소자(115)로는, 광학 디퓨져(diffuser), 다중 렌즈 어레이(Multi lens array), 다중 모드 광섬유(multi mode fiber), 광섬유 다발(fiber array), 렌즈형 광섬유 다발(lensed-fiber array), 라이트 파이프 다발, 광학 격자(optical grating), 빔 형상 변환기(beam shaper) 중 어느 하나가 적용될 수 있다. 그러나 이에 한정되는 것은 아니다.
한편, 본 실시예의 근적외선 광원(120)은, 근적외선을 발생시키는 것으로서, 근적외선 대역의 파장을 갖는 파장 가변 레이저로 마련될 수 있다. 이러한 근적외선 광원(120)으로부터의 근적외선을 이용하여 측정 대상물(153)의 단층 영상을 얻을 수 있다.
근적외선 광원(120)과 제1 이색 거울(130) 사이에는 근적외선 광원(120)으로부터의 근적외선의 반사 방향을 조절하는 반사 방향 가변 거울(125)이 배치될 수 있다. 반사 방향 가변 거울(125)은 제자리 회동 가능하여 근적외선 광원(120)으로부터의 근적외선의 반사 방향을 조절할 수 있다.
부연하면, 본 실시예의 가시광선 광원(110) 또는 근적외선 광원(120)은, VCSEL(vertical cavity surface-emitting laser), MEMS(micro electro mechanical system) 기반 소자, ECL(external cavity laser) 기반 소자, DFB(distributed feedback) 소자, DBR(distributed Bragg reflector) 소자와 같은 광섬유 레이저가 적용될 수 있다. 또는, 파장 가변 레이저를 대신하기 위한 중심파장이 서로 다른 하나 이상의 LED(light emitting diode), SLD(super luminescent diode), 할로겐 램프, 제논 램프, CCFL로 마련될 수 있다. 다만 이에 한정되는 것은 아니다.
또는, 가시광선 광원(110) 또는 근적외선 광원(120)은, 캐비티(cavity) 길이를 조정하거나 격자 또는 반사 각도를 조정하거나 작동 온도를 조절하거나 다수의 형광체를 이용하거나 입력 전류를 변화시킴으로써 출력광의 파장 또는 세기가 조정할 수 있다. 다만, 가시광선 광원(110) 또는 근적외선 광원(120)의 출력광의 파장 또는 세기 조정 방법이 이에 한정되는 것은 아니다.
한편, 본 실시예의 제1 이색 거울(130)은 가시광선 광원(110)으로부터의 가시광선과 근적외선 광원(120)으로부터의 근적외선의 적어도 일부분을 중첩시켜 중첩광으로 변환시키는 역할을 한다. 이러한 제1 이색 거울(130)은 수직 방향에서 조사되는 가시광선 및 근적외선이 같은 각도로 도달될 수 있도록 가시광선의 조사 방향 및 근적외선 조사 방향의 45도 각도를 갖도록 경사지게 배치된다. 다만, 제1 이색 거울(130)의 배치 각도가 이에 한정되는 것은 아니다.
본 실시예의 빔스플리터(140)는 제1 이색 거울(130)로부터의 중첩광을 빔스플리팅하여 중첩광의 일부분은 측정 대상물(153)이 로딩된 샘플단(151)으로 보내고, 중첩광의 다른 일부분은 레퍼런스단(155)으로 보내는 역할을 한다. 그리고, 샘플단(151) 및 레퍼런스단(155)으로부터 반사된 반사광을 후술할 표면 측정부(190) 및 단층 측정부(180)로 전달하는 역할도 한다.
여기서, 빔스플리터(140)를 통해 샘플단(151) 방향으로 향하는 중첩광 중 가시광선에 해당하는 광은 샘플단(151) 및 레퍼런스단(155)으로부터 반사되어 다시 빔스플리터(140)를 통해 표면 측정부(190)를 향하게 되는데, 이 때 반사되는 광과 표면 측정부(190)의 촬영 방향이 동축을 이룸으로써 표면 측정부(190)에 측정 대상물(153)의 표면에 대한 이미지 상이 맺히게 된다.
한편, 중첩광 중 근적외선에 해당하는 광 중 일부는 샘플단(151) 방향으로 향하고 다른 일부는 레퍼런스단(155) 방향으로 향하게 되며, 다시 반사되어 빔스플리터(140)에서 합쳐져 단층 측정부(180) 방향으로 향하게 된다.
이 때 전술한 반사 방향 가변 거울(125)의 회동 동작에 의해 측정 대상물(153) 전 영역에 대한 스캐닝이 이루어질 수 있다. 레퍼런스단(155)으로 향한 광은 반사되어 샘플단(151)으로부터 반사된 광과 중첩되는데, 이 때 측정 대상물(153)의 투과 깊이에 따른 위상 차이에 의해 간섭무늬가 형성되고 이를 통해 단층 측정부(180)에서 간섭무늬가 측정될 수 있는 것이다. 그리고 간섭무늬의 파장 정보와 위상 정보를 통해 투과 단층 영상으로 영상 복원을 하며, 이를 통해 측정 대상물(153)의 도금의 균일성을 측정할 수 있다.
한편, 본 실시예의 제2 이색 거울(170)은, 빔스플리터(140)를 통해 반사되어 렌즈(160)를 거치는 반사광(여기서, 반사광이란, 샘플단(151)으로부터 반사된 가시광선에 해당하는 광, 샘플단(151)으로부터 반사된 근적외선에 해당하는 광 그리고 레퍼런스단(155)으로부터 반사된 근적외선에 해당하는 광의 중첩광을 가리킴)을 다시 가시광선 파장의 광신호와 근적외선 파장의 광신호로 나누는 것으로서, 제1 이색 거울(130)과 마찬가지로 경사지게 배치될 수 있다. 제2 이색 거울(170) 역시 제자리 회동 가능함은 당연하다.
제2 이색 거울(170)을 통해 나뉘어진 광 중 가시광선 파장의 광신호는 표면 측정부(190)에 도달한다. 표면 측정부(190)는 이미징 센서로 마련될 수 있다. 예를 들면, CCD 또는 CMOS로 마련되어 가시광선 파장의 광신호로부터 측정 대상물(153)의 표면 이미지를 얻을 수 있다.
도시하지는 않았지만, 본 실시예의 도포 균일성 검사 장치(100)는, 디스플레이부(미도시)를 더 포함하여, 표면 측정부(190)에 의해 얻은 측정 대상물(153)의 표면 이미지를 디스플레이할 수 있다.
제2 이색 거울(170)과 표면 측정부(190) 사이에는 파장 필터(195)가 구비되어 가시광선 파장의 광신호는 파장 필터(195)를 거친 후 표면 측정부(190)에 도달하게 된다. 파장 필터(195)는, 가시광선 파장의 광신호로부터 외부광에 의한 스펙트럼 간섭을 제거하는 역할을 한다.
한편, 제2 이색 거울(170)을 통해 나뉘어진 광 중 근적외선 파장의 광신호는 단층 측정부(180)를 향한다. 단층 측정부(180)는, 전술한 것처럼, 근적외선 파장의 광신호의 간섭무늬의 변화를 측정함으로써 측정 대상물(153)의 도포 균일성을 검사할 수 있다.
예를 들면, 페인트, 화장품, 안료, 염료 등과 같은 측정 대상물(153)의 도포 균일성을 검사할 수 있는 것이다. 이러한 단층 측정부(180)는 PD(photo diode) 또는 APD(avalanche photo diode)와 같은 광검출기로 마련될 수 있는데, 이에 한정되는 것은 아니다.
전술한 디스플레이부는 단층 측정부(180)에 의해 측정된 단층 영상 정보를 디스플레이할 수 있다. 다시 말해, 디스플레이부에는 표면 측정부(190)에 의해 획득된 표면 이미지 그리고 단층 측정부(180)에 의해 측정된 단층 영상 정보를 모두 디스플레이함으로써 사용자가 표면 상태뿐만 아니라 두께 균일성까지 검사할 수 있도록 한다. 아울러, 디스플레이부는 표면 이미지 그리고 단층 영상 정보를 합성하여 사용자에게 표면의 반사율 정보와 함께 투과 단층 영상을 보여줌으로써 측정 대상물(153)의 도포 균일성을 직관적으로 측정할 수 있도록 한다.
한편, 본 실시예의 도포 균일성 검사 장치(100)는 영상의 왜곡을 보정하기 위해 보정부(미도시)를 더 포함할 수 있다. 보정부는 표면 측정부(190)에 전달된 가시광선 파장의 광신호 또는 단층 측정부(180)에 전달된 근적외선 파장의 광신호를 푸리에 변환하거나 파수 선형화 보정하거나 영값 삽입을 포함하는 처리를 함으로써 출력 영상의 왜곡을 보정할 수 있다.
이와 같이, 본 발명의 일 실시예에 따르면, 일반적으로 육안으로 확인하기 어려운 대비성을 갖고 있는 측정 대상물(153)의 도포 상태에 대하여 가시광선 광원(110)을 통해 특정 파장의 반사율을 확인하는 것으로 균일도의 차이를 극대화하여 보여줄 수 있음은 물론 측정 대상물(153)의 도포 균일성에 대한 정보를 제공하기 때문에 도포 영역뿐 아니라 도포의 균일성을 입체적으로 확인할 수 있는 장점이 있다.
또한, 하나의 장치로 측정 대상물(153)의 표면 상태뿐만 아니라 단층 정보까지 획득할 수 있어 장치의 슬림화를 구현할 수 있는 장점도 있다.
한편, 본 발명은 기재된 실시예에 한정되는 것이 아니고, 본 발명의 사상 및 범위를 벗어나지 않고 다양하게 수정 및 변형할 수 있음은 이 기술의 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 자명하다. 따라서 그러한 수정예 또는 변형예들은 본 발명의 특허청구범위에 속한다 하여야 할 것이다.
100 : 도포 균일성 검사 장치
110 : 가시광선 광원
115 : 빔 평탄화소자
120 : 근적외선 광원
125 : 반사 방향 가변 거울
130 : 제1 이색 거울
140 : 빔스플리터
151 : 샘플단
153 : 측정 대상물
155 : 레퍼런스단
170 : 제2 이색 거울
180 : 단층 측정부
190 : 표면 측정부
195 : 파장 필터

Claims (11)

  1. 가시광선을 제공하는 가시광선 광원;
    근적외선을 제공하는 근적외선 광원;
    상기 가시광선 광원으로부터의 상기 가시광선과, 상기 근적외선 광원으로부터의 상기 근적외선의 적어도 일부분을 중첩시켜 중첩광으로 변환시키는 제1 이색 거울;
    상기 중첩광을 빔스플리팅하여 일부는 레퍼런스단으로 보내고 다른 일부는 측정 대상물이 놓인 샘플단으로 보내는 빔스플리터;
    상기 레퍼런스단 및 상기 샘플단으로부터 반사된 후 상기 빔스플리터를 통해 전달되는 반사광을 다시 가시광선 및 근적외선 파장의 광신호로 나누는 제2 이색 거울;
    상기 제2 이색 거울을 통해 전달되는 상기 가시광선 파장의 광신호를 측정하여 상기 측정 대상물의 표면의 이미지를 획득하는 표면 측정부; 및
    상기 제2 이색 거울을 통해 전달되는 상기 근적외선 파장의 광신호를 측정하여 상기 측정 대상물의 단층 이미지를 획득하는 단층 측정부;
    를 포함하는 도포 균일성 검사 장치.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 가시광선 광원은 복수 개이며,
    상기 가시광선 광원과 상기 이색 거울 사이에 배치되어 상기 가시광선 광원으로부터의 상기 가시광선을 평탄화시키는 빔 평탄화소자를 더 포함하는 도포 균일성 검사 장치.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 빔 평탄화소자는 광학 디퓨져(diffuser), 다중 렌즈 어레이(Multi lens array), 다중 모드 광섬유(multi mode fiber), 광섬유 다발(fiber array), 렌즈형 광섬유 다발(lensed-fiber array), 라이트 파이프 다발, 광학 격자(optical grating), 빔 형상 변환기(beam shaper) 중 어느 하나인 도포 균일성 검사 장치.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 근적외선 광원과 상기 제1 이색 거울 사이에 배치되어 상기 근적외선 광원으로부터의 상기 근적외선의 반사 방향을 조절하는 반사 방향 가변 거울을 더 포함하는 도포 균일성 검사 장치.
  5. 제1항에 있어서,
    상기 제2 이색 거울과, 상기 표면 측정부의 사이에 개재되어 상기 가시광선 파장의 광신호로부터 외부광에 의한 스펙트럼 간섭을 제거하는 파장 필터를 더 포함하는 도포 균일성 검사 장치.
  6. 제1항에 있어서,
    상기 표면 측정부 또는 상기 단층 측정부에 의해 획득된 영상을 디스플레이하는 디스플레이부를 더 포함하는 도포 균일성 검사 장치.
  7. 제1항에 있어서,
    상기 가시광선 광원은 단색 가시광 대역의 광원이고,
    상기 근적외선 광원은 근적외선 대역의 파장 가변 레이저인 도포 균일성 검사 장치.
  8. 제1항에 있어서,
    상기 가시광선 광원 또는 상기 근적외선 광원은, VCSEL(vertical cavity surface-emitting laser), MEMS(micro electro mechanical system) 기반 소자, ECL(external cavity laser) 기반 소자, DFB(distributed feedback) 소자, DBR(distributed Bragg reflector) 소자이거나, 파장 가변 레이저를 대신하기 위한 중심파장이 서로 다른 하나 이상의 LED(light emitting diode), SLD(super luminescent diode), 할로겐 램프, 제논 램프, CCFL인 도포 균일성 검사 장치.
  9. 제1항에 있어서,
    상기 가시광선 광원 또는 상기 근적외선 광원은, 캐비티(cavity) 길이를 조정하거나 격자 또는 반사 각도를 조정하거나 작동 온도를 조절하거나 다수의 형광체를 이용하거나 입력 전류를 변화시킴으로써 출력광의 파장 또는 세기가 조정되는 도포 균일성 검사 장치.
  10. 제1항에 있어서,
    상기 표면 측정부 또는 상기 단층 측정부는, 이미징 센서 또는 광검출부기로서 CCD 또는 CMOS를 갖는 고화소 센서이거나 PD(photo diode) 또는 APD(avalanche photo diode)인 도포 균일성 검사 장치.
  11. 제1항에 있어서,
    상기 표면 측정부에 전달된 상기 가시광선 파장의 광신호 또는 상기 단층 측정부에 전달된 상기 근적외선 파장의 광신호를 푸리에 변환하거나 파수 선형화 보정하거나 영값 삽입을 포함하는 처리를 함으로써 출력 영상의 왜곡을 보정하는 보정부를 더 포함하는 도포 균일성 검사 장치.
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