KR20160082276A - Method for correcting pixel defect of oled substrate and apparatus and method for correcting pixel defect of oled substrate - Google Patents

Method for correcting pixel defect of oled substrate and apparatus and method for correcting pixel defect of oled substrate Download PDF

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KR20160082276A
KR20160082276A KR1020140191755A KR20140191755A KR20160082276A KR 20160082276 A KR20160082276 A KR 20160082276A KR 1020140191755 A KR1020140191755 A KR 1020140191755A KR 20140191755 A KR20140191755 A KR 20140191755A KR 20160082276 A KR20160082276 A KR 20160082276A
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Abstract

According to an aspect of the present invention, a method for correcting a defect in a pixel formed on an OLED substrate comprises following steps of: adjusting at least one among an incident angle of light, an intensity of light, and a wavelength of light to emit light from an optical source to a substrate; photographing the light reflected by a pixel formed on the substrate by using a camera to form an image; generating data on the intensity of the light reflected from the image; filtering the generated data; determining a pixel corresponding to remaining data after the filtering as defective; and spraying ink on the pixel, which is determined as defective, to correct the defect. According to the present invention, it is possible to determine a defect in a pixel and correct the defect quickly.

Description

OLED 기판의 화소 결함 수정 방법 및 OLED 기판의 화소 결함 수정 장치 {METHOD FOR CORRECTING PIXEL DEFECT OF OLED SUBSTRATE AND APPARATUS AND METHOD FOR CORRECTING PIXEL DEFECT OF OLED SUBSTRATE}BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention [0001] The present invention relates to a method for correcting a pixel defect in an OLED substrate and a method for correcting a pixel defect in an OLED substrate,

본 발명은 OLED 기판의 화소 결함 수정 방법 및 OLED 기판의 화소 결함 수정 장치에 관한 것이다. 보다 상세하게는, OLED 기판에 발생할 수 있는 화소의 결함을 정확히 판단하고 수정할 수 있는 OLED 기판의 화소 결함 수정 방법 및 OLED 기판의 화소 결함 수정 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a pixel defect correction method for an OLED substrate and a pixel defect correction apparatus for an OLED substrate. More particularly, the present invention relates to a pixel defect correction method for an OLED substrate and a pixel defect correction apparatus for an OLED substrate that can accurately determine and correct defects of a pixel that may occur on an OLED substrate.

최근 디스플레이 소자로 액정 표시 소자(Liquid Crystal Display, LCD), 플라즈마 디스플레이 소자(Plasma Display Panel, PDP), 유기 발광 소자(Organic Light Emitting Diodes, OLED) 등 평판 표시 소자(Flat Panel Display)가 널리 이용되고 있다.2. Description of the Related Art Flat panel displays such as a liquid crystal display (LCD), a plasma display panel (PDP) and an organic light emitting diode (OLED) are widely used as display devices have.

이러한, 평판 표시 소자의 화소를 형성하기 위한 방법으로, 기판에 뱅크(bank)를 형성하거나 기판 상에 마스크를 배치하고 뱅크 사이의 공간 또는 마스크의 패턴에 각각 R, G, B에 해당하는 유기 발광 재료가 포함되는 잉크를 잉크 분사 유닛을 통해 주입하여 화소를 형성하는 방법이 있다.As a method for forming the pixels of the flat panel display device, a bank is formed on a substrate or a mask is disposed on a substrate. Organic light emission corresponding to R, G, and B, respectively, There is a method of forming a pixel by injecting ink containing a material through an ink ejection unit.

이때, 잉크를 토출하는 노즐이 막히거나 제어 오류 등의 이유로 잉크가 정확이 토출되지 않는 경우에는 기판에 주입되는 잉크의 액적량에 허용치 이상의 오차를 발생시킬 수 있으며, 잉크의 토출이 정상적으로 이루어지지 않은 경우 화소에 결함(defect)이 생길 수 있다. 또한, 잉크 주입 과정에서 공정 챔버 내에 존재하는 파티클(particle)이 화소에 달라붙어 화소에 결함이 생길 수 있다. 이러한 화소의 결함은 제품 불량을 야기하여 생산성을 저하시키므로 화소의 결함을 검사하여 결함을 수정할 필요가 있다.At this time, if the ink ejecting nozzle is clogged or the ink is not ejected accurately due to a control error or the like, it may cause an error more than an allowable value in the amount of ink to be injected into the substrate, A defect may occur in the pixel. In addition, in the ink injection process, particles existing in the process chamber adhere to the pixel, which may cause defects in the pixel. Such defects in the pixels cause product defects and deteriorate the productivity, and it is therefore necessary to inspect the defects of the pixels to correct the defects.

대한민국 공개특허공보 제 10-2013-0125631호(2013.11.19. 공개)Korean Patent Publication No. 10-2013-0125631 (published on November 19, 2013)

본 발명은 OLED 기판에 발생할 수 있는 화소의 결함을 정확히 판단하고 수정할 수 있는 OLED 기판의 화소 결함 수정 방법 및 OLED 기판의 화소 결함 수정 장치를 제공한다.The present invention provides a method of correcting a pixel defect of an OLED substrate and an apparatus of correcting a pixel defect of an OLED substrate which can accurately determine and correct defects of a pixel that may occur in an OLED substrate.

본 발명의 일 측면에 따르면, OLED 기판에 형성된 화소의 결함을 수정하는 수정 방법으로서, 빛의 입사각, 빛의 세기. 빛의 파장 중 적어도 어느 하나를 조정하여 광원으로부터 빛을 상기 기판에 조사하는 단계; 카메라를 이용하여 상기 기판에 형성된 화소에 의해 반사된 빛을 촬영하여 이미지를 생성하는 단계; 상기 이미지로부터 상기 반사된 빛의 세기에 대한 데이터를 생성하는 단계; 상기 생성된 데이터를 필터링하는 단계; 상기 필터링에 의해 남아있는 데이터에 대응되는 화소를 결함으로 판단하는 단계 및 상기 결함으로 판단된 화소에 잉크를 토출하여 결함을 수정하는 단계를 포함하는, OLED 기판의 화소 결함 수정 방법을 제공한다.According to an aspect of the present invention, there is provided a correction method for correcting a defect of a pixel formed on an OLED substrate, the method including: a light incidence angle; Adjusting at least one of a wavelength of light and irradiating the substrate with light from a light source; Generating an image by photographing light reflected by a pixel formed on the substrate using a camera; Generating data on the intensity of the reflected light from the image; Filtering the generated data; Determining a pixel corresponding to the remaining data by the filtering as a defect, and correcting the defect by ejecting ink to the pixel determined as the defect.

상기 데이터를 필터링하는 단계는, 반복되는 패턴에 의한 레퍼런스(reference) 데이터를 이용하여 필터링하는 단계를 포함할 수 있다.The step of filtering the data may include filtering using reference data by a repeated pattern.

상기 데이터를 필터링하는 단계는, 기 설정된 빛의 세기 범위를 이용하여 필터링하는 단계를 포함할 수 있다.The filtering of the data may include filtering using a preset range of light intensity.

상기 카메라를 이용하여 촬영하는 단계 이전에, 상기 광원으로부터 상기 기판에 미리 빛을 조사하여 빛의 반사 특성에 따라 상기 기판에 조사할 빛의 세기, 조사 입사각, 파장 영역을 미리 결정하는 단계를 더 포함할 수 있다.The step of irradiating the substrate with the light from the light source in advance before the step of photographing using the camera may further include the step of previously determining the intensity of the light to be irradiated to the substrate, the incident angle of incidence, can do.

상기 잉크를 토출하여 결함을 수정하는 단계는, 결함의 크기에 따라 잉크의 드롭 횟수를 계산하여 잉크를 토출하는 단계를 포함할 수 있다.The step of correcting defects by discharging the ink may include a step of calculating the number of drops of the ink according to the size of the defect and discharging the ink.

토출되는 상기 잉크의 드롭 횟수는, 다음 식에 의해 정해질 수 있다.The number of drops of the ink to be ejected can be determined by the following equation.

Figure pat00001
Figure pat00001

상기 보정상수는 상기 결함을 수정하기 위해 토출되는 잉크의 점도 또는 산포에 의해 결정될 수 있다.The correction constant may be determined by viscosity or scattering of the ink ejected to correct the defect.

본 발명의 다른 측면에 따르면, 기판이 로딩되는 기판 스테이지; 상기 기판에 광을 조사하는 광원과, 상기 기판에서 반사된 빛을 촬영하는 카메라를 포함하는 촬상 유닛; 상기 촬상 유닛에서 촬영된 이미지로부터 빛의 세기에 대한 데이터를 추출하고, 상기 데이터를 이용하여 상기 기판에 형성되는 화소의 결함 여부를 판단하는 판단부 및 상기 판단부의 판단에 따라 기판의 상부를 이동하면서 상기 화소의 결함에 잉크를 토출하여 결함을 수정하는 잉크 토출 유닛을 포함하는, OLED 기판의 화소 결함 수정 장치를 제공한다.According to another aspect of the present invention, there is provided a substrate processing apparatus including: a substrate stage on which a substrate is loaded; An imaging unit including a light source for irradiating the substrate with light, and a camera for capturing light reflected from the substrate; A determination unit for extracting data on the intensity of light from the image picked up by the image pickup unit and determining whether a pixel formed on the substrate is defective using the data, And an ink ejection unit that corrects defects by ejecting ink to the defects of the pixels.

상기 판단부는, 생성된 데이터를 레퍼런스 데이터를 이용하여 필터링하거나 또는 기 설정된 빛의 세기 범위를 이용하여 필터링하여 화소 결함 여부를 판단할 수 있다.The determining unit may determine whether a pixel defect occurs by filtering the generated data using reference data or filtering using a preset light intensity range.

본 발명의 실시예에 따르면, OLED 기판에 빛을 조사한 후 반사된 빛의 세기를 이용하여 기판에 형성되어 있는 화소의 결함 유무를 판단하고, 결함이 있는 것으로 판단된 화소에 잉크를 토출하여 결함을 수정할 수 있는 OLED 기판의 화소 결함 수정 방법 및 OLED 기판의 화소 결함 수정 장치가 제공된다.According to the embodiment of the present invention, after the light is irradiated on the OLED substrate, the presence or absence of a defect in a pixel formed on the substrate is determined based on the intensity of reflected light, and ink is ejected to a pixel determined to be defective, There is provided a method for correcting a pixel defect of an OLED substrate and an apparatus for correcting a pixel defect of the OLED substrate.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 OLED 기판의 화소 결함 수정 장치의 구성도이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 OLED 기판 화소 결함 수정 방법의 순서도이다.
도 3은 반사된 빛의 세기를 나타내는 그래프이다.
1 is a block diagram of a pixel defect correction apparatus for an OLED substrate according to an embodiment of the present invention.
2 is a flowchart of a method of correcting a pixel defect of an OLED substrate according to an embodiment of the present invention.
3 is a graph showing the intensity of reflected light.

본 발명은 다양한 변환을 가할 수 있고 여러 가지 실시예를 가질 수 있는 바, 특정 실시예들을 도면에 예시하고 상세한 설명에 상세하게 설명하고자 한다. 그러나, 이는 본 발명을 특정한 실시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변환, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. 본 발명을 설명함에 있어서 관련된 공지 기술에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 흐릴 수 있다고 판단되는 경우 그 상세한 설명을 생략한다.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS The present invention is capable of various modifications and various embodiments, and specific embodiments are illustrated in the drawings and described in detail in the detailed description. It is to be understood, however, that the invention is not to be limited to the specific embodiments, but includes all modifications, equivalents, and alternatives falling within the spirit and scope of the invention. DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

이하, 본 발명에 따른 OLED 기판의 화소 결함 수정 방법 및 OLED 기판의 화소 결함 수정 장치를 첨부한 도면을 참조하여 상세히 설명하기로 하며, 첨부한 도면을 참조하여 설명함에 있어서, 동일하거나 대응하는 구성 요소는 동일한 도면번호를 부여하고 이에 대한 중복되는 설명은 생략하기로 한다.
Hereinafter, a pixel defect correction method for an OLED substrate and a pixel defect correction apparatus for an OLED substrate according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings, wherein like or corresponding components Are denoted by the same reference numerals, and redundant description thereof will be omitted.

이하에서는 본 발명에 의한 OLED 기판의 화소 결함 수정 장치의 일 실시예를 첨부된 도면을 참고하여 상세하게 설명한다.Hereinafter, an embodiment of a pixel defect correction apparatus for an OLED substrate according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 OLED 기판의 화소 결함 수정 장치의 구성도이다. 도 1에는 기판 스테이지(11), 기판(13), 화소(15), 촬상 유닛(20), 광원(23), 카메라(25), 잉크 토출 유닛(30), 판단부(40), 제어부(50)가 도시되어 있다.1 is a block diagram of a pixel defect correction apparatus for an OLED substrate according to an embodiment of the present invention. 1 shows a substrate stage 11, a substrate 13, a pixel 15, an image pickup unit 20, a light source 23, a camera 25, an ink discharging unit 30, a judging unit 40, 50 are shown.

도 1을 참조하면, 본 실시예에 따른 OLED 기판의 화소 결함 수정 장치는, 기판(13)이 로딩되는 기판 스테이지(11); 기판(13)에 광을 조사하는 광원(23)과, 기판(13)에서 반사된 빛을 촬영하는 카메라(25)를 포함하는 촬상 유닛(20); 촬상 유닛(20)에서 촬영된 이미지로부터 빛의 세기에 대한 데이터를 추출하고, 데이터를 이용하여 기판(13)에 형성되는 화소(15)의 결함 여부를 판단하는 판단부(40) 및 판단부(40)의 판단에 따라 기판(13)의 상부를 이동하면서 화소(15)의 결함에 잉크를 토출하여 결함을 수정하는 잉크 토출 유닛(30)을 포함한다.Referring to FIG. 1, an OLED substrate pixel defect correction apparatus according to the present embodiment includes a substrate stage 11 on which a substrate 13 is loaded; An image pickup unit (20) including a light source (23) that emits light to the substrate (13); and a camera (25) that captures light reflected by the substrate (13); A determination unit (40) for extracting data on the intensity of light from the image taken by the image pickup unit (20) and determining whether the pixel (15) formed on the substrate (13) And an ink ejection unit 30 for correcting the defects by ejecting ink to the defects of the pixels 15 while moving the upper part of the substrate 13 in accordance with the judgment of the control unit 40. [

기판 스테이지(11)는 공정챔버(미도시) 내부에 배치되며, 기판 스테이지(11) 상에 기판(13)이 안착된다. 공정챔버(미도시)는 화소(15) 결함 수정 장치가 위치하도록 내부공간이 형성되며, 내부공간은 진공으로 유지되거나 상압 상태에서 공정 가스가 공급될 수도 있다.The substrate stage 11 is disposed inside a process chamber (not shown), and the substrate 13 is seated on the substrate stage 11. An internal space is formed in the process chamber (not shown) so that the pixel 15 defect remediation device is located, and the internal space may be kept vacuum or the process gas may be supplied at normal pressure.

촬상 유닛(20)은 기판(13)에 광을 조사하는 광원(23)과 기판(13)에서 반사된 빛을 촬영하는 카메라(25)를 포함하며, 공정챔버(미도시)의 기판(13) 상부에 배치될 수 있다. 촬상 유닛(20)은 이송 유닛에 결합될 수 있으며, X축, Y축 및 Z축 방향으로 이동될 수 있다.The image pickup unit 20 includes a light source 23 that emits light to the substrate 13 and a camera 25 that captures the light reflected by the substrate 13 and includes a substrate 13 of a process chamber As shown in FIG. The image pickup unit 20 can be coupled to the transfer unit and can be moved in the X-axis, Y-axis, and Z-axis directions.

광원(23)은 기판(13)에 형성된 화소(15)에 빛을 조사하며, 광원(23)은 빛의 세기, 조사 입사각, 빛의 파장을 조정하여 빛을 기판(13)에 조사할 수 있다. 카메라(25)는 광원(23)으로부터 조사된 빛이 기판(13)의 화소(15)에 충돌하여 반사된 빛을 촬영하여 이미지를 생성한다.The light source 23 emits light to the pixel 15 formed on the substrate 13 and the light source 23 emits light to the substrate 13 by adjusting the intensity of light, the angle of incidence of incidence, and the wavelength of light . The camera 25 irradiates the pixel 15 of the substrate 13 with the light emitted from the light source 23 and captures the reflected light to generate an image.

판단부(40)는 촬상 유닛(20)에서 촬영된 이미지로부터 빛의 세기에 대한 데이터를 추출하고, 데이터를 이용하여 기판(13)에 형성되는 화소(15)의 결함 여부를 판단한다. 판단부(40)는 카메라(25)에 의해 촬영되어 전송된 이미지로부터 빛의 세기에 대한 데이터를 추출한다. 추출된 데이터를 빛의 세기를 기준으로 필터링하여 기판(13)에 형성된 화소(15)의 결함 여부를 판단한다. 구체적으로, 판단부(40)는 생성된 데이터를 레퍼런스 데이터(reference data)를 이용하거나 기 설정된 빛의 세기 범위를 이용하여 필터링하여 화소(15)의 결함 여부를 판단한다.The determination unit 40 extracts data on the intensity of light from the image captured by the image pickup unit 20 and determines whether the pixel 15 formed on the substrate 13 is defective by using the data. The determination unit 40 extracts data on the intensity of light from the image captured by the camera 25 and transmitted. The extracted data is filtered based on light intensity to determine whether the pixel 15 formed on the substrate 13 is defective or not. Specifically, the determination unit 40 determines whether the pixel 15 is defective by filtering the generated data using reference data or a predetermined light intensity range.

잉크 토출 유닛(30)은, 판단부(40)의 판단에 따라 기판(13)의 상부를 이동하면서 화소(15)의 결함에 잉크를 토출하여 결함을 수정한다. 잉크 토출 유닛(30)에서 토출되는 잉크는 R, G, B에 해당하는 유기 발광 재료를 포함할 수 있다. 잉크 토출 유닛(30)은 이송 유닛에 설치되어 X축, Y축 및 Z축 방향으로 이동될 수 있다. 본 실시예에서는 잉크 토출 유닛(30)과 촬상 유닛(20)이 동일한 이송 유닛에 설치되는 것을 예시하였으나, 잉크 토출 유닛(30)과 촬상 유닛(20)이 각각 다른 이송 유닛에 설치되어 이동되는 것도 가능하다.The ink ejection unit 30 corrects the defect by ejecting ink to the defect of the pixel 15 while moving the upper portion of the substrate 13 in accordance with the determination of the determination unit 40. [ The ink ejected from the ink ejection unit 30 may include an organic light emitting material corresponding to R, G, The ink ejection unit 30 is installed in the transfer unit and can be moved in the X-axis, Y-axis, and Z-axis directions. Although the ink ejection unit 30 and the image pickup unit 20 are provided in the same transfer unit in this embodiment, the ink ejection unit 30 and the image pickup unit 20 may be installed in different transfer units It is possible.

판단부(40)에 의해 화소(15)에 결함이 있는 것으로 판단되며, 잉크 토출 유닛(30)은 결함이 있는 위치로 이동하여 잉크를 토출하여 결함을 수정한다. 이때 잉크 토출 유닛(30)은 잉크를 액적 형태로 토출시키도록 제어될 수 있다.The determination unit 40 determines that the pixel 15 has a defect and the ink ejection unit 30 moves to a position where the ink is defective and ejects the ink to correct the defect. At this time, the ink ejection unit 30 can be controlled to eject the ink in the form of a droplet.

이하에서는, 상기한 바와 같은 구성을 가지는 OLED 기판의 화소 결함 수정 장치를 이용하여 OLED 기판 화소 결함 수정 방법을 도 2 및 도 3을 참조하여 상세하게 설명한다.Hereinafter, a pixel defect correction method for an OLED substrate using the pixel defect correction apparatus for an OLED substrate having the above-described structure will be described in detail with reference to FIGS. 2 and 3. FIG.

도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 OLED 기판 화소 결함 수정 방법의 순서도이다.2 is a flowchart of a method of correcting a pixel defect of an OLED substrate according to an embodiment of the present invention.

본 실시예에 따르면, OLED 기판 화소 결함 수정 방법은 OLED 기판(13)에 형성된 화소(15)의 결함을 수정하는 수정 방법으로서, 빛의 입사각, 빛의 세기. 빛의 파장 중 적어도 어느 하나를 조정하여 광원(23)으로부터 빛을 기판(13)에 조사하는 단계(S10); 카메라(25)를 이용하여 기판(13)에 형성된 화소(15)에 의해 반사된 빛을 촬영하여 이미지를 생성하는 단계(S20); 이미지로부터 반사된 빛의 세기에 대한 데이터를 생성하는 단계(S30); 생성된 데이터를 필터링하는 단계(S40); 필터링에 의해 남아있는 데이터에 대응되는 화소(15)를 결함으로 판단하는 단계(S50) 및 결함으로 판단된 화소(15)에 잉크를 토출하여 결함을 수정하는 단계(S60)를 포함하여, 기판(13)에 형성된 화소(15)의 결함 유무를 판단하여 화소(15)의 결함을 수정할 수 있다.According to the present embodiment, a method of correcting defects of a pixel 15 formed on an OLED substrate 13 is a correction method for correcting defects of a pixel 15 formed on an OLED substrate 13, wherein the incident angle of light, the intensity of light, (S10) irradiating light from the light source (23) onto the substrate (13) by adjusting at least one of the wavelengths of the light; (S20) photographing light reflected by the pixel 15 formed on the substrate 13 using the camera 25 to generate an image; Generating (S30) data on the intensity of light reflected from the image; Filtering the generated data (S40); (S50) of judging the pixel (15) corresponding to the remaining data by filtering to be a defect (S50), and correcting the defect by discharging ink to the pixel (15) It is possible to correct the defect of the pixel 15 by determining the presence or absence of a defect in the pixel 15 formed in the pixel 15.

먼저, 빛의 입사각, 빛의 세기, 빛의 파장 중 적어도 어느 하나를 조정하여 광원(23)으로부터 빛을 기판(13)에 조사한다(S10). OLED 기판(13)에 증착된 증착 물질이나 기판 스테이지(11)에 안착되는 기판(13)의 배치 상태에 따라 반사되는 빛의 상태가 다를 수 있기 때문에 측정하고자 하는 기판(13) 특성에 맞게 빛의 입사각, 빛의 세기, 빛의 파장을 조정하는 것이다. 광원(23)의 조건에 따라 광원(23)으로부터 조사되어 기판(13)에 반사된 빛의 상태가 달라질 수 있기 때문이다. 광원(23)에 의한 빛의 조사 범위는 기판(13) 전체 또는 기판(13)의 일부 영역으로 설정될 수 있다.First, at least one of the incident angle of light, the intensity of light, and the wavelength of light is adjusted to irradiate light from the light source 23 onto the substrate 13 (S10). The state of light reflected by the deposition material deposited on the OLED substrate 13 or the substrate 13 placed on the substrate stage 11 may be different from each other. The incident angle, the intensity of light, and the wavelength of light. This is because the state of light reflected from the light source 23 and reflected by the substrate 13 can be changed according to the condition of the light source 23. The irradiation range of the light by the light source 23 can be set to the entire substrate 13 or a partial area of the substrate 13. [

다음으로, 카메라(25)를 이용하여 기판(13)에 형성된 화소(15)에 의해 반사된 빛을 촬영하여 이미지를 생성한다(S20). 조사된 빛은 기판(13)에 형성된 화소(15)에 부딪혀 반사되는데 카메라(25)는 반사된 빛을 촬영하여 이미지를 생성한다.Next, by using the camera 25, light reflected by the pixel 15 formed on the substrate 13 is photographed to generate an image (S20). The illuminated light is reflected by hitting the pixel 15 formed on the substrate 13, and the camera 25 photographs the reflected light to generate an image.

다음으로, 이미지로부터 반사된 빛의 세기에 대한 데이터를 생성한다(S30). 카메라(25)에 의해 촬영되어 생성된 이미지는 판단부(40)로 전송되는데, 판단부(40)는 반사된 빛의 세기에 대한 데이터를 생성한다.Next, data on the intensity of light reflected from the image is generated (S30). The image photographed and generated by the camera 25 is transmitted to the determination unit 40. The determination unit 40 generates data on the intensity of the reflected light.

다음으로, 판단부(40)는 생성된 데이터를 필터링하고(S40), 필터링에 의해 남아있는 데이터에 대응되는 화소(15)를 결함으로 판단한다(S50).Next, the determination unit 40 filters the generated data (S40), and determines that the pixel 15 corresponding to the remaining data is defective by filtering (S50).

데이터를 필터링하는 단계는, 반복되는 패턴에 의한 레퍼런스 데이터를 이용하여 필터링하는 단계를 포함할 수 있다. 도 3을 참조하면, 판단부(40)는 촬상 유닛(20)에 의해 전송된 이미지로부터 화소(15)의 반사된 빛의 세기에 대한 데이터를 생성하는데, 일정한 패턴을 형성하는 빛의 세기를 레퍼런스 데이터로 하고 레퍼런스 데이터와 비교하여 이러한 패턴을 벗어나는 빛의 세기를 가진 화소(15)를 결함이 있는 화소(15)로 판단할 수 있다.Filtering the data may include filtering using reference data by a repeating pattern. 3, the determination unit 40 generates data on the intensity of reflected light of the pixel 15 from the image transmitted by the image pickup unit 20, and determines the intensity of light forming a certain pattern as a reference As a result, the pixel 15 having light intensity deviating from this pattern can be determined as a defective pixel 15 by comparing it with the reference data.

데이터를 필터링하는 단계는, 기 설정된 빛의 세기 범위를 이용하여 필터링하는 단계를 포함할 수 있다. 판단부(40)는 기 설정된 빛의 세기 범위를 벗어나는 빛의 세기에 대응되는 화소(15)를 결함이 있는 화소(15)로 판단할 수 있다.The step of filtering the data may include filtering using a preset intensity range of light. The determination unit 40 may determine the pixel 15 corresponding to the intensity of the light that is out of the predetermined light intensity range to be the defective pixel 15. [

본 실시예에서는 상술한 필터링 방법이 각각 수행되어 결함이 있는 화소(15)를 판단하는 것으로 기술하였으나, 어느 하나의 필터링 방법이 수행되고 다른 하나의 필터링 방법이 수행되어 결함이 있는 화소(15)를 판단하는 것도 가능하다. 일 실시예로서, 판단부(40)는 1차적으로 레퍼런스 데이터를 이용하여 필터링하여 노이즈(noise)를 제거하고, 2차적으로 빛의 세기 범위를 이용하여 필터링하여 노이즈를 제거하여 남아있는 데이터를 결함이 있는 화소(15)로 판단할 수 있다.Although it has been described in the present embodiment that the above-described filtering method is performed to determine the defective pixel 15, any one filtering method is performed and another filtering method is performed to detect the defective pixel 15 It is also possible to judge. In one embodiment, the determination unit 40 primarily filters reference data to remove noise, and secondarily filters the data using a light intensity range to remove noise, It is possible to determine that the pixel 15 having the pixel value?

한편, 카메라(25)를 이용하여 촬영하는 단계(S10) 이전에, 광원(23)으로부터 기판(13)과 동일 종류의 기판(13)에 빛을 조사하여 빛의 반사 특성에 따라 기판(13)에 조사할 빛의 세기, 조사 입사각, 파장 영역을 미리 결정하는 단계를 더 포함할 수 있다. OLED 기판(13)에 증착된 증착 물질이나 기판 스테이지(11)에 안착되는 기판(13)의 배치 상태에 따라 반사되는 빛의 상태가 다를 수 있기 때문이다.On the other hand, before the step S10 of photographing using the camera 25, light is irradiated from the light source 23 to the substrate 13 of the same type as the substrate 13, An incident angle of incidence, and a wavelength region to be irradiated to the substrate. The state of light reflected may vary depending on the deposition material deposited on the OLED substrate 13 or the substrate 13 placed on the substrate stage 11.

다음으로, 결함으로 판단된 화소(15)에 잉크를 토출하여 결함을 수정한다(S60). 판단부(40)에 의해 특정 화소(15)에 결함이 있는 것으로 판단되면, 잉크 토출 유닛(30)이 결함이 있는 화소(15)로 이동되어 잉크를 토출하여 결함을 수정한다.Next, ink is ejected to the pixel 15 judged as a defect to correct the defect (S60). If the determination unit 40 determines that the specific pixel 15 has a defect, the ink ejection unit 30 moves to the defective pixel 15 to eject the ink to correct the defect.

잉크를 토출하여 결함을 수정하는 단계는, 결함의 크기에 따라 잉크의 드롭 횟수를 계산하여 잉크를 토출할 수 있다. 토출되는 잉크의 드롭 횟수는 다음 식에 의해 정해질 수 있다.The step of correcting defects by discharging the ink can calculate the number of drops of the ink according to the size of the defect and discharge the ink. The number of drops of ink to be ejected can be determined by the following equation.

드롭 횟수=(결함크기)/(1 드롭의 액적크기) + 보정상수Number of drops = (defect size) / (droplet size of one drop) + correction constant

이때, 보정상수는 결함을 수정하기 위해 토출되는 잉크의 점도 또는 산포(散布)에 의해 결정될 수 있다.At this time, the correction constant can be determined by the viscosity or scattering of the ink ejected to correct the defect.

제어부(50)는 결함의 크기에 따라 잉크의 드롭 횟수를 계산하며, 결함 크기를 1 드롭의 액적 크기로 나눈 값에 토출되는 잉크의 특성을 고려하여 잉크의 드롭 횟수를 결정한다. 잉크 토출 유닛(30)은 결정된 드롭 횟수에 따라 잉크를 토출하여 화소(15)의 결함을 수정한다. 제어부(50)는 수정된 화소(15)의 크기를 기준으로 수정전의 화소(15)의 결함 크기에 비해 수정된 화소(15)의 크기가 크면 결함 수정이 완료된 것으로 판단하여 수정 작업을 종료하고, 수정전의 화소(15)의 결함 크기가 수정된 화소(15)의 크기와 같거나 작으면 결함 수정이 완료되지 않은 것으로 판단하여 잉크 토출에 의한 수정 작업을 반복한다.
The controller 50 calculates the number of drops of the ink according to the size of the defect, and determines the number of drops of the ink in consideration of the characteristics of the ink discharged at a value obtained by dividing the defect size by the droplet size of one drop. The ink ejection unit 30 corrects defects of the pixel 15 by ejecting ink according to the determined number of drops. If the size of the modified pixel 15 is larger than the defect size of the pixel 15 before the modification based on the size of the modified pixel 15, the controller 50 determines that the defect modification is completed, If the defect size of the pre-modification pixel 15 is equal to or smaller than the size of the modified pixel 15, it is determined that the defect correction is not completed and the correction operation by ink ejection is repeated.

이상에서 살펴본 바와 같이, 상술한 OLED 기판의 화소 결함 수정 방법 및 OLED 기판의 화소 결함 수정 장치에 따르면, OLED 기판에 빛을 조사한 후 반사된 빛의 세기를 이용하여 기판에 형성되어 있는 화소의 결함 유무를 판단하고 결함이 있는 것으로 판단된 화소에 잉크를 토출하여 결함을 수정함으로써, 제품 불량을 감소시켜 생산성을 향상시킬 수 있다.
As described above, according to the pixel defect correction method of the OLED substrate and the pixel defect correction apparatus of the OLED substrate described above, after the light is irradiated on the OLED substrate, And defects are corrected by ejecting ink to the pixels judged to be defective, thereby reducing the product defects and improving the productivity.

이상에서는 본 발명의 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 하기의 특허 청구의 범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 쉽게 이해할 수 있을 것이다.While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it will be understood by those of ordinary skill in the art that various changes in form and details may be made therein without departing from the spirit and scope of the invention as defined by the following claims And changes may be made without departing from the spirit and scope of the invention.

11: 기판 스테이지 13: 기판
15: 화소 20: 촬상 유닛
23: 광원 25: 카메라
30: 잉크 토출 유닛 40: 판단부
50: 제어부
11: substrate stage 13: substrate
15: pixel 20: image pickup unit
23: light source 25: camera
30: ink ejection unit 40:
50:

Claims (9)

OLED 기판에 형성된 화소의 결함을 수정하는 수정 방법으로서,
빛의 입사각, 빛의 세기, 빛의 파장 중 적어도 어느 하나를 조정하여 광원으로부터 빛을 상기 기판에 조사하는 단계;
카메라를 이용하여 상기 기판에 형성된 화소에 의해 반사된 빛을 촬영하여 이미지를 생성하는 단계;
상기 이미지로부터 상기 반사된 빛의 세기에 대한 데이터를 생성하는 단계;
상기 생성된 데이터를 필터링하는 단계;
상기 필터링에 의해 남아있는 데이터에 대응되는 화소를 결함으로 판단하는 단계 및
상기 결함으로 판단된 화소에 잉크를 토출하여 결함을 수정하는 단계를 포함하는, OLED 기판의 화소 결함 수정 방법.
A correction method for correcting a defect of a pixel formed on an OLED substrate,
Adjusting at least one of an incident angle of light, intensity of light, and wavelength of light to irradiate light onto the substrate from a light source;
Generating an image by photographing light reflected by a pixel formed on the substrate using a camera;
Generating data on the intensity of the reflected light from the image;
Filtering the generated data;
Determining a pixel corresponding to the remaining data by the filtering as a defect, and
And correcting the defect by ejecting ink to the pixel determined as the defect.
제1항에 있어서,
상기 데이터를 필터링하는 단계는,
반복되는 패턴에 의한 레퍼런스 데이터(reference data)를 이용하여 필터링하는 단계를 포함하는, OLED 기판의 화소 결함 수정 방법.
The method according to claim 1,
Wherein filtering the data comprises:
And filtering the pixel defect using reference data by a repetitive pattern.
제1항에 있어서,
상기 데이터를 필터링하는 단계는,
기 설정된 빛의 세기 범위를 이용하여 필터링하는 단계를 포함하는, OLED 기판의 화소 결함 수정 방법.
The method according to claim 1,
Wherein filtering the data comprises:
And filtering the image using a preset range of light intensity.
제1항에 있어서,
상기 카메라를 이용하여 촬영하는 단계 이전에,
상기 광원으로부터 상기 기판에 미리 빛을 조사하여 빛의 반사 특성에 따라 상기 기판에 조사할 빛의 세기, 조사 입사각, 파장 영역을 미리 결정하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는, OLED 기판의 화소 결함 수정 방법.
The method according to claim 1,
Before the step of photographing using the camera,
Further comprising the step of irradiating the substrate with light from the light source in advance to determine the intensity of the light to be irradiated to the substrate, the incident angle of incidence, and the wavelength region in advance according to the reflection characteristic of the light, How to fix it.
제1항에 있어서,
상기 잉크를 토출하여 결함을 수정하는 단계는,
결함의 크기에 따라 잉크의 드롭 횟수를 계산하여 잉크를 토출하는 단계를 포함하는, OLED 기판의 화소 결함 수정 방법.
The method according to claim 1,
The step of correcting defects by ejecting the ink includes:
And calculating the number of drops of ink according to the size of the defect to eject the ink.
제5항에 있어서,
토출되는 상기 잉크의 드롭 횟수는,
다음 식에 의해 정해지는 것을 특징으로 하는, OLED 기판의 화소 결함 수정 방법.
Figure pat00002

6. The method of claim 5,
The number of drops of the ink to be ejected,
Wherein the defective pixel defect is determined by the following equation.
Figure pat00002

제6항에 있어서,
상기 보정상수는 상기 결함을 수정하기 위해 토출되는 잉크의 점도 또는 산포(散布)에 의해 결정되는 것을 특징으로 하는, OLED 기판의 화소 결함 수정 방법.
The method according to claim 6,
Wherein the correction constant is determined by viscosity or scattering of the ink ejected to correct the defect.
기판이 로딩되는 기판 스테이지;
상기 기판에 광을 조사하는 광원과, 상기 기판에서 반사된 빛을 촬영하는 카메라를 포함하는 촬상 유닛;
상기 촬상 유닛에서 촬영된 이미지로부터 빛의 세기에 대한 데이터를 추출하고, 상기 데이터를 이용하여 상기 기판에 형성되는 화소의 결함 여부를 판단하는 판단부 및
상기 판단부의 판단에 따라 기판의 상부를 이동하면서 상기 화소의 결함에 잉크를 토출하여 결함을 수정하는 잉크 토출 유닛을 포함하는, OLED 기판의 화소 결함 수정 장치.
A substrate stage on which the substrate is loaded;
An imaging unit including a light source for irradiating the substrate with light, and a camera for capturing light reflected from the substrate;
A determination unit for extracting data on intensity of light from the image photographed by the imaging unit and determining whether the pixel formed on the substrate is defective using the data;
And an ink ejecting unit for ejecting ink to the defects of the pixel while correcting the defects while moving the upper part of the substrate according to the judgment of the judging unit.
제8항에 있어서,
상기 판단부는,
생성된 데이터를 레퍼런스 데이터를 이용하여 필터링하거나 또는 기 설정된 빛의 세기 범위를 이용하여 필터링하여 화소의 결함 여부를 판단하는 것을 특징으로 하는, OLED 기판의 화소 결함 수정 장치.
9. The method of claim 8,
Wherein,
Wherein the defective pixel is determined by filtering the generated data by using the reference data or by filtering using the predetermined range of light intensity.
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