KR20160064880A

KR20160064880A - 위조 방지 패턴 생성 장치

Info

Publication number: KR20160064880A
Application number: KR1020140169132A
Authority: KR
Inventors: 노지환; 손현기; 강희신; 김정오
Original assignee: 한국기계연구원
Priority date: 2014-11-28
Filing date: 2014-11-28
Publication date: 2016-06-08
Also published as: KR101764835B1

Abstract

본 발명의 한 실시예에 따른 위조 방지 패턴 생성 장치는 레이저 빔을 방출하는 레이저 발진기, 레이저 발진기로부터 발생된 레이저 빔을 복수의 가공빔으로 분기 시키는 회절광학소자, 회절광학소자를 회전시키는 회전 구동부, 가공빔을 각각 반사하여 가공 대상물에 상기 가공빔을 함께 조사시켜 상기 가공 대상물을 가공하는 한 쌍의 반사 거울을 포함한다.

Description

위조 방지 패턴 생성 장치{APPARATUS OF PROCESSING ANTI-COUNTERFEITING PATTERN}

본 발명은 위조 방지 패턴 생성 장치에 관한 것이다.

최근 진위 여부를 쉽게 가리기 어려울 정도로 정교하게 위조된 10만원권 위조 수표가 나타나는 등 위, 변조 사건이 위험 수위에 이르렀다고 판단한 금융감독당국은 위조 사건이 빈발한 수표의 불법 위, 변조를 방지하기 위하여 수표의 사용 절차 개선 및 수표 디자인, 재질 변경 등의 다양한 방안을 검토 하고 있다고 한다.

수표 위조 방지 분야에서는 돌출 은화, 무궁화 은화, 이색성 형광 잉크 등의 기술이 적용되고 있으나, 보통 자외선이나 밝은 빛을 비추어 위조 여부를 관찰하게 되어 있다. 대부분 육안으로 판정하기 때문에 판별자 개인에 따른 오차가 있을 수 있다.

따라서 보다 적은 비용으로 보다 신속하게 위조 방지 패턴을 생성하여 수표 등의 대상에 적용할 수 있는 위조 방지 패턴 생성 기술과 이러한 위조 방지 패턴을 적은 비용으로 신속하게 검출할 수 있는 위조 방지 패턴 검출 기술의 도입이 요구되고 있다.

뿐만 아니라, 수표 이외에도 명품, 보석류, 고문서, 기밀 문서, 여권 등 다양한 분야에서 위조방지 기술이 요구되고 있는 실정이다.

따라서 본 발명은 용이하게 위조 방지 패턴을 생성할 수 있는 위조 방지 패턴 생성 장치를 제공하는 것이다.

따라서 본 발명의 한 실시예에 따른 위조 방지 패턴 생성 장치는 레이저 빔을 방출하는 레이저 발진기, 레이저 발진기로부터 발생된 레이저 빔을 복수의 가공빔으로 분기 시키는 회절광학소자, 회절광학소자를 회전시키는 회전 구동부, 가공빔을 각각 반사하여 가공 대상물에 상기 가공빔을 함께 조사시켜 상기 가공 대상물을 가공하는 한 쌍의 반사 거울을 포함한다.

상기 레이저 발진기와 상기 회절 광학 소자 사이에 설치되며, 레이저 빔의 직경을 제어하는 빔 리듀서를 더 포함할 수 있다.

상기 빔 리듀서는 상기 레이저 빔이 지나가는 경로상에 연속적으로 배치된 볼록 렌즈 및 오목 렌즈를 포함할 수 있다.

상기 회절광학소자는 상기 레이저 빔을 직경 방향으로 서로 이격된 2개의 1차 회절광으로 분기된 가공빔을 생성할 수 있다.

상기 회절광학소자는 원형의 외곽을 가지는 원형 플레이트 형상으로 구성되고, 회전 구동부는, 상기 회절광학소자의 일측에 구비된 풀리(pulley)와, 상기 회절광학소자의 외곽과 상기 풀리를 함께 연결하여 상기 풀리가 회전함에 따라 상기 회절광학소자를 기 설정된 각도로 회전시키도록 구성된 구동 벨트를 포함하는 것을 특징으로 할 수 있다.

상기 회절광학소자는 원형의 외곽을 가지며 원주를 따라 톱니가 형성되고, 회전 구동부는, 상기 회절광학소자의 원주 톱니와 치합되는 구동회전 기어가 구비되어 회절광학소자를 기 설정된 각도로 회전시키도록 구성될 수 있다.

상기한 과제를 달성하기 위한 다른 위조 방지 패턴 생성 장치는 레이저 빔을 방출하는 레이저 발진기, 레이저 발진기로부터 발생된 레이저 빔을 복수의 가공빔으로 분기 시키는 빔 스플리터, 가공빔을 각각 반사하여 가공 대상물에 상기 가공빔을 함께 조사시켜 상기 가공 대상물을 가공하는 한 쌍의 반사 거울을 포함한다.

상기 레이저 발진기와 빔 스플리터 사이에 설치되며 레이저 빔의 직경을 제어하는 빔 리듀서를 더 포함할 수 있다.

상기 가공 대상물이 안착되며, 상기 가공 대상물을 일정한 각도로 회전시키는 스테이지를 더 포함할 수 있다.

본 발명에 따른 위조 방지 패턴 생성 장치를 이용하면 용이하게 위조 방지 패턴을 형성할 수 있다.

또한, 레이저 빔이 집속 렌즈를 통과하지 않으므로 에어브레이크다운 현상이 발생하지 않는다.

도1 및 도 2 본 발명의 제1 실시예에 따른 위조 방지 패턴 생성 장치를 도시한 구성도로, 도 1은 제1 패턴 상태를 도시한 것이고, 도 2는 제2 패턴 상태를 도시한 것이다.
도 3은 본 발명의 제2 실시예에 따른 위조 방지 패턴 생성 장치를 도시한 구성도이다.
도 4는 본 발명의 제1 실시예에 따른 회절광학소자를 구비한 위조방지 패턴 생성장치에서 회전 구동부의 변형예를 도시한 사시도이다.
도 5는 본 발명의 제1 실시예에 따른 위조방지 패턴 생성장치에 적용될 수 있는 회절광 선별기를 도시한 정면도이다.
도 6은 본 발명의 제2 실시예에 따른 위조 방지 패턴 생성 장치를 도시한 구성도이다.
도 7은 본 발명의 제3 실시예에 따른 위조 방지 패턴 생성 장치를 도시한 구성도이다.
도 8은 본 발명의 제4실시예에 따른 위조 방지 패턴 생성 장치를 도시한 구성도이다.

이하, 첨부한 도면을 참고로 하여 본 발명의 실시예들에 대하여 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 상세히 설명한다. 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시예들에 한정되지 않는다.

본 발명을 명확하게 설명하기 위해서 설명과 관계없는 부분은 생략하였으며, 명세서 전체를 통하여 동일 또는 유사한 구성요소에 대해서는 동일한 참조 부호를 붙이도록 한다.

명세서 전체에서, 어떤 부분이 다른 부분과 "연결"되어 있다고 할 때, 이는 "직접적으로 연결"되어 있는 경우뿐만 아니라, 다른 부재를 사이에 두고 "간접적으로 연결"된 것도 포함한다. 또한, 어떤 부분이 어떤 구성요소를 "포함"한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성요소를 더 포함할 수 있는 것을 의미한다.

본 발명에 따른 위조 방지 패턴 생성 장치는 레이저 발진기, 빔 분할기 및 패턴 가공부를 포함한다. 이에 대해서는 첨부된 도면을 참조로 본 발명의 바람직한 실시예를 상세히 설명하도록 한다.

도1 및 도 2 본 발명의 제1 실시예에 따른 위조 방지 패턴 생성 장치를 도시한 구성도로, 도 1은 제1 패턴 상태를 도시한 것이고, 도 2는 제2 패턴 상태를 도시한 것이고, 도3은 본 발명의 제2 실시예에 따른 위조 방지 패턴 생성 장치를 도시한 구성도이다.

도 1에 도시한 바와 같이, 본 발명의 한 실시예에 따른 위조 방지 패턴 생성 장치(1000)는 레이저 발진기(100), 회절광학소자(diffractive optical element, DOE)(200) 및 패턴 가공부(300)를 포함한다.

레이저 발진기(100)는 레이저 빔(L)을 방출하며, 방출된 레이저 빔(L)은 회절 광학소자(200)에 입사되어 회절되면서 복수의 가공빔(LL1, LL2)으로 분기된다. 복수의 가공빔은 패턴 가공부에서 반사된 후 가공 대상물에 조사되며, 이렇게 조사된 가공빔에 의해 가공 대상물(400)에 미세 패턴(44)이 형성될 수 있다.

미세 패턴(44)은 일 방향으로 긴 형태의 복수의 홈(groove) 일 수 있다.

본 실시예에서 회절 광학 소자(200)는 빔 분할기로, 라인 패턴이 형성되어 레이저 빔(L)을 직경 방향으로 서로 이격된 2개의 1차 회절광으로 분기된 가공빔(LL1, LL2)을 생성하도록 구성된다. 회절광은 상기한 바와 같은 1차 회절광 외에도 입사된 빔 방향으로 진행하는 0차 회절광이 있으며, 2차, 3차 등의 고차항 회절광도 존재한다. 회절광학소자의 0차 회절광과 고차항 회절광의 레이저 파워는 최소(대략 5%미만)가 되고, 1차 회절광의 레이저 파워는 최대(대략 95% 이상)가 되도록 패턴 설계하여 적용할 수 있다.

회절광학소자(200)는 레이저 빔(L)이 입사되는 방향에 나란한 축을 중심으로 회전될 수 있으며, 이를 위해 회절광학소자(200)는 원형의 외곽을 갖는 원형 플레이트 형상으로 구성되고, 이를 회전시킬 수 있는 회전 구동부가 구비될 수 있다. 회전 구동부는 회절광학소자(200)의 일측에 구비된 풀리(pulley)(15)와 회절광학소자(200)의 외곽과 풀리(15)를 함께 연결한 구동 벨트(16)를 포함한다. 풀리(15)는 이에 연결된 모터(14)를 구동시킴에 따라 회전하게 되고, 구동 벨트(16)는 풀리(15)가 회전함에 따라 회절광학소자(200)를 기 설정된 각도로 회전시키도록 구성될 수 있다.

도 2를 참조하면, 회전 구동부에 의해 회절광학소자(200)가 90도 회전한 상태에서 레이저 빔(L)이 두 개의 1차 회절광으로 분기되는 모습을 볼 수 있다. 즉, 도 1에서는 두 개의 1차 회절광이 상하 직경 방향으로 서로 이격되어 분기되고 있는 반면, 도 2에서는 두 개의 1차 회절광이 좌우 직경 방향으로 서로 이격되어 분기되고 있다. 이에 따라서 가공 대상물(400)에 형성되는 미세 패턴(44)의 홈의 길이 방향은 회절광학소자(200)의 회전 각도에 대응하여 90도의 각도 차이를 가지며 형성될 수 있다.

패턴 가공부(300)는 가공빔을 반사시켜 가공 대상물로 입사시켜 위조 방지 패턴을 형성하기 위한 것으로, 회절광학소자(200)에 의해서 분기된 가공빔(LL1, LL2)이 각각 입사되는 한 쌍의 반사 거울(32, 34)을 포함한다.

반사 거울(32, 34)은 가공빔(LL1, LL2)이 가공 대상물에 입사되도록 각도를 조절할 수 있다. 도 1에서는 가공빔(LL1, LL2)이 입사되는 방향과 반대 방향으로 반사되도록 반사 거울(32, 34)이 설치되어 있으나, 도 3에서와 같이 가공빔(LL1, LL2)이 입사되는 방향 쪽으로 반사될 수 있도록 반사 거울(32, 34)이 설치될 수 있다.

도 3의 위조 방지 패턴 생성 장치(1002)에서와 같이 반사 거울(32, 34)을 설치할 경우, 도 1에서와 같이 반사 거울이 설치될 때보다 위조 방지 패턴 생성 장치의 크기를 줄일 수 있다.

가공 대상물(400)은 스테이지(도시하지 않음)에 안착되어 가공빔(LL1, LL2)이 조사되는 위치로 가공 대상물(400)의 위치를 이동시킬 수 있다. 가공 대상물(400)은 박막 금속 또는 폴리머로 이루어질 수 있다. 예를 들어, 종이 위에 알루미늄 박판을 코팅하여 그 표면 위에 홈의 길이 방향이 서로 다른 미세 패턴을 가공할 수 있으며, 폴리머 소재 표면이나 폴리머 소재 내부에 방향이 서로 다른 미세 패턴을 가공하는 것도 가능하다.

도 4는 본 발명의 제1 실시예에 따른 회절광학소자를 구비한 위조방지 패턴 생성장치에서 회전 구동부의 변형예를 도시한 사시도이다.

도 4를 참조하면, 본 변형예의 회절광학소자(200)는 원주에 톱니가 형성되어 있고, 이러한 회절광학소자(200)의 원주 톱니와 치합되도록 구동회전 기어(18)가 구비됨으로써 상기 회절광학소자(200)를 기 설정된 각도로 회전시킬 수 있다. 구동회전 기어(18)에는 모터(14)가 연결되어 구동력을 제공할 수 있다.

도 5는 본 발명의 제1 실시예에 따른 위조방지 패턴 생성장치에 적용될 수 있는 회절광 선별기를 도시한 정면도이다.

도 5에서와 같이, 회절광학소자(200)의 패턴 설계에 따라 1차 회절광이 95% 이상의 레이저 파워를 갖도록 함으로써 2개의 분기된 가공빔(LL1, LL2)을 간섭시켜 가공 대상물에 미세 패턴을 형성할 수 있다. 즉, 복수의 회절된 가공빔이 서로 간섭하도록 가공 대상물에 집중시켜 조사함으로써 미세 패턴이 형성된다.

나아가, 도 5에 도시한 바와 같은 회절광 선별기(4)를 회절광의 경로 상에 위치시킴으로써 원하는 차수의 회절광을 선별해 낼 수 있다. 본 실시예에서 회절광 선별기(45)는 투명한 유리판의 중심에 0차 회절광 차단부(5)가 형성되고, 0차 회절광 차단부를 둘러싸도록 1차 회절광 투과부(6)가 형성되며, 1차 회절광 투과부(6)를 둘러싸도록 고차항 회절광 차단부(7)가 형성될 수 있다. 0차 회절광 차단부(4)와 고차항 회절광 차단부(7)는 암색으로 이루어져 회절광을 차폐할 수 있다.

본 실시예에서 회절광 선별기(4)는 회절광학소자(200)와 패턴 가공부(32, 34) 사이에 위치할 수 있다.

먼저, 레이저 발진기(100)는 레이저 빔(L)을 생성한다. 레이저 빔(L)은 패턴 가공에 적합한 파워 및 파장을 가지는 레이저를 선택하여 사용할 수 있으며, 가공 대상물의 소재에 따라서 변경될 수 있다.

레이저 빔(L)은 회절광학소자(200)에 입사된 후 회절광인 복수의 가공빔으로 분기된다. 예를 들어, 1차 회절광이 95% 이상의 레이저 파워를 갖도록 함으로써 2개의 분기된 가공빔을 형성할 수 있으며, 도 5에 도시된 회절광 선별기를 이용할 수도 있다.

이후, 분기된 가공빔은 각각 패턴 생성부의 반사 거울로 입사된 후 반사되어 가공 대상물로 조사된다. 가공빔을 가공 대상물에 함께 조사하여 서로 간섭시킴으로써 대상 가공물에 한 방향으로 나란한 복수의 홈이 형성된 제1 패턴을 형성할 수 있다.

그런 다음, 회절광학소자(200)를 기 설정된 각도만큼 회전시킨다. 즉, 회절광학소자에 연결된 회전 구동부를 제어함으로써 회절광학소자(200)를 미리 설정된 회전각도만큼 회전시킨 후 고정할 수 있다.

다음으로, 대상 가공물을 기 설정된 거리만큼 이동시킨 후, 레이저 빔(L)을 회절 광학 소자 및 패턴 가공부에 차례로 통과시켜 대상 가공물에 조사하여 제2 패턴을 가공한다. 즉, 제1 패턴을 가공한 후에 다른 홈의 길이 방향을 가지는 제2 패턴을 가공하기 위해서 대상 가공물을 지지하고 있는 스테이지를 움직여 레이저 빔이 조사될 위치를 변경할 수 있다. 또한, 도1에 도시한 바와 같이 회절 광학 소자를, 예를 들어 90도 회전시켜 새로운 회절 패턴을 생성할 수 있으며 이에 따라 가로 방향으로 긴 홈을 갖는 제2 패턴의 바로 옆에 세로 방향으로 긴 홈을 가지는 제3 패턴을 형성할 수 있다.

이와 같은 단계를 반복함으로써 대상 가공물에 순차적으로 서로 다른 홈 의 길이 방향 각도를 가지는 제1 패턴, 제2 패턴 및 제3 패턴 등을 가공함으로써 대상 가공물에 위조 방지 패턴을 형성할 수 있다.

한편, 레이저 빔이 이동하는 경로 상에 집광 렌즈가 포함될 경우, 에어브레이크다운(airbreakdown)이 발생할 수 있으나, 본 발명에서는 레이저 빔이 분기된 후, 대상 가공물에 조사되기 전에 집광 렌즈를 통과하지 않으므로 집광 렌즈로 인한 에이브레이크다운 현상이 발생하지 않는다.

도 6은 본 발명의 제2 실시예에 따른 위조 방지 패턴 생성 장치를 도시한 개략적인 구성도이다.

도 6에 도시한 바와 같이, 본 실시예에 따른 위조 방지 패턴 생성 장치(1004)는 레이저 발진기(100), 빔 스플리터(500) 및 패턴 가공부(300)를 포함한다.

레이저 발진기(100)는 가공하고자 하는 가공 대상물(400)에 적합한 레이저 빔(L)을 방출한다.

빔 스플리터(500)는 빔 분배기로, 입사된 레이저 빔(L)을 복수의 가공 빔으로 분기시킨다. 즉, 빔 스플리터(500)에 입사된 레이저 빔 중 일부는 빔 스플리터(500)를 통과하고, 나머지 레이저 빔은 빔 스플리터(500)에 반사되므로, 빔 스플리터(500)에 입사된 레이저 빔(L)은 복수의 가공빔(LL1, LL2)으로 분기된다.

패턴 가공부(300)는 복수의 가공빔(LL1, LL2)을 가공 대상물에 반사시키기 위한 한 쌍의 반사 거울(32, 34)을 포함한다.

레이저 발진기(100)에서 방출된 레이저 빔(L)은 빔 스플리터(500)에 입사되어 복수의 가공빔(LL1, LL2)으로 분기된다. 가공빔(LL1, LL2)은 패턴 가공부(300)의 반사 거울(32, 34)에 각각 반사된 후 가공 대상물(400)에 조사된다. 가공빔(LL1, LL2)은 가공 대상물(400)에 함께 조사하여 서로 간섭시킴으로써 대상 가공물에 미세 패턴이 형성된 위조 방지 패턴이 형성될 수 있다.

미세 패턴은 도 1에서와 같이 일 방향으로 긴 복수의 홈을 포함한다.

도 6의 위조 방지 패턴 생성 장치에서는 제1 패턴, 제2 패턴을 형성하기 위해서, 가공 대상물(400)을 회전시킴으로써, 제1 패턴 및 제2 패턴을 순차적으로 형성할 수 있다. 즉, 제1 패턴을 형성한 후, 스테이지(800)를 회전시킴으로써, 가공 대상물(400)을 일정 각도로 회전 시키고, 레이저를 조사하여 제2 패턴을 형성한다.

도 7은 본 발명의 제3 실시예에 따른 위조 방지 패턴 생성 장치를 도시한 개략적인 구성도이다.

도 7에 도시한 바와 같이, 본 실시예에 따른 위조 방지 패턴 생성 장치(1006)는 레이저 발진기(100), 패턴 가공부(300), 빔 스플리터(500) 및 빔 리듀서(600)를 포함한다.

레이저 발진기(100)는 레이저 빔(L)을 방출하며, 빔 스플리터(500)는 입사된 레이저 빔(L)을 분기시켜 복수의 가공빔(LL1, LL2)을 생성한다.

빔 리듀서(600)는 볼록 렌즈(62)와 오목 렌즈(64)를 포함하며, 빔의 직경을 조절하여 빔 스플리터에 의해 손실되는 광을 최소화할 수 있다.

가공 대상물에서 가공 능력을 증가시키기 위해서는, 가공 대상물에 입사되는 레이저의 단위 면적당 에너지가 커야 한다.

그러나 레이저의 에너지를 증가시키면 레이저가 통과하는 빔 스플리터의 표면이 가공될 수 있다. 따라서 본 발명에서와 같이 빔 리듀서를 이용하여 빔의 직경을 줄임으로써, 레이저 빔에 의해서 빔 스플리터의 표면이 가공되어 레이저 에너지가 감소하지 않고, 가공 대상물에 입사되어 가공 능력을 증가시킬 수 있다.

패턴 가공부(300)는 입사된 광을 가공 대상물에 조사하여 가공하기 위한 것으로 반사 거울(32, 34)을 포함한다. 패턴 가공부(300)는 도 6에서와 같이 한 쌍의 반사 거울을 포함할 수 있다.

그리고 빔 스플리터(500)와 반사 거울(32, 34) 사이에는 각각 ND 필터(72, 74)가 배치될 수 있다.

빔 스플리터(500)를 통해서 분기된 가공빔(LL1, LL2)의 파워는 달라질 수 있다. 따라서, 레이저 파워를 다양하게 변화시킬 수 있는 소자, 예를 들어 ND 필터와 같이 레이저 파워를 줄일 수 있는 소자를 배치하여 가공빔의 파워를 조절함으로써, 두 가공빔의 파워가 같도록 할 수 있다.

도 8은 본 발명의 제4실시예에 따른 위조 방지 패턴 생성 장치를 도시한 구성도이다.

도 8에 도시한 바와 같이, 본 발명에 따른 위조 방지 패턴 생성 장치(1008)는 레이저 발진기(100), 회절광학소자(200), 패턴 가공부(300) 및 빔 리듀서(600)를 포함한다.

레이저 발진기(100)는 레이저 빔(L)을 방출하며, 회절광학소자(200)는 레이저 빔(L)을 복수의 가공빔(LL1, LL2)으로 분기시킨다.

가공빔(LL1, Ll2)은 패턴 가공부(300)의 반사 거울(32, 34)에 의해서 반사된 후 함께 가공 대상물(400)에 조사되어 서로 간섭됨으로써 대상 가공물에 한 방향으로 나란한 미세 요철 형태의 위조 방지 패턴을 형성한다.

이상에서는 본 발명의 바람직한 실시예에 대하여 설명하였지만, 본 발명은 이에 한정되는 것이 아니고 특허청구범위와 발명의 상세한 설명 및 첨부한 도면의 범위 안에서 여러 가지로 변형하여 실시하는 것이 가능하고 이 또한 본 발명의 범위에 속하는 것은 당연하다.

14: 모터 15: 풀리
16: 구동 벨트 18, 22: 구동회전 기어
32, 34반사 거울 44: 미세 패턴
100: 레이저 발진기 200: 회절광학소자
300: 패턴 가공부 400: 가공대상물
600: 빔리듀서
1000, 1002, 1004, 1006, 1008: 위조 방지 패턴 생성 장치

Claims

레이저 빔을 방출하는 레이저 발진기,
상기 레이저 발진기로부터 발생된 레이저 빔을 복수의 가공빔으로 분기 시키는 회절광학소자,
상기 회절광학소자를 회전시키는 회전 구동부,
상기 가공빔을 각각 반사하여 가공 대상물에 상기 가공빔을 함께 조사시켜 상기 가공 대상물을 가공하는 한 쌍의 반사 거울
을 포함하는 위조 방지 패턴 생성 장치.
제1항에서,
상기 레이저 발진기와 상기 회절 광학 소자 사이에 설치되며, 상기 레이저 빔의 직경을 제어하는 빔 리듀서를 더 포함하는 위조 방지 패턴 생성 장치.
제2항에서,
상기 빔 리듀서는 상기 레이저 빔이 지나가는 경로상에 연속적으로 배치된 볼록 렌즈 및 오목 렌즈를 포함하는 위조 방지 패턴 생성 장치.
제1항에서,
상기 회절광학소자는 상기 레이저 빔을 직경 방향으로 서로 이격된 2개의 1차 회절광으로 분기된 가공빔을 생성하는 위조 방지 패턴 생성 장치.
제1항에서,
상기 회절광학소자는 원형의 외곽을 가지는 원형 플레이트 형상으로 구성되고,
상기 회전 구동부는, 상기 회절광학소자의 일측에 구비된 풀리(pulley)와, 상기 회절광학소자의 외곽과 상기 풀리를 함께 연결하여 상기 풀리가 회전함에 따라 상기 회절광학소자를 기 설정된 각도로 회전시키도록 구성된 구동 벨트를 포함하는 것을 특징으로 하는 위조방지 패턴 생성장치.
제1항에서,
상기 회절광학소자는 원형의 외곽을 가지며 원주를 따라 톱니가 형성되고,
상기 회전 구동부는, 상기 회절광학소자의 원주 톱니와 치합되는 구동회전 기어가 구비되어 상기 회절광학소자를 기 설정된 각도로 회전시키도록 구성된 것을 특징으로 하는 위조방지 패턴 생성장치.
레이저 빔을 방출하는 레이저 발진기,
상기 레이저 발진기로부터 발생된 레이저 빔을 복수의 가공빔으로 분기 시키는 빔 스플리터,
상기 가공빔을 각각 반사하여 가공 대상물에 상기 가공빔을 함께 조사시켜 상기 가공 대상물을 가공하는 한 쌍의 반사 거울
을 포함하는 위조 방지 패턴 생성 장치.
제7항에서,
상기 레이저 발진기와 상기 빔 스플리터 사이에 설치되며, 상기 레이저 빔의 직경을 제어하는 빔 리듀서를 더 포함하는 위조 방지 패턴 생성 장치.
제8항에서,
상기 빔 리듀서는 상기 레이저 빔이 지나가는 경로상에 연속적으로 배치된 볼록 렌즈 및 오목 렌즈를 포함하는 위조 방지 패턴 생성 장치.
제7항에서,
상기 가공 대상물이 안착되며, 상기 가공 대상물을 일정한 각도로 회전시키는 스테이지를 더 포함하는 위조 방지 패턴 생성 장치.