KR20150144901A - 유체를 진단하는 장치 및 그의 제조 방법 - Google Patents

유체를 진단하는 장치 및 그의 제조 방법 Download PDF

Info

Publication number
KR20150144901A
KR20150144901A KR1020140073717A KR20140073717A KR20150144901A KR 20150144901 A KR20150144901 A KR 20150144901A KR 1020140073717 A KR1020140073717 A KR 1020140073717A KR 20140073717 A KR20140073717 A KR 20140073717A KR 20150144901 A KR20150144901 A KR 20150144901A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
substrate
forming
fluid
thin film
fine
Prior art date
Application number
KR1020140073717A
Other languages
English (en)
Inventor
정문연
김완중
박형주
Original Assignee
한국전자통신연구원
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 한국전자통신연구원 filed Critical 한국전자통신연구원
Priority to KR1020140073717A priority Critical patent/KR20150144901A/ko
Publication of KR20150144901A publication Critical patent/KR20150144901A/ko

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N33/00Investigating or analysing materials by specific methods not covered by groups G01N1/00 - G01N31/00
    • G01N33/48Biological material, e.g. blood, urine; Haemocytometers
    • G01N33/50Chemical analysis of biological material, e.g. blood, urine; Testing involving biospecific ligand binding methods; Immunological testing
    • G01N33/53Immunoassay; Biospecific binding assay; Materials therefor
    • G01N33/543Immunoassay; Biospecific binding assay; Materials therefor with an insoluble carrier for immobilising immunochemicals
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01LCHEMICAL OR PHYSICAL LABORATORY APPARATUS FOR GENERAL USE
    • B01L3/00Containers or dishes for laboratory use, e.g. laboratory glassware; Droppers
    • B01L3/50Containers for the purpose of retaining a material to be analysed, e.g. test tubes
    • B01L3/502Containers for the purpose of retaining a material to be analysed, e.g. test tubes with fluid transport, e.g. in multi-compartment structures
    • B01L3/5027Containers for the purpose of retaining a material to be analysed, e.g. test tubes with fluid transport, e.g. in multi-compartment structures by integrated microfluidic structures, i.e. dimensions of channels and chambers are such that surface tension forces are important, e.g. lab-on-a-chip
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N33/00Investigating or analysing materials by specific methods not covered by groups G01N1/00 - G01N31/00
    • G01N33/48Biological material, e.g. blood, urine; Haemocytometers
    • G01N33/50Chemical analysis of biological material, e.g. blood, urine; Testing involving biospecific ligand binding methods; Immunological testing
    • G01N33/53Immunoassay; Biospecific binding assay; Materials therefor
    • G01N33/531Production of immunochemical test materials
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/04Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having at least one potential-jump barrier or surface barrier, e.g. PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
    • H01L21/18Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having at least one potential-jump barrier or surface barrier, e.g. PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic System or AIIIBV compounds with or without impurities, e.g. doping materials
    • H01L21/26Bombardment with radiation
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/04Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having at least one potential-jump barrier or surface barrier, e.g. PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
    • H01L21/18Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having at least one potential-jump barrier or surface barrier, e.g. PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic System or AIIIBV compounds with or without impurities, e.g. doping materials
    • H01L21/30Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05HPLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
    • H05H5/00Direct voltage accelerators; Accelerators using single pulses
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01LCHEMICAL OR PHYSICAL LABORATORY APPARATUS FOR GENERAL USE
    • B01L2200/00Solutions for specific problems relating to chemical or physical laboratory apparatus
    • B01L2200/02Adapting objects or devices to another
    • B01L2200/026Fluid interfacing between devices or objects, e.g. connectors, inlet details
    • B01L2200/027Fluid interfacing between devices or objects, e.g. connectors, inlet details for microfluidic devices

Abstract

본 발명인 유체를 진단하는 장치의 제조 방법은 기판을 제공하는 단계, 상기 기판 내 미세 크랙이 형성되는 텍스쳐부가 정의되도록 상기 기판에 미세 크랙을 형성하는 단계 및 상기 텍스쳐부를 식각하여 상기 텍스쳐부에 미세 홈을 형성하는 단계를 포함한다.

Description

유체를 진단하는 장치 및 그의 제조 방법{APPARATUS FOR MEASURING FLUID AND MANUFACTURING METHOD THEREOF}
본 발명은 유체를 진단하는 장치 및 그의 제조 방법으로, 구체적으로는 유체 저장부 중 적어도 일부에 항체가 고정되어 유체가 흐르는 경우 유체 내 항원 단백질을 검출할 수 있는 유체를 진단하는 장치 및 그의 제조 방법에 관한 것이다.
체내의 항원 단백질을 검출하기 위해 체내 항원과 특이적으로 결합 가능한 항체를 제작하여 고정화 시킨 후 체액(혈액 등)을 흘려보내면 체액 중 고정된 항체와 반응하는 항원 단백질을 검출할 수 있다. 이 때 항체의 개수가 많을수록 항원과의 결합 확률이 커지므로 단위 면적당 항체의 개수를 많이 고정화하는 기술이 필요해 진다. 그러나 종래의 바이오칩 기판의 표면은 어떤 가공도 거치지 않은 매끄러운 표면을 가지고 있어 단위 면적당 항체의 개수를 증가시키는 것에 한계가 있다.
따라서, 유체가 흐르는 경로 중 적어도 일부에 미세 홈이 형성되어 단위 면적당 고정된 항체의 개수가 증가하는 바이오칩을 제공하는 것을 목적으로 한다.
이를 위하여 본 발명의 일 실시예에 따른 유체를 진단하는 장치는, 기판 및 상기 기판 상에 형성되며, 미세 홈이 형성되어 표면적이 증가한 텍스쳐부를 포함하는 유체 저장부를 포함한다.
또한 본 발명의 다른 일면으로는 유체를 진단하는 장치의 제조 방법이 있다. 본 발명의 다른 실시예에 따른 유체를 진단하는 장치의 제조 방법은, 기판을 제공하는 단계, 상기 기판 내 미세 크랙이 형성되는 텍스쳐부가 정의되도록 상기 기판에 미세 크랙을 형성하는 단계 및 상기 텍스쳐부를 식각하여 상기 텍스쳐부에 미세 홈을 형성하는 단계를 포함한다.
본 발명은 유체가 흐르는 경로 중 적어도 일부에 미세 홈이 형성되어 단위 면적당 고정된 항체의 개수가 증가하는 바이오칩을 제공하는 효과가 있다.
도 1은 본 발명의 일실시예에 따른 유체를 진단하는 장치의 제조 방법의 각 단계를 설명하기 위한 도면,
도 2는 본 발명의 일실시예에 따른 유체를 진단하는 장치의 제조 방법의 각 단계를 설명하기 위한 순서도,
도 3은 본 발명의 일실시예에 따른 유체를 진단하는 장치의 제조 방법 중 양성자를 충돌시켜 미세 크랙을 형성하는 단계를 상세히 설명하기 위한 순서도,
도 4는 본 발명의 다른 실시예에 따른 유체를 진단하는 장치의 제조 방법 중 양성자를 충돌시켜 미세 크랙을 형성하는 단계를 상세히 설명하기 위한 순서도,
도 5는 본 발명의 다른 실시예에 따른 유체를 진단하는 장치의 제조 방법 중 양성자를 충돌시켜 미세 크랙을 형성하는 단계를 상세히 설명하기 위한 도면,
도 6은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 유체를 진단하는 장치의 미세 크랙을 설명하기 위한 도면,
도 7은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 유체를 진단하는 장치의 미세 홈을 설명하기 위한 도면,
도 8은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 유체를 진단하는 장치를 개략적으로 설명하기 위한 도면이다.
도 1은 본 발명의 일실시예에 따른 유체를 진단하는 장치의 제조 방법의 각 단계를 설명하기 위한 도면이고, 도 2는 본 발명의 일실시예에 따른 유체를 진단하는 장치의 제조 방법의 각 단계를 설명하기 위한 순서도이다.
도 1 및 도 2를 참조하면, 유체를 진단하는 장치의 제조 방법은 기판을 제공하는 단계(S100), 양성자를 충돌시켜 미세 크랙을 형성하는 단계(S200), 기판을 식각하여 미세 홈을 형성하는 단계(S300), 및 항체를 고정시키는 단계(S400)를 포함한다.
기판을 제공하는 단계(S100)에서, 기판(110)이 제공된다. 기판(110)의 재질은 유리 또는 플라스틱 중 하나인 것이 바람직하다.
양성자를 충돌시켜 미세 크랙을 형성하는 단계(S200)에서, 기판(110)에 양성자가 충돌하여 미세 크랙(120)이 형성된다. 이 때, 기판(110) 중 미세 크랙(120)이 형성된 부분은 텍스쳐부(T)로 정의된다. 양성자를 충돌시켜서 미세 크랙(120)을 형성하는 경우, 미세 크랙(120)의 깊이가 깊고 크기가 균일하여 이후 기판을 식각하여 미세 홈을 형성하는 단계(S300)의 수행 시 균일한 크기의 미세 홈(130)을 얻을 수 있는 장점이 있다. 또한, 미세 크랙 형성 시 오염이 없어 유체를 진단할 때 측정 에러가 감소하는 장점도 있다.
기판을 식각하여 미세 홈을 형성하는 단계(S300)에서, 기판(110) 중 적어도 텍스쳐부(T)를 식각한다. 습식 식각은 기판(110)의 재질을 부식시킬 수 있는 부식성 용액과의 접촉에 의해 이루어진다. 미세 크랙(120)이 형성된 텍스쳐부(T)는 기판(110) 중 미세 크랙(120)이 형성되지 않은 부분에 비해 빠르게 식각되며, 미세 크랙(120)은 부식성 용액(예를 들어, 산성 또는 염기성 용액)에 접하는 경우 미세 홈(130)으로 변한다.
항체를 고정시키는 단계(S400)에서, 텍스쳐부(T)에 항체(140)가 고정된다. 텍스쳐부(T)는 미세 홈(130)으로 인해 표면적이 증가하였으므로, 단위 면적 당 고정되는 항체(140)의 수도 증가한다.
도 3은 본 발명의 일실시예에 따른 유체를 진단하는 장치의 제조 방법 중 양성자를 충돌시켜 미세 크랙을 형성하는 단계를 상세히 설명하기 위한 순서도이다. 도 3을 참조하면, 양성자를 충돌시켜 미세 크랙을 형성하는 단계(S200)는 양성자 가속기로 양성자를 가속시키는 단계(S210) 및 가속된 양성자를 충돌시키는 단계(S220)를 포함한다. 이하에서 도 1 내지 도 3을 참조하여 설명될 것이다.
양성자 가속기로 양성자를 가속시키는 단계(S210)에서, 양성자 가속기로 양성자를 가속시킨다. 예를 들어, 상대적으로 낮은 에너지를 갖는 양성자를 얻기 위해서는 탠덤형 양성자 가속기가 이용될 수 있고 높은 에너지의 양성자 에너지를 얻기 위해서는 선형 가속기나 사이클로트론, 혹은 싱클로트론 가속기가 이용될 수 있다. 또한, 레이저 이온 가속 방법도 사용될 수 있다.
가속된 양성자를 충돌시키는 단계(S220)에서, 가속된 양성자를 기판(110)에 충돌시킨다. 기판(110) 중 일부에 양성자를 충돌시키면 미세 크랙(120)이 발생하고, 미세 크랙(120)이 발생한 부분이 텍스쳐부(T)로 정의된다는 것은 앞에서 설명되었다.
도 4는 본 발명의 다른 실시예에 따른 유체를 진단하는 장치의 제조 방법 중 양성자를 충돌시켜 미세 크랙을 형성하는 단계를 상세히 설명하기 위한 순서도이며, 도 5는 본 발명의 다른 실시예에 따른 유체를 진단하는 장치의 제조 방법 중 양성자를 충돌시켜 미세 크랙을 형성하는 단계를 상세히 설명하기 위한 도면이다. 도 4 및 도 5를 참조하면, 양성자를 충돌시켜 미세 크랙을 형성하는 단계(S200)는 박막을 형성하는 단계(S250), 레이저에 의해 유도된 양성자를 충돌시키는 단계(S260) 및 박막을 제거하는 단계(S270)를 포함한다. 이하에서 도 1, 도 2, 도 4 및 도 5를 참조하여 설명될 것이다.
박막을 형성하는 단계(S250)에서, 기판(110) 위에 박막(150)이 형성된다. 박막(150)은 레이저가 조사되는 경우 양성자를 방출하는 물질로 구성된다. 예를 들어, 박막(150)을 구성하는 재질은 SiH 및 SiN:H로 이루어지는 군에서 적어도 하나 이상 선택될 수 있다. 또는, 박막(150)을 구성하는 재질이 금속이며, 박막(150)이 형성된 후 수소가 주입될 수도 있다. 도 5에서는 기판(110) 중 일부에만 박막(150)이 형성된 것처럼 도시되었으나, 기판(110) 전체에 박막(150)이 형성될 수도 있다.
레이저에 의해 유도된 양성자를 충돌시키는 단계(S260)에서, 박막(150)에 레이저가 조사된다. 박막(150)이 양성자를 방출하기 위해서는 고에너지 레이저가 필요하다. 예를 들어, 펄스 레이저 등이 사용될 수 있다. 박막(150)이 기판 전체에 형성된 경우는 텍스쳐부(T)가 정의될 수 있도록 기판(110) 중 일부에만 레이저가 조사되어야 한다. 박막(150) 중 레이저가 조사된 부분은 양성자가 방출되고, 기판(110) 중 양성자에 닿은 부분에서 미세 크랙(120)이 형성되어, 텍스쳐부(T)가 정의된다.
박막을 제거하는 단계(S270)에서, 박막(150)이 제거되어 미세 크랙(120)이 형성된 기판(110)만 남는다. 기판(110)은 이후 용액에 침잠되어 습식 식각되거나 플라즈마와 충돌하여 건식 식각될 수 있다.
도 6은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 유체를 진단하는 장치의 미세 크랙을 설명하기 위한 도면이다. 도 1 및 도 6을 참조하면, 양성자의 충돌로 인한 미세 크랙(120)의 분포가 매우 균일하며, 미세 크랙(120)이 차지하는 면적 역시 균일한 것을 확인할 수 있다.
도 7은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 유체를 진단하는 장치의 미세 홈을 설명하기 위한 도면이다. 도 1 및 도 7을 참조하면, 미세 홈(130)이 균일하게 분포된 것을 확인할 수 있다.
도 8은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 유체를 진단하는 장치를 개략적으로 설명하기 위한 도면이다. 이하에서, 도 1, 도 2, 도 6, 도 7 및 도 8을 참조하여 설명될 것이다. 유체를 진단하는 장치(200)는 유체 입구(210), 필터(220), 유체 저장부(230) 및 유체 수용부(240)를 포함한다. 유체 입구(210)는 유체가 유입될 수 있으며, 유체로는 전 혈액(whole blood) 등이 가능하다. 필터(220)는 유체 중 측정에 방해되는 물질을 거르고, 남은 유체를 유체 저장부(230)로 전달한다. 측정에 방해되는 물질로는 전 혈액 내의 혈구 및 내인성 항체 등이 있고, 필터(220)는 혈구 및 내인성 항체를 거른다. 유체 저장부(230)은 채널의 형태를 가져 유체가 흐를 수 있으며, 단위 면적당 매끄러운 표면에 비해 많은 항체가 고정되는 텍스쳐부(T)를 포함한다. 유체 저장부(230) 중 적어도 텍스트부(T)에는 항원을 검출하기 위해 항원에 반응하는 항체(140)가 고정되어 있다. 텍스쳐부(T)는 양성자를 충돌시켜 미세 크랙을 형성하는 단계(S200) 및 기판을 식각하여 미세 홈을 형성하는 단계(S300)에 의해 형성된 미세 홈(130)이 있어, 단위 면적당 표면적이 증가하였다. 유체 수용부(240)는 항체(140)와 반응한 항원이 제거된 유체를 수용하는 부분이다.
이제까지 본 발명에 대해서 그 바람직한 실시예를 중심으로 살펴보았으며, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자는 본 발명의 본질적 기술 범위 내에서 상기 본 발명의 상세한 설명과 다른 형태의 실시예들을 구현할 수 있을 것이다.
여기서 본 발명의 본질적 기술 범위는 특허청구범위에 나타나 있으며, 그와 동등한 범위 내에 있는 모든 차이점은 본 발명에 포함된 것으로 해석되어야 할 것이다.
S200: 양성자를 충돌시켜 미세 크랙을 형성하는 단계
S300: 기판을 식각하여 미세 홈을 형성하는 단계
T: 텍스쳐부

Claims (12)

  1. 기판; 및
    상기 기판 상에 형성되며, 미세 홈이 형성되어 표면적이 증가한 텍스쳐부를 포함하는 유체 저장부;
    를 포함하는 유체를 진단하는 장치.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 텍스쳐부의 미세 홈은 양성자의 충돌 및 부식성 용액의 식각에 의해 형성되는 것을 특징으로 하는 유체를 진단하는 장치.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 유체 저장부는 상기 텍스쳐부에 고정된 항체를 더 포함하며,
    상기 유체 저장부에 유체가 흐르는 경우, 상기 유체 내 상기 항체와 결합하는 항원을 검출할 수 있는 유체를 진단하는 장치.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 기판의 재질은 유리 또는 플라스틱 중 하나인 것을 특징으로 하는 유체를 진단하는 장치.
  5. 기판을 제공하는 단계;
    상기 기판 내 미세 크랙이 형성되는 텍스쳐부가 정의되도록 상기 기판에 미세 크랙을 형성하는 단계; 및
    상기 텍스쳐부를 식각하여 상기 텍스쳐부에 미세 홈을 형성하는 단계를 포함하는 유체를 진단하는 장치의 제조 방법.
  6. 제5항에 있어서,
    상기 미세 크랙을 형성하는 단계는 상기 기판에 양성자를 충돌시켜 상기 미세 크랙을 형성하는 것을 특징으로 하는 유체를 진단하는 장치의 제조 방법.
  7. 제6항에 있어서,
    상기 미세 크랙을 형성하는 단계는 양성자 가속기에 의해 가속된 양성자를 기판에 충돌시키는 것을 특징으로 하는 유체를 진단하는 장치의 제조 방법.
  8. 제6항에 있어서,
    상기 미세 크랙을 형성하는 단계는,
    상기 기판 상에 박막을 형성하는 단계;
    상기 박막에 레이저를 조사하는 단계; 및
    상기 박막을 제거하는 단계를 포함하는 유체를 진단하는 장치의 제조 방법.
  9. 제8항에 있어서,
    상기 박막은 SiH 및 SiN:H로 이루어지는 군에서 적어도 하나 이상 선택되며, 상기 레이저는 펄스 레이저인 것을 특징으로 하는 유체를 진단하는 장치의 제조 방법.
  10. 제8항에 있어서,
    상기 박막은 금속성 재질로 이루어지며, 상기 박막을 형성하는 단계는 수소를 주입하는 단계를 포함하는 유체를 진단하는 장치의 제조 방법.
  11. 제5항에 있어서,
    상기 미세 홈을 형성하는 단계는 상기 텍스쳐부를 부식성 용액에 접촉시켜 식각하는 것을 특징으로 하는 유체를 진단하는 장치의 제조 방법.
  12. 제5항에 있어서,
    상기 미세 홈을 형성하는 단계 이후, 상기 텍스쳐부에 항체를 고정시키는 단계를 더 포함하는 유체를 진단하는 장치의 제조 방법.
KR1020140073717A 2014-06-17 2014-06-17 유체를 진단하는 장치 및 그의 제조 방법 KR20150144901A (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020140073717A KR20150144901A (ko) 2014-06-17 2014-06-17 유체를 진단하는 장치 및 그의 제조 방법

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020140073717A KR20150144901A (ko) 2014-06-17 2014-06-17 유체를 진단하는 장치 및 그의 제조 방법

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20150144901A true KR20150144901A (ko) 2015-12-29

Family

ID=56506359

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020140073717A KR20150144901A (ko) 2014-06-17 2014-06-17 유체를 진단하는 장치 및 그의 제조 방법

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR20150144901A (ko)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102076856B1 (ko) 2019-07-25 2020-02-12 이승엽 극미세기포 발생장치 및 그 장치에 의해 발생하는 극미세기포를 이용한 화학적 탈취제 세정장치
KR102094708B1 (ko) 2019-07-25 2020-03-30 이승엽 복합악취 제거 다기능 처리시스템 및 처리방법
KR102117663B1 (ko) 2019-07-25 2020-06-01 이승엽 압축공기를 이용한 화학제 탈취제 미세 분무 분사장치

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102076856B1 (ko) 2019-07-25 2020-02-12 이승엽 극미세기포 발생장치 및 그 장치에 의해 발생하는 극미세기포를 이용한 화학적 탈취제 세정장치
KR102094708B1 (ko) 2019-07-25 2020-03-30 이승엽 복합악취 제거 다기능 처리시스템 및 처리방법
KR102117663B1 (ko) 2019-07-25 2020-06-01 이승엽 압축공기를 이용한 화학제 탈취제 미세 분무 분사장치

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR102337946B1 (ko) 두께·온도 측정 장치, 두께·온도 측정 방법 및 기판 처리 시스템
KR20150144901A (ko) 유체를 진단하는 장치 및 그의 제조 방법
Huang et al. Surface modification studies of Kapton® HN polyimide films
TWI383138B (zh) 具微結構之微流體裝置及使用其之感測系統及其方法
TW201510536A (zh) 探針導引板及其製造方法、半導體檢測裝置
JP2011022153A (ja) 細胞電位測定デバイスとそれに用いる基板、細胞電位測定デバイス用基板の製造方法
CN107709974A (zh) 测定用芯片、测定装置及测定方法
CN100524603C (zh) 用于确定实时蚀刻速率的浅角干涉工艺及装置
US20160240423A1 (en) Exposure method, manufacturing method of device, and thin film sheet
CN109485262A (zh) Tft基板减薄方法
CN101572219A (zh) 一种腔室状态监控系统、方法以及半导体处理设备
JP2007225425A (ja) 細胞電気生理センサとそれを用いた測定方法およびその製造方法
JP2013140846A5 (ko)
JP5363011B2 (ja) イオン注入量測定装置
KR101469000B1 (ko) 글라스 박형화 장치 및 그 방법
US8956886B2 (en) Embedded test structure for trimming process control
WO2018119455A1 (en) Biofluid analysis and quantitation systems and methods
CN113686456A (zh) 基于rtg的反演电离层电子温度的方法及系统
KR101567731B1 (ko) 미세 패턴을 형성하기 위한 글라스 에칭 방법
JP2014049236A (ja) 電子ビーム検出器、電子ビーム処理装置及び電子ビーム検出器の製造方法
CN113687149B (zh) 基于rtg的电离层电子密度反演方法及系统
TW587152B (en) Method and device for determining the thickness of a layer applied to a carrier, and monitoring system
JP2013197179A (ja) 半導体評価方法、及び半導体評価装置
JP5728419B2 (ja) センサチップ、測定装置、および測定方法
JP6520699B2 (ja) 半導体製造装置および半導体の製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
WITN Withdrawal due to no request for examination