KR20160038967A - Tundish position control apparatus and method - Google Patents
Tundish position control apparatus and method Download PDFInfo
- Publication number
- KR20160038967A KR20160038967A KR1020140131057A KR20140131057A KR20160038967A KR 20160038967 A KR20160038967 A KR 20160038967A KR 1020140131057 A KR1020140131057 A KR 1020140131057A KR 20140131057 A KR20140131057 A KR 20140131057A KR 20160038967 A KR20160038967 A KR 20160038967A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- tundish
- cooling roll
- gap
- molten metal
- moving
- Prior art date
Links
Images
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B22—CASTING; POWDER METALLURGY
- B22D—CASTING OF METALS; CASTING OF OTHER SUBSTANCES BY THE SAME PROCESSES OR DEVICES
- B22D41/00—Casting melt-holding vessels, e.g. ladles, tundishes, cups or the like
- B22D41/50—Pouring-nozzles
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B22—CASTING; POWDER METALLURGY
- B22D—CASTING OF METALS; CASTING OF OTHER SUBSTANCES BY THE SAME PROCESSES OR DEVICES
- B22D46/00—Controlling, supervising, not restricted to casting covered by a single main group, e.g. for safety reasons
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B11/00—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
- G01B11/02—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B22—CASTING; POWDER METALLURGY
- B22D—CASTING OF METALS; CASTING OF OTHER SUBSTANCES BY THE SAME PROCESSES OR DEVICES
- B22D11/00—Continuous casting of metals, i.e. casting in indefinite lengths
- B22D11/12—Accessories for subsequent treating or working cast stock in situ
- B22D11/128—Accessories for subsequent treating or working cast stock in situ for removing
- B22D11/1287—Rolls; Lubricating, cooling or heating rolls while in use
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
- C22C—ALLOYS
- C22C45/00—Amorphous alloys
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Continuous Casting (AREA)
Abstract
Description
본 발명은 턴디쉬 위치 제어 장치 및 턴디쉬 위치 제어 방법에 관한 것이다.
The present invention relates to a tundish position control device and a tundish position control method.
일반적으로, 비결정질 합금 리본(이하 비정질 리본이라 한다)은 결정구조가 물이나 유리와 같은 무질서한 원자구조이다. 따라서, 비정질 합금은 결정질 합금의 특징인 결정입계(grain boundary), 전위(dislocation) 등과 같은 결정결함(crystalline imperfection)이 존재하지 않으며, 같은 조성의 결정질 금속에 비하여 우수한 연자성, 초자왜, 강인성, 내식성, 초전도성 등의 우수한 특성을 갖는다. 상기 특성으로 인하여, 비정질 합금 파이버는 기계적, 자기적 특성이 우수한 소재로 내화물, 건축구조물 보강재, 콘크리트 층간소음 흡수재로 사용될 수 있다.In general, amorphous alloy ribbons (hereinafter referred to as amorphous ribbons) are disordered atomic structures in which the crystal structure is water or glass. Accordingly, amorphous alloys are free from crystalline imperfections such as grain boundaries and dislocations, which are characteristics of crystalline alloys, and have excellent soft magnetic properties such as soft magnetic properties, Corrosion resistance, superconductivity and the like. Due to the above characteristics, the amorphous alloy fiber can be used as a material excellent in mechanical and magnetic properties as a refractory material, a reinforcing material for building structures, and a noise absorbing material between concrete layers.
비정질 합금은 금속의 용융상태인 용탕을 급속 냉각시켜 제조된다. 따라서 비정질 합금은 원자가 규칙적으로 배열하여 결정화할 시간이 없이 액상의 무질서한 원자배열 상태를 고체 상태까지 유지하게 된다.An amorphous alloy is produced by rapid cooling of a molten metal in a molten state. Thus, amorphous alloys keep the disordered atomic arrangement of the liquid up to the solid state without the time for the atoms to be ordered and crystallize.
비정질 소재의 특성상 용탕은 105K/s 이상의 급속 냉각이 요구되므로 매우 적은 양의 용탕 만을 냉각롤에 분사되어 급속 냉각된다. 용탕을 미세한 양으로 제어하여 냉각롤에 분사하기 위해서는 용탕을 배출하는 노즐과 냉각롤 사이에 설정되는 미세 갭의 제어가 필요하다. 예를 들어, 비정질 리본의 중요한 특성 중 하나인 두께는 오차가 수 um(마이크로미터) 이내일 필요가 있다.Due to the nature of the amorphous material, the molten metal requires rapid cooling of more than 10 5 K / s, so only a small amount of molten metal is injected into the cooling roll and rapidly cooled. Control of the fine gaps between the nozzle for discharging the molten metal and the cooling roll is necessary in order to control the amount of molten metal to be sprayed onto the cooling roll. For example, thickness, one of the important characteristics of amorphous ribbons, needs to be within a few micrometers of error.
이를 위해서 용탕을 냉각롤에 분사하는 동안은 턴디쉬의 위치를 정밀하게 제어할 필요가 있다. 그러나, 전체 비정질 리본의 주조 과정에서 턴디쉬의 위치를 정밀하게 제어할 경우, 전체 비정질 리본의 주조 과정 시간이 길어지고 생산성이 떨어질 수 있는 문제점이 있다. 또한, 주조 준비 시점 및 주조 완료 시점에서 다른 장치와의 간섭(돌발 상황)을 피하기 어려워질 수 있는 문제점이 있다.To this end, it is necessary to precisely control the position of the tundish while spraying the melt onto the cooling roll. However, when the position of the tundish is precisely controlled in the casting process of the entire amorphous ribbon, there is a problem that the casting process time of the entire amorphous ribbon is prolonged and the productivity is lowered. In addition, there is a problem that it is difficult to avoid interference (unexpected situation) with other devices at the casting preparation time and casting completion time.
하기의 특허문헌 1은 턴디쉬 위치 제어 방법 및 이에 적합한 시스템에 관한 것으로서, 상기한 문제점들을 해결하는 내용을 개시하고 있지 못하고 있다.
The following
상기한 문제점들을 해결하기 위해서, 본 발명의 일 실시예는, 턴디쉬 위치 제어 장치 및 턴디쉬 위치 제어 방법을 제공한다.
In order to solve the above problems, an embodiment of the present invention provides a tundish position control device and a tundish position control method.
본 발명의 일 실시예에 따른 턴디쉬 위치 제어 장치는, 내부에 용탕(molten metal)을 저장하는 턴디쉬; 상기 턴디쉬의 하부에 배치되어 상기 턴디쉬로부터 배출되는 용탕을 냉각시키는 냉각롤; 및 상기 턴디쉬를 승강시켜 상기 턴디쉬의 위치를 제어하는 제어부; 를 포함하고, 상기 제어부는 상기 턴디쉬와 상기 냉각롤 사이의 거리가 특정 값보다 작은 제2 구간에서의 상기 턴디쉬의 하강 속도를 상기 턴디쉬와 상기 냉각롤 사이의 거리가 특정 값보다 큰 제1 구간에서의 상기 턴디쉬의 승강 속도보다 느리게 하여 상기 턴디쉬의 위치를 제어할 수 있다.A tundish position control apparatus according to an embodiment of the present invention includes a tundish for storing molten metal therein; A cooling roll disposed below the tundish to cool the molten metal discharged from the tundish; And a control unit for controlling the position of the tundish by moving the tundish up and down; Wherein the controller controls the lowering speed of the tundish in a second section in which the distance between the tundish and the cooling roll is smaller than a specific value, 1, the position of the tundish can be controlled to be slower than that of the tundish at the first interval.
또한, 상기 턴디쉬의 하부에 배치되어 용탕을 분사하는 노즐; 상기 턴디쉬가 상기 제2 구간에 위치하는 경우 노즐과 냉각롤 사이의 갭을 측정하는 갭 측정부; 및 상기 갭 측정부가 측정한 갭에 기초하여 상기 노즐과 냉각롤과의 갭을 제어하는 갭 제어부; 를 더 포함할 수 있다.A nozzle disposed at a lower portion of the tundish to spray the molten metal; A gap measuring unit for measuring a gap between the nozzle and the cooling roll when the tundish is located in the second section; And a gap controller for controlling a gap between the nozzle and the cooling roll based on a gap measured by the gap measuring unit; As shown in FIG.
또한, 상기 턴디쉬가 상기 제2 구간에서 하강하는 동안, 상기 제어부는 상기 턴디쉬가 노즐과 냉각롤과의 갭의 절반보다 작은 변위로 진동할 만큼 느린 이동 속도로 상기 턴디쉬를 하강시킬 수 있다.
Also, while the tundish descends in the second section, the controller may lower the tundish at a moving speed that is slow enough that the tundish oscillates at a displacement less than half the gap between the nozzle and the cooling roll .
본 발명의 일 실시예에 따른 턴디쉬 위치 제어 장치는, 턴디쉬에 저장된 용탕의 온도, 무게, 수위(level), 냉각롤의 회전 속도 및 돌발(emergency) 상황의 발생 중 적어도 하나를 감지하는 감지부를 더 포함하고, 제어부는 상기 감지부의 감지 결과에 기초하여 상기 턴디쉬를 제어할 수 있다.The tundish position control device according to an embodiment of the present invention may be configured to detect at least one of the temperature, the weight, the level of the molten metal stored in the tundish, the rotation speed of the cooling roll, and the occurrence of an emergency situation And the control unit may control the tundish based on the detection result of the sensing unit.
또한, 상기 냉각롤은 상기 턴디쉬가 대기 위치로 하강한 후에 회전을 시작하고, 상기 제어부는 상기 감지부에서 감지한 냉각롤의 회전 속도가 목표 속도보다 빨라진 이후 상기 턴디쉬를 대기 위치에서 하강시킬 수 있다.Further, the cooling roll starts to rotate after the tundish descends to the standby position, and the control unit lowers the tundish from the standby position after the rotation speed of the cooling roll sensed by the sensing unit becomes higher than the target speed .
또한, 상기 제어부는 상기 감지부에서 감지한 온도가 목표 온도 이상으로 상승된 후에 상기 턴디쉬를 대기 위치로 하강시킬 수 있다.Also, the control unit may lower the tundish to a standby position after the temperature sensed by the sensing unit rises above a target temperature.
또한, 상기 제어부는 상기 감지부가 감지한 무게 또는 수위가 최소값이 된 후에 상기 턴디쉬를 상승시킬 수 있다.In addition, the controller may raise the tundish after the weight or the level detected by the sensing unit reaches a minimum value.
또한, 상기 제어부는 상기 감지부에서 돌발 상황을 감지한 경우 상기 턴디쉬를 상승시킬 수 있다.
In addition, the controller may raise the tundish when the sensing unit senses an unexpected condition.
본 발명의 일 실시예에 따른 턴디쉬 위치 제어 방법은, 용탕을 저장하는 턴디쉬를 대기 위치로 이동시키는 제1 이동 단계; 상기 대기 위치에 위치하는 턴디쉬를 목표 위치로 이동시키는 제2 이동 단계; 상기 목표 위치에 위치하는 턴디쉬가 상기 턴디쉬에 저장된 용탕을 냉각롤에 분사하는 용탕 분사 단계; 및 상기 목표 위치에 위치하는 턴디쉬를 대기 위치로 복귀시키는 복귀 단계; 를 포함하고, 상기 제2 이동 단계의 턴디쉬 이동 속도는 상기 제1 이동 단계의 턴디쉬 이동 속도보다 느릴 수 있다.A tundish position control method according to an embodiment of the present invention includes a first moving step of moving a tundish storing a molten metal to a standby position; A second moving step of moving the tundish located at the standby position to a target position; A molten metal spraying step of spraying a molten metal stored in the tundish to a cooling roll at a tundish located at the target position; And returning the tundish at the target position to a standby position; And the tundish moving speed of the second moving step may be slower than the tundish moving speed of the first moving step.
또한, 상기 제2 이동 단계 및 상기 용탕 분사 단계에서 상기 턴디쉬에 포함된 노즐과 냉각롤 사이의 갭을 측정하는 갭 측정 단계; 및 상기 갭 측정 단계에서 측정한 갭에 기초하여 상기 노즐과 냉각롤과의 갭을 제어하는 갭 제어 단계; 를 더 포함할 수 있다.A gap measuring step of measuring a gap between the nozzle and the cooling roll included in the tundish in the second moving step and the molten metal jetting step; And a gap control step of controlling a gap between the nozzle and the cooling roll based on the gap measured in the gap measuring step; As shown in FIG.
또한, 상기 제2 이동 단계는 턴디쉬가 이동하는 동안 상기 턴디쉬가 상기 노즐과 냉각롤과의 갭의 절반보다 작은 변위로 진동할 만큼 느린 이동 속도로 상기 턴디쉬를 목표 위치로 이동시킬 수 있다.In addition, the second moving step may move the tundish to a target position at a moving speed that is slow enough for the tundish to vibrate at a displacement less than half the gap between the nozzle and the cooling roll while the tundish moves .
또한, 상기 복귀 단계는 상기 제2 이동 단계의 턴디쉬 이동 속도보다 빠르게 상기 턴디쉬를 이동시킬 수 있다.
In addition, the returning step may move the tundish faster than the tundish moving speed of the second moving step.
본 발명의 일 실시예에 따른 턴디쉬 위치 제어 방법은, 턴디쉬에 저장된 용탕의 온도를 감지하는 온도 감지 단계를 더 포함하고, 제1 이동 단계는 온도 감지 단계에서 감지한 온도가 목표 온도 이상으로 상승된 후에 상기 턴디쉬를 대기 위치로 이동시킬 수 있다.The tundish position control method according to an embodiment of the present invention may further include a temperature sensing step of sensing the temperature of the molten metal stored in the tundish, wherein the first movement step is performed when the temperature detected in the temperature sensing step is equal to or higher than the target temperature The tundish can be moved to the standby position after being raised.
또한, 상기 제1 이동 단계에 의하여 상기 턴디쉬가 대기 위치로 이동한 후 냉각롤을 목표 속도로 회전시키는 냉각롤 회전 단계를 더 포함하고, 상기 제2 이동 단계는 상기 냉각롤이 목표 속도로 회전하는 동안 상기 턴디쉬를 목표 위치로 이동시킬 수 있다.Further comprising a cooling roll rotating step of rotating the cooling roll at a target speed after the tundish is moved to a standby position by the first moving step and the second moving step is a step of rotating the cooling roll at a target speed The tundish can be moved to the target position.
또한, 상기 턴디쉬에 저장된 용탕의 무게 및 수위(level) 중 적어도 하나를 감지하는 용탕 감지 단계를 더 포함하고, 상기 복귀 단계는 상기 용탕 감지 단계에서 감지한 무게 또는 수위가 최소값이 된 후에 상기 턴디쉬를 대기 위치로 복귀시킬 수 있다.Further, the method may further include a molten metal sensing step of sensing at least one of a weight and a level of the molten metal stored in the tundish, and the returning step may be performed after the weight or the level detected in the molten metal sensing step becomes a minimum value, The dish can be returned to the standby position.
또한, 상기 턴디쉬가 상기 턴디쉬에 저장된 용탕을 냉각롤에 분사하는 동안 돌발(emergency) 상황의 발생을 감지하는 돌발 상황 감지 단계를 더 포함하고, 상기 복귀 단계는 상기 돌발 상황 감지 단계에서 돌발 상황을 감지한 경우 상기 턴디쉬를 대기 위치로 복귀시킬 수 있다.
The method may further include an unexpected condition detecting step of detecting an occurrence of an emergency situation while the tundish dispenses the molten metal stored in the tundish to the cooling roll, The tundish can be returned to the standby position.
본 발명의 일 실시예에 따른 턴디쉬 위치 제어 장치가 정밀 제어 구간과 비정밀 제어 구간을 구분하여 비정밀 제어 구간에서의 턴디쉬 이동 속도를 빠르게 함으로써, 주조 준비 시간을 단축 시킬 수 있고 정밀 제어 구간 내에서 집중적으로 정밀 제어할 수 있다.The tundish position control apparatus according to an embodiment of the present invention can shorten the tundish preparation time by speeding up the tundish moving speed in the non-precision control period by dividing the precision control period and the non-precision control period, Can be precisely controlled within the range.
또한, 주조 종료 또는 돌발 상황 발생한 경우, 턴디쉬가 빠르게 대기 위치로 이동함으로써, 간섭 장비의 갑작스런 간섭이나 용탕의 비산 등 위험한 상황을 미연에 방지할 수 있다.
In addition, when the casting is terminated or an unexpected situation occurs, the tundish quickly moves to the standby position, thereby preventing dangerous situations such as sudden interference of the interference equipment or scattering of the molten metal.
도1은 본 발명의 일 실시예에 따른 턴디쉬 위치 제어 장치를 도시한 도면이다.
도2는 턴디쉬가 용탕을 분사하기 전까지의 턴디쉬의 위치 및 이동을 도시한 도면이다.
도3은 턴디쉬의 용탕 분사가 개시된 후의 턴디쉬의 위치 및 이동을 도시한 도면이다.
도4는 본 발명의 일 실시예에 따른 턴디쉬 위치 제어 방법을 도시한 순서도이다.
도5는 턴디쉬의 제2 이동 단계까지의 턴디쉬 위치 제어 방법을 도시한 순서도이다.
도6은 턴디쉬의 제2 이동 단계 이후의 턴디쉬 위치 제어 방법을 도시한 순서도이다.
도7은 턴디쉬 위치 제어 장치 및 방법에서 턴디쉬 위치좌표축에 따른 턴디쉬 이동 속도를 도시한 그래프이다.
도8은 턴디쉬 위치 제어 장치 및 방법에서 턴디쉬 동작 시간에 따른 턴디쉬 위치좌표축을 도시한 그래프이다.1 is a view illustrating a tundish position control apparatus according to an embodiment of the present invention.
2 is a view showing the position and movement of the tundish before the tundish blows the molten metal.
3 is a view showing the position and movement of the tundish after the molten metal injection of the tundish is started.
4 is a flowchart illustrating a tundish position control method according to an embodiment of the present invention.
5 is a flowchart showing a tundish position control method up to the second movement step of the tundish.
6 is a flowchart showing a tundish position control method after the second moving step of the tundish.
7 is a graph showing a tundish moving speed according to a tundish position coordinate axis in the tundish position control apparatus and method.
8 is a graph showing coordinate axes of tundish positions according to the tundish operation time in the tundish position controller and method.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 본 발명을 용이하게 실시할 수 있도록 바람직한 실시예를 상세히 설명한다. 다만, 본 발명의 바람직한 실시예를 상세하게 설명함에 있어, 관련된 공지 기능 또는 구성에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우에는 그 상세한 설명을 생략한다. 또한, 유사한 기능 및 작용을 하는 부분에 대해서는 도면 전체에 걸쳐 동일한 부호를 사용한다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings, in order that those skilled in the art can easily carry out the present invention. In the following detailed description of the preferred embodiments of the present invention, a detailed description of known functions and configurations incorporated herein will be omitted when it may make the subject matter of the present invention rather unclear. In the drawings, like reference numerals are used throughout the drawings.
덧붙여, 본 명세서에서 사용되는 구성요소에 대한 접미사 "부"는 명세서 작성의 용이함만이 고려되어 부여되거나 혼용되는 것으로서, 그 자체로 서로 구별되는 의미 또는 역할을 갖는 것은 아니다. 또한, 본 명세서에서 사용되는 제1, 제2 등과 같이 서수를 포함하는 용어는 다양한 구성 요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성 요소들은 상기 용어들에 의해 한정되어서는 안 된다. 상기 용어들은 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다. 예를 들어, 본 발명의 권리 범위를 벗어나지 않으면서 제1 구성요소는 제2 구성 요소로 명명될 수 있고, 유사하게 제2 구성 요소도 제1 구성 요소로 명명될 수 있다. 또한, 어떤 구성요소를 '포함'한다는 것은, 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성요소를 더 포함할 수 있다는 것을 의미한다.
In addition, the suffix "part" for a component used in the present specification is given or mixed in consideration of ease of specification, and does not have its own meaning or role. Furthermore, terms including ordinals such as first, second, etc. used in this specification can be used to describe various elements, but the elements should not be limited by the terms. The terms are used only for the purpose of distinguishing one component from another. For example, without departing from the scope of the present invention, the first component may be referred to as a second component, and similarly, the second component may also be referred to as a first component. Also, to "include" an element means that it may include other elements, rather than excluding other elements, unless specifically stated otherwise.
도1은 본 발명의 일 실시예에 따른 턴디쉬 위치 제어 장치를 도시한 도면이다.1 is a view illustrating a tundish position control apparatus according to an embodiment of the present invention.
도1을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 턴디쉬 위치 제어 장치(100)는, 턴디쉬(110), 냉각롤(120), 제어부(130), 노즐(140), 갭 측정부(150), 갭 제어부(160) 및 감지부(170)를 포함할 수 있다.
1, a tundish position controller 100 according to an embodiment of the present invention includes a tundish 110, a
턴디쉬(110)는, 내부에 용탕(molten metal)을 저장할 수 있다. 여기서, 상기 용탕은 멜트 스피닝법(melt spinning)을 이용하여 비정질 합금을 제조하는데 이용될 수 있다. 상기 턴디쉬(110)는 승강이 가능하다.
The tundish 110 may store molten metal therein. Here, the molten metal may be used for producing an amorphous alloy using melt spinning. The tundish 110 can be raised or lowered.
냉각롤(120)은, 턴디쉬(110)의 하부에 배치되어 상기 턴디쉬(110)로부터 배출되는 용탕을 냉각시킬 수 있다. 예를 들어, 상기 용탕은 노즐(140)을 통해 고속으로 회전하는 냉각롤(120)의 원주면에 분사되면서 급속으로 냉각되어, 비정질 상태를 유지하는 일정 폭 및 두께를 가지는 리본이 제조될 수 있다.
The
제어부(130)는, 턴디쉬(110)를 승강시켜 상기 턴디쉬(110)의 위치를 제어할 수 있다. 여기서, 상기 제어부(130)는 주조 상황(주조 준비, 주조 중, 주조 완료 등)을 자동으로 판별하고, 각 상황 별로 정해진 운영 시나리오를 실행할 수 있다. 예를 들어, 냉각롤(120)은 항상 같은 자리에서 위치하고 턴디쉬(110)를 이동시키는 갭(gap) 제어에 있어서, 턴디쉬 위치 제어 장치는 갭 측정부(150)의 측정 가능 구간인 제2 구간에서는 정밀 제어를 실시하고, 그 외 영역인 제1 구간에서는 빠른 움직임을 확보하기 위한 제어를 실시할 수 있다.The
구체적으로, 상기 제어부(130)는 턴디쉬(110)와 냉각롤(120) 사이의 거리가 특정 값보다 작은 제2 구간에서의 상기 턴디쉬(110)의 하강 속도를 상기 턴디쉬(110)와 상기 냉각롤(120) 사이의 거리가 특정 값보다 큰 제1 구간에서의 상기 턴디쉬의 승강 속도보다 느리게 설정하여 상기 턴디쉬(110)의 위치를 제어할 수 있다. 여기서, 상기 특정 값은 갭 측정부(150)가 측정할 수 있는 영역의 길이가 될 수 있다. 예를 들어, 상기 갭 측정부(150)가 턴디쉬(110)를 감지할 수 있으면, 상기 제어부(130)는 상기 턴디쉬(110)가 상기 제2 구간에 위치한다고 판단할 수 있다. 이때, 상기 제어부(130)는 주조 상황이 달라짐을 판별하고 상기 턴디쉬(110)의 하강 속도를 느리게 설정할 수 있다.The
또한, 턴디쉬(110)가 상기 제2 구간에서 하강하는 동안, 상기 제어부(130)는 상기 턴디쉬(110)가 노즐(140)과 냉각롤(120)과의 갭의 절반보다 작은 변위로 진동할 만큼 느린 이동 속도로 상기 턴디쉬를 하강시킬 수 있다. 상기 턴디쉬(110)의 승강 속도가 빠를수록 상기 턴디쉬(110)의 진동 변위는 커질 수 있다. 만약 상기 턴디쉬(110)가 노즐(140)과 냉각롤(120)과의 갭의 절반보다 큰 변위로 진동할 경우, 상기 노즐(140)과 냉각롤(120)은 충돌할 수 있다. 따라서, 상기 턴디쉬(110)가 상기 제2 구간에 위치할 경우, 상기 제어부(130)는 상기 턴디쉬(110)의 하강 속도를 충돌가능성을 최소화시킬 만큼의 느린 속도로 설정할 수 있다. 상기 느린 속도의 구체적인 값은 턴디쉬 위치 제어 장치(100)의 설계에 따라 달라질 수 있다.While the tundish 110 descends in the second section, the
즉, 상기 제어부(130)는 정밀 제어 구간(제2 구간)과 비정밀 제어 구간(제1 구간)을 구분하여 비정밀 제어 구간에서의 턴디쉬 이동 속도를 빠르게 함으로써, 주조 준비 시간을 단축 시킬 수 있고 정밀 제어 구간 내에서 집중적으로 정밀 제어할 수 있다.
That is, the
노즐(140)은, 턴디쉬(110) 하부에 배치되어 용탕을 분사할 수 있다. 즉, 턴디쉬(110)에 저장된 용탕을 냉각롤(120)의 특정 부분에 일정한 속도로 낙하시킬 수 있다. 턴디쉬(110)가 승강할 경우, 상기 노즐(140)도 따라서 승강할 수 있다.
The
갭 측정부(150)는, 턴디쉬(110)가 상기 제2 구간에 위치하는 경우 노즐(140)과 냉각롤(120) 사이의 갭(gap)을 측정할 수 있다. 예를 들어, 턴디쉬(110)가 제2 구간에서 하강하는 동안은 시간당 갭의 변화율을 측정할 수 있다. 또한, 상기 턴디쉬(110)가 저장된 용탕을 분사하는 동안은 갭을 더욱 미세하게 측정할 수 있다.The
노즐(140)과 냉각롤(120)의 갭을 측정하는 방법을 예시하면, 상기 갭 측정부(150)는 LVDT(Linear Variable Differential Transformer) 이용 방법, 레이저 이용 방법, 와전류 센서 이용 방법, 엑스선(X-ray) 이용 방법, 영상 카메라 이용 방법 등으로 갭을 측정할 수 있다.
The method for measuring the gap between the
갭 제어부(160)는, 갭 측정부(150)가 측정한 갭에 기초하여 노즐(140)과 냉각롤(120)과의 갭을 제어할 수 있다. 예를 들어, 턴디쉬(110)가 제2 구간에서 하강하는 동안은 시간당 갭의 변화율에 기초하여 제어부(130)에 목표 하강 속도를 보내줄 수 있다. 이에 따라 상기 제어부(130)는 목표 하강 속도에 기초하여 턴디쉬(110)에 가할 힘을 판단할 수 있다.The
또한, 상기 턴디쉬(110)가 저장된 용탕을 분사하는 동안은 미세하게 측정한 갭에 기초하여 제어부(130)에 턴디쉬(110)의 승강 또는 하강 신호를 보내줄 수 있다. 이에 따라 상기 제어부(130)는 입력 받은 승강 또는 하강 신호에 기초하여 턴디쉬(110)에 미세하게 가할 힘의 방향을 판단할 수 있다.Also, while the
한편 턴디쉬 위치 제어 장치의 설계에 따라, 상기 갭 제어부(160)와 제어부(130)는 하나의 제어기 안에서 구현될 수 있다. 즉, 하나의 제어기에서 턴디쉬(110)의 제어 및 갭의 제어가 모두 수행될 수 있다.
Meanwhile, according to the design of the tundish position controller, the
감지부(170)는, 턴디쉬(110)에 저장된 용탕의 온도, 무게, 수위(level), 상기 냉각롤의 회전 속도 및 돌발(emergency) 상황의 발생 중 적어도 하나를 감지할 수 있다. 이에 따라, 제어부(130)는 상기 감지부(170)의 감지 결과에 기초하여 턴디쉬(110)를 제어할 수 있다. 즉, 상기 감지부(170)의 감지 대상은 주조 상황이 달라지는 분기점이 될 수 있다.
The
이하에서는, 주조 상황 및 분기점에 대한 구체적인 내용을 도2 및 도3을 참조하여 설명한다.
Hereinafter, the details of the casting situation and the turning point will be described with reference to Fig. 2 and Fig.
도2는 턴디쉬가 용탕을 분사하기 전까지의 턴디쉬의 위치 및 이동을 도시한 도면이다.
2 is a view showing the position and movement of the tundish before the tundish blows the molten metal.
제1 주조 상황인 주조 준비 상황에서, 턴디쉬(110) 및 노즐(120)은 (1)의 위치에서 대기할 수 있다. 여기서, 상기 턴디쉬(110)에 저장된 용탕은 목표 온도 이상이 될 때까지 가열될 수 있다.In the casting preparation situation, which is the first casting situation, the
감지부(170)는 용탕의 온도를 감지할 수 있고, 제어부(130)는 감지부(170)에서 감지한 용탕의 온도가 목표 온도 이상으로 상승된 후에 턴디쉬(110)를 대기 위치로 하강시킬 수 있다. 여기서, 상기 대기 위치(2)는 갭 측정부(150)의 감지 가능 구간인 제2 구간과 측정부(150)의 감지 가능 구간이 아닌 제1 구간의 경계선이 될 수 있다.
The
제2 주조 상황인 주조 중 상황에서, 냉각롤(120)은 턴디쉬(110)가 대기 위치로 하강한 후에 회전을 시작하고, 제어부(130)는 감지부(170)에서 감지한 냉각롤의 회전 속도가 목표 속도보다 빨라진 이후 턴디쉬(110)를 대기 위치(2)에서 (3)의 위치로 하강시킬 수 있다. 여기서, 제어부(130) 및 갭 제어부(160)는 갭을 일정 값으로 유지하기 위한 정밀 제어 모드가 될 수 있다. 예를 들어, 정밀 제어 모드에서의 제어부(130) 및 갭 제어부(160)는 냉각롤(120)의 편심이나, 진동 등 미세한 움직임에도 갭을 제어할 수 있다.The
상기 턴디쉬(110)가 대기 위치(2)에서 (3)의 위치로 빠르게 이동할 경우, 상기 턴디쉬(110)는 턴디쉬의 무게나 턴디쉬 내의 용탕의 움직임으로 인해 큰 진동이 발생될 수 있다. 또한, 노즐(140)과 냉각롤(120) 사이의 갭은 큰 진동에 의해 크게 바뀔 수 있다. 따라서, 상기 턴디쉬(110)가 대기 위치(2)에서 (3)의 위치로 천천히 이동하고 정밀 제어 모드를 수행함으로써, 상기 턴디쉬(110)에서 발생하는 진동을 크게 줄일 수 있고 갭이 정밀하게 제어될 수 있다.
When the
한편, 제어부(130)는 감지부(170)에서 돌발 상황을 감지한 경우 턴디쉬(110)를 상승시킬 수 있다. 즉, 감지부(170)에서 돌발 상황을 감지한 경우, 상기 제어부(130)는 제1 주조 상황인 주조 준비 상황에서 제3 주조 상황인 주조 완료 상황으로 빠르게 전환될 수 있다. 여기서, 돌발(emergency) 상황은 턴디쉬(110)가 정밀 제어 모드로 하강하는 상태에서의 간섭 장비의 갑작스런 간섭 및 용탕의 비산 등의 위험한 상황을 포함한다.
On the other hand, the
도3은 턴디쉬의 용탕 분사가 개시된 후의 턴디쉬의 위치 및 이동을 도시한 도면이다.
3 is a view showing the position and movement of the tundish after the molten metal injection of the tundish is started.
제2 주조 상황인 주조 중 상황에서, 턴디쉬(110)는 (4)의 위치에 위치하여 상기 턴디쉬에 저장된 용탕을 냉각롤(120)에 분사할 수 있다. 이때도 제어부(130) 및 갭 제어부(160)는 갭을 일정 값으로 유지하기 위한 정밀 제어 모드가 될 수 있다.In a casting situation, which is the second casting situation, the
여기서, 제어부(130)는 감지부(170)가 감지한 무게 또는 수위가 최소값이 된 후에 턴디쉬(110)를 상승시킬 수 있다. 즉, 턴디쉬(110)가 냉각롤(120)에 용탕을 분사하는 동안 상기 턴디쉬에 저장된 용탕의 무게 또는 수위는 점점 줄어든다. 이후, 상기 턴디쉬(110)는 더 이상 용탕을 분사할 수 없을 때까지 상기 용탕을 분사할 수 있다. 예를 들어, 상기 제어부(130)는 상기 턴디쉬(110)가 더 이상 용탕을 분사할 수 없을 때의 상기 턴디쉬의 무게 또는 용탕의 수위를 최소값으로 설정할 수 있다. 상기 최소값은 턴디쉬(110)에 저장된 용탕이 완전히 비었을 때의 상기 턴디쉬의 무게 또는 용탕의 수위일 수도 있고, 상기 턴디쉬(110)에 저장된 용탕이 약간 줄었을 때의 상기 턴디쉬의 무게 또는 용탕의 수위일 수도 있다.Here, the
또한, 제어부(130)는 감지부(170)에서 돌발 상황을 감지한 경우 턴디쉬(110)를 상승시킬 수 있다. 즉, 감지부(170)에서 돌발 상황을 감지한 경우, 상기 제어부(130)는 제2 주조 상황인 주조 중 상황에서 제3 주조 상황인 주조 완료 상황으로 빠르게 전환될 수 있다. 여기서, 돌발(emergency) 상황은 턴디쉬(110)에 저장된 용탕이 최소값보다 많은 상태에서의 간섭 장비의 갑작스런 간섭 및 용탕의 비산 등의 위험한 상황을 포함한다.
In addition, the
제3 주조 상황인 주조 완료 상황에서, 턴디쉬(110)는 대기 위치(5)로 빠르게 이동할 수 있다. 주조 완료 상황에서는 상기 턴디쉬(110)가 다른 장치로부터 추가적인 간섭을 받을 수 있다. 따라서, 제어부(130)는 상기 턴디쉬(110)를 대기 위치(5)로 빠르게 이동시킬 수 있다.
In the casting completion state, which is the third casting situation, the
이하에서는, 본 발명의 일 실시예에 따른 턴디쉬 위치 제어 방법을 설명한다. 본 발명의 일 실시예에 따른 턴디쉬 위치 제어 방법은 전술한 내용을 참조하여 상술한 턴디쉬 위치 제어 장치(100)에서 수행될 수 있으므로, 상술한 설명과 동일하거나 그에 상응하는 내용에 대해서는 중복적으로 설명하지 아니한다.
Hereinafter, a tundish position control method according to an embodiment of the present invention will be described. The tundish position control method according to an embodiment of the present invention can be performed in the tundish position control apparatus 100 described above with reference to the above description, so that the same or corresponding contents as the above- .
도4는 본 발명의 일 실시예에 따른 턴디쉬 위치 제어 방법을 도시한 순서도이다. 4 is a flowchart illustrating a tundish position control method according to an embodiment of the present invention.
도4를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 턴디쉬 갭 제어 방법은, 제1 이동 단계(S10), 제2 이동 단계(S20), 용탕 분사 단계(S30) 및 복귀 단계(S40)를 포함할 수 있다.
Referring to FIG. 4, the tundish gap control method according to an embodiment of the present invention includes a first movement step S10, a second movement step S20, a molten metal injection step S30, and a return step S40 .
제1 이동 단계(S10)에서의 턴디쉬 위치 제어 장치는, 용탕(molten metal)을 저장하는 턴디쉬를 대기 위치로 이동시킬 수 있다.The tundish position control device in the first movement step (S10) can move the tundish storing the molten metal to the standby position.
제2 이동 단계(S20)에서의 턴디쉬 위치 제어 장치는, 상기 대기 위치에 위치하는 턴디쉬를 목표 위치로 이동할 수 있다. 또한, 상기 제2 이동 단계(S20)의 턴디쉬 이동 속도는 상기 제1 이동 단계(S10)의 턴디쉬 이동 속도보다 느릴 수 있다. 또한, 상기 제2 이동 단계(S20)에서의 턴디쉬 위치 제어 장치는 턴디쉬가 이동하는 동안 상기 턴디쉬가 상기 노즐과 냉각롤과의 갭의 절반보다 작은 변위로 진동할 만큼 느린 이동 속도로 상기 턴디쉬를 목표 위치로 이동시킬 수 있다.The tundish position control device in the second movement step (S20) can move the tundish located at the standby position to the target position. In addition, the tundish moving speed in the second moving step S20 may be slower than the tundish moving speed in the first moving step S10. In addition, the tundish position control device in the second movement step (S20) may control the tundish position control device to move the tundish at a moving speed slow enough to vibrate the tundish at a displacement smaller than half the gap between the nozzle and the cooling roll The tundish can be moved to the target position.
용탕 분사 단계(S30)에서의 턴디쉬 위치 제어 장치는, 상기 목표 위치에 위치하는 턴디쉬가 상기 턴디쉬에 저장된 용탕을 냉각롤에 분사할 수 있다.In the tundish position control device in the molten metal injection step (S30), the tundish located at the target position can spray the molten metal stored in the tundish to the cooling roll.
복귀 단계(S40)에서의 턴디쉬 위치 제어 장치는, 상기 목표 위치에 위치하는 턴디쉬를 대기 위치로 복귀시킬 수 있다. 또한, 상기 복귀 단계(S40)에서의 턴디쉬 위치 제어 장치는 상기 제2 이동 단계(S20)의 턴디쉬 이동 속도보다 빠르게 상기 턴디쉬를 이동시킬 수 있다.
The tundish position control device in the returning step S40 can return the tundish located at the target position to the standby position. Also, the tundish position controller in the returning step S40 may move the tundish faster than the tundish moving speed of the second moving step S20.
도5는 턴디쉬의 제2 이동 단계까지의 턴디쉬 위치 제어 방법을 도시한 순서도이다. 5 is a flowchart showing a tundish position control method up to the second movement step of the tundish.
도5를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 턴디쉬 갭 제어 방법은, 온도 감지 단계(S11) 및 냉각롤 회전 단계(S21)를 더 포함할 수 있다.
Referring to FIG. 5, the tundish gap control method according to an embodiment of the present invention may further include a temperature sensing step S11 and a cooling roll rotating step S21.
온도 감지 단계(S11)에서의 턴디쉬 위치 제어 장치는, 턴디쉬에 저장된 용탕의 온도를 감지할 수 있다. 이에 따라, 제1 이동 단계(S10)에서의 턴디쉬 위치 제어 장치는 상기 온도 감지 단계(S11)에서 감지한 온도가 목표 온도 이상으로 상승된 후에 턴디쉬를 대기 위치로 이동시킬 수 있다.The tundish position controller in the temperature sensing step S11 can sense the temperature of the molten metal stored in the tundish. Accordingly, the tundish position controller in the first movement step S10 can move the tundish to the standby position after the temperature detected in the temperature sensing step S11 is raised to the target temperature or higher.
냉각롤 회전 단계(S21)에서의 턴디쉬 위치 제어 장치는 제1 이동 단계(S10)에 의하여 턴디쉬가 대기 위치로 이동한 후 냉각롤을 목표 속도로 회전시킬 수 있다. 이에 따라, 제2 이동 단계(S20)에서의 턴디쉬 위치 제어 장치는 냉각롤이 목표 속도로 회전하는 동안 턴디쉬를 목표 위치로 이동시킬 수 있다.
The tundish position control device in the cooling roll rotating step S21 can rotate the cooling roll to the target speed after the tundish moves to the standby position by the first moving step S10. Accordingly, the tundish position control device in the second movement step (S20) can move the tundish to the target position while the cooling roll is rotating at the target speed.
도6은 턴디쉬의 제2 이동 단계 이후의 턴디쉬 위치 제어 방법을 도시한 순서도이다.6 is a flowchart showing a tundish position control method after the second moving step of the tundish.
도6을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 턴디쉬 갭 제어 방법은, 갭 측정 단계(S50), 갭 제어 단계(S60), 돌발 상황 감지 단계(S70) 및 용탕 감지 단계(S80)를 더 포함할 수 있다.
6, a tundish gap control method according to an embodiment of the present invention includes a gap measurement step S50, a gap control step S60, an unexpected situation sensing step S70, and a melt sensing step S80. .
갭 측정 단계(S50)에서의 턴디쉬 위치 제어 장치는, 제2 이동 단계(S20) 및 용탕 분사 단계(S30)에서 턴디쉬에 포함된 노즐과 냉각롤 사이의 갭을 측정할 수 있다.The tundish position control device in the gap measuring step S50 can measure the gap between the nozzle and the cooling roll included in the tundish in the second moving step S20 and the molten metal spraying step S30.
갭 제어 단계(S60)에서의 턴디쉬 위치 제어 장치는, 갭 측정 단계(S50)에서 측정한 갭에 기초하여 상기 노즐과 냉각롤과의 갭을 제어할 수 있다.The tundish position controller in the gap control step (S60) can control the gap between the nozzle and the cooling roll based on the gap measured in the gap measuring step (S50).
돌발 상황 감지 단계(S70)에서의 턴디쉬 위치 제어 장치는, 턴디쉬가 상기 턴디쉬에 저장된 용탕을 냉각롤에 분사하는 동안 돌발(emergency) 상황의 발생을 감지할 수 있다. 이에 따라, 제2 이동 단계(S20), 용탕 분사 단계(S30) 및 복귀 단계(S40)에서의 턴디쉬 위치 제어 장치는 상기 돌발 상황 감지 단계(S70)에서 돌발 상황을 감지한 경우 상기 턴디쉬를 대기 위치로 복귀시킬 수 있다.The tundish position control device in the unexpected condition sensing step S70 can detect the occurrence of an emergency situation while the tundish dispenses the molten metal stored in the tundish to the cooling roll. Accordingly, the tundish position control device in the second movement step S20, the molten metal injection step S30 and the returning step S40, when detecting the unexpected situation in the unexpected situation sensing step S70, It is possible to return to the standby position.
용탕 감지 단계(S80)에서의 턴디쉬 위치 제어 장치는, 턴디쉬에 저장된 용탕의 무게 및 수위(level) 중 적어도 하나를 감지할 수 있다. 이에 따라, 복귀 단계(S40)에서의 턴디쉬 위치 제어 장치는 상기 용탕 감지 단계(S80)에서 감지한 무게 또는 수위가 최소값이 된 후(또는 잔여 용탕 미감지 후)에 상기 턴디쉬를 대기 위치로 복귀시킬 수 있다.
The tundish position control device in the molten metal sensing step S80 may sense at least one of the weight and the level of the molten metal stored in the tundish. Accordingly, the tundish position control device in the returning step S40 may set the tundish to the standby position after the weight or the level detected in the sensing step S80 becomes the minimum value (or after the remaining molten metal is detected) Can be returned.
도7은 턴디쉬 위치 제어 장치 및 방법에서 턴디쉬 위치좌표축에 따른 턴디쉬 이동 속도를 도시한 그래프이다.
7 is a graph showing a tundish moving speed according to a tundish position coordinate axis in the tundish position control apparatus and method.
제1 구간에서 턴디쉬의 하강 속도는 0.5mm/sec 내지 1mm/sec의 범위에서 설정될 수 있고, 제2 구간에서 턴디쉬의 하강 속도는 0.1mm/sec 내지 0.2mm/sec의 범위에서 설정될 수 있다.The descending speed of the tundish in the first section may be set in the range of 0.5 mm / sec to 1 mm / sec, and the descending speed of the tundish in the second section may be set in the range of 0.1 mm / sec to 0.2 mm / sec .
제2 구간에서 턴디쉬의 하강 속도가 지나치게 빠를 경우, 갭의 급격한 변화로 인한 용탕의 비산, 노즐(140)과 냉각롤(120)의 충돌 등이 발생될 수 있다. 또한, 제2 구간에서 턴디쉬의 하강 속도가 지나치게 느릴 경우, 조업 진행에 따른 갭의 변화에 대한 대응이 힘들며, 턴디쉬(110)의 진동, 냉각롤(120)의 진동 또는 외부에서 가해지는 외란 등으로 인한 급격한 갭의 변화가 보상되기 힘들 수 있다.If the descending speed of the tundish is excessively high in the second section, scattering of the molten metal due to abrupt change in the gap, collision of the
또한, 제2 구간 내에서도 냉각롤(120)과 노즐(140) 사이의 거리에 따라 구간이 복수개로 나눠질 수 있다. 예를 들어, 턴디쉬가 목표위치에 근접할 경우, 턴디쉬의 하강 속도는 0.2mm/sec 에서 0.1mm/sec로 변경될 수 있다.In addition, even in the second section, the section can be divided into a plurality of sections according to the distance between the cooling
한편, 턴디쉬가 목표위치에 위치할 경우, 냉각롤과 노즐 사이의 갭은 0.15mm에서 1mm의 범위일 수 있다. 여기서, 턴디쉬가 목표위치에 위치할 경우의 갭이 짧을수록 제2 구간에서의 턴디쉬의 하강 속도는 느려질 수 있다.
On the other hand, when the tundish is located at the target position, the gap between the cooling roll and the nozzle may range from 0.15 mm to 1 mm. Here, the shorter the gap when the tundish is located at the target position, the slower the descending speed of the tundish in the second section may be.
도8은 턴디쉬 위치 제어 장치 및 방법에서 턴디쉬 동작 시간에 따른 턴디쉬 위치좌표축을 도시한 그래프이다.
8 is a graph showing coordinate axes of tundish positions according to the tundish operation time in the tundish position controller and method.
턴디쉬(110)가 목표위치에 위치하는 시간인 대기중(용탕 분사전) 및 조업중(용탕 분사중)에는 턴디쉬의 갭 정밀 제어가 수행되어 움직임이 최소화될 수 있다.The movement of the tundish can be minimized by precisely controlling the gap of the tundish during waiting (during the melting of the molten metal) and during operation (during the molten metal injection), which is the time when the
조업종료(용탕 분사후)후, 턴디쉬(110)는 목표위치에서 대기위치로 빠르게 이동할 수 있다. 여기서, 턴디쉬의 상승 속도는 제1 구간에서의 턴디쉬의 하강 속도인 0.5mm/sec 내지 1mm/sec의 범위에서 설정될 수 있다.
After the end of the operation (after the molten metal is sprayed), the
본 발명은 전술한 실시예 및 첨부된 도면에 의해 한정되는 것이 아니다. 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 있어, 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명에 따른 구성요소를 치환, 변형 및 변경할 수 있다는 것이 명백할 것이다.
The present invention is not limited to the above-described embodiments and the accompanying drawings. It will be apparent to those skilled in the art that various changes in form and details may be made therein without departing from the spirit and scope of the invention as defined by the appended claims.
100: 턴디쉬 위치 제어 장치
110: 턴디쉬
120: 냉각롤
130: 제어부
140: 노즐
150: 갭 측정부
160: 갭 제어부
170: 감지부
S10: 제1 이동 단계
S11: 온도 감지 단계
S20: 제2 이동 단계
S21: 냉각롤 회전 단계
S30: 용탕 분사 단계
S40: 복귀 단계
S50: 갭 측정 단계
S60: 갭 제어 단계
S70: 돌발 상황 감지 단계
S80: 용탕 감지 단계100: tundish position control device 110: tundish
120: cooling roll 130:
140: nozzle 150: gap measuring unit
160: gap controller 170:
S10: first moving step S11: temperature sensing step
S20: second moving step S21: cooling roll rotating step
S30: molten metal injection step S40: return step
S50: Gap measurement step S60: Gap control step
S70: Detecting the unexpected situation S80: Detecting the molten metal
Claims (18)
상기 턴디쉬의 하부에 배치되어 상기 턴디쉬로부터 배출되는 용탕을 냉각시키는 냉각롤; 및
상기 턴디쉬를 승강시켜 상기 턴디쉬의 위치를 제어하는 제어부; 를 포함하고,
상기 제어부는 상기 턴디쉬와 상기 냉각롤 사이의 거리가 특정 값보다 작은 제2 구간에서의 상기 턴디쉬의 하강 속도를 상기 턴디쉬와 상기 냉각롤 사이의 거리가 특정 값보다 큰 제1 구간에서의 상기 턴디쉬의 승강 속도보다 느리게 하여 상기 턴디쉬의 위치를 제어하는 턴디쉬 위치 제어 장치.
A tundish storing molten metal therein;
A cooling roll disposed below the tundish to cool the molten metal discharged from the tundish; And
A control unit for controlling the position of the tundish by moving the tundish up and down; Lt; / RTI >
Wherein the control unit controls the tundish lowering speed of the tundish in a second section in which the distance between the tundish and the cooling roll is smaller than a specific value in a first section in which the distance between the tundish and the cooling roll is greater than a specific value And controls the position of the tundish by making the speed of the tundish lower than that of the tundish.
상기 턴디쉬의 하부에 배치되어 용탕을 분사하는 노즐;
상기 턴디쉬가 상기 제2 구간에 위치하는 경우 노즐과 냉각롤 사이의 갭(gap)을 측정하는 갭 측정부; 및
상기 갭 측정부가 측정한 갭에 기초하여 상기 노즐과 냉각롤과의 갭을 제어하는 갭 제어부; 를 더 포함하는 턴디쉬 위치 제어 장치.
The method according to claim 1,
A nozzle disposed at a lower portion of the tundish to spray the molten metal;
A gap measuring unit for measuring a gap between the nozzle and the cooling roll when the tundish is located in the second section; And
A gap controller for controlling a gap between the nozzle and the cooling roll based on the gap measured by the gap measuring unit; Further comprising:
상기 턴디쉬가 상기 제2 구간에서 하강하는 동안, 상기 제어부는 상기 턴디쉬가 노즐과 냉각롤과의 갭의 절반보다 작은 변위로 진동할 만큼 느린 이동 속도로 상기 턴디쉬를 하강시키는 턴디쉬 위치 제어 장치.
3. The method of claim 2,
Wherein the control unit controls the tundish position control to lower the tundish at a moving speed that is slow enough that the tundish oscillates at a displacement smaller than half the gap between the nozzle and the cooling roll while the tundish descends in the second section, Device.
상기 제어부는 상기 턴디쉬가 제1 구간에 위치하는 경우의 턴디쉬의 승강속도를 0.5mm/sec 이상 1mm/sec 이하의 범위에서 설정하고,
상기 턴디쉬가 제2 구간에 위치하는 경우의 턴디쉬의 하강속도를 0.1mm/sec 이상 0.2mm/sec 이하의 범위에서 설정하는 턴디쉬 위치 제어 장치.
The method according to claim 1,
Wherein the control unit sets the rising / falling speed of the tundish when the tundish is located in the first section in a range of 0.5 mm / sec to 1 mm / sec,
And a descending speed of the tundish when the tundish is located in the second section is set in a range of 0.1 mm / sec to 0.2 mm / sec.
상기 턴디쉬에 저장된 용탕의 온도, 무게, 수위(level), 상기 냉각롤의 회전 속도 및 돌발(emergency) 상황의 발생 중 적어도 하나를 감지하는 감지부를 더 포함하고,
상기 제어부는 상기 감지부의 감지 결과에 기초하여 상기 턴디쉬를 제어하는 턴디쉬 위치 제어 장치.
The method according to claim 1,
Further comprising a sensing unit for sensing at least one of a temperature, a weight, a level of the molten metal stored in the tundish, a rotation speed of the cooling roll, and an occurrence of an emergency situation,
Wherein the control unit controls the tundish based on the detection result of the sensing unit.
상기 냉각롤은 상기 턴디쉬가 대기 위치로 하강한 후에 회전을 시작하고,
상기 제어부는 상기 감지부에서 감지한 냉각롤의 회전 속도가 목표 속도보다 빨라진 이후 상기 턴디쉬를 대기 위치에서 하강시키는 턴디쉬 위치 제어 장치.
6. The method of claim 5,
The cooling roll starts to rotate after the tundish descends to the standby position,
Wherein the control unit lowers the tundish at a standby position after the rotation speed of the cooling roll sensed by the sensing unit becomes higher than a target speed.
상기 제어부는 상기 감지부에서 감지한 온도가 목표 온도 이상으로 상승된 후에 상기 턴디쉬를 대기 위치로 하강시키는 턴디쉬 위치 제어 장치.
6. The method of claim 5,
Wherein the control unit lowers the tundish to a standby position after the temperature sensed by the sensing unit rises above a target temperature.
상기 제어부는 상기 감지부가 감지한 무게 또는 수위가 최소값이 된 후에 상기 턴디쉬를 상승시키는 턴디쉬 위치 제어 장치.
6. The method of claim 5,
Wherein the control unit raises the tundish after the weight or the level detected by the sensing unit reaches a minimum value.
상기 제어부는 상기 감지부에서 돌발 상황을 감지한 경우 상기 턴디쉬를 상승시키는 턴디쉬 위치 제어 장치.
6. The method of claim 5,
Wherein the control unit raises the tundish when an unexpected condition is detected in the sensing unit.
상기 대기 위치에 위치하는 턴디쉬를 목표 위치로 이동시키는 제2 이동 단계;
상기 목표 위치에 위치하는 턴디쉬가 상기 턴디쉬에 저장된 용탕을 냉각롤에 분사하는 용탕 분사 단계; 및
상기 목표 위치에 위치하는 턴디쉬를 대기 위치로 복귀시키는 복귀 단계; 를 포함하고,
상기 제2 이동 단계의 턴디쉬 이동 속도는 상기 제1 이동 단계의 턴디쉬 이동 속도보다 느린 턴디쉬 위치 제어 방법.
A first moving step of moving a tundish storing a molten metal to a standby position;
A second moving step of moving the tundish located at the standby position to a target position;
A molten metal spraying step of spraying a molten metal stored in the tundish to a cooling roll at a tundish located at the target position; And
Returning the tundish at the target position to the standby position; Lt; / RTI >
Wherein the tundish moving speed of the second moving step is slower than the tundish moving speed of the first moving step.
상기 제2 이동 단계 및 상기 용탕 분사 단계에서 상기 턴디쉬에 포함된 노즐과 냉각롤 사이의 갭을 측정하는 갭 측정 단계; 및
상기 갭 측정 단계에서 측정한 갭에 기초하여 상기 노즐과 냉각롤과의 갭을 제어하는 갭 제어 단계; 를 더 포함하는 턴디쉬 위치 제어 방법.
11. The method of claim 10,
A gap measuring step of measuring a gap between the nozzle and the cooling roll included in the tundish in the second moving step and the molten metal jetting step; And
A gap control step of controlling a gap between the nozzle and the cooling roll based on the gap measured in the gap measuring step; Further comprising the steps of:
상기 제2 이동 단계는 턴디쉬가 이동하는 동안 상기 턴디쉬가 상기 노즐과 냉각롤과의 갭의 절반보다 작은 변위로 진동할 만큼 느린 이동 속도로 상기 턴디쉬를 목표 위치로 이동시키는 턴디쉬 위치 제어 방법.
12. The method of claim 11,
Wherein the second movement step moves the tundish to a target position at a moving speed that is slow enough for the tundish to oscillate at a displacement less than half the gap between the nozzle and the cooling roll while the tundish moves, Way.
상기 제2 이동 단계의 턴디쉬 이동 속도는 0.1mm/sec 이상 0.2mm/sec 이하의 범위이고,
상기 목표 위치에 위치하는 턴디쉬의 노즐과 냉각롤 사이의 갭은 0.15mm이상 1mm이하의 범위인 턴디쉬 위치 제어 방법.
12. The method of claim 11,
The tundish moving speed of the second moving step is in the range of 0.1 mm / sec to 0.2 mm / sec,
Wherein a gap between a nozzle of the tundish located at the target position and the cooling roll is in a range of 0.15 mm or more and 1 mm or less.
상기 복귀 단계는 상기 제2 이동 단계의 턴디쉬 이동 속도보다 빠르게 상기 턴디쉬를 이동시키는 턴디쉬 위치 제어 방법.
11. The method of claim 10,
Wherein the returning step moves the tundish faster than the tundish moving speed of the second moving step.
상기 턴디쉬에 저장된 용탕의 온도를 감지하는 온도 감지 단계를 더 포함하고,
상기 제1 이동 단계는 상기 온도 감지 단계에서 감지한 온도가 목표 온도 이상으로 상승된 후에 상기 턴디쉬를 대기 위치로 이동시키는 턴디쉬 위치 제어 방법.
11. The method of claim 10,
Further comprising a temperature sensing step of sensing a temperature of the molten metal stored in the tundish,
Wherein the first movement step moves the tundish to a standby position after the temperature sensed in the temperature sensing step rises above a target temperature.
상기 제1 이동 단계에 의하여 상기 턴디쉬가 대기 위치로 이동한 후 냉각롤을 목표 속도로 회전시키는 냉각롤 회전 단계를 더 포함하고,
상기 제2 이동 단계는 상기 냉각롤이 목표 속도로 회전하는 동안 상기 턴디쉬를 목표 위치로 이동시키는 턴디쉬 위치 제어 방법.
11. The method of claim 10,
Further comprising a cooling roll rotating step of rotating the cooling roll at a target speed after the tundish moves to a standby position by the first moving step,
Wherein the second moving step moves the tundish to a target position while the cooling roll is rotating at a target speed.
상기 턴디쉬에 저장된 용탕의 무게 및 수위(level) 중 적어도 하나를 감지하는 용탕 감지 단계를 더 포함하고,
상기 복귀 단계는 상기 용탕 감지 단계에서 감지한 무게 또는 수위가 최소값이 된 후에 상기 턴디쉬를 대기 위치로 복귀시키는 턴디쉬 위치 제어 방법.
11. The method of claim 10,
Further comprising a molten metal sensing step of sensing at least one of a weight and a level of the molten metal stored in the tundish,
Wherein the returning step returns the tundish to the standby position after the weight or the level detected in the sensing step is the minimum value.
상기 턴디쉬가 상기 턴디쉬에 저장된 용탕을 냉각롤에 분사하는 동안 돌발(emergency) 상황의 발생을 감지하는 돌발 상황 감지 단계를 더 포함하고,
상기 복귀 단계는 상기 돌발 상황 감지 단계에서 돌발 상황을 감지한 경우 상기 턴디쉬를 대기 위치로 복귀시키는 턴디쉬 위치 제어 방법.
11. The method of claim 10,
Further comprising an unexpected condition detecting step of detecting occurrence of an emergency situation while the tundish dispenses the molten metal stored in the tundish to the cooling roll,
Wherein the returning step returns the tundish to a standby position when an unexpected situation is detected in the unexpected situation detection step.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020140131057A KR102235438B1 (en) | 2014-09-30 | 2014-09-30 | Tundish position control apparatus and method |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020140131057A KR102235438B1 (en) | 2014-09-30 | 2014-09-30 | Tundish position control apparatus and method |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20160038967A true KR20160038967A (en) | 2016-04-08 |
KR102235438B1 KR102235438B1 (en) | 2021-04-05 |
Family
ID=55907833
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020140131057A KR102235438B1 (en) | 2014-09-30 | 2014-09-30 | Tundish position control apparatus and method |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR102235438B1 (en) |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH081283A (en) * | 1994-06-13 | 1996-01-09 | Kawasaki Steel Corp | Device for controlling gap of molten metal pouring nozzle |
JPH0810907A (en) * | 1994-06-27 | 1996-01-16 | Kawasaki Steel Corp | Method for controlling thickness of metal strip |
JPH11226704A (en) * | 1998-02-12 | 1999-08-24 | Nippon Steel Corp | Production of amorphous alloy thin strip |
KR100444808B1 (en) * | 1996-10-31 | 2004-11-06 | 가부시끼가이샤 닛페이도야마 | Laser beam processing equipment |
KR20090084223A (en) | 2008-01-31 | 2009-08-05 | 주식회사 포스콘 | A method and system for controlling a position of a tundish |
KR20120136223A (en) * | 2011-06-08 | 2012-12-18 | 재단법인 포항산업과학연구원 | Device for controling nozzle for manufacturing amorphous strip |
KR20130077479A (en) * | 2011-12-29 | 2013-07-09 | 재단법인 포항산업과학연구원 | Device for controlling gap of cooling wheel and nozzle for manufacturing amorphous fiber |
-
2014
- 2014-09-30 KR KR1020140131057A patent/KR102235438B1/en active IP Right Grant
Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH081283A (en) * | 1994-06-13 | 1996-01-09 | Kawasaki Steel Corp | Device for controlling gap of molten metal pouring nozzle |
JPH0810907A (en) * | 1994-06-27 | 1996-01-16 | Kawasaki Steel Corp | Method for controlling thickness of metal strip |
KR100444808B1 (en) * | 1996-10-31 | 2004-11-06 | 가부시끼가이샤 닛페이도야마 | Laser beam processing equipment |
JPH11226704A (en) * | 1998-02-12 | 1999-08-24 | Nippon Steel Corp | Production of amorphous alloy thin strip |
KR20090084223A (en) | 2008-01-31 | 2009-08-05 | 주식회사 포스콘 | A method and system for controlling a position of a tundish |
KR20120136223A (en) * | 2011-06-08 | 2012-12-18 | 재단법인 포항산업과학연구원 | Device for controling nozzle for manufacturing amorphous strip |
KR20130077479A (en) * | 2011-12-29 | 2013-07-09 | 재단법인 포항산업과학연구원 | Device for controlling gap of cooling wheel and nozzle for manufacturing amorphous fiber |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR102235438B1 (en) | 2021-04-05 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN100569686C (en) | Applying device and coating method | |
US9950364B2 (en) | Method for a pouring control and a storage medium for storing programs for causing a computer to work as a pouring control means | |
JP2011510279A (en) | Method and apparatus for monitoring the surface of slag and molten metal in a mold | |
EP3231535B1 (en) | Molten metal pouring device and molten metal pouring method | |
US5105874A (en) | Process for continuously determining the thickness of the liquid slag on the surface of a bath of molten metal in a metallurgical container | |
KR20160038967A (en) | Tundish position control apparatus and method | |
KR100752693B1 (en) | Automation of a high-speed continuous casting plant | |
US9931692B2 (en) | Hoisting type continuous casting device, hoisting type continuous casting method, and solidification interface detection device | |
KR102271790B1 (en) | Method and plant for pulling single crystal by FZ method | |
KR101782607B1 (en) | Device for controling level of nozzle for manufacturing amorphous strip | |
US20160288199A1 (en) | Pulling-up-type continuous casting apparatus and pulling-up-type continuous casting method | |
JP2017024026A (en) | Automatic molten metal pouring method and automatic molten metal pouring device | |
US10166600B2 (en) | Formed body manufacturing method and formed body manufacturing apparatus | |
KR101585786B1 (en) | Tundish gap control apparatus and method | |
KR101585783B1 (en) | Tundish gap control apparatus and method | |
JPS63115660A (en) | Predicting method for breakout in continuous casting | |
US9919357B2 (en) | Up-drawing continuous casting apparatus and up-drawing continuous casting method | |
WO2015015697A1 (en) | Upward continuous casting device and upward continuous casting method | |
KR101244323B1 (en) | Apparatus for measuring physical quantity and method for continuous casting using the same | |
JP6050173B2 (en) | Plasma heating control apparatus and plasma heating control method | |
KR20180073199A (en) | Continuous casting equipment of vertical type and control method thereof | |
JP2004216447A (en) | Molten metal supplying method | |
KR101674770B1 (en) | Tundish stopper opening and closing apparatus | |
US20220355371A1 (en) | Method for balancing a flow of liquid steel into a casting mold and continuous casting system for liquid steel | |
JP5098768B2 (en) | Strip casting method and twin roll casting machine |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant |