KR20160021387A - Scintillator panel and method of manufacturing the same - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은 신틸레이터 패널 및 그 제조방법에 관한 것이다. 더욱 상세하게는 신틸레이터 패널의 댐 구조물을 형성하기 위한 공정을 간소화하여 댐 구조물을 형성하는데 소요되는 작업시간을 감소시킬 수 있는 신틸레이터 패널 및 그 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to a scintillator panel and a manufacturing method thereof. And more particularly, to a scintillator panel capable of reducing a time required for forming a dam structure by simplifying a process for forming a dam structure of a scintillator panel, and a manufacturing method thereof.
대상체를 통과한 엑스레이(X-ray)를 이용하여 화상을 구현하는 디지털 방사선 영상장치는 엑스레이를 영상신호로 변환하는 방식에 따라 직접변환방식과 간접변환방식으로 나누어진다. 직접변환방식은 조사된 엑스레이를 전기적 신호로 직접 변환하여 영상신호를 검출하는 방식이다. 한편, 간접변환방식은 엑스레이를 가시광선으로 변환한 후, 가시광선을 포토다이오드를 이용하여 전기적 신호로 변환하고, CMOS 센서 또는 CCD 센서 등의 이미지센서를 이용하여 영상신호를 검출하는 방식이다.A digital radiographic imaging apparatus that implements an image using an X-ray passed through a target object is divided into a direct conversion method and an indirect conversion method according to a method of converting an X-ray into an image signal. The direct conversion method is a method of detecting video signals by directly converting the irradiated x-rays into electrical signals. In the indirect conversion method, the X-ray is converted into visible light, the visible light is converted into an electrical signal using a photodiode, and a video signal is detected using an image sensor such as a CMOS sensor or a CCD sensor.
대표적인 간접변환방식이 적용된 디지털 방사선 영상장치는 엑스레이 디텍터(X-ray detector)가 있다. 엑스레이 디텍터는 대상체를 통과한 방사선을 소정파장 범위의 빛으로 변환하는 신틸레이터층과 신틸레이터층에서 변환된 소정파장 범위의 빛의 밝기를 근거로 전기신호를 발생시키는 포토다이오드 및 전기신호를 근거로 피사체의 내부 상태에 대한 이미지를 생성하는 픽셀 어레이 등이 배치되는 패널로 형성된 신틸레이터 패널을 포함할 수 있다.A typical X-ray detector using an indirect conversion method is an X-ray detector. The X-ray detector includes a photodiode for generating an electric signal based on the brightness of light in a predetermined wavelength range converted from a scintillator layer and a scintillator layer for converting radiation passing through a target into light in a predetermined wavelength range, And a scintillator panel formed of a panel in which a pixel array or the like for generating an image of the internal state of the object is disposed.
한편, 신틸레이터 패널의 신틸레이터층은 공기 중의 수증기와 반응하게 되면 용해되어 손상될 수 있다. 즉, 신틸레이터층은 공기 중의 수분에 매우 취약하다. 이에 따라, 신틸레이터 패널은 신틸레이터층이 수증기와 반응하는 것을 방지하기 위한 방습구조가 형성될 수 있다.On the other hand, when the scintillator layer of the scintillator panel reacts with water vapor in the air, it may be dissolved and damaged. That is, the scintillator layer is very vulnerable to moisture in the air. Accordingly, the scintillator panel may have a moisture-proof structure for preventing the scintillator layer from reacting with water vapor.
또한, 신틸레이터 패널은 방습구조가 형성되는 동안 패널이 손상되는 것을 방지하기 위한 보호구조가 형성될 수 있다. 신틸레이터 패널의 공정효율은 보호구조와 방습구조를 형성하기 위한 공정의 복잡성과, 그에 따라 보호구조와 방습구조가 형성되는 시간에 의해 결정될 수 있다.In addition, the scintillator panel may be formed with a protective structure for preventing the panel from being damaged while the moisture-proof structure is formed. The process efficiency of the scintillator panel can be determined by the complexity of the process for forming the protective structure and the moisture-proof structure, and thus the time during which the protective structure and the moisture-proof structure are formed.
따라서, 신틸레이터 패널의 보호구조와 방습구조를 형성하기 위한 공정을 단축시켜 신틸레이터 패널을 제조하는 공정을 효율화하기 위한 기술이 요구된다.Therefore, there is a need for a technique for improving the efficiency of the process of manufacturing the scintillator panel by shortening the process for forming the protective structure of the scintillator panel and the moisture-proof structure.
본 발명은 신틸레이터 패널의 보호구조와 방습구조를 형성하는 공정을 단순화하여 보호구조와 방습구조가 형성되는 시간을 단축시킬 수 있는 신틸레이터 패널 및 그 제조방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.It is an object of the present invention to provide a scintillator panel capable of simplifying a protective structure of a scintillator panel and a process of forming a moisture-proof structure to shorten the time for forming a protective structure and a moisture-proof structure, and a manufacturing method thereof.
본 발명의 목적은 이상에서 언급한 것으로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 목적들은 아래의 기재로부터 본 발명이 속하는 기술분야의 통상의 지식을 가진 자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.The objects of the present invention are not limited to those mentioned above, and other objects not mentioned may be clearly understood by those skilled in the art from the following description.
상기 과제를 해결하기 위한 본 발명의 실시예에 따른 신틸레이터 패널은 패널과, 상기 패널의 일면에 형성되고, 방사선을 소정 파장 범위의 광으로 변환하는 신틸레이터층(scintillator layer)과, 상기 신틸레이터층의 외측 둘레를 감싸도록 상기 패널의 일면에 접착되어 형성되는 제 1 댐(dam) 구조물과, 상기 신틸레이터층과 상기 제 1 댐 구조물의 소정부분을 덮도록 형성되는 제 1 보호층과, 상기 제 1 보호층 위에 적층되는 반사층과, 상기 반사층과 상기 제 1 댐 구조물 사이의 공간을 메우고 상기 제 1 댐 구조물의 소정부분을 덮도록 형성되는 제 1 방습부를 포함하고, 상기 제 1 댐 구조물은 방수 테이프로 형성된다.According to an aspect of the present invention, there is provided a scintillator panel including a panel, a scintillator layer formed on one surface of the panel, the scintillator layer converting radiation into light in a predetermined wavelength range, A first dam structure attached to one surface of the panel so as to surround the outer periphery of the panel, a first protective layer covering the scintillator layer and a predetermined portion of the first dam structure, And a first moisture-proof portion formed to cover a space between the reflective layer and the first dam structure and cover a predetermined portion of the first dam structure, wherein the first dam structure is waterproof Tape.
또한, 상기 제 1 보호층은, 상기 제 1 댐 구조물의 소정부분에 마스크를 형성하고, 상기 신틸레이터층과 상기 제 1 댐 구조물에 패릴렌(Parylene)을 도포한 후, 상기 제 1 댐 구조물에 형성된 상기 마스크가 제거됨으로써 형성될 수 있다.The first protection layer may be formed by forming a mask on a predetermined portion of the first dam structure, applying parylene to the scintillator layer and the first dam structure, Can be formed by removing the formed mask.
또한, 상기 제 1 댐 구조물의 외측 둘레로부터 소정간격 이격되도록 상기 패널 위에 접착되어 형성되는 제 2 댐(dam) 구조물을 더 포함할 수 있다.The dam structure may further include a second dam structure adhered to the panel at a predetermined distance from the outer periphery of the first dam structure.
또한, 상기 제 2 댐 구조물은 방수 테이프로 형성될 수 있다.In addition, the second dam structure may be formed of a waterproof tape.
또한, 상기 제 1 방습부는 상기 반사층과 상기 제 1 댐 구조물 사이의 공간을 메우고, 상기 제 1 댐 구조물의 소정부분을 덮도록 형성되며, 상기 제 1 댐 구조물과 상기 제 2 댐 구조물 사이의 공간을 메우도록 형성되고, 상기 제 2 댐 구조물의 소정부분을 덮도록 형성될 수 있다.The first moisture-proof portion is formed to fill a space between the reflective layer and the first dam structure and cover a predetermined portion of the first dam structure, and a space between the first dam structure and the second dam structure And may be formed to cover a predetermined portion of the second dam structure.
또한, 상기 반사층 위에 형성되며, 상기 제 1 방습부의 소정부분을 덮도록 형성되는 제 2 보호층을 더 포함할 수 있다.The optical information recording medium may further include a second protective layer formed on the reflective layer and covering a predetermined portion of the first moisture-proof portion.
또한, 상기 제 2 보호층은, 상기 제 2 댐 구조물의 소정부분에 마스크를 형성하고, 상기 반사층과 상기 제 2 댐 구조물에 패릴렌(Parylene)을 도포한 후, 상기 제 2 댐 구조물에 형성된 상기 마스크가 제거됨으로써 형성될 수 있다.The second protection layer may be formed by forming a mask on a predetermined portion of the second dam structure, applying parylene to the reflection layer and the second dam structure, Can be formed by removing the mask.
또한, 상기 제 2 보호층의 소정부분과 상기 제 2 댐 부재의 소정부분을 덮도록 형성되는 제 2 방습부를 더 포함할 수 있다.Further, the apparatus may further include a second moisture-proof portion formed to cover a predetermined portion of the second protection layer and a predetermined portion of the second dam member.
또한, 상기 제 1 방습부 및 상기 제 2 방습부는 상온에서 경화 가능한 투습방지용 코팅액이 도포되어 형성될 수 있다.The first moisture-proof portion and the second moisture-proof portion may be formed by coating a moisture-permeable coating liquid that can be cured at room temperature.
또한, 상기 투습방지용 코팅액은 히타치사의 TF-4200EB-451로 형성될 수 있다.Further, the moisture permeation preventing coating liquid may be formed of TF-4200EB-451 of Hitachi, Ltd.
한편, 상기 과제를 해결하기 위한 본 발명의 실시예에 따른 신틸레이터 패널 제조방법은 패널의 일면에 신틸레이터층(scintillator layer)을 형성하는 단계; 상기 신틸레이터층의 외측 둘레를 감싸도록 제 1 댐(dam) 구조물을 상기 패널의 일면에 접착하는 단계; 상기 신틸레이터층과 상기 제 1 댐 구조물의 소정부분을 덮도록 상기 제 1 보호층을 형성하는 단계; 상기 제 1 보호층 위에 반사층을 적층하는 단계; 및 상기 반사층과 상기 제 1 댐 구조물 사이의 공간을 메우고 상기 제 1 댐 구조물의 소정부분을 덮도록 제 1 방습부를 형성하는 단계;를 포함하고, 상기 제 1 댐 구조물은 방수 테이프로 형성된다.According to another aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a scintillator panel, including: forming a scintillator layer on a surface of a panel; Bonding a first dam structure to one surface of the panel to surround the outer periphery of the scintillator layer; Forming the first passivation layer to cover the scintillator layer and a predetermined portion of the first dam structure; Stacking a reflective layer on the first passivation layer; And forming a first moisture-proof portion to fill a space between the reflective layer and the first dam structure and cover a predetermined portion of the first dam structure, wherein the first dam structure is formed of a waterproof tape.
또한, 상기 제 1 보호층을 형성하는 단계는, 상기 제 1 댐 구조물의 소정부분에 마스크를 형성하는 단계, 상기 신틸레이터층과 상기 제 1 댐 구조물을 덮도록 패릴렌(Parylene)을 도포하는 단계; 및 상기 제 1 댐 구조물에 형성된 상기 마스크를 제거하는 단계;를 포함할 수 있다.The forming of the first passivation layer may include forming a mask on a predetermined portion of the first dam structure, applying a parylene to cover the scintillator layer and the first dam structure, ; And removing the mask formed on the first dam structure.
또한, 상기 방법은, 상기 제 1 보호층 위에 반사층을 적층하는 단계 이후에, 상기 제 1 댐 구조물의 외측 둘레로부터 소정간격 이격되도록 제 2 댐 구조물을 상기 패널의 일면에 접착하는 단계;를 더 포함할 수 있다.The method further includes bonding the second dam structure to one surface of the panel so as to be spaced apart from the outer periphery of the first dam structure after the step of laminating the reflective layer on the first protective layer can do.
또한, 상기 제 2 댐 구조물은 방수 테이프로 형성될 수 있다.In addition, the second dam structure may be formed of a waterproof tape.
또한, 상기 제 1 방습부는 상기 반사층과 상기 댐 구조물 사이의 공간을 메우고, 상기 제 1 댐 구조물의 소정부분을 덮도록 형성되며, 상기 제 1 댐 구조물과 상기 제 2 댐 구조물 사이의 공간을 메우도록 형성될 수 있다.The first moisture-proof portion may be formed to fill a space between the reflection layer and the dam structure and cover a predetermined portion of the first dam structure, so as to fill a space between the first dam structure and the second dam structure. .
또한, 상기 방법은, 상기 제 2 보호층의 소정부분을 덮도록 상기 반사층 위에 제 2 보호층을 형성하는 단계; 및 상기 제 2 보호층의 소정부분과 상기 제 2 댐 부재의 소정부분을 덮도록 상기 제 2 방습부를 형성하는 단계;를 더 포함할 수 있다.The method may further comprise: forming a second protective layer on the reflective layer to cover a predetermined portion of the second protective layer; And forming the second moisture-proof portion to cover a predetermined portion of the second protective layer and a predetermined portion of the second dam member.
또한, 상기 제 2 보호층을 형성하는 단계는, 상기 제 2 댐 구조물의 소정부분에 마스크를 형성하는 단계; 상기 반사층과 상기 제 2 댐 구조물을 덮도록 패릴렌(Parylene)을 도포하는 단계; 및 상기 제 2 댐 구조물에 형성된 마스크를 제거하는 단계;를 포함할 수 있다.The forming of the second passivation layer may include: forming a mask on a predetermined portion of the second dam structure; Applying a parylene to cover the reflective layer and the second dam structure; And removing the mask formed on the second dam structure.
또한, 상기 제 1 방습부 및 상기 제 2 방습부는 상온에서 경화 가능한 투습방지용 코팅액이 도포되어 형성될 수 있다.The first moisture-proof portion and the second moisture-proof portion may be formed by coating a moisture-permeable coating liquid that can be cured at room temperature.
또한, 상기 투습방지용 코팅액은 히타치사의 TF-4200EB-451로 형성될 수 있다.Further, the moisture permeation preventing coating liquid may be formed of TF-4200EB-451 of Hitachi, Ltd.
본 발명에 실시예에 따른 신틸레이터 패널 및 그 제조방법은 제 1 댐 구조물 및 제 2 댐 구조물이 접착가능한 방수 테이프로 형성됨으로써, 방수 테이프가 패널에 단순히 접착되는 공정에 의해 제 1 댐 구조물 및 제 2 댐 구조물이 패널에 형성될 수 있다. 즉, 본 발명의 실시예에 따른 신틸레이터 패널 및 그 제조방법은 패널에 제 1 댐 구조물 및 제 2 댐 구조물을 형성하는 공정이 단순화되어 패널에 제 1 댐 구조물 및 제 2 댐 구조물이 형성되는 시간이 단축될 수 있다.The scintillator panel and the method of manufacturing the same according to the embodiment of the present invention are formed of the waterproof tape to which the first dam structure and the second dam structure can be adhered and thereby the waterproof tape is simply adhered to the panel, 2 Dam structures may be formed on the panel. That is, the scintillator panel and the method of manufacturing the same according to the embodiment of the present invention simplify the process of forming the first dam structure and the second dam structure on the panel, Can be shortened.
또한, 본 발명의 실시예에 따른 신틸레이터 패널 및 그 제조방법은 제 1 방습부 및 제 2 방습부가 상온에서 경화 가능한 투습방지용 코팅액이 도포되는 공정에 의해 형성됨으로써, 제 1 방습부 및 제 2 방습부가 형성되는 시간이 단축될 수 있다.In addition, the scintillator panel and the method of manufacturing the same according to the embodiment of the present invention are formed by a process in which the first moisture-proof portion and the second moisture-proof portion are coated with a coating liquid for moisture- The time for forming the part can be shortened.
즉, 본 발명의 실시예에 따른 신틸레이터 패널 및 그 제조방법은 제 1 댐 구조물 및 제 2 댐 구조물이 패널에 형성되는 시간이 단축되고, 제 1 방습부 및 제 2 방습부가 형성되는 시간이 단축됨으로써, 신틸레이터 패널을 제조하는데 소요되는 시간이 단축될 수 있다.That is, in the scintillator panel and the manufacturing method thereof according to the embodiment of the present invention, the time for forming the first dam structure and the second dam structure on the panel is shortened, and the time for forming the first moisture- The time required for manufacturing the scintillator panel can be shortened.
본 발명의 효과는 이상에서 언급한 것으로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 효과들은 아래의 기재로부터 본 발명이 속하는 기술분야의 통상의 지식을 가진 자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.The effects of the present invention are not limited to those mentioned above, and other effects not mentioned can be clearly understood by those skilled in the art from the following description.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 신틸레이터 패널을 개략적으로 보여주는 도면이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 신틸레이터 패널 제조방법의 순서를 개략적으로 보여주는 도면이다.
도 3은 본 발명의 다른 실시예에 따른 신틸레이터 패널을 개략적으로 보여주는 도면이다.
도 4는 본 발명의 다른 실시예에 따른 신틸레이터 패널 제조방법의 순서를 개략적으로 보여주는 도면이다.
도 5는 도 4에 도시된 본 발명의 다른 실시예에 따른 신틸레이터 패널 제조방법의 순서 이후의 순서를 개략적으로 보여주는 도면이다.1 is a schematic view of a scintillator panel according to an embodiment of the present invention.
2 is a schematic view illustrating a procedure of a method of manufacturing a scintillator panel according to an embodiment of the present invention.
3 is a schematic view of a scintillator panel according to another embodiment of the present invention.
4 is a view schematically showing a procedure of a method of manufacturing a scintillator panel according to another embodiment of the present invention.
FIG. 5 is a view schematically showing a sequence of steps subsequent to the method of manufacturing a scintillator panel according to another embodiment of the present invention shown in FIG.
본 발명의 목적 및 효과, 그리고 그것들을 달성하기 위한 기술적 구성들은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 뒤에 설명이 되는 실시 예들을 참조하면 명확해질 것이다. 본 발명을 설명함에 있어서 공지 기능 또는 구성에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐를 수 있다고 판단되는 경우에는 그 상세한 설명을 생략할 것이다. 그리고 뒤에 설명되는 용어들은 본 발명에서의 구조, 역할 및 기능 등을 고려하여 정의된 용어들로서 이는 사용자, 운용자의 의도 또는 관례 등에 따라 달라질 수 있다.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS The above and other objects, features and advantages of the present invention will be more apparent from the following detailed description taken in conjunction with the accompanying drawings, in which: FIG. In the following description of the present invention, a detailed description of known functions and configurations incorporated herein will be omitted when it may make the subject matter of the present invention rather unnecessary. The terms described below are defined in consideration of the structure, role and function of the present invention, and may be changed according to the intention of the user, the intention of the operator, or the custom.
그러나, 본 발명은 이하에서 개시되는 실시 예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 수 있다. 단지 본 실시 예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하고, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 오로지 특허청구범위에 기재된 청구항의 범주에 의하여 정의될 뿐이다. 그러므로 그 정의는 본 명세서 전반에 걸친 내용을 토대로 내려져야 할 것이다.However, the present invention is not limited to the embodiments described below, but may be embodied in various forms. These embodiments are provided so that this disclosure will be thorough and complete, and will fully convey the scope of the invention to those skilled in the art to which the present invention pertains, It is only defined by the scope of the claims. Therefore, the definition should be based on the contents throughout this specification.
명세서 전체에서, 어떤 부분이 어떤 구성요소를 "포함" 또는 "구비"한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성요소를 더 포함할 수 있는 것을 의미한다.Throughout the specification, when an element is referred to as being "comprising" or "comprising" an element, it is understood that the element may include other elements, not the exclusion of any other element .
이하에서는 본 발명의 실시예에 따른 신틸레이터 패널 및 그 제조방법에 대해 첨부한 도면을 참고하여 보다 구체적으로 설명하기로 한다.Hereinafter, a scintillator panel and a method of manufacturing the same according to embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 신틸레이터 패널(100)을 개략적으로 보여주는 도면이다.1 is a schematic view of a
도 1을 참고 하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 신틸레이터 패널(100)은 패널(110), 패널(110)의 일면에 형성되고 방사선을 소정 파장 범위의 광으로 변환하는 신틸레이터층(scintillator layer, 120), 신틸레이터층(120)의 외측 둘레를 감싸도록 패널(110)의 일면에 접착되어 형성되는 댐(dam) 구조물(130), 신틸레이터층(120)과 댐 구조물(130)의 소정부분을 덮도록 형성되는 보호층(140), 보호층(140) 위에 적층되는 반사층(150) 및 반사층(150)과 댐 구조물(130) 사이의 공간을 메우고 댐 구조물(130)의 소정부분을 덮도록 형성되는 방습부(160)를 포함하여 구성될 수 있다.1, a
패널(110)은 표면에 배열된 수광 소자로 구성된 수광부(미도시)와 표면의 가장자리에 배치된 전극 패드로 구성된 전극부(미도시)를 포함할 수 있다.The
보다 구체적으로, 상기 수광부는 패널(110)의 표면상에 1차원 또는 2차원으로 배열되어 형성된 광전 변환을 수행하는 복수의 수광소자로 구성될 수 있다. 즉, 상기 수광부는 패널(110)의 표면상에 배치되어 신틸레이터층(120)으로부터 변환된 소정 파장 범위의 광을 검출하고 이를 전기적 신호로 변환할 수 있다. 한편, 상기 수광 소자는 광전 변환을 수행할 수 있는 비정질 실리콘제의 포토다이오드(Photo Diode, PD)로 형성될 수 있으며, 상기 예에 국한되는 것은 아니다. 이때, 패널(110)은 TFT(Thin Film Transistor), CCD(Charged Coupled Device), CMOS(Complementary Metal-Oxide-Semiconductor) 패널 중 하나로 형성되어 상기 수광부로부터 변환된 전기적 신호를 영상신호를 검출할 수 있다.More specifically, the light receiving unit may be composed of a plurality of light receiving elements that perform photoelectric conversion formed in a one-dimensional or two-dimensional array on the surface of the
한편, 상기 전극부는 패널(110)의 표면 가장 자리에 형성된 전극 패드로 형성될 수 있다. 전극 패드는 패널(110)에서 의해 발생되는 영상신호를 영상분석 장치 등에 전달할 수 있다.Meanwhile, the electrode unit may be formed as an electrode pad formed at the edge of the surface of the
신틸레이터층(120)은 패널(110)의 일면에 형성될 수 있다. 신틸레이터층(120)은 패널(110)의 상기 수광부의 위에 배치되도록 패널(110)의 일면에 형성될 수 있으며, 기둥 형상 구조로 형성될 수 있다.The
신틸레이터층(120)은 방사선 발생 장치로부터 조사되어 대상체를 통과한 방사선을 소정 파장 범위의 광으로 변환할 수 있다. 이때, 신틸레이터층(120)은 대상체를 통과한 방사선을 소정 파장 범위의 광으로 변환시킬 수 있는 재료로 형성될 수 있다. 예를 들어, 신틸레이터층(120)은 CsI, 탈륨(Tl)이 도프(dope)된 CsI, 나트륨(Na)이 도프된 CsI 또는 탈륨이 도프된 NaI 중 적어도 하나로 형성될 수 있다.The
댐 구조물(130)은 소정높이를 갖도록 형성되어 신틸레이터층(120)의 외측 둘레를 감싸도록 패널(110)의 일면에 형성될 수 있다. 이때, 댐 구조물(130)은 패널(110)의 일면에 접착가능한 방수 테이프로 형성될 수 있다. 댐 구조물(130)은 방수 테이프가 패널(110)에 접착되는 단순한 공정에 의해 패널(110)에 형성될 수 있다. 댐 구조물(130)이 단순한 공정에 의해 패널(110)에 형성됨으로써 발생되는 효과는 이하에서 설명한 본 발명의 일 실시예에 따른 신틸레이터 패널 제조방법에서 보다 구체적으로 설명하기로 한다.The
댐 구조물(130)은 하기에서 설명할 보호층(140)을 형성하기 위하여 패릴렌(Parylene)이 도포되는 공정에서 패릴렌이 패널(110)의 상기 전극부를 향하여 유동되는 것을 방지할 수 있다. 즉, 댐 구조물(130)은 보호층(140)을 형성하기 위하여 도포되는 패릴렌에 의해 패널(110)의 상기 전극부가 손상되는 것을 방지할 수 있다.The
보호층(140)은 신틸레이터층(120)의 일면을 전부 덮도록 형성될 수 있다. 또한, 보호층(140)은 댐 구조물(130)의 소정부분을 덮도록 형성될 수 있다. 이때, 보호층(140)은 방사선을 투과시킴과 동시에 공기 중의 수증기가 투과하는 것을 차단할 수 있는 소재가 신틸레이터층(120) 및 댐 구조물(130)에 도포되어 경화됨으로써 형성될 수 있다. 예를 들어, 상기 방사선을 투과시킴과 동시에 공기 중의 수증기가 투과하는 것을 차단할 수 있는 소재로 패릴렌을 사용할 수 있다. 이때, 패릴렌은 화학적으로 증착된 폴리파라크실렌 고분자의 상품명으로 패릴렌 N, 패릴렌 C, 패릴렌 D 및 패릴렌 AF-4 등이 있으며, 패릴렌에 의해 형성되는 코팅막은 수증기 및 가스를 거의 투과시키지 않으며, 방사선 또는 가시광선을 투과시킬 수 있다. 즉, 보호층(140)은 패릴렌(Parylene)이 신틸레이터층(120) 및 댐 구조물(130)에 도포되어 경화됨으로써 형성될 수 있다.The
즉, 패릴렌에 의해 형성되는 보호층(140)은 방사선을 투과시킴으로써, 하부에 배치되는 신틸레이터층(120)에 방사선이 조사되도록 할 수 있다. 또한, 패릴렌에 의해 형성되는 보호층(140)은 공기 중의 수증기가 투과하는 차단함으로써, 하부에 배치되는 신틸레이터층(120)이 공기 중의 수증기와 접촉하는 것을 방지할 수 있다.That is, the
반사층(150)은 방사선을 투과시키면서 동시에 가시광을 반사시킬 수 있는 소재로 형성될 수 있다. 예를 들어, 반사층(150)은 주로 Al, Ag, Cr, Cu, Ni, Ti, Mg, Ph, Pt 또는 Au와 같이 가시광에 대해 소정의 반사도를 가지는 금속막이나 유전체 다층막으로 형성될 수 있다. 반사층(150)은 상기 소재로 형성됨으로써 신틸레이터층(120)에 가시광이 조사되는 것을 방지할 수 있다.The
반사층(150)은 상기 소재와 금속 CVD(Chemical Vapor Deposition), PVD(Physical Vapor Deposition) 스퍼터링(Sputtering), 이온빔 증착(Ion beam deposition) 또는 플라즈마 CVD 방법에 의해 형성될 수 있다.The
또는, 반사층(150)는 상기 소재로 형성된 시트 형태로 형성되어 보호층(140)의 상부에 적층될 수 있다. 이하에서는 설명의 편의를 위하여 반사층(150)이 시트 형태로 형성되어 보호층(140)의 상부에 적층되는 경우를 중심으로 설명하기로 한다.Alternatively, the
반사층(150)은 시트 형태로 형성되어 보호층(140)의 상부에 적층될 수 있다. 이때, 반사층(150)은 보호층(140)의 일면을 전부 덮도록 형성되고, 댐 구조물(130)의 소정부분을 덮도록 형성될 수 있다. 한편, 상기에서 설명한 것과 같이, 보호층(140)은 댐 구조물(130)의 소정부분을 덮도록 형성될 수 있다. 즉, 댐 구조물(130)의 소정부분을 덮은 반사층(150)의 소정부분은 댐 구조물(130)의 소정부분을 덮는 보호층(140)의 위를 덮음으로써, 댐 구조물(130)로부터 소정간격 이격될 수 있다.The
방습부(160)는 상온에서 경화될 수 있는 투습방지용 코팅액이 댐 구조물(130)의 소정영역에 도포되어 경화됨으로써 형성될 수 있다. 예를 들어, 투습방지용 코팅액은 히타치사의 TF-4200EB-451로 형성될 수 있으며, 상기 예에 국한되는 것은 아니며, 본 발명의 일 실시예에 따른 신틸레이터 패널(100)의 방습부(160)는 상온에서 경화될 수 있는 모든 종류의 투습방지용 코팅액으로 형성될 수 있다.The moisture-
한편, 상기에서 설명한 것과 같이 댐 구조물(130)을 덮고 있는 반사층(150)의 소정부분은 댐 구조물(130)로부터 소정간격 이격되어 있으므로, 투습방지용 코팅액이 댐 구조물(130)에 도포될 때, 댐 구조물(130)에 도포되는 투습방지용 코팅액이 중 소정양은 반사층(140)과 댐 구조물(130) 사이의 공간에 유입되어 경화될 수 있다. 즉, 방습부(160)는 반사층(150)과 댐 구조물(130) 사이의 공간을 메우도록 형성될 수 있다.Since the predetermined portion of the
방습부(160)는 투습방지용 코팅액이 도포되어 형성됨으로써, 반사층(150)과 댐 구조물(130) 사이로 공기중의 수증기가 침투하는 것을 방지할 수 있다. 또한, 상기에서 설명한 것과 같이 보호층(140)은 신틸레이터층(120)과 공기중의 수증기가 접촉하는 것을 방지할 수 있다. 즉, 본 발명의 일 실시예에 따른 신틸레이터 패널(100)은 방습부(160)와 보호층(140)에 의해 신틸레이터층(120)이 공기중의 수증기와 접촉하는 것을 효과적으로 방지할 수 있다.The moisture-
이하에서는 본 발명의 일 실시예에 따른 신틸레이터 패널 제조방법의 순서를 개략적으로 보여주는 도면인 도 2를 참고 하여, 신틸레이터 패널이 제조되는 방법에 대해 설명하기로 한다.Hereinafter, a method of manufacturing a scintillator panel will be described with reference to FIG. 2, which is a schematic view illustrating a procedure of a scintillator panel manufacturing method according to an embodiment of the present invention.
도 2를 참고 하면, 먼저, 패널(110)의 일면에 신틸레이터층(120)이 형성된다(도 2 (a) 참고).Referring to FIG. 2, a
다음으로, 신틸레이터층(120)의 외측 둘레를 감싸도록 댐 구조물(130)이 패널(110)의 일면에 접착되어 형성된다(도 2 (b) 참고). 이때, 댐 구조물(130)은 접착가능한 방수 테이프로 형성될 수 있다. 즉, 댐 구조물(130)은 방수 테이프가 패널(110)에 접착되는 단순한 공정에 의해 패널(110)에 형성될 수 있다.Next, the
반면, 종래의 신틸레이터 패널에서 보호구조인 댐 구조물은 종래의 신틸레이터 패널의 패널에 실리콘 수지, 아크릴 수지 또는 에폭시 수지와 같이 접착력이 강하고 경화되었을 때 강도가 강한 수지가 도포된 후, 패널에 도포된 수지에 UV가 조사되는 공정을 통해 형성되었다.On the other hand, a dam structure, which is a protection structure in a conventional scintillator panel, is coated with a resin having a strong strength when a panel of a conventional scintillator panel is hardened and hardened such as silicone resin, acrylic resin or epoxy resin, And then irradiated with UV light.
즉, 본 발명의 일 실시예에 따른 신틸레이터 패널 제조방법에서 댐 구조물(130)을 패널(110)에 형성하는 공정은 종래에 신틸레이터 패널에서 댐 구조물을 패널에 형성하는 공정보다 간소화될 수 있다. 따라서, 본 발명의 일 실시예에 따른 신틸레이터 패널 제조방법에서 댐 구조물(130)이 패널(110)에 형성되는 공정에 소요되는 시간은 종래에 신틸레이터 패널에서 댐 구조물이 패널에 형성되는데 소요되는 시간보다 짧을 수 있다.That is, in the method of fabricating the scintillator panel according to the embodiment of the present invention, the process of forming the
보다 구체적으로 예를 들면, 종래에 신틸레이터 패널의 댐 구조물을 패널에 형성하기 위하여 상기에서 설명한 수지가 패널에 도포되고, 도포된 수지에 UV가 조사됨으로써 댐 구조물이 형성되는데 소요되는 시간은 40분 정도가 소요되는 반면, 본 발명의 일 실시예에 따른 신틸레이터 패널 제조방법은 패널(110)에 방수 테이프가 접착됨으로써 댐 구조물(130)이 형성되는데 소요되는 시간은 20분 정도가 소요될 수 있다. 즉, 본 발명의 실시예에 따른 신틸레이터 패널 제조방법에서 댐 구조물(130)이 패널(110)에 형성되는데 소요되는 시간은 종래의 신틸레이터 패널에서 댐 구조물이 패널에 형성되는데 소용되는 시간보다 감소될 수 있다.More specifically, for example, conventionally, in order to form a dam structure of a scintillator panel on a panel, the above-described resin is applied to the panel, and the time required for forming the dam structure by UV irradiation is 40 minutes In the method of manufacturing a scintillator panel according to an embodiment of the present invention, it takes about 20 minutes to form the
또한, 본 발명의 실시예에 따른 신틸레이터 패널 제조방법은 접착가능한 방수 테이프가 패널(110)에 접착되는 것에 의해 댐 구조물(130)이 형성됨으로써, 댐 구조물(130)을 경화시키기 위한 별도의 열이 가해지지 않을 수 있다. 즉, 본 발명의 실시예에 따른 신틸레이터 패널 제조방법은 댐 구조물(130)을 경화시키기 위하여 조사되는 열에 의해 패널(110)이 손상되는 것을 방지할 수 있다.In the method of manufacturing a scintillator panel according to an embodiment of the present invention, a
다음으로, 신틸레이터층(120)과 댐 구조물(130)의 소정부분을 덮도록 보호층(140)이 형성된다(도 2 (e) 참고).Next, a
보호층(140)이 형성되는 방법을 보다 구체적으로 설명하면, 댐 구조물(130)의 소정부분에 마스크(M)가 형성(도 2 (c) 참고)되고, 신틸레이터층(120)과 소정부분에 마스크(M)가 형성된 댐 구조물(130)을 덮도록 패릴렌이 도포(도 2 (d) 참고)된 후, 댐 구조물(130)에 형성된 마스크가 제거됨으로써, 보호층(140)이 신틸레이터층(120)과 댐 구조물(130)의 소정부분을 덮도록 형성될 수 있다.The mask M is formed on a predetermined portion of the dam structure 130 (see FIG. 2 (c)), and the
다음으로, 보호층(140) 위에 반사층(150)이 적층된다(도 2 (f) 참고). 반사층(150)은 시트 형태로 형성되어 보호층(140)의 상부에 적층될 수 있다. 이때, 반사층(150)은 보호층(140)의 일면을 전부 덮도록 형성되고, 댐 구조물(130)의 소정부분을 덮도록 형성될 수 있다. 한편, 상기에서 설명한 것과 같이, 보호층(140)은 댐 구조물(130)의 소정부분을 덮도록 형성될 수 있다. 즉, 댐 구조물(130)의 소정부분을 덮은 반사층(150)의 소정부분은 댐 구조물(130)의 소정부분을 덮는 보호층(140)의 위를 덮음으로써, 댐 구조물(130)로부터 소정간격 이격될 수 있다.Next, a
마지막으로, 투습방지용 코팅액이 댐 구조물(130)에 도포되어 방습부(160)가 형성된다(도 2 (g) 참고). 상기에서 설명한 것과 같이 반사층(150)이 시트 형태로 형성되어 반사층(140) 위에 적층되는 경우, 반사층(150)은 댐 구조물(130)로부터 소정간격 이격될 수 있다. 이때, 댐 구조물(130)에 도포되는 투습방지용 코팅액은 반사층(150)과 댐 구조물(130) 사이에 스며들어 경화될 수 있다. 즉, 방습부(160)는 반사층(150)과 댐 구조물(130) 사이의 공간을 메우고 댐 구조물(130)의 소정부분을 덮도록 형성될 수 있다.Finally, a moisture-permeable coating liquid is applied to the
한편, 투습방지용 코팅액은 상온에서 경화될 수 있다. 즉, 투습방지용 코팅액을 경화시키기 위하여 열경화 공정 또는 UV 경화 공정과 같이 투습방지용 코팅액에 별도의 열을 투습하는 공정이 수행되지 않을 수 있다. 따라서, 본 발명의 실시예에 따른 신틸레이터 패널 제조방법은 투습방지용 코팅액을 경화시키기 위하여 열을 가하는 공정이 필요가 없으므로, 투습방지용 코팅액을 경화시키기 위하여 조사되는 열에 의해 패널(110)이 손상되는 것을 방지할 수 있으며, 방습부(160)를 형성하는 공정이 간소화될 수 있다.On the other hand, the coating liquid for preventing moisture permeation can be cured at room temperature. That is, in order to cure the coating liquid for preventing moisture permeation, a process of breathing separate heat to the coating liquid for moisture permeation prevention such as a heat curing process or a UV curing process may not be performed. Therefore, in the method of manufacturing a scintillator panel according to an embodiment of the present invention, there is no need to apply heat to cure the coating liquid for preventing moisture permeation, so that the
도 3은 본 발명의 다른 실시예에 따른 신틸레이터 패널(200)을 개략적으로 보여주는 도면이다. 이하에서는 설명의 편의를 위하여 본 발명의 일 실시예에 따른 신틸레이터 패널(100)과 동일한 부분의 설명은 간략하게 하고, 상이한 부분을 중심으로 본 발명의 다른 실시예에 따른 신틸레이터 패널(200)을 설명하기로 한다.3 is a schematic view of a
도 3을 참고 하면, 본 발명의 다른 실시예에 따른 신틸레이터 패널(200)은 패널(210), 패널(210)의 일면에 형성되고 방사선을 소정 파장 범위의 광으로 변환하는 신틸레이터층(220), 신틸레이터층(220)의 외측 둘레를 감싸도록 패널(110)의 일면에 접착되어 형성되는 제 1 댐 구조물(230), 신틸레이터층(220)과 제 1 댐 구조물(230)의 소정부분을 덮도록 형성되는 제 1 보호층(240), 제 1 보호층(240 위에 적층되는 반사층(250) 및 반사층(250)과 제 1 댐 구조물(230) 사이의 공간을 메우고 제 1 댐 구조물(230)의 소정부분을 덮도록 형성되는 제 1 방습부(260)를 포함하여 구성될 수 있다.3, a
이때, 본 발명의 다른 실시예에 따른 신틸레이터 패널(200)은 제 1 댐 구조물(230)의 외측 둘레로부터 소정간격 이격되도록 패널(210) 위에 접착되어 형성되는 제 2 댐 구조물(270), 반사층(250) 위에 형성되며 제 1 방습부(260)의 소정부분을 덮도록 형성되는 제 2 보호층(280) 및 제 2 보호층(280)의 소정부분과 제 2 댐 부재(270)의 소정부분을 덮도록 형성되는 제 2 방습부(290)를 더 포함하여 구성될 수 있다.In this case, the
패널(210)은 표면 상에 1차원 또는 2차원으로 배열되고, 수광되는 빛을 이용하여 광전 변환을 수행하는 복수의 수광 소자로 구성된 수광부(미도시) 및 표면의 가장자리에 배치되고, 패널(210)로부터 생성되는 영상신호를 영상분석 장치 등에 전달하는 전극 패드로 구성된 전극부(미도시)를 포함할 수 있다.The
신틸레이터층(220)은 패널(210)의 수광부의 위에 배치되도록 패널(210)의 일면에 형성될 수 있으며, 기둥 형상 구조로 형성될 수 있다. 신틸레이터층(220)은 CsI, 탈륨(Tl)이 도프(dope)된 CsI, 나트륨(Na)이 도프된 CsI 또는 탈륨이 도프된 NaI 중 적어도 하나로 형성되어, 방사선 발생 장치로부터 조사되어 대상체를 통과한 방사선을 소정 파장 범위의 광으로 변환할 수 있다.The
제 1 댐 구조물(230)은 소정높이를 갖도록 형성되어 신틸레이터층(220)의 외측 둘레를 감싸도록 패널(210)의 일면에 형성될 수 있다. 이때, 제 1 댐 구조물(230)은 패널(210)의 일면에 접착가능한 방수 테이프로 형성될 수 있다. 제 1 댐 구조물(230)은 방수 테이프로 형성됨으로써, 패널(210)에 접착되는 단순한 공정에 의해 패널(210)에 형성될 수 있다.The
제 1 댐 구조물(230)은 하기에서 설명할 제 1 보호층(240)을 형성하기 위하여 패릴렌이 도포되는 공정에서 패릴렌이 패널(210)의 상기 전극부를 향하여 유동되는 것을 방지할 수 있다. 즉, 제 1 댐 구조물(230)은 패널(210)의 상기 전극부가 제 1 보호층(240)을 형성하기 위하여 도포되는 패릴렌에 의해 패널(210)의 상기 전극부가 손상되는 것을 방지할 수 있다.The
제 1 보호층(240)은 신틸레이터층(220)의 일면을 전부 덮도록 형성될 수 있다. 또한, 제 1 보호층(240)은 제 1 댐 구조물(230)의 소정부분을 덮도록 형성될 수 있다. 이때, 제 1 보호층(240)은 방사선을 투과시킴과 동시에 공기 중의 수증기가 투과하는 것을 차단할 수 있는 소재인 패릴렌이 신틸레이터층(220) 및 제 1 댐구조물(230)에 도포되어 경화됨으로써 형성될 수 있다. 따라서, 제 1 보호층(240)은 하부에 배치되는 신틸레이터층(220)에 방사선이 조사되도록 할 수 있고, 공기 중의 수증기와 접촉하는 것은 방지할 수 있다.The
반사층(250)은 방사선을 투과시키면서 동시에 가시광을 방사시킬 수 있는 소재로 형성될 수 있다. 예를 들어, 반사층(250)은 주로 Al, Ag, Cr, Cu, Ni, Ti, Mg, Ph, Pt 또는 Au와 같이 가시광에 대해 소정의 반사도를 가지는 금속막이나 유전체 다층막으로 형성될 수 있다.The
한편, 반사층(250)은 상기 소재와 금속 CVD(Chemical Vapor Deposition), PVD(Physical Vapor Deposition) 스퍼터링(Sputtering), 이온빔 증착(Ion beam deposition) 또는 플라즈마 CVD 방법에 의해 형성될 수 있다.The
또는, 반사층(250)은 상기 소재로 형성된 시트 형태로 형성되어 제 1 보호층(240)의 상부에 적층될 수 있다. 이하에서는 설명의 편의를 위하여 반사층(250)이 시트 형태로 형성되어 제 1 보호층(240)의 상부에 적층되는 경우를 중심으로 설명하기로 한다.Alternatively, the
반사층(250)은 시트 형태로 형성되어 제 1 보호층(240)의 상부에 적층될 수 있다. 이때, 반사층(250)은 제 1 보호층(240)의 일면을 전부 덮도록 형성되고, 제 1 댐 구조물(230)의 소정부분을 덮도록 형성될 수 있다. 한편, 상기에서 설명한 것과 같이 제 1 보호층(240)은 제 1 댐 구조물(230)의 소정부분을 덮고 있으므로, 제 1 댐 구조물(230)의 소정부분을 덮고 있는 반사층(250)의 소정부분은 제 1 댐 구조물(230)로부터 소정간격 이격될 수 있다.The
제 2 댐 구조물(270)은 소정높이를 갖도록 형성되어 제 1 댐 구조물(230)의 외측 둘레를 감싸도록 패널(210)의 일면에 형성될 수 있다. 또한, 제 2 댐 구조물(270)은 제 1 댐 구조물(230)의 외측 둘레로부터 소정간격 이격되도록 패널(210)의 일면에 형성될 수 있다. 이때, 제 2 댐 구조물(270)은 패널(210)의 일면에 접착가능한 방수 테이프로 형성될 수 있다. 제 2 댐 구조물(270)은 방수 테이프로 형성됨으로써, 패널(210)에 방수 테이프가 접착되는 단순한 공정에 의해 패널(210)에 형성될 수 있다.The
제 2 댐 구조물(270)은 제 1 보호층(240)을 형성하기 위하여 패릴렌이 도포되는 공정에서 패릴렌이 패널(210)의 상기 전극부를 향하여 유동되는 것을 방지할 수 있다. 즉, 제 2 댐 구조물(270)은 패널(210)의 상기 전극부가 제 1 보호층(240)을 형성하기 위하여 도포되는 패릴렌에 의해 패널(210)의 상기 전극부가 손상되는 것을 방지할 수 있다.The
제 1 방습부(260)는 상온에서 경화될 수 있는 투습방지용 코팅액이 제 1 댐 구조물(230)의 소정영역에 도포되어 경화됨으로써 형성될 수 있다. 이때, 투습방지용 코팅액은 히타치사의 TF-4200EB-451로 형성될 수 있으며, 상기 예에 국한되는 것은 아니다. 제 1 댐 구조물(230)의 소정영역에 도포되는 투습방지용 코팅액은 제 1 댐 구조물(230)과 제 2 댐 구조물(270) 사이의 공간에 유입되어 경화될 수 있다. 즉, 제 1 방습부(260)는 제 1 댐 구조물(230)과 제 2 댐 구조물(270) 사이의 공간을 메우도록 형성될 수 있다.The first moisture-
한편, 상기에서 설명한 것과 같이 제 1 댐 구조물(230)을 덮고 있는 반사층(250)의 소정부분은 제 1 댐 구조물(230)로부터 소정간격 이격되어 있으므로, 투습방지용 코팅액이 댐 구조물(230)에 도포될 때, 투습방지용 코팅액은 반사층(250)과 제 1 댐 구조물(230) 사이의 공간에 도포될 수 있다. 즉, 제 1 방습부(260)는 반사층(250)과 제 1 댐 구조물(230) 사이의 공간을 메우도록 형성될 수 있다.The predetermined portion of the
제 1 방습부(260)는 반사층(250)과 제 1 댐 구조물(230) 사이로 공기중의 수증기가 침투하는 것을 방지할 수 있다. 따라서, 본 발명의 다른 실시예에 따른 신틸레이터 패널(200)은 반사층(250)과 제 1 댐 구조물(230) 사이로 공기중의 수증기가 침투하여 신틸레이터층(220)이 공기중의 수증기와 접촉하는 것을 방지할 수 있다.The first moisture-
제 2 보호층(280)은 반사층(250)의 일면을 전부 덮도록 형성될 수 있다. 또한, 제 2 보호층(280)은 제 1 방습부(260)의 소정부분을 덮도록 형성될 수 있다. 이때, 제 2 보호층(280)은 패릴렌이 반사층(250) 및 제 1 방습부(260)에 도포되어 경화됨으로써 형성될 수 있다. 패릴렌은 상기에서 설명한 것과 같이 방사선을 투과시킴과 동시에 공기 중의 수증기가 투과하는 것을 차단할 수 있으므로, 패릴렌이 도포되어 경화됨으로써 형성되는 제 2 보호층(280)은 반사층(250)에 방사선이 조사되도록 할 수 있고, 공기 중의 수증기가 반사층(250)으로 투과되는 것을 방지할 수 있다.The
제 2 방습부(290)는 상온에서 경화될 수 있는 투습방지용 코팅액이 제 2 댐 구조물(270)의 소정영역에 도포되어 경화됨으로써 형성될 수 있다. 이때, 투습방지용 코팅액은 히타치사의 TF-4200EB-451로 형성될 수 있으며, 상기 예에 국한되는 것은 아니다. 한편, 제 2 보호층(280)의 소정부분이 제 2 댐 구조물(270)의 소정부분을 덮도록 형성되어 있으므로, 제 2 방습부(290)는 제 2 보호층(280)의 소정부분과 제 2 댐 부재(270)의 소정부분을 덮도록 형성될 수 있다. 제 2 방습부(290)가 제 2 보호층(280)의 소정부분과 제 2 댐 부재(270)의 소정부분을 덮도록 형성됨으로써, 제 2 방습부(290)는 제 2 보호층(280)과 제 2 댐 구조물(270) 사이로 공기중의 수증기가 침투하는 것을 방지할 수 있다.The second moisture-
즉, 본 발명의 다른 실시예에 따른 신틸레이터 패널(20)은 제 2 방습부(290)를 통해 제 2 보호층(280)과 제 2 댐 구조물(270) 사이로 공기중의 수증기가 침투하는 것을 방지하고, 제 1 방습부(260)를 통해 반사층(250)과 제 1 댐 구조물(230) 사이로 공기중의 수증기가 침투하는 것을 방지할 수 있다. 따라서, 본 발명의 다른 실시예에 따른 신틸레이터 패널(200)은 제 1 방습부(260) 및 제 2 방습부(290)에 의해 공기 중의 수증기가 신틸레이터 패널(200)의 내부로 침투하는 것을 2중으로 차단함으로써, 신틸레이터층(220)이 공기중의 수증기와 접촉하는 것을 보다 효과적으로 방지할 수 있다.That is, in the scintillator panel 20 according to another embodiment of the present invention, water vapor in the air penetrates between the second
이하에서는 본 발명의 다른 실시예에 따른 신틸레이터 패널 제조방법의 순서를 개략적으로 보여주는 도면인 도 4 및 도 4에 도시된 본 발명의 다른 실시예에 따른 신틸레이터 패널 제조방법의 순서 이후의 순서를 개략적으로 보여주는 도면인 도 5를 참고 하여, 신틸레이터 패널이 제조되는 방법에 대해 설명하기로 한다. 또한, 이하에서는 설명의 편의를 위하여 본 발명의 일 실시예에 따른 신틸레이터 패널 제조방법과 동일한 부분의 설명은 간략하게 하고, 상이한 부분을 중심으로 본 발명의 다른 실시예에 따른 신틸레이터 패널 제조방법을 설명하기로 한다.Hereinafter, a procedure of a method of manufacturing a scintillator panel according to another embodiment of the present invention shown in FIGS. 4 and 4, which schematically shows a procedure of a scintillator panel manufacturing method according to another embodiment of the present invention, A method of manufacturing a scintillator panel will be described with reference to FIG. 5, which is a schematic view. Hereinafter, for the sake of convenience of description, the same parts as those of the method of manufacturing a scintillator panel according to an embodiment of the present invention will be briefly described, and a scintillator panel manufacturing method according to another embodiment of the present invention, Will be described.
도 4 및 도 5를 참고 하면, 먼저, 패널(210)의 일면에 신틸레이터층(220)이 형성된다(도 4 (a) 참고).Referring to FIGS. 4 and 5, a
다음으로, 신틸레이터층(220)의 외측 둘레를 감싸도록 제 1 댐 구조물(230)이 패널(210)의 일면에 접착되어 형성된다(도 4 (b) 참고). 이때, 제 1 댐 구조물(230)은 접착가능한 방수 테이프로 형성될 수 있다. 즉, 제 1 댐 구조물(230)은 방수 테이프가 패널(210)에 접착되는 단순한 공정에 의해 패널(210)에 형성될 수 있다.Next, the
다음으로, 신틸레이터층(220)과 제 1 댐 구조물(230)의 소정부분을 덮도록 제 1 보호층(240)이 형성된다(도 4 (e) 참고).Next, a
제 1 보호층(240)이 형성되는 방법을 보다 구체적으로 설명하면, 제 1 댐 구조물(230)의 소정부분에 마스크(M)가 형성(도 4 (c) 참고)되고, 신틸레이터층(220)과 소정부분에 마스크(M)가 형성된 제 1 댐 구조물(230)을 덮도록 패릴렌이 도포(도 4 (d) 참고)된 후, 제 1 댐 구조물(230)에 형성된 마스크(M)가 제거됨으로써, 제 1 보호층(240)이 신틸레이터층(220)과 제 1 댐 구조물(230)의 소정부분을 덮도록 형성될 수 있다.A method of forming the first
다음으로, 제 1 보호층(240) 위에 반사층(250)이 적층된다(도 4 (f) 참고). 반사층(250)은 시트 형태로 형성되어 제 1 보호층(240)의 상부에 적층될 수 있다. 이때, 반사층(250)은 제 1 보호층(240)의 일면을 전부 덮도록 형성되고, 제 1 댐 구조물(230)의 소정부분을 덮도록 형성될 수 있다. 한편, 제 1 보호층(240)은 제 1 댐 구조물(230)의 소정부분을 덮도록 형성되므로, 제 1 댐 구조물(230)의 소정부분을 덮는 반사층(250)의 소정부분은 제 1 댐 구조물(230)의 소정부분을 덮는 제 1 보호층(240)에 의해 제 1 댐 구조물(230)로부터 소정간격 이격될 수 있다.Next, a
다음으로, 제 1 댐 구조물(230)의 외측 둘레를 감싸도록 제 2 댐 구조물(270)이 패널(210)의 일면에 접착되어 형성된다(도 5 (g) 참고). 이때, 제 2 댐 구조물(270)은 제 1 댐 구조물(230)의 외측 둘레로부터 소정간격 이격되도록 패널(210)의 일면에 형성될 수 있다. 또한, 제 2 댐 구조물(270)은 접착가능한 방수 테이프로 형성됨으로써, 제 2 댐 구조물(270)은 방수 테이프가 패널(210)에 접착되는 단순한 공정에 의해 패널(210)에 형성될 수 있다.Next, a
다음으로, 투습방지용 코팅액이 제 1 댐 구조물(230)에 도포되어 제 1 방습부(260)가 형성된다(도 5 (h) 참고). 상기에서 설명한 것과 같이 반사층(250)이 시트 형태로 형성되어 제 1 보호층(240) 위에 적층되는 경우, 반사층(250)은 제 1 댐 구조물(230)로부터 소정간격 이격될 수 있다. 제 1 댐 구조물(230)에 도포되는 투습방지용 코팅액은 반사층(250)과 제 1 댐 구조물(230) 사이에 스며들어 상온에서 경화될 수 있다. 또한, 제 1 댐 구조물(230)에 도포되는 투습방지용 코팅액은 제 1 댐 구조물(230)과 제 2 댐 구조물(270) 사이의 공간에 유입되어 상온에서 경화될 수 있다. 즉, 제 1 방습부(260)는 반사층(250)과 제 1 댐 구조물(230) 사이의 공간을 메우고 제 1 댐 구조물(230)과 제 2 댐 구조물(270) 사이의 공간을 메우도록 형성될 수 있다.Next, a coating liquid for preventing moisture permeation is applied to the
다음으로, 반사층(250)과 제 2 댐 구조물(270)의 소정부분을 덮도록 제 2 보호층(280)이 형성된다(도 5 (k) 참고).Next, a second
제 2 보호층(280)이 형성되는 방법을 보다 구체적으로 설명하면, 제 2 댐 구조물(270)의 소정부분에 마스크(M)가 형성(도 5 (i) 참고)되고, 반사층(250)과 소정부분에 마스크(M)가 형성된 제 2 댐 구조물(270)을 덮도록 패릴렌이 도포(도 5 (j) 참고)된 후, 제 2 댐 구조물(270)에 형성된 마스크(M)가 제거됨으로써 제 2 보호층(28)이 반사층(250)과 제 2 댐 구조물(270)의 소정부분을 덮도록 형성될 수 있다.A mask M is formed on a predetermined portion of the second dam structure 270 (refer to FIG. 5 (i)), and the
마지막으로, 투습방지용 코팅액이 제 2 댐 구조물(270)에 도포되어 제 2 방습부(290)가 형성된다(도 5 (l) 참고). 상기에서 설명한 것과 같이 제 2 보호층(280)이 제 2 댐 구조물(270)의 소정부분을 덮도록 형성되어 있으므로, 제 2 댐 구조물(270)에 도포되는 투습방지용 코팅액은 제 2 보호층(280)의 소정부분을 덮은 상태에서 상온에서 경화될 수 있다. 즉, 제 2 방습부(290)는 제 2 보호층(280)의 소정부분과 제 2 댐 부재(270)의 소정부분을 덮도록 형성될 수 있다.Finally, a coating liquid for preventing moisture permeation is applied to the
이상, 본 발명의 실시예에 대하여 설명하였으나, 해당 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 특허청구범위에 기재된 본 발명의 사상으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서, 구성 요소의 부가, 변경, 삭제 또는 추가 등에 의해 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있을 것이며, 이 또한, 본 발명의 권리 범위 내에 포함된다고 할 것이다.While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed embodiments, but, on the contrary, It will be understood by those skilled in the art that various changes in form and details may be made therein without departing from the spirit and scope of the invention as defined by the appended claims.
100: 신틸레이터 패널
110: 패널
120: 신틸레이터층
130: 댐 구조물
140: 보호층
150: 반사층
160: 방습부100: Scintillator panel
110: Panel
120: Scintillator layer
130: Dam construction
140: Protective layer
150: reflective layer
160:
Claims (19)
상기 패널의 일면에 형성되고, 방사선을 소정 파장 범위의 광으로 변환하는 신틸레이터층(scintillator layer)과,
상기 신틸레이터층의 외측 둘레를 감싸도록 상기 패널의 일면에 접착되어 형성되는 제 1 댐(dam) 구조물과,
상기 신틸레이터층과 상기 제 1 댐 구조물의 소정부분을 덮도록 형성되는 제 1 보호층과,
상기 제 1 보호층 위에 적층되는 반사층과,
상기 반사층과 상기 제 1 댐 구조물 사이의 공간을 메우고 상기 제 1 댐 구조물의 소정부분을 덮도록 형성되는 제 1 방습부를 포함하고,
상기 제 1 댐 구조물은 방수 테이프로 형성되는,
신틸레이터 패널.
Panel,
A scintillator layer formed on one surface of the panel, the scintillator layer converting radiation into light in a predetermined wavelength range;
A first dam structure adhered to one surface of the panel to surround the outer periphery of the scintillator layer;
A first protective layer formed to cover the scintillator layer and a predetermined portion of the first dam structure,
A reflective layer laminated on the first protective layer,
And a first moisture-proof portion formed to cover a space between the reflection layer and the first dam structure and cover a predetermined portion of the first dam structure,
Wherein the first dam structure is formed of a waterproof tape,
Scintillator panel.
상기 제 1 보호층은,
상기 제 1 댐 구조물의 소정부분에 마스크를 형성하고, 상기 신틸레이터층과 상기 제 1 댐 구조물에 패릴렌(Parylene)을 도포한 후, 상기 제 1 댐 구조물에 형성된 상기 마스크가 제거됨으로써 형성되는,
신틸레이터 패널.
The method according to claim 1,
The first protective layer may be formed,
Wherein the first dam structure is formed by forming a mask on a predetermined portion of the first dam structure, applying a parylene to the scintillator layer and the first dam structure, and removing the mask formed on the first dam structure,
Scintillator panel.
상기 제 1 댐 구조물의 외측 둘레로부터 소정간격 이격되도록 상기 패널 위에 접착되어 형성되는 제 2 댐(dam) 구조물을 더 포함하는,
신틸레이터 패널.
The method according to claim 1,
Further comprising a second dam structure formed on and adhered to the panel such that the second dam structure is spaced apart from the outer periphery of the first dam structure.
Scintillator panel.
상기 제 2 댐 구조물은 방수 테이프로 형성되는,
신틸레이터 패널.
The method of claim 3,
Wherein the second dam structure is formed of a waterproof tape,
Scintillator panel.
상기 제 1 방습부는 상기 반사층과 상기 제 1 댐 구조물 사이의 공간을 메우고, 상기 제 1 댐 구조물의 소정부분을 덮도록 형성되며, 상기 제 1 댐 구조물과 상기 제 2 댐 구조물 사이의 공간을 메우도록 형성되고, 상기 제 2 댐 구조물의 소정부분을 덮도록 형성되는,
신틸레이터 패널.
The method of claim 3,
Wherein the first moisture-proof portion is formed to fill a space between the reflection layer and the first dam structure and cover a predetermined portion of the first dam structure, so as to fill a space between the first dam structure and the second dam structure And is formed to cover a predetermined portion of the second dam structure,
Scintillator panel.
상기 반사층 위에 형성되며, 상기 제 1 방습부의 소정부분을 덮도록 형성되는 제 2 보호층을 더 포함하는,
신틸레이터 패널.
The method of claim 3,
Further comprising a second protective layer formed on the reflective layer and formed to cover a predetermined portion of the first moisture-
Scintillator panel.
상기 제 2 보호층은,
상기 제 2 댐 구조물의 소정부분에 마스크를 형성하고, 상기 반사층과 상기 제 2 댐 구조물에 패릴렌(Parylene)을 도포한 후, 상기 제 2 댐 구조물에 형성된 상기 마스크가 제거됨으로써 형성되는,
신틸레이터 패널.
The method according to claim 6,
The second protective layer may be formed,
Wherein the second dam structure is formed by forming a mask on a predetermined portion of the second dam structure, applying parylene to the reflection layer and the second dam structure, and removing the mask formed on the second dam structure,
Scintillator panel.
상기 제 2 보호층의 소정부분과 상기 제 2 댐 부재의 소정부분을 덮도록 형성되는 제 2 방습부를 더 포함하는,
신틸레이터 패널.
The method according to claim 6,
Further comprising a second moisture-proof portion formed to cover a predetermined portion of the second protective layer and a predetermined portion of the second dam member,
Scintillator panel.
상기 제 1 방습부 및 상기 제 2 방습부는 상온에서 경화 가능한 투습방지용 코팅액이 도포되어 형성되는,
신틸레이터 패널.
9. The method of claim 8,
Wherein the first moisture-proof portion and the second moisture-proof portion are formed by applying a coating liquid for moisture-
Scintillator panel.
상기 투습방지용 코팅액은 히타치사의 TF-4200EB-451로 형성되는,
신틸레이터 패널.
10. The method of claim 9,
The moisture permeation preventing coating liquid was formed by Hitachi's TF-4200EB-451,
Scintillator panel.
상기 신틸레이터층의 외측 둘레를 감싸도록 제 1 댐(dam) 구조물을 상기 패널의 일면에 접착하는 단계;
상기 신틸레이터층과 상기 제 1 댐 구조물의 소정부분을 덮도록 상기 제 1 보호층을 형성하는 단계;
상기 제 1 보호층 위에 반사층을 적층하는 단계; 및
상기 반사층과 상기 제 1 댐 구조물 사이의 공간을 메우고 상기 제 1 댐 구조물의 소정부분을 덮도록 제 1 방습부를 형성하는 단계;를 포함하고,
상기 제 1 댐 구조물은 방수 테이프로 형성되는,
신틸레이터 패널 제조방법.
Forming a scintillator layer on one side of the panel;
Bonding a first dam structure to one surface of the panel to surround the outer periphery of the scintillator layer;
Forming the first passivation layer to cover the scintillator layer and a predetermined portion of the first dam structure;
Stacking a reflective layer on the first passivation layer; And
And forming a first moisture-proof portion to fill a space between the reflection layer and the first dam structure and cover a predetermined portion of the first dam structure,
Wherein the first dam structure is formed of a waterproof tape,
A method for manufacturing a scintillator panel.
상기 제 1 보호층을 형성하는 단계는,
상기 제 1 댐 구조물의 소정부분에 마스크를 형성하는 단계,
상기 신틸레이터층과 상기 제 1 댐 구조물을 덮도록 패릴렌(Parylene)을 도포하는 단계; 및
상기 제 1 댐 구조물에 형성된 상기 마스크를 제거하는 단계;를 포함하는,
신틸레이터 패널 제조방법.
12. The method of claim 11,
Wherein forming the first passivation layer comprises:
Forming a mask on a predetermined portion of the first dam structure,
Applying parylene to cover the scintillator layer and the first dam structure; And
And removing the mask formed in the first dam structure.
A method for manufacturing a scintillator panel.
상기 방법은,
상기 제 1 보호층 위에 반사층을 적층하는 단계 이후에,
상기 제 1 댐 구조물의 외측 둘레로부터 소정간격 이격되도록 제 2 댐 구조물을 상기 패널의 일면에 접착하는 단계;를 더 포함하는,
신틸레이터 패널 제조방법.
12. The method of claim 11,
The method comprises:
After the step of laminating the reflective layer on the first protective layer,
And bonding the second dam structure to one side of the panel so as to be spaced apart from the outer circumference of the first dam structure by a predetermined distance.
A method for manufacturing a scintillator panel.
상기 제 2 댐 구조물은 방수 테이프로 형성되는,
신틸레이터 패널 제조방법.
14. The method of claim 13,
Wherein the second dam structure is formed of a waterproof tape,
A method for manufacturing a scintillator panel.
상기 제 1 방습부는 상기 반사층과 상기 댐 구조물 사이의 공간을 메우고, 상기 제 1 댐 구조물의 소정부분을 덮도록 형성되며, 상기 제 1 댐 구조물과 상기 제 2 댐 구조물 사이의 공간을 메우도록 형성되는,
신틸레이터 패널 제조방법.
14. The method of claim 13,
The first moisture-proof portion is formed to fill a space between the reflective layer and the dam structure and cover a predetermined portion of the first dam structure, and is formed to fill a space between the first dam structure and the second dam structure ,
A method for manufacturing a scintillator panel.
상기 방법은,
상기 제 2 보호층의 소정부분을 덮도록 상기 반사층 위에 제 2 보호층을 형성하는 단계; 및
상기 제 2 보호층의 소정부분과 상기 제 2 댐 부재의 소정부분을 덮도록 상기 제 2 방습부를 형성하는 단계;를 더 포함하는,
신틸레이터 패널 제조방법.
14. The method of claim 13,
The method comprises:
Forming a second protective layer on the reflective layer to cover a predetermined portion of the second protective layer; And
And forming the second moisture-proof portion to cover a predetermined portion of the second protective layer and a predetermined portion of the second dam member.
A method for manufacturing a scintillator panel.
상기 제 2 보호층을 형성하는 단계는,
상기 제 2 댐 구조물의 소정부분에 마스크를 형성하는 단계;
상기 반사층과 상기 제 2 댐 구조물을 덮도록 패릴렌(Parylene)을 도포하는 단계; 및
상기 제 2 댐 구조물에 형성된 마스크를 제거하는 단계;를 포함하는,
신틸레이터 패널 제조방법.
17. The method of claim 16,
Wherein forming the second passivation layer comprises:
Forming a mask on a predetermined portion of the second dam structure;
Applying a parylene to cover the reflective layer and the second dam structure; And
And removing the mask formed on the second dam structure.
A method for manufacturing a scintillator panel.
상기 제 1 방습부 및 상기 제 2 방습부는 상온에서 경화 가능한 투습방지용 코팅액이 도포되어 형성되는,
신틸레이터 패널 제조방법.
17. The method of claim 16,
Wherein the first moisture-proof portion and the second moisture-proof portion are formed by applying a coating liquid for moisture-
A method for manufacturing a scintillator panel.
상기 투습방지용 코팅액은 히타치사의 TF-4200EB-451로 형성되는,
신틸레이터 패널 제조방법.19. The method of claim 18,
The moisture permeation preventing coating liquid was formed by Hitachi's TF-4200EB-451,
A method for manufacturing a scintillator panel.
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---|---|---|---|
KR1020140106188A KR20160021387A (en) | 2014-08-14 | 2014-08-14 | Scintillator panel and method of manufacturing the same |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2017171387A1 (en) * | 2016-03-31 | 2017-10-05 | 주식회사 아비즈알 | Scintillator panel and method for manufacturing same |
WO2024004236A1 (en) * | 2022-06-29 | 2024-01-04 | キヤノン電子管デバイス株式会社 | Radiation detector |
-
2014
- 2014-08-14 KR KR1020140106188A patent/KR20160021387A/en not_active Application Discontinuation
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