KR20160075141A - 기판처리장치 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 벨로우즈의 내부로 공정 중에 발생되는 부산물이 유입되는 것이 방지되도록 구조가 개선된 기판처리장치에 관한 것이다. 본 발명에 따른 기판처리장치는 내부에 공간부가 형성되며, 바닥부에는 승강축이 삽입되는 관통공이 관통 형성되는 챔버와, 승강축에 연결되어 챔버의 공간부에 승강 가능하게 설치되며, 기판을 지지하는 서셉터와, 서셉터의 상부에 설치되어 기판을 향하여 공정 가스를 분사하는 가스공급장치와, 신장 및 수축가능한 구조를 가지며, 승강축을 감싸도록 챔버의 바닥부에 결합되고 챔버의 외부에 배치되며, 승강축과 관통공 사이의 간격을 통해 공간부의 진공이 해제되는 것을 방지하는 벨로우즈와, 간격을 통해서 공정시 발생되는 부산물이 벨로우즈의 내부로 유입되는 것이 방지되도록, 간격을 선택적으로 차단하는 차단부재를 포함한다.

Description

기판처리장치{Substrate processing apparatus}
본 발명은 챔버 내에서 가스를 이용한 제조 공정이 이루어지는 기판처리장치에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 반도체 식각장치 및 증착장치 등에 적용될 수 있는 기판처리장치에 관한 것이다.
일반적으로 반도체 소자의 제조 공정은 기판 상에 서로 성질을 달리하는 도전막, 반도체막 및 절연막 등의 박막을 그 적층의 순서 및 패턴의 형상을 조합하여 일정한 기능을 수행하는 전자회로를 실현하는 과정이라고 말할 수 있다. 이에 따라 반도체 소자 제조 공정에서는 여러 가지 박막의 증착과 식각 단위 공정이 반복적으로 행해지며, 이러한 단위 공정을 실시하기 위해 기판은 해당 공정의 진행에 최적의 조건을 제공하는 챔버에 반입되어 처리된다.
도 1에는 기판에 대한 식각공정을 행하기 위한 종래의 기판처리장치가 도시되어 있다. 도 1을 참조하면, 종래의 기판처리장치(9)는 내부에 반응공간이 형성되는 챔버(1)를 구비한다. 챔버(1)의 일측에는 기판이 반입 및 반출되기 위한 게이트벨브(2)가 마련되며, 바닥면에는 승강축(5)이 삽입되는 관통공이 마련된다. 챔버(1)의 내부에는 기판을 지지 및 가열하기 위한 서셉터(4)가 설치되며, 이 서셉터(4)는 승강축(5)에 연결되어 승강된다. 또한, 승강축(5) 주위로는 벨로우즈(6)가 설치되어 있다.
한편, 상기와 같이 구성된 기판처리장치를 이용하여 식각공정을 진행하다보면, 식각부산물이 발생된다. 예를 들어, HF가스를 이용하여 실리콘 산화막을 식각하는 식각공정에서는 파우더 형태의 식각부산물이 발생한다. 이 식각부산물들은 30℃ ~ 60℃의 온도 범위에서는 파우더의 형태로 있으며, 대략 90℃ 이상의 온도에서 분해된다. 이에 따라, 기판의 상부에서 발생한 식각부산물은 90℃ 보다 훨씬 낮은 온도로 유지되는 서셉터(4)의 하측 및 승강축(5)에 결합되어 파우더 형태로 존재하게 된다.
특히, 파우더 형태의 식각부산물이 승강축(5)과 관통공(3) 사이의 간격(틈)(g)을 통해 벨로우즈(6)의 내부로 유입되는 경우에는 이를 제거하기가 매우 어렵다. 나아가, 벨로우즈(6) 내부에 있던 식각부산물은 서셉터(4)의 승강시 벨로우즈(6)의 움직임(접히거나 펴짐)에 의해 다시 챔버 내부로 유입되어 공정 중의 오염원으로 작용하고, 이에 따라 기판의 품질이 저하되는 문제점이 있다.
대한민국 등록특허 10-0986961호
본 발명은 상기한 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로, 본 발명의 목적은 벨로우즈의 내부로 공정 중에 발생되는 부산물이 유입되는 것이 방지되도록 구조가 개선된 기판처리장치를 제공하는 것이다.
본 발명에 따른 기판처리장치는 내부에 공간부가 형성되며, 바닥부에는 승강축이 삽입되는 관통공이 관통 형성되는 챔버와, 상기 승강축에 연결되어 상기 챔버의 공간부에 승강 가능하게 설치되며, 상기 기판을 지지하는 서셉터와, 상기 서셉터의 상부에 설치되어 상기 기판을 향하여 공정 가스를 분사하는 가스공급장치와, 신장 및 수축가능한 구조를 가지며, 상기 승강축을 감싸도록 상기 챔버의 바닥부에 결합되고 상기 챔버의 외부에 배치되며, 상기 승강축과 상기 관통공 사이의 간격을 통해 상기 공간부의 진공이 해제되는 것을 방지하는 벨로우즈와, 상기 간격을 통해서 공정시 발생되는 부산물이 상기 벨로우즈의 내부로 유입되는 것이 방지되도록, 상기 간격을 선택적으로 차단하는 차단부재를 포함하는 것을 특징으로 한다.
본 발명에 따르면, 상기 차단부재는 팽창 및 수축 가능한 소재로 이루어지며, 상기 승강축 또는 상기 관통공의 내면에 결합되며, 상기 서셉터의 승강 도중에는 상기 차단부재가 수축되며, 상기 차단부재가 팽창되면 상기 간격이 차단되는 것이 바람직하다.
또한, 본 발명에 따르면 상기 차단부재의 내부에는 확장공간이 형성되어 있으며, 상기 확장공간으로 가스가 공급됨으로써 상기 차단부재가 팽창되는 것이 바람직하다.
또한, 본 발명에 따르면 상기 서셉터의 상면에는 상기 서셉터에 안착된 기판의 하면으로 불활성 가스를 분사하는 다수의 분사구가 마련되어 있으며, 상기 승강축의 내부에는 상기 분사구로 상기 불활성 가스를 공급하는 가스유로가 마련되어 있으며, 상기 가스유로가 분기되어 상기 확장공간에 연결된 것이 바람직하다.
또한, 본 발명에 따르면 상기 서셉터의 하면에는 상기 가스유로와 연결되며, 상기 차단부재로 불활성 가스를 분사하는 보조분사구가 마련되어 있는 것이 바람직하다.
본 발명에 따른 기판처리장치는 내부에 공간부가 형성되며, 바닥부에는 승강축이 삽입되는 관통공이 관통 형성되는 챔버와, 상기 승강축에 연결되어 상기 챔버의 공간부에 승강 가능하게 설치되며, 상기 기판을 지지하는 서셉터와, 상기 서셉터의 상부에 설치되어 상기 기판을 향하여 공정 가스를 분사하는 가스공급장치와, 신장 및 수축가능한 구조를 가지며, 상기 승강축을 감싸도록 상기 챔버의 바닥부에 결합되고 상기 챔버의 외부에 배치되며, 상기 승강축과 상기 관통공 사이의 간격을 통해 상기 공간부의 진공이 해제되는 것을 방지하는 벨로우즈와, 환형으로 형성되어 상기 승강축을 감싸도록 결합되며, 상기 승강축의 상승시 상기 간격을 막아서 차단하는 차단부재를 포함하는 것을 특징으로 한다.
본 발명에 따르면, 상기 차단부재는 탄성을 가지는 소재로 이루어지는 것이 바람직하다.
본 발명에 따른 기판처리장치는 내부에 공간부가 형성되며, 바닥부에는 승강축이 삽입되는 관통공이 관통 형성되는 챔버와, 상기 승강축에 연결되어 상기 챔버의 공간부에 승강 가능하게 설치되며, 상기 기판을 지지하는 서셉터와, 상기 서셉터의 상부에 설치되어 상기 기판을 향하여 공정 가스를 분사하는 가스공급장치와, 신장 및 수축가능한 구조를 가지며, 상기 승강축을 감싸도록 배치되며, 상측 단부는 상기 서셉터의 하면에 결합되고 하측 단부는 상기 챔버의 바닥부에 결합되어 상기 승강축과 상기 관통공 사이의 간격을 통해 상기 공간부의 진공이 해제되는 것을 방지하는 벨로우즈를 포함하는 것을 특징으로 한다.
본 발명에 따르면, 승강축과 관통공 사이의 간격을 통해 부산물이 벨로우즈의 내부로 유입되는 것이 방지되며, 따라서 벨로우즈 내부로 유입되었던 부산물이 다시 챔버 내부로 유입된 후 오염원으로 작용하여 기판의 품질이 저하되던 종래의 문제점을 해결할 수 있다.
도 1은 종래 기판처리장치의 개략적인 구성도이다.
도 2 및 도 3은 본 발명의 제1실시예에 따른 기판처리장치의 개략적 구성도로, 도 2는 서셉터가 하강된 상태의 도면이고 도 3은 서셉터가 상승된 상태의 도면이다.
도 4는 본 발명의 제2실시예에 따른 기판처리장치의 개략적인 단면도이다.
도 5는 본 발명의 제3실시예에 따른 기판처리장치의 부분단면도이다.
도 6은 본 발명의 제4실시예에 따른 기판처리장치의 부분단면도이다.
도 7 및 도 8은 본 발명의 제5실시예에 따른 기판처리장치의 개략적 구성도로, 도 7은 서셉터가 하강된 상태의 도면이고, 도 8은 서셉터가 상승된 상태의 도면이다.
도 9는 본 발명의 제6실시예에 따른 기판처리장치의 개략적인 단면도이다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여, 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 기판처리장치를 상세히 설명한다. 본 발명은 다양한 종류의 기판처리장치에 적용될 수 있으며, 이하에서는 웨이퍼에 대한 식각공정을 수행하는 식각장치를 예로 들어 설명하기로 한다.
도 2 및 도 3은 본 발명의 제1실시예에 따른 기판처리장치의 개략적 구성도로, 도 2는 서셉터가 하강된 상태의 도면이고 도 3은 서셉터가 상승된 상태의 도면이다.
도 2 및 도 3을 참조하면, 본 발명의 제1실시예에 따른 기판처리장치(100)는 챔버(10), 가스공급장치(20), 서셉터(30), 승강축(40) 및 차단부재(50)를 구비한다.
챔버(10)는 기판에 대한 일정한 공정이 수행되는 곳이다. 챔버(10) 상부의 탑리드(13)가 폐쇄되면, 챔버(10)의 내부에는 공간부(11)가 형성된다. 이 공간부(11)는 챔버(10) 외부의 펌프(미도시)와 연결되어 공정 중에 진공분위기로 형성된다. 챔버(10)의 일측벽에는 기판이 반입 및 반출될 수 있는 게이트밸브(12)가 설치되며, 챔버(10)의 바닥부에는 승강축(40)이 삽입되어 승강될 수 있는 관통공(14)이 형성된다. 그리고, 챔버 내부에는 기판을 가열하기 위한 가열부재(70)(예를 들어, 할로겐 램프 등)가 배치된다.
또한, 식각공정에서는 HF 가스 등의 식각가스가 이용되기 때문에 식각가스로 인하여 챔버(10)의 내벽이 부식되는 등의 문제가 발생할 수 있다. 따라서, 내식성이 우수한 텅스텐을 챔버(10)의 내벽에 코팅함으로써 내구성을 증진시키는 것이 바람직하다.
가스공급장치(20)는 식각가스 등과 같은 공정용 가스를 기판에 분사하기 위한 것으로서 후술할 서셉터(30)의 상부에 배치되며, 본 실시예에서는 챔버(10)의 탑리드(13)에 결합된다. 본 실시예에서, 가스공급장치(20)는 이른바 샤워헤드 형태로 이루어진다.
서셉터(30)는 기판(s)을 지지 및 가열하기 위한 것으로서, 승강축(40)에 연결되어 챔버의 공간부에 승강 가능하게 배치된다. 그리고, 서셉터(30)의 상면에는 안착된 기판의 하면으로 불활성 가스를 분사하기 위한 다수의 분사구(31)가 형성된다. 또한, 도면에는 미도시 되었으나, 서셉터의 내부에는 기판을 가열(또는 냉각)하기 위한 구성이 마련될 수 있다. 예를 들어, 서셉터의 내부에 유로를 형성하고, 이 유로를 따라 열교환물질을 순환시킴으로써 기판을 가열 또는 냉각할 수 있다.
승강축(40)은 중공의 형상으로 형성되며, 챔버의 관통공(14)에 삽입된다. 이때, 승강축(40)이 관통공(14)의 내부에서 승강되어야 하므로, 승강축(40)과 관통공(14)의 내면 사이에는 일정한 간격(g)이 형성된다. 승강축(40)의 상단부는 서셉터(30)의 하면에 결합되며, 승강축(40)에 의해 서셉터(30)가 승강된다. 또한, 승강축(40)의 내부에는 불활성 가스를 공급하기 위한 가스유로(41)가 마련된다. 이 가스유로(41)는 서셉터에 형성된 분사구(31)에 연결되고, 가스유로(41)를 통해 공급된 불활성 가스가 분사구(31)를 통해 분사된다. 또한, 도 2에 도시된 바와 같이, 가스유로(41)는 분기되며, 분기된 가스유로(411)는 후술하는 확장공간(51)에 연결된다.
또한, 챔버(10)의 공간부(11)는 공정 중에 진공을 유지하여야 하므로, 챔버(10)의 외부로 연장되어 있는 승강축(40)에는 벨로우즈(42)가 설치된다. 벨로우즈(42)는 신장 및 수축가능한 구조를 가지며, 승강축(40)을 감싸도록 설치된다. 벨로우즈(42)는 승강축(40)과 관통공(14)의 내주면 사이의 간격(g)을 통해 공간부(11)의 진공이 해제되는 것을 방지한다.
차단부재(50)는 승강축(40)과 관통공(14) 사이의 간격(g)을 선택적으로 차단(막음)하기 위한 것이다. 본 실시예의 경우 차단부재(50)는 팽창 및 수축가능한 소재로 이루어지며, 승강축(40)의 둘레에 결합된다. 이때, 도 2에 도시된 바와 같이 차단부재(50)와 승강축(40) 사이에는 가스가 유입될 수 있는 확장공간(51)이 형성되며, 이 확장공간(51)은 분기된 가스유로(411)와 연통된다. 도 3에 도시된 바와 같이, 가스유로(411)를 통해 확장공간(51)의 내부로 불활성 가스가 공급되면, 차단부재(50)는 외측 방향으로 팽창하여 관통공의 내면에 밀착되고, 이에 따라 승강축(40)과 관통공 사이의 간격(g)이 차단된다. 그리고, 도 2에 도시된 바와 같이, 차단부재(50)가 수축된 상태에서는 차단부재(50)가 관통공(14)의 내면으로부터 이격된다. 이때, 차단부재(50)가 팽창된 상태에서 확장공간(51) 내부를 배기하면 차단부재(50)를 수축시킬 수 있다. 참고로, 차단부재(50) 내부의 배기는 가스유로(41)를 통해 이루어질 수 있다.
이하, 상술한 바와 같이 구성된 기판처리장치(100)를 이용하여 기판을 식각하는 과정에 관하여 설명한다.
먼저, 도 2에 도시된 바와 같이 서셉터(30)가 하강된 상태에서 게이트밸브(12)를 통해 서셉터(30)에 기판을 로딩한다. 이후, 도 3에 도시된 바와 같이 서셉터(30)를 승강시킨다. 이때, 서셉터(30)가 하강된 상태 및 서셉터(30)를 승강시키는 과정(또는, 하강시키는 과정)에서는 차단부재(50)가 수축되어 있으며, 따라서 승강축(40)이 관통공(14) 내부에서 승강 가능하다.
그리고, 서셉터(30)가 상승된 상태에서, 가스유로(411)를 통해 확장공간(51)으로 불활성 가스를 공급하면, 도 3에 도시된 바와 같이 차단부재(50)가 팽창한다. 그러면, 차단부재(50)가 관통공(14)의 내주면에 밀착되며, 이에 따라 관통공과 승강축(40) 사이의 간격(g)이 차단된다.
이 상태에서 기판으로 식각가스, 예를 들어 HF 및 NH3 가스를 공급하면 기판이 식각가스에 의해 식각되고, 이후 기판을 가열하면 기판상의 식각부산물이 기화되면서 제거된다. 이때, 분사구(31)를 통해 불활성 가스를 분사하면, 기화된 부산물이 기판의 하면에 다시 결합되는 것이 방지되고, 불활성 가스의 압력에 의해 기판이 서셉터로부터 살짝 뜨기 때문에 기판이 보다 더 효율적으로 가열된다.
상술한 바와 같이 본 발명에 따르면 관통공(14)과 승강축(40) 사이의 간격(g)이 차단부재(50)에 의해 차단된 상태에서 식각공정이 진행된다. 따라서, 공정 중 발생되는 부산물이 벨로우즈(42) 내부로 유입되는 것을 방지할 수 있다. 따라서, 종래와 같이 벨로우즈(42) 내부로 유입된 부산물이 다시 챔버 공간부(11)로 유입됨에 따라 기판의 품질이 저하되는 것을 방지할 수 있다.
도 4는 본 발명의 제2실시예에 따른 기판처리장치의 개략적인 단면도이다.
도 4를 참조하면, 제2실시예에 따른 기판처리장치(100)는 서셉터(30A)에 보조분사구(32)가 더 마련되어 있다. 보조분사구(32)는 서셉터(30A)의 하면에 형성되며, 가스유로(41)와 연결된다.
기판에 대한 처리공정 중, 보조분사구(32)을 통해 차단부재(50)로 불활성 가스가 분사되며, 이에 따라 부산물이 차단부재(50)에 결합되는 것이 방지된다. 특히, 도 4에 화살표로 도시된 바와 같이, 불활성 가스를 아래 방향 뿐 아니라 경사진 방향으로도 분사하면, 부산물이 차단부재(50)쪽으로 유동되는 것을 방지할 수 있다.
참고로, 차단부재(50)는 탄성(팽창 및 수축)을 가져야 하기 때문에 고온으로 가열될 수 없고, 따라서 차단부재(50)의 온도가 주변보다 상대적으로 낮아서 부산물이 결합되기 쉽다. 그런데, 차단부재(50)에 부산물이 결합되면, 이후 서셉터(30A)가 하강할 때 차단부재(50)에 결합되어 있던 부산물이 벨로우즈(42) 내부로 유입되는 문제점이 발생한다. 하지만, 본 발명에와 같이 보조분사구(32)를 통해 불활성 가스를 차단부재(50)로 분사하면, 차단부재(50)에 부산물이 결합되는 것을 방지할 수 있으므로 상기한 문제를 해결할 수 있다.
도 5는 본 발명의 제3실시예에 따른 기판처리장치의 부분단면도이다.
도 5를 참조하면, 본 실시예에 따른 차단부재(50A)는 튜브 형상으로 형성되며, 차단부재(50A)의 내부에 확장공간(51)이 형성된다. 그리고, 이 차단부재(50A)는 승강축(40)을 감싸도록 결합된다. 도 5의 (A)에 도시된 바와 같이, 차단부재(50A)의 확장공간(51)으로 가스가 공급되지 않은 상태에서는 차단부재가 수축된다. 그리고, 도 5의 (B)에 도시된 바와 같이, 차단부재(50A)의 확장공간으로 불활성 가스가 공급되면, 차단부재(50A)는 팽창하여 관통공(14)의 내면에 밀착되고, 이에 따라 승강축(40)과 관통공(14) 사이의 간격(g)이 차단된다. 한편, 이와 같은 차단부재의 형상은 관통공의 크기 및 형상에 따라 변경될 수 있다.
도 6은 본 발명의 제4실시예에 따른 기판처리장치의 부분단면도이다.
도 6을 참조하면, 본 실시예에 따른 차단부재(50B)는 튜브 형상으로 형성되며, 차단부재(50B)의 내부에 확장공간(51)이 형성된다. 그리고, 이 차단부재(50B)는 관통공(14)의 내면에 결합된다. 한편, 챔버의 바닥부에는 차단부재의 확장공간(51)과 연통되는 가스공급유로(111)가 형성되어 있으며, 이 가스공급유로(111)에는 불활성 가스를 공급하는 가스공급라인(112)이 연결된다.
도 6의 (A)에 도시된 바와 같이, 차단부재(50B)의 확장공간(51)으로 가스가 공급되지 않으면 차단부재(50B)는 수축된다. 그리고, 도 6의 (B)에 도시된 바와 같이, 차단부재(50B)의 확장공간(51)으로 불활성 가스가 공급되면, 차단부재(50B)는 팽창하여 승강축(40)의 외면에 밀착되고, 이에 따라 승강축(40)과 관통공(14) 사이의 간격(g)이 차단된다.
도 7 및 도 8은 본 발명의 제5실시예에 따른 기판처리장치의 개략적 구성도로, 도 7은 서셉터가 하강된 상태의 도면이고, 도 8은 서셉터가 상승된 상태의 도면이다.
도 7 및 도 8을 참조하면, 본 발명의 제5실시예에 따른 기판처리장치(100A)는 챔버(10), 가스공급장치(20), 서셉터(30), 승강축(40) 및 차단부재(50C)를 구비한다. 이때, 챔버(10), 가스공급장치(20), 서셉터(30) 및 승강축(40)은 앞서 설명한 제1실시예와 동일한바, 차단부재(50C)를 중심으로 설명한다.
차단부재(50C)는 탄성을 가지며, 내부식성 및 내열성이 우수한 소재로 이루어진다. 차단부재(50C)는 환형으로 형성되며, 승강축(40)을 감싸도록 결합된다.
도 7에 도시된 바와 같이, 서셉터(30)가 하강된 상태에서 차단부재(50C)는 벨로우즈(42) 내부에 배치된다. 그리고, 도 8에 도시된 바와 같이 승강축(40)이 상승하면, 차단부재(50C)도 상승하여 승강축(40)과 관통공(14) 사이의 간격(g)을 막아서 차단한다.
도 9는 본 발명의 제6실시예에 따른 기판처리장치의 개략적인 단면도이다.
도 9를 참조하면, 제6실시예에 따른 기판처리장치(100B)는 챔버(10), 가스공급장치(20), 서셉터(30), 승강축(40) 및 벨로우즈(42A)를 구비한다. 이때, 챔버(10), 가스공급장치(20), 서셉터(30) 및 승강축(40)은 앞서 설명한 제1실시예와 동일한 바, 벨로우즈(42A)를 중심으로 설명한다.
벨로우즈(42A)는 승강축(40)과 관통공(14)의 내주면 사이의 간격(g)을 통해 공간부(11)의 진공이 해제되는 것을 방지하기 위한 것이다. 벨로우즈(42A)는 신장 및 수축가능한 구조를 가지며, 승강축(40)을 감싸도록 설치된다. 특히, 본 실시예의 경우, 벨로우즈(42A)는 챔버의 공간부(11)에 배치되는데, 보다 구체적으로 벨로우즈(42A)의 상측 단부가 서셉터(30)의 하면에 결합되고, 하측 단부는 챔버(10)의 바닥부에 결합된다.
본 실시예의 같이 벨로우즈(42A)를 설치하면, 챔버 공간부(11)의 진공이 해제되는 것이 방지될 뿐 아니라, 벨로우즈(42A) 내부로 부산물이 유입되는 것 자체가 방지된다.
다만, 벨로우즈(42A)는 주름진 구조를 가지고, 고온으로 가열될 수 없기 때문에, 벨로우즈(42A)에 부산물이 많이 결합될 가능성이 있다. 따라서, 앞서 설명한 제2실시예(도 4)에서와 같이, 서셉터의 하면에 보조분사구를 마련하고, 이 보조분사구를 통해 벨로우즈를 향해 불활성 가스를 분사하면, 벨로우즈에 부산물이 결합되는 것을 방지할 수 있다.
이상에서 본 발명의 바람직한 실시예에 대해 도시하고 설명하였으나, 본 발명은 상술한 특정의 바람직한 실시예에 한정되지 아니하며, 청구범위에서 청구하는 본 발명의 요지를 벗어남이 없이 당해 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 누구든지 다양한 변형 실시가 가능한 것은 물론이고, 그와 같은 변경은 청구범위 기재의 범위 내에 있게 된다.
100...기판처리장치 10...챔버
20...가스공급장치 30...서셉터
31...분사구 32...보조분사구
40...승강축 41...가스유로
42...벨로우즈 50...차단부재
51...확장공간

Claims (8)

  1. 내부에 공간부가 형성되며, 바닥부에는 승강축이 삽입되는 관통공이 관통 형성되는 챔버;
    상기 승강축에 연결되어 상기 챔버의 공간부에 승강 가능하게 설치되며, 상기 기판을 지지하는 서셉터;
    상기 서셉터의 상부에 설치되어 상기 기판을 향하여 공정 가스를 분사하는 가스공급장치;
    신장 및 수축가능한 구조를 가지며, 상기 승강축을 감싸도록 상기 챔버의 바닥부에 결합되고 상기 챔버의 외부에 배치되며, 상기 승강축과 상기 관통공 사이의 간격을 통해 상기 공간부의 진공이 해제되는 것을 방지하는 벨로우즈; 및
    상기 간격을 통해서 공정시 발생되는 부산물이 상기 벨로우즈의 내부로 유입되는 것이 방지되도록, 상기 간격을 선택적으로 차단하는 차단부재;를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 차단부재는 팽창 및 수축 가능한 소재로 이루어지며, 상기 승강축 또는 상기 관통공의 내면에 결합되며,
    상기 서셉터의 승강 도중에는 상기 차단부재가 수축되며,
    상기 차단부재가 팽창되면 상기 간격이 차단되는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 차단부재의 내부에는 확장공간이 형성되어 있으며,
    상기 확장공간으로 가스가 공급됨으로써 상기 차단부재가 팽창되는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
  4. 제3항에 있어서,
    상기 서셉터의 상면에는 상기 서셉터에 안착된 기판의 하면으로 불활성 가스를 분사하는 다수의 분사구가 마련되어 있으며,
    상기 승강축의 내부에는 상기 분사구로 상기 불활성 가스를 공급하는 가스유로가 마련되어 있으며,
    상기 가스유로가 분기되어 상기 확장공간에 연결된 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
  5. 제4항에 있어서,
    상기 서셉터의 하면에는 상기 가스유로와 연결되며, 상기 차단부재로 불활성 가스를 분사하는 보조분사구가 마련되어 있는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
  6. 내부에 공간부가 형성되며, 바닥부에는 승강축이 삽입되는 관통공이 관통 형성되는 챔버;
    상기 승강축에 연결되어 상기 챔버의 공간부에 승강 가능하게 설치되며, 상기 기판을 지지하는 서셉터;
    상기 서셉터의 상부에 설치되어 상기 기판을 향하여 공정 가스를 분사하는 가스공급장치;
    신장 및 수축가능한 구조를 가지며, 상기 승강축을 감싸도록 상기 챔버의 바닥부에 결합되고 상기 챔버의 외부에 배치되며, 상기 승강축과 상기 관통공 사이의 간격을 통해 상기 공간부의 진공이 해제되는 것을 방지하는 벨로우즈; 및
    환형으로 형성되어 상기 승강축을 감싸도록 결합되며, 상기 승강축의 상승시 상기 간격을 막아서 차단하는 차단부재;를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
  7. 제6항에 있어서,
    상기 차단부재는 탄성을 가지는 소재로 이루어지는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
  8. 내부에 공간부가 형성되며, 바닥부에는 승강축이 삽입되는 관통공이 관통 형성되는 챔버;
    상기 승강축에 연결되어 상기 챔버의 공간부에 승강 가능하게 설치되며, 상기 기판을 지지하는 서셉터;
    상기 서셉터의 상부에 설치되어 상기 기판을 향하여 공정 가스를 분사하는 가스공급장치; 및
    신장 및 수축가능한 구조를 가지며, 상기 승강축을 감싸도록 배치되며, 상측 단부는 상기 서셉터의 하면에 결합되고 하측 단부는 상기 챔버의 바닥부에 결합되어 상기 승강축과 상기 관통공 사이의 간격을 통해 상기 공간부의 진공이 해제되는 것을 방지하는 벨로우즈;를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
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