JP6217063B2 - Display device and manufacturing method thereof - Google Patents
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Description
本発明は、タッチパネルを入力デバイスとして用いる表示デバイス及びその製造方法に関する。 The present invention relates to a display device using a touch panel as an input device and a method for manufacturing the same.
近年、ディスプレイ画面を指で触れたり、ペンで押圧するだけで入力できる透明タッチパネルが普及している。このタッチパネルの電極として使用される透明導電性フィルムは基本的にガラスもしくは高分子フィルムに導電膜を積層した構成を有している。特に近年では可撓性、加工性に優れ、軽量である等の点からポリエチレンテレフタレートをはじめとする高分子フィルムを使用した透明導電性フィルムが使用されている。 In recent years, transparent touch panels that allow input by simply touching a display screen with a finger or pressing with a pen have become widespread. The transparent conductive film used as an electrode of this touch panel basically has a configuration in which a conductive film is laminated on glass or a polymer film. Particularly in recent years, transparent conductive films using polymer films such as polyethylene terephthalate have been used because they are excellent in flexibility and workability and are lightweight.
また、内部反射を抑制するために偏光板と円偏光板とで透明導電性フィルムを挟みこんだ構造のタッチパネルが増えてきている。この際に透明導電性フィルムのリタデーションが高いと内部反射の抑制効果が十分に得られないため、透明導電性フィルムには低リタデーションの基材を用いることが要求されるようになってきている。 In addition, in order to suppress internal reflection, touch panels having a structure in which a transparent conductive film is sandwiched between a polarizing plate and a circularly polarizing plate are increasing. At this time, if the retardation of the transparent conductive film is high, the effect of suppressing internal reflection cannot be sufficiently obtained, and therefore, it is required to use a low retardation substrate for the transparent conductive film.
この低リタデーションの基材として従来はガラスが用いられることが多かったが、タッチパネル全体の軽量化と可撓性、加工性の観点から、高分子フィルムへの代替が求められてきている。低リタデーションの高分子フィルムとしては各種フィルムが上市されているが、この中でもトリアセチルセルロース(以下、TACとする)はコストパフォーマンスが優れている。 Conventionally, glass has often been used as the low retardation substrate, but an alternative to a polymer film has been demanded from the viewpoint of weight reduction, flexibility, and workability of the entire touch panel. Various films have been marketed as low retardation polymer films. Among them, triacetyl cellulose (hereinafter referred to as TAC) has excellent cost performance.
しかしながら、タッチパネルの製造の際には透明導電性フィルムが高温の環境下に置かれる工程を含むのが一般的であるが、TACは加熱時の熱収縮がガラスやポリエチレンテレフタレートなどと比べて大きく、タッチパネルの組み立ての際の位置精度に悪影響を与える。特許文献1のように部材としてTACを用いたタッチパネルの技術はあるものの、これはTACの熱収縮の影響を低減するためのものには当たらない。
However, when manufacturing a touch panel, it is common to include a process in which a transparent conductive film is placed in a high-temperature environment. However, TAC has a large thermal shrinkage when heated compared to glass or polyethylene terephthalate, This will adversely affect the positional accuracy when assembling the touch panel. Although there is a touch panel technology using TAC as a member as in
本発明は、かかる従来技術の課題に鑑みてなされたもので、その目的は、透明薄膜積層体の基材としてTACを用いた場合でも、組立て精度の高いタッチパネルを構成部材とした表示デバイス、及びその製造方法を提供することにある。 The present invention has been made in view of the problems of the prior art, and its purpose is to provide a display device having a touch panel with high assembly accuracy as a constituent member even when TAC is used as a base material of a transparent thin film laminate, and It is in providing the manufacturing method.
本発明は、上記の課題を解決するためのものであり、第1の発明は、少なくとも1枚の透明薄膜積層体を構成要素として持つタッチパネルを構成部品として用いている表示デバイスの製造方法であって、透明樹脂基材上に少なくとも1層の透明導電膜層を含む透明薄膜を形成して、透明薄膜積層体を形成する形成工程と、形成工程前に、透明樹脂基材を110℃以上160℃以下で5分間以上加熱する加熱工程とを有し、透明樹脂基材は、トリアセチルセルロースであり、加熱温度を上昇させると当該透明樹脂基材にかかる張力の大きさに応じて透明薄膜積層体の熱収縮率を変化させるものであり、加熱工程において、透明樹脂基材にかかる張力を、加熱温度を上昇させると透明薄膜積層体の熱収縮率を低下させる範囲に設定し、タッチパネル組立て前の段階における、透明薄膜積層体の任意の2点間の距離をd1、透明薄膜積層体を130℃で1時間加熱した後の2点間の距離をd2としたとき、次式、
(d1−d2)/d1 ≦0.0015 ・・・(1)
が成り立つことを特徴とする表示デバイスの製造方法である。
The present invention is for solving the above-mentioned problems, and the first invention is a method for manufacturing a display device using a touch panel having at least one transparent thin film laminate as a component as a component. Te, to form a transparent thin film containing transparent conductive film layer at least one layer on a transparency resin substrate, and forming a transparent thin film stack, before the forming step, a
(D1-d2) /d1≦0.0015 (1)
This is a display device manufacturing method characterized by the following.
第2の発明は、少なくとも1枚の透明薄膜積層体を構成要素として持つタッチパネルを構成部品として用いている表示デバイスの製造方法であって、透明樹脂基材上に少なくとも1層の透明導電膜層を含む透明薄膜を形成して、透明薄膜積層体を形成する形成工程と、形成工程中に、透明樹脂基材を110℃以上160℃以下で5分間以上加熱する加熱工程とを有し、透明樹脂基材は、トリアセチルセルロースであり、加熱温度を上昇させると当該透明樹脂基材にかかる張力の大きさに応じて透明薄膜積層体の熱収縮率を変化させるものであり、加熱工程において、透明樹脂基材にかかる張力を、加熱温度を上昇させると透明薄膜積層体の熱収縮率を低下させる範囲に設定し、タッチパネル組立て前の段階における、透明薄膜積層体の任意の2点間の距離をd1、透明薄膜積層体を130℃で1時間加熱した後の2点間の距離をd2としたとき、次式、
(d1−d2)/d1 ≦0.0015 ・・・(1)
が成り立つことを特徴とする表示デバイスの製造方法である。
2nd invention is a manufacturing method of the display device which uses the touch panel which has at least 1 transparent thin film laminated body as a component as a component, Comprising: At least 1 layer of transparent conductive film layers on a transparent resin base material And forming a transparent thin film laminate, and a heating step of heating the transparent resin substrate at 110 ° C. or higher and 160 ° C. or lower for 5 minutes or more during the forming step, and transparent The resin base material is triacetyl cellulose, and when the heating temperature is increased, the heat shrinkage rate of the transparent thin film laminate is changed according to the magnitude of the tension applied to the transparent resin base material. The tension applied to the transparent resin base material is set in a range in which the heat shrinkage rate of the transparent thin film laminate is lowered when the heating temperature is raised. When the distance between the points d1, the distance between two points after heating for one hour at the transparent
(D1-d2) /d1≦0.0015 (1)
This is a display device manufacturing method characterized by the following.
第3の発明は、少なくとも1枚の透明薄膜積層体を構成要素として持つタッチパネルを構成部品として用いている表示デバイスの製造方法であって、透明樹脂基材上に少なくとも1層の透明導電膜層を含む透明薄膜を形成して、透明薄膜積層体を形成する形成工程と、形成工程後に、透明樹脂基材を110℃以上160℃以下で5分間以上加熱する加熱工程とを有し、透明樹脂基材は、トリアセチルセルロースであり、加熱温度を上昇させると当該透明樹脂基材にかかる張力の大きさに応じて透明薄膜積層体の熱収縮率を変化させるものであり、加熱工程において、透明樹脂基材にかかる張力を、加熱温度を上昇させると透明薄膜積層体の熱収縮率を低下させる範囲に設定し、タッチパネル組立て前の段階における、透明薄膜積層体の任意の2点間の距離をd1、透明薄膜積層体を130℃で1時間加熱した後の2点間の距離をd2としたとき、次式、
(d1−d2)/d1 ≦0.0015 ・・・(1)
が成り立つことを特徴とする表示デバイスの製造方法である。
3rd invention is a manufacturing method of the display device which uses the touch panel which has at least 1 transparent thin film laminated body as a component as a component, Comprising: At least 1 layer of transparent conductive film layers on a transparent resin base material And forming a transparent thin film laminate, and a heating step of heating the transparent resin substrate at 110 ° C. or higher and 160 ° C. or lower for 5 minutes or longer after the forming step, The base material is triacetyl cellulose, and when the heating temperature is raised, the heat shrinkage rate of the transparent thin film laminate is changed according to the magnitude of the tension applied to the transparent resin base material. The tension applied to the resin base material is set in a range in which the heat shrinkage rate of the transparent thin film laminate is lowered when the heating temperature is raised. When the distance between the points d1, the distance between two points after heating for one hour at the transparent
(D1-d2) /d1≦0.0015 (1)
This is a display device manufacturing method characterized by the following.
第4の発明は、第1〜第3の何れかの発明において、透明薄膜積層体をタッチパネル組立て前の段階で130℃で1時間加熱した後の面内リタデーションをRe、深さ方向リタデーションをRthとしたとき、次式、
Re ≦10nm ・・・(2)
Rth ≦65nm ・・・(3)
が成り立つことを特徴とする表示デバイスの製造方法である。
According to a fourth aspect of the present invention, in any one of the first to third aspects, the in-plane retardation after heating the transparent thin film laminate at 130 ° C. for 1 hour at the stage before assembling the touch panel is Re, and the depth direction retardation is Rth. The following formula
Re ≦ 10 nm (2)
Rth ≦ 65 nm (3)
This is a display device manufacturing method characterized by the following.
第5の発明は、第1〜第4の何れかの発明において、形成工程において、金属の層または無機化合物の層を形成することを特徴とする表示デバイスの製造方法である。 A fifth invention is a method of manufacturing a display device according to any one of the first to fourth inventions, wherein a metal layer or an inorganic compound layer is formed in the forming step .
第6の発明は、第5の発明において、形成工程において、透明樹脂基材と透明導電膜層との間に、金属の層または無機化合物の層を形成することを特徴とする表示デバイスの製造方法である。 A sixth invention is a display device according to the fifth invention, characterized in that, in the forming step, a metal layer or an inorganic compound layer is formed between the transparent resin substrate and the transparent conductive film layer . It is a manufacturing method.
第7の発明は、第5の発明において、形成工程において、透明導電膜層より外側に、金属の層または無機化合物の層を形成することを特徴とする表示デバイスの製造方法である。 A seventh invention is a method for producing a display device according to the fifth invention, wherein, in the forming step, a metal layer or an inorganic compound layer is formed outside the transparent conductive film layer .
第8の発明は、第1〜第7の何れかの発明において、形成工程において、有機化合物の層を形成することを特徴とする表示デバイスの製造方法である。 An eighth invention is a method for manufacturing a display device according to any one of the first to seventh inventions, wherein the organic compound layer is formed in the forming step .
第9の発明は、第8の発明において、形成工程において、透明樹脂基材と透明導電膜層との間に、有機化合物の層を有することを特徴とする表示デバイスの製造方法である。 A ninth invention is a method for producing a display device according to the eighth invention, wherein, in the forming step, an organic compound layer is provided between the transparent resin substrate and the transparent conductive film layer .
第10の発明は、第8の発明において、形成工程において、透明樹脂基材の透明導電膜層側と反対側の面に、有機化合物の層を形成することを特徴とする表示デバイスの製造方法である。 A tenth aspect of the invention is the manufacture of a display device according to the eighth aspect of the invention, wherein, in the forming step, a layer of an organic compound is formed on the surface of the transparent resin substrate opposite to the transparent conductive film layer side. Is the method.
本発明によれば、透明薄膜積層体にTAC基材を用いた場合でも、透明薄膜の形成工程で加熱処理を実施することで透明薄膜積層体の熱収縮率が低減され、低リタデーションかつ組立て精度の高いタッチパネルを構成部材としている表示デバイスを提供することができる。 According to the present invention, even when a TAC substrate is used for the transparent thin film laminate, the heat shrinkage rate of the transparent thin film laminate is reduced by performing the heat treatment in the transparent thin film forming step, and the low retardation and the assembly accuracy are achieved. It is possible to provide a display device having a high-touch panel as a constituent member.
以下、本発明を実施するための形態を説明図を用いて説明する。なお、本発明は、以下に記載する実施の形態に限定されうるものではなく、当業者の知識に基づいて設計の変更などの変形を加えることも可能であり、そのような変形が加えられた実施の形態も本発明の範囲に含まれるものである。 Hereinafter, embodiments for carrying out the present invention will be described with reference to the drawings. The present invention is not limited to the embodiments described below, and modifications such as design changes can be made based on the knowledge of those skilled in the art, and such modifications have been added. Embodiments are also included in the scope of the present invention.
図1に、本実施形態に係わるタッチパネル付き表示装置の構成についての断面図を示す。図1はLCD表示パネル30と観察側に構成されるタッチパネル10と、タッチパネル10のさらに観察側の面に接着剤層50を介して積層されるフロントパネル層40と、LCD表示パネル30とタッチパネル10との間に介在するシールド層20と、から成る。シールド層20は図1のようにタッチパネル10と離れていてもよいし、タッチパネル10に粘着剤等を介して貼り合わせてあってもよい。
FIG. 1 shows a cross-sectional view of the configuration of a display device with a touch panel according to the present embodiment. FIG. 1 shows an
図2に、本実施形態に係るタッチパネル10に用いられる透明薄膜積層体1の構成についての断面図を示す。透明樹脂基材2の一方の面に、透明薄膜としての第1透明薄膜層3と透明薄膜としての透明導電性膜4とが順に積層され、透明樹脂基材2の他方の面に透明薄膜としての第2透明薄膜層5が設けられる構成となっている。
In FIG. 2, sectional drawing about the structure of the transparent thin film laminated
図3は、貼り合せた2枚の透明薄膜積層体1の各透明導電性膜4に対しパターニングを行った後の断面図を示したものである。これが2つの電極層を持つタッチパネル10となる。本発明では、貼り合せ以降でパターニングを実施するため、貼り合せは必ず透明導電性膜4と反対側の面同士を粘着層6で貼り合せる。透明導電膜層のパターニングでは、例えばレジスト塗布、露光、エッチング、レジスト剥離という工程を経て、導電性パターン部と非導電性パターン部とが形成される。パターニング方法としてはスクリーン印刷、フォトリソ、レーザーによるパターニングなどどの方法を用いても構わない。また、レジストも感光性のものでなく、乾燥により硬化するものでも構わない。その場合露光工程は乾燥工程に置き換わる。電極のパターニング例として図4に透明導電膜層を菱形状にパターニングしたものを上から見た図を示す。静電容量式タッチパネルを作製する場合、上下のパターンが重ならないように導電面にパターンを形成しなければならない。図4のように菱形のパターンを用いる場合、各ダイヤモンドが重ならないようにパターニングすると図5のようになる。これによりどちらか一方がX方向の静電容量変化を検知し、もう一方がY方向の変化を検知することが可能となる。
FIG. 3 shows a cross-sectional view after patterning the transparent
図1に示すようにタッチパネル10とLCD表示パネル30とはシールド層20を介して組み立てられる。シールド層20はLCD表示パネルからの電気的なノイズをタッチパネル部10に与えないために組み込まれる層であり、透明かつ導電性を備えている必要がある。
As shown in FIG. 1, the
本発明におけるシールド層20の構成を図6に示す。基材21上に導電膜層22が積層される。基材21と導電膜層22との間にUV硬化樹脂層23を積層する。
The configuration of the
基材21としては、透明なガラス及びプラスチックフィルムが用いられる。プラスチックフィルムとしては、面内リタデーション及び深さ方向リタデーションが低く、成膜工程及び後工程において十分な強度があり、表面が平滑なものであれば特に限定されないが、例えばシクロオレフィンポリマー、シクロオレフィンコポリマーなどが挙げられる。これらの基材には酸化防止剤、帯電防止剤、紫外線防止剤、可塑剤、滑剤、易接着剤などの添加剤が含まれていても構わない。また、密着性を良くする為にコロナ処理、低温プラズマ処理を施しても構わない。 As the substrate 21, transparent glass and plastic film are used. The plastic film is not particularly limited as long as it has low in-plane retardation and retardation in the depth direction, has sufficient strength in the film-forming process and the subsequent process, and has a smooth surface. For example, cycloolefin polymer, cycloolefin copolymer Etc. These base materials may contain additives such as an antioxidant, an antistatic agent, an ultraviolet ray inhibitor, a plasticizer, a lubricant, and an easy adhesive. Further, in order to improve adhesion, corona treatment or low temperature plasma treatment may be performed.
導電膜層22に用いる導電性材料としては、本発明では導電性ポリマーを用いる。導電性ポリマーとしてはπ共役系高分子が用いられる。例えばポリアセチレン、ポリジアセチレン、ポリアニリン、ポリパラフェニレン、ポリパラフェニレンビニレン、ポリチオフェン、ポリエチレンジオキシチオフェン、ポリフラン、ポリピロール、ポリフェニレンスルフィド、ポリピリジルビニレン、及びポリアジン等が挙げられる。これらは1種のみを用いてもよく、また、目的に応じて2種以上を組み合わせて用いてもよい。中でもポリエチレンジオキシチオフェンは表面抵抗値が数百Ω/□程度で透明性が比較的良好であり、b*値がマイナスであり若干青味を帯びていることからシールド層として用いた場合に表示パネル全体の色味を悪化させないものとして好適に用いることが可能である。 As the conductive material used for the conductive film layer 22, a conductive polymer is used in the present invention. A π-conjugated polymer is used as the conductive polymer. Examples include polyacetylene, polydiacetylene, polyaniline, polyparaphenylene, polyparaphenylene vinylene, polythiophene, polyethylene dioxythiophene, polyfuran, polypyrrole, polyphenylene sulfide, polypyridyl vinylene, and polyazine. These may use only 1 type and may use it in combination of 2 or more type according to the objective. Among them, polyethylenedioxythiophene has a surface resistance value of several hundreds Ω / □ and relatively good transparency. The b * value is negative and slightly bluish, so it is displayed when used as a shield layer. It can be suitably used as one that does not deteriorate the color of the entire panel.
導電膜層22を基材21に積層する方法としては、スピンコート法、ローラコート法、バーコート法、ディップコート法、グラビアコート法、カーテンコート法、ダイコート法、スプレーコート法、ドクターコート法、ニーダーコート法等の塗布法や、スクリーン印刷法、スプレー印刷法、インクジェット印刷法、凸版印刷法、凹版印刷法、平版印刷法等の印刷法コート等によるコーティングで塗布される。 As a method of laminating the conductive film layer 22 on the substrate 21, a spin coating method, a roller coating method, a bar coating method, a dip coating method, a gravure coating method, a curtain coating method, a die coating method, a spray coating method, a doctor coating method, It is applied by a coating method such as a kneader coating method or a coating method such as a screen printing method, a spray printing method, an ink jet printing method, a relief printing method, an intaglio printing method, a lithographic printing method.
導電膜層22に用いる導電性ポリマーは、上記塗工方法からして液状になっていることが好ましい。液状にするためには、水、または有機溶媒、例えばアルコール、エーテル、ケトン、エステル、炭化水素、ハロゲン化炭化水素、アミドなどに溶解または分散させて用いることが好ましい。中でも水やメタノール、エタノール、イソプロピルアルコールといった溶媒がコスト的にも容易に用いることが可能である。この時、ポリマーの分散性をよくするために分散剤や界面活性剤等の添加剤を加えても構わないし、導電膜の膜強度を強くするために添加剤を加えたり、膜硬化を促進するための硬化剤を加えても構わない。 It is preferable that the conductive polymer used for the conductive film layer 22 is in a liquid state according to the coating method. In order to make it liquid, it is preferable to use it dissolved or dispersed in water or an organic solvent such as alcohol, ether, ketone, ester, hydrocarbon, halogenated hydrocarbon, amide and the like. Among these, solvents such as water, methanol, ethanol, and isopropyl alcohol can be easily used in terms of cost. At this time, an additive such as a dispersant or a surfactant may be added to improve the dispersibility of the polymer, or an additive may be added to increase the film strength of the conductive film, or film hardening may be promoted. You may add the hardening | curing agent for.
導電膜22の膜の硬化方法としては、用いるπ共役系高分子の種類や添加している硬化剤の種類によって熱硬化もしくはUV硬化等により硬化させる。 As a method for curing the film of the conductive film 22, the film is cured by thermal curing, UV curing, or the like depending on the type of the π-conjugated polymer to be used and the type of the added curing agent.
前記のπ共役系高分子ではそれ単独では導電性が発現せず、ドーパントを添加することによりプラスまたはマイナスの電荷がπ共役系高分子に付与されて導電性を持つ場合もある。従ってドーパントを加えることも好ましく行われる。例えばポリジオキシチオフェンの場合はポリスチレンスルホン酸がドーパントとして添加されることが一般的である。 The π-conjugated polymer alone does not exhibit electrical conductivity, and by adding a dopant, a positive or negative charge may be imparted to the π-conjugated polymer and may have electrical conductivity. Therefore, it is also preferable to add a dopant. For example, in the case of polydioxythiophene, polystyrene sulfonic acid is generally added as a dopant.
導電膜層22の透過b*値はマイナス方向に値が大きいほど透過色の青味が強いものとなり、黄色味を抑制する効果がある。b*値は導電性ポリマー膜の膜厚を変化させることで、制御可能であり、タッチパネルの透過色の黄色味の程度によって、最も適切な膜厚の導電性ポリマー膜を塗工することが可能である。 As the transmission b * value of the conductive film layer 22 increases in the negative direction, the blue color of the transmitted color becomes stronger, and the yellow color is effectively suppressed. The b * value can be controlled by changing the film thickness of the conductive polymer film, and the conductive polymer film with the most appropriate film thickness can be applied depending on the yellowness of the transmitted color of the touch panel. It is.
コーティング層23はその下部の基材からのオリゴマー析出を防止するために設ける層である。シールド層を構成する導電層の材質により適切な材料、膜厚、硬化方法を選ぶことで、オリゴマー析出を防止しつつ、高い透過率を保ったシールド層を形成することができる。例えば上記ポリエチレンジオキシチオフェンを導電層として用いる場合は、アクリル系のUV硬化樹脂により、3μmの層を形成することで達成することができる。
The
層の形成方法としては、導電性ポリマー層の形成と同様にスピンコート法、ローラコート法、バーコート法、ディップコート法、グラビアコート法、カーテンコート法、ダイコート法、スプレーコート法、ドクターコート法、ニーダーコート法等の塗布法や、スクリーン印刷法、スプレー印刷法、インクジェット印刷法、凸版印刷法、凹版印刷法、平版印刷法等の印刷法コート等によるコーティングで行うことが出来る。 As the method for forming the layer, the spin coating method, the roller coating method, the bar coating method, the dip coating method, the gravure coating method, the curtain coating method, the die coating method, the spray coating method, the doctor coating method, as in the formation of the conductive polymer layer. The coating can be carried out by a coating method such as a coating method such as a kneader coating method, a screen printing method, a spray printing method, an ink jet printing method, a relief printing method, an intaglio printing method, a lithographic printing method or the like.
LCD表示パネル30の構造としては、液晶を駆動させるためのスイッチング素子が配置され電極層が設けられた基板(アレイ基板)と、対向する電極層が形成されたカラーフィルター基板とが液晶層を挟んで構成されており、アレイ基板とカラーフィルター基板にはそれぞれ偏光板が取付けられているような極一般的なLCD表示パネルを用いる。またLCD表示パネル30の駆動方式としては特に限定されるものではなく、IPS方式、TN方式、VA方式等のLCD表示器が用いられる。
The
本実施形態の透明樹脂基材2にはTACを用いることができる。この時用いるTACは、面内リタデーションが10nm以下、深さ方向リタデーションが65nm以下のものを選択する。また、厚さは部材の薄型化と基材の可撓性とを考慮し、10μm以上200μm以下程度のものが用いられるのが好ましい。
TAC can be used for the
本実施形態のタッチパネルに用いられる透明薄膜積層体では、透明樹脂基材の少なくとも一方の面に、無機化合物からなる第1透明薄膜層が形成されていることが好ましく、図2に示すように、透明樹脂基材2上に第1透明薄膜層3が形成され、その上に透明導電性膜4が積層されていることが好ましい。なお、透明樹脂基材2上に透明導電性膜4が形成され、それよりも外側に第1透明薄膜層3が積層されていてもよい。また、上記第1透明薄膜層3のレイヤー位置に、金属からなる層が形成されていてもよい。当該金属は、例えば遮光性導電膜として設けられる。
In the transparent thin film laminate used in the touch panel of the present embodiment, it is preferable that a first transparent thin film layer made of an inorganic compound is formed on at least one surface of the transparent resin base material, as shown in FIG. It is preferable that the first transparent
第1透明薄膜層3は、透明薄膜積層体1の透過率や色相を調整する機能を有し、視認性を向上させるための層である。第1透明薄膜層3が無機化合物からなる場合、例えば酸化物、硫化物、フッ化物、窒化物などの無機化合物を使用することができる。このような無機化合物からなる第1透明薄膜層3は、その材料(化合物の種類)に応じて屈折率が異なり、屈折率の異なる第1透明薄膜層3を特定の膜厚で形成することにより、光学特性を調整することが可能となる。なお、第1透明薄膜層は一層に限られるものではなく、目的とする光学特性に応じて複数層とすることもできる。
The 1st transparent
屈折率が低い無機化合物としては、例えば酸化マグネシウム(1.6)、二酸化珪素(1.5)、フッ化マグネシウム(1.4)、フッ化カルシウム(1.3〜1.4)、フッ化セリウム(1.6)、フッ化アルミニウム(1.3)などがあげられる。また、屈折率が高い無機化合物としては、例えば酸化チタン(2.4)、酸化ジルコニウム(2.4)、硫化亜鉛(2.3)、酸化タンタル(2.1)、酸化亜鉛(2.1)、酸化インジウム(2.0)、酸化ニオブ(2.3)、酸化タンタル(2.2)などがあげられる。ただし、上記括弧内の数値は屈折率を表す。 Examples of the inorganic compound having a low refractive index include magnesium oxide (1.6), silicon dioxide (1.5), magnesium fluoride (1.4), calcium fluoride (1.3 to 1.4), and fluoride. Examples include cerium (1.6) and aluminum fluoride (1.3). Examples of the inorganic compound having a high refractive index include titanium oxide (2.4), zirconium oxide (2.4), zinc sulfide (2.3), tantalum oxide (2.1), and zinc oxide (2.1 ), Indium oxide (2.0), niobium oxide (2.3), tantalum oxide (2.2), and the like. However, the numerical value in the parenthesis represents a refractive index.
第1透明薄膜層3の製造方法は、膜厚の制御が可能であればいかなる成膜方法であってもよく、特に薄膜のドライコーティング法が優れている。これには真空蒸着法、スパッタリングなどの物理的気相析出法やCVD法のような化学的気相析出法を用いることができる。特に大面積に均一な膜質の薄膜を形成するには、プロセスが安定し、薄膜が緻密化するスパッタリング法が好ましい。
The manufacturing method of the first transparent
第1透明薄膜層3の厚みには特に限定がなく、目的とする光学特性に応じて、用いる無機化合物の種類と併せて特定すればよいが、例えば10nm以上、100nm以下の範囲であることが好ましい。
The thickness of the first transparent
本実施形態のタッチパネルに用いられる透明薄膜積層体は、透明樹脂基材上に金属酸化物からなる透明導電性膜を少なくとも備えているが、図2に示すように、透明樹脂基材2上に第1透明薄膜層3が形成され、その上に透明導電性膜4が積層されていることが好ましい。
The transparent thin film laminate used for the touch panel of this embodiment includes at least a transparent conductive film made of a metal oxide on a transparent resin substrate, but as shown in FIG. It is preferable that the first transparent
透明導電性膜4は金属酸化物からなり、該金属酸化物として、酸化インジウム、酸化亜鉛及び酸化スズのいずれか、又はこれらのうちの2種類もしくは3種類の混合酸化物、さらにはその他の添加物が加えられたものなどがあげられるが、目的、用途により種々の材料を使用することができ、特に限定されるものではない。現在のところ、最も信頼性が高く、多くの実績がある材料は酸化インジウムスズ(ITO)である。
The transparent
前記酸化インジウムスズ(ITO)を透明導電性膜4の材料として用いる場合、酸化インジウムにドープされる酸化スズの含有割合は、デバイスに求められる仕様に応じて、任意に選択すればよい。透明樹脂基材2の場合、機械強度を高める目的で薄膜を結晶化させるために用いる材料は、酸化スズの含有割合が10重量%未満であることが好ましく、薄膜をアモルファス化してフレキシブル性を付与するためには、酸化スズの含有割合が10重量%以上であることが好ましい。また、薄膜に低抵抗が求められる場合は、酸化スズの含有割合が2〜20重量%の範囲であることが好ましい。
When the indium tin oxide (ITO) is used as the material of the transparent
透明導電性膜4の製造方法は膜厚の制御が可能であればいかなる成膜方法であってもよく、特に薄膜のドライコーティング法が優れている。これには真空蒸着法、スパッタリングなどの物理的気相析出法やCVD法のような化学的気相析出法を用いることができる。特に大面積に均一な膜質の薄膜を形成するには、プロセスが安定し、薄膜が緻密化するスパッタリング法が好ましい。
The manufacturing method of the transparent
透明導電性膜4の厚みには特に限定がなく、目的とする特性に応じて適宜調整すればよいが、例えば10nm以上、50nm以下の範囲であることが好ましい。
The thickness of the transparent
本実施形態のタッチパネルに用いられる透明薄膜積層体には、機械的強度を付与するために、透明樹脂基材の少なくとも一方の面に第2透明薄膜層を形成することが好ましく、図2に示すように、透明樹脂基材2上の前述の第1透明薄膜層3側と反対側の面に第2透明薄膜層5が形成されていることが好ましい。ここでは第2透明薄膜層5は有機化合物からなる。なお、第2透明薄膜層5は、透明樹脂基材2と透明導電性膜4との間に形成されていてもよい。
In order to impart mechanical strength to the transparent thin film laminate used in the touch panel of this embodiment, it is preferable to form a second transparent thin film layer on at least one surface of the transparent resin substrate, as shown in FIG. Thus, it is preferable that the 2nd transparent
第2透明薄膜層5に用いられる樹脂としては、特に限定はしないが、透明性と適度な硬度と機械的強度を持つ樹脂が好ましい。具体的には3次元架橋の期待できる3官能以上のアクリレートを主成分とするモノマー又は架橋性オリゴマーのような光硬化性樹脂が好ましい。
Although it does not specifically limit as resin used for the 2nd transparent
3官能以上のアクリレートモノマーとしては、トリメチロールプロパントリアクリレート、イソシアヌル酸EO変性トリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ポリエステルアクリレートなどが好ましい。特に好ましいのは、イソシアヌル酸EO変性トリアクリレート及びポリエステルアクリレートである。これらは単独で用いても良いし、2種以上併用しても構わない。また、これら3官能以上のアクリレートの他にエポキシアクリレート、ウレタンアクリレート、ポリオールアクリレートなどのいわゆるアクリル系樹脂を併用することが可能である。 Trifunctional or higher acrylate monomers include trimethylolpropane triacrylate, isocyanuric acid EO-modified triacrylate, pentaerythritol triacrylate, dipentaerythritol triacrylate, dipentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate Ditrimethylolpropane tetraacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, polyester acrylate and the like are preferable. Particularly preferred are isocyanuric acid EO-modified triacrylate and polyester acrylate. These may be used alone or in combination of two or more. In addition to these tri- or higher functional acrylates, so-called acrylic resins such as epoxy acrylate, urethane acrylate, and polyol acrylate can be used in combination.
架橋性オリゴマーとしては、ポリエステル(メタ)アクリレート、ポリエーテル(メタ)アクリレート、ポリウレタン(メタ)アクリレート、エポキシ(メタ)アクリレート、シリコーン(メタ)アクリレートなどのアクリルオリゴマーが好ましい。具体的にはポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールA型エポキシアクリレート、ポリウレタンのジアクリレート、クレゾールノボラック型エポキシ(メタ)アクリレートなどがある。 As the crosslinkable oligomer, acrylic oligomers such as polyester (meth) acrylate, polyether (meth) acrylate, polyurethane (meth) acrylate, epoxy (meth) acrylate, and silicone (meth) acrylate are preferable. Specific examples include polyethylene glycol di (meth) acrylate, polypropylene glycol di (meth) acrylate, bisphenol A type epoxy acrylate, polyurethane diacrylate, and cresol novolac type epoxy (meth) acrylate.
第2透明薄膜層5は、その他に粒子、光重合開始剤などの添加剤を含有してもよい。
The second transparent
添加する粒子としては、有機又は無機の粒子が挙げられるが、透明性を考慮すれば、有機粒子を用いることが好ましい。有機粒子としては、アクリル樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリオレフィン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリウレタン樹脂、シリコーン樹脂及びフッ素樹脂などからなる粒子が挙げられる。 Examples of the particles to be added include organic or inorganic particles, but it is preferable to use organic particles in consideration of transparency. Examples of the organic particles include particles made of acrylic resin, polystyrene resin, polyester resin, polyolefin resin, polyamide resin, polycarbonate resin, polyurethane resin, silicone resin, and fluorine resin.
粒子の平均粒径は、第2透明薄膜層5の厚みによって異なるが、ヘイズ等の外観上の理由により、下限として2μm以上、より好ましくは5μm以上、上限としては30μm以下、好ましくは15μm以下のものを使用する。また、粒子の含有量も同様の理由で、樹脂に対し、0.5重量%以上5重量%以下であることが好ましい。
The average particle diameter of the particles varies depending on the thickness of the second transparent
光重合開始剤を添加する場合、ラジカル発生型の光重合開始剤として、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンジルメチルケタールなどのベンゾインとそのアルキルエーテル類、アセトフェノン、2、2、−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、などのアセトフェノン類、メチルアントラキノン、2−エチルアントラキノン、2−アミルアントラキノンなどのアントラキノン類、チオキサントン、2、4−ジエチルチオキサントン、2、4−ジイソプロピルチオキサントンなどのチオキサントン類、アセトフェノンジメチルケタール、ベンジルジメチルケタールなどのケタール類、ベンゾフェノン、4、4−ビスメチルアミノベンゾフェノンなどのベンゾフェノン類及びアゾ化合物などがある。これらは単独または2種以上の混合物として使用でき、さらにはトリエタノールアミン、メチルジエタノールアミンなどの第3級アミン、2−ジメチルアミノエチル安息香酸、4−ジメチルアミノ安息香酸エチルなどの安息香酸誘導体などの光開始助剤などと組み合わせて使用することができる。 When a photopolymerization initiator is added, radical generating photopolymerization initiators include benzoin and its alkyl ethers such as benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, and benzyl methyl ketal, acetophenone, 2, 2 , -Dimethoxy-2-phenylacetophenone, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, and other acetophenones, methylanthraquinone, 2-ethylanthraquinone, 2-amylanthraquinone and other anthraquinones, thioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, 2, 4 -Thioxanthones such as diisopropylthioxanthone, ketals such as acetophenone dimethyl ketal and benzyl dimethyl ketal, benzophenone, 4,4-bismeth Le benzophenones such aminobenzophenone and azo compounds, and the like. These can be used alone or as a mixture of two or more thereof, and further, tertiary amines such as triethanolamine and methyldiethanolamine, benzoic acid derivatives such as 2-dimethylaminoethylbenzoic acid and ethyl 4-dimethylaminobenzoate, etc. It can be used in combination with a photoinitiator aid or the like.
上記光重合開始剤の添加量は、主成分の樹脂に対して0.1重量%以上5重量%以下であり好ましくは0.5重量%以上3重量%以下である。下限値未満ではハードコート層の硬化が不十分となり好ましくない。また、上限値を超える場合は、ハードコート層の黄変を生じたり、耐候性が低下したりするため好ましくない。光硬化型樹脂を硬化させるのに用いる光は紫外線、電子線、あるいはガンマ線などであり、電子線あるいはガンマ線の場合、必ずしも光重合開始剤や光開始助剤を含有する必要はない。これらの線源としては高圧水銀灯、キセノンランプ、メタルハライドランプや加速電子などが使用できる。 The addition amount of the photopolymerization initiator is 0.1% by weight or more and 5% by weight or less, preferably 0.5% by weight or more and 3% by weight or less with respect to the main component resin. Less than the lower limit is not preferable because the hard coat layer is insufficiently cured. Moreover, when exceeding an upper limit, since yellowing of a hard-coat layer will be produced or a weather resistance will fall, it is unpreferable. The light used for curing the photocurable resin is ultraviolet rays, electron beams, or gamma rays, and in the case of electron beams or gamma rays, it is not always necessary to contain a photopolymerization initiator or a photoinitiating aid. As these radiation sources, high pressure mercury lamps, xenon lamps, metal halide lamps, accelerated electrons, and the like can be used.
また、第2透明薄膜層5の厚みは、特に限定されないが、0.5μm以上15μm以下の範囲が好ましい。また、透明基板層1と屈折率が同じかもしくは近似していることがより好ましく、1.45以上1.75以下程度が好ましい。
Moreover, the thickness of the 2nd transparent
第2透明薄膜層5の形成方法は、主成分である樹脂等を溶剤に溶解させ、ダイコーター、カーテンフローコーター、ロールコーター、リバースロールコーター、グラビアコーター、ナイフコーター、バーコーター、スピンコーター、マイクログラビアコーターなどの公知の塗布方法で形成する。
The second transparent
溶剤については、上記の主成分の樹脂等を溶解するものであれば特に限定しない。具体的には、溶剤として、エタノール、イソプロピルアルコール、イソブチルアルコール、ベンゼン、トルエン、キシレン、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、酢酸エチル、酢酸n−ブチル、酢酸イソアミル、乳酸エチル、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、メチルセロソルブアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、などが挙げられる。これらの溶剤は1種を単独で用いても良いし、2種以上を併用しても良い。 The solvent is not particularly limited as long as it dissolves the main component resin and the like. Specifically, as a solvent, ethanol, isopropyl alcohol, isobutyl alcohol, benzene, toluene, xylene, acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, ethyl acetate, n-butyl acetate, isoamyl acetate, ethyl lactate, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, Examples include butyl cellosolve, methyl cellosolve acetate, and propylene glycol monomethyl ether acetate. These solvents may be used alone or in combination of two or more.
本実施形態に係る透明薄膜積層体1において、透明樹脂基材5へ何れの層も積層されていない時、第1透明薄膜層3、透明導電性膜4、第2透明薄膜層5の何れかが透明樹脂基材2へ積層される途中、または第1透明薄膜層3、透明導電性膜4、第2透明薄膜層5の全てが透明樹脂基材2へ積層された後の工程において、透明薄膜積層体1が30N以下の張力がかかった状態で、温度110℃以上160℃以下で5分間以上加熱処理される。これにより透明樹脂基材2の残留応力が取り除かれ、透明薄膜積層体1の熱収縮率が低減される。
In the transparent
図2の実施形態において、上記の構成、工程を選択することにより、130℃で1時間加熱した際の熱収縮率が0.15%以下で、面内リタデーションReが10nm以下、深さ方向リタデーションRthが65nm以下の透明薄膜積層体1を提供することができる。
In the embodiment of FIG. 2, by selecting the above-described configuration and steps, the thermal shrinkage rate when heated at 130 ° C. for 1 hour is 0.15% or less, the in-plane retardation Re is 10 nm or less, and the depth direction retardation. A transparent
なお、ここでは透明薄膜積層体1の任意の2点間の距離をd1、透明薄膜積層体1を加熱した後の2点間の距離をd2としたとき、(d1−d2)/d1の値を熱収縮率としている。すなわち、タッチパネル組立て前の段階における、透明薄膜積層体1の任意の2点間の距離d1と、透明薄膜積層体1を130℃で1時間加熱した後の前記2点間の距離d2との間に、次式、
(d1−d2)/d1 ≦0.0015 ・・・(1)
が成り立つようにすることができる。また、タッチパネル組立て前の段階で透明薄膜積層体を130℃で1時間加熱した後の面内リタデーションRe及び深さ方向リタデーションRthを、それぞれ、次式、
Re ≦10nm ・・・(2)
Rth ≦65nm ・・・(3)
が成り立つようにすることができる。
Here, when the distance between any two points on the transparent
(
Can be established. In addition, the in-plane retardation Re and the depth direction retardation Rth after heating the transparent thin film laminate at 130 ° C. for 1 hour in the stage before the touch panel assembly, respectively,
Re ≦ 10 nm (2)
Rth ≦ 65 nm (3)
Can be established.
図3の実施形態において、前述のように2枚の透明薄膜積層体1の第2透明薄膜層5側同士を粘着層6で貼り合せた後に片面ずつパターニングを行なう。スクリーン印刷、フォトリソ、レーザーなどのパターニング工程では加熱されるため、透明薄膜積層体1の熱収縮率が高いと他方の面のパターニングを行なう際にアライメントの位置が大きくズレて以降の工程を通すことができなくなる。本発明の実施形態では透明薄膜積層体の130℃で1時間加熱した際の熱収縮率が0.15%と低くおさえられているため、本来熱収縮率が高いTACを透明樹脂基材2として用いていても、以降の工程を通して表示デバイス60を提供することができる。
In the embodiment of FIG. 3, as described above, the second transparent
本発明の実施例について具体的に説明する。なお、透明薄膜積層体作成までの工程はロールトゥロールの形式である。 Examples of the present invention will be specifically described. In addition, the process until transparent thin film laminated body preparation is a roll to roll form.
<実施例>
図2の構成において、透明樹脂基材2として膜厚60μmのTAC(富士フイルム(株)製)を用いた。
<Example>
In the configuration of FIG. 2, TAC (manufactured by Fuji Film Co., Ltd.) having a film thickness of 60 μm was used as the
次に、透明樹脂基材2上の一方の面にグラビアコート法により、硬化膜厚が8μmになるようにハードコート塗液(組成:ウレタンアクリレート(共栄社化学(株)製、UA−510H)100重量部、アルキルフェノン系光重合開始剤(チバスペシャリティケミカルズ社製、IRGACURE907)4重量部、及び酢酸エチル100重量部)を塗布し、乾燥させ、メタルハライドランプにて400mJ/cm2の紫外線を照射し、第2透明薄膜層5を形成した。
Next, a hard coat coating liquid (composition: urethane acrylate (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd., UA-510H) 100) is applied to one surface on the
さらに、上記第2透明薄膜層5を形成した透明樹脂基材2をオーブンにて加熱処理した。
Furthermore, the transparent
続いて、透明樹脂基材2上の第2透明薄膜層5のない方の面に、第1透明薄膜層3及び透明導電性膜4を、DCマグネトロンスパッタリング法にて成膜して透明薄膜積層体1を作成した。このとき、第1透明薄膜層3用の材料として、二酸化珪素(SiO2)を使用し、透明導電性膜用の材料として、酸化スズを10重量%含有したITOを使用した。また、第1透明薄膜層3の厚みを50nmとし、透明導電性膜4の厚みを20nmとした。
Subsequently, the first transparent
<比較例>
図2の構成において、上記実施例と同じ材料、工程で透明薄膜積層体1を製造した。ただし、第2透明薄膜層5の形成後の透明樹脂基材2をオーブンにて加熱処理する工程は実施していない。ここで製造された透明薄膜積層体を130℃で1時間加熱した場合の熱収縮率は0.32%となり、面内リタデーションReは0.1nm、深さ方向内リタデーションRthは15.9nmとなった。
<Comparative example>
In the structure of FIG. 2, the transparent thin film laminated
実施例で製造された透明薄膜積層体1を130℃で1時間加熱した場合において、加熱処理時の張力0N、30N、50Nの際の加熱処理温度、加熱処理時間に対する熱収縮率の測定結果を図7〜9に、面内リタデーションReを図10〜12に、深さ方向リタデーションRthを図13〜15に、示す。なお、実施例において加熱処理温度が160℃を超えると透明薄膜積層体1に白濁が発生したため、100℃以上160℃以下の範囲で評価を行なった。
When the transparent
また、透明薄膜積層体1のロールからMD方向に2枚のフィルムを300mm角で切り出し、切り出した一方のフィルムの非ITO面に接着層を貼り付け、もう一方のフィルムの非ITO面と貼り合せた。次にスクリーン印刷機にパターンのアライメントマークを登録させる。今回は、あらかじめ捨てフィルムにスクリーン印刷を行うことでスクリーン印刷機に登録させた。スクリーン版の位置を変えない限り、印刷位置は変わらない。次いで貼り合わせたフィルムの一方の面に対してスクリーン印刷機で導電面にレジストを塗布し、熱乾燥により硬化した。室温で十分覚ました後にレジストが印刷されてない面をスクリーン印刷機にセットした際のアライメントマークのズレを測定し、以降の工程を通せるか確認した。
In addition, two films are cut out in the MD direction from the roll of the transparent
実施例及び比較例で作成された透明薄膜積層体1を用いた際の、透明薄膜積層体1の130℃で1時間加熱時の熱収縮率とスクリーン印刷機にセットした際のアライメントマークのズレ及び以降の工程通過の可否について、表1に示す。
When using the transparent
<評価結果>
図7〜15に示す結果から、透明薄膜積層体1に張力30N以下、温度110℃以上160℃以下、処理時間5分以上で加熱処理を行うことにより、130℃で1時間加熱しても熱収縮率が0.15%以下に収まることがわかった。また、この時の面内リタデーションReが10nm以下に、深さ方向リタデーションRthが65nm以下に収まることから、加熱処理を経ても透明薄膜積層体1のリタデーションを低い水準で維持できることも確認できた。
<Evaluation results>
From the results shown in FIGS. 7 to 15, the transparent
表1に示す結果からは、アライメントマークのズレが透明薄膜積層体1の熱収縮率に依存していて、熱収縮率が0.15%以下であれば貼り合せ以降の工程通過が可能であることが確認できた。前述のように、透明薄膜積層体1の形成過程において張力30N以下、温度110℃以上160℃以下、処理時間5分以上で加熱処理をすれば透明薄膜積層体1の熱収縮率を0.15%以下にできる。このことから、透明薄膜積層体の基材としてTACを用いた場合でも、透明薄膜積層体の形成過程で加熱処理を行うことにより、低リタデーションで、組立て精度の高いタッチパネルを構成部材とした表示デバイスを提供できることが確認できた。
From the results shown in Table 1, the alignment mark deviation depends on the thermal shrinkage rate of the transparent
本発明は、タブレット、携帯端末、パソコンモニタ等のディスプレイ装置に適用可能である。 The present invention is applicable to display devices such as tablets, portable terminals, and personal computer monitors.
1 透明薄膜積層体
2 透明樹脂基材
3 第1透明薄膜層
4 透明導電性膜
5 第2透明薄膜層
6 粘着層
10 タッチパネル
20 シールド層
21 基材
22 導電膜層
23 UV硬化樹脂層
30 LCD表示パネル
40 フロントパネル層
50 接着剤層
60 表示デバイス
DESCRIPTION OF
Claims (10)
透明樹脂基材上に少なくとも1層の透明導電膜層を含む透明薄膜を形成して、前記透明薄膜積層体を形成する形成工程と、
前記形成工程前に、前記透明樹脂基材を110℃以上160℃以下で5分間以上加熱する加熱工程とを有し、
前記透明樹脂基材は、
トリアセチルセルロースであり、
加熱温度を上昇させると当該透明樹脂基材にかかる張力の大きさに応じて前記透明薄膜積層体の熱収縮率を変化させるものであり、
前記加熱工程において、前記透明樹脂基材にかかる張力を、加熱温度を上昇させると前記透明薄膜積層体の熱収縮率を低下させる範囲に設定し、
タッチパネル組立て前の段階における、前記透明薄膜積層体の任意の2点間の距離をd1、前記透明薄膜積層体を130℃で1時間加熱した後の前記2点間の距離をd2としたとき、次式、
(d1−d2)/d1 ≦0.0015 ・・・(1)
が成り立つことを特徴とする表示デバイスの製造方法。 A manufacturing method of a display device using a touch panel having at least one transparent thin film laminate as a component as a component,
Forming a transparent thin film including at least one transparent conductive film layer on a transparent resin substrate, and forming the transparent thin film laminate; and
A heating step of heating the transparent resin substrate at 110 ° C. or more and 160 ° C. or less for 5 minutes or more before the forming step;
The transparent resin substrate is
Triacetyl cellulose,
Increasing the heating temperature is to change the thermal contraction rate of the transparent thin film laminate according to the magnitude of the tension applied to the transparent resin substrate,
In the heating step, the tension applied to the transparent resin substrate is set to a range in which the heat shrinkage rate of the transparent thin film laminate is reduced when the heating temperature is increased,
When the distance between any two points of the transparent thin film laminate in the stage before assembling the touch panel is d1, and the distance between the two points after heating the transparent thin film laminate at 130 ° C. for 1 hour is d2. The following formula,
(D1-d2) /d1≦0.0015 (1)
A manufacturing method of a display device, wherein
透明樹脂基材上に少なくとも1層の透明導電膜層を含む透明薄膜を形成して、前記透明薄膜積層体を形成する形成工程と、
前記形成工程中に、前記透明樹脂基材を110℃以上160℃以下で5分間以上加熱する加熱工程とを有し、
前記透明樹脂基材は、
トリアセチルセルロースであり、
加熱温度を上昇させると当該透明樹脂基材にかかる張力の大きさに応じて前記透明薄膜積層体の熱収縮率を変化させるものであり、
前記加熱工程において、前記透明樹脂基材にかかる張力を、加熱温度を上昇させると前記透明薄膜積層体の熱収縮率を低下させる範囲に設定し、
タッチパネル組立て前の段階における、前記透明薄膜積層体の任意の2点間の距離をd1、前記透明薄膜積層体を130℃で1時間加熱した後の前記2点間の距離をd2としたとき、次式、
(d1−d2)/d1 ≦0.0015 ・・・(1)
が成り立つことを特徴とする表示デバイスの製造方法。 A manufacturing method of a display device using a touch panel having at least one transparent thin film laminate as a component as a component,
Forming a transparent thin film including at least one transparent conductive film layer on a transparent resin substrate, and forming the transparent thin film laminate; and
A heating step of heating the transparent resin substrate at 110 ° C. or higher and 160 ° C. or lower for 5 minutes or longer during the forming step;
The transparent resin substrate is
Triacetyl cellulose,
Is intended to Raising the heating temperature in accordance with the magnitude of the tension on the transparent resin substrate is changed thermal shrinkage of the transparent thin product layer thereof,
In the heating step, the tension applied to the transparent resin substrate is set to a range in which the heat shrinkage rate of the transparent thin film laminate is reduced when the heating temperature is increased,
When the distance between any two points of the transparent thin film laminate in the stage before assembling the touch panel is d1, and the distance between the two points after heating the transparent thin film laminate at 130 ° C. for 1 hour is d2. The following formula,
(D1-d2) /d1≦0.0015 (1)
The manufacturing method of the display device characterized by these .
透明樹脂基材上に少なくとも1層の透明導電膜層を含む透明薄膜を形成して、前記透明薄膜積層体を形成する形成工程と、
前記形成工程後に、前記透明樹脂基材を110℃以上160℃以下で5分間以上加熱する加熱工程とを有し、
前記透明樹脂基材は、
トリアセチルセルロースであり、
加熱温度を上昇させると当該透明樹脂基材にかかる張力の大きさに応じて前記透明薄膜積層体の熱収縮率を変化させるものであり、
前記加熱工程において、前記透明樹脂基材にかかる張力を、加熱温度を上昇させると前記透明薄膜積層体の熱収縮率を低下させる範囲に設定し、
タッチパネル組立て前の段階における、前記透明薄膜積層体の任意の2点間の距離をd1、前記透明薄膜積層体を130℃で1時間加熱した後の前記2点間の距離をd2としたとき、次式、
(d1−d2)/d1 ≦0.0015 ・・・(1)
が成り立つことを特徴とする表示デバイスの製造方法。 A manufacturing method of a display device using a touch panel having at least one transparent thin film laminate as a component as a component,
Forming a transparent thin film including at least one transparent conductive film layer on a transparent resin substrate, and forming the transparent thin film laminate; and
A heating step of heating the transparent resin substrate at 110 ° C. or higher and 160 ° C. or lower for 5 minutes or longer after the forming step;
The transparent resin substrate is
Triacetyl cellulose,
Increasing the heating temperature is to change the thermal contraction rate of the transparent thin film laminate according to the magnitude of the tension applied to the transparent resin substrate,
In the heating step, the tension applied to the transparent resin substrate is set to a range in which the heat shrinkage rate of the transparent thin film laminate is reduced when the heating temperature is increased,
When the distance between any two points of the transparent thin film laminate in the stage before assembling the touch panel is d1, and the distance between the two points after heating the transparent thin film laminate at 130 ° C. for 1 hour is d2. The following formula,
(D1-d2) /d1≦0.0015 (1)
Method of manufacturing a display device, characterized in that hold.
Re ≦10nm ・・・(2)
Rth ≦65nm ・・・(3)
が成り立つことを特徴とする請求項1〜3の何れか1項に記載の表示デバイスの製造方法。 When the in-plane retardation after heating the transparent thin film laminate at 130 ° C. for 1 hour at the stage before assembling the touch panel is Re and the depth direction retardation is Rth,
Re ≦ 10 nm (2)
Rth ≦ 65 nm (3)
The display device manufacturing method according to claim 1, wherein:
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