KR20160069617A - Hard coating layer, method for forming thereof and display deviece comprising the same - Google Patents

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Abstract

The present invention relates to a hard coating layer which includes: a unit represented by chemical formula 1; a unit represented by chemical formula 2; and zinc oxide, wherein the content of zinc oxide in the hard coating layer is 0.03-0.6 wt%. The hard coating layer of the present invention can exhibit anti-reflective, fingerprint resistant, and antibacterial properties with only a single layer.

Description

하드 코팅층, 그 제조 방법 및 이를 포함하는 표시 장치{HARD COATING LAYER, METHOD FOR FORMING THEREOF AND DISPLAY DEVIECE COMPRISING THE SAME}Technical Field [0001] The present invention relates to a hard coating layer, a method of manufacturing the same, and a display device including the hard coating layer.

본 발명은 하드 코팅층, 그 제조 방법 및 이를 포함하는 표시 장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는, 단일층으로 항균, 반사방지 및 고경도 내지문 성능을 구현할 수 있는 하드 코팅층, 그 제조 방법 및 이를 포함하는 표시 장치에 관한 것이다.
The present invention relates to a hard coating layer, a method of manufacturing the same, and a display device including the hard coating layer. More particularly, the present invention relates to a hard coating layer capable of realizing antibacterial, antireflection and anti- To a display device.

최근 액정표시 장치(Liquid Crystal Display device: LCD), 유기전계발광표시 장치(Organic Light Emitting Display: OLED), 전기영동표시 장치(Electrophoretic Display: EPD,Electric Paper Display), 플라즈마표시 장치(Plasma Display Panel device: PDP), 전계방출표시 장치(Field Emission Display device: FED), 전기발광표시 장치(Electro luminescence Display Device: ELD) 및 전기습윤표시 장치(Electro-Wetting Display: EWD) 등과 같은 평판표시장치들이 다양한 기술 분야에서 사용되고 있다.
BACKGROUND ART [0002] Recently, a liquid crystal display device (LCD), an organic light emitting display (OLED), an electrophoretic display (EPD), a plasma display panel (PDP), a field emission display device (FED), an electroluminescence display device (ELD), and an electro-wetting display (EWD) Has been used in the field.

한편, 상기와 같은 평판표시장치에는 외부 광 입사에 의한 눈부심 현상을 방지하기 위해 반사 방지 기능을 갖는 필름 또는 코팅층들이 적용되고 있다. 종래에는 반사 방지 기능 수행을 위해, 서로 다른 굴절율을 갖는 무기계 유도체 재료들을 진공 조건하에서 20층 이상 증착하여 제조되는 다층 반사막을 적용하거나 또는 기판 표면에 나노 사이즈의 규칙적인 돌기들이 형성하는 방법 등이 주로 사용되었다. 그러나, 상기 다층 반사막의 경우, 제조 공정이 복잡하고, 증착을 위해 고온이 요구되기 때문에 플라스틱과 같은 재질에 사용되기 부적합하며, 층간 접착력이 뛰어나지 않아 도막 벗겨짐과 같은 문제점이 발생한다는 문제점이 있다. 또한, 상기 나노 사이즈의 돌기를 형성하는 방법의 경우, 제작 단가가 매우 높고, 상기 돌기들을 형성하기 위해 식각 공정이 사용되기 때문에, 사용가능한 기판의 재질이 한정된다는 문제점이 있다. 뿐만 아니라, 상기 돌기들에 의해 난반사가 발생하여 헤이즈가 높아지게 때문에 디스플레이 장치의 화질의 저하시킬 수 있다는 문제점도 있다.
On the other hand, a film or a coating layer having an anti-reflection function is applied to the flat panel display device to prevent glare due to external light incidence. Conventionally, in order to perform an antireflection function, a method of applying multilayer reflective films, which are manufactured by depositing inorganic derivative materials having different refractive indexes in 20 or more layers under vacuum conditions, or forming nano-sized regular protrusions on the substrate surface Respectively. However, in the case of the above-mentioned multilayer reflective film, since the manufacturing process is complicated and a high temperature is required for vapor deposition, it is not suitable for use in materials such as plastics, and the interlayer adhesive force is not excellent and problems such as peeling of the coating film occur. In addition, in the case of the method of forming the nano-sized protrusions, since the manufacturing cost is very high and the etching process is used to form the protrusions, there is a problem that the material of the usable substrate is limited. In addition, there is a problem that the image quality of the display device may be deteriorated because the diffusions are generated by the protrusions and the haze increases.

한편, 최근 터치 기능이 적용된 표시장치들이 증가하면서, 반사 방지 기능과 함께 내지문 성능을 구현할 수 있도록 하는 필름 또는 코팅막들에 대한 연구들이 진행되고 있다. 한국등록특허 제10-1244883호(특허문헌 1)에는 기판을 건식 식각하여 기판 표면에 복수의 돌기형 구조체를 형성한 후, 무기물 입자를 증착시켜 반사 방지 및 내지문 기능을 수행하는 반사 방지 필름이 개시되어 있다. 그러나 상기 특허문헌 1의 방법의 경우, 돌기형 구조체 형성을 위한 식각 공정과 무기물 입자의 증착 공정을 수행하여야 하기 때문에 제조 공정이 복잡하고, 제조 단가가 높으며, 상기한 바와 같이 돌기형 구조체에 의한 헤이즈 발생으로 인해 디스플레이 장치의 화질이 저하될 수 있다는 문제점이 있다. 뿐만 아니라, 돌기형 구조체 상에 무기물 입자층이 존재하는 다층 구조로 형성되기 때문에 두께가 두꺼워 전체 장치의 두께를 증가시킨다는 문제점도 있다.
Meanwhile, as the number of display devices to which the touch function has been applied recently, researches are being conducted on films or coating films that can realize the fingerprint performance together with the anti-reflection function. Korean Patent No. 10-1244883 (Patent Document 1) discloses an antireflection film for performing antireflection and fingerprint function by forming a plurality of protruding structures on a substrate surface by dry etching a substrate, depositing inorganic particles thereon, Lt; / RTI > However, in the case of the method of Patent Document 1, since the etching process for forming the protruding structure and the deposition process for the inorganic particles must be performed, the manufacturing process is complicated, the manufacturing cost is high, and the haze The image quality of the display device may be deteriorated. In addition, since the inorganic particle layer is formed in a multi-layered structure in which the inorganic particle layer is present on the protruding structure, the thickness of the inorganic particle layer is increased.

한편, 최근 스마트폰이나 태블릿 PC와 같은 전자 제품들의 사용이 많아지면서, 손이나 침 등에 의해 이들 기기에 세균이 증식되고, 이와 같이 증식된 세균들로부터 세균 감염이 일어날 가능성이 높아지고 있다. 이에 따라 항균 기능이 부여된 전자 제품에 대한 관심이 높아지고 있다.
On the other hand, as the use of electronic products such as smart phones and tablet PCs has increased recently, bacterial growth has occurred in these devices due to hand or saliva, and bacterial infections are increasingly occurring from such proliferated bacteria. Accordingly, interest in an electronic product having an antibacterial function is increasing.

본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위한 것으로, 단순한 제조 공정으로 제조할 수 있고, 하나의 층으로 항균, 반사방지 및 고경도 내지문 성능을 모두 구현할 수 있도록 개발된 하드 코팅층 및 그 제조 방법을 제공하고자 한다. The present invention has been made to solve the above problems, and it is an object of the present invention to provide a hard coating layer which can be produced by a simple manufacturing process, and which can realize antibacterial, antireflection and anti- .

또한, 본 발명은 상기와 같은 하드 코팅층을 포함하여, 우수한 반사방지, 항균 및 내지문 특성을 갖는 표시장치를 제공하고자 한다.
It is another object of the present invention to provide a display device having excellent anti-reflection, anti-microbial, and anti-fingerprint characteristics, including the hard coating layer.

일 구현예에 따르면, 본 발명의 하드 코팅층은 하기 화학식 1로 표시되는 단위; 하기 화학식 2로 표시되는 단위; 및 산화 아연을 포함하며, 이때, 상기 산화 아연은 하드 코팅층 내에 0.03중량% 내지 0.6중량%의 함량으로 포함된다.According to one embodiment, the hard coating layer of the present invention comprises a unit represented by the following general formula (1); A unit represented by the following formula (2); And zinc oxide, wherein the zinc oxide is contained in an amount of 0.03 wt% to 0.6 wt% in the hard coat layer.

[화학식 1][Chemical Formula 1]

Figure pat00001
Figure pat00001

상기 [화학식 1]에서, R1은 수소 또는 C1~10인 알킬렌기, R2는 수소 또는 C1~10인 알킬기, R3는 적어도 하나 이상의 수소가 F로 치환된 C1~10알킬기이다.
In the [Formula 1], R 1 is hydrogen or C 1 ~ 10 alkyl group, R 2 is hydrogen or C 1 ~ 10 alkyl group, R 3 is one or more hydrogen is a C 1 ~ 10 alkyl group substituted with F .

[화학식 2](2)

Figure pat00002
Figure pat00002

상기 [화학식 2]에서, R4 및 R5는 각각 독립적으로, C1~10인 알킬기, R6는 적어도 하나 이상의 수소가 F로 치환된 C1~20알킬기이다.
In the above formula (2), R 4 and R 5 are each independently a C 1-10 alkyl group, and R 6 is a C 1-20 alkyl group substituted by at least one hydrogen atom.

다른 구현예에 따르면, 본 발명의 하드 코팅층 제조방법은, 기판 상에 하기 [화학식 3]으로 표시되는 반복 단위를 포함하는 불소계 고분자, 하기 [화학식 4]로 표시되는 불소계 실란 및 산화 아연을 포함하는 하드 코팅용 조성물을 도포하는 단계; 및 상기 하드 코팅 조성물을 경화시키는 단계를 포함한다. 이때, 상기 하드 코팅 조성물은 상기 산화 아연이 하드 코팅용 조성물 100중량부에 대하여 0.03중량부 내지 0.5중량부의 함량으로 포함된다.According to another embodiment, the method for producing a hard coat layer of the present invention is a method for producing a hard coat layer comprising a fluorine-based polymer containing a repeating unit represented by the following formula (3), a fluorine-based silane represented by the following formula Applying a composition for hard coating; And curing the hard coating composition. At this time, the hard coating composition contains zinc oxide in an amount of 0.03 parts by weight to 0.5 parts by weight based on 100 parts by weight of the composition for hard coating.

[화학식 3](3)

Figure pat00003
Figure pat00003

상기 [화학식 3]에서, R1은 수소 또는 C1~10인 알킬렌기, R2는 수소 또는 C1~10인 알킬기, R3는 적어도 하나 이상의 수소가 F로 치환된 C1~10알킬기임.
The [formula 3], R 1 is hydrogen or C 1 ~ 10 alkyl group, R 2 is hydrogen or C 1 ~ 10 alkyl group, R 3 is an at least one hydrogen is substituted by F C 1 ~ 10 alkyl group, .

[화학식 4][Chemical Formula 4]

Figure pat00004
Figure pat00004

상기 [화학식 4]에서, R4, R5 및 R7는 각각 독립적으로, C1~10인 알킬기, R6는 적어도 하나 이상의 수소가 F로 치환된 C1~20알킬기임.
R 4, R 5 and R 7 are each independently a C 1-10 alkyl group, and R 6 is a C 1-20 alkyl group substituted by at least one hydrogen atom.

또 다른 구현예에 따르면, 본 발명의 표시장치는 표시 패널; 및 상기 표시 패널 상에 배치되고, 단일층으로 형성되는 상기 본 발명의 하드 코팅층을 포함한다.
According to yet another embodiment, a display device of the present invention includes a display panel; And the hard coating layer of the present invention, which is disposed on the display panel and is formed as a single layer.

본 발명에 따른 하드 코팅층은 단일층만으로 반사 방지, 내지문 및 항균 성능을 모두 구현할 수 있기 때문에, 상기 하드 코팅층을 적용할 경우, 박형의 표시장치를 경제적으로 구현할 수 있다.The hard coating layer according to the present invention can realize both antireflection, fingerprint proofing and antibacterial performance with only a single layer. Therefore, when the hard coating layer is applied, a thin display device can be economically realized.

또한, 본 발명에 따른 하드 코팅층은 제조 공정이 단순하여, 공정 시간 및 공정 비용을 절감할 수 있다.
In addition, the hard coating layer according to the present invention can simplify the manufacturing process and reduce the processing time and process cost.

도 1은 본 발명의 일 구현예에 따른 표시 장치를 도시한 도면이다.
도 2 및 도 3은 본 발명에 따른 표시 장치의 표시 패널을 설명하기 위한 도면이다.
도 4는 본 발명의 다른 구현예에 따른 표시 장치를 도시한 도면이다.
도 5는 본 발명의 또 다른 구현예에 따른 표시 장치를 도시한 도면이다.
도 6 및 도 7은 본 발명에 따른 표시 장치의 터치 패널을 설명하기 위한 도면이다.
도 8은 본 발명의 실시예 1 ~ 4 및 비교예 1 ~ 2에 의해 제조된 하드 코팅층의 항균력 측정 결과를 보여주는 사진이다.
도 9는 산화아연 입자의 함유량에 따른 반사율 증가 정도를 보여주는 그래프이다.
1 is a view showing a display device according to an embodiment of the present invention.
2 and 3 are views for explaining a display panel of a display device according to the present invention.
4 is a view illustrating a display device according to another embodiment of the present invention.
5 is a view illustrating a display device according to another embodiment of the present invention.
6 and 7 are views for explaining a touch panel of a display device according to the present invention.
8 is a photograph showing the results of measurement of the antibacterial activity of the hard coat layer prepared in Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 and 2 of the present invention.
9 is a graph showing the extent of increase of the reflectance depending on the content of the zinc oxide particles.

본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 구현예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 구현예에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 수 있다. 하기 구현예들은 단지 본 발명의 개시가 완전하도록 하며, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의된다.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS The advantages and features of the present invention and the manner of achieving them will become apparent with reference to the embodiments described in detail below with reference to the accompanying drawings. However, the present invention is not limited to the embodiments described below, but may be embodied in various forms. The following embodiments are merely intended to provide a complete disclosure of the present invention and are provided to enable those of ordinary skill in the art to fully understand the scope of the invention and that the present invention is defined by the scope of the claims do.

본 발명의 구현예를 설명하기 위한 도면에 개시된 형상, 크기, 비율, 각도, 개수 등은 예시적인 것이므로 본 발명이 도시된 사항에 한정되는 것은 아니다. 명세서 전체에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성 요소를 지칭한다. 또한, 본 발명을 설명함에 있어서, 관련된 공지 기술에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우 그 상세한 설명은 생략한다. The shapes, sizes, ratios, angles, numbers, and the like described in the drawings for describing the embodiments of the present invention are merely exemplary and the present invention is not limited thereto. Like reference numerals refer to like elements throughout the specification. In the following description, well-known functions or constructions are not described in detail since they would obscure the invention in unnecessary detail.

본 명세서 상에서 언급한 '포함한다', '갖는다', '이루어진다' 등이 사용되는 경우 '~만'이 사용되지 않는 이상 다른 부분이 추가될 수 있다. 구성 요소를 단수로 표현한 경우에 특별히 명시적인 기재 사항이 없는 한 복수를 포함하는 경우를 포함한다.In the case where the word 'includes', 'having', 'done', etc. are used in this specification, other parts can be added unless '~ only' is used. Unless the context clearly dictates otherwise, including the plural unless the context clearly dictates otherwise.

구성 요소를 해석함에 있어서, 별도의 명시적 기재가 없더라도 오차 범위를 포함하는 것으로 해석한다.In interpreting the constituent elements, it is construed to include the error range even if there is no separate description.

위치 관계에 대한 설명일 경우, 예를 들어, '~상에', '~상부에', '~하부에', '~옆에' 등으로 두 부분의 위치 관계가 설명되는 경우, '바로' 또는 '직접'이 사용되지 않는 이상 두 부분 사이에 하나 이상의 다른 부분이 위치할 수도 있다.In the case of a description of the positional relationship, for example, if the positional relationship between two parts is described as 'on', 'on top', 'under', and 'next to' Or " direct " is not used, one or more other portions may be located between the two portions.

시간 관계에 대한 설명일 경우, 예를 들어, '~후에', '~에 이어서', '~다음에', '~전에' 등으로 시간 적 선후 관계가 설명되는 경우, '바로' 또는 '직접'이 사용되지 않는 이상 연속적이지 않은 경우도 포함한다.In the case of a description of a temporal relationship, for example, if a temporal posterior relationship is described by 'after', 'after', 'after', 'before', etc., 'Is not used and is not contiguous.

제1, 제2 등이 다양한 구성요소들을 서술하기 위해서 사용되나, 이들 구성요소들은 이들 용어에 의해 제한되지 않는다. 이들 용어들은 단지 하나의 구성요소를 다른 구성요소와 구별하기 위하여 사용하는 것이다. 따라서, 이하에서 언급되는 제1 구성요소는 본 발명의 기술적 사상 내에서 제2 구성요소일 수도 있다.The first, second, etc. are used to describe various components, but these components are not limited by these terms. These terms are used only to distinguish one component from another. Therefore, the first component mentioned below may be the second component within the technical spirit of the present invention.

본 발명의 여러 구현예들 각각의 특징들은 부분적으로 또는 전체적으로 서로 결합 또는 조합 가능하고, 기술적으로 다양한 연동 및 구동이 가능하며, 각 구현예들은 서로에 대하여 독립적으로 실시 가능할 수도 있고 연관 관계로 함께 실시할 수도 있다.
Each of the features of the various embodiments of the present invention may be partially or wholly combined or combinable with each other, and technically various interlocking and driving are possible, and each embodiment may be practiced independently of one another or in association with one another. You may.

이하, 본 발명을 보다 자세히 설명하기로 한다.
Hereinafter, the present invention will be described in more detail.

본 발명자들은 제조 공정이 단순하고, 하나의 층으로 다양한 기능을 수행할 수 있는 표시장치용 하드 코팅층을 개발하기 위해 연구를 거듭한 결과, 불소계 고분자와 불소계 실란 화합물 및 특정 함량의 산화 아연을 포함하는 하드 코팅용 조성물을 이용하여 하드 코팅층을 형성할 경우, 상기와 같은 목적을 달성할 수 있음을 알아내고 본 발명을 완성하였다.
The inventors of the present invention have conducted intensive studies to develop a hard coating layer for a display device which is simple in manufacturing process and can perform various functions as one layer. As a result, it has been found that a fluororesin composition containing a fluoropolymer, a fluorosilane compound and a specific content of zinc oxide It has been found that the above object can be achieved when a hard coating layer is formed using a composition for hard coating, and the present invention has been completed.

먼저, 본 발명의 하드 코팅층의 제조 방법에 대해 설명하기로 한다.First, a method for producing the hard coat layer of the present invention will be described.

본 발명에 따른 하드 코팅층은, 기판 상에 불소계 고분자, 불소계 실란 및 산화 아연을 포함하는 하드 코팅용 조성물을 도포한 후, 이를 경화시켜 제조된다.
The hard coating layer according to the present invention is prepared by applying a hard coating composition comprising a fluorine-based polymer, fluorine-based silane and zinc oxide on a substrate, and curing the composition.

이때, 상기 불소계 고분자는, 고경도, 반사 방지 효과 및 내지문 효과를 구현하기 위한 것으로, 바람직하게는, 우레탄 아크릴레이트를 이용하여 형성되는 불소를 함유하는 우레탄 변성 고분자일 수 있다. 이러한 불소계 고분자는 굴절율이 낮아 반사 방지 효과를 가질 뿐 아니라, 우레탄 아크릴레이트로부터 도입된 우레탄 기능기에 의해 경화 후 코팅층의 표면 경도를 향상시키는 효과가 있다. 또한, 상기 불소계 고분자는 발수성 및 발유성이 우수한 불소가 함유되어 있어 내지문 효과를 얻을 수 있다. 한편, 본 발명에 사용되는 불소계 고분자는 중량평균분자량이 1000 내지 100000 정도인 것이 바람직하다.
At this time, the fluorine-based polymer is intended to realize a high hardness, antireflection effect and fingerprint effect, and it may preferably be a fluorine-containing urethane-modified polymer formed using urethane acrylate. Such a fluorine-based polymer not only has an antireflection effect because of its low refractive index, but also has an effect of improving the surface hardness of the coating layer after curing by the urethane functional group introduced from urethane acrylate. Further, the fluorine-based polymer contains fluorine excellent in water repellency and oil repellency, so that a fingerprint effect can be obtained. On the other hand, the fluorinated polymer used in the present invention preferably has a weight average molecular weight of about 1,000 to 100,000.

보다 바람직하게는, 상기 불소계 고분자는 하기 [화학식 3]으로 표시되는 반복단위를 포함하는 것일 수 있다. More preferably, the fluorine-based polymer may include a repeating unit represented by the following formula (3).

[화학식 3](3)

Figure pat00005
Figure pat00005

이때, 상기 [화학식 3]에서, 상기 R1은 수소 또는 C1~10인 알킬렌기이며, 보다 바람직하게는 C1~4인 알킬렌기이다. In the formula (3), R 1 is hydrogen or an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms, more preferably an alkylene group having 1 to 4 carbon atoms.

또한, 상기 R2는 수소 R2는 수소 또는 C1~10인 알킬기이며, 보다 바람직하게는 C1~4인 알킬기이다. In addition, the R 2 is hydrogen R 2 is hydrogen or C 1 ~ 10 alkyl group, more preferably an alkyl group of C 1 ~ 4.

한편, 상기 R3는 적어도 하나 이상의 수소가 F로 치환된 C1~10알킬기이며, 보다 바람직하게는, -(CF2)l-CF3일 수 있다. 이때, 상기 l은 0 내지 10인 정수이다. 상기와 같이 R3의 말단에 F가 포함되어 있을 경우, 불소가 코팅층의 표면 쪽에 배치되기 쉽고, 그 결과 내지문 효과 구현에 보다 효과적이다.
R 3 is a C 1-10 alkyl group in which at least one hydrogen is substituted by F, more preferably - (CF 2 ) 1 -CF 3 . Here, l is an integer of 0 to 10. As described above, when F is included at the end of R 3 , fluorine is likely to be disposed on the surface side of the coating layer, and as a result, it is more effective in implementing the fingerprint effect.

한편, 상기 불소계 고분자는 하드 코팅용 조성물 100중량부에 대하여 10중량부 내지 50중량부의 함량으로 포함되는 것이 바람직하다. 불소계 고분자의 함량이 상기 범위를 만족할 때, 반사 방지 및 내지문 효과가 우수하고, 경도가 높은 코팅층을 얻을 수 있기 때문이다.
The fluoropolymer is preferably contained in an amount of 10 parts by weight to 50 parts by weight based on 100 parts by weight of the composition for hard coating. When the content of the fluorine-based polymer satisfies the above range, a coating layer having excellent antireflection and fingerprint resistance and having high hardness can be obtained.

다음으로, 상기 불소계 실란은 코팅층에 내지문 성능을 부여하기 위한 것으로, 바람직하게는, 하기 [화학식 4]로 표시되는 화합물일 수 있다. Next, the fluorine-based silane is used for imparting the fingerprint performance to the coating layer, and may preferably be a compound represented by the following formula (4).

[화학식 4][Chemical Formula 4]

Figure pat00006
Figure pat00006

이때, 상기 [화학식 4]에서, R4, R5 및 R7는 각각 독립적으로, C1~10인 알킬기이며, 바람직하게는, C1~4인 알킬기이다. In the formula (4), R 4, R 5 and R 7 are each independently a C 1-10 alkyl group, preferably a C 1-4 alkyl group.

한편, 상기 R6는 적어도 하나 이상의 수소가 F로 치환된 C1~20알킬기이며, 보다 바람직하게는, -(CF2)m-CF3 이다. 이때, 상기 m은 1 내지 10인 정수이다. 상기와 같이 R6의 말단에 F가 포함되어 있을 경우, 불소가 코팅층의 표면 쪽에 배치되기 쉽고, 그 결과 내지문 효과 구현에 보다 효과적이다. R 6 is a C 1-20 alkyl group in which at least one hydrogen is substituted by F, and more preferably - (CF 2 ) m -CF 3 . Herein, m is an integer of 1 to 10. As described above, when F is included at the end of R 6 , fluorine is likely to be disposed on the surface side of the coating layer, and as a result, it is more effective in implementing the fingerprint effect.

한편, 상기 불소계 실란은 하드 코팅용 조성물 100중량부에 대하여 10중량부 내지 40중량부의 함량으로 포함되는 것이 바람직하다. 불소계 실란의 함량이 상기 범위를 만족할 때, 우수한 내지문 효과를 얻을 수 있기 때문이다.
It is preferable that the fluorine-based silane is contained in an amount of 10 to 40 parts by weight based on 100 parts by weight of the composition for hard coating. When the content of the fluorine-based silane satisfies the above range, an excellent fingerprint effect can be obtained.

다음으로, 상기 산화 아연(ZnO)은 코팅층에 항균성을 부여하기 위한 것으로, 하드 코팅용 조성물 100중량부에 대하여 0.03중량부 내지 0.5중량부의 함량으로 포함된다. 산화 아연의 함량이 0.03중량부 미만인 경우에는 항균 효과가 미미하고, 0.5중량부를 초과할 경우에는 반사 방지 성능이 급격히 저하된다.Next, the zinc oxide (ZnO) is used to impart antimicrobiality to the coating layer, and is contained in an amount of 0.03 parts by weight to 0.5 parts by weight based on 100 parts by weight of the hard coating composition. When the content of zinc oxide is less than 0.03 parts by weight, the antimicrobial effect is insignificant. When the content is more than 0.5 parts by weight, the antireflection performance sharply decreases.

한편, 상기 산화 아연은 평균 입경이 15nm 내지 25nm 정도인 것이 바람직하다. 산화 아연의 평균 입경이 상기 범위를 만족할 경우, 반사 방지와 항균 특성이 모두 우수한 하드 코팅층을 형성할 수 있기 때문이다.
On the other hand, the zinc oxide preferably has an average particle diameter of about 15 nm to 25 nm. When the average particle diameter of the zinc oxide satisfies the above range, it is possible to form a hard coat layer having excellent antireflection and antimicrobial properties.

한편, 상기 하드 코팅용 조성물에는 점도 조절 등을 위해 용매가 더 포함될 수 있다. 이때, 상기 용매는, 이로써 제한되는 것은 아니나, 알코올계 유기 용매일 수 있으며, 예를 들면, 디프로필렌 글리콜 (DPG), 모노에틸렌 글리콜 (MEG), 디에틸렌 글리콜 (DEG), 트리에틸렌 글리콜 (TEG), 트리프로필렌 글리콜, 1,4-부탄디올 (BDO), 1,5-펜탄디올, 1,6-헥산디올, 1,3-프로판디올, 1,2-프로판디올 및 2,2-디메틸-1,3-프로판디올 (네오펜틸 글리콜)로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상일 수 있다. Meanwhile, the hard coating composition may further contain a solvent for viscosity control and the like. The solvent may be, for example, an alcohol-based organic solvent and may be, for example, dipropylene glycol (DPG), monoethyleneglycol (MEG), diethylene glycol (DEG), triethylene glycol ), Tripropylene glycol, 1,4-butanediol (BDO), 1,5-pentanediol, 1,6-hexanediol, 1,3-propanediol, 1,2-propanediol and 2,2- , 3-propanediol (neopentyl glycol), and the like.

상기 용매는 하드 코팅용 조성물 100중량부에 대하여 20중량부 이하, 바람직하게는 1 내지 20중량부, 더 바람직하게는 1 내지 15중량부 정도의 함량으로 포함될 수 있다.
The solvent may be contained in an amount of 20 parts by weight or less, preferably 1 to 20 parts by weight, more preferably 1 to 15 parts by weight, based on 100 parts by weight of the composition for hard coating.

한편, 상기 하드 코팅용 조성물에는, 필요에 따라 아크릴계 모노머가 더 포함될 수 있다. 상기 아크릴계 모노머는 하드 코팅용 조성물의 점도를 조절하고, 코팅층의 경도 및 컬링 특성을 향상시키기 위한 것으로, 적어도 하나 이상의 관능기를 갖는 (메트)아크릴레이트 모노머일 수 있다. 보다 구체적으로는, 상기 아크릴계 모노머는 디펜타에리스톨펜타(메트)아크릴레이트, 디펜타에리스톨헥사(메트)아크릴레이트, 펜타에리스톨트리(메트)아크릴레이트, 펜타에리스톨테트라(메트)아크릴레이트, 디트리메틸올프로판테트라(메트)아크릴레이트, (메트)아크릴릭에스테르, 트리메틸올프로판트리(메트)아크릴레이트, 글리세롤 트리(메트)아크릴레이트, 트리스(2-히드록시에틸)이소시아누레이트, 트리(메트)아크릴레이트, 에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 프로필렌글리콜(메트)아클리레이트, 1,3-부탄디올디(메트)아크릴레이트, 프로필렌글리콜(메트)아크릴레이트, 1,3-부탄디올디(메트)아크릴레이트, 1,4-부탄디올디(메트)아크릴레이트, 1,6-헥사디올디(메트)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디(메트)아크릴레이트, 디에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 디프로필렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 비스(2-히드록시에틸)이소시아누레이트디(메트)아크릴레이트, 히드록시에틸(메트)아크릴레이트, 히드록시프로필(메트)아크릴레이트, 히드록시부틸(메트)아크릴레이트, 이소옥틸(메트)아크릴레이트, 이소덱실(메트)아크릴레이트, 스테아릴(메트)아크릴레이트, 테트라히드로퍼푸릴(메트)아크릴레이트, 페녹시에틸(메트)아크릴레이트 및 이소보네올(메트)아크릴레이트로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상일 수 있다. On the other hand, the hard coating composition may further contain an acrylic monomer as necessary. The acrylic monomer may be a (meth) acrylate monomer having at least one functional group for controlling the viscosity of the hard coating composition and improving the hardness and curling property of the coating layer. More specifically, the acrylic monomer may be at least one selected from the group consisting of dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythol hexa (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (Meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, glycerol tri (meth) acrylate, tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate, tri (Meth) acrylate, ethylene glycol di (meth) acrylate, propylene glycol (meth) acrylate, 1,3-butanediol di (meth) acrylate, propylene glycol (Meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (Meth) acrylate, diethyleneglycol di (meth) acrylate, dipropylene glycol di (meth) acrylate, bis (2-hydroxyethyl) isocyanurate di (Meth) acrylate, stearyl (meth) acrylate, tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, isobutyl (meth) acrylate, (Meth) acrylate, and isobornole (meth) acrylate.

상기 아크릴계 모노머는 하드 코팅용 조성물 100중량부에 대하여, 20중량부 이하, 바람직하게는 1 내지 20중량부, 더 바람직하게는 1 내지 15중량부 정도의 함량으로 포함된다.
The acrylic monomer is contained in an amount of 20 parts by weight or less, preferably 1 to 20 parts by weight, more preferably 1 to 15 parts by weight, based on 100 parts by weight of the composition for hard coating.

또한, 상기 하드 코팅용 조성물은 광 중합 개시제를 더 포함할 수 있다. 상기 광 중합 개시제로는 당해 기술 분야에 일반적으로 알려진 광 중합 개시제가 제한없이 사용될 수 있으며, 예를 들면, 히드록시케톤류, 아미노케톤류 및 수소탈환형 광중합 개시제로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상이 사용될 수 있다. 보다 구체적으로는, 상기 광 중합 개시제는 2-메틸-1-[4-(메틸티오)페닐]-2-모폴린프로판온-1, 디페닐케톤벤질디메틸케탈, 2-히드록시-2-메틸-1-페닐-1-온, 4-히드록시시클로페닐케톤, 디메톡시-2-페닐아테토페논, 안트라퀴논, 플루오렌, 트리페닐아민, 카바졸, 3-메틸아세토페논, 4-크놀로아세토페논, 4,4-디메톡시아세토페논, 4,4-디아미노벤조페논, 1-히드록시시클로헥실페닐케톤, 벤조페논 및 이들의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상일 수 있다. The hard coating composition may further comprise a photopolymerization initiator. As the photopolymerization initiator, a photopolymerization initiator generally known in the art can be used without limitation. For example, at least one selected from the group consisting of hydroxy ketones, aminoketones and hydrogen recyclable photopolymerization initiators is used . More specifically, the photopolymerization initiator may be selected from the group consisting of 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropanone-1, diphenyl ketone benzyl dimethyl ketal, 2- 1-phenyl-1-on, 4-hydroxycyclophenyl ketone, dimethoxy-2-phenylacetophenone, anthraquinone, fluorene, triphenylamine, carbazole, 3-methylacetophenone, Acetophenone, 4,4-dimethoxyacetophenone, 4,4-diaminobenzophenone, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, benzophenone, and combinations thereof.

상기 광 중합 개시제는 하드 코팅용 조성물 100중량부에 대하여, 5중량부 이하, 바람직하게는 1 내지 5중량부, 더 바람직하게는 1 내지 3중량부 정도의 함량으로 포함될 수 있다.
The photopolymerization initiator may be contained in an amount of 5 parts by weight or less, preferably 1 to 5 parts by weight, and more preferably 1 to 3 parts by weight, based on 100 parts by weight of the composition for hard coating.

상기와 같은 하드 코팅용 조성물을 기판의 일면 또는 양면에 도포한 후, 자외선 등과 같은 활성 에너지선을 조사하여 경화시키면 하드 코팅층이 형성된다. 이때, 상기 기판은 투광성이 있는 기판이면 되고, 그 재질이 특별히 한정되는 것은 아니다. 예를 들면, 상기 기판은 유리 기판이나 플라스틱 기판일 수 있다.
The hard coating composition is coated on one side or both sides of the substrate, and then irradiated with active energy rays such as ultraviolet rays to cure the hard coating layer. At this time, the substrate may be a light-transmitting substrate, and the material thereof is not particularly limited. For example, the substrate may be a glass substrate or a plastic substrate.

한편, 상기 기판은 후술할 표시 장치의 표시 패널이나 터치 패널과 관계없이 별개로 존재하는 기판일 수도 있고, 표시 패널이나 터치 패널의 일부를 구성하는 기판일 수도 있다. 표시 패널이나 터치 패널의 일부를 구성하는 기판을 사용하여 하드 코팅층을 형성할 경우, 하드 코팅층이 표시 패널 또는 터치 패널과 일체로 형성되기 때문에 박형 구현이 용이하다는 장점이 있다.
On the other hand, the substrate may be a substrate existing separately from a display panel or a touch panel of a display device, which will be described later, or may be a substrate constituting a part of a display panel or a touch panel. When a hard coating layer is formed using a substrate constituting a display panel or a part of a touch panel, the hard coating layer is formed integrally with the display panel or the touch panel.

상기한 본 발명의 방법에 따르면, 하드 코팅용 조성물을 도포한 후 광경화시키는 단순한 방법을 통해 반사방지, 내지문 및 항균 효과를 갖는 하드 코팅층을 형성할 수 있어, 공정 시간 및 공정 비용을 절감할 수 있다.
According to the method of the present invention, it is possible to form a hard coat layer having anti-reflection, anti-fingerprint and antimicrobial effects through a simple method of applying a hard coating composition and photo-curing the composition, have.

한편, 상기와 같은 과정을 거쳐 제조된 본 발명에 따른 하드 코팅층은 불소계 고분자로부터 유도된 단위, 불소계 실란으로부터 유도된 단위 및 산화 아연을 포함한다.
On the other hand, the hard coating layer according to the present invention manufactured through the above process includes a unit derived from a fluorine-based polymer, a unit derived from a fluorine-based silane, and zinc oxide.

이때, 상기 불소계 고분자로부터 유도된 단위는 하기 [화학식 1]로 표시되는 것일 수 있다. In this case, the unit derived from the fluorine-based polymer may be represented by the following formula (1).

[화학식 1][Chemical Formula 1]

Figure pat00007
Figure pat00007

상기 [화학식 1]에서, 상기 R1은 수소 또는 C1~10인 알킬렌기이며, 바람직하게는, C1~4인 알킬렌이다. 한편, 상기 R2는 수소 또는 C1~10인 알킬기이며, 바람직하게는, C1~4인 알킬기이다. 상기 R3는 적어도 하나 이상의 수소가 F로 치환된 C1~10알킬기이며, 바람직하게는, -(CF2)l-CF3일 수 있다. 이때, 상기 l은 0 내지 10인 정수이다.
In the above formula (1), R 1 is hydrogen or an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms, preferably an alkylene group having 1 to 4 carbon atoms. On the other hand, R 2 is hydrogen or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, preferably an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. R 3 is a C 1-10 alkyl group in which at least one hydrogen is substituted by F, preferably - (CF 2 ) 1 -CF 3 . Here, l is an integer of 0 to 10.

상기 [화학식 1]로 표시되는 단위는 상기 [화학식 3]으로 표시되는 반복단위를 포함하는 불소계 고분자와 [화학식 4]로 표시되는 불소계 실란 화합물이 반응하여 형성된 것으로, 하드 코팅층에 고경도, 반사 방지 효과 및 내지문 효과를 부여하는 기능을 수행한다.
The unit represented by the formula (1) is formed by reacting a fluorinated polymer containing a repeating unit represented by the formula (3) and a fluorinated silane compound represented by the formula (4). The hard coating layer has a high hardness, Effect and a fingerprint effect.

다음으로, 상기 불소계 실란으로부터 유도된 단위는 하기 [화학식 2]로 표시되는 것일 수 있다. Next, the unit derived from the fluorine-based silane may be represented by the following formula (2).

[화학식 2](2)

Figure pat00008
Figure pat00008

상기 [화학식 2]에서, R4 및 R5는 각각 독립적으로, C1~10인 알킬기이며, 바람직하게는, C1~4인 알킬기이다. 한편, 상기 R6는 적어도 하나 이상의 수소가 F로 치환된 C1~20알킬기이며, 보다 바람직하게는, -(CF2)m-CF3 이다. 이때, 상기 m은 1 내지 10인 정수이다.
In the above formula (2), R 4 and R 5 are each independently an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, preferably an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. R 6 is a C 1-20 alkyl group in which at least one hydrogen is substituted by F, and more preferably - (CF 2 ) m -CF 3 . Herein, m is an integer of 1 to 10.

한편, 상기 [화학식 2]로 표시되는 단위는 [화학식 4]로 표시되는 불소계 실란 화합물이 불소계 고분자 또는 기판 표면에 존재하는 히드록시기나 케톤기 등과 반응하여 형성되는 것으로, 하드 코팅층의 내지문 효과를 향상시키는 기능을 수행한다.
On the other hand, the unit represented by the formula (2) is formed by reacting the fluorine-based silane compound represented by the formula (4) with a fluorine-based polymer or a hydroxyl group or a ketone group existing on the surface of the substrate, .

한편, 본 발명에 따른 하드 코팅층에는, 상기 [화학식 1]로 표시되는 단위 : [화학식 2]로 표시되는 단위가 몰비율로 1 : 1 내지 2 : 1로 포함되며, 보다 바람직하게는 1 : 1 내지 1.5 : 1의 몰 비율로 포함될 수 있다.
On the other hand, the hard coat layer according to the present invention contains, in a molar ratio of 1: 1 to 2: 1, a unit represented by the formula (1): [Formula 2] To 1.5: 1. ≪ / RTI >

다음으로, 상기 산화 아연은 하드 코팅층에 항균성을 부여하는 것으로, 하드 코팅층 내에 0.03중량% 내지 0.6중량% 정도의 함량으로 포함된다. 하드 코팅층 내의 산화 아연의 함량이 0.03중량% 미만인 경우에는 항균 효과가 미미하고, 0.6중량%를 초과하는 경우에는 반사 방지 성능이 급격히 저하되기 때문이다.Next, the zinc oxide imparts antimicrobial properties to the hard coat layer, and is contained in an amount of about 0.03% to 0.6% by weight in the hard coat layer. When the content of zinc oxide in the hard coat layer is less than 0.03% by weight, the antibacterial effect is insignificant. When the content of zinc oxide is more than 0.6% by weight, the antireflection performance sharply decreases.

또한, 상기 산화 아연은 평균 입경이 15nm 내지 25nm 정도인 것이 바람직하다. 산화 아연의 평균 입경이 상기 범위를 만족할 경우, 반사 방지와 항균 특성이 모두 우수한 하드 코팅층을 형성할 수 있기 때문이다.
The zinc oxide preferably has an average particle diameter of about 15 nm to 25 nm. When the average particle diameter of the zinc oxide satisfies the above range, it is possible to form a hard coat layer having excellent antireflection and antimicrobial properties.

한편, 상기 본 발명의 하드 코팅층은 코팅층의 경도 및 컬링 특성을 향상시키기 위해 아크릴계 모노머로부터 유도된 단위를 더 포함될 수 있다. 이때, 상기 아크릴계 모노머는 적어도 하나 이상의 관능기를 갖는 (메트)아크릴레이트 모노머일 수 있으며, 예를 들면, 디펜타에리스톨펜타(메트)아크릴레이트, 디펜타에리스톨헥사(메트)아크릴레이트, 펜타에리스톨트리(메트)아크릴레이트, 펜타에리스톨테트라(메트)아크릴레이트, 디트리메틸올프로판테트라(메트)아크릴레이트, (메트)아크릴릭에스테르, 트리메틸올프로판트리(메트)아크릴레이트, 글리세롤 트리(메트)아크릴레이트, 트리스(2-히드록시에틸)이소시아누레이트, 트리(메트)아크릴레이트, 에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 프로필렌글리콜(메트)아클리레이트, 1,3-부탄디올디(메트)아크릴레이트, 프로필렌글리콜(메트)아크릴레이트, 1,3-부탄디올디(메트)아크릴레이트, 1,4-부탄디올디(메트)아크릴레이트, 1,6-헥사디올디(메트)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디(메트)아크릴레이트, 디에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 디프로필렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 비스(2-히드록시에틸)이소시아누레이트디(메트)아크릴레이트, 히드록시에틸(메트)아크릴레이트, 히드록시프로필(메트)아크릴레이트, 히드록시부틸(메트)아크릴레이트, 이소옥틸(메트)아크릴레이트, 이소덱실(메트)아크릴레이트, 스테아릴(메트)아크릴레이트, 테트라히드로퍼푸릴(메트)아크릴레이트, 페녹시에틸(메트)아크릴레이트 및 이소보네올(메트)아크릴레이트로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상일 수 있다.
Meanwhile, the hard coating layer of the present invention may further include a unit derived from an acrylic monomer to improve hardness and curling characteristics of the coating layer. Here, the acrylic monomer may be a (meth) acrylate monomer having at least one functional group, and examples thereof include dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythol hexa (meth) acrylate, pentaerythritol (Meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, styrene tri (meth) acrylate, Acrylate, propylene glycol (meth) acrylate, 1,3-butanediol di (meth) acrylate, tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate, (Meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, , Neopentyl glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate, dipropylene glycol di (meth) acrylate, bis (2- (Meth) acrylate, hydroxyethyl (meth) acrylate, hydroxypropyl (meth) acrylate, hydroxybutyl (meth) acrylate, isooctyl (Meth) acrylate, stearyl (meth) acrylate, tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, phenoxyethyl (meth) acrylate and isobonole (meth) acrylate.

상기와 같은 본 발명의 하드 코팅층은 단일층으로, 반사 방지, 내지문 및 항균 효과를 모두 우수하게 구현할 수 있다. 보다 구체적으로는, 본 발명의 하드 코팅층은 반사율이 2% 이하, 바람직하게는 1.7%이하이며, JIS Z 2801에 의해 측정한 항균력은 3 이상, 바람직하게는 4 이상이며, 수접촉각이 100° 이상, 바람직하게는 100° 내지 130°정도이다. 한편, 상기 JIS Z 2801에 의해 측정한 항균력이 3 이상이라는 것은 99.9% 이상의 항균력을 갖는 것을 의미하고, 4 이상은 99.99% 이상의 항균력을 갖는 것을 의미한다.
The hard coating layer of the present invention as described above is a single layer and can provide excellent anti-reflection, anti-fingerprint and antibacterial effects. More specifically, the hard coat layer of the present invention has a reflectance of 2% or less, preferably 1.7% or less, an antibacterial activity measured by JIS Z 2801 of 3 or more, preferably 4 or more, and a water contact angle of 100 ° or more , Preferably about 100 DEG to 130 DEG. On the other hand, when the antibacterial activity measured by the above JIS Z 2801 is 3 or more, it means that the antibacterial activity is 99.9% or more, and when it is 4 or more, the antibacterial activity is 99.99% or more.

다음으로, 본 발명에 따른 표시 장치에 대해 설명한다. 도 1 내지 도 5에는 본 발명에 따른 표시 장치들의 구현예들이 도시되어 있다. 이하 도면을 참조하여 본 발명에 따른 표시 장치를 구체적으로 설명하기로 한다.
Next, a display device according to the present invention will be described. 1 to 5 show implementations of display devices according to the present invention. Hereinafter, a display device according to the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

도 1에는 본 발명의 제1구현예에 따른 표시장치가 도시되어 있다. 도 1에 도시된 바와 같이, 본 발명에 따른 표시 장치는 표시 패널(300) 및 하드 코팅층(100)을 포함한다. 이때, 상기 하드 코팅층(100)은 상기에서 상술한 바와 동일하다. 따라서, 이하에서는 하드 코팅층(100)에 대한 설명은 생략하고, 표시 장치의 나머지 구성요소들에 대해서 설명하기로 한다.
1 shows a display device according to a first embodiment of the present invention. 1, the display device according to the present invention includes a display panel 300 and a hard coating layer 100. [ At this time, the hard coat layer 100 is the same as that described above. Therefore, the description of the hard coating layer 100 will be omitted, and the remaining components of the display device will be described below.

먼저, 상기 표시 패널(300)은 액정표시패널 또는 유기전계발광표시패널일 수 있다. First, the display panel 300 may be a liquid crystal display panel or an organic light emitting display panel.

도 2에는 상기 표시 패널(300)이 액정표시패널인 경우가 도시되어 있다. 도 2에 도시된 바와 같이, 상기 액정표시패널(300)은 액정층(380)을 사이에 두고 제 1 기판(301)과 제 2 기판(302)이 합착되어 형성된다. 이때, 상기 하드 코팅층(100)은 상기 표시 패널(300)의 제 1 기판(301) 또는 제 2 기판(302)의 외부로 노출된 면에 코팅되어 형성될 수 있다.FIG. 2 shows a case where the display panel 300 is a liquid crystal display panel. As shown in FIG. 2, the liquid crystal display panel 300 includes a first substrate 301 and a second substrate 302 bonded together with a liquid crystal layer 380 interposed therebetween. The hard coating layer 100 may be coated on the exposed surface of the first substrate 301 or the second substrate 302 of the display panel 300.

또한, 도면에는 도시하지 않았으나, 상기 액정표시패널(300) 하부에는 백라이트 유닛이 배치될 수 있다. 또한, 도면에는 도시되어 있지 않으나, 상기 표시 패널(300)은 편광 기능이 부가되는 편광부를 포함할 수도 있다.Although not shown in the drawing, a backlight unit may be disposed under the liquid crystal display panel 300. Also, although not shown in the figure, the display panel 300 may include a polarization unit to which a polarization function is added.

한편, 상기 제 1 기판(301)의 일면에는 게이트 배선과 데이터 배선이 게이트 절연막(352)을 사이에 두고 서로 수직하게 교차하도록 배치되어 화소 영역을 정의한다. 상기 화소 영역에는 박막 트랜지스터(Thin Film Transistor, TFT)가 구비되며, 상기 박막 트랜지스터는 각 화소 영역에 마련된 화소 전극(357)과 절연층(356)에 형성된 콘택홀을 통해 접속된다. 즉, 상기 제 1 기판(301)은 박막트랜지스터 기판이라고 할 수 있다.On one side of the first substrate 301, a gate line and a data line are arranged so as to cross each other with a gate insulating layer 352 interposed therebetween to define a pixel region. The pixel region is provided with a thin film transistor (TFT), which is connected to the pixel electrode 357 provided in each pixel region and the contact hole formed in the insulating layer 356. That is, the first substrate 301 may be referred to as a thin film transistor substrate.

상기 박막 트랜지스터(TFT)는 게이트 전극(351), 게이트 절연막(352), 반도체층(353), 소스 전극(354) 및 드레인 전극(355)으로 이루어진다. 또한, 도면에는 상기 박막 트랜지스터의 게이트 전극(351)이 반도체층(353)의 아래에 배치되는 보텀 게이트(Bottom gate) 구조가 도시되어 있으나, 이러한 구조로 한정되는 것은 아니며, 게이트 전극(351)이 반도체층(353)의 위에 배치되는 탑(Top) 게이트 구조로 형성될 수도 있다. 또한, 본 발명의 기술사상을 일탈하지 아니하는 범위에서 박막 트랜지스터의 구성 등은 다양한 변경 및 수정이 가능하다.The thin film transistor TFT includes a gate electrode 351, a gate insulating film 352, a semiconductor layer 353, a source electrode 354, and a drain electrode 355. Although the bottom gate structure in which the gate electrode 351 of the thin film transistor is disposed below the semiconductor layer 353 is shown in the drawing, the structure is not limited thereto, and the gate electrode 351 And a top gate structure disposed on the semiconductor layer 353. In addition, the configuration and the like of the thin film transistor can be variously modified and modified within a range not departing from the technical idea of the present invention.

또한, 상기 액정표시패널(300)의 상기 제 2 기판(302)의 일면에는 제 1 기판(301)의 박막 트랜지스터(TFT)등이 배치되는 비표시 영역을 가리면서 화소 영역을 두르는 격자 형상의 블랙매트릭스(371)가 형성된다. 또한, 이들 격자 내부에는 각 화소 영역에 대응되게 순차적으로 반복 배열되는 R(red), G(green), B(blue) 컬러필터층(372) 및 이들 모두를 덮는 투명한 공통 전극(373)이 포함된다. 즉, 상기 제 2 기판(302)은 컬러필터 기판일 수 있다. In addition, on one surface of the second substrate 302 of the liquid crystal display panel 300, a grid-like black (not shown) covering a pixel region and covering a non-display region in which a thin film transistor A matrix 371 is formed. Inside these lattices, R (red), G (green), and B (blue) color filter layers 372 which are sequentially and repeatedly arranged corresponding to the respective pixel regions are included and transparent common electrodes 373 covering all of them . That is, the second substrate 302 may be a color filter substrate.

상기 액정층(380)과 화소 전극(357) 사이 및 상기 액정층(380)과 공통 전극(373) 사이에는 각각 제 1 배향막(358) 및 제 2 배향막(374)이 개재된다. 상기 제 1 배향막(358) 및 제 2 배향막(374)은 액정분자의 초기배열상태와 배향 방향을 균일하게 정렬할 수 있다.A first alignment layer 358 and a second alignment layer 374 are interposed between the liquid crystal layer 380 and the pixel electrode 357 and between the liquid crystal layer 380 and the common electrode 373. The first alignment layer 358 and the second alignment layer 374 can align the initial alignment state of the liquid crystal molecules and the alignment direction uniformly.

다만, 도면은 본 발명에 따른 액정표시패널을 간소화하여 도시한 것으로, 이에 한정되지 않는다. 예를 들면, 도면 상에는 하나의 박막 트랜지스터로 표현하였으나, 동작의 특성의 따라 상기 박막 트랜지스터는 하나 이상의 박막 트랜지스터 조합으로 구성될 수 있다. However, the drawings illustrate the liquid crystal display panel according to the present invention in a simplified manner, but the present invention is not limited thereto. For example, although the thin film transistor is represented by a single thin film transistor in the drawing, the thin film transistor may be composed of one or more thin film transistor combinations depending on the characteristics of operation.

또한, 액정분자의 배열을 조절하는 방식은 TN(Twisted Nematic) 모드, VA(Vertical Alignment) 모드 외에도 IPS(In Plane Switching) 모드 또는 FFS(Fringe Field Switching) 모드 등으로 다양하게 적용할 수 있다. 이에 따라 도면 상에는 화소 전극(357)이 제 1 기판(301)에 형성되고, 공통 전극(373)은 제 2 기판(302)에 형성되는 구성을 도시하였으나, 화소 전극(357)과 공통 전극(373)의 구성도 변경 및 수정될 수 있다. IPS(In Plane Switching) 모드 또는 FFS(Fringe Field Switching) 모드일 경우, 상기 화소 전극(357)과 공통 전극(373)은 상기 제 1 기판(301)에 형성될 수 있다.In addition, a method of controlling the arrangement of liquid crystal molecules can be variously applied to an IPS (In Plane Switching) mode or an FFS (Fringe Field Switching) mode in addition to a TN (Twisted Nematic) mode and a VA (Vertical Alignment) mode. Although the pixel electrode 357 is formed on the first substrate 301 and the common electrode 373 is formed on the second substrate 302 in the drawing, the pixel electrode 357 and the common electrode 373 ) Can also be changed and modified. The pixel electrode 357 and the common electrode 373 may be formed on the first substrate 301 in an IPS (In Plane Switching) mode or an FFS (Fringe Field Switching) mode.

또한, 상기 액정표시패널(300)은 박막 트랜지스터, 컬러필터층 및 블랙매트릭스가 제 1 기판(301)에 형성되고, 제 2 기판(302)이 액정층을 사이에 두고 상기 제 1 기판(301)과 합착되는 COT(color filter on transistor)구조의 액정표시패널일 수도 있다. 즉, 상기 제 1 기판(301) 상에 박막 트랜지스터를 형성하고, 상기 박막 트랜지스터 상에 보호막을 형성하고, 상기 보호막 상에 컬러필터층을 형성할 수 있다. 또한, 상기 제 1 기판(301)에는 상기 박막 트랜지스터와 접촉하는 화소 전극을 형성한다. 이때, 개구율을 향상하고 마스크 공정을 단순화하기 위해 블랙매트릭스를 생략하고, 공통 전극이 블랙매트릭스의 역할을 겸하도록 형성할 수도 있다.The liquid crystal display panel 300 may include a thin film transistor, a color filter layer and a black matrix formed on a first substrate 301 and a second substrate 302 with a liquid crystal layer interposed therebetween. Or a liquid crystal display panel having a color filter on transistor (COT) structure. That is, a thin film transistor may be formed on the first substrate 301, a protective film may be formed on the thin film transistor, and a color filter layer may be formed on the protective film. In addition, a pixel electrode is formed on the first substrate 301 to be in contact with the thin film transistor. At this time, in order to improve the aperture ratio and simplify the mask process, the black matrix may be omitted, and the common electrode may be formed to serve also as the black matrix.

즉, 액정표시패널(300)은 도면의 표현에 한정되지 않으며, 본 발명의 기술사상을 일탈하지 아니하는 범위에서 다양한 변경 및 수정이 가능하다.
That is, the liquid crystal display panel 300 is not limited to the representation of the drawings, and various changes and modifications can be made without departing from the technical idea of the present invention.

한편, 도 3에는 상기 표시패널(300)이 유기전계발광표시패널인 경우가 도시되어 있다. 도 3을 참조하여 상기 표시 패널(300)이 유기전계발광표시패널인 경우를 설명하면 다음과 같다. 3, the display panel 300 is an organic light emitting display panel. Referring to FIG. 3, the display panel 300 is an organic light emitting display panel.

도 3에 도시된 바와 같이, 상기 유기전계발광표시패널(300)은 박막 트랜지스터(TFT)와 상기 박막 트랜지스터(TFT)와 전기적으로 연결된 유기발광소자(OL)가 형성된 제 1 기판(301)과 상기 유기발광소자(OL)를 보호하기 위한 제 2 기판(302)을 포함한다. 이때, 본 발명의 하드 코팅층(100)은 상기 표시 패널(300)의 제 1 기판(301) 또는 제 2 기판(302)의 외부로 노출된 면에 코팅되어 형성될 수 있다. 3, the organic light emitting display panel 300 includes a first substrate 301 on which a thin film transistor (TFT) and an organic light emitting diode OL electrically connected to the thin film transistor TFT are formed, And a second substrate 302 for protecting the organic light emitting diode OL. At this time, the hard coating layer 100 of the present invention may be coated on the exposed surface of the first substrate 301 or the second substrate 302 of the display panel 300.

상기 제 1 기판(301)과 상기 제 2 기판(302) 사이에는 봉지층(324)이 형성될 수 있다. 도면 상에는 상기 봉지층(324)을 단일층으로 도시하였으나, 상기 봉지층(324)은 보호층 및 접착층 등 다수의 층으로 구성될 수 있다. 또한, 도면에는 도시되어 있지 않으나, 상기 표시 패널(300)은 편광 기능이 부가되는 편광부를 포함할 수도 있다.An encapsulation layer 324 may be formed between the first substrate 301 and the second substrate 302. Although the encapsulation layer 324 is shown as a single layer in the drawing, the encapsulation layer 324 may be composed of a plurality of layers such as a protective layer and an adhesive layer. Also, although not shown in the figure, the display panel 300 may include a polarization unit to which a polarization function is added.

상기 유기전계발광표시패널(300)의 제 1 기판(301) 상의 일면에는 박막 트랜지스터(TFT)가 형성된다. 상기 박막 트랜지스터(TFT)는 반도체층(311), 게이트 전극(313), 소스 전극(315) 및 드레인 전극(316)을 포함하여 형성된다. A thin film transistor (TFT) is formed on one surface of the first substrate 301 of the organic light emitting display panel 300. The thin film transistor (TFT) includes a semiconductor layer 311, a gate electrode 313, a source electrode 315, and a drain electrode 316.

상기 반도체층(311)은 소스영역(311a), 채널영역(311b) 및 드레인영역(311c)을 포함하며, 상기 반도체층(311) 상에 게이트 절연막(312)이 형성되고, 상기 게이트 절연막(312) 상에 게이트 배선과 상기 게이트 배선으로부터 분기된 게이트 전극(313)이 형성된다. 상기 게이트 배선과 게이트 전극(313) 상에 층간 절연막(314)이 형성된다. The semiconductor layer 311 includes a source region 311a, a channel region 311b and a drain region 311c and a gate insulating layer 312 is formed on the semiconductor layer 311. The gate insulating layer 312 A gate wiring 313 and a gate electrode 313 branched from the gate wiring are formed. An interlayer insulating film 314 is formed on the gate wiring and the gate electrode 313.

상기 층간 절연막(314)을 사이에 두고 게이트 배선과 교차하여 화소 영역을 정의하는 데이터 배선과 상기 데이터 배선으로부터 분기된 소스 전극(315) 및 상기 소스 전극(315)으로부터 일정간격 이격하여 드레인 전극(316)이 형성된다. 이때, 상기 소스 전극(315)과 드레인 전극(316)은 상기 게이트 전극(313) 상에 형성된 층간 절연막(314)과 게이트 절연막(312)을 관통하여 형성된 콘택홀을 통해 상기 반도체층(311)의 소스영역(311a)과 드레인영역(311c)과 접촉한다. A source electrode 315 branched from the data line, and a drain electrode 316 spaced apart from the source electrode 315 by a predetermined distance, the data line crossing the gate line with the interlayer insulating film 314 therebetween, Is formed. The source electrode 315 and the drain electrode 316 are electrically connected to each other through an interlayer insulating layer 314 formed on the gate electrode 313 and a contact hole formed through the gate insulating layer 312, And is in contact with the source region 311a and the drain region 311c.

상기 소스 전극(315) 및 드레인 전극(316) 상에는 보호막(317)이 형성되고, 상기 보호막(317)에는 상기 드레인 전극(316)을 노출하는 콘택홀이 형성된다. 상기 노출된 드레인 전극(316)은 상기 보호막(317) 상에 형성된 연결전극(318)과 전기적으로 연결된다. 또한, 상기 박막 트랜지스터(TFT)를 포함하는 제 1 기판(301) 전면에 평탄화막(319)이 형성되고, 상기 평탄화막(319)에는 상기 연결전극(318)이 노출되는 콘택홀이 형성된다. A protective film 317 is formed on the source electrode 315 and the drain electrode 316 and a contact hole exposing the drain electrode 316 is formed on the protective film 317. The exposed drain electrode 316 is electrically connected to the connection electrode 318 formed on the passivation layer 317. A planarization film 319 is formed on the entire surface of the first substrate 301 including the thin film transistor TFT and a contact hole exposing the connection electrode 318 is formed on the planarization film 319.

상기 평탄화막(319)에 형성된 콘택홀을 통해 박막 트랜지스터(TFT)와 전기적으로 연결되는 유기발광소자(OL)가 형성된다. 상기 유기발광소자(OL)는 하부 전극(320), 유기발광층(322) 및 상부 전극(323)으로 이루어진다. The organic light emitting diode OL is electrically connected to the TFT through a contact hole formed in the planarization layer 319. [ The organic light emitting device OL includes a lower electrode 320, an organic light emitting layer 322, and an upper electrode 323.

보다 자세하게는, 상기 노출된 연결전극(318) 상에 유기발광소자(OL)의 하부 전극(320)이 형성된다. 도면 상에는 유기발광소자(OL)의 하부 전극(320)과 박막 트랜지스터(TFT)의 드레인 전극(316)이 연결전극(318)을 통해 연결되도록 도시되어 있으나, 연결전극(318)이 생략되고, 유기발광소자(OL)의 하부 전극(320)과 박막 트랜지스터(TFT)의 드레인 전극(116)이 콘택홀이 형성된 평탄화막(319)을 통해 직접 접촉하여 형성될 수도 있다.More specifically, the lower electrode 320 of the organic light emitting diode OL is formed on the exposed connection electrode 318. Although the lower electrode 320 of the organic light emitting diode OL and the drain electrode 316 of the thin film transistor TFT are shown as being connected through the connection electrode 318 in the drawing, the connection electrode 318 is omitted, The lower electrode 320 of the light emitting device OL and the drain electrode 116 of the thin film transistor TFT may be directly in contact with each other through the planarization film 319 having the contact holes.

상기 하부 전극(320) 상에는 화소 영역 단위로 상기 하부 전극(320)을 노출하는 뱅크(bank) 패턴(321)이 형성된다. 상기 노출된 하부 전극(320) 상에는 유기발광층(322)이 형성된다. 상기 유기발광층(322)은 발광물질로 이루어진 단일층으로 구성되거나, 또는 발광 효율을 높이기 위해 정공주입층(hole injection layer), 정공수송층(hole transporting layer), 발광층(emitting material layer), 전자수송층(electron transporting layer), 및 전자주입층(electron injection layer)의 다중층으로 구성될 수 있다. A bank pattern 321 is formed on the lower electrode 320 to expose the lower electrode 320 in units of pixel regions. An organic light emitting layer 322 is formed on the exposed lower electrode 320. The organic light emitting layer 322 may be formed of a single layer made of a light emitting material or may include a hole injection layer, a hole transporting layer, an emitting material layer, and an electron transporting layer an electron transporting layer, and an electron injection layer.

상기 유기발광층(322) 상에 상부 전극(323)이 형성된다. 상기 하부 전극(320)이 애노드(anode)인 경우, 상기 상부 전극(323)은 캐소드(cathode)이며, 상기 하부 전극(320)이 캐소드(cathode)인 경우, 상기 상부 전극은 애노드(anode)이다. An upper electrode 323 is formed on the organic light emitting layer 322. When the lower electrode 320 is an anode, the upper electrode 323 is a cathode, and when the lower electrode 320 is a cathode, the upper electrode is an anode .

상기 박막 트랜지스터(TFT) 및 상기 유기발광소자(OL)가 형성된 제 1 기판(301) 상에는 밀봉부가 형성된다. 예를 들면, 상기 상부 전극(323) 상에는 표시소자들을 보호하는 봉지층(324)이 형성된다. 상기 봉지층(324)은 다수의 층으로 형성될 수도 있으며, 제 2 기판(302)과 합착될 수 있다. 상기 제 2 기판(302)은 인캡슐레이션을 위한 봉지 기판일 수 있다. 다만, 상기 제 1 기판(301) 상에 배치되는 밀봉부는 상기 봉지층(324) 및 상기 제 2 기판(302)에 한정되지 않으며, 산소 또는 수분 등의 유입을 막기 위해 일반적으로 알려진 다양한 형태의 밀봉부가 적용될 수 있다.A sealing portion is formed on the first substrate 301 on which the thin film transistor TFT and the organic light emitting diode OL are formed. For example, on the upper electrode 323, a sealing layer 324 for protecting the display elements is formed. The sealing layer 324 may be formed of a plurality of layers and may be bonded to the second substrate 302. The second substrate 302 may be an encapsulation substrate for encapsulation. However, the sealing part disposed on the first substrate 301 is not limited to the sealing layer 324 and the second substrate 302, and may be formed by various sealing methods known in the art to prevent the inflow of oxygen or moisture. Additional applications can be applied.

또한, 본 발명에 따른 표시 장치의 구성은 도면에 한정되지 않고, 본 발명의 기술사상을 일탈하지 아니하는 범위에서 다양한 변경 및 수정이 가능하다.
The configuration of the display device according to the present invention is not limited to the drawings, and various changes and modifications can be made without departing from the technical idea of the present invention.

도 4에는 본 발명의 제 2 구현예에 따른 표시 장치가 도시되어 있다. 이하, 도 4를 참조하여 본 발명의 제 2 구현예에 따른 표시 장치를 설명한다.
4 shows a display device according to a second embodiment of the present invention. Hereinafter, a display device according to a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.

도 4를 참조하면, 본 발명의 제 2 구현예에 따른 표시 장치는 표시 패널(300) 및 하드 코팅층(100) 사이에 배치되는 베이스 기판(200)을 포함한다. 즉, 상기 표시 패널(300) 상에 베이스 기판(200)이 형성되고, 상기 베이스 기판(200) 상에 하드 코팅층(100)이 형성된다. 상기 하드 코팅층(100)은 베이스 기판(200)의 상면에 코팅되어 형성될 수 있다. 상기 하드 코팅층(100) 및 상기 표시 패널(300)은 상술한 바와 동일하므로, 구체적인 설명은 생략한다.
Referring to FIG. 4, the display device according to the second embodiment of the present invention includes a display panel 300 and a base substrate 200 disposed between the hard coating layer 100. That is, a base substrate 200 is formed on the display panel 300, and a hard coating layer 100 is formed on the base substrate 200. The hard coating layer 100 may be coated on the upper surface of the base substrate 200. Since the hard coating layer 100 and the display panel 300 are the same as those described above, a detailed description thereof will be omitted.

한편, 상기 베이스 기판(200)은 편광판일 수 있다. 자세하게는, 상기 베이스 기판(200)은 선 편광판 또는 원 편광판 일 수 있다. 상기 표시 패널(300)이 액정표시패널인 경우, 상기 베이스 기판(200)은 선 편광판일 수 있다. 또한, 상기 표시 패널(300)이 유기전계발광표시패널인 경우, 상기 베이스 기판(200)은 외광 반사 방지를 위한 원 편광판 일 수 있다. Meanwhile, the base substrate 200 may be a polarizing plate. In detail, the base substrate 200 may be a linear polarizer or a circular polarizer. When the display panel 300 is a liquid crystal display panel, the base substrate 200 may be a linear polarizer. In addition, when the display panel 300 is an organic light emitting display panel, the base substrate 200 may be a circular polarizer for preventing reflection of external light.

도면 상에는, 상기 베이스 기판(200)이 상기 표시 패널(300) 상부에만 배치되도록 도시하였으나, 상기 베이스 기판(200)이 편광판인 경우, 상기 베이스 기판(200)은 표시 패널(300)의 상부 및 하부에 배치될 수 있다. 예를 들면, 상기 표시 패널(300)이 액정표시패널이고, 상기 베이스 기판(200)은 선 편광판이며, 상기 베이스 기판(200)의 상기 표시 패널(300)의 상면 및 하면에 배치될 수 있다. 이때, 상기 하드 코팅층(100)은 상기 표시 패널(300)의 상면에 배치된 베이스 기판(200)의 상면에 형성될 수 있다.Although the base substrate 200 is disposed on only the upper portion of the display panel 300 in the drawing, when the base substrate 200 is a polarizer, the base substrate 200 is divided into upper and lower portions of the display panel 300, As shown in FIG. For example, the display panel 300 is a liquid crystal display panel, and the base substrate 200 is a linear polarizer, and may be disposed on the upper and lower surfaces of the display panel 300 of the base substrate 200. At this time, the hard coating layer 100 may be formed on the upper surface of the base substrate 200 disposed on the upper surface of the display panel 300.

또한, 상기 베이스 기판(200)은 투명 기판일 수 있다. 즉, 상기 베이스 기판(200)을 투과하는 광은 편광되지 않은 광일 수 있다. 이때, 상기 베이스 기판(200)은 유리 또는 플라스틱일 수 있다. 예를 들면, 상기 베이스 기판(200)은 유리, 셀룰로오스 에스테르(예: 셀룰로오스 트리아세테이트, 셀룰로오스 프로피오네이트, 셀룰로오스 부티레이트, 셀룰로오스 아세테이트 프로피오네이트, 및 니트로 셀룰로오스), 폴리이미드, 폴리카보네이트, 폴리에스테르(예: 폴리에틸렌 테레프탈레이트, 폴리에틸렌 나프탈레이트, 폴리-1,4-사이클로헥산디메틸렌 테레프탈레이트, 폴리에틸렌 1,2-디페녹시에탄-4,4'-디카르복실레이트, 및 폴리부틸렌 테레프탈레이트), 폴리스티렌(예: 신디오택틱(syndiotactic) 폴리스티렌), 폴리올레핀(예: 폴리프로필렌, 폴리에틸렌, 및 폴리메틸펜텐), 폴리술폰, 폴리에테르 술폰, 폴리아릴레이트, 폴리에테르-이미드, 폴리메틸 메타아크릴레이트, 폴리에테르 케톤, 폴리비닐알코올 및 폴리염화비닐과 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나를 포함할 수 있다. 다만, 이에 한정되지 않으며, 상기 베이스 기판(200)은 투명성이 저해되지 않는 기판 또는 필름이면 충분하다. In addition, the base substrate 200 may be a transparent substrate. That is, the light transmitted through the base substrate 200 may be unpolarized light. At this time, the base substrate 200 may be glass or plastic. For example, the base substrate 200 can be made of a material selected from the group consisting of glass, cellulose esters (e.g., cellulose triacetate, cellulose propionate, cellulose butyrate, cellulose acetate propionate, and nitrocellulose), polyimide, polycarbonate, For example, polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, poly-1,4-cyclohexanedimethylene terephthalate, polyethylene 1,2-diphenoxyethane-4,4'-dicarboxylate, and polybutylene terephthalate) , Polystyrenes such as syndiotactic polystyrenes, polyolefins such as polypropylene, polyethylene and polymethylpentene, polysulfone, polyethersulfone, polyarylate, polyether-imide, polymethylmethacrylate Polyether ketones, polyvinyl alcohols and polyvinyl chlorides, and combinations thereof. Is selected may include any of them. However, the present invention is not limited thereto, and a substrate or a film that does not hinder transparency is sufficient for the base substrate 200.

상기 베이스 기판(200)이 편광되지 않은 광을 투과시키는 투명 기판으로 형성되는 경우, 도면 상에는 도시하지 않았으나, 상기 하드 코팅층(100)은 상기 베이스 기판(200)의 양면에 형성될 수 있다.
When the base substrate 200 is formed of a transparent substrate through which unpolarized light is transmitted, the hard coating layer 100 may be formed on both sides of the base substrate 200, though not shown in the drawing.

이하, 도 5 내지 도 7을 참조하여 본 발명의 제 3 구현예에 따른 표시 장치를 설명한다. 도 5는 본 발명의 제 3 구현예에 따른 표시 장치를 도시한 도면이다. 또한, 도 6 및 도 7은 본 발명에 따른 표시 장치의 터치 패널을 설명하기 위한 도면이다.
Hereinafter, a display device according to a third embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 5 to 7. FIG. 5 is a view showing a display device according to a third embodiment of the present invention. 6 and 7 are views for explaining a touch panel of a display device according to the present invention.

도 5를 참조하면, 본 발명의 제 3 구현예에 따른 표시 장치는 표시 패널(300), 상기 표시 패널(300) 상에 배치되는 터치 패널(400) 및 하드 코팅층(100)을 포함한다. 또한, 상기 표시 장치는 상기 터치 패널(400) 상에 배치되는 베이스 기판(200)을 포함한다. 즉, 상기 베이스 기판(200) 및 상기 표시 패널(300) 사이에 터치 패널(400)이 배치될 수 있다. 이때, 상기 표시 패널(300), 베이스 기판(200) 및 하드 코팅층(100)은 상술한 바와 동일하므로, 구체적인 설명은 생략하기로 한다.
Referring to FIG. 5, a display device according to a third embodiment of the present invention includes a display panel 300, a touch panel 400 disposed on the display panel 300, and a hard coating layer 100. In addition, the display device includes a base substrate 200 disposed on the touch panel 400. That is, the touch panel 400 may be disposed between the base substrate 200 and the display panel 300. Since the display panel 300, the base substrate 200, and the hard coating layer 100 are the same as those described above, a detailed description thereof will be omitted.

한편, 도면 상에는, 상기 터치 패널(400)이 상기 베이스 기판(200) 및 상기 표시 패널(300)과 구분되는 별도의 구성으로 도시하였으나, 상기 터치 패널(400)은 상기 베이스 기판(200)과 일체로 형성될 수 있다. 또한, 상기 터치 패널(400)은 상기 표시 패널(300)과 일체로 형성될 수 있다.Although the touch panel 400 is shown separately from the base substrate 200 and the display panel 300 in the drawing, the touch panel 400 may be integrally formed with the base substrate 200 As shown in FIG. The touch panel 400 may be formed integrally with the display panel 300.

자세하게는, 상기 터치 패널(400)은 외장형(Add-on Type) 터치 패널(400)일 수 있다. 또한, 상기 터치 패널(400)은 내장형(Integrated Type) 터치 패널(400)일 수 있다.In detail, the touch panel 400 may be an add-on type touch panel 400. In addition, the touch panel 400 may be an integrated type touch panel 400.

상기 터치 패널(400)이 외장형 터치 패널(400)인 경우, 상기 터치 패널(400)은 상기 표시 패널(300)과 구분되는 별도의 구성일 수 있다. 상기 터치 패널(400)과 상기 표시 패널(300) 사이에는 투명 접착층이 형성될 수 있다. When the touch panel 400 is an external touch panel 400, the touch panel 400 may have a separate structure from the display panel 300. A transparent adhesive layer may be formed between the touch panel 400 and the display panel 300.

이때, 상기 터치 패널(400)은 베이스 기판(200)과 구분되는 별도의 구성으로 형성되거나, 상기 베이스 기판(200)과 일체로 형성될 수 있다. 상기 터치 패널(400)이 상기 베이스 기판(200)과 구분되는 별도의 구성으로 형성되는 경우, 상기 터치 패널(400)과 상기 베이스 기판(200) 사이에 투명 접착층이 형성될 수 있다. 상기 터치 패널(400)이 상기 베이스 기판(200)과 일체로 형성되는 경우, 상기 베이스 기판(200)의 배면에 감지 전극 등이 형성될 수 있다. 즉, 상기 터치 패널(400)과 상기 베이스 기판(200) 사이에 별도의 접착층이 필요하지 않다. The touch panel 400 may be formed separately from the base substrate 200 or may be formed integrally with the base substrate 200. When the touch panel 400 is formed separately from the base substrate 200, a transparent adhesive layer may be formed between the touch panel 400 and the base substrate 200. When the touch panel 400 is formed integrally with the base substrate 200, a sensing electrode may be formed on the back surface of the base substrate 200. That is, a separate adhesive layer is not required between the touch panel 400 and the base substrate 200.

상기 터치 패널(400)이 내장형 터치 패널(400)인 경우, 상기 터치 패널(400)은 상기 표시 패널(300)과 일체로 형성될 수 있다. 즉, 상기 터치 패널(400)과 상기 표시 패널(300) 사이에는 별도의 접착층이 필요하지 않다. 상기 터치 패널(400)은 온셀타입(On-cell Type) 또는 인셀타입(In-cell Type)으로 형성될 수 있다. When the touch panel 400 is an embedded touch panel 400, the touch panel 400 may be formed integrally with the display panel 300. That is, a separate adhesive layer is not required between the touch panel 400 and the display panel 300. The touch panel 400 may be an on-cell type or an in-cell type.

상기 터치 패널(400)이 온셀타입(On-cell Type)인 경우, 상기 표시 패널(300)의 상면에 감지 전극 등이 형성될 수 있다. 자세하게는, 상기 표시 패널(300)의 상부에 배치된 기판 상에 감지 전극 등이 직접 형성될 수 있다. 또한, 상기 외장형 터치 패널(400)과 같이, 상기 터치 패널(400)은 베이스 기판(200)과 구분되는 별도의 구성으로 형성되거나, 상기 베이스 기판(200)과 일체로 형성될 수 있다. When the touch panel 400 is an on-cell type, a sensing electrode may be formed on the upper surface of the display panel 300. In detail, a sensing electrode or the like may be formed directly on the substrate disposed on the display panel 300. Like the external touch panel 400, the touch panel 400 may be formed separately from the base substrate 200, or may be integrally formed with the base substrate 200. Referring to FIG.

상기 터치 패널(400)이 인셀타입(In-cell Type)인 경우, 상기 표시 패널(300)의 제 1 기판 및 제 2 기판 사이에 감지 전극 등이 형성될 수 있다. 즉, 상기 표시 패널(300)에 소자가 형성될 때 감지 전극 등이 함께 형성될 수 있다. 이때, 상기 베이스 기판(200)은 상기 터치 패널(400)과 구분되는 별도의 구성으로 형성된다. 또한, 상기 베이스 기판(200)과 상기 표시 패널(300) 사이에 투명 접착층이 형성될 수 있다.When the touch panel 400 is an in-cell type, a sensing electrode may be formed between the first substrate and the second substrate of the display panel 300. That is, a sensing electrode or the like may be formed together when the display panel 300 is formed. At this time, the base substrate 200 is formed as a separate structure that is different from the touch panel 400. Further, a transparent adhesive layer may be formed between the base substrate 200 and the display panel 300.

도 5 및 도 6을 참조하여, 상기 터치 패널(400)에 대해 보다 자세히 설명한다. 도 5 및 도 6은 외장형 터치 패널 중 베이스 기판(200)과 구분되는 별도의 구성으로 형성되는 일례를 도시한 것으로, 터치 패널(400)의 구성은 도면에 한정되지 않는다. 상기 터치 패널(400)은 상기와 같이 외장형 및 내장형 터치 패널이 모두 적용될 수 있다.The touch panel 400 will be described in more detail with reference to FIGS. 5 and 6. FIG. 5 and 6 show an example in which the external touch panel is formed separately from the base substrate 200. The configuration of the touch panel 400 is not limited to the drawings. The touch panel 400 may be applied to both the external and internal touch panels as described above.

도 5 및 도 6을 참조하면, 상기 터치 패널(400)은 광이 투과되는 표시영역(AA) 및 광이 투과되지 않는 비표시 영역(IA)으로 구분될 수 있다. 자세하게, 상기 표시 영역(AA)은 사용자의 터치 명령 입력이 가능한 영역을 의미하며, 상기 비표시 영역(IA)은 상기 표시 영역(AA)과 반대되는 개념으로서, 사용자의 터치가 이루어지는 경우에도 활성화되지 않아서 터치 명령 입력이 이루어지지 않는 영역을 의미한다.5 and 6, the touch panel 400 may be divided into a display area AA through which light is transmitted and a non-display area IA through which light is not transmitted. The non-display area IA is a concept opposite to the display area AA and is activated even when the user touches the display area AA. And the touch command input is not performed.

도 5를 참조하면, 상기 터치 패널(400)은 제 1 터치 기판(401)의 일면에 감지 전극(421) 및 배선(422)이 배치될 수 있다. 상기 제 1 터치 기판(401)은 강화 유리, 반강화 유리, 소다라임 유리, 강화 플라스틱 또는 연성 플라스틱을 포함할 수 있으며, 이에 한정되는 것은 아니다. 5, the touch panel 400 may include a sensing electrode 421 and a wiring 422 on a first surface of a first touch substrate 401. Referring to FIG. The first touch substrate 401 may include, but is not limited to, tempered glass, semi-tempered glass, soda lime glass, reinforced plastic or soft plastic.

상기 감지 전극(421)은 상기 표시 영역(AA) 상에 배치되고, 상기 배선(422)은 상기 비표시 영역(IA) 상에 배치될 수 있다. 도면에는 도시하지 않았으나, 상기 제 1 터치 기판(401)의 비표시 영역(IA)에는 인쇄층이 더 형성될 수 있다. 또한, 상기 인쇄층 상에 배선(422)이 형성될 수 있다.The sensing electrode 421 may be disposed on the display area AA and the wiring 422 may be disposed on the non-display area IA. Although not shown in the drawing, a print layer may be further formed in the non-display area IA of the first touch substrate 401. [ In addition, a wiring 422 may be formed on the print layer.

상기 감지 전극(421)은 전도성 물질을 포함할 수 있다. 예를 들면, 상기 감지 전극(421)은 투명 전도성 물질, 금속, 나노와이어, 감광성 나노와이어 필름, 탄소나노튜브(CNT), 그래핀(graphene), 전도성 폴리머 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나를 포함할 수 있다. The sensing electrode 421 may include a conductive material. For example, the sensing electrode 421 may be selected from the group consisting of a transparent conductive material, a metal, a nanowire, a photosensitive nanowire film, a carbon nanotube (CNT), a graphene, a conductive polymer, And may include any one of them.

상기 감지 전극(421)은 제 1 감지 전극(411) 및 제 2 감지 전극(412)을 포함할 수 있다. 상기 제 1 감지 전극(411) 및 상기 제 2 감지 전극(412)은 동일한 물질을 포함하거나 또는 서로 다른 물질을 포함할 수 있다. 또한, 상기 제 1 감지 전극(411) 및 상기 제 2 감지 전극(412)은 제 1 터치 기판(401)의 동일한 일면 상에 배치될 수 있다.The sensing electrode 421 may include a first sensing electrode 411 and a second sensing electrode 412. The first sensing electrode 411 and the second sensing electrode 412 may include the same material or may include different materials. The first sensing electrode 411 and the second sensing electrode 412 may be disposed on the same surface of the first touch substrate 401.

상기 제 1 감지 전극(411) 및 상기 제 2 감지 전극(412)이 제 1 터치 기판(401)의 동일한 일면 상에 배치되는 경우, 상기 제 1 감지 전극(411) 및 상기 제 2 감지 전극(412)이 서로 접하지 않게 형성되어야 한다. 이를 위해, 절연층과 브리지 전극이 더 배치될 수 있다. When the first sensing electrode 411 and the second sensing electrode 412 are disposed on the same surface of the first touch substrate 401, the first sensing electrode 411 and the second sensing electrode 412 Should not be in contact with each other. To this end, an insulating layer and a bridge electrode may be further disposed.

자세하게는, 상기 제 1 감지 전극(411) 및 상기 제 2 감지 전극(412) 중 어느 하나의 감지 전극은 절연층 하부에 배치되고, 또 다른 하나는 상기 절연층 상에 형성된 상기 브리지 전극의 양단에 연결되어 전기적으로 연결될 수 있다. 이에 따라, 상기 제 1 감지 전극(411)과 상기 제 2 감지 전극(412)은 브리지 전극과 절연층에 의해 서로 쇼트되어 단락되지 않고 각각 전기적으로 연결될 수 있다.In detail, one of the first sensing electrode 411 and the second sensing electrode 412 is disposed below the insulating layer, and the other is disposed at both ends of the bridge electrode formed on the insulating layer Can be connected and electrically connected. Accordingly, the first sensing electrode 411 and the second sensing electrode 412 can be electrically connected to each other without being short-circuited by the bridge electrode and the insulating layer.

상기 제 1 감지 전극(411) 및 상기 제 2 감지 전극(412)은 상기 표시 영역(AA) 상에 배치되어 터치를 감지하는 센서 역할을 할 수 있다. 자세하게. 상기 제 1 감지 전극(411)은 상기 표시 영역(AA) 상에서 일 방향으로 연장되며 배치될 수 있고, 상기 제 2 감지 전극(412)은 상기 일 방향과 다른 방향으로 연장하며 배치될 수 있다.The first sensing electrode 411 and the second sensing electrode 412 may be disposed on the display area AA to sense a touch. in details. The first sensing electrode 411 may extend in one direction on the display area AA and the second sensing electrode 412 may extend in a direction different from the first direction.

상기 배선(420)은 제 1 배선(421) 및 제 2 배선(422)을 포함할 수 있다. 자세하게는, 상기 배선(420)은 상기 제 1 감지 전극(411)과 연결되는 상기 제 1 배선(421) 및 상기 제 2 감지 전극(412)과 연결되는 상기 제 2 배선(422)을 포함할 수 있다.The wiring 420 may include a first wiring 421 and a second wiring 422. In detail, the wiring 420 may include the first wiring 421 connected to the first sensing electrode 411 and the second wiring 422 connected to the second sensing electrode 412. have.

상기 제 1 배선(421) 및 상기 제 2 배선(422)은 인쇄회로기판(미도시)과 연결될 수 있다. 자세하게는, 상기 제 1 배선(421) 및 상기 제 2 배선(422)은 상기 제 1 감지 전극(411) 및 상기 제 2 감지 전극(412)으로부터 감지되는 터치신호를 구동칩(미도시)이 실장된 상기 인쇄회로기판(미도시)에 전달하여 터치 동작을 수행할 수 있다. 상기 인쇄회로기판(미도시)은 예를 들어, 플렉서블 인쇄회로기판(FPCB)일 수 있다.The first wiring 421 and the second wiring 422 may be connected to a printed circuit board (not shown). More specifically, the first wiring 421 and the second wiring 422 are mounted on a driving chip (not shown) through a touch signal detected from the first sensing electrode 411 and the second sensing electrode 412, To the printed circuit board (not shown) to perform a touch operation. The printed circuit board (not shown) may be, for example, a flexible printed circuit board (FPCB).

상기 제 1 배선(421) 및 상기 제 2 배선(422)은 전도성 물질을 포함할 수 있다. 예를 들면, 상기 제 1 배선(421) 및 상기 제 2 배선(422)은 은(Ag) 또는 구리(Cu) 등의 금속 물질을 포함할 수 있다.The first wiring 421 and the second wiring 422 may include a conductive material. For example, the first wiring 421 and the second wiring 422 may include a metal material such as silver (Ag) or copper (Cu).

도면 상에는 도시되지 않았으나, 상기 배선(420) 상에는 보호층(미도시)이 더 형성될 수 있다. 상기 보호층(미도시)은 상기 배선(420)을 보호할 수 있다. 구체적으로, 상기 보호층(미도시)은 상기 배선(420)이 산소에 노출되어 산화되거나 수분이 침투하여 신뢰성이 하락되는 것을 방지할 수 있다. Although not shown in the drawing, a protective layer (not shown) may be further formed on the wiring 420. The protection layer (not shown) may protect the wiring 420. Specifically, the protective layer (not shown) can prevent the reliability of the wiring 420 from being deteriorated due to oxidation of the wiring 420 due to exposure to oxygen, or moisture penetration.

도 6을 참조하면, 상기 터치 패널(400)은 제 1 터치 기판(402)와 제 2 터치 기판(403)을 포함할 수 있다. 상기 제 1 터치 기판(402) 및 상기 제 2 터치 기판(403)은 강화 유리, 반강화 유리, 소다라임 유리, 강화 플라스틱 또는 연성 플라스틱을 포함할 수 있으며, 이에 한정되는 것은 아니다. 상기 제 1 터치 기판(402) 및 상기 제 2 터치 기판(403)은 광학용 투명 접착제(OCA) 등의 투명 접착제를 사용하여 접착될 수 있다. Referring to FIG. 6, the touch panel 400 may include a first touch substrate 402 and a second touch substrate 403. The first touch substrate 402 and the second touch substrate 403 may include, but are not limited to, tempered glass, semi-tempered glass, soda lime glass, reinforced plastic or soft plastic. The first touch substrate 402 and the second touch substrate 403 may be bonded using a transparent adhesive such as an optical transparent adhesive (OCA).

상기 제 1 터치 기판(402)의 표시 영역(AA)에는 제 1 감지 전극(411)이 배치될 수 있다. 또한, 상기 제 1 터치 기판(402)의 비표시 영역(IA)에는 상기 제 1 감지 전극(411)과 연결되는 제 1 배선(421)이 배치될 수 있다. A first sensing electrode 411 may be disposed on the display area AA of the first touch substrate 402. In addition, a first wiring 421 connected to the first sensing electrode 411 may be disposed in the non-display area IA of the first touch substrate 402.

상기 제 2 터치 기판(403)의 표시 영역(AA)에는 제 2 감지 전극(412)이 배치될 수 있다. 또한, 상기 제 2 터치 기판(403)의 비표시 영역(IA)에는 상기 제 2 감지 전극(412)과 연결되는 제 2 배선(422)이 배치될 수 있다. 또한, 상기 제 1 배선(421)과 상기 제 2 배선(422)은 각각 인쇄회로기판(미도시)과 전기적으로 연결될 수 있다.A second sensing electrode 412 may be disposed on the display area AA of the second touch substrate 403. [ In addition, a second wiring 422 connected to the second sensing electrode 412 may be disposed in the non-display area IA of the second touch substrate 403. The first wiring 421 and the second wiring 422 may be electrically connected to a printed circuit board (not shown), respectively.

다만, 터치 패널(400)은 도면 및 상기 설명에 한정되지 않으며, 손가락 또는 스타일러스(stylus) 펜 등을 이용하여 표시 장치의 전면(front face)에서 접촉하는 방식으로 입력을 할 수 있는 입력 장치이면 충분하다. 즉, 상기 터치 패널(400)은 일반적으로 사용되는 것이라면 제한 없이 적용할 수 있다.
However, the touch panel 400 is not limited to the drawings and the above description, and may be an input device capable of inputting in a manner that the touch panel 400 is in contact with the front face of the display device using a finger, a stylus pen, or the like Do. That is, the touch panel 400 can be applied without limitation as long as it is generally used.

이하에서는, 구체적인 실시예를 통해 본 발명을 더 자세히 설명하기로 한다.
Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to specific examples.

<실시예 1>&Lt; Example 1 >

불소계 고분자 45중량부, 불소계 실란 30중량부, 평균입경 20nm의 산화 아연 0.03중량부, 아크릴계 모노머 5중량부, 광 중합 개시제 2.5중량부 및 잔량의 용매를 혼합하여 100중량부의 하드 코팅용 조성물을 제조하였다.45 parts by weight of a fluorine-based polymer, 30 parts by weight of a fluorine-based silane, 0.03 parts by weight of zinc oxide having an average particle diameter of 20 nm, 5 parts by weight of an acrylic monomer, 2.5 parts by weight of a photopolymerization initiator and a residual solvent were mixed to prepare 100 parts by weight of a composition for hard- Respectively.

이때, 상기 불소계 고분자로는 하기 [화학식 5]로 표시되는 반복 단위를 포함하는 불소계 우레탄 변성 고분자를 사용하였다. At this time, as the fluorinated polymer, a fluorinated urethane-modified polymer containing a repeating unit represented by the following formula (5) was used.

[화학식 5][Chemical Formula 5]

Figure pat00009

Figure pat00009

상기 불소계 실란 화합물로는 하기 [화학식 6]으로 표시되는 화합물을 사용하였다.As the fluorine-based silane compound, a compound represented by the following formula (6) was used.

[화학식 6][Chemical Formula 6]

Figure pat00010

Figure pat00010

상기 하드 코팅용 조성물을 폴리메틸메타크릴레이트(polymethylmetacrylate, PMMA) 필름의 일면에 코팅한 후, UV를 조사하여 경화시켜 하드 코팅층을 형성하였다.
The hard coating composition was coated on one side of a polymethylmethacrylate (PMMA) film and cured by UV irradiation to form a hard coating layer.

<실시예 2>&Lt; Example 2 >

산화 아연을 0.1 중량부로 혼합한 점을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 하드 코팅층을 형성하였다.
A hard coat layer was formed in the same manner as in Example 1, except that zinc oxide was mixed in an amount of 0.1 part by weight.

<실시예 3>&Lt; Example 3 >

산화 아연을 0.3중량부로 혼합한 점을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 하드 코팅층을 형성하였다.
A hard coat layer was formed in the same manner as in Example 1, except that 0.3 part by weight of zinc oxide was mixed.

<실시예 4><Example 4>

산화 아연을 0.5 중량부로 혼합한 점을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 하드 코팅층을 형성하였다.
A hard coat layer was formed in the same manner as in Example 1, except that 0.5 part by weight of zinc oxide was mixed.

<실시예 5>&Lt; Example 5 >

평균 입경이 15nm인 산화 아연을 사용한 점을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 하드 코팅층을 형성하였다.
A hard coat layer was formed in the same manner as in Example 1, except that zinc oxide having an average particle diameter of 15 nm was used.

<실시예 6>&Lt; Example 6 >

평균 입경이 25nm인 산화 아연을 사용한 점을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 하드 코팅층을 형성하였다.
A hard coat layer was formed in the same manner as in Example 1, except that zinc oxide having an average particle diameter of 25 nm was used.

<실시예 7>&Lt; Example 7 >

평균 입경이 35nm인 산화 아연을 사용한 점을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 하드 코팅층을 형성하였다.
A hard coat layer was formed in the same manner as in Example 1, except that zinc oxide having an average particle diameter of 35 nm was used.

<비교예 1>&Lt; Comparative Example 1 &

산화 아연을 0.0.1 중량부로 혼합한 점을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 하드 코팅층을 형성하였다.
A hard coat layer was formed in the same manner as in Example 1, except that zinc oxide was mixed in an amount of 0.0.1 part by weight.

<비교예 2>&Lt; Comparative Example 2 &

산화 아연을 1중량부로 혼합한 점을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 하드 코팅층을 형성하였다.
A hard coat layer was formed in the same manner as in Example 1, except that 1 part by weight of zinc oxide was mixed.

<실험예><Experimental Example>

실시예 1 ~ 7 및 비교예 1 ~ 2에 의해 제조된 하드 코팅층의 반사율, 투과율, 헤이즈 값을 측정하였다. 측정 장비로는 코니카 미놀타(CM-2600D)를 사용하였으며, 광원은 D65, Observer 값은 2 degree를 사용하였다. 반사율 측정 시에는 코팅면을 제외한 나머지 면에 Black 접착 테이프(Toyohozai 社 Black 점착필름)으로 부착 후 측정하였다.
The reflectance, transmittance and haze value of the hard coat layer prepared in Examples 1 to 7 and Comparative Examples 1 and 2 were measured. As a measuring instrument, Konica Minolta (CM-2600D) was used. D65 light source and 2 degree observer were used. The reflectance was measured by attaching a black adhesive tape (Toyohozai Co., Ltd. Black Adhesive Film) to the remaining surfaces except the coated surface.

또한, 실시예 1 ~ 7 및 비교예 1 ~ 2에 의해 제조된 하드 코팅층의 항균력을 JIS Z 2801법으로 측정하였다. 측정 결과는 하기 [표 1]에 기재하였다. 또한, 도 8에는 상기 실시예 1 ~ 4 및 비교예 1 ~ 2의 하드 코팅층의 항균력 측정 후 상태를 보여주는 사진이 도시되어 있다.
The antibacterial activity of the hard coat layer prepared in Examples 1 to 7 and Comparative Examples 1 and 2 was measured by the JIS Z 2801 method. The measurement results are shown in Table 1 below. 8 is a photograph showing the state after the antibacterial activity of the hard coating layers of Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 and 2 was measured.

구분division 반사율(%)reflectivity(%) 투과율(%)Transmittance (%) 헤이즈Hayes 항균력Antibacterial activity 실시예 1Example 1 1.4~1.61.4 to 1.6 94.7194.71 0.160.16 4~54 to 5 실시예 2Example 2 1.4~1.61.4 to 1.6 94.7394.73 0.150.15 4~54 to 5 실시예 3Example 3 1.4~1.61.4 to 1.6 94.6994.69 0.170.17 4~54 to 5 실시예 4Example 4 1.4~1.61.4 to 1.6 94.6594.65 0.380.38 4~54 to 5 실시예 5Example 5 1.4~1.61.4 to 1.6 94.7994.79 0.20.2 4~54 to 5 실시예 6Example 6 1.4~1.61.4 to 1.6 94.6494.64 0.30.3 4~54 to 5 실시예 7Example 7 1.9~2.01.9 to 2.0 94.8894.88 1.51.5 33 비교예 1Comparative Example 1 1.3~1.51.3 to 1.5 94.7894.78 0.150.15 22 비교예 2Comparative Example 2 2.252.25 93.5893.58 0.950.95 4~54 to 5

<실험예 2><Experimental Example 2>

하드 코팅용 조성물 내의 산화 아연 함량을 0 ~ 1 중량부까지 변화시키면서 하드 코팅용 조성물들을 제조하였다. 이때, 하드 코팅 조성물 내의 나머지 성분 및 함량은 실시예 1과 동일하였으며, 실시예 1과 동일한 방법으로 하드 코팅층을 제조하였다.
Compositions for hard coating were prepared while varying the zinc oxide content in the composition for hard coating from 0 to 1 part by weight. At this time, the remaining components and content in the hard coating composition were the same as in Example 1, and a hard coating layer was prepared in the same manner as in Example 1. [

그런 다음, 상기 하드 코팅층들의 반사율을 측정하여, 산화 아연 함량에 반사율의 변화 그래프를 계산하였다. 상기 그래프는 도 9에 도시되어 있다. 도 9를 통해 하드 코팅용 조성물 내의 산화 아연 함유량이 0.5중량부를 초과하면 반사율이 급격히 증가함을 알 수 있다. 한편, 산화 아연 함유량이 0.5중량부인 하드 코팅용 조성물로 형성된 하드 코팅층의 경우, 하드 코팅층 내의 산화 아연의 함량은 약 0.6중량% 정도였다.
Then, the reflectance of the hard coat layers was measured, and a change graph of reflectance was calculated on the zinc oxide content. The graph is shown in FIG. 9, when the content of zinc oxide in the hard coating composition exceeds 0.5 parts by weight, the reflectance increases sharply. On the other hand, in the case of the hard coating layer formed of the composition for hard coating having a zinc oxide content of 0.5 weight part, the content of zinc oxide in the hard coating layer was about 0.6 wt%.

100: 하드 코팅층
200: 베이스 기판
300: 표시 패널
400: 터치 패널
100: hard coat layer
200: base substrate
300: Display panel
400: touch panel

Claims (18)

하기 화학식 1로 표시되는 단위;
하기 화학식 2로 표시되는 단위; 및
산화 아연을 포함하며,
상기 산화 아연이 하드 코팅층 내에 0.03중량% 내지 0.6중량%의 함량으로 포함되는 것을 특징으로 하는 하드 코팅층.
[화학식 1]
Figure pat00011

상기 [화학식 1]에서, R1은 수소 또는 C1~10인 알킬렌기, R2는 수소 또는 C1~10인 알킬기, R3는 적어도 하나 이상의 수소가 F로 치환된 C1~10알킬기임.

[화학식 2]
Figure pat00012

상기 [화학식 2]에서, R4 및 R5는 각각 독립적으로, C1~10인 알킬기, R6는 적어도 하나 이상의 수소가 F로 치환된 C1~20알킬기임.
A unit represented by the following formula (1);
A unit represented by the following formula (2); And
Zinc oxide,
Wherein the zinc oxide is contained in the hard coat layer in an amount of 0.03 wt% to 0.6 wt%.
[Chemical Formula 1]
Figure pat00011

The Formula 1 in, R 1 is hydrogen or C 1 ~ 10 alkyl group, R 2 is hydrogen or C 1 ~ 10 alkyl group, R 3 is an at least one hydrogen is substituted by F C 1 ~ 10 alkyl group, .

(2)
Figure pat00012

Wherein R 4 and R 5 are each independently an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms and R 6 is a C 1-20 alkyl group substituted with at least one hydrogen atom.
제1항에 있어서,
상기 화학식 1로 표시되는 단위와 화학식 2로 표시되는 단위가 1 : 1 내지 2 : 1의 몰 비율로 포함되는 것인 하드 코팅층.
The method according to claim 1,
Wherein the unit represented by the formula (1) and the unit represented by the formula (2) are contained in a molar ratio of 1: 1 to 2: 1.
제1항에 있어서,
아크릴계 모노머로부터 유도된 단위를 더 포함하는 것인 하드 코팅층.
The method according to claim 1,
Further comprising a unit derived from an acrylic monomer.
제3항에 있어서,
상기 아크릴계 모노머는 디펜타에리스톨펜타(메트)아크릴레이트, 디펜타에리스톨헥사(메트)아크릴레이트, 펜타에리스톨트리(메트)아크릴레이트, 펜타에리스톨테트라(메트)아크릴레이트, 디트리메틸올프로판테트라(메트)아크릴레이트, (메트)아크릴릭에스테르, 트리메틸올프로판트리(메트)아크릴레이트, 글리세롤 트리(메트)아크릴레이트, 트리스(2-히드록시에틸)이소시아누레이트, 트리(메트)아크릴레이트, 에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 프로필렌글리콜(메트)아클리레이트, 1,3-부탄디올디(메트)아크릴레이트, 프로필렌글리콜(메트)아크릴레이트, 1,3-부탄디올디(메트)아크릴레이트, 1,4-부탄디올디(메트)아크릴레이트, 1,6-헥사디올디(메트)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디(메트)아크릴레이트, 디에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 디프로필렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 비스(2-히드록시에틸)이소시아누레이트디(메트)아크릴레이트, 히드록시에틸(메트)아크릴레이트, 히드록시프로필(메트)아크릴레이트, 히드록시부틸(메트)아크릴레이트, 이소옥틸(메트)아크릴레이트, 이소덱실(메트)아크릴레이트, 스테아릴(메트)아크릴레이트, 테트라히드로퍼푸릴(메트)아크릴레이트, 페녹시에틸(메트)아크릴레이트 및 이소보네올(메트)아크릴레이트로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상인 하드 코팅층.
The method of claim 3,
The acrylic monomer may be at least one selected from the group consisting of dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythol hexa (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythron tetra (meth) acrylate, ditrimethylol propane (Meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, glycerol tri (meth) acrylate, tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate, tri (meth) (Meth) acrylate, propylene glycol (meth) acrylate, 1,3-butanediol di (meth) acrylate, (Meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) (Meth) acrylate, dipropylene glycol di (meth) acrylate, bis (2-hydroxyethyl) isocyanurate di (meth) acrylate, hydroxyethyl (Meth) acrylate, tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, phenoxy (meth) acrylate, isobutyl (meth) acrylate, Ethyl (meth) acrylate, and isobonole (meth) acrylate.
제1항에 있어서,
상기 [화학식 1]에서, R3는 -(CF2)l-CF3(이때, 상기 l은 0 내지 10인 정수)인 하드 코팅층.
The method according to claim 1,
Wherein R 3 is - (CF 2 ) 1 -CF 3 (wherein, 1 is an integer of 0 to 10).
제1항에 있어서,
상기 [화학식 2]에서, R6는 -(CF2)m-CF3(이때, 상기 m은 1 내지 10인 정수)인 하드 코팅층.
The method according to claim 1,
Wherein R 6 is - (CF 2 ) m -CF 3 (wherein m is an integer of 1 to 10).
제1항에 있어서,
상기 산화 아연은 평균 입경이 15nm 내지 25nm인 하드 코팅층.
The method according to claim 1,
Wherein the zinc oxide has an average particle diameter of 15 nm to 25 nm.
제1항에 있어서,
상기 하드 코팅층은 반사율이 2% 이하인 하드 코팅층.
The method according to claim 1,
The hard coating layer has a reflectance of 2% or less.
제1항에 있어서,
상기 하드 코팅층은 JIS Z 2801에 의해 측정한 항균력이 3 이상인 하드 코팅층.
The method according to claim 1,
Wherein the hard coat layer has a antibacterial activity of 3 or more as measured by JIS Z 2801. [
기판 상에 하기 [화학식 3]으로 표시되는 반복 단위를 포함하는 불소계 고분자, 하기 [화학식 4]로 표시되는 불소계 실란 및 산화 아연을 포함하는 하드 코팅용 조성물을 도포하는 단계; 및
상기 하드 코팅 조성물을 경화시키는 단계를 포함하고,
상기 하드 코팅 조성물은 상기 산화 아연이 하드 코팅용 조성물 100중량부에 대하여 0.03중량부 내지 0.5중량부의 함량으로 포함하는 것인 하드 코팅층의 제조 방법.
[화학식 3]
Figure pat00013

상기 [화학식 3]에서, R1은 수소 또는 C1~10인 알킬렌기, R2는 수소 또는 C1~10인 알킬기, R3는 적어도 하나 이상의 수소가 F로 치환된 C1~10알킬기임.

[화학식 4]
Figure pat00014

상기 [화학식 4]에서, R4, R5 및 R7는 각각 독립적으로, C1~10인 알킬기, R6는 적어도 하나 이상의 수소가 F로 치환된 C1~20알킬기임.
Applying a hard coating composition comprising a fluorine-based polymer containing a repeating unit represented by the following formula (3), a fluorine-based silane represented by the following formula (4), and zinc oxide on a substrate; And
And curing the hard coating composition,
Wherein the hard coating composition comprises zinc oxide in an amount of 0.03 parts by weight to 0.5 parts by weight based on 100 parts by weight of the composition for hard coating.
(3)
Figure pat00013

The [formula 3], R 1 is hydrogen or C 1 ~ 10 alkyl group, R 2 is hydrogen or C 1 ~ 10 alkyl group, R 3 is an at least one hydrogen is substituted by F C 1 ~ 10 alkyl group, .

[Chemical Formula 4]
Figure pat00014

R 4, R 5 and R 7 are each independently a C 1-10 alkyl group, and R 6 is a C 1-20 alkyl group substituted by at least one hydrogen atom.
제10항에 있어서,
상기 하드 코팅용 조성물은,
하드 코팅용 조성물 100중량부에 대하여,
10 내지 50 중량부의 [화학식 3]으로 표시되는 반복 단위를 포함하는 불소계 고분자,
10 내지 40중량부의 [화학식 4]로 표시되는 불소계 실란,
0.03중량부 내지 0.5중량부의 산화 아연, 및
잔부의 용매를 포함하는 것인 하드 코팅층의 제조 방법.
11. The method of claim 10,
The hard coating composition may contain,
With respect to 100 parts by weight of the composition for hard coating,
10 to 50 parts by weight of a fluorine-based polymer containing a repeating unit represented by the following formula (3)
10 to 40 parts by weight of a fluorine-based silane represented by the following formula (4)
0.03 parts by weight to 0.5 parts by weight of zinc oxide, and
Lt; RTI ID = 0.0 &gt;%&lt; / RTI &gt; solvent.
제10항에 있어서,
상기 하드 코팅용 조성물은 아크릴계 모노머를 더 포함하는 것인 하드 코팅층의 제조 방법.
11. The method of claim 10,
Wherein the hard coating composition further comprises an acrylic monomer.
표시 패널; 및
상기 표시 패널 상에 배치되고, 단일층으로 형성되는 하드 코팅층을 포함하며,
상기 하드 코팅층은, 하기 [화학식 1]로 표시되는 단위; 하기 [화학식 2]로 표시되는 단위; 및 산화 아연을 포함하며, 상기 산화 아연이 하드 코팅층의 0.03중량% 내지 0.6중량%의 함량으로 포함되는 것인 표시장치.
[화학식 1]
Figure pat00015

상기 [화학식 1]에서, R1은 수소 또는 C1~10인 알킬렌기, R2는 수소 또는 C1~10인 알킬기, R3는 적어도 하나 이상의 수소가 F로 치환된 C1~10알킬기임.

[화학식 2]
Figure pat00016

상기 [화학식 2]에서, R4 및 R5는 각각 독립적으로, C1~10인 알킬기, R6는 적어도 하나 이상의 수소가 F로 치환된 C1~20알킬기임.
Display panel; And
A hard coating layer disposed on the display panel and formed as a single layer,
Wherein the hard coat layer comprises a unit represented by the following formula (1); A unit represented by the following formula (2); And zinc oxide, and the zinc oxide is contained in an amount of 0.03% by weight to 0.6% by weight of the hard coat layer.
[Chemical Formula 1]
Figure pat00015

The Formula 1 in, R 1 is hydrogen or C 1 ~ 10 alkyl group, R 2 is hydrogen or C 1 ~ 10 alkyl group, R 3 is an at least one hydrogen is substituted by F C 1 ~ 10 alkyl group, .

(2)
Figure pat00016

Wherein R 4 and R 5 are each independently an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms and R 6 is a C 1-20 alkyl group substituted with at least one hydrogen atom.
제 13항에 있어서,
상기 표시 패널은 액정표시패널 또는 유기전계발광표시패널인 것을 특징으로 하는 표시 장치.
14. The method of claim 13,
Wherein the display panel is a liquid crystal display panel or an organic electroluminescence display panel.
제 13 항에 있어서,
상기 표시 패널 및 상기 하드 코팅층 사이에 베이스 기판이 더 배치되고, 상기 하드 코팅층은 상기 베이스 기판의 상면에 형성되는 것을 특징으로 하는 표시 장치.
14. The method of claim 13,
Wherein a base substrate is further disposed between the display panel and the hard coating layer, and the hard coating layer is formed on an upper surface of the base substrate.
제 15항에 있어서,
상기 베이스 기판의 하면에 하드 코팅층이 더 형성되는 것을 특징으로 하는 표시 장치.
16. The method of claim 15,
And a hard coating layer is further formed on a bottom surface of the base substrate.
제 15 항에 있어서,
상기 베이스 기판은 편광판인 것을 특징으로 하는 표시 장치.
16. The method of claim 15,
Wherein the base substrate is a polarizing plate.
제 15항에 있어서,
상기 베이스 기판 및 상기 표시 패널 사이에는 터치 패널이 더 배치되는 것을 특징으로 하는 표시 장치.
16. The method of claim 15,
And a touch panel is further disposed between the base substrate and the display panel.
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