KR20160065816A - Resin composition for optical materials, optical film and liquid crystal display device - Google Patents

Resin composition for optical materials, optical film and liquid crystal display device Download PDF

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Abstract

본 발명은 외력에 의한 복굴절의 변화가 작아, 광학 부재의 제조에 호적하게 사용할 수 있는 수지 조성물과, 당해 수지 조성물을 사용해서 얻어지는 광학 필름 및 이를 사용한 액정 표시 장치를 제공하는 것을 목적으로 해서, (메타)아크릴산 또는 (메타)아크릴산알킬에스테르를 사용해서 얻어지는 중합체(A)와, 하기 일반식(1)

Figure pct00008

(식 중, A1, A2는 각각 독립적으로 탄소 원자수 1∼8의 알킬기 또는 탄소 원자수 6∼18의 아릴기이다. R1∼R4은, 각각 독립적으로 탄소 원자수 1∼3의 알킬기이다. X1, X2는 각각 독립적으로 2가의 연결기이다)으로 표시되는 화합물(B)을 함유하는 광학 재료용 수지 조성물을 제공한다.An object of the present invention is to provide a resin composition which is small in change of birefringence due to an external force and which can be used suitably in the production of an optical member, an optical film obtained by using the resin composition, and a liquid crystal display device using the same. (A) obtained by using (meth) acrylic acid or (meth) acrylic acid alkyl ester,
Figure pct00008

(Wherein A 1 and A 2 each independently represent an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms or an aryl group having 6 to 18 carbon atoms.) Each of R 1 to R 4 independently represents an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms And X < 2 > are each independently a divalent linking group).

Description

광학 재료용 수지 조성물, 광학 필름 및 액정 표시 장치{RESIN COMPOSITION FOR OPTICAL MATERIALS, OPTICAL FILM AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE}TECHNICAL FIELD [0001] The present invention relates to a resin composition for optical materials, an optical film, and a liquid crystal display device.

본 발명은, 외력에 의한 복굴절의 변화가 작아, 광학 부재의 제조에 호적(好適)하게 사용할 수 있는 수지 조성물과, 당해 수지 조성물을 사용해서 얻어지는 광학 필름 및 이를 사용한 액정 표시 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a resin composition which is small in change of birefringence due to an external force and can be favorably used in the production of an optical member, an optical film obtained by using the resin composition, and a liquid crystal display device using the same.

최근, 예를 들면, 디스플레이 시장의 확대에 수반하여, 화상을 보다 선명하게 보고자 하는 요구가 높아지고 있어, 단순한 투명 재료가 아닌, 보다 고도한 광학 특성이 부여된 광학 재료가 요구되고 있다.In recent years, for example, along with the expansion of the display market, there has been an increasing demand for viewing images more clearly, and optical materials having higher optical characteristics than simple transparent materials are required.

일반적으로 고분자는 분자 주쇄 방향과 그에 수직 방향으로 굴절률이 다르기 때문에 복굴절을 일으킨다. 용도에 따라서는, 이 복굴절을 엄밀하게 컨트롤하는 것이 요구되고 있으며, 액정의 편광판에 사용되는 보호 필름의 경우는, 전광선 투과율이 같아도 복굴절이 보다 작은 고분자 재료 성형체가 필요한 것으로 여겨지며, 트리아세틸셀룰로오스가 대표적인 재료로서 사용된다.Generally, a polymer has birefringence due to a difference in refractive index in a direction perpendicular to the molecular main chain direction. In the case of a protective film used for a polarizing plate of a liquid crystal, it is considered that a polymer material molded article having a smaller birefringence is required even if the total light transmittance is the same, and triacetyl cellulose is a typical It is used as a material.

이러한 가운데, 최근은, 액정 디스플레이가 대형화해, 그에 필요한 고분자 광학 재료 성형품이 대형화함에 따라서, 외력의 치우침에 의해 생기는 복굴절의 분포를 작게 하기 위하여, 외력에 의한 복굴절의 변화가 작은 재료가 요구되고 있다.In recent years, as the liquid crystal display has become larger in size and the molded product of the polymer optical material required for it has become larger, a material having a small change in birefringence due to an external force is required in order to reduce the distribution of birefringence caused by the bias of the external force .

외력에 의한 복굴절의 변화가 작은 성형품이 얻어지는 재료는, 즉, 광탄성 계수가 작은 성형품이 얻어지는 고분자 광학 재료이며, 이러한 재료 중에서도, 저가인 재료로서 아크릴계 수지가 주목받고 있다. 구체적으로는, 아크릴계 수지와, 가소제로서 지방족 폴리에스테르계 수지를 포함하는 수지 조성물이 알려져 있다(예를 들면, 특허문헌 1 참조). 그러나, 당해 특허문헌 1에 개시된 광학 재료를 사용해도, 광탄성 계수가 충분히 작은 광학 필름을 얻는 것은 곤란했다.A material from which a change in birefringence due to an external force is small can be obtained, that is, a polymer optical material in which a molded article having a small photoelastic coefficient can be obtained. Among these materials, an acrylic resin is attracting attention as a low cost material. Specifically, a resin composition comprising an acrylic resin and an aliphatic polyester resin as a plasticizer is known (see, for example, Patent Document 1). However, even when the optical material disclosed in Patent Document 1 is used, it is difficult to obtain an optical film having a sufficiently low photoelastic coefficient.

국제공개 제2006/077776호 팸플릿International Publication No. 2006/077776 pamphlet

본 발명이 해결하려고 하는 과제는, 외력에 의한 복굴절의 변화가 작아, 광학 부재의 제조에 호적하게 사용할 수 있는 수지 조성물과, 당해 수지 조성물을 사용해서 얻어지는 광학 필름 및 이를 사용한 액정 표시 장치를 제공하는 것에 있다.A problem to be solved by the present invention is to provide a resin composition which is small in change of birefringence due to an external force and can be suitably used in the production of an optical member, an optical film obtained using the resin composition and a liquid crystal display device using the same It is on.

본 발명자들은 예의 검토를 행한 결과, 아크릴계 수지와, 비페닐 골격을 갖는 화합물이며, 당해 화합물의 말단이 탄화수소기나 아릴기로 봉지(封止)된 구조를 갖는 화합물을 함유하는 조성물을 사용함에 의해, 외력에 의한 복굴절의 변화가 작은 광학 부재가 얻어지는 것, 당해 수지 조성물은 특히 광학 필름을 제조할 때에 호적한 것, 당해 광학 필름은 액정 표시 장치를 제조할 때의 부재로서 호적하게 사용할 수 있는 것 등을 알아내어, 본 발명을 완성하기에 이르렀다.As a result of intensive studies, the present inventors have found that by using a composition containing a compound having an acrylic resin and a compound having a biphenyl skeleton and having a structure in which the terminal of the compound is encapsulated with a hydrocarbon group or an aryl group, And the resin composition is particularly favorable when the optical film is produced. The optical film can be suitably used as a member when the liquid crystal display device is manufactured, and the like The present invention has been accomplished on the basis of these findings.

즉, 본 발명은, (메타)아크릴산 또는 (메타)아크릴산알킬에스테르를 사용해서 얻어지는 중합체(A)와, 하기 일반식(1)That is, the present invention relates to a polymer (A) obtained by using (meth) acrylic acid or (meth) acrylic acid alkyl ester,

Figure pct00001
Figure pct00001

(식 중, A1, A2는 각각 독립적으로 탄소 원자수 1∼8의 알킬기 또는 탄소 원자수 6∼18의 아릴기이다. R1∼R4은, 각각 독립적으로 탄소 원자수 1∼3의 알킬기이다. X1, X2는 각각 독립적으로 2가의 연결기이다)(Wherein A 1 and A 2 each independently represent an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms or an aryl group having 6 to 18 carbon atoms.) Each of R 1 to R 4 independently represents an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms X 1 and X 2 are each independently a divalent linking group)

으로 표시되는 화합물(B)을 함유하는 것을 특징으로 하는 광학 재료용 수지 조성물을 제공하는 것이다.(B) represented by the following general formula (1).

또한, 본 발명은, 상기 광학 재료용 수지 조성물을 함유하는 것을 특징으로 하는 광학 필름을 제공하는 것이다.The present invention also provides an optical film comprising the resin composition for an optical material.

또한, 본 발명은, 상기 광학 필름을 갖는 것을 특징으로 하는 액정 표시 장치를 제공하는 것이다.Further, the present invention provides a liquid crystal display device having the optical film.

본 발명에 따르면, 저렴한 재료인 아크릴계 수지를 사용해서, 외력에 의한 복굴절의 변화가 작아, 광학 부재의 제조에 호적하게 사용할 수 있는 수지 조성물을 제공할 수 있다. 이 수지 조성물을 사용함에 의해, 외력에 의한 복굴절의 변화가 작은 광학 필름을 용이하게 얻을 수 있다. 그리고, 이 광학 필름을 사용함으로써, 외력에 의해 화면의 가시성이 변하기 어려운 액정 표시 장치를 얻을 수 있다.INDUSTRIAL APPLICABILITY According to the present invention, it is possible to provide a resin composition which is small in change of birefringence due to an external force and can be suitably used in the production of an optical member, by using an acrylic resin which is an inexpensive material. By using this resin composition, an optical film having a small change in birefringence due to an external force can be easily obtained. By using this optical film, it is possible to obtain a liquid crystal display device in which the visibility of the screen is unlikely to change due to an external force.

본 발명에서 사용하는 중합체(A)는, (메타)아크릴산 또는 (메타)아크릴산알킬에스테르를 사용해서 얻어지며, 구체적으로는, (메타)아크릴산 또는 (메타)아크릴산알킬에스테르를 필수로 해서 필요에 따라 다른 중합성 단량체를 병용해 중합시켜 얻어진다. 상기 (메타)아크릴산 또는 (메타)아크릴산알킬에스테르로서는, 예를 들면, 아크릴산; 메타크릴산 : 메타크릴산시클로헥실, 메타크릴산t-부틸시클로헥실, 메타크릴산메틸 등의 메타크릴산알킬에스테르; 아크릴산메틸, 아크릴산에틸, 아크릴산부틸, 아크릴산이소프로필, 아크릴산2-에틸헥실 등의 아크릴산알킬에스테르 등을 들 수 있다.The polymer (A) used in the present invention is obtained by using (meth) acrylic acid or (meth) acrylic acid alkyl ester, and more specifically, by using (meth) acrylic acid or (meth) acrylic acid alkyl ester as necessary Is obtained by polymerizing other polymerizable monomers in combination. Examples of the (meth) acrylic acid or (meth) acrylic acid alkyl ester include acrylic acid; Methacrylic acid: methacrylic acid alkyl esters such as cyclohexyl methacrylate, t-butylcyclohexyl methacrylate, and methyl methacrylate; Acrylic acid alkyl esters such as methyl acrylate, ethyl acrylate, butyl acrylate, isopropyl acrylate, and 2-ethylhexyl acrylate.

본 발명에서 사용하는 중합체(A) 중에서도, 메타크릴산메틸의 단독 중합체 또는, 메타크릴산메틸과 다른 단량체와의 공중합체가 광학 특성이 우수한 필름이 얻어지며, 또한, 경제성도 우수하므로 바람직하다.Among the polymers (A) used in the present invention, a homopolymer of methyl methacrylate or a copolymer of methyl methacrylate and another monomer is preferable because a film having excellent optical properties can be obtained and also the economy is excellent.

상기 다른 단량체로서는, 예를 들면, (메타)아크릴산류 또는 메타크릴산메틸 이외의 (메타)아크릴산에스테르류; 스티렌, 비닐톨루엔, α-메틸스티렌 등의 방향족 비닐 화합물류; 아크릴로니트릴, 메타크릴니트릴 등의 시안화비닐류; N-페닐말레이미드, N-시클로헥실말레이미드 등의 말레이미드류; 무수 말레산 등의 불포화 카르복시산 무수물류; 말레산 등의 불포화산류 등을 들 수 있다.Examples of the other monomer include (meth) acrylic acid esters other than (meth) acrylic acids or methyl methacrylate; Aromatic vinyl compounds such as styrene, vinyltoluene, and? -Methylstyrene; Vinyl cyanide such as acrylonitrile and methacrylonitrile; Maleimides such as N-phenylmaleimide and N-cyclohexylmaleimide; Unsaturated carboxylic acid anhydrides such as maleic anhydride; And unsaturated acids such as maleic acid.

상기 다른 단량체로서 예시한 방향족 비닐 화합물류, 시안화비닐류, 말레이미드류, 불포화 카르복시산 무수물류, 불포화산류 등의 단량체는, 메타크릴산메틸을 사용하지 않는 경우여도 본 발명의 효과를 손상시키지 않는 범위에서 사용할 수 있다.Monomers such as aromatic vinyl compounds, vinyl cyanide, maleimides, unsaturated carboxylic anhydrides and unsaturated acids exemplified as the other monomers may be used in a range that does not impair the effect of the present invention even when methyl methacrylate is not used Can be used.

상기 메타크릴산메틸과 다른 단량체를 공중합시켜 중합체(A)로서 사용할 중합체를 얻을 경우, 다른 단량체로서는, 방향족 비닐 화합물류가 내열성과 경제성이 우수한 광학 필름이 얻어지므로 바람직하며, 그 중에서도, 스티렌, α-메틸스티렌이 보다 바람직하다. 여기에서, 방향족 비닐 화합물류의 사용량은, 메타크릴산메틸 100질량부에 대해, 1∼50질량부가 바람직하며, 2∼30질량부가 보다 바람직하다.In the case of obtaining a polymer to be used as the polymer (A) by copolymerizing methyl methacrylate and another monomer, aromatic vinyl compounds are preferable because they can obtain an optical film excellent in heat resistance and economy. Among these, styrene, alpha - methylstyrene is more preferable. Here, the amount of the aromatic vinyl compounds to be used is preferably 1 to 50 parts by mass, more preferably 2 to 30 parts by mass, per 100 parts by mass of methyl methacrylate.

또한, 상기 다른 단량체로서는, 불포화 카르복시산 무수물류를 사용함으로써 내열성이 우수한 광학 필름이 얻어지는 효과를 기대할 수 있다. 불포화 카르복시산 무수물류 중에서도 무수 말레산이 바람직하다. 여기에서, 불포화 카르복시산 무수물류의 사용량은, 메타크릴산메틸 100질량부에 대해, 1∼100질량부가 바람직하며, 5∼90질량부가 보다 바람직하다.As the other monomer, an effect that an optical film excellent in heat resistance can be obtained by using an unsaturated carboxylic acid anhydride can be expected. Of the unsaturated carboxylic acid anhydrides, maleic anhydride is preferred. Here, the amount of the unsaturated carboxylic acid anhydrides to be used is preferably 1 to 100 parts by mass, more preferably 5 to 90 parts by mass, per 100 parts by mass of methyl methacrylate.

본 발명에서 사용하는 중합체(A)는, (메타)아크릴산이나, (메타)아크릴산알킬에스테르를 단독으로 사용해도 되며, 2종 이상을 병용해도 된다. 또한, 상기 다른 단량체에 대해서도 단독으로 사용해도 되며, 2종 이상을 병용해도 된다.As the polymer (A) used in the present invention, (meth) acrylic acid and (meth) acrylic acid alkyl ester may be used alone or in combination of two or more. The other monomers may be used alone or in combination of two or more.

본 발명에서 사용하는 중합체(A)의 중량 평균 분자량은, 50,000∼200,000이, 강도가 있는 광학 필름 등의 성형품이 얻어지며, 또한, 유동성이 충분하고, 성형 가공성도 우수한 수지 조성물이 얻어지므로 바람직하며, 70,000∼150,000이 보다 바람직하다.The weight average molecular weight of the polymer (A) used in the present invention is preferably 50,000 to 200,000, because a molded article such as an optical film having strength can be obtained, a resin composition having sufficient fluidity and excellent moldability can be obtained, , And more preferably from 70,000 to 150,000.

또한, 본 발명에서 사용하는 중합체(A)의 수평균 분자량은, 15,000∼100,000이 바람직하며, 20,000∼50,000이 보다 바람직하다.The number average molecular weight of the polymer (A) used in the present invention is preferably from 15,000 to 100,000, more preferably from 20,000 to 50,000.

여기에서, 본 발명에 있어서, 중량 평균 분자량(Mw) 및 수평균 분자량(Mn)은 GPC 측정에 의거해 폴리스티렌 환산한 값이다. 또, GPC의 측정 조건은 이하와 같다.Here, in the present invention, the weight average molecular weight (Mw) and the number average molecular weight (Mn) are values converted to polystyrene on the basis of GPC measurement. The measurement conditions of GPC are as follows.

[GPC 측정 조건][Conditions for measuring GPC]

측정 장치 : 도소가부시키가이샤제 「HLC-8220 GPC」Measurement apparatus: "HLC-8220 GPC" manufactured by Tosoh Corporation

칼럼 : 도소가부시키가이샤제 가드 칼럼 「HHR-H」(6.0㎜ I.D.×4㎝)+도소가부시키가이샤제 「TSK-GEL GMHHR-N」(7.8㎜ I.D.×30㎝)+도소가부시키가이샤제 「TSK-GEL GMHHR-N」(7.8㎜ I.D.×30㎝)+도소가부시키가이샤제 「TSK-GEL GMHHR-N」(7.8㎜ I.D.×30㎝)+도소가부시키가이샤제 「TSK-GEL GMHHR-N」(7.8㎜ I.D.×30㎝)Column: " HHR-H " (6.0 mm ID x 4 cm) manufactured by Tosoh Corporation; TSK-GEL GMHHR- N (7.8 mm ID x 30 cm) manufactured by Tosoh Corporation; "TSK-GEL GMHHR-N" (7.8 mm ID x 30 cm) manufactured by Tosoh Corporation, "TSK-GEL GMHHR-N" (7.8 mm ID x 30 cm) manufactured by Tokushu Kika Kogyo Co., TSK-GEL GMHHR-N "(7.8 mm ID x 30 cm)

검출기 : ELSD(오르테크제 「ELSD2000」)Detector: ELSD (ELSD2000 manufactured by Ortech)

데이터 처리 : 도소가부시키가이샤제 「GPC-8020 모델Ⅱ 데이터 해석 버전 4.30」Data processing: "GPC-8020 Model II Data Interpretation Version 4.30" manufactured by Tosoh Corporation

측정 조건 : 칼럼 온도 40℃Measuring conditions : Column temperature 40 ℃

전개 용매 테트라히드로퓨란(THF) Developing solvent Tetrahydrofuran (THF)

유속 1.0㎖/분 Flow rate 1.0 ml / min

시료 : 수지 고형분 환산으로 1.0질량%의 테트라히드로퓨란 용액을 마이크로 필터로 여과한 것(5㎕).Sample: A tetrahydrofuran solution of 1.0% by mass in terms of resin solid matter was filtered with a microfilter (5)).

표준 시료 : 상기 「GPC-8020 모델Ⅱ 데이터 해석 버전 4.30」의 측정 매뉴얼에 준거해서, 분자량이 기지(旣知)인 하기의 단분산 폴리스티렌을 사용했다.Standard samples: The following monodisperse polystyrene having a known molecular weight was used in accordance with the measurement manual of "GPC-8020 Model II Data Analysis Version 4.30".

(단분산 폴리스티렌)(Monodisperse polystyrene)

도소가부시키가이샤제 「A-500」&Quot; A-500 " manufactured by Tosoh Corporation

도소가부시키가이샤제 「A-1000」&Quot; A-1000 " manufactured by Tosoh Corporation

도소가부시키가이샤제 「A-2500」Quot; A-2500 " manufactured by Tosoh Corporation

도소가부시키가이샤제 「A-5000」Quot; A-5000 " manufactured by Tosoh Corporation

도소가부시키가이샤제 「F-1」Quot; F-1 " manufactured by Tosoh Corporation

도소가부시키가이샤제 「F-2」Quot; F-2 " manufactured by Tosoh Corporation

도소가부시키가이샤제 「F-4」Quot; F-4 " manufactured by Tosoh Corporation

도소가부시키가이샤제 「F-10」Quot; F-10 " manufactured by Tosoh Corporation

도소가부시키가이샤제 「F-20」Quot; F-20 " manufactured by Tosoh Corporation

도소가부시키가이샤제 「F-40」Quot; F-40 " manufactured by Tosoh Corporation

도소가부시키가이샤제 「F-80」Quot; F-80 " manufactured by Tosoh Corporation

도소가부시키가이샤제 「F-128」&Quot; F-128 " manufactured by Tosoh Corporation

도소가부시키가이샤제 「F-288」&Quot; F-288 " manufactured by Tosoh Corporation

도소가부시키가이샤제 「F-550」Quot; F-550 " manufactured by Tosoh Corporation

본 발명에서 사용하는 중합체(A)를 제조하는 방법으로서는, 예를 들면, 캐스트 중합, 괴상(塊狀) 중합, 현탁 중합, 용액 중합, 유화 중합, 음이온 중합 등의 각종 중합 방법을 사용할 수 있다. 제조 방법 중에서도, 괴상 중합이나 용액 중합이, 미소한 이물의 혼입이 적은 중합체가 얻어지므로 바람직하다. 용액 중합을 행할 경우에는, 원료의 혼합물을 톨루엔, 에틸벤젠 등의 방향족 탄화수소의 용매에 용해해서 조정한 용액을 사용할 수 있다. 괴상 중합에 의해 중합시킬 경우에는, 통상적으로 행해지는 바와 같이 가열에 의해 생기는 유리(遊離) 라디칼이나 전리성 방사선 조사에 의해 중합을 개시시킬 수 있다.As the method for producing the polymer (A) used in the present invention, various polymerization methods such as cast polymerization, bulk polymerization, suspension polymerization, solution polymerization, emulsion polymerization and anionic polymerization can be used. Of the production methods, bulk polymerization or solution polymerization is preferable because a polymer having little foreign matter can be obtained. When solution polymerization is carried out, a solution prepared by dissolving a mixture of raw materials in a solvent of an aromatic hydrocarbon such as toluene or ethylbenzene can be used. When polymerization is carried out by bulk polymerization, polymerization can be initiated by free radicals generated by heating or by ionizing radiation, as is normally done.

상기 중합 반응에 사용되는 개시제로서는, 일반적으로 라디칼 중합에 있어서 사용되는 임의의 개시제를 사용할 수 있으며, 예를 들면, 아조비스이소부틸니트릴 등의 아조 화합물; 벤조일퍼옥사이드, 라우로일퍼옥사이드, t-부틸퍼옥시-2-에틸헥사노에이트 등의 유기 과산화물 등이 사용된다. 중합할 때에, 90℃ 이상의 고온 하에서 중합을 행하게 할 경우에는, 용액 중합이 일반적이므로, 10시간 반감기 온도가 80℃ 이상이며 또한 사용하는 유기 용매에 가용(可溶)인 과산화물, 아조비스 개시제 등이 바람직하며, 구체적으로는 1,1-비스(t-부틸퍼옥시)3,3,5-트리메틸시클로헥산, 시클로헥산퍼옥사이드, 2,5-디메틸-2,5-디(벤조일퍼옥시)헥산, 1,1-아조비스(1-시클로헥산카르보니트릴), 2-(카르바모일아조)이소부티로니트릴 등을 들 수 있다. 이들 개시제는 0.005∼5질량%의 범위에서 사용된다.As the initiator used in the polymerization reaction, any initiator generally used in radical polymerization can be used, and examples thereof include azo compounds such as azobisisobutylnitrile; Organic peroxides such as benzoyl peroxide, lauroyl peroxide, t-butyl peroxy-2-ethylhexanoate and the like are used. When the polymerization is carried out at a high temperature of 90 占 폚 or higher in the polymerization, since the solution polymerization is generally carried out, the peroxide and azobis initiator, which are soluble in the organic solvent used for 10 hours at a half- Specific examples thereof include 1,1-bis (t-butylperoxy) 3,3,5-trimethylcyclohexane, cyclohexaneperoxide, 2,5-dimethyl-2,5-di (benzoylperoxy) , 1,1-azobis (1-cyclohexanecarbonitrile), 2- (carbamoyl azo) isobutyronitrile, and the like. These initiators are used in the range of 0.005 to 5 mass%.

본 발명에서 사용하는 중합체(A)를 중합할 때에는, 필요에 따라서 분자량조정제를 사용해도 된다. 상기 분자량조절제는, 일반적인 라디칼 중합에 있어서 사용하는 임의의 것이 사용되며, 예를 들면, 부틸메르캅탄, 옥틸메르캅탄, 도데실메르캅탄, 티오글리콜산2-에틸헥실 등의 메르캅탄 화합물을 특히 바람직한 것으로서 들 수 있다. 이들 분자량조절제는, 중합도가 상기한 범위 내로 제어되는 바와 같은 농도 범위에서 첨가된다.When the polymer (A) used in the present invention is polymerized, a molecular weight adjuster may be used if necessary. As the molecular weight regulator, any one used in general radical polymerization can be used. For example, a mercaptan compound such as butyl mercaptan, octyl mercaptan, dodecyl mercaptan, 2-ethylhexyl thioglycolate, etc., . These molecular weight regulators are added in such a concentration range that the polymerization degree is controlled within the above range.

본 발명에서 사용하는 화합물(B)은, 하기 일반식(1)The compound (B) used in the present invention is a compound represented by the following general formula (1)

Figure pct00002
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(식 중, A1, A2는 각각 독립적으로 탄소 원자수 1∼8의 알킬기 또는 탄소 원자수 6∼18의 아릴기이다. R1∼R4은, 각각 독립적으로 탄소 원자수 1∼3의 알킬기이다. X1, X2는 각각 독립적으로 2가의 연결기이다)(Wherein A 1 and A 2 each independently represent an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms or an aryl group having 6 to 18 carbon atoms.) Each of R 1 to R 4 independently represents an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms X 1 and X 2 are each independently a divalent linking group)

으로 표시되는 바와 같이, 비페놀 골격을 포함한다. 비페닐 골격을 가짐에 의해 아크릴계 수지의 광탄성 계수의 절대값을 작게 한다는 효과를 기대할 수 있다. 또한, 말단이 상기 A1나 A2로 봉지되어 있음에 의해, 보존안정성 등의 안정성이 우수한 수지 조성물로 된다.Lt; / RTI > includes a biphenol skeleton, as shown by the following formula. The effect of reducing the absolute value of the photoelastic coefficient of the acrylic resin by having the biphenyl skeleton can be expected. Further, since the terminal is encapsulated with the above-mentioned A 1 or A 2 , a resin composition excellent in stability such as storage stability can be obtained.

상기 본 발명에서 사용하는(비페놀 골격을 포함한다) 화합물(B) 중의 X1, X2는 동일한 것이어도 되며, 달라도 된다. 상기 X1, X2로서는, 예를 들면, 에스테르기, 에테르기, 티오에테르기, 아미노기, 이미노기 등을 들 수 있다. 그 중에서도 아크릴 수지에의 상용성(相溶性)의 이유에서, 에스테르기 또는 에테르기가 바람직하다.X 1 and X 2 in the compound (B) (including the biphenol skeleton) used in the present invention may be the same or different. Examples of X 1 and X 2 include an ester group, an ether group, a thioether group, an amino group, and an imino group. Among them, an ester group or an ether group is preferable for reasons of compatibility with an acrylic resin.

상기 A1, A2의 구체적인 예인 탄소 원자수 1∼8의 알킬기로서는, 예를 들면, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, 이소부틸기, sec-부틸기, t-부틸기, n-펜틸기, 이소펜틸기, t-펜틸기, 시클로펜틸기, n-헥실기, 이소헥실기, 2-헥실기, 디메틸부틸기, 에틸부틸기, 시클로헥실기, 헵틸기, 옥틸기 등을 들 수 있다. 탄소 원자수 6∼18의 아릴기로서는, 예를 들면, 페닐기, 벤질기, 톨릴기, 2,4,6-트리메틸페닐기, tert-부틸페닐, 2,4-디tert-부틸페닐기, 2,6-디tert-부틸페닐기, 나프틸기 등을 들 수 있다. 그 중에서도, 보존안정성 등의 안정성이 우수한 수지 조성물로 되므로, 페닐기, 톨릴기가 바람직하다.Examples of the alkyl group having 1 to 8 carbon atoms which are specific examples of A 1 and A 2 include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, an isobutyl group, Butyl group, n-pentyl group, isopentyl group, t-pentyl group, cyclopentyl group, n-hexyl group, isohexyl group, 2-hexyl group, dimethylbutyl group, ethylbutyl group, cyclohexyl group, Octyl group and the like. Examples of the aryl group having 6 to 18 carbon atoms include a phenyl group, a benzyl group, a tolyl group, a 2,4,6-trimethylphenyl group, a tert-butylphenyl group, a 2,4-ditert- A ditert-butylphenyl group, and a naphthyl group. Among them, a resin composition excellent in stability such as storage stability is preferable, and therefore, a phenyl group and a tolyl group are preferable.

상기 본 발명에서 사용하는 화합물(B)의 구체예로서는, 예를 들면, 하기 일반식으로 표시되는 화합물 등을, 본 발명의 효과를 나타냄과 함께 용이하게 얻을 수 있으므로 바람직하게 예시할 수 있다.As specific examples of the compound (B) used in the present invention, for example, a compound represented by the following general formula can be easily exemplified because it can be easily obtained together with the effect of the present invention.

Figure pct00003
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(식 중, L1, L2은 각각 독립적으로 탄소 원자수 1∼8의 알킬기 또는 탄소 원자수 6∼18의 아릴기이다. R1∼R4은, 각각 독립적으로 탄소 원자수 1∼3의 알킬기이다)(Wherein L 1 and L 2 each independently represent an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms or an aryl group having 6 to 18 carbon atoms), R 1 to R 4 each independently represent an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms Alkyl group)

상기 일반식(1-1)으로 표시되는 화합물은, 예를 들면, 비페닐 골격을 갖는 에폭시 화합물과, 탄소 원자수 2∼8의 알킬기를 갖는 모노 카르복시산 또는, 탄소 원자수 7∼18의 방향족 모노 카르복시산을 반응시킴에 의해 얻을 수 있다. 또한, 상기 일반식(1-2)으로 표시되는 화합물은, 예를 들면, 비페닐 골격을 갖는 에폭시 화합물과, 탄소 원자수 1∼8의 알킬기를 갖는 모노 알코올 또는 그 알콕시드 유도체, 탄소 원자수 6∼18의 방향족 모노 알코올을 반응시킴에 의해 얻을 수 있다.The compound represented by the above general formula (1-1) can be obtained, for example, by reacting an epoxy compound having a biphenyl skeleton with a monocarboxylic acid having an alkyl group of 2 to 8 carbon atoms or an aromatic mono By reacting a carboxylic acid. The compound represented by the above general formula (1-2) can be obtained, for example, by reacting an epoxy compound having a biphenyl skeleton with a monohydric alcohol having an alkyl group of 1 to 8 carbon atoms or an alkoxide derivative thereof, Or an aromatic monoalcohol having 6 to 18 carbon atoms.

상기 비페닐 골격을 갖는 에폭시 화합물로서는, 예를 들면, 비페놀류와 에피클로로히드린과의 반응에 의해서 얻어지는 디글리시딜에테르형의 에폭시 화합물 등을 들 수 있다. 이 에폭시 화합물의 구체적인 예로서, 3,3',5,5'-테트라메틸-4,4'-디글리시딜옥시비페닐(시판품으로는, 재팬에폭시레진가부시키가이샤제 「jER YX-4000」(에폭시 당량 180∼192)) 등의 비페놀형 에폭시 화합물을 사용할 수 있다.Examples of the epoxy compound having a biphenyl skeleton include a diglycidyl ether type epoxy compound obtained by the reaction of non-phenols and epichlorohydrin. Specific examples of the epoxy compound include 3,3 ', 5,5'-tetramethyl-4,4'-diglycidyloxybiphenyl (commercially available from Japan Epoxy Resin Co., Ltd., "jER YX-4000 (Epoxy equivalent: 180 to 192)) can be used.

상기 탄소 원자수 2∼8의 알킬기를 갖는 모노 카르복시산으로서는, 예를 들면, 아세트산, 프로피온산, 부탄산, 헥산산, 옥탄산 등을 들 수 있다. 상기 탄소 원자수 7∼18의 방향족 모노 카르복시산으로서는, 예를 들면, 벤조산, 디메틸벤조산, 트리메틸벤조산, 테트라메틸벤조산, 에틸벤조산, 프로필벤조산, 쿠민산, o-톨루일산, m-톨루일산, p-톨루일산, 아니스산, 에톡시벤조산, 프로폭시벤조산, 시아노벤조산, 플루오로벤조산, 니트로벤조산, 4-페닐벤조산, 4-(3-메틸페닐)벤조산, 4-(4-메틸페닐)벤조산, 4-(3,5-디메틸페닐)벤조산, 2-메틸-4-페닐벤조산, 2,6-디메틸-4-페닐벤조산, 2,6-디메틸-4-(3,5-디메틸페닐)벤조산, 나프토산, 니코틴산, 푸로산, 1-나프탈렌카르복시산, 2-나프탈렌카르복시산 등을 들 수 있다. 탄소 원자수 2∼8의 알킬기를 갖는 모노 카르복시산이나 상기 탄소 원자수 7∼18의 방향족 모노 카르복시산은, 단독으로 사용할 수도 있고 2종 이상 병용할 수도 있다. 또, 본 발명에 있어서, 「탄소 원자수 2∼8의 알킬기를 갖는 모노 카르복시산」의 탄소 원자수는, 카르보닐기의 탄소 원자수도 수에 포함한다. 또한, 「탄소 원자수 7∼18의 방향족 모노 카르복시산」의 탄소 원자수에 대해서도 카르보닐기의 탄소 원자수를 수에 포함한다.Examples of the monocarboxylic acid having an alkyl group of 2 to 8 carbon atoms include acetic acid, propionic acid, butanoic acid, hexanoic acid, octanoic acid and the like. Examples of the aromatic monocarboxylic acid having 7 to 18 carbon atoms include benzoic acid, dimethylbenzoic acid, trimethylbenzoic acid, tetramethylbenzoic acid, ethylbenzoic acid, propylbenzoic acid, cuminic acid, o-toluic acid, m- Benzoic acid, 4- (4-methylphenyl) benzoic acid, 4- (4-methylphenyl) benzoic acid, 4- (3,5-dimethylphenyl) benzoic acid, 2,6-dimethyl-4-phenylbenzoic acid, 2,6- , Nicotinic acid, furoic acid, 1-naphthalenecarboxylic acid, 2-naphthalenecarboxylic acid and the like. The monocarboxylic acid having an alkyl group of 2 to 8 carbon atoms or the aromatic monocarboxylic acid having 7 to 18 carbon atoms may be used singly or in combination of two or more. In the present invention, the number of carbon atoms of the "monocarboxylic acid having an alkyl group of 2 to 8 carbon atoms" is included in the number of carbon atoms of the carbonyl group. In addition, the number of carbon atoms in the carbonyl group is included in the number with respect to the number of carbon atoms in the " aromatic monocarboxylic acid having 7 to 18 carbon atoms ".

상기 탄소 원자수 1∼8의 알킬기를 갖는 모노 알코올로서는, 예를 들면, 메탄올, 에탄올, n-프로판올, 이소프로판올, n-부탄올, 이소부틸알코올, sec-부틸알코올, t-부틸알코올, n-펜탄올, 이소펜틸알코올, t-펜틸알코올, 시클로펜탄올, n-헥산올, 이소헥산올, 시클로헥산올, 헵탄올, 옥탄올 등을 들 수 있다. 상기 탄소 원자수 6∼18의 방향족 모노 알코올로서는, 예를 들면, 페놀, 벤질알코올, 메틸페놀, 2,4,6-트리메틸페놀, tert-부틸페놀, 2,4-디tert-부틸페놀, 2,6-디tert-부틸페놀, 1-나프톨, 2-나프톨 등을 들 수 있다.Examples of the monoalcohol having an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms include alcohols having 1 to 8 carbon atoms such as methanol, ethanol, n-propanol, isopropanol, n-butanol, isobutyl alcohol, sec- Isopentyl alcohol, t-pentyl alcohol, cyclopentanol, n-hexanol, isohexanol, cyclohexanol, heptanol, and octanol. Examples of the aromatic monohydric alcohol having 6 to 18 carbon atoms include phenol, benzyl alcohol, methylphenol, 2,4,6-trimethylphenol, tert-butylphenol, 2,4-ditert- , 6-ditert-butylphenol, 1-naphthol, 2-naphthol and the like.

상기한 바와 같이, 일반식(1-1)으로 표시되는 화합물은, 예를 들면, 비페닐 골격을 갖는 에폭시 화합물과, 탄소 원자수 2∼8의 알킬기를 갖는 모노 카르복시산 또는 탄소 원자수 7∼18의 방향족 모노 카르복시산을 반응시킴에 의해 얻을 수 있다.As described above, the compound represented by the general formula (1-1) is, for example, an epoxy compound having a biphenyl skeleton, a monocarboxylic acid having an alkyl group having 2 to 8 carbon atoms, Of an aromatic monocarboxylic acid.

또한, 일반식(1-2)으로 표시되는 화합물은, 예를 들면, 비페닐 골격을 갖는 에폭시 화합물과, 탄소 원자수 1∼8의 알킬기를 갖는 모노 알코올 또는 탄소 원자수 6∼18의 방향족 모노 알코올을 반응시킴에 의해 얻을 수 있다. 상기 에폭시 화합물과, 상기 모노 카르복시산이나 상기 모노 알코올을 반응시킬 때의 반응 온도로서는, 80∼130℃의 범위가 바람직하며, 100℃∼115℃의 범위가 보다 바람직하다. 반응 시간으로서는, 10∼25시간의 범위가 바람직하다. 또한, 상기 에폭시 화합물과, 상기 모노 카르복시산이나 모노 알코올과의 투입비는, 에폭시 화합물의 에폭시기의 몰수와, 상기 모노 카르복시산의 몰수나 모노 알코올의 몰수의 비(에폭시기 몰수)/(모노 카르복시산의 몰수 또는 모노 알코올의 몰수)가, 1/0.9∼1.1의 범위인 것이 바람직하다.The compound represented by the general formula (1-2) is, for example, an epoxy compound having a biphenyl skeleton, a monoalcohol having an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms or an aromatic monoalcohol having 6 to 18 carbon atoms And then reacting with an alcohol. The reaction temperature for reacting the epoxy compound with the monocarboxylic acid or the monoalcohol is preferably in the range of 80 to 130 占 폚, and more preferably in the range of 100 占 폚 to 115 占 폚. The reaction time is preferably in the range of 10 to 25 hours. The ratio of the epoxy compound to the monocarboxylic acid or monoalcohol is preferably such that the ratio of the number of moles of the epoxy group of the epoxy compound to the number of moles of the monocarboxylic acid or of the monoalcohol (number of moles of the epoxy group) / (number of moles of the monocarboxylic acid, Number of moles of alcohol) is preferably in the range of 1 / 0.9 to 1.1.

상기 에폭시 화합물의 에폭시기와, 상기 모노 카르복시산의 카르복시기 또는 상기 모노 알코올의 수산기를 반응에 있어서, 필요에 따라 촉매를 사용해도 된다. 이 촉매로서는, 예를 들면, 트리메틸포스핀, 트리에틸포스핀, 트리부틸포스핀, 트리옥틸포스핀, 트리페닐포스핀 등의 포스핀 화합물; 2-메틸이미다졸, 2-에틸이미다졸, 2-이소프로필이미다졸, 2-에틸-4-메틸이미다졸, 4-페닐-2-메틸이미다졸 등의 이미다졸계 화합물; 트리에틸아민, 트리부틸아민, 트리헥실아민, 트리아밀아민, 트리에탄올아민, 디메틸아미노에탄올, 트리에틸렌디아민, 디메틸페닐아민, 디메틸벤질아민, 2-(디메틸아미노메틸)페놀, 1,8-디아자비시클로(5,4,0)운데센-7 등의 아민 화합물; 디메틸아미노피리딘 등의 피리딘 화합물 등을 들 수 있다. 이들 촉매는, 상기 에폭시 화합물 및 상기 방향족 모노 카르복시산의 합계 100질량부에 대해서 0.05∼1질량부 사용하는 것이 바람직하다.In the reaction of the epoxy group of the epoxy compound with the carboxyl group of the monocarboxylic acid or the hydroxyl group of the monohydric alcohol, a catalyst may be used if necessary. Examples of the catalyst include phosphine compounds such as trimethylphosphine, triethylphosphine, tributylphosphine, trioctylphosphine and triphenylphosphine; Imidazole compounds such as 2-methylimidazole, 2-ethylimidazole, 2-isopropylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole and 4-phenyl-2-methylimidazole; Examples of the amines include triethylamine, tributylamine, trihexylamine, triamylamine, triethanolamine, dimethylaminoethanol, triethylenediamine, dimethylphenylamine, dimethylbenzylamine, 2- (dimethylaminomethyl) phenol, Amine compounds such as cyclo (5,4,0) undecene-7; And pyridine compounds such as dimethylaminopyridine. These catalysts are preferably used in an amount of 0.05 to 1 part by mass based on 100 parts by mass of the total amount of the epoxy compound and the aromatic monocarboxylic acid.

상기 일반식(1-1)으로 표시되는 화합물이나 일반식(1-2)으로 표시되는 화합물 중에서도, L1, L2이 각각 페닐기 또는 톨릴기인 것이, 아크릴 수지에 대한 상용성이 양호하므로 바람직하다. 그 중에서도, 일반식(1-1)으로 표시되는 화합물에서 L1이 페닐기 또는 톨릴기인 것이 보다 바람직하다.Of the compounds represented by the general formula (1-1) and the compounds represented by the general formula (1-2), it is preferable that L 1 and L 2 are each a phenyl group or a tolyl group because of good compatibility with an acrylic resin . Among them, in the compound represented by the general formula (1-1), L 1 is more preferably a phenyl group or a tolyl group.

또한, 상기 일반식(1-1)으로 표시되는 화합물, 일반식(1-2)으로 표시되는 화합물에 있어서, R1∼R4은, 각각 메틸기가 중합체(A)와의 상용성이 우수한 화합물로 되므로 바람직하다.In the compounds represented by the general formula (1-1) and the compounds represented by the general formula (1-2), R 1 to R 4 are each a compound having a methyl group with excellent compatibility with the polymer (A) .

본 발명에서 사용하는 화합물(B)의 성상(性狀)은, 조성 등의 요인에 따라 다르지만, 통상적으로, 상온에서 액체, 고체, 페이스트상 등이다.The properties of the compound (B) used in the present invention vary depending on factors such as composition and the like, but are usually liquid, solid, paste or the like at room temperature.

본 발명의 광학 재료용 수지 조성물 중의 화합물(B)의 함유량은, 사용하는 중합체(A)의 광탄성 계수에도 따르지만, 수지 조성물의 광탄성 계수의 절대값을 작게 할 수 있으므로 상기 중합체 100질량부에 대해서 1∼10질량부가 바람직하며, 2∼8질량부가 보다 바람직하다.The content of the compound (B) in the resin composition for an optical material of the present invention depends on the photoelastic coefficient of the polymer (A) to be used, but since the absolute value of the photoelastic coefficient of the resin composition can be made small, To 10 parts by mass is preferable, and 2 parts by mass to 8 parts by mass is more preferable.

본 발명의 광학 필름은, 상기 본 발명의 광학 재료용 수지 조성물을 함유하는 것을 특징으로 한다. 본 발명의 광학 필름은, 광탄성 계수가 극히 작은 특징을 가지며, 구체적으로는 광탄성 계수의 절대값이 2.0×10-12/㎩ 이하, 보다 바람직하게는 1.0×10-12/㎩ 이하이다. 이렇게, 본 발명의 광학 필름은 광탄성 계수가 작고, 그 결과 외력에 의한 복굴절의 변화가 작아져, 외력에 의해 화면의 가시성이 변하기 어려운 액정 표시 장치를 제공할 수 있다.The optical film of the present invention is characterized by containing the above resin composition for an optical material of the present invention. The optical film of the present invention, the photoelastic coefficient has a very small feature, specifically, is the absolute value of photoelastic coefficient of 2.0 × 10 -12 / ㎩ or less, more preferably 1.0 × 10 -12 / ㎩ below. Thus, the optical film of the present invention has a small photoelastic coefficient, and as a result, the change of the birefringence due to the external force is small, and it is possible to provide a liquid crystal display device in which the visibility of the screen is hardly changed by external force.

본 발명에 있어서, 광탄성 계수는, 하기에 나타내는 방법으로 측정했다.In the present invention, the photoelastic coefficient was measured by the following method.

<광탄성 계수(CR)의 측정 방법>&Lt; Measurement method of photoelastic coefficient (C R )

본 발명의 광학 필름의 일례로서 연신해서 얻어지는 광학 필름을 사용해, 이 광학 필름을 연신 방향으로 폭 15㎜로 오려내, 측정 샘플을 얻는다. 이 측정 샘플을 광탄성 측정용 인장 지그(오지게이소쿠기키가부시키가이샤제)에 고정하고, 127.3g·f로부터 727.3g·f까지 100g·f마다 측정 샘플을 인장할 때의 가중(加重)을 변화시켜, 각각의 가중을 걸었을 때의 588㎚에 있어서의 면 내 위상차 변화를 위상차 측정 장치 KOBRA-WR(오지게이소쿠기키가부시키가이샤제)로 측정한다. 측정은 23℃, 상대 습도 55% 분위기 하에서 행한다.As an example of the optical film of the present invention, an optical film obtained by stretching is used, and this optical film is cut to a width of 15 mm in the stretching direction to obtain a measurement sample. The measurement sample was fixed on a tensile jig for photoelasticity measurement (manufactured by Oji Scientific Co., Ltd.), and the weight when tensile test of the measurement sample was performed every 100 g · f from 127.3 g · f to 727.3 g · f , And the in-plane retardation change at 588 nm when each weight is applied is measured by a phase difference measuring apparatus KOBRA-WR (manufactured by Oji Keiki Co., Ltd.). The measurement is carried out in an atmosphere of 23 ° C and a relative humidity of 55%.

본 발명의 광학 재료용 조성물을 사용함에 의해, 각종 광학용의 성형체의 제조에 사용할 수 있다. 그 중에서도, 필름상의 성형체(광학 필름)를 제조하는데 본 발명의 광학 재료용 조성물을 사용할 수 있다. 상기 광학 필름에 있어서, 예를 들면, 적어도 1축 방향으로 연신되어 있으며, 광탄성 계수의 절대값이 2(×10-12/㎩) 이하인 광학 필름은, 위상차 필름 등의 위상차를 필요로 하며 응력에 따른 복굴절의 변화가 작은 특성이 요구되는 용도에 호적하게 사용할 수 있다. 상기 위상차 필름으로서는, 광탄성 계수의 절대값이 1(×10-12/㎩) 이하인 광학 필름이 바람직하며, 광탄성 계수의 절대값이 0.5(×10-12/㎩) 이하인 광학 필름이 보다 바람직하다. 이러한 광학 필름의 TD 방향과 MD 방향의 연신 배율은, 목적에 따라서 적의(適宜) 선택하고, 상기 화합물(B)의 양을 조정함에 의해, 복굴절이 작은 광학적으로 등방인 광학 필름에서부터 복굴절이 큰 위상차 필름까지 얻을 수 있다.By using the composition for an optical material of the present invention, it can be used in the production of various optical molded articles. Among them, a composition for an optical material of the present invention can be used for producing a molded article (optical film) in a film form. In the above optical film, for example, an optical film stretched in at least one axial direction and having an absolute value of photoelastic coefficient of 2 (x 10 &lt; -12 &gt; / Pa) or less requires a retardation of a phase difference film or the like, Can be suitably used for applications requiring small characteristics. As the retardation film, an optical film having an absolute value of a photoelastic coefficient of 1 (x 10 -12 / Pa) or less is preferable, and an optical film having an absolute value of a photoelastic coefficient of 0.5 (x 10 -12 / Pa) or less is more preferable. The stretching magnification in the TD direction and the MD direction of such an optical film can be appropriately selected in accordance with the purpose and the amount of the compound (B) can be adjusted to adjust the retardation from the optically isotropic optical film having a small birefringence to the retardation Film can be obtained.

본 발명의 광학 재료용 수지 조성물에는, 상기 중합체(A) 이외의 중합체를, 본 발명의 목적을 손상시키지 않는 범위에서 혼합할 수 있다. 상기 중합체(A) 이외의 중합체로서는, 예를 들면, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌 등의 폴리올레핀; 폴리스티렌, 스티렌아크릴로니트릴 공중합체 등의 스티렌계 수지; 폴리아미드, 폴리페닐렌설파이드 수지, 폴리에테르에테르케톤 수지, 폴리에스테르 수지, 폴리설폰, 폴리페닐렌옥사이드, 폴리이미드, 폴리에테르이미드, 폴리아세탈 등의 열가소성 수지; 및 페놀 수지, 멜라민 수지, 실리콘 수지, 에폭시 수지 등의 열경화성 수지 등을 들 수 있다. 이들은 1종류를 혼합해도 되며, 2종 이상을 혼합해도 된다.In the resin composition for an optical material of the present invention, a polymer other than the polymer (A) may be blended to the extent that the object of the present invention is not impaired. Examples of the polymer other than the polymer (A) include polyolefins such as polyethylene and polypropylene; Styrenic resins such as polystyrene and styrene acrylonitrile copolymer; Thermoplastic resins such as polyamide, polyphenylene sulfide resin, polyether ether ketone resin, polyester resin, polysulfone, polyphenylene oxide, polyimide, polyetherimide and polyacetal; And thermosetting resins such as phenol resin, melamine resin, silicone resin, and epoxy resin. These may be mixed with one kind or two or more kinds.

추가로, 본 발명의 효과를 현저하게 손상시키지 않는 범위 내에서, 각종 목적에 따라 임의의 첨가제를 배합할 수 있다. 첨가제의 종류는, 수지나 고무상 중합체의 배합에 일반적으로 사용되는 것이면 특히 제한은 없다. 첨가제로서는, 예를 들면, 무기 충전제, 산화철 등의 안료; 스테아르산, 베헨산, 스테아르산아연, 스테아르산칼슘, 스테아르산마그네슘, 에틸렌비스스테아로아미드 등의 활제(滑劑); 이형제(離型劑); 파라핀계 프로세스 오일, 나프텐계 프로세스 오일, 방향족계 프로세스 오일, 파라핀, 유기 폴리실록산, 미네랄 오일 등의 연화제·가소제; 힌더드 페놀계 산화방지제, 인계 열안정제, 락톤계 열안정제, 비타민E계 열안정제 등의 산화방지제; 힌더드 아민계 광안정제, 벤조에이트계 광안정제 등의 광안정제; 벤조페논계 자외선흡수제, 트리아진계 자외선흡수제, 벤조트리아졸계 자외선흡수제 등의 자외선흡수제; 난연제; 대전방지제; 유기 섬유, 유리 섬유, 탄소 섬유, 금속 위스커 등의 보강제; 착색제, 그 외 첨가제 또는 이들의 혼합물 등을 들 수 있다.In addition, optional additives may be added according to various purposes within a range not significantly impairing the effect of the present invention. The kind of the additive is not particularly limited as long as it is generally used in the formulation of resin or rubber-like polymer. Examples of the additive include pigments such as inorganic fillers and iron oxides; Lubricants such as stearic acid, behenic acid, zinc stearate, calcium stearate, magnesium stearate and ethylene bisstearoamide; A releasing agent; Softeners and plasticizers such as paraffinic process oil, naphthenic process oil, aromatic process oil, paraffin, organopolysiloxane and mineral oil; Antioxidants such as hindered phenol-based antioxidants, phosphorus-based heat stabilizers, lactone-based heat stabilizers, and vitamin E-based heat stabilizers; Light stabilizers such as hindered amine light stabilizers and benzoate light stabilizers; Ultraviolet absorbers such as benzophenone-based ultraviolet absorbers, triazine-based ultraviolet absorbers, and benzotriazole-based ultraviolet absorbers; Flame retardant; An antistatic agent; Reinforcing agents such as organic fibers, glass fibers, carbon fibers, and metal whiskers; Colorants, other additives, or mixtures thereof.

본 발명의 광학 재료용 수지 조성물은, 상기 중합체(A)와 화합물(B)을 함유하면 되며, 그 제조 방법은 특히 제한이 없다. 구체적으로는, 예를 들면, 상기 중합체(A)와 화합물(B)과, 필요에 따라서 상기 첨가제를 단축(單軸) 압출기, 2축 압출기, 밴버리 믹서, 브라벤더, 각종 니더 등의 용융 혼련기를 사용해서 용융 혼련하는 방법에 의해 얻을 수 있다.The resin composition for an optical material of the present invention may contain the polymer (A) and the compound (B), and the production method thereof is not particularly limited. Specifically, the polymer (A), the compound (B) and, if necessary, the above-mentioned additives are melt-kneaded in a single-screw extruder, a twin-screw extruder, a Banbury mixer, a Brabender, And then melt-kneading the mixture.

본 발명의 광학 필름은, 본 발명의 광학 재료용 수지 조성물을 함유하는 것을 특징으로 한다. 본 발명의 광학 필름을 얻기 위해서는, 예를 들면, 압출 성형, 캐스트 성형 등의 방법이 사용된다. 구체적으로는, 예를 들면, T다이, 원형 다이 등이 장착된 압출기 등을 사용해서, 미연신 상태의 광학 필름을 압출 성형할 수 있다. 압출 성형에 의해 본 발명의 광학 필름을 얻는 경우는, 사전에 상기 중합체(A), 화합물(B)을 용융 혼련해서 얻어지는 본 발명의 광학 재료용 수지 조성물을 사용할 수도 있고, 압출 성형 시에 중합체(A)와 화합물(B)을 용융 혼련해, 그대로 압출 성형할 수도 있다. 또한, 상기 중합체(A) 및 화합물(B) 성분을 용해하는 용매를 사용해서, 상기 중합체(A), 화합물(B)을 당해 용매 중에 용해해, 소위 도프액을 얻은 후, 캐스트 성형하는 용액 유연법(流延法)(솔벤트 캐스트법)에 의해 미연신 상태의 본 발명의 광학 필름을 얻을 수도 있다.The optical film of the present invention is characterized by containing the resin composition for an optical material of the present invention. In order to obtain the optical film of the present invention, for example, extrusion molding, cast molding or the like is used. Specifically, for example, an optical film in an unstretched state can be extruded using an extruder equipped with a T-die, a circular die or the like. When the optical film of the present invention is obtained by extrusion molding, the resin composition for optical material of the present invention obtained by previously melt-kneading the polymer (A) and the compound (B) may be used, A) and the compound (B) may be melt-kneaded and extrusion-molded as they are. The polymer (A) and the compound (B) are dissolved in the solvent to obtain a so-called dope solution using a solvent dissolving the polymer (A) and the compound (B) It is also possible to obtain the optical film of the present invention in an unstretched state by a casting method (solvent casting method).

이하에, 용액 유연법에 대하여, 상세히 기술한다. 용액 유연법으로 얻어지는 광학 필름은, 실질적으로 광학 등방성을 나타낸다. 상기 광학 등방성을 나타내는 필름은, 예를 들면 액정 디스플레이 등의 광학 재료에 사용할 수 있으며, 그 중에서도 편광판용 보호 필름에 유용하다. 또한, 상기 방법에 의해서 얻어진 필름은, 그 표면에 요철이 형성되기 어려워, 표면평활성이 우수하다.Hereinafter, the solution casting method will be described in detail. The optical film obtained by the solution casting method exhibits substantially optical isotropy. The film exhibiting optical isotropy can be used, for example, in an optical material such as a liquid crystal display, and is particularly useful for a protective film for a polarizing plate. In addition, the film obtained by the above method is unlikely to have irregularities on its surface, and has excellent surface smoothness.

상기 용액 유연법은, 일반적으로, 상기 중합체(A)와 상기 화합물(B)을 유기 용제 중에 용해시켜, 얻어진 수지 용액을 금속 지지체 상에 유연시키는 제1 공정과, 유연시킨 상기 수지 용액 중에 포함되는 유기 용제를 증류 제거하고 건조시켜서 필름을 형성하는 제2 공정, 그에 이어, 금속 지지체 상에 형성된 필름을 금속 지지체로부터 박리하고 가열 건조시키는 제3 공정으로 이루어진다.The solution casting method generally includes a first step of dissolving the polymer (A) and the compound (B) in an organic solvent, and then causing the obtained resin solution to be softened on a metal support; A second step of removing the organic solvent by distillation and drying to form a film, followed by a third step of peeling off the film formed on the metal support and drying by heating.

상기 제1 공정에서 사용하는 금속 지지체로서는, 무단(無端)벨트상 또는 드럼상의 금속제의 것 등을 예시할 수 있으며, 예를 들면, 스테인리스제이고 그 표면이 경면 마감이 실시된 것을 사용할 수 있다.Examples of the metal support used in the first step include those made of metal on an endless belt or a drum, and for example, those made of stainless steel and having a mirror-finished surface can be used.

상기 금속 지지체 상에 수지 용액을 유연시킬 때에는, 얻어지는 필름에 이물이 혼입하는 것을 방지하기 위하여, 필터로 여과한 수지 용액을 사용하는 것이 바람직하다.When the resin solution is to be softened on the metal support, it is preferable to use a resin solution that has been filtered with a filter in order to prevent foreign matters from mixing into the obtained film.

상기 제2 공정의 건조 방법으로서는, 특히 한정하지 않지만, 예를 들면 30∼50℃의 온도 범위의 바람을 상기 금속 지지체의 상면 및/또는 하면에 쏘임으로써, 유연(流延)한 상기 수지 용액 중에 포함되는 유기 용제의 50∼80질량%를 증발시켜, 상기 금속 지지체 상에 필름을 형성시키는 방법을 들 수 있다.The drying method of the second step is not particularly limited, but for example, by blowing wind at a temperature range of 30 to 50 DEG C on the upper and / or lower surface of the metal support, And evaporating 50 to 80% by mass of the organic solvent to form a film on the metal support.

다음으로, 상기 제3 공정은, 상기 제2 공정에서 형성된 필름을 금속 지지체 상으로부터 박리하고, 상기 제2 공정보다도 높은 온도 조건 하에서 가열 건조시키는 공정이다. 상기 가열 건조 방법으로서는, 예를 들면 100∼160℃의 온도 조건에서 단계적으로 온도를 상승시키는 방법이, 양호한 치수 안정성을 얻을 수 있기 때문에, 바람직하다. 상기 온도 조건에서 가열 건조함에 의해, 상기 제2 공정 후의 필름 중에 잔존하는 유기 용제를 거의 완전하게 제거할 수 있다.Next, the third step is a step of peeling off the film formed in the second step from the metal support, and heating and drying under a temperature condition higher than that in the second step. As the heating and drying method, for example, a method of raising the temperature stepwise at a temperature of 100 to 160 캜 is preferable because good dimensional stability can be obtained. By heating and drying under the above temperature conditions, the organic solvent remaining in the film after the second step can be almost completely removed.

또, 상기 제1 공정∼제3 공정에서, 유기 용매는 회수해 재사용하는 것도 가능하다.In the first to third steps, the organic solvent may be recovered and reused.

상기 중합체(A)와 상기 화합물(B)을 유기 용제에 혼합시켜 용해할 때에 사용할 수 있는 유기 용제로서는, 그들을 용해 가능한 것이면 특히 한정하지 않지만, 예를 들면, 클로로포름, 이염화메틸렌, 염화메틸렌 등의 용매를 들 수 있다.Examples of the organic solvent that can be used when the polymer (A) and the compound (B) are mixed in an organic solvent and dissolve are not particularly limited as long as they are soluble. Examples thereof include chloroform, methylene dichloride, methylene chloride Solvent.

상기 수지 용액 중의 중합체(A)의 농도는, 10∼50질량%가 바람직하며, 15∼35질량%가 보다 바람직하다.The concentration of the polymer (A) in the resin solution is preferably from 10 to 50 mass%, more preferably from 15 to 35 mass%.

본 발명의 광학 필름의 막두께는, 20∼120㎛의 범위가 바람직하며, 25∼100㎛의 범위가 보다 바람직하고, 25∼80㎛의 범위가 특히 바람직하다.The film thickness of the optical film of the present invention is preferably in the range of 20 to 120 占 퐉, more preferably in the range of 25 to 100 占 퐉, and particularly preferably in the range of 25 to 80 占 퐉.

본 발명에 있어서는, 예를 들면, 상기한 방법으로 얻어지는 미연신 상태의 광학 필름을 필요에 따라서, 기계적 흐름 방향으로 종 1축 연신, 기계적 흐름 방향으로 직행하는 방향으로 횡 1축 연신함으로써 연신된 광학 필름을 얻을 수 있다. 또한, 롤 연신과 텐터 연신의 축차 2축 연신법, 텐터 연신에 의한 동시 2축 연신법, 튜블러 연신에 의한 2축 연신법 등에 의해서 연신함에 의해 2축 연신된 연신 필름을 얻을 수 있다. 연신 배율은 적어도 어느 한쪽 방향으로 0.1% 이상 1000% 이하인 것이 바람직하며, 0.2% 이상 600% 이하인 것이 더 바람직하고, 0.3% 이상 300% 이하인 것이 특히 바람직하다. 이 범위로 설계함에 의해, 복굴절, 내열성, 강도의 관점에서 바람직한 연신된 광학 필름이 얻어진다.In the present invention, for example, an unstretched optical film obtained by the above-described method is subjected to longitudinal uniaxial stretching in a mechanical flow direction and transverse uniaxial stretching in a direction perpendicular to a mechanical flow direction, A film can be obtained. Further, a stretched film obtained by biaxial stretching can be obtained by stretching by roll biaxial stretching, biaxial stretching by tenter stretching, biaxial stretching by tubular stretching, and the like. The stretching magnification is preferably 0.1% or more and 1000% or less in at least one direction, more preferably 0.2% or more and 600% or less, and particularly preferably 0.3% or more and 300% or less. By design in this range, a stretched optical film preferable in view of birefringence, heat resistance, and strength can be obtained.

본 발명에 따른 광학 필름은, 광학 재료로서, 액정 표시 장치, 플라스마 디스플레이, 유기 EL 디스플레이, 필드 이미션 디스플레이, 리어 프로젝션 텔레비전 등의 디스플레이에 사용되는 편광판 보호 필름, 1/4 파장판, 1/2 파장판, 시야각 제어 필름, 액정 광학 보상 필름 등의 위상차 필름, 디스플레이 전면판 등에 호적하게 사용할 수 있다. 또한, 본 발명의 광학 재료용 수지 조성물은, 그 밖에도, 광통신 시스템, 광교환 시스템, 광계측 시스템의 분야에 있어서, 도파로, 렌즈, 광파이버, 광파이버의 기재, 피복 재료, LED의 렌즈, 렌즈 커버 등에도 사용할 수 있다.The optical film according to the present invention can be used as a polarizing plate protective film used for displays such as a liquid crystal display, a plasma display, an organic EL display, a field emission display, a rear projection television, A retardation film such as a wavelength plate, a viewing angle control film, a liquid crystal optical compensation film, a display front plate, and the like. The resin composition for an optical material of the present invention can be used in various fields such as a waveguide, a lens, an optical fiber, a base material of an optical fiber, a covering material, a lens of an LED, a lens cover, and the like in the fields of an optical communication system, Can also be used.

[실시예][Example]

이하, 본 발명을 실시예에 의거해 더 구체적으로 설명한다. 예 중의 부 및 %는 언급이 없는 한 질량 기준이다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples. Parts and percentages in the examples are on a mass basis unless otherwise noted.

합성예 1〔화합물(B)의 합성〕Synthesis Example 1 [Synthesis of compound (B)]

온도계, 교반기, 환류 냉각기 및 질소 도입관을 구비한 1리터의 사구 플라스크에, 테트라메틸비페놀형 에폭시 수지(에폭시 당량 187) 299g, 벤조산 195g 및 촉매로서 트리페닐포스핀 1g을 가하고, 115℃에서 20시간 반응시켜, 상기 일반식(1-1)으로 표시되는 화합물(B1)을 얻었다. 화합물(B1)의 산가(酸價)는, 0.7이며, 수산기가는 178이었다.299 g of tetramethylbiphenol type epoxy resin (epoxy equivalent 187), 195 g of benzoic acid and 1 g of triphenylphosphine as a catalyst were added to a 1 liter four-necked flask equipped with a thermometer, a stirrer, a reflux condenser and a nitrogen inlet tube, And reacted for 20 hours to obtain a compound (B1) represented by the above general formula (1-1). Compound (B1) had an acid value of 0.7 and a hydroxyl value of 178.

합성예 2(동상(同上))Synthesis Example 2 (frostbite (same as above))

온도계, 교반기, 환류 냉각기 및 질소 도입관을 구비한 1리터의 사구 플라스크에, 테트라메틸비페놀형 에폭시 수지(에폭시 당량 187) 299g, 페놀 195g 및 촉매로서 트리페닐포스핀 1g을 가하고, 115℃에서 20시간 반응시켜, 상기 일반식(1-2)으로 표시되는 화합물(B2)을 얻었다. 화합물(B2)의 산가는, 0.7이며, 수산기가는 178이었다.299 g of tetramethylbiphenol type epoxy resin (epoxy equivalent 187), 195 g of phenol and 1 g of triphenylphosphine as a catalyst were added to a 1 liter four-necked flask equipped with a thermometer, a stirrer, a reflux condenser and a nitrogen inlet tube, And reacted for 20 hours to obtain a compound (B2) represented by the above general formula (1-2). The acid value of the compound (B2) was 0.7, and the hydroxyl value was 178.

합성예 3(동상)Synthesis Example 3 (Bronze phase)

온도계, 교반기, 환류 냉각기 및 질소 도입관을 구비한 1리터의 사구 플라스크에, 테트라메틸비페놀형 에폭시 수지(에폭시 당량 187) 299g, 파라톨루일산 217g 및 촉매로서 트리페닐포스핀 1g을 가하고, 115℃에서 24시간 반응시켜, 상기 일반식(1-1)으로 표시되는 화합물(B3)을 얻었다. 화합물(B3)의 산가는, 0.2이며, 수산기가는 171이었다.299 g of tetramethylbiphenol type epoxy resin (epoxy equivalent 187), 217 g of para-toluic acid and 1 g of triphenylphosphine as a catalyst were added to a 1-liter four-necked flask equipped with a thermometer, a stirrer, a reflux condenser and a nitrogen- C for 24 hours to obtain a compound (B3) represented by the above general formula (1-1). The acid value of the compound (B3) was 0.2, and the hydroxyl value was 171.

합성예 4〔비교 대조용 폴리에스테르 수지(b')의 합성〕Synthesis Example 4 [Synthesis of polyester resin (b ') for comparison control]

온도계, 교반기 및 환류 냉각기를 구비한 내용적 1리터의 사구 플라스크에, 에틸렌글리콜 341g, 아디프산 659g을 투입했다. 추가로, 테트라이소프로필티타네이트를 에틸렌글리콜 및 아디프산의 합계량에 대해서 30ppm 가하고, 질소 기류 하에서 교반하면서 220℃까지 승온해, 24시간 반응시켜, 수평균 분자량이 1,100이며, 산가가 0.19이고, 수산기가가 112인 비교 대조용 폴리에스테르 수지(b'1)를 얻었다.341 g of ethylene glycol and 659 g of adipic acid were added to a 1-liter four-necked flask equipped with a thermometer, a stirrer and a reflux condenser. Further, tetraisopropyl titanate was added in an amount of 30 ppm relative to the total amount of ethylene glycol and adipic acid, and the temperature was raised to 220 ° C while stirring in a nitrogen stream, and the reaction was carried out for 24 hours to obtain a polyester resin having a number average molecular weight of 1,100, To obtain a comparative polyester resin (b'1) having a hydroxyl value of 112.

합성예 5(동상)Synthesis Example 5 (in phase)

숙신산 770g, 1,2-프로필렌글리콜 595g 및, 테트라이소프로필티타네이트를 숙신산과 1,2-프로필렌글리콜의 합계량에 대해서 60ppm 사용한 이외는 합성예 3과 마찬가지로 해서 수평균 분자량이 11,000이며, 산가가 0.7이고, 수산기가가 8인 비교 대조용 폴리에스테르 수지(b'2)를 얻었다.Average molecular weight of 11,000, an acid value of 0.7, and a number average molecular weight of 5,000, in the same manner as in Synthesis Example 3, except that 770 g of succinic acid, 595 g of 1,2-propylene glycol and 60 ppm of tetraisopropyl titanate in total amount of succinic acid and 1,2- , And a polyester resin (b'2) for comparison control having a hydroxyl value of 8 was obtained.

실시예 1(광학 재료용 수지 조성물의 조제)Example 1 (Preparation of Resin Composition for Optical Material)

아크릴 수지(A1)〔메틸메타아크릴산/무수 말레산/스티렌=50/40/10(몰비)의 공중합체, 수평균 분자량 27,800〕 100부, 폴리에스테르 수지(B1) 5부를, 염화메틸렌 270부 및 메탄올 30부로 이루어지는 혼합 용제에 가해서 용해해 본 발명의 광학 재료용 수지 조성물(도프액)을 얻었다.100 parts of an acrylic resin (A1) (a copolymer of methyl methacrylic acid / maleic anhydride / styrene = 50/40/10 (molar ratio), number average molecular weight 27,800) and 5 parts of a polyester resin (B1) And 30 parts of methanol to obtain a resin composition (dope solution) for an optical material of the present invention.

이 도프액을 유리판 상에 두께 0.5㎜로 되도록 유연하고, 실온에서 16시간 건조시킨 후, 50℃에서 30분간, 추가로 100℃에서 60분간 건조시켜, 막두께 100㎛의 미연신 필름을 얻었다.This dope solution was plied on a glass plate so as to have a thickness of 0.5 mm and dried at room temperature for 16 hours and then dried at 50 DEG C for 30 minutes and further at 100 DEG C for 60 minutes to obtain an unstretched film having a thickness of 100 mu m.

얻어진 미연신 필름을 시차 주사 열량계(DSC)에 의해 구한 광학 재료용 수지 조성물(1)의 유리 전이 온도(Tg) +5℃의 온도에서 1축 연신(연신 배율 2배, 연신 속도 100%/분)을 행해, 연신 필름(1)을 작성했다. 여기에서, 시차 주사 열량계(DSC)를 사용한 Tg의 측정은 하기의 조건에 따랐다.The obtained unstretched film was subjected to uniaxial stretching (two-fold stretching, two-fold stretching at a stretching speed of 100% / minute) at a glass transition temperature (Tg) + 5 ° C of the resin composition for optical material (1) obtained by a differential scanning calorimeter (DSC) ) Was carried out to prepare a stretched film (1). Here, the measurement of Tg using a differential scanning calorimeter (DSC) was performed under the following conditions.

<유리 전이 온도 Tg의 측정 조건>&Lt; Measurement conditions of glass transition temperature Tg >

시차 주사 열량 측정계 DSC822e(METTLER TOLEDO사제)를 사용했다. 구체적으로는, 수지 조성물 5㎎을 경량 알루미늄 팬에 넣고, 질소 분위기 하, 25℃로부터 150℃까지 매분 10℃로 승온한(1st run) 후, 0℃까지 일단 급냉하고, 다시, 0℃로부터 150℃까지 매분 10℃로 승온시켰다(2nd run). 유리 전이 온도 Tg는 2nd run에서 얻어진 DSC 곡선으로부터 중점법에 의해 결정했다.A differential scanning calorimeter DSC822e (manufactured by METTLER TOLEDO) was used. Specifically, 5 mg of the resin composition was placed in a lightweight aluminum pan, and the temperature was elevated from 25 캜 to 150 캜 for 10 minutes per minute (first run) in a nitrogen atmosphere. Lt; 0 &gt; C per minute (2nd run). The glass transition temperature Tg was determined from the DSC curve obtained in the 2nd run by the key point method.

얻어진 연신 필름(1)의 광학 특성, 구체적으로는 면 내 복굴절(Δn), 면 외 복굴절(ΔP) 광탄성 계수(CR) 및 헤이즈를 하기에 나타내는 방법에 따라서 평가했다. 평가 결과를 표 1에 나타낸다.Plane birefringence (? N), out-of-plane birefringence (? P) photoelasticity coefficient (C R ) and haze were evaluated according to the following methods. The evaluation results are shown in Table 1.

<면 내 복굴절(Δn) 및 면 외 복굴절(ΔP)의 평가 방법><Evaluation method of in-plane birefringence (? N) and out-of-plane birefringence (? P)

위상차 측정 장치 KOBRA-WR(오지게이소쿠기키가부시키가이샤제)을 사용해, 588㎚에 있어서의 굴절률을 구한 후, 하기 식에 따라서 면 내 복굴절(Δn) 및 면 외 복굴절(ΔP)을 구했다.Plane birefringence (DELTA n) and out-of-plane birefringence (DELTA P) were determined by the following formula after calculating the refractive index at 588 nm by using a phase difference measuring apparatus KOBRA-WR (manufactured by Oji Keiki Kikai K.K.).

면 내 복굴절(Δn)=(nx)-(ny)Plane birefringence (n) = (n x ) - (n y )

면 외 복굴절(ΔP)=[(nx)+(ny)]/2-(nz)Outer surface birefringence (ΔP) = [(n x ) + (n y)] / 2- (n z)

〔(nx) : 연신 방향의 굴절률, (ny) : 연신 방향과 직교하는 방향의 굴절률, (nz) : 필름 두께 방향의 굴절률〕( Nx ): refractive index in the stretching direction, ( ny ): refractive index in the direction perpendicular to the stretching direction, ( nz ): refractive index in the film thickness direction)

또, 측정은 23℃, 상대 습도 55% 분위기 하에서 행했다.The measurement was carried out in an atmosphere of 23 ° C and a relative humidity of 55%.

<광탄성 계수(CR)의 평가 방법>&Lt; Evaluation method of photoelastic coefficient (C R )

연신 필름을 연신 방향과 평행하게 폭 15㎜로 오려낸 연신 필름을 광탄성 측정용 인장 지그(오지게이소쿠기키가부시키가이샤제)에 고정하고, 127.3g·f로부터 727.3g·f까지 100g·f마다 가중을 변화시켰을 때의 588㎚에 있어서의 면 내 위상차(Re)의 변화를 위상차 측정 장치 KOBRA-WR(오지게이소쿠기키가부시키가이샤제)로 측정했다. 측정은 23℃, 상대 습도 55% 분위기 하에서 행했다. 면 내 위상차(Re)는, 하기 식에 따라서 구했다.The stretched film cut out at a width of 15 mm in parallel with the stretching direction was fixed to a tensile jig for photoelasticity measurement (manufactured by Oji Keiki Co., Ltd.), and from 127.3 g · f to 727.3 g · f, 100 g · f Plane retardation Re at 588 nm was measured by a phase difference measuring apparatus KOBRA-WR (manufactured by Oji Scientific Co., Ltd.). The measurement was carried out at 23 캜 and 55% relative humidity. The in-plane retardation (Re) was obtained by the following formula.

Re=(nx-ny)×d Re = (n x -n y) × d

〔(nx) : 연신 방향의 굴절률, (ny) : 연신 방향과 직교하는 방향의 굴절률, d : 필름의 두께(㎛)〕(N x ): refractive index in the stretching direction, (n y ): refractive index in the direction perpendicular to the stretching direction, and d: thickness (μm) of the film]

측정값에 대하여, 횡축에 응력(σ), 종축에 면 내 위상차(Re)를 플롯하고, 최소 제곱 근사에 의해 선형 영역의 직선의 기울기로부터 광탄성 계수(CR)를 구했다. 기울기의 절대값이 작을수록 광탄성 계수가 0에 가까운 것을 나타내며, 외력에 의한 복굴절의 변화가 작은 광학 필름인 것을 나타낸다.For the measured values, the stress (?) Was plotted on the abscissa and the in-plane retardation (Re) on the ordinate, and the photoelastic coefficient (C R ) was determined from the slope of the straight line in the linear region by approximating the least squares. The smaller the absolute value of the slope, the closer the photoelastic coefficient is to 0, indicating that the change in birefringence due to external force is small.

<헤이즈의 평가><Evaluation of Hayes>

니혼덴쇼쿠고교가부시키가이샤제 NDH-5000을 사용해서 JIS K 7136에 준거했다.And NDH-5000 manufactured by Nippon Denshoku Kogyo Co., Ltd. was used in accordance with JIS K7136.

실시예 2∼8 및 비교예 1∼6Examples 2 to 8 and Comparative Examples 1 to 6

표 1∼표 2에 나타내는 배합 및 연신 조건에서 광학 재료용 수지 조성물(도프액)을 얻은 이외는 실시예 1과 마찬가지로 해서 광학 필름(2)∼(8) 및 비교 대조용 연신 필름(1')∼(5')을 얻었다. 실시예 1과 마찬가지의 평가를 행하고, 그 결과를 표 1∼표 2에 나타낸다.(2) to (8) and the elongation film for comparison (1 ') were obtained in the same manner as in Example 1 except that the resin composition (dope liquid) for optical materials was obtained under the mixing and stretching conditions shown in Tables 1 to 2, To (5 '). Evaluation was carried out in the same manner as in Example 1, and the results are shown in Tables 1 to 2.

[표 1] [Table 1]

Figure pct00004
Figure pct00004

표 1의 각주Footnotes in Table 1

측정 불능 : 필름의 헤이즈가 커 광학 특성 측정을 할 수 없었음Inability to measure: The film's haze was too large to measure optical properties.

[표 2] [Table 2]

Figure pct00005
Figure pct00005

표 2의 각주Footnotes in Table 2

아크릴 필름(A2) : 메타크릴산메틸/α-메틸스티렌=93/7(몰비)의 공중합체, 수평균 분자량 30,000)Acrylic copolymer (A2): copolymer of methyl methacrylate /? - methylstyrene = 93/7 (molar ratio), number average molecular weight: 30,000)

측정 불능 : 필름의 헤이즈가 커 광학 특성 측정을 할 수 없었음Inability to measure: The film's haze was too large to measure optical properties.

본 발명의 광학용 수지 조성물을 사용해서 얻어지는 광학 필름은, 광학 탄성 계수가 작아, 외력에 의한 복굴절의 변화가 작은 필름이다. 한편, 비교예의 광학 필름은 광학 탄성 계수의 절대값이 커 외력에 의한 복굴절의 변화가 크다.The optical film obtained by using the optical resin composition of the present invention has a small optical elastic modulus and a small change in birefringence due to external force. On the other hand, the optical film of the comparative example has a large absolute value of the optical elastic modulus, and the change of the birefringence due to the external force is large.

Claims (9)

(메타)아크릴산 또는 (메타)아크릴산알킬에스테르를 사용해서 얻어지는 중합체(A)와, 하기 일반식(1)
Figure pct00006

(식 중, A1, A2는 각각 독립적으로 탄소 원자수 1∼8의 알킬기 또는 탄소 원자수 6∼18의 아릴기이다. R1∼R4은, 각각 독립적으로 탄소 원자수 1∼3의 알킬기이다. X1, X2는 각각 독립적으로 2가의 연결기이다)
으로 표시되는 화합물(B)을 함유하는 것을 특징으로 하는 광학 재료용 수지 조성물.
(A) obtained by using (meth) acrylic acid or (meth) acrylic acid alkyl ester,
Figure pct00006

(Wherein A 1 and A 2 each independently represent an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms or an aryl group having 6 to 18 carbon atoms.) Each of R 1 to R 4 independently represents an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms X 1 and X 2 are each independently a divalent linking group)
(B) represented by the following general formula (1).
제1항에 있어서,
상기 화합물(B)이, 하기 일반식(1-1) 또는 일반식(1-2)
Figure pct00007

(식 중, L1, L2은 각각 독립적으로 탄소 원자수 1∼8의 알킬기 또는 탄소 원자수 6∼18의 아릴기이다. R1∼R4은, 각각 독립적으로 탄소 원자수 1∼3의 알킬기이다)
으로 표시되는 것인 광학 재료용 수지 조성물.
The method according to claim 1,
Wherein the compound (B) is a compound represented by the following general formula (1-1) or (1-2)
Figure pct00007

(Wherein L 1 and L 2 each independently represent an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms or an aryl group having 6 to 18 carbon atoms.) Each of R 1 to R 4 independently represents an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms Alkyl group)
Wherein the resin composition for optical materials is represented by the following formula (1).
제2항에 있어서,
상기 L1, L2이 각각 페닐기 또는 톨릴기인 광학 재료용 수지 조성물.
3. The method of claim 2,
And L &lt; 2 &gt; are each a phenyl group or a tolyl group.
제3항에 있어서,
상기 R1∼R4이 각각 메틸기인 광학 재료용 수지 조성물.
The method of claim 3,
Wherein each of R 1 to R 4 is a methyl group.
제1항에 있어서,
상기 화합물(B)의 함유량이, 상기 중합체(A) 100질량부에 대해서 1∼10질량부인 광학 재료용 수지 조성물.
The method according to claim 1,
Wherein the content of the compound (B) is 1 to 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the polymer (A).
제1항에 있어서,
상기 중합체(A)가 메타크릴산메틸을 사용해서 얻어지는 것인 광학 재료용 수지 조성물.
The method according to claim 1,
Wherein the polymer (A) is obtained by using methyl methacrylate.
제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 기재된 광학 재료용 수지 조성물을 함유하는 것을 특징으로 하는 광학 필름.An optical film comprising the resin composition for an optical material according to any one of claims 1 to 6. 제7항에 있어서,
편광판 보호용인 광학 필름.
8. The method of claim 7,
Optical film for polarizer protection.
제7항 또는 제8항에 기재된 광학 필름을 갖는 것을 특징으로 하는 액정 표시 장치.
A liquid crystal display device having the optical film according to claim 7 or 8.
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