KR20160003805A - Gas supply tube and heat processing device - Google Patents

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KR20160003805A
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야스시 타다
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가부시키가이샤 무라타 세이사쿠쇼
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Abstract

가스 공급관(1)은 일단이 닫혀져 있고, 관벽에 길이방향으로 배열된 복수의 관통공(3)을 구비하는 외측관(2)과, 일단이 가스 공급원에 접속되고, 외측관(2)의 내부에 삽입되는 내측관(5)을 포함한다. 가스 공급원으로부터 공급된 가스는 내측관(5)을 지나고, 외측관(2)의 내부에 형성된 외측관(2)과 내측관(5)의 간극(7)을 지나고, 외측관(2)의 복수의 관통공(3)으로부터 주위 공간으로 방출되는 경로로 흐른다. 공급된 가스는 내측관을 흐르는 사이와, 외측관(2)과 내측관(5)의 간극을 흐르는 사이에 가스 공급관(1)에 전달된 주위 공간의 온도에 의해 가열 또는 냉각된다. 내측관(5)은 내측관(5)의 내부 용적과 동일한 내부 용적을 갖는 원통과 비교해서 내측관(5)을 흐르는 가스와의 접촉 면적을 크게 하는 구조(9)를 갖는다.The gas supply pipe 1 has an outer tube 2 whose one end is closed and has a plurality of through holes 3 arranged longitudinally on the tube wall and one end connected to the gas supply source, And an inner tube 5 inserted into the inner tube 5. The gas supplied from the gas supply source passes through the inner tube 5 and passes through the gap 7 between the outer tube 2 and the inner tube 5 formed inside the outer tube 2, Through the through hole (3) of the main body (1). The supplied gas is heated or cooled by the temperature of the ambient space transmitted to the gas supply pipe 1 between flowing through the inner tube and flowing through the gap between the outer tube 2 and the inner tube 5. The inner tube 5 has a structure 9 for increasing the contact area with the gas flowing through the inner tube 5 as compared with a cylinder having an inner volume equal to the inner volume of the inner tube 5. [

Description

가스 공급관 및 열 처리장치{GAS SUPPLY TUBE AND HEAT PROCESSING DEVICE}BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention [0001] The present invention relates to a gas supply pipe,

이 발명은 가스 공급관과 그것을 사용하여 노체 내부의 피처리물에 분위기 가스를 공급하면서 열 처리를 행하는 열 처리장치에 관한 것이다.The present invention relates to a gas supply pipe and a heat treatment apparatus for performing heat treatment while supplying an atmospheric gas to a material to be treated inside the furnace body using the gas supply pipe.

세라믹 콘덴서로 대표되는 세라믹 전자부품을 얻기 위해서 실시되는 소성 등 피처리물의 열 처리에는 그 목적에 따른 분위기 가스가 가스 공급 수단으로부터 공급되는 열 처리장치가 널리 사용되고 있다.BACKGROUND ART A heat treatment apparatus in which an atmospheric gas according to the purpose is supplied from a gas supply means is widely used for heat treatment of a material to be treated such as firing to obtain a ceramic electronic component represented by a ceramic capacitor.

대량의 피처리물을 처리하는 열 처리장치로서 적재 부재에 재치된 피처리물을 반송 기구에 의해 반송하면서 연속해서 처리하는 롤러하스 로, 메쉬벨트 로, 및 푸셔 로 등의 연속 로를 들 수 있다. As a heat treatment apparatus for treating a large amount of an object to be treated, there is a continuous furnace such as a roller harness, a mesh belt, and a pusher furnace, which continuously processes the object to be processed placed on the loading member by a transport mechanism .

이들 연속 로에 있어서 많은 경우 분위기 가스는 예열된 후에 피처리물에 대하여 공급된다. 가스 공급 수단은 히터에 의해 가열된 노체의 내부 공간에 노출되도록 배치되는 가스 공급관을 포함한다. 분위기 가스의 예열은 노체의 내부 공간의 온도에서 가열된 가스 공급관의 내부를 흐르는 사이에 행해진다.In these continuous furnaces, in many cases, the atmospheric gas is supplied to the object to be treated after being preheated. The gas supply means includes a gas supply pipe arranged to be exposed to an inner space of the furnace body heated by the heater. Preheating of the atmospheric gas is performed while flowing inside the heated gas supply pipe at the temperature of the internal space of the furnace body.

그 일례로서 일본특허공개 2012-225620호 공보(특허문헌 1)에는 노체 내부에 배치된 가스 공급관을 외측관과 내측관으로 이루어지는 이중관으로 해서 분위기 가스가 내측관을 흐르는 사이와 이중관의 간극을 흐르는 사이에 노체의 내부 공간의 온도에 의해 예열하는 방법이 제안되어 있다. As an example thereof, Japanese Patent Application Laid-Open Publication No. 2012-225620 (Patent Document 1) discloses a gas supply pipe disposed inside a furnace body as a double tube composed of an outer tube and an inner tube, in which atmospheric gas flows between the inner tube and the inner tube A method of preheating by the temperature of the inner space of the furnace body is proposed.

특허문헌 1에 기재된 가스 공급관(101)을 도 12a 및 도 12b에 나타낸다. 외측관(102)은 관벽에 관통공(103)을 구비하고 있다. 내측관(105)은 관벽에 관통공(110)을 구비하고 있다. 외측관(102)과 내측관(105)의 간극(107)에는 간극(107)을 노체 외부의 분위기로부터 격절시키고, 외측관(102)의 내부에서 내측관(105)을 지지하기 위한 부시(108)가 삽입되어 있다.The gas supply pipe 101 described in Patent Document 1 is shown in Figs. 12A and 12B. The outer tube (102) has a through hole (103) in the tube wall. The inner tube 105 is provided with a through-hole 110 in its tubular wall. A gap 107 between the outer tube 102 and the inner tube 105 is provided with a bush 108 for supporting the inner tube 105 inside the outer tube 102, Is inserted.

또한, 외측관(102)과 내측관(105)은 내측관(105)의 관통공(110)의 윤곽을 외측관(102)의 내벽면에 수직 투영했을 때의 투영상과 외측관(102)의 관통공(103)이 겹지지 않도로 배치되어 있다. The outer tube 102 and the inner tube 105 are arranged such that the outline of the through hole 110 of the inner tube 105 is perpendicularly projected to the inner wall surface of the outer tube 102, The through holes 103 are arranged so as not to overlap each other.

가스 공급관(101)은 도시하지 않은 노체 내부에 배치되어 노체 외부에 구비된 도시하지 않은 공급원에 접속되어 있다. The gas supply pipe 101 is disposed inside a furnace body (not shown) and connected to a supply source (not shown) provided outside the furnace body.

가스 공급관(101)에 있어서의 가스의 흐름에 대하여 설명한다. 가스 공급원으로부터 내측관(105)의 양단에 공급된 분위기 가스는 화살표 a로 나타낸 바와 같이 내측관(105)의 내부(106)를 흐르고, 그 도중에서 화살표 b로 나타낸 바와 같이 내측관(105)의 관통공(110)으로부터 간극(107)으로 방출된다. 간극(107)으로 방출된 분위기 가스는 화살표 c로 나타낸 바와 같이 외측관(102)의 내벽면을 따라 흐르고, 최종적으로는 화살표 d로 나타낸 바와 같이 외측관(102)의 관통공(103)으로부터 로 내로 방출된다. The flow of gas in the gas supply pipe 101 will be described. The atmospheric gas supplied to both ends of the inner tube 105 from the gas supply source flows through the inner tube 105 of the inner tube 105 as shown by an arrow a and flows through the inner tube 105 And is discharged from the through hole (110) to the gap (107). The atmospheric gas discharged into the gap 107 flows along the inner wall surface of the outer tube 102 as shown by the arrow c and finally flows from the through hole 103 of the outer tube 102 Lt; / RTI >

그리고, 분위기 가스는 내측관(105)의 내부(106)를 흐르는 사이와, 간극(107)을 흐르는 사이에 로 내부 온도에 의해 예열된다. The atmospheric gas is preheated by the internal temperature between flowing through the inside 106 of the inside pipe 105 and flowing through the gap 107.

특허문헌 1에서는 상기 가스 공급관은 여분의 스페이스를 필요로 하지 않고 균일한 온도의 분위기 가스를 피처리물에 공급할 수 있다고 되어 있다. In Patent Document 1, it is supposed that the gas supply pipe can supply an atmospheric gas having a uniform temperature to the object to be treated without requiring an extra space.

일본특허공개 2012-225620호 공보Japanese Patent Application Laid-Open Publication No. 2012-225620

특허문헌 1에 기재된 가스 공급관에서는 내측관(105)의 내부(106)를 흐르는 분위기 가스는 내측관(105)과 접촉함으로써 가열된다. 그러나, 내측관(105)의 내부(106)의 중심축선 근방을 흐르는 분위기 가스는 내측관(105)의 관벽으로부터 떨어져 있기 때문에 가열되기 어렵다. In the gas supply pipe described in Patent Document 1, the atmospheric gas flowing through the inside 106 of the inside pipe 105 is heated by contacting with the inside pipe 105. However, since the atmospheric gas flowing in the vicinity of the central axis of the inside 106 of the inside tube 105 is away from the inside wall of the inside tube 105, it is hard to be heated.

또한, 노체 외부 근방에 있는 내측관(105)의 관통공(110a, 110g)으로부터 간극(107)으로 분출되는 분위기 가스는 내측관(105)을 흐르는 거리가 짧기 때문에 내측관(105)에 접촉하는 거리가 짧다. 그 때문에 그러한 분위기 가스는 특히 예열이 불충분해질 우려가 있다. The atmospheric gas ejected from the through holes 110a and 110g of the inner tube 105 in the vicinity of the outside of the furnace body to the gap 107 is in contact with the inner tube 105 because the distance through the inside tube 105 is short The distance is short. Therefore, there is a possibility that such an atmospheric gas becomes insufficient especially in preheating.

즉, 특허문헌 1의 열 처리장치에서는 분위기 가스의 예열이 충분하다고는 말할 수 없다. 이것은 공급하는 분위기 가스량이 많아짐에 따라 현저해진다.That is, in the heat treatment apparatus of Patent Document 1, it can not be said that preheating of the atmosphere gas is sufficient. This becomes remarkable as the amount of atmosphere gas supplied increases.

분위기 가스가 공급 경로의 도중에서 충분히 예열되지 않고 낮은 온도 그대로 대량의 피처리물에 공급되면 분위기 가스와의 접촉 상태에 의해 피처리물의 온도에 불균일이 생긴다. 피처리물의 열 처리 중의 온도의 불균일은 열 처리 후의 상태의 불균일의 원인이 된다. 또한, 피처리물의 열 처리 후의 상태의 불균일은 열 처리 후의 피처리물을 사용하여 제조되는 각종 제품의 성능의 불균일의 원인이 된다. When the atmospheric gas is supplied to a large amount of the object to be processed at a low temperature without being sufficiently preheated in the middle of the supply path, the temperature of the object to be processed is uneven due to the contact with the atmosphere gas. The unevenness of the temperature during the heat treatment of the article to be treated causes the unevenness of the state after the heat treatment. In addition, unevenness of the state of the article to be treated after the heat treatment causes non-uniformity in the performance of various articles manufactured using the article to be treated after the heat treatment.

따라서, 분위기 가스를 충분히 예열하여 열 처리 중의 피처리물의 온도의 불균일을 억제하는 것이 요구되고 있다.Therefore, it is required to sufficiently preheat the atmosphere gas to suppress unevenness of the temperature of the object to be treated in the heat treatment.

그래서, 이 발명의 목적은 공급되는 분위기 가스를 충분히 예열할 수 있는 가스 공급관과, 열 처리 중의 피처리물의 온도의 불균일을 억제할 수 있는 열 처리장치를 제공하는 것이다.It is therefore an object of the present invention to provide a gas supply pipe capable of sufficiently preheating the supplied atmospheric gas and a heat treatment apparatus capable of suppressing unevenness of the temperature of the object to be treated during the heat treatment.

이 발명에서는 공급되는 분위기 가스를 충분히 예열할 수 있는 가스 공급관을 제공하기 위해서 가스 공급관의 내부 구조에 대한 개량이 도모된다.In this invention, the internal structure of the gas supply pipe is improved in order to provide a gas supply pipe capable of sufficiently preheating the supplied atmospheric gas.

이 발명에 의한 가스 공급관은 외측관과 내측관을 포함한다. 외측관은 일단이 닫혀져 있고, 관벽에 길이방향으로 배열된 복수의 관통공을 구비한다. 내측관은 일단이 가스 공급원에 접속되고, 상기 외측관의 내부에 삽입된다.The gas supply pipe according to the present invention includes an outer pipe and an inner pipe. The outer tube is closed at one end, and has a plurality of through holes arranged longitudinally in the tube wall. The inner tube is connected at one end to the gas supply source and inserted into the outer tube.

가스 공급원으로부터 공급된 가스는 내측관을 지나고, 외측관의 내부에 형성된 외측관과 내측관의 간극을 지나고, 외측관의 복수의 관통공으로부터 가스 공급관의 주위 공간으로 방출되는 경로로 흐른다. 공급된 가스는 내측관을 흐르는 사이와, 외측관과 내측관의 간극을 흐르는 사이에 가스 공급관에 전달된 주위 공간의 온도에 의해 가열 또는 냉각된다.The gas supplied from the gas supply source passes through the inner tube, passes through the gap between the outer tube and the inner tube formed inside the outer tube, and flows from the plurality of through holes of the outer tube to the path that is discharged to the surrounding space of the gas supply tube. The supplied gas is heated or cooled by the temperature of the ambient space passed to the gas supply pipe between flowing through the inner tube and flowing between the outer tube and the inner tube.

또한, 내측관은 내측관의 내부 용적과 동일한 내부 용적을 갖는 원통과 비교해서 내측관을 흐르는 가스와의 접촉 면적을 크게 하는 구조를 갖는다.Further, the inner tube has a structure in which a contact area with a gas flowing in the inner tube is increased as compared with a cylinder having an inner volume equal to the inner volume of the inner tube.

상기 가스 공급관에서는 내측관은 동일한 내부 용적을 갖는 원통과 비교해서 내측관을 흐르는 가스와의 접촉 면적을 크게 하는 구조를 내부에 갖는다. 따라서, 내측관이 다른 원통인 경우에 비해 내측관과, 내측관을 흐르는 가스가 접촉하기 쉬워지고 있다.In the gas supply pipe, the inner pipe has a structure in which a contact area with the gas flowing in the inner pipe is larger than a cylinder having the same inner volume. Therefore, the inner tube and the gas flowing through the inner tube are more likely to come into contact with each other as compared with the case where the inner tube is a different cylinder.

그 때문에 상기 가스 공급관은 가스 공급원으로부터 공급된 가스를 내측관을 흐르는 사이와, 외측관과 내측관의 간극을 흐르는 사이의 양방에서 가스 공급관에 전달된 주위 공간의 온도에 충분히 적응시킬 수 있다. 그 결과, 외측관에 형성된 복수의 관통공으로부터 충분히 균일한 온도의 가스를 주위 공간으로 방출할 수 있다.Therefore, the gas supply pipe can sufficiently adapt the gas supplied from the gas supply source to the temperature of the ambient space, which is transmitted to the gas supply pipe, both between the flowing of the inner tube and the gap between the outer tube and the inner tube. As a result, a gas having a sufficiently uniform temperature can be discharged from the plurality of through holes formed in the outer tube to the surrounding space.

또한, 이 발명에 의한 가스 공급관은 내측관이 다공관이며, 이 다공관의 내부 구조를 가스와의 접촉 면적을 크게 하는 구조로 해도 좋다.In the gas supply pipe according to the present invention, the inner tube is a porous tube, and the inner structure of the porous tube may have a structure in which the contact area with the gas is increased.

상기 가스 공급관에서는 내측관이 다공관이기 때문에 내측관에는 내측관을 복수의 소공으로 구획하는 벽부를 포함하는 내부 구조가 형성되어 있다. 이 내부 구조에 포함되는 벽부에 의해 내측관의 내부의 표면적 자체가 커진다. 따라서, 내측관이 다른 원통인 경우에 비해 내측관과 공급된 가스의 접촉 면적이 커진다.In the gas supply pipe, since the inner tube is a porous tube, the inner tube has an inner structure including a wall portion dividing the inner tube into a plurality of pores. The surface area of the inside of the inner tube is increased by the wall portion included in the inner structure. Therefore, the contact area between the inner tube and the supplied gas becomes larger than in the case where the inner tube is a different cylinder.

또한, 이 발명에 의한 가스 공급관은 내측관의 내부에 삽입 부재가 삽입되어 있고, 이 삽입 부재를 가스와의 접촉 면적을 크게 하는 구조로 해도 좋다.Further, the gas supply pipe according to the present invention may have a structure in which an insertion member is inserted into the inner tube, and the contact area of the insertion member with the gas is increased.

상기 가스 공급관에서는 내측관의 내부에 삽입 부재가 삽입되어 있기 때문에 내측관의 내부의 표면적은 내측관 자체의 표면적과 삽입 부재의 표면적을 합친 것이 된다. 따라서, 내측관이 다른 원통인 경우에 비해 내측관과 공급된 가스의 접촉 면적이 커진다.Since the inserting member is inserted into the inner tube at the gas supply pipe, the surface area of the inner tube is the sum of the surface area of the inner tube itself and the surface area of the inserting member. Therefore, the contact area between the inner tube and the supplied gas becomes larger than in the case where the inner tube is a different cylinder.

또한, 이 발명에 의한 가스 공급관은 내측관의 관벽의 일부가 내측관의 중심축선을 향해 돌출되어 있고, 이 돌출된 내측관의 관벽의 일부를 가스와의 접촉 면적을 크게 하는 구조로 해도 좋다. In the gas supply pipe according to the present invention, a part of the pipe wall of the inner pipe may protrude toward the central axis of the inner pipe, and a part of the pipe wall of the protruded inner pipe may have a large contact area with the gas.

상기 가스 공급관에서는 내측관의 관벽의 일부를 내측관의 중심축선을 향해 돌출시키고 있기 때문에 내측관의 내부의 표면적 자체가 커진다. 따라서, 내측관이 다른 원통인 경우에 비해 내측관과 공급된 가스의 접촉 면적이 커진다.In the gas supply pipe, a part of the inner wall of the inner tube is projected toward the central axis of the inner tube, so that the inner surface of the inner tube itself becomes large. Therefore, the contact area between the inner tube and the supplied gas becomes larger than in the case where the inner tube is a different cylinder.

또한, 이 발명은 열 처리 중의 피처리물의 온도의 불균일을 억제할 수 있는 열 처리장치에도 적합하다.Further, the present invention is also suitable for a heat treatment apparatus capable of suppressing uneven temperature of the object to be treated in the heat treatment.

이 발명에 의한 열 처리장치는 단열벽에 둘러싸인 내부 공간을 갖는 노체와, 노체의 내부 공간에 노출되도록 배치된 가스 공급관을 포함하는 가스 공급 기구와, 노체의 내부 공간을 가열하는 가열 기구를 포함한다.The heat treatment apparatus according to the present invention includes a gas supply mechanism including a furnace body having an inner space surrounded by the heat insulating wall, a gas supply tube arranged to be exposed in the inner space of the furnace body, and a heating mechanism for heating the inner space of the furnace body .

이 열 처리장치는 가스 공급 기구에 의해 노체의 내부 공간에 분위기 가스를 공급하고, 분위기 가스 환경 하에서 피처리물을 가열 기구에 의해 가열하여 피처리물을 열 처리한다.In this heat treatment apparatus, the atmosphere gas is supplied to the inner space of the furnace body by the gas supply mechanism, and the object to be processed is heated by the heating mechanism under the atmosphere of the atmospheric gas to heat the object to be processed.

가스 공급 기구에 포함되는 가스 공급관은 이 발명에 의한 가스 공급관이다.The gas supply pipe included in the gas supply mechanism is the gas supply pipe according to the present invention.

이 발명에 의한 가스 공급관은 상기와 같이 공급되는 가스를 가스 공급관에 전달된 주위 공간의 온도에 충분히 적응시킬 수 있다. 따라서, 이 발명에 의한 가스 공급관을 사용한 열 처리장치에서는 공급된 분위기 가스가 노체의 내부 공간의 온도에 충분히 적응하여 예열된 상태에서 노체 내부로 방출된다. 그 때문에 열 처리 중의 피처리물의 온도의 불균일이 억제되어 피처리물의 열 처리 후의 상태가 균일해진다. 그 결과, 열 처리 후의 피처리물을 사용하여 제조되는 각종 제품의 성능의 불균일이 없어 제품의 수율을 높게 할 수 있다. The gas supply pipe according to the present invention can sufficiently adapt the supplied gas to the temperature of the ambient space transferred to the gas supply pipe. Therefore, in the heat treatment apparatus using the gas supply pipe according to the present invention, the supplied atmospheric gas is sufficiently heated to the temperature of the internal space of the furnace body and is discharged into the furnace body in a preheated state. Therefore, the unevenness of the temperature of the object to be treated in the heat treatment is suppressed, and the state of the object to be treated after the heat treatment becomes uniform. As a result, there is no variation in the performance of various products manufactured using the object to be processed after the heat treatment, so that the yield of the product can be increased.

(발명의 효과)(Effects of the Invention)

이 발명에 의한 가스 공급관은 가스 공급원으로부터 공급된 가스를 내측관을 흐르는 사이와, 외측관과 내측관의 간극을 흐르는 사이의 양방에서 가스 공급관에 전달된 주위 공간의 온도에 충분히 적응시킬 수 있다. 그 결과, 이 발명에 의한 가스 공급관은 외측관에 설치된 복수의 관통공으로부터 충분히 균일한 온도의 가스를 주위 공간으로 방출할 수 있다.The gas supply pipe according to the present invention can sufficiently adapt the gas supplied from the gas supply source to the temperature of the ambient space which is transferred to the gas supply pipe both in the flowing direction of the inner pipe and in the gap between the outer pipe and the inner pipe. As a result, the gas supply pipe according to the present invention can discharge gas of sufficiently uniform temperature from the plurality of through holes provided in the outer pipe to the surrounding space.

또한, 이 발명에 의한 열 처리장치는 이 발명에 의한 가스 공급관을 사용하여 충분히 균일한 온도의 분위기 가스를 피처리물에 대하여 공급함으로써 열 처리중의 피처리물의 온도의 불균일을 억제할 수 있다. 그 때문에 피처리물의 열 처리 후의 상태가 균일해진다. 그 결과, 열 처리 후의 피처리물을 사용하여 제조되는 각종 제품의 성능이 불균일해지는 일이 없어 제품의 수율을 높게 할 수 있다. Further, in the heat treatment apparatus according to the present invention, by supplying the atmospheric gas having a sufficiently uniform temperature to the material to be treated by using the gas supply pipe according to the present invention, the unevenness of the temperature of the material to be treated during the heat treatment can be suppressed. Therefore, the state of the article to be treated after the heat treatment becomes uniform. As a result, the performance of various products manufactured using the object to be treated after the heat treatment is not uneven, and the yield of the product can be increased.

도 1a는 이 발명의 제 1 실시형태에 의한 가스 공급관(1)의 외관도이며, 측면의 외관도이다.
도 1b는 이 발명의 제 1 실시형태에 의한 가스 공급관(1)의 외관도이며, 저면의 외관도이다.
도 1c는 이 발명의 제 1 실시형태에 의한 가스 공급관(1)의 외관도이며, 선단의 외관도이다.
도 2a는 도 1a에 나타낸 Z1-Z1선을 따른 가스 공급관(1)의 단면도이다.
도 2b는 도 1b에 나타낸 X1-X1선을 따른 가스 공급관(1)의 단면도이다.
도 2c는 도 1b에 나타낸 Y1-Y1선을 따른 가스 공급관(1)의 단면도이다.
도 3a는 가스 공급관의 내측관을 이 발명의 범위 외의 비교예와, 이 발명의 범위 내의 제 1 실시형태 사이에서 비교하여 나타내기 위한 단면도이며, 비교예의 단면도이다.
도 3b는 가스 공급관의 내측관을 이 발명의 범위 외의 비교예와, 이 발명의 범위 내의 제 1 실시형태 사이에서 비교하여 나타내기 위한 단면도이며, 도 2a에 나타낸 가스 공급관(1)의 내측관(5)의 단면도이다.
도 4a는 도 3a에 나타낸 가스 공급관의 내측관에 있어서 그 내부를 흐르는 가스가 받는 열을 나타내는 모식도이며, 비교예에 있어서의 모식도이다.
도 4b는 도 3b에 나타낸 가스 공급관의 내측관에 있어서 그 내부를 흐르는 가스가 받는 열을 나타내는 모식도이며, 도 3b에 나타낸 가스 공급관(1)의 내측관(5)에 있어서의 모식도이다.
도 5a는 도 1a로부터 도 1c에 나타낸 가스 공급관(1)을 사용해서 구성되는 열 처리장치(11)의 단면도이며, 열 처리장치(11)를 측면방향으로부터 본 단면도이다.
도 5b는 도 1a로부터 도 1c에 나타낸 가스 공급관(1)을 사용해서 구성되는 열 처리장치(11)의 단면도이며, 도 5a의 Y2-Y2 단면도이다.
도 6은 분위기 가스의 예열이 되는 쪽을 이 발명의 범위 외의 비교예의 가스 공급관과, 이 발명의 범위 내의 제 1 실시형태의 가스 공급관(1) 사이에서 비교하여 나타내는 그래프이다.
도 7은 이 발명의 제 1 실시형태의 변형례에 있어서의 가스 공급관(1)의 내측관(5)의 단면도이다.
도 8은 이 발명의 제 2 실시형태에 있어서의 가스 공급관(1)의 내측관(5)의 단면도이다.
도 9는 이 발명의 제 2 실시형태의 변형례에 있어서의 가스 공급관(1)의 내측관(5)의 단면도이다.
도 10은 이 발명의 제 3 실시형태에 있어서의 가스 공급관(1)의 내측관(5)의 단면도이다.
도 11은 이 발명의 제 3 실시형태의 변형례에 있어서의 가스 공급관(1)의 내측관(5)의 단면도이다.
도 12a는 배경기술의 가스 공급관(101)의 단면도이며, 가스 공급관(101)을 측면방향으로부터 본 단면도이다.
도 12b는 배경기술의 가스 공급관(101)의 단면도이며, 도 12a의 Y3-Y3 단면도이다.1A is an external view of a gas supply pipe 1 according to a first embodiment of the present invention, and is an external view of a side view.
1B is an external view of the gas supply pipe 1 according to the first embodiment of the present invention, and is an external view of the bottom.
Fig. 1C is an external view of the gas supply pipe 1 according to the first embodiment of the present invention, and is an external view of the tip.
FIG. 2A is a cross-sectional view of the gas supply pipe 1 along the line Z1-Z1 shown in FIG. 1A.
2B is a cross-sectional view of the gas supply pipe 1 taken along line X1-X1 shown in FIG. 1B.
2C is a sectional view of the gas supply pipe 1 along the line Y1-Y1 shown in Fig. 1B.
Fig. 3A is a cross-sectional view showing a comparative example outside the scope of the present invention and a first embodiment within the scope of the present invention, and is a cross-sectional view of a comparative example. Fig.
Fig. 3B is a cross-sectional view for showing the inner tube of the gas supply pipe in comparison between the comparative example outside the scope of the present invention and the first embodiment within the scope of the present invention, and the inner tube of the gas supply tube 1 shown in Fig. 5).
FIG. 4A is a schematic view showing the heat received by the gas flowing in the inner tube of the gas supply tube shown in FIG. 3A, and is a schematic diagram in the comparative example. FIG.
Fig. 4B is a schematic view showing the heat received by the gas flowing in the inner tube of the gas supply tube shown in Fig. 3B, and is a schematic view of the inner tube 5 of the gas supply tube 1 shown in Fig. 3B.
Fig. 5A is a cross-sectional view of the heat treatment apparatus 11 constructed using the gas supply pipe 1 shown in Figs. 1A to 1C, and is a sectional view of the heat treatment apparatus 11 viewed from the side direction.
Fig. 5B is a cross-sectional view of the heat treatment apparatus 11 constructed using the gas supply pipe 1 shown in Figs. 1A to 1C, and is a sectional view taken along the line Y2-Y2 in Fig. 5A.
6 is a graph showing a comparison between the gas supply pipe of the comparative example outside the scope of the present invention and the gas supply pipe 1 of the first embodiment within the scope of the present invention.
7 is a cross-sectional view of the inner tube 5 of the gas supply pipe 1 in the modification of the first embodiment of the present invention.
8 is a sectional view of the inner tube 5 of the gas supply pipe 1 according to the second embodiment of the present invention.
9 is a cross-sectional view of an inner tube 5 of a gas supply pipe 1 according to a modification of the second embodiment of the present invention.
10 is a sectional view of the inner tube 5 of the gas supply pipe 1 according to the third embodiment of the present invention.
11 is a cross-sectional view of the inner tube 5 of the gas supply pipe 1 in the modified example of the third embodiment of the present invention.
12A is a cross-sectional view of the gas supply pipe 101 of the background art, and is a cross-sectional view of the gas supply pipe 101 as viewed from the side direction.
12B is a cross-sectional view of the gas supply pipe 101 of the background art, and is a sectional view taken along the line Y3-Y3 in Fig. 12A.

- 제 1 실시형태 -- First Embodiment -

이 발명의 제 1 실시형태에 의한 가스 공급관(1)에 대해서 도 1a, 도 1b, 도 1c 및 도 2a, 도 2b, 도 2c를 사용하여 설명한다.The gas supply pipe 1 according to the first embodiment of the present invention will be described with reference to Figs. 1A, 1B, 1C, 2A, 2B and 2C.

가스 공급관(1)은 외측관(2)과 내측관(5)을 포함한다. 외측관(2)은 일단이 닫혀져 있고, 관벽에 길이방향으로 배열된 복수의 관통공(3)(3a∼3i)을 구비한다. 또한, 외측관(2)은 예를 들면 후술의 열 처리장치(11)의 측부 단열벽(15)에 부착될 때의 지지 부재인 플랜지(4)를 타단에 구비한다.The gas supply pipe (1) includes an outer pipe (2) and an inner pipe (5). The outer tube (2) is closed at one end and has a plurality of through holes (3) (3a to 3i) longitudinally arranged on the tube wall. The outer tube 2 is provided at the other end with, for example, a flange 4, which is a support member when attached to the side heat insulating wall 15 of the heat treatment apparatus 11 described later.

내측관(5)은 일단이 도시하지 않은 가스 공급원에 접속되어 외측관(2)의 내부에 삽입된다. 내측관(5)이 외측관(2)에 삽입됨으로써 형성된 간극(7)에는 간극(7)을 주위 공간으로부터 격절시키고, 내측관(5)을 외측관(2)의 내부에서 지지하기 위한 부시(8)가 삽입되어 있다.One end of the inner tube 5 is connected to a gas supply source (not shown) and inserted into the outer tube 2. A gap 7 formed by inserting the inner tube 5 into the outer tube 2 is formed with a bush 7 for blocking the gap 7 from the surrounding space and supporting the inner tube 5 inside the outer tube 2 8 are inserted.

내측관(5)은 복수의 소공(6a∼6c)을 갖는 다공관으로 되어 있다. 그 때문에 내측관(5)에는 내측관(5)을 복수의 소공(6a∼6c)으로 구획하는 벽부를 포함하는 내부 구조가 형성되어 있다. 이 내부 구조에 포함되는 벽부가 가스 공급원으로부터 공급된 가스가 내측관(5)을 흐를 때에 내측관(5)과의 접촉 면적을 크게 하는 구조(9)로 되어 있다. The inner tube 5 is a porous tube having a plurality of small holes 6a to 6c. Therefore, the inner tube 5 is formed with an inner structure including a wall portion for dividing the inner tube 5 into a plurality of small holes 6a to 6c. And a structure (9) for increasing the contact area with the inner tube (5) when the gas supplied from the gas supply source included in the inner structure flows through the inner tube (5).

가스 공급관(1)에 있어서의 가스의 흐름에 대해서 도 2b를 사용하여 설명한다. 가스 공급원으로부터 내측관(5)의 일단에 공급된 가스는 화살표 A로 나타낸 바와 같이 내측관(5)의 소공(6a)을 통과하여 화살표 B로 나타낸 바와 같이 내측관(5)의 타단으로부터 외측관(2)의 내부로 방출된다.The flow of gas in the gas supply pipe 1 will be described with reference to Fig. 2B. The gas supplied from the gas supply source to one end of the inner tube 5 passes through the small hole 6a of the inner tube 5 as indicated by an arrow A and flows from the other end of the inner tube 5 to the outer tube (2).

외측관(2)의 내부로 방출된 가스는 화살표 C로 나타낸 바와 같이 간극(7)을 따라 흐르고, 최종적으로는 화살표 D로 나타낸 바와 같이 외측관(2)의 복수의 관통공(3)(3a∼3i)으로부터 주위 공간으로 방출된다. 이 경로는 소공(6b 및 6c)을 가스가 흐르는 경우도 마찬가지이다.The gas discharged into the inside of the outer tube 2 flows along the gap 7 as shown by the arrow C and finally flows through the plurality of through holes 3 (3a) of the outer tube 2 3i) to the surrounding space. This is the same when the gas flows through the small holes 6b and 6c.

또한, 도 2b에서는 화살표 C로 나타낸 가스는 간극(7)의 관통공(3)에 가까운 부분을 흐르게 하도록 도시되어 있지만 실제로는 간극(7) 전체에 걸쳐 흐르고 있다.2B, the gas indicated by the arrow C flows through a portion of the gap 7 close to the through-hole 3, but actually flows over the entire gap 7.

가스 공급관(1)은 여러 장소에 배치될 수 있지만 어느쪽이든 가스 공급관(1)에는 가스 공급관(1)의 주위 공간의 온도가 전달되고 있다. 따라서, 공급된 가스는 내측관(5)을 흐르는 사이와, 외측관(2)과 내측관(5)의 간극(7)을 흐르는 사이의 양방에서 가스 공급관(1)에 전달된 주위 공간의 온도에 의해 가열 또는 냉각된다.Although the gas supply pipe 1 can be disposed in various places, the gas supply pipe 1 is being supplied with the temperature of the surrounding space of the gas supply pipe 1 in either case. The supplied gas is supplied to the gas supply pipe 1 at a temperature between the ambient pipe 5 and the gap 7 between the outer pipe 2 and the inner pipe 5 As shown in Fig.

상기 소공(6a∼6c)을 구획하는 벽부를 포함하는 내부 구조가 소공(6a∼6c)을 흐르는 가스와의 접촉 면적을 크게 하고, 그들의 가스가 내측관(5)에 전달된 주위 공간의 온도에 적응하기 쉬워지는 것에 대해서 도 3a, 도 3b 및 도 4a, 도 4b를 사용하여 설명한다.The inner structure including the walls partitioning the pores 6a to 6c has a large contact area with the gas flowing through the small holes 6a to 6c and the gas is supplied to the inner space 5 The ease of adaptation will be described with reference to Figs. 3A, 3B and 4A and 4B.

도 3a는 비교예의 내측관(35)의 단면의 확대도이다. 내측관(35)의 외관은 직경(a), 길이(L)의 원기둥 형상이다. 내측관(35)은 통상의 구조의 관이며, 내부(36)의 단면은 원형이며, 면적(S)과 둘레길이(P)를 갖는다. 즉, 내측관(35)의 내부 용적은 SL이 된다. 또한, 내측관(35)의 내부의 표면적은 PL이 된다.3A is an enlarged view of a cross section of the inner tube 35 of the comparative example. The outer tube of the inner tube 35 has a cylindrical shape with a diameter (a) and a length (L). The inner tube 35 is a tube of a normal structure and the inner section 36 is circular in cross section and has an area S and a peripheral length P. [ That is, the inner volume of the inner tube 35 becomes SL. Further, the surface area inside the inner tube 35 becomes PL.

도 3b는 이 발명의 내측관(5)의 단면의 확대도이다. 내측관(5)의 외관은 내측관(35)과 같이 직경(a), 길이(L)의 원기둥 형상이다. 내측관(5)은 상기와 같이 복수의 소공(6a∼6c)을 갖는 다공관으로 되어 있다. 소공(6a)의 단면은 원형이며, 단면적(Sa) 및 둘레길이(Pa)를 갖는다. 소공(6b)의 단면도 원형이며, 단면적(Sb) 및 둘레길이(Pb)를 갖는다. 소공(6c)의 단면도 원형이며, 단면적(Sc) 및 둘레길이(Pc)를 갖는다.3B is an enlarged view of a section of the inner tube 5 of the present invention. The outer tube of the inner tube 5 has a cylindrical shape with a diameter (a) and a length (L) like the inner tube 35. The inner tube 5 is a porous tube having a plurality of small holes 6a to 6c as described above. Cross-section of the small holes (6a) is circular and has a cross section (S a) and the circumferential length (P a). The circular cross section of small hole (6b), has a cross-sectional area (S b) and the circumferential length (P b). The cross section of the small hole 6c is circular, and has a cross-sectional area (S c ) and a circumferential length (P c ).

도 3b에서는 소공(6a)의 단면적(Sa), 소공(6b)의 단면적(Sb) 및 소공(6c)의 단면적(Sc)은 모두 S/3이 되도록 설정되어 있다. 그 경우, 소공(6a)의 둘레길이(Pa), 소공(6b)의 둘레길이(Pb) 및 소공(6c)의 둘레길이(Pc)는 모두 P/31/ 2이 된다. 그 때문에 소공(6a∼6c)의 단면적의 합 Sa+Sb+Sc을 ST라고 했을 때, ST는 S가 된다. 또한, 단면의 둘레길이의 합 Pa+Pb+Pc를 PT라고 했을 때, PT는 31/2P가 된다. 즉, 내측관(5)의 내부 용적은 SL이 된다. 또한, 내측관(5)의 내부의 표면적은 31/2PL이 된다.3B, the cross-sectional area S a of the small hole 6a, the cross-sectional area S b of the small hole 6b, and the cross-sectional area S c of the small hole 6c are all set to be S / 3. In that case, small holes (6a) the circumferential length (P a), the circumferential length (P c) of the small holes (6b) the circumferential length (P b) and the small holes (6c) of the are all P / 3 1/2. Therefore, when the sum of the cross sectional areas S a + S b + S c of the small holes 6a through 6c is S T , S T becomes S. Further, when the sum P a + P b + P c of the circumferential lengths of the cross sections is P T , P T is 3 1/2 P. That is, the inner volume of the inner tube 5 becomes SL. Further, the inner surface area of the inner tube 5 is 3 1/2 PL.

따라서, 내측관(5)은 내측관(35)과 같은 내부 용적이면서 내부의 표면적은 31/2배로 되어 있어 소공(6a∼6c)을 흐르는 가스와의 접촉 면적이 커지고 있다. Therefore, the inner tube 5 has the same inner volume as the inner tube 35 and has an inner surface area of 3 1/2 times, so that the contact area with the gas flowing through the small holes 6a to 6c is increased.

도 4a는 도 3a의 내부(36)에 가스가 흐르고 있는 경우에 그 가스의 온도를 온도의 높이에 대응한 영역으로 구분해서 나타낸 모식도이다. 또한, 도 4b는 도 3b의 소공(6a∼6c)에 가스가 흐르고 있는 경우에 그들의 가스의 온도를 온도의 높이에 대응한 영역으로 구분해서 나타낸 모식도이다.FIG. 4A is a schematic diagram showing the temperature of the gas in the region corresponding to the height of the temperature when the gas flows in the interior 36 of FIG. 3A. Fig. 4B is a schematic diagram showing the temperature of the gas in the region corresponding to the height of the temperature when the gas flows through the pores 6a to 6c in Fig. 3B.

또한, 도 4a 및 도 4b에서는 내측관으로부터의 방열은 관의 형상에 따르지 않고 같다고 가정하고 있다. 도 4a 및 도 4b에 있어서 각 영역 사이에서의 온도의 관계는 H6＜H5＜H4＜H3＜H2＜H1이며, H1이 가장 온도가 높은 영역을 나타내고, H6이 가장 온도가 낮은 영역을 나타내고 있다.4A and 4B, it is assumed that the heat radiation from the inner tube is the same regardless of the shape of the tube. In FIGS. 4A and 4B, the relationship between the temperatures in the respective regions is H6 <H5 <H4 <H3 <H2 <H1, where H1 represents the highest temperature region and H6 represents the lowest temperature region.

도 4a에서는 내측관(35)의 내부(36)의 관벽 근방을 흐르는 가스의 온도는 높아지고 있지만 중앙 근방을 흐르는 가스의 온도는 낮은 그대로이다. 한편, 도 4b에서는 내측관(5)의 소공(6a∼6c)을 흐르는 가스는 중앙부 근방까지 온도가 높아지고 있다. 이 차이는 공급되는 가스량이 많아짐에 따라 현저해진다. 이것은 상기에서 설명한 바와 같이 내측관(5)은 소공(6a∼6c)을 흐르는 가스와의 접촉 면적이 커지고 있어 주위 공간의 온도가 가스에 전달되기 쉬워지기 때문이다. In Fig. 4A, the temperature of the gas flowing in the vicinity of the wall of the inside 36 of the inner tube 35 is high, but the temperature of the gas flowing near the center is low. On the other hand, in Fig. 4B, the temperature of the gas flowing through the pores 6a to 6c of the inner tube 5 is increased to the vicinity of the central portion. This difference becomes remarkable as the amount of supplied gas increases. This is because as described above, the inner tube 5 has a large contact area with the gas flowing through the small holes 6a to 6c, so that the temperature of the surrounding space is easily transmitted to the gas.

즉, 이 발명에 있어서의 내측관(5)에서는 가스 공급원으로부터 공급된 가스를 내측관(5)을 흐르는 사이에 가스 공급관의 주위 공간의 온도에 충분히 적응시킬 수 있다. That is, in the inner tube 5 of the present invention, the gas supplied from the gas supply source can be sufficiently adapted to the temperature of the ambient space of the gas supply pipe while flowing through the inner tube 5. [

따라서, 상기 가스 공급관(1)은 가스 공급원으로부터 공급된 가스를 내측관(5)을 흐르는 사이와, 외측관(2)과 내측관(5)의 간극(7)을 흐르는 사이의 양방에서 가스 공급관(1)에 전달된 주위 공간의 온도에 충분히 적응시킬 수 있다. 그 결과, 상기 가스 공급관(1)은 외측관(2)에 설치된 복수의 관통공(3)(3a∼3i)으로부터 충분히 균일한 온도의 가스를 주위 공간으로 방출할 수 있다.Therefore, the gas supply pipe 1 can supply the gas supplied from the gas supply source to the gas supply pipe 5 at both sides of the inner pipe 5 and between the outer pipe 2 and the inner pipe 5, Can be sufficiently adapted to the temperature of the surrounding space transferred to the heat exchanger (1). As a result, the gas supply pipe 1 can discharge gas of sufficiently uniform temperature from the plurality of through holes 3 (3a to 3i) provided in the outer tube 2 to the surrounding space.

상기에서 설명한 이 발명의 제 1 실시형태에 의한 가스 공급관(1)을 사용한 열 처리장치(11)에 대해서 도 5a, 도 5b 및 도 6을 사용하여 설명한다.The heat treatment apparatus 11 using the gas supply pipe 1 according to the first embodiment of the present invention described above will be described with reference to Figs. 5A, 5B, and 6. Fig.

열 처리장치(11)는 노체(12)와, 가스 공급 기구(18)와, 가열 기구(19)와, 반송 기구(22)를 구비한다. 피처리물(27)은 가스 공급 기구(18)로부터 공급되는 소정의 분위기 가스로 채워지는 노체(12)의 내부를 적재 부재(26)에 재치된 상태에서 반송 기구(22)에 의해 반송되면서 가열 기구(19)에 의해 가열됨으로써 열 처리된다.The heat treatment apparatus 11 includes a furnace body 12, a gas supply mechanism 18, a heating mechanism 19, and a transport mechanism 22. The object 27 to be processed is transported by the transport mechanism 22 in the state where the inside of the furnace body 12 filled with the predetermined atmospheric gas supplied from the gas supply mechanism 18 is placed on the loading member 26, And is subjected to heat treatment by being heated by a mechanism (19).

노체(12)는 상부 단열벽(13)과, 하부 단열벽(14)과, 측부 단열벽(15)을 포함한다. 노체(12)의 내부 공간은 열 처리존 격벽(16)에 의해 복수의 열 처리 존으로 분할된다. 열 처리존 격벽(16)에는 피처리물(27)을 재치한 적재 부재(26)가 반송 중에 통과할 수 있는 통과구(17)가 설치되어 있다. The furnace body 12 includes an upper heat insulating wall 13, a lower heat insulating wall 14, and a side heat insulating wall 15. The internal space of the furnace body 12 is divided into a plurality of heat treatment zones by the heat treatment zone partition walls 16. [ The heat treatment zone barrier 16 is provided with a through hole 17 through which the loading member 26 on which the article 27 is placed can pass through during transportation.

가스 공급 기구(18)는 가스 공급관(1)과, 도시하지 않은 가스 공급원을 포함한다. 가스 공급관(1)은 2개인 측부 단열벽(15)의 일방측으로부터 노체(12)룰 횡단하는 방향으로 노체(12)의 내부 공간에 돌출되도록 배치되고, 플랜지(4)에 의해 측부 단열벽(15)에 부착되어 있다. 각 열 처리존에는 입구측과 출구측의 열 처리존 격벽(16) 근방에 1개씩, 합계 2개의 가스 공급관(1)이 배치되어 있다.The gas supply mechanism 18 includes a gas supply pipe 1 and a gas supply source (not shown). The gas supply pipe 1 is arranged to protrude from the one side of the two side wall insulating walls 15 in the direction of traversing the furnace body 12 and into the inner space of the furnace body 12, 15). In each heat treatment zone, two gas supply pipes 1 in total are provided, one in the vicinity of the heat treatment zone partition wall 16 on the inlet side and the outlet side.

가열 기구(19)는 상부 히터(20)와, 하부 히터(21)와, 도시하지 않은 전원과, 도시하지 않은 출력 컨트롤러를 포함한다. 출력 컨트롤러는 상부 히터(20) 및 하부 히터(21)의 출력을 조정하여 상기 열 처리존 내부의 온도 환경을 소정의 상태로 설정한다.The heating mechanism 19 includes an upper heater 20, a lower heater 21, a power source (not shown), and an output controller (not shown). The output controller adjusts the output of the upper heater (20) and the lower heater (21) to set the temperature environment inside the thermal processing zone to a predetermined state.

반송 기구(22)는 반송 롤러(23)와, 도시하지 않은 기대 상에 지지되는 지지 부재(24)와, 구동 수단(25)을 포함한다. 반송 롤러(23)는 구동 수단(25)에 의해 소정의 속도로 회전된다. 피처리물(27)을 재치한 적재 부재(26)는 반송 롤러(23) 상에 재치됨으로써 소정의 속도로 노체(12)의 내부를 화살표 C의 방향으로 반송된다. 반송 속도는 열 처리존마다 설정된다.The conveying mechanism 22 includes a conveying roller 23, a support member 24 supported on an unillustrated base, and a driving means 25. The conveying roller 23 is rotated by the driving means 25 at a predetermined speed. The loading member 26 placed on the article to be processed 27 is conveyed in the direction of the arrow C in the furnace body 12 at a predetermined speed by being placed on the conveying roller 23. The conveying speed is set for each heat treatment zone.

각 열 처리존은 상부 히터(20) 및 하부 히터(21)의 출력을 출력 컨트롤러로 조정함으로써 소정의 조건의 온도 상승존, 온도 유지존 및 온도 하강존 중 어느 하나로 되어 있다. 열 처리장치(11)는 온도 상승존, 온도 유지존 및 온도 하강존을 조합하고, 또한 각 존에서의 반송속도를 조정함으로써 소정의 온도 프로파일을 설정할 수 있다. 따라서, 피처리물(27)은 열 처리장치(11)의 노체(12)의 내부를 반송 기구(22)에 의해 반송되는 사이에 소정의 온도 프로파일로 열 처리되는 것이 된다. Each of the heat treatment zones is one of a temperature rising zone, a temperature holding zone and a temperature falling zone under predetermined conditions by adjusting the output of the upper heater 20 and the lower heater 21 with an output controller. The heat treatment apparatus 11 can set a predetermined temperature profile by combining the temperature rise zone, the temperature holding zone and the temperature fall zone, and by adjusting the conveying speed in each zone. The object 27 to be processed is subjected to heat treatment at a predetermined temperature profile while being conveyed by the conveying mechanism 22 inside the furnace body 12 of the heat treatment apparatus 11. [

가스 공급원으로부터 공급되는 소정의 분위기 가스는 가스 공급관(1)의 내부를 흐를 때에 가스 공급관(1)에 전달된 노체(12)의 내부 공간의 온도에 의해 예열된다. 가스 공급관(1)의 외측관(2)의 관통공(3)으로부터는 화살표 F의 방향으로 예열된 분위기 가스가 연속적으로 방출된다. 그 결과, 노체(12)의 내부 공간은 소정의 분위기 가스로 채워진 상태가 유지된다. The predetermined atmospheric gas supplied from the gas supply source is preheated by the temperature of the internal space of the furnace body 12 which is transferred to the gas supply tube 1 when flowing through the inside of the gas supply tube 1. The atmospheric gas preheated in the direction of the arrow F is continuously discharged from the through hole 3 of the outer tube 2 of the gas supply tube 1. As a result, the inner space of the furnace body 12 is kept filled with the predetermined atmosphere gas.

도 6은 가스 공급관에 의한 분위기 가스의 예열이 되는 쪽의 차이에 대해서 도 3a에 나타낸 내측관(35)을 구비하는 가스 공급관을 사용한 경우(비교예)와, 도 3b에 나타낸 내측관(5)을 구비하는 가스 공급관(1)을 사용한 경우(실시예)를 비교해서 나타낸 것이다. 또한, 비교예의 가스 공급관은 내측관(5)을 내측관(35)으로 변경하고, 그 외의 부재는 가스 공급관(1)과 같게 한 것이다. 6 shows the case where the gas supply pipe having the inner pipe 35 shown in Fig. 3A is used (comparative example) and the inner pipe 5 shown in Fig. 3B is used for the difference in the preheated atmosphere gas by the gas supply pipe. (Example) in which the gas supply pipe 1 having the gas supply pipe 1 is used. In the gas supply pipe of the comparative example, the inner tube 5 is replaced with the inner tube 35, and the other members are the same as the gas supply tube 1.

온도 측정 개소는 최고 온도 유지존에 배치되어 있는 2개의 가스 공급관(1) 중 입구측의 열 처리존 격벽(16) 근방에 배치되었지만 「선단 부근」(외측관의 관통공(3a) 부근), 「선단-중앙 사이」(동 3c 부근), 「중앙 부근」(동 3e 부근), 「중앙-근원 사이」 (동 3g 부근) 및 「근원 부근」(동 3i 부근)이다.The temperature measurement points are disposed in the vicinity of the heat treatment zone partitions 16 on the inlet side of the two gas supply pipes 1 arranged in the highest temperature holding zone but can be located near the "tip end" (near the through holes 3a in the outer tube) (Near the East 3c), the "near the center" (near the East 3e), the "between the center and the root" (near the East 3g), and the "near the root" (near the East 3i).

가스 공급관(1)의 내부에서 예열된 상태의 분위기 가스의 온도가 측정될 수 있도록 각 관통공의 근방에서 방출 직후의 분위기 가스가 노출되는 위치에 열전쌍을 배치했다. 최고 온도 유지존의 설정 온도는 통상의 세라믹 전자부품을 소성할 때에 설정하는 온도로 했다. 또한, 도 6에서는 측정 개소에 있어서의 온도를 설정 온도로부터의 편차의 형태로 나타내고 있다.A thermocouple was disposed at a position where the atmospheric gas immediately after discharge was exposed in the vicinity of each through hole so that the temperature of the atmospheric gas in the preheated state inside the gas supply pipe 1 could be measured. The set temperature of the highest temperature holding zone was set to a temperature set when firing a conventional ceramic electronic component. In Fig. 6, the temperature at the measurement point is shown as a deviation from the set temperature.

가스 공급관의 「근원 부근」 및 「중앙-근원 사이」에 있어서는 비교예와 실시예 사이에서 측정 온도의 차이는 거의 보여지지 않는다. 이것은 어느 쪽의 가스 공급관을 사용해도 가스 공급관의 외측관(2)의 관통공(3i)으로부터 방출되는 분위기 가스는 내측관(5)(또는 내측관(35))과 외측관(2)의 간극(7)을 흐르는 사이에 충분히 예열되고 있기 때문이다. In the "near the source" and "between the center and the root of the gas supply pipe", the difference in the measured temperature is hardly observed between the comparative example and the embodiment. Even if either of the gas supply pipes is used, the atmospheric gas discharged from the through holes 3i of the outer pipe 2 of the gas supply pipe is separated from the gap between the inner pipe 5 (or the inner pipe 35) (7).

그러나, 간극(7)을 흐르는 거리가 짧아질수록 사용한 가스 공급관의 차이에 대응한 측정 온도의 차이가 현저해지고 있다. 비교예에 있어서는 분위기 가스는 내측관(35)의 내부를 흐르는 사이에는 충분히 예열되고 있지 않다. 또한, 간극(7)을 흐르는 거리가 짧아질수록 그곳에서의 예열도 불충분해진다.However, as the distance through the gap 7 is shortened, the difference in the measured temperature corresponding to the difference in the used gas supply pipe becomes remarkable. In the comparative example, the atmosphere gas is not sufficiently preheated while flowing inside the inner tube 35. Further, the shorter the distance through the gap 7 is, the more the preheating there becomes.

따라서, 간극(7)을 흐르는 거리가 비교적 짧은 외측관(2)의 관통공(3a∼3f)으로부터 방출되는 분위기 가스는 온도가 충분히 상승하지 않은 채 방출되고 있다. 특히, 간극(7)을 흐르는 거리가 가장 짧은 관통공(3a)으로부터 방출되는 분위기 가스의 영향을 받는 가스 공급관의 「선단 부근」의 온도의 저하가 현저하다. 그 결과, 방출된 분위기 가스는 가스 공급관의 「선단 부근」으로부터 「중앙 부근」의 노체(12) 내부의 온도를 낮춰버린다. Therefore, the atmospheric gas discharged from the through holes 3a to 3f of the outer tube 2 having a comparatively short distance flowing through the gap 7 is discharged without sufficiently rising the temperature. Particularly, the temperature of the &quot; vicinity of the front end &quot; of the gas supply pipe affected by the atmospheric gas discharged from the through hole 3a having the shortest distance to flow through the gap 7 is remarkable. As a result, the released atmospheric gas lowers the temperature inside the furnace body 12 from the "vicinity of the front end" of the gas supply pipe to the "near the center".

한편, 실시예에 있어서는 분위기 가스는 내측관(5)의 내부를 흐르는 사이에 충분히 예열되어 있다. 그 때문에 간극(7)을 흐르는 거리가 짧아도 예열이 불충분해지는 일은 없다. On the other hand, in the embodiment, the atmospheric gas is sufficiently preheated while flowing inside the inner tube 5. Therefore, even if the distance through the gap 7 is short, the preheating does not become insufficient.

따라서, 간극(7)을 흐르는 거리가 비교적 짧은 외측관(2)의 관통공(3a∼3f)으로부터 방출되는 분위기 가스이어도 온도가 충분히 상승해 있다. 그 결과, 방출된 분위기 가스는 외측관(2)의 관통공(3a∼3f) 부근의 노체(12) 내부의 온도를 낮추는 일은 없다. Therefore, even if the atmosphere gas is discharged from the through holes 3a to 3f of the outer tube 2 having a relatively short distance flowing through the gap 7, the temperature is sufficiently raised. As a result, the released atmospheric gas does not lower the temperature inside the furnace body 12 near the through holes 3a to 3f of the outer tube 2.

또한, 실시예에 있어서 가스 공급관의 「근원 부근」 및 「선단 부근」에서 노체(12) 내부의 온도가 약간 낮아져 있는 이유로서는 측부 단열벽(15)에 의한 흡열의 영향이 고려되지만 상세는 불분명하다. 또한, 온도의 저하가 이 정도이면 피처리물의 온도의 불균일은 억제되어 피처리물의 열 처리 후의 상태는 충분히 균일한 것이 확인되고 있다. The reason why the temperature inside the furnace body 12 is slightly lowered in the "vicinity of the root" and "near the front end" of the gas supply pipe in the embodiment is the influence of the heat absorption by the side heat insulating wall 15 is considered, . In addition, it has been confirmed that when the temperature is lowered to such an extent, the unevenness of the temperature of the object to be treated is suppressed, and the state of the object after heat treatment is sufficiently uniform.

즉, 이 발명에 의한 열 처리장치(11)에서는 공급된 분위기 가스가 노체 내부의 온도에서 충분히 예열된 상태로 노체(12) 내부로 방출된다. 그 때문에 열 처리 중의 피처리물의 온도의 불균일이 억제되어 피처리물의 열 처리 후의 상태가 균일해진다. 그 결과, 열 처리 후의 피처리물을 사용하여 제조되는 각종 제품의 성능이 불균일해지는 일이 없어 제품의 수율을 높게 할 수 있다.That is, in the heat treatment apparatus 11 according to the present invention, the supplied atmospheric gas is discharged into the furnace body 12 in a state where it is sufficiently preheated at the temperature inside the furnace body. Therefore, the unevenness of the temperature of the object to be treated in the heat treatment is suppressed, and the state of the object to be treated after the heat treatment becomes uniform. As a result, the performance of various products manufactured using the object to be treated after the heat treatment is not uneven, and the yield of the product can be increased.

이 발명의 제 1 실시형태에서는 열 처리장치(11)로서 적재 부재(26)의 반송 매체가 반송 롤러(23)인 소위 롤러하스 로를 예로서 설명했지만 이 발명은 그 외의 형태의 열 처리장치에도 적용할 수 있다. In the first embodiment of the present invention, as the heat treatment apparatus 11, a so-called roller harness having the conveying roller 23 as the conveying medium of the loading member 26 has been described as an example. However, the present invention is also applicable to other types of heat treatment apparatuses Can be applied.

또한, 이 발명의 열 처리장치는 유리 기판 등의 기재에 도포된 금속 재료 또는 무기 재료를 포함하는 페이스트의 건조 또는 소성, 또는 금속 재료 또는 무기 재료를 포함하는 분체의 가소(假燒) 등의 열 처리에 널리 적용할 수 있다.The heat treatment apparatus of the present invention can be used for drying or firing a paste containing a metal material or an inorganic material coated on a base material such as a glass substrate or a heat treatment such as calcining of a powder containing a metal material or an inorganic material It can be widely applied to processing.

또한, 이 발명의 제 1 실시형태로서 내측관(5)이 도 3b에 나타내는 단면이 원형인 복수의 소공(6a∼6c)을 갖는 다공관일 경우를 예시했지만 이것에 한정되는 것은 아니다. In addition, although the inner tube 5 according to the first embodiment of the present invention is a porous tube having a plurality of pores 6a to 6c having a circular cross section as shown in Fig. 3B, the present invention is not limited to this.

예를 들면, 도 7에 나타내는 바와 같이 단면이 원형이 아닌 복수의 소공(6a∼6d)을 갖는 다공관을 내측관(5)으로서 사용해도 좋다. 또한, 소공의 단면 형상은 모두 같을 필요는 없고 다른 단면 형상의 소공이 집합된 것이어도 좋다. For example, as shown in Fig. 7, a porous tube having a plurality of small holes 6a to 6d whose cross section is not circular may be used as the inner tube 5. [ In addition, the cross-sectional shapes of the pores are not necessarily all the same, and pores having different cross-sectional shapes may be aggregated.

- 제 2 실시형태 -- Second Embodiment -

이 발명의 제 2 실시형태에 의한 가스 공급관(1)의 내측관(5)에 대해서 도 8을 사용하여 설명한다.The inner tube 5 of the gas supply tube 1 according to the second embodiment of the present invention will be described with reference to Fig.

도 8은 이 발명의 제 2 실시형태에 의한 가스 공급관(1)의 내측관(5)의 단면의 확대도이다. 도 8에 나타내는 내측관(5)에서는 그 내부(6)에 단면이 십자형으로 격벽 형상의 삽입 부재(10)가 삽입되어 있다. 그 때문에 내측관(5)의 내부의 표면적은 내측관(5) 자체의 표면적과 삽입 부재(10)의 표면적을 합친 것이 되고, 내측관(5)이 다른 원통일 경우에 비해 공급된 가스와의 접촉 면적이 커진다. 즉, 이 삽입 부재(10)가 내측관(5)의 내부에 있어서 가스 공급원으로부터 공급된 가스와의 접촉 면적을 크게 하는 구조(9)로 되어 있다.8 is an enlarged view of a section of the inner tube 5 of the gas supply pipe 1 according to the second embodiment of the present invention. In the inner tube 5 shown in Fig. 8, a cross-shaped insertion member 10 having a cross-section in cross section is inserted into the inside 6 thereof. Therefore, the surface area of the inside of the inner tube 5 is the sum of the surface area of the inner tube 5 itself and the surface area of the insertion member 10, and the inner tube 5 is in contact with the supplied gas The contact area becomes large. That is, this insertion member 10 has a structure (9) for increasing the contact area with the gas supplied from the gas supply source in the inner tube (5).

삽입 부재(10)는 내측관(5)의 온도가 그 내부(6)의 공간 내에 효율적으로 전달되도록 내측관(5)의 내주면과 밀착해서 삽입되어 있다. 그 때문에 삽입 부재(10)의 재질의 모스 경도는 내측관(5)의 재질의 모스 경도 이하인 것이 바람직하다. 이 경우, 내측관(5)의 내부에 삽입 부재(10)를 삽입할 때에 내측관(5)의 내부를 손상시키는 일이 없다. The insertion member 10 is inserted into the inner circumferential surface of the inner tube 5 in close contact with the inner tube 5 so that the temperature of the inner tube 5 is efficiently transferred into the space of the inner tube 6. [ Therefore, it is preferable that the Mohs hardness of the material of the insertion member 10 is equal to or lower than the Mohs hardness of the material of the inner pipe 5. In this case, the inner side of the inner tube 5 is not damaged when the insertion member 10 is inserted into the inner side tube 5.

또한, 삽입 부재(10)의 열 팽창계수는 내측관(5)의 재질의 열 팽창계수와 동일 또는 근사한 것이 바람직하다. 이 경우, 삽입 부재(10)가 고온 환경 하에 있어서 열 팽창했을 때에 내측관(5)의 내주면에 과도한 응력이 가해지지 않아 내측관(5)이 파손되는 일이 없다.The thermal expansion coefficient of the insertion member 10 is preferably equal to or close to the thermal expansion coefficient of the material of the inner tube 5. In this case, when the insertion member 10 is thermally expanded under a high-temperature environment, excessive stress is not applied to the inner peripheral surface of the inner tube 5, so that the inner tube 5 is not damaged.

또한, 상기에서는 내측관(5)의 내부에 삽입되는 삽입 부재(10)가 단면이 십자형인 격벽 형상의 것을 예시했지만 이것에 한정되는 것은 아니다. In the above embodiment, the insertion member 10 inserted into the inner tube 5 is of a cross-sectional shape having a cross-section, but the present invention is not limited thereto.

예를 들면, 도 9에 나타내는 바와 같이 내측관(5)의 내부(6)에 사상(絲狀) 부재의 집합체를 삽입 부재(10)로서 삽입해도 좋다. 사상 부재의 집합체는 표면적이 크기 때문에 공급된 가스와의 접촉 면적을 소량이어도 크게 할 수 있다. For example, as shown in Fig. 9, an aggregate of yarn members may be inserted into the inside 6 of the inner tube 5 as the insertion member 10. Because of the large surface area of the assembly of the marshalling members, the contact area with the supplied gas can be made small even with a small amount.

더불어, 사상 부재의 집합체는 탄력성이 풍부하기 때문에 내측관(5)의 내부에 삽입할 때에 내측관(5)의 내부를 손상시키는 일이 없다. 또한, 고온 환경 하에 있어서 열 팽창했을 때에 내측관(5)의 내주면에 과도한 응력이 가해지지 않아 내측관(5)이 파손되는 일이 없다.In addition, since the assembly of the firing members is abundant in elasticity, the inside of the inner tube 5 is not damaged when inserted into the inner tube 5. Further, when the thermal expansion occurs under a high-temperature environment, excessive stress is not applied to the inner peripheral surface of the inner tube 5, so that the inner tube 5 is not damaged.

- 제 3 실시형태 -- Third Embodiment -

이 발명의 제 3 실시형태에 의한 가스 공급관(1)의 내측관(5)에 대해서 도 10을 사용하여 설명한다.The inner tube 5 of the gas supply pipe 1 according to the third embodiment of the present invention will be described with reference to Fig.

도 10은 이 발명의 제 3 실시형태에 의한 가스 공급관(1)의 내측관(5)의 단면의 확대도이다. 도 10에 나타내는 내측관(5)에서는 내측관(5)의 관벽의 일부가 내측관(5)의 중심축선을 향해 단면이 산형이 되도록 돌출되어 있다. 그 때문에 내측관(5)이 다른 원통인 경우에 비해 내측관(5)의 내부(6)의 표면적 자체가 커진다. 즉, 이 돌출 구조가 내측관(5)의 내부(6)에 있어서 가스 공급원으로부터 공급된 가스와의 접촉 면적을 크게 하는 구조(9)로 되어 있다. 이 돌출 구조는 가능한 한 내측관(5)의 중심축선에 가까운 영역까지 이르고 있는 쪽이 바람직하다. 이것에 의해 내측관(5)의 내부에 있어서 가스 공급원으로부터 공급된 가스와의 접촉 면적을 충분히 크게 할 수 있다.10 is an enlarged view of a section of the inner tube 5 of the gas supply pipe 1 according to the third embodiment of the present invention. In the inner tube 5 shown in Fig. 10, a part of the tube wall of the inner tube 5 protrudes toward the center axis of the inner tube 5 so that its cross section becomes a mountain-like shape. Therefore, the surface area of the inside 6 of the inner tube 5 is larger than that of the inner tube 5 having a different cylindrical shape. That is, this protruding structure has a structure (9) for increasing the contact area with the gas supplied from the gas supply source in the inside (6) of the inner tube (5). It is preferable that the protruding structure extends as far as possible to a region close to the central axis of the inner tube 5. [ As a result, the contact area with the gas supplied from the gas supply source inside the inner tube 5 can be made sufficiently large.

또한, 상기에서는 내측관(5)의 관벽의 일부가 내측관(5)의 중심축선을 향해 산형으로 돌출된 것을 예시했지만 이것에 한정되는 것은 아니다. In the above example, a part of the pipe wall of the inner pipe 5 protrudes in a mountain-like shape toward the central axis of the inner pipe 5, but the invention is not limited thereto.

예를 들면, 도 11에 나타내는 바와 같이 내측관(5)의 관벽의 일부가 내측관(5)의 중심축선을 향해 단면이 대략 직사각형이 되도록 돌출되어도 좋다. For example, as shown in Fig. 11, a part of the pipe wall of the inner pipe 5 may protrude so as to have a substantially rectangular cross-section toward the central axis of the inner pipe 5. [

이 발명의 가스 공급관(1)의 내측관(5)에 대해서는 제 1∼제 3 실시형태를 조합해도 좋다. 예를 들면, 내측관(5)을 다공관으로 하고, 그 소공의 내부에 삽입 부재(10)를 삽입해도 좋다. 또한, 내측관(5)을 다공관으로 하고, 그 소공의 내부에 돌출 구조를 갖도록 해도 좋다. The inner tube 5 of the gas supply pipe 1 of the present invention may be combined with the first to third embodiments. For example, the inner tube 5 may be a pore tube, and the insertion member 10 may be inserted into the pore. Alternatively, the inner tube 5 may be formed as a pore, and the pores may have a protruding structure.

또한, 이 발명의 가스 공급관(1)의 각 구성요소의 재질은 그 사용 목적에 따라 적당히 선택된다. 예를 들면, 열 처리장치(11)에 사용하는 경우는 고온의 산화성 분위기에도 견딜 수 있는 알루미나 등의 고융점 세라믹 재료를 사용할 수 있다. 한편, 비교적 저온의 환경 하에서 사용하는 경우는 스테인리스강 등의 금속 재료를 사용해도 좋다.In addition, the material of each component of the gas supply pipe 1 of the present invention is appropriately selected in accordance with the intended use. For example, when used in the heat treatment apparatus 11, a high melting point ceramic material such as alumina which can withstand a high temperature oxidizing atmosphere can be used. On the other hand, when used under a relatively low temperature environment, a metal material such as stainless steel may be used.

이 발명의 가스 공급관(1)은 가스 공급원으로부터 공급된 낮은 온도의 가스를 가스 공급관(1)의 주위 온도에서 가열하는 목적으로 사용해도 좋다. 한편, 가스 공급원으로부터 공급된 높은 온도의 가스를 가스 공급관(1)의 주위 온도에서 냉각하는 목적으로 사용해도 좋다. The gas supply pipe 1 of the present invention may be used for the purpose of heating the low temperature gas supplied from the gas supply source at the ambient temperature of the gas supply pipe 1. On the other hand, the high temperature gas supplied from the gas supply source may be used for the purpose of cooling at the ambient temperature of the gas supply pipe 1.

또한, 이 발명은 상기 실시형태에 한정되는 것은 아니고 이 발명의 범위 내에 있어서 각종 응용, 변형을 추가하는 것이 가능하다. The present invention is not limited to the above-described embodiments, but various applications and modifications can be added within the scope of the present invention.

1 가스 공급관 2 외측관
3 외측관의 관통공 5 내측관
6 내측관의 내부 6a, 6b, 6c 소공
7 외측관과 내측관의 간극
9 가스와의 접촉 면적을 크게 하는 구조
10 삽입 부재
11 열 처리장치
12 노체
18 가스 공급 기구
19 가열 기구
27 피처리물1 gas supply pipe 2 outer pipe
3 Inner tube through-hole 5 Inner tube
6 inside of inner tube 6a, 6b, 6c small hole
7 Clearance between outer tube and inner tube
9 Structure to increase contact area with gas
10 insertion member
11 Heat Treatment Apparatus
12 Noche
18 gas supply mechanism
19 Heating mechanism
27 The material to be treated

Claims (5)

일단이 닫혀져 있고, 관벽에 길이방향으로 배열된 복수의 관통공을 구비하는 외측관과,
일단이 가스 공급원에 접속되고, 상기 외측관의 내부에 삽입되는 내측관을 포함하는 가스 공급관으로서,
상기 가스 공급원으로부터 공급된 가스는 상기 내측관을 지나고, 상기 외측관의 내부에 형성된 상기 외측관과 상기 내측관의 간극을 지나고, 상기 외측관의 복수의 관통공으로부터 상기 가스 공급관의 주위 공간으로 방출되는 경로로 흐르고, 또한 상기 내측관을 흐르는 사이와, 상기 외측관과 상기 내측관의 간극을 흐르는 사이에 상기 가스 공급관에 전달된 주위 공간의 온도에 의해 가열 또는 냉각되고,
상기 내측관은 상기 내측관의 내부 용적과 동일한 내부 용적을 갖는 원통과 비교하여 상기 내측관을 흐르는 가스와의 접촉 면적을 크게 하는 구조를 갖는 것을 특징으로 하는 가스 공급관.An outer tube which is closed at one end and has a plurality of through holes arranged longitudinally in the tube wall,
A gas supply pipe including an inner tube which is once connected to the gas supply source and is inserted into the inside of the outer tube,
The gas supplied from the gas supply source passes through the inner tube and passes through the gap between the outer tube and the inner tube formed inside the outer tube and flows from the plurality of through holes of the outer tube to the surrounding space of the gas supply tube And is heated or cooled by the temperature of the ambient space transferred to the gas supply pipe between flowing through the inner pipe and between the outer pipe and the inner pipe,
Wherein the inner tube has a structure for increasing a contact area with a gas flowing through the inner tube as compared with a cylinder having an inner volume equal to the inner volume of the inner tube. 제 1 항에 있어서,
상기 내측관은 다공관이며, 상기 다공관의 내부 구조는 상기 가스와의 접촉 면적을 크게 하는 구조인 것을 특징으로 하는 가스 공급관.The method according to claim 1,
Wherein the inner tube is a porous tube, and the inner structure of the porous tube has a structure in which a contact area with the gas is increased. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 내측관의 내부에 삽입 부재가 삽입되어 있고, 상기 삽입 부재는 가스와의 접촉 면적을 크게 하는 구조인 것을 특징으로 하는 가스 공급관.3. The method according to claim 1 or 2,
Wherein an inserting member is inserted into the inner tube, and the inserting member is structured to increase a contact area with the gas. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 내측관의 관벽의 일부는 상기 내측관의 중심축선을 향해 돌출되어 있고, 상기 돌출된 내측관의 관벽의 일부는 상기 가스와의 접촉 면적을 크게 하는 구조인 것을 특징으로 하는 가스 공급관.4. The method according to any one of claims 1 to 3,
Wherein a part of the tube wall of the inner tube projects toward the center axis of the inner tube and a part of the tube wall of the projected inner tube has a structure to increase a contact area with the gas. 단열벽에 둘러싸인 내부 공간을 갖는 노체와,
상기 노체의 내부 공간에 노출되도록 배치된 가스 공급관을 포함하는 가스 공급 기구와,
상기 노체의 내부 공간을 가열하는 가열 기구를 포함하고,
상기 가스 공급 기구에 의해 상기 노체의 내부 공간에 분위기 가스를 공급하고, 상기 분위기 가스 환경 하에서 피처리물을 가열 기구에 의해 가열하여 상기피처리물을 열 처리하는 열 처리장치로서,
상기 가스 공급관은 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 기재된 가스 공급관인 것을 특징으로 하는 열 처리장치.

A furnace body having an inner space surrounded by the heat insulating wall,
A gas supply mechanism including a gas supply pipe arranged to be exposed in an inner space of the furnace body;
And a heating mechanism for heating the internal space of the furnace body,
A heat treatment apparatus for supplying an atmospheric gas to an internal space of the furnace body by the gas supply mechanism and heating the object to be treated under the atmospheric gas environment by a heating mechanism,
Wherein the gas supply pipe is the gas supply pipe according to any one of claims 1 to 4.

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